JP2021120160A - Laser machining device and laser machining method - Google Patents

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Abstract

To provide a laser processing device capable of suppressing influences of working slug on machining quality.SOLUTION: A laser processing device includes: a laser oscillation unit 12 emitting laser beam P for machining a plurality of objects on a machining surface 8 of an object 7 to be machined; a galvano-scanner 18 which irradiates laser beam P to the machining surface 8 and scans it; and a CPU (Central Processing Unit). The CPU sets a machining area on the machining surface 8 with respect to respective objects included in the plurality of objects, identifies a position in the gravity direction DG of the machining area with respect to the respective objects, sets a machining order of each object in a first order in which positions in the gravity direction DG of the machining area are arranged in an ascending order, controls the laser oscillation unit 12 and the galvano-scanner 18, and performs marking (printing) machining of the plurality of objects on the machining surface 8 in the machining order set in second setting machining.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、レーザ光で複数のオブジェクトを加工対象物の加工面に加工するレーザ加工装置及びレーザ加工方法に関するものである。 The present disclosure relates to a laser processing apparatus and a laser processing method for processing a plurality of objects on a processed surface of an object to be processed by laser light.

従来より、例えば、下記特許文献1に記載の技術のように、作業領域内に配置された加工対象物の加工対象面に対して、レーザ光を照射して、所望の加工パターンに加工可能なレーザ加工装置が知られている。 Conventionally, for example, as in the technique described in Patent Document 1 below, it is possible to process a desired processing pattern by irradiating a processing target surface of a processing object arranged in a work area with a laser beam. Laser processing equipment is known.

特開2008−6468号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-6468

上記のレーザ加工装置において、実際に加工が行われ、加工対象面上におけるレーザ光の照射箇所から加工カスが発生すると、その加工カスによって、別の箇所へのレーザ光の照射が妨げられる虞があった。 In the above laser processing apparatus, when processing is actually performed and processing residue is generated from a laser beam irradiation portion on the surface to be processed, the processing residue may prevent irradiation of another portion with laser light. there were.

そこで、本開示は、上述した点を鑑みてなされたものであり、加工品質に対する加工カスの影響を抑制することが可能なレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供する。 Therefore, the present disclosure has been made in view of the above-mentioned points, and provides a laser processing apparatus and a laser processing method capable of suppressing the influence of processing residue on processing quality.

本明細書は、加工対象物の加工面に複数のオブジェクトを加工するためのレーザ光を出射するレーザ光出射ユニットと、レーザ光を加工面に向けて照射し、走査する走査ユニットと、制御ユニットと、を備え、制御ユニットは、複数のオブジェクトに含まれている各々のオブジェクトに対して加工面上での加工領域を設定する第1設定処理と、各々のオブジェクトに対して加工領域の重力方向の位置を特定する第1特定処理と、加工領域の重力方向の位置が下から上の順である第1順序で各々のオブジェクトの加工順序を設定する第2設定処理と、レーザ光出射ユニット及び走査ユニットを制御して、第2設定処理で設定される加工順序で複数のオブジェクトを加工面に加工する加工処理と、を実行することを特徴とするレーザ加工装置を開示する。 In the present specification, a laser light emitting unit that emits a laser beam for processing a plurality of objects on a machined surface of a machined object, a scanning unit that irradiates and scans the laser light toward the machined surface, and a control unit. The control unit is provided with a first setting process for setting a machining area on a machining surface for each object included in a plurality of objects, and a gravity direction of the machining area for each object. The first specifying process for specifying the position of the object, the second setting process for setting the processing order of each object in the first order in which the position of the processing area in the gravity direction is from bottom to top, and the laser light emitting unit and Disclosed is a laser processing apparatus characterized by controlling a scanning unit to perform a processing process of processing a plurality of objects on a processed surface in a processing order set in the second setting process.

また、本明細書は、レーザ光出射ユニットから出射するレーザ光を走査ユニットで加工対象物の加工面に向けて照射し、走査することによって、複数のオブジェクトを加工面に加工するレーザ加工方法であって、複数のオブジェクトに含まれる各々のオブジェクトに対して加工面上での加工領域を設定する設定工程と、各々のオブジェクトに対して加工領域の重力方向の位置を特定する特定工程と、加工領域の重力方向の位置が下から上の順で各々のオブジェクトを加工する加工工程と、を備えることを特徴とする。 Further, the present specification is a laser processing method in which a plurality of objects are processed into a processed surface by irradiating a laser beam emitted from a laser light emitting unit toward a processed surface of a processing object by the scanning unit and scanning the object. Therefore, there is a setting process for setting a processing area on the processing surface for each object included in a plurality of objects, a specific process for specifying the position of the processing area in the gravity direction for each object, and processing. It is characterized by including a processing step of processing each object in the order of the position of the region in the direction of gravity from the bottom to the top.

本開示によれば、レーザ加工装置及びレーザ加工方法は、加工品質に対する加工カスの影響を抑制することが可能である。 According to the present disclosure, the laser processing apparatus and the laser processing method can suppress the influence of the processing residue on the processing quality.

本実施形態のレーザ加工装置の概略構成が表された図である。It is a figure which showed the schematic structure of the laser processing apparatus of this embodiment. 同レーザ加工装置の電気的構成が表されたブロック図である。It is a block diagram which showed the electrical structure of the laser processing apparatus. 同レーザ加工装置の概略構成が表された図である。It is a figure which showed the schematic structure of the laser processing apparatus. fθレンズと加工対象物の加工面との間が表された図である。It is the figure which showed the space between the fθ lens and the machined surface of a work object. 同レーザ加工装置が実行する各処理が表されたフローチャートである。It is a flowchart showing each process executed by the laser processing apparatus. 走査順の設定処理が表されたフローチャートである。It is a flowchart which showed the setting process of a scanning order. 第2設定処理が表されたフローチャートである。It is a flowchart which represented the 2nd setting process. 設定画面が表された図である。It is the figure which showed the setting screen. 加工対象物の材料を選択するためのリストボックスが表された図である。It is a figure which represented the list box for selecting the material of the processing object. オブジェクトの加工領域を示す座標の算出点が表された図である。It is a figure which showed the calculation point of the coordinate which shows the processing area of an object. オブジェクトの加工領域が設定されている傾斜状の加工対象物の加工面が表された斜視図である。It is a perspective view which showed the machined surface of the slanted machined object which set the machined area of an object. オブジェクトの加工領域が設定されている段差状の加工対象物の加工面が表された斜視図である。It is a perspective view which showed the machined surface of the step-like machined object which set the machined area of an object. レーザ光の第1走査順又は第2走査順が表された図である。It is a figure which showed the 1st scan order or 2nd scan order of a laser beam. 同レーザ加工装置のデータテーブルが表された図である。It is the figure which showed the data table of the laser processing apparatus. オブジェクトの加工領域が設定されている台形状の加工対象物の加工面が表された斜視図である。It is a perspective view which showed the processing surface of the trapezoidal processing object in which the processing area of an object is set. 図15の加工対象物の加工面が表された平面図である。It is a top view which shows the processing surface of the processing object of FIG. 同レーザ加工装置の変更例が表された図である。It is the figure which showed the modification example of the laser processing apparatus.

以下、本開示のレーザ加工装置について、具体化した実施形態に基づき、図面を参照しつつ説明する。以下の説明に用いる図1乃至図3、及び図17では、基本的構成の一部が省略されて描かれており、描かれた各部の寸法比等は必ずしも正確ではない。尚、以下の説明において、上下方向は、図1、図3、図4、図11、図12、図15、及び図17に示された通りであり、重力方向DGに平行である。XY座標系の各軸の方向は、図10及び図16に示された通りである。XYZ座標系の各軸の方向は、図11、図12、及び図15に示された通りである。つまり、XYZ座標系のZ軸の方向は、重力方向DG(上下方向)に平行である。 Hereinafter, the laser processing apparatus of the present disclosure will be described with reference to the drawings based on the embodied embodiment. In FIGS. 1 to 3 and 17 used in the following description, a part of the basic configuration is omitted, and the dimensional ratios of the drawn parts are not always accurate. In the following description, the vertical direction is as shown in FIGS. 1, 3, 4, 11, 12, 15, and 17, and is parallel to the gravity direction DG. The directions of the axes of the XY coordinate system are as shown in FIGS. 10 and 16. The directions of each axis of the XYZ coordinate system are as shown in FIGS. 11, 12, and 15. That is, the direction of the Z axis of the XYZ coordinate system is parallel to the gravitational direction DG (vertical direction).

先ず、図1及び図2に基づいて、本実施形態のレーザ加工装置1の概略構成について説明する。本実施形態のレーザ加工装置1は、印字情報作成部2及びレーザ加工部3で構成されている。印字情報作成部2は、パーソナルコンピュータ等で構成されている。 First, a schematic configuration of the laser processing apparatus 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The laser processing apparatus 1 of the present embodiment includes a print information creating unit 2 and a laser processing unit 3. The print information creation unit 2 is composed of a personal computer or the like.

レーザ加工部3は、レーザ光Pを加工対象物7の加工面8上で2次元走査してマーキング(印字)加工を行うものである。レーザ加工部3は、レーザコントローラ6を備えている。 The laser processing unit 3 performs marking (printing) processing by two-dimensionally scanning the laser beam P on the processing surface 8 of the processing object 7. The laser processing unit 3 includes a laser controller 6.

レーザコントローラ6は、コンピュータで構成され、印字情報作成部2と双方向通信可能に接続されている。レーザコントローラ6は、印字情報作成部2から送信された印字情報、制御パラメータ、各種指示情報等に基づいてレーザ加工部3を駆動制御する。 The laser controller 6 is composed of a computer and is connected to the print information creation unit 2 so as to be capable of bidirectional communication. The laser controller 6 drives and controls the laser processing unit 3 based on the print information, control parameters, various instruction information, and the like transmitted from the print information creation unit 2.

レーザ加工部3の概略構成について説明する。レーザ加工部3は、レーザ発振ユニット12、ガイド光部15、第1ダイクロイックミラー101、光学系70、TOF(Time of Flight)センサ103、第2ダイクロイックミラー105、ガルバノスキャナ18、及びfθレンズ19等を備えており、不図示の略直方体形状の筐体カバーで覆われている。 The schematic configuration of the laser processing unit 3 will be described. The laser processing unit 3 includes a laser oscillation unit 12, a guide light unit 15, a first dichroic mirror 101, an optical system 70, a TOF (Time of Flight) sensor 103, a second dichroic mirror 105, a galvano scanner 18, an fθ lens 19, and the like. It is covered with a housing cover having a substantially rectangular shape (not shown).

レーザ発振ユニット12は、レーザ発振器21等で構成されている。レーザ発振器21は、CO2レーザ、YAGレーザ等で構成されており、レーザ光Pを出射する。尚、レーザ光Pの光径は、不図示のビームエキスパンダで調整(例えば、拡大)される。 The laser oscillation unit 12 is composed of a laser oscillator 21 and the like. The laser oscillator 21 is composed of a CO2 laser, a YAG laser, and the like, and emits a laser beam P. The light diameter of the laser beam P is adjusted (for example, enlarged) by a beam expander (not shown).

ガイド光部15は、可視半導体レーザ28等で構成されている。可視半導体レーザ28は、可視可干渉光である可視レーザ光Q、例えば、赤色レーザ光を出射する。尚、可視レーザ光Qは、不図示のレンズ群で平行光にされ、例えば、レーザ光Pでマーキング(印字)加工すべき印字パターンのオブジェクト又はそのオブジェクトを取り囲んだ矩形のオブジェクトを加工対象物7の加工面8に対して投影するものである。尚、本実施形態において、印字パータンとは、オブジェクトの加工領域、又は単に加工領域を意味する。 The guide light unit 15 is composed of a visible semiconductor laser 28 or the like. The visible semiconductor laser 28 emits visible laser light Q, which is visible interference light, for example, red laser light. The visible laser light Q is made into parallel light by a lens group (not shown), and for example, an object of a print pattern to be marked (printed) by the laser light P or a rectangular object surrounding the object is processed as an object 7. It is projected onto the machined surface 8 of the above. In the present embodiment, the print pattern means a processing area of an object, or simply a processing area.

可視レーザ光Qの波長は、レーザ光Pの波長とは異なる。本実施形態では、例えば、レーザ光Pの波長は1064nmであり、可視レーザ光Qの波長は、650nmである。 The wavelength of the visible laser beam Q is different from the wavelength of the laser beam P. In the present embodiment, for example, the wavelength of the laser beam P is 1064 nm, and the wavelength of the visible laser beam Q is 650 nm.

第1ダイクロイックミラー101では、入射されたレーザ光Pのほぼ全部が透過する。また、第1ダイクロイックミラー101では、レーザ光Pが透過する略中央位置にて、可視レーザ光Qが45度の入射角で入射され、45度の反射角でレーザ光Pの光路上に反射される。第1ダイクロイックミラー101の反射率は、波長依存性を持っている。具体的には、第1ダイクロイックミラー101は、誘電体層と金属層との多層膜構造の表面処理がなされており、可視レーザ光Qの波長に対して高い反射率を有し、それ以外の波長の光をほとんど(99%)透過するように構成されている。 In the first dichroic mirror 101, almost all of the incident laser beam P is transmitted. Further, in the first dichroic mirror 101, the visible laser light Q is incident at an incident angle of 45 degrees at a substantially central position through which the laser light P is transmitted, and is reflected on the optical path of the laser light P at a reflection angle of 45 degrees. NS. The reflectance of the first dichroic mirror 101 has wavelength dependence. Specifically, the first dichroic mirror 101 is surface-treated with a multilayer structure of a dielectric layer and a metal layer, has a high reflectance with respect to the wavelength of visible laser light Q, and other than that. It is configured to transmit most (99%) of the wavelength of light.

尚、図1の一点鎖線は、レーザ光Pと可視レーザ光Qの光軸10を示している。また、光軸10の方向は、レーザ光Pと可視レーザ光Qの経路方向を示している。 The alternate long and short dash line in FIG. 1 indicates the optical axis 10 of the laser beam P and the visible laser beam Q. The direction of the optical axis 10 indicates the path directions of the laser beam P and the visible laser beam Q.

