JP2021133441A - Method of manufacturing powder - Google Patents

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Abstract

To provide a manufacturing method that enables manufacture of powder in which the proportion of thin film pieces having a constant shape along a crack is high.SOLUTION: A method of manufacturing powder includes: a step (1) of forming a crack 100C, which splits a thin film 110 into small pieces assuming the same shape when seen from its thickness direction, and reaches a position deeper than a surface 120U on the thin film side of a base material layer 120, in a multilayer film 100 including the base material layer 120 and the thin film 110 arranged on the outermost side; and a step (2) of obtaining the powder, which includes the small pieces of the thin film 110, by separating the small pieces of the thin film 110 from the base material layer 120 of the multilayer film 100 formed with the crack 100C.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、粉体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a powder.

インクの顔料として、金属、樹脂などで形成された薄膜から形成された薄膜片からなる粉体が用いられることがある。
樹脂薄膜片を製造するために、基材フィルム上に離型層を形成し、離型層上に樹脂薄膜を形成し、樹脂薄膜に割れ目を形成してから、基材フィルムを鋭角に折り曲げて樹脂薄膜を薄膜片として剥落させる方法が知られている(特許文献1参照)。
また、基材フィルム上に樹脂薄膜を形成し、樹脂薄膜に凹凸形状を有する部材を押圧して、樹脂薄膜に亀裂を形成し、亀裂が形成された樹脂薄膜に流体を吹き付けることにより、樹脂薄膜を剥落させる方法も知られている(特許文献2参照)。
As the pigment of the ink, a powder made of a thin film piece formed of a thin film formed of a metal, a resin, or the like may be used.
In order to produce a resin thin film piece, a release layer is formed on the base film, a resin thin film is formed on the release layer, cracks are formed in the resin thin film, and then the base film is bent at a sharp angle. A method of peeling off a resin thin film as a thin film piece is known (see Patent Document 1).
Further, a resin thin film is formed on the base film, a member having an uneven shape is pressed against the resin thin film, cracks are formed in the resin thin film, and a fluid is sprayed on the cracked resin thin film to spray the resin thin film. A method of peeling off the plastic is also known (see Patent Document 2).

特公平07−080248号公報Special Fairness 07-08024A Gazette 国際公開第2019/189246号International Publication No. 2019/189246

インクは、例えばスクリーン印刷、グラビア印刷、凹版印刷、オフセット印刷などの印刷に用いられる。インクに含まれる粉体は、印刷物の質感を向上させるために、その粒度分布のピークがよりシャープであることが好ましい。
粉体において、その粒度分布のピークがシャープであるためには、粉体に含まれる薄膜片の形状ができるだけ揃っていることが好ましい。
また、印刷物の真正性を確認するために、例えば顕微鏡で、印刷物に用いられたインクに含まれる粉体を観察する場合がある。この場合に、粉体に含まれる薄膜片の形状が揃っていることを確認できれば、印刷物の真正性を、容易に判定することができ、印刷物のセキュリティ性能を向上させることができる。
したがって、粉体に含まれる薄膜片は、その形状ができるだけ揃っていることが好ましい。
しかし、従来の技術で薄膜片からなる粉体を製造すると、薄膜が、亀裂に沿って分割されずに基材フィルムから剥離し、その結果薄膜片からなる粉体に、亀裂に沿った一定形状とは異なる形状の薄膜片が、相当量混入する場合があった。
したがって、亀裂に沿った一定形状を有する薄膜片の割合が多い粉体を製造できる製造方法が求められる。
The ink is used for printing such as screen printing, gravure printing, intaglio printing, and offset printing. The powder contained in the ink preferably has a sharper peak in the particle size distribution in order to improve the texture of the printed matter.
In order for the powder to have a sharp peak in the particle size distribution, it is preferable that the shapes of the thin film pieces contained in the powder are as uniform as possible.
Further, in order to confirm the authenticity of the printed matter, for example, the powder contained in the ink used in the printed matter may be observed with a microscope. In this case, if it can be confirmed that the shapes of the thin film pieces contained in the powder are uniform, the authenticity of the printed matter can be easily determined, and the security performance of the printed matter can be improved.
Therefore, it is preferable that the thin film pieces contained in the powder have the same shape as possible.
However, when a powder composed of thin film pieces is produced by a conventional technique, the thin film is peeled from the base film without being divided along the cracks, and as a result, the powder composed of the thin film pieces has a constant shape along the cracks. A considerable amount of thin film pieces having a shape different from that of the above may be mixed.
Therefore, there is a need for a manufacturing method capable of producing a powder having a large proportion of thin film pieces having a constant shape along the cracks.

本発明者は、前記課題を解決するべく、鋭意検討した結果、複層フィルムに所定の亀裂を形成することによって、前記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下を提供する。
As a result of diligent studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor has found that the above-mentioned problems can be solved by forming predetermined cracks in the multilayer film, and completed the present invention.
That is, the present invention provides the following.

[1] 基材層と、最も外側に配置された薄膜とを含む複層フィルムに、前記薄膜をその厚み方向から見て同一形状の小片に分割する亀裂であって、かつ前記基材層の前記薄膜側の表面より深い位置に達する、亀裂を形成する工程(1)と、
前記亀裂が形成された複層フィルムの前記基材層から、前記薄膜の小片を剥離して、前記薄膜の小片を含む粉体を得る工程(2)とを含む、粉体の製造方法。
[2] 前記小片の長径が、150μm以下である、[1]に記載の粉体の製造方法。
[3] 前記工程(1)において、前記複層フィルムの前記薄膜の側に、凹凸形状を有する部材を押圧して、前記亀裂を形成する、[1]又は[2]に記載の粉体の製造方法。
[4] 前記押圧を、表面の硬度がD40以上である支持部材により前記複層フィルムを支持した状態で行う、[3]に記載の粉体の製造方法。
[5] 前記凹凸形状を有する部材を押圧する圧力が、0.5MPa以上である、[4]に記載の粉体の製造方法。
[6] 前記工程(2)が、前記亀裂が形成された複層フィルムに、流体を吹き付ける工程(2a)を含む、[1]〜[5]のいずれか一項に記載の粉体の製造方法。
[7] 前記基材層の厚みが、12μm以上250μm以下である、[1]〜[6]のいずれか一項に記載の粉体の製造方法。
[8] 前記工程(1)において、前記亀裂を、前記小片の形状が、前記薄膜の厚み方向から見て、三角形、四角形、又は六角形となるように形成する、[1]〜[7]のいずれか一項に記載の粉体の製造方法。
[1] A crack in a multi-layer film containing a base material layer and a thin film arranged on the outermost side, which divides the thin film into small pieces having the same shape when viewed from the thickness direction of the base material layer. The step (1) of forming a crack that reaches a position deeper than the surface on the thin film side, and
A method for producing a powder, which comprises a step (2) of peeling a small piece of the thin film from the base material layer of the multi-layer film on which the crack is formed to obtain a powder containing the small piece of the thin film.
[2] The method for producing a powder according to [1], wherein the major axis of the small piece is 150 μm or less.
[3] The powder according to [1] or [2], wherein in the step (1), a member having an uneven shape is pressed against the thin film side of the multilayer film to form the cracks. Production method.
[4] The method for producing a powder according to [3], wherein the pressing is performed in a state where the multilayer film is supported by a support member having a surface hardness of D40 or more.
[5] The method for producing a powder according to [4], wherein the pressure for pressing the member having the uneven shape is 0.5 MPa or more.
[6] The production of the powder according to any one of [1] to [5], wherein the step (2) includes a step (2a) of spraying a fluid onto the cracked multilayer film. Method.
[7] The method for producing a powder according to any one of [1] to [6], wherein the thickness of the base material layer is 12 μm or more and 250 μm or less.
[8] In the step (1), the cracks are formed so that the shape of the small pieces is a triangle, a quadrangle, or a hexagon when viewed from the thickness direction of the thin film [1] to [7]. The method for producing a powder according to any one of the above.

本発明によれば、亀裂に沿った一定形状を有する薄膜片の割合が多い粉体を製造できる製造方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a production method capable of producing a powder having a large proportion of thin film pieces having a constant shape along a crack.

図1は、一実施形態に係る工程(1)で用いられる複層フィルムの一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a multilayer film used in the step (1) according to the embodiment. 図2は、一実施形態に係る、亀裂が形成された複層フィルムの薄膜側の面を、複層フィルムの厚み方向から見た模式的な平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view of the surface of the double glazing film on which cracks are formed on the thin film side according to the embodiment as viewed from the thickness direction of the double glazing film. 図3は、図1のIII−III切断面を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the cut surface III-III of FIG. 図4は、一実施形態に係る亀裂が形成された複層フィルムの薄膜側の面を、複層フィルムの厚み方向から見た模式的な平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view of the surface of the multilayer film on the thin film side in which cracks are formed according to the embodiment, as viewed from the thickness direction of the multilayer film. 図5は、図4のV−V切断面を模式的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the VV cut surface of FIG. 図6は、一実施形態の粉体の製造方法で用いうる凹凸形状を有する部材の一例を模式的に示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view schematically showing an example of a member having an uneven shape that can be used in the powder manufacturing method of one embodiment. 図7は、図6に示す凹凸形状を有する部材を模式的に示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view schematically showing the member having the uneven shape shown in FIG. 図8は、図7の部材をX1−X1線で切断して展開した状態を模式的に示す平面図である。FIG. 8 is a plan view schematically showing a state in which the member of FIG. 7 is cut along the X1-X1 line and developed. 図9は、図8のY1−Y1線における一部断面図である。FIG. 9 is a partial cross-sectional view taken along the line Y1-Y1 of FIG. 図10は、一実施形態の粉体の製造方法で用いうる凹凸形状を有する部材の一例を模式的に示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view schematically showing an example of a member having an uneven shape that can be used in the powder manufacturing method of one embodiment. 図11は、図10に示す凹凸形状を有する部材を模式的に示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view schematically showing the member having the uneven shape shown in FIG. 図12は、図11の部材をX2−X2線で切断して展開した状態を模式的に示す平面図である。FIG. 12 is a plan view schematically showing a state in which the member of FIG. 11 is cut along the X2-X2 line and developed. 図13は、図12のY2−Y2線における一部断面図である。FIG. 13 is a partial cross-sectional view taken along the line Y2-Y2 of FIG.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and can be arbitrarily modified and implemented without departing from the scope of claims of the present invention and the equivalent scope thereof.

以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して、5倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。フィルムの長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して10万倍以下としうる。 In the following description, the "long" film means a film having a length of 5 times or more, preferably 10 times or more, and specifically a roll. A film that has a length that allows it to be rolled up and stored or transported. The upper limit of the length of the film is not particularly limited, and may be, for example, 100,000 times or less with respect to the width.

以下の説明において、「(メタ)アクリル」の文言は、「アクリル」、「メタクリル」及びこれらの組み合わせを包含する。 In the following description, the term "(meth) acrylic" includes "acrylic", "methacryl" and combinations thereof.

以下の説明において、要素の方向が「平行」及び「垂直」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±3°、±2°又は±1°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。 In the following description, the directions of the elements are "parallel" and "vertical", unless otherwise specified, within a range that does not impair the effect of the present invention, for example, within a range of ± 3 °, ± 2 °, or ± 1 °. May include the error of.

