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Abstract

ガス源質量分析計における電子源であって、ガス源質量分析計のガス源室と連通してそれに対して電子を提供するために熱電子放出面を提示する電子放出陰極と、電子放出陰極から電気的に絶縁されており、中の電流によって加熱されるように、及び前記電子放出面から熱電子的に電子を解放するのに十分な熱を電子放出陰極に放射するように配置された加熱要素とを備え、それを用いて、ガス源室内のガスをイオン化する際に使用するための電子の発生源を提供する電子源。【選択図】 図3From an electron emitting cathode, which is an electron source in a gas source mass analyzer and presents a thermionic emission surface to communicate with the gas source chamber of the gas source mass analyzer and provide electrons to it, and an electron emitting cathode. Heating that is electrically insulated and is arranged to be heated by the current in it and to radiate enough heat to the electron emitting cathode to thermoelectronly release electrons from the electron emitting surface. An electron source that comprises an element and uses it to provide a source of electrons for use in ionizing the gas in the gas source chamber. [Selection diagram] Fig. 3

Description

発明の詳細な説明Detailed description of the invention

[分野]
[01]本発明は、質量分析計、例えば、ガス源質量分析計などにおいて、電子を提供するための電子源に関する。
[Field]
[01] The present invention relates to an electron source for providing electrons in a mass spectrometer, such as a gas source mass spectrometer.

[背景]
[02]多くの科学機器が、後の操作に分子を用意するためにガス分子のイオン化に依存する。電子ビーム衝撃が、このプロセスに一般に使用される。電子は、陰極からの熱電子放出によって発生され、これらの電子は、ガス分子を含有する量を通じて加速され、電子とガス分子との衝突が、ある割合の分子をイオン化する。
[background]
[02] Many scientific instruments rely on the ionization of gas molecules to prepare the molecules for later manipulation. Electron beam impact is commonly used in this process. The electrons are generated by thermionic emission from the cathode, and these electrons are accelerated through the amount of gas molecules contained, and the collision between the electrons and the gas molecules ionizes a certain percentage of the molecules.

[03]従来のイオン源は、典型的には、様々な幾何配列(例えば、リボン、コイル線)で配置されたタングステンフィラメントを使用し、その場合、フィラメントは、陰極としても働き、電子がその表面から放射される。しかし、この設計は、製造するのが簡単ではあるが、その性能を制限する顕著な欠点を有する。これらの欠点は、以下を含むが、それに限定されない。 [03] Conventional ion sources typically use tungsten filaments arranged in various geometric arrangements (eg, ribbons, coiled wires), in which case the filaments also act as cathodes and the electrons are their. Emitted from the surface. However, while this design is easy to manufacture, it has significant drawbacks that limit its performance. These drawbacks include, but are not limited to:

機械的不安定性
[04]加熱フィラメントは、自立しており、形状の変化を起こしやすい。これにより、発生源の挙動に顕著な変動が生じ、それによって、データが危険にさらされ、補修作業のために発生源を開く必要がある可能性がある。
Mechanical instability
[04] The heated filament is self-supporting and is prone to change in shape. This can result in significant variations in the behavior of the source, which can jeopardize the data and require the source to be opened for repair work.

電位勾配
[05]熱電子的に発生された電子のエネルギーを狭いエネルギー帯に抑制するために陰極が均一で安定した電圧で動作することが重要である。加熱線陰極が、加熱電流により、その長さに沿って固有の電圧勾配を有する。したがって、印加電圧は、必要な強度で放射を維持するように調整しなければならないので、一定ではない。
Potential gradient
[05] It is important that the cathode operates at a uniform and stable voltage in order to suppress the energy of thermionically generated electrons to a narrow energy band. The heating wire cathode has a unique voltage gradient along its length due to the heating current. Therefore, the applied voltage is not constant as it must be adjusted to maintain radiation at the required intensity.

動作温度
[06]これらの加熱フィラメントの高い仕事関数は、調査対象のガス種(すなわち、電子を使用するイオン化によって用意される)を妨害する炭化水素揮発性物質の形成を促進する高い動作温度を求める。
Operating temperature
[06] The high work function of these heated filaments requires a high operating temperature that promotes the formation of hydrocarbon volatiles that interfere with the gas species under investigation (ie, provided by electron-based ionization).

限定された放出電流
[07]この技術を使用して達成可能な相対的に低い放出電流は、イオン化率を制限し、それによって、次いで、それを使用する計器の感度が制限される。これにより、ユーザは感度、動作温度及び計器を補修する間の時間を絶えず得失評価することが必要となる。
Limited emission current
[07] A relatively low emission current achievable using this technique limits the ionization rate, thereby limiting the sensitivity of the instrument using it. This requires the user to constantly evaluate the sensitivity, operating temperature and time between repairs of the instrument.

限定された寿命
[08]ほとんどの真空計器におけるそのような電子源の許容可能な動作を確立するために顕著な努力が必要とされる。電子源の加熱フィラメント/陰極をより高い温度で動作させることは、フィラメントの寿命を短縮し、結果としてフィラメントのサービス/交換の過度の休止時間となる。
Limited lifespan
[08] Significant efforts are required to establish acceptable operation of such electron sources in most vacuum instruments. Operating the heated filament / cathode of the electron source at a higher temperature shortens the filament life, resulting in excessive filament service / replacement downtime.

[09]本発明は、これらの欠陥のうちの1つ又は複数に対処することを目的とする。 [09] The present invention aims to address one or more of these defects.

[概要]
[10]本発明案は、電子放出陰極が陰極から電気的に絶縁されたフィラメントによって加熱される代替陰極構成である。陰極は、ガス源型質量分析計、又は分析のためにイオン化ガスを発生させるための他のガス源型計器に配置されるのが最も好ましい。一例としては、いわゆるニーア(Nier)発生源質量分析計がある。
[Overview]
[10] The present invention is an alternative cathode configuration in which the electron emitting cathode is heated by a filament electrically insulated from the cathode. Most preferably, the cathode is placed on a gas source mass spectrometer or other gas source instrument for generating ionized gas for analysis. One example is the so-called Nier source mass spectrometer.

[11]第1の態様において、本発明は、ガス源質量分析計における電子源を提供し、電子源は、ガス源質量分析計のガス源室と連通してそれに対して電子を提供するために熱電子放出面を提示する電子放出陰極と、電子放出陰極から電気的に絶縁されており、中の電流によって加熱されるように、及び前記電子放出面から熱電子的に電子を解放するのに十分な熱を電子放出陰極に放射するように配置された加熱要素とを備え、それを用いて、ガス源室内のガスをイオン化する際に使用するための電子の発生源を提供する。 [11] In a first aspect, the present invention provides an electron source in a gas source mass analyzer, for the electron source to communicate with and provide electrons to the gas source chamber of the gas source mass analyzer. The electron emitting cathode, which presents a thermionic emission surface, is electrically isolated from the electron emitting cathode so that it is heated by the current inside, and the thermionic release of electrons from the electron emitting surface. It comprises a heating element arranged to radiate sufficient heat to the electron emitting cathode, which is used to provide a source of electrons for use in ionizing the gas in the gas source chamber.

[12]このようにして、電気加熱電流を電子放出面に通過させる必要はない。代わりに、電気加熱電流は、それが、放射された熱エネルギーを吸収し、それを遠隔で加熱することができるように、加熱要素に隣り合って位置決めされる電子放出陰極に熱を電磁的に放射するために、十分な温度まで、例えば、白熱する暑さまで加熱される別個の加熱要素中を通される。直接電気的に加熱された電子放出コイル全体にわたって電圧を印加する必要性をなくすことによって、上記に説明した電位勾配に関連した問題、及び結果として生じる、放出された電子エネルギーの変動が回避される。これによって、より均質の電子エネルギーが得られ、それによって、発生源内のイオン化確率に影響する状態をより大きく制御することが可能になる(ΔEの狭小化、図8B)。 [12] In this way, it is not necessary to pass the electric heating current through the electron emission surface. Instead, the electric heating current electromagnetically transfers heat to the electron-emitting cathode, which is positioned next to the heating element, so that it can absorb the radiated heat energy and heat it remotely. In order to radiate, it is passed through a separate heating element that is heated to a sufficient temperature, for example to the incandescent heat. Eliminating the need to apply a voltage across the directly electrically heated electron emission coil avoids the problems associated with the potential gradients described above and the resulting fluctuations in emitted electron energy. .. This provides a more homogeneous electron energy, which allows greater control over the conditions that affect the ionization probability within the source (narrowing of ΔE 2 , FIG. 8B).

[13]さらに、本発明における電子源の電気加熱態様と電子放出態様との分離により、電気的に加熱するのに適切でない熱電子放出のための、よりずっと最適な材料の使用が可能になる。実際に、電子放出が、同等の動作寿命にわたって動作する既存の電気的に加熱された電子源からの電子放出率に比較して、最大5〜10倍に増加することが判明している。したがって、既存の電気的に加熱された電子源からの電子放出率を増加させることが可能であるが、多大な費用は、電気的に加熱された発生源が非常に急速に「燃え尽きる」ことである。次いで、それは質量分析計内の交換を必要とし、それによって、分光計を開ける(真空が失われる)ことが必要となり、場合により、数か月の休止時間を生じる。既存のシステムに比較して、本発明により、顕著により低い動作温度で高い電子放出率が達成可能であると判明している。温度の低減により、使用中の質量分析計の真空内の炭化水素揮発性物質の存在が低減するので、これは、顕著な実際の結果を有する。上記に論じたように、これらの炭化水素揮発性物質は、ガス源室内でイオン化することができ、結果として得られる、対象の同位体種を妨害するイオンになることができ、それを研究するために質量分析計が使用される場合がある。 [13] Furthermore, the separation of the electroheating and electron emitting modes of the electron source in the present invention allows the use of much more optimal materials for thermionic emission that are not suitable for electrical heating. .. In fact, electron emission has been found to increase up to 5-10 times compared to the rate of electron emission from existing electrically heated electron sources that operate for comparable operating lifespans. Therefore, it is possible to increase the electron emission rate from existing electrically heated electron sources, but the significant cost is that the electrically heated sources "burn out" very quickly. is there. It then requires replacement within the mass spectrometer, which requires the spectrometer to be opened (vacuum is lost), possibly resulting in months of rest. Compared to existing systems, the present invention has shown that higher electron emission rates can be achieved at significantly lower operating temperatures. This has remarkable actual results, as the reduction in temperature reduces the presence of hydrocarbon volatiles in the vacuum of the mass spectrometer in use. As discussed above, these hydrocarbon volatiles can be ionized in the gas source chamber and become the resulting ions that interfere with the isotope species of interest, which we study. Mass spectrometers may be used for this purpose.

[14]例えば、電子のガス室内への、又はその全体にわたる流動率は、500μAを超えることができ、又は750μAを超えることができることが好ましく、又は1mAを超えることができることがより好ましく、又は2mAを超えることができることがさらにより好ましい。例えば、電子流動率は、500μA〜1mAの間でもよく、又は1mA〜2mAの間でもよい。これらの電子流動率は、電子放出陰極の温度が750℃〜1000℃の間など、2000℃未満であるのが好ましく、又は1500℃未満であるのがより好ましく、又は1250℃未満であるのがさらにより好ましく、又は1000℃未満であるのがさらにより好ましいとき、達成可能である場合がある。例えば、ガス源質量分析計は、電子を電子放出陰極から受け取るように動作可能な電子トラップを備えることができ、電子は、電子放出陰極が加熱要素によって2000℃以下の温度まで加熱されることに応答して少なくとも0.5mAの電流としてガス源室を横断している。 [14] For example, the flow rate of electrons into or throughout the gas chamber can exceed 500 μA, preferably more than 750 μA, or more preferably more than 1 mA, or 2 mA. It is even more preferable to be able to exceed. For example, the electron flow rate may be between 500 μA and 1 mA, or between 1 mA and 2 mA. These electron flow rates are preferably less than 2000 ° C., such as when the temperature of the electron emitting cathode is between 750 ° C. and 1000 ° C., more preferably less than 1500 ° C., or less than 1250 ° C. It may be achievable even more preferably, or even more preferably below 1000 ° C. For example, a gas source mass analyzer can be equipped with an electron trap that can operate to receive electrons from the electron emitting cathode, which causes the electron emitting cathode to be heated to a temperature of 2000 ° C. or lower by a heating element. In response, it traverses the gas source chamber with a current of at least 0.5 mA.

[15]ガス源室は、コリメータ磁石を使用せずに電子トラップの方に向けられるガス源室内の電子ビームを形成するように成形された電子入力開口において前記電子放出陰極から電子を受け取るように配置することができる。これは、本発明により達成可能な顕著により高い電子流動率のためである。本発明の実施形態は、所望の場合、コリメータ磁石を含むことができるが、電子ビーム強度(すなわち、ビームに対して横方向の単位面積当たりの流動率)を増加させるためにコリメータ磁石を使用するコリメーションは、もう必要ないことが判明している。本発明に従って、電子流動率の向上により十分な電子ビーム強度が達成可能である。 [15] The gas source chamber is to receive electrons from the electron emitting cathode at an electron input opening shaped to form an electron beam in the gas source chamber directed towards the electron trap without the use of a collimator magnet. Can be placed. This is due to the significantly higher electron flow rate achievable by the present invention. Embodiments of the invention can include collimator magnets, if desired, but use collimator magnets to increase electron beam intensity (ie, flow rate per unit area in the lateral direction with respect to the beam). It turns out that collimation is no longer needed. According to the present invention, sufficient electron beam intensity can be achieved by improving the electron flow rate.