光学系70は、第1レンズ72、第2レンズ74、及び移動機構76を備えている。光学系70では、第1ダイクロイックミラー101を経たレーザ光Pと可視レーザ光Qが、第1レンズ72に入射し通過する。その際、第1レンズ72によって、レーザ光Pと可視レーザ光Qの各光径が縮小される。また、第1レンズ72を通過したレーザ光Pと可視レーザ光Qは、第2レンズ74に入射し通過する。その際、第2レンズ74によって、レーザ光Pと可視レーザ光Qが平行光にされる。移動機構76は、光学系モータ80と、光学系モータ80の回転運動を直線運動に変換するラック・アンド・ピニオン(不図示)等を備えており、光学系モータ80の回転制御によって、第2レンズ74をレーザ光Pと可視レーザ光Qの経路方向に移動させる。 The optical system 70 includes a first lens 72, a second lens 74, and a moving mechanism 76. In the optical system 70, the laser beam P and the visible laser beam Q that have passed through the first dichroic mirror 101 enter the first lens 72 and pass therethrough. At that time, the first lens 72 reduces the respective light diameters of the laser beam P and the visible laser beam Q. Further, the laser beam P and the visible laser beam Q that have passed through the first lens 72 enter the second lens 74 and pass therethrough. At that time, the second lens 74 makes the laser beam P and the visible laser beam Q parallel. The moving mechanism 76 includes an optical system motor 80, a rack and pinion (not shown) that converts the rotational motion of the optical system motor 80 into linear motion, and the like, and is second by controlling the rotation of the optical system motor 80. The lens 74 is moved in the path direction of the laser light P and the visible laser light Q.

尚、移動機構76は、第2レンズ74に代えて第1レンズ72を移動させる構成であってもよいし、第1レンズ72と第2レンズ74との間の距離が変わるように第1レンズ72と第2レンズ74の双方を移動させる構成であってもよい。 The moving mechanism 76 may be configured to move the first lens 72 instead of the second lens 74, or the first lens so that the distance between the first lens 72 and the second lens 74 changes. Both the 72 and the second lens 74 may be moved.

TOFセンサ103は、出射した測距用レーザ光が戻ってくるまでの時間を計測し、その計測時間を距離に換算するTOF方式のセンサである。第2ダイクロイックミラー105では、入射されたレーザ光P及び可視レーザ光Qのほぼ全部が透過する。尚、TOFセンサ103及び第2ダイクロイックミラー105の詳細な説明については、後述する。 The TOF sensor 103 is a TOF type sensor that measures the time until the emitted ranging laser beam returns and converts the measured time into a distance. In the second dichroic mirror 105, almost all of the incident laser beam P and visible laser beam Q are transmitted. A detailed description of the TOF sensor 103 and the second dichroic mirror 105 will be described later.

ガルバノスキャナ18は、第2ダイクロイックミラー105を経たレーザ光Pと可視レーザ光Qとを2次元走査するものであって、加工対象物7に対して重力方向DGの上方側に配置されている。ガルバノスキャナ18では、ガルバノX軸モータ31とガルバノY軸モータ32とが、それぞれのモータ軸が互いに直交するように取り付けられ、各モータ軸の先端部に取り付けられた走査ミラー18X、18Yが内側で互いに対向している。そして、各モータ31、32の回転制御で、各走査ミラー18X、18Yを回転させることによって、レーザ光Pと可視レーザ光Qとを、2次元走査する。その際、レーザ光Pと可視レーザ光Qは、走査ミラー18Xと走査ミラー18Yにおいて、その記載順で反射し、重力方向DGの上方側から下方側へ向けて照射される。この2次元走査方向は、重力方向DGに垂直なXY座標系を定めるX軸の方向とY軸の方向である。 The galvano scanner 18 two-dimensionally scans the laser beam P and the visible laser beam Q that have passed through the second dichroic mirror 105, and is arranged above the DG in the gravity direction with respect to the object 7 to be processed. In the galvano scanner 18, the galvano X-axis motor 31 and the galvano Y-axis motor 32 are attached so that their respective motor axes are orthogonal to each other, and the scanning mirrors 18X and 18Y attached to the tips of the respective motor axes are inside. They are facing each other. Then, the laser light P and the visible laser light Q are two-dimensionally scanned by rotating the scanning mirrors 18X and 18Y under the rotation control of the motors 31 and 32. At that time, the laser beam P and the visible laser beam Q are reflected by the scanning mirror 18X and the scanning mirror 18Y in the order of description, and are irradiated from the upper side to the lower side in the gravitational direction DG. This two-dimensional scanning direction is the direction of the X-axis and the direction of the Y-axis that define the XY coordinate system perpendicular to the gravitational direction DG.

fθレンズ19は、その主軸が重力方向DGに平行となるように設置されることによって、ガルバノスキャナ18によって2次元走査されたレーザ光Pと可視レーザ光Qとを加工対象物7の加工面8上に集光するものである。従って、レーザ光Pと可視レーザ光Qは、各モータ31、32の回転制御によって、加工対象物7の加工面8上でX軸の方向とY軸の方向に2次元走査される。 The fθ lens 19 is installed so that its main axis is parallel to the DG in the direction of gravity, so that the laser beam P and the visible laser beam Q two-dimensionally scanned by the galvano scanner 18 are combined with the processed surface 8 of the object 7 to be processed. It focuses on the top. Therefore, the laser beam P and the visible laser beam Q are two-dimensionally scanned in the X-axis direction and the Y-axis direction on the machining surface 8 of the machining object 7 by the rotation control of the motors 31 and 32, respectively.

次に、レーザ加工装置1を構成する印字情報作成部2とレーザ加工部3の回路構成について図2に基づいて説明する。先ず、レーザ加工部3の回路構成について説明する。 Next, the circuit configurations of the print information creating unit 2 and the laser processing unit 3 constituting the laser processing apparatus 1 will be described with reference to FIG. First, the circuit configuration of the laser processing unit 3 will be described.

図2に表されたように、レーザ加工部3は、レーザコントローラ6、ガルバノコントローラ35、ガルバノドライバ36、レーザドライバ37、半導体レーザドライバ38、光学系ドライバ78、及びTOFセンサ103等から構成されている。レーザコントローラ6は、レーザ加工部3の全体を制御する。レーザコントローラ6には、ガルバノコントローラ35、レーザドライバ37、半導体レーザドライバ38、光学系ドライバ78、及びTOFセンサ103等が電気的に接続されている。また、レーザコントローラ6には、外部の印字情報作成部2が双方向通信可能に接続されており、印字情報作成部2から送信された各情報(例えば、印字情報、レーザ加工部3に対する制御パラメータ、ユーザからの各種指示情報等)を受信可能に構成されている。 As shown in FIG. 2, the laser processing unit 3 is composed of a laser controller 6, a galvano controller 35, a galvano driver 36, a laser driver 37, a semiconductor laser driver 38, an optical system driver 78, a TOF sensor 103, and the like. There is. The laser controller 6 controls the entire laser processing unit 3. A galvano controller 35, a laser driver 37, a semiconductor laser driver 38, an optical system driver 78, a TOF sensor 103, and the like are electrically connected to the laser controller 6. Further, an external print information creation unit 2 is connected to the laser controller 6 so as to be capable of bidirectional communication, and each information transmitted from the print information creation unit 2 (for example, print information and control parameters for the laser processing unit 3). , Various instruction information from the user, etc.) can be received.

レーザコントローラ6は、CPU41、RAM42、及びROM43等を備えている。CPU41は、レーザ加工部3の全体の制御を行う演算装置及び制御装置である。CPU41、RAM42、及びROM43は、不図示のバス線により相互に接続されて、相互にデータのやり取りが行われる。 The laser controller 6 includes a CPU 41, a RAM 42, a ROM 43, and the like. The CPU 41 is an arithmetic unit and a control device that controls the entire laser processing unit 3. The CPU 41, the RAM 42, and the ROM 43 are connected to each other by a bus line (not shown), and data is exchanged with each other.

RAM42は、CPU41により演算された各種の演算結果や印字パターン(を設定するためのXY座標)のデータ等を一時的に記憶させておくためのものである。 The RAM 42 is for temporarily storing various calculation results calculated by the CPU 41, data of print patterns (XY coordinates for setting), and the like.

ROM43は、各種のプログラムを記憶させておくものであり、例えば、印字情報作成部2から送信された印字情報に基づいて印字パターンのXY座標を算出してRAM42に記憶するプログラムが記憶されている。尚、XY座標は、上述したXY座標系で表現される。また、各種プログラムには、上述したプログラムに加えて、例えば、印字情報作成部2から入力された印字情報に対応する印字パターンの太さ、深さ及び本数、レーザ発振器21のレーザ出力、レーザ光Pのレーザパルス幅、ガルバノスキャナ18によるレーザ光Pを走査する速度等を示す各種制御パラメータをRAM42に記憶するプログラム等がある。更に、ROM43には、フォントの種類別に、直線と楕円弧とで構成された各文字のフォントの始点、終点、焦点、曲率等のデータが記憶されている。 The ROM 43 stores various programs. For example, a program that calculates the XY coordinates of a print pattern based on the print information transmitted from the print information creation unit 2 and stores it in the RAM 42 is stored. .. The XY coordinates are represented by the above-mentioned XY coordinate system. In addition to the above-mentioned programs, various programs include, for example, the thickness, depth and number of print patterns corresponding to the print information input from the print information creation unit 2, the laser output of the laser oscillator 21, and the laser beam. There is a program that stores various control parameters indicating the laser pulse width of P, the speed at which the laser beam P is scanned by the galvano scanner 18, and the like in the RAM 42. Further, the ROM 43 stores data such as a start point, an end point, a focal point, and a curvature of the font of each character composed of a straight line and an elliptical arc for each type of font.

CPU41は、ROM43に記憶されている各種のプログラムに基づいて各種の演算及び制御を行う。 The CPU 41 performs various calculations and controls based on various programs stored in the ROM 43.

CPU41は、印字情報作成部2から入力された印字情報に基づいて算出した印字パターンのXY座標、及びガルバノスキャナ18によるレーザ光Pを走査する速度等を示すガルバノ走査速度情報等を、ガルバノコントローラ35に出力する。また、CPU41は、印字情報作成部2から入力された印字情報に基づいて設定したレーザ発振器21のレーザ出力、及びレーザ光Pのレーザパルス幅等を示すレーザ駆動情報を、レーザドライバ37に出力する。 The CPU 41 uses the galvano controller 35 to provide XY coordinates of the print pattern calculated based on the print information input from the print information creation unit 2, galvano scanning speed information indicating the speed at which the laser beam P is scanned by the galvano scanner 18, and the like. Output to. Further, the CPU 41 outputs to the laser driver 37 the laser output of the laser oscillator 21 set based on the print information input from the print information creation unit 2, and the laser drive information indicating the laser pulse width of the laser beam P and the like. ..

CPU41は、可視半導体レーザ28の点灯開始を指示するオン信号又は消灯を指示するオフ信号を半導体レーザドライバ38に出力する。 The CPU 41 outputs an on signal instructing the start of lighting of the visible semiconductor laser 28 or an off signal instructing the extinguishing of the visible semiconductor laser 28 to the semiconductor laser driver 38.

ガルバノコントローラ35は、レーザコントローラ6から入力された各情報(例えば、印字パターンのXY座標、ガルバノ走査速度情報等)に基づいて、ガルバノX軸モータ31とガルバノY軸モータ32の駆動角度、回転速度等を算出して、駆動角度及び回転速度を示すモータ駆動情報をガルバノドライバ36に出力する。ガルバノドライバ36は、ガルバノコントローラ35から入力されたモータ駆動情報に基づいて、ガルバノX軸モータ31とガルバノY軸モータ32を駆動制御して、レーザ光Pと可視レーザ光Qを2次元走査する。 The galvano controller 35 has a drive angle and a rotation speed of the galvano X-axis motor 31 and the galvano Y-axis motor 32 based on each information (for example, XY coordinates of the print pattern, galvano scanning speed information, etc.) input from the laser controller 6. Etc. are calculated, and the motor drive information indicating the drive angle and the rotation speed is output to the galvano driver 36. The galvano driver 36 drives and controls the galvano X-axis motor 31 and the galvano Y-axis motor 32 based on the motor drive information input from the galvano controller 35, and scans the laser beam P and the visible laser beam Q in two dimensions.

レーザドライバ37は、レーザコントローラ6から入力されたレーザ発振器21のレーザ出力、及びレーザ光Pのレーザパルス幅等を示すレーザ駆動情報等に基づいて、レーザ発振器21を駆動させる。半導体レーザドライバ38は、レーザコントローラ6から入力されたオン信号又はオフ信号に基づいて、可視半導体レーザ28を点灯駆動又は、消灯させる。 The laser driver 37 drives the laser oscillator 21 based on the laser output of the laser oscillator 21 input from the laser controller 6, the laser drive information indicating the laser pulse width of the laser beam P, and the like. The semiconductor laser driver 38 turns on or turns off the visible semiconductor laser 28 based on the on signal or off signal input from the laser controller 6.

光学系ドライバ78は、レーザコントローラ6から入力される、後述の第2レンズ位置情報に基づいて、光学系モータ80を駆動制御して、第2レンズ74を移動させる。 The optical system driver 78 drives and controls the optical system motor 80 based on the second lens position information described later, which is input from the laser controller 6, to move the second lens 74.

次に、印字情報作成部2の回路構成について説明する。印字情報作成部2は、制御部51、入力操作部55、液晶ディスプレイ(LCD)56、及びCD−ROMドライブ58等を備えている。制御部51には、不図示の入出力インターフェースを介して、入力操作部55、液晶ディスプレイ56、及びCD−ROMドライブ58等が接続されている。 Next, the circuit configuration of the print information creation unit 2 will be described. The print information creation unit 2 includes a control unit 51, an input operation unit 55, a liquid crystal display (LCD) 56, a CD-ROM drive 58, and the like. An input operation unit 55, a liquid crystal display 56, a CD-ROM drive 58, and the like are connected to the control unit 51 via an input / output interface (not shown).

入力操作部55は、不図示のマウス及びキーボード等から構成されており、例えば、各種指示情報をユーザが入力する際に使用される。 The input operation unit 55 is composed of a mouse, a keyboard, and the like (not shown), and is used, for example, when the user inputs various instruction information.

CD−ROMドライブ58は、各種データ、及び各種アプリケーションソフトウェア等をCD−ROM57から読み込むものである。 The CD-ROM drive 58 reads various data, various application software, and the like from the CD-ROM 57.

制御部51は、印字情報作成部2の全体を制御するものであって、CPU61、RAM62、ROM63、及びハードディスクドライブ(以下、「HDD」という。)66等を備えている。CPU61は、印字情報作成部2の全体の制御を行う演算装置及び制御装置である。CPU61、RAM62、及びROM63は、不図示のバス線により相互に接続されており、相互にデータのやり取りが行われる。更に、CPU61とHDD66とは、不図示の入出力インターフェースを介して接続されており、相互にデータのやり取りが行われる。 The control unit 51 controls the entire print information creation unit 2, and includes a CPU 61, a RAM 62, a ROM 63, a hard disk drive (hereinafter, referred to as “HDD”) 66, and the like. The CPU 61 is an arithmetic unit and a control device that controls the entire print information creation unit 2. The CPU 61, RAM 62, and ROM 63 are connected to each other by a bus line (not shown), and data is exchanged with each other. Further, the CPU 61 and the HDD 66 are connected via an input / output interface (not shown), and data is exchanged with each other.

