JP2022001559A - Aromatic ketone compound and method for producing the same - Google Patents

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幸二 山内
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Abstract

To provide a high purity aromatic ketone compound which is useful as a raw material of a heat resistant resin and a method for producing the same.SOLUTION: A method for producing an aromatic ketone compound represented by the following formula (A) comprises reacting terephthalic acid chloride and chlorobenzene in the presence of a Friedel-Crafts catalyst at 90°C or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は芳香族ケトン化合物およびその製造方法に関する。 The present invention relates to an aromatic ketone compound and a method for producing the same.

剛直な構造を有するジハロゲン化芳香族ケトン化合物は、高耐熱性樹脂の原料として有用であることが知られており、例えば、4,4’−ジフルオロベンゾフェノンはポリエーテルエーテルケトン(PEEK)の原料として広く利用されている。 Dihalogenated aromatic ketone compounds having a rigid structure are known to be useful as raw materials for highly heat-resistant resins. For example, 4,4'-difluorobenzophenone is used as a raw material for polyetheretherketone (PEEK). Widely used.

そのようなジハロゲン化芳香族ケトン化合物の一種である、下記式(A)で表される芳香族ケトン化合物は、高耐熱性樹脂の一種である芳香族ポリエーテルケトンの原料となることが報告されている(例えば非特許文献1)。 It has been reported that an aromatic ketone compound represented by the following formula (A), which is one of such dihalogenated aromatic ketone compounds, can be used as a raw material for aromatic polyetherketone, which is a kind of highly heat-resistant resin. (For example, Non-Patent Document 1).

Figure 2022001559
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芳香族ケトン化合物(A)は、例えば、テレフタル酸クロリドとクロロベンゼンのフリーデル−クラフツ反応により製造することが可能である(非特許文献1)。 The aromatic ketone compound (A) can be produced, for example, by a Friedel-Crafts reaction between a terephthalic acid chloride and chlorobenzene (Non-Patent Document 1).

また、特許文献1では、テレフタル酸1モル当たりパラクロルベンゾトリクロライド2.0モル〜2.3モルを反応させた後、反応生成物を20〜100モルのクロルベンゼンと反応させて、4,4’−ジクロルベンゾフェノンと4,4’−ジクロルテレフタロフェノンのモル比が1.8:1〜2.2:1の範囲にある混合物を合成し、反応終了後、クロルベンゼン溶液相中の4,4’−ジクロルベンゾフェノンと、固相中の4,4’−ジクロルテレフタロフェノンを分離することを特徴とする製造方法が開示されている。 Further, in Patent Document 1, 2.0 mol to 2.3 mol of parachlorbenzotrichloride is reacted per 1 mol of terephthalic acid, and then the reaction product is reacted with 20 to 100 mol of chlorbenzene. A mixture having a molar ratio of 4'-dichlorobenzophenone to 4,4'-dichloroterephthalofenone in the range of 1.8: 1 to 2.2: 1 was synthesized, and after the reaction was completed, the mixture was added to the chlorbenzene solution phase. Disclosed is a production method characterized by separating 4,4'-dichlorobenzophenone and 4,4'-dichloroterephthalophenone in a solid phase.

特許文献2では、一般式(B)で表されるp−ハロゲノベンジルハライドとベンゼンとをフリーデルクラフツ触媒の存在下で反応させて、一般式(C)で表される芳香族ジハライドを得、次いでこのようにして得られた芳香族ジハライドを、酸化触媒の存在下、分子状酸素で酸化することを特徴とする、一般式(D)で表されるジハロゲノフタロフェノンの製造方法が開示されている。 In Patent Document 2, p-halogenobenzyl halide represented by the general formula (B) and benzene are reacted in the presence of a Friedel-Crafts catalyst to obtain an aromatic dihalide represented by the general formula (C). Next, a method for producing dihalogenoftalofenone represented by the general formula (D), which comprises oxidizing the aromatic dihalide thus obtained with molecular oxygen in the presence of an oxidation catalyst, is disclosed. ing.

