JP2021117482A - 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】画像表示装置に適用した場合に高温高湿環境下における信頼性に優れ、反射率上昇を抑制し得る薄型の位相差層付偏光板を提供すること。【解決手段】本発明の位相差層付偏光板は、偏光子を含む偏光板と、位相差層と、粘着剤層と、を視認側からこの順に有する。位相差層は円偏光機能または楕円偏光機能を有する液晶化合物の配向固化層である。位相差層付偏光板においては、偏光子と粘着剤層との間に、樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物または熱硬化物であるヨウ素透過抑制層が設けられており、ヨウ素透過抑制層のヨウ素吸収指数は０．０１５以下である。【選択図】図１Ａ

Description

本発明は、位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置に関する。

近年、液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、代表的には偏光板および位相差板が用いられている。実用的には、偏光板と位相差板とを一体化した位相差層付偏光板が広く用いられているところ（例えば、特許文献１）、最近、画像表示装置の薄型化への要望が強くなるに伴って、位相差層付偏光板についても薄型化の要望が強まっている。位相差層付偏光板の薄型化を目的として、厚みに対する寄与の大きい偏光子の保護層の薄型化（または省略）ならびに位相差フィルムの薄型化が進んでいる。しかし、薄型の位相差層付偏光板を画像表示装置に適用すると、高温高湿環境下において信頼性が不十分となる場合がある。より詳細には、位相差層付偏光板は代表的には反射防止フィルムとして用いられるところ、高温高湿環境下において画像表示装置の反射率が大きくなってしまう場合がある。また、薄型の位相差層付偏光板を画像表示装置に適用すると、画像表示装置の金属部材（例えば、電極、センサー、配線、金属層）が腐食する場合がある。

特許第３３２５５６０号公報

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、画像表示装置に適用した場合に高温高湿環境下における信頼性に優れ、反射率上昇を抑制し得る薄型の位相差層付偏光板を提供することにある。

本発明の位相差層付偏光板は、偏光子を含む偏光板と、位相差層と、粘着剤層と、を視認側からこの順に有し、該位相差層は円偏光機能または楕円偏光機能を有する液晶化合物の配向固化層である。位相差層付偏光板においては、該偏光子と該粘着剤層との間に、樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物または熱硬化物であるヨウ素透過抑制層が設けられており、該ヨウ素透過抑制層のヨウ素吸収指数は０．０１５以下である。
１つの実施形態においては、上記ヨウ素透過抑制層は、上記偏光子と上記位相差層との間に設けられている。別の実施形態においては、上記ヨウ素透過抑制層は、上記位相差層と上記粘着剤層との間に設けられている。
１つの実施形態においては、上記ヨウ素透過抑制層は、上記偏光子と上記粘着剤層との間に２層以上設けられている。
１つの実施形態においては、前記ヨウ素透過抑制層のカリウム吸収指数は０．０１５以下である。
１つの実施形態においては、上記該ヨウ素透過抑制層を構成する樹脂のガラス転移温度は８５℃以上であり、かつ、重量平均分子量Ｍｗは２５０００以上である。
１つの実施形態においては、上記ヨウ素透過抑制層を構成する樹脂は、５０重量部を超える（メタ）アクリル系単量体と０重量部を超えて５０重量部未満の式（１）で表される単量体とを含むモノマー混合物を重合することにより得られる共重合体を含む：

（式中、Ｘはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、または、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｒ^１およびＲ^２は互いに連結して環を形成してもよい）。
１つの実施形態においては、上記位相差層は単一層であり、該位相差層のＲｅ（５５０）は１００ｎｍ〜１９０ｎｍであり、該位相差層の遅相軸と上記偏光子の吸収軸とのなす角度は４０°〜５０°である。
１つの実施形態においては、上記位相差層は、第１の液晶化合物の配向固化層と第２の液晶化合物の配向固化層との積層構造を有し；該第１の液晶化合物の配向固化層のＲｅ（５５０）は２００ｎｍ〜３００ｎｍであり、その遅相軸と上記偏光子の吸収軸とのなす角度は１０°〜２０°であり；該第２の液晶化合物の配向固化層のＲｅ（５５０）は１００ｎｍ〜１９０ｎｍであり、その遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度は７０°〜８０°である。
１つの実施形態においては、上記位相差層付偏光板は、上記位相差層と上記粘着剤層との間に別の位相差層をさらに有し、該別の位相差層の屈折率特性はｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す。
１つの実施形態においては、上記位相差層付偏光板は、上記ヨウ素透過抑制層と上記粘着剤層との間に導電層または導電層付等方性基材をさらに有する。
１つの実施形態においては、上記位相差層付偏光板は、総厚みが６０μｍ以下である。
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記の位相差層付偏光板を備える。
１つの実施形態においては、上記画像表示装置は、有機エレクトロルミネセンス表示装置または無機エレクトロルミネセンス表示装置である。

