JP2022001922A - Coating liquid for forming anti-glare layer and manufacturing method for substrate with anti-glare layer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アンチグレア層形成用コーティング液及び該アンチグレア層形成用コーティング液を用いたアンチグレア層付き基材の製造方法に関する。 The present invention relates to a coating liquid for forming an anti-glare layer and a method for producing a base material with an anti-glare layer using the coating liquid for forming an anti-glare layer.
従来、携帯電話機、タブレット端末、テレビ、あるいはデジタルサイネージ等のディスプレイにおいては、室内照明（蛍光灯等）、太陽光等の外光により反射像が表示面に映り込むことによって視認性が低下することがある。このような外光による映り込みを抑える処理としては、アンチグレア処理や反射防止処理が知られている。 Conventionally, in a display such as a mobile phone, a tablet terminal, a television, or a digital signage, the visibility is deteriorated because the reflected image is reflected on the display surface by external light such as indoor lighting (fluorescent lamp, etc.) and sunlight. There is. Anti-glare treatment and antireflection treatment are known as treatments for suppressing reflection due to such external light.
下記の特許文献１には、シートと、シートの上に設けられているアンチグレア層とを備える、光学シートが開示されている。特許文献１では、基台の上に設置されたシートの上方から、コーティング液を吹き付けることによって、アンチグレア層が形成されている。アンチグレア層を形成するためのコーティング液としては、シリコンアルコキシドを含むコート剤が用いられている。
The following
しかしながら、特許文献１のような方法では、コーティング液を調合後、長期間放置すると、形成されるアンチグレア層の透明度（濁度）がばらつくなどの品質ばらつきが生じることがある。また、膜形成工程における湿度や温度などの環境によっても、同様の品質ばらつきが生じることがある。
However, in the method as in
本発明の目的は、形成されるアンチグレア層の品質ばらつきが生じ難い、アンチグレア層形成用コーティング液及びアンチグレア層付き基材の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a coating liquid for forming an anti-glare layer and a method for producing a base material with an anti-glare layer, in which the quality of the formed anti-glare layer is unlikely to vary.
本発明に係るアンチグレア層形成用コーティング液の広い局面では、シリコンアルコキシドと、シリル化剤とを含むことを特徴とする。 A broad aspect of the coating liquid for forming an antiglare layer according to the present invention is characterized by containing a silicon alkoxide and a silylating agent.
本発明に係るアンチグレア層形成用コーティング液の他の広い局面では、シリコンアルコキシドの加水分解縮合物と、シリル化剤との反応生成物を含むことを特徴とする。 Another broad aspect of the coating liquid for forming an antiglare layer according to the present invention is characterized by containing a reaction product of a hydrolysis condensate of silicon alkoxide and a silylating agent.
本発明においては、前記シリコンアルコキシドが、テトラエトキシシランを含むことが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the silicon alkoxide contains tetraethoxysilane.
本発明においては、前記シリル化剤が、ＲｎＳｉＸ４−ｎ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｘはハロゲン基であり、ｎは１〜３の整数である。）、（ＲｎＳｉＸ３−ｎ）２Ｏ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｘはハロゲン基であり、ｎは１〜３の整数である。）、及び（ＲｎＳｉＸ３−ｎ）２ＮＨ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｘはハロゲン基であり、ｎは１〜３の整数である。）からなる群から選択された少なくとも１種で表される化合物を含むことが好ましい。 In the present invention, the silylating agent is R n SiX 4-n (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, X is a halogen group, and n is an integer of 1 to 3). , (R n SiX 3-n ) 2 O (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, X is a halogen group, and n is an integer of 1 to 3), and (R n SiX. 3-n ) 2 NH (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, X is a halogen group, and n is an integer of 1 to 3). It preferably contains the represented compound.
本発明においては、前記シリル化剤が、Ｒ３ＳｉＸ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｘはハロゲン基である。）、（Ｒ３Ｓｉ）２Ｏ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基である。）、及び（Ｒ３Ｓｉ）２ＮＨ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基である。）からなる群から選択された少なくとも１種で表される化合物を含むことが好ましい。 In the present invention, the silylating agent is R 3 SiX (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and X is a halogen group), (R 3 Si) 2 O (R is a carbon number of carbons). Is represented by at least one selected from the group consisting of (1 to 3 alkyl groups) and (R 3 Si) 2 NH (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms). It preferably contains a compound.
本発明においては、前記シリコンアルコキシドと前記シリル化剤との含有量比（シリコンアルコキシド：シリル化剤）が、モル比で、１：０．０５〜１：０．３の範囲内であることが好ましい。 In the present invention, the content ratio of the silicon alkoxide to the silylating agent (silicon alkoxide: silylating agent) is in the range of 1: 0.05 to 1: 0.3 in terms of molar ratio. preferable.
本発明に係るアンチグレア層付き基材の製造方法は、本発明に従って構成されるアンチグレア層形成用コーティング液を準備する工程と、基材上に、前記アンチグレア層形成用コーティング液を塗布することにより、アンチグレア層を形成する工程と、を備えることを特徴とする。 The method for producing a base material with an anti-glare layer according to the present invention is a step of preparing a coating liquid for forming an anti-glare layer configured according to the present invention, and applying the coating liquid for forming an anti-glare layer on the base material. It is characterized by comprising a step of forming an anti-glare layer.