Figure 2022001559
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(式中のX、Xはそれぞれハロゲン原子である) (X 1 and X 2 in the equation are halogen atoms, respectively)

Figure 2022001559
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(式中のXは前記と同じ意味をもつ) (X 1 in the formula has the same meaning as above)

Figure 2022001559
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(式中のXは前記と同じ意味をもつ) (X 1 in the formula has the same meaning as above)

特許文献3では、芳香族化合物とトリハロゲノメチル置換芳香族化合物を脱ハロゲン化水素縮合反応させ、ついで縮合反応生成物を加水分解して芳香族ケトン類を製造するに際して、脱ハロゲン化水素縮合反応触媒として結晶性アルミノシリケートを用いることを特徴とする芳香族ケトン類の製造方法が開示されている。 In Patent Document 3, a dehalogenated hydrogen condensation reaction is carried out when an aromatic compound and a trihalogenomethyl-substituted aromatic compound are subjected to a dehalogenation hydrogen condensation reaction, and then the condensation reaction product is hydrolyzed to produce an aromatic ketone. A method for producing an aromatic ketone, which comprises using a crystalline aluminosilicate as a catalyst, is disclosed.

特開平3−161459号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-161459. 特開平3−47145号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-47145 特開平4−1154号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-1154

POLYMER、Volume 29、 Issue 2、358−369(1988)Polymer, Volume 29, Issue 2, 358-369 (1988)

高耐熱性樹脂の原料には高い純度が求められ、不純物として構造異性体が含まれる場合には、目的樹脂の熱特性低下につながるため、高純度な芳香族ケトン化合物(A)やその製造方法が求められている。 High purity is required for the raw material of the highly heat-resistant resin, and if structural isomers are contained as impurities, it leads to deterioration of the thermal characteristics of the target resin. Therefore, a high-purity aromatic ketone compound (A) and a method for producing the same. Is required.

前記非特許文献1に記載の方法は、確かに芳香族ケトン化合物(A)が得られる手法であるものの、生成する構造異性体の抑制の点で改善の余地があった。また、得られた芳香族ケトン化合物の純度や不純物情報に関しては何ら記載されていない。 Although the method described in Non-Patent Document 1 is a method for obtaining an aromatic ketone compound (A), there is room for improvement in terms of suppressing the structural isomers produced. In addition, no information is given regarding the purity or impurity information of the obtained aromatic ketone compound.

また、特許文献1に記載の方法は、生成する4,4’−ジクロルベンゾフェノンと4,4’−ジクロルテレフタロフェノンの分離が必要であり、生産の効率性において、改善の余地があった。また、4,4’−ジクロルテレフタロフェノンの純度は、より一層の向上が求められていた。 Further, the method described in Patent Document 1 requires separation of 4,4'-dichlorobenzophenone and 4,4'-dichloroterephthalofenone to be produced, and there is room for improvement in production efficiency. rice field. Further, the purity of 4,4'-dichloroterephthalofenone has been required to be further improved.

また、特許文献2に記載の方法は、フリーデルクラフツ反応と、分子状酸素で酸化する多段階の反応が必要であり、再三の効率性において、改善の余地があった。 Further, the method described in Patent Document 2 requires a Friedel-Crafts reaction and a multi-step reaction of oxidation with molecular oxygen, and there is room for improvement in the efficiency of repeated steps.

また、特許文献3に記載の方法は、確かに芳香族ケトン化合物(A)が得られる手法であるものの、生成物の収率や構造異性体の選択率に改善の余地があった。 Further, although the method described in Patent Document 3 is a method for obtaining the aromatic ketone compound (A), there is room for improvement in the yield of the product and the selectivity of the structural isomer.

本発明はかかる課題を解決するために、次の手段を採用するものである。 The present invention employs the following means in order to solve such a problem.

