JP2021136333A - Grinding method - Google Patents
Grinding method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021136333A JP2021136333A JP2020031535A JP2020031535A JP2021136333A JP 2021136333 A JP2021136333 A JP 2021136333A JP 2020031535 A JP2020031535 A JP 2020031535A JP 2020031535 A JP2020031535 A JP 2020031535A JP 2021136333 A JP2021136333 A JP 2021136333A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grinding
- surface side
- holding
- workpiece
- ground
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 31
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 abstract 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
Description
本発明は、被加工物の裏面側の一部を研削することにより、研削が施された円形の被研削部と、被研削部の周囲を囲み且つ研削が施されていないリング状補強部と、で構成される円盤状の凹部を、被加工物の裏面側に形成する研削方法に関する。 The present invention includes a circular portion to be ground that has been ground by grinding a part of the back surface side of the workpiece, and a ring-shaped reinforcing portion that surrounds the portion to be ground and has not been ground. The present invention relates to a grinding method for forming a disk-shaped recess composed of, on the back surface side of a work piece.
互いに交差する複数の分割予定ラインが表面側に設定され、複数の分割予定ラインで区画される各領域にIC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイスが形成された被加工物は、研削、切削等を経て複数のデバイスチップに分割される。 A work piece in which a plurality of scheduled division lines intersecting each other are set on the surface side, and devices such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integration) are formed in each area partitioned by the plurality of scheduled division lines. It is divided into a plurality of device chips through grinding, cutting, etc.
例えば、研削装置を用いて円盤状の被加工物の裏面側の全体を研削して所定の厚さまで薄化した後、切削装置を用いて被加工物を各分割予定ラインに沿って切削され、被加工物は複数のデバイスチップに分割される。 For example, after grinding the entire back surface side of the disk-shaped workpiece using a grinding device to thin it to a predetermined thickness, the workpiece is cut along each scheduled division line using a cutting device. The work piece is divided into a plurality of device chips.
被加工物を研削する前には、被加工物の表面側に樹脂で形成された円盤状のシート(保護部材)を貼り付ける。保護部材は、基材層と、基材層の第1面に設けられた糊層とを有する。第1面側を被加工物に貼り付けた後、第1面とは反対側に位置する第2面(被保持面)側を、研削装置に搭載されたチャックテーブルで吸引して保持する。 Before grinding the work piece, a disk-shaped sheet (protective member) made of resin is attached to the surface side of the work piece. The protective member has a base material layer and a glue layer provided on the first surface of the base material layer. After the first surface side is attached to the workpiece, the second surface (held surface) side located on the side opposite to the first surface is sucked and held by a chuck table mounted on the grinding device.
チャックテーブルはセラミックスで形成された円盤状の枠体を有する。枠体には、円盤状の凹部が形成されており、この凹部には円盤状のポーラス板が固定されている。ポーラス板の上面は略平坦であり、凹部の外側に位置する枠体の環状の上面と、略面一を成す。 The chuck table has a disk-shaped frame made of ceramics. A disk-shaped recess is formed in the frame body, and a disk-shaped porous plate is fixed to the recess. The upper surface of the porous plate is substantially flat and forms substantially flush with the annular upper surface of the frame body located outside the recess.
ポーラス板の下面には、流路の一端が接続されており、この流路の他端には、真空ポンプ等の吸引源が接続されている。吸引源により発生された負圧は、流路を介して、ポーラス板の上面に作用する。 One end of the flow path is connected to the lower surface of the porous plate, and a suction source such as a vacuum pump is connected to the other end of the flow path. The negative pressure generated by the suction source acts on the upper surface of the porous plate via the flow path.
ポーラス板の上面と、枠体の環状の上面とは、被加工物の表面側(即ち、保護部材の被保持面側)を吸引して保持する保持面を構成する。研削装置では、被加工物の外径の公差や、被加工物を保持面に載置したときの配置ずれ等を考慮して、通常、被加工物の外径よりも大きな直径を有する保持面を備えたチャックテーブルが使用される。 The upper surface of the porous plate and the annular upper surface of the frame form a holding surface that sucks and holds the surface side (that is, the held surface side of the protective member) of the workpiece. In a grinding machine, a holding surface having a diameter larger than the outer diameter of the work piece is usually taken into consideration, such as the tolerance of the outer diameter of the work piece and the misalignment when the work piece is placed on the holding surface. A chuck table equipped with is used.