[1.粉体の製造方法の概要]
本発明の一実施形態に係る粉体の製造方法は、基材層と、最も外側に配置された薄膜とを含む複層フィルムに、前記薄膜をその厚み方向から見て同一形状の小片に分割する亀裂であって、かつ前記基材層の前記薄膜側の表面より深い位置に達する、亀裂を形成する工程(1)と、前記亀裂が形成された複層フィルムの基材層から、前記薄膜の小片を剥離して、前記薄膜の小片を含む粉体を得る工程(2)とを含む。これにより、亀裂に沿った一定形状を有する薄膜片の割合が多い粉体を製造できる。
[1. Outline of powder manufacturing method]
In the method for producing a powder according to an embodiment of the present invention, a multi-layer film containing a base material layer and a thin film arranged on the outermost side is divided into small pieces having the same shape when viewed from the thickness direction thereof. The thin film is formed from the step (1) of forming a crack, which is a crack to be formed and reaches a position deeper than the surface of the base material layer on the thin film side, and the base material layer of the multilayer film in which the crack is formed. The step (2) of peeling off the small pieces of the thin film to obtain a powder containing the small pieces of the thin film is included. This makes it possible to produce a powder having a large proportion of thin film pieces having a constant shape along the cracks.

[2.工程(1)]
工程(1)では、基材層と、最も外側に配置された薄膜とを含む複層フィルムに、前記薄膜をその厚み方向から見て同一形状の小片に分割する亀裂であって、かつ前記基材層の前記薄膜側の表面より深い位置に達する、亀裂を形成する。
[2. Process (1)]
In the step (1), a crack is formed in a multi-layer film including a base material layer and a thin film arranged on the outermost side, and the thin film is divided into small pieces having the same shape when viewed from the thickness direction of the thin film. A crack is formed that reaches a position deeper than the surface of the material layer on the thin film side.

[2.1.複層フィルム]
工程(1)で用いられる複層フィルムは、基材層と薄膜とを含む。薄膜は、複層フィルムの最も外側に配置されている。ここで、最も外側に配置されているとは、薄膜は、複層フィルムの厚み方向における最も外側に配置されていることをいう。そのため、薄膜の面が、複層フィルムの一方の面に露出している。複層フィルムは、薄膜と基材層との間に、任意の層を備えていてもよい。
複層フィルムは、効率的に亀裂を形成するために、長尺であることが好ましい。
図1は、一実施形態に係る工程(1)で用いられる複層フィルムの一例を示す断面図である。図1に示すように、複層フィルム10は、基材層12と、基材層12の上に直接設けられた薄膜11とを含む。
[2.1. Multi-layer film]
The multilayer film used in the step (1) includes a base material layer and a thin film. The thin film is arranged on the outermost side of the multilayer film. Here, "arranged on the outermost side" means that the thin film is arranged on the outermost side in the thickness direction of the multilayer film. Therefore, the surface of the thin film is exposed on one surface of the multilayer film. The multilayer film may include an arbitrary layer between the thin film and the base material layer.
The multi-layer film is preferably long in order to form cracks efficiently.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a multilayer film used in the step (1) according to the embodiment. As shown in FIG. 1, the multilayer film 10 includes a base material layer 12 and a thin film 11 provided directly on the base material layer 12.

(基材層)
基材層は、効率的に薄膜を形成するために、長尺であることが好ましい。
基材層を形成する材料の例としては、特に限定されず、重合体を含む樹脂、紙、及び金属が挙げられ、可撓性及び機械的強度に優れることから、重合体を含む樹脂が好ましい。
基材層を形成しうる樹脂に含まれる重合体の例としては、セルロース系重合体(例、トリアセチルセルロース);脂環式構造を含有する重合体(例:シクロオレフィン重合体);ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート);アクリル重合体(例、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル);及び、ポリカーボネート;が挙げられる。基材層を形成しうる樹脂は、重合体を一種単独で含んでいてもよく、二種以上の組み合わせとして含んでいてもよい。また、重合体は、単独重合体であっても、共重合体であってもよい。樹脂は、重合体の他に、任意の添加剤を含んでいてもよい。
(Base layer)
The base material layer is preferably long in order to efficiently form a thin film.
Examples of the material forming the base material layer are not particularly limited, and examples thereof include a resin containing a polymer, paper, and a metal, and a resin containing a polymer is preferable because it is excellent in flexibility and mechanical strength. ..
Examples of the polymer contained in the resin capable of forming the base material layer include a cellulose-based polymer (eg, triacetyl cellulose); a polymer containing an alicyclic structure (eg, a cycloolefin polymer); and a polyester (eg, polyester). Examples include polyethylene terephthalates); acrylic polymers (eg, poly (meth) acrylic acid, poly (meth) acrylic acid ester, polyacrylonitrile); and polycarbonate; The resin capable of forming the base material layer may contain the polymer alone or as a combination of two or more kinds. Further, the polymer may be a homopolymer or a copolymer. The resin may contain any additive in addition to the polymer.

脂環式構造を含有する重合体の例としては、(1)ノルボルネン系重合体、(2)単環の環状オレフィン重合体、(3)環状共役ジエン重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物が挙げられる。これらの中でも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン系重合体及びこれらの水素化物が好ましい。 Examples of polymers containing an alicyclic structure include (1) norbornene-based polymers, (2) monocyclic cyclic olefin polymers, (3) cyclic conjugated diene polymers, and (4) vinyl alicyclic hydrocarbons. Examples thereof include hydrogen polymers and hydrides thereof. Among these, norbornene-based polymers and hydrides thereof are preferable from the viewpoint of transparency and moldability.

ノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びその水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びその水素化物が挙げられる。また、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の開環単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の開環共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる任意の単量体の開環共重合体が挙げられる。さらに、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の付加単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の付加共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる任意の単量体の付加共重合体が挙げられる。これらの重合体としては、例えば、特開2002−321302号公報等に開示されている重合体が挙げられる。 Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof; an addition polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof. Examples of ring-opening polymers of monomers having a norbornene structure include a ring-opening copolymer of one type of monomer having a norbornene structure and ring-opening of two or more types of monomers having a norbornene structure. Examples thereof include a copolymer and a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer copolymerizable therewith. Further, examples of the addition polymer of the monomer having a norbornene structure are an addition homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of two or more kinds of monomers having a norbornene structure. , And an addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer copolymerizable therewith. Examples of these polymers include polymers disclosed in JP-A-2002-321302.

ノルボルネン系重合体及びこれらの水素化物の好適な具体例としては、日本ゼオン社製「ゼオノア」;JSR社製「アートン」;TOPAS ADVANCED POLYMERS社製「TOPAS」が挙げられる。 Preferable specific examples of the norbornene-based polymer and hydrides thereof include "Zeonor" manufactured by Zeon Corporation; "Arton" manufactured by JSR Corporation; and "TOPAS" manufactured by TOPAS ADVANCED POLYMERS.

基材層の厚みは、好ましくは12μm以上、より好ましくは25μm以上、更に好ましくは50μm以上であり、好ましくは250μm以下、より好ましくは200μm以下、更に好ましくは188μm以下である。基材層の厚みが、前記下限値以上であることにより、基材層の機械的強度をより優れたものとしうる。基材層の厚みが、前記上限値以下であることで、基材層の可撓性を向上させ、製造時のハンドリングを容易としうる。 The thickness of the base material layer is preferably 12 μm or more, more preferably 25 μm or more, further preferably 50 μm or more, preferably 250 μm or less, more preferably 200 μm or less, still more preferably 188 μm or less. When the thickness of the base material layer is at least the above lower limit value, the mechanical strength of the base material layer can be made more excellent. When the thickness of the base material layer is not more than the upper limit value, the flexibility of the base material layer can be improved and the handling at the time of manufacturing can be facilitated.

基材層は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。 The base material layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure.

基材層が、多層構造を有している場合、基材層に含まれる各層は、工程(1)及び工程(2)において、互いに剥離しない程度の剥離強度を有していることが好ましい。
基材層は、好ましくは単層構造を有する。
When the base material layer has a multi-layer structure, it is preferable that each layer contained in the base material layer has a peeling strength to the extent that the base material layers do not peel off from each other in the steps (1) and (2).
The base material layer preferably has a single layer structure.

基材層は、その表面に、ラビング処理、コロナ処理などの処理がされていてもよい。
基材層は、延伸されていない未延伸の層であっても、延伸された層であってもよい。
The surface of the base material layer may be subjected to a treatment such as a rubbing treatment or a corona treatment.
The base material layer may be an unstretched unstretched layer or a stretched layer.

複層フィルムは、基材層及び薄膜のみからなるフィルムであってもよく、基材層及び薄膜に加えて、任意の層を備えていてもよい。例えば、薄膜を形成する組成物として液晶組成物を用いる場合、液晶組成物を良好に配向させる観点から、複層フィルムは、基材層と薄膜との間に、配向膜を有していてもよい。配向膜は、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド等の重合体を含む樹脂により形成しうる。また、これらの重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。配向膜は、前記の重合体を含む溶液を塗布し、乾燥させ、ラビング処理を施すことにより製造しうる。 The multilayer film may be a film composed of only a base material layer and a thin film, and may include an arbitrary layer in addition to the base material layer and the thin film. For example, when a liquid crystal composition is used as a composition for forming a thin film, the multilayer film may have an alignment film between the base material layer and the thin film from the viewpoint of satisfactorily aligning the liquid crystal composition. good. The alignment film can be formed of, for example, a resin containing a polymer such as polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polyarylate, polyamideimide, polyetherimide, or polyamide. In addition, one of these polymers may be used alone, or two or more of these polymers may be used in combination at any ratio. The alignment film can be produced by applying a solution containing the above-mentioned polymer, drying, and applying a rubbing treatment.

(薄膜)
薄膜は、単層構造、多層構造のいずれの構造であってもよい。また、薄膜は、導電体及び誘電体のいずれであってもよい。さらに薄膜は、無機物の膜及び有機物の膜のいずれであってもよい。薄膜の例としては、アルミニウム、銀などの金属の膜;酸化チタン、酸化シリコン、酸化ニオブ、酸化タンタル、フッ化マグネシウムなどの、誘電体で形成された誘電体多層膜;及び、樹脂膜が挙げられる。
樹脂膜を形成するための樹脂材料の例としては、光硬化性の液晶組成物、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、セルロース系重合体(例、トリアセチルセルロース)、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリオレフィン、脂環式構造含有重合体、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、及びこれらの組み合わせが挙げられる。樹脂材料に含まれうる重合体は、単独重合体であってもよく、共重合体であってもよい。樹脂材料は、重合体の他に、硬化剤、酸化防止剤などの任意の添加剤を含みうる。
(Thin film)
The thin film may have either a single-layer structure or a multi-layer structure. Further, the thin film may be either a conductor or a dielectric. Further, the thin film may be either an inorganic film or an organic film. Examples of thin films include metal films such as aluminum and silver; dielectric multilayer films made of dielectrics such as titanium oxide, silicon oxide, niobium oxide, tantalum oxide and magnesium fluoride; and resin films. Be done.
Examples of resin materials for forming a resin film include photocurable liquid crystal compositions, acrylic resins, polystyrenes, polyesters, polyamides, polyvinyl chlorides, polyvinyl acetates, and cellulose-based polymers (eg, triacetyl cellulose). , Polystyrene, polyurethane, polyolefin, alicyclic structure-containing polymer, epoxy resin, melamine resin, phenol resin, and combinations thereof. The polymer that can be contained in the resin material may be a homopolymer or a copolymer. In addition to the polymer, the resin material may contain any additive such as a curing agent and an antioxidant.

薄膜の厚みは、薄膜の材料、粉体の使用目的などに応じて適宜設定できるが、薄膜の反射率を確保する観点から、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.5μm以上、更に好ましくは1μm以上であり、好ましくは20μm以下、より好ましくは15μm以下、更に好ましくは10μm以下である。薄膜の厚みを前記上限値以下にすることにより、得られる粉体を、様々な厚みの印刷層に対応したインクに好適に用いうる。 The thickness of the thin film can be appropriately set according to the material of the thin film, the purpose of use of the powder, etc., but from the viewpoint of ensuring the reflectance of the thin film, it is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, still more preferably. Is 1 μm or more, preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, still more preferably 10 μm or less. By setting the thickness of the thin film to the upper limit or less, the obtained powder can be suitably used for inks corresponding to printing layers having various thicknesses.