[16]電子源は、電子源によって出力された電子のエネルギーを制御するように配置されたエネルギー制御器を含むことができる。エネルギー制御器は、熱電子放出面とガス源室との間に配設された陽極を含むことができる。エネルギー制御器は、ガス源室に向かった方向に熱電子放出面から放出された電子を加速させるために可変電位を陽極に印加するように配置された制御装置を含むことができる。エネルギー制御器は、熱電子放出面とガス源室との間に配設された1つ又は複数の電子引き出しグリッドを含むことができる。制御装置は、放射された熱電子をグリッドに向かって引き付けるために電子引き出しグリッドに電位を印加するように配置される。グリッドは電子源からの熱電子を通すことができ、網状にされるか、又は多孔性であるか、又はそうでない場合、電子引き出しグリッドに引き付けられた熱電子が電子引き出しグリッドを熱電子放出面に面するその側面からガス源室に面するその側面に通過することが可能になるように、熱電子放出面に連通して配置された貫通孔が設けられることが好ましい。陽極は、ガス源室とガス源室に面する電子引き出しグリッドの側面との間に配置されることが好ましい。これにより、陽極が、電子引き出しグリッドを通過した熱電子をガス源室に向かって加速させることが可能になる。エネルギー制御器は、熱電子放出面とガス源室との間に及び陽極に並行して配設された1つ又は複数の電子集束電極を含むことができる。1つ又は複数の集束電極は、例えば、アインツェルレンズ、又は他のイオン光学レンズ配置を画定し、又は含むことができる。1つ又は複数の電子集束電極は、陽極とガス源室との間に配設し、熱電子放出面からガス源室内に後者への入口を介して熱電子を集束させるように配置することができる。 [16] The electron source can include an energy controller arranged to control the energy of the electrons output by the electron source. The energy controller can include an anode disposed between the thermionic emission surface and the gas source chamber. The energy controller can include a control device arranged to apply a variable potential to the anode to accelerate the electrons emitted from the thermionic emission surface in the direction towards the gas source chamber. The energy controller can include one or more electron extraction grids disposed between the thermionic emission surface and the gas source chamber. The control device is arranged to apply an electric potential to the electron withdrawal grid to attract the emitted thermions towards the grid. The grid is capable of passing thermoelectrons from the electron source and is reticulated or porous, or otherwise, the thermions attracted to the electron-drawing grid make the electron-drawing grid a thermoelectron emitting surface. It is preferable that a through hole arranged so as to communicate with the thermionic emission surface is provided so that the side surface facing the thermoelectron can pass through the side surface facing the gas source chamber. The anode is preferably located between the gas source chamber and the side surface of the electron extraction grid facing the gas source chamber. This allows the anode to accelerate thermions that have passed through the electron drawing grid towards the gas source chamber. The energy controller can include one or more electron focusing electrodes disposed between the thermionic emission surface and the gas source chamber and in parallel with the anode. One or more focusing electrodes can define or include, for example, an Einzel lens, or other ionic optical lens arrangement. One or more electron focusing electrodes may be arranged between the anode and the gas source chamber so as to focus thermions from the thermionic emission surface into the gas source chamber via the inlet to the latter. it can.

[17]加熱要素の所与の温度に対する、電子放出陰極からの電子の放出率の改善により、電気的に加熱された電子放出サービス/材料を採用した既存の電子放出システムに比較して十分な電子放出率をより低い電力入力レベルにおいて達成することができることが判明している。例えば、電子放出陰極は、加熱要素への電力入力が5Wを超えないとき、2000℃以下の温度まで加熱要素によって加熱されるように動作可能である場合がある。電力入力は、4Wを超えないことが好ましく、又は3Wを超えないことがより好ましく、2Wを超えないことがさらにより好ましく、又は1Wを超えないことがさらにもっとより好ましい。加熱要素への電力入力は、約0.5W〜約1Wの間であってもよい。これらのより低い電源入力定格により、電子源が、より低い陰極劣化率により、より長く持続することが可能になり、より低い温度における動作が可能になり、付随する利点のすべてがそれから出てくる。より低い陰極劣化率は、電子源の一貫性を改善する電子出力の均一性の改善をもたらす。例えば、電気的に加熱された既存の電子放出陰極の相対的に高い劣化率は、結果として一貫性のない陰極性能及び機械的不安定性となる。何故なら、陰極が、使用中に材料を物理的に失い(「燃え尽き」)、それにより、特に加熱されることに応答して、しばしばそれに形状を次第に変更させ、それは電子出力性能を変化させる効果を有するからである。これらの問題は、本発明に従って顕著に低減される。 [17] The improved emission rate of electrons from the electron emission cathode for a given temperature of the heating element is sufficient compared to existing electron emission systems that employ electrically heated electron emission services / materials. It has been found that electron emission rates can be achieved at lower power input levels. For example, the electron emitting cathode may be operable to be heated by the heating element to a temperature of 2000 ° C. or lower when the power input to the heating element does not exceed 5 W. The power input preferably does not exceed 4W, more preferably does not exceed 3W, even more preferably does not exceed 2W, or even more preferably does not exceed 1W. The power input to the heating element may be between about 0.5W and about 1W. These lower power input ratings allow the electron source to last longer with a lower cathode degradation rate, allow operation at lower temperatures, and all of the associated benefits emerge from it. .. A lower cathode degradation rate results in improved electron output uniformity, which improves electron source consistency. For example, the relatively high degradation rates of existing electrically heated electron emitting cathodes result in inconsistent cathode performance and mechanical instability. Because the cathode physically loses material during use (“burns out”), thereby often gradually changing its shape, especially in response to heating, which has the effect of altering electron output performance. Because it has. These problems are significantly reduced according to the present invention.

[18]電子放出陰極は、酸化物陰極、I陰極又はBa含浸陰極から選択することができる。電子放出陰極は、電子放出面を提示する熱電子放出材料のコーティングを担持する基部を備えることができる。電子放出陰極がコーティングを担持する基部を備えるとき、コーティングは、アルカリ性土壌酸化物、オスミウム(Os)、ルテニウム(Ru)から選択された材料を含むことができる。所与の温度における電子放出面の仕事関数は、コーティングの存在によって低減することができる。例えば、コーティング材料は、1000℃以下の温度において1.9eV未満の仕事関数を提供することができる。コーティングが何も使用されないとき、電子放出面の仕事関数は、1000℃以下の温度において1.9eV超でもよい。多くの他の種類の可能な放出材料(例えば、タングステン、W、酸化イットリウム、例えば、Y、タンタル、Ta、ランタン/ホウ素化合物、例えば、LaB)が利用可能である。 [18] The electron emitting cathode can be selected from an oxide cathode, an I cathode or a Ba impregnated cathode. The electron emitting cathode can include a base carrying a coating of thermionic emitting material that presents an electron emitting surface. When the electron emitting cathode comprises a base carrying the coating, the coating can include a material selected from alkaline soil oxides, osmium (Os), ruthenium (Ru). The work function of the electron emission surface at a given temperature can be reduced by the presence of the coating. For example, the coating material can provide a work function of less than 1.9 eV at temperatures below 1000 ° C. When no coating is used, the work function of the electron emitting surface may be greater than 1.9 eV at temperatures below 1000 ° C. Many other types of possible release material (e.g., tungsten, W, yttrium oxide, for example, Y 2 O 3, tantalum, Ta, lanthanum / boron compound, e.g., LaB 6) is available.

[19]基部はタングステン又はニッケルを備えることができる。基部はコーティングを加熱要素から分離する金属材料でもよい。 [19] The base can comprise tungsten or nickel. The base may be a metallic material that separates the coating from the heating element.

[20]酸化物陰極は生成するのが一般により安価である。それらは、例えばニッケル陰極基部上に炭酸(Ba、Sr、Ca)粒子又は炭酸(Ba、Sr)粒子を備えた吹付け塗装を備えることができる。これは、結果として、約75%の気孔率を有する相対的に多孔質の構造となる。吹付け塗装は、希土類酸化物、例えば、ユーロピア又はイットリアなどのドーパント含むことができる。これらの酸化物陰極は、良好な性能を提供する。しかし、大気にさらされること(例えば、質量分析計が開かれたとき)により堅牢である可能性がある他の種類の陰極を採用することができる。 [20] Oxide cathodes are generally cheaper to produce. They can be equipped with, for example, a spray coating with carbonic acid (Ba, Sr, Ca) particles or carbonic acid (Ba, Sr) particles on a nickel cathode base. This results in a relatively porous structure with a porosity of about 75%. The spray coating can include rare earth oxides, such as dopants such as Europia or yttria. These oxide cathodes provide good performance. However, other types of cathodes that may be robust due to exposure to the atmosphere (eg, when the mass spectrometer is opened) can be employed.

[21]いわゆる「I陰極」又は「Ba含浸」は、例えば、約20%の気孔率を有し、バリウム化合物を用いて含浸された多孔質タングステンからなる陰極基部を備えることができる。基部は、酸化バリウム(BaO)を備えた化合物で含浸されたタングステンを備えることができる。例えば、タングステンは、4BaO.CaO.Al、又は他の適切な材料で含浸してもよい。 [21] The so-called "I cathode" or "Ba impregnation" can include, for example, a cathode base made of porous tungsten impregnated with a barium compound, having a porosity of about 20%. The base can comprise tungsten impregnated with a compound containing barium oxide (BaO). For example, tungsten is 4BaO. CaO. It may be impregnated with Al 2 O 3 or other suitable material.

[22]電子源は、加熱要素を囲むスリーブを備えることができ、電子放出面が、スリーブの端部に存在する。 [22] The electron source can include a sleeve that surrounds the heating element, with an electron emitting surface at the end of the sleeve.

[23]加熱要素は、金属酸化物材料を備えたコーティングでコートされた金属フィラメントを備えることができる。 [23] The heating element can comprise a metal filament coated with a coating with a metal oxide material.

[24]他の態様において、本発明は、上記に説明した電子源を備える質量分析計のためにイオン源を提供することができる。イオン源は、ガス源(イオンの)でもよく、例えば、ニーア型ガス源、例えば、ニーア型希ガスイオン源でもよい。 [24] In another aspect, the invention can provide an ion source for a mass spectrometer equipped with the electron source described above. The ion source may be a gas source (of ions), for example, a Nier type gas source, for example, a Nier type rare gas ion source.

[25]さらに他の態様において、本発明は、上記に説明したように、ガス源(イオンの)を備える質量分析計を提供することができる。質量分析計のガス源は、ガス源でもよく、例えば、ニーア型ガスイオン源、例えば、ニーア型希ガスイオン源でもよい。 [25] In yet another aspect, the invention can provide a mass spectrometer with a gas source (of ions), as described above. The gas source of the mass spectrometer may be a gas source, for example, a Nier type gas ion source, for example, a Nier type rare gas ion source.

[26]別の態様において、本発明は、上記に説明したように、電子源を備えるガス源質量分析計を提供することができ、その場合、ガス源は、電子源からガス源室内に電子を受け取るための電子入力ポートと、電子源から電子を電子入力ポートに向かって付勢する/向ける(例えば、電子入力ポートに向かってコリメートし、又は収束させる)ために電子源と電子入力ポートとの間に配置された電子光学部分とを備えるガス源室を有する。電子光学部分は、静電レンズ(例えば、1つの又は2つ以上のアインツェルレンズを備える)などの電子光学レンズでもよい。電子光学部分は、ガス源室から離れて配設され、それから少なくとも1cm、又は少なくとも1.5cm、又は少なくとも2cm、又は少なくとも2.5cmの距離だけ間隔を空けることができる。電子光学部分の光軸線は、電子源の電子放出面の中心と同軸で(又は少なくともそれに合わせて)もよい。電子放出面は実質的に平坦でもよい。電子光学部分の光軸線は、電子入力ポートの中心と同軸でも(又は少なくともそれに合わせて)もよい。電子光学部分は、貫通開口又は穴を備え、それを通じて電子を電子源から透過させることができる。貫通開口又は穴の直径又は幅寸法は、電子放出面の直径又は幅寸法と実質的に同じか、又はそれよりも大きくてもよい。このようにして、電子を電子光学部分の穴に放出するため、実質的に電子放出面の全体を提示し、明らかにすることができる。 [26] In another aspect, the invention can provide a gas source mass spectrometer with an electron source, as described above, in which case the gas source is an electron from the electron source into the gas source chamber. An electronic input port for receiving, and an electron source and an electronic input port for entraining / directing electrons from the electronic source toward the electronic input port (for example, collimating or converging toward the electronic input port). It has a gas source chamber with an electro-optical part arranged between the two. The electro-optical portion may be an electro-optical lens such as an electrostatic lens (eg, including one or more Einzel lenses). The electron optics portions are disposed away from the gas source chamber and can be spaced from it by a distance of at least 1 cm, or at least 1.5 cm, or at least 2 cm, or at least 2.5 cm. The optical axis of the electron optics portion may be coaxial (or at least aligned with) the center of the electron emission surface of the electron source. The electron emission surface may be substantially flat. The optical axis of the electro-optical portion may be coaxial (or at least aligned with) the center of the electronic input port. The electro-optical portion is provided with a through opening or hole through which electrons can be transmitted from the electron source. The diameter or width dimension of the through opening or hole may be substantially the same as or larger than the diameter or width dimension of the electron emitting surface. In this way, since the electrons are emitted into the holes of the electron optics portion, it is possible to present and clarify substantially the entire electron emitting surface.

[27]電子光学部分は、1つ又は複数の電圧を受け取るように配置された1つ又は複数の電極(例えば、レンズリング)を備えて、それを用いて電子源から放出された電子を電子入力ポートに向かって付勢し/向ける(例えば、コリメートし又は収束させる)ように構成された電界を発生させることができる。電子光学部分は、ガス源室内に配置された最小ビーム幅の領域に向かって収束する電子のビームを形成するために電子源から電子を付勢し/向けるように配置することができる。ガス源質量分析計は、調整可能に前記1つ又は複数の電圧(例えば、調整可能電圧値)を印加するように配置された制御装置を備えて、それを用いてガス源室内の最小ビーム幅の領域の位置を調整することができる。 [27] The electron optics portion comprises one or more electrodes (eg, lens rings) arranged to receive one or more voltages, which are used to electron the electrons emitted from the electron source. An electric field configured to urge / direct (eg, collimate or converge) towards an input port can be generated. The electron optics portion can be arranged to urge / direct electrons from the electron source to form a beam of electrons converging towards a region of minimum beamwidth arranged in the gas source chamber. The gas source mass spectrometer includes a control device arranged to apply the one or more voltages (eg, an adjustable voltage value) in an adjustable manner, and uses the control device to apply the minimum beam width in the gas source chamber. The position of the area can be adjusted.

