JP2021160300A - Temporary-fixation composite - Google Patents

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英幸 徳山
Hideyuki Tokuyama
誠 齋藤
Makoto Saito
充宏 金田
Mitsuhiro Kaneda
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Abstract

To provide a temporary-fixation composite having a temporary-fixation layer and a substrate layer, the temporary-fixation composite with an extremely small dimensional change rate when exposed to high temperature, and having high anchorability between the temporary-fixation layer and the substrate layer.SOLUTION: A temporary-fixation composite includes a temporary-fixation layer, a substrate layer and a silicone adhesive layer composed of a silicone adhesive. The temporary-fixation layer is a foam layer or a rubber layer. The temporary-fixation layer and the substrate layer are laminated interposing an undercoat layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、仮固定複合体に関する。 The present invention relates to a temporary fixed complex.

電子回路基板等の製造工程においては、部品の仮固定等を目的とする粘着テープが必要とされる(例えば、特許文献1〜3)。最近、仮固定材として、アクリル系粘着剤層付発泡体やウレタン系発泡体が提案されている(例えば、特許文献4、5)。 In the manufacturing process of electronic circuit boards and the like, adhesive tapes for the purpose of temporarily fixing parts are required (for example, Patent Documents 1 to 3). Recently, as temporary fixing materials, foams with an acrylic pressure-sensitive adhesive layer and urethane foams have been proposed (for example, Patent Documents 4 and 5).

電子回路基板等の製造工程においては、ハンダリフロー工程により、基板上への部品の実装が行われる場合がある。ハンダリフロー工程は、通常、50℃前後から徐々に温度が上昇し、最高温度が300℃近くになる熱履歴を有する。ハンダリフロー工程によって、基板と実装部品の間に存在するハンダボールが溶融してハンダ付けが行われる。 In the manufacturing process of an electronic circuit board or the like, a component may be mounted on the board by a solder reflow process. The solder reflow process usually has a thermal history in which the temperature gradually rises from around 50 ° C. and the maximum temperature becomes close to 300 ° C. By the solder reflow process, the solder balls existing between the substrate and the mounting component are melted and soldered.

電子回路基板等の製造工程に用いられる、部品の仮固定等を目的とする従来の粘着テープや仮固定材は、ハンダリフロー工程で曝されるような高温に耐えることができず、例えば、ハンダリフロー工程の前後において大きな寸法変化を生じてしまい、部品の仮固定等の目的を信頼性良く達成することができないことがある。 Conventional adhesive tapes and temporary fixing materials used in the manufacturing process of electronic circuit boards and the like for the purpose of temporary fixing of parts cannot withstand high temperatures exposed in the solder reflow process, for example, solder. Large dimensional changes may occur before and after the reflow process, and the purpose of temporary fixing of parts may not be achieved with high reliability.

さらに、部品の仮固定等を目的とする従来の粘着テープや仮固定材の多くは、仮固定機能を発現する仮固定層と基材層を備えている。しかし、仮固定層は基材層との投錨性が低く、仮固定層の浮きや剥がれが起きやすいという問題がある。 Further, many of the conventional adhesive tapes and temporary fixing materials for the purpose of temporarily fixing parts are provided with a temporary fixing layer and a base material layer that exhibit a temporary fixing function. However, the temporary fixing layer has a low anchoring property with the base material layer, and there is a problem that the temporary fixing layer tends to float or peel off.

特開2008−201899号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-201899 特開2006−332419号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-332419 特開2006−077072号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-077072 特開2010−234536号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-234536 特開2013−144788号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-144788

本発明の課題は、仮固定層と基材層を有する仮固定複合体であって、高温に曝されたときの寸法変化率が極めて小さく、且つ、仮固定層と基材層との投錨性が高い、仮固定複合体を提供することにある。 An object of the present invention is a temporary fixing complex having a temporary fixing layer and a base material layer, which has an extremely small dimensional change rate when exposed to a high temperature, and has anchorability between the temporary fixing layer and the base material layer. Is to provide a temporary fixed complex with a high value.

本発明の仮固定複合体は、
仮固定層と基材層とシリコーン系粘着剤から形成されるシリコーン系粘着剤層を含む仮固定複合体であって、
該仮固定層が発泡層またはゴム層であり、
該仮固定層と該基材層とが下塗り層を介して積層されてなる。
The temporary fixed complex of the present invention is
A temporary fixing composite containing a temporary fixing layer, a base material layer, and a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer formed of a silicone-based pressure-sensitive adhesive.
The temporary fixing layer is a foam layer or a rubber layer, and the temporary fixing layer is a foam layer or a rubber layer.
The temporary fixing layer and the base material layer are laminated via an undercoat layer.

一つの実施形態においては、上記下塗り層の厚みが0.01μm〜5μmである。 In one embodiment, the undercoat layer has a thickness of 0.01 μm to 5 μm.

一つの実施形態においては、上記下塗り層の厚みが0.1μm〜3μmである。 In one embodiment, the undercoat layer has a thickness of 0.1 μm to 3 μm.

一つの実施形態においては、上記下塗り層を構成する下塗り剤がシリコーン系下塗り剤である。 In one embodiment, the undercoating agent constituting the undercoating layer is a silicone-based undercoating agent.

一つの実施形態においては、上記シリコーン系下塗り剤が、過酸化物架橋型シリコーン系粘着剤である。 In one embodiment, the silicone-based undercoat is a peroxide-crosslinked silicone-based pressure-sensitive adhesive.

一つの実施形態においては、上記シリコーン系下塗り剤が、付加反応型シリコーン系粘着剤である。 In one embodiment, the silicone-based undercoat is an addition-reaction silicone-based pressure-sensitive adhesive.

一つの実施形態においては、上記仮固定層がシリコーン系発泡層である。 In one embodiment, the temporary fixing layer is a silicone-based foam layer.

一つの実施形態においては、上記シリコーン系粘着剤層の厚みが1μm〜100μmである。 In one embodiment, the thickness of the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer is 1 μm to 100 μm.

一つの実施形態においては、上記シリコーン系粘着剤層の厚みが5μm〜90μmである。 In one embodiment, the thickness of the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer is 5 μm to 90 μm.

一つの実施形態においては、上記シリコーン系粘着剤層の厚みが8μm〜80μmである。 In one embodiment, the thickness of the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer is 8 μm to 80 μm.

本発明によれば、仮固定層と基材層を有する仮固定複合体であって、高温に曝されたときの寸法変化率が極めて小さく、且つ、仮固定層と基材層との投錨性が高い、仮固定複合体を提供することができる。 According to the present invention, it is a temporary fixing complex having a temporary fixing layer and a base material layer, the dimensional change rate when exposed to a high temperature is extremely small, and the anchoring property between the temporary fixing layer and the base material layer is extremely small. It is possible to provide a temporary fixed complex having a high value.

本発明の一つの実施形態による仮固定複合体の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the temporary fixed complex by one Embodiment of this invention. 寸法変化率の測定で用いるハンダリフロープロセスの熱履歴を表す図である。It is a figure which shows the thermal history of the solder reflow process used in the measurement of a dimensional change rate.

≪≪仮固定複合体≫≫
本発明の仮固定複合体は、仮固定層と基材層とシリコーン系粘着剤から形成されるシリコーン系粘着剤層を含む。本発明の仮固定複合体は、このような構成を採用することにより、高温に曝されたときの寸法変化率が極めて小さくなり得る。仮固定層は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。基材層は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。シリコーン系粘着剤層は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。
≪≪Temporary fixed complex≫≫
The temporary fixing composite of the present invention includes a temporary fixing layer, a base material layer, and a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer formed of a silicone-based pressure-sensitive adhesive. By adopting such a configuration, the temporary fixed complex of the present invention can have an extremely small dimensional change rate when exposed to a high temperature. The temporary fixing layer may be only one layer or two or more layers. The base material layer may be only one layer or two or more layers. The silicone-based pressure-sensitive adhesive layer may be only one layer or two or more layers.

本発明の仮固定複合体は、仮固定層と基材層とが下塗り層を介して積層されてなる。このように、仮固定層と基材層とが下塗り層を介して積層されることにより、仮固定層と基材層との投錨性が高くなり得る。 The temporary fixing composite of the present invention is formed by laminating a temporary fixing layer and a base material layer via an undercoat layer. By laminating the temporary fixing layer and the base material layer via the undercoat layer in this way, the anchoring property between the temporary fixing layer and the base material layer can be improved.

本発明の仮固定複合体は、仮固定層と下塗り層と基材層とシリコーン系粘着剤から形成されるシリコーン系粘着剤層を含んでいれば、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な他の層を含んでいてもよい。このような他の層は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。 The temporary fixing composite of the present invention is arbitrary as long as it contains a temporary fixing layer, an undercoat layer, a base material layer, and a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer formed of a silicone-based pressure-sensitive adhesive, as long as the effects of the present invention are not impaired. It may contain other suitable layers. Such other layers may be only one layer or two or more layers.

本発明の仮固定複合体において、仮固定層の表面には、使用するまで、セパレーターが貼着されていてもよい。このようなセパレーターは、支持体として機能させるものではない場合、好ましくは、仮固定したい部材を本発明の仮固定複合体の上に載置する前に、仮固定層の表面から剥離する。 In the temporary fixing composite of the present invention, a separator may be attached to the surface of the temporary fixing layer until it is used. When such a separator does not function as a support, it is preferably peeled off from the surface of the temporary fixing layer before the member to be temporarily fixed is placed on the temporary fixing composite of the present invention.

したがって、本発明の仮固定複合体においては、仮固定層または仮固定層の表面に貼着されたセパレーターが、好ましくは、一方の最外層となる。 Therefore, in the temporary fixing composite of the present invention, the temporary fixing layer or the separator attached to the surface of the temporary fixing layer is preferably one of the outermost layers.

本発明の仮固定複合体において、シリコーン系粘着剤層が最外層である場合は、該シリコーン系粘着剤層の表面には、使用するまで、セパレーターが貼着されていてもよい。このようなセパレーターは、支持体として機能させるものではない場合、好ましくは、使用前に、シリコーン系粘着剤層の表面から剥離する。 In the temporary fixing composite of the present invention, when the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer is the outermost layer, a separator may be attached to the surface of the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer until it is used. When such a separator does not function as a support, it is preferably peeled off from the surface of the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer before use.

図1に示すように、本発明の仮固定複合体100の一つの実施形態は、仮固定層10と下塗り層20と基材層30とシリコーン系粘着剤層40を有する。図1においては、仮固定層と下塗り層と基材層とシリコーン系粘着剤層は直接に積層されてなる。 As shown in FIG. 1, one embodiment of the temporary fixing composite 100 of the present invention has a temporary fixing layer 10, an undercoat layer 20, a base material layer 30, and a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer 40. In FIG. 1, the temporary fixing layer, the undercoat layer, the base material layer, and the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer are directly laminated.

本発明の仮固定複合体の総厚みは、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは10μm〜4000μmであり、より好ましくは20μm〜3000μmであり、さらに好ましくは30μm〜2000μmであり、特に好ましくは40μm〜1000μmである。 The total thickness of the temporary fixed complex of the present invention is preferably 10 μm to 4000 μm, more preferably 20 μm to 3000 μm, and further preferably 30 μm to 2000 μm in that the effects of the present invention can be more exhibited. Particularly preferably, it is 40 μm to 1000 μm.

本発明の仮固定複合体は、100mm×100mmに切り出したサンプルについて、ピーク温度が270℃のハンダリフロープロセスを通した後に温度23℃×湿度50%RHで1時間静置したときに、MD方向の寸法変化率が、好ましくは0.3%以下であり、より好ましくは0.28%以下であり、さらに好ましくは0.25%であり、特に好ましくは0.23%であり、最も好ましくは0.2%以下であり、TD方向の寸法変化率が、好ましくは0.3%以下であり、より好ましくは0.28%以下であり、さらに好ましくは0.25%であり、特に好ましくは0.23%であり、最も好ましくは0.2%以下である。上記MD方向の寸法変化率が上記範囲内にあり、上記TD方向の寸法変化率が上記範囲内にあれば、本発明の仮固定複合体は、高温に曝されたときの寸法変化率が極めて小さい発泡複合体となり得る。 The temporary fixed composite of the present invention is obtained in the MD direction when a sample cut into 100 mm × 100 mm is allowed to stand for 1 hour at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH after passing through a solder reflow process having a peak temperature of 270 ° C. The dimensional change rate of is preferably 0.3% or less, more preferably 0.28% or less, further preferably 0.25%, particularly preferably 0.23%, and most preferably. It is 0.2% or less, and the dimensional change rate in the TD direction is preferably 0.3% or less, more preferably 0.28% or less, still more preferably 0.25%, and particularly preferably. It is 0.23%, most preferably 0.2% or less. If the dimensional change rate in the MD direction is within the above range and the dimensional change rate in the TD direction is within the above range, the temporary fixed composite of the present invention has an extremely high dimensional change rate when exposed to a high temperature. It can be a small foam complex.

なお、MD方向の寸法変化率およびTD方向の寸法変化率は下記式で求められる。 The dimensional change rate in the MD direction and the dimensional change rate in the TD direction are calculated by the following formulas.

MD方向の寸法変化率(%)=[(ハンダリフロープロセスを通す前のMD方向長さ(mm)−ハンダリフロープロセスを通した後に温度23℃×湿度50%RHで1時間静置した後のMD方向長さ(mm))/ハンダリフロープロセスを通す前のMD方向長さ(mm)]×100(%) Dimensional change rate in MD direction (%) = [(Length in MD direction before passing through solder reflow process (mm) -After passing through solder reflow process, after standing at temperature 23 ° C. x humidity 50% RH for 1 hour MD direction length (mm)) / MD direction length before passing through the solder reflow process (mm)] x 100 (%)

TD方向の寸法変化率(%)=[(ハンダリフロープロセスを通す前のTD方向長さ(mm)−ハンダリフロープロセスを通した後に温度23℃×湿度50%RHで1時間静置した後のTD方向長さ(mm))/ハンダリフロープロセスを通す前のTD方向長さ(mm)]×100(%) Dimensional change rate in the TD direction (%) = [(Length in the TD direction before passing through the solder reflow process (mm) -After passing through the solder reflow process, after standing at a temperature of 23 ° C. x humidity of 50% RH for 1 hour TD direction length (mm)) / TD direction length before passing through the solder reflow process (mm)] x 100 (%)

≪仮固定層≫
仮固定層の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な厚みを採用し得る。このような発泡層の厚みは、好ましくは10μm〜3500μmであり、より好ましくは20μm〜2500μmであり、さらに好ましくは30μm〜1500μmであり、特に好ましくは40μm〜950μmである。仮固定層の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の仮固定複合体は、優れた仮固定性を発現し得る。
≪Temporary fixed layer≫
As the thickness of the temporary fixing layer, any appropriate thickness can be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. The thickness of such a foam layer is preferably 10 μm to 3500 μm, more preferably 20 μm to 2500 μm, further preferably 30 μm to 1500 μm, and particularly preferably 40 μm to 950 μm. When the thickness of the temporary fixing layer is within the above range, the temporary fixing complex of the present invention can exhibit excellent temporary fixing property.

仮固定層は、発泡層またはゴム層であり、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは発泡層である。 The temporary fixing layer is a foam layer or a rubber layer, and is preferably a foam layer in that the effects of the present invention can be more exhibited.

発泡層は、好ましくは、セル(球状気泡)を有する。なお、セル(球状気泡)は、厳密な真球状の気泡でなくてもよく、例えば、部分的にひずみのある略球状の気泡や、大きなひずみを有する空間からなる気泡であってもよい。 The foam layer preferably has cells (spherical bubbles). The cell (spherical bubble) does not have to be a strict true spherical bubble, and may be, for example, a substantially spherical bubble having a partial strain or a bubble composed of a space having a large strain.