薄膜として、例えば、樹脂を含む組成物として光硬化性の液晶組成物を用いて硬化させた硬化物からなる膜を用いうる。すなわち、薄膜を形成する樹脂としては、例えば、光硬化性の液晶組成物の硬化物を用いうる。ここで便宜上「液晶組成物」と称する材料は、2種類以上の物質の混合物のみならず、単一の物質からなる材料をも包含する。 As the thin film, for example, a film made of a cured product cured by using a photocurable liquid crystal composition as a composition containing a resin can be used. That is, as the resin forming the thin film, for example, a cured product of a photocurable liquid crystal composition can be used. Here, the material referred to as a "liquid crystal composition" for convenience includes not only a mixture of two or more kinds of substances but also a material composed of a single substance.

また、薄膜としては、例えば、コレステリック樹脂層を用いてもよい。コレステリック樹脂層とは、コレステリック規則性を有する樹脂層のことをいう。コレステリック規則性を有する樹脂層が有するコレステリック規則性とは、一平面上では分子軸が一定の方向に並んでいるが、それに重なる次の平面では分子軸の方向が少し角度をなしてずれ、更に次の平面では更に角度がずれるというように、重なって配列している平面を順次透過して進むに従って当該平面中の分子軸の角度がずれて(ねじれて)いく構造である。即ち、層内の分子がコレステリック規則性を有する場合、分子は、樹脂層内において、多数の分子の層をなす態様で整列する。かかる多数の分子の層の中のある層Aにおいては、分子の軸がある一定の方向となるよう分子が整列し、それに隣接する層Bでは、層Aにおける方向と角度を成してずれた方向に分子が整列し、それに更に隣接する層Cでは層Bにおける方向と角度を成して更にずれた方向に分子が整列する。このように、多数の分子の層において、分子の軸の角度が連続的にずれて、分子がねじれる構造が形成される。このように分子軸の方向がねじれてゆく構造は光学的にカイラルな構造となる。 Further, as the thin film, for example, a cholesteric resin layer may be used. The cholesteric resin layer is a resin layer having cholesteric regularity. The cholesteric regularity of the resin layer having cholesteric regularity is that the molecular axes are aligned in a certain direction on one plane, but on the next plane that overlaps with the molecular axes, the directions of the molecular axes deviate at a slight angle, and further. The structure is such that the angle of the next plane is further shifted, and the angle of the molecular axis in the plane is shifted (twisted) as it sequentially passes through the planes arranged in an overlapping manner. That is, when the molecules in the layer have cholesteric regularity, the molecules are aligned in the resin layer in a manner of forming a layer of a large number of molecules. In a certain layer A among the layers of such a large number of molecules, the molecules are aligned so that the axis of the molecule is in a certain direction, and in the adjacent layer B, the molecules are displaced at an angle with the direction in the layer A. The molecules are aligned in the direction, and in the layer C adjacent to the molecule, the molecules are aligned in a direction further deviated from the direction in the layer B at an angle. In this way, in the layers of a large number of molecules, the angles of the axes of the molecules are continuously deviated, and a structure in which the molecules are twisted is formed. The structure in which the direction of the molecular axis is twisted in this way becomes an optically chiral structure.

コレステリック樹脂層は、通常、円偏光分離機能を有する。すなわち、右円偏光及び左円偏光のうちの一方の円偏光を透過させ、他方の円偏光の一部又は全部を反射させる性質を有する。また、コレステリック樹脂層における反射は、円偏光を、そのキラリティを維持したまま反射する。 The cholesteric resin layer usually has a circularly polarized light separation function. That is, it has the property of transmitting one of the right-handed circularly polarized light and the left-handed circularly polarized light and reflecting a part or all of the other circularly polarized light. Further, the reflection in the cholesteric resin layer reflects the circularly polarized light while maintaining its chirality.

薄膜として前記のようなコレステリック樹脂層を用いた場合、本実施形態の製造方法によって、円偏光分離機能を活かした樹脂膜の小片からなる粉体であって、一定形状を有する薄膜片の割合が多い粉体を製造できる。 When the cholesteric resin layer as described above is used as the thin film, the proportion of the thin film pieces having a constant shape, which are powders composed of small pieces of the resin film utilizing the circular polarization separation function, is determined by the production method of the present embodiment. A large amount of powder can be produced.

薄膜は、薄膜の材料などに応じて、任意の方法により形成できる。例えば、薄膜は、蒸着法、スパッタリング法、塗布法などにより形成できる。ここで、塗布法の例としては、ダイコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、及びギャップコーティング法が挙げられる。 The thin film can be formed by any method depending on the material of the thin film and the like. For example, the thin film can be formed by a vapor deposition method, a sputtering method, a coating method, or the like. Here, examples of coating methods include die coating method, curtain coating method, extrusion coating method, roll coating method, spin coating method, dip coating method, bar coating method, spray coating method, slide coating method, and print coating method. A gravure coating method and a gap coating method can be mentioned.

[2.2.亀裂の形成]
(亀裂)
工程(1)において形成される亀裂は、複層フィルムに含まれる薄膜をその厚み方向から見て同一形状の小片に分割する。また、亀裂は、基材層の薄膜側の表面より深い位置に達するように形成される。また、亀裂は、複層フィルムの全面において基材層の薄膜側の表面より深い位置に達するように、形成される。
[2.2. Crack formation]
(crack)
The crack formed in the step (1) divides the thin film contained in the multilayer film into small pieces having the same shape when viewed from the thickness direction. Further, the cracks are formed so as to reach a position deeper than the surface of the base material layer on the thin film side. Further, the cracks are formed so as to reach a position deeper than the surface of the base material layer on the thin film side on the entire surface of the multilayer film.

薄膜の厚み方向から見た小片の形状は、特に限定されず、三角形、四角形、六角形などの多角形、十字型、円などが挙げられ、好ましくは三角形、四角形、又は六角形である。 The shape of the small piece viewed from the thickness direction of the thin film is not particularly limited, and examples thereof include polygons such as triangles, quadrangles, and hexagons, crosses, and circles, and are preferably triangles, quadrangles, or hexagons.

薄膜の厚み方向から見た小片の長径は、印刷版にインクが目詰まりすることを抑制する観点から、好ましくは250μm以下、より好ましくは200μm以下、更に好ましくは175μm以下、更に好ましくは150μm以下であり、インクにより形成された印刷層の視認性向上の観点から、通常0μmより大きく、好ましくは10μm以上である。ここで、長径は、小片の輪郭に接するように平行線を複数引いたときに、平行線間の距離のうちで最も長い距離をいう。 The major axis of the small piece seen from the thickness direction of the thin film is preferably 250 μm or less, more preferably 200 μm or less, still more preferably 175 μm or less, still more preferably 150 μm or less, from the viewpoint of suppressing clogging of the printing plate with ink. From the viewpoint of improving the visibility of the print layer formed by the ink, it is usually larger than 0 μm, preferably 10 μm or more. Here, the major axis refers to the longest distance among the parallel lines when a plurality of parallel lines are drawn so as to be in contact with the contour of the small piece.

以下、工程(1)において形成される亀裂の例について説明する。
図2は、一実施形態に係る、亀裂が形成された複層フィルムの薄膜側の面を、複層フィルムの厚み方向から見た模式的な平面図である。図3は、図1のIII−III切断面を模式的に示す断面図である。
Hereinafter, an example of a crack formed in the step (1) will be described.
FIG. 2 is a schematic plan view of the surface of the double glazing film on which cracks are formed on the thin film side according to the embodiment as viewed from the thickness direction of the double glazing film. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the cut surface III-III of FIG.

図2に示すように、複層フィルム100には、格子状の亀裂100Cが形成されている。亀裂100Cは、複層フィルム100の幅方向WDに対して、θ1の角度をなして、右下がりに延びる直線状の複数の刻み目100C1と、θ2の角度をなして、右上りに延びる直線状の複数の刻み目100C2とから構成されている。ここで、図2における複層フィルム100の幅方向WDに対して、時計回りの方向の角度を正とし、反時計回りの方向の角度を負とすると、θ1は45°であり、θ2は−45°である。 As shown in FIG. 2, the multilayer film 100 is formed with lattice-shaped cracks 100C. The crack 100C has a plurality of linear notches 100C1 extending downward to the right at an angle of θ1 with respect to the width direction WD of the multilayer film 100, and a linear notch 100C1 extending downward to the upper right at an angle of θ2. It is composed of a plurality of notches 100C2. Here, if the angle in the clockwise direction is positive and the angle in the counterclockwise direction is negative with respect to the width direction WD of the multilayer film 100 in FIG. 2, θ1 is 45 ° and θ2 is −. It is 45 °.

本実施形態では、隣り合う刻み目100C1同士の間隔P11は、隣り合う刻み目100C2同士の間隔P12と略同一である。ここで、略同一であるとは、P12が、P11の90%以上110%以下であることを意味する。このような複数の刻み目100C1及び複数の刻み目100C2を備える、格子状の亀裂100Cは、複層フィルム100の最も外側に配置された薄膜を、略正方形である複数の小片101に分割している。複数の小片101は、間隔P11及び間隔P12に対応する長さの辺を有しており、本実施形態では、複数の小片101の一辺の長さは、P11である。 In the present embodiment, the distance P11 between adjacent notches 100C1 is substantially the same as the distance P12 between adjacent notches 100C2. Here, substantially the same means that P12 is 90% or more and 110% or less of P11. The lattice-shaped crack 100C having the plurality of notches 100C1 and the plurality of notches 100C2 divides the outermost thin film of the multilayer film 100 into a plurality of small pieces 101 which are substantially square. The plurality of small pieces 101 have sides having lengths corresponding to the intervals P11 and the intervals P12, and in the present embodiment, the length of one side of the plurality of small pieces 101 is P11.

図3に示すように、複層フィルム100は、基材層120と、基材層120の上に直接形成された薄膜110とを備える。亀裂100Cの深さ100Cdは、複層フィルム100の薄膜110側の表面110Uから、亀裂100Cの先端100Ctまでの距離である。亀裂100Cの深さ100Cdは、薄膜110の厚み110Tよりも大きい。そのため、亀裂100Cの先端100Ctは、基材層120の、薄膜110側の表面120Uよりも深い位置に達している。 As shown in FIG. 3, the multilayer film 100 includes a base material layer 120 and a thin film 110 formed directly on the base material layer 120. The depth 100Cd of the crack 100C is the distance from the surface 110U on the thin film 110 side of the multilayer film 100 to the tip 100Ct of the crack 100C. The depth 100Cd of the crack 100C is larger than the thickness 110T of the thin film 110. Therefore, the tip 100Ct of the crack 100C reaches a position deeper than the surface 120U on the thin film 110 side of the base material layer 120.

図4は、別の実施形態に係る亀裂が形成された複層フィルムの薄膜側の面を、複層フィルムの厚み方向から見た模式的な平面図である。図5は、図4のV−V切断面を模式的に示す断面図である。 FIG. 4 is a schematic plan view of the surface of the double glazing film on the thin film side in which cracks are formed according to another embodiment, as viewed from the thickness direction of the double glazing film. FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the VV cut surface of FIG.