研削時には、円環状の研削ホイールを用いて、加工点に純水等の研削水を供給しながら、被加工物の裏面側の全体を研削する。このとき、加工屑を含んでいる使用後の研削水は、被加工物の裏面側の外周部から保持面の外周部へ流れ、更に、ポーラス板の吸引力により保護部材の被保持面と保持面との間に浸入する。それゆえ、保護部材の被保持面の外周部と、保持面の外周部とに、研削屑が付着する。 At the time of grinding, an annular grinding wheel is used to grind the entire back surface side of the workpiece while supplying grinding water such as pure water to the machining point. At this time, the used grinding water containing machining debris flows from the outer peripheral portion on the back surface side of the workpiece to the outer peripheral portion of the holding surface, and is further held with the held surface of the protective member by the suction force of the porous plate. Infiltrate between the surface. Therefore, grinding debris adheres to the outer peripheral portion of the held surface of the protective member and the outer peripheral portion of the holding surface.
ところで、被加工物の裏面側の全体ではなく、デバイス領域に対応する裏面側の一部(即ち、円形領域)を研削する手法が知られている(例えば、特許文献1参照)。研削が施された円形領域(即ち、被研削部)の周囲を囲む様に、研削が施されないリング状補強部を残すことで、研削後の被加工物の搬送等の取り扱いが容易になる。 By the way, there is known a method of grinding a part of the back surface side (that is, a circular region) corresponding to a device region, not the entire back surface side of the workpiece (see, for example, Patent Document 1). By leaving a ring-shaped reinforcing portion that is not ground so as to surround the circular region (that is, the portion to be ground) that has been ground, it becomes easy to handle the work piece after grinding.
リング状補強部を残存させる様に裏面側を研削する場合にも、上述の様に、表面側に保護部材を貼り付けた上で、被加工物の外径よりも大きな直径の保持面を有するチャックテーブルで、被加工物の表面側を吸引保持する。 Even when the back surface side is ground so as to leave the ring-shaped reinforcing portion, as described above, after attaching the protective member to the front surface side, it has a holding surface having a diameter larger than the outer diameter of the workpiece. The chuck table sucks and holds the surface side of the work piece.
それゆえ、保持面の外周部と、保護部材の被保持面の外周部とに、研削屑が付着することになる。保持面の外周部に研削屑が付着した状態を放置すると、研削装置の汚れとなる。また、研削に続く工程で使用される装置にも、研削屑等の汚れが付着した被加工物を介して汚れが付着する。 Therefore, the grinding debris adheres to the outer peripheral portion of the holding surface and the outer peripheral portion of the held surface of the protective member. If the state in which the grinding debris adheres to the outer peripheral portion of the holding surface is left unattended, the grinding apparatus becomes dirty. In addition, dirt adheres to the apparatus used in the process following grinding through the workpiece to which dirt such as grinding dust has adhered.
更に、保持面に研削屑等の汚れが付着したまま、被加工物を加工すると、研削屑が付着した位置に応力が集中して被加工物が割れることがある。また、研削屑等に起因して保持面での吸引力が低下し、研削不良が生じる場合もある。加えて、吸着装置で被加工物を吸着して搬送する際には、研削屑等に起因して吸引不良が生じ、被加工物が落下して割れることもある。 Further, if the workpiece is processed while dirt such as grinding chips is attached to the holding surface, the stress may be concentrated at the position where the grinding chips are attached and the workpiece may be cracked. In addition, the suction force on the holding surface may decrease due to grinding debris or the like, resulting in poor grinding. In addition, when the work piece is sucked and conveyed by the suction device, suction failure may occur due to grinding debris or the like, and the work piece may fall and crack.
本発明は係る問題点に鑑みてなされたものであり、保持面の外周部及び保護部材の被保持面の外周部に付着する研削屑の量を低減することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to reduce the amount of grinding debris adhering to the outer peripheral portion of the holding surface and the outer peripheral portion of the held surface of the protective member.