発泡層は、好ましくは、連続気泡構造を備える発泡層である。発泡層が連続気泡構造を備えることにより、気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができる。発泡層は、より具体的には、隣接するセル間に貫通孔を有する連続気泡構造を備える。発泡層が隣接するセル間に貫通孔を有する連続気泡構造を備えることにより、発泡層の他の特徴と相まって、優れた気泡抜け性を発現でき、より気泡を咬み込むことなく部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際は糊残りなくより容易に剥がすことができる。また、発泡層の厚みを薄くしてもこれらの効果の発現を維持できる。 The foam layer is preferably a foam layer having an open cell structure. Since the foam layer has an open cell structure, the member can be effectively temporarily fixed on the foam layer without biting air bubbles. More specifically, the foam layer has an open cell structure having through holes between adjacent cells. By providing an open cell structure in which the foam layer has through holes between adjacent cells, excellent air bubble removal property can be exhibited in combination with other features of the foam layer, and the member can be placed on the foam layer without biting bubbles. It can be effectively temporarily fixed, and when the temporary fixing is released, it can be peeled off more easily without adhesive residue. Further, even if the thickness of the foam layer is reduced, the expression of these effects can be maintained.

連続気泡構造が存在するかどうかの観察は、低真空走査電子顕微鏡(「S−3400N型走査電子顕微鏡」、日立ハイテクフィールディング社製)により、発泡層断面の拡大画像を取り込み、セル壁の貫通孔の有無を確認することによって行うことができる。 To observe the existence of the open cell structure, use a low vacuum scanning electron microscope (“S-3400N scanning electron microscope”, manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.) to capture an enlarged image of the cross section of the foam layer, and through the hole in the cell wall. It can be done by confirming the presence or absence of.

発泡層は、連続気泡率が、好ましくは90%以上であり、より好ましくは90%〜100%であり、さらに好ましくは92%〜100%であり、さらに好ましくは95%〜100%であり、特に好ましくは99%〜100%であり、最も好ましくは実質的に100%である。発泡層の連続気泡率が上記範囲にあれば、発泡層の他の特徴と相まって、より優れた気泡抜け性を発現でき、より一層気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際は糊残りなくより一層容易に剥がすことができる。また、発泡層の厚みを薄くしてもこれらの効果の発現をより維持できる。 The foam layer has an open cell ratio of preferably 90% or more, more preferably 90% to 100%, still more preferably 92% to 100%, still more preferably 95% to 100%. It is particularly preferably 99% to 100%, and most preferably substantially 100%. When the open cell ratio of the foam layer is within the above range, it is possible to exhibit better air bubble removal property in combination with other characteristics of the foam layer, and the member can be effectively placed on the foam layer without further biting bubbles. It can be temporarily fixed, and when the temporary fixing is released, it can be peeled off more easily without adhesive residue. Further, even if the thickness of the foam layer is reduced, the expression of these effects can be further maintained.

連続気泡率は、例えば、下記のようにして測定することができる。すなわち、発泡層を水中に沈め、−750mmHgの減圧下で3分間放置することで、気泡中の空気を水に置換し、吸収された水の質量を図り、水の密度を1.0g/cmとして吸収された水の体積を算出し、下記の式により算出する。
連続気泡率(%)={(吸水した水の体積)/(気泡部分体積)}×100
The open cell ratio can be measured, for example, as follows. That is, by submerging the foam layer in water and leaving it under a reduced pressure of -750 mmHg for 3 minutes, the air in the bubbles is replaced with water, the mass of the absorbed water is measured, and the density of water is 1.0 g / cm. The volume of water absorbed as 3 is calculated and calculated by the following formula.
Continuous bubble ratio (%) = {(volume of absorbed water) / (partial volume of bubbles)} x 100

なお、気泡部分体積は、例えば、下記の式により算出する。ここで、樹脂密度は、発泡層を形成する樹脂中の乳化剤を除いて作製した樹脂成形体の密度を測定することで得られる値である。
気泡部分体積(cm)={(発泡体(発泡シート)の質量)/(発泡体(発泡シート)の見かけ密度)}−{(発泡体(発泡シート)の質量)/(樹脂密度)}
The bubble partial volume is calculated by, for example, the following formula. Here, the resin density is a value obtained by measuring the density of the resin molded product produced by removing the emulsifier in the resin forming the foam layer.
Cell volume (cm 3 ) = {(mass of foam (foam sheet)) / (apparent density of foam (foam sheet))}-{(mass of foam (foam sheet)) / (resin density)}

発泡層は、平均セル径が、好ましくは1μm〜200μmであり、より好ましくは1.5μm〜180μmであり、さらに好ましくは2μm〜170μmであり、特に好ましくは2.5μm〜160μmであり、最も好ましくは3μm〜150μmである。発泡層において、平均セル径が上記範囲にあれば、発泡層の他の特徴と相まって、より優れた気泡抜け性を発現でき、より一層気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際は糊残りなくより一層容易に剥がすことができる。また、発泡層の厚みを薄くしてもこれらの効果の発現をより維持できる。 The foamed layer has an average cell diameter of preferably 1 μm to 200 μm, more preferably 1.5 μm to 180 μm, still more preferably 2 μm to 170 μm, particularly preferably 2.5 μm to 160 μm, and most preferably. Is 3 μm to 150 μm. If the average cell diameter of the foamed layer is within the above range, it is possible to exhibit better air bubble removal property in combination with other characteristics of the foamed layer, and the member is effectively placed on the foamed layer without further biting bubbles. It can be temporarily fixed to the surface, and when the temporary fixing is released, it can be peeled off more easily without adhesive residue. Further, even if the thickness of the foam layer is reduced, the expression of these effects can be further maintained.

発泡層は、好ましくは、全セルの90%以上のセル径が300μm以下であり、より好ましくは、全セルの92%以上のセル径が300μm以下であり、さらに好ましくは、全セルの95%以上のセル径が300μm以下であり、特に好ましくは、全セルの97%以上のセル径が300μm以下であり、最も好ましくは、全セルの実質的に100%のセル径が300μm以下である。また、発泡層は、より好ましくは、全セルの90%以上のセル径が250μm以下であり、さらに好ましくは、全セルの90%以上のセル径が200μm以下であり、特に好ましくは、全セルの90%以上のセル径が180μm以下であり、最も好ましくは、全セルの90%以上のセル径が150μm以下である。発泡層において、300μm以下のセル径の割合や全セルの90%以上のセル径が上記範囲にあれば、発泡層の他の特徴と相まって、より優れた気泡抜け性を発現でき、より一層気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際は糊残りなくより一層容易に剥がすことができる。また、発泡層の厚みを薄くしてもこれらの効果の発現をより維持できる。 The foam layer preferably has a cell diameter of 90% or more of all cells of 300 μm or less, more preferably 92% or more of all cells having a cell diameter of 300 μm or less, and further preferably 95% of all cells. The above cell diameter is 300 μm or less, particularly preferably 97% or more of all cells have a cell diameter of 300 μm or less, and most preferably substantially 100% of all cells have a cell diameter of 300 μm or less. Further, the foam layer is more preferably 90% or more of all cells having a cell diameter of 250 μm or less, further preferably 90% or more of all cells having a cell diameter of 200 μm or less, and particularly preferably all cells. 90% or more of the cell diameter is 180 μm or less, and most preferably 90% or more of all cells have a cell diameter of 150 μm or less. In the foamed layer, if the ratio of the cell diameter of 300 μm or less and the cell diameter of 90% or more of all the cells are within the above range, more excellent air bubble removal property can be exhibited in combination with other characteristics of the foamed layer, and even more bubbles can be exhibited. The member can be effectively temporarily fixed on the foam layer without biting, and when the temporary fixing is released, it can be peeled off more easily without adhesive residue. Further, even if the thickness of the foam layer is reduced, the expression of these effects can be further maintained.

発泡層は、全セル中の最大セル径が、好ましくは300μm以下であり、より好ましくは250μm以下であり、さらに好ましくは200μm以下であり、特に好ましくは180μm以下であり、最も好ましくは150μm以下である。発泡層において、全セル中の最大セル径が上記範囲にあれば、発泡層の他の特徴と相まって、より優れた気泡抜け性を発現でき、より一層気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際は糊残りなくより一層容易に剥がすことができる。また、発泡層の厚みを薄くしてもこれらの効果の発現をより維持できる。 The maximum cell diameter in all cells of the foamed layer is preferably 300 μm or less, more preferably 250 μm or less, further preferably 200 μm or less, particularly preferably 180 μm or less, and most preferably 150 μm or less. be. In the foam layer, if the maximum cell diameter in all cells is within the above range, it is possible to exhibit better air bubble removal property in combination with other characteristics of the foam layer, and the member can be formed into a foam layer without further biting bubbles. It can be effectively temporarily fixed on the top, and when the temporary fixing is released, it can be peeled off more easily without adhesive residue. Further, even if the thickness of the foam layer is reduced, the expression of these effects can be further maintained.

発泡層は、全セル中の最小セル径が、好ましくは100μm以下であり、より好ましくは80μm以下であり、さらに好ましくは70μm以下であり、特に好ましくは60μm以下であり、最も好ましくは50μm以下である。発泡層において、全セル中の最小セル径が上記範囲にあれば、発泡層の他の特徴と相まって、より優れた気泡抜け性を発現でき、より一層気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際は糊残りなくより一層容易に剥がすことができる。また、発泡層の厚みを薄くしてもこれらの効果の発現をより維持できる。 The minimum cell diameter in all cells of the foam layer is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, further preferably 70 μm or less, particularly preferably 60 μm or less, and most preferably 50 μm or less. be. In the foam layer, if the minimum cell diameter in all cells is within the above range, it is possible to exhibit better air bubble removal property in combination with other characteristics of the foam layer, and the member can be formed into a foam layer without further biting bubbles. It can be effectively temporarily fixed on the top, and when the temporary fixing is released, it can be peeled off more easily without adhesive residue. Further, even if the thickness of the foam layer is reduced, the expression of these effects can be further maintained.

このように、発泡層が、好ましくは、連続気泡構造を備え、また、好ましくは、セル径が上記のように微細であることにより、優れた気泡抜け性を発現でき、気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際は糊残りなく剥がすことができ、仮固定複合体に好適なものとなる。 As described above, the foamed layer preferably has an open cell structure, and preferably has a fine cell diameter as described above, so that excellent air bubble removal property can be exhibited and bubbles are not bitten. , The member can be effectively temporarily fixed on the foam layer, and when the temporary fixing is released, it can be peeled off without adhesive residue, which is suitable for the temporary fixing composite.

平均セル径は、例えば、低真空走査電子顕微鏡(「S−3400N型走査電子顕微鏡」、日立ハイテクサイエンスシステムズ社製)により、発泡層断面の拡大画像を取り込み、画像解析することにより求めることができる。解析するセル数としては、例えば20個である。同様の方法で、最小セル径(μm)および最大セル径(μm)を求めることができる。 The average cell diameter can be determined, for example, by capturing an enlarged image of the cross section of the foam layer with a low vacuum scanning electron microscope (“S-3400N type scanning electron microscope”, manufactured by Hitachi High-Tech Science Systems Co., Ltd.) and analyzing the image. .. The number of cells to be analyzed is, for example, 20. The minimum cell diameter (μm) and the maximum cell diameter (μm) can be obtained by the same method.

発泡層は、好ましくは、表面開口部を有する。ここにいう表面開口部とは、発泡層の表面に存在する、ある大きさの平均孔径を有する開口部を意味する。発泡層が表面開口部を有することにより、本発明の吸着仮固定シートは、より気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際に糊残りなくより容易に剥がすことができる。これは、表面開口部が、適切な吸盤として働くためと推察され、これにより、発泡層を有する本発明の仮固定複合体は、上記のような優れた仮固定性をより発現できる。 The foam layer preferably has a surface opening. The surface opening referred to here means an opening having an average pore diameter of a certain size existing on the surface of the foamed layer. Since the foamed layer has a surface opening, the adsorption temporary fixing sheet of the present invention can effectively temporarily fix the member on the foamed layer without biting more air bubbles, and when the temporary fixing is released. It can be peeled off more easily without adhesive residue. It is presumed that this is because the surface opening acts as an appropriate suction cup, whereby the temporary fixing complex of the present invention having a foamed layer can more exhibit the excellent temporary fixing property as described above.

表面開口部の開口率は、好ましくは1%〜99%であり、より好ましくは2%〜95%であり、さらに好ましくは3%〜90%であり、特に好ましくは4%〜85%であり、最も好ましくは5%〜80%である。表面開口部の開口率が上記範囲にあれば、本発明の仮固定複合体は、より気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際に糊残りなくより容易に剥がすことができる。 The aperture ratio of the surface opening is preferably 1% to 99%, more preferably 2% to 95%, still more preferably 3% to 90%, and particularly preferably 4% to 85%. , Most preferably 5% to 80%. When the opening ratio of the surface opening is within the above range, the temporary fixing composite of the present invention can effectively temporarily fix the member on the foam layer without biting more air bubbles, and the temporary fixing is released. It can be peeled off more easily without adhesive residue.

表面開口部の平均孔径は、好ましくは150μm以下であり、より好ましくは0.5μm〜145μmであり、さらに好ましくは1.0μm〜140μmであり、特に好ましくは1.5μm〜135μmであり、最も好ましくは2.0μm〜130μmである。表面開口部の平均孔径が上記範囲にあれば、本発明の仮固定複合体は、より気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際に糊残りなくより容易に剥がすことができる。 The average pore size of the surface opening is preferably 150 μm or less, more preferably 0.5 μm to 145 μm, further preferably 1.0 μm to 140 μm, particularly preferably 1.5 μm to 135 μm, and most preferably. Is 2.0 μm to 130 μm. When the average pore diameter of the surface opening is within the above range, the temporary fixing composite of the present invention can effectively temporarily fix the member on the foam layer without biting more air bubbles, and the temporary fixing is released. It can be peeled off more easily without adhesive residue.

表面開口部の平均孔径は、例えば、低真空走査電子顕微鏡(「S−3400N型走査電子顕微鏡」、日立ハイテクフィールディング社製)により、発泡層表面の拡大画像を取り込み、画像解析することにより求めることができる。解析する孔数は、例えば20個である。 The average pore size of the surface opening is determined by, for example, capturing an enlarged image of the surface of the foam layer with a low vacuum scanning electron microscope (“S-3400N type scanning electron microscope”, manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Corporation) and analyzing the image. Can be done. The number of holes to be analyzed is, for example, 20.

発泡層の見かけ密度は、好ましくは0.15g/cm〜0.90g/cmであり、より好ましくは0.20g/cm〜0.85g/cmであり、さらに好ましくは0.25g/cm〜0.80g/cmであり、特に好ましくは0.30g/cm〜0.75g/cmである。発泡層の見かけ密度が上記範囲にあれば、発泡層の他の特徴と相まって、より気泡を咬み込むことなく、部材を発泡層上に効果的に仮固定することができ、仮固定を解除する際は糊残りなくより容易に剥がすことができる。また、発泡層の厚みを薄くしてもこれらの効果の発現を維持できる。 The apparent density of the expanded layer is preferably 0.15g / cm 3 ~0.90g / cm 3 , more preferably from 0.20g / cm 3 ~0.85g / cm 3 , more preferably 0.25g / cm 3 was ~0.80G / cm 3, particularly preferably from 0.30g / cm 3 ~0.75g / cm 3 . When the apparent density of the foamed layer is within the above range, the member can be effectively temporarily fixed on the foamed layer without biting more air bubbles in combination with other characteristics of the foamed layer, and the temporary fixing is released. In the case, it can be peeled off more easily without adhesive residue. Further, even if the thickness of the foam layer is reduced, the expression of these effects can be maintained.