[28]ガス源質量分析計は、磁界(例えば、電子コリメーティング磁石)をガス源室全体にわたって印加するように配置された磁石を何も有さないことが好ましい。したがって、電子源からの電子の磁気コリメーションは欠如してもよい。電子コリメーションは、任意選択でそれが所望される場合、電子光学部分を使用して達成することができる。 [28] The gas source mass spectrometer preferably has no magnets arranged to apply a magnetic field (eg, an electronic collimating magnet) over the entire gas source chamber. Therefore, the magnetic collimation of electrons from the electron source may be absent. Electron optics can be achieved using an electro-optical part if it is optionally desired.

[29]最初はアルフレッドニーア(Alfred Nier)によって設計されたニーア型質量分析計は、よく知られた質量分析計のクラスであり、対象の試料のイオンを形成するイオン源と、それらのイオンの直接ビームを形成するための電気イオン加速器/光学機器と、イオンビーム中のイオンをそれらの質量対電荷比(m/z)に従って複数のイオンビームに分離するための磁気セクター機器と、各イオンビーム中の電流を測定するためのイオン捕集器とを備える。ニーア型質量分析計は、ニーア型ガスイオン源として知られるようになったものにおいて対象の気体試料(例えば、希ガス)をイオン化し、イオンをイオン源から数kVの電位差を通じて加速させることによって動作する。加速されたガスイオンは、力線をイオン軌道に対して垂直に向けて、それらを、扇形磁界領域中を通過させることによって移動中に分離される。結果として得られるイオンのビームは、イオンの質量対電荷比(m/z)による磁界によって分離される。より軽いイオンを有するビームは、より重いイオンを有するビームよりも扇形磁界領域内でより小さい半径で曲がる。次いで、各イオンビームの電流が、「ファラデーカップ」又は増倍管検出器を使用して測定される。本発明は、特定の適用例をニーア型ガスイオン源及びニーア型ガスイオン質量分析計に有するが、それに限定はされない。 [29] The Nier-type mass spectrometer, initially designed by Alfred Nier, is a class of well-known mass spectrometers that form the ions of the sample of interest and the sources of those ions. An electric ion accelerator / optical device for forming a direct beam, a magnetic sector device for separating ions in the ion beam into a plurality of ion beams according to their mass-to-charge ratio (m / z), and each ion beam. It is equipped with an ion collector for measuring the current inside. A Nia-type mass spectrometer operates by ionizing a target gas sample (for example, a rare gas) in what has become known as a Nia-type gas ion source and accelerating the ions from the ion source through a potential difference of several kV. To do. Accelerated gas ions are separated in motion by directing the field lines perpendicular to the ion orbit and passing them through the sector magnetic field region. The resulting beam of ions is separated by a magnetic field due to the mass-to-charge ratio (m / z) of the ions. Beams with lighter ions bend with a smaller radius in the sector magnetic field region than beams with heavier ions. The current of each ion beam is then measured using a "Faraday cup" or a photomultiplier tube detector. The present invention has, but is not limited to, specific applications for Nier-type gas ion sources and Nier-type gas ion mass spectrometers.

[30]一般的なニーア型ガスイオン源の構造及び性能の研究の例は、「Mapping changes in helium sensitivity and peak shape for varying parameters of Nier−type noble gas ion source」、Jennifer Mabry,et al.著、J.Anal.At.Spectrom.、2012、27、1012(DOI:10.1039/c2ja10339g)に見いだすことができる。これは、ニーア型ガス源設計内の電子の発生源として直熱(オーム的に)フィラメントを使用することの既存の先入観を例示している。この先入観の他の例は、「Applications of Inorganic Mass Spectrometry」、John R.de Laeter著、Chapter1.3.2、Fig1.8、p.22に見いだされ、それにおいて、回路図が、そのような直熱フィラメントだけを示す。さらに、「Geochronology and Thermochronology by the 40Ar/39Ar Method」、Ian McDougall & T.Mark Harrison著は、Chapter3.17.3において、「Ion Sources」p.78が「…熱フィラメントからの熱電子放出によって生成された電子が、最も一般的にタングステン製….」と説明している。書籍「Potassium−Argon dating:Principles, Techniques and Applications to Geochronology」G.Brent Dalrymple & Marvin A.Lanphere著は、chapter 5において、「Argon measurement,Mass spectrometers,Ion source」という見出しで、70ページに、「…電子衝撃イオン源において、電子がフィラメントによって生成され、フィラメントは一般にタングステンリボン又はワイヤであり…」と述べている。 [30] Examples of studies on the structure and performance of common Nia-type gas ion sources include "Mapping changes in helium sensitivity and peak shape for variing parameters of Nier-type noble gas". Written by J. Anal. At. Spectron. , 2012, 27, 1012 (DOI: 10.1039 / c2ja10339g). This illustrates the existing prejudice of using direct heat (ohm-like) filaments as a source of electrons in the Nier gas source design. Another example of this prejudice is "Applications of Organic Mass Spectrometery", John R. et al. De Laeter, Chapter 1.3.2, Fig 1.8, p. Found in 22, in which the schematic shows only such direct heat filaments. In addition, "Geochronology and Thermochronology by the 40Ar / 39Ar Method", Ian McDougall & T.I. By Mark Harrison, in Chapter 3.17.3, "Ion Sources" p. 78 explains that "... the electrons generated by thermionic emission from the thermal filament are most commonly made of tungsten ...". Book "Potasium-Argon dating: Principles, Technologies and Applications to Geochronology" G.M. Brent Dalrymple & Marvin A. Lanphere, in chapter 5, under the heading "Argon meter, Mass spectrometers, Ion source," on page 70, "... in an electron shock ion source, electrons are generated by filaments, and the filaments are generally tungsten ribbons or wires. …"It has said.

[31]本発明は、当技術分野におけるこの支配的な先入観に反対に作用するものである。 [31] The present invention opposes this predominant prejudice in the art.

[32]本発明を深く理解するために、及びその実施形態がどのように実行に移すことができるのかを示すために、次に、一例としてのみ、添付の線図を参照する。 [32] To gain a deeper understanding of the present invention and to show how its embodiments can be put into practice, then, by way of example only, reference is made to the accompanying diagram.

先行技術のタングステンフィラメントコイル電子放出体を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematicly the tungsten filament coil electron emitter of the prior art. 図1Aの電子放出体を採用したガス源質量分析計のイオン源を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematic the ion source of the gas source mass spectrometer which adopted the electron emitter of FIG. 1A. 本発明の好ましい実施形態の電子源を概略的に示す図である。It is a figure which shows typically the electron source of the preferable embodiment of this invention. 図2の電子源を採用したガス源質量分析計のイオン源を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematic the ion source of the gas source mass spectrometer which adopted the electron source of FIG. 既存の電気的に加熱されるフィラメント技術(図1B参照)によって発生されたトラップ電流(「イオン化」電流)をフィラメント温度の関数として示す作図である。温度範囲全体にわたって安定した放出の領域が何もないことに留意されたい。It is a plot showing the trap current (“ionization” current) generated by the existing electrically heated filament technology (see FIG. 1B) as a function of filament temperature. Note that there is no stable emission region over the entire temperature range. 本発明の実施形態(図3参照)による、放射で加熱されたフィラメントによって発生されたトラップ電流(「イオン化」電流)を加熱フィラメント温度の関数として示す作図である。同じ放出レベルが図4のフィラメントとして達成されているが、よりずっと低い温度においてであり、その800mAの動作電流において安定した放出の領域がさらにあることに留意されたい。It is a drawing according to the embodiment of the present invention (see FIG. 3) that shows the trap current (“ionization” current) generated by the radiantly heated filament as a function of the heated filament temperature. It should be noted that the same emission level is achieved for the filament of FIG. 4, but at a much lower temperature and there is an additional region of stable emission at its 800 mA operating current. 動作の非常に異なる動作特性及び温度を明確にするために同じ尺度で図4及び図5を一緒に示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing FIGS. 4 and 5 together on the same scale to clarify very different operating characteristics and temperatures of operation. 図2の電子源を採用したガス源質量分析計のイオン源を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematic the ion source of the gas source mass spectrometer which adopted the electron source of FIG. 図1Aに示す種類の加熱されたコイル電子源からの熱電子エネルギーの分布を概略的に示すグラフである。FIG. 5 is a graph schematically showing the distribution of thermionic energy from the types of heated coil electron sources shown in FIG. 1A. 図2の加熱されたコイル電子源からの熱電子エネルギーの分布を概略的に示すグラフである。It is a graph which shows roughly the distribution of thermionic energy from the heated coil electron source of FIG. 熱電子エネルギーの関数として作図された、ガス源質量分析計によって発生された標的/試料ガスのイオンの数(熱電子当たり、電子移行のcm当たり、ガス圧力のmmHg当たり)の分布を概略的に示すグラフである。Schematically distributes the number of target / sample gas ions (per thermoelectrons, per cm of electron transfer, per mmHg of gas pressure) generated by a gas source mass spectrometer, plotted as a function of thermionic energy. It is a graph which shows. アルゴンガス試料に適用された、本明細書に説明する実施形態において例示される本発明を使用して得たデータを示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing data obtained using the present invention exemplified in the embodiments described herein, applied to an argon gas sample. アルゴンガス試料に適用された、本明細書に説明する実施形態において例示される本発明を使用して得たデータを示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing data obtained using the present invention exemplified in the embodiments described herein, applied to an argon gas sample. ニーア型発生源の数値シミュレーションの結果の正面図であり、ニーア型発生源内に採用された電子源は、電子コリメーション磁石(図示せず)あり及びなしの両方の、電子源として直熱フィラメントコイルを採用した従来のニーア型発生源設計である。It is a front view of the result of the numerical simulation of the Nier type source, and the electron source adopted in the Nier type source is a direct heat filament coil as an electron source with and without an electron collimation magnet (not shown). It is the conventional Nier type source design adopted. ニーア型発生源の数値シミュレーションの結果の側面図であり、ニーア型発生源内に採用された電子源は、電子コリメーション磁石(図示せず)あり及びなしの両方の、電子源として直熱フィラメントコイルを採用した従来のニーア型発生源設計である。It is a side view of the result of the numerical simulation of the Nier type source, and the electron source adopted in the Nier type source is a direct heat filament coil as an electron source with and without an electron collimation magnet (not shown). It is the conventional Nier type source design adopted. ニーア型発生源の数値シミュレーションの結果の正面図であり、ニーア型発生源内に採用された電子源は、本発明に従っており、電子コリメーション磁石(図示せず)あり及びなしの両方の、直熱コイルフィラメントではない。It is a front view of the result of the numerical simulation of the Nier type source, and the electron source adopted in the Nier type source conforms to the present invention, and is a direct heating coil with and without an electron collimation magnet (not shown). Not a filament. ニーア型発生源の数値シミュレーションの結果の側面図であり、ニーア型発生源内に採用された電子源は、本発明に従っており、電子コリメーション磁石(図示せず)あり及びなしの両方の、直熱コイルフィラメントではない。It is a side view of the result of the numerical simulation of the Nier type source, and the electron source adopted in the Nier type source conforms to the present invention, and is a direct heating coil with and without an electron collimation magnet (not shown). Not a filament. ニーア型発生源設計の数値シミュレーションの結果の正面図であり、ニーア型発生源内に採用された電子源は、本発明に従っており、電子コリメーション磁石(図示せず)の同時使用あり及びなしの両方の、アインツェルレンズ電子集束配置を採用している。It is a front view of the result of the numerical simulation of the Nier type source design, and the electron source adopted in the Nier type source is in accordance with the present invention, both with and without the simultaneous use of the electron collimation magnet (not shown). , Einzel lens electron focusing arrangement is adopted. ニーア型発生源設計の数値シミュレーションの結果の側面図であり、ニーア型発生源内に採用された電子源は、本発明に従っており、電子コリメーション磁石(図示せず)の同時使用あり及びなしの両方の、アインツェルレンズ電子集束配置を採用している。It is a side view of the result of the numerical simulation of the Nier type source design, and the electron source adopted in the Nier type source is in accordance with the present invention, both with and without the simultaneous use of the electron collimation magnet (not shown). , Einzel lens electron focusing arrangement is adopted.

[実施形態の説明]
[48]図1Aは、ガス源質量分析計用の、先行技術による電子源を概略的に示す。電子源は、第1の電位を有する電流入力端子4に電気的に接続された、対向するそれぞれの線端を有するタングステンワイヤフィラメントコイル1と、第1の電位と異なる第2の電位を有する電流出力端子5とを備え、以てフィラメントコイル1を通じて電流を流れさせる。タングステンフィラメントコイルを、フィラメントコイルの表面をその表面から電子を熱電子的に放出させるのに十分な温度まで加熱させる(例えば、発光して)のに十分な電流が流れる。すなわち、フィラメントコイル中を通過する電流の電熱効果によって獲得された熱エネルギーは、電子をフィラメントコイル中に注ぎ込んで、フィラメントコイルの表面仕事関数を超えるエネルギーを獲得するのに十分である。
[Explanation of Embodiment]
[48] FIG. 1A schematically shows a prior art electron source for a gas source mass spectrometer. The electron source is a tungsten wire filament coil 1 having each opposite wire end electrically connected to a current input terminal 4 having a first potential, and a current having a second potential different from the first potential. It includes an output terminal 5 and allows current to flow through the filament coil 1. Sufficient current flows through the tungsten filament coil to heat the surface of the filament coil to a temperature sufficient to thermoelectronly emit electrons from the surface (eg, emit light). That is, the thermal energy obtained by the electric thermal effect of the current passing through the filament coil is sufficient to pour electrons into the filament coil and obtain energy that exceeds the surface work function of the filament coil.

[49]電子は一般にフィラメントコイル1から全方向に放出されるが、好ましい方向に放出された電子(3)は、ガス源質量分析計のガス源室内への入力のために選択され、ガス源室に対して、フィラメントコイル1が、隣り合ってフィラメントコイル1が位置している室の側壁に形成された電子入力スリット2を介して連通している。 [49] Electrons are generally emitted from the filament coil 1 in all directions, but the electrons (3) emitted in the preferred direction are selected for input into the gas source chamber of the gas source mass spectrometer and are the gas source. The filament coil 1 communicates with the chamber via an electron input slit 2 formed on the side wall of the chamber in which the filament coil 1 is located adjacent to the chamber.