本発明の一態様によれば、複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域の周囲を囲む外周余剰領域とを表面側に有する被加工物の裏面側を、研削砥石を有する研削ホイールで研削する被加工物の研削方法であって、該被加工物の該表面側を保護部材で覆う表面保護ステップと、該デバイス領域の直径よりも大きく且つ該被加工物の外径よりも小さい直径の保持面を有するチャックテーブルで、該保護部材を介して該被加工物の該表面側を吸引して保持する保持ステップと、該チャックテーブルを第1の回転軸の周りで回転させ、且つ、該研削ホイールを第2の回転軸の周りで回転させた状態で、該研削砥石に研削水を供給しながら該研削砥石を該裏面側の一部に接触させることにより該裏面側の一部を研削して、研削が施された円形の被研削部と、該被研削部の周囲を囲み且つ研削が施されていないリング状補強部と、で構成される円盤状の凹部を形成する研削ステップと、を備える研削方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, a grinding wheel having a grinding wheel is used on the back surface side of a workpiece having a device region on which a plurality of devices are formed and an outer peripheral surplus region surrounding the device region on the front surface side. A method for grinding a work piece to be ground, which is a surface protection step in which the surface side of the work piece is covered with a protective member, and a diameter larger than the diameter of the device region and smaller than the outer diameter of the work piece. A holding step of sucking and holding the surface side of the workpiece through the protective member and the chuck table being rotated around a first rotation axis and holding the chuck table. In a state where the grinding wheel is rotated around the second rotation axis, the grinding grindstone is brought into contact with a part of the back surface side while supplying grinding water to the grinding grindstone, so that a part of the back surface side is formed. A grinding step that grinds to form a disk-shaped recess composed of a circular ground portion that has been ground and a ring-shaped reinforcing portion that surrounds the ground portion and has not been ground. And, a grinding method comprising.
本発明の一態様に係る研削ステップでは、研削砥石を裏面側の一部に接触させることにより、裏面側の全体ではなく、裏面側の一部を研削して、円形の被研削部を形成する。つまり、被研削部の周囲を囲み且つ研削が施されないリング状補強部を残す。 In the grinding step according to one aspect of the present invention, the grinding wheel is brought into contact with a part of the back surface side to grind a part of the back surface side instead of the entire back surface side to form a circular portion to be ground. .. That is, a ring-shaped reinforcing portion that surrounds the portion to be ground and is not ground is left.
この様に、研削ステップでは研削が施されない部分があるので、被加工物の表面側の全面を吸引保持する必要が無い。本願は、係る点に着目したものであり、保持ステップでは、デバイス領域の直径よりも大きく且つ被加工物の外径よりも小さい直径の保持面を有するチャックテーブルで、被加工物の表面側を吸引して保持する。 As described above, since there is a portion that is not ground in the grinding step, it is not necessary to suck and hold the entire surface side of the workpiece. The present application focuses on this point, and in the holding step, a chuck table having a holding surface having a diameter larger than the diameter of the device region and smaller than the outer diameter of the work piece is used to hold the surface side of the work piece. Suction and hold.
それゆえ、研削ステップでは、加工屑を含む使用後の研削水が、被加工物の裏面側の外周部から下方へ落下又は飛散する。これにより、保持面の外周部及び保護部材の被保持面の外周部に、使用後の研削水が回り込み難くなる。従って、保持面の外周部及び保護部材の被保持面の外周部に回り込んで付着する研削屑の量を低減できる。 Therefore, in the grinding step, the used grinding water containing the machining chips falls or scatters downward from the outer peripheral portion on the back surface side of the workpiece. As a result, it becomes difficult for the used grinding water to get around the outer peripheral portion of the holding surface and the outer peripheral portion of the held surface of the protective member. Therefore, it is possible to reduce the amount of grinding debris that wraps around and adheres to the outer peripheral portion of the holding surface and the outer peripheral portion of the held surface of the protective member.