発泡層は、その表面の算術平均表面粗さRaが、好ましくは0.1μm〜10μmであり、より好ましくは0.2μm〜9μmであり、さらに好ましくは0.3μm〜8.5μmであり、特に好ましくは0.4μm〜8μmである。発泡層の表面が、このような範囲の算術平均表面粗さRaを有することにより、本発明の仮固定複合体は、表面と同じ方向にはより十分なせん断接着力を有し、表面に対して垂直方向にはより弱い接着力を有することができる。 The surface of the foam layer has an arithmetic mean surface roughness Ra of preferably 0.1 μm to 10 μm, more preferably 0.2 μm to 9 μm, still more preferably 0.3 μm to 8.5 μm, and particularly. It is preferably 0.4 μm to 8 μm. Since the surface of the foam layer has an arithmetic average surface roughness Ra in such a range, the temporary fixing composite of the present invention has more sufficient shear adhesive force in the same direction as the surface, and has a sufficient shear adhesive force with respect to the surface. It can have a weaker adhesive force in the vertical direction.

発泡層の表面には、前述したように、使用するまで、セパレーターが貼着されていてもよい。このようなセパレーターは、支持体として機能させるものではない場合、好ましくは、仮固定したい部材を本発明の発泡複合体に載置する前に、発泡層の表面から剥離する。 As described above, a separator may be attached to the surface of the foam layer until it is used. When such a separator does not function as a support, it is preferably peeled off from the surface of the foam layer before the member to be temporarily fixed is placed on the foam composite of the present invention.

セパレーターの厚みは、好ましくは1μm〜500μmであり、より好ましくは3μm〜450μmであり、さらに好ましくは5μm〜400μmであり、特に好ましくは10μm〜300μmである。 The thickness of the separator is preferably 1 μm to 500 μm, more preferably 3 μm to 450 μm, further preferably 5 μm to 400 μm, and particularly preferably 10 μm to 300 μm.

セパレーターとしては、例えば、紙、プラスチックフィルム、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム、表面がシリコーン処理やフッ化シリコーン処理されたプラスチックフィルムなどが挙げられる。 Examples of the separator include paper, a plastic film, a polytetrafluoroethylene (PTFE) film, and a plastic film whose surface is treated with silicone or fluorosilicone.

プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミド(ナイロン)フィルム、芳香族ポリアミド(アラミド)フィルムなどが挙げられる。 Examples of the plastic film include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, and polyethylene naphthalate film. Examples thereof include polyurethane films, ethylene-vinyl acetate copolymer films, polyimide films, polyamide (nylon) films, and aromatic polyamide (aramid) films.

特に、本発明の効果をより発現させ得る点で、シリコーン処理やフッ化シリコーン処理などの表面処理がなされていないプラスチックフィルムが、セパレーターとして、発泡層の少なくとも一方の表面に貼着されていることが好ましい。このようなセパレーターとしては、特に好ましくは、シリコーン処理やフッ化シリコーン処理などの表面処理がなされていないポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムである。 In particular, a plastic film that has not been surface-treated, such as silicone treatment or fluorinated silicone treatment, is attached to at least one surface of the foam layer as a separator in that the effects of the present invention can be further exhibited. Is preferable. As such a separator, a polyethylene terephthalate (PET) film which has not been surface-treated such as a silicone treatment or a fluorosilicone treatment is particularly preferable.

上記のようなセパレーターとしては、その表面の算術平均表面粗さRaが、好ましくは0.1μm〜5μmであり、より好ましくは0.15μm〜4.5μmであり、さらに好ましくは0.2μm〜4μmであり、特に好ましくは0.22μm〜3.5μmである。このような範囲の算術平均表面粗さRaの表面を有するセパレーターを採用することにより、このようなセパレーターを、仮固定したい部材を本発明の発泡複合体に載置する前に発泡層の表面から剥離することにより、本発明の仮固定複合体は、表面と同じ方向にはより十分なせん断接着力を有し、表面に対して垂直方向にはより弱い接着力を有することができる。 As the separator as described above, the arithmetic mean surface roughness Ra of the surface thereof is preferably 0.1 μm to 5 μm, more preferably 0.15 μm to 4.5 μm, and further preferably 0.2 μm to 4 μm. It is particularly preferably 0.22 μm to 3.5 μm. By adopting a separator having a surface with an arithmetic average surface roughness Ra in such a range, such a separator can be attached from the surface of the foam layer before the member to be temporarily fixed is placed on the foam composite of the present invention. By peeling, the temporary fixing composite of the present invention can have a more sufficient shear adhesive force in the same direction as the surface and a weaker adhesive force in the direction perpendicular to the surface.

発泡層の一つの実施形態はシリコーン系発泡層である。発泡層がシリコーン系発泡層であることにより、本発明の効果がより発現し得る。 One embodiment of the foam layer is a silicone-based foam layer. When the foamed layer is a silicone-based foamed layer, the effects of the present invention can be more exhibited.

シリコーン系発泡層は、好ましくは、シリコーン樹脂組成物の熱硬化によって形成される。 The silicone-based foam layer is preferably formed by thermosetting the silicone resin composition.

シリコーン樹脂組成物は、好ましくは、下記の(A)〜(F)からなる群から選ばれる少なくとも1種の要件を満たす。 The silicone resin composition preferably satisfies at least one requirement selected from the group consisting of the following (A) to (F).

すなわち、シリコーン樹脂組成物は、好ましくは、
(A)一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンを含む、
(B)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンを、上記(A)成分中のアルケニル基1モルに対して(B)成分中のケイ素原子結合水素原子が0.4モル〜20モルとなる量で含む、
(C)(A)成分100質量部に対して、水と無機系増粘剤からなる混合物100質量部〜1000質量部を含む、
(D)(D−1)HLBの値が3以上であるノニオン系界面活性剤および(D−2)HLBの値が3未満であるノニオン系界面活性剤からなる界面活性剤を、(D−2)成分に対する(D−1)成分の質量比が0.1質量部〜100質量部で含む、
(E)ヒドロシリル化反応触媒を含む、
(F)(A)成分100質量部に対して、硬化遅延剤0.001質量部〜5質量部を含む、
からなる群から選ばれる少なくとも1種の要件を満たす。
That is, the silicone resin composition is preferably
(A) Contains an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule.
(B) For an organopolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule, the silicon atom-bonded hydrogen atom in the component (B) is 0 with respect to 1 mol of the alkenyl group in the component (A). Includes in an amount of 4 to 20 mol,
(C) Contains 100 parts by mass to 1000 parts by mass of a mixture composed of water and an inorganic thickener with respect to 100 parts by mass of the component (A).
(D) (D-1) A surfactant consisting of a nonionic surfactant having an HLB value of 3 or more and (D-2) a nonionic surfactant having an HLB value of less than 3 is (D-). 2) The mass ratio of the component (D-1) to the component is 0.1 parts by mass to 100 parts by mass.
(E) Includes a hydrosilylation reaction catalyst,
(F) Contains 0.001 part by mass to 5 parts by mass of the curing retardant with respect to 100 parts by mass of the component (A).
Meet at least one requirement selected from the group consisting of.

(A)成分は、一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンであり、シリコーン樹脂組成物の主剤である。 The component (A) is an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule, and is the main agent of the silicone resin composition.

(A)成分中のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基などが挙げられ、好ましくは、ビニル基である。また、(A)成分中のアルケニル基以外のケイ素原子結合有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;3,3,3−トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基;などが挙げられ、好ましくは、メチル基である。 Examples of the alkenyl group in the component (A) include a vinyl group, an allyl group, a hexenyl group and the like, and a vinyl group is preferable. Examples of the silicon atom-bonded organic group other than the alkenyl group in the component (A) include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group and a hexyl group; a phenyl group and a tolyl group. Examples thereof include an aryl group such as a xsilyl group; an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group; a halogen-substituted alkyl group such as a 3,3,3-trifluoropropyl group; and a methyl group is preferable.

(A)成分としては、具体的には、例えば、ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体が挙げられ、好ましくは、主鎖が実質的に直鎖状であるジオルガノポリシロキサンである。 Specific examples of the component (A) include dimethylvinylsiloxy group-blocking dimethylpolysiloxane, dimethylvinylsiloxy group-blocking dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-blocking methylvinylpolysiloxane, and trimethylsiloxy group. Examples thereof include a closed dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer and a trimethylsiloxy group closed dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, preferably a diorganopolysiloxane having a substantially linear main chain. Is.

(B)成分は、一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンであり、シリコーン樹脂組成物の架橋剤である。 The component (B) is an organopolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule, and is a cross-linking agent for a silicone resin composition.

(B)成分中のケイ素原子結合水素原子の結合位置としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な結合位置が採用され得る。このような結合位置としては、例えば、分子鎖末端および/または分子鎖側鎖などが挙げられる。(B)成分中の水素原子以外のケイ素原子結合有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;3,3,3−トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基;などが挙げられ、好ましくは、メチル基である。 As the bond position of the silicon atom-bonded hydrogen atom in the component (B), any appropriate bond position can be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of such a binding position include a molecular chain terminal and / or a molecular chain side chain. Examples of the silicon atom-bonded organic group other than the hydrogen atom in the component (B) include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group and a hexyl group; a phenyl group, a tolyl group and a xsilyl group. And the like; an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group; a halogen-substituted alkyl group such as a 3,3,3-trifluoropropyl group; and the like, preferably a methyl group.

(B)成分としては、具体的には、例えば、ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、(CHSiO1/2で示されるシロキサン単位とH(CHSiO1/2で示されるシロキサン単位とSiO4/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキサンなどが挙げられ、好ましくは、直鎖状のオルガノポリシロキサンである。 Specific examples of the component (B) include dimethylhydrogensiloxy group-blocking dimethylpolysiloxane, dimethylhydrogensiloxy group-blocking dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, and trimethylsiloxy group-blocking methylhydrogenpolysiloxane. , Trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, (CH 3 ) 3 siloxane unit represented by SiO 1/2 and H (CH 3 ) 2 siloxane unit represented by SiO 1/2 and SiO 4 / like organopolysiloxane composed of siloxane units represented by 2 and the like, preferably, linear organopolysiloxanes.

(B)成分の含有量は、(A)成分中のアルケニル基1モルに対して、(B)成分中のケイ素原子結合水素原子が、好ましくは0.4モル〜20モルの範囲内となる量であり、より好ましくは1.5モル〜20モルの範囲内となる量であり、さらに好ましくは1.5モル〜10モルの範囲内となる量である。これは、(B)成分中のケイ素原子結合水素のモル数が上記範囲内であると、得られる発泡複合体の圧縮永久歪が改善されるからである。 The content of the component (B) is preferably in the range of 0.4 mol to 20 mol of the silicon atom-bonded hydrogen atom in the component (B) with respect to 1 mol of the alkenyl group in the component (A). It is an amount, more preferably an amount in the range of 1.5 mol to 20 mol, and further preferably an amount in the range of 1.5 mol to 10 mol. This is because when the number of moles of silicon atom-bonded hydrogen in the component (B) is within the above range, the compression set of the obtained foamed complex is improved.

(C)成分は水と無機系増粘剤からなる混合物であり、シリコーン樹脂組成物を架橋して得られるシリコーンゴムから(C)成分中の水を除去することにより、シリコーンゴムスポンジとするための成分である。(A)成分中に(C)成分が安定して分散することから、(C)成分中の水はイオン交換水であることが好ましい。 The component (C) is a mixture of water and an inorganic thickener, and the water in the component (C) is removed from the silicone rubber obtained by cross-linking the silicone resin composition to obtain a silicone rubber sponge. It is a component of. Since the component (C) is stably dispersed in the component (A), the water in the component (C) is preferably ion-exchanged water.

(C)成分中の無機系増粘剤は、水の粘度を高め、(A)成分中に(C)成分が容易に分散し、(C)成分の分散状態を安定させるために配合される。この無機増粘剤としては、天然または合成のものがあり、例えば、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイト、ソーコナイト、バイデライトおよびノントロナイト等の天然または合成のスメクタイトクレー;ケイ酸アルミニウムマグネシウム;これらとカルボキシビニルポリマーなどの水溶性有機ポリマーとの複合品;などが挙げられ、好ましくは、ベントナイトやモンモリロナイトなどのスメクタイトクレーである。このような、スメクタイトクレーとしては、例えば、水熱合成品であるスメクトンSA(クニミネ工業(株)製)、天然精製品であるベンゲル((株)ホージュン製)が入手可能である。これらのスメクタイトクレーのpHは発泡層の耐熱性を維持する点からpH5.0〜9.0の範囲内であることが好ましい。また、(C)成分中の無機系増粘剤の含有量は、水100質量部に対して、好ましくは0.1質量部〜10質量部の範囲内であり、より好ましくは0.5質量部〜5質量部の範囲内である。 The inorganic thickener in the component (C) is added to increase the viscosity of water, easily disperse the component (C) in the component (A), and stabilize the dispersed state of the component (C). .. The inorganic thickeners may be natural or synthetic, for example natural or synthetic smectite clays such as bentonite, montmorillonite, hectorite, saponite, saponite, biderite and nontronite; magnesium aluminum silicate; with these. A composite product with a water-soluble organic polymer such as a carboxyvinyl polymer; and the like; preferably, a smectite clay such as bentonite and montmorillonite. As such smectite clay, for example, a hydrothermal synthetic product, Sumecton SA (manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd.), and a natural refined product, Wenger (manufactured by Hojun Co., Ltd.) are available. The pH of these smectite clays is preferably in the range of pH 5.0 to 9.0 from the viewpoint of maintaining the heat resistance of the foamed layer. The content of the inorganic thickener in the component (C) is preferably in the range of 0.1 part by mass to 10 parts by mass, more preferably 0.5 part by mass, with respect to 100 parts by mass of water. It is in the range of parts to 5 parts by mass.

(C)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、好ましくは100質量部〜1000質量部の範囲内であり、より好ましくは100質量部〜800質量部の範囲内であり、さらに好ましくは100質量部〜500質量部の範囲であり、特に好ましくは200質量部〜500質量部の範囲内であり、最も好ましくは200質量部〜350質量部の範囲内である。これは、(C)成分の含有量が上記範囲の下限以上であると、低密度の発泡層を形成できるからであり、一方、上記範囲の上限以下であると、均一で微細な連続気泡構造を有する発泡層を形成できるからである。 The content of the component (C) is preferably in the range of 100 parts by mass to 1000 parts by mass, and more preferably in the range of 100 parts by mass to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). It is more preferably in the range of 100 parts by mass to 500 parts by mass, particularly preferably in the range of 200 parts by mass to 500 parts by mass, and most preferably in the range of 200 parts by mass to 350 parts by mass. This is because a low-density foam layer can be formed when the content of the component (C) is not less than the lower limit of the above range, while a uniform and fine open cell structure is formed when the content is not more than the upper limit of the above range. This is because a foam layer having the above can be formed.

(D)成分の界面活性剤は、好ましくは、(D−1)HLBの値が3以上であるノニオン系界面活性剤および(D−2)HLBの値が3未満であるノニオン系界面活性剤からなる。(D)成分の界面活性剤としては、例えば、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、スクロース脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリプロピレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック共重合体、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸アミドなどが挙げられる。 The surfactant of the component (D) is preferably a nonionic surfactant having a (D-1) HLB value of 3 or more and a nonionic surfactant having a (D-2) HLB value of less than 3. Consists of. Examples of the surfactant of the component (D) include glycerin fatty acid ester, polyglycerin fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, sucrose fatty acid ester, polyethylene glycol fatty acid ester, polypropylene glycol fatty acid ester, polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, and polyoxyethylene. Examples thereof include sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymer, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, and polyoxyethylene fatty acid amide.