本発明によれば、形成されるアンチグレア層の品質ばらつきが生じ難い、アンチグレア層形成用コーティング液及びアンチグレア層付き基材の製造方法を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a coating liquid for forming an antiglare layer and a method for producing a base material with an antiglare layer, in which the quality of the formed antiglare layer is unlikely to vary.
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, preferred embodiments will be described. However, the following embodiments are merely examples, and the present invention is not limited to the following embodiments.
[アンチグレア層形成用コーティング液]
本発明のアンチグレア層形成用コーティング液は、アンチグレア層を形成するためのコーティング液である。アンチグレア層は、外光の映り込み等を抑制する、いわゆる防眩効果を付与するために設けられる層である。
[Coating liquid for forming anti-glare layer]
The coating liquid for forming an anti-glare layer of the present invention is a coating liquid for forming an anti-glare layer. The anti-glare layer is a layer provided for imparting a so-called anti-glare effect that suppresses reflection of external light and the like.
また、本発明のアンチグレア層形成用コーティング液は、シリコンアルコキシドと、シリル化剤とを含んでいる。本発明のアンチグレア層形成用コーティング液は、上記シリコンアルコキシドの加水分解縮合物と、上記シリル化剤とを反応させて用いられる。従って、本発明のアンチグレア層形成用コーティング液は、上記シリコンアルコキシドの加水分解縮合物と、上記シリル化剤との反応生成物を含んでいる。 Further, the coating liquid for forming an antiglare layer of the present invention contains a silicon alkoxide and a silylating agent. The coating liquid for forming an antiglare layer of the present invention is used by reacting the hydrolysis condensate of the silicon alkoxide with the silylating agent. Therefore, the coating liquid for forming an antiglare layer of the present invention contains a reaction product of the hydrolysis condensate of the silicon alkoxide and the silylating agent.
本発明のアンチグレア層形成用コーティング液を用いて形成されるアンチグレア層は、品質ばらつきが生じ難い。この点については、以下のように説明することができる。 The quality of the anti-glare layer formed by using the coating liquid for forming the anti-glare layer of the present invention is unlikely to vary. This point can be explained as follows.
従来、アンチグレア層形成用コーティング液を調合後、長期間放置すると、形成されるアンチグレア層の透明度（濁度）がばらつくなどの品質のばらつきが生じることがあった。また、膜形成工程における湿度や温度などの環境によっても、同様の品質のばらつきが生じることがあった。 Conventionally, when a coating liquid for forming an anti-glare layer is prepared and then left for a long period of time, the transparency (turbidity) of the formed anti-glare layer may vary and the quality may vary. In addition, similar quality variations may occur depending on the environment such as humidity and temperature in the film forming process.
これに対して、本発明者は、シリコンアルコキシドと、シリル化剤とを含む、アンチグレア層形成用コーティング液を用いることで、上記のような品質ばらつきを生じ難くできることを見出した。 On the other hand, the present inventor has found that by using a coating liquid for forming an antiglare layer containing a silicon alkoxide and a silylating agent, it is possible to prevent the above-mentioned quality variation from occurring.
この点については、理由は定かではないが、シリコンアルコキシドの加水分解縮合物と、シリル化剤を反応させることにより、シリコンアルコキシドのさらなる加水分解、縮合反応、再エステル化反応及びエステル交換反応を抑制することができ、それによってアンチグレア層形成用コーティング液の安定性が高められるためであると考えられる。 Regarding this point, for unknown reasons, further hydrolysis, condensation reaction, reesterification reaction and transesterification reaction of silicon alkoxide are suppressed by reacting the hydrolysis condensate of silicon alkoxide with a silylating agent. It is considered that this is because the stability of the coating liquid for forming the anti-glare layer is enhanced.
本発明において、シリコンアルコキシドとシリル化剤との含有量比（シリコンアルコキシド：シリル化剤）は、モル比で、好ましくは１：０．０５〜１：０．３の範囲内であり、より好ましくは１：０．０７〜１：０．２の範囲内である。シリコンアルコキシドとシリル化剤との含有量比が上記範囲内にある場合、形成されるアンチグレア層の品質ばらつきをより一層生じ難くすることができる。 In the present invention, the content ratio of the silicon alkoxide to the silylating agent (silicon alkoxide: silylating agent) is preferably in the range of 1: 0.05 to 1: 0.3 in terms of molar ratio, which is more preferable. Is in the range of 1: 0.07 to 1: 0.2. When the content ratio of the silicon alkoxide and the silylating agent is within the above range, it is possible to further reduce the quality variation of the formed anti-glare layer.
（シリコンアルコキシド）
シリコンアルコキシドは、４官能性アルコキシシランであることが望ましい。
(Silicon alkoxide)
The silicon alkoxide is preferably a tetrafunctional alkoxysilane.