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。まず、図1を用いて、研削が施される被加工物11等について説明する。被加工物11は、例えば、シリコン等の半導体材料でなる円盤状のウェーハである。
An embodiment according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. First, the
被加工物11の表面11a側は、互いに交差する複数の分割予定ライン(ストリート)13によって複数の領域に区画されており、各領域には、IC、LSI等のデバイス15が形成されている。
The
なお、被加工物11の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば、シリコン以外の他の半導体材料でなる基板を被加工物11として用いることもできる。同様に、デバイス15の種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はない。
There are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the
被加工物11の表面11a側には、複数のデバイス15を含む円形のデバイス領域17aと、デバイス領域17aの周囲を囲み、デバイス15が設けられていない環状の外周余剰領域17bとが設けられている。
On the
図1では、デバイス領域17aと外周余剰領域17bとの境界線を破線で示すが、この境界線は、仮想線であり、実際には被加工物11に付されていない。なお、被加工物11の表面11a側及び裏面11b側における各外周部には、角部が面取りされたベベル部(図2(A)等参照)が形成されている。
In FIG. 1, the boundary line between the
次に、図1から図4を用いて、被加工物11の裏面11b側を研削して、裏面11b側に円盤状の凹部を形成する方法を説明する。図4は、本発明の一実施形態に係る研削方法のフロー図である。
Next, a method of grinding the
まず、表面11a側を保護するために、被加工物11の表面11a側に保護部材19を貼り付けて、表面11a側が保護部材19で覆われた被加工物ユニット21を形成する(表面保護ステップ(S10))。
First, in order to protect the
図1は、表面保護ステップ(S10)を示す斜視図である。保護部材19は、表面11aに加えて、表面11a側のベベル部も覆う様に貼り付けられる。保護部材19は、樹脂で形成された円盤状のシートであり、基材層と、基材層の第1面に設けられた糊層とを有する。
FIG. 1 is a perspective view showing a surface protection step (S10). The
糊層は、例えば、紫外線硬化樹脂で構成されるが、熱硬化性樹脂や自然硬化性樹脂で構成されてもよい。なお、基材層には必ずしも糊層が設けられなくてもよい。例えば、保護部材19は、基材層のみで構成され、熱圧着等の代替的な手法で表面11a側に貼り付けられてもよい。
The glue layer is made of, for example, an ultraviolet curable resin, but may be made of a thermosetting resin or a naturally curable resin. The base material layer does not necessarily have to be provided with a glue layer. For example, the
表面保護ステップ(S10)の後、研削装置20を用いて裏面11b側を研削する。研削装置20は、チャックテーブル22を備える。チャックテーブル22は、セラミックスで形成された円盤状の枠体24を有する。
After the front surface protection step (S10), the
枠体24には、円盤状の凹部24aが形成されており、凹部24aには円盤状のポーラス板26が固定される。ポーラス板26の下面側には、所定の流路(不図示)の一端が接続されている。流路の他端には、真空ポンプ等の吸引源(不図示)が接続されている。吸引源により発生された負圧は、流路を介してポーラス板26の上面26aに作用する。
A disk-shaped
上面26aは略平坦であり、凹部24aの外側に位置する枠体24の環状の上面24bと、略面一を成す。ポーラス板26の上面26aと、枠体24の上面24bとは、被加工物11の表面11a側を吸引して保持する保持面28を構成する。
The
本実施形態の保持面28は、デバイス領域17aの直径よりも大きく且つ被加工物11の外径よりも小さい直径を有する。枠体24の下部には、モーター等の回転駆動源(不図示)の出力軸(第1の回転軸)30が固定されている。
The holding
出力軸30は、保持面28と略直交する様に、Z軸方向(研削送り方向)に沿って配置されている。チャックテーブル22の上方には、研削ユニット32が配置されている。研削ユニット32は、高さ方向がZ軸方向に沿って配置された円筒状のスピンドルハウジング(不図示)を有する。
The
スピンドルハウジングには、スピンドルハウジングをZ軸方向に沿って移動させるためのボールネジ式の研削送り機構(不図示)が連結されている。スピンドルハウジングの内部には、円柱状のスピンドル(第2の回転軸)34の一部が回転可能な態様で支持されている。 A ball screw type grinding feed mechanism (not shown) for moving the spindle housing along the Z-axis direction is connected to the spindle housing. Inside the spindle housing, a part of a columnar spindle (second rotating shaft) 34 is supported in a rotatable manner.