(D)成分は、好ましくは、(D−1)成分と(D−2)成分からなり、(D−2)成分に対する(D−1)成分の質量比が、好ましくは0.1以上であり、より好ましくは1以上であり、さらに好ましくは5以上であり、さらに好ましくは8以上であり、特に好ましくは10以上であり、最も好ましくは15以上である。また、(D−2)成分に対する(D−1)成分の質量比は、好ましくは100以下であり、より好ましくは80以下であり、さらに好ましくは70以下であり、特に好ましくは60以下であり、最も好ましくは50以下である。これは、この質量比が上記下限より大きくなれば、均一で微細な連続気泡構造を有する低密度の発泡層を形成することができるからであり、一方、上記上限より小さくなれば、(A)成分と(B)成分中に(C)成分を安定性良く分散することができ、結果として、均一で微細な連続気泡構造を有する発泡層を形成することができるからである。 The component (D) is preferably composed of the component (D-1) and the component (D-2), and the mass ratio of the component (D-1) to the component (D-2) is preferably 0.1 or more. Yes, more preferably 1 or more, still more preferably 5 or more, still more preferably 8 or more, particularly preferably 10 or more, and most preferably 15 or more. The mass ratio of the component (D-1) to the component (D-2) is preferably 100 or less, more preferably 80 or less, still more preferably 70 or less, and particularly preferably 60 or less. , Most preferably 50 or less. This is because if the mass ratio is larger than the above lower limit, a low-density foam layer having a uniform and fine open cell structure can be formed, while if it is smaller than the above upper limit, (A). This is because the component (C) can be stably dispersed in the component and the component (B), and as a result, a foam layer having a uniform and fine open cell structure can be formed.

(D)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対し、好ましくは0.1質量部〜15質量部の範囲内であり、より好ましくは0.2質量部〜3質量部の範囲内である。これは、(D)成分の含有量が上記範囲の下限以上であると、均一で微細な連続気泡構造を有する発泡層を形成できるからであり、一方、上記範囲の上限以下であると、耐熱性の優れる発泡層を形成できるからである。 The content of the component (D) is preferably in the range of 0.1 parts by mass to 15 parts by mass, and more preferably in the range of 0.2 parts by mass to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Is inside. This is because if the content of the component (D) is not less than the lower limit of the above range, a foam layer having a uniform and fine open cell structure can be formed, while if it is not more than the upper limit of the above range, heat resistance is reduced. This is because a foam layer having excellent properties can be formed.

(E)成分は、シリコーン樹脂組成物のヒドロシリル化反応を促進するためのヒドロシリル化反応触媒であり、例えば、白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒が挙げられ、好ましくは白金系触媒である。このような(E)成分としては、例えば、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸とオレフィン類、ビニルシロキサン又はアセチレン化合物との配位化合物、白金のオレフィン類、ビニルシロキサン又はアセチレン化合物との配位化合物、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウムなどが挙げられる。 The component (E) is a hydrosilylation reaction catalyst for accelerating the hydrosilylation reaction of the silicone resin composition, and examples thereof include a platinum-based catalyst, a palladium-based catalyst, and a rhodium-based catalyst, and a platinum-based catalyst is preferable. .. Examples of such component (E) include chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, coordination compound between chloroplatinic acid and olefins, vinylsiloxane or acetylene compound, platinum olefins, vinylsiloxane or acetylene compound. Coordinating compounds with, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, chlorotris (triphenylphosphine) rhodium and the like can be mentioned.

(E)成分の含有量は、シリコーン樹脂組成物を架橋させるに十分な量であり、具体的には、(A)成分および(B)成分の合計量に対して、(E)成分中の触媒金属が、質量換算で、好ましくは0.01ppm〜500ppmの範囲内となる量であり、より好ましくは0.1ppm〜100ppmの範囲内となる量である。 The content of the component (E) is an amount sufficient for cross-linking the silicone resin composition, and specifically, the content of the component (E) is relative to the total amount of the components (A) and (B). The amount of the catalyst metal is preferably in the range of 0.01 ppm to 500 ppm, more preferably in the range of 0.1 ppm to 100 ppm in terms of mass.

シリコーン樹脂組成物の硬化速度や作業可使時間を調整するため、(F)硬化遅延剤を含有してもよい。このような(F)成分としては、例えば、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−フェニル−1−ブチン−3−オール、1−エチニル−1−シクロヘキサノールなどのアルキンアルコールが挙げられる。(F)成分の含有量は、シリコーン樹脂組成物の使用方法や成形方法に応じて適宜選択され、一般的には、(A)成分100質量部に対して、好ましくは0.001質量部〜5質量部の範囲内である。 In order to adjust the curing rate and working usable time of the silicone resin composition, (F) a curing retarder may be contained. Examples of such component (F) include 3-methyl-1-butyne-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol, 3-phenyl-1-butin-3-ol, and the like. Alkyne alcohols such as 1-ethynyl-1-cyclohexanol can be mentioned. The content of the component (F) is appropriately selected according to the method of use and the molding method of the silicone resin composition, and is generally preferably 0.001 part by mass to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). It is within the range of 5 parts by mass.

シリコーン樹脂組成物には、得られる発泡層の強度を向上させるという点から、さらに(G)補強性シリカ微粉末を含有してもよい。このような補強性シリカ微粉末としては、そのBET比表面積が、好ましくは50m/g〜350m/gであり、より好ましくは80m/g〜250m/gである。このような補強性シリカ微粉末としては、例えば、ヒュームドシリカ、沈降シリカなどが挙げられる。また、これらの補強性シリカ微粉末は、オルガノシラン等で表面処理されていてもよい。 The silicone resin composition may further contain (G) reinforcing silica fine powder from the viewpoint of improving the strength of the obtained foamed layer. Such reinforcing silica fine powder, its BET specific surface area, preferably 50m 2 / g~350m 2 / g, more preferably 80m 2 / g~250m 2 / g. Examples of such reinforcing silica fine powder include fumed silica and precipitated silica. Further, these reinforcing silica fine powders may be surface-treated with organosilane or the like.

(G)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、好ましくは多くとも20質量部であり、より好ましくは多くとも15質量部であり、さらに好ましくは多くとも10質量部である。また、(G)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、好ましくは少なくとも0.1質量部である。 The content of the component (G) is preferably at most 20 parts by mass, more preferably at most 15 parts by mass, and further preferably at most 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). be. The content of the component (G) is preferably at least 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).

シリコーン樹脂組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、カーボンブラックやベンガラ等の顔料を含有してもよい。 The silicone resin composition may contain pigments such as carbon black and red iron oxide as long as the object of the present invention is not impaired.

シリコーン樹脂組成物は、上記各成分あるいはこれらに必要に応じて各種添加剤を配合した組成物を公知の混練手段により均一に混合することにより容易に製造することができる。ここで使用するミキサーとしては、(C)成分と(D)成分を(A)成分に十分に分散させることができるものであれば、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切なミキサーを採用し得る。このようなミキサーとしては、例えば、ホモミキサー、パドルミキサー、ホモディスパー、コロイドミル、真空混合攪拌ミキサー、自転公転ミキサーなどが挙げられる。 The silicone resin composition can be easily produced by uniformly mixing each of the above components or a composition containing various additives as necessary by a known kneading means. As the mixer used here, any suitable mixer can be used as long as the components (C) and (D) can be sufficiently dispersed in the component (A) as long as the effects of the present invention are not impaired. Can be adopted. Examples of such a mixer include a homomixer, a paddle mixer, a homodisper, a colloidal mill, a vacuum mixing / stirring mixer, a rotation / revolution mixer, and the like.

発泡層は、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な方法によって製造し得る。このような製造方法としては、例えば、発泡層を形成する樹脂組成物(例えば、シリコーン樹脂組成物)をセパレーターA上に塗工し、該塗工した樹脂組成物の該セパレーターAと反対側の表面上にセパレーターBを載置し、熱硬化を行った後、該セパレーターAおよび該セパレーターBから選ばれる少なくとも1種を剥離する。 The foamed layer can be produced by any suitable method as long as the effects of the present invention are not impaired. As such a production method, for example, a resin composition for forming a foam layer (for example, a silicone resin composition) is coated on the separator A, and the coated resin composition is on the opposite side of the separator A. After placing the separator B on the surface and performing thermosetting, at least one selected from the separator A and the separator B is peeled off.

セパレーターAおよびセパレーターBとしては、例えば、紙、プラスチックフィルム、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム、表面がシリコーン処理やフッ化シリコーン処理されたプラスチックフィルムなどが挙げられる。プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミド(ナイロン)フィルム、芳香族ポリアミド(アラミド)フィルムなどが挙げられ、特に、本発明の効果をより発現させ得る点で、シリコーン処理やフッ化シリコーン処理などの表面処理がなされていないプラスチックフィルムが好ましい。このようなセパレーターとしては、特に好ましくは、シリコーン処理やフッ化シリコーン処理などの表面処理がなされていないポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムである。 Examples of the separator A and the separator B include paper, a plastic film, a polytetrafluoroethylene (PTFE) film, and a plastic film whose surface is treated with silicone or fluorinated silicone. Examples of the plastic film include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, and polyethylene naphthalate film. Polyurethane film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polyimide film, polyamide (nylon) film, aromatic polyamide (aramid) film and the like can be mentioned. A plastic film that has not been surface-treated such as a fluorosilicone treatment is preferable. As such a separator, a polyethylene terephthalate (PET) film which has not been surface-treated such as a silicone treatment or a fluorosilicone treatment is particularly preferable.

セパレーターAおよびセパレーターBの厚みは、それぞれ、好ましくは1μm〜500μmであり、より好ましくは3μm〜450μmであり、さらに好ましくは5μm〜400μmであり、特に好ましくは10μm〜300μmである。 The thicknesses of the separator A and the separator B are preferably 1 μm to 500 μm, more preferably 3 μm to 450 μm, still more preferably 5 μm to 400 μm, and particularly preferably 10 μm to 300 μm, respectively.

発泡層の製造方法の一例として、発泡層がシリコーン系発泡層である場合について説明する。発泡層が他の発泡層である場合は、下記の製造方法の説明を、例えば、シリコーン樹脂組成物を該他の発泡層の原料としての組成物に置き換えて読めばよい。 As an example of a method for producing a foamed layer, a case where the foamed layer is a silicone-based foamed layer will be described. When the foamed layer is another foamed layer, the following description of the production method may be read by replacing, for example, the silicone resin composition with a composition as a raw material for the other foamed layer.

シリコーン系発泡層の製造方法の一つの実施形態は、少なくとも熱硬化性シリコーン樹脂と水を含むシリコーン樹脂組成物をセパレーターA上に塗工し(以下、この工程を工程(1)とする)、該塗工したシリコーン樹脂組成物の該セパレーターAと反対側の表面上にセパレーターBを載置し(以下、この工程を工程(2)とする)、該シリコーン樹脂組成物を熱硬化させ(以下、この工程を工程(3)とする)、該セパレーターAおよび該セパレーターBから選ばれる少なくとも1種を剥離したものを加熱乾燥させて(以下、この工程を工程(4)とする)シリコーン系発泡層を形成する。 In one embodiment of the method for producing a silicone-based foam layer, a silicone resin composition containing at least a thermosetting silicone resin and water is applied onto the separator A (hereinafter, this step is referred to as step (1)). Separator B is placed on the surface of the coated silicone resin composition opposite to the separator A (hereinafter, this step is referred to as step (2)), and the silicone resin composition is thermally cured (hereinafter, referred to as step (2)). , This step is referred to as step (3)), and at least one selected from the separator A and the separator B is peeled off and dried by heating (hereinafter, this step is referred to as step (4)) silicone-based foaming. Form a layer.

シリコーン系発泡層の製造方法の別の一つの実施形態は、少なくとも熱硬化性シリコーン樹脂と水を含むシリコーン樹脂組成物をセパレーターA上に塗工し(以下、この工程を工程(1)とする)、該塗工したシリコーン樹脂組成物の該セパレーターAと反対側の表面上にセパレーターBを載置し(以下、この工程を工程(2)とする)、該シリコーン樹脂組成物を熱硬化させ(以下、この工程を工程(3)とする)、該セパレーターAおよび該セパレーターBから選ばれる少なくとも1種を剥離したものを加熱乾燥させ(以下、この工程を工程(4)とする)、支持体と貼り合わせて(以下、この工程を工程(5)とする)シリコーン系発泡層を形成する。 In another embodiment of the method for producing a silicone-based foam layer, a silicone resin composition containing at least a thermosetting silicone resin and water is applied onto the separator A (hereinafter, this step is referred to as step (1)). ), The separator B is placed on the surface of the coated silicone resin composition opposite to the separator A (hereinafter, this step is referred to as step (2)), and the silicone resin composition is thermally cured. (Hereinafter, this step is referred to as step (3)), at least one selected from the separator A and the separator B is peeled off and dried by heating (hereinafter, this step is referred to as step (4)) and supported. It is bonded to the body (hereinafter, this step is referred to as step (5)) to form a silicone-based foam layer.

セパレーターAやセパレーターBがそのまま支持体として用いられる場合には、発泡層との投錨性を上げるために、支持体となるセパレーターAやセパレーターBの表面にシランカップリング剤等の下塗り剤を塗布したり、コロナ処理やプラズマ処理などの表面処理を行ったりしてもよい。 When the separator A or separator B is used as it is as a support, an undercoating agent such as a silane coupling agent is applied to the surface of the support separator A or separator B in order to improve the anchoring property with the foam layer. Alternatively, surface treatment such as corona treatment or plasma treatment may be performed.

工程(4)における加熱乾燥の際に除去しないセパレーターがある場合は、該セパレーターとして用い得る剥離ライナーは、好ましくは、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム、紙やプラスチックフィルムの基材(ライナー基材)の表面がフッ化シリコーン処理された剥離ライナーである。工程(4)における加熱乾燥の際に除去しないセパレーターがある場合の該セパレーターとして、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム、紙やプラスチックフィルムの基材(ライナー基材)の表面がフッ化シリコーン処理された剥離ライナーを用いることによって、加熱乾燥後の剥離を容易に行うことができる。また、セパレーターAやセパレーターBには、粘着剤層が設けられていてもよい。 If there is a separator that is not removed during heating and drying in step (4), the release liner that can be used as the separator is preferably a base material (liner base material) of a polytetrafluoroethylene (PTFE) film, paper or plastic film. ) Is a release liner whose surface is treated with fluorosilicone. When there is a separator that is not removed during heating and drying in step (4), the surface of the base material (liner base material) of the polytetrafluoroethylene (PTFE) film, paper or plastic film is treated with fluorinated silicone. By using the peeling liner, peeling after heating and drying can be easily performed. Further, the separator A and the separator B may be provided with an adhesive layer.

工程(1)において使用するセパレーターAと工程(2)において使用するセパレーターBは、同一のものであってもよいし、異種のものであってもよい。また、工程(1)において使用するセパレーターAと工程(2)において使用するセパレーターBは、それぞれ、1層のみのものであってもよいし、2層以上からなるものであってもよい。 The separator A used in the step (1) and the separator B used in the step (2) may be the same or different types. Further, the separator A used in the step (1) and the separator B used in the step (2) may have only one layer or two or more layers, respectively.