シリコンアルコキシドとしては、特に限定されず、例えば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。なかでも、テトラエトキシシラン又はテトラメトキシシランであることが好ましく、テトラエトキシシランであることがより好ましい。この場合、形成されるアンチグレア層の防眩効果をより一層高めることができる。なお、これらのシリコンアルコキシドは、１種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。また、これらのシリコンアルコキシドを予め重合させたシリケートオリゴマーを用いてもよい。 The silicon alkoxide is not particularly limited, and examples thereof include tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane. Of these, tetraethoxysilane or tetramethoxysilane is preferable, and tetraethoxysilane is more preferable. In this case, the antiglare effect of the formed anti-glare layer can be further enhanced. As these silicon alkoxides, one type may be used alone, or a plurality of types may be used in combination. Further, a silicate oligomer obtained by prepolymerizing these silicon alkoxides may be used.
シリコンアルコキシドの含有量は、アンチグレア層形成用コーティング液全量に対し、モル％で、好ましくは０．５％以上、より好ましくは１％以上、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。シリコンアルコキシドの含有量が上記範囲内にある場合、形成されるアンチグレア層の防眩効果をより一層高めることができ、しかも品質ばらつきをより一層生じ難くすることができる。シリコンアルコキシドを予め重合させたシリケートオリゴマーを用いる場合は、シリケートオリゴマーを構成するシリコンアルコキシドのモル数に換算した上で、上記含有量の範囲とすることが好ましい。 The content of silicon alkoxide is mol%, preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, preferably 10% or less, and more preferably 5% or less, based on the total amount of the coating liquid for forming an antiglare layer. .. When the content of the silicon alkoxide is within the above range, the antiglare effect of the formed anti-glare layer can be further enhanced, and the quality variation can be further reduced. When a silicate oligomer obtained by polymerizing a silicon alkoxide in advance is used, it is preferable to set the content within the above range after converting it into the number of moles of the silicon alkoxide constituting the silicate oligomer.
（シリル化剤）
シリル化剤としては、特に限定されないが、ＲｎＳｉＸ４−ｎ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｘはハロゲン基であり、ｎは１〜３の整数である。）、（ＲｎＳｉＸ３−ｎ）２Ｏ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｘはハロゲン基であり、ｎは１〜３の整数である。）、又は（ＲｎＳｉＸ３−ｎ）２ＮＨ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｘはハロゲン基であり、ｎは１〜３の整数である。）であることが好ましい。この場合、形成されるアンチグレア層の品質ばらつきをより一層生じ難くすることができる。
(Cyrilizing agent)
The silylating agent is not particularly limited, but R n SiX 4-n (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, X is a halogen group, and n is an integer of 1 to 3). , (R n SiX 3-n ) 2 O (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, X is a halogen group, and n is an integer of 1 to 3), or (R n SiX). 3-n ) 2 NH (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, X is a halogen group, and n is an integer of 1 to 3) is preferable. In this case, it is possible to further reduce the quality variation of the formed anti-glare layer.
なお、いずれの式中においても、Ｒは、例えば、メチル基、エチル基、又はプロピル基等のアルキル基である。また、いずれの式中においても、Ｘは、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。また、以下の式においても同様であるものとする。 In any of the formulas, R is, for example, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group. Further, in any of the formulas, X is a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom and an iodine atom. The same shall apply to the following equation.
ＲｎＳｉＸ４−ｎで表される化合物は、Ｒ３ＳｉＸ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｘはハロゲン基である。）で表される化合物であることが好ましい。Ｒ３ＳｉＸで表される化合物としては、例えば、トリメチルクロルシラン（（ＣＨ３）３Ｓｉ−Ｃｌ）等が挙げられる。 The compound represented by R n SiX 4-n is preferably a compound represented by R 3 SiX (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and X is a halogen group). Examples of the compound represented by R 3 SiX include trimethylchlorosilane ((CH 3 ) 3 Si-Cl) and the like.
（ＲｎＳｉＸ３−ｎ）２Ｏで表される化合物は、（Ｒ３Ｓｉ）２Ｏ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基である。）で表される化合物であることが好ましい。（Ｒ３Ｓｉ）２Ｏで表される化合物としては、例えば、ヘキサメチルジシロキサン（（（ＣＨ３）３Ｓｉ）２Ｏ）等が挙げられる。 The compound represented by (R n SiX 3-n ) 2 O is preferably a compound represented by (R 3 Si) 2 O (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms). .. Examples of the compound represented by (R 3 Si) 2 O include hexamethyldisiloxane (((CH 3 ) 3 Si) 2 O) and the like.
（ＲｎＳｉＸ３−ｎ）２ＮＨで表される化合物は、（Ｒ３Ｓｉ）２ＮＨ（Ｒは炭素数が１〜３のアルキル基である。）で表される化合物であることが好ましい。（Ｒ３Ｓｉ）２ＮＨで表される化合物としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン（（（ＣＨ３）３Ｓｉ）２ＮＨ）が挙げられる。 The compound represented by (R n SiX 3-n ) 2 NH is preferably a compound represented by (R 3 Si) 2 NH (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms). .. Examples of the compound represented by (R 3 Si) 2 NH include hexamethyldisilazane (((CH 3 ) 3 Si) 2 NH).
