JP2022010775A - Touch panel electrode member, touch panel and image display apparatus - Google Patents

Touch panel electrode member, touch panel and image display apparatus Download PDF

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Abstract

To provide a touch panel electrode member, a touch panel, and an image display apparatus which can make an interconnect line connecting a detection electrode and an electrode terminal difficult to be broken and can provide excellent efficiency percentage.SOLUTION: A touch panel electrode member according to the present invention has a detection electrode disposed in a detection region, a peripheral wire disposed on a peripheral region outside of the detection region, an electrode terminal electrically connected to the peripheral wire, and a plurality of interconnect lines connecting the detection electrode and the electrode terminals. The detection electrode is formed of a metal mesh formed by a first thin metallic wire extended in a first direction and a second thin metallic wire extended in a second direction different from the first direction both of which intersect each other at an intersecting part. Each of the plurality of interconnect lines is extended in a third direction different from both of the first and second directions, has a line width larger than those of the first thin metallic wire and the second thin metallic wire, and is electrically connected to the first and second metallic wires at a position other than the intersecting part.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、タッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置に関する。 The present invention relates to a touch panel electrode member, a touch panel, and an image display device.

タブレット型コンピュータおよびスマートフォン等の携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて用いられ、指、スタイラスペン等を画面に接触または近接させることにより電子機器への入力操作を行うタッチパネルがある。
タッチパネルは、通常、指およびスタイラスペン等によるタッチ操作を検出するための複数の検出電極等が形成された導電部材を有している。検出電極は、ITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)等の透明導電性酸化物、または金属等でも形成される。金属は、透明導電性酸化物に比べてパターニングがしやすく、屈曲性に優れ、抵抗値がより低い等の利点がある。
In various electronic devices such as tablet computers and mobile information devices such as smartphones, it is used in combination with display devices such as liquid crystal displays, and can be moved to electronic devices by touching or bringing a finger, stylus, etc. to the screen. There is a touch panel for inputting.
The touch panel usually has a conductive member on which a plurality of detection electrodes and the like for detecting a touch operation with a finger and a stylus pen or the like are formed. The detection electrode is also formed of a transparent conductive oxide such as ITO (Indium Tin Oxide), a metal, or the like. The metal has advantages such as easier patterning, excellent flexibility, and a lower resistance value than the transparent conductive oxide.

例えば、特許文献1のタッチパネルでは、タッチ電極は金属細線が交差部で交差する金属グリッド線によって構成されており、金属グリッド線とリード端子とが金属細線による接続線で接続されている。接続線は金属グリッド線の金属細線の交差部に接続されてリード端子に接続されている。 For example, in the touch panel of Patent Document 1, the touch electrode is composed of a metal grid wire in which fine metal wires intersect at an intersection, and the metal grid wire and the lead terminal are connected by a connecting wire by the thin metal wire. The connecting wire is connected to the intersection of the thin metal wires of the metal grid wire and is connected to the lead terminal.

中国実用新案第206348768号明細書China Utility Model No. 20638768

特許文献1では、金属グリッド線の金属細線の交差部(メッシュパターンの交点)とリード端子とが、リード端子に垂直な接続線を用いて接続されている。金属細線の交差部(メッシュパターンの交点)に接続線が接続されて、金属細線の交差部と接続線が同じ線幅の金属細線で接続しているので、接続箇所に応力集中が生じて断線し、タッチ電極が機能しないという課題があった。
本発明の目的は、検出電極と電極端子とを接続する接続線が断線しにくく、良品率に優れたタッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置を提供することにある。
In Patent Document 1, the intersection of the thin metal wires (intersection of the mesh pattern) of the metal grid wire and the lead terminal are connected by using a connection wire perpendicular to the lead terminal. Since the connecting wire is connected to the intersection of the thin metal wires (intersection of the mesh pattern) and the intersection of the thin metal wires and the connecting wire are connected by the thin metal wire of the same line width, stress concentration occurs at the connection point and the wire breaks. However, there was a problem that the touch electrode did not work.
An object of the present invention is to provide a touch panel electrode member, a touch panel, and an image display device, in which the connection line connecting the detection electrode and the electrode terminal is not easily broken and the quality is excellent.

上述の目的を達成するために、本発明の一態様は、検出領域に配置された検出電極と、検出領域の外側の周辺領域に配置された周辺配線と、周辺配線に電気的に接続された電極端子と、検出電極と電極端子とを接続する複数の接続線とを備えるタッチパネル用電極部材であって、検出電極は、第1方向に延びる第1金属細線と第1方向とは異なる第2方向に延びる第2金属細線とが交差部で交差することにより形成された金属メッシュから構成され、複数の接続線は、それぞれ、第1方向および第2方向とは異なる第3方向に延び且つ第1金属細線および第2金属細線の線幅より大きい線幅を有し、交差部以外の箇所において第1金属細線および第2金属細線に電気的に接続されている、タッチパネル用電極部材を提供するものである。 In order to achieve the above object, one embodiment of the present invention is electrically connected to a detection electrode arranged in a detection region, a peripheral wiring arranged in a peripheral region outside the detection region, and a peripheral wiring. An electrode member for a touch panel including an electrode terminal and a plurality of connection wires connecting the detection electrode and the electrode terminal, the detection electrode is a second metal wire extending in the first direction and a second metal wire different from the first direction. It is composed of a metal mesh formed by intersecting a second metal wire extending in a direction at an intersection, and a plurality of connecting lines extend in a third direction different from the first direction and the second direction, respectively, and a third. Provided is an electrode member for a touch panel having a line width larger than the line width of the 1st metal thin wire and the 2nd metal thin wire and electrically connected to the 1st metal thin wire and the 2nd metal thin wire at a place other than the intersection. It is a thing.

電極端子は、第1方向、第2方向および第3方向とは異なる第4方向に延びていることが好ましい。
第4方向は、第3方向に対して直交する方向であることが好ましい。
接続線は、平面視において台形の形状を有することが好ましい。
台形の平行な一対の底辺が、それぞれ第3方向に延び、一対の底辺の端部を接続する斜辺が、第1方向または第2方向に延びていることが好ましい。
接続線の線幅は、20μm以上且つ50μm以下であり、第3方向に沿った接続線の最大長さは、50μm以上且つ200μm以下であることが好ましい。
第1金属細線および第2金属細線の線幅は、1μm以上且つ10μm以下であることが好ましい。
It is preferable that the electrode terminals extend in a fourth direction different from the first direction, the second direction and the third direction.
The fourth direction is preferably a direction orthogonal to the third direction.
The connecting line preferably has a trapezoidal shape in a plan view.
It is preferred that the pair of parallel bases of the trapezoid extend in the third direction, respectively, and the hypotenuse connecting the ends of the pair of bases extends in the first or second direction.
The line width of the connecting line is preferably 20 μm or more and 50 μm or less, and the maximum length of the connecting line along the third direction is preferably 50 μm or more and 200 μm or less.
The line widths of the first metal thin wire and the second metal thin wire are preferably 1 μm or more and 10 μm or less.

接続線の線幅と第1金属細線および第2金属細線の線幅との差分は、20μm以上且つ40μm以下であることが好ましい。
複数の接続線のうち、互いに隣接する接続線の間隔は、50μm以上且つ2000μm以下であることが好ましい。
検出電極、周辺配線、電極端子および複数の接続線は、同一の金属材料から形成されていることが好ましい。金属材料は、銅であることが好ましい。
樹脂基板をさらに備え、検出電極、周辺配線、電極端子、および複数の接続線は、樹脂基板の一方の表面上に配置されていることが好ましい。
ガラス基板をさらに備え、検出電極、周辺配線、電極端子、および複数の接続線は、ガラス基板の一方の表面上に配置されていることが好ましい。
The difference between the line width of the connecting line and the line widths of the first metal thin line and the second metal thin line is preferably 20 μm or more and 40 μm or less.
Of the plurality of connecting lines, the distance between the connecting lines adjacent to each other is preferably 50 μm or more and 2000 μm or less.
It is preferable that the detection electrode, the peripheral wiring, the electrode terminal and the plurality of connecting wires are made of the same metal material. The metal material is preferably copper.
It is preferable that the resin substrate is further provided, and the detection electrode, the peripheral wiring, the electrode terminal, and the plurality of connection lines are arranged on one surface of the resin substrate.
It is preferable that a glass substrate is further provided, and the detection electrode, peripheral wiring, electrode terminal, and a plurality of connection lines are arranged on one surface of the glass substrate.

本発明の一態様は、上述のタッチパネル用電極部材を有するタッチパネルを提供するものである。
本発明の一態様は、上述のタッチパネルを有する画像表示装置を提供するものである。
One aspect of the present invention provides a touch panel having the above-mentioned electrode member for a touch panel.
One aspect of the present invention provides an image display device having the above-mentioned touch panel.

本発明によれば、検出電極を構成する金属細線が断線しにくく、且つ視認性が優れたタッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置を提供できる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a touch panel electrode member, a touch panel, and an image display device, in which the thin metal wires constituting the detection electrode are less likely to be broken and the visibility is excellent.

画像表示装置の第1の例を示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the 1st example of the image display apparatus. 画像表示装置のタッチパネルの一例を示す模式的平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the touch panel of an image display device. 本発明の実施形態のタッチパネル用電極部材の検出電極および接続線の第1の例を示す模式的平面図である。It is a schematic plan view which shows the 1st example of the detection electrode and the connection line of the electrode member for a touch panel of embodiment of this invention. 本発明の実施形態のタッチパネル用電極部材の接続線の第1の例を拡大して示す模式的平面図である。It is a schematic plan view which expands and shows 1st example of the connection line of the electrode member for a touch panel of embodiment of this invention. 本発明の実施形態のタッチパネル用電極部材の接続線の第2の例を拡大して示す模式的平面図である。It is a schematic plan view which expands and shows the 2nd example of the connection line of the electrode member for a touch panel of embodiment of this invention. 本発明の実施形態のタッチパネル用電極部材の接続線の第3の例を拡大して示す模式的平面図である。It is a schematic plan view which expands and shows the 3rd example of the connection line of the electrode member for a touch panel of embodiment of this invention. 画像表示装置の第2の例を示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the 2nd example of the image display apparatus. 画像表示装置の第3の例を示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the 3rd example of an image display apparatus. 比較例1のタッチパネル用電極部材の検出電極および接続線を示す模式的平面図である。It is a schematic plan view which shows the detection electrode and the connection line of the electrode member for a touch panel of the comparative example 1. FIG. 比較例1のタッチパネル用電極部材の接続線を拡大して示す模式的平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing an enlarged connection line of the electrode member for a touch panel of Comparative Example 1. 比較例2のタッチパネル用電極部材の検出電極および接続線を示す模式的平面図である。It is a schematic plan view which shows the detection electrode and the connection line of the electrode member for a touch panel of the comparative example 2. FIG. 比較例2のタッチパネル用電極部材の接続線を拡大して示す模式的平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing an enlarged connection line of the electrode member for a touch panel of Comparative Example 2.

以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明のタッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置を詳細に説明する。
なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されるものではない。
なお、以下において数値範囲を示す「~」とは両側に記載された数値を含む。例えば、ε1が数値α1~数値β1とは、ε1の範囲は数値α1と数値β1を含む範囲であり、数学記号で示せばα1≦ε1≦β1である。
「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
また、「同一」とは、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
Hereinafter, the electrode member for a touch panel, the touch panel, and the image display device of the present invention will be described in detail based on the preferred embodiments shown in the attached drawings.
It should be noted that the figures described below are exemplary for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the figures shown below.
In the following, "-" indicating the numerical range includes the numerical values described on both sides. For example, when ε1 is a numerical value α1 to a numerical value β1, the range of ε1 is a range including the numerical value α1 and the numerical value β1, and is expressed in mathematical symbols as α1 ≦ ε1 ≦ β1.
Angles such as "parallel", "vertical" and "orthogonal" include error ranges generally acceptable in the art in question, unless otherwise stated.
In addition, "identical" includes an error range generally accepted in the relevant technical field.

なお、透明とは、特に断りがなければ、光透過率が、波長380~780nmの可視光波長域において、40%以上のことであり、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上のことである。
光透過率は、JIS(日本産業規格) K 7375:2008に規定される「プラスチック-全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
Unless otherwise specified, transparency means that the light transmittance is 40% or more in the visible light wavelength range of 380 to 780 nm, preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Is.
The light transmittance is measured using "Plastic-How to determine the total light transmittance and the total light reflectance" specified in JIS (Japanese Industrial Standards) K 7375: 2008.

(画像表示装置)
図1は画像表示装置の第1の例を示す模式的断面図である。
図1に示す第1の例の画像表示装置10は、タッチパネル12と、画像表示部14とを有し、画像表示部14の表示面14a側にタッチパネル12が積層されたものである。画像表示装置10は、画像表示部14に表示された画像等の領域にタッチしたことを検出することができる。
画像表示装置10では、タッチパネル12と画像表示部14とは第1の透明絶縁層15を介して積層されている。タッチパネル12は、タッチパネル用電極部材18上に第2の透明絶縁層17を介してカバー層16が設けられている。第1の透明絶縁層15は、画像表示部14の表示面14a全域に設けられている。例えば、カバー層16の表面16a側から見た場合、タッチパネル用電極部材18と第2の透明絶縁層17とは同じ大きさである。また、カバー層16の表面16a側から見た場合、画像表示部14はタッチパネル用電極部材18よりも小さく、画像表示部14と第1の透明絶縁層15とが同じ大きさである。
画像表示装置10では、画像表示部14の表示面14aに表示された表示物(図示せず)が視認できるように画像表示部14の表示面14a側に配置される第1の透明絶縁層15、タッチパネル用電極部材18、第2の透明絶縁層17およびカバー層16はいずれも透明であることが好ましい。
(Image display device)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a first example of an image display device.
The image display device 10 of the first example shown in FIG. 1 has a touch panel 12 and an image display unit 14, and the touch panel 12 is laminated on the display surface 14a side of the image display unit 14. The image display device 10 can detect that the area such as an image displayed on the image display unit 14 is touched.
In the image display device 10, the touch panel 12 and the image display unit 14 are laminated via a first transparent insulating layer 15. The touch panel 12 is provided with a cover layer 16 on the electrode member 18 for the touch panel via a second transparent insulating layer 17. The first transparent insulating layer 15 is provided over the entire display surface 14a of the image display unit 14. For example, when viewed from the surface 16a side of the cover layer 16, the touch panel electrode member 18 and the second transparent insulating layer 17 have the same size. Further, when viewed from the surface 16a side of the cover layer 16, the image display unit 14 is smaller than the touch panel electrode member 18, and the image display unit 14 and the first transparent insulating layer 15 have the same size.
In the image display device 10, the first transparent insulating layer 15 arranged on the display surface 14a side of the image display unit 14 so that the display object (not shown) displayed on the display surface 14a of the image display unit 14 can be visually recognized. The touch panel electrode member 18, the second transparent insulating layer 17, and the cover layer 16 are all preferably transparent.