RAM62は、CPU61により演算された各種の演算結果等を一時的に記憶させておくためのものである。ROM63は、各種のプログラムや、後述する図14に表されたデータテーブル150等を記憶させておくものである。 The RAM 62 is for temporarily storing various calculation results and the like calculated by the CPU 61. The ROM 63 stores various programs, a data table 150 and the like shown in FIG. 14 which will be described later.

HDD66には、各種アプリケーションソフトウェアのプログラム、及び各種データファイル等が記憶される。 Various application software programs, various data files, and the like are stored in the HDD 66.

次に、レーザ光Pの焦点位置及びその補正について説明する。 Next, the focal position of the laser beam P and its correction will be described.

図1に表されたように、レーザ光Pは、レーザ発振ユニット12から出射される。その出射されたレーザ光Pは、第1ダイクロイックミラー101を透過する。その透過したレーザ光Pは、光学系70内の第1レンズ72及び第2レンズ74を通過する。その通過したレーザ光Pは、第2ダイクロイックミラー105を透過する。その透過したレーザ光Pは、ガルバノスキャナ18の走査ミラー18X、18Yで2次元走査される。その2次元走査されたレーザ光Pは、fθレンズ19に入射する。その入射したレーザ光Pは、fθレンズ19で集光され、fθレンズ19から出射する。その出射されたレーザ光Pは、加工対象物7の加工面8を照射する。 As shown in FIG. 1, the laser beam P is emitted from the laser oscillation unit 12. The emitted laser beam P passes through the first dichroic mirror 101. The transmitted laser beam P passes through the first lens 72 and the second lens 74 in the optical system 70. The passed laser beam P passes through the second dichroic mirror 105. The transmitted laser beam P is two-dimensionally scanned by the scanning mirrors 18X and 18Y of the galvano scanner 18. The two-dimensionally scanned laser beam P is incident on the fθ lens 19. The incident laser beam P is focused by the fθ lens 19 and emitted from the fθ lens 19. The emitted laser beam P irradiates the processed surface 8 of the processed object 7.

以下、加工対象物7の加工面8上においてレーザ光Pが照射されるべき位置を、「照射予定点」と表記する。 Hereinafter, the position where the laser beam P should be irradiated on the machined surface 8 of the object 7 to be machined is referred to as a “scheduled irradiation point”.

加工対象物7の加工面8が重力方向DGに垂直な(つまり、水平方向に平行な)平面であれば、レーザ光Pは、加工対象物7の加工面8上のどの位置にガルバノスキャナ18で2次元走査されても、fθレンズ19によって、加工対象物7の加工面8上に集光される。しかしながら、図1に表されたように、加工対象物7の加工面8が平面であっても水平方向に対して傾いていると、fθレンズ19の位置に関連した基準位置から照射予定点までの距離が、加工対象物7の加工面8上の位置によって異なる。そのため、加工対象物7の加工面8上の位置によっては、その位置から上下方向へずれた位置でレーザ光Pが集光される。そこで、本実施形態のレーザ加工装置1は、レーザ光Pの焦点位置を、光学系70で上下方向へ移動させることによって、加工対象物7の加工面8上にあるように補正する。この点は、加工対象物7の加工面8が段差状であっても(例えば、後述する図12参照)、同様である。 If the machined surface 8 of the machined object 7 is a plane perpendicular to the gravity direction DG (that is, parallel to the horizontal direction), the laser beam P is directed to the galvano scanner 18 at any position on the machined surface 8 of the machined object 7. Even if it is two-dimensionally scanned by the fθ lens 19, it is focused on the machined surface 8 of the object 7 to be machined. However, as shown in FIG. 1, if the machined surface 8 of the object to be machined 7 is tilted with respect to the horizontal direction even if it is flat, the reference position related to the position of the fθ lens 19 to the planned irradiation point. Depends on the position of the object to be machined 7 on the machined surface 8. Therefore, depending on the position of the object to be processed 7 on the processing surface 8, the laser beam P is focused at a position deviated from that position in the vertical direction. Therefore, the laser processing apparatus 1 of the present embodiment corrects the focal position of the laser beam P so that it is on the processing surface 8 of the processing object 7 by moving it in the vertical direction by the optical system 70. This point is the same even if the processed surface 8 of the object to be processed 7 has a stepped shape (see, for example, FIG. 12 described later).

図1では、レーザ光Pがfθレンズ19に対して垂直に入射する場合(以下、「垂直入射の場合」という。)には、光学系70において、第1レンズ72から第2レンズ74までの距離が第2距離A2に調整される。これにより、レーザ光Pの第2焦点位置F2が、加工対象物7の加工面8上に置かれる。 In FIG. 1, when the laser beam P is vertically incident on the fθ lens 19 (hereinafter, referred to as “vertically incident”), the first lens 72 to the second lens 74 in the optical system 70. The distance is adjusted to the second distance A2. As a result, the second focal position F2 of the laser beam P is placed on the machined surface 8 of the machined object 7.

一方、fθレンズ19の位置に関連した基準位置から照射予定点までの距離が垂直入射の場合と比べて長いときは、光学系70において、第1レンズ72から第2レンズ74までの距離が、第2距離A2よりも長くなるように調整される。これにより、レーザ光Pの焦点位置が、下方向へ移動して、加工対象物7の加工面8上に置かれるように補正される。図1では、光学系70において、第1レンズ72から第2レンズ74までの距離が、第2距離A2から、その第2距離A2よりも長い第1距離A1に調整される。これにより、レーザ光Pの焦点位置が、第2焦点位置F2から、その第2焦点位置F2よりも下方向にある第1焦点位置F1に移動して、加工対象物7の加工面8上に置かれるように補正される。 On the other hand, when the distance from the reference position related to the position of the fθ lens 19 to the scheduled irradiation point is longer than that in the case of vertical incident, the distance from the first lens 72 to the second lens 74 in the optical system 70 is increased. It is adjusted to be longer than the second distance A2. As a result, the focal position of the laser beam P is corrected so that it moves downward and is placed on the machined surface 8 of the machined object 7. In FIG. 1, in the optical system 70, the distance from the first lens 72 to the second lens 74 is adjusted from the second distance A2 to the first distance A1 which is longer than the second distance A2. As a result, the focal position of the laser beam P moves from the second focal position F2 to the first focal position F1 below the second focal position F2, and is placed on the processed surface 8 of the workpiece 7. Corrected to be placed.

これに対して、fθレンズ19の位置に関連した基準位置から照射予定点までの距離が垂直入射の場合と比べて短いときは、光学系70において、第1レンズ72から第2レンズ74までの距離が、第2距離A2よりも短くなるように調整される。これにより、レーザ光Pの焦点位置が、上方向へ移動して、加工対象物7の加工面8上に置かれるように補正される。図1では、光学系70において、第1レンズ72から第2レンズ74までの距離が、第2距離A2から、その第2距離A2よりも短い第3距離A3に調整される。これにより、レーザ光Pの焦点位置が、第2焦点位置F2から、その第2焦点位置F2よりも上方向にある第3焦点位置F3に移動して、加工対象物7の加工面8上に置かれるように補正される。 On the other hand, when the distance from the reference position related to the position of the fθ lens 19 to the planned irradiation point is shorter than that in the case of vertical incident, in the optical system 70, the first lens 72 to the second lens 74 The distance is adjusted to be shorter than the second distance A2. As a result, the focal position of the laser beam P is corrected so that it moves upward and is placed on the machined surface 8 of the machined object 7. In FIG. 1, in the optical system 70, the distance from the first lens 72 to the second lens 74 is adjusted from the second distance A2 to the third distance A3, which is shorter than the second distance A2. As a result, the focal position of the laser beam P moves from the second focal position F2 to the third focal position F3, which is upward from the second focal position F2, and is placed on the machined surface 8 of the machining object 7. Corrected to be placed.

以下、第1焦点位置F1、第2焦点位置F2、及び第3焦点位置F3を区別せず、レーザ光Pの焦点位置を総称して説明する場合には、「焦点位置F」と表記する。 Hereinafter, when the first focal position F1, the second focal position F2, and the third focal position F3 are not distinguished and the focal positions of the laser beam P are generically described, they are referred to as "focal position F".

更に、本実施形態のレーザ加工装置1は、そのような補正を行うために、TOFセンサ103と照射予定点との間の距離を、TOFセンサ103で測定する。 Further, the laser processing apparatus 1 of the present embodiment measures the distance between the TOF sensor 103 and the planned irradiation point with the TOF sensor 103 in order to perform such correction.

図3に表されたように、TOFセンサ103では、測距用レーザ光Rが第2ダイクロイックミラー105へ向けて出射される。第2ダイクロイックミラー105では、測距用レーザ光Rが45度の入射角で入射され、45度の反射角でレーザ光Pの光路上に反射される。その際、測距用レーザ光Rの光軸は、レーザ光Pの光軸10と一致するが、平行であってもよい。第2ダイクロイックミラー105の反射率は、第1ダイクロイックミラー101と同様にして、波長依存性を持っている。具体的には、第2ダイクロイックミラー105は、誘電体層と金属層との多層膜構造の表面処理がなされており、測距用レーザ光Rの波長に対して高い反射率を有し、それ以外の波長の光をほとんど(99%)透過するように構成されている。 As shown in FIG. 3, in the TOF sensor 103, the distance measuring laser beam R is emitted toward the second dichroic mirror 105. In the second dichroic mirror 105, the distance measuring laser beam R is incident at an incident angle of 45 degrees and reflected on the optical path of the laser beam P at a reflection angle of 45 degrees. At that time, the optical axis of the distance measuring laser beam R coincides with the optical axis 10 of the laser beam P, but may be parallel to each other. The reflectance of the second dichroic mirror 105 has a wavelength dependence similar to that of the first dichroic mirror 101. Specifically, the second dichroic mirror 105 is surface-treated with a multilayer structure of a dielectric layer and a metal layer, and has a high reflectance with respect to the wavelength of the ranging laser beam R. It is configured to transmit most (99%) of light of wavelengths other than.

第2ダイクロイックミラー105で反射された測距用レーザ光Rは、ガルバノスキャナ18の走査ミラー18X、18Yに入射される。その入射された測距用レーザ光Rは、ガルバノスキャナ18の走査ミラー18X、18Yで反射され、fθレンズ19に入射する。その入射した測距用レーザ光Rは、fθレンズ19で集光され、fθレンズ19から出射する。その出射された測距用レーザ光Rは、加工対象物7の加工面8に入射する。その入射された測距用レーザ光Rは、加工対象物7の加工面8で反射し、上述した経路を反対方向へ辿って、TOFセンサ103で受光される。 The range-finding laser beam R reflected by the second dichroic mirror 105 is incident on the scanning mirrors 18X and 18Y of the galvano scanner 18. The incident distance-finding laser beam R is reflected by the scanning mirrors 18X and 18Y of the galvano scanner 18, and is incident on the fθ lens 19. The incident distance-finding laser beam R is focused by the fθ lens 19 and emitted from the fθ lens 19. The emitted distance-finding laser beam R is incident on the machined surface 8 of the machined object 7. The incident distance-finding laser beam R is reflected by the processed surface 8 of the object to be processed 7, follows the above-mentioned path in the opposite direction, and is received by the TOF sensor 103.

以下、加工対象物7の加工面8上において測距用レーザ光Rが反射した位置を、「反射点」と表記する。 Hereinafter, the position where the distance measuring laser beam R is reflected on the processed surface 8 of the object to be processed 7 is referred to as a “reflection point”.

TOFセンサ103では、測距用レーザ光Rが出射されてから受光されるまでの時間が計測され、その計測時間が距離に換算される。その換算距離は、TOFセンサ103と反射点との間を往復する距離である。従って、その換算距離が半分にされることによって、TOFセンサ103と反射点との間の距離が、TOFセンサ103によって測定される。更に、TOFセンサ103から測距用レーザ光Rを出射させる際に、その反射点をガルバノスキャナ18の2次元走査で照射予定点に一致させれば、TOFセンサ103と照射予定点との間の距離が、TOFセンサ103によって測定される。 The TOF sensor 103 measures the time from when the distance measuring laser beam R is emitted until when it is received, and the measured time is converted into a distance. The converted distance is a reciprocating distance between the TOF sensor 103 and the reflection point. Therefore, the distance between the TOF sensor 103 and the reflection point is measured by the TOF sensor 103 by halving the converted distance. Further, when the distance measuring laser beam R is emitted from the TOF sensor 103, if the reflection point is matched with the planned irradiation point by the two-dimensional scanning of the galvano scanner 18, the distance between the TOF sensor 103 and the planned irradiation point is reached. The distance is measured by the TOF sensor 103.

図3では、図1の各焦点位置F1,F2,F3に対応する反射点(照射予定点)を、第1測定点MP1、第2測定点MP2、及び第3測定点MP3で表している。 In FIG. 3, the reflection points (scheduled irradiation points) corresponding to the respective focal positions F1, F2, and F3 in FIG. 1 are represented by the first measurement point MP1, the second measurement point MP2, and the third measurement point MP3.

以下、第1測定点MP1、第2測定点MP2、及び第3測定点MP3を区別しない場合、又はTOFセンサ103によって距離が測定される位置を総称して説明する場合には、「測定点MP」と表記する。 Hereinafter, when the first measurement point MP1, the second measurement point MP2, and the third measurement point MP3 are not distinguished, or when the positions where the distance is measured by the TOF sensor 103 are collectively described, "measurement point MP" is used. Is written.

従って、図3において、TOFセンサ103によって測定される、TOFセンサ103と照射予定点との間の距離とは、TOFセンサ103と測定点MPとの間の距離を意味する。 Therefore, in FIG. 3, the distance between the TOF sensor 103 and the planned irradiation point measured by the TOF sensor 103 means the distance between the TOF sensor 103 and the measurement point MP.