なお、シリル化剤は、以下の化合物であってもよい。 The silylating agent may be the following compound.
例えば、クロロトリメチルシラン、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、トリエチルクロロシラン、ターシャリーブチルジメチルクロロシラン、クロロトリイソプロピルシラン、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトライソプロピルジシロキサン、クロロメチルトリメチルシラン、トリエチルシラン、アリルトリメチルシラン、３−メタクリロキシプロピルトリクロロシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジクロロシシラン、トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルシラン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジメチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノトリメチルシラン（ＴＭＳＤＭＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノジメチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノモノメチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノトリメチルシラン、ｔ−ブチルアミノトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、トリメチルシリルアセタミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノジメチルビニルシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノジメチルプロピルシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノジメチルオクチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノジメチルフェニルエチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノジメチルフェニルシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノジメチル−ｔ−ブチルシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノトリエチルシラン、トリメチルシラナミン、モノメチルシリルイミダゾール、ジメチルシリルイミダゾール、トリメチルシリルイミダゾール、モノメチルシリルトリアゾール、ジメチルシリルトリアゾール、トリメチルシリルトリアゾール、Ｎ−（トリメチルシリル）ジメチルアミン、トリメチルシリルモルフォリン等が挙げられる。 For example, chlorotrimethylsilane, trimethylsilyltrifluoromethanesulfonate, triethylchlorosilane, tertiarybutyldimethylchlorosilane, chlorotriisopropylsilane, 1,3-dichloro-1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane, chloromethyltrimethylsilane, triethyl. Silane, allyltrimethylsilane, 3-methacryloxypropyltrichlorosilane, 3-methacryloxypropylmethyldichlorosisilane, tris (N, N-dimethylamino) methylsilane, bis (N, N-dimethylamino) dimethylsilane, N, N -Dimethylaminotrimethylsilane (TMSMAM), N, N-dimethylaminodimethylsilane, N, N-dimethylaminomonomethylsilane, N, N-diethylaminotrimethylsilane, t-butylaminotrimethylsilane, allylaminotrimethylsilane, trimethylsilylaceta Mido, N, N-dimethylaminodimethylvinylsilane, N, N-dimethylaminodimethylpropylsilane, N, N-dimethylaminodimethyloctylsilane, N, N-dimethylaminodimethylphenylethylsilane, N, N-dimethylaminodimethylphenyl Silane, N, N-dimethylaminodimethyl-t-butylsilane, N, N-dimethylaminotriethylsilane, trimethylsilanamine, monomethylsilylimidazole, dimethylsilylimidazole, trimethylsilylimidazole, monomethylsilyltriazole, dimethylsilyltriazole, trimethylsilyltriazole, N -(Trimethylsilyl) dimethylamine, trimethylsilylmorpholine and the like can be mentioned.
シリル化剤は、Ｎ−メチルヘキサメチルジシラザン、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ジメチルジシラザン、１，２−ジ−Ｎ−オクチルテトラメチルジシラザン、１，２−ジビニルテトラメチルジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、トリス（ジメチルシリル）アミン、トリス（トリメチルシリル）アミン、ペンタメチルエチルジシラザン、ペンタメチルビニルジシラザン、ペンタメチルプロピルジシラザン、ペンタメチルフェニルエチルジシラザン、ペンタメチル−ｔ−ブチルジシラザン、ペンタメチルフェニルジシラザン、トリメチルトリエチルジシラザン等であってもよい。 The silylating agent is N-methylhexamethyldisilazan, 1,1,3,3-tetramethyldisilazan, 1,3-dimethyldisilazan, 1,2-di-N-octyltetramethyldisilazan, 1, 2-Divinyltetramethyldisilazan, heptamethyldisilazan, nonamethyltrisilazane, tris (dimethylsilyl) amine, tris (trimethylsilyl) amine, pentamethylethyldisilazan, pentamethylvinyldisilazan, pentamethylpropyldisilazan, penta Methylphenylethyl disilazane, pentamethyl-t-butyl disilazane, pentamethylphenyl disilazane, trimethyltriethyl disilazane and the like may be used.
シリル化剤は、トリメチルシリルアセテート、ジメチルシリルアセテート、モノメチルシリルアセテート、トリメチルシリルプロピオネート、トリメチルシリルブチレート、トリメチルシリルオキシ−３−ペンテン−２−オン等であってもよい。 The silylating agent may be trimethylsilyl acetate, dimethylsilyl acetate, monomethylsilyl acetate, trimethylsilyl propionate, trimethylsilyl butyrate, trimethylsilyloxy-3-penten-2-one and the like.
シリル化剤は、ビス（トリメチルシリル）尿素、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルトリフルオロアセトアミド等であってもよい。 The silylating agent may be bis (trimethylsilyl) urea, N-trimethylsilylacetamide, N-methyl-N-trimethylsilyltrifluoroacetamide or the like.