カバー層16は、ガラスで構成されていれば、カバーガラスと呼ばれる。
カバー層16の表面16aが、画像表示装置10のタッチ面であり、操作面となる。画像表示装置10は、カバー層16の表面16aを操作面として入力操作される。なお、タッチ面とは、指またはスタイラスペン等が接触する面である。カバー層16の表面16aが、画像表示部14の表示面14aに表示された表示物(図示せず)の視認面となる。
画像表示部14の裏面14bにコントローラ13が設けられている。タッチパネル用電極部材18とコントローラ13とが、例えば、フレキシブル回路基板19等の可撓性を有する配線部材で電気的に接続されている。
If the cover layer 16 is made of glass, it is called a cover glass.
The surface 16a of the cover layer 16 is a touch surface of the image display device 10 and serves as an operation surface. The image display device 10 is input-operated using the surface 16a of the cover layer 16 as an operation surface. The touch surface is a surface that a finger, a stylus pen, or the like comes into contact with. The surface 16a of the cover layer 16 is a visible surface of a display object (not shown) displayed on the display surface 14a of the image display unit 14.
A controller 13 is provided on the back surface 14b of the image display unit 14. The touch panel electrode member 18 and the controller 13 are electrically connected by a flexible wiring member such as a flexible circuit board 19.

カバー層16の裏面16bに、遮光機能を有する加飾層(図示せず)を設けてもよい。加飾層は、例えば、カバー層16の表面16a側から見た場合における、カバー層16の外縁に沿って設けられる。加飾層が設けられている領域は額縁部と呼ばれる。額縁部は加飾層により、その下側にある構成物、例えば後述するタッチパネル用電極部材18の接続線、電極端子および周辺配線を視認させない。 A decorative layer (not shown) having a light-shielding function may be provided on the back surface 16b of the cover layer 16. The decorative layer is provided, for example, along the outer edge of the cover layer 16 when viewed from the surface 16a side of the cover layer 16. The area where the decorative layer is provided is called the frame part. Due to the decorative layer, the frame portion does not allow the components below it, for example, the connection line, the electrode terminal, and the peripheral wiring of the touch panel electrode member 18 described later to be visually recognized.

コントローラ13はタッチ面であるカバー層16の表面16aの指等の接触の検出に利用される公知のものにより構成される。タッチパネル12が静電容量方式の場合、タッチ面であるカバー層16の表面16aの指等の接触により、タッチパネル用電極部材において静電容量が変化した位置がコントローラ13で検出される。静電容量方式のタッチパネルには、相互容量方式のタッチパネルおよび自己容量方式のタッチパネルがあるが、特に限定されるものではない。 The controller 13 is composed of a known one used for detecting contact with a finger or the like on the surface 16a of the cover layer 16 which is a touch surface. When the touch panel 12 is of the capacitance type, the controller 13 detects the position where the capacitance is changed in the electrode member for the touch panel by the contact of the finger or the like on the surface 16a of the cover layer 16 which is the touch surface. The capacitance type touch panel includes a mutual capacity type touch panel and a self-capacitance type touch panel, but is not particularly limited.

カバー層16は、タッチパネル用電極部材18を保護するものである。カバー層16は、その構成は、特に限定されるものではない。カバー層16は、画像表示部14の表示面14aに表示された表示物(図示せず)が視認できるように透明であることが好ましい。カバー層16は、例えば、ガラス板、化学強化ガラス、無アルカリガラス等で構成される。カバー層16の厚みはそれぞれの用途に応じて適宜選択することが好ましい。カバー層16は、ガラス板以外に、プラスチックフィルム、およびプラスチック板等が用いられる。
上述のプラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、EVA(酢酸ビニル共重合ポリエチレン)等のポリオレフィン類;ビニル系樹脂;その他、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィン系樹脂(COP)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリアリレート(PAR)、ポリエーテルサルホン(PES)、高分子アクリル樹脂、フルオレン誘導体、および、結晶性COP等を用いることができる。
また、カバー層16は、偏光板、または円偏光板等を有する構成でもよい。
カバー層16の表面16aは、上述のようにタッチ面となるため、必要に応じて表面16aにハードコート層を設けてもよい。なお、カバー層16の厚みとしては、例えば、0.1~1.3mmであり、特に0.1~0.7mmが好ましい。
The cover layer 16 protects the touch panel electrode member 18. The structure of the cover layer 16 is not particularly limited. The cover layer 16 is preferably transparent so that a display object (not shown) displayed on the display surface 14a of the image display unit 14 can be visually recognized. The cover layer 16 is made of, for example, a glass plate, chemically strengthened glass, non-alkali glass, or the like. It is preferable that the thickness of the cover layer 16 is appropriately selected according to each application. As the cover layer 16, a plastic film, a plastic plate, or the like is used in addition to the glass plate.
Examples of raw materials for the above-mentioned plastic films and plastic plates include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, and EVA (vinyl acetate copolymerized polyethylene). ) And other polyolefins; vinyl resins; others, polycarbonate (PC), polyamides, polyimides, acrylic resins, triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin resins (COP), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyarylate (PAR) ), Polyether sulphon (PES), high molecular weight acrylic resin, fluorene derivative, crystalline COP and the like can be used.
Further, the cover layer 16 may have a polarizing plate, a circular polarizing plate, or the like.
Since the surface 16a of the cover layer 16 is a touch surface as described above, a hard coat layer may be provided on the surface 16a if necessary. The thickness of the cover layer 16 is, for example, 0.1 to 1.3 mm, and particularly preferably 0.1 to 0.7 mm.

第1の透明絶縁層15は、透明であり、且つ電気絶縁性を有するものであり、且つ安定してタッチパネル12と画像表示部14とを固定することができれば、その構成は、特に限定されるものではない。第1の透明絶縁層15としては、例えば、光学的に透明な粘着剤(OCA、Optical Clear Adhesive)およびUV(Ultra Violet)硬化樹脂等の光学的に透明な樹脂(OCR、Optical Clear Resin)を用いることができる。また、第1の透明絶縁層15は部分的に中空でもよい。
なお、第1の透明絶縁層15を設けることなく、画像表示部14の表示面14a上に隙間をあけてタッチパネル12を離間して設ける構成でもよい。この隙間のことをエアギャップともいう。
また、第2の透明絶縁層17は、透明であり、且つ電気絶縁性を有するものであり、且つ安定してタッチパネル用電極部材18とカバー層16とを固定することができれば、その構成は、特に限定されるものではない。第2の透明絶縁層17は第1の透明絶縁層15と同じものを用いることができる。
The configuration of the first transparent insulating layer 15 is particularly limited as long as it is transparent, has electrical insulating properties, and can stably fix the touch panel 12 and the image display unit 14. It's not a thing. As the first transparent insulating layer 15, for example, an optically transparent resin (OCR, Optical Clear Resin) such as an optically transparent adhesive (OCA, Optical Clear Adhesive) and a UV (Ultra Violet) cured resin is used. Can be used. Further, the first transparent insulating layer 15 may be partially hollow.
It should be noted that the touch panel 12 may be provided at a distance on the display surface 14a of the image display unit 14 without providing the first transparent insulating layer 15. This gap is also called an air gap.
Further, if the second transparent insulating layer 17 is transparent and has electrical insulating properties, and if the touch panel electrode member 18 and the cover layer 16 can be stably fixed, the configuration thereof is as follows. It is not particularly limited. As the second transparent insulating layer 17, the same one as the first transparent insulating layer 15 can be used.

画像表示部14は、画像等の表示物を表示する表示面14aを備えるものであり、例えば、液晶表示装置である。画像表示部14は、液晶表示装置に限定されるものではなく、有機EL(Organic electro luminescence)表示装置でもよい。画像表示部14は、上述のもの以外に、陰極線管(CRT)表示装置、真空蛍光ディスプレイ(VFD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、表面電界ディスプレイ(SED)、電界放出ディスプレイ(FED)、および電子ペーパー等を利用することができる。
画像表示部14は、その用途に応じたものが適宜利用されるが、画像表示装置10の厚みを薄く構成するために、液晶表示パネル、および有機ELパネル等のパネルの形態とすることが好ましい。
The image display unit 14 includes a display surface 14a for displaying a display object such as an image, and is, for example, a liquid crystal display device. The image display unit 14 is not limited to the liquid crystal display device, and may be an organic EL (Organic electroluminescence) display device. In addition to the above, the image display unit 14 includes a cathode ray tube (CRT) display device, a vacuum fluorescent display (VFD), a plasma display panel (PDP), a surface electric field display (SED), a field emission display (FED), and an electron. Paper etc. can be used.
The image display unit 14 is appropriately used depending on its intended use, but it is preferably in the form of a panel such as a liquid crystal display panel and an organic EL panel in order to make the image display device 10 thinner. ..

(タッチパネル)
図1は画像表示装置の第1の例を示す模式的断面図である。図2はタッチパネルの第1の例を示す模式的平面図である。以下、タッチパネル12について図1および図2を用いて説明する。
タッチパネル12は、コントローラ13と、タッチパネル用電極部材18と、カバー層16とを有する。タッチパネル用電極部材18は、タッチセンサーとして機能するものである。
タッチパネル用電極部材18は、例えば、支持基板24と、支持基板24の一方の面上に設けられた絶縁層25と、絶縁層25上に設けられた複数の第1検出電極30と、一端が第1検出電極30に電気的に接続され、他端に第1外部接続端子26aが設けられた複数の第1周辺配線23aとを有する第1電極層11Aを有する。
第1外部接続端子26aには、フレキシブル回路基板19が電気的に接続されて、コントローラ13と接続されている。
また、第1電極層11A上には、透明絶縁層27が形成され、透明絶縁層27上には、複数の第2検出電極32と、一端が第2検出電極32に電気的に接続され、他端に第2外部接続端子26bが設けられた複数の第2周辺配線23bとを有する第2電極層11Bを有する。第1電極層11Aと同じく、第2外部接続端子26bには、フレキシブル回路基板19が電気的に接続されて、コントローラ13と接続されている。
(Touch panel)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a first example of an image display device. FIG. 2 is a schematic plan view showing the first example of the touch panel. Hereinafter, the touch panel 12 will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
The touch panel 12 has a controller 13, a touch panel electrode member 18, and a cover layer 16. The touch panel electrode member 18 functions as a touch sensor.
The touch panel electrode member 18 has, for example, a support substrate 24, an insulating layer 25 provided on one surface of the support substrate 24, a plurality of first detection electrodes 30 provided on the insulating layer 25, and one end thereof. It has a first electrode layer 11A which is electrically connected to the first detection electrode 30 and has a plurality of first peripheral wirings 23a provided with a first external connection terminal 26a at the other end.
The flexible circuit board 19 is electrically connected to the first external connection terminal 26a and is connected to the controller 13.
Further, a transparent insulating layer 27 is formed on the first electrode layer 11A, and a plurality of second detection electrodes 32 and one end thereof are electrically connected to the second detection electrode 32 on the transparent insulating layer 27. It has a second electrode layer 11B having a plurality of second peripheral wirings 23b provided with a second external connection terminal 26b at the other end. Similar to the first electrode layer 11A, the flexible circuit board 19 is electrically connected to the second external connection terminal 26b and is connected to the controller 13.

(タッチパネル用電極部材)
タッチパネル用電極部材18について、図2を用いて説明する。
タッチパネル用電極部材18は、タッチパネル12のタッチセンサーと機能する部位であり、使用者によって入力操作が可能な検出領域Eである検出部20と、検出領域Eの外側に位置する周辺領域Eに周辺配線部22とを有する。
検出部20は、検出電極として、例えば、複数の第1検出電極30と複数の第2検出電極32とを有する。第1電極層11Aの第1検出電極30と第2電極層11Bの第2検出電極32とは、透明絶縁層27を介して配置されている。第1検出電極30と第2検出電極32とは透明絶縁層27により電気的に絶縁される。透明絶縁層27は電気的な絶縁層として機能する。
複数の第1検出電極30は、互いに平行にX方向に延びる帯状の電極であり、互いにX方向と直交するY方向に間隔31aをあけて、互いにY方向において電気的に絶縁された状態で絶縁層25の表面25a(図1参照)上に設けられている。第1検出電極30は、それぞれX方向の少なくとも一端に第1電極端子33が設けられている。
複数の第2検出電極32は、互いに平行にY方向に延びる帯状の電極であり、互いにX方向に間隔31bをあけて、互いにX方向において電気的に絶縁された状態で透明絶縁層27の表面27a(図1参照)上に設けられている。第2検出電極32は、それぞれY方向の一方の端に第2電極端子34が設けられている。
(Electrode member for touch panel)
The touch panel electrode member 18 will be described with reference to FIG.
The touch panel electrode member 18 is a portion that functions as a touch sensor of the touch panel 12, and is a detection unit 20 that is a detection area E1 that can be input by a user, and a peripheral area E located outside the detection area E1. 2 has a peripheral wiring portion 22.
The detection unit 20 has, for example, a plurality of first detection electrodes 30 and a plurality of second detection electrodes 32 as detection electrodes. The first detection electrode 30 of the first electrode layer 11A and the second detection electrode 32 of the second electrode layer 11B are arranged via the transparent insulating layer 27. The first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 are electrically insulated by the transparent insulating layer 27. The transparent insulating layer 27 functions as an electrical insulating layer.
The plurality of first detection electrodes 30 are strip-shaped electrodes extending in the X direction in parallel with each other, and are insulated from each other in a state of being electrically insulated in the Y direction with a space of 31a in the Y direction orthogonal to the X direction. It is provided on the surface 25a (see FIG. 1) of the layer 25. Each of the first detection electrodes 30 is provided with a first electrode terminal 33 at at least one end in the X direction.
The plurality of second detection electrodes 32 are strip-shaped electrodes extending in the Y direction in parallel with each other, and the surface of the transparent insulating layer 27 is electrically insulated from each other in the X direction with a distance of 31b in the X direction. It is provided on 27a (see FIG. 1). The second detection electrode 32 is provided with a second electrode terminal 34 at one end in the Y direction.