本発明の実施形態によれば、薄型の位相差層付偏光板の所定の位置に所定のヨウ素吸収指数を有するヨウ素透過抑制層を設けることにより、当該位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に、高温高湿環境下における反射率上昇を抑制することができる。

本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。 本発明の別の実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。 本発明のさらに別の実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。 本発明のさらに別の実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。 本発明のさらに別の実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。 本発明のさらに別の実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は±４５°を意味する。

Ａ．位相差層付偏光板の全体構成
図１Ａは、本発明の１つの実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図であり；図１Ｂは、本発明の別の実施形態による位相差層付偏光板の概略断面図である。図１Ａおよび図１Ｂの位相差層付偏光板１００、１０１はそれぞれ、偏光板１０と位相差層２０と粘着剤層３０とを視認側からこの順に有する。偏光板１０は、代表的には、偏光子１１と、偏光子１１の視認側に配置された保護層１２と、を含む。目的に応じて、偏光子１１の視認側（保護層１２）と反対側に別の保護層（図示せず）が設けられてもよい。位相差層２０は、円偏光機能または楕円偏光機能を有する液晶化合物の配向固化層（以下、単に液晶配向固化層と称する場合がある）である。粘着剤層３０は最外層として設けられ、位相差層付偏光板は画像表示装置（実質的には、画像表示セル）に貼り付け可能とされている。

本発明の実施形態においては、偏光子１１と粘着剤層３０との間に、ヨウ素透過抑制層４０が設けられている。ヨウ素透過抑制層４０は、図１Ａに示すように偏光子１１と位相差層２０との間に（すなわち、偏光子１１に隣接して）設けられてもよく、図１Ｂに示すように位相差層２０と粘着剤層３０との間に設けられてもよい。ヨウ素透過抑制層を偏光子と位相差層との間に設ける場合には、（特に、偏光子にヨウ素透過抑制層を隣接させる場合）には、高温高湿環境下における偏光子からのヨウ素移行抑制が可能となり信頼性が向上するという利点がある。ヨウ素透過抑制層を位相差層と粘着剤層との間に設ける場合（特に、粘着剤層にヨウ素透過抑制層を隣接させる場合）には、ヨウ素以外の金属腐食に影響すると考えられる成分（例えば、紫外線硬化接着剤中の残渣モノマー成分、光開始剤の分解物）についても同時に粘着剤中への移行を防止可能であり、金属腐食抑制効果がさらに高まるという利点がある。

位相差層付偏光板においては、偏光子と粘着剤層との間に、ヨウ素透過抑制層が２層以上設けられてもよい(例えば、図４および図５)。位相差層付偏光板が２層以上のヨウ素透過抑制層を有することにより、位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に金属部材の腐食を顕著に抑制することができる。

図４に示す位相差層付偏光板においては、偏光子と粘着剤層との間に、ヨウ素透過抑制層が２層設けられている。図４に示す例においては、ヨウ素透過抑制層は、偏光子１１と位相差層２０との間、および、位相差層２０と粘着剤層３０との間に２層が設けられている。１つの実施形態においては、ヨウ素透過抑制層は偏光子に隣接して設けられている。別の実施形態においては、ヨウ素透過抑制層は位相差層に隣接して設けられている。本明細書における「隣接している」とは、接着層等を介さず直接積層されていることを示す。

図５に示す位相差層付偏光板においては、偏光子と粘着剤層との間に、ヨウ素透過抑制層が３層設けられている。図５に示す例においては、ヨウ素透過抑制層は、偏光子１１と位相差層２０との間に２層が設けられ、位相差層２０と粘着剤層３０との間に１層が設けられている。偏光子１１と位相差層２０との間の２層のヨウ素透過抑制層は、一方は偏光子に隣接して設けられ、もう一方は位相差層に隣接して設けられている。