シリル化剤は、２，２，５，５−テトラメチル−２，５−ジシラ−１−アザシクロペンタン、２，２，６，６−テトラメチル−２，６−ジシラ−１−アザシクロヘキサン等の環状ジシラザン化合物；２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシラザン等の環状トリシラザン化合物；２，２，４，４，６，６，８，８−オクタメチルシクロテトラシラザン等の環状テトラシラザン化合物等の環状シラザン化合物であってもよい。 Cyrilizing agents include 2,2,5,5-tetramethyl-2,5-disila-1-azacyclopentane, 2,2,6,6-tetramethyl-2,6-disila-1-azacyclohexane and the like. Cyclic disilazane compounds of; 2,2,4,4,6,6-hexamethylcyclotrisilazane, 2,4,6-trimethyl-2,4,6-trivinylcyclotrisilazane and the like; It may be a cyclic silazane compound such as a cyclic tetrasilazane compound such as 2,4,4,6,6,8,8-octamethylcyclotetrasilazane.
シリル化剤は、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド、トリメチルシリルメチルアセトアミド、ビストリメチルシリルアセトアミド等であってもよい。 The silylating agent may be bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide, trimethylsilylmethylacetamide, bistrimethylsilylacetamide, or the like.
シリル化剤は、２−トリメチルシロキシペンタ−２−エン−４−オン等であってもよい。 The silylating agent may be 2-trimethylsiloxypent-2-en-4-one or the like.
シリル化剤は、１，２−ビス（ジメチルクロロシリル）エタン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン等であってもよい。 The silylating agent may be 1,2-bis (dimethylchlorosilyl) ethane, t-butyldimethylchlorosilane or the like.
また、シリル化剤は、以下のアルコキシシランであってもよい。 Further, the silylating agent may be the following alkoxysilane.
アルコキシシランとしては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリ−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、８−グリシドキシオクチルトリメトキシシラン、８−メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−８−アミノオクチルトリメトキシシラン、７−オクテニルトリメトキシシラン、４−（トリメトキシシリル）酪酸、４−（トリメトキシシリル）酪酸１，１−ジメチルエチル、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ウンデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、トリメトキシメチルシラン、トリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ｎ−ドデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシランなどが挙げられる。 Examples of the alkoxysilane include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldimethoxy. Silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldimethylmethoxysilane, 3 − Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysiri Hydrochloride of -N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, Tris- (Trimethoxysilylpropyl) isocyanurate, 3-ureidopropyltrialkoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isoxapropyltriethoxysilane, 8-glycidoxyoctyltri Methoxysilane, 8-methacryloxyoctyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -8-aminooctyltrimethoxysilane, 7-octenyltrimethoxysilane, 4- (trimethoxysilyl) butyric acid, 4- (trimethoxysilyl) butyric acid Methoxysilyl) butyrate 1,1-dimethylethyl, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyl Triethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, undecyltrimethoxysilane, dodecyl Trimethoxysilane, tetradecyltrimethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, 1,2-bis (trimethoxysilyl) ethane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,4-bis (Trimethoxysilyl) benzene, trifluoropropyltrimethoxysilane, methoxytrimethylsilane, dimethoxydimethylsilane, trimethoxymethylsilane, triethoxysilane, propyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, n -Hexyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, n-dodecyltrimethoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
なお、これらのシリル化剤は、１種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。 In addition, these silylating agents may be used individually by 1 type, and may use a plurality of types in combination.
シリル化剤の含有量は、アンチグレア層形成用コーティング液全量に対し、モル％で、好ましくは０．０１％以上、より好ましくは０．１％以上、好ましくは２．５％以下、より好ましくは１％以下である。シリル化剤の含有量が上記範囲内にある場合、形成されるアンチグレア層の品質ばらつきをより一層生じ難くすることができる。 The content of the silylating agent is mol%, preferably 0.01% or more, more preferably 0.1% or more, preferably 2.5% or less, more preferably 2.5% or less, based on the total amount of the coating liquid for forming the antiglare layer. It is 1% or less. When the content of the silylating agent is within the above range, it is possible to further reduce the quality variation of the formed anti-glare layer.
（他の溶媒）
本発明のアンチグレア層形成用コーティング液は、本発明の効果を阻害しない限りにおいて、他の溶媒を含んでいてもよい。
(Other solvents)
The coating liquid for forming an antiglare layer of the present invention may contain other solvents as long as the effects of the present invention are not impaired.
他の溶媒としては、特に限定されないが、例えば、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。 The other solvent is not particularly limited, and examples thereof include water, alcohols, ketones, ethers, cellosolves, esters, glycol ethers, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds and the like.
アルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。 Examples of alcohols include methanol, ethanol, isopropanol, butanol, diacetone alcohol and the like.
ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。 Examples of the ketone include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like.
エーテル類としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。 Examples of ethers include tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and the like.
セロソルブ類としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等が挙げられる。 Examples of cellosolves include methyl cellosolve and ethyl cellosolve.
エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられる。 Examples of the esters include methyl acetate, ethyl acetate and the like.
グリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノアルキルエーテル等が挙げられる。 Examples of glycol ethers include ethylene glycol monoalkyl ethers.
含窒素化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。 Examples of the nitrogen-containing compound include N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like.
含硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。 Examples of the sulfur-containing compound include dimethyl sulfoxide and the like.