図4に示すように、複層フィルム200には、ハニカム状の亀裂200Cが形成されている。ハニカム状の亀裂200Cは、複層フィルム200の最も外側に配置された薄膜を、略正六角形である複数の小片201に分割している。
図5に示すように、複層フィルム200は、基材層220と、基材層220の上に直接形成された薄膜210とを備える。本実施形態においても、亀裂200Cの先端200Ctは、基材層220の、薄膜210側の表面220Uよりも深い位置に達している。
As shown in FIG. 4, honeycomb-shaped cracks 200C are formed in the multilayer film 200. The honeycomb-shaped crack 200C divides the outermost thin film of the multilayer film 200 into a plurality of small pieces 201 having a substantially regular hexagon.
As shown in FIG. 5, the multilayer film 200 includes a base material layer 220 and a thin film 210 formed directly on the base material layer 220. Also in this embodiment, the tip 200Ct of the crack 200C reaches a position deeper than the surface 220U on the thin film 210 side of the base material layer 220.

また別の実施形態では、複層フィルムに、複層フィルムの厚み方向から見て、連続する三角形の亀裂を形成してもよい。 In yet another embodiment, the multilayer film may have continuous triangular cracks when viewed from the thickness direction of the multilayer film.

(亀裂の形成方法)
亀裂は、例えば、複層フィルムの薄膜の側に、凹凸形状を有する部材を押圧することにより、形成されうる。更に具体的には、複層フィルムを、支持部材により支持した状態で、複層フィルムを支持部材と凹凸形状を有する部材とに挟んで、凹凸形状を有する部材を押圧することにより、亀裂を形成しうる。
(Rhagades formation method)
The cracks can be formed, for example, by pressing a member having an uneven shape on the thin film side of the multilayer film. More specifically, in a state where the multilayer film is supported by the support member, the multilayer film is sandwiched between the support member and the member having the concave-convex shape, and the member having the concave-convex shape is pressed to form a crack. Can be done.

凹凸形状を有する部材として、複層フィルムの厚み方向から見た亀裂の形状に対応する凸部を表面に有する部材を用いうる。例えば、複層フィルムの厚み方向から見た亀裂の形状が、格子状である場合は、格子状の凸部を表面に有する部材を用いうる。また、複層フィルムの厚み方向からみた亀裂の形状が、ハニカム状である場合は、ハニカム状の凸部を表面に有する部材を用いうる。 As the member having the uneven shape, a member having a convex portion on the surface corresponding to the shape of the crack seen from the thickness direction of the multilayer film can be used. For example, when the shape of the cracks seen from the thickness direction of the multilayer film is a grid pattern, a member having a grid pattern convex portion on the surface can be used. When the shape of the cracks in the thickness direction of the multilayer film is honeycomb-shaped, a member having a honeycomb-shaped convex portion on the surface can be used.

また、凹凸形状を有する部材として、複数の部材を用いてもよい。例えば、亀裂の一部分に対応する凸部を表面に有する部材及び亀裂の別の一部分に対応する凸部を表面に有する部材を用いてもよい。例えば、亀裂が格子状であって、薄膜をその厚み方向から見て正方形に分割するものである場合は、亀裂を構成する、一の方向の刻み目に対応する凸部を表面に有する、凹凸形状を有する第一の部材と、亀裂を構成する、別の方向の刻み目に対応する凸部を表面に有する、凹凸形状を有する第二の部材とを、複層フィルムに押圧することにより、亀裂を形成してもよい。 Moreover, you may use a plurality of members as a member which has a concavo-convex shape. For example, a member having a convex portion corresponding to a part of the crack on the surface and a member having a convex portion corresponding to another part of the crack on the surface may be used. For example, when the cracks are in a grid pattern and the thin film is divided into squares when viewed from the thickness direction thereof, the uneven shape having the convex portions corresponding to the notches in one direction forming the cracks on the surface. The crack is formed by pressing the first member having a rugged shape and the second member having a concavo-convex shape having a convex portion corresponding to a notch in another direction on the surface, which constitutes the crack, against the multilayer film. It may be formed.

また、凹凸形状を有する同一の部材を、複層フィルムに対して異なる配置で複数回押圧して、亀裂を形成してもよい。 Further, the same member having an uneven shape may be pressed against the multilayer film a plurality of times in different arrangements to form cracks.

凹凸形状を有する部材を円筒形として、複層フィルムに連続的に亀裂を形成してもよい。 A member having an uneven shape may be formed into a cylindrical shape to continuously form cracks in the multilayer film.

凹凸形状を有する部材として、複層フィルムを押圧しても破損が生じない強度を有し、凹凸構造を形成可能な材料を採用しうる。かかる材料の例としては、炭素鋼及びステンレス鋼が挙げられる。また、凹凸形状を有する部材は、耐食性や強度、熱伝導率を高める目的等で、表面に1層又は2層以上の多層の皮膜を有していても良い。このような皮膜としては、特に限定されないが、例えば、ニッケル、ニッケルリン、シリコン、銅等のメッキ皮膜や、セラミック溶射により形成された皮膜等が挙げられる。凹凸形状を有する部材には、例えばヒーター、熱媒、誘電加熱、誘導加熱等を用いた加熱手段や、静電気対策用の除電装置、アース等が取り付けられていてもよい。 As a member having an uneven shape, a material having a strength that does not cause damage even when the multilayer film is pressed and capable of forming an uneven structure can be adopted. Examples of such materials include carbon steel and stainless steel. Further, the member having an uneven shape may have one layer or two or more layers of a multilayer film on the surface for the purpose of increasing corrosion resistance, strength, thermal conductivity and the like. Such a film is not particularly limited, and examples thereof include a plating film of nickel, nickel phosphorus, silicon, copper and the like, a film formed by ceramic spraying, and the like. For example, a heater, a heat medium, a heating means using dielectric heating, induction heating, or the like, a static eliminator for static electricity countermeasures, a ground, or the like may be attached to the member having an uneven shape.

凹凸形状を有する部材は、従来公知の任意の方法により、製造しうる。例えば、円筒形の金属ロールなどの部材を、ダイヤモンドバイトなどの切削工具を用いて切削したり、レーザ加工装置を用いて加工するなどして、所望の凹凸形状を有する部材を形成しうる。 The member having an uneven shape can be manufactured by any conventionally known method. For example, a member having a desired uneven shape can be formed by cutting a member such as a cylindrical metal roll with a cutting tool such as a diamond tool or processing with a laser processing device.

凹凸形状を有する部材を、複層フィルムの薄膜の側に押圧する際の圧力は、好ましくは0.5MPa以上、より好ましくは1MPa以上、更に好ましくは5MPa以上であり、好ましくは100MPa以下、より好ましくは75MPa以下である。圧力を下限値以上とすることにより、複層フィルムに充分な深さの亀裂を形成することができ、圧力を上限値以下とすることにより複層フィルムの破損を抑制することができる。複層フィルムに亀裂を形成するために、一種以上の凹凸形状を有する部材を複数回複層フィルムに押圧する場合、複数回の押圧は、同一であっても異なっていてもよい。好ましくは、複数回の押圧は、同一の圧力で行う。 The pressure when the member having the uneven shape is pressed toward the thin film side of the multilayer film is preferably 0.5 MPa or more, more preferably 1 MPa or more, further preferably 5 MPa or more, preferably 100 MPa or less, more preferably. Is 75 MPa or less. By setting the pressure to the lower limit value or more, cracks having a sufficient depth can be formed in the multilayer film, and by setting the pressure to the upper limit value or less, the breakage of the multilayer film can be suppressed. When a member having one or more uneven shapes is pressed against the multilayer film a plurality of times in order to form a crack in the multilayer film, the multiple pressings may be the same or different. Preferably, the multiple presses are performed at the same pressure.

支持部材は、通常複層フィルムが含む薄膜の側とは反対側の面を支持する支持面を有する。複層フィルムの面を支持する支持面の硬度は、好ましくはD40以上、より好ましくはD60以上、更に好ましくはD70以上であり、好ましくはD99以下、より好ましくはD97以下、更に好ましくはD95以下である。ここで、硬度は、JIS K−6253に従い、デュロメータ(タイプD)により測定した値である。支持部材の支持面の硬度を、前記範囲とすることにより、複層フィルムに、適切な深さの亀裂を容易に形成できる。支持部材としては、凹凸形状を有する部材により複層フィルムを押圧しても破損が生じない強度を有する材料を採用しうる。支持部材の表面の材料としては、例えば、ゴム、樹脂が挙げられる。 The support member usually has a support surface that supports a surface opposite to the side of the thin film contained in the multilayer film. The hardness of the support surface that supports the surface of the multilayer film is preferably D40 or more, more preferably D60 or more, still more preferably D70 or more, preferably D99 or less, more preferably D97 or less, still more preferably D95 or less. be. Here, the hardness is a value measured by a durometer (type D) according to JIS K-6253. By setting the hardness of the support surface of the support member within the above range, cracks having an appropriate depth can be easily formed in the multilayer film. As the support member, a material having a strength that does not cause damage even when the multilayer film is pressed by a member having an uneven shape can be adopted. Examples of the material of the surface of the support member include rubber and resin.

支持部材の形状は、例えば、複層フィルムの搬送方法、凹凸形状を有する部材を複層フィルムに押圧する方法に応じて、任意の形状(例えば、ロール形状、平板形状)としうる。長尺の複層フィルムを用いて、連続的に複層フィルムに亀裂を形成できるので、支持部材は、好ましくはロール形状である。 The shape of the support member may be any shape (for example, roll shape, flat plate shape) depending on, for example, a method of transporting the double glazing film and a method of pressing a member having an uneven shape against the double glazing film. The support member is preferably in a roll shape because cracks can be continuously formed in the multi-layer film by using a long multi-layer film.

以下、凹凸形状を有する部材の例、及び当該部材を用いる工程(1)について、説明する。 Hereinafter, an example of a member having an uneven shape and a step (1) using the member will be described.

図6は、本実施形態の粉体の製造方法で用いうる凹凸形状を有する部材の一例を模式的に示す斜視図である。図7は、図6に示す凹凸形状を有する部材を模式的に示す斜視図である。図8は、図7の部材をX1−X1線で切断して展開した状態を模式的に示す平面図である。図9は、図8のY1−Y1線における一部断面図である。図10は、本実施形態の粉体の製造方法で用いうる凹凸形状を有する部材の一例を模式的に示す斜視図である。図11は、図10に示す凹凸形状を有する部材を模式的に示す斜視図である。図12は、図11の部材をX2−X2線で切断して展開した状態を模式的に示す平面図である。図13は、図12のY2−Y2線における一部断面図である。 FIG. 6 is a perspective view schematically showing an example of a member having an uneven shape that can be used in the powder manufacturing method of the present embodiment. FIG. 7 is a perspective view schematically showing the member having the uneven shape shown in FIG. FIG. 8 is a plan view schematically showing a state in which the member of FIG. 7 is cut along the X1-X1 line and developed. FIG. 9 is a partial cross-sectional view taken along the line Y1-Y1 of FIG. FIG. 10 is a perspective view schematically showing an example of a member having an uneven shape that can be used in the powder manufacturing method of the present embodiment. FIG. 11 is a perspective view schematically showing the member having the uneven shape shown in FIG. FIG. 12 is a plan view schematically showing a state in which the member of FIG. 11 is cut along the X2-X2 line and developed. FIG. 13 is a partial cross-sectional view taken along the line Y2-Y2 of FIG.