位相差層付偏光板においては、ヨウ素透過抑制層が４層以上（例えば、４層、５層、６層）であってもよい。ヨウ素透過抑制層の数が多いほど、金属腐食抑制効果を高めることができる。ヨウ素透過抑制層の数は、コスト、製造効率、位相差層付偏光板の層厚み等を考慮して設定され得る。

ヨウ素透過抑制層は、ヨウ素吸収指数が０．０１５以下である。このようなヨウ素透過抑制層を位相差層付偏光板の所定の位置に設けることにより、位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に偏光子中のヨウ素が画像表示装置（実質的には、画像表示セル）に移行することを顕著に抑制することができる。その結果、位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に、高温高湿環境下においてヨウ素に起因する信頼性低下を抑制し、したがって反射率上昇を抑制することができる。さらに、ヨウ素透過抑制層は、カリウム吸収指数が好ましくは０．０１５以下である。ヨウ素透過抑制層が所定値以下のヨウ素吸収指数に加えて所定値以下のカリウム吸収指数を有することにより、高温高湿環境下においてヨウ素に起因する信頼性低下をさらに抑制し、したがって反射率上昇をさらに抑制することができる。

このような効果は、薄型の位相差層付偏光板（代表的には、位相差層が液晶配向固化層である位相差層付偏光板）に特有の効果である。すなわち、本発明者らは、薄型の位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に高温高湿環境下において反射率が上昇する場合があるという問題を新たに発見し、このような問題はヨウ素に起因し得ることを解明した。そして、試行錯誤の結果、ヨウ素の画像表示装置（実質的には、画像表示セル）への移行を防止する手段として、上記のようなヨウ素吸収指数を有するヨウ素透過抑制層が有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、このような効果は、従来知られていなかった新たな課題を解決するものであり、予期せぬ優れた効果である。さらに、後述するように、ヨウ素透過抑制層は非常に薄く形成することができ、かつ、ヨウ素透過抑制層を設けることにより視認側と反対側の保護層を省略することができるので、これらの相乗的な効果により、位相差層付偏光板のさらなる薄型化にも寄与し得る。なお、このようなヨウ素透過抑制層は、画像表示装置の金属部材（例えば、電極、センサー、配線、金属層）の腐食を顕著に抑制することができるという効果も有し得る。

図２に示すように、さらに別の実施形態による位相差層付偏光板１０２においては、別の位相差層５０ならびに／あるいは導電層または導電層付等方性基材６０が設けられてもよい。別の位相差層５０は、代表的には、位相差２０と粘着剤層３０との間（すなわち、位相差層２０の外側）に設けられる。別の位相差層は、代表的には、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す。導電層または導電層付等方性基材６０は、代表的には、ヨウ素透過抑制層４０と粘着剤層３０との間（すなわち、ヨウ素透過抑制層４０の外側）に設けられる。別の位相差層５０ならびに導電層または導電層付等方性基材６０は、代表的には、位相差層２０側からこの順に設けられる。図示例においては、ヨウ素透過抑制層４０、位相差層２０、別の位相差層５０、ならびに導電層または導電層付等方性基材６０が視認側からこの順に設けられているが、別の位相差層５０が位相差２０と粘着剤層３０との間に設けられ、導電層または導電層付等方性基材６０がヨウ素透過抑制層４０と粘着剤層３０との間に設けられる限りにおいて、任意の適切な配置順序が採用され得る。別の位相差層５０ならびに導電層または導電層付等方性基材６０は、代表的には、必要に応じて設けられる任意の層であり、いずれか一方または両方が省略されてもよい。なお、便宜上、位相差層２０を第１の位相差層と称し、別の位相差層５０を第２の位相差層と称する場合がある。導電層または導電層付等方性基材が設けられる場合、位相差層付偏光板は、画像表示セル（例えば、有機ＥＬセル）と偏光板との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。本発明の実施形態においては、導電層または導電層付等方性基材６０をヨウ素透過抑制層４０の外側に設けることにより、導電層の腐食が顕著に抑制され得る。

上記のとおり、第１の位相差層２０は液晶配向固化層である。第１の位相差層２０は図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示すような単一層であってもよく、図３に示すような第１の液晶配向固化層２１と第２の液晶配向固化層２２との積層構造を有していてもよい。