工程(1)において使用するセパレーターAおよび工程(2)において使用するセパレーターBの、シリコーン樹脂組成物に接する方の表面の親水性・疎水性の程度によって、該表面に接する該シリコーン樹脂組成物の表面形状が変化する。例えば、セパレーターAやセパレーターBとしてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムのような親水性の高いセパレーターを用いる場合は、該セパレーターに接するシリコーン樹脂組成物の表面において微細な径の表面開口部を多く存在させることができる。また、例えば、セパレーターAやセパレーターBとしてフッ化シリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレート(PET)剥離ライナーのような疎水性の高いセパレーターを用いる場合は、該セパレーターに接するシリコーン樹脂組成物の表面において微細な径の表面開口部を少なく存在させることができる。したがって、シリコーン系発泡層に対して高い通気性や高い吸着性を発現させたい場合には、親水性の高いセパレーターを用いることが好ましく、シリコーン系発泡層に対して高い止水性や高い防塵性を発現させたい場合には、疎水性の高いセパレーターを用いることが好ましい。また、シリコーン系発泡層とセパレーターとの再剥離性が必要な場合は、疎水性の高いセパレーターを用いることが好ましい。なお、親水性・疎水性の程度は、例えば、水との接触角によって定義することができる。例えば、水との接触角が90度未満の場合を親水性、水との接触角が90度以上の場合を疎水性と定義し得る。 The silicone resin composition in contact with the surface of the separator A used in the step (1) and the separator B used in the step (2) depends on the degree of hydrophilicity / hydrophobicity of the surface of the separator B in contact with the silicone resin composition. The surface shape changes. For example, when a highly hydrophilic separator such as a polyethylene terephthalate (PET) film is used as the separator A or the separator B, many surface openings having a fine diameter should be present on the surface of the silicone resin composition in contact with the separator. Can be done. Further, when a highly hydrophobic separator such as a polyethylene terephthalate (PET) release liner treated with fluorinated silicone is used as the separator A or the separator B, the surface of the silicone resin composition in contact with the separator is fine. A small number of surface openings of diameter can be present. Therefore, when it is desired to develop high air permeability and high adsorptivity for the silicone-based foam layer, it is preferable to use a highly hydrophilic separator, which provides high water-stopping property and high dust resistance for the silicone-based foam layer. When it is desired to express it, it is preferable to use a highly hydrophobic separator. Further, when removability between the silicone-based foam layer and the separator is required, it is preferable to use a separator having high hydrophobicity. The degree of hydrophilicity / hydrophobicity can be defined by, for example, the contact angle with water. For example, a case where the contact angle with water is less than 90 degrees can be defined as hydrophilic, and a case where the contact angle with water is 90 degrees or more can be defined as hydrophobic.

工程(3)においては、シリコーン樹脂組成物を熱硬化させる。この熱硬化の温度は、効率的にシリコーン樹脂組成物を熱硬化させ得る点で、好ましくは50℃以上100℃未満である。熱硬化の温度が50℃未満では、熱硬化に時間がかかりすぎるおそれがある。熱硬化の温度が100℃以上では、セパレーターAおよびセパレーターBに挟まれて略密閉状態となったシリコーン樹脂組成物中の水分が揮発することにより、形成するセルの粗大化や高密度化が起こるおそれがある。なお、工程(3)によってシリコーン樹脂組成物から形成するものをシリコーン系発泡層前駆体と称することとする。 In the step (3), the silicone resin composition is thermoset. The temperature of this thermosetting is preferably 50 ° C. or higher and lower than 100 ° C. in that the silicone resin composition can be heat-cured efficiently. If the thermosetting temperature is less than 50 ° C., the thermosetting may take too long. When the thermosetting temperature is 100 ° C. or higher, the moisture in the silicone resin composition that is sandwiched between the separator A and the separator B and is in a substantially sealed state volatilizes, resulting in coarsening and high density of the cells to be formed. There is a risk. What is formed from the silicone resin composition by the step (3) is referred to as a silicone-based foam layer precursor.

工程(3)のように、シリコーン樹脂組成物をセパレーターAおよびセパレーターBで挟んだ略密閉状態において熱硬化するという特殊な熱硬化方法を行うことにより、シリコーン樹脂組成物中の水分が除去されない状態において熱硬化され、続く工程(4)との連携により、連続気泡構造を有しセル径が微細なシリコーン系発泡層を効果的に得ることが可能となる。 A state in which the water content in the silicone resin composition is not removed by performing a special thermosetting method in which the silicone resin composition is thermally cured in a substantially sealed state sandwiched between the separator A and the separator B as in the step (3). In cooperation with the subsequent step (4), it is possible to effectively obtain a silicone-based foam layer having an open cell structure and a fine cell diameter.

工程(4)においては、セパレーターAおよびセパレーターBから選ばれる少なくとも1種を剥離したものを加熱乾燥させる。セパレーターAおよびセパレーターBから選ばれる少なくとも1種を剥離させることにより、工程(3)における上記略密閉状態が解放され、この解放状態において加熱乾燥させることにより、工程(3)で形成されたシリコーン系発泡層前駆体から水分が効率的に揮発して除去され、シリコーン系発泡層が得られる。シリコーン系発泡層を効果的に形成させ得る点で、工程(4)における加熱乾燥温度は、120℃〜250℃が好ましい。工程(4)における加熱乾燥温度が120℃未満では、乾燥および硬化に時間がかかりすぎるおそれがあり、また、連続気泡構造を有しセル径が微細なシリコーン系発泡層が得られないおそれがある。工程(4)における加熱乾燥温度が250℃を超えると、基材の収縮や膨張により層形成が困難となるおそれがある。 In the step (4), at least one selected from the separator A and the separator B is peeled off and dried by heating. By peeling off at least one selected from the separator A and the separator B, the substantially sealed state in the step (3) is released, and by heating and drying in this released state, the silicone system formed in the step (3) is released. Moisture is efficiently volatilized and removed from the foam layer precursor to obtain a silicone-based foam layer. The heating and drying temperature in the step (4) is preferably 120 ° C. to 250 ° C. from the viewpoint that the silicone-based foam layer can be effectively formed. If the heating and drying temperature in the step (4) is less than 120 ° C., drying and curing may take too long, and a silicone-based foam layer having an open cell structure and a fine cell diameter may not be obtained. .. If the heating and drying temperature in the step (4) exceeds 250 ° C., layer formation may become difficult due to shrinkage and expansion of the base material.

工程(5)においては、工程(4)の後、支持体と貼り合わせることにより、シリコーン系発泡層を形成する。 In the step (5), after the step (4), the silicone-based foam layer is formed by bonding with the support.

仮固定層がゴム層の場合は、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切なゴム層を採用し得る。このようなゴム層としては、好ましくは、シリコーン系ゴム層である。ゴム層としてシリコーン系ゴム層を採用すれば、本発明の効果をより発現させ得る。 When the temporary fixing layer is a rubber layer, any suitable rubber layer can be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. The rubber layer is preferably a silicone-based rubber layer. If a silicone-based rubber layer is used as the rubber layer, the effects of the present invention can be further exhibited.

≪基材層≫
本発明の仮固定複合体は、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な基材層を有する。
≪Base material layer≫
The temporary fixation complex of the present invention has any suitable base material layer as long as the effects of the present invention are not impaired.

基材層の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な厚みを採用し得る。このような基材層の厚みは、好ましくは2μm〜500μmであり、より好ましくは5μm〜450μmであり、さらに好ましくは10μm〜400μmであり、特に好ましくは20μm〜350μmである。 As the thickness of the base material layer, any appropriate thickness can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. The thickness of such a base material layer is preferably 2 μm to 500 μm, more preferably 5 μm to 450 μm, further preferably 10 μm to 400 μm, and particularly preferably 20 μm to 350 μm.

基材層としては、例えば、プラスチックフィルム、紙、不織布、金属箔、金属メッシュ、ガラス、ガラスクロスなどが挙げられる。基材層は、1層であってもよいし、2層以上であってもよい。また、基材層とそれと隣接する層の投錨性を上げるために、基材層の表面にシランカップリング剤等の下塗り剤を塗布したり、コロナ処理やプラズマ処理などの表面処理を行ったりしてもよい。 Examples of the base material layer include plastic film, paper, non-woven fabric, metal foil, metal mesh, glass, glass cloth and the like. The base material layer may be one layer or two or more layers. Further, in order to improve the anchoring property of the base material layer and the layer adjacent thereto, an undercoating agent such as a silane coupling agent is applied to the surface of the base material layer, or surface treatment such as corona treatment or plasma treatment is performed. You may.

プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミド(ナイロン)フィルム、芳香族ポリアミド(アラミド)フィルムなどが挙げられる。これらのプラスチックフィルムの中でも、本発明の効果をより発現させ得る点で、ポリイミドフィルムが好ましい。 Examples of the plastic film include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, and polyethylene naphthalate film. Examples thereof include polyurethane films, ethylene-vinyl acetate copolymer films, polyimide films, polyamide (nylon) films, and aromatic polyamide (aramid) films. Among these plastic films, a polyimide film is preferable because the effects of the present invention can be more exhibited.

≪下塗り層≫
下塗り層の厚みは、特に制限されないが、好ましくは0.01μm〜5μmであり、より好ましくは0.1μm〜3μmである。
≪Undercoat layer≫
The thickness of the undercoat layer is not particularly limited, but is preferably 0.01 μm to 5 μm, and more preferably 0.1 μm to 3 μm.

下塗り層を構成する下塗り剤としては、その組成は特に限定されず、公知のものから適宜選択することができる。特に投錨性を発現させ得る点で、シリコーン系下塗り剤が好ましい。 The composition of the undercoat agent constituting the undercoat layer is not particularly limited, and known ones can be appropriately selected. In particular, a silicone-based undercoating agent is preferable because it can exhibit anchoring properties.

シリコーン系下塗り剤としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なシリコーン系下塗り剤を採用し得る。このようなシリコーン系下塗り剤としては、本発明の効果をより発現させ得る点で、例えば、一般的に多く用いられている、過酸化物架橋型シリコーン系粘着剤(過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤)や、付加反応型シリコーン系粘着剤を、薄い厚みで形成することで、シリコーン系下塗り剤として好適に用いることができる。 As the silicone-based undercoating agent, any suitable silicone-based undercoating agent can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. As such a silicone-based undercoating agent, for example, a peroxide cross-linked silicone-based pressure-sensitive adhesive (peroxide-curable silicone-based), which is widely used in general, is used in that the effects of the present invention can be more exhibited. By forming the pressure-sensitive adhesive) or the addition-reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive with a thin thickness, it can be suitably used as a silicone-based undercoating agent.

過酸化物架橋型シリコーン系粘着剤を採用すると、加熱によるラジカル発生に伴い基材と下塗剤の間の密着性に優れる。 When a peroxide-crosslinked silicone-based pressure-sensitive adhesive is used, the adhesion between the base material and the primer is excellent due to the generation of radicals due to heating.

付加反応型シリコーン系粘着剤を採用すると、低温で塗布することができ、基材の加熱による伸縮を押さえることができ、外観などに優れる。 When an addition reaction type silicone adhesive is used, it can be applied at a low temperature, expansion and contraction due to heating of the base material can be suppressed, and the appearance is excellent.

過酸化物架橋型シリコーン系粘着剤や付加反応型シリコーン系粘着剤は、市販品を使用することができ、過酸化物架橋型シリコーン系粘着剤の具体例としては、例えば、信越化学製のKR−3006A/BT、ダウ・東レ社製のSH4280PSAなどが挙げられる。また、付加反応型シリコーン系粘着剤の具体例としては、例えば、信越化学製のX−40−3501、ダウ・東レ社製のBY24−712、GE東芝シリコーン社製のTSE32Xなどが挙げられる。 Commercially available products can be used as the peroxide-crosslinked silicone-based pressure-sensitive adhesive and the addition-reaction-type silicone-based pressure-sensitive adhesive. Specific examples of the peroxide-crosslinked silicone-based pressure-sensitive adhesive include KR manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -3006A / BT, SH4280PSA manufactured by Dow Toray Co., Ltd. and the like can be mentioned. Specific examples of the addition reaction type silicone adhesive include X-40-3501 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., BY24-712 manufactured by Dow Toray Co., Ltd., and TSE32X manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.

≪シリコーン系粘着剤層≫
シリコーン系粘着剤層の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な厚みを採用し得る。このようなシリコーン系粘着剤層の厚みは、好ましくは1μm〜100μmであり、より好ましくは5μm〜90μmであり、さらに好ましくは8μm〜80μmであり、特に好ましくは10μm〜70μmである。シリコーン系粘着剤層の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の仮固定複合体は、優れた仮固定性を発現し得る。
≪Silicone adhesive layer≫
As the thickness of the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer, any appropriate thickness can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. The thickness of such a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 μm to 100 μm, more preferably 5 μm to 90 μm, still more preferably 8 μm to 80 μm, and particularly preferably 10 μm to 70 μm. When the thickness of the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer is within the above range, the temporary fixing complex of the present invention can exhibit excellent temporary fixing property.

シリコーン系粘着剤層を形成するシリコーン系粘着剤としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切なシリコーン系粘着剤を採用し得る。ここで、「シリコーン系粘着剤層を形成するシリコーン系粘着剤」とは、シリコーン系粘着剤層の形成に用いられるシリコーン系粘着剤を意味する。一般に、粘着剤層は、最終的に該粘着剤層となる材料組成物の硬化反応等によって形成されるものであり、粘着剤層そのものを物としての組成として特定できない事情があるため、本明細書においては、シリコーン系粘着剤層について、「シリコーン系粘着剤から形成されるシリコーン系粘着剤層」という表現で規定する。 As the silicone-based pressure-sensitive adhesive forming the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer, any suitable silicone-based pressure-sensitive adhesive may be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Here, the "silicone-based pressure-sensitive adhesive forming the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer" means a silicone-based pressure-sensitive adhesive used for forming the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer. Generally, the pressure-sensitive adhesive layer is formed by a curing reaction or the like of a material composition that finally becomes the pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive layer itself cannot be specified as a composition as a product. In this document, the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer is defined by the expression "silicone-based pressure-sensitive adhesive layer formed from the silicone-based pressure-sensitive adhesive".

シリコーン系粘着剤としては、代表的には、例えば、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤(過酸化物架橋型シリコーン系粘着剤と称することもある)、付加反応型シリコーン系粘着剤などが挙げられる。シリコーン系粘着剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Typical examples of the silicone-based pressure-sensitive adhesive include a peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive (sometimes referred to as a peroxide-crosslinked silicone-based pressure-sensitive adhesive) and an addition-reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive. Be done. The silicone-based pressure-sensitive adhesive may be only one type or two or more types.

<過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤>
過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、代表的には、ポリジメチルシロキサンの長鎖の重合体であるシリコーンゴムと3次元構造のシリコーンレジンを含む。過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、架橋によって硬化させるために、架橋剤として、ベンゾイルパーオキサイド等の有機過酸化物を含有し得る。架橋剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。この場合、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤においては、代表的には、有機過酸化物から発生したラジカルが、シリコーンゴムのSi−CH基の水素を引き抜き、生成したSiCHラジカル同士が結合して架橋反応が進行する。
<Peroxide curable silicone adhesive>
The peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive typically includes silicone rubber, which is a long-chain polymer of polydimethylsiloxane, and a silicone resin having a three-dimensional structure. The peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive may contain an organic peroxide such as benzoyl peroxide as a cross-linking agent because it is cured by cross-linking. The cross-linking agent may be only one kind or two or more kinds. In this case, in the peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive, typically, radicals generated from the organic peroxide abstract hydrogen of three Si-CH groups of the silicone rubber, and the generated SiC 2 radicals are generated. It binds and the cross-linking reaction proceeds.

有機過酸化物としては、過酸化ベンゾイル類(過酸化t−ブチルベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ過酸化ベンゾイルヘキサン、ジベンゾイルパーオキサイド、4、4'−ジメチルジベンゾイルパーオキサイド、3、3'−ジメチルジベンゾイルパーオキサイド、2、2'−ジメチルジベンゾイルパーオキサイド、2、2'、4、4'−テトラクロロジベンゾイルパーオキサイド、過酸化2,4−ジクロロベンゾイル)、過酸化クミル、過酸化t−ブチルクミル、過酸化t−ブチル、過酸化t−ブチルイソブチレート、過酸化t−ブチル−2−エチルヘキサノエート、2,2−ビス過酸化t−ブチルオクタン、1,1−ビス過酸化t−ブチルシクロヘキサンなどが挙げられる。これらの中でも、添加量を変えることにより粘着特性の調整を行い易いという観点から、過酸化ベンゾイル類が好ましい。 Examples of organic peroxides include benzoyl peroxides (t-butyl benzoate peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-dibenzoyl peroxide hexane, dibenzoyl peroxide, 4,4'-dimethyldibenzoyl peroxide). , 3, 3'-dimethyldibenzoyl peroxide, 2, 2'-dimethyldibenzoyl peroxide, 2, 2', 4'-tetrachlorodibenzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide), Kumil peroxide, t-butyl cumyl peroxide, t-butyl peroxide, t-butylisobutyrate peroxide, t-butyl-2-ethylhexanoate peroxide, 2,2-bis t-butyloctane peroxide, Examples thereof include 1,1-bis peroxide t-butylcyclohexane. Among these, benzoyl peroxides are preferable from the viewpoint that the adhesive properties can be easily adjusted by changing the addition amount.