すなわち、本発明は、以下のとおりである。
[1] テレフタル酸クロリドとクロロベンゼンをフリーデル−クラフツ触媒の存在下、90℃以下で反応させる下記式(A)で表される芳香族ケトン化合物(A)の製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1] A method for producing an aromatic ketone compound (A) represented by the following formula (A), in which terephthalic acid chloride and chlorobenzene are reacted at 90 ° C. or lower in the presence of a Friedel-Crafts catalyst.

Figure 2022001559
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[2] [1]の方法で芳香族ケトン化合物を得て、次いでアミド溶媒で再結晶することを特徴とする芳香族ケトン化合物(A)の製造方法。
[3] 構造異性体の含有率が1重量%未満である下記式(A)で表される芳香族ケトン化合物(A)。
[2] A method for producing an aromatic ketone compound (A), which comprises obtaining an aromatic ketone compound by the method of [1] and then recrystallizing it with an amide solvent.
[3] An aromatic ketone compound (A) represented by the following formula (A) in which the content of structural isomers is less than 1% by weight.

Figure 2022001559
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[4] 熱重量分析(TG)において非酸化性雰囲気下で50℃から450℃まで昇温速度20℃/分で加熱し、450℃で20分保持した際の重量減少率が99%超である[3]に記載の芳香族ケトン化合物(A)。 [4] In thermogravimetric analysis (TG), the weight loss rate was more than 99% when heated from 50 ° C. to 450 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min in a non-oxidizing atmosphere and held at 450 ° C. for 20 minutes. The aromatic ketone compound (A) according to a certain [3].

本発明によれば、耐熱性樹脂の原料として有用な高純度な芳香族ケトン化合物(A)およびその製造方法が提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a high-purity aromatic ketone compound (A) useful as a raw material for a heat-resistant resin and a method for producing the same.

以下に、本発明実施の形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

(1)芳香族ケトン化合物(A)
本発明における芳香族ケトン化合物とは、ガスクロマトグラフィーによるピーク面積から算出される構造異性体の含有率が1重量%未満である前記式(A)で表される化合物である。耐熱性樹脂の原料として用いるとの観点から、その純度は高い程好ましく、99%超が好ましく、99.5%以上がより好ましい。
(1) Aromatic ketone compound (A)
The aromatic ketone compound in the present invention is a compound represented by the above formula (A) in which the content of structural isomers calculated from the peak area by gas chromatography is less than 1% by weight. From the viewpoint of being used as a raw material for a heat-resistant resin, the higher the purity is, the more preferable it is, preferably more than 99%, and more preferably 99.5% or more.

(2)テレフタル酸クロリド
本発明で用いられるテレフタル酸クロリドは、目的物の収率向上の観点から、純度の高いものが好ましく、具体的には、純度90%以上が好ましく、より好ましくは95%以上であり、更に好ましくは98%以上である。
(2) Terephthalic acid chloride The terephthalic acid chloride used in the present invention preferably has a high purity, more preferably 90% or more, and more preferably 95%, from the viewpoint of improving the yield of the target product. The above is more preferably 98% or more.

(3)クロロベンゼン
本発明において、クロロベンゼンは溶媒兼基質として作用する。本発明で用いられるクロロベンゼンは、目的物の収率と純度向上の観点から、純度の高いものが好ましく、具体的には、純度90%以上が好ましく、より好ましくは95%以上であり、更に好ましくは98%以上である。
(3) Chlorobenzene In the present invention, chlorobenzene acts as a solvent and a substrate. The chlorobenzene used in the present invention preferably has a high purity, preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and further preferably 95% or more, from the viewpoint of improving the yield and purity of the target product. Is over 98%.