スピンドル34は、チャックテーブル22の出力軸30と略平行になる様に配置されている。スピンドル34の上端部には、モーター等の回転駆動源が連結されており、スピンドル34の下端部には、円盤状のホイールマウント36が固定されている。
The
ホイールマウント36の下面には、環状の研削ホイール38が装着されている。研削ホイール38は、環状のホイール基台38aを有する。ホイール基台38aの一面側には、ブロック状の複数の研削砥石38bが、ホイール基台38aの周方向に沿って略等間隔で離散的に配置されている。
An
複数の研削砥石38bがスピンドル34の周りに回転すると、複数の研削砥石38bが移動する軌跡により、環状の領域が形成される。本実施形態では、環状の領域の最外周の直径は、デバイス領域17aの半径よりも大きく、且つ、デバイス領域17aの直径よりも小さくなる様に、設定されている。
When the plurality of grinding
表面保護ステップ(S10)の後、位置合わせ装置(不図示)を用いて、表面11a(又は裏面11b)の中心位置を調整する。その後、表面11a(又は裏面11b)の中心と保持面28の中心とが略一致する様に、被加工物11を保持面28に載置する。
After the surface protection step (S10), the center position of the
次いで、図2に示す様に、被加工物ユニット21の表面11a側(即ち、保護部材19の被保持面側)を保持面28で吸引保持する(保持ステップ(S20))。上述の様に、保持面28の直径は、デバイス領域17aの外径以上、且つ、被加工物11の外径以下である。
Next, as shown in FIG. 2, the
それゆえ、外周余剰領域17bの少なくとも一部は、保持面28の外側に位置する。この状態で、出力軸30の周りにチャックテーブル22を第1の回転数で回転させ、更に、スピンドル34の周りに研削ホイール38を第2の回転数で、例えば、出力軸30と同じ方向に回転させる。
Therefore, at least a part of the outer peripheral
加えて、研削ホイール38に設けられた研削水供給口(不図示)から、研削砥石38bに純水等の研削水40を供給しながら、研削ホイール38を研削送りする。そして、デバイス領域17aに対応する裏面11b側の領域に、研削砥石38bを接触させる(研削ステップ(S30))。
In addition, the grinding
図2(A)は、研削ステップ(S30)を示す一部断面側面図であり、図2(B)は、図2(A)の部分拡大図である。研削ステップ(S30)では、デバイス領域17aに対応する裏面11b側の一部を研削し、円形の被研削部11cを形成する。
FIG. 2A is a partial cross-sectional side view showing the grinding step (S30), and FIG. 2B is a partially enlarged view of FIG. 2A. In the grinding step (S30), a part of the
研削ステップ(S30)では、加工屑を含む使用後の研削水40が、被加工物11の裏面11b側の外周部から下方へ落下又は飛散するので、保持面28の外周部及び保護部材19の外周部に、使用後の研削水40が回り込み難くなる。それゆえ、保持面28及び保護部材19の外周部に付着する研削屑の量を低減できる。
In the grinding step (S30), the used grinding
加えて、保持面28の直径をデバイス領域17aの外径以上とすることで、デバイス領域17aを適切に支持した上で、デバイス領域17aに対応する裏面11b側の領域を研削できるので、被研削部11cにおける研削不良を回避できる。
In addition, by setting the diameter of the holding
図3(A)は、研削ステップ(S30)後の被加工物ユニット21の斜視図であり、図3(B)は、研削ステップ(S30)後の被加工物ユニット21の断面図である。被研削部11cの周囲を囲む様に、研削が施されていないリング状補強部11dが残存している。被研削部11c及びリング状補強部11dは、円盤状の凹部11eを構成する。
FIG. 3A is a perspective view of the
次に、図5(A)から図5(C)を用いて、比較例について説明する。比較例に係る研削装置50は、チャックテーブル52を備える。チャックテーブル52は、セラミックスで形成された円盤状の枠体54を有する。
Next, a comparative example will be described with reference to FIGS. 5 (A) to 5 (C). The grinding
枠体54には、円盤状の凹部54aが形成されている。凹部54aには、凹部54aの直径よりも小さな外径を有する円盤状のポーラス板56が設けられている。また、ポーラス板56の外周と凹部54aの内周との間には、ポーラス板56の細孔に比べて小さな細孔を有する環状のバリア部58が設けられている。
A disk-shaped
ポーラス板56及びバリア部58の下面側には、所定の流路(不図示)の一端が接続されている。この流路の他端には、真空ポンプ等の吸引源(不図示)が接続されている。吸引源により発生された負圧は、流路を介してポーラス板26の上面26aと、バリア部58の上面58aとに作用する。
One end of a predetermined flow path (not shown) is connected to the lower surface side of the
なお、バリア部58は、ポーラス板56の細孔に比べて小さな細孔を有するので、バリア部58の上面58aに作用する負圧の大きさは、ポーラス板26の上面26aに作用する負圧の大きさに比べて小さくなる。
Since the
上面56a及び上面58aは略平坦であり、凹部54aの外側に位置する枠体54の環状の上面54bと、略面一を成す。上面26a及び上面58aと、上面54bとは、被加工物11の表面11a側を吸引して保持する保持面60を構成する。
The
保持面60は、被加工物11の外径よりも大きい直径を有する。枠体54の下部には、モーター等の回転駆動源(不図示)の出力軸62が固定されている。チャックテーブル52の上方には、上述の実施形態と同じ、研削ユニット32が配置されている。
The holding
比較例に係る研削装置50を用いて被加工物11の裏面11b側の一部を研削するときには、上述の実施形態と同様に、表面保護ステップ(S10)から研削ステップ(S30)を順次行う。
When a part of the
図5(A)は、比較例に係る研削ステップ(S30)を示す一部断面側面図である。被加工物11は、被加工物11の外径よりも大きな直径を有する保持面60で吸引保持される。特に、バリア部58の上面58aには、保護部材19に接していない露出領域が存在する。