過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤中の有機過酸化物の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な配合量を採用し得る。代表的には、有機過酸化物の配合量は、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤の固形分100質量部に対して、好ましくは0.01質量部〜10質量部であり、より好ましくは0.1質量部〜5質量部である。 As the content of the organic peroxide in the peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive, any appropriate blending amount can be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. Typically, the blending amount of the organic peroxide is preferably 0.01 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive, and more preferably. It is 0.1 parts by mass to 5 parts by mass.

過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、紫外線吸収剤や光安定剤等が含まれているプライマー層を介して他の層(基材層など)に塗布される場合や、他の層(基材層など)に紫外線吸収剤等が含まれている場合に、硬化阻害が生じ難くなるため、硬化能力を一層発現できる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、また、これらの化合物の特性基を側鎖にもつ(メタ)アクリレートを重合させた高分子タイプの紫外線吸収剤などが挙げられる。光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤(HALSなど)やヒンダードフェノール系光安定剤が挙げられる。このような紫外線吸収剤や光安定剤は、それぞれ、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The peroxide-curable silicone-based adhesive may be applied to another layer (base material layer, etc.) via a primer layer containing an ultraviolet absorber, a light stabilizer, or the like, or may be applied to another layer (base layer, etc.). When the material layer or the like contains an ultraviolet absorber or the like, curing inhibition is less likely to occur, so that the curing ability can be further exhibited. Examples of the ultraviolet absorber include a benzophenone-based ultraviolet absorber, a benzotriazole-based ultraviolet absorber, a triazine-based ultraviolet absorber, a cyanoacrylate-based ultraviolet absorber, and a characteristic group of these compounds in the side chain (meth). Examples thereof include a polymer-type ultraviolet absorber obtained by polymerizing an acrylate. Examples of the light stabilizer include a hindered amine-based light stabilizer (HALS, etc.) and a hindered phenol-based light stabilizer. The ultraviolet absorber and the light stabilizer may be of only one type or two or more types, respectively.

過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、例えば、30質量%〜70質量%の有機溶剤溶液(ヘキサンのようなパラフィン系有機溶剤の溶液やトルエン、キシレンのような芳香族系有機溶剤の溶液)として調製または市販されている。すなわち、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、好ましくは30質量%〜70質量%の有機溶剤を含む溶液(代表的には、塗工液)である。 The peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive is, for example, a 30% by mass to 70% by mass organic solvent solution (a solution of a paraffin-based organic solvent such as hexane or a solution of an aromatic organic solvent such as toluene or xylene). Prepared or marketed as. That is, the peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive is preferably a solution containing 30% by mass to 70% by mass of an organic solvent (typically, a coating liquid).

過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤から形成されるシリコーン系粘着剤層は、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤の塗工液を任意の適切な基材(基材層など)に塗布して溶剤を蒸発後、加熱硬化させて、シリコーン系粘着剤層を形成させる。 The silicone-based pressure-sensitive adhesive layer formed from the peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive is obtained by applying a coating solution of the peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive to an arbitrary suitable base material (base material layer, etc.). After the solvent is evaporated, it is heat-cured to form a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer.

過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤からシリコーン系粘着剤層を形成する際の加熱硬化の温度は、好ましくは130℃〜200℃であり、より好ましくは140℃〜180℃である。過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤からシリコーン系粘着剤層を形成する際の加熱硬化の時間は、好ましくは1分〜15分であり、より好ましくは3分〜7分である。 The temperature of heat curing when forming the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer from the peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive is preferably 130 ° C. to 200 ° C., more preferably 140 ° C. to 180 ° C. The time for heat curing when forming the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer from the peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive is preferably 1 minute to 15 minutes, and more preferably 3 minutes to 7 minutes.

過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤の市販品としては、例えば、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製のYR3340、YR3286、PSA610−SM、XR37−B6722、ダウ・東レ社のSE4200、SH4280、信越化学工業社製のKR−100、KR−101−10(トルエン溶剤型)、KR−120、KR−130、X−40−3287(イソパラフィン溶剤型)などが挙げられる。 Commercially available products of peroxide-curable silicone-based adhesives include, for example, YR3340, YR3286, PSA610-SM, XR37-B6722 manufactured by Momentive Performance Materials, SE4200, SH4280, and Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples thereof include KR-100, KR-101-10 (toluene solvent type), KR-120, KR-130, and X-40-3287 (isoparaffin solvent type) manufactured by the same company.

過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤には、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切なその他の成分が含まれていてもよい。その他の成分としては、例えば、有機溶媒、難燃剤、粘着付与剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、防腐剤、防黴剤、可塑剤、消泡剤、着色剤、フィラー、濡れ性調整剤などが挙げられる。 The peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive may contain any suitable other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components include, for example, organic solvents, flame retardants, tackifiers, UV absorbers, light stabilizers, antioxidants, antistatic agents, preservatives, fungicides, plasticizers, defoamers, colorants. , Fillers, wettability modifiers and the like.

<付加反応型シリコーン系粘着剤>
付加反応型シリコーン系粘着剤は、好ましくは、主剤、架橋剤、および必要に応じて硬化触媒を含有する。付加反応型シリコーン系粘着剤は、低温での一次硬化だけで使用することが可能であり、高温での2次硬化を必要としないという利点がある。したがって、付加反応型シリコーン系粘着剤を採用すると、比較的低温でシリコーン系粘着剤層の製造が可能となり、エネルギー経済性に優れる。
<Addition reaction type silicone adhesive>
The addition-reactive silicone-based pressure-sensitive adhesive preferably contains a main agent, a cross-linking agent, and, if necessary, a curing catalyst. The addition reaction type silicone adhesive has an advantage that it can be used only by the primary curing at a low temperature and does not require the secondary curing at a high temperature. Therefore, when the addition reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive is adopted, the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer can be manufactured at a relatively low temperature, which is excellent in energy economy.

付加反応型シリコーン系粘着剤は、通常、シリコーン系樹脂成分とシリコーン系ゴム成分との混合物からなる主剤、ヒドロシリル基(SiH基)含有の架橋剤、および必要に応じて硬化触媒を含む。 The addition reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive usually contains a main agent consisting of a mixture of a silicone-based resin component and a silicone-based rubber component, a cross-linking agent containing a hydrosilyl group (SiH group), and a curing catalyst if necessary.

シリコーン系樹脂成分は、代表的には、オルガノクロルシランまたはオルガノアルコキシシランを加水分解した後、脱水縮合反応を行うことにより得られる網状構造のオルガノポリシロキサンである。シリコーン系樹脂成分は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The silicone-based resin component is typically an organopolysiloxane having a network structure obtained by hydrolyzing organochlorosilane or organoalkoxysilane and then performing a dehydration condensation reaction. The silicone-based resin component may be only one kind or two or more kinds.

シリコーン系ゴム成分は、代表的には、直鎖構造を有するジオルガノポリシロキサンである。シリコーン系ゴム成分は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The silicone-based rubber component is typically a diorganopolysiloxane having a linear structure. The silicone-based rubber component may be only one type or two or more types.

シリコーン系樹脂成分、シリコーン系ゴム成分のいずれにおいても、オルガノ基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基などが挙げられる。オルガノ基は、一部、ビニル基、ヘキセニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、オクテニル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルメチル基、(メタ)アクリロイルプロピル基、シクロヘキセニル基のような不飽和基に置換されていてもよい。 In both the silicone-based resin component and the silicone-based rubber component, examples of the organogroup include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a phenyl group. Organo groups are partly like vinyl group, hexenyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group, octenyl group, (meth) acryloyl group, (meth) acryloylmethyl group, (meth) acryloylpropyl group, cyclohexenyl group. It may be substituted with an unsaturated group.

付加反応型シリコーン系粘着剤においては、不飽和基とヒドロシリル基との付加反応によって架橋が進行して網状の構造が形成され、粘着性が発現する。ビニル基のような不飽和基の数は、オルガノ基100個に対して、好ましくは0.05個〜3.0個であり、より好ましくは0.1個〜2.5個である。オルガノ基100個に対する不飽和基の数を0.05個以上とすることにより、ヒドロシリル基との反応性が低下して硬化しにくくなるのを防止して適度な粘着力を付与することができる。オルガノ基100個に対する不飽和基の数を3.0個以下とすることにより、粘着剤の架橋密度が高くなり粘着力および凝集力が大きくなって被着面に悪影響を与えるのを防止し得る。 In the addition reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive, cross-linking proceeds by the addition reaction of an unsaturated group and a hydrosilyl group to form a network structure, and the tackiness is developed. The number of unsaturated groups such as vinyl groups is preferably 0.05 to 3.0, more preferably 0.1 to 2.5, relative to 100 organogroups. By setting the number of unsaturated groups to 100 organogroups to 0.05 or more, it is possible to prevent the reactivity with the hydrosilyl group from being lowered and becoming difficult to cure, and to impart an appropriate adhesive force. .. By setting the number of unsaturated groups to 3.0 or less with respect to 100 organogroups, it is possible to prevent the crosslink density of the adhesive from increasing and the adhesive force and cohesive force from increasing, which adversely affect the adherend surface. ..

オルガノポリシロキサンとしては、例えば、信越化学工業社製のKS−3703(ビニル基の数がメチル基100個に対して0.6個であるもの)、ダウ・東レ社製のBY23−753(ビニル基の数がメチル基100個に対して0.1個であるもの)、BY24−162(ビニル基の数がメチル基100個に対して1.4個であるもの)、SD4560PSA、SD4570PSA、SD4580PSA、SD4584PSA、SD4585PSA、SD4587L、SD4592PSAなどが挙げられる。 Examples of the organopolysiloxane include KS-3703 manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd. (the number of vinyl groups is 0.6 for every 100 methyl groups) and BY23-753 manufactured by Dow Toray Co., Ltd. (vinyl). The number of groups is 0.1 for 100 methyl groups), BY24-162 (the number of vinyl groups is 1.4 for 100 methyl groups), SD4560PSA, SD4570PSA, SD4580PSA. , SD4584PSA, SD4585PSA, SD4587L, SD4592PSA and the like.

シリコーン系ゴム成分としては、例えば、信越化学工業社製のKS−3800(ビニル基の数がメチル基100個に対して7.6個であるもの)、ダウ・東レ社製のBY24−162(ビニル基の数がメチル基100個に対して1.4個であるもの)、BY24−843(不飽和基を有していない)、SD−7292(ビニル基の数がメチル基100個に対して5.0個であるもの)などが挙げられる。 Examples of the silicone-based rubber component include KS-3800 manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd. (the number of vinyl groups is 7.6 for 100 methyl groups) and BY24-162 manufactured by Dow Toray Co., Ltd. The number of vinyl groups is 1.4 for 100 methyl groups), BY24-843 (has no unsaturated group), SD-7292 (the number of vinyl groups is 1.4 for 100 methyl groups). The number is 5.0).

架橋剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。架橋剤としては、例えば、シロキサン系架橋剤(シリコーン系架橋剤)が挙げられる。シロキサン系架橋剤としては、例えば、分子中にケイ素原子に結合している水素原子を2個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンが挙げられる。このようなポリオルガノハイドロジェンシロキサンにおいて、水素原子が結合しているケイ素原子には、水素原子以外に各種有機基が結合していてもよい。このような有機基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基;フェニル基等のアリール基;ハロゲン化アルキル基;などが挙げられる。このような有機基としては、合成や取り扱いの観点から、メチル基が好ましい。また、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンの骨格構造は、直鎖状、分岐状、環状のいずれの骨格構造を有していてもよく、好ましくは直鎖状である。 The cross-linking agent may be only one kind or two or more kinds. Examples of the cross-linking agent include a siloxane-based cross-linking agent (silicone-based cross-linking agent). Examples of the siloxane-based cross-linking agent include polyorganohydrogensiloxane having two or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms in the molecule. In such a polyorganohydrogensiloxane, various organic groups may be bonded to the silicon atom to which the hydrogen atom is bonded in addition to the hydrogen atom. Examples of such an organic group include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group; an aryl group such as a phenyl group; an alkyl halide group; and the like. As such an organic group, a methyl group is preferable from the viewpoint of synthesis and handling. The skeleton structure of the polyorganohydrogensiloxane may have any of linear, branched, and cyclic skeleton structures, and is preferably linear.

架橋剤は、シリコーン系樹脂成分およびシリコーン系ゴム成分のビニル基のような不飽和基1個に対して、ケイ素原子に結合した水素原子が、好ましくは0.5個以上10個以下であり、より好ましくは1個以上2.5個以下である。 The cross-linking agent has preferably 0.5 or more and 10 or less hydrogen atoms bonded to silicon atoms with respect to one unsaturated group such as a vinyl group of a silicone-based resin component and a silicone-based rubber component. More preferably, the number is 1 or more and 2.5 or less.

硬化触媒は、代表的には、シリコーン系樹脂成分およびシリコーン系ゴム成分中の不飽和基と架橋剤中のSi−H基とのヒドロシリル化反応を促進させるために使用される。硬化触媒は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The curing catalyst is typically used to promote the hydrosilylation reaction between the unsaturated group in the silicone-based resin component and the silicone-based rubber component and the Si—H group in the cross-linking agent. The curing catalyst may be only one type or two or more types.

硬化触媒としては、例えば、白金系の触媒、すなわち、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、塩化白金酸とアルコール溶液との反応物、塩化白金酸とオレフィン化合物との反応物、塩化白金酸とビニル基含有シロキサン化合物との反応物、白金−オレフィン錯体、白金−ビニル基含有シロキサン錯体、白金−リン錯体などが挙げられる。このような硬化触媒の具体例は、例えば、特開2006−28311号公報や特開平10−147758号公報に記載されている。具体的な市販品としては、例えば、ダウ・東レ社製のSRX−212、信越化学工業社製のPL−50Tなどが挙げられる。 Examples of the curing catalyst include platinum-based catalysts, that is, platinum chloride acid, an alcohol solution of platinum chloride acid, a reaction product of platinum chloride acid and an alcohol solution, a reaction product of platinum chloride acid and an olefin compound, and platinum chloride acid. Examples thereof include a reaction product of and a vinyl group-containing siloxane compound, a platinum-olefin complex, a platinum-vinyl group-containing siloxane complex, and a platinum-phosphorus complex. Specific examples of such a curing catalyst are described in, for example, JP-A-2006-28311 and JP-A-10-147758. Specific examples of commercially available products include SRX-212 manufactured by Dow Toray Co., Ltd. and PL-50T manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

硬化触媒の含有割合は、白金分として、シリコーン系樹脂成分とシリコーン系ゴム成分の合計量に対して、好ましくは5質量ppm〜2000質量ppmであり、より好ましくは10質量ppm〜500質量ppmである。 The content ratio of the curing catalyst is preferably 5 mass ppm to 2000 mass ppm, more preferably 10 mass ppm to 500 mass ppm, based on the total amount of the silicone-based resin component and the silicone-based rubber component as the platinum content. be.

付加反応型シリコーン系粘着剤においては、常温でも粘着力が発現するが、加熱または活性エネルギー線の照射を行うことにより、シリコーン系樹脂成分とシリコーン系ゴム成分の架橋剤による架橋反応を促進させることが、粘着力の安定性の面から好ましい。 In the addition reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive, the adhesive strength is exhibited even at room temperature, but the cross-linking reaction between the silicone-based resin component and the silicone-based rubber component by the cross-linking agent is promoted by heating or irradiating with active energy rays. However, it is preferable from the viewpoint of stability of adhesive strength.