(4)フリーデル−クラフツ触媒
本発明で用いられるフリーデル−クラフツ触媒とは、フリーデル−クラフツ反応の触媒として作用する化合物である。具体例としては、塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化鉄(III)、塩化チタン(IV)、三フッ化ホウ素などのルイス酸化合物や、硫酸、リン酸、フッ化水素などのプロトン酸化合物が挙げられる。なかでも、塩化アルミニウムが好ましく用いられる。
(4) Friedel-Crafts catalyst The Friedel-Crafts catalyst used in the present invention is a compound that acts as a catalyst for the Friedel-Crafts reaction. Specific examples include Lewis acid compounds such as aluminum chloride, gallium chloride, iron (III) chloride, titanium chloride (IV) and boron trifluoride, and protonic acid compounds such as sulfuric acid, phosphoric acid and hydrogen fluoride. .. Of these, aluminum chloride is preferably used.

(5)芳香族ケトン化合物(A)の製造方法
本発明では、テレフタル酸クロリドとクロロベンゼンをフリーデル−クラフツ触媒の存在下、90℃以下で反応させて芳香族ケトン化合物(A)を製造する。以下に、本発明において芳香族ケトン化合物(A)の製造に関する好ましい態様について詳述する。
(5) Method for Producing Aromatic Ketone Compound (A) In the present invention, terephthalic acid chloride and chlorobenzene are reacted at 90 ° C. or lower in the presence of a Friedel-Crafts catalyst to produce an aromatic ketone compound (A). Hereinafter, preferred embodiments of the aromatic ketone compound (A) in the present invention will be described in detail.

本発明のフリーデル−クラフツ触媒の使用量は、テレフタル酸クロリド1モルに対して、1.5モル以上が好ましく、2モル以上がより好ましく、2.5モル以上が更に好ましい。また、フリーデル−クラフツ触媒の使用量の上限は、テレフタル酸クロリド1モルに対して、10モル以下が好ましく、より好ましくは8モル以下であり、更に好ましくは6モル以下である。このような好ましい範囲では、高い収率で芳香族ケトン化合物(A)が得られる傾向にある。 The amount of the Friedel-Crafts catalyst used in the present invention is preferably 1.5 mol or more, more preferably 2 mol or more, still more preferably 2.5 mol or more, relative to 1 mol of terephthalic acid chloride. The upper limit of the amount of the Friedel-Crafts catalyst used is preferably 10 mol or less, more preferably 8 mol or less, still more preferably 6 mol or less, relative to 1 mol of terephthalic acid chloride. In such a preferable range, the aromatic ketone compound (A) tends to be obtained in a high yield.

本発明におけるクロロベンゼンの使用量は、テレフタル酸クロリド1モルあたり、0.2リットル以上10リットル以下が例示でき、0.5リットル以上5リットル以下が好ましく、1リットル以上2リットル以下がより好ましい。このような範囲では、効率的に芳香族ケトン化合物(A)を製造することが出来る。 The amount of chlorobenzene used in the present invention can be exemplified by 0.2 liters or more and 10 liters or less per mol of terephthalic acid chloride, preferably 0.5 liters or more and 5 liters or less, and more preferably 1 liter or more and 2 liters or less. In such a range, the aromatic ketone compound (A) can be efficiently produced.

本発明の芳香族ケトン化合物(A)の製造方法において、テレフタル酸クロリド、クロロベンゼン、フリーデル−クラフツ触媒以外に反応を阻害しない第三成分や、芳香族ケトン化合物(A)の純度低下を生じない第三成分、反応を加速する効果を有する第三成分を加えることも可能である。 In the method for producing the aromatic ketone compound (A) of the present invention, the purity of the aromatic ketone compound (A) and the third component that does not inhibit the reaction other than the terephthalic acid chloride, chlorobenzene and Friedel-Crafts catalyst do not occur. It is also possible to add a third component, a third component that has the effect of accelerating the reaction.