これらの他の溶媒は、１種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。 These other solvents may be used alone or in combination of two or more.
他の溶媒の含有量は、アンチグレア層形成用コーティング液全量に対し、モル％で、例えば、５０％以上、９９％以下とすることができる。 The content of the other solvent may be, for example, 50% or more and 99% or less in mol% with respect to the total amount of the coating liquid for forming the antiglare layer.
なお、本発明のアンチグレア層形成用コーティング液には、本発明の効果を阻害しない限りにおいて、上記以外の添加剤が含まれていてもよい。 The coating liquid for forming an antiglare layer of the present invention may contain additives other than the above as long as the effects of the present invention are not impaired.
［アンチグレア層付き基材の製造方法］
以下、図１（ａ）及び（ｂ）を参照しつつ、本発明の一実施形態に係るアンチグレア層付き基材の製造方法について説明する。
[Manufacturing method of base material with anti-glare layer]
Hereinafter, a method for producing a base material with an antiglare layer according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b).
一例としてのアンチグレア層付き基材の製造方法では、まず、図１（ａ）に示す基材２を準備する。
In the method for producing a base material with an anti-glare layer as an example, first, the
基材２の材料としては、ガラス、樹脂等の透明材料が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。この場合、基材２には、風冷強化、化学強化等の強化処理がなされていてもよい。また、樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。
Examples of the material of the
基材２の形状としては、特に限定されず、板状、フィルム状等が挙げられる。また、基材２は、画像表示装置の形状に合わせた湾曲形状であってもよい。
The shape of the
また、基材２は、基板本体の表面に機能層を有するものであってもよい。機能層としては、アンダーコート層、密着改善層、保護層、着色層等が挙げられる。
Further, the
一方で、アンチグレア層形成用コーティング液を準備する。 On the other hand, a coating liquid for forming an anti-glare layer is prepared.
具体的には、まず、シリコンアルコキシドと、溶媒と、必要に応じて酸触媒または塩基触媒とを混合して混合液を得る。次に、得られた混合液を撹拌し、静置することにより、加水分解及び縮合反応を進行させる。静置時間としては、特に限定されないが、例えば、０．５時間〜１２０時間とすることができる。静置温度としては、特に限定されないが、例えば、１０℃〜６０℃とすることができる。また、静置する代わりに、撹拌を続けてもよい。その際の撹拌時間としては、特に限定されないが、例えば、０．５時間〜１２０時間とすることができる。撹拌温度としては、特に限定されないが、例えば、１０℃〜６０℃とすることができる。 Specifically, first, a silicon alkoxide, a solvent, and an acid catalyst or a base catalyst, if necessary, are mixed to obtain a mixed solution. Next, the obtained mixed solution is stirred and allowed to stand to allow the hydrolysis and condensation reactions to proceed. The standing time is not particularly limited, but can be, for example, 0.5 hours to 120 hours. The standing temperature is not particularly limited, but can be, for example, 10 ° C to 60 ° C. Further, instead of letting it stand still, stirring may be continued. The stirring time at that time is not particularly limited, but can be, for example, 0.5 hours to 120 hours. The stirring temperature is not particularly limited, but can be, for example, 10 ° C to 60 ° C.
溶媒としては、特に限定されないが、例えば、水と他の溶媒の混合溶媒を用いることができる。他の溶媒としては、例えば、上述したアルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等を用いることができる。 The solvent is not particularly limited, but for example, a mixed solvent of water and another solvent can be used. As the other solvent, for example, the above-mentioned alcohols, ketones, ethers, cellosolves, esters, glycol ethers, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds and the like can be used.
酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、無機酸（硝酸、硫酸、塩酸等）、有機酸（ギ酸、シュウ酸、酢酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸等）を用いることができる。 The acid catalyst is not particularly limited, but for example, an inorganic acid (nitrite, sulfuric acid, hydrochloric acid, etc.) and an organic acid (formic acid, oxalic acid, acetic acid, monochloroacetic acid, dichloracetic acid, trichloracetic acid, etc.) can be used.
次に、混合液にシリル化剤をさらに混合し、撹拌し、静置することにより、シリコンアルコキシドの加水分解縮合物と、シリル化剤とを反応させる。それによって、シリコンアルコキシドの加水分解縮合物と、シリル化剤との反応生成物を含む、アンチグレア層形成用コーティング液を得ることができる。なお、静置時間としては、特に限定されないが、例えば、０．１時間〜２４時間とすることができる。静置温度としては、特に限定されないが、例えば、１０℃〜８０℃とすることができる。 Next, the silylating agent is further mixed with the mixed solution, stirred, and allowed to stand to react the hydrolyzed condensate of silicon alkoxide with the silylating agent. Thereby, a coating liquid for forming an antiglare layer can be obtained, which contains a hydrolysis condensate of silicon alkoxide and a reaction product of a silylating agent. The standing time is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 hour to 24 hours. The standing temperature is not particularly limited, but can be, for example, 10 ° C to 80 ° C.