複数の第1検出電極30と複数の第2検出電極32とは、直交して設けられているが、上述のように透明絶縁層27により互いに電気的に絶縁されている。
なお、第1検出電極30および第2検出電極32における間隔31a、31bは、第1検出電極30または第2検出電極32と分断されており、電気的に接続されていない領域である。このため、上述のように、複数の第1検出電極30は互いにY方向において電気的に絶縁された状態であり、複数の第2検出電極32は互いにX方向において電気的に絶縁された状態である。図2に示すように検出部20では、第1検出電極30が6つ、第2検出電極32が5つ設けられているが、その数は特に限定されるものではなく複数あればよい。間隔31a、31bが視認されるのを防止する為に、間隔31a、31bに電気的に浮遊したダミー電極を配置してもよい。
第1検出電極30と第2検出電極32とは、例えば、第1金属細線35a(図3参照)と第2金属細線35b(図3参照)とが交差部で交差することで形成されるメッシュパターンを有する金属メッシュで構成される。第1検出電極30および第2検出電極32が、メッシュパターンを有する金属メッシュである場合、間隔31a、31bに配置されるダミー電極もメッシュパターンを有する金属メッシュで構成される。
第1検出電極30の電極幅および第2検出電極32の電極幅は、例えば、1~5mmであり、電極間ピッチは3~6mmである。第1検出電極30の電極幅はY方向の最大長さであり、第2検出電極32の電極幅はX方向の最大長さである。
The plurality of first detection electrodes 30 and the plurality of second detection electrodes 32 are provided orthogonally to each other, but are electrically insulated from each other by the transparent insulating layer 27 as described above.
The intervals 31a and 31b in the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 are regions that are separated from the first detection electrode 30 or the second detection electrode 32 and are not electrically connected. Therefore, as described above, the plurality of first detection electrodes 30 are electrically insulated from each other in the Y direction, and the plurality of second detection electrodes 32 are electrically insulated from each other in the X direction. be. As shown in FIG. 2, the detection unit 20 is provided with six first detection electrodes 30 and five second detection electrodes 32, but the number is not particularly limited and may be a plurality. In order to prevent the intervals 31a and 31b from being visually recognized, electrically floating dummy electrodes may be arranged at the intervals 31a and 31b.
The first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 are, for example, a mesh formed by the intersection of the first metal wire 35a (see FIG. 3) and the second metal wire 35b (see FIG. 3). It is composed of a metal mesh with a pattern. When the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 are metal meshes having a mesh pattern, the dummy electrodes arranged at intervals 31a and 31b are also made of a metal mesh having a mesh pattern.
The electrode width of the first detection electrode 30 and the electrode width of the second detection electrode 32 are, for example, 1 to 5 mm, and the pitch between the electrodes is 3 to 6 mm. The electrode width of the first detection electrode 30 is the maximum length in the Y direction, and the electrode width of the second detection electrode 32 is the maximum length in the X direction.

周辺配線部22は、第1検出電極30および第2検出電極32にタッチ駆動信号およびタッチ検出信号をコントローラ13から送信・伝達するための配線である周辺配線(第1周辺配線23a、第2周辺配線23b)が配置された領域である。周辺配線部22は、複数の第1周辺配線23aおよび複数の第2周辺配線23bを有する。第1周辺配線23aは、一端が第1電極端子33を介して第1検出電極30に電気的に接続され、他端が第1外部接続端子26aに電気的に接続されている。また、第2周辺配線23bは、一端が第2電極端子34を介して第2検出電極32に電気的に接続され、他端が第2外部接続端子26bに電気的に接続されている。なお、第1電極端子33、および第2電極端子34は、ベタ膜形状でもよく、特開2013-127658号公報に示されるようなメッシュ形状でもよい。第1電極端子33および第2電極端子34の幅の好ましい範囲は、それぞれ第1検出電極30および第2検出電極32の電極幅の1/3倍以上1.2倍以下である。 The peripheral wiring unit 22 is a peripheral wiring (first peripheral wiring 23a, second peripheral wiring) that is wiring for transmitting and transmitting a touch drive signal and a touch detection signal from the controller 13 to the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32. This is the area where the wiring 23b) is arranged. The peripheral wiring unit 22 has a plurality of first peripheral wirings 23a and a plurality of second peripheral wirings 23b. One end of the first peripheral wiring 23a is electrically connected to the first detection electrode 30 via the first electrode terminal 33, and the other end is electrically connected to the first external connection terminal 26a. Further, one end of the second peripheral wiring 23b is electrically connected to the second detection electrode 32 via the second electrode terminal 34, and the other end is electrically connected to the second external connection terminal 26b. The first electrode terminal 33 and the second electrode terminal 34 may have a solid film shape or a mesh shape as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-127658. The preferable range of the widths of the first electrode terminal 33 and the second electrode terminal 34 is 1/3 times or more and 1.2 times or less the electrode widths of the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32, respectively.

第1電極層11Aの第1検出電極30と第1電極端子33と第1周辺配線23aとは、電気抵抗、および断線の発生しにくさ等の観点から一体構成であることが好ましく、さらには同じ金属材料で形成することがより好ましい。この場合、第1電極層11Aは、例えば、リソグラフィ法等により形成される。
同じく、第2電極層11Bの第2検出電極32と第2電極端子34と第2周辺配線23bとは、電気抵抗、および断線の発生しにくさ等の観点から一体構成であることが好ましく、さらには同じ金属材料で形成することがより好ましい。この場合、第2電極層11Bは、例えば、リソグラフィ法等により形成される。
The first detection electrode 30, the first electrode terminal 33, and the first peripheral wiring 23a of the first electrode layer 11A are preferably integrally configured from the viewpoint of electrical resistance, resistance to disconnection, and the like. It is more preferable to form the same metal material. In this case, the first electrode layer 11A is formed by, for example, a lithography method.
Similarly, the second detection electrode 32, the second electrode terminal 34, and the second peripheral wiring 23b of the second electrode layer 11B are preferably integrally configured from the viewpoint of electrical resistance and resistance to disconnection. Further, it is more preferable to form the same metal material. In this case, the second electrode layer 11B is formed by, for example, a lithography method.

(本発明の実施形態)
図3は本発明の実施形態のタッチパネル用電極部材の検出電極および接続線の第1の例を示す模式的平面図である。図4は本発明の実施形態のタッチパネル用電極部材の接続線の第1の例を拡大して示す模式的平面図である。
以下は、タッチパネル用電極部材18の第1電極層11Aに本発明の実施形態を用いた場合で説明をする。
(Embodiment of the present invention)
FIG. 3 is a schematic plan view showing a first example of a detection electrode and a connection line of the electrode member for a touch panel according to the embodiment of the present invention. FIG. 4 is a schematic plan view showing an enlarged first example of a connection line of a touch panel electrode member according to an embodiment of the present invention.
The following will explain the case where the embodiment of the present invention is used for the first electrode layer 11A of the electrode member 18 for a touch panel.

検出電極、すなわち、第1検出電極30は、第1方向Dに延びる第1金属細線35aと第1方向Dとは異なる第2方向Dに延びる第2金属細線35bとが交差部Cで交差することにより形成された金属メッシュから構成されている。
複数の接続線37は、それぞれ、第1方向Dおよび第2方向Dとは異なる第3方向Dに延び、且つ第1金属細線35aおよび第2金属細線35bの線幅より大きい線幅を有する。複数の接続線37は、交差部C以外の箇所において第1金属細線35aおよび第2金属細線35bに電気的に接続されている。図3では、例えば、6つの接続線37が、第4方向Dに沿って、間隔をあけて配置されている。
第1金属細線35aおよび第2金属細線35bで構成される金属メッシュは、例えば、複数のひし形格子36を有するメッシュパターンを有する。なお、第1方向Dと第2方向Dの交差角度は40度以上140度以下であることが好ましい。
In the detection electrode, that is, the first detection electrode 30, the first metal wire 35a extending in the first direction D1 and the second metal wire 35b extending in the second direction D2 different from the first direction D1 intersect with each other. It is composed of a metal mesh formed by intersecting with.
The plurality of connecting lines 37 extend in a third direction D 3 different from the first direction D 1 and the second direction D 2 , respectively, and have a line width larger than the line width of the first metal thin wire 35a and the second metal thin wire 35b, respectively. Has. The plurality of connecting lines 37 are electrically connected to the first metal thin wire 35a and the second metal thin wire 35b at a place other than the intersection C. In FIG. 3, for example, six connecting lines 37 are spaced apart along the fourth direction D4.
The metal mesh composed of the first metal wire 35a and the second metal wire 35b has, for example, a mesh pattern having a plurality of diamond grids 36. The intersection angle between the first direction D 1 and the second direction D 2 is preferably 40 degrees or more and 140 degrees or less.

第1電極端子33は、第1方向D、第2方向Dおよび第3方向Dとは異なる第4方向Dに延びている。例えば、第4方向Dは、第3方向Dに対して直交する方向である。すなわち、第3方向Dと第4方向Dとは直交している。なお、第1検出電極30の第1電極端子33は、Y方向に延びており、第4方向DはY方向である。なお、第1方向Dと第4方向Dの交差角度(狭角)は、20度以上45度以下であることが好ましい。また、第2方向Dと第4方向Dの交差角度(狭角)は、20度以上45度以下であることが好ましく、第1方向Dと第4方向Dの交差角度(狭角)と第2方向Dと第4方向Dの交差角度(狭角)とは同じであることが好ましい。 The first electrode terminal 33 extends in the fourth direction D 4 , which is different from the first direction D 1 , the second direction D 2 , and the third direction D 3 . For example, the fourth direction D 4 is a direction orthogonal to the third direction D 3 . That is, the third direction D 3 and the fourth direction D 4 are orthogonal to each other. The first electrode terminal 33 of the first detection electrode 30 extends in the Y direction, and the fourth direction D 4 is in the Y direction. The intersection angle (narrow angle) between the first direction D 1 and the fourth direction D 4 is preferably 20 degrees or more and 45 degrees or less. The intersection angle (narrow angle) between the second direction D 2 and the fourth direction D 4 is preferably 20 degrees or more and 45 degrees or less, and the intersection angle (narrow angle) between the first direction D 1 and the fourth direction D 4 is preferable. The angle) and the intersection angle (narrow angle) of the second direction D 2 and the fourth direction D 4 are preferably the same.

例えば、接続線37は、図3および図4に示すように平面視において台形の形状を有する。台形の平行な一対の底辺37b、37cが、それぞれ第3方向Dに延び、一対の底辺37b、37cの端部を接続する斜辺37aが、第1方向Dまたは第2方向Dに延びている。図4に示すように台形の形状の接続線37の斜辺37aに第1金属細線35aまたは第2金属細線35bが電気的に接続されている。接続線37の高さhは、第3方向Dに沿った接続線の最大長さのことであり、図4では底辺37cの第3方向Dに沿った長さである。接続線37の線幅δは、第1金属細線35aと第1金属細線35aの延長線、または第2金属細線35bと第2金属細線35bの延長線と交差する領域の接続線の第3方向と垂直な方向に沿った最大長さである。
なお、平面視とは、タッチパネル用電極部材を上面から見ることであり、タッチパネル用電極部材をタッチパネルとした場合、カバー層16の表面16a側から見ることである。
For example, the connecting line 37 has a trapezoidal shape in a plan view as shown in FIGS. 3 and 4. A pair of parallel trapezoidal bases 37b, 37c extend in the third direction D3, respectively, and a hypotenuse 37a connecting the ends of the pair of bottoms 37b, 37c extends in the first direction D1 or the second direction D2. ing. As shown in FIG. 4, the first metal thin wire 35a or the second metal thin wire 35b is electrically connected to the hypotenuse 37a of the trapezoidal connecting wire 37. The height h of the connecting line 37 is the maximum length of the connecting line along the third direction D3, and in FIG. 4, it is the length along the third direction D3 of the base 37c. The line width δ of the connecting line 37 is the third direction of the connecting line in the region where the extension line of the first metal thin wire 35a and the first metal thin wire 35a or the extension line of the second metal thin wire 35b and the second metal thin wire 35b intersects. Is the maximum length along the direction perpendicular to.
In addition, the plan view means to see the electrode member for the touch panel from the upper surface, and when the electrode member for the touch panel is a touch panel, it is to see from the surface 16a side of the cover layer 16.