[50]図1Bは、フィラメントコイル1を採用したガス源質量分析計のガス源室の構造を示す。ガス源質量分析計は、壁内にガス源ブロック7を含み、壁の電子入力スリット2が、フィラメントコイル1に隣り合って形成される(ガス源ブロックの外部である)。フィラメントコイル1によって放出された電子は、熱電子を所望のエネルギーまで加速させるのに使用される電位差(発生源に対して負の)だけガス源ブロック7の方に引き付けられる。電子電位は、フィラメントとガス源ブロックとの電位差(ボルトで表す)である。その役割は、2重であり、電位場の方向により、電子がガス源ブロックに向かって加速するが、電位の大きさは、イオン化事象を生じるのに十分なエネルギーを提供する。 [50] FIG. 1B shows the structure of the gas source chamber of the gas source mass spectrometer using the filament coil 1. The gas source mass spectrometer includes a gas source block 7 in the wall, and an electron input slit 2 in the wall is formed adjacent to the filament coil 1 (outside the gas source block). The electrons emitted by the filament coil 1 are attracted towards the gas source block 7 by the potential difference (negative with respect to the source) used to accelerate thermions to the desired energy. The electron potential is the potential difference (expressed in volts) between the filament and the gas source block. Its role is dual, with the direction of the potential field accelerating the electrons towards the gas source block, but the magnitude of the potential provides enough energy to cause an ionization event.

[51]電子は、スリットを通過してガス源ブロックの室内に、中に圧入された発生源ガスのイオン化用電子ビームとして入る(ガス圧入手段、図示せず)。電子ビーム6からの電子は、ガス源ブロックの壁に形成され、電子入力開口に対向する電子出力開口15を通過した後、対向する側に収集される。電子は、発生源ブロックに対して正の電圧で維持される電子トラップユニット9によってそのように収集される。この電子ビームは、イオン出口スリット10のすぐ後ろに位置するビーム軸線に沿ってガス源ブロックの室を横断し、したがって、中性発生源ガス分子に対する電子の衝突によって形成されるイオンは、Y集束板11によって作り出された貫通する「引き出し」電界によって室から効率的に引き出すことができる。引き出されたイオンビームは、質量分析計内の以降の操作/使用のためにイオンビーム13をコリメートするように平板に形成された出力スリット12に向けられる。 [51] The electrons pass through the slit and enter the room of the gas source block as an ionizing electron beam of the source gas injected into the gas source block (gas injection means, not shown). The electrons from the electron beam 6 are formed on the wall of the gas source block, pass through the electron output opening 15 facing the electron input opening, and then are collected on the opposite side. The electrons are so collected by the electron trap unit 9 which is maintained at a positive voltage with respect to the source block. This electron beam traverses the chamber of the gas source block along the beam axis located just behind the ion exit slit 10, so that the ions formed by the collision of electrons with the neutral source gas molecule are Y focused. The penetrating "pull-out" electric field created by the plate 11 can be efficiently pulled out of the chamber. The extracted ion beam is directed to an output slit 12 formed on a flat plate so as to collimate the ion beam 13 for further operation / use in the mass spectrometer.

[52]イオン引き出し電界は、発生源ブロック室の内側のイオン反発電極板8の存在によって変更される。イオン反発電極板は、相対的に低い電界勾配の領域内の電子ビーム6の熱電子からの衝撃によってガスイオンが形成されることを確実にするために、通常負電位で動作される。イオン化電子ビーム6は、必要とする電子ビーム軸線に平行の200ガウス超の磁界を生成する2つのコリメーティング磁石14の存在によるフィラメントコイル1と電子トラップユニット9との間のその通過が制約される。この磁界は、ガスの原子/分子との衝突の確率及びそのイオン化を増加させる電子の経路長を増加させる働きもする。イオン化領域から引き出されたイオンは、Y集束板11の間を通り、画定スリット12の領域に集束するように運ばれる。形成された像は、通常スリット12の幅よりも小さい。これにより、発生源磁石からの磁界の存在による発生源における質量弁別が低減される。 [52] The ion extraction electric field is modified by the presence of the ion repulsion electrode plate 8 inside the source block chamber. The ion repulsion electrode plate is usually operated at a negative potential to ensure that gas ions are formed by the impact from thermions of the electron beam 6 in a region of relatively low electric field gradient. The ionized electron beam 6 is restricted in its passage between the filament coil 1 and the electron trap unit 9 due to the presence of two collimating magnets 14 that generate a magnetic field of more than 200 gauss parallel to the required electron beam axis. To. This magnetic field also serves to increase the probability of collision of the gas with atoms / molecules and the path length of the electrons that increase their ionization. The ions drawn from the ionization region pass between the Y focusing plates 11 and are carried so as to be focused in the region of the demarcation slit 12. The formed image is usually smaller than the width of the slit 12. This reduces mass discrimination at the source due to the presence of a magnetic field from the source magnet.

[53]ニーア型ガスイオン源は、一般にガス質量分析計におけるイオン化源に使用される。ニーア型ガス源は、図1B、3及び7に示すように、それらに電子を衝突させることによって中性ガス原子又は分子をイオン化するように配置される。特に、電子流が生成され、ガス原子又は分子の分析物試料に流れ込むように向けられ、以てそれらをイオン化する。加熱フィラメントは、電子をフィラメントからイオン化室に向かって加速させるように、イオン化室に対して負の電圧(典型的には−50〜−100V)に維持される。発生源電子のエネルギーは、分析物材料の中性ガス原子/分子から電子を取り外すのに十分に高い。このようにして生成されたイオンは、「半平面」11及び「ゼロ平面」12として知られている2つの組の平板によって、イオン化電子ビームの経路に垂直の方向にプッシュ/プルされる。半平面は、ガス源ブロック7の典型的には約85%である電圧に維持される。 [53] Nier-type gas ion sources are commonly used as ionization sources in gas mass spectrometers. Nier-type gas sources are arranged to ionize neutral gas atoms or molecules by causing them to collide with electrons, as shown in FIGS. 1B, 3 and 7. In particular, electron streams are generated and directed into the analytical sample of gas atoms or molecules, thereby ionizing them. The heated filament is maintained at a negative voltage (typically -50 to -100 V) with respect to the ionization chamber so as to accelerate the electrons from the filament towards the ionization chamber. The energy of the source electron is high enough to remove the electron from the neutral gas atom / molecule of the analytical material. The ions thus generated are pushed / pulled in a direction perpendicular to the path of the ionized electron beam by two sets of plates known as "half-plane" 11 and "zero-plane" 12. The hemiplane is maintained at a voltage that is typically about 85% of the gas source block 7.

[54]図1Bの装置がイオン源を形成する質量分析計の残りの部分は、本明細書には図示せず又は論じないが、しかし、電気的に加熱される電子源フィラメントを採用した、そのようなガス源質量分析計の詳細な例は、米国特許第2,490,278号(A.O.C.Nier)に、さらに以下の論文に、それにおける図2を参照して説明される。 [54] The rest of the mass spectrometer in which the apparatus of FIG. 1B forms an ion source is not shown or discussed herein, but employs an electrically heated electron source filament. A detailed example of such a gas source mass spectrometer is described in US Pat. No. 2,490,278 (AOC Nier) and further in the following paper with reference to FIG. To.

[55]「A Mass Spectrometer for Isotope and Gas Analysis」、Alfred O.Nier.The Review of Scientific Instruments、Volume 16、Number 6,page 398、June 1947。 [55] "A Mass Spectrometer for Isotope and Gas Analysis", Alfred O. et al. Nier. The Review of Scientific Instruments, Volume 16, NUMBER 6, page 398, June 1947.

[56]測定されるイオンビーム信号の精度の増加をもたらす、より多くのイオン化電子を作り出すことによって質量分析計の感度を増加させることが望ましい。質量分析計は、イオンビーム電流を正確に測定するのに使用することができる。精度の限界は、システムの雑音レベルに対してイオンビーム電流の大きさによって制御される。より大きいイオンビーム電流が、より高い信号/雑音比、したがって、より多くの正確なデータを発生させる。より大きいイオンビームは、より多くの試料を首尾よくイオン化することによって達成され、したがって、より多くの電子の存在がこのイオン化の増加を助長する。タングステンフィラメント1は、熱電子放出によって電子を放出する。より高い温度は、より高い電子収量を意味するが、これはフィラメントの寿命を大幅に低減し、発生源領域の局部温度を増加させる。これにより、揮発性炭化水素の妨害がより広くいきわたることになることがある。 [56] It is desirable to increase the sensitivity of the mass spectrometer by producing more ionized electrons, which results in increased accuracy of the ion beam signal being measured. Mass spectrometers can be used to accurately measure ion beam currents. The limit of accuracy is controlled by the magnitude of the ion beam current with respect to the noise level of the system. Larger ion beam currents produce higher signal-to-noise ratios and therefore more accurate data. A larger ion beam is achieved by successfully ionizing more samples, and therefore the presence of more electrons contributes to this increased ionization. The tungsten filament 1 emits electrons by thermionic emission. Higher temperatures mean higher electron yields, which significantly reduces filament lifetime and increases local temperature in the source region. This can lead to more widespread interference with volatile hydrocarbons.

[57]質量分析計の標準動作状態は、安定した熱電子ビーム電流を電子トラップユニット9によって測定することを求める。電子トラップ電流の大きさ及び固有安定性により、イオンビームの大きさ及び安定性が決まる。タングステンフィラメントは、電流をワイヤに通すことによって動作され、200μAの典型的な動作電子トラップ電流を達成するのに必要な電流は、2.5Vで駆動されておおよそ2.4A(全出力約6W)である。タングステンフィラメントは、必要な放出を得るのにおおよそ2000℃で動作するのが典型的である。 [57] The standard operating condition of a mass spectrometer requires that a stable thermionic beam current be measured by the electron trap unit 9. The magnitude and intrinsic stability of the electron trap current determine the magnitude and stability of the ion beam. The tungsten filament is operated by passing an electric current through a wire, and the current required to achieve a typical operating electron trap current of 200 μA is driven at 2.5 V and is approximately 2.4 A (total output approximately 6 W). Is. Tungsten filaments typically operate at approximately 2000 ° C. to obtain the required release.

[58]本発明の実施形態による質量分析計を図3に示す。それはタングステンコイルフィラメントが図2に概略的に示す陰極フィラメント20(部分的断面図)に置き換えられるという点において図1Bの配置と異なる。図3に示す配置は、図1Bのコリメーティング磁石14を含まないことに留意されたい。これは、本発明に従って達成可能な顕著により高い電子流動率のためである。電子ビーム強度(すなわち、ビームに対して横方向の単位面積当たりの流動率)を増加させるためにコリメータ磁石を使用するコリメーションは、もう必要ないことが判明しているが、本発明の実施形態は、所望の場合、コリメータ磁石を含むことができる。本発明に従って、電子流動率の向上により、十分な電子ビーム強度が達成可能である。 [58] A mass spectrometer according to an embodiment of the present invention is shown in FIG. It differs from the arrangement of FIG. 1B in that the tungsten coil filament is replaced with the cathode filament 20 (partial cross section) schematically shown in FIG. Note that the arrangement shown in FIG. 3 does not include the collimating magnet 14 of FIG. 1B. This is due to the significantly higher electron flow rate achievable according to the present invention. Although it has been found that collimation using collimator magnets to increase electron beam intensity (ie, flow rate per unit area in the lateral direction with respect to the beam) is no longer necessary, embodiments of the present invention , If desired, a collimator magnet can be included. According to the present invention, sufficient electron beam intensity can be achieved by improving the electron flow rate.

[59]図3の装置の動作は、図2を参照して次に説明する陰極フィラメント20の動作、及びコリメーティング磁石14の欠如を除けば、その他の点では図1Bのものと同じである。 [59] The operation of the apparatus of FIG. 3 is otherwise the same as that of FIG. 1B, except for the operation of the cathode filament 20 described below with reference to FIG. 2 and the lack of the collimating magnet 14. is there.

[60]陰極フィラメント電子源20は、別々になった、加熱要素24と陰極表面26とを備える。 [60] The cathode filament electron source 20 comprises a separate heating element 24 and a cathode surface 26.

[61]電子源は、ガス源質量分析計のガス源室7と連通して、それに対して電子6を提供するための熱電子放出面25を提示する電子放出陰極(25、26)を含む。加熱要素24が、電子放出陰極(25、26)から電気的に絶縁されており、中の電流によって加熱されるように、及び電子放出面から電子を熱電子的に解放するのに十分な熱を電子放出陰極に放射するように配置されている。これにより、ガス源室内のガスをイオン化する際に使用するための電子6の発生源が得られる。 [61] The electron source includes electron emitting cathodes (25, 26) that communicate with the gas source chamber 7 of the gas source mass spectrometer and present a thermionic emission surface 25 for providing electrons 6 to it. .. The heating element 24 is electrically isolated from the electron emitting cathodes (25, 26) and is sufficiently hot to be heated by the current in it and to thermionically release electrons from the electron emitting surface. Is arranged to radiate to the electron emitting cathode. As a result, a source of electrons 6 for use when ionizing the gas in the gas source chamber is obtained.

[62]この配置の利益は、放出面がより均一な加速電位にさらされており、結果としてより狭い電子のエネルギー幅となることである。したがって、ほとんどの又はすべての熱電子が、加速電位内の同じ場所又は領域に存在し、以て標的ガスをイオン化する際に使用するための発生された熱電子の均一性を改善する。 [62] The benefit of this arrangement is that the emission surface is exposed to a more uniform acceleration potential, resulting in a narrower electron energy width. Thus, most or all thermions are present in the same location or region within the accelerating potential, thus improving the homogeneity of thermions generated for use in ionizing the target gas.