加熱で架橋反応を促進させる場合の加熱温度は、好ましくは60℃〜140℃であり、より好ましくは80℃〜130℃である。 When the cross-linking reaction is promoted by heating, the heating temperature is preferably 60 ° C. to 140 ° C., more preferably 80 ° C. to 130 ° C.

活性エネルギー線を照射して架橋反応を促進させる場合、電磁波または荷電粒子線の中でエネルギー量子を有する活性エネルギー線、すなわち、紫外線などの活性光または電子線などを利用できる。電子線を照射して架橋させる場合、光重合開始剤を必要としないが、紫外線などの活性光を照射して架橋させる場合には、光重合開始剤を存在させることが好ましい。紫外線照射させる場合の光重合開始剤としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な光重合開始剤を採用し得る。このような光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、α−ジケトン類、α−ジケトンジアルキルアセタール類、アントラキノン類、チオキサントン類などが挙げられる。光重合開始剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。光重合開始剤の使用量は、シリコーン系樹脂成分とシリコーン系ゴム成分との混合物からなる主剤と架橋剤との合計量100質量部に対し、好ましくは0.01質量部〜30質量部であり、より好ましくは0.05質量部〜20質量部である。 When irradiating an active energy ray to promote a cross-linking reaction, an active energy ray having an energy quantum in an electromagnetic wave or a charged particle beam, that is, an active light such as an ultraviolet ray or an electron beam can be used. When cross-linking by irradiating with an electron beam, a photopolymerization initiator is not required, but when cross-linking by irradiating with active light such as ultraviolet rays, it is preferable to have a photopolymerization initiator present. As the photopolymerization initiator when irradiated with ultraviolet rays, any suitable photopolymerization initiator can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such photopolymerization initiators include benzoins, benzophenones, acetophenones, α-hydroxyketones, α-aminoketones, α-diketones, α-diketone dialkyl acetals, anthraquinones, thioxanthones and the like. Can be mentioned. The photopolymerization initiator may be only one kind or two or more kinds. The amount of the photopolymerization initiator used is preferably 0.01 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the main agent and the cross-linking agent composed of a mixture of the silicone-based resin component and the silicone-based rubber component. , More preferably 0.05 parts by mass to 20 parts by mass.

活性エネルギー線を照射して架橋反応を促進させる場合の、照射条件としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な照射条件を採用し得る。 When irradiating with active energy rays to promote the cross-linking reaction, any appropriate irradiation conditions can be adopted as the irradiation conditions as long as the effects of the present invention are not impaired.

付加反応型シリコーン系粘着剤には、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切なその他の成分が含まれていてもよい。その他の成分としては、例えば、有機溶媒、難燃剤、粘着付与剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、防腐剤、防黴剤、可塑剤、消泡剤、着色剤、フィラー、濡れ性調整剤などが挙げられる。 The addition reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive may contain any suitable other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components include, for example, organic solvents, flame retardants, tackifiers, UV absorbers, light stabilizers, antioxidants, antistatic agents, preservatives, fungicides, plasticizers, defoamers, colorants. , Fillers, wettability modifiers and the like.

≪≪発泡複合体の製造方法≫≫
本発明の発泡複合体は、任意の適切な方法によって製造し得る。
≪≪Manufacturing method of foam complex≫≫
The foamed complex of the present invention can be produced by any suitable method.

本発明の発泡複合体が、図1に示すように、仮固定層と下塗り層と基材層とシリコーン系粘着剤層は直接に積層されてなる場合、その製造方法としては、例えば、基材層の片面に下塗り層を形成し、その反対側に粘着剤層を形成してセパレーターを粘着剤面に貼り合わせ、次に、熱硬化性シリコーン樹脂と水を含むシリコーン樹脂組成物を下塗り剤面に塗工し、該塗工したシリコーン樹脂組成物と反対側の表面上にセパレーターを載置し、該シリコーン樹脂組成物を熱硬化させ、該セパレーターを剥離したものを加熱乾燥させてシリコーン系発泡層を形成する方法、などが挙げられる。 When the foamed composite of the present invention is formed by directly laminating the temporary fixing layer, the undercoat layer, the base material layer, and the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer as shown in FIG. 1, the manufacturing method thereof is, for example, a base material. An undercoat layer is formed on one side of the layer, an adhesive layer is formed on the other side, a separator is attached to the adhesive side, and then a silicone resin composition containing a thermosetting silicone resin and water is applied to the undercoat surface. A separator is placed on the surface opposite to the coated silicone resin composition, the silicone resin composition is thermoset, and the peeled separator is heat-dried to form a silicone-based foam. Examples include a method of forming a layer.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、実施例等における、試験および評価方法は以下のとおりである。なお、「部」と記載されている場合は、特記事項がない限り「質量部」を意味し、「%」と記載されている場合は、特記事項がない限り「質量%」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The tests and evaluation methods in the examples and the like are as follows. In addition, when it is described as "part", it means "mass part" unless there is a special note, and when it is described as "%", it means "mass%" unless there is a special note.

<厚みの測定>
3D測定レーザー顕微鏡(LEXT OLS4000、オリンパス(株)社製)にて、高精度・対物レンズ10倍の設定でガラス板(マイクロスライドガラスS、松浪硝子工業株式会社製)に測定対象物(例えば、吸着仮固定シート)を乗せ、ガラス板表面から測定対象物の最上部までの3D画像を測定し、その高さを厚みとした。
<Measurement of thickness>
3D measurement With a laser microscope (LEXT OLS4000, manufactured by Olympus Co., Ltd.), a glass plate (micro slide glass S, manufactured by Matsunami Glass Ind. Co., Ltd.) with high precision and a setting of 10 times the objective lens is used for measurement (for example, A suction temporary fixing sheet) was placed, and a 3D image from the surface of the glass plate to the top of the object to be measured was measured, and the height was taken as the thickness.

<見掛け密度の測定>
50mm×50mmの打ち抜き刃型にて測定対象物を打ち抜き、厚みは前述した<厚みの測定>の値を用い、これらの値から測定対象物の体積を算出した。
次に、測定対象物の質量を最小目盛り0.01g以上の上皿天秤にて測定した。これらの値より、測定対象物の見掛け密度(g/cm)を算出した。
<Measurement of apparent density>
The object to be measured was punched with a punching blade type of 50 mm × 50 mm, and the volume of the object to be measured was calculated from these values using the above-mentioned values of <measurement of thickness>.
Next, the mass of the object to be measured was measured with a precision balance having a minimum scale of 0.01 g or more. From these values, the apparent density (g / cm 3 ) of the object to be measured was calculated.

<算術平均表面粗さRaの測定>
3D測定レーザー顕微鏡(LEXT OLS4000、オリンパス(株)社製)にて、高精度・対物レンズ10倍の設定で3D画像を測定し、JIS B0601(1994)に準拠して算術平均粗さRaを求めた。
<Measurement of Arithmetic Mean Surface Roughness Ra>
3D measurement 3D image is measured with a laser microscope (LEXT OLS4000, manufactured by Olympus Corporation) with high accuracy and 10x objective lens setting, and the arithmetic mean roughness Ra is calculated according to JIS B0601 (1994). rice field.

<寸法変化率の測定>
(MD方向の寸法変化率)
仮固定複合体を100mm×100mmに切り出し、最外層に位置する粘着剤層(セパレーターが貼着されている場合はそれを剥離したもの)をSUS403BA板に貼付して測定サンプルとした。その後、ノギスを用いて、長さ方向3点(両端部と中心部の位置の幅長さ)を小数点第2位まで測定し、その平均値を求めた。
続いて、測定サンプルを図2のような熱履歴のかかるハンダリフロープロセスに1回通した後、23℃×50%RHで1時間静置した後、リフロー前に計測した同じ位置を、ノギスを用いて小数点第2位まで測定し、その平均値を求めた。
MD方向の寸法変化率を下記式によって算出した。
MD方向の寸法変化率(%)=[(ハンダリフロープロセスを通す前のMD方向長さ(mm)−ハンダリフロープロセスを通した後に温度23℃×湿度50%RHで1時間静置した後のMD方向長さ(mm))/ハンダリフロープロセスを通す前のMD方向長さ(mm)]×100(%)
MD方向の寸法変化率が0.3%以下の場合を○、0.3%以上の場合を×とした。
(TD方向の寸法変化率)
仮固定複合体を100mm×100mmに切り出し、最外層に位置する粘着剤層をSUS403BA板に貼付して測定サンプルとした。その後、ノギスを用いて、横方向3点(両端部と中心部の位置の幅長さ)を小数点第2位まで測定し、その平均値を求めた。
続いて、測定サンプルを図4のような熱履歴のかかるハンダリフロープロセスに1回通した後、23℃×50%RHで1時間静置した後、リフロー前に計測した同じ位置を、ノギスを用いて小数点第2位まで測定し、その平均値を求めた。
TD方向の寸法変化率を下記式によって算出した。
TD方向の寸法変化率(%)=[(ハンダリフロープロセスを通す前のTD方向長さ(mm)−ハンダリフロープロセスを通した後に温度23℃×湿度50%RHで1時間静置した後のTD方向長さ(mm))/ハンダリフロープロセスを通す前のTD方向長さ(mm)]×100(%)
TD方向の寸法変化率が0.3%以下の場合を○、0.3%以上の場合を×とした。
<Measurement of dimensional change rate>
(Dimensional change rate in MD direction)
The temporary fixing complex was cut out to a size of 100 mm × 100 mm, and the adhesive layer located on the outermost layer (the separator was peeled off if it was attached) was attached to a SUS403BA plate to prepare a measurement sample. Then, using a caliper, three points in the length direction (width and length of the positions of both ends and the center) were measured to the second decimal place, and the average value was calculated.
Subsequently, the measurement sample was passed through a solder reflow process with a thermal history as shown in FIG. 2, allowed to stand at 23 ° C. × 50% RH for 1 hour, and then calipers were placed at the same position measured before the reflow. It was used to measure up to the second decimal place, and the average value was calculated.
The dimensional change rate in the MD direction was calculated by the following formula.
Dimensional change rate in MD direction (%) = [(Length in MD direction before passing through solder reflow process (mm) -After passing through solder reflow process, after standing at temperature 23 ° C. x humidity 50% RH for 1 hour MD direction length (mm)) / MD direction length before passing through the solder reflow process (mm)] x 100 (%)
The case where the dimensional change rate in the MD direction was 0.3% or less was evaluated as ◯, and the case where the dimensional change rate in the MD direction was 0.3% or more was evaluated as x.
(Dimensional change rate in the TD direction)
The temporary fixing complex was cut out to a size of 100 mm × 100 mm, and the adhesive layer located on the outermost layer was attached to a SUS403BA plate to prepare a measurement sample. Then, using a caliper, three points in the horizontal direction (width and length of the positions of both ends and the center) were measured to the second decimal place, and the average value was calculated.
Subsequently, the measurement sample was passed through a solder reflow process having a thermal history as shown in FIG. 4, and then allowed to stand at 23 ° C. × 50% RH for 1 hour. It was used to measure up to the second decimal place, and the average value was calculated.
The dimensional change rate in the TD direction was calculated by the following formula.
Dimensional change rate in the TD direction (%) = [(Length in the TD direction before passing through the solder reflow process (mm) -After passing through the solder reflow process, after standing at a temperature of 23 ° C. x humidity of 50% RH for 1 hour TD direction length (mm)) / TD direction length before passing through the solder reflow process (mm)] x 100 (%)
The case where the dimensional change rate in the TD direction was 0.3% or less was evaluated as ◯, and the case where the dimensional change rate in the TD direction was 0.3% or more was evaluated as x.

<投錨力の測定>
仮固定複合体の最外層に位置する仮固定層(セパレーターが貼着されている場合はそれを剥離したもの)の表面に、シリコーン系粘着剤(SH4280、ダウ・東レ社製、過酸化物架橋)/PET基材(25μm)の積層体のシリコーン系粘着剤側を、2kgローラーで1往復して圧着し、その後、20mm幅にカットした。30分間養生した後に、引張角度90度、引剥がし速度150mm/分で引き剥がした時の破壊形態を評価した。
仮固定層が凝集破壊する破壊形態、および、仮固定層が凝集破壊せずに仮固定層と上記積層体のシリコーン系粘着剤との間で界面破壊したときの荷重が2N/20mm以上の破壊形態の場合を○とした。仮固定層が凝集破壊せずに仮固定層と上記積層体のシリコーン系粘着剤層との間で界面破壊したときの荷重が2N/20mm未満の破壊形態の場合を×とした。
<Measurement of anchoring force>
Silicone adhesive (SH4280, manufactured by Dow Toray Co., Ltd., peroxide cross-linking) is applied to the surface of the temporary fixing layer (which is peeled off if a separator is attached) located at the outermost layer of the temporary fixing composite. ) / PET base material (25 μm), the silicone-based adhesive side of the laminate was pressure-bonded once with a 2 kg roller, and then cut to a width of 20 mm. After curing for 30 minutes, the fracture morphology when peeled at a tension angle of 90 degrees and a peeling speed of 150 mm / min was evaluated.
Fracture form in which the temporary fixing layer is coagulated and broken, and the load when the temporary fixing layer is interfacially broken between the temporary fixing layer and the silicone-based adhesive of the laminated body without cohesive failure is 2N / 20 mm or more. The case of the form was marked with ◯. The case where the load was less than 2N / 20 mm when the temporary fixing layer was interfacially broken between the temporary fixing layer and the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer of the laminated body without cohesive failure was evaluated as x.

〔製造例1〕:シリコーン系ゴム層(1)の製造
付加反応型シリコーン系粘着剤(ダウ・東レ社製、SD4592、SRX−212)をn−ヘプタンで固形分濃度0.3%に希釈して、ガラスエポキシ基材の片面に乾燥厚み1μmになるように形成した。その反対側に、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤(ダウ・東レ社製、SH4280)から形成されたシリコーン系粘着剤層を形成し、フッ化シリコーン処理を施されたPETセパレーターを粘着剤層に貼り合わせた。次に、熱硬化性シリコーン樹脂(ダウ・東レ社製、RBL−9200)を下塗り剤面に塗布し、該塗工したシリコーン樹脂組成物の表面上にPETフィルム(東レ社製、ルミラー、厚み38μm)を貼付して該シリコーン樹脂組成物を熱硬化させ、該PETフィルムを剥離したものを加熱乾燥させて、シリコーンゴム層(1)を製造した。
[Production Example 1]: Production of Silicone Rubber Layer (1) Addition reaction type silicone adhesive (SD4592, SRX-212 manufactured by Dow Toray Co., Ltd.) is diluted with n-heptane to a solid content concentration of 0.3%. Then, it was formed on one side of the glass epoxy base material so as to have a dry thickness of 1 μm. On the opposite side, a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer formed from a peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive (SH4280 manufactured by Dow Toray Co., Ltd.) is formed, and a PET separator treated with fluorinated silicone is applied to the pressure-sensitive adhesive layer. It was pasted on. Next, a thermosetting silicone resin (Dow Toray Co., Ltd., RBL-9200) was applied to the surface of the primer, and a PET film (Toray Co., Ltd., Lumirror, thickness 38 μm) was applied on the surface of the coated silicone resin composition. ) Was affixed to the silicone resin composition, and the PET film was peeled off and dried by heating to produce a silicone rubber layer (1).