接続線の構成は図3、図4に示す構成に限定されるものではない。ここで、図5は本発明の実施形態のタッチパネル用電極部材の接続線の第2の例を拡大して示す模式的平面図であり、図6は本発明の実施形態のタッチパネル用電極部材の接続線の第3の例を拡大して示す模式的平面図である。なお、図5と図6において、図3および図4に示す構成と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。 The configuration of the connecting line is not limited to the configuration shown in FIGS. 3 and 4. Here, FIG. 5 is a schematic plan view showing an enlarged second example of the connection line of the electrode member for the touch panel according to the embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a schematic plan view showing the electrode member for the touch panel according to the embodiment of the present invention. It is a schematic plan view which shows the 3rd example of a connection line in an enlarged manner. In FIGS. 5 and 6, the same components as those shown in FIGS. 3 and 4 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図5に示す接続線38のように平面視において長方形の形状でもよい。長方形の形状の接続線38は、側辺38bを第3方向Dと平行にして設けられている。接続線38の上辺38aに第1金属細線35aまたは第2金属細線35bが電気的に接続されている。接続線38の上辺38aは、第4方向Dに平行な辺である。接続線38の高さhは、第3方向Dに沿った最大長さであり、側辺38bの長さである。接続線38の線幅δは、第1金属細線35aと第1金属細線35aの延長線、または第2金属細線35bと第2金属細線35bの延長線と交差する領域の接続線の第3方向Dと垂直な方向に沿った最大長さである。
図6に示す接続線39のように平面視において三角形の形状でもよい。三角形の形状の接続線39の斜辺39aに第1金属細線35aまたは第2金属細線35bが電気的に接続されている。三角形の形状の接続線39の高さhは、第3方向Dに沿った最大長さである。接続線39の線幅δは、第1金属細線35aと第1金属細線35aの延長線、または第2金属細線35bと第2金属細線35bの延長線と交差する領域の接続線の第3方向と垂直な方向に沿った最大長さであり、点39dを通る第3方向に垂直な線Lsの長さである。
Like the connection line 38 shown in FIG. 5, it may have a rectangular shape in a plan view. The rectangular connecting line 38 is provided with the side side 38b parallel to the third direction D3. The first metal thin wire 35a or the second metal thin wire 35b is electrically connected to the upper side 38a of the connection wire 38. The upper side 38a of the connecting line 38 is a side parallel to the fourth direction D4. The height h of the connecting line 38 is the maximum length along the third direction D3, and is the length of the side side 38b. The line width δ of the connecting line 38 is the third direction of the connecting line in the region where the extension line of the first metal thin wire 35a and the first metal thin wire 35a or the extension line of the second metal thin wire 35b and the second metal thin wire 35b intersects. The maximum length along the direction perpendicular to D3 .
Like the connection line 39 shown in FIG. 6, it may have a triangular shape in a plan view. The first metal thin wire 35a or the second metal fine wire 35b is electrically connected to the hypotenuse 39a of the triangular-shaped connecting wire 39. The height h of the connecting line 39 in the shape of a triangle is the maximum length along the third direction D3. The line width δ of the connecting line 39 is the third direction of the connecting line in the region where the extension line of the first metal thin wire 35a and the first metal thin wire 35a or the extension line of the second metal thin wire 35b and the second metal thin wire 35b intersects. It is the maximum length along the direction perpendicular to and the length of the line Ls perpendicular to the third direction passing through the point 39d.

接続線は、上述のように、第1金属細線および第2金属細線よりも線幅を大きくすることにより、接続線と検出電極との接続箇所が断線しにくくなる。また、接続線の線幅を大きくすることにより、例えば、フォトグラフィー法とエッチングを組み合わせて接続線を作製する場合、過剰にエッチングされても、パターン露光の際に接続線パターンの露光が不十分でも、寸法マージンが多く、接続線と検出電極との接続箇所が断線して作製されることが抑制される。
また、第1金属細線と第2金属細線の交差部以外の箇所において第1金属細線および第2金属細線に接続線を電気的に接続することにより、応力集中を避けることができ、また接続線の数を増やすことができるので、電極端子と検出電極との間での断線がしにくくなる。さらには、図4、および図6に示すように、第1金属細線および第2金属細線を、接続線を斜辺に沿って電気的に接続することにより、応力集中を避けることができ、接続線と検出電極との接続箇所が断線しにくくなる。これらにより、第1検出電極30の導通を確保することができる。
また、接続線を複数設けることにより、複数の接続線のうち、断線するものがあっても、第1検出電極30の導通を確保することができる。
なお、第1金属細線の延びる方向および第2金属細線の延びる方向と、接続線の斜辺とが平行であると、接続線の幅を広くしても応力集中しにくいため、より好ましい。
また、上述の接続線の構成では、第1金属細線および第2金属細線の線幅を広くする必要がなく、第1金属細線および第2金属細線が視認されることも抑制され、視認性が向上する。
As described above, by making the line width of the connecting wire larger than that of the first metal thin wire and the second metal thin wire, the connection point between the connecting wire and the detection electrode is less likely to be broken. Further, by increasing the line width of the connecting line, for example, when a connecting line is produced by combining a photography method and etching, even if the connecting line is excessively etched, the exposure of the connecting line pattern is insufficient at the time of pattern exposure. However, there is a large dimensional margin, and it is possible to prevent the connection point between the connection line and the detection electrode from being broken.
Further, by electrically connecting the connecting wire to the first metal thin wire and the second metal thin wire at a place other than the intersection of the first metal thin wire and the second metal thin wire, stress concentration can be avoided and the connecting wire can be avoided. Since the number of wires can be increased, it becomes difficult to break the wire between the electrode terminal and the detection electrode. Furthermore, as shown in FIGS. 4 and 6, stress concentration can be avoided by electrically connecting the first metal thin wire and the second metal thin wire along the hypotenuse, and the connecting line can be avoided. And the connection point with the detection electrode is less likely to break. As a result, the continuity of the first detection electrode 30 can be ensured.
Further, by providing a plurality of connecting wires, the continuity of the first detection electrode 30 can be ensured even if some of the plurality of connecting wires are disconnected.
It is more preferable that the extending direction of the first metal thin wire and the extending direction of the second metal thin wire are parallel to the hypotenuse of the connecting line because stress concentration is difficult even if the width of the connecting line is widened.
Further, in the above-mentioned configuration of the connecting wire, it is not necessary to widen the line widths of the first metal thin wire and the second metal thin wire, and the first metal thin wire and the second metal thin wire are suppressed from being visually recognized, so that the visibility is improved. improves.

第1金属細線35aまたは第2金属細線35bの線幅は1μm以上10μm以下であることが好ましく、より好ましくは1μm以上5μm以下であり、更に好ましくは1μm以上3μm以下である。第1金属細線35aまたは第2金属細線35bの線幅が1μm以上10μm以下であれば電気抵抗を小さく、且つ視認されにくい。
上述のいずれの形状の接続線においても接続線の線幅は、第1金属細線35aと第1金属細線35aの延長線、または第2金属細線35bと第2金属細線35bの延長線と交差する領域の接続線の第3方向Dと垂直な方向に沿った最大長さであり、20μm以上且つ50μm以下であり、第3方向Dに沿った接続線の最大長さは、50μm以上且つ200μm以下であることが好ましい。接続線の線幅が20μm以上且つ50μm以下であり、接続線の最大長さが50μm以上且つ200μm以下であれば、十分な導電性を確保できる。
The line width of the first metal wire 35a or the second metal wire 35b is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 1 μm or more and 5 μm or less, and further preferably 1 μm or more and 3 μm or less. If the line width of the first metal wire 35a or the second metal wire 35b is 1 μm or more and 10 μm or less, the electric resistance is small and it is difficult to see.
In any of the above-mentioned connecting lines, the line width of the connecting line intersects the extension line of the first metal thin wire 35a and the first metal thin wire 35a, or the extension line of the second metal thin wire 35b and the second metal thin wire 35b. The maximum length of the connecting line of the region along the direction perpendicular to the third direction D 3 is 20 μm or more and 50 μm or less, and the maximum length of the connecting line along the third direction D 3 is 50 μm or more and 50 μm or less. It is preferably 200 μm or less. When the line width of the connecting line is 20 μm or more and 50 μm or less and the maximum length of the connecting line is 50 μm or more and 200 μm or less, sufficient conductivity can be ensured.

接続線の線幅δと、第1金属細線35aおよび第2金属細線35bの線幅との差分は、20μm以上且つ40μm以下であることが好ましい。接続線37の線幅と第1金属細線35aおよび第2金属細線35bの線幅との差分が20μm以上且つ40μm以下であれば、接続線、第1金属細線35aおよび第2金属細線35bのいずれも、視認されにくくなる。
複数の接続線のうち、互いに隣接する接続線の間隔W(図4参照)は、50μm以上且つ2000μm以下であることが好ましい。接続線の間隔Wが50μm以上且つ2000μm以下であれば、検出電極と電極端子との電気的接続を良好に維持できる。
上述の互いに隣接する接続線の間隔Wは、互いに隣接する接続線同士の第4方向Dにおける距離である。なお、上述の金属細線の線幅、接続線の線幅、接続線の長さ、および互いに隣接する接続線の間隔については、光学顕微鏡を用いて、金属細線、接続線および電極端子の画像を取得する。そして、画像を画像解析することにより算出することができる。
The difference between the line width δ of the connecting line and the line widths of the first metal thin wire 35a and the second metal thin wire 35b is preferably 20 μm or more and 40 μm or less. If the difference between the line width of the connecting wire 37 and the line widths of the first metal thin wire 35a and the second metal thin wire 35b is 20 μm or more and 40 μm or less, any of the connecting wire, the first metal thin wire 35a and the second metal thin wire 35b. However, it becomes difficult to see.
Of the plurality of connecting lines, the spacing W (see FIG. 4) between the connecting lines adjacent to each other is preferably 50 μm or more and 2000 μm or less. When the interval W of the connection lines is 50 μm or more and 2000 μm or less, the electrical connection between the detection electrode and the electrode terminal can be well maintained.
The above-mentioned spacing W of the connecting lines adjacent to each other is the distance between the connecting lines adjacent to each other in the fourth direction D4. For the line width of the above-mentioned thin metal wire, the line width of the connecting line, the length of the connecting line, and the distance between the connecting lines adjacent to each other, use an optical microscope to obtain an image of the thin metal wire, the connecting line, and the electrode terminal. get. Then, it can be calculated by performing image analysis on the image.

なお、検出電極、周辺配線、電極端子および複数の接続線は、同一の金属材料から形成されていることが好ましく、金属材料は、銅であることが好ましい。
検出電極、周辺配線、電極端子および複数の接続線を、同一の金属材料で形成することにより、同一工程で同時に形成できる。また、金属材料に銅を用いることにより、電気抵抗を小さくできる。
なお、図3~図6において、タッチパネル用電極部材18の第1電極層11Aに本発明の接続線を有する構成について説明したが、もちろん、タッチパネル用電極部材18の第2電極層11Bに本発明の接続線を有する構成も適用できる。第2電極層11Bに適用した場合、第2検出電極32の第2電極端子34は、X方向に延びており、第4方向DはX方向である。第1電極層11Aと第2電極層11Bの両方に本発明の接続線を用いることが好ましいが、どちらか一方に本発明の接続線を用いる形態でもよい。
The detection electrode, peripheral wiring, electrode terminal, and a plurality of connecting wires are preferably formed of the same metal material, and the metal material is preferably copper.
By forming the detection electrode, peripheral wiring, electrode terminal, and a plurality of connecting wires with the same metal material, they can be simultaneously formed in the same process. Further, by using copper as the metal material, the electric resistance can be reduced.
Although the configuration in which the connection line of the present invention is provided in the first electrode layer 11A of the touch panel electrode member 18 has been described in FIGS. 3 to 6, of course, the present invention is provided in the second electrode layer 11B of the touch panel electrode member 18. A configuration having a connecting line of is also applicable. When applied to the second electrode layer 11B, the second electrode terminal 34 of the second detection electrode 32 extends in the X direction, and the fourth direction D 4 is in the X direction. It is preferable to use the connecting wire of the present invention for both the first electrode layer 11A and the second electrode layer 11B, but the connecting wire of the present invention may be used for either one.

(画像表示装置の他の例)
図1に示す画像表示装置10に限定されるものではなく、画像表示装置10の他の例について説明する。
図7は画像表示装置の第2の例を示す模式的断面図であり、図8は画像表示装置の第3の例を示す模式的断面図である。なお、図7および図8において、図1および図2に示す構成と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図7に示す第2の例の画像表示装置10aは、図1に示す画像表示装置10に比して、カバー層16が、例えば、ガラス基板で構成されており、カバー層16の裏面16b上に第2検出電極32が配置され、透明絶縁層27を介して第1検出電極30が配置されている点が異なる。画像表示装置10aでは、カバー層16が支持基板24として機能する。
また、タッチパネル用電極部材18が、カバー層16であるガラス基板と、第1検出電極30、および第2検出電極32と、透明絶縁層27とにより構成されている。タッチパネル用電極部材18では透明絶縁層27が、第1検出電極30と第2検出電極32とを電気的に絶縁する絶縁層として機能する。
第1電極層11Aの第1周辺配線23a上に周辺配線絶縁層50が設けられている。
カバー層16の裏面16b上に、第1検出電極30および第1周辺配線23a上の周辺配線絶縁層50を覆う透明絶縁層52が設けられている。透明絶縁層52に、表示面14aを向けて画像表示部14が接続されている。透明絶縁層52は上述の第1の透明絶縁層15と同じものを用いることができる。
(Other examples of image display devices)
The present invention is not limited to the image display device 10 shown in FIG. 1, and other examples of the image display device 10 will be described.
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a second example of the image display device, and FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a third example of the image display device. In FIGS. 7 and 8, the same components as those shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
In the image display device 10a of the second example shown in FIG. 7, the cover layer 16 is made of, for example, a glass substrate as compared with the image display device 10 shown in FIG. 1, and the cover layer 16 is on the back surface 16b of the cover layer 16. The second detection electrode 32 is arranged in the transparent insulating layer 27, and the first detection electrode 30 is arranged via the transparent insulating layer 27. In the image display device 10a, the cover layer 16 functions as a support substrate 24.
Further, the touch panel electrode member 18 is composed of a glass substrate which is a cover layer 16, a first detection electrode 30, a second detection electrode 32, and a transparent insulating layer 27. In the touch panel electrode member 18, the transparent insulating layer 27 functions as an insulating layer that electrically insulates the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32.
A peripheral wiring insulating layer 50 is provided on the first peripheral wiring 23a of the first electrode layer 11A.
On the back surface 16b of the cover layer 16, a transparent insulating layer 52 that covers the first detection electrode 30 and the peripheral wiring insulating layer 50 on the first peripheral wiring 23a is provided. The image display unit 14 is connected to the transparent insulating layer 52 with the display surface 14a facing. As the transparent insulating layer 52, the same one as the above-mentioned first transparent insulating layer 15 can be used.