[63]電気加熱電流は、電子放出面26を通されない。代わりに、電気加熱電流は、十分な温度まで加熱されて、電子放出陰極(25、26)に熱を電磁的に放射する(例えば、IR放射)、別個の加熱要素24を通される。陰極は、放射された熱エネルギーを吸収し、それに応答して電子を熱電子的に放出する。 [63] The electric heating current is not passed through the electron emitting surface 26. Instead, the electric heating current is heated to a sufficient temperature and passed through a separate heating element 24 that electromagnetically radiates heat (eg, IR radiation) to the electron emitting cathodes (25, 26). The cathode absorbs the radiated thermal energy and in response emits thermionic electrons.

[64]電子ビーム中の、ガス室全体にわたる電子の流動率は、500μA以上を超えることができる。電子ビーム中の、ガス室全体にわたる電子の流動率は、0.5mA〜10mAの間、例えば、1mA又は数mAでもよい。これらの電子流動率は、電子放出陰極の温度が2000℃未満、例えば、約1000℃であるとき、達成可能でもよい。電子放出陰極(26、25)は、加熱要素への電力入力が5W未満であるとき、加熱要素24によって最大2000℃までの温度に加熱することができる。実際に、加熱要素24への電力入力が約0.5W〜約1Wの間でもよいのが典型的である。 [64] The flow rate of electrons in the electron beam over the entire gas chamber can exceed 500 μA. The flow rate of electrons in the electron beam over the entire gas chamber may be between 0.5 mA and 10 mA, for example, 1 mA or several mA. These electron flow rates may be achievable when the temperature of the electron emitting cathode is less than 2000 ° C., for example about 1000 ° C. The electron emitting cathodes (26, 25) can be heated to a temperature of up to 2000 ° C. by the heating element 24 when the power input to the heating element is less than 5W. In fact, the power input to the heating element 24 may typically be between about 0.5W and about 1W.

[65]電子放出陰極(26、25)は酸化物陰極である。他の実施形態において、I陰極(Ba含浸陰極としても知られる)を使用することができる。I陰極は、電子放出面を提示する、熱電子放出材料26のコーティングを担持するNi基部25を備える。コーティングは、ニッケル陰極基部上に炭酸(Ba、Sr、Ca)粒子又は炭酸(Ba、Sr)粒子を備える。電子源20は、加熱要素24を囲むニクロムスリーブ23を備える。電子放出面26及び基部25は、スリーブの端部に集合的に存在する。基部25は、スリーブのタット端部を封入する蓋を形成する。スリーブは、加熱要素からの熱を基部25に対して集中させる働きをし、基部25は、放出体コーティング26に熱を伝導する。 [65] The electron emitting cathodes (26, 25) are oxide cathodes. In other embodiments, an I-cathode (also known as a Ba-impregnated cathode) can be used. The I-cathode comprises a Ni base 25 carrying a coating of thermionic emission material 26 that presents an electron emitting surface. The coating comprises carbonic acid (Ba, Sr, Ca) particles or carbonic acid (Ba, Sr) particles on the nickel cathode base. The electron source 20 includes a nichrome sleeve 23 that surrounds the heating element 24. The electron emitting surface 26 and the base 25 are collectively present at the end of the sleeve. The base 25 forms a lid that encloses the tat end of the sleeve. The sleeve serves to concentrate the heat from the heating element on the base 25, which conducts heat to the ejector coating 26.

[66]加熱要素は、アルミナコーティングでコートされたタングステンフィラメント21を備える。これにより、加熱要素内の加熱電流と電子放出陰極(25、26)との間に電気的絶縁が得られる。 [66] The heating element comprises a tungsten filament 21 coated with an alumina coating. This provides electrical insulation between the heating current in the heating element and the electron emitting cathodes (25, 26).

[67]本発明は、タングステンフィラメントに比較して、より低い温度でより大きい電子放出を提供する。典型的な動作は105mAで6.3Vを必要とし、それは出力のおおよそ0.6Wである。次いで、陰極上の局部温度は約1000℃である。これにより、約1mAの電子トラップ電流、及び電子ビーム6を介して発生源ガスの電子衝撃イオン化によって生成された、結果として得られるイオンビームの対応する5倍の感度の増加が生じる。陰極フィラメント20の寿命は、10年超であると推定され、それは、同等の放出電流を生成しようとした場合、タングステンコイルフィラメント1の通常の動作寿命をはるかに超える。 [67] The present invention provides greater electron emission at lower temperatures compared to tungsten filaments. Typical operation requires 6.3V at 105mA, which is approximately 0.6W of output. The local temperature on the cathode is then about 1000 ° C. This results in an electron trap current of about 1 mA and a corresponding 5-fold increase in sensitivity of the resulting ion beam generated by electron impact ionization of the source gas via the electron beam 6. The life of the cathode filament 20 is estimated to be greater than 10 years, which far exceeds the normal operating life of the tungsten coil filament 1 when attempting to generate equivalent emission currents.

[68]タングステンフィラメント1の代わりとして陰極を使用する利益は、以下を含む。 [68] Benefits of using a cathode as an alternative to tungsten filament 1 include:

[69]より高い電子放出:約5〜10倍であり、既存のタングステンフィラメント1と同等の寿命を有する。タングステンフィラメントコイル1は、同様の放出を生じることができるが、交換が必要になるまでの寿命が相当に低減される。フィラメント交換は、場合により数か月の休止時間を生じる。 [69] Higher electron emission: about 5-10 times, with a lifetime comparable to existing tungsten filament 1. The tungsten filament coil 1 can produce similar emissions, but the life until it needs to be replaced is significantly reduced. Filament replacement can optionally result in months of rest.

[70]より低い動作温度:これにより、イオン化され、対象の同位体種を妨害する、真空中の炭化水素揮発性物質の存在が低減される。 [70] Lower operating temperature: This reduces the presence of hydrocarbon volatiles in vacuum that are ionized and interfere with the isotope species of interest.

[71]より高いレベルの放出:これは外部磁界(磁石14)を取り除くことができることを意味する。これにより、質量分析器に対するこの磁界の不要な影響が回避される。これは試料/標的材料の所与の範囲の分圧全体にわたって非線形である傾向があるので、同位体間のイオン質量弁別が可能である。 [71] Higher levels of emission: This means that the external magnetic field (magnet 14) can be removed. This avoids the unwanted effect of this magnetic field on the mass spectrometer. This tends to be non-linear over a given range of partial pressures of the sample / target material, allowing ion mass discrimination between isotopes.

[72]陰極全体にわたる電圧降下なし:タングステンフィラメントコイル1を使用するときは、これを回避することができない。これにより、感度に対する、より大きい制御をもたらす、より均質な電子エネルギーが得られる。 [72] No voltage drop across the cathode: This cannot be avoided when using the tungsten filament coil 1. This results in a more homogeneous electron energy that provides greater control over sensitivity.

[73]機械的安定性:これにより、電子源及びそれを使用するイオン源の一貫性が改善され、陰極の寿命の間の動作の段階変化が回避される。 [73] Mechanical stability: This improves the consistency of the electron source and the ion sources that use it and avoids staging of operation during the life of the cathode.

[74]寿命の延長:陰極20のより低い動作温度及び保守的な設計により、結果として、低フィラメント劣化率と相まって陰極の有用寿命の延長となる。 [74] Life extension: The lower operating temperature and conservative design of the cathode 20 results in an extension of the useful life of the cathode, coupled with a low filament degradation rate.

[75]ニーア発生源希ガス質量分析計における比較テストの結果を図4〜6を参照して示す。これらは、図1Bに示すものなど、既存のシステムと比較したときの、図3に示すものなど、本発明の好ましい実施形態の電子源の利益のいくつかを示す。 [75] The results of the comparative test on the Nier source rare gas mass spectrometer are shown with reference to FIGS. 4-6. These show some of the benefits of an electron source of preferred embodiments of the invention, such as those shown in FIG. 3 when compared to existing systems, such as those shown in FIG. 1B.

[76]図4〜6は、「トラップ電流」を陰極温度の関数として示す。トラップ電流は、陰極の全放出の固定的比率であり、ニーア発生源における、発生源ブロック7内のイオン化領域を流れる電子の数の大きさである。トラップ電流は、発生源における動作状態を安定化させるために、閉ループ制御において高い精度で測定された。 [76] Figures 4-6 show the "trap current" as a function of cathode temperature. The trap current is a fixed ratio of the total emission of the cathode and is the magnitude of the number of electrons flowing through the ionized region in the source block 7 at the near source. The trap current was measured with high accuracy in closed loop control to stabilize the operating state at the source.

[77]図4は、フィラメント温度の関数として既存の電気的に加熱されるフィラメント技術(図1B参照)によって発生されたトラップ電流(「イオン化」電流)の作図を示す。温度範囲全体にわたって安定した放出の領域がないことに留意されたい。図5は、加熱フィラメント温度の関数として本発明の実施形態(図2、図3参照)による放射で加熱される陰極によって発生されたトラップ電流(「イオン化」電流)の作図を示す。同じ放出レベルが図4のフィラメントとして達成されているが、ただし、よりずっと低い温度においてであり、さらに、その800μAの動作電流における安定した放出の領域がある。図6は、動作の非常に異なる動作特性及び温度を明確にするために同じ尺度で図4及び図5を一緒に示すグラフである。 [77] FIG. 4 shows a plot of the trap current (“ionized” current) generated by an existing electrically heated filament technique (see FIG. 1B) as a function of filament temperature. Note that there is no region of stable emission over the entire temperature range. FIG. 5 shows a plot of trap current (“ionization” current) generated by a radiantly heated cathode according to an embodiment of the invention (see FIGS. 2 and 3) as a function of heating filament temperature. The same emission level is achieved for the filament of FIG. 4, but at a much lower temperature, and there is a region of stable emission at its 800 μA operating current. FIG. 6 is a graph showing FIGS. 4 and 5 together on the same scale to clarify very different operating characteristics and temperatures of operation.

[78]図6において、陰極20がタングステンフィラメント1のものよりも低い、約1000℃の温度における同等のレベルの放出を生じることが分かる。これは、真空中の浮遊炭化水素による熱的に誘導された汚染物質からの妨害を低減する顕著な前進である。 [78] It can be seen in FIG. 6 that the cathode 20 produces an equivalent level of emission at a temperature of about 1000 ° C., which is lower than that of the tungsten filament 1. This is a significant step forward in reducing interference from thermally induced contaminants by suspended hydrocarbons in vacuum.

[79]図4の作図を得るために、タングステンフィラメントコイル1が、典型的に使用されるよりも約400%激しく駆動された(すなわち、電子トラップ電流は、通常約200μAである)。図1Bのシステムにおける200μAの電子トラップ電流は、許容レベルの感度(より高い電子密度がイオン化を増加させ、より低いレベルの試料が検出されることを可能にする)と長寿(より高いフィラメント電流がフィラメント1をより急速に低下させる)とを達成することの妥協策を提供する。図1Bのシステムのユーザによっては、それらのフィラメント1を非常に高い温度で動作させて、小さい試料を検出し、フィラメント1を交換するための休止時間の費用及び混乱を受け入れるものもある。本発明による陰極20は、何年にもわたって、その特性のより高い「プラトー」領域(例えば、図5の800μA)でも動作することができ、したがって、それは寿命で妥協することなく高い感度を達成する。 [79] To obtain the drawing of FIG. 4, the tungsten filament coil 1 was driven about 400% more violently than typically used (ie, the electron trap current is typically about 200 μA). The 200 μA electron trap current in the system of FIG. 1B has acceptable levels of sensitivity (higher electron densities increase ionization, allowing lower levels of sample to be detected) and longer life (higher filament currents). It provides a compromise to achieve (lowering filament 1 more rapidly). Some users of the system of FIG. 1B may operate their filaments 1 at very high temperatures to detect small samples and accept the cost and confusion of downtime to replace the filaments 1. The cathode 20 according to the invention can operate in the higher "plateau" region of its properties (eg, 800 μA in FIG. 5) for many years, thus providing high sensitivity without compromise in life. Achieve.

[80]図7は、図2の電子源を採用した、ガス源質量分析計のイオン源を概略的に示す。これは、上記の図3に関して説明した配置の変形である。 [80] FIG. 7 schematically shows an ion source of a gas source mass spectrometer that employs the electron source of FIG. This is a modification of the arrangement described with respect to FIG. 3 above.

[81]電子源(20、30、31、32)は、電子源によって出力された電子のエネルギーを制御するように配置されたエネルギー制御器を含む。エネルギー制御器は、陰極(20)の熱電子放出面とガス源室との間に配設された陽極(31)を含む。エネルギー制御器は、ガス源室に向かった方向に陰極の熱電子放出面から放出された電子を加速させるために、可変電位を陽極に印加するように配置された制御装置(図示せず)を含む。電子引き出しグリッド(30)が、陰極(20)の熱電子放出面とガス源室との間に配設される。制御装置は、放出された熱電子をグリッドに向かって引き付けるために電子引き出しグリッドに電位を印加するように配置される。電子引き出しグリッドに引き付けられた熱電子が熱電子放出面に面するその側面からガス源室に面するその側面に電子引き出しグリッドを通過することが許容されるように、グリッドは電子源からの熱電子を通すことができ、このために網状にされる。 [81] The electron source (20, 30, 31, 32) includes an energy controller arranged to control the energy of the electrons output by the electron source. The energy controller includes an anode (31) disposed between the thermionic emission surface of the cathode (20) and the gas source chamber. The energy controller is a control device (not shown) arranged to apply a variable potential to the anode in order to accelerate the electrons emitted from the thermionic emission surface of the cathode in the direction toward the gas source chamber. Including. An electron extraction grid (30) is arranged between the thermionic emission surface of the cathode (20) and the gas source chamber. The control device is arranged to apply an electric potential to the electron withdrawal grid to attract the emitted thermions towards the grid. The grid is heated from the electron source so that the thermions attracted to the electron-drawing grid are allowed to pass through the electron-drawing grid from its side facing the thermionic emission surface to its side facing the gas source chamber. It allows electrons to pass through and is therefore reticulated.