この際、酸性条件下でヘキサメチルジシロキサンなどのシリル化剤を加水分解させ、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）などのシリコンアルコキシドの加水分解及び縮合反応により得られたシリカ粒子と反応させ、トリメチル基を付与してもよい。 At this time, a silylating agent such as hexamethyldisiloxane is hydrolyzed under acidic conditions and reacted with silica particles obtained by hydrolysis and condensation reaction of silicon alkoxide such as tetraethoxysilane (TEOS) to form a trimethyl group. It may be given.
また、静置する代わりに、撹拌を続けてもよい。その際の撹拌時間としては、特に限定されないが、例えば、０．１時間〜２４時間とすることができる。撹拌温度としては、特に限定されないが、例えば、１０℃〜８０℃とすることができる。 Further, instead of letting it stand still, stirring may be continued. The stirring time at that time is not particularly limited, but can be, for example, 0.1 hour to 24 hours. The stirring temperature is not particularly limited, but can be, for example, 10 ° C to 80 ° C.
この際、酸性条件下でヘキサメチルジシロキサン等のシリル化剤を加水分解させ、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）などのシリコンアルコキシドの加水分解及び縮合反応により得られたシリカ粒子と反応させ、トリメチル基を付与してもよい。 At this time, a silylating agent such as hexamethyldisiloxane is hydrolyzed under acidic conditions and reacted with silica particles obtained by hydrolysis and condensation reaction of silicon alkoxide such as tetraethoxysilane (TEOS) to form a trimethyl group. It may be given.
なお、得られたアンチグレア層形成用コーティング液は、必要に応じてアルコール等の溶媒により１．２倍〜１０倍希釈して用いてもよい。 The obtained coating liquid for forming an antiglare layer may be diluted 1.2 to 10 times with a solvent such as alcohol, if necessary.
次に、得られたアンチグレア層形成用コーティング液を、基材２上に塗布し、乾燥させる。それによって、図１（ｂ）に示すアンチグレア層１を形成し、膜付き基板１０を得ることができる。
Next, the obtained coating liquid for forming an anti-glare layer is applied onto the
アンチグレア層形成用コーティング液の塗布方法としては、特に限定されないが、スプレーコート法により、アンチグレア層形成用コーティング液を、基材２上に吹き付けることが望ましい。なお、スプレーコート法に用いるノズルとしては、２流体ノズル、１流体ノズル等が挙げられる。
The method for applying the coating liquid for forming an anti-glare layer is not particularly limited, but it is desirable to spray the coating liquid for forming an anti-glare layer onto the
アンチグレア層形成用コーティング液の塗布量は、例えば、１ｍＬ／ｍ２以上、３００ｍＬ／ｍ２以下とすることができる。 The amount of the coating liquid for forming the anti-glare layer can be, for example, 1 mL / m 2 or more and 300 mL / m 2 or less.
アンチグレア層形成用コーティング液の塗布温度は、例えば、１０℃以上、８０℃以下とすることができる。 The coating temperature of the coating liquid for forming the anti-glare layer can be, for example, 10 ° C. or higher and 80 ° C. or lower.
また、アンチグレア層形成用コーティング液の乾燥温度は、例えば、１００℃以上、６００℃以下とすることができる。乾燥時間は、例えば、１０分以上、６００分以下とすることができる。 Further, the drying temperature of the coating liquid for forming the antiglare layer can be, for example, 100 ° C. or higher and 600 ° C. or lower. The drying time can be, for example, 10 minutes or more and 600 minutes or less.
本実施形態に係るアンチグレア層付き基材の製造方法においては、シリコンアルコキシドと、シリル化剤とを含む、アンチグレア層形成用コーティング液を用いるので、アンチグレア層形成用コーティング液を調合後、長期間放置したとしても、形成されるアンチグレア層における透明度（濁度）のばらつきなどの品質ばらつきが生じ難い。また、膜形成工程における湿度や温度などの環境によっても、同様の品質のばらつきが生じ難い。 In the method for producing a base material with an anti-glare layer according to the present embodiment, a coating liquid for forming an anti-glare layer containing a silicon alkoxide and a silylating agent is used. Even so, quality variations such as variations in transparency (turbidity) in the formed anti-glare layer are unlikely to occur. Further, the same quality variation is unlikely to occur depending on the environment such as humidity and temperature in the film forming process.
以下、本発明について、具体的な実施例に基づいて、さらに詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on specific examples. The present invention is not limited to the following examples, and can be appropriately modified and implemented without changing the gist thereof.
（実施例１）
シリコンアルコキシドとしてのテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ、東京化成工業株式会社製、品番「Ｔ０１００」）と、エタノールと、水と、硝酸とを、ＴＥＯＳ：エタノール：水＝１：１：７の比（モル比）で混合し、混合液３９０ｍＬを得た。なお、硝酸は、ｐＨ＝２となるように調整して混合した。
(Example 1)
Tetraethoxysilane (TEOS, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number "T0100") as a silicon alkoxide, ethanol, water, and nitric acid are mixed with TEOS: ethanol: water = 1: 1: 7 ratio (molar ratio). ) To obtain 390 mL of the mixed solution. Nitric acid was adjusted to pH = 2 and mixed.