また、図8に示す第3の例の画像表示装置10bは、図1に示す画像表示装置10と比して、支持基板24の両方の面、それぞれに第1電極層11Aと、第2電極層11Bとが設けられている点が異なる。支持基板24の表面24a上と裏面24b上とに、それぞれ絶縁層25が設けられている。表面24a側の絶縁層25上に第2電極層11Bが設けられ、裏面24b側の絶縁層25上に第1電極層11Aが設けられている。支持基板24により第1検出電極30と第2検出電極32とが電気的に絶縁される。
第1検出電極30および第1周辺配線23a上の周辺配線絶縁層50の一部を覆う透明絶縁層52が設けられている。支持基板24の表面24a側の絶縁層25上に第2検出電極32を覆う第2の透明絶縁層17が設けられており、第2の透明絶縁層17上にカバー層16が設けられている。
支持基板24の裏面24b側の絶縁層25上に、第1検出電極30および第1周辺配線23a上の周辺配線絶縁層50の一部を覆う透明絶縁層52が設けられている。透明絶縁層52に、表示面14aを向けて画像表示部14が接続されている。
Further, the image display device 10b of the third example shown in FIG. 8 has a first electrode layer 11A and a second electrode on both surfaces of the support substrate 24, respectively, as compared with the image display device 10 shown in FIG. The difference is that the layer 11B is provided. Insulating layers 25 are provided on the front surface 24a and the back surface 24b of the support substrate 24, respectively. The second electrode layer 11B is provided on the insulating layer 25 on the front surface 24a side, and the first electrode layer 11A is provided on the insulating layer 25 on the back surface 24b side. The support substrate 24 electrically insulates the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32.
A transparent insulating layer 52 that covers a part of the peripheral wiring insulating layer 50 on the first detection electrode 30 and the first peripheral wiring 23a is provided. A second transparent insulating layer 17 that covers the second detection electrode 32 is provided on the insulating layer 25 on the surface 24a side of the support substrate 24, and a cover layer 16 is provided on the second transparent insulating layer 17. ..
On the insulating layer 25 on the back surface 24b side of the support substrate 24, a transparent insulating layer 52 that covers a part of the peripheral wiring insulating layer 50 on the first detection electrode 30 and the first peripheral wiring 23a is provided. The image display unit 14 is connected to the transparent insulating layer 52 with the display surface 14a facing.

以下、タッチパネル用導電部材およびタッチパネルの各部について説明する。
<第1金属細線、第2金属細線>
第1金属細線35a(図3参照)と第2金属細線35b(図3参照)とは、上述のように第1検出電極30(図2参照)と第2検出電極32(図2参照)とを構成するものである。第1金属細線35aと第2金属細線35bとが交差部で交差することにより金属メッシュが形成される。
第1金属細線および第2金属細線の線幅は、上述のように1μm以上10μm以下であることが好ましい。上述の範囲であれば、電気抵抗が小さく、且つ視認されにくい、すなわち、視認性に優れる。
第1金属細線、第2金属細線の厚みは、特に制限されないが、10μm以下であることがより好ましく、1μm以下であることが更に好ましく、0.01~1μmであることが特に好ましく、0.05~0.8μmであることが最も好ましい。上述の範囲であれば、電気抵抗が小さく、耐久性に優れる。
Hereinafter, each part of the conductive member for the touch panel and the touch panel will be described.
<1st metal thin wire, 2nd metal thin wire>
The first metal wire 35a (see FIG. 3) and the second metal wire 35b (see FIG. 3) are the first detection electrode 30 (see FIG. 2) and the second detection electrode 32 (see FIG. 2) as described above. It constitutes. A metal mesh is formed by the intersection of the first metal wire 35a and the second metal wire 35b at the intersection.
The line widths of the first metal thin wire and the second metal thin wire are preferably 1 μm or more and 10 μm or less as described above. Within the above range, the electrical resistance is small and it is difficult to see, that is, the visibility is excellent.
The thickness of the first metal wire and the second metal wire is not particularly limited, but is more preferably 10 μm or less, further preferably 1 μm or less, particularly preferably 0.01 to 1 μm, and 0. Most preferably, it is 05 to 0.8 μm. Within the above range, the electrical resistance is small and the durability is excellent.

第1金属細線および第2金属細線は、例えば、金属単体または金属の積層体で構成される。第1金属細線および第2金属細線が金属単体で構成される場合、例えば、蒸着法、またはスパッタ法で形成される。
第1金属細線および第2金属細線に含まれる金属としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)およびアルミニウム(Al)等の金属または合金等が挙げられる。なかでも、第1金属細線および第2金属細線の導電性が優れる理由から、銀、銅であることが好ましい。第1金属細線および第2金属細線は、金属単体に限定されるものではなく、積層体の構成としてもよく、例えば、モリブデン、銅、モリブデンの3層構成でもよい。
また、例えば、第1金属細線および第2金属細線は、高分子中に分散された複数の金属粒子を含有するものも含まれる。この場合、第1金属細線および第2金属細線では、複数の金属粒子が高分子中に分散している場合が多い。金属粒子の形状は、粒子状等に特に限定されず、例えば、融着して一部または全体にわたって結合している等の形態であってもよい。
第1金属細線および第2金属細線に含まれる金属粒子は、導電性を担保する部分である。金属粒子は、高分子中で離散して存在してもよく、凝集して存在してもよい。金属粒子を銀で構成することにより、第1金属細線および第2金属細線の断線故障の発生が低下する。
The first metal wire and the second metal wire are composed of, for example, a single metal or a laminate of metals. When the first metal wire and the second metal wire are composed of a single metal, they are formed by, for example, a vapor deposition method or a sputtering method.
Examples of the metal contained in the first metal wire and the second metal wire include metals or alloys such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), molybdenum (Mo) and aluminum (Al). Be done. Of these, silver and copper are preferable because the first metal wire and the second metal wire are excellent in conductivity. The first metal wire and the second metal wire are not limited to a single metal, and may be a laminated body structure, for example, a three-layer structure of molybdenum, copper, and molybdenum.
Further, for example, the first metal wire and the second metal wire include those containing a plurality of metal particles dispersed in the polymer. In this case, in the first metal wire and the second metal wire, a plurality of metal particles are often dispersed in the polymer. The shape of the metal particles is not particularly limited to the particle shape or the like, and may be, for example, a form in which the metal particles are fused and bonded to a part or the whole.
The metal particles contained in the first metal wire and the second metal wire are portions that guarantee conductivity. The metal particles may be present discretely or aggregated in the polymer. By forming the metal particles with silver, the occurrence of disconnection failure of the first metal wire and the second metal wire is reduced.

第1金属細線および第2金属細線が金属と高分子とを含有する構成の場合、高分子の種類は特に制限されず、公知の高分子を使用することができる。具体的には、ゼラチン、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体およびキトサン系重合体からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。なかでも、高分子としては、後述する特定高分子が好ましい。特定高分子はゼラチン以外の高分子、すなわち、ゼラチンとは異なる高分子である。金属微粒子としては、銀、銅、金等の微粒子が使用される。
金属細線中に含有される複数の金属粒子の割合は、70体積%以上であることが好ましく、上限としては、90体積%である。金属粒子の割合が70体積%以上であれば、十分な導電性が得られる。なお、金属粒子の割合は後述のようにして求めることができる。
金属と高分子とを含有する構成の場合、例えば、ハロゲン化銀を用いた製造方法で金属細線が形成される。
When the first metal wire and the second metal wire contain a metal and a polymer, the type of the polymer is not particularly limited, and a known polymer can be used. Specifically, gelatin, (meth) acrylic resin, styrene resin, vinyl resin, polyolefin resin, polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polydiene resin, epoxy resin, Examples thereof include at least one resin selected from the group consisting of silicone-based resins, cellulose-based polymers and chitosan-based polymers, and copolymers composed of monomers constituting these resins. Among them, as the polymer, a specific polymer described later is preferable. The specific polymer is a polymer other than gelatin, that is, a polymer different from gelatin. As the metal fine particles, fine particles such as silver, copper, and gold are used.
The ratio of the plurality of metal particles contained in the fine metal wire is preferably 70% by volume or more, and the upper limit is 90% by volume. When the ratio of the metal particles is 70% by volume or more, sufficient conductivity can be obtained. The proportion of metal particles can be determined as described below.
In the case of a configuration containing a metal and a polymer, for example, a fine metal wire is formed by a manufacturing method using silver halide.

第1金属細線および第2金属細線は、上述の金属、または合金により構成されるものに限定されるものではなく、例えば、金属酸化物粒子、銀ペーストおよびは銅ペースト等の金属ペースト、ならびに銀ナノワイヤおよび銅ナノワイヤ等の金属ナノワイヤ粒子を含むものであってもよい。
また、第1金属細線および第2金属細線は、単層構造であっても、多層構造であってもよい。金属細線としては、例えば、酸窒化銅層と銅層と酸窒化銅層とが順次積層された構造、またはモリブデン(Mo)とアルミニウム(Al)とモリブデン(Mo)とが順次積層された構造、またはモリブデン(Mo)と銅(Cu)とモリブデン(Mo)とが順次積層された構造とすることができる。
第1金属細線および第2金属細線の反射率を小さくするために、第1金属細線および第2金属細線の表面を硫化または酸化処理する黒化処理して形成してもよい。さらには、第1金属細線および第2金属細線を見えにくくする黒化層を設ける構成でもよい。黒化層は、例えば、第1金属細線および第2金属細線の反射率を小さくするものである。黒化層は、窒化銅、酸化銅、酸窒化銅、酸化モリブデン、AgO、Pd、カーボンまたはその他の窒化物または酸化物等により構成することができる。黒化層は第1金属細線および第2金属細線の視認される側、すなわち、第1金属細線および第2金属細線のカバー層の表面側に配置される。
The first metal wire and the second metal wire are not limited to those composed of the above-mentioned metals or alloys, and are, for example, metal oxide particles, silver paste and metal paste such as copper paste, and silver. It may contain metal nanowire particles such as nanowires and copper nanowires.
Further, the first metal wire and the second metal wire may have a single-layer structure or a multi-layer structure. Examples of the thin metal wire include a structure in which a copper oxynitride layer, a copper layer, and a copper oxynitride layer are sequentially laminated, or a structure in which molybdenum (Mo), aluminum (Al), and molybdenum (Mo) are sequentially laminated. Alternatively, the structure may be such that molybdenum (Mo), copper (Cu), and molybdenum (Mo) are sequentially laminated.
In order to reduce the reflectance of the first metal wire and the second metal wire, the surfaces of the first metal wire and the second metal wire may be formed by a blackening treatment by sulfurizing or oxidizing treatment. Further, a blackening layer may be provided to obscure the first metal wire and the second metal wire. The blackening layer reduces the reflectance of the first metal wire and the second metal wire, for example. The blackened layer can be made of copper nitride, copper oxide, copper oxynitride, molybdenum oxide, AgO, Pd, carbon or other nitrides or oxides. The blackening layer is arranged on the visible side of the first metal wire and the second metal wire, that is, on the surface side of the cover layer of the first metal wire and the second metal wire.

[メッシュパターン]
第1検出電極と第2検出電極において、第1金属細線および第2金属細線により構成されるメッシュパターンは、同じ形状のひし形格子で構成されるメッシュパターンが好ましい。ひし形格子の一辺の長さは、50μm以上1500μm以下が好ましく、150μm以上800μm以下がより好ましく、200μm以上600μm以下が視認性の観点から更に好ましい。
メッシュパターンは、可視光透過率の点から、第1検出電極と第2検出電極の開口率は90%以上であることが好ましく、95%以上であることがより好ましい。メッシュパターンの開口率が大きい程、第1金属細線および第2金属細線が視認されにくくなる。
[Mesh pattern]
In the first detection electrode and the second detection electrode, the mesh pattern composed of the first metal wire and the second metal wire is preferably a mesh pattern composed of a diamond lattice having the same shape. The length of one side of the rhombus lattice is preferably 50 μm or more and 1500 μm or less, more preferably 150 μm or more and 800 μm or less, and further preferably 200 μm or more and 600 μm or less from the viewpoint of visibility.
In the mesh pattern, the aperture ratio of the first detection electrode and the second detection electrode is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more from the viewpoint of visible light transmittance. The larger the aperture ratio of the mesh pattern, the more difficult it is to see the first metal wire and the second metal wire.

<製造方法>
第1金属細線および第2金属細線の製造方法は、透明絶縁基板等に形成することができれば、特に限定されるものではなく、特開2014-159620号公報および特開2012-144761号公報等に記載のめっき法、特開2012-6377号公報、特開2014-112512号公報、特開2014-209332号公報、特開2015-22397号公報、特開2016-192200号公報およびWO2016/157585等に記載の銀塩法、特開2014-29614号公報等に記載の蒸着法、ならびに特開2011-28985号公報等に記載の導電性インクを用いた印刷法等が適宜利用可能である。
<Manufacturing method>
The method for producing the first metal wire and the second metal wire is not particularly limited as long as it can be formed on a transparent insulating substrate, etc. The plating method described in JP-A-2012-6377, JP-A-2014-121512, JP-A-2014-209332, JP-A-2015-22397, JP-A-2016-192200, WO2016 / 157585, etc. The silver salt method described, the vapor deposition method described in JP-A-2014-29614, and the printing method using conductive ink described in JP-A-2011-28985 can be appropriately used.