図6に示すように、凹凸形状を有する部材1110は、複層フィルム10の薄膜11側の面と接するように配置され、複層フィルム10を押圧する。また図10に示すように、凹凸形状を有する部材1115は、複層フィルム10の薄膜11側の面と接するように配置され、複層フィルム10を押圧する。凹凸形状を有する部材1110による複層フィルム10の押圧及び凹凸形状を有する部材1115による複層フィルム10の押圧の順序は特に限定されず、例えば、複層フィルム10を、凹凸形状を有する部材1110により押圧し、次いで凹凸形状を有する部材1115により押圧してもよく、複層フィルム10を、凹凸形状を有する部材1115により押圧し、次いで凹凸形状を有する部材1110により押圧してもよい。 As shown in FIG. 6, the member 1110 having an uneven shape is arranged so as to be in contact with the surface of the multilayer film 10 on the thin film 11 side, and presses the multilayer film 10. Further, as shown in FIG. 10, the member 1115 having an uneven shape is arranged so as to be in contact with the surface of the multilayer film 10 on the thin film 11 side, and presses the multilayer film 10. The order of pressing the multilayer film 10 by the member 1110 having an uneven shape and pressing the multilayer film 10 by the member 1115 having an uneven shape is not particularly limited. For example, the multilayer film 10 is pressed by the member 1110 having an uneven shape. It may be pressed and then pressed by the member 1115 having the uneven shape, or the multilayer film 10 may be pressed by the member 1115 having the uneven shape and then pressed by the member 1110 having the uneven shape.

凹凸形状を有する部材1110の外側面(複層フィルム10と接触する面)には、図6に示すように、凹凸が設けられている。凹凸形状を有する部材1115の外側面にも、図10に示すように、凹凸が設けられている。凹凸形状を有する部材1110及び1115は、図6及び図10に示すように円筒状であり、複層フィルム10上を回転移動が可能である。 As shown in FIG. 6, the outer surface (the surface in contact with the multilayer film 10) of the member 1110 having an uneven shape is provided with irregularities. As shown in FIG. 10, the outer surface of the member 1115 having an uneven shape is also provided with irregularities. The members 1110 and 1115 having an uneven shape have a cylindrical shape as shown in FIGS. 6 and 10, and can be rotationally moved on the multilayer film 10.

複層フィルム10の基材層12側の面に配されている支持部材1120は、凹凸形状を有する部材1110とともに、複層フィルム10を挟んで押圧する部材である。
複層フィルム10の基材層12側の面に配されている支持部材1125は、凹凸形状を有する部材1115とともに、複層フィルム10を挟んで押圧する部材である。支持部材1120及び支持部材1125はそれぞれ円筒状であり、複層フィルム10の下側において回転移動が可能である。
The support member 1120 arranged on the surface of the multilayer film 10 on the base material layer 12 side is a member that sandwiches and presses the multilayer film 10 together with the member 1110 having an uneven shape.
The support member 1125 arranged on the surface of the multilayer film 10 on the base material layer 12 side is a member that sandwiches and presses the multilayer film 10 together with the member 1115 having an uneven shape. The support member 1120 and the support member 1125 are each cylindrical, and can be rotationally moved under the multilayer film 10.

複層フィルム10の面のうち、凹凸形状を有する部材1110,1115と接触する側の面(図示上面)は、薄膜11が形成されている面である。凹凸形状を有する部材1110と支持部材1120との間に複層フィルム10を挟むと、凹凸形状を有する部材1110の凸部1110Tが薄膜11と接触する。複層フィルム10を、凹凸形状を有する部材1110と支持部材1120とで挟んだ状態で圧することにより、凹凸形状を有する部材1110の凸部1110Tが薄膜11及び基材層12の内部に入りこみ、亀裂100Cを構成する刻み目100C1が形成される。さらに、凹凸形状を有する部材1115と支持部材1125との間に複層フィルム10を挟むと、凹凸形状を有する部材1115の凸部1115Tが薄膜11と接触する。複層フィルム10を、凹凸形状を有する部材1115と支持部材1125とで挟んだ状態で圧することにより、凹凸形状を有する部材1115の凸部1115Tが薄膜11及び基材層12の内部に入りこみ、亀裂100Cを構成する刻み目100C2が形成される。このようにして、亀裂100Cが形成された複層フィルム10が得られる(図2及び図3を参照)。 Of the surfaces of the multilayer film 10, the surface (upper surface in the drawing) on the side that comes into contact with the members 1110 and 1115 having an uneven shape is the surface on which the thin film 11 is formed. When the multilayer film 10 is sandwiched between the member 1110 having an uneven shape and the support member 1120, the convex portion 1110T of the member 1110 having an uneven shape comes into contact with the thin film 11. By pressing the multilayer film 10 in a state of being sandwiched between the member 1110 having the uneven shape and the support member 1120, the convex portion 1110T of the member 1110 having the uneven shape penetrates into the thin film 11 and the base material layer 12 and cracks. The notch 100C1 constituting 100C is formed. Further, when the multilayer film 10 is sandwiched between the member 1115 having the uneven shape and the support member 1125, the convex portion 1115T of the member 1115 having the uneven shape comes into contact with the thin film 11. By pressing the multilayer film 10 in a state of being sandwiched between the member 1115 having the uneven shape and the support member 1125, the convex portion 1115T of the member 1115 having the uneven shape penetrates into the thin film 11 and the base material layer 12 and cracks. Notches 100C2 constituting 100C are formed. In this way, the multilayer film 10 in which the crack 100C is formed is obtained (see FIGS. 2 and 3).

凹凸形状を有する部材1110の外側面には、凹凸形状が形成されている。凹凸形状は、図8に示すように、L1で示す方向に対して角度θx分傾いた方向に延びる凸部1110Tと凹部1110Dとが、凸部1110Tの形成方向に対して垂直な方向に交互に繰り返し形成された形状である。θxは特に限定はなく例えば45°としうる。凹凸形状を有する部材1110の凹凸形状は、図8に示すように、紙面上から見ると、右下がりの直線が並んだ形状である。隣り合う2つの凸部1110T間の距離(図9に示す凸部1110T1と凸部1110T2との間の距離Q1)は適宜設定することができる。図7及び図8において、端部1111,1112は凹凸形状を有する部材1110の端部である。 An uneven shape is formed on the outer surface of the member 1110 having an uneven shape. As shown in FIG. 8, the concave-convex shape has convex portions 1110T and concave portions 1110D extending in a direction inclined by an angle θx with respect to the direction indicated by L1 alternately in a direction perpendicular to the forming direction of the convex portions 1110T. It is a repeatedly formed shape. θx is not particularly limited and may be, for example, 45 °. As shown in FIG. 8, the concavo-convex shape of the member 1110 having the concavo-convex shape is a shape in which straight lines descending to the right are lined up when viewed from the paper surface. The distance between two adjacent convex portions 1110T (distance Q1 between the convex portion 1110T1 and the convex portion 1110T2 shown in FIG. 9) can be appropriately set. In FIGS. 7 and 8, the ends 1111, 1112 are the ends of the member 1110 having an uneven shape.

凸部1110Tは、図9に示すように、断面視、鋭角状の頂点1110tを有する山形状としうる。図9においてθ11は凸部の頂点の角度である。θ11は小さい方が好ましいが、例えば10°以上、20°以上、又は30°以上とすることができ、例えば90°以下、80°以下、70°以下、又は60°以下としうる。凸部1110Tの頂点形状は薄膜及び基材層に亀裂を形成することが可能であれば、丸みを帯びた形状や面取り形状であってもよい。 As shown in FIG. 9, the convex portion 1110T may have a mountain shape having an acute-angled apex 1110t in a cross-sectional view. In FIG. 9, θ11 is the angle of the apex of the convex portion. It is preferable that θ11 is small, but it can be, for example, 10 ° or more, 20 ° or more, or 30 ° or more, and can be, for example, 90 ° or less, 80 ° or less, 70 ° or less, or 60 ° or less. The apex shape of the convex portion 1110T may be a rounded shape or a chamfered shape as long as it is possible to form cracks in the thin film and the base material layer.

凹凸形状を有する部材1115の外側面には、凹凸形状が形成されている。凹凸形状は、図12に示すように、L2で示す方向に対して角度θy分傾いた方向に延びる凸部1115Tと凹部1115Dとが、凸部1115Tの形成方向に対して垂直な方向に交互に繰り返し形成された形状である。θyは特に限定はなく例えば45°としうる。凹凸形状を有する部材1115の凹凸形状は、図12に示すように、紙面上から見ると、右上がりの直線が並んだ形状である。隣り合う2つの凸部1115T間の距離(図13に示す凸部1115T1と凸部1115T2との間の距離Q2)は適宜設定することができる。図11び図12において、端部1116,1117は凹凸形状を有する部材1115の端部である。 An uneven shape is formed on the outer surface of the member 1115 having an uneven shape. As shown in FIG. 12, the concave-convex shape has convex portions 1115T and concave portions 1115D extending in a direction inclined by an angle θy with respect to the direction indicated by L2, alternately in a direction perpendicular to the forming direction of the convex portions 1115T. It is a repeatedly formed shape. θy is not particularly limited and may be, for example, 45 °. As shown in FIG. 12, the uneven shape of the member 1115 having the uneven shape is a shape in which straight lines rising to the right are lined up when viewed from the paper surface. The distance between two adjacent convex portions 1115T (distance Q2 between the convex portion 1115T1 and the convex portion 1115T2 shown in FIG. 13) can be appropriately set. In FIGS. 11 and 12, the ends 1116 and 1117 are the ends of the member 1115 having a concavo-convex shape.

凸部1115Tは、図13に示すように、断面視、鋭角状の頂点1115tを有する山形状としうる。図13においてθ12は凸部1115Tの頂点の角度である。θ12は小さい方が好ましいが、例えば10°以上、20°以上、又は30°以上とすることができ、例えば90°以下、80°以下、70°以下、又は60°以下としうる。凸部1115Tの頂点形状は薄膜及び基材層に亀裂を形成することが可能であれば、丸みを帯びた形状や面取り形状であってもよい。
工程(1)を行うことにより、複層フィルムには、亀裂が形成される(例えば、図3及び図5に示すように、複層フィルム10に、亀裂100C又は亀裂200Cが形成される。)。亀裂が形成された複層フィルム(例えば、複層フィルム100,200)は工程(2)に供される。
As shown in FIG. 13, the convex portion 1115T may have a mountain shape having an acute-angled apex 1115t in a cross-sectional view. In FIG. 13, θ12 is the angle of the apex of the convex portion 1115T. It is preferable that θ12 is small, but it can be, for example, 10 ° or more, 20 ° or more, or 30 ° or more, and can be, for example, 90 ° or less, 80 ° or less, 70 ° or less, or 60 ° or less. The apex shape of the convex portion 1115T may be a rounded shape or a chamfered shape as long as it is possible to form cracks in the thin film and the base material layer.
By performing the step (1), cracks are formed in the multilayer film (for example, as shown in FIGS. 3 and 5, cracks 100C or 200C are formed in the multilayer film 10). .. The cracked multi-layer film (eg, multi-layer films 100, 200) is subjected to step (2).

亀裂の形状は凹凸形状を有する部材の凸部の形状が反映される。例えば、展開形状が図8に示す形状の凹凸形状を有する部材1110を、図8のL1方向が複層フィルムの長手方向と平行になるように配して押圧した場合、複層フィルム10の長手方向に対して斜め方向に刻み目を形成することができる。これに次いで展開形状が図12に示す形状の凹凸形状を有する部材1115を、図12のL2方向が複層フィルムの長手方向と平行になるように配して押圧すると、図2に示すような格子状の亀裂100Cを形成しうる。図2において、右下がりの直線状の刻み目100C1は凹凸形状を有する部材1110の凸部の形状が反映されたものであり、右上がりの直線状の刻み目100C2は凹凸形状を有する部材1115の凸部の形状が反映されたものである。 The shape of the crack reflects the shape of the convex portion of the member having the uneven shape. For example, when a member 1110 having a concave-convex shape having a developed shape shown in FIG. 8 is arranged and pressed so that the L1 direction in FIG. 8 is parallel to the longitudinal direction of the double glazing film, the length of the double glazing film 10 is long. Notches can be formed diagonally with respect to the direction. Next, when the member 1115 having the uneven shape of the developed shape shown in FIG. 12 is arranged and pressed so that the L2 direction of FIG. 12 is parallel to the longitudinal direction of the multilayer film, it is as shown in FIG. A grid-like crack 100C can be formed. In FIG. 2, the downward-sloping linear notch 100C1 reflects the shape of the convex portion of the member 1110 having the concave-convex shape, and the upward-sloping linear notch 100C2 is the convex portion of the member 1115 having the concave-convex shape. It reflects the shape of.