FIG. 5A is a partial cross-sectional side view showing the grinding step (S30) according to the comparative example. The
それゆえ、研削ステップ(S30)では、加工屑を含んでいる使用後の研削水40が、被加工物11の裏面11b側から、被加工物11の外周部のベベル部を経て、保持面60の外周部へ流れる。このとき、使用後の研削水40は、ポーラス板56及びバリア部58の吸引力により保護部材19の被保持面と保持面60との間に浸入する。
Therefore, in the grinding step (S30), the used grinding
従って、保持面60の外周部と、保護部材19の被保持面の外周部とには、研削屑64(図5(B)及び図5(C)参照)が付着する。図5(B)は、比較例に係る研削後の保持面60の上面図である。図5(B)に示す様に、研削後には、バリア部58の上面58aと、ポーラス板56の上面56aとの境界付近に、多量の研削屑64が付着している。
Therefore, grinding debris 64 (see FIGS. 5B and 5C) adheres to the outer peripheral portion of the holding
また、研削後には、保護部材19の被保持面の外周部にも、多量の研削屑64が付着している。図5(C)は、比較例に係る研削後の被加工物ユニット21の底面図である。なお、図5(C)に示す破線は、上面58aと上面56aとの境界を意味する。
Further, after grinding, a large amount of grinding
図5(A)から図5(C)の比較例に示す様に、被加工物11の外径よりも大きな直径を有する保持面60を有するチャックテーブル52を使用する場合には、研削後の研削屑64の付着が問題となる。
As shown in the comparative examples of FIGS. 5A to 5C, when a chuck table 52 having a holding
これに対して、上述の実施形態では、保持面28の外周部及び保護部材19の被保持面の外周部に付着する研削屑64の量を低減できる。その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
On the other hand, in the above-described embodiment, the amount of grinding
11:被加工物、11a:表面、11b:裏面、11c:被研削部、11d:リング状補強部、11e:凹部
13:分割予定ライン
15:デバイス
17a:デバイス領域、17b:外周余剰領域
19:保護部材
20:研削装置
21:被加工物ユニット
22:チャックテーブル
24:枠体、24a:凹部、24b:上面
26:ポーラス板、26a:上面
28:保持面
30:出力軸
32:研削ユニット
34:スピンドル
36:ホイールマウント
38:研削ホイール、38a:ホイール基台、38b:研削砥石
40:研削水
50:研削装置
52:チャックテーブル
54:枠体、54a:凹部、54b:上面
56:ポーラス板、56a:上面
58:バリア部、58a:上面
60:保持面
62:出力軸
64:研削屑
11: Work piece, 11a: Front surface, 11b: Back surface, 11c: Grinded portion, 11d: Ring-shaped reinforcing portion, 11e: Recessed portion 13: Scheduled division line 15:
Claims (1)
該被加工物の該表面側を保護部材で覆う表面保護ステップと、
該デバイス領域の直径よりも大きく且つ該被加工物の外径よりも小さい直径の保持面を有するチャックテーブルで、該保護部材を介して該被加工物の該表面側を吸引して保持する保持ステップと、
該チャックテーブルを第1の回転軸の周りで回転させ、且つ、該研削ホイールを第2の回転軸の周りで回転させた状態で、該研削砥石に研削水を供給しながら該研削砥石を該裏面側の一部に接触させることにより該裏面側の一部を研削して、研削が施された円形の被研削部と、該被研削部の周囲を囲み且つ研削が施されていないリング状補強部と、で構成される円盤状の凹部を形成する研削ステップと、を備えることを特徴とする研削方法。 A method of grinding a workpiece that has a device region on which a plurality of devices are formed and an outer peripheral surplus region surrounding the device region on the front surface side, and the back surface side of the workpiece is ground with a grinding wheel having a grinding wheel. There,
A surface protection step that covers the surface side of the work piece with a protective member,
A chuck table having a holding surface having a diameter larger than the diameter of the device region and smaller than the outer diameter of the work piece, and holding the work piece by sucking and holding the surface side of the work piece through the protective member. Steps and