<周辺配線>
周辺配線は、第1金属細線および第2金属細線と同様に金属単体または金属の積層体で構成されている。周辺配線の線幅は500μm以下が好ましく、10μm以上50μm以下がより好ましい。上限としては、30μm以下が更に好ましく、15μm以下がより更に好ましい。上述の範囲であれば、電気抵抗が小さいタッチパネルを比較的容易に形成できる。また、周辺配線の線幅が10μm以上50μm以下であれば、タッチパネルの周辺配線部の面積を小さく、つまり狭額縁化ができる。
なお、周辺配線も、上述の金属細線の製造方法で形成することができ、第1周辺配線と第1検出電極とは同一材料で同一工程で同時に形成できる。また、第2周辺配線と第2検出電極とを同一材料で同一工程で同時に形成できる。
<Peripheral wiring>
The peripheral wiring is composed of a single metal or a laminated metal as in the case of the first metal wire and the second metal wire. The line width of the peripheral wiring is preferably 500 μm or less, more preferably 10 μm or more and 50 μm or less. The upper limit is more preferably 30 μm or less, and even more preferably 15 μm or less. Within the above range, a touch panel having a small electric resistance can be formed relatively easily. Further, when the line width of the peripheral wiring is 10 μm or more and 50 μm or less, the area of the peripheral wiring portion of the touch panel can be reduced, that is, the frame can be narrowed.
The peripheral wiring can also be formed by the above-mentioned method for manufacturing a thin metal wire, and the first peripheral wiring and the first detection electrode can be formed of the same material at the same time in the same process. Further, the second peripheral wiring and the second detection electrode can be formed of the same material at the same time in the same process.

<電極端子>
電極端子は、第1金属細線と第2金属細線とで構成される検出電極と周辺配線とを電気的に接続する部位であり、第1金属細線および第2金属細線と同様に金属単体または金属の積層体で構成される。電極端子の形状は長方形で良く、枠形状またはメッシュ形状であっても良い。電極端子の長さは、電極幅の1/3倍以上1.2倍以下である。
なお、電極端子も、上述の金属細線の製造方法で形成することができ、第1電極端子と第1周辺配線と第1検出電極とは同一材料で同一工程で同時に形成できる。また、第2電極端子と第2周辺配線と第2検出電極とを同一材料で同一工程で同時に形成できる。
<Electrode terminal>
The electrode terminal is a portion that electrically connects the detection electrode composed of the first metal wire and the second metal wire and the peripheral wiring, and is a simple metal or a metal like the first metal wire and the second metal wire. It is composed of a laminated body of. The shape of the electrode terminal may be rectangular, and may be a frame shape or a mesh shape. The length of the electrode terminal is 1/3 times or more and 1.2 times or less the electrode width.
The electrode terminal can also be formed by the above-mentioned method for manufacturing a thin metal wire, and the first electrode terminal, the first peripheral wiring, and the first detection electrode can be formed of the same material at the same time in the same process. Further, the second electrode terminal, the second peripheral wiring, and the second detection electrode can be formed of the same material at the same time in the same process.

<接続線>
接続線は、第1金属細線と第2金属細線とで構成される検出電極と電極端子とを電気的に接続する部位であり、第1金属細線および第2金属細線と同様に金属単体または金属の積層体で構成される。接続線の線幅は、20μm以上50μm以下であり、接続線の長さは50μm以上200μm以下である。
なお、接続線も、上述の金属細線の製造方法で形成することができ、接続線と第1電極端子と第1周辺配線と第1検出電極とは同一材料で同一工程で同時に形成できる。また、接続線と第2電極端子と第2周辺配線と第2検出電極とを同一材料で同一工程で同時に形成できる。
<Connecting line>
The connection wire is a portion that electrically connects the detection electrode composed of the first metal wire and the second metal wire and the electrode terminal, and is a simple metal or a metal like the first metal wire and the second metal wire. It is composed of a laminated body of. The line width of the connecting line is 20 μm or more and 50 μm or less, and the length of the connecting line is 50 μm or more and 200 μm or less.
The connecting wire can also be formed by the above-mentioned method for manufacturing a thin metal wire, and the connecting wire, the first electrode terminal, the first peripheral wiring, and the first detection electrode can be formed of the same material at the same time in the same process. Further, the connection wire, the second electrode terminal, the second peripheral wiring, and the second detection electrode can be formed of the same material at the same time in the same process.

<支持基板>
支持基板24は、第1検出電極、第2検出電極、第1周辺配線、第2周辺配線を支持するものである。カバー層が支持基板として機能することもある。支持基板は第1検出電極と第2検出電極とを電気的に絶縁する絶縁基板としても機能する。
支持基板は、樹脂基板、またはガラス基板で構成される。ガラス基板には、カバー層を構成するカバーガラスも含まれる。
支持基板は、上述のことを達成することができれば、その種類は特に限定されるものではない。支持基板の材料としては、例えば、透明樹脂材料および透明無機材料等が挙げられる。カバー層についても、支持基板と同じ材料を用いることができる。
樹脂基板を構成する材料としては、具体的には、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン(PE)、ポリメチルペンテン、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)等のオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、およびメタクリロニトリル等が挙げられる。透明樹脂材料の好ましい厚みとしては、20~200μmであり、30~100μmがより好ましい。
ガラス基板を構成する材料としては、具体的には、例えば、無アルカリガラス、アルカリガラス、化学強化ガラス、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、透光性圧電セラミックス(PLZT(チタン酸ジルコン酸ランタン鉛))等のセラミックス、石英、蛍石およびサファイア等が挙げられる。ガラス基板の好ましい厚みは、0.1~1.3mmであり、0.2~1.1mmがより好ましい。
タッチパネル用電極部材の用途によっては、支持基板は必ずしも透明である必要がないが、支持基板の全光線透過率は、40%~100%であることが好ましい。全光透過率は、例えば、JIS K 7375:2008に規定される「プラスチック-全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
透明絶縁基板としては、上述の基板のように部材として独立したものに限定されるものではなく、層または膜と呼ばれる形態でもよい。このため、透明絶縁基板は、アクリル樹脂が塗布された形成された透明絶縁層または透明絶縁膜でもよい。
<Support board>
The support substrate 24 supports the first detection electrode, the second detection electrode, the first peripheral wiring, and the second peripheral wiring. The cover layer may also function as a support substrate. The support substrate also functions as an insulating substrate that electrically insulates the first detection electrode and the second detection electrode.
The support substrate is composed of a resin substrate or a glass substrate. The glass substrate also includes a cover glass constituting the cover layer.
The type of the support substrate is not particularly limited as long as the above can be achieved. Examples of the material of the support substrate include a transparent resin material and a transparent inorganic material. The same material as the support substrate can be used for the cover layer.
Specific examples of the material constituting the resin substrate include acetyl cellulose-based resins such as triacetyl cellulose, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene (PE), and poly. Olefin resins such as methylpentene, cycloolefin polymer (COP), cycloolefin copolymer (COC), acrylic resins such as polymethylmethacrylate, polyurethane resins, polyether sulfone, polycarbonate, polysulfone, polyether, polyether ketone , Acronitrile, and methacrylonitrile. The thickness of the transparent resin material is preferably 20 to 200 μm, more preferably 30 to 100 μm.
Specific examples of the material constituting the glass substrate include non-alkali glass, alkaline glass, chemically strengthened glass, soda glass, potash glass, glass such as lead glass, and translucent piezoelectric ceramics (PLZT (zircon titanate). Examples thereof include ceramics such as lanthanum acid (lead)), quartz, fluorite and sapphire. The preferred thickness of the glass substrate is 0.1 to 1.3 mm, more preferably 0.2 to 1.1 mm.
Depending on the application of the electrode member for the touch panel, the support substrate does not necessarily have to be transparent, but the total light transmittance of the support substrate is preferably 40% to 100%. The total light transmittance is measured by using, for example, "Plastic-How to determine the total light transmittance and the total light reflectance" specified in JIS K 7375: 2008.
The transparent insulating substrate is not limited to an independent member as a member as in the above-mentioned substrate, but may be in a form called a layer or a film. Therefore, the transparent insulating substrate may be a transparent insulating layer or a transparent insulating film coated with an acrylic resin.

支持基板の好適態様の1つとしては、大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理および紫外線照射処理からなる群から選択される少なくとも1つの処理が施された処理済基板が挙げられる。上述の処理が施されることにより、処理された支持基板では第1検出電極および第2検出電極が設けられる面にOH基等の親水性基が導入され、第1検出電極および第2検出電極の密着性が向上する。上述の処理の中でも、第1検出電極および第2検出電極の密着性がより向上する点で、大気圧プラズマ処理が好ましい。 One preferred embodiment of the support substrate is a treated substrate that has been subjected to at least one treatment selected from the group consisting of atmospheric pressure plasma treatment, corona discharge treatment and ultraviolet irradiation treatment. By performing the above-mentioned treatment, a hydrophilic group such as an OH group is introduced into the surface of the treated support substrate on which the first detection electrode and the second detection electrode are provided, and the first detection electrode and the second detection electrode are provided. Adhesion is improved. Among the above-mentioned treatments, the atmospheric pressure plasma treatment is preferable in that the adhesion between the first detection electrode and the second detection electrode is further improved.

<絶縁層>
支持基板の他の好適態様としては、第1検出電極および第2検出電極が設けられる面上に高分子を含む絶縁層を有することが好ましい。絶縁層上に、第1検出電極および第2検出電極を形成することにより、第1検出電極および第2検出電極と支持基板との密着性がより向上する。絶縁層のことを下地層ともいう。
絶縁層の形成方法は特に限定されるものではないが、例えば、高分子を含む下地層形成用組成物を基板上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。下地層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含まれていてもよい。溶媒の種類は特に限定されるものではない。また、高分子を含む下地層形成用組成物として、ゼラチン、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、または無機または高分子の微粒子を含むアクリルスチレン系ラテックスを使用してもよい。上述の絶縁層をアクリル樹脂等で構成した場合、有機絶縁層ともいう。
絶縁層の厚みは特に限定されるものではなく、10μm程度でもよいが、第1検出電極および第2検出電極と支持基板との密着性がより優れる点で、0.02~2.0μmが好ましく、0.03~1.5μmがより好ましい。
なお、必要に応じて支持基板と第1検出電極および第2検出電極との間に他の層として、上述の絶縁層以外に、例えば、紫外線吸収層を備えていてもよく、屈折率調整層を備えていてもよい。
<Insulation layer>
As another preferred embodiment of the support substrate, it is preferable to have an insulating layer containing a polymer on the surface on which the first detection electrode and the second detection electrode are provided. By forming the first detection electrode and the second detection electrode on the insulating layer, the adhesion between the first detection electrode and the second detection electrode and the support substrate is further improved. The insulating layer is also called a base layer.
The method for forming the insulating layer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a composition for forming a base layer containing a polymer is applied onto a substrate and heat treatment is performed as necessary. The composition for forming the underlayer may contain a solvent, if necessary. The type of solvent is not particularly limited. Further, as the composition for forming the base layer containing the polymer, gelatin, acrylic resin, urethane resin, or acrylic styrene-based latex containing inorganic or polymer fine particles may be used. When the above-mentioned insulating layer is made of acrylic resin or the like, it is also referred to as an organic insulating layer.
The thickness of the insulating layer is not particularly limited and may be about 10 μm, but 0.02 to 2.0 μm is preferable in that the adhesion between the first detection electrode and the second detection electrode and the support substrate is more excellent. , 0.03 to 1.5 μm is more preferable.
If necessary, an ultraviolet absorbing layer may be provided between the support substrate and the first detection electrode and the second detection electrode as another layer in addition to the above-mentioned insulating layer, and the refractive index adjusting layer may be provided. May be provided.

<透明絶縁層>
第1電極層11Aおよび第2電極層11Bの間に配置される透明絶縁層27は、透明で電気絶縁性を有し、第1電極層11Aと第2電極層11Bとを絶縁することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、絶縁層また支持基板が用いられる。絶縁層を構成する材料として、例えば、二酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン、酸化アルミ等の無機膜、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等を使用することができる。絶縁層としては、有機膜であることが好ましく、特にアクリル樹脂が好ましい。透明絶縁部材の厚みは、例えば、0.05μm~700μmが好ましく、0.1μm~100μmがより好ましい 。特に透明絶縁部材が有機膜の絶縁層の場合、厚みは、1μm~10μmが好ましく、1μm~3μmであることがより好ましい。
<Transparent insulating layer>
If the transparent insulating layer 27 arranged between the first electrode layer 11A and the second electrode layer 11B is transparent and has electrical insulating properties, and can insulate the first electrode layer 11A and the second electrode layer 11B. Although not particularly limited, for example, an insulating layer or a support substrate is used. As a material constituting the insulating layer, for example, an inorganic film such as silicon dioxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, acrylic resin, urethane resin, polyimide resin and the like can be used. As the insulating layer, an organic film is preferable, and an acrylic resin is particularly preferable. The thickness of the transparent insulating member is, for example, preferably 0.05 μm to 700 μm, more preferably 0.1 μm to 100 μm. In particular, when the transparent insulating member is an insulating layer of an organic film, the thickness is preferably 1 μm to 10 μm, more preferably 1 μm to 3 μm.

<周辺配線絶縁層>
図7および図8に示すように第1周辺配線23a上に取出し配線のマイグレーションおよび腐食を防止する目的で、周辺配線絶縁層50を形成してもよい。周辺配線絶縁層としては例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜が用いられる。周辺配線絶縁層の膜厚は1μm以上30μm以下が好ましい。
<Peripheral wiring insulation layer>
As shown in FIGS. 7 and 8, a peripheral wiring insulating layer 50 may be formed on the first peripheral wiring 23a for the purpose of preventing migration and corrosion of the take-out wiring. As the peripheral wiring insulating layer, for example, an organic film such as acrylic resin or urethane resin is used. The film thickness of the peripheral wiring insulating layer is preferably 1 μm or more and 30 μm or less.