[3.工程(2)]
工程(2)では、亀裂が形成された複層フィルムの基材層から、前記薄膜の小片を剥離して、前記薄膜の小片を含む粉体を得る。
[3. Process (2)]
In the step (2), the small pieces of the thin film are peeled off from the base material layer of the multi-layer film in which the cracks are formed to obtain a powder containing the small pieces of the thin film.

基材層から、薄膜の小片を剥離する方法は特に限定されず、例えば、(1)亀裂が形成された複層フィルムをブレード上で摺動させて、小片を剥離する方法;(2)水、空気などの流体を、亀裂が形成された複層フィルムに吹き付けて、小片を剥離する方法;(3)薄膜(例えば、コレステリック樹脂層)を溶解させにくいが、基材層又は薄膜と基材層との間に存在する層(例えば、ポリビニルアルコールで形成された配向膜)を溶解させる溶媒(例えば、水)に、亀裂が形成された複層フィルムを浸漬して、基材層から薄膜の小片を剥離する方法;(4)亀裂が形成された複層フィルムの薄膜側を水溶性接着剤を用いて転写用基材フィルムに貼り合わせ、次いで複層フィルムから基材層を剥離することにより、基材層から薄膜の小片を剥離する方法;これらの組み合わせ;が挙げられる。
前記(4)の方法では、通常(転写用基材フィルム)/(水溶性接着剤の層)/(亀裂が形成された薄膜)の層構成を有する積層体が得られる。この積層体を適当な温度の水に浸漬するなどして、積層体から水溶性接着剤の層を除去することにより、薄膜の小片を含む粉体を得ることができる。
The method of peeling the small pieces of the thin film from the base material layer is not particularly limited, and for example, (1) a method of sliding a multi-layer film having cracks formed on the blade to peel off the small pieces; (2) water. , A method of spraying a fluid such as air on a multi-layer film in which cracks are formed to peel off small pieces; (3) It is difficult to dissolve a thin film (for example, a cholesteric resin layer) A multi-layer film in which cracks are formed is immersed in a solvent (for example, water) that dissolves a layer (for example, an alignment film formed of polyvinyl alcohol) existing between the layers, and a thin film is formed from the base material layer. Method of peeling off small pieces; (4) By sticking the thin film side of the multi-layer film in which cracks are formed to the base film for transfer using a water-soluble adhesive, and then peeling the base layer from the multi-layer film. , A method of peeling a small piece of a thin film from a base material layer; a combination thereof;
In the method (4) above, a laminate having a normal (transfer base film) / (water-soluble adhesive layer) / (thin film in which cracks are formed) layer structure can be obtained. A powder containing small pieces of a thin film can be obtained by removing the layer of the water-soluble adhesive from the laminate by immersing the laminate in water at an appropriate temperature or the like.

亀裂が形成された複層フィルムが、長尺である場合には、連続的に前記の剥離工程を行うことで、効率よく粉体を製造できる。 When the cracked multilayer film is long, the powder can be efficiently produced by continuously performing the peeling step.

例えば、工程(2)は、亀裂が形成された複層フィルムに流体を吹き付ける工程(2a)を含んでいてもよい。
工程(2a)では、流体を、亀裂が形成された複層フィルムの、亀裂が形成された側(すなわち、薄膜側)に吹き付ける。吹き付け装置として、公知の流体吐出装置を用いうる。流体吐出装置から吐出される流体の圧力は、流体の密度、基材層と薄膜との剥離強度などに応じて、適宜調整しうる。吐出圧力は、特に限定されないが、好ましくは5MPa以上、より好ましくは10MPa以上であり、好ましくは50MPa以下、より好ましくは35MPa以下である。
For example, the step (2) may include a step (2a) of spraying a fluid on the cracked multilayer film.
In step (2a), the fluid is sprayed onto the cracked side (that is, the thin film side) of the cracked multilayer film. A known fluid discharge device can be used as the spraying device. The pressure of the fluid discharged from the fluid discharge device can be appropriately adjusted according to the density of the fluid, the peel strength between the base material layer and the thin film, and the like. The discharge pressure is not particularly limited, but is preferably 5 MPa or more, more preferably 10 MPa or more, preferably 50 MPa or less, and more preferably 35 MPa or less.

工程(2)は、前記薄膜の小片を剥離した後に、小片をふるいに通す工程(2b)を含んでいてもよい。
例えば、亀裂が形成された複層フィルムに流体を吹き付ける工程(2a)の後、基材層から剥離された小片を、所定の目開きを有するフィルターを通過させてもよい。
また工程(2)は、前記薄膜の小片を剥離した後に、小片を回収する工程(2c)を含んでいてもよい。
例えば、亀裂が形成された複層フィルムに流体を吹き付ける工程(2a)の後、基材層から剥離された小片を、流体とともに回収路に導き、回収器により小片を回収して、小片の集合体である粉体を得てもよい。回収器としては、例えば、サイクロン型の分離器及び各種フィルターを用いうる。
The step (2) may include a step (2b) in which the small pieces of the thin film are peeled off and then the small pieces are passed through a sieve.
For example, after the step (2a) of spraying the fluid on the cracked multilayer film, the small pieces peeled from the base material layer may be passed through a filter having a predetermined opening.
Further, the step (2) may include a step (2c) of collecting the small pieces after peeling off the small pieces of the thin film.
For example, after the step (2a) of spraying the fluid onto the cracked multilayer film, the small pieces peeled from the base material layer are guided to the recovery path together with the fluid, and the small pieces are collected by the recovery device to collect the small pieces. You may obtain the body powder. As the collector, for example, a cyclone type separator and various filters can be used.

[4.粉体の特性]
本実施形態の製造方法で得られる粉体は、亀裂に沿った一定形状を有する薄膜片の割合が多い。該割合は、例えば以下の方法により評価できる。
粉体を10重量%の水分散液とする。該水分散液をプレパラート上に滴下し、水分を蒸発させて、粉体(薄膜片)をプレパラートに付着させる。プレパラート上の、薄膜片が付着した部分を顕微鏡で観察する。1mm四方の領域内で、一定形状の薄膜片の個数(A)と、非定形の薄膜片の個数(B)とをカウントし、下記式に従い個数(B)の個数(A)に対する百分率Xを求める。X=B/A×100(%)
百分率Xが小さいほど、亀裂に沿った一定形状を有する薄膜片の割合が高い。
[4. Powder characteristics]
The powder obtained by the production method of the present embodiment has a large proportion of thin film pieces having a constant shape along the cracks. The ratio can be evaluated by, for example, the following method.
The powder is a 10% by weight aqueous dispersion. The aqueous dispersion is dropped onto the slide to evaporate the water content, and the powder (thin film piece) is attached to the slide. Observe the part of the preparation to which the thin film piece is attached with a microscope. Within a 1 mm square area, the number of thin film pieces (A) having a fixed shape and the number (B) of non-standard thin film pieces are counted, and the percentage X with respect to the number (A) of the number (B) is calculated according to the following formula. Ask. X = B / A x 100 (%)
The smaller the percentage X, the higher the proportion of thin film pieces having a constant shape along the crack.

粉体は、百分率Xが、好ましくは5%以下であり、より好ましくは4%以下であり、更に好ましくは3%以下であり、0%であることが好ましいが、0%以上又は1%以上であってもよい。 The powder has a percentage X of preferably 5% or less, more preferably 4% or less, still more preferably 3% or less, and preferably 0%, but 0% or more or 1% or more. It may be.

[5.粉体の用途]
本実施形態の製造方法により製造された粉体は、亀裂に沿った一定形状を有する薄膜片の割合が多い。したがって、粉体を含むインクを用いて、質感の良好な印刷物を得ることができる。また、粉体を含むインクを用いた印刷物の真正性を容易に判定しうる。よって、粉体をインクの材料として好適に利用できる。
[5. Use of powder]
The powder produced by the production method of the present embodiment has a large proportion of thin film pieces having a constant shape along the cracks. Therefore, it is possible to obtain a printed matter having a good texture by using an ink containing powder. In addition, the authenticity of printed matter using ink containing powder can be easily determined. Therefore, the powder can be suitably used as a material for ink.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and can be arbitrarily modified and implemented without departing from the scope of claims of the present invention and the equivalent scope thereof.

以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。 In the following description, "%" and "part" representing quantities are based on weight unless otherwise specified. Further, the operations described below were performed under normal temperature and pressure conditions unless otherwise specified.

[評価]
(亀裂の状態の評価)
亀裂を入れた各例の複層フィルムの断面を、走査型電子顕微鏡で観察し、亀裂が、複層フィルムの基材層の表面より深い位置に達しているか否かを評価した。観察は、複層フィルムの任意の位置の、面方向の長さが500μmの断面について行った。観察範囲において、亀裂が複層フィルムの基材層の表面より深い位置に達している場合は、複層フィルムの全面において、亀裂が複層フィルムの基材層の表面より深い位置に達しているとみなした。観察範囲において、一部の亀裂が複層フィルムの基材層の表面よりも深い位置に達していない場合、または、すべての亀裂が複層フィルムの基材層の表面より深い位置に達していない場合は、亀裂が複層フィルムの複層フィルムの基材層の表面より深い位置に達していないとした。
[evaluation]
(Evaluation of crack condition)
The cross section of the multi-layer film of each cracked example was observed with a scanning electron microscope, and it was evaluated whether or not the crack reached a position deeper than the surface of the base material layer of the multi-layer film. Observation was performed on a cross section having a length in the plane direction of 500 μm at an arbitrary position of the multilayer film. In the observation range, when the crack reaches a position deeper than the surface of the base layer of the double glazing, the crack reaches a position deeper than the surface of the base layer of the double glazing on the entire surface of the double glazing. Was regarded as. In the observation range, some cracks do not reach deeper than the surface of the base layer of the double glazing, or all cracks do not reach deeper than the surface of the base layer of the double glazing. In this case, the cracks did not reach a position deeper than the surface of the base material layer of the double glazing of the double glazing.

(粉体(薄膜片)の形状一致性の評価)
各例で得られた粉体(薄膜片)を、10重量%の水分散液とした。次いで、該水分散液をプレパラート上に滴下し、水分を蒸発させて、薄膜片をプレパラートに付着させた。プレパラート上の、薄膜片が付着した部分を光学顕微鏡で観察した。1mm四方の領域内で、各例における凹凸形状を有する部材の凹凸に対応する、定形の薄膜片の個数(A)と、非定形の薄膜片の個数(B)とをカウントし、下記式に従い個数(B)の個数(A)に対する百分率Xを求めた。X=B/A×100(%)
百分率Xが小さいほど、亀裂に沿った一定形状を有する薄膜片の割合が高い。すなわち形状一致性が高い。
下記基準に従い薄膜片の形状一致性を評価した。
「良」:X≦5%
「不良」:5%<X、又はA=0
(Evaluation of shape consistency of powder (thin film piece))
The powder (thin film piece) obtained in each example was used as a 10% by weight aqueous dispersion. Next, the aqueous dispersion was dropped onto the slide to evaporate the water content, and the thin film pieces were attached to the slide. The part of the preparation to which the thin film piece was attached was observed with an optical microscope. Within a 1 mm square area, the number of standard thin film pieces (A) and the number of non-standard thin film pieces (B) corresponding to the unevenness of the member having the uneven shape in each example are counted, and according to the following formula. The percentage X with respect to the number (A) of the number (B) was determined. X = B / A x 100 (%)
The smaller the percentage X, the higher the proportion of thin film pieces having a constant shape along the crack. That is, the shape consistency is high.
The shape consistency of the thin film pieces was evaluated according to the following criteria.
"Good": X ≤ 5%
"Defective": 5% <X or A = 0

[実施例1]
(1−1.光硬化性の液晶組成物の調製)
BASF社製光重合性液晶性化合物「Paliocolor LC242」を18.1部、カイラル剤としてBASF社製「LC756」を1.3部、光重合開始剤としてチバ・ジャパン社製「イルガキュアOXEO2」を0.6部、界面活性剤としてネオス社製「フタージェント209F」を0.02部、及びシクロペンタノンを80部を混合して、光硬化性の液晶組成物を調製した。
[Example 1]
(1-1. Preparation of photocurable liquid crystal composition)
18.1 parts of BASF's photopolymerizable liquid crystal compound "Pariocolor LC242", 1.3 parts of BASF's "LC756" as a surfactant, and 0 of Ciba Japan's "Irgacure OXEO2" as a photopolymerization initiator. A photocurable liquid crystal composition was prepared by mixing 6 parts, 0.02 part of "Futergent 209F" manufactured by Neos Co., Ltd. as a surfactant, and 80 parts of cyclopentanone.