次に、ＴＥＯＳ、エタノール、水、及び硝酸の混合液を撹拌して１３時間静置し、ＴＥＯＳの加水分解及び縮合反応を進行させ、ＴＥＯＳの加水分解縮合物を含む混合液を得た。 Next, the mixed solution of TEOS, ethanol, water, and nitric acid was stirred and allowed to stand for 13 hours to proceed with the hydrolysis and condensation reaction of TEOS to obtain a mixed solution containing the hydrolyzed condensate of TEOS.
次に、混合液にシリル化剤である（（ＣＨ３）３Ｓｉ）２Ｏ（ヘキサメチルジシロキサン）を、ＴＥＯＳに対してモル比（ＴＥＯＳ：ヘキサメチルジシロキサン）で、１：０．１となるようにさらに混合し、撹拌して２時間静置した。 Next, a silylating agent ((CH 3 ) 3 Si) 2 O (hexamethyldisiloxane) was added to the mixed solution in a molar ratio (TEOS: hexamethyldisiloxane) to TEOS at 1: 0.1. The mixture was further mixed, stirred, and allowed to stand for 2 hours.
次に、エタノールを用いて混合液を５倍希釈し、ＴＥＯＳの加水分解縮合物と、シリル化剤との反応生成物を含むコーティング液を得た。 Next, the mixture was diluted 5-fold with ethanol to obtain a coating solution containing a reaction product of the hydrolyzed condensate of TEOS and the silylating agent.
また、得られたコーティング液を、上記希釈後７２時間及び１７５時間放置した。放置後のコーティング液を、基材としての強化ガラス基板（日本電気硝子社製、Ｔ２Ｘ−１）上にスプレーコートすることにより、アンチグレア層を形成した。なお、スプレーコートの際のコーティング量（塗布量）及びコート時の湿度（％）は、下記の表１に示す３通りの条件で行った。なお、スプレーコート時の温度は、いずれも１８℃で行った。 Moreover, the obtained coating liquid was left for 72 hours and 175 hours after the above dilution. An anti-glare layer was formed by spray-coating the coating liquid after standing on a tempered glass substrate (T2X-1 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) as a base material. The coating amount (coating amount) at the time of spray coating and the humidity (%) at the time of coating were carried out under the three conditions shown in Table 1 below. The temperature at the time of spray coating was 18 ° C.
（比較例１）
ＴＥＯＳ、エタノール、水、及び硝酸の混合液を撹拌し１５時間静置したこと、及びシリル化剤を混合しなかったこと以外は、実施例１と同様にしてコーティング液を得た。また、得られたコーティング液を用いて、実施例１と同様にしてアンチグレア層を形成した。
(Comparative Example 1)
A coating solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixture of TEOS, ethanol, water, and nitric acid was stirred and allowed to stand for 15 hours, and the silylating agent was not mixed. Further, the obtained coating liquid was used to form an anti-glare layer in the same manner as in Example 1.
（評価）
実施例１及び比較例１で得られた膜付き基板（製造品）のヘイズを測定した。ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１３６−２０００に基づいて、ＮＤＨ−５０００（日本電色社製）を用いて測定した。結果を下記の表１に示す。
(evaluation)
The haze of the film-coated substrate (manufactured product) obtained in Example 1 and Comparative Example 1 was measured. Haze was measured using NDH-5000 (manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.) based on JIS K7136-2000. The results are shown in Table 1 below.
表１より、シリル化剤を用いた実施例１では、コーティング液を得た後の経過時間によるヘイズの変化が０．２％以下と小さくなっており、品質ばらつきが抑制されていた。これに対して、シリル化剤を用いなかった比較例１では、コーティング液を得た後の経過時間によるヘイズの変化が０．７５％〜２．９％と大きく、品質ばらつきが大きかった。 From Table 1, in Example 1 using the silylating agent, the change in haze with respect to the elapsed time after obtaining the coating liquid was as small as 0.2% or less, and the quality variation was suppressed. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the silylating agent was not used, the change in haze with the elapsed time after obtaining the coating liquid was as large as 0.75% to 2.9%, and the quality variation was large.
また、シリル化剤を用いた実施例１では、コーティング時の湿度によるヘイズの変化も０．３％以下と小さくなっており、品質ばらつきが抑制されていた。これに対して、シリル化剤を用いなかった比較例１では、コーティング時の湿度によるヘイズの変化も６．３％〜７．９％と大きく、品質ばらつきが大きかった。 Further, in Example 1 using the silylating agent, the change in haze due to humidity at the time of coating was as small as 0.3% or less, and the quality variation was suppressed. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the silylating agent was not used, the change in haze due to humidity during coating was as large as 6.3% to 7.9%, and the quality variation was large.
１…アンチグレア層
２…基材
１０…膜付き基板
1 ...
Claims (7)
基材上に、前記アンチグレア層形成用コーティング液を塗布することにより、アンチグレア層を形成する工程と、
を備える、アンチグレア層付き基材の製造方法。 The step of preparing the coating liquid for forming an antiglare layer according to any one of claims 1 to 6, and the step of preparing the coating liquid.
A step of forming an anti-glare layer by applying the coating liquid for forming an anti-glare layer onto a base material, and a step of forming the anti-glare layer.
A method for manufacturing a base material with an anti-glare layer.
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