(電極層の形成方法)
検出電極、接続線、電極端子および周辺配線を構成する電極層の形成方法は、特に限定されるものではない。電極層を構成する金属層の形成方法には、例えば、めっき法、銀塩法、蒸着法および印刷法等が適宜利用可能である。
めっき法による金属層の形成方法について説明する。例えば、金属層は、無電解めっき下地層に無電解めっきすることにより下地層上に形成される金属めっき膜で構成することができる。この場合、少なくとも金属微粒子を含有する触媒インクを基材上にパターン状に形成した後に、基材を無電解めっき浴に浸漬し、金属めっき膜を形成することで形成される。より具体的には、特開2014-159620号公報に記載の金属被膜基材の製造方法を利用することができる。また、少なくとも金属触媒前駆体と相互作用しうる官能基を有する樹脂組成物を基材上にパターン状に形成した後、触媒または触媒前駆体を付与し、基材を無電解めっき浴に浸漬し、金属めっき膜を形成することで形成される。より具体的には、特開2012-144761号公報に記載の金属被膜基材の製造方法を応用することができる。
(Method of forming the electrode layer)
The method of forming the electrode layer constituting the detection electrode, the connecting wire, the electrode terminal and the peripheral wiring is not particularly limited. As a method for forming the metal layer constituting the electrode layer, for example, a plating method, a silver salt method, a thin-film deposition method, a printing method and the like can be appropriately used.
A method of forming a metal layer by a plating method will be described. For example, the metal layer can be composed of a metal plating film formed on the base layer by electroless plating the base layer. In this case, the catalyst ink containing at least metal fine particles is formed in a pattern on the base material, and then the base material is immersed in an electroless plating bath to form a metal plating film. More specifically, the method for producing a metal-coated substrate described in JP-A-2014-159620 can be used. Further, after forming a resin composition having a functional group capable of interacting with at least a metal catalyst precursor in a pattern on a substrate, a catalyst or a catalyst precursor is applied, and the substrate is immersed in an electroless plating bath. , Formed by forming a metal plating film. More specifically, the method for producing a metal-coated substrate described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-144761 can be applied.

めっき方法は無電解めっきのみでもよく、無電解めっき後電解めっきを行ってもよい。めっき法にはアディティブ法を用いることができる。
アディティブ法とは、透明基板上の金属細線を形成したい部分にのみめっき処理等を施すことにより、金属細線を形成する方法である。生産性等の点から、アディティブ方法が好ましい。
第1金属細線および第2金属細線の形成には、サブトラクティブ方法を用いることもできる。サブトラクティブ方法とは、透明基板上に導電層を形成して、例えば、化学エッチング処理等のエッチング処理により不要部分を除去して、金属細線を形成する方法である。
The plating method may be only electroless plating, or electroless plating and then electrolytic plating may be performed. An additive method can be used as the plating method.
The additive method is a method of forming a fine metal wire by subjecting a plating treatment or the like only to a portion of the transparent substrate on which the fine metal wire is desired to be formed. The additive method is preferable from the viewpoint of productivity and the like.
A subtractive method can also be used to form the first metal wire and the second metal wire. The subtractive method is a method in which a conductive layer is formed on a transparent substrate, and unnecessary portions are removed by an etching treatment such as a chemical etching treatment to form a fine metal wire.

銀塩法による金属層の形成方法について説明する。まず、ハロゲン化銀が含まれる銀塩乳剤層に、第1金属細線および第2金属細線となる露光パターンを用いて露光処理を施し、その後現像処理を行うことで、第1金属細線および第2金属細線を形成することができる。より具体的には、特開2015-22597号公報に記載の金属細線の製造方法を利用することができる。
蒸着法による金属層の形成方法について説明する。まず、蒸着により、銅箔層を形成し、フォトリソグラフィー法により銅箔層から銅配線を形成することにより、第1金属細線および第2金属細線を形成することができる。銅箔層は、蒸着銅箔以外にも、電解銅箔が利用可能である。より具体的には、特開2014-29614号公報に記載の銅配線を形成する工程を利用することができる。
印刷法による金属層の形成方法について説明する。まず、導電性粉末を含有する導電性ペーストを、第1金属細線および第2金属細線と同じパターンで基板に塗布し、その後、加熱処理を施すことにより第1金属細線および第2金属細線を形成することができる。導電性ペーストを用いたパターン形成は、例えば、インクジェット法またはスクリーン印刷法でなされる。導電性ペーストとしては、より具体的には、特開2011-28985号公報に記載の導電性ペーストを利用することができる。
A method of forming a metal layer by a silver salt method will be described. First, the silver salt emulsion layer containing silver halide is exposed to an exposure pattern using an exposure pattern to be a first metal wire and a second metal wire, and then a development process is performed to obtain the first metal wire and the second metal wire. Fine metal wires can be formed. More specifically, the method for producing a thin metal wire described in JP-A-2015-22597 can be used.
A method of forming a metal layer by a thin-film deposition method will be described. First, a copper foil layer is formed by thin film deposition, and a copper wiring is formed from the copper foil layer by a photolithography method, whereby a first metal wire and a second metal wire can be formed. As the copper foil layer, electrolytic copper foil can be used in addition to the vapor-deposited copper foil. More specifically, the step of forming the copper wiring described in JP-A-2014-29614 can be used.
A method of forming a metal layer by a printing method will be described. First, the conductive paste containing the conductive powder is applied to the substrate in the same pattern as the first metal wire and the second metal wire, and then heat-treated to form the first metal wire and the second metal wire. can do. The pattern formation using the conductive paste is performed by, for example, an inkjet method or a screen printing method. More specifically, as the conductive paste, the conductive paste described in JP-A-2011-28885 can be used.

本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明のタッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置について詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。 The present invention is basically configured as described above. Although the touch panel electrode member, the touch panel, and the image display device of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements or changes are made without departing from the gist of the present invention. Of course, you may.

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
本実施例では、実施例1~3および比較例1、2のタッチパネル用電極部材を作製した。実施例1~3および比較例1、2のタッチパネル用電極部材について、電極断線率、ヒートサイクル、および視認性を評価した。その結果を下記表1に示す。以下、電極断線率、ヒートサイクル、および視認性について説明する。
Hereinafter, the features of the present invention will be described in more detail with reference to examples. The materials, reagents, amounts of substances and their ratios, operations and the like shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following examples.
In this example, the electrode members for the touch panel of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were produced. The electrode disconnection rate, heat cycle, and visibility of the touch panel electrode members of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated. The results are shown in Table 1 below. Hereinafter, the electrode disconnection rate, the heat cycle, and the visibility will be described.

(電極断線率)
電極断線率については、作製したタッチパネル用電極部材に対して、作製後すぐの状態、すなわち、初期状態の検出電極断線率を調べた。電極断線率では、初期状態の検出電極断線率を、下記評価基準にて評価した。
作製した10個のタッチパネル用電極部材の全検出電極(1タッチパネル用電極部材において、58検出電極。トータル580検出電極)において、電極端子と検出電極の中央部間の導通をテスタを用いて測定し、抵抗値が∞(無限大)となるものを電極断線と判断し、その電極断線している検出電極の比率を電極断線率とした。
評価基準
A:電極断線率が0.5%未満
B:電極断線率が0.5%以上2%未満
C:電極断線率が2%以上
(Electrode disconnection rate)
Regarding the electrode disconnection rate, the detected electrode disconnection rate in the state immediately after the production, that is, in the initial state, was examined for the produced electrode member for the touch panel. Regarding the electrode disconnection rate, the detection electrode disconnection rate in the initial state was evaluated according to the following evaluation criteria.
In all the detected electrodes of the 10 touch panel electrode members (58 detection electrodes in one touch panel electrode member; total 580 detection electrodes), the conduction between the electrode terminal and the central part of the detection electrode was measured using a tester. , The one having a resistance value of ∞ (infinity) was judged to be an electrode disconnection, and the ratio of the detection electrodes having the electrode disconnection was defined as the electrode disconnection rate.
Evaluation criteria A: Electrode disconnection rate is less than 0.5% B: Electrode disconnection rate is 0.5% or more and less than 2% C: Electrode disconnection rate is 2% or more

(ヒートサイクル)
ヒートサイクルについては、温度-40℃→温度+85℃→温度-40℃を1サイクルとして、このサイクルを作製したタッチパネル用電極部材に対して5回繰り返した後、電極断線率を調べた。ヒートサイクルでは、電極断線率を、下記評価基準にて評価した。
ヒートサイクルには、冷熱衝撃装置TSA-303EL(エスペック株式会社)を使用し、作製した10個のタッチパネル用電極部材の全検出電極(1タッチパネル用電極部材において、58検出電極。トータル580検出電極)において、ヒートサイクルを実施後に、電極端子と検出電極の中央部間の導通をテスタを用いて測定し、抵抗値が∞(無限大)となるものを電極断線と判断し、その電極断線している検出電極の比率を電極断線率とした。
評価基準
A:電極断線率が0.5%未満
B:電極断線率が0.5%以上2%未満
C:電極断線率が2%以上
(heat cycle)
Regarding the heat cycle, temperature −40 ° C. → temperature + 85 ° C. → temperature −40 ° C. was set as one cycle, and this cycle was repeated 5 times for the prepared electrode member for the touch panel, and then the electrode disconnection rate was examined. In the heat cycle, the electrode disconnection rate was evaluated according to the following evaluation criteria.
For the heat cycle, the thermal shock device TSA-303EL (ESPEC CO., LTD.) Was used, and all the detection electrodes of the 10 touch panel electrode members (58 detection electrodes in one touch panel electrode member, total 580 detection electrodes). After performing the heat cycle, the continuity between the electrode terminal and the central part of the detection electrode is measured using a tester, and the one whose resistance value is ∞ (infinity) is judged to be the electrode disconnection, and the electrode disconnection is performed. The ratio of the detected electrodes present was defined as the electrode disconnection rate.
Evaluation criteria A: Electrode disconnection rate is less than 0.5% B: Electrode disconnection rate is 0.5% or more and less than 2% C: Electrode disconnection rate is 2% or more

(視認性)
視認性については、タッチパネル用電極部材を作製した後、液晶ディスプレイ上に検出領域が液晶ディスプレイの領事領域に重なるようにタッチパネル用電極部材を配置し、液晶ディスプレイを白表示した際の視認性を暗室内で、10人の評価者が目視により、下記評価基準にて評価した。
評価基準
A:1人以下の評価者がタッチパネル用電極部材の検出領域の外周部が暗いと感じた。
B:2人以上3人以下の評価者がタッチパネル用電極部材の検出領域の外周部が暗いと感じた。
C:4人以上の評価者がタッチパネル用電極部材の検出領域の外周部が暗いと感じた。
(Visibility)
Regarding visibility, after the electrode member for the touch panel is manufactured, the electrode member for the touch panel is arranged on the liquid crystal display so that the detection area overlaps the consular area of the liquid crystal display, and the visibility when the liquid crystal display is displayed in white is darkened. In the room, 10 evaluators visually evaluated according to the following evaluation criteria.
Evaluation Criteria A: One or less evaluators felt that the outer peripheral portion of the detection area of the electrode member for the touch panel was dark.
B: Two or more and three or less evaluators felt that the outer peripheral portion of the detection area of the electrode member for the touch panel was dark.
C: Four or more evaluators felt that the outer peripheral portion of the detection area of the electrode member for the touch panel was dark.

以下、実施例1~4および比較例1、2について説明する。
<実施例1>
実施例1では、まず、樹脂基板として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)を用意した。
次に、PETフィルム上にアクリル樹脂で有機絶縁層を形成した。有機絶縁層の厚みは10.0μmであった。
次に、有機絶縁層上に、第1金属細線および第2金属細線を形成して、第1検出電極を作製した。まず、有機絶縁層上に、Moを厚み20nm、Cuを厚み300nm、Moを厚み20nmとなるように順次スパッタにて成膜して金属層を得た。
Hereinafter, Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 will be described.
<Example 1>
In Example 1, first, a polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as PET film) having a thickness of 100 μm was prepared as a resin substrate.
Next, an organic insulating layer was formed on the PET film with an acrylic resin. The thickness of the organic insulating layer was 10.0 μm.
Next, a first metal wire and a second metal wire were formed on the organic insulating layer to prepare a first detection electrode. First, a metal layer was obtained by sequentially sputtering a film on the organic insulating layer so that Mo had a thickness of 20 nm, Cu had a thickness of 300 nm, and Mo had a thickness of 20 nm.

次に、金属層上にレジスト組成物を塗布し、プリベークし、その後、パターン露光してアルカリ現像した。その後、ポストベークして、パターン状のレジスト膜を形成した。その後、リン酸二水素アンモニウム10質量%、酢酸アンモニウム10質量%、過酸化水素6質量%、及び残部が水で調合されたエッチング液(pH(水素イオン指数)5.23)を用いて、金属層をエッチングし、その後、レジスト膜を剥離液で剥離して、図3および図4に示す検出電極、接続線、電極端子および周辺配線を有する第1電極層を形成し、タッチパネル用電極部材を作製した。第1金属細線および第2金属細線は線幅が4μmであった。
接続線は、平面視において台形の形状であり、その線幅は30μmであり、その長さは100μmであった。また,電極端子の長さは3.8mm(検出電極の幅4.0mm)であり、接続線の数は6であり、接続線の間隔は600μmであった。なお、金属細線の線幅、接続線の線幅および長さ、電極端子の長さ、接続線の間隔は光学顕微鏡(株式会社キーエンス製デジタルマイクロスコープVHX-7000)を用いて測定した。
Next, the resist composition was applied onto the metal layer, prebaked, and then patterned and subjected to alkaline development. Then, it was post-baked to form a patterned resist film. Then, using an etching solution (pH (hydrogen ion index) 5.23) prepared with 10% by mass of ammonium dihydrogen phosphate, 10% by mass of ammonium acetate, 6% by mass of hydrogen peroxide, and the balance of water, the metal was used. The layer is etched, and then the resist film is peeled off with a stripping solution to form a first electrode layer having the detection electrodes, connection wires, electrode terminals and peripheral wiring shown in FIGS. 3 and 4, and the electrode member for the touch panel is formed. Made. The line width of the first metal thin wire and the second metal thin wire was 4 μm.
The connecting line had a trapezoidal shape in a plan view, its line width was 30 μm, and its length was 100 μm. The length of the electrode terminals was 3.8 mm (width of the detection electrode 4.0 mm), the number of connecting lines was 6, and the distance between the connecting lines was 600 μm. The line width of the thin metal wire, the line width and length of the connecting line, the length of the electrode terminals, and the interval between the connecting lines were measured using an optical microscope (Digital Microscope VHX-7000 manufactured by KEYENCE CORPORATION).