(1−2.長尺の複層フィルムの製造)
基材フィルムとして、長尺のシクロオレフィン重合体(COP)フィルム(日本ゼオン社製「ZF16−100」;厚み100μm)を用意した。この基材フィルムをフィルム搬送装置の繰り出し部に取り付け、当該基材フィルムを長手方向に搬送しながら以下の操作を行った。まず、搬送方向と平行な長手方向にラビング処理を施した。次に、ラビング処理を施した面に、(1−1)で調製した液晶組成物をダイコーターを使用して塗布した。これにより、基材フィルムの片面に、未硬化状態の液晶組成物の膜を形成した。
(1-2. Manufacture of long multi-layer film)
As a base film, a long cycloolefin polymer (COP) film (“ZF16-100” manufactured by Zeon Corporation; thickness 100 μm) was prepared. This base film was attached to the feeding portion of the film transport device, and the following operations were performed while transporting the base film in the longitudinal direction. First, a rubbing treatment was performed in the longitudinal direction parallel to the transport direction. Next, the liquid crystal composition prepared in (1-1) was applied to the surface subjected to the rubbing treatment using a die coater. As a result, a film of the uncured liquid crystal composition was formed on one side of the base film.

得られた液晶組成物の膜に100℃で5分間配向処理を施し、その後、液晶組成物の膜に、窒素雰囲気下で800mJ/cmの紫外線を照射して、液晶組成物の膜を完全に硬化させた。これにより、長尺の基材フィルムの片面に、3.5μmの厚みの樹脂薄膜を備える複層フィルムを得た。複層フィルムは、(基材層としての基材フィルム)/(樹脂薄膜)の層構成を有する。樹脂薄膜は、コレステリック樹脂層としての機能を有していた。 The obtained film of the liquid crystal composition is oriented at 100 ° C. for 5 minutes, and then the film of the liquid crystal composition is irradiated with ultraviolet rays of 800 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere to complete the film of the liquid crystal composition. Hardened to. As a result, a multi-layer film having a resin thin film having a thickness of 3.5 μm was obtained on one side of the long base film. The multi-layer film has a layer structure of (base film as a base layer) / (resin thin film). The resin thin film had a function as a cholesteric resin layer.

(1−3.凹凸形状を有する部材(ロール)の製造)
表面に無電解ニッケルメッキ(NiPメッキ)が施された、ステンレス鋼で形成された金属ロールを用意した。メッキが施されたロールの表面をダイヤモンドバイト(頂角60°)で切削し、複数の凸部を有するロールA及びロールBを得た。
ロールAでは、複数の凸部を、ロール軸と平行なロール周面上の直線に対して、右上がりに45°の角度をなす方向に凸部が延びるように、また、凸部のピッチが50μmとなるように、更に凸部が延びる方向に垂直な断面において、凸部の頂点の角度が、60°となるように形成した。
ロールBでは、複数の凸部を、ロール軸と平行なロール周面上の直線に対して、左上がりに45°の角度をなす方向に凸部が延びるように、また、凸部のピッチが50μmとなるように、更に凸部が延びる方向に垂直な断面において、凸部の頂点の角度が、60°となるように形成した。
(1-3. Manufacture of members (rolls) having an uneven shape)
A metal roll made of stainless steel with electroless nickel plating (NiP plating) on the surface was prepared. The surface of the plated roll was cut with a diamond bite (apical angle 60 °) to obtain roll A and roll B having a plurality of convex portions.
In the roll A, the plurality of convex portions are extended so that the convex portions extend in a direction of 45 ° upward to the right with respect to the straight line on the roll peripheral surface parallel to the roll axis, and the pitch of the convex portions is set. It was formed so that the angle of the apex of the convex portion was 60 ° in the cross section perpendicular to the direction in which the convex portion was further extended so as to be 50 μm.
In the roll B, the plurality of convex portions are extended so that the convex portions extend in a direction forming an angle of 45 ° upward to the left with respect to the straight line on the roll peripheral surface parallel to the roll axis, and the pitch of the convex portions is set. It was formed so that the angle of the apex of the convex portion was 60 ° in the cross section perpendicular to the direction in which the convex portion was further extended so as to be 50 μm.

(1−4.工程(1):亀裂形成工程)
(1−2)で製造した複層フィルムに、樹脂薄膜側から、(1−3)で製造したロールAを押圧し(プレス圧10MPa)、次いでロールBを押圧して(プレス圧10MPa)、複層フィルムに亀裂を形成した。その際、複層フィルムの樹脂薄膜とは反対側(基材フィルム側、バックアップロール側)を、バックアップロールで支持した。バックアップロールは、表面の硬度がD70のロールを使用した。ここで、硬度は、JIS K−6253に従い、デュロメータ(タイプD)により測定した値である。以下同様である。これにより、複層フィルムの樹脂薄膜を、樹脂薄膜の厚み方向から見て、一辺が50μmである正方形の小片(長径70μm)に分割した。
(1-4. Step (1): Rhagades formation step)
The roll A produced in (1-3) is pressed against the multilayer film produced in (1-2) from the resin thin film side (press pressure 10 MPa), and then the roll B is pressed (press pressure 10 MPa). Cracks were formed in the multi-layer film. At that time, the side opposite to the resin thin film of the multilayer film (base film side, backup roll side) was supported by the backup roll. As the backup roll, a roll having a surface hardness of D70 was used. Here, the hardness is a value measured by a durometer (type D) according to JIS K-6253. The same applies hereinafter. As a result, the resin thin film of the multilayer film was divided into small square pieces (major axis 70 μm) having a side of 50 μm when viewed from the thickness direction of the resin thin film.

ロールA及びロールBを押圧された後の複層フィルムについて、亀裂の状態を前記の方法により評価した。その結果、複層フィルムの全面において、複層フィルムが備える基材フィルムの表面よりも深い位置まで、亀裂が形成されていることが分かった。 The state of cracks in the multilayer film after the roll A and the roll B were pressed was evaluated by the above method. As a result, it was found that cracks were formed on the entire surface of the multilayer film to a position deeper than the surface of the base film included in the multilayer film.

(1−5.工程(2):粉体製造工程)
次いで、亀裂を入れた複層フィルムに対して、樹脂薄膜の側から、吐出圧力60MPaで水を吹き付けて、基材フィルムから樹脂薄膜の小片を剥離した。
(1-5. Step (2): Powder manufacturing step)
Next, water was sprayed from the side of the resin thin film on the cracked multilayer film at a discharge pressure of 60 MPa to peel off small pieces of the resin thin film from the base film.

次いで、剥離した樹脂薄膜の小片を、公称目開き53μmのふるいに通し、ふるい下の小片を、フィルター回収器(3M社製、オールポリプロピレン製フィルター)により回収して、樹脂薄膜の小片を含む粉体を得た。得られた粉体の形状一致性を、前記の方法により評価した。結果を下表に示す。 Next, the peeled small pieces of the resin thin film are passed through a sieve having a nominal opening of 53 μm, and the small pieces under the sieve are collected by a filter collector (3M, all polypropylene filter), and the powder containing the small pieces of the resin thin film is collected. I got a body. The shape consistency of the obtained powder was evaluated by the above method. The results are shown in the table below.

[実施例2]
(2−1〜2−2)
基材フィルムとして、長尺のトリアセチルセルロースフィルム(コニカミノルタ社製「KC6UY」;厚み60μm)を用いた。以上の事項以外は、実施例1の(1−1)〜(1−2)と同様にして、複層フィルムを製造した。
[Example 2]
(2-1 to 2-2)
As the base film, a long triacetyl cellulose film (“KC6UY” manufactured by Konica Minolta Co., Ltd .; thickness 60 μm) was used. Except for the above items, a multilayer film was produced in the same manner as in Examples 1 (1-1) to (1-2).

(2−3.凹凸形状を有する部材(ロール)の製造)
実施例1の(1−3)と同様の金属ロールを用意し、メッキが施されたロールの表面をダイヤモンドバイト(頂角60°)で切削し、複数の凸部を有するロールCを得た。
ロールCでは、複数の凸部をロール軸と平行なロール周面上の直線に対して、左上がりに45°の角度をなす方向に凸部が延びるように、また、凸部のピッチが100μmとなるように形成した。
(2-3. Manufacture of members (rolls) having an uneven shape)
A metal roll similar to (1-3) of Example 1 was prepared, and the surface of the plated roll was cut with a diamond bite (apical angle 60 °) to obtain a roll C having a plurality of convex portions. ..
In the roll C, the convex portions extend in a direction of 45 ° upward to the left with respect to the straight line on the roll peripheral surface parallel to the roll axis, and the pitch of the convex portions is 100 μm. It was formed so as to be.

(2−4.工程(1):亀裂形成工程)
・ロールBの代わりに、ロールCを用いた。
・ロールA及びロールCのプレス圧を、それぞれ8MPaとした。
・バックアップロールとして、表面の硬度がD90のロールを使用した。
以上の事項以外は、実施例1の(1−4)と同様に操作して、複層フィルムに亀裂を形成した。これにより、複層フィルムの樹脂薄膜を、樹脂薄膜の厚み方向から見て、50μm×100μmである長方形の小片(長径112μm)に分割した。
(2-4. Step (1): Rhagades formation step)
-Roll C was used instead of roll B.
The press pressures of roll A and roll C were set to 8 MPa, respectively.
-As a backup roll, a roll having a surface hardness of D90 was used.
Except for the above items, the same operation as in (1-4) of Example 1 was carried out to form cracks in the multilayer film. As a result, the resin thin film of the multilayer film was divided into rectangular small pieces (major axis 112 μm) having a size of 50 μm × 100 μm when viewed from the thickness direction of the resin thin film.

ロールA及びロールCを押圧された後の複層フィルムについて、亀裂の状態を前記の方法により評価した。その結果、複層フィルムの全面において、複層フィルムが備える基材フィルムの表面よりも深い位置まで、亀裂が形成されていることが分かった。 The state of cracks in the multilayer film after the roll A and the roll C were pressed was evaluated by the above method. As a result, it was found that cracks were formed on the entire surface of the multilayer film to a position deeper than the surface of the base film included in the multilayer film.

(2−5.工程(2):粉体製造工程)
剥離した樹脂薄膜の小片を通すふるいの目開きを、公称目開き53μmから公称目開き106μmに変更した。以上の事項以外は、実施例1の(1−5)と同様にして、粉体を得て、得られた粉体を評価した。結果を下表に示す。
(2-5. Step (2): Powder manufacturing process)
The opening of the sieve through which the small pieces of the peeled resin thin film are passed was changed from the nominal opening of 53 μm to the nominal opening of 106 μm. Except for the above items, a powder was obtained in the same manner as in (1-5) of Example 1, and the obtained powder was evaluated. The results are shown in the table below.