更に、本実施形態のレーザ加工装置1では、TOFセンサ103と測定点MPとの間の距離から、fθレンズ19の位置に関連した基準位置と測定点MPとの間の距離が算出される。図4に表された具体例では、fθレンズ19の位置に関連した基準位置と測定点MPとの間の距離として、fθレンズ19の下面から測定点MPまでの距離(所謂ワーキングディスタンスであり、以下、「fθレンズ19から測定点MPまでの距離」という。)が示されている。尚、fθレンズ19の位置に関連した基準位置には、上記のfθレンズ19の下面の他に、例えば、fθレンズ19の上面、又はfθレンズ19の上下方向の中央等がある。 Further, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the distance between the reference position and the measurement point MP related to the position of the fθ lens 19 is calculated from the distance between the TOF sensor 103 and the measurement point MP. In the specific example shown in FIG. 4, the distance between the reference position related to the position of the fθ lens 19 and the measurement point MP is the distance from the lower surface of the fθ lens 19 to the measurement point MP (so-called working distance, which is a so-called working distance. Hereinafter, "distance from fθ lens 19 to measurement point MP") is shown. In addition to the lower surface of the fθ lens 19, the reference position related to the position of the fθ lens 19 includes, for example, the upper surface of the fθ lens 19 or the center of the fθ lens 19 in the vertical direction.

fθレンズ19から測定点MPまでの距離は、例えば、TOFセンサ103と測定点MPとの間の距離から、TOFセンサ103からfθレンズ19までの距離(設計上求められる既知の値)を差し引く、単純な計算によって算出される。このようにして、fθレンズ19から第1測定点MP1までの距離として、第1ワーキングディスタンスL1が算出される。fθレンズ19から第2測定点MP2までの距離として、第2ワーキングディスタンスL2が算出される。fθレンズ19から第3測定点MP3までの距離として、第3ワーキングディスタンスL3が算出される。尚、fθレンズ19から測定点MPまでの距離(つまり、各ワーキングディスタンスL1,L2,L3)は、三角関数等を使用する正確な計算によって算出されてもよい。 The distance from the fθ lens 19 to the measurement point MP is, for example, the distance between the TOF sensor 103 and the measurement point MP minus the distance from the TOF sensor 103 to the fθ lens 19 (a known value required by design). It is calculated by a simple calculation. In this way, the first working distance L1 is calculated as the distance from the fθ lens 19 to the first measurement point MP1. The second working distance L2 is calculated as the distance from the fθ lens 19 to the second measurement point MP2. The third working distance L3 is calculated as the distance from the fθ lens 19 to the third measurement point MP3. The distance from the fθ lens 19 to the measurement point MP (that is, each working distance L1, L2, L3) may be calculated by an accurate calculation using a trigonometric function or the like.

以上より、本実施形態のレーザ加工装置1において、レーザ光Pの焦点位置Fが、例えば、第1焦点位置F1、第2焦点位置F2、及び第3焦点位置F3に、それらの記載順で移動して補正されるようにするには、先ず、各測定点MP1,MP2,MP3が、加工対象物7の加工面8上に設定される。その設定は、マーキング(印字)加工すべき印字パターンに基づいて行われる。これにより、各測定点MP1,MP2,MP3が、加工対象物7の加工面8上の照射予定点と一致するように設定される。その後、各測定点MP1,MP2,MP3について、TOFセンサ103で測定された、TOFセンサ103と測定点MPとの間の距離に基づいて、各ワーキングディスタンスL1,L2,L3が算出される。 From the above, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the focal position F of the laser beam P moves to, for example, the first focal position F1, the second focal position F2, and the third focal position F3 in the order of description thereof. First, the measurement points MP1, MP2, and MP3 are set on the machined surface 8 of the machined object 7. The setting is made based on the print pattern to be marked (printed). As a result, each measurement point MP1, MP2, MP3 is set to coincide with the scheduled irradiation point on the processing surface 8 of the processing object 7. After that, for each measurement point MP1, MP2, MP3, each working distance L1, L2, L3 is calculated based on the distance between the TOF sensor 103 and the measurement point MP measured by the TOF sensor 103.

更に、レーザコントローラ6では、印字パターンのXY座標、各測定点MP1,MP2,MP3のXY座標、及び各ワーキングディスタンスL1,L2,L3等との関連性に基づいて、第2レンズ位置情報が作成される。第2レンズ位置情報とは、光学系70における第1レンズ72から第2レンズ74までの距離に関する制御パラメータであって、レーザ光Pの焦点を加工対象物7の加工面8上に置くための、光学系ドライバ78に対する指令値である。 Further, in the laser controller 6, the second lens position information is created based on the XY coordinates of the print pattern, the XY coordinates of each measurement point MP1, MP2, MP3, the working distances L1, L2, L3, and the like. Will be done. The second lens position information is a control parameter related to the distance from the first lens 72 to the second lens 74 in the optical system 70, and is for placing the focus of the laser beam P on the machined surface 8 of the machined object 7. , Is a command value for the optical system driver 78.

次に、マーキング(印字)加工すべきオブジェクトの印字パターンに基づいてレーザ光Pが加工対象物7の加工面8上で2次元走査される際に、第2レンズ位置情報に基づいて光学系モータ80が駆動制御されることによって、光学系70における第1レンズ72と第2レンズ74との間の距離が、第1距離A1、第2距離A2、及び第3距離A3に、それらの記載順で調整される。そのため、レーザ光Pの焦点位置Fが、第1焦点位置F1、第2焦点位置F2、及び第3焦点位置F3に、それらの記載順で移動する。これにより、レーザ光Pの焦点位置Fは、上方向へ順次移動して、加工対象物7の加工面8上にあるように補正される。 Next, when the laser beam P is two-dimensionally scanned on the machined surface 8 of the object 7 to be machined based on the print pattern of the object to be marked (printed), the optical system motor is based on the second lens position information. By driving and controlling the 80, the distances between the first lens 72 and the second lens 74 in the optical system 70 are in the order of description in the first distance A1, the second distance A2, and the third distance A3. It is adjusted with. Therefore, the focal position F of the laser beam P moves to the first focal position F1, the second focal position F2, and the third focal position F3 in the order described. As a result, the focal position F of the laser beam P is sequentially moved upward and corrected so as to be on the machined surface 8 of the machined object 7.

以下、マーキング(印字)加工中において、レーザ光Pの焦点位置Fが加工対象物7の加工面8上にあるように補正されることを、「レーザ光Pの焦点位置Fの補正」と表記する。また、fθレンズ19から測定点MPまでの距離を総称して説明する場合には、「ワーキングディスタンスL」と表記する。 Hereinafter, during the marking (printing) processing, the correction that the focal position F of the laser beam P is corrected so as to be on the machined surface 8 of the machining object 7 is referred to as "correction of the focal position F of the laser beam P". do. Further, when the distance from the fθ lens 19 to the measurement point MP is generically described, it is referred to as “working distance L”.

次に、本実施形態のレーザ加工装置1の制御フローについて説明する。図5乃至図7のフローチャートで表されたレーザ加工方法200のプログラムは、制御部51のROM63に記憶されており、レーザ光Pによるマーキング(印字)加工が行われる際に、制御部51のCPU61により実行される。従って、後述する処理において、制御対象がレーザ加工部3の構成要素である場合、レーザコントローラ6を介した制御が行われる。 Next, the control flow of the laser processing apparatus 1 of the present embodiment will be described. The program of the laser processing method 200 represented by the flowcharts of FIGS. 5 to 7 is stored in the ROM 63 of the control unit 51, and when the marking (printing) processing by the laser beam P is performed, the CPU 61 of the control unit 51 Is executed by. Therefore, in the processing described later, when the control target is a component of the laser processing unit 3, the control is performed via the laser controller 6.

図5のフローチャートで表されたプログラムでは、先ず、ステップ(以下、単に「S」と表記する。)10において、第1設定処理が行われる。この処理では、マーキング(印字)加工すべきオブジェクトに関する情報や、加工対象物7の材料等が設定される。その設定には、GUI(Graphical User Interface)が使用される。具体的には、印字情報作成部2において、図8に表された設定画面110が液晶ディスプレイ56に表示され、ユーザが入力操作部55を操作することによって、第1設定処理S10が行われる。 In the program represented by the flowchart of FIG. 5, first, the first setting process is performed in step 10 (hereinafter, simply referred to as “S”) 10. In this process, information about an object to be marked (printed), a material of the object 7 to be processed, and the like are set. A GUI (Graphical User Interface) is used for the setting. Specifically, in the print information creation unit 2, the setting screen 110 shown in FIG. 8 is displayed on the liquid crystal display 56, and the user operates the input operation unit 55 to perform the first setting process S10.

設定画面110には、レイアウト領域112、入力ボックス114、OKボタン116、各選択ボタン118A,118B、リストボックス120、設定終了ボタン122、及びポインタ124が表示される。ポインタ124は、設定画面110において、入力操作部55のマウスの位置に応じて表示される。 The layout area 112, the input box 114, the OK button 116, the selection buttons 118A and 118B, the list box 120, the setting end button 122, and the pointer 124 are displayed on the setting screen 110. The pointer 124 is displayed on the setting screen 110 according to the position of the mouse of the input operation unit 55.

レイアウト領域112は、加工対象物7の加工面8を表している。レイアウト領域112の右方向はX軸の方向に平行であり、上方向はY軸の方向に平行である。入力ボックス114には、マーキング(印字)加工すべきオブジェクトが入力される。尚、オブジェクトの入力の詳細な説明については、後述する。 The layout area 112 represents the machined surface 8 of the machined object 7. The right direction of the layout area 112 is parallel to the X-axis direction, and the upward direction is parallel to the Y-axis direction. An object to be marked (printed) is input to the input box 114. A detailed description of the object input will be described later.

各選択ボタン118A,118Bは、オブジェクトの種類について、塗り潰し又は線を選択するためのボタンである。選択ボタン118Aがポインタ124で指し示された状態で、入力操作部55のマウスがクリックされると、塗り潰しが選択される。これに対して、選択ボタン118Bがポインタ124で指し示された状態で、入力操作部55のマウスがクリックされると、線が選択される。 The selection buttons 118A and 118B are buttons for selecting a fill or a line for the object type. When the mouse of the input operation unit 55 is clicked while the selection button 118A is pointed to by the pointer 124, the fill is selected. On the other hand, when the mouse of the input operation unit 55 is clicked while the selection button 118B is pointed to by the pointer 124, the line is selected.

リストボックス120では、加工対象物7の材料が選択される。リストボックス120がポインタ124で指し示された状態で、入力操作部55のマウスがクリックされると、リストボックス120には、図9に表されたように、加工対象物7の材料として、アルミニウム、ステンレス、真鍮、塩化ビニル、紙等の項目が一覧表示される。更に、リストボックス120に一覧表示されている項目のうち、いずれか一つがポインタ124で指し示された状態で、入力操作部55のマウスがクリックされると、ポインタ124で指し示された項目の材料が選択される。尚、入力操作部55のキーボード等で、所望の材料が入力されることによって、加工対象物7の材料が選択されてもよい。 In the list box 120, the material of the object to be processed 7 is selected. When the mouse of the input operation unit 55 is clicked while the list box 120 is pointed to by the pointer 124, aluminum is displayed in the list box 120 as a material of the object 7 to be processed, as shown in FIG. , Stainless steel, brass, vinyl chloride, paper, etc. are listed. Further, when the mouse of the input operation unit 55 is clicked while any one of the items listed in the list box 120 is pointed to by the pointer 124, the item pointed to by the pointer 124 is displayed. The material is selected. The material of the object to be processed 7 may be selected by inputting the desired material with the keyboard or the like of the input operation unit 55.

オブジェクトの入力が行われる場合、レイアウト領域112上において、所望の位置がポインタ124で指し示された状態で、入力操作部55のマウスがクリックされる。これにより、レイアウト領域112上の位置が選択される。更に、入力操作部55のキーボード等で、所望の文字・記号等が入力ボックス114に入力される。その後、OKボタン116がポインタ124で指し示された状態で、入力操作部55のマウスがクリックされる。これにより、入力された所望の文字・記号等が、オブジェクトとして、レイアウト領域112上の所望の位置に配置される。図8では、英文字「A」のオブジェクトOB1が、レイアウト領域112上の所望の位置に配置されており、英文字「B」が入力ボックス114に入力されている。 When an object is input, the mouse of the input operation unit 55 is clicked with the desired position pointed to by the pointer 124 on the layout area 112. As a result, the position on the layout area 112 is selected. Further, a desired character / symbol or the like is input to the input box 114 by the keyboard or the like of the input operation unit 55. After that, the mouse of the input operation unit 55 is clicked while the OK button 116 is pointed to by the pointer 124. As a result, the input desired characters / symbols and the like are arranged as objects at desired positions on the layout area 112. In FIG. 8, the object OB1 of the English character “A” is arranged at a desired position on the layout area 112, and the English character “B” is input to the input box 114.

尚、本実施形態では、複数の文字・記号等が入力されるが、入力された一つの文字・記号等が、一つのオブジェクトに対応するものとする。また、以下では、オブジェクトOB1や、後述する各オブジェクトOB2乃至OB6を区別しない場合、又はオブジェクトを総称して説明する場合には、「オブジェクトOB」と表記する。 In this embodiment, a plurality of characters, symbols, etc. are input, but one input character, symbol, etc. corresponds to one object. Further, in the following, when the object OB1 and the objects OB2 to OB6 described later are not distinguished, or when the objects are collectively described, they are referred to as "object OB".

そして、設定終了ボタン122がポインタ124で指し示された状態で、入力操作部55のマウスがクリックされると、上述したようにして行われた選択・配置に関する情報が、印字情報又はユーザからの各種指示情報として、印字情報作成部2からレーザ加工部3に送信される。これにより、選択された塗り潰し又は線が、オブジェクトOBの種類に設定される。また、選択された材料が、加工対象物7の材料に設定される。 Then, when the mouse of the input operation unit 55 is clicked while the setting end button 122 is pointed to by the pointer 124, the information regarding the selection / arrangement performed as described above is printed information or the information from the user. Various instruction information is transmitted from the print information creation unit 2 to the laser processing unit 3. This sets the selected fill or line to the object OB type. Further, the selected material is set as the material of the object to be processed 7.

更に、マーキング(印字)加工すべき印字パターンのXY座標が算出される。この算出では、一のオブジェクトOBに対して、複数のXY座標が求められる。その求められた複数のXY座標によって、加工対象物7の加工面8上における当該一のオブジェクトOBの加工領域が設定される。そのような設定は、各オブジェクトOB毎に行われる。例えば、図10に表されたように、英文字「A」のオブジェクトOB1に対しては、その加工領域OR1の輪郭線が折れ曲がる11箇所の算出点C1乃至C11における、XY座標がそれぞれ求められる。そのように求められた11個のXY座標によって、加工対象物7の加工面8上における英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1が設定される。従って、英文字「A」のオブジェクトOB1の形状は、その求められた11個のXY座標で特定できる。 Further, the XY coordinates of the print pattern to be marked (printed) are calculated. In this calculation, a plurality of XY coordinates are obtained for one object OB. The processing area of the one object OB on the processing surface 8 of the processing object 7 is set by the obtained plurality of XY coordinates. Such a setting is made for each object OB. For example, as shown in FIG. 10, for the object OB1 of the English character "A", the XY coordinates at 11 calculation points C1 to C11 where the contour line of the processing area OR1 is bent are obtained, respectively. The processing area OR1 of the object OB1 of the English character "A" on the processing surface 8 of the processing object 7 is set by the 11 XY coordinates obtained in this way. Therefore, the shape of the object OB1 of the English character "A" can be specified by the obtained 11 XY coordinates.

尚、以下では、加工領域OR1や、後述する各加工領域OR2乃至OR6を区別しない場合、又は加工領域を総称して説明する場合には、「加工領域OR」と表記する。 In the following, when the machining area OR1 and the respective machining areas OR2 to OR6 described later are not distinguished, or when the machining areas are generically described, they are referred to as "machining area OR".

また、加工対象物7の材料についての選択・設定は、後述する第2特定処理(S18)の実行前であれば、第1設定処理(S10)以外において行われてもよい。また、オブジェクトOBの種類についての選択・設定は、後述する第3特定処理(S20)の実行前であれば、第1設定処理(S10)以外において行われてもよい。 Further, the selection / setting of the material of the object 7 to be processed may be performed in a process other than the first setting process (S10) before the execution of the second specific process (S18) described later. Further, the selection / setting of the type of the object OB may be performed in a process other than the first setting process (S10) before the execution of the third specific process (S20) described later.

このようにして、マーキング(印字)加工すべきオブジェクトOBに関する情報や、加工対象物7の材料等が設定されると、測距処理(S12)が行われる。この処理では、ワーキングディスタンスLが測定される。その測定では、各測定点MPが、一のオブジェクトOBに対して求められた複数のXY座標で示される各位置に設定される。これにより、例えば、図10に表された、英文字「A」のオブジェクトOB1においては、各算出点C1乃至C11の位置を示す11個のXY座標におけるワーキングディスタンスLがそれぞれ測定される。つまり、英文字「A」のオブジェクトOB1では、11個のワーキングディスタンスLが測定される。そのようなワーキングディスタンスLの測定は、各オブジェクトOB毎に行われる。 In this way, when the information about the object OB to be marked (printed) processed, the material of the object to be processed 7, and the like are set, the distance measuring process (S12) is performed. In this process, the working distance L is measured. In the measurement, each measurement point MP is set at each position indicated by a plurality of XY coordinates obtained for one object OB. As a result, for example, in the object OB1 of the alphabetic character "A" shown in FIG. 10, the working distance L at the 11 XY coordinates indicating the positions of the calculation points C1 to C11 is measured. That is, in the object OB1 of the English character "A", 11 working distances L are measured. The measurement of such working distance L is performed for each object OB.

続いて、第1特定処理(S14)が行われる。この処理では、オブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGの位置が、ワーキングディスタンスLに基づいて特定される。具体的には、例えば、図10に表された英文字「A」のオブジェクトOB1では、その加工領域OR1の重力方向DGの位置が、上記の測距処理(S12)で測定された11個のワーキングディスタンスLに基づいて、各算出点C1乃至C11毎に求められる。更に、そのように求められた11個の重力方向DGの位置のうち、最も低い位置(以下、「最下位置」という。)が、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1の重力方向DGの位置に特定される。そのような特定は、各オブジェクトOB毎に行われる。 Subsequently, the first specific process (S14) is performed. In this process, the position of the gravitational direction DG of the processing region OR of the object OB is specified based on the working distance L. Specifically, for example, in the object OB1 of the English letter "A" shown in FIG. 10, the positions of the gravity direction DG of the processing area OR1 are 11 measured by the distance measuring process (S12). It is obtained for each calculation point C1 to C11 based on the working distance L. Further, among the 11 positions of the gravity direction DG thus obtained, the lowest position (hereinafter, referred to as "bottom position") is the gravity direction of the processing region OR1 of the object OB1 of the alphabetic character "A". Identified to the location of the DG. Such identification is done for each object OB.

尚、オブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGの位置は、上述したXY座標系に対して、重力方向DGに平行なZ軸が加えられたXYZ座標系のZ座標で表現される。また、オブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGの位置は、そのオブジェクトOBの加工領域ORについて求められた複数の重力方向DGの位置を平均することによって特定されてもよい。 The position of the gravity direction DG of the processing region OR of the object OB is represented by the Z coordinate of the XYZ coordinate system in which the Z axis parallel to the gravity direction DG is added to the above-mentioned XY coordinate system. Further, the position of the gravity direction DG of the processing area OR of the object OB may be specified by averaging the positions of a plurality of gravity direction DGs obtained for the processing area OR of the object OB.

続いて、走査順の設定処理(S16)が行われる。この処理では、図6に表されたように、先ず、全てのオブジェクトOBが指定されたかが判定される(S30)。この判定は、後述するS32の処理内容に基づいて行われる。ここで、未指定のオブジェクトOBがある場合(S30:NO)、オブジェクトOBの指定が行われる(S32)。この処理では、全てのオブジェクトOBのうち、未だ指定されていない一のオブジェクトOBが指定される。 Subsequently, the scanning order setting process (S16) is performed. In this process, as shown in FIG. 6, it is first determined whether or not all the objects OB have been specified (S30). This determination is made based on the processing content of S32 described later. Here, when there is an unspecified object OB (S30: NO), the object OB is specified (S32). In this process, one object OB that has not been specified is specified among all the object OBs.

一のオブジェクトOBが指定されると、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORが重力方向DGの幅を有するがが判定される(S34)。ここで、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORが重力方向DGの幅を有するとは、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORについて、上記の第1特定処理(S14)で求められた複数の重力方向DGの位置のうち、Z座標を異にする位置が一つ以上あることをいう。 When one object OB is specified, it is determined that the processing region OR of the one object OB has the width of the gravity direction DG (S34). Here, the fact that the processing region OR of the one object OB has the width of the gravity direction DG means that the processing region OR of the one object OB has a plurality of gravitational forces obtained in the first specific process (S14). It means that there is one or more positions having different Z coordinates among the positions of the direction DG.

具体的には、例えば、図11に表された加工対象物7のように、重力方向DGに垂直な水平方向に対して傾いている平面状の加工面8上において、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1が設定されている場合には、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1が重力方向DGの幅を有していると判定される。これに対して、例えば、図12に表されたように、段差状の加工対象物7の加工面8のうち、水平方向に平行な加工面8上において、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1が設定されている場合には、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1が重力方向DGの幅を有していないと判定される。 Specifically, for example, as in the machined object 7 shown in FIG. 11, on a flat machined surface 8 inclined with respect to the horizontal direction perpendicular to the gravitational direction DG, the English letter "A" is used. When the processing area OR1 of the object OB1 is set, it is determined that the processing area OR1 of the object OB1 of the alphabetic character "A" has the width of the gravity direction DG. On the other hand, for example, as shown in FIG. 12, of the machined surface 8 of the stepped object 7 to be machined, the object OB1 of the English letter "A" is placed on the machined surface 8 parallel to the horizontal direction. When the processing area OR1 is set, it is determined that the processing area OR1 of the object OB1 of the alphabetic character "A" does not have the width of the gravity direction DG.

ここで、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORが重力方向DGに幅を有しない場合(S34:NO)、後述する第2走査順の設定が行われる(S38)。これに対して、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORが重力方向DGに幅を有する場合(S34:YES)、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORについて、上記の第1特定処理(S14)で求められた複数の重力方向DGの位置のうち、最も高い位置(以下、「最上位置」という。)と最下位置との差が、レーザ光Pの焦点深度よりも大きいかが判定される(S36)。尚、レーザ光Pの焦点深度は、ROM43に記憶されている。 Here, when the processing region OR of the one object OB does not have a width in the gravity direction DG (S34: NO), the second scanning order described later is set (S38). On the other hand, when the processing region OR of the one object OB has a width in the gravity direction DG (S34: YES), the processing region OR of the one object OB is subjected to the above-mentioned first specific processing (S14). It is determined whether the difference between the highest position (hereinafter referred to as "top position") and the lowest position among the obtained positions of the plurality of DGs in the gravity direction is larger than the depth of focus of the laser beam P (S36). ). The depth of focus of the laser beam P is stored in the ROM 43.

具体的には、例えば、図11に表された、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1については、算出点C8での重力方向DGの位置が最上位置であり、算出点C3での重力方向DGの位置が最下位置であり、最上位置と最下位置の差LDが、レーザ光Pの焦点深度FDと比較される。 Specifically, for example, with respect to the processing region OR1 of the object OB1 of the alphabetic character "A" shown in FIG. 11, the position of the gravity direction DG at the calculation point C8 is the highest position, and the position at the calculation point C3 is the highest position. The position of the DG in the direction of gravity is the lowest position, and the difference LD between the highest position and the lowest position is compared with the depth of focus FD of the laser beam P.

ここで、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORについて、最上位置と最下位置の差LDが、レーザ光Pの焦点深度FDよりも大きい場合(S36:YES)、第1走査順の設定が行われる(S38)。この処理では、当該一のオブジェクトOBに対して、例えば、図13(a)に表された第1走査順140が設定される。第1走査順140については、後述する。これに対して、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORについて、最上位置と最下位置の差LDが、レーザ光Pの焦点深度FD以下である場合(S36:NO)、第2走査順の設定が行われる(S38)。この処理では、当該一のオブジェクトOBに対して、図13(b)に表された第2走査順142が設定される。尚、当該一のオブジェクトOBの加工領域ORが重力方向DGに幅を有しない場合(S34:NO)にも、第2走査順の設定が行われる(S38)。 Here, when the difference LD between the uppermost position and the lowest position is larger than the depth of focus FD of the laser beam P for the processing region OR of the one object OB (S36: YES), the first scanning order is set. (S38). In this process, for example, the first scanning order 140 shown in FIG. 13A is set for the one object OB. The first scanning order 140 will be described later. On the other hand, when the difference LD between the uppermost position and the lowest position is equal to or less than the depth of focus FD of the laser beam P for the processing region OR of the one object OB (S36: NO), the second scanning order is set. Is performed (S38). In this process, the second scanning order 142 shown in FIG. 13B is set for the one object OB. Even when the processing region OR of the one object OB does not have a width in the gravity direction DG (S34: NO), the second scanning order is set (S38).

第1走査順140と第2走査順142は、ガルバノスキャナ18によるレーザ光Pの走査態様を定義する。第1走査順140とは、水平方向に沿って一方側へ進むレーザ光Pの走査が、重力方向DGの下方側から上方側へ向かって移動する走査態様をいう。これに対して、第2走査順142とは、水平方向に沿って一方側へ進むレーザ光Pの走査が、重力方向DGの上方側から下方側へ向かって移動する走査態様をいう。 The first scanning order 140 and the second scanning order 142 define the scanning mode of the laser beam P by the galvano scanner 18. The first scanning order 140 refers to a scanning mode in which the scanning of the laser beam P traveling in one side along the horizontal direction moves from the lower side to the upper side in the gravitational direction DG. On the other hand, the second scanning order 142 refers to a scanning mode in which the scanning of the laser beam P traveling in one side along the horizontal direction moves from the upper side to the lower side in the gravitational direction DG.

尚、第1走査順140に代えて、図13(c)に表された第1走査順144が設定されてもよく、第2走査順142に代えて、図13(d)に表された第2走査順146が設定されてもよい。第1走査順144とは、水平方向に沿って一方側へ進むレーザ光Pの走査と、水平方向に沿って他方側へ進むレーザ光Pの走査とが、交互に切り替わりながら、重力方向DGの下方側から上方側へ向かって移動する走査態様をいう。これに対して、第2走査順146とは、水平方向に沿って一方側へ進むレーザ光Pの走査と、水平方向に沿って他方側へ進むレーザ光Pの走査とが、交互に切り替わりながら、重力方向DGの上方側から下方側へ向かって移動する走査態様をいう。 The first scanning order 144 shown in FIG. 13C may be set instead of the first scanning order 140, and the first scanning order 144 is shown in FIG. 13D instead of the second scanning order 142. The second scanning order 146 may be set. The first scanning order 144 means that the scanning of the laser beam P traveling in the horizontal direction to one side and the scanning of the laser beam P traveling in the horizontal direction to the other side are alternately switched in the gravity direction DG. A scanning mode that moves from the lower side to the upper side. On the other hand, in the second scanning order 146, the scanning of the laser beam P traveling in the horizontal direction to one side and the scanning of the laser beam P traveling in the horizontal direction to the other side are alternately switched. , Refers to a scanning mode in which the DG moves from the upper side to the lower side in the gravity direction DG.

このようにして、第1走査順の設定(S38)又は第2走査順の設定(S40)が行われると、上述したS30以降の処理が繰り返される。これにより、全てのオブジェクトOBに対して、第1走査順140又は第2走査順142が設定されると(S30:YES)、図5に表された第2特定処理(S18)が行われる。 When the first scanning order is set (S38) or the second scanning order is set (S40) in this way, the above-described processes after S30 are repeated. As a result, when the first scanning order 140 or the second scanning order 142 is set for all the objects OB (S30: YES), the second specific processing (S18) shown in FIG. 5 is performed.

この処理では、加工対象物7の種別が特定される。その特定は、上記の第1設定処理(S10)で設定された加工対象物7の材料と、図14に表されたデータテーブル150とに基づいて行われる。データテーブル150では、アルミニウム、ステンレス、及び真鍮等が第1種別に対応付けられ、塩化ビニル及び紙等が第2種別に対応付けられている。従って、上記の第1設定処理(S10)において、アルミニウム、ステンレス、及び真鍮のいずれかが設定されていると、加工対象物7の種別として、第1種別が特定される。これに対して、上記の第1設定処理(S10)において、塩化ビニル又は紙が設定されていると、加工対象物7の種別として、第2種別が特定される。 In this process, the type of the object to be processed 7 is specified. The identification is performed based on the material of the work target 7 set in the first setting process (S10) and the data table 150 shown in FIG. In the data table 150, aluminum, stainless steel, brass and the like are associated with the first type, and vinyl chloride, paper and the like are associated with the second type. Therefore, if any of aluminum, stainless steel, and brass is set in the first setting process (S10), the first type is specified as the type of the object to be processed 7. On the other hand, when vinyl chloride or paper is set in the first setting process (S10), the second type is specified as the type of the object to be processed 7.

尚、各オブジェクトOBのマーキング(印字)加工が、所謂ブラックマーキングで行われる場合には、上記の第1設定処理(S10)において、アルミニウム、ステンレス、及び真鍮のいずれかが設定されていても、加工対象物7の種別として、第2種別が特定される。 When the marking (printing) process of each object OB is performed by so-called black marking, even if any of aluminum, stainless steel, and brass is set in the above first setting process (S10), A second type is specified as the type of the object to be processed 7.

続いて、第3特定処理(S20)が行われる。この処理では、オブジェクトOBの種類が特定される。この特定は、上記の第1設定処理(S10)で設定されたオブジェクトOBの種類に基づいて行われる。従って、上記の第1設定処理(S10)において、塗り潰しが設定されていると、オブジェクトOBの種類として、塗り潰しが特定される。これに対して、上記の第1設定処理(S10)において、線が設定されていると、オブジェクトOBの種類として、線が特定される。 Subsequently, the third specific process (S20) is performed. In this process, the type of object OB is specified. This identification is performed based on the type of the object OB set in the first setting process (S10). Therefore, if the fill is set in the first setting process (S10), the fill is specified as the type of the object OB. On the other hand, if a line is set in the first setting process (S10), the line is specified as the type of the object OB.

その後は、第2設定処理(S22)が行われる。この処理では、図7に表されたように、先ず、上記の第2特定処理(S18)で特定された加工対象物7の種別が第1種別であるかが判定される(S50)。ここで、加工対象物7の種別が第2種別である場合(S50:NO)、後述する第2加工順序の設定処理が行われる(S60)。これに対して、加工対象物7の種別が第1種別である場合(S50:YES)、更に、上記の第3特定処理(S20)で特定されたオブジェクトOBの種類が塗り潰しであるかが判定される(S52)。 After that, the second setting process (S22) is performed. In this process, as shown in FIG. 7, first, it is determined whether the type of the work object 7 specified in the second specific process (S18) is the first type (S50). Here, when the type of the object to be processed 7 is the second type (S50: NO), the second processing order setting process described later is performed (S60). On the other hand, when the type of the object to be processed 7 is the first type (S50: YES), it is further determined whether the type of the object OB specified in the third specific process (S20) is filled. (S52).

ここで、オブジェクトOBの種類が塗り潰しである場合(S52:YES)、後述する第1加工順序の設定処理が行われる(S58)。これに対して、オブジェクトOBの種類が線である場合(S52:NO)、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGにおける離隔距離が第1閾値よりも小さいかが判定される(S54)。この判定は、全てのオブジェクトOBを対象とし、上記の第1特定処理(S14)で特定された、オブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGの位置を示すZ座標に基づいて行われる。 Here, when the type of the object OB is fill (S52: YES), the first machining order setting process described later is performed (S58). On the other hand, when the type of the object OB is a line (S52: NO), it is determined whether the separation distance in the gravity direction DG of the processing region OR of the two adjacent objects OB is smaller than the first threshold value (S52: NO). S54). This determination is made for all object OBs based on the Z coordinate indicating the position of the gravitational direction DG of the processing region OR of the object OB specified in the first specific processing (S14).

具体的には、例えば、上述した図12に表された段差状の加工対象物7は、水平方向に平行で高低差のある2つの加工面8を有しており、重力方向DGの下方側の加工面8上には、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1が設定され、重力方向DGの上方側の加工面8上には、英文字「B」のオブジェクトOB2の加工領域OR2が設定されている。このような場合、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1と英文字「B」のオブジェクトOB2の加工領域OR2は、隣り合っており、それらの重力方向DGにおける離隔距離LGが、第1閾値と比較される。尚、第1閾値には、例えば、レーザ光Pの焦点深度FDが使用される。 Specifically, for example, the stepped object 7 shown in FIG. 12 described above has two processing surfaces 8 parallel to each other in the horizontal direction and having a height difference, and is on the lower side of the gravity direction DG. The processing area OR1 of the object OB1 of the English letter "A" is set on the processing surface 8 of the above, and the processing area OR2 of the object OB2 of the English character "B" is set on the processing surface 8 on the upper side of the gravity direction DG. Is set. In such a case, the processing area OR1 of the object OB1 of the English character "A" and the processing area OR2 of the object OB2 of the English character "B" are adjacent to each other, and the separation distance LG in the gravity direction DG is the first. Compared to the threshold. For the first threshold value, for example, the depth of focus FD of the laser beam P is used.

ここで、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGにおける離隔距離LGが第1閾値よりも小さい場合(S54:YES)、後述する第1加工順序の設定処理が行われる(S58)。これに対して、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGにおける離隔距離LGが第1閾値以上である場合(S52:NO)、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの水平方向における離隔距離が第2閾値よりも小さいかが判定される(S56)。この判定は、全てのオブジェクトOBを対象とし、上記の第1設定処理(S10)で設定された、オブジェクトOBの加工領域ORの位置を示すXY座標に基づいて行われる。 Here, when the separation distance LG in the gravity direction DG of the processing region OR of the two adjacent objects OB is smaller than the first threshold value (S54: YES), the first processing order setting process described later is performed (S58). .. On the other hand, when the separation distance LG in the gravity direction DG of the processing area OR of the two adjacent objects OB is equal to or greater than the first threshold value (S52: NO), the horizontal direction of the processing area OR of the two adjacent objects OB. It is determined whether the separation distance in is smaller than the second threshold value (S56). This determination is performed for all object OBs based on the XY coordinates indicating the position of the processing area OR of the object OBs set in the first setting process (S10).

具体的には、例えば、上述した図12に表された段差状の加工対象物7の場合、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1から英文字「B」のオブジェクトOB2の加工領域OR2までの水平方向の最短距離である、水平方向における離隔距離LHが、第2閾値と比較される。 Specifically, for example, in the case of the stepped object 7 shown in FIG. 12 described above, the processing area OR1 of the object OB1 having the English character “A” to the processing area OR2 of the object OB2 having the English character “B” The horizontal separation distance LH, which is the shortest horizontal distance to, is compared with the second threshold value.

ここで、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの水平方向における離隔距離LHが第2閾値よりも小さい場合(S56:YES)、第1加工順序の設定処理が行われる(S58)。この処理では、マーキング(印字)加工の順序として、第1順序が設定される。第1順序とは、加工領域ORの重力方向DGの位置が下から上の順で、全てのオブジェクトOBのマーキング(印字)加工が行われる手順をいう。換言すると、第1順序は、加工領域ORの重力方向DGの位置が下に位置するオブジェクトOBほど、上に位置するオブジェクトOBよりも先にマーキング加工が行われる順序である。尚、オブジェクトOBの種類が塗り潰しである場合(S52:YES)や、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGにおける離隔距離LGが第1閾値よりも小さい場合(S54:YES)にも、第1加工順序の設定処理が行われる(S58)。 Here, when the separation distance LH in the horizontal direction of the processing region OR of the two adjacent objects OB is smaller than the second threshold value (S56: YES), the first processing order setting process is performed (S58). In this process, the first order is set as the order of marking (printing) processing. The first order refers to a procedure in which marking (printing) processing of all object OBs is performed in the order in which the positions of the DGs in the gravity direction of the processing area OR are from bottom to top. In other words, the first order is that the object OB in which the position of the gravity direction DG of the processing region OR is located lower is the order in which the marking process is performed before the object OB located above. When the type of the object OB is filled (S52: YES), or when the separation distance LG in the gravity direction DG of the processing region OR of two adjacent objects OB is smaller than the first threshold value (S54: YES). Also, the first machining order setting process is performed (S58).

これに対して、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの水平方向における離隔距離LHが第2閾値以上である場合(S56:NO)、第2加工順序の設定処理が行われる(S60)。この処理では、マーキング(印字)加工の順序として、第2順序が設定される。第2順序とは、上記の第1順序とは異なる順(ここでは、オブジェクトOBの入力順であるデフォルト)で、全てのオブジェクトOBのマーキング(印字)加工が行われる手順をいう。尚、加工対象物7の種別が第2種別である場合(S50:NO)にも、第2加工順序の設定処理が行われる(S60)。 On the other hand, when the separation distance LH in the horizontal direction of the processing region OR of the two adjacent objects OB is equal to or greater than the second threshold value (S56: NO), the second processing order setting process is performed (S60). In this process, a second order is set as the order of marking (printing) processing. The second order refers to a procedure in which marking (printing) processing of all object OBs is performed in an order different from the first order described above (here, the default is the input order of object OBs). Even when the type of the object to be processed 7 is the second type (S50: NO), the second processing order setting process is performed (S60).

第1加工順序の設定処理(S58)又は第2加工順序の設定処理(S60)が行われると、図5に表された加工処理(S24)が行われる。この処理では、各オブジェクトOBのマーキング(印字)加工が、第1加工順序の設定処理(S58)又は第2加工順序の設定処理(S60)で設定された順序(第1順序又は第2順序)で行われる。その際、レーザ光Pの走査は、各オブジェクトOBのマーキング(印字)加工毎に、当該オブジェクトOBに対して第1走査順の設定処理(S38)又は第2走査順の設定処理(S40)で設定された第1走査順140又は第2走査順142で行われる。 When the first machining order setting process (S58) or the second machining order setting process (S60) is performed, the machining process (S24) shown in FIG. 5 is performed. In this process, the marking (printing) processing of each object OB is performed in the order (first order or second order) set in the first processing order setting process (S58) or the second processing order setting process (S60). It is done in. At that time, the scanning of the laser beam P is performed by the first scanning order setting process (S38) or the second scanning order setting process (S40) for the object OB for each marking (printing) process of each object OB. It is performed in the set first scanning order 140 or the second scanning order 142.

以下では、図15及び図16に表された具体例での、加工処理(S24)における順序(第1順序又は第2順序)について説明する。但し、この具体例では、各重力方向DGにおける離隔距離LGは、第1閾値以上であるとする(S54:NO)。 Hereinafter, the order (first order or second order) in the processing (S24) in the specific examples shown in FIGS. 15 and 16 will be described. However, in this specific example, it is assumed that the separation distance LG in each gravity direction DG is equal to or greater than the first threshold value (S54: NO).

図15及び図16に表された台形状の加工対象物7は、水平方向に平行な平面状の加工面8と、その両側から重力方向DGへ向かう傾斜平面状の2つの加工面8とを有している。その傾斜平面状の2つの加工面8のうち、一方の加工面8上には、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1、英文字「B」のオブジェクトOB2の加工領域OR2、及び英文字「C」のオブジェクトOB3の加工領域OR3が設定されている。また、他方の加工面8上には、英文字「D」のオブジェクトOB4の加工領域OR4、英文字「E」のオブジェクトOB5の加工領域OR5、及び英文字「F」のオブジェクトOB6の加工領域OR6が設定されている。そのような場合、各水平方向における離隔距離LH1乃至LH5が、第2閾値と比較される(S56)。 The trapezoidal machined object 7 shown in FIGS. 15 and 16 has a flat machined surface 8 parallel to the horizontal direction and two slanted planes 8 from both sides in the direction of gravity DG. Have. Of the two inclined flat processing surfaces 8, on one processing surface 8, the processing area OR1 of the object OB1 of the English character "A", the processing area OR2 of the object OB2 of the English character "B", and the English The processing area OR3 of the object OB3 of the character "C" is set. Further, on the other processing surface 8, the processing area OR4 of the object OB4 of the English character "D", the processing area OR5 of the object OB5 of the English character "E", and the processing area OR6 of the object OB6 of the English character "F" Is set. In such a case, the separation distances LH1 to LH5 in each horizontal direction are compared with the second threshold value (S56).

水平方向における離隔距離LH1とは、英文字「A」のオブジェクトOB1の加工領域OR1から、英文字「B」のオブジェクトOB2の加工領域OR2までの水平方向の最短距離をいう。水平方向における離隔距離LH2とは、英文字「B」のオブジェクトOB2の加工領域OR2から、英文字「C」のオブジェクトOB3の加工領域OR3までの水平方向の最短距離をいう。 The horizontal separation distance LH1 means the shortest horizontal distance from the processing area OR1 of the object OB1 of the English character "A" to the processing area OR2 of the object OB2 of the English character "B". The horizontal separation distance LH2 means the shortest horizontal distance from the processing area OR2 of the object OB2 of the English character "B" to the processing area OR3 of the object OB3 of the English character "C".

水平方向における離隔距離LH3とは、英文字「D」のオブジェクトOB4の加工領域OR4から、英文字「E」のオブジェクトOB5の加工領域OR5までの水平方向の最短距離をいう。水平方向における離隔距離LH4とは、英文字「E」のオブジェクトOB5の加工領域OR5から、英文字「F」のオブジェクトOB6の加工領域OR6までの水平方向の最短距離をいう。水平方向における離隔距離LH5とは、英文字「C」のオブジェクトOB3の加工領域OR3から、英文字「F」のオブジェクトOB6の加工領域OR6までの水平方向の最短距離をいう。 The horizontal separation distance LH3 means the shortest horizontal distance from the processing area OR4 of the object OB4 of the English character "D" to the processing area OR5 of the object OB5 of the English character "E". The horizontal separation distance LH4 means the shortest horizontal distance from the processing area OR5 of the object OB5 of the English character "E" to the processing area OR6 of the object OB6 of the English character "F". The horizontal separation distance LH5 means the shortest horizontal distance from the processing area OR3 of the object OB3 of the English character "C" to the processing area OR6 of the object OB6 of the English character "F".

ここで、各オブジェクトOBがアルファベット順に入力され、更に、各水平方向における離隔距離LH1乃至LH5のうち、各離隔距離LH1乃至LH4が第2閾値以下であり、離隔距離LH5が第2閾値よりも大きいとすると、英文字「A」のオブジェクトOB1、英文字「B」のオブジェクトOB2、英文字「C」のオブジェクトOB3、英文字「D」のオブジェクトOB4、英文字「E」のオブジェクトOB5、英文字「F」のオブジェクトOB6の記載順で、各オブジェクトOBがマーキング(印字)加工される。 Here, each object OB is input in alphabetical order, and among the separation distances LH1 to LH5 in each horizontal direction, the separation distances LH1 to LH4 are equal to or less than the second threshold value, and the separation distance LH5 is larger than the second threshold value. Then, the object OB1 of the English character "A", the object OB2 of the English character "B", the object OB3 of the English character "C", the object OB4 of the English character "D", the object OB5 of the English character "E", and the English character Each object OB is marked (printed) in the order of description of the "F" object OB6.

尚、各オブジェクトOBのマーキング(印字)加工の際は、上述したレーザ光Pの焦点位置Fの補正が行われるが、その補正で必要なワーキングディスタンスLは、上記の測距処理(S12)で測定されたものを流用してもよい。加工処理(S24)が行われると、図5乃至図7のフローチャートで表されたレーザ加工方法200のプログラムは終了する。 When marking (printing) each object OB, the focal position F of the laser beam P described above is corrected, and the working distance L required for the correction is the distance measuring process (S12) described above. The measured one may be diverted. When the machining process (S24) is performed, the program of the laser machining method 200 shown in the flowcharts of FIGS. 5 to 7 ends.

以上詳細に説明したように、本実施形態のレーザ加工装置1及びレーザ加工方法200では、各オブジェクトOBに対して加工対象物7の加工面8上での加工領域ORが設定され(S10)、各オブジェクトOBに対して加工領域ORの重力方向DGの位置が特定される(S14)。更に、加工領域ORの重力方向DGの位置が下から上の順である第1順序で各オブジェクトOBの加工順序が設定されると(S22,S58)、レーザ発振ユニット12及びガルバノスキャナ18が制御されて、各オブジェクトOBが第1順序で加工対象物7の加工面8にマーキング(印字)加工される(S24)。 As described in detail above, in the laser machining apparatus 1 and the laser machining method 200 of the present embodiment, the machining region OR on the machining surface 8 of the machining object 7 is set for each object OB (S10). The position of the gravitational direction DG of the machining region OR is specified for each object OB (S14). Further, when the machining order of each object OB is set in the first order in which the position of the gravity direction DG of the machining region OR is in the order from the bottom to the top (S22, S58), the laser oscillation unit 12 and the galvano scanner 18 are controlled. Then, each object OB is marked (printed) on the machined surface 8 of the machined object 7 in the first order (S24).

従って、本実施形態のレーザ加工装置1及びレーザ加工方法200は、加工対象物7の加工面8上において、各オブジェクトOBのマーキング(印字)加工を、そのマーキング(印字)加工で発生する加工カスに働く重力の向きとは逆の向きへ、つまり重力方向DGの下から上へ進行させるので、加工品質に対する加工カスの影響を抑制することが可能である。 Therefore, in the laser processing apparatus 1 and the laser processing method 200 of the present embodiment, the marking (printing) processing of each object OB is performed on the processing surface 8 of the processing object 7 by the processing residue generated by the marking (printing) processing. Since the laser travels in the direction opposite to the direction of gravity acting on the machine, that is, from the bottom to the top of the gravity direction DG, it is possible to suppress the influence of the processing residue on the processing quality.

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、そのガルバノスキャナ18が加工対象物7に対して重力方向DGの上方側に配置されるものであり、TOFセンサ103で測定するワーキングディスタンスLによって、各オブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGの位置が正確に特定される(S12,S14)。 Further, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the galvano scanner 18 is arranged on the upper side of the DG in the direction of gravity with respect to the object to be processed 7, and each of them is determined by the working distance L measured by the TOF sensor 103. The position of the gravitational direction DG of the processing region OR of the object OB is accurately specified (S12, S14).

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、各オブジェクトOBの形状が、重力方向DGに垂直なXY座標系で定義される複数の座標で特定され、各オブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGの位置が特定される際に、複数の座標に含まれる各々の座標についてワーキングディスタンスLがTOF103で測定される(S12,S14)。そのため、各オブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGの位置は、各オブジェクトOBの形状に合わせて特定される。 Further, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the shape of each object OB is specified by a plurality of coordinates defined in the XY coordinate system perpendicular to the gravity direction DG, and the gravity direction DG of the processing region OR of each object OB is specified. When the position of is specified, the working distance L is measured by TOF103 for each coordinate included in the plurality of coordinates (S12, S14). Therefore, the position of the gravitational direction DG of the processing region OR of each object OB is specified according to the shape of each object OB.

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、オブジェクトOBの加工領域ORにおける重力方向DGでの最下位置が、オブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGの位置として特定され、その特定が各オブジェクトOB毎に行われる(S14)。そのため、各オブジェクトOBは、加工領域OR(の重力方向DG)の最下端がより下に位置にあるオブジェクトOBが優先されて、加工対象物7の加工面8にマーキング(印字)加工される(S24)。 Further, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the lowest position of the object OB in the processing region OR in the gravity direction DG is specified as the position of the object OB processing region OR in the gravity direction DG, and the identification is specified for each object. It is performed for each OB (S14). Therefore, each object OB is marked (printed) on the machined surface 8 of the machined object 7 with priority given to the object OB whose lowermost end of the machined area OR (gravity direction DG) is located lower. S24).

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、複数のオブジェクトOBのうち、一のオブジェクトOBの加工領域ORが重力方向DGに幅を有する場合(S34:YES)、第1走査順140でガルバノスキャナ18が制御されることによって(S38)、当該一のオブジェクトOBが加工対象物7の加工面8にマーキング(印字)加工される(S24)。これにより、レーザ光Pの走査は、マーキング(印字)加工で発生する加工カスに働く重力の向きとは逆の向きへ、つまり重力方向DGの下方側から上方側へ進行する。そのため、加工領域ORが重力方向DGに幅を有する一のオブジェクトOBのマーキング(印字)加工が行われる際は、他のオブジェクトOBの加工品質に対する加工カスの影響が抑制され得ることに加えて、当該一のオブジェクトOBの加工品質に対する加工カスの影響が抑制され得る。 Further, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, when the processing region OR of one object OB has a width in the gravity direction DG among the plurality of object OBs (S34: YES), the galvano scanner is in the first scanning order 140. By controlling 18 (S38), the one object OB is marked (printed) on the machined surface 8 of the machined object 7 (S24). As a result, the scanning of the laser beam P proceeds in the direction opposite to the direction of gravity acting on the processing residue generated in the marking (printing) process, that is, from the lower side to the upper side in the gravity direction DG. Therefore, when the marking (printing) processing of one object OB whose processing region OR has a width in the gravity direction DG is performed, the influence of the processing residue on the processing quality of the other object OB can be suppressed, and in addition, the influence of the processing residue on the processing quality of the other object OB can be suppressed. The influence of the processing residue on the processing quality of the one object OB can be suppressed.

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、複数のオブジェクトOBのうち、一のオブジェクトOBの加工領域ORにおける重力方向DGでの最下位置と最上位置との差LDがレーザ光Pの焦点深度FDよりも大きい場合(S36:YES)、第1走査順140でガルバノスキャナ18が制御されることによって(S38)、当該一のオブジェクトOBが加工対象物7の加工面8にマーキング(印字)加工される(S24)。これにより、レーザ光Pの走査は、マーキング(印字)加工で発生する加工カスに働く重力の向きとは逆の向きへ、つまり重力方向DGの下方側から上方側へ進行する。そのため、当該一のオブジェクトOBのマーキング(印字)加工が行われる際は、他のオブジェクトOBの加工品質に対する加工カスの影響が抑制され得ることに加えて、当該一のオブジェクトOB自身の加工品質に対する加工カスの影響が抑制され得る。 Further, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the difference LD between the lowest position and the uppermost position in the gravity direction DG in the processing region OR of one object OB among the plurality of objects OB is the depth of focus of the laser beam P. When it is larger than FD (S36: YES), the galvano scanner 18 is controlled in the first scanning order 140 (S38), so that the one object OB is marked (printed) on the machined surface 8 of the object 7 to be machined. (S24). As a result, the scanning of the laser beam P proceeds in the direction opposite to the direction of gravity acting on the processing residue generated in the marking (printing) process, that is, from the lower side to the upper side in the gravity direction DG. Therefore, when the marking (printing) processing of the one object OB is performed, the influence of the processing residue on the processing quality of the other object OB can be suppressed, and in addition, the processing quality of the one object OB itself is affected. The influence of processing residue can be suppressed.

これに対して、一のオブジェクトOBの加工領域ORにおける重力方向DGでの最下位置と最上位置との差LDがレーザ光Pの焦点深度FD以下である場合(S36:NO)、当該一のオブジェクトOBのマーキング(印字)加工時に発生する加工カスの、当該一のオブジェクトOB自身の加工品質に対する影響は、レーザ光Pの焦点深度FDによって抑制される。そのような場合、本実施形態のレーザ加工装置1では、第1走査順140とは異なる第2走査順142でガルバノスキャナ18が制御されることによって(S40)、当該一のオブジェクトOBが加工対象物7の加工面8にマーキング(印字)加工される(S24)。 On the other hand, when the difference LD between the lowest position and the highest position in the gravity direction DG in the processing region OR of one object OB is equal to or less than the depth of focus FD of the laser beam P (S36: NO), the one object The influence of the processing residue generated during the marking (printing) processing of the object OB on the processing quality of the one object OB itself is suppressed by the depth of focus FD of the laser beam P. In such a case, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the galvano scanner 18 is controlled in the second scanning order 142 different from the first scanning order 140 (S40), so that the one object OB is processed. Marking (printing) processing is performed on the processed surface 8 of the object 7 (S24).

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGにおける離隔距離LGが第1閾値よりも小さい場合(S54:YES)、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工順序が第1順序に設定される(S58)。これにより、隣り合う2つのオブジェクトOBのマーキング(印字)加工(S24)は、そのマーキング(印字)加工で発生する加工カスに働く重力の向きとは逆の向きへ、つまり重力方向DGの下から上へ進行させられるので、加工品質に対する加工カスの影響が抑制される。 Further, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, when the separation distance LG in the gravity direction DG of the processing region OR of the two adjacent objects OB is smaller than the first threshold value (S54: YES), the two adjacent objects OB The machining order of is set to the first order (S58). As a result, the marking (printing) processing (S24) of the two adjacent objects OB is in the direction opposite to the direction of gravity acting on the processing residue generated by the marking (printing) processing, that is, from below the gravity direction DG. Since it is advanced upward, the influence of the processing residue on the processing quality is suppressed.

これに対して、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの重力方向DGにおける離隔距離LGが第1閾値以上の場合(S54:NO)、一方のオブジェクトOBのマーキング(印字)加工時に発生する加工カスが、他方のオブジェクトOBの加工品質に対して与える影響は、その重力方向DGにおける双方のオブジェクトOB間の隔たり(つまり、離隔距離LG)によって弱くなる。そのような場合、本実施形態のレーザ加工装置1では、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工順序が、第1順序とは異なる第2順序(オブジェクトOBの入力順であるデフォルト)に設定され得る(S60)。 On the other hand, when the separation distance LG in the gravity direction DG of the processing region OR of two adjacent objects OB is equal to or greater than the first threshold value (S54: NO), the processing that occurs during the marking (printing) processing of one object OB. The influence of the residue on the processing quality of the other object OB is weakened by the distance between both object OBs in the gravity direction DG (that is, the separation distance LG). In such a case, in the laser machining apparatus 1 of the present embodiment, the machining order of two adjacent objects OB can be set to a second order (default which is the input order of the objects OB) different from the first order (default). S60).

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、加工対象物7の種別が第1種別である場合(S50:YES)、各オブジェクトOBの加工順序が第1順序に設定され得る(S58)。これにより、各オブジェクトOBのマーキング(印字)加工(S24)が、そのマーキング(印字)加工で発生する加工カスに働く重力の向きとは逆の向きへ、つまり重力方向DGの下から上へ進行させられると、加工品質に対する加工カスの影響が抑制される。 Further, in the laser machining apparatus 1 of the present embodiment, when the type of the machining object 7 is the first type (S50: YES), the machining order of each object OB can be set to the first order (S58). As a result, the marking (printing) processing (S24) of each object OB proceeds in the direction opposite to the direction of gravity acting on the processing residue generated by the marking (printing) processing, that is, from the bottom to the top of the gravity direction DG. When this is done, the influence of the processing residue on the processing quality is suppressed.

これに対して、加工対象物7の種別が第2種別である場合(S50:NO)、一のオブジェクトOBのマーキング(印字)加工時に発生する加工カスが、他のオブジェクトOBの加工品質に対して与える影響は、加工対象物7の種別が第2種別であることによって弱くなる。そのような場合、本実施形態のレーザ加工装置1では、各オブジェクトOBの加工順序が、第1順序とは異なる第2順序(オブジェクトOBの入力順であるデフォルト)に設定される(S60)。 On the other hand, when the type of the object to be processed 7 is the second type (S50: NO), the processing residue generated during the marking (printing) processing of one object OB is relative to the processing quality of the other object OB. The effect is weakened by the fact that the type of the object to be processed 7 is the second type. In such a case, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the processing order of each object OB is set to a second order (default which is the input order of the object OB) different from the first order (S60).

尚、本実施形態において、第1種別と第2種別は、図14のデータテーブル150によって、金属系(アルミニウム、ステンレス、真鍮、…)と非金属系(塩化ビニル、紙、…)とに区分けされている。但し、第1種別と第2種別は、例えば、加工カスの飛散易さの観点から加工対象物7の融点等で区分けされてもよいし、加工品質に対する加工カスの影響を評価するために試行されるマーキング(印字)加工の結果から区分けされてもよい。具体的には、加工カスが飛散し易い加工対象物7を第1種別に区分けされるとよい。 In the present embodiment, the first type and the second type are classified into a metallic type (aluminum, stainless steel, brass, ...) And a non-metallic type (vinyl chloride, paper, ...) According to the data table 150 of FIG. Has been done. However, the first type and the second type may be classified by, for example, the melting point of the processing object 7 from the viewpoint of the ease of scattering of the processing waste, and a trial is made to evaluate the influence of the processing waste on the processing quality. It may be classified from the result of marking (printing) processing to be performed. Specifically, it is preferable that the processing object 7 in which the processing residue is easily scattered is classified into the first type.

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、オブジェクトOBの種類が塗り潰しである場合(S52:YES)、各オブジェクトOBの加工順序が第1順序に設定される(S58)。これにより、各オブジェクトOBのマーキング(印字)加工(S24)は、そのマーキング(印字)加工で発生する加工カスに働く重力の向きとは逆の向きへ、つまり重力方向DGの下から上へ進行させられるので、加工品質に対する加工カスの影響が抑制される。 Further, in the laser machining apparatus 1 of the present embodiment, when the type of the object OB is fill (S52: YES), the machining order of each object OB is set to the first order (S58). As a result, the marking (printing) processing (S24) of each object OB proceeds in the direction opposite to the direction of gravity acting on the processing residue generated by the marking (printing) processing, that is, from the bottom to the top of the gravity direction DG. Therefore, the influence of the processing residue on the processing quality is suppressed.

これに対して、オブジェクトOBの種類が線である場合(S52:NO)、一のオブジェクトOBのマーキング(印字)加工時に発生する加工カスが、他のオブジェクトOBの加工品質に対して与える影響は、オブジェクトOBの種類が線であることによって弱くなる。そのような場合、本実施形態のレーザ加工装置1では、各オブジェクトOBの加工順序が、第1順序とは異なる第2順序(オブジェクトOBの入力順であるデフォルト)に設定され得る(S60)。 On the other hand, when the type of the object OB is a line (S52: NO), the processing residue generated during the marking (printing) processing of one object OB has an influence on the processing quality of the other object OB. , It becomes weak because the type of object OB is a line. In such a case, in the laser processing apparatus 1 of the present embodiment, the processing order of each object OB may be set to a second order (default which is the input order of the object OB) different from the first order (S60).

また、本実施形態のレーザ加工装置1では、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの水平方向における離隔距離LHが第2閾値よりも小さい場合(S56:YES)、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工順序が第1順序に設定される(S58)。これにより、隣り合う2つのオブジェクトOBのマーキング(印字)加工(S24)は、そのマーキング(印字)加工で発生する加工カスに働く重力の向きとは逆の向きへ、つまり重力方向DGの下から上へ進行させられるので、加工品質に対する加工カスの影響が抑制され得る。 Further, in the laser machining apparatus 1 of the present embodiment, when the separation distance LH in the horizontal direction of the machining region OR of the two adjacent objects OB is smaller than the second threshold value (S56: YES), the two adjacent objects OB The machining order is set to the first order (S58). As a result, the marking (printing) processing (S24) of the two adjacent objects OB is in the direction opposite to the direction of gravity acting on the processing residue generated by the marking (printing) processing, that is, from below the gravity direction DG. Since it is advanced upward, the influence of the processing residue on the processing quality can be suppressed.

これに対して、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工領域ORの水平方向における離隔距離LHが第2閾値以上の場合(S56:NO)、一方のオブジェクトOBのマーキング(印字)加工時に発生する加工カスが、他方のオブジェクトOBの加工品質に対して与える影響は、その水平方向における双方のオブジェクトOB間の隔たり(つまり、離隔距離LH)によって弱くなる。そのような場合、本実施形態のレーザ加工装置1では、隣り合う2つのオブジェクトOBの加工順序が、第1順序とは異なる第2順序(オブジェクトOBの入力順であるデフォルト)に設定される(S60)。 On the other hand, when the separation distance LH in the horizontal direction of the processing area OR of two adjacent objects OB is equal to or greater than the second threshold value (S56: NO), processing residue generated during marking (printing) processing of one object OB is generated. However, the influence on the processing quality of the other object OB is weakened by the distance between both object OBs in the horizontal direction (that is, the separation distance LH). In such a case, in the laser machining apparatus 1 of the present embodiment, the machining order of two adjacent objects OB is set to a second order (default which is the input order of the objects OB) different from the first order (default). S60).

ちなみに、本実施形態において、レーザ発振ユニット12は、「レーザ光出射ユニット」の一例である。ガルバノスキャナ18は、「走査ユニット」の一例である。CPU61及びROM63は、「制御ユニット」の一例である。TOFセンサ103は、「測距ユニット」の一例である。ワーキングディスタンスLは、「加工面までの間の距離」の一例である。XY座標系は、「2次元座標系」の一例である。第1設定処理S10は、「設定工程」の一例である。第1特定処理S14は、「特定工程」の一例である。加工処理S24は、「加工工程」の一例である。 Incidentally, in the present embodiment, the laser oscillation unit 12 is an example of the “laser beam emission unit”. The galvano scanner 18 is an example of a “scanning unit”. The CPU 61 and ROM 63 are examples of "control units". The TOF sensor 103 is an example of a “distance measuring unit”. The working distance L is an example of "distance to the machined surface". The XY coordinate system is an example of a "two-dimensional coordinate system". The first setting process S10 is an example of the “setting process”. The first specific process S14 is an example of the “specific process”. The processing process S24 is an example of a “processing process”.

尚、本開示は、本実施形態に限定されるものでなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
例えば、加工対象物7の加工面8上におけるオブジェクトOBの加工領域ORの設定は、画像処理技術等で行われてもよい。
The present disclosure is not limited to the present embodiment, and various changes can be made without departing from the spirit of the present embodiment.
For example, the processing area OR of the object OB on the processing surface 8 of the processing object 7 may be set by an image processing technique or the like.

また、本実施形態のレーザ加工装置1は、ガルバノスキャナ18からのレーザ光Pが、重力方向DGの下方側から上方側へ向けて照射されるものでもよい。また、図17に表されたように、fθレンズ19は、その主軸が重力方向DGと垂直(つまり、水平方向に平行)となるように配置されてもよい。そのような場合、ガルバノスキャナ18からのレーザ光Pは、重力方向DGとは垂直な水平方向に沿って照射され、加工対象物7は、ガルバノスキャナ18及びfθレンズ19と水平方向で対向する位置に配される。 Further, the laser processing apparatus 1 of the present embodiment may be one in which the laser beam P from the galvano scanner 18 is irradiated from the lower side to the upper side in the gravity direction DG. Further, as shown in FIG. 17, the fθ lens 19 may be arranged so that its main axis is perpendicular to the gravity direction DG (that is, parallel to the horizontal direction). In such a case, the laser beam P from the galvano scanner 18 is irradiated along the horizontal direction perpendicular to the gravity direction DG, and the workpiece 7 is positioned so as to face the galvano scanner 18 and the fθ lens 19 in the horizontal direction. Is placed in.

また、本実施形態のレーザ加工装置1は、TOFセンサセンサ13に代えて、カメラ、ポインタ光出射器、又は接触式センサ等によって、ワーキングディスタンスLを測定してもよい。 Further, the laser processing device 1 of the present embodiment may measure the working distance L by a camera, a pointer light emitter, a contact type sensor, or the like instead of the TOF sensor sensor 13.

また、図5乃至図7のフローチャートで表されたレーザ加工方法200のプログラムでは、第1設定処理(S10)、測距処理(S12)、第1特定処理(S14)、及び第1加工順序の設定処理(S58)を除き、いずれかのステップが省略されてもよい。 Further, in the program of the laser machining method 200 shown by the flowcharts of FIGS. 5 to 7, the first setting process (S10), the distance measurement process (S12), the first specific process (S14), and the first processing sequence are performed. Any step may be omitted except for the setting process (S58).

また、図6に表された走査順の設定処理(S16)では、S34及びS36の判定処理のうち、いずれか一つが省略されてもよい。 Further, in the scanning order setting process (S16) shown in FIG. 6, any one of the determination processes S34 and S36 may be omitted.

また、図7に表された第2設定処理(S22)において、S50、S52、S54、及びS56の判定処理は、少なくとも一つを除き、いずれかが省略されてもよい。 Further, in the second setting process (S22) shown in FIG. 7, any of the determination processes of S50, S52, S54, and S56 may be omitted except for at least one.

1:レーザ加工装置、7:加工対象物、8:加工面、12:レーザ発振ユニット、18:ガルバノスキャナ、61:CPU、63:ROM、103:TOFセンサ、140:第1走査順、142:第2走査順、200:レーザ加工方法、DG:重力方向、FD:焦点深度、L:ワーキングディスタンス、LD:加工領域における重力方向での最下位置と最上位置との差、LG:重力方向における離隔距離、LH:水平方向における離隔距離、OB:オブジェクト、OR:加工領域、P:レーザ光、S10:第1設定処理、S14:第1特定処理、S18:第2特定処理、S20:第3特定処理、S22:第2設定処理、S24:加工処理 1: Laser processing device, 7: Processing object, 8: Processing surface, 12: Laser oscillation unit, 18: Galvano scanner, 61: CPU, 63: ROM, 103: TOF sensor, 140: First scanning order, 142: Second scanning order, 200: Laser processing method, DG: Gravity direction, FD: Focus depth, L: Working distance, LD: Difference between the lowest position and the highest position in the gravity direction in the processing area, LG: In the gravity direction Separation distance, LH: Separation distance in the horizontal direction, OB: Object, OR: Processing area, P: Laser light, S10: First setting process, S14: First specific process, S18: Second specific process, S20: Third Specific processing, S22: Second setting processing, S24: Machining processing

Claims (11)

加工対象物の加工面に複数のオブジェクトを加工するためのレーザ光を出射するレーザ光出射ユニットと、
前記レーザ光を前記加工面に向けて照射し、走査する走査ユニットと、
制御ユニットと、を備え、
前記制御ユニットは、
前記複数のオブジェクトに含まれている各々のオブジェクトに対して前記加工面上での加工領域を設定する第1設定処理と、
前記各々のオブジェクトに対して前記加工領域の重力方向の位置を特定する第1特定処理と、
前記加工領域の重力方向の位置が下から上の順である第1順序で前記各々のオブジェクトの加工順序を設定する第2設定処理と、
前記レーザ光出射ユニット及び前記走査ユニットを制御して、前記第2設定処理で設定される加工順序で前記複数のオブジェクトを前記加工面に加工する加工処理と、を実行することを特徴とするレーザ加工装置。
A laser beam emitting unit that emits a laser beam for processing a plurality of objects on the processed surface of the object to be processed, and a laser beam emitting unit.
A scanning unit that irradiates the processed surface with the laser beam and scans the surface.
With a control unit,
The control unit is
The first setting process of setting a machining area on the machining surface for each object included in the plurality of objects, and
The first specific process of specifying the position of the processing region in the gravity direction for each of the objects, and
The second setting process of setting the machining order of each object in the first order in which the positions of the machining areas in the gravity direction are in the order from bottom to top, and
A laser characterized by controlling the laser beam emitting unit and the scanning unit to perform a processing process of processing the plurality of objects on the processed surface in a processing order set in the second setting process. Processing equipment.
前記レーザ加工装置は、前記加工面までの間の距離を測定する測距ユニットを備え、
前記走査ユニットは、前記加工対象物に対して重力方向の上方側に配置され、
前記制御ユニットは、前記第1特定処理を実行する際において、前記測距ユニットで測定する前記距離に基づいて、前記加工領域の重力方向の位置を特定することを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
The laser machining apparatus includes a ranging unit that measures the distance to the machined surface.
The scanning unit is arranged on the upper side in the direction of gravity with respect to the object to be processed.
The first aspect of the present invention, wherein the control unit specifies the position of the processing region in the gravity direction based on the distance measured by the distance measuring unit when executing the first specific processing. Laser processing equipment.
前記各々のオブジェクトの各形状は、重力方向に垂直な2次元座標系で定義される複数の座標で特定され、
前記制御ユニットは、前記第1特定処理を実行する際において、前記測距ユニットで前記複数の座標に含まれる各々の座標について前記距離を測定することを特徴とする請求項2に記載のレーザ加工装置。
Each shape of each of the objects is specified by a plurality of coordinates defined in a two-dimensional coordinate system perpendicular to the direction of gravity.
The laser processing according to claim 2, wherein the control unit measures the distance for each coordinate included in the plurality of coordinates by the distance measuring unit when executing the first specific process. Device.
前記制御ユニットは、前記第1特定処理を実行する際において、前記各々のオブジェクト毎に、前記加工領域における重力方向での最下位置を、前記加工領域の重力方向の位置として特定することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。 The control unit is characterized in that, when executing the first specific process, the lowest position in the machining region in the gravity direction is specified as the position in the gravity direction of the machining region for each of the objects. The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 3. 前記制御ユニットは、前記加工処理を実行する際において、前記各々のオブジェクトのうち、前記加工領域が重力方向に幅を有する一のオブジェクトについては、前記レーザ光が前記加工面上を重力方向の下方側から上方側へ向かって走査する第1走査順で前記走査ユニットを制御することを特徴とする請求項4に記載のレーザ加工装置。 When the control unit executes the machining process, for one object whose machining region has a width in the gravity direction among the objects, the laser beam is downward on the machining surface in the gravity direction. The laser processing apparatus according to claim 4, wherein the scanning unit is controlled in the first scanning order of scanning from the side to the upper side. 前記制御ユニットは、前記加工処理を実行する際において、前記一のオブジェクトについて、前記加工領域における重力方向での最下位置と最上位置との差が前記レーザ光の焦点深度よりも大きい場合は、前記第1走査順で前記走査ユニットを制御する一方、前記差が前記焦点深度以下の場合は、前記第1走査順とは異なる第2走査順で前記走査ユニットを制御することを特徴とする請求項5に記載のレーザ加工装置。 When the control unit executes the processing, the difference between the lowest position and the highest position in the processing region in the gravity direction of the one object is larger than the depth of focus of the laser beam. A claim characterized in that the scanning unit is controlled in the first scanning order, while the scanning unit is controlled in a second scanning order different from the first scanning order when the difference is equal to or less than the depth of focus. Item 5. The laser processing apparatus according to Item 5. 前記制御ユニットは、前記第2設定処理を実行する際において、隣り合う2つのオブジェクトの前記加工領域の重力方向における離隔距離が第1閾値よりも小さい場合は、前記隣り合う2つのオブジェクトの加工順序を前記第1順序で設定する一方、前記重力方向における離隔距離が前記第1閾値以上の場合は、前記隣り合う2つのオブジェクトの加工順序を前記第1順序とは異なる第2順序で設定することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。 When the control unit executes the second setting process, if the separation distance of the two adjacent objects in the gravity direction of the processing region is smaller than the first threshold value, the processing order of the two adjacent objects is small. Is set in the first order, while the separation distance in the gravity direction is equal to or greater than the first threshold value, the processing order of the two adjacent objects is set in a second order different from the first order. The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the laser processing apparatus is characterized. 前記制御ユニットは、
前記加工対象物の種別を特定する第2特定処理を実行し、
前記第2設定処理の実行により、前記種別が第1種別であると特定される場合は、前記複数のオブジェクトの加工順序を前記第1順序に設定する一方、前記種別が前記第1種別以外であると特定される場合は、前記複数のオブジェクトの加工順序を前記第1順序とは異なる第2順序に設定することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。
The control unit is
The second specific process for specifying the type of the object to be processed is executed.
When the type is specified to be the first type by executing the second setting process, the processing order of the plurality of objects is set to the first order, while the type is other than the first type. The laser according to any one of claims 1 to 6, wherein the processing order of the plurality of objects is set to a second order different from the first order when it is specified to be present. Processing equipment.
前記制御ユニットは、
前記複数のオブジェクトの種類を特定する第3特定処理を実行し、
前記第2設定処理の実行により、前記種類が塗り潰しであると特定される場合は、前記複数のオブジェクトの加工順序を前記第1順序に設定する一方、前記種類が線であると特定される場合は、前記複数のオブジェクトの加工順序を前記第1順序とは異なる第2順序に設定することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。
The control unit is
The third specific process for specifying the types of the plurality of objects is executed, and
When the type is specified to be filled by executing the second setting process, the processing order of the plurality of objects is set to the first order, while the type is specified to be a line. The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the processing order of the plurality of objects is set to a second order different from the first order.
前記制御ユニットは、前記第2設定処理を実行する際において、隣り合う2つのオブジェクトの前記加工領域の水平方向における離隔距離が第2閾値よりも小さい場合は、前記隣り合う2つのオブジェクトの加工順序を前記第1順序で設定する一方、前記水平方向における離隔距離が前記第2閾値以上の場合は、前記隣り合う2つのオブジェクトの加工順序を前記第1順序とは異なる第2順序で設定することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。 When the control unit executes the second setting process, if the separation distance of the two adjacent objects in the horizontal direction in the horizontal direction is smaller than the second threshold value, the processing order of the two adjacent objects is small. Is set in the first order, while the separation distance in the horizontal direction is equal to or greater than the second threshold value, the processing order of the two adjacent objects is set in a second order different from the first order. The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the laser processing apparatus is characterized. レーザ光出射ユニットから出射するレーザ光を走査ユニットで加工対象物の加工面に向けて照射し、走査することによって、複数のオブジェクトを前記加工面に加工するレーザ加工方法であって、
前記複数のオブジェクトに含まれる各々のオブジェクトに対して前記加工面上での加工領域を設定する設定工程と、
前記各々のオブジェクトに対して前記加工領域の重力方向の位置を特定する特定工程と、
前記加工領域の重力方向の位置が下から上の順で前記各々のオブジェクトを加工する加工工程と、を備えることを特徴とするレーザ加工方法。
A laser processing method in which a plurality of objects are machined on the machined surface by irradiating the machined surface of the object to be machined with the laser light emitted from the laser light emitting unit and scanning the scanning unit.
A setting process for setting a machining area on the machining surface for each object included in the plurality of objects, and a setting step.
A specific step of specifying the position of the processing region in the gravity direction for each of the objects, and
A laser machining method comprising a machining step of machining each of the objects in the order in which the position of the machining region in the gravity direction is from bottom to top.
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