[82]陽極(31)は、ガス源室とガス源室に面する電子引き出しグリッドの側面との間に配置される。これにより、陽極は、電子引き出しグリッドを通過した熱電子をガス源室に向かって加速させることが可能になる。エネルギー制御器は、熱電子放出面とガス源室との間に陽極に並行して配設されたアインツェルレンズ(32)を画定する電子集束電極(複数可)を含む。アインツェルレンズは、陽極(31)とガス源室との間に配設され、熱電子をガス源室への入口を介して熱電子放出面からガス源室内に電子ビーム(6)として集束するように配置される。 [82] The anode (31) is arranged between the gas source chamber and the side surface of the electron drawing grid facing the gas source chamber. This allows the anode to accelerate thermions that have passed through the electron drawing grid towards the gas source chamber. The energy controller includes an electron focusing electrode (s) defining an Einzel lens (32) arranged parallel to the anode between the thermionic emission surface and the gas source chamber. The Einzel lens is disposed between the anode (31) and the gas source chamber, and focuses thermoelectrons as an electron beam (6) from the thermionic emission surface into the gas source chamber via the inlet to the gas source chamber. Arranged like this.

[83]エネルギー制御器は、陽極(31)に印加された又は引き出しグリッド(30)に印加された、又は両方に印加された加速電圧(複数可)を制御することによって、ガス源室への入力のために熱電子のエネルギーを制御するように配置される。この可制御性は、従来の加熱されたコイル放出体から放出された熱電子間の運動エネルギーの、よりずっと広い対応する分布に比較して、本発明の陰極(20)から放出された熱電子間の運動エネルギーの分布における相対的に狭い幅により、本発明において特に効果的であり、有益である。 [83] The energy controller to the gas source chamber by controlling the acceleration voltage (s) applied to the anode (31), the extraction grid (30), or both. Arranged to control the thermionic energy for input. This controllability allows the thermions emitted from the cathode (20) of the present invention as compared to the much wider corresponding distribution of kinetic energy between thermions emitted from conventional heated coil emitters. The relatively narrow width in the distribution of kinetic energy between them is particularly effective and beneficial in the present invention.

[84]図8Aは、図1Aに示す種類の加熱されたコイル電子源からの熱電子エネルギーの分布(40)を概略的に示す。これは、加熱されたコイルの長さに沿って不均一及び可変電圧分布によって生じた広いガウス状分布である。このエネルギー分布の幅ΔE(半値全幅(FWHM))は大きく、熱電子が広い範囲のエネルギーを有する。 [84] FIG. 8A schematically shows the distribution of thermionic energy (40) from the type of heated coil electron source shown in FIG. 1A. This is a wide Gaussian distribution caused by non-uniform and variable voltage distributions along the length of the heated coil. The width ΔE 1 (full width at half maximum (FWHM)) of this energy distribution is large, and thermions have a wide range of energies.

[85]図8Bは、図2の加熱されたコイル電子源からの熱電子エネルギーの分布(41)を概略的に示す。この狭い分布は、小さい幅ΔE(FWHM)を有し、熱電子は、相対的に小さい範囲のエネルギーだけを有する。結果は、エネルギー制御器の制御装置が、エネルギー分布の中心位置(E)を、異なる(例えば、より低い)中心位置(例えば、エネルギーE’を中心とするシフトされた分布42)に移動させるように調整することができることになる。したがって、エネルギー制御器の制御装置は、熱電子出力のエネルギー分布の位置を調整し、以て電子の効率/確率を最適化し、ガス源室内の標的/試料ガス内での原子のイオン化を生じるように動作可能である。 [85] FIG. 8B schematically shows the distribution of thermionic energy (41) from the heated coil electron source of FIG. This narrow distribution has a small width ΔE 2 (FWHM) and thermions have only a relatively small range of energies. Results transfer, energy controller of the control apparatus, the center position of the energy distribution (E 0), to a different (e.g., lower) the central position (e.g., shifted the distribution 42 around the energy E '0) It will be possible to adjust to make it. Therefore, the controller of the energy controller adjusts the position of the energy distribution of the thermionic output, thereby optimizing the efficiency / probability of the electrons and causing the ionization of atoms in the target / sample gas in the gas source chamber. It is possible to operate.

[86]図8Cは、標的/試料ガスの、熱電子当たり、ガス源室内の電子移行のcm当たり、中のガス圧力のmmHg当たりの生成されたイオンの数の分布(43)を概略的に示す。このイオン化率は、熱電子エネルギーの関数として作図される。図示するように、最大イオン化確率が、相対的にエネルギーが低く、極めて鋭いピークである熱電子エネルギー(Epeak)において起きる。イオン化確率は、このピークエネルギー上下の熱電子エネルギーに対して着実に及び急速に離れて落ちる。本発明の特定の利益は、例えば、エネルギーE’=Epeakとなるように、電子源からの電子の相対的に狭い(すなわち、密度の高い)熱電子エネルギー分布を、最大イオン化確率を包含する電子エネルギーに、又はその付近に位置決めする能力である。熱電子エネルギーの狭い分布(幅ΔE)により、イオン生成の効率をよりよく最適化することが可能になる。 [86] FIG. 8C schematically shows the distribution (43) of the number of ions produced per thermoelectrons in the target / sample gas, per cm of electron transfer in the gas source chamber, and per mmHg of gas pressure in the gas. Shown. This ionization rate is plotted as a function of thermionic energy. As shown, the maximum ionization probability occurs at thermionic energy ( Epeak ), which is a relatively low energy and extremely sharp peak. The ionization probability drops steadily and rapidly with respect to the thermionic energies above and below this peak energy. Certain benefits of the present invention, for example, so that the energy E '0 = E peak, electrons relatively narrow from the electron source (i.e., dense) thermionic energy distribution, include the maximum ionization probabilities The ability to position at or near the electron energy to be generated. The narrow distribution of thermionic energies (width ΔE 2 ) makes it possible to better optimize the efficiency of ion generation.

[87]ガス源質量分析において、イオンは、電子衝撃のプロセスによって発生源において形成される。このプロセスは、気相原子/分子と相互作用して、イオンを生成するエネルギー電子を使用する。従来、このプロセスに使用される電子の発生源は、電気的にフィラメントを加熱し、したがって、それが熱電子放出によって電子を生成する。「放出電流」とは、加熱フィラメントから出る全電流のことであるが、ガス試料を通過し、したがって、ガス試料をイオン化することができるエネルギー電子の流れは、しばしば「トラップ電流」と呼ばれる。 [87] In gas source mass spectrometry, ions are formed at the source by the process of electron shock. This process uses energy electrons that interact with gas phase atoms / molecules to produce ions. Traditionally, the source of electrons used in this process electrically heats the filament, which in turn produces electrons by thermionic emission. The "emission current" is the total current emanating from the heating filament, but the flow of energy electrons that can pass through the gas sample and thus ionize the gas sample is often referred to as the "trap current".

[88]気体試料をイオン化するプロセスをより効率的にすることによってガス源質量分析計の感度を改善することは望ましい。しばしば、試料材料の量は、少なくても、又は非常に少なくてもよく、試料のイオン化を最大化することは有利である。感度は従来、装置全体にわたって印加される磁界を使用して電子ビームをコリメートすることによって、及び/又はトラップ電流を増加させること(すなわち、より多くのイオンを生成するためのより多くの電子)によって改善される。 [88] It is desirable to improve the sensitivity of the gas source mass spectrometer by making the process of ionizing the gas sample more efficient. Often, the amount of sample material may be small or very small, and it is advantageous to maximize the ionization of the sample. Sensitivity has traditionally been achieved by collimating an electron beam using a magnetic field applied throughout the device and / or by increasing the trap current (ie, more electrons to generate more ions). It will be improved.

[89]しかし、トラップ電流を増加させることは、フィラメントをますます高い温度に加熱することを必要とする。これにより、フィラメントの寿命が低減し、それは文字通り「沸騰して蒸発する」。さらに、フィラメント温度の増加は、ガス源の装置がフィラメントからの放射熱によって、ますます大きい程度まで加熱されることを意味し、これにより、装置を形成する材料からの「背景種」の放出が促進される。すなわち、エネルギー電子がイオン化プロセスを実施するように向けられるガス室の構造部品(例えば、壁)の材料(例えば、鋼鉄やアルミニウムなど)は、ガス室が加熱されるとき、ガス室内に放出される原子又は分子の、いくつかの吸収された外来種を常に含有する。これらの外来種は、分析されている気体試料を汚染し、質量分析計から得られるデータの質を低下させる。 [89] However, increasing the trap current requires heating the filament to ever-increasing temperatures. This reduces the life of the filament, which literally "boils and evaporates." In addition, an increase in filament temperature means that the device at the gas source is heated to an increasingly greater extent by the radiant heat from the filament, which releases "background species" from the material forming the device. Be promoted. That is, the material (eg, steel, aluminum, etc.) of the structural parts (eg, walls) of the gas chamber to which the energy electrons are directed to carry out the ionization process is released into the gas chamber when the gas chamber is heated. Always contains some absorbed alien species of atoms or molecules. These alien species contaminate the gas sample being analyzed and reduce the quality of the data obtained from the mass spectrometer.

[90]本発明により、電子源の寿命を損なわずに及び外来種の背景レベルを増加させずに、トラップ電流を増加させることが可能になる。 [90] The present invention makes it possible to increase the trap current without compromising the lifetime of the electron source and without increasing the background level of the alien species.

[91]図9及び10は、アルゴンガス試料に適用された、本明細書に説明する実施形態において例示される、本発明を使用して得たデータを示す。図は、典型的なレベルの感度及び既存の加熱フィラメント電子源を使用して達成可能な背景汚染物質レベルに比較して、本発明の好ましい実施形態によって提供される、汚染物質のより低い背景レベルと併せて達成されたより大きい感度を明確に示す。 [91] Figures 9 and 10 show data obtained using the present invention, exemplified in the embodiments described herein, applied to argon gas samples. The figure shows the lower background levels of contaminants provided by the preferred embodiments of the invention, compared to typical levels of sensitivity and background contaminant levels achievable using existing heated filament electron sources. It clearly shows the greater sensitivity achieved in conjunction with.

[92]特に、電子源(例えば、0.6W)の低い動作温度を用いて、最大7mA/Torrまでの感度が、約1mAよりも高いトラップ電流に対するアルゴンガス試料に対して達成され(図9)、これはわずか約1x10−14ccSTPまでの汚染物質(「質量36」)背景濃度を有する(図10)。これらの感度及び背景濃度は、そのような大きさに対する標準産業レベル(「標準仕様」)よりもずっとよい。電子源の寿命は、これらの動作条件下で3.5年超である。これは典型的な加熱フィラメント電子源の予想寿命よりもはるかに長い。 [92] In particular, using low operating temperatures of electron sources (eg, 0.6 W), sensitivities up to 7 mA / Torr have been achieved for argon gas samples for trap currents higher than about 1 mA (FIG. 9). ), which is only about 1x10 -14 CCSTP to contaminants ( "mass 36") has a background concentration (Figure 10). These sensitivities and background densities are much better than the standard industry level (“standard specifications”) for such magnitudes. The life of the electron source is more than 3.5 years under these operating conditions. This is much longer than the expected lifetime of a typical heated filament electron source.

[93]従来のニーア型電子衝突/イオン化ガス源装置は、それらの電子の発生源として直熱フィラメントコイルを採用するのが典型的である。通常、図1に示すように、陰極は、例えば、タングステンの、小さいワイヤのコイルであり、それは、適切な電流の印加によって熱電子放出温度まで加熱される。 [93] Conventional Nier-type electron impact / ionized gas source devices typically employ a direct heat filament coil as the source of those electrons. Usually, as shown in FIG. 1, the cathode is, for example, a coil of small wires of tungsten, which is heated to thermionic emission temperature by the application of an appropriate electric current.

[94]フィラメント組立品は、バイアス電圧を印加させており、したがって、放出電子は、分析物ガス分子をイオン化するのに十分なエネルギーを有する。十分な電子放出を生じるために、フィラメントは、非常に高い温度(約1400℃)まで加熱される必要がある。高いフィラメント温度は、フィラメントをイオン化領域に極めて近接して位置決めする必要性と相まって、結果として、通常150〜200℃の間の発生源組立品温度が高くなる。発生源組立品温度の増加は、汚染物質背景種のガス放出を増加させる。計器が静的真空下にある希ガス分析において、質量スペクトル内で背景種の任意の増加が観察され、特に、背景イオンが分析物イオンと等圧であるとき問題を生じる。分析物分子が温度に関係したプロセスとの関係を断つとき、さらに問題が生じることがある。 [94] The filament assembly applies a bias voltage and therefore the emitted electrons have sufficient energy to ionize the analyte gas molecule. The filament needs to be heated to a very high temperature (about 1400 ° C.) in order to generate sufficient electron emission. High filament temperatures, coupled with the need to position the filaments very close to the ionization region, result in higher source assembly temperatures, typically between 150 and 200 ° C. Increasing source assembly temperature increases outgassing of pollutant background species. In rare gas analysis where the instrument is in static vacuum, any increase in background species is observed in the mass spectrum, which is especially problematic when the background ions are at the same pressure as the analyte ions. Further problems can arise when the analyte molecule breaks its relationship with temperature-related processes.

[95]従来のニーア型電子衝突/イオン化ガス源において、熱電子は、加熱フィラメントコイルからすべての方向に放出され、ごく一部だけが、ガス源装置のイオン化領域内に透過される。このプロセスの効率は、最終的にイオン化領域に入る熱電子のわずか数パーセントである可能性があるのが典型的である。従来のニーア型発生源は、熱電子軌道を抑制するために、及び、らせん電子軌道を誘導することによって電子軌道の経路長を増加させるために、イオン化領域の周りに配置されたコリメーティング磁石を有する。残念ながら、コリメーション磁石によって生成された磁界は、イオン化領域で生成された分析物のイオンの軌道にも影響し、これにより、質量スペクトルの低い端部において最も目立つ、望ましくない質量バイアス効果が導入され、それによって、質量対電荷比スペクトルにおける分析物のスペクトル分析が複雑になる。 [95] In a conventional Nier-type electron impact / ionized gas source, thermions are emitted from the heated filament coil in all directions and only a small portion is permeated into the ionized region of the gas source device. The efficiency of this process can typically be only a few percent of thermions that eventually enter the ionization region. Traditional Nier-type sources are collimating magnets placed around the ionization region to suppress thermionic orbitals and to increase the path length of the electron orbitals by inducing spiral electron orbitals. Has. Unfortunately, the magnetic field generated by the collimation magnets also affects the orbits of the ions of the analyte generated in the ionization region, which introduces the most noticeable and unwanted mass bias effect at the lower ends of the mass spectrum. This complicates the spectral analysis of the analyte in the mass-to-charge ratio spectrum.