<実施例2、3、および比較例1、2>
実施例2、3、および比較例1、2は、実施例1に比して、露光パターンを変えて、接続線の構成を変えた点以外は、同じとした。
実施例2は、露光パターンに、図5に示す接続線38の構成を用いた。接続線は、平面視において長方形の形状であり、その線幅は30μmであり、その最大長さは、100μmであった。
実施例2では、接続線と検出電極の接続箇所は金属メッシュの交差部以外であった。
実施例3は、露光パターンに、図6に示す接続線39の構成を用いた。接続線は、平面視において三角形の形状であり、その線幅は40μmであり、その最大長さは、100μmであった。
実施例3では、接続線と検出電極の接続箇所は金属メッシュの交差部以外であった。
比較例1は、タッチパネル用電極部材を作製するために、露光パターンとして、図9および図10に示す電極パターン100の接続線102を用いた。接続線の線幅は第1金属細線と第2金属細線と同じ4μmであった。
比較例1では、接続線と検出電極の接続箇所は金属メッシュの交差部であった。
比較例2は、タッチパネル用電極部材を作製するために、露光パターンとして、図11および図12に示す電極パターン100aの接続線106を用いた。接続線は、平面視において長方形の形状であり、その線幅は30μmであり、その最大長さは、100μmであった。
比較例2では、接続線と検出電極の接続箇所は金属メッシュの交差部であった。
<Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2>
Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 were the same as in Example 1 except that the exposure pattern was changed and the configuration of the connecting line was changed.
In Example 2, the configuration of the connecting line 38 shown in FIG. 5 was used for the exposure pattern. The connecting line had a rectangular shape in a plan view, its line width was 30 μm, and its maximum length was 100 μm.
In Example 2, the connection point between the connection line and the detection electrode was other than the intersection of the metal mesh.
In Example 3, the configuration of the connecting line 39 shown in FIG. 6 was used for the exposure pattern. The connecting line had a triangular shape in a plan view, its line width was 40 μm, and its maximum length was 100 μm.
In Example 3, the connection point between the connection line and the detection electrode was other than the intersection of the metal mesh.
In Comparative Example 1, in order to manufacture the electrode member for the touch panel, the connection line 102 of the electrode pattern 100 shown in FIGS. 9 and 10 was used as the exposure pattern. The line width of the connecting line was 4 μm, which was the same as that of the first metal thin wire and the second metal thin wire.
In Comparative Example 1, the connection point between the connection line and the detection electrode was the intersection of the metal mesh.
In Comparative Example 2, in order to manufacture the electrode member for the touch panel, the connection line 106 of the electrode pattern 100a shown in FIGS. 11 and 12 was used as the exposure pattern. The connecting line had a rectangular shape in a plan view, its line width was 30 μm, and its maximum length was 100 μm.
In Comparative Example 2, the connection point between the connection line and the detection electrode was the intersection of the metal mesh.

ここで、図9は比較例1のタッチパネル用電極部材の検出電極および接続線を示す模式的平面図であり、図10は比較例1のタッチパネル用電極部材の接続線を拡大して示す模式的平面図である。図11は比較例2のタッチパネル用電極部材の検出電極および接続線を示す模式的平面図であり、図12は比較例2のタッチパネル用電極部材の接続線を拡大して示す模式的平面図である。図9~図12において、図3および図4に示す構成と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
比較例1のタッチパネル用電極部材の電極パターン100は、第1金属細線35aと第2金属細線35bとの交差部Cが、接続線102により第1電極端子33、および第2電極端子34に接続されている。接続線102は、平面視において三角形の部材103と、線材104とを有する。部材103が第1電極端子33、および第2電極端子34に接続され、線材104が交差部Cと部材103とを接続する。なお、線材104の幅が接続線102の線幅δである。
比較例2のタッチパネル用電極部材の電極パターン100aは、第1金属細線35aと第2金属細線35bとの交差部Cが、接続線106に接続されている。接続線106は、平面視において長方形の形状である。長方形の第4方向Dの長さが接続線106の線幅δである。
Here, FIG. 9 is a schematic plan view showing the detection electrodes and connection lines of the touch panel electrode member of Comparative Example 1, and FIG. 10 is a schematic diagram showing an enlarged connection line of the touch panel electrode member of Comparative Example 1. It is a plan view. FIG. 11 is a schematic plan view showing the detection electrodes and connection lines of the touch panel electrode member of Comparative Example 2, and FIG. 12 is a schematic plan view showing the connection lines of the touch panel electrode member of Comparative Example 2 in an enlarged manner. be. 9 to 12, the same components as those shown in FIGS. 3 and 4 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
In the electrode pattern 100 of the electrode member for the touch panel of Comparative Example 1, the intersection C of the first metal thin wire 35a and the second metal thin wire 35b is connected to the first electrode terminal 33 and the second electrode terminal 34 by the connection wire 102. Has been done. The connecting wire 102 has a triangular member 103 and a wire rod 104 in a plan view. The member 103 is connected to the first electrode terminal 33 and the second electrode terminal 34, and the wire rod 104 connects the intersection C and the member 103. The width of the wire 104 is the line width δ of the connecting wire 102.
In the electrode pattern 100a of the electrode member for the touch panel of Comparative Example 2, the intersection C of the first metal thin wire 35a and the second metal thin wire 35b is connected to the connection line 106. The connecting line 106 has a rectangular shape in a plan view. The length of the rectangle in the fourth direction D4 is the line width δ of the connecting line 106.

Figure 2022010775000002
Figure 2022010775000002

表1に示すように、実施例1~3は、比較例1、2に比して、電極が断線しにくく、視認性も優れていた。
実施例1~3から、接続線の平面視の形状は台形を含め四角の方が、視認されにくく、好ましい。また、実施例1~3から、第1金属細線および第2金属細線を接続線の斜辺に接続した方が電極は断線しにくく、好ましい。
As shown in Table 1, in Examples 1 to 3, the electrodes were less likely to be broken and the visibility was excellent as compared with Comparative Examples 1 and 2.
From Examples 1 to 3, it is preferable that the shape of the connecting line in a plan view is a square shape including a trapezoid because it is difficult to see. Further, from Examples 1 to 3, it is preferable to connect the first metal thin wire and the second metal thin wire to the hypotenuse of the connecting wire because the electrodes are less likely to be broken.

10、10a、10b 画像表示装置
11A 第1電極層
11B 第2電極層
12 タッチパネル
13 コントローラ
14 画像表示部
14a 表示面
14b 裏面
15 第1の透明絶縁層
16 カバー層
16a、24a、25a 表面
16b、24b 裏面
17 第2の透明絶縁層
18 タッチパネル用電極部材
19 フレキシブル回路基板
20 検出部
22 周辺配線部
22b 終端部
23a 第1周辺配線
23b 第2周辺配線
24 支持基板
25 絶縁層
26a 第1外部接続端子
26b 第2外部接続端子
27 透明絶縁層
30 第1検出電極
31a、31b 間隔
32 第2検出電極
33 第1電極端子
34 第2電極端子
35a 第1金属細線
35b 第2金属細線
36 ひし形格子
37、38、39、40 接続線
37a、39a、40a 斜辺
37b、37c 底辺
38a 上辺
38b 側辺
40b 頂点
40c 辺
50 周辺配線絶縁層
52 透明絶縁層
100、100a 電極パターン
C 交差部
第1方向
第2方向
第3方向
第4方向
検出領域
周辺領域
h 高さ
W 間隔
δ 線幅
10, 10a, 10b Image display device 11A 1st electrode layer 11B 2nd electrode layer 12 Touch panel 13 Controller 14 Image display unit 14a Display surface 14b Back surface 15 First transparent insulating layer 16 Cover layer 16a, 24a, 25a Surface surface 16b, 24b Back side 17 Second transparent insulating layer 18 Electrode member for touch panel 19 Flexible circuit board 20 Detection part 22 Peripheral wiring part 22b Termination part 23a First peripheral wiring 23b Second peripheral wiring 24 Support board 25 Insulation layer 26a First external connection terminal 26b 2nd external connection terminal 27 Transparent insulating layer 30 1st detection electrode 31a, 31b Spacing 32 2nd detection electrode 33 1st electrode terminal 34 2nd electrode terminal 35a 1st metal thin wire 35b 2nd metal fine wire 36 Diamond grid 37, 38, 39, 40 Connection line 37a, 39a, 40a Oblique side 37b, 37c Bottom side 38a Top side 38b Side side 40b Apex 40c Side 50 Peripheral wiring Insulation layer 52 Transparent insulation layer 100, 100a Electrode pattern C Crossing part D 1 First direction D 2 Second Direction D 3 3rd direction D 4 4th direction E 1 Detection area E 2 Peripheral area h Height W Spacing δ Line width

Claims (15)

検出領域に配置された検出電極と、
前記検出領域の外側の周辺領域に配置された周辺配線と、
前記周辺配線に電気的に接続された電極端子と、
前記検出電極と前記電極端子とを接続する複数の接続線とを備えるタッチパネル用電極部材であって、
前記検出電極は、第1方向に延びる第1金属細線と前記第1方向とは異なる第2方向に延びる第2金属細線とが交差部で交差することにより形成された金属メッシュから構成され、
前記複数の接続線は、それぞれ、前記第1方向および前記第2方向とは異なる第3方向に延び且つ前記第1金属細線および前記第2金属細線の線幅より大きい線幅を有し、前記交差部以外の箇所において前記第1金属細線および前記第2金属細線に電気的に接続されている、タッチパネル用電極部材。
The detection electrodes placed in the detection area and
Peripheral wiring arranged in the peripheral area outside the detection area and
Electrode terminals electrically connected to the peripheral wiring and
A touch panel electrode member including a plurality of connection lines connecting the detection electrode and the electrode terminal.
The detection electrode is composed of a metal mesh formed by intersecting a first metal wire extending in the first direction and a second metal wire extending in a second direction different from the first direction at an intersection.
The plurality of connecting lines extend in a third direction different from the first direction and the second direction, respectively, and have a line width larger than the line widths of the first metal thin wire and the second metal thin wire. An electrode member for a touch panel that is electrically connected to the first metal wire and the second metal wire at a location other than the intersection.
前記電極端子は、前記第1方向、前記第2方向および前記第3方向とは異なる第4方向に延びている、請求項1に記載のタッチパネル用電極部材。 The electrode member for a touch panel according to claim 1, wherein the electrode terminal extends in the first direction, the second direction, and a fourth direction different from the third direction. 前記第4方向は、前記第3方向に対して直交する方向である、請求項2に記載のタッチパネル用電極部材。 The electrode member for a touch panel according to claim 2, wherein the fourth direction is a direction orthogonal to the third direction. 前記接続線は、平面視において台形の形状を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載のタッチパネル用電極部材。 The electrode member for a touch panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the connecting line has a trapezoidal shape in a plan view. 前記台形の平行な一対の底辺が、それぞれ前記第3方向に延び、
前記一対の底辺の端部を接続する斜辺が、前記第1方向または前記第2方向に延びている、請求項4に記載のタッチパネル用電極部材。
A pair of parallel bases of the trapezoid extend in the third direction, respectively.
The touch panel electrode member according to claim 4, wherein the hypotenuse connecting the ends of the pair of bottoms extends in the first direction or the second direction.
前記接続線の前記線幅は、20μm以上且つ50μm以下であり、
前記第3方向に沿った前記接続線の最大長さは、50μm以上且つ200μm以下である、請求項5に記載のタッチパネル用電極部材。
The line width of the connecting line is 20 μm or more and 50 μm or less.
The electrode member for a touch panel according to claim 5, wherein the maximum length of the connecting line along the third direction is 50 μm or more and 200 μm or less.
前記第1金属細線および前記第2金属細線の前記線幅は、1μm以上且つ10μm以下である、請求項6に記載のタッチパネル用電極部材。 The electrode member for a touch panel according to claim 6, wherein the line widths of the first metal wire and the second metal wire are 1 μm or more and 10 μm or less. 前記接続線の前記線幅と前記第1金属細線および前記第2金属細線の前記線幅との差分は、20μm以上且つ40μm以下である、請求項7に記載のタッチパネル用電極部材。 The electrode member for a touch panel according to claim 7, wherein the difference between the line width of the connecting line and the line widths of the first metal thin wire and the second metal thin wire is 20 μm or more and 40 μm or less. 前記複数の接続線のうち、互いに隣接する前記接続線の間隔は、50μm以上且つ2000μm以下である、請求項8に記載のタッチパネル用電極部材。 The electrode member for a touch panel according to claim 8, wherein among the plurality of connecting lines, the distance between the connecting lines adjacent to each other is 50 μm or more and 2000 μm or less. 前記検出電極、前記周辺配線、前記電極端子および前記複数の接続線は、同一の金属材料から形成されている、請求項1~9のいずれか1項に記載のタッチパネル用電極部材。 The touch panel electrode member according to any one of claims 1 to 9, wherein the detection electrode, the peripheral wiring, the electrode terminal, and the plurality of connecting wires are made of the same metal material. 前記金属材料は、銅である、請求項10に記載のタッチパネル用電極部材。 The electrode member for a touch panel according to claim 10, wherein the metal material is copper. 樹脂基板をさらに備え、
前記検出電極、前記周辺配線、前記電極端子、および前記複数の接続線は、前記樹脂基板の一方の表面上に配置されている、請求項1~11のいずれか1項に記載のタッチパネル用電極部材。
Further equipped with a resin substrate,
The touch panel electrode according to any one of claims 1 to 11, wherein the detection electrode, the peripheral wiring, the electrode terminal, and the plurality of connection lines are arranged on one surface of the resin substrate. Element.
ガラス基板をさらに備え、
前記検出電極、前記周辺配線、前記電極端子、および前記複数の接続線は、前記ガラス基板の一方の表面上に配置されている、請求項1~11のいずれか1項に記載のタッチパネル用電極部材。
With more glass substrate,
The touch panel electrode according to any one of claims 1 to 11, wherein the detection electrode, the peripheral wiring, the electrode terminal, and the plurality of connection lines are arranged on one surface of the glass substrate. Element.
請求項1~13のいずれか1項に記載のタッチパネル用電極部材を有するタッチパネル。 A touch panel having the electrode member for a touch panel according to any one of claims 1 to 13. 請求項14に記載のタッチパネルを有する画像表示装置。 The image display device having the touch panel according to claim 14.
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