なお、本発明の芳香族ケトン化合物(A)の製造方法において、テレフタル酸クロリド、クロロベンゼン、フリーデル−クラフツ触媒を反応器に仕込む順序や方法に特に制限は無いが、発熱反応であるため、冷却した状態で混合することが好ましい。 In the method for producing the aromatic ketone compound (A) of the present invention, the order and method of charging the terephthalic acid chloride, chlorobenzene, and Friedel-Crafts catalyst into the reactor are not particularly limited, but since it is an exothermic reaction, it is cooled. It is preferable to mix them in the same state.

本発明の芳香族ケトン化合物(A)の製造方法における反応温度は90℃以下であり、好ましくは80℃以下、より好ましくは75℃以下も採用できる。またその下限としては、0℃以上が例示でき、20℃以上がより好ましく、40℃以上がさらに好ましい。このような好ましい温度範囲ではより高い構造異性体の選択性と、反応の短時間化を両立することができる。また、反応は一定温度で行なう1段反応、あるいは連続的に温度を変化させていく形式の反応のいずれでもかまわない。 The reaction temperature in the method for producing the aromatic ketone compound (A) of the present invention is 90 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or lower, and more preferably 75 ° C. or lower. Further, as the lower limit thereof, 0 ° C. or higher can be exemplified, 20 ° C. or higher is more preferable, and 40 ° C. or higher is further preferable. In such a preferable temperature range, it is possible to achieve both higher structural isomer selectivity and shorter reaction time. Further, the reaction may be either a one-stage reaction performed at a constant temperature or a type of reaction in which the temperature is continuously changed.

また、反応時間は、反応温度や基質濃度、フリーデル−クラフツ触媒の種類に依存するので一概に規定できないが、0.5時間以上が好ましく、1時間以上がより好ましい。この好ましい時間以上とすることで、未反応の原料成分を減少でき、芳香族ケトン化合物(A)の収率が高くなる傾向にある。一方、反応時間に特に上限は無いが、40時間以内でも十分に反応が進行し、好ましくは20時間以内、より好ましくは15時間以内も採用できる。 The reaction time cannot be unconditionally defined because it depends on the reaction temperature, the substrate concentration, and the type of Friedel-Crafts catalyst, but it is preferably 0.5 hours or more, more preferably 1 hour or more. By setting the time to this preferable time or longer, the unreacted raw material component can be reduced, and the yield of the aromatic ketone compound (A) tends to increase. On the other hand, although there is no particular upper limit to the reaction time, the reaction proceeds sufficiently even within 40 hours, and preferably 20 hours or less, more preferably 15 hours or less can be adopted.

反応を行う方法に特に制限は無いが、効率的に反応を進行させるためには攪拌条件下で行うことが好ましい。また、製造における雰囲気は非酸化性雰囲気下が望ましく、窒素、ヘリウム、およびアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行なうことが好ましく、経済性および取り扱いの容易さの面からは窒素雰囲気下が好ましい。 The method for carrying out the reaction is not particularly limited, but it is preferable to carry out the reaction under stirring conditions in order to proceed the reaction efficiently. Further, the atmosphere in the production is preferably a non-oxidizing atmosphere, preferably an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, and argon, and a nitrogen atmosphere is preferable from the viewpoint of economy and ease of handling.

(6)精製操作
本発明の芳香族ケトン化合物(A)の製造においては、前述した反応により得られた反応生成物から、芳香族ケトン化合物(A)を分離回収することも可能である。
(6) Purification Operation In the production of the aromatic ketone compound (A) of the present invention, it is also possible to separate and recover the aromatic ketone compound (A) from the reaction product obtained by the above-mentioned reaction.

反応生成物から芳香族ケトン化合物(A)を分離回収する方法に特に制限はなく、水や有機溶媒による洗浄、濾過、再結晶など、公知の方法を採用することが出来る。具体的には、水で洗浄して無機成分を除去した後、芳香族ケトン化合物(A)に対する溶解度が低い有機溶媒を用いて、芳香族ケトン化合物(A)を除く有機成分を除去して、芳香族ケトン化合物(A)を得る方法が例示できる。また、再結晶を行うことで、さらに純度の高い芳香族ケトン化合物(A)を得る方法も採用できる。 The method for separating and recovering the aromatic ketone compound (A) from the reaction product is not particularly limited, and known methods such as washing with water or an organic solvent, filtration, and recrystallization can be adopted. Specifically, after washing with water to remove the inorganic component, the organic component excluding the aromatic ketone compound (A) is removed by using an organic solvent having a low solubility in the aromatic ketone compound (A). An example is a method for obtaining the aromatic ketone compound (A). Further, a method of obtaining an aromatic ketone compound (A) having a higher purity by performing recrystallization can also be adopted.

ここで、再結晶を行う場合の溶媒としては、アミド溶媒が好ましく、具体例としては、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMA)、ジエチルホルムアミド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなどが挙げられる。 Here, the amide solvent is preferable as the solvent for performing recrystallization, and specific examples thereof include N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMA), diethylformamide, tetramethylurea, and the like. Hexamethylphosphoramide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like can be mentioned.

(7)本発明の製造方法で得られる芳香族ケトン化合物(A)
前記のとおり、反応を90℃以下で行った後、適切な精製を行うことで、構造異性体の含有率が少なく、金属残留物が少ない芳香族ケトン化合物(A)を得ることができる。具体的には、ガスクロマトグラフィーによるピーク面積の比率から得られる構造異性体の含有率が1重量%未満であり、好ましくは0.5重量%以下であり、更に好ましくは0.1重量%以下である。
(7) Aromatic ketone compound (A) obtained by the production method of the present invention.
As described above, the aromatic ketone compound (A) having a low content of structural isomers and a low metal residue can be obtained by performing the reaction at 90 ° C. or lower and then performing appropriate purification. Specifically, the content of the structural isomer obtained from the ratio of the peak area by gas chromatography is less than 1% by weight, preferably 0.5% by weight or less, and more preferably 0.1% by weight or less. Is.

なお、構造異性体の含有率は以下の式から求められる。
構造異性体の含有率(%)=芳香族ケトン化合物(A)の構造異性体のピーク面積/(芳香族ケトン化合物(A)のピーク面積+芳香族ケトン化合物(A)の構造異性体のピーク面積)×100
The content of structural isomers is calculated from the following formula.
Content of structural isomer (%) = Peak area of structural isomer of aromatic ketone compound (A) / (Peak area of aromatic ketone compound (A) + Peak of structural isomer of aromatic ketone compound (A) Area) x 100

また、本発明の製造方法では、高温に保持した場合の残留物が少ない芳香族ケトン化合物(A)が得られ、熱重量分析(TG)において、非酸化性雰囲気下で50℃から450℃まで昇温速度20℃/分で加熱し、450℃で20分保持した際の重量減少率が99%超である芳香族ケトン化合物(A)が得られ、好ましくは99.5%以上であり、更に好ましくは99.9%以上である。 Further, in the production method of the present invention, an aromatic ketone compound (A) having a small amount of residue when kept at a high temperature can be obtained, and in thermogravimetric analysis (TG), the temperature is from 50 ° C to 450 ° C in a non-oxidizing atmosphere. An aromatic ketone compound (A) having a weight loss rate of more than 99% when heated at a heating rate of 20 ° C./min and held at 450 ° C. for 20 minutes is obtained, preferably 99.5% or more. More preferably, it is 99.9% or more.

(8)芳香族ケトン化合物(A)の用途
このようにして得られた芳香族ケトン化合物(A)は、金属や構造異性体などの不純物が少なく、芳香族ポリエーテルケトンなどの高耐熱性樹脂の原料として好ましく用いることが出来る。
(8) Use of Aromatic Ketone Compound (A) The aromatic ketone compound (A) thus obtained has few impurities such as metals and structural isomers, and is a highly heat-resistant resin such as aromatic polyetherketone. Can be preferably used as a raw material for.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。これら例は例示的なものであって限定的なものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. These examples are exemplary and not limiting.

[ガスクロマトグラフィー(GC)]
装置:島津製作所製 GC−2010
カラム:J&W社製 DB−5 0.32mm×30m(0.25μm)
キャリアーガス:ヘリウム
検出器:水素炎イオン化検出器(FID)
なお、芳香族ケトン化合物(A)の構造異性体含有率は、以下の式で算出した値である。
構造異性体含有率(%)=芳香族ケトン化合物(A)の構造異性体のピーク面積/(芳香族ケトン化合物(A)のピーク面積+芳香族ケトン化合物(A)の構造異性体のピーク面積)×100
[Gas Chromatography (GC)]
Equipment: Shimadzu GC-2010
Column: J & W DB-5 0.32 mm x 30 m (0.25 μm)
Carrier gas: Helium detector: Hydrogen flame ionization detector (FID)
The structural isomer content of the aromatic ketone compound (A) is a value calculated by the following formula.
Structural isomer content (%) = peak area of structural isomer of aromatic ketone compound (A) / (peak area of aromatic ketone compound (A) + peak area of structural isomer of aromatic ketone compound (A) ) × 100

[熱重量分析(TG)]
装置:パーキンエルマー社製 TGA7
測定雰囲気:窒素気流下
昇温プログラム:
(a)プログラム温度50℃で1分保持
(b)プログラム温度50℃から450℃まで昇温速度20℃/分で加熱
(c)プログラム温度450℃で20分保持
重量減少率:50℃で1分保持後の重量を基準とし、450℃で20分保持後の重量から重量減少率を算出した。
[Thermogravimetric analysis (TG)]
Equipment: TGA7 manufactured by PerkinElmer
Measurement atmosphere: Nitrogen airflow temperature rise program:
(A) Holding at a program temperature of 50 ° C. for 1 minute (b) Heating from a program temperature of 50 ° C. to 450 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min (c) Holding at a program temperature of 450 ° C. for 20 minutes Weight reduction rate: 1 at 50 ° C. The weight loss rate was calculated from the weight after holding for 20 minutes at 450 ° C. based on the weight after holding for minutes.

[実施例1]
<合成工程>
滴下ロートを具備した300mL三口ナスフラスコに、塩化アルミニウム(26.65g、0.20モル)、クロロベンゼン(35mL、0.35モル)を加え、氷浴にて冷却した。滴下ロートにテレフタル酸クロリド(10.15g、0.050モル)のクロロベンゼン(60mL、0.59モル)溶液を加え、窒素ガス気流下、ゆっくり滴下した。この時、クロロベンゼンの合計使用量は、テレフタル酸1モルあたり1.9リットルである。滴下終了後、窒素ガス気流下、反応容器を室温に戻して30分攪拌し、続いてオイルバスで65℃に昇温して7時間反応した。
[Example 1]
<Synthesis process>
Aluminum chloride (26.65 g, 0.20 mol) and chlorobenzene (35 mL, 0.35 mol) were added to a 300 mL three-necked eggplant flask equipped with a dropping funnel, and the mixture was cooled in an ice bath. A solution of terephthalic acid chloride (10.15 g, 0.050 mol) in chlorobenzene (60 mL, 0.59 mol) was added to the dropping funnel, and the mixture was slowly added dropwise under a nitrogen gas stream. At this time, the total amount of chlorobenzene used is 1.9 liters per mole of terephthalic acid. After completion of the dropping, the reaction vessel was returned to room temperature under a nitrogen gas stream, stirred for 30 minutes, then heated to 65 ° C. in an oil bath and reacted for 7 hours.

得られた反応液を500mLの塩酸水溶液に注ぎ、水層を除去した後、有機層にメタノール(400mL)を加えて攪拌し、析出した固体を濾過で回収した。固体を再度メタノールで洗浄後、濾過で回収して、真空乾燥した。得られた生成物をGCで分析した結果、構造異性体含有率は、2.3%であり、収率は90%であった。 The obtained reaction solution was poured into a 500 mL aqueous hydrochloric acid solution, the aqueous layer was removed, methanol (400 mL) was added to the organic layer, the mixture was stirred, and the precipitated solid was recovered by filtration. The solid was washed again with methanol, collected by filtration and dried under vacuum. As a result of analyzing the obtained product by GC, the structural isomer content was 2.3% and the yield was 90%.

比較例1の結果と比較することで、反応を90℃以下で行うことで、構造異性体の生成を抑制できることがわかった。 By comparing with the result of Comparative Example 1, it was found that the formation of structural isomers can be suppressed by carrying out the reaction at 90 ° C. or lower.

<再結晶工程>
上記の粗生成物10gに75mLのNMPを加え、175℃に加熱して溶解させ、室温に放冷後、析出した固体を濾過で回収し、真空乾燥した。
<Recrystallization process>
75 mL of NMP was added to 10 g of the above crude product, heated to 175 ° C. to dissolve, allowed to cool to room temperature, and the precipitated solid was recovered by filtration and vacuum dried.

得られた固体をGCで分析した結果、構造異性体含有率は0.1%であった。また、熱重量分析(TG)にて、窒素雰囲気下で50℃から450℃まで昇温速度20℃/分で加熱し、450℃で20分保持した際の重量減少率は100%であり、不揮発性の不純物が含まれないことが確認できた。 As a result of analyzing the obtained solid by GC, the structural isomer content was 0.1%. Further, in thermogravimetric analysis (TG), the weight loss rate was 100% when heated from 50 ° C. to 450 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min under a nitrogen atmosphere and held at 450 ° C. for 20 minutes. It was confirmed that no non-volatile impurities were contained.

[比較例1]
<合成工程>
ここでは、反応条件を95℃で3時間反応させた以外は、実施例1と同様にして反応を行った例を示す。
[Comparative Example 1]
<Synthesis process>
Here, an example in which the reaction was carried out in the same manner as in Example 1 is shown except that the reaction was carried out at 95 ° C. for 3 hours.

本条件で得られた生成物をGCで分析した結果、構造異性体含有率は、3.6%であり、収率は85%であった。 As a result of analyzing the product obtained under these conditions by GC, the structural isomer content was 3.6% and the yield was 85%.

Claims (4)

テレフタル酸クロリドとクロロベンゼンをフリーデル−クラフツ触媒の存在下、90℃以下で反応させる下記式(A)で表される芳香族ケトン化合物(A)の製造方法。
Figure 2022001559
A method for producing an aromatic ketone compound (A) represented by the following formula (A), in which terephthalic acid chloride and chlorobenzene are reacted at 90 ° C. or lower in the presence of a Friedel-Crafts catalyst.
Figure 2022001559
請求項1の方法で芳香族ケトン化合物を得て、次いでアミド溶媒で再結晶することを特徴とする芳香族ケトン化合物(A)の製造方法。 A method for producing an aromatic ketone compound (A), which comprises obtaining an aromatic ketone compound by the method of claim 1 and then recrystallizing the aromatic ketone compound with an amide solvent. 構造異性体の含有率が1重量%未満である下記式(A)で表される芳香族ケトン化合物(A)。
Figure 2022001559
The aromatic ketone compound (A) represented by the following formula (A) having a structural isomer content of less than 1% by weight.
Figure 2022001559
熱重量分析(TG)において非酸化性雰囲気下で50℃から450℃まで昇温速度20℃/分で加熱し、450℃で20分保持した際の重量減少率が99%超である請求項3に記載の芳香族ケトン化合物(A)。 Claimed in thermogravimetric analysis (TG) that the weight loss rate is more than 99% when heated from 50 ° C. to 450 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min in a non-oxidizing atmosphere and held at 450 ° C. for 20 minutes. 3. The aromatic ketone compound (A) according to 3.
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