[96]フィラメント全体にわたる電圧降下は、対応する電子エネルギー幅を有する電子ビームを生成する。電子エネルギー幅は、場合により分析物イオンに移動され、計器の質量分解能を低下させるおそれがある。 [96] A voltage drop across the filament produces an electron beam with a corresponding electron energy width. The electron energy width may be transferred to the analyte ion in some cases, reducing the mass resolution of the instrument.

[97]本発明において、陰極(電子放出面)のその表面の加熱器からの減結合により、その表面が薄く、平坦になることが可能になる。分析物イオン化用に表面から離れて放出電子を加速させるために電界内に配設されたとき、電子放出面の実質的にすべての部分(又は大部分)は、電界内の実質的に同じ電位に存在することができる。効果は、各(又は少なくともほとんどの)加速電子が受けた電位差(加速電圧)が実質的に同じであるということである。したがって、それらは、装置のイオン化領域に入ったとき、実質的に同じエネルギーを保有する。言い換えれば、陰極電圧は、その電子放出面の実質的に全域にわたって一貫性を有することができる。これにより、放出電子のエネルギー幅が最小限に抑えられる。さらに、電子源の加熱器は、DC電圧によって駆動されることをもはや必要とせず、適用例が必要とする場合、ACを使用することができる。 [97] In the present invention, the debonding of the surface of the cathode (electron emitting surface) from the heater allows the surface to be thin and flat. Virtually all parts (or most) of the electron emitting surface are at substantially the same potential in the electric field when placed in an electric field to accelerate emitted electrons away from the surface for analysis ionization. Can exist in. The effect is that the potential difference (acceleration voltage) received by each (or at least most) accelerating electrons is substantially the same. Therefore, they carry substantially the same energy when entering the ionized region of the device. In other words, the cathode voltage can be consistent over substantially the entire electron emission surface. This minimizes the energy width of the emitted electrons. In addition, electron source heaters no longer need to be driven by a DC voltage, and AC can be used where application examples require.

[98]従来のニーア型ガス源に比較して、ニーア型ガス源装置に適用されたときの本発明の利点及び利益をよりよく示すために、図11〜16は、本発明の実施形態による、及びさらに従来のニーア型発生源設計による、ガスイオンのニーア型発生源内の電子軌道の数値シミュレーションの結果を示す。 [98] To better demonstrate the advantages and benefits of the present invention when applied to a nier-type gas source device as compared to conventional nier-type gas sources, FIGS. 11-16 are according to embodiments of the present invention. , And further, the results of numerical simulation of the electron orbit in the Nier-type source of gas ions by the conventional Nier-type source design are shown.

[99]直熱コイルフィラメント−磁気コリメーションあり又はなし [99] Direct Heat Coil Filament-With or without Magnetic Collimation

[100]図11及び12は、電子コリメーション磁石(図示せず)あり及びなし両方の、電子源として直熱フィラメントコイルを採用した従来のニーア型発生源設計の正面図(図11)及び側面図(図12)を示す。理解を深めるために、図11及び12のそれぞれは、コリメーティング磁石の磁界が仮に「オフ」にされたとき(すなわち、ゼロ磁界)の熱電子の軌道並びに磁石が完全に働いている(すなわち、仮に「オン」に切り替えた)ときの結果を示す。これは、従来のニーア型発生源設計の磁石のコリメーティング効果を示すためである。シミュレーションしたニーア型発生源構造の要素に印加された電圧は、表1に示す通りであった。 [100] FIGS. 11 and 12 are a front view (FIG. 11) and a side view of a conventional knee-type source design using a direct heat filament coil as an electron source, both with and without an electron collimation magnet (not shown). (Fig. 12) is shown. For better understanding, in each of FIGS. 11 and 12, the thermionic trajectories and magnets are fully active (ie, when the magnetic field of the collimating magnet is "off" (ie, zero magnetic field). , Temporarily switched to "on") shows the result. This is to show the collimating effect of the magnet of the conventional Nier type source design. The voltages applied to the elements of the simulated Nier-type source structure are as shown in Table 1.

[101]電子軌道がシミュレーションされた。300の電子の5つの群がシミュレーションにおいて作り出され、各群は1eVのエネルギーを用いて電子を構成し、フィラメント電極のコイル径に等しい直径の円の周りに等間隔に配置されたフィラメントコイルの表面の周りに配設された。シミュレーションした電子放出位置の円がそのコイルの1つの巻きを表すように、フィラメントコイル軸線が、図11及び12の頁の平面に対して垂直の方向に概念上延びる。電子の5つの群は、等間隔でフィラメント電極のコイルの軸線に沿って配置されて配分された。表2に示すように、イオン化領域の端から端まで首尾よく透過され、トラップ電極において終了する、これらの電子のパーセンテージの推定が得られた。 [101] Electron orbitals were simulated. Five groups of 300 electrons were created in the simulation, each group using 1 eV of energy to make up the electrons, and the surface of the filament coil evenly spaced around a circle with a diameter equal to the coil diameter of the filament electrode. Arranged around. The filament coil axis extends conceptually perpendicular to the plane of pages 11 and 12 so that the circle of simulated electron emission positions represents one winding of the coil. The five groups of electrons were evenly spaced and distributed along the axis of the coil of the filament electrode. As shown in Table 2, estimates of the percentage of these electrons were obtained that were successfully transmitted end-to-end in the ionized region and terminated at the trap electrode.

[102]予想どおり、磁界が何もシミュレーションに含まれていない場合、電子がフィラメントコイルからすべての方向に放出され、ガス源室を通じて及びトラップ電極までずっと透過される割合は、非常に小さい。シミュレーション内の装置全体にわたるコリメーティング磁界の印加は、電子をらせん経路に従わせることに加えて電子ビーム抑制のレベルを提供する。トラップ電極に透過された電子の数は、このシミュレーションにおいて、コリメーティング磁石が適用されないときに比較して、コリメーティング磁石が適用されるとき、おおよそ10倍高い。 [102] As expected, when no magnetic field is included in the simulation, the proportion of electrons emitted from the filament coil in all directions and transmitted through the gas source chamber and all the way to the trap electrode is very small. The application of a collimating magnetic field throughout the device in the simulation provides a level of electron beam suppression in addition to making the electrons follow a spiral path. The number of electrons transmitted through the trap electrode is approximately 10-fold higher when the collimating magnet is applied in this simulation than when the collimating magnet is not applied.

[103]傍熱陰極−磁気コリメーションあり又はなし [103] Indirect Hot Cathode-With or without Magnetic Collimation

[104]図13及び14は、数値シミュレーションの結果を示し、その場合、ニーア型発生源内に採用された電子源は、本発明に従い、直熱コイルフィラメントではない。電子源の電子放出面の陰極部分は、ガス源室/筐体の入口開口から1.5mmに位置決めされた。電圧は表3に示すように印加された。 [104] FIGS. 13 and 14 show the results of numerical simulations, in which case the electron source employed within the Nier-type source is not a direct heating coil filament according to the present invention. The cathode portion of the electron emission surface of the electron source was positioned 1.5 mm from the inlet opening of the gas source chamber / housing. The voltage was applied as shown in Table 3.

[105]図13及び14は、電子コリメーション磁石(図示せず)の同時使用あり及びなしの両方の新たなニーア型発生源設計の正面図(図13)及び側面図(図14)を示す。理解を深めるために、図13及び14のそれぞれは、コリメーティング磁石が何も存在しないとき(すなわち、ゼロ磁界)の電子の軌道並びに磁石が存在し、完全に働いているときの結果を示す。これは、新たなニーア型発生源設計の磁石のコリメーティング効果を示すためである。 [105] FIGS. 13 and 14 show a front view (FIG. 13) and a side view (FIG. 14) of a new Near-type source design with and without simultaneous use of electron collimation magnets (not shown). For better understanding, each of FIGS. 13 and 14 shows the electron trajectories in the absence of any collimating magnets (ie, zero magnetic field) and the results in the presence and full working of the magnets. .. This is to show the collimating effect of the magnet of the new Nia type source design.

[106]電子軌道は1500の電子の群の中の各電子に対してシミュレーションされた。各電子は、1eVエネルギーを用いて作り出され、その表面の円形の1mmの直径の周りに等間隔で配置された、電子放出面(陰極)上に配設された異なるそれぞれの点から放出された。表4に示すように、イオン化領域を通じてトラップ電極に首尾よく透過された電子のパーセンテージの推定が行われた。 [106] Electron orbitals were simulated for each electron in a group of 1500 electrons. Each electron was created using 1 eV energy and emitted from different points located on the electron emitting surface (cathode), evenly spaced around a circular 1 mm diameter on its surface. .. As shown in Table 4, an estimate of the percentage of electrons successfully transmitted through the trap electrode through the ionization region was made.

[107]電子放出体の放出面の平面的な性質により、及びそれがガス源室の入口開口に合わせて(面して)向けられていることにより、放出電子のより大きい割合が、ガス源室を通じてトラップ電極に透過される。電子透過のレベルは、加熱されたコイルフィラメントが、コリメーション磁石と併せて電子源として使用された前の例(従来のニーア型発生源)において観察されたものと非常に類似している(わずかに良い)。コリメーティング磁界の追加は、電子ビームが抑制され、より大きい割合の電子が、ガス源室内に、及びそれを通じて、透過され、トラップ電極に達するように、予想どおりに、電子ビームに対してコリメーティング効果を有する。磁気コリメーションが何も使用されない場合に比較しておおよそ3倍の電子透過の増加がある。 [107] Due to the planar nature of the emission surface of the electron emitter, and because it is oriented (facing) the inlet opening of the gas source chamber, a larger proportion of the emitted electrons is the gas source. It is transmitted to the trap electrode through the chamber. The level of electron transmission is very similar to that observed in the previous example (conventional Nier-type source) where the heated coil filament was used as an electron source in conjunction with a collimation magnet (slightly). good). The addition of the collimating magnetic field causes the electron beam to be suppressed and a larger proportion of electrons to be transmitted into and through the gas source chamber and reach the trap electrode, as expected. Has a mating effect. There is an approximately 3-fold increase in electron transmission compared to when no magnetic collimation is used.

[108]傍熱陰極及びアインツェルレンズ−磁気コリメーションあり及びなし [108] Indirect Hot Cathode and Einzel Lens-With and without Magnetic Collimation

[109]新たなニーア型ガス源装置へのアインツェルレンズの追加をシミュレーションするために、2つの同軸分離レンズリング電極が、図15及び16に示すように装置に追加された。各アインツェルレンズリングは、1.5mmの内径(ID)、2.5mmの外径及び0.5mmの厚さを有した。電子放出面(陰極)と第1のレンズリングとの間の距離は0.5mmであった。第1のレンズリングと第2のレンズリングとの間の距離は0.5mmであった。第2のレンズリングとガス源室/筐体(入口開口を含む)の対抗する外層との間の距離も0.5mmであった。電圧が、表5に示すようにこれらの構成部品に印加された。 [109] To simulate the addition of the Einzel lens to the new Nia-type gas source device, two coaxial separation lens ring electrodes were added to the device as shown in FIGS. 15 and 16. Each Einzel lens ring had an inner diameter (ID) of 1.5 mm, an outer diameter of 2.5 mm and a thickness of 0.5 mm. The distance between the electron emitting surface (cathode) and the first lens ring was 0.5 mm. The distance between the first lens ring and the second lens ring was 0.5 mm. The distance between the second lens ring and the opposing outer layer of the gas source chamber / housing (including the inlet opening) was also 0.5 mm. Voltages were applied to these components as shown in Table 5.

[110]図15及び16は、電子コリメーション磁石(図示せず)の同時使用あり及びなしの両方の新たなニーア型発生源設計の正面図(図15)及び側面図(図16)を示す。理解を深めるために、図15及び16のそれぞれは、コリメーティング磁石が何も存在しないとき(すなわち、ゼロ磁界)の電子の軌道並びに磁石が存在し、完全に働いているときの結果を示す。これは、新たなニーア型発生源設計の磁石のコリメーティング効果を示すためである。 [110] FIGS. 15 and 16 show a front view (FIG. 15) and a side view (FIG. 16) of a new Near-type source design with and without simultaneous use of electron collimation magnets (not shown). For better understanding, each of FIGS. 15 and 16 shows the electron trajectories in the absence of any collimating magnets (ie, zero magnetic field) and the results in the presence and full working of the magnets. .. This is to show the collimating effect of the magnet of the new Nia type source design.

[111]電子軌道が、1500の電子の群の中の各電子に対してシミュレーションされた。各電子は、1eVエネルギーを用いて作り出され、その表面の円形の1mmの直径の周りに等間隔で配置された、電子放出面(陰極)上に配設された異なるそれぞれの点から放出された。表6に示すように、イオン化領域を通じてトラップ電極に首尾よく透過された電子のパーセンテージの推定が行われた。 [111] Electron orbitals were simulated for each electron in a group of 1500 electrons. Each electron was created using 1 eV energy and emitted from different points located on the electron emitting surface (cathode), evenly spaced around a circular 1 mm diameter on its surface. .. As shown in Table 6, an estimate of the percentage of electrons successfully transmitted through the trap electrode through the ionization region was made.

[112]図に明確に示すように、集束/収束効果がアインツェルレンズを使用することによって放出電子の軌道に課される。第1のアインツェルレンズリング(レンズ1)に印加された電圧の小さい変更は、焦点(又は電子ビームの最大収束点)を必要に応じてより近接して、又はさらに離れて陰極から移動させる効果を有する。上記に示した電圧値は、焦点が発生源筐体のガス源室のおおよそ中心にあるように選択された。 [112] As clearly shown in the figure, the focusing / focusing effect is imposed on the orbit of the emitted electrons by using the Einzel lens. A small change in the voltage applied to the first Einzel lens ring (lens 1) has the effect of moving the focal point (or the maximum convergence point of the electron beam) from the cathode closer or further away as needed. Has. The voltage values shown above were selected so that the focus was approximately in the center of the gas source chamber of the source enclosure.