With the chuck table rotated around the first axis of rotation and the grinding wheel rotated around the second axis of rotation, the grinding wheel was moved while supplying grinding water to the grinding wheel. A part of the back surface side is ground by contacting a part of the back surface side, and a circular ground portion to be ground and a ring shape surrounding the ground portion and not being ground. A grinding method comprising a reinforcing portion and a grinding step for forming a disk-shaped recess composed of the reinforcing portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020031535A JP7403919B2 (en) | 2020-02-27 | 2020-02-27 | Grinding method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020031535A JP7403919B2 (en) | 2020-02-27 | 2020-02-27 | Grinding method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021136333A true JP2021136333A (en) | 2021-09-13 |
JP7403919B2 JP7403919B2 (en) | 2023-12-25 |
Family
ID=77661707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020031535A Active JP7403919B2 (en) | 2020-02-27 | 2020-02-27 | Grinding method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7403919B2 (en) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009010178A (en) | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method of processing wafer |
JP5138325B2 (en) | 2007-09-27 | 2013-02-06 | 株式会社ディスコ | Wafer processing method |
JP4916995B2 (en) | 2007-10-05 | 2012-04-18 | 株式会社ディスコ | Wafer cleaning device and grinding device |
JP6767803B2 (en) | 2016-07-26 | 2020-10-14 | 株式会社ディスコ | Processing equipment |
US10388535B1 (en) | 2018-05-25 | 2019-08-20 | Powertech Technology Inc. | Wafer processing method with full edge trimming |
-
2020
- 2020-02-27 JP JP2020031535A patent/JP7403919B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7403919B2 (en) | 2023-12-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110856908B (en) | Polishing pad | |
JP5072020B2 (en) | Grinding member dressing method and grinding apparatus | |
JP7391476B2 (en) | Grinding method | |
KR20220009869A (en) | Method of grinding workpiece | |
JP2021132164A (en) | Wafer processing method | |
JP2021126742A (en) | Cutting blade, flange mechanism and cutting device | |
JP7403919B2 (en) | Grinding method | |
TW202220048A (en) | Processing machine | |
JP2021068744A (en) | Wafer processing method | |
JP2020203336A (en) | Grinding apparatus and method for using grinding apparatus | |
JP7455463B2 (en) | cutting equipment | |
CN113001283B (en) | Method for cleaning grinding chamber | |
JP7455470B2 (en) | Wafer processing method | |
US20230051072A1 (en) | Dressing ring | |
JP7374793B2 (en) | Dressing board and dressing method | |
JP7126751B2 (en) | Workpiece grinding method | |
JP2023077113A (en) | Dressing method for cutting blade | |
JP2023082836A (en) | Method for grinding work-piece | |
TW202322978A (en) | Dressing tool and dressing method including a dressing portion that has an upper surface lower than another dressing portion and has an outer peripheral edge located on the outer side | |
KR20220155202A (en) | Method of grinding workpiece | |
KR20240019729A (en) | Method for grinding workpiece | |
JP2022168721A (en) | Workpiece grinding method | |
JP2024074422A (en) | Method for grinding a workpiece | |
KR20240034115A (en) | Method of fixing dressing tool and dressing tool | |
JP2022056550A (en) | Grinding wheel and grinding method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7403919 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |