JP2021523425A - フォトリソグラフィプロセスの要素の欠陥の未知の影響を評価するための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
Claims (19)
- フォトリソグラフィプロセスの要素(450)の欠陥(650、660)の少なくとも1つの未知の影響(250)を決定するための方法(1000)であって、前記方法(1000)が、
a.像(600)、前記像(600)に関連付けられた設計データ(240)、および前記像(600)から生じる前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)の前記欠陥(650、660)の少なくとも1つの影響(250)の間の関係を、機械学習のモデル(200、300)に提供するステップと、
b.トレーニングの目的に使用される多数の像(830)、トレーニングの目的に使用される前記像(830)に関連付けられた設計データ(240)、および前記欠陥(650、660)の対応する影響(250)を使用して、前記機械学習のモデル(800)をトレーニングするステップと、
c.前記機械学習のトレーニング済みモデル(200、300)を測定された像(600)および前記測定された像(600)に関連付けられた前記設計データ(240)に適用することによって、前記欠陥(650、660)の前記少なくとも1つの未知の影響(250)を決定するステップとを含み、
前記像(600)が、光学的結像システム(420)によって記録された像を含み、
前記光学的結像システム(420)によって記録された前記像(600)が、空中像(600)を含み、および/または前記空中像(600)が、空中像の焦点スタックを含む、方法(1000)。 - 前記像(600)が、走査粒子顕微鏡によって記録された像、および走査プローブ顕微鏡によって記録された像の群からの少なくとも1つの要素をさらに含む、請求項1に記載の方法(1000)。
- 前記機械学習のモデル(200、300)が、パラメトリックマッピング、人工ニューラルネットワーク、深層ニューラルネットワーク、時間遅延ニューラルネットワーク、畳み込みニューラルネットワーク、回帰型ニューラルネットワーク、長短期記憶ネットワーク、および/または発生モデルの群からの少なくとも1つの要素を含む、請求項1または2に記載の方法(1000)。
- 前記機械学習のモデル(200、300)が、
a.像(600)の情報を伝達する特徴および前記像(600)に関連付けられた前記設計データ(240)を決定するための少なくとも1つのエンコーダブロックと、
b.前記決定された情報を伝達する特徴から前記欠陥(650、660)の少なくとも1つの影響(250)を生成するための少なくとも1つのデコーダブロックとを含み、前記欠陥(650、660)の前記少なくとも1つの影響(250)が、参照像(500)との前記像(600)の重ね合わせがどのように見えるかを示す、請求項3に記載の方法(1000)。 - 前記欠陥(650、660)が、前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素の1つまたは複数のパターン要素の配置誤差、前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素の1つまたは複数のパターン要素の臨界寸法誤差、および2つ以上のフォトリソグラフィマスク(450)の重ね合わせ誤差の群からの少なくとも1つの要素を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法(1000)。
- 前記機械学習のモデル(800)の前記トレーニングが、トレーニングの目的に使用される前記複数の像(600)およびトレーニングの目的に使用される前記像(600)に関連付けられた前記複数の設計データ(240)を入力データとして提供することと、トレーニングの目的に使用される前記像に対応する前記欠陥(650、660)の前記複数の影響(250)を、前記機械学習のモデル(800)の出力データに対する比較データとして提供することとを含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法(1000)。
- トレーニングの目的に使用される像(600)が、測定された像(600)および/またはシミュレートされた像を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法(1000)。
- シミュレートされた像を生成する目的で、前記フォトリソグラフィプロセスのための前記要素(450)の設計データ(240)および/または修正された設計データをシミュレートするステップをさらに含む、請求項7に記載の方法(1000)。
- シミュレートされた像を生成することが、マクスウェル方程式を数値的に解くことによって厳密なシミュレーションを実行することであって、前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)の設計データ(240)および/または修正された設計データが入力データとして使用される、実行することと、キルヒホフモデルを用いてシミュレーションを実行することであって、前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)の前記設計データ(240)および/または前記修正された設計データが入力データとして使用される、実行することと、粒子線に基づく結像シミュレーションを実行することであって、前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)の設計データ(240)および/または修正された設計データが入力データとして使用される、実行することと、走査プローブに基づく結像シミュレーションを実行することであって、前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)の設計データ(240)および/または修正された設計データが入力データとして使用される、実行することとの群からの少なくとも1つの要素を含む、請求項8に記載の方法(1000)。
- 前記機械学習のモデル(800)をトレーニングする目的での前記欠陥(650、660)の対応する影響(250)の前記提供が、像(600)に対応する前記欠陥(650、660)の前記少なくとも1つの影響(250)を生成するために、トレーニングの目的に使用される前記像(600)を参照像(500)に重ね合わせるステップをさらに含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法(1000)。
- 前記機械学習のモデル(800)をトレーニングする目的での前記欠陥(650、660)の対応する影響(250)の前記提供が、前記測定された像(600)の領域と同じパターン要素(510、520、530、540)を含む前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)の実質的に欠陥のない領域を結像すること、および/または前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)の前記測定された像(600)の前記領域に関して前記設計データ(240)をシミュレートすることによって、参照像(500)を決定するステップをさらに含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法(1000)。
- 前記像(600)を前記参照像(500)に重ね合わせることが、前記像(600)と前記参照像(500)の間の差分を形成することを含む、請求項10または11に記載の方法(1000)。
- 前記差分を形成することが、臨界寸法の誤差を決定することと、コントラストの誤差を決定することと、1つまたは複数のパターン要素(510、520、530、540)の配置誤差を決定することとの群からの少なくとも1つの要素を含む、請求項12に記載の方法(1000)。
- 前記機械学習のモデル(800)の前記トレーニングが、
a.第1の段階において、第1の数のシミュレートされた像(500)、前記シミュレートされた像(500)に関連付けられた設計データ(240)を、前記欠陥(650、660)の対応する影響(250)と共に使用して、前記機械学習のモデル(800)をトレーニングすることと、
b.第2の段階において、第2の数の測定された像(600)、前記測定された像(600)に関連付けられた設計データ(240)を、前記欠陥(650、660)の対応する影響(250)と共に使用して、前記機械学習のモデル(800)をトレーニングすることとを含み、前記第1の段階が前記第2の段階の前に実行される、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法(1000)。 - 前記第1の数のシミュレートされた像が前記第2の数の測定された像(600)よりも大きい、請求項14に記載の方法(1000)。
- ステップa.およびb.が少なくとも2回遂行される、請求項14または15に記載の方法(1000)。
- 命令を含むコンピュータプログラムであって、前記命令がコンピュータシステムによって実行されたときに、請求項1〜16の前記方法のステップを前記コンピュータシステムに実行させる、コンピュータプログラム。
- フォトリソグラフィプロセスの要素(450)の欠陥(650、660)の少なくとも1つの未知の影響(250)を決定するための装置(490)であって、前記装置(490)が、
a.像(600)、前記像(600)に関連付けられた設計データ(240)、および前記像(600)から生じる前記欠陥(650、660)の少なくとも1つの影響(250)の間の関係を、機械学習のモデル(200、300)に提供するための手段と、
b.トレーニングの目的に使用される多数の像(830)、トレーニングの目的に使用される前記像(830)に関連付けられた設計データ(240)、および前記欠陥(650、660)の対応する前記影響(250)を使用して、前記機械学習のモデル(200、300)をトレーニングするための手段と、
c.前記機械学習のトレーニング済みモデル(200、300)を測定された像(600)および前記測定された像(600)に関連付けられた前記設計データ(240)に適用することによって、前記欠陥(650、660)の前記未知の影響(250)を決定するための手段とを備え、
前記像(600)が、光学的結像システム(420)によって記録された像を含み、
前記光学的結像システム(420)によって記録された前記像(600)が、空中像(600)を含み、および/または前記空中像(600)が、空中像の焦点スタックを含む、装置(490)。 - 前記装置(490)が、前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)のための露光システムと、前記フォトリソグラフィプロセスの前記要素(450)の一部を光検知器上に結像するように具現化された拡大レンズとを備える、請求項18に記載の装置(490)。
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