JP2021175212A5

JP2021175212A5 -

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Publication number: JP2021175212A5
Application number: JP2020074809A
Authority: JP
Filing date: 2020-04-20
Publication date: 2023-04-20

Description

図１の固定子３２は、ジャケット１２２の中にＹ方向に等間隔にコイル１２１を有し、上下から可動子３１に挟まれるように配置されている。ここで、主極磁石１１４のピッチＭＰとコイル１２１のピッチＣＰには下記式（２）で表わされる関係がある。
ＣＰ＝１．５＊ＭＰ・・・（２）
The stator 32 of FIG. 1 has coils 121 in a jacket 122 at equal intervals in the Y direction, and is arranged so as to be sandwiched between the movers 31 from above and below. Here, the pitch MP of the main pole magnet 114 and the pitch CP of the coil 121 have a relationship represented by the following formula (2).
CP=1.5*MP (2)

Ｓ１０５では実際の磁束密度と理想的な磁束密度を正規化する。即ち、振幅を揃えた状態で相対位置の差を取得するようにしている。実際の磁束密度Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’は逆起電圧Ｖａ（Ｃ）及びＶｂ（Ｃ）と等価なので、Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’を逆起電圧の振幅Ｖで除すことで正規化した実際の磁束密度Ｂａ＿ｎｏｒ（Ｃ）’及びＢｂ＿ｎｏｒ（Ｃ）’を求めることが出来る。同様にして、Ｓ１０４で求めた理想的な磁束密度Ｂａ（Ｃ）及びＢｂ（Ｃ）も振幅Ｂで除すことで、正規化した理想的な磁束密度Ｂａ＿ｎｏｒ（Ｃ）及びＢｂ＿ｎｏｒ（Ｃ）を求めることが出来る。
In S105, the actual magnetic flux density and the ideal magnetic flux density are normalized. That is, the difference in relative position is obtained while the amplitudes are uniform. Since the actual magnetic flux densities Ba(C)' and Bb(C)' are equivalent to the back electromotive voltages Va(C) and Vb(C), Ba(C)' and Bb(C)' are the amplitudes of the back electromotive force V By dividing by , the actual normalized magnetic flux densities Ba_nor(C)' and Bb_nor(C)' can be obtained. Similarly, by dividing the ideal magnetic flux densities Ba(C) and Bb(C) obtained in S104 by the amplitude B, the normalized ideal magnetic flux densities Ba_nor(C) and Bb_nor(C) are obtained. can do

ここで、基板ステージ位置計測部１８は、レーザ光を用いたレーザ干渉計によって基板ステージ１５の位置を計測しているが、それに限られるものではなく、例えば、エンコーダによって基板ステージ１５の位置を計測してもよい。
基板マーク計測部２１は、例えば撮像素子を含み、基板上に設けられたマークの位置を検出することが出来る。
Here, the substrate stage position measuring unit 18 measures the position of the substrate stage 15 by a laser interferometer using laser light, but is not limited to this. For example, the position of the substrate stage 15 is measured by an encoder. may be measured.
The substrate mark measuring unit 21 includes, for example, an imaging device, and can detect the positions of marks provided on the substrate.