[実施例3]
(3−1〜3−2)
複層フィルムとして、12μmの厚みでアルミニウムが蒸着されたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レフィルム加工社製「VMPET1519」)を用意した。複層フィルムは、(薄膜としてのアルミニウム膜)/(基材層としてのPETフィルム)の層構成を有する。
[Example 3]
(3-1 to 3-2)
As a multi-layer film, a polyethylene terephthalate (PET) film (“VMPET1519” manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) on which aluminum was vapor-deposited to a thickness of 12 μm was prepared. The multi-layer film has a layer structure of (aluminum film as a thin film) / (PET film as a base material layer).

(3−3.凹凸形状を有する部材(ロール)の製造)
実施例1の(1−3)と同様の金属ロールを用意した。メッキが施されたロールの表面に極短パルスレーザで窪みを形成し(ディンプル加工)、ロールDを得た。
ロールDでは、長径が50μmであり、一辺が25μmである、連続した六角形の凸部が形成されている。
(3-3. Manufacture of members (rolls) having an uneven shape)
A metal roll similar to (1-3) of Example 1 was prepared. A dent was formed on the surface of the plated roll with an ultrashort pulse laser (dimple processing) to obtain a roll D.
The roll D has a continuous hexagonal convex portion having a major axis of 50 μm and a side of 25 μm.

(3−4.工程(1):亀裂形成工程)
・ロールAの代わりに、ロールDを用いた。
・ロールBによる複層フィルムの押圧を行わなかった。
・ロールDのプレス圧を12MPaとした。
・バックアップロールとして、表面の硬度がD88のロールを使用した。
以上の事項以外は、実施例1の(1−4)と同様に操作して、複層フィルムに亀裂を形成した。これにより、複層フィルムのアルミニウム膜を、該膜の厚み方向から見て、長径が50μmであり、一辺が25μmの六角形の小片に分割した。
(3-4. Step (1): Rhagades forming step)
-Roll D was used instead of roll A.
-The double glazing was not pressed by the roll B.
The press pressure of the roll D was set to 12 MPa.
-As a backup roll, a roll having a surface hardness of D88 was used.
Except for the above items, the same operation as in (1-4) of Example 1 was carried out to form cracks in the multilayer film. As a result, the aluminum film of the multilayer film was divided into hexagonal small pieces having a major axis of 50 μm and a side of 25 μm when viewed from the thickness direction of the film.

ロールDを押圧された後の複層フィルムについて、亀裂の状態を前記の方法により評価した。その結果、複層フィルムの全面において、複層フィルムが備える基材フィルムの表面よりも深い位置まで、亀裂が形成されていることが分かった。 The state of cracks in the multilayer film after the roll D was pressed was evaluated by the above method. As a result, it was found that cracks were formed on the entire surface of the multilayer film to a position deeper than the surface of the base film included in the multilayer film.

(3−5.工程(2):粉体製造工程)
実施例1の(1−5)と同様にして、粉体を得て、得られた粉体を評価した。結果を下表に示す。
(3-5. Step (2): Powder manufacturing process)
A powder was obtained in the same manner as in (1-5) of Example 1, and the obtained powder was evaluated. The results are shown in the table below.

[比較例1]
・バックアップロールを、ステンレス鋼を硬度がD20であるシリコンゴムで被覆して形成されたロールに変更した。
・ロールA及びロールBのプレス圧を、それぞれ70MPaとした。
以上の事項以外は、実施例1と同様に操作して、粉体を得て、得られた粉体を評価した。結果を下表に示す。
また、ロールA及びロールBを押圧された後の複層フィルムにおいて、亀裂の状態を前記の方法により評価した。その結果、観察範囲において、複層フィルムが備える基材フィルムの表面よりも深い位置まで達している亀裂はなかった。
[Comparative Example 1]
-The backup roll was changed to a roll formed by coating stainless steel with silicon rubber having a hardness of D20.
The press pressure of the roll A and the roll B was set to 70 MPa, respectively.
Except for the above items, the same operation as in Example 1 was carried out to obtain a powder, and the obtained powder was evaluated. The results are shown in the table below.
Further, in the multilayer film after the roll A and the roll B were pressed, the state of cracks was evaluated by the above method. As a result, in the observation range, there were no cracks reaching a position deeper than the surface of the base film included in the multilayer film.

下表において、略号は以下の意味を表す。
「コレステリック樹脂層」:液晶組成物の硬化物の層
「Al膜」:蒸着されたアルミニウム膜
「COP」:シクロオレフィン重合体フィルム
「TAC」:トリアセチルセルロースフィルム
「PET」:ポリエチレンテレフタレートフィルム
In the table below, the abbreviations have the following meanings.
"Cholesteric resin layer": Layer of cured product of liquid crystal composition "Al film": Deposited aluminum film "COP": Cycloolefin polymer film "TAC": Triacetyl cellulose film "PET": Polyethylene terephthalate film

Figure 2021133441
Figure 2021133441

以上の結果より、基材層の薄膜側の表面より深い位置に達する亀裂を形成していない比較例1の製造方法では、得られる粉体の形状一致性が不良である。一方、基材層の薄膜側の表面より深い位置に達する亀裂を形成する実施例の製造方法では、得られる粉体の形状一致性が良好である。
以上の結果は、本発明に係る粉体の製造方法により、所望とする形状を有する薄膜片の割合が多い粉体を製造できることが分かる。
From the above results, in the production method of Comparative Example 1 in which the cracks that reach a position deeper than the surface of the base material layer on the thin film side are not formed, the shape consistency of the obtained powder is poor. On the other hand, in the production method of the example in which the cracks reaching a position deeper than the surface of the base material layer on the thin film side are formed, the shape consistency of the obtained powder is good.
From the above results, it can be seen that the powder production method according to the present invention can produce a powder having a large proportion of thin film pieces having a desired shape.

10 複層フィルム
11 薄膜
12 基材層
100 複層フィルム
100C 亀裂
100C1 刻み目
100C2 刻み目
100Cd 深さ
100Ct 先端
101 小片
110 薄膜
110T 厚み
110U 表面
120 基材層
120U 表面
200 複層フィルム
200C 亀裂
200Ct 先端
201 小片
210 薄膜
220 基材層
220U 表面
1110 凹凸形状を有する部材
1110T 凸部
1110T1 凸部
1110T2 凸部
1110t 頂点
1110D 凹部
1111 端部
1112 端部
1115 凹凸形状を有する部材
1115T 凸部
1115T1 凸部
1115T2 凸部
1115t 頂点
1115D 凹部
1116 端部
1117 端部
1120 支持部材
1125 支持部材
10 Multi-layer film 11 Thin film 12 Base material layer 100 Multi-layer film 100C Crack 100C1 Notch 100C2 Notch 100Cd Depth 100Ct Tip 101 Small piece 110 Thin film 110T Thickness 110U Surface 120 Base layer 120U Surface 200 Multi-layer film 200C Thin film 220 Base material layer 220U Surface 1110 Concavo-convex shape member 1110T Convex part 1110T1 Convex part 1110T2 Convex part 1110t Peak 1110D Concave part 1111 End part 1112 End part 1115 Member with uneven shape 1115T Convex part 1115T Convex part 1115T Recess 1116 End 1117 End 1120 Support member 1125 Support member

Claims (8)

基材層と、最も外側に配置された薄膜とを含む複層フィルムに、前記薄膜をその厚み方向から見て同一形状の小片に分割する亀裂であって、かつ前記基材層の前記薄膜側の表面より深い位置に達する、亀裂を形成する工程(1)と、
前記亀裂が形成された複層フィルムの前記基材層から、前記薄膜の小片を剥離して、前記薄膜の小片を含む粉体を得る工程(2)とを含む、粉体の製造方法。
A crack that divides the thin film into small pieces having the same shape when viewed from the thickness direction of the multilayer film including the base material layer and the thin film arranged on the outermost side, and the thin film side of the base material layer. The step of forming a crack (1), which reaches a position deeper than the surface of the
A method for producing a powder, which comprises a step (2) of peeling a small piece of the thin film from the base material layer of the multi-layer film on which the crack is formed to obtain a powder containing the small piece of the thin film.
前記小片の長径が、150μm以下である、請求項1に記載の粉体の製造方法。 The method for producing a powder according to claim 1, wherein the major axis of the small piece is 150 μm or less. 前記工程(1)において、前記複層フィルムの前記薄膜の側に、凹凸形状を有する部材を押圧して、前記亀裂を形成する、請求項1又は2に記載の粉体の製造方法。 The method for producing a powder according to claim 1 or 2, wherein in the step (1), a member having an uneven shape is pressed against the thin film side of the multilayer film to form the cracks. 前記押圧を、表面の硬度がD40以上である支持部材により前記複層フィルムを支持した状態で行う、請求項3に記載の粉体の製造方法。 The method for producing a powder according to claim 3, wherein the pressing is performed in a state where the multilayer film is supported by a support member having a surface hardness of D40 or more. 前記凹凸形状を有する部材を押圧する圧力が、0.5MPa以上である、請求項4に記載の粉体の製造方法。 The method for producing a powder according to claim 4, wherein the pressure for pressing the member having the uneven shape is 0.5 MPa or more. 前記工程(2)が、前記亀裂が形成された複層フィルムに、流体を吹き付ける工程(2a)を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の粉体の製造方法。 The method for producing a powder according to any one of claims 1 to 5, wherein the step (2) includes a step (2a) of spraying a fluid onto the cracked multilayer film. 前記基材層の厚みが、12μm以上250μm以下である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の粉体の製造方法。 The method for producing a powder according to any one of claims 1 to 6, wherein the thickness of the base material layer is 12 μm or more and 250 μm or less. 前記工程(1)において、前記亀裂を、前記小片の形状が、前記薄膜の厚み方向から見て、三角形、四角形、又は六角形となるように形成する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の粉体の製造方法。 Any one of claims 1 to 7, wherein in the step (1), the crack is formed so that the shape of the small piece becomes a triangle, a quadrangle, or a hexagon when viewed from the thickness direction of the thin film. The method for producing a powder according to.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023037764A1 (en) * 2021-09-07 2023-03-16 日本ゼオン株式会社 Roll and method for manufacturing powder
WO2024111499A1 (en) * 2022-11-24 2024-05-30 日本ゼオン株式会社 Method for producing thin film stripped pieces

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013103322A (en) * 2011-11-16 2013-05-30 Nitto Denko Corp Continuous manufacturing system of liquid crystal display element, and continuous manufacturing method of liquid crystal display element
JP2015051510A (en) * 2013-09-05 2015-03-19 ツキオカフィルム製薬株式会社 Small-piece thin film manufacturing method and small-piece thin film dispersion liquid
WO2019189246A1 (en) * 2018-03-30 2019-10-03 日本ゼオン株式会社 Method for manufacturing resin thin film stripped pieces

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013103322A (en) * 2011-11-16 2013-05-30 Nitto Denko Corp Continuous manufacturing system of liquid crystal display element, and continuous manufacturing method of liquid crystal display element
JP2015051510A (en) * 2013-09-05 2015-03-19 ツキオカフィルム製薬株式会社 Small-piece thin film manufacturing method and small-piece thin film dispersion liquid
WO2019189246A1 (en) * 2018-03-30 2019-10-03 日本ゼオン株式会社 Method for manufacturing resin thin film stripped pieces

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023037764A1 (en) * 2021-09-07 2023-03-16 日本ゼオン株式会社 Roll and method for manufacturing powder
WO2024111499A1 (en) * 2022-11-24 2024-05-30 日本ゼオン株式会社 Method for producing thin film stripped pieces

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