〔製造例2〕:シリコーン系発泡層(1)の製造
ビニル基含有量0.28質量%のジメチルポリシロキサン:83.45質量部、ケイ素原子結合水素原子含有量0.7質量%のメチルハイドロジェンポリシロキサン:6.40質量部(上記ジメチルポリシロキサン中のビニル基1モルに対して、本メチルハイドロジェンポリシロキサン中のケイ素原子結合水素原子が5モルとなる量)、スメクタイトクレー(水系添加剤、有機ポリマー複合精製ベントナイト、(株)ホージュン製):0.85質量部、イオン交換水:99.16質量部、ヘキサメチルジシラザンで表面処理したBET比表面積225m2/gのフュームドシリカ:6.50質量部、ベンガラ(商品名:バイフェロクス、バイエル社製):2.40質量部、ノニオン系界面活性剤(ソルビタン脂肪酸エステル、商品名:レオドールSP−O10V、花王社製HLB4.3):0.98質量部、ノニオン系界面活性剤(ソルビタン脂肪酸エステル、商品名:レオドールSP−O30V、花王社製HLB1.8):0.045質量部、1−エチニル−1−シクロヘキサノール:0.02質量部および白金の1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(白金金属含有量約4000ppm):0.22質量部を、あわとり錬太郎(シンキー社製)で15分間乳化し、次いで、乳化液を室温で5分間減圧乾燥して脱泡を行い、樹脂組成物を得た。
得られた樹脂組成物をフロロシリコーン処理PETフィルム(ニッパシートPET38x1−SS4A、ニッパ社製)上にアプリケータを用いて塗布し、その上からPETフィルム(ルミラーS10、東レ社製)を被せて、熱風オーブンによって85℃で6分間加熱し、樹脂組成物を硬化させた。硬化後、PETフィルムを剥離し、さらに、200℃で3分間加熱乾燥を行い、見掛け密度が0.5g/cm、厚みが0.2mmのシリコーン系発泡層(1)を製造した。
[Production Example 2]: Production of Silicone Foam Layer (1) Dimethylpolysiloxane with vinyl group content of 0.28% by mass: Methylhydro with 83.45 parts by mass and silicon atom-bonded hydrogen atom content of 0.7% by mass Genpolysiloxane: 6.40 parts by mass (amount of silicon atom-bonded hydrogen atom in this methylhydrogenpolysiloxane is 5 mol with respect to 1 mol of vinyl group in the above dimethylpolysiloxane), smectite clay (water-based addition) Agent, Organic Polymer Composite Purified Bentnite, manufactured by Hojun Co., Ltd.): 0.85 parts by mass, ion-exchanged water: 99.16 parts by mass, fumed silica with BET specific surface area of 225 m2 / g surface-treated with hexamethyldisilazane: 6.50 parts by mass, Bengala (trade name: Biferrox, manufactured by Bayer): 2.40 parts by mass, nonionic surfactant (sorbitan fatty acid ester, trade name: Leodor SP-O10V, HLB 4.3 manufactured by Kao): 0.98 parts by mass, nonionic surfactant (sorbitan fatty acid ester, trade name: Leodor SP-O30V, HLB 1.8 manufactured by Kao Co., Ltd.): 0.045 parts by mass, 1-ethynyl-1-cyclohexanol: 0.02 1,3-Divinyltetramethyldisiloxane solution of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane complex of platinum (platinum metal content: about 4000 ppm): 0.22 parts by mass, Rentaro Awatori (manufactured by Shinky) ) For 15 minutes, then the emulsion was dried under reduced pressure at room temperature for 5 minutes to defoam, and a resin composition was obtained.
The obtained resin composition is applied onto a fluorosilicone-treated PET film (Nipper sheet PET38x1-SS4A, manufactured by Nipper) using an applicator, and then covered with a PET film (Lumirer S10, manufactured by Toray Industries, Inc.). The resin composition was cured by heating in a hot air oven at 85 ° C. for 6 minutes. After curing, the PET film was peeled off and further heat-dried at 200 ° C. for 3 minutes to produce a silicone-based foam layer (1) having an apparent density of 0.5 g / cm 3 and a thickness of 0.2 mm.

〔実施例1〕:仮固定複合体(1)
シリコーン系ゴム層(1)(厚み=0.2μm)/シリコーン下塗り層(1)(厚み=1μm)/ガラスエポキシ基材層(利昌工業製、BG3520、厚み=100μm)/過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤(SH4280、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)の積層体である仮固定複合体(1)を得た。
結果を表1に示した。
[Example 1]: Temporary fixed complex (1)
Silicone rubber layer (1) (thickness = 0.2 μm) / silicone undercoat layer (1) (thickness = 1 μm) / glass epoxy base material layer (manufactured by Risho Kogyo, BG3520, thickness = 100 μm) / peroxide curable silicone A temporary fixing composite (1), which is a laminate of a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer (thickness = 50 μm) formed from a based pressure-sensitive adhesive (SH4280, manufactured by Dow Toray Co., Ltd.), was obtained.
The results are shown in Table 1.

〔実施例2〕:仮固定複合体(2)
最外層のシリコーン系粘着剤層を、付加反応型シリコーン系粘着剤(SD4592、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=75μm)に代えた以外は、実施例1と同様に行い、シリコーン系ゴム層(1)(厚み=0.2μm)/シリコーン下塗り層(1)(厚み=1μm)/ガラスエポキシ基材層(利昌工業製、BG3520製、厚み=100μm)/付加反応型シリコーン系粘着剤(SD4592、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)の積層体である仮固定複合体(2)を得た。
結果を表1に示した。
[Example 2]: Temporary fixed complex (2)
Except that the outermost silicone-based pressure-sensitive adhesive layer was replaced with a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer (thickness = 75 μm) formed from an addition-reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive (SD4592, manufactured by Dow Toray Co., Ltd.), the same as in Example 1. Perform in the same manner, silicone rubber layer (1) (thickness = 0.2 μm) / silicone undercoat layer (1) (thickness = 1 μm) / glass epoxy base material layer (manufactured by Risho Kogyo, BG3520, thickness = 100 μm) / addition A temporary fixing composite (2), which is a laminate of a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer (thickness = 50 μm) formed from a reactive silicone-based pressure-sensitive adhesive (SD4592, manufactured by Dow Toray Co., Ltd.), was obtained.
The results are shown in Table 1.

〔実施例3〕:仮固定複合体(3)
シリコーン系ゴム層(1)をシリコーン系発泡層(1)に代え、ガラスエポキシ基材層をポリイミド基材層(東レ・デュポン社製、カプトン300H、厚み=75μm)に代えた以外は、実施例1と同様に行い、シリコーン系発泡層(1)(厚み=0.2μm)/シリコーン下塗り層(1)(厚み=1μm)/ポリイミド基材層(東レ・デュポン社製、カプトン300H、厚み=75μm)/過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤(SH4280、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)の積層体である仮固定複合体(3)を得た。
結果を表1に示した。
[Example 3]: Temporary fixed complex (3)
Examples except that the silicone-based rubber layer (1) was replaced with the silicone-based foam layer (1) and the glass epoxy base material layer was replaced with the polyimide base material layer (manufactured by Toray DuPont, Capton 300H, thickness = 75 μm). Perform in the same manner as in 1, Silicone foam layer (1) (thickness = 0.2 μm) / silicone undercoat layer (1) (thickness = 1 μm) / polyimide base material layer (manufactured by Toray DuPont, Capton 300H, thickness = 75 μm) ) / Temporary fixed composite (3), which is a laminate of silicone-based pressure-sensitive adhesive layers (thickness = 50 μm) formed from a polyimide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive (SH4280, manufactured by Dow Toray Co., Ltd.) was obtained.
The results are shown in Table 1.

〔実施例4〕:仮固定複合体(4)
最外層のシリコーン系粘着剤層を、付加反応型シリコーン系粘着剤(SD4592、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)に代えた以外は、実施例3と同様に行い、シリコーン系発泡層(1)(厚み=0.2μm)/シリコーン下塗り層(1)(厚み=1μm)/ポリイミド基材層(東レ・デュポン社製、カプトン300H、厚み=75μm)/付加反応型シリコーン系粘着剤(SD4592、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)の積層体である仮固定複合体(4)を得た。
結果を表1に示した。
[Example 4]: Temporary fixed complex (4)
Example 3 and Example 3 except that the outermost silicone-based pressure-sensitive adhesive layer was replaced with a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer (thickness = 50 μm) formed from an addition-reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive (SD4592, manufactured by Dow Toray Industries, Inc.). Do the same, silicone-based foam layer (1) (thickness = 0.2 μm) / silicone undercoat layer (1) (thickness = 1 μm) / polyimide base material layer (manufactured by Toray DuPont, Capton 300H, thickness = 75 μm) / A temporary fixing composite (4), which is a laminate of a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer (thickness = 50 μm) formed from an addition-reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive (SD4592, manufactured by Dow Toray Industries, Inc.), was obtained.
The results are shown in Table 1.

〔比較例1〕:仮固定複合体(C1)
シリコーン下塗り層(1)を設けなかった以外は、実施例1と同様に行い、シリコーン系ゴム層(1)(厚み=0.2μm)/ガラスエポキシ基材層(利昌工業製、BG3520製、厚み=100μm)/過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤(SH4280、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)の積層体である仮固定複合体(C1)を得た。
結果を表1に示した。
[Comparative Example 1]: Temporary fixed complex (C1)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the silicone undercoat layer (1) was not provided, and the silicone rubber layer (1) (thickness = 0.2 μm) / glass epoxy base material layer (manufactured by Risho Kogyo, BG3520, thickness). = 100 μm) / Temporary fixed composite (C1), which is a laminate of silicone-based pressure-sensitive adhesive layers (thickness = 50 μm) formed from peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive (SH4280, manufactured by Dow Toray Co., Ltd.), is obtained. rice field.
The results are shown in Table 1.

〔比較例2〕:仮固定複合体(C2)
シリコーン下塗り層(1)を設けなかった以外は、実施例2と同様に行い、シリコーン系ゴム層(1)(厚み=0.2μm)/ガラスエポキシ基材層(利昌工業製、BG3520製、厚み=100μm)/付加反応型シリコーン系粘着剤(SD4592、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)の積層体である仮固定複合体(C2)を得た。
結果を表1に示した。
[Comparative Example 2]: Temporary fixed complex (C2)
The same procedure as in Example 2 was performed except that the silicone undercoat layer (1) was not provided, and the silicone rubber layer (1) (thickness = 0.2 μm) / glass epoxy base material layer (manufactured by Risho Kogyo, BG3520, thickness). = 100 μm) / A temporary fixing composite (C2), which is a laminate of a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer (thickness = 50 μm) formed from an addition-reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive (SD4592, manufactured by Dow Toray Co., Ltd.), was obtained.
The results are shown in Table 1.

〔比較例3〕:仮固定複合体(C3)
シリコーン下塗り層(1)を設けなかった以外は、実施例3と同様に行い、シリコーン系発泡層(1)(厚み=0.2μm)/ポリイミド基材層(東レ・デュポン社製、カプトン300H、厚み=75μm)/過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤(SH4280、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)の積層体である仮固定複合体(C3)を得た。
結果を表1に示した。
[Comparative Example 3]: Temporary fixed complex (C3)
The same procedure as in Example 3 was carried out except that the silicone undercoat layer (1) was not provided, and the silicone-based foam layer (1) (thickness = 0.2 μm) / polyimide base material layer (manufactured by Toray DuPont, Capton 300H, Temporary fixing composite (C3), which is a laminate of silicone-based pressure-sensitive adhesive layers (thickness = 50 μm) formed from a peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive (SH4280, manufactured by Dow Toray Industries, Inc.). Obtained.
The results are shown in Table 1.

〔比較例4〕:仮固定複合体(C4)
シリコーン下塗り層(1)を設けなかった以外は、実施例4と同様に行い、シリコーン系発泡層(1)(厚み=0.2μm)/ポリイミド基材層(東レ・デュポン社製、カプトン300H、厚み=75μm)/付加反応型シリコーン系粘着剤(SD4592、ダウ・東レ社製)から形成されたシリコーン系粘着剤層(厚み=50μm)の積層体である仮固定複合体(C4)を得た。
結果を表1に示した。
[Comparative Example 4]: Temporary fixed complex (C4)
The same procedure as in Example 4 was carried out except that the silicone undercoat layer (1) was not provided, and the silicone-based foam layer (1) (thickness = 0.2 μm) / polyimide base material layer (manufactured by Toray DuPont, Kapton 300H, A temporary fixing composite (C4), which is a laminate of a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer (thickness = 50 μm) formed from an addition-reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive (SD4592, manufactured by Dow Toray Industries, Inc.), was obtained. ..
The results are shown in Table 1.

Figure 2021160300
Figure 2021160300

本発明の仮固定複合体は、例えば、電子回路基板等の製造工程における部品の仮固定等に好適に利用可能である。 The temporary fixing complex of the present invention can be suitably used, for example, for temporary fixing of parts in a manufacturing process of an electronic circuit board or the like.

10 仮固定層
20 下塗り層
30 基材層
40 シリコーン系粘着剤層
100 仮固定複合体
10 Temporary fixing layer 20 Undercoat layer 30 Base material layer 40 Silicone adhesive layer 100 Temporary fixing composite

Claims (10)

仮固定層と基材層とシリコーン系粘着剤から形成されるシリコーン系粘着剤層を含む仮固定複合体であって、
該仮固定層が発泡層またはゴム層であり、
該仮固定層と該基材層とが下塗り層を介して積層されてなる、
仮固定複合体。
A temporary fixing composite containing a temporary fixing layer, a base material layer, and a silicone-based pressure-sensitive adhesive layer formed of a silicone-based pressure-sensitive adhesive.
The temporary fixing layer is a foam layer or a rubber layer, and the temporary fixing layer is a foam layer or a rubber layer.
The temporary fixing layer and the base material layer are laminated via an undercoat layer.
Temporary fixed complex.
前記下塗り層の厚みが0.01μm〜5μmである、請求項1に記載の仮固定複合体。 The temporary fixed complex according to claim 1, wherein the undercoat layer has a thickness of 0.01 μm to 5 μm. 前記下塗り層の厚みが0.1μm〜3μmである、請求項2に記載の仮固定複合体。 The temporary fixing complex according to claim 2, wherein the undercoat layer has a thickness of 0.1 μm to 3 μm. 前記下塗り層を構成する下塗り剤がシリコーン系下塗り剤である、請求項1から3までのいずれかに記載の仮固定複合体。 The temporary fixing complex according to any one of claims 1 to 3, wherein the undercoating agent constituting the undercoating layer is a silicone-based undercoating agent. 前記シリコーン系下塗り剤が、過酸化物架橋型シリコーン系粘着剤である、請求項4に記載の仮固定複合体。 The temporary fixing composite according to claim 4, wherein the silicone-based undercoating agent is a peroxide-crosslinked silicone-based pressure-sensitive adhesive. 前記シリコーン系下塗り剤が、付加反応型シリコーン系粘着剤である、請求項4に記載の仮固定複合体。 The temporary fixing composite according to claim 4, wherein the silicone-based undercoating agent is an addition-reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive. 前記仮固定層がシリコーン系発泡層である、請求項1から6までのいずれかに記載の仮固定複合体。 The temporary fixing composite according to any one of claims 1 to 6, wherein the temporary fixing layer is a silicone-based foam layer. 前記シリコーン系粘着剤層の厚みが1μm〜100μmである、請求項1から7までのいずれかに記載の仮固定複合体。 The temporary fixing complex according to any one of claims 1 to 7, wherein the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 1 μm to 100 μm. 前記シリコーン系粘着剤層の厚みが5μm〜90μmである、請求項8に記載の仮固定複合体。 The temporary fixing complex according to claim 8, wherein the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 5 μm to 90 μm. 前記シリコーン系粘着剤層の厚みが8μm〜80μmである、請求項9に記載の仮固定複合体。
The temporary fixing complex according to claim 9, wherein the silicone-based pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 8 μm to 80 μm.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2024038819A1 (en) * 2022-08-19 2024-02-22 日東電工株式会社 Workpiece holding member and laminate

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2024038819A1 (en) * 2022-08-19 2024-02-22 日東電工株式会社 Workpiece holding member and laminate

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