[113]装置のガス源室内のエネルギー電子衝撃によって生成されたイオンは、実際に質量分析計内で使用されたとき、外部電極板(例えば、品目11:図1B、図3又は図7)から発生源室内に延びる、貫通する「引き出し」電界を使用して、発生源室からイオン出口スリット(例えば、品目10:図1B、図3又は図7)を通じて加速されて、出力イオンビーム(例えば、品目13:図1B、図3又は図7)を形成する。反発電極板(例えば、品目8:図1B、図3又は図7)が提供されるのが典型的であり、これは、発生源室に対して、発生源室のスリットを通じて正のイオンビームをはねのけるのに役立つ電圧をそれにも印加した可能性がある。ニーア型装置のこれらの構成部品は、発生源室のイオン出口スリットに対して具体的な位置を有し、その場合、イオンビームを形成するイオンを作り出すことが望ましい。 [113] The ions generated by the energy electron impact in the gas source chamber of the device are from an external electrode plate (eg, item 11: FIG. 1B, FIG. 3 or FIG. 7) when actually used in a mass spectrometer. An output ion beam (eg, eg, item 10: FIG. 1B, FIG. 3 or 7) is accelerated from the source chamber through an ion exit slit (eg, item 10: FIG. 1B, FIG. 3 or FIG. 7) using a penetrating "pull-out" electric field that extends into the source chamber. Item 13: Form FIG. 1B, FIG. 3 or FIG. 7). A repulsive electrode plate (eg, item 8: FIG. 1B, FIG. 3 or FIG. 7) is typically provided, which directs a positive ion beam to the source chamber through a slit in the source chamber. It may also have applied a voltage that helps to repel it. These components of the Nier-type device have a specific position with respect to the ion exit slit in the source chamber, in which case it is desirable to produce the ions that form the ion beam.

[114]ニーア型発生源が分析物イオン化の領域を、出口スリット及び/又は反発電極に合わせて列を作っている、小さい位置によりよく抑制していればしているほど、より効果的に「引き出し」電界(及び/又は反発電極)がそれらのイオンを引き出している。これは、単にイオンが出口スリットを「外し」、発生源室の内壁に当たる可能性が小さいためであり、それらは出力イオンビームに寄与することができない。出力イオンビームの強度は、発生源室内のイオン化の位置が制御できる場合、増加され、そのイオン化電子はそこで集中される。 [114] The more effectively the Nier-type source suppresses the area of analyte ionization in a smaller location, aligned with the exit slit and / or the repulsive electrode, the more effectively " A "pull-out" electric field (and / or repulsion electrode) is pulling out those ions. This is simply because the ions are less likely to "remove" the exit slit and hit the inner wall of the source chamber, which cannot contribute to the output ion beam. The intensity of the output ion beam is increased if the position of ionization in the source chamber can be controlled, and the ionized electrons are concentrated there.

[115]さらに、イオンが「引き出し」電界の大きく分離された領域で発生された場合、その電界によって加速されることからそれらが獲得するエネルギーは、その分離の程度に比例して変動する。これは、引き出されたイオンのエネルギースペクトルの分解能をそれが低減するので望ましくない。ニーア型発生源が分析物イオン化の領域を「引き出し」電界内の小さい位置によりよく抑制していればいるほど、それらのイオンを引き出すエネルギー幅は小さくなる(より高い分解能)。 [115] Moreover, when ions are generated in a highly separated region of a "pull-out" electric field, the energy they gain from being accelerated by that electric field varies in proportion to the degree of separation. This is not desirable as it reduces the resolution of the energy spectrum of the extracted ions. The better the Nier-type source suppresses the area of analysis ionization to smaller locations in the "pull-out" electric field, the smaller the energy range to pull out those ions (higher resolution).

[116]傍熱電子源をアインツェル集束レンズと組み合わせ、コリメーション磁界を有さない新たなニーア型発生源の場合、装置全体を通ってトラップ電極までの電子の透過は、コリメーティング磁石とともに、ただし、アインツェルレンズなしの、直熱コイルフィラメントを備える従来のニーア型発生源の場合よりも顕著に大きいことが判明した。コリメーティング磁界の印加は、電子透過レベルを実際に減少させることが判明したことが留意される。磁界は、電子ビームを集束させるアインツェルレンズの能力を妨げる。 [116] In the case of a new Nier-type source that combines an indirect thermionic source with an Einzel condensing lens and does not have a collimation magnetic field, the transmission of electrons through the entire device to the trap electrode, along with the collimating magnet, , It turned out to be significantly larger than the case of a conventional Nier type source with a direct heating coil filament without an Einzel lens. It should be noted that the application of a collimating magnetic field was found to actually reduce the electron transmission level. The magnetic field interferes with the Einzel lens's ability to focus the electron beam.

[117]本発明による電子放出体の集中性及び方向性は、発生源室を通じてトラップ電極に透過される電子の数を増加させた。アインツェルレンズとして働く、電子放出体と発生源室/筐体との間の電気レンジング要素の追加により、電子ビームが首尾よく集束され、電子透過を増加させた。 [117] The concentration and orientation of the electron emitters according to the present invention has increased the number of electrons transmitted through the trap electrode through the source chamber. The addition of an electrical ranging element between the electron emitter and the source chamber / enclosure, which acts as an Einzel lens, successfully focused the electron beam and increased electron transmission.

[118]電子ビーム強度の増加とともに、発生源室内のイオン化領域からのコリメーティング磁界の除去により、質量バイアス効果が低減/除去される。電子ビームの集束により、電子放出面を発生源室/筐体からさらに離れても位置決めすることが可能になる。これにより、電子源のより低い動作温度と相まって、加熱効果の低減を発生源室/筐体に生じさせることが可能になり、それによって汚染物質のガス放出が低減する。 [118] As the electron beam intensity increases, the mass bias effect is reduced / eliminated by removing the collimating magnetic field from the ionized region in the source chamber. Focusing of the electron beam makes it possible to position the electron emitting surface even further away from the source chamber / housing. This, coupled with the lower operating temperature of the electron source, allows a reduction in heating effect to occur in the source chamber / enclosure, thereby reducing outgassing of pollutants.

[119]本発明の少数の好ましい実施形態を示し、説明してきたが、添付の特許請求の範囲に定義されているように、本発明の範囲から逸脱することなく、様々な変更及び修正を加えることができることが当業者によって理解されよう。 [119] Although a few preferred embodiments of the invention have been shown and described, various modifications and modifications are made without departing from the scope of the invention, as defined in the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that it can be done.

[120]本出願に関連して本明細書と同時に又は本明細書の前に出願される、及び本明細書の公衆閲覧を受け入れる、すべての論文及び文書に注意が向けられ、すべてのそのような論文及び文書の内容は参照により本明細書に組み込まれている。 [120] Attention is paid to and all such articles and documents filed at the same time as or prior to this specification in connection with this application and which accept public access of this specification. The contents of various articles and documents are incorporated herein by reference.

[121]本明細書に開示された特徴のすべて(任意の添付の特許請求の範囲、要約及び図面を含む)、及び/又はそのように開示された任意の方法又はプロセスのステップのすべては、任意の組合せで組み合わせることができるが、ただし、そのような特徴及び/又はステップの少なくともいくつかが相互排他的である組合せを除く。 [121] All of the features disclosed herein (including any accompanying claims, abstracts and drawings) and / or all of the steps of any method or process so disclosed. Any combination can be combined, except for combinations in which at least some of such features and / or steps are mutually exclusive.

[122]本明細書に開示された各特徴(任意の添付の特許請求の範囲、要約及び図面を含む)は、明示的に別段の定めをした場合を除き、同じ、同等の又は同様の目的にかなう代替の特徴で置き換えることができる。したがって、明示的に別段の定めをした場合を除き、開示された各特徴は、同等の又は同様の特徴のジェネリックシリーズ(generic series)の一例に過ぎない。 [122] Each feature disclosed herein, including any accompanying claims, abstracts and drawings, has the same, equivalent or similar purpose, unless expressly provided otherwise. It can be replaced with a suitable alternative feature. Therefore, unless expressly specified otherwise, each disclosed feature is merely an example of a generic series of equivalent or similar features.

[123]本発明は、前述の実施形態(複数可)の詳細に限定されない。本発明は、本明細書に開示された特徴の任意の新規の1つ、又は任意の新規の組合せ(任意の添付の特許請求の範囲、要約及び図面を含む)、又はそのように開示された任意の方法又はプロセスのステップの任意の新規の1つ、又は任意の新規の組合せに及ぶ。 [123] The present invention is not limited to the details of the aforementioned embodiments (s). The present invention is any novel one, or any new combination of features disclosed herein (including any accompanying claims, abstracts and drawings), or so disclosed. It extends to any new one or any new combination of steps in any method or process.

Claims (16)

ガス源質量分析計における電子源であって、
前記ガス源質量分析計のガス源室と連通してそれに対して電子を提供するために熱電子放出面を提示する電子放出陰極と、
前記電子放出陰極から電気的に絶縁されており、中の電流によって加熱されるように、及び前記電子放出面から熱電子的に電子を解放するのに十分な熱を前記電子放出陰極に放射するように配置された加熱要素とを備え、それを用いて、前記ガス源室内のガスをイオン化する際に使用するための電子の発生源を提供する、電子源。
An electron source in a gas source mass spectrometer
An electron emitting cathode that communicates with the gas source chamber of the gas source mass spectrometer and presents a thermionic emission surface to provide electrons to it.
It is electrically isolated from the electron emitting cathode and radiates sufficient heat to the electron emitting cathode to be heated by the current in it and to thermionically release electrons from the electron emitting surface. An electron source comprising a heating element arranged so as to provide a source of electrons for use in ionizing the gas in the gas source chamber.
前記ガス源質量分析計が、前記電子放出陰極が2000℃以下の温度に前記加熱要素によって加熱されることに応答して、少なくとも0.5mAの電流として前記ガス源室を横断した、電子を前記電子放出陰極から受け取るように動作可能な電子トラップを備える、請求項1に記載の電子源。 The gas source mass spectrometer traverses the gas source chamber with a current of at least 0.5 mA in response to the electron emitting cathode being heated by the heating element to a temperature of 2000 ° C. or lower. The electron source according to claim 1, further comprising an electron trap that can operate to receive from an electron emitting cathode. 前記ガス源室が、コリメータ磁石を使用せずに前記電子トラップの方に向けられている、前記ガス源室内の電子ビームを形成するように成形された電子入力開口において前記電子放出陰極から電子を受け取るように配置されている、請求項2に記載の電子源。 Electrons are emitted from the electron emitting cathode at an electron input opening formed so as to form an electron beam in the gas source chamber, in which the gas source chamber is directed toward the electron trap without using a collimeter magnet. The electronic source according to claim 2, which is arranged to receive. 前記電子放出陰極は、前記加熱要素への前記電力入力が5Wを超えないとき、前記加熱要素によって2000℃以下の温度に加熱されるように動作可能である、請求項2又は3に記載の電子源。 The electron according to claim 2 or 3, wherein the electron emitting cathode can operate so as to be heated to a temperature of 2000 ° C. or lower by the heating element when the power input to the heating element does not exceed 5 W. source. 前記電子放出陰極が、酸化物陰極、I陰極又はBa含浸陰極から選択される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の電子源。 The electron source according to any one of claims 1 to 4, wherein the electron emitting cathode is selected from an oxide cathode, an I cathode, or a Ba-impregnated cathode. 前記電子放出陰極が、前記電子放出面を提示する熱電子放出材料のコーティングを担持する基部を備える、請求項1〜5のいずれか一項に記載の電子源。 The electron source according to any one of claims 1 to 5, wherein the electron emitting cathode comprises a base carrying a coating of a thermionic emitting material that presents the electron emitting surface. 前記コーティングが、アルカリ性土壌酸化物、オスミウム(Os)、ルテニウム(Ru)から選択された材料を備える請求項6に記載の電子源。 The electron source according to claim 6, wherein the coating comprises a material selected from alkaline soil oxides, osmium (Os), ruthenium (Ru). 前記基部が、タングステン又はニッケルを備える、請求項6に記載の電子源。 The electron source according to claim 6, wherein the base comprises tungsten or nickel. 前記基部が、酸化バリウム(BaO)を備えた化合物で含浸されたタングステンを備える、請求項8に記載の電子源。 The electron source according to claim 8, wherein the base comprises tungsten impregnated with a compound containing barium oxide (BaO). 前記基部が、前記コーティングを前記加熱要素から分離する金属材料である、請求項6〜9のいずれか一項に記載の電子源。 The electron source according to any one of claims 6 to 9, wherein the base is a metallic material that separates the coating from the heating element. 前記加熱要素を囲むスリーブを備え、前記電子放出面が前記スリーブの端部に存在する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の電子源。 The electron source according to any one of claims 1 to 10, further comprising a sleeve surrounding the heating element and having the electron emitting surface at the end of the sleeve. 前記加熱要素が、金属酸化物材料を備えたコーティングでコートされた金属フィラメントを備える、請求項1〜11のいずれか一項に記載の電子源。 The electron source according to any one of claims 1 to 11, wherein the heating element comprises a metal filament coated with a coating comprising a metal oxide material. 請求項1〜12のいずれか一項に記載の電子源を備える質量分析計用のガスイオン源。 A gas ion source for a mass spectrometer comprising the electron source according to any one of claims 1 to 12. 前記イオン源が、ニーア型ガスイオン源である、請求項13に記載のガスイオン源。 The gas ion source according to claim 13, wherein the ion source is a Nier type gas ion source. 請求項13又は14に記載のガスイオン源を備える質量分析計。 A mass spectrometer comprising the gas ion source according to claim 13 or 14. ニーア型質量分析計として構成された、請求項15に記載の質量分析計。 The mass spectrometer according to claim 15, which is configured as a Nier type mass spectrometer.
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