上記の実施形態は適宜組み合わせてもよく、上記の実施形態における構成要素に当業界で自明の改変を加えてもよい。例えば、図１Ｂの位相差層付偏光板１０１に第２の位相差層５０ならびに／あるいは導電層または導電層付等方性基材６０が設けられてもよく；図１Ｂの位相差層付偏光板１０１の位相差層２０が図３のような２層構造を有していてもよく；図３の位相差層付偏光板１０３に第２の位相差層５０ならびに／あるいは導電層または導電層付等方性基材６０が設けられてもよく；図２の位相差層付偏光板１０２のヨウ素透過抑制層４０が位相差層２０と導電層または導電層付等方性基材６０との間に設けられてもよい。

本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、その他の位相差層をさらに含んでいてもよい。その他の位相差層の光学的特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数、光弾性係数）、厚み、配置位置等は、目的に応じて適切に設定され得る。

本発明の実施形態による位相差層付偏光板は、枚葉状であってもよく長尺状であってもよい。本明細書において「長尺状」とは、幅に対して長さが十分に長い細長形状を意味し、例えば、幅に対して長さが１０倍以上、好ましくは２０倍以上の細長形状を含む。長尺状の位相差層付偏光板は、ロール状に巻回可能である。

位相差層付偏光板の総厚みは、好ましくは６０μｍ以下であり、より好ましくは５５μｍ以下であり、さらに好ましくは５０μｍ以下であり、特に好ましくは４０μｍ以下である。総厚みの下限は、例えば２８μｍであり得る。本発明の実施形態によれば、このようにきわめて薄い位相差層付偏光板を実現することができ、さらに、このようなきわめて薄い位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合であっても、高温高湿環境下においてヨウ素に起因する信頼性低下を抑制し、したがって反射率上昇を抑制することができる。さらに、画像表示装置の金属部材（例えば、電極、センサー、配線、金属層）の腐食を顕著に抑制することができる。また、このような位相差層付偏光板は、きわめて優れた可撓性および折り曲げ耐久性を有し得る。したがって、このような位相差層付偏光板は、湾曲した画像表示装置および／または折り曲げもしくは折り畳み可能な画像表示装置に特に好適に適用され得る。なお、位相差層付偏光板の総厚みとは、偏光板、位相差層（第１の位相差層および存在する場合には第２の位相差層）、ヨウ素透過抑制層およびこれらを積層するための接着剤層または粘着剤層の厚みの合計をいう（すなわち、位相差層付偏光板の総厚みは、導電層または導電層付等方性基材６０、ならびに、粘着剤層３０およびその表面に仮着され得る剥離フィルムの厚みを含まない）。

実用的には、粘着剤層３０の表面には、位相差層付偏光板が使用に供されるまで、剥離フィルムが仮着されていることが好ましい。剥離フィルムを仮着することにより、粘着剤層を保護するとともに、位相差層付偏光板のロール形成が可能となる。

以下、位相差層付偏光板の構成要素について、より詳細に説明する。なお、粘着剤層３０については業界で周知の構成が採用され得るので、粘着剤層の詳細な構成については記載を省略する。

Ｂ．偏光板
Ｂ−１．偏光子
偏光子は、代表的には、二色性物質を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルムで構成される。偏光子の厚みは、好ましくは１μｍ〜８μｍであり、より好ましくは１μｍ〜７μｍであり、さらに好ましくは２μｍ〜５μｍである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、位相差層付偏光板の薄型化に大きく貢献し得る。さらに、このような偏光子を用いる薄型の位相差層付偏光板において、本発明の効果が顕著である。

偏光子のホウ酸含有量は、好ましくは１０重量％以上であり、より好ましくは１３重量％〜２５重量％である。偏光子のホウ酸含有量がこのような範囲であれば、後述のヨウ素含有量との相乗的な効果により、貼り合わせ時のカール調整の容易性を良好に維持し、かつ、加熱時のカールを良好に抑制しつつ、加熱時の外観耐久性を改善することができる。ホウ酸含有量は、例えば、中和法から下記式を用いて、単位重量当たりの偏光子に含まれるホウ酸量として算出することができる。

偏光子のヨウ素含有量は、好ましくは２重量％以上であり、より好ましくは２重量％〜１０重量％である。偏光子のヨウ素含有量がこのような範囲であれば、上記のホウ酸含有量との相乗的な効果により、貼り合わせ時のカール調整の容易性を良好に維持し、かつ、加熱時のカールを良好に抑制しつつ、加熱時の外観耐久性を改善することができる。本明細書において「ヨウ素含有量」とは、偏光子（ＰＶＡ系樹脂フィルム）中に含まれるすべてのヨウ素の量を意味する。より具体的には、偏光子中においてヨウ素はヨウ素イオン（Ｉ⁻）、ヨウ素分子（Ｉ_２）、ポリヨウ素イオン（Ｉ_３ ⁻、Ｉ_５ ⁻）等の形態で存在するところ、本明細書におけるヨウ素含有量は、これらの形態をすべて包含したヨウ素の量を意味する。ヨウ素含有量は、例えば、蛍光Ｘ線分析の検量線法により算出することができる。なお、ポリヨウ素イオンは、偏光子中でＰＶＡ−ヨウ素錯体を形成した状態で存在している。このような錯体が形成されることにより、可視光の波長範囲において吸収二色性が発現し得る。具体的には、ＰＶＡと三ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ_３ ⁻）は４７０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、ＰＶＡと五ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ_５ ⁻）は６００ｎｍ付近に吸光ピークを有する。結果として、ポリヨウ素イオンは、その形態に応じて可視光の幅広い範囲で光を吸収し得る。一方、ヨウ素イオン（Ｉ⁻）は２３０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、可視光の吸収には実質的には関与しない。したがって、ＰＶＡとの錯体の状態で存在するポリヨウ素イオンが、主として偏光子の吸収性能に関与し得る。

偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率Ｔｓは、好ましくは４０％〜４８％であり、より好ましくは４１％〜４６％である。偏光子の偏光度Ｐは、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。上記単体透過率は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定し、視感度補正を行なったＹ値である。上記偏光度は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定して視感度補正を行なった平行透過率Ｔｐおよび直交透過率Ｔｃに基づいて、下記式により求められる。
偏光度（％）＝｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝^１／２×１００

偏光子は、代表的には、二層以上の積層体を用いて作製され得る。積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２−７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。

偏光子の製造方法は、代表的には、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること、および、上記積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理と、をこの順に施すことを含む。これにより、非常に薄型で、優れた光学特性を有するとともに光学特性のバラつきが抑制された偏光子が提供され得る。すなわち、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性を向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。

Ｂ−２．保護層
保護層１２は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。

位相差層付偏光板は、後述するように代表的には画像表示装置の視認側に配置され、保護層１２は、代表的にはその視認側に配置される。したがって、保護層１２には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。さらに／あるいは、保護層１２には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理（代表的には、（楕）円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること）が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、位相差層付偏光板は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。

保護層の厚みは、好ましくは１０μｍ〜５０μｍ、より好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。なお、表面処理が施されている場合、外側保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。

Ｃ．第１の位相差層
第１の位相差層２０は、上記のとおり、液晶配向固化層である。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、位相差層付偏光板のさらなる薄型化を実現することができる。本明細書において「液晶配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。本実施形態においては、代表的には、棒状の液晶化合物が第１の位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。

液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。

液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋（すなわち、硬化）させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第１の位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第１の位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。

液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃〜１００℃であり、最も好ましくは６０℃〜９０℃である。

上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。

液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。１つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された液晶配向固化層は、隣接層（例えば、偏光子、ヨウ素透過抑制層）の表面に転写され得る。

上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。

液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。

配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。

液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６−１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。

１つの実施形態においては、第１の位相差層２０は、図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示すように単一層である。第１の位相差層２０が単一層で構成される場合、その厚みは、好ましくは０．５μｍ〜７μｍであり、より好ましくは１μｍ〜５μｍである。液晶化合物を用いることにより、樹脂フィルムよりも格段に薄い厚みで樹脂フィルムと同等の面内位相差を実現することができる。

第１の位相差層は、上記のとおり円偏光機能または楕円偏光機能を有する。第１の位相差層は、代表的には、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を示す。第１の位相差層は、代表的には偏光板に反射防止特性を付与するために設けられ、第１の位相差層が単一層である場合にはλ／４板として機能し得る。この場合、第１の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ〜１９０ｎｍ、より好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍ、さらに好ましくは１３０ｎｍ〜１６０ｎｍである。なお、ここで「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＞ｎｚまたはｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。

第１の位相差層のＮｚ係数は、好ましくは０．９〜１．５であり、より好ましくは０．９〜１．３である。このような関係を満たすことにより、得られる位相差層付偏光板を画像表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。

第１の位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。１つの実施形態においては、第１の位相差層は、逆分散波長特性を示す。この場合、位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．８以上１未満であり、より好ましくは０．８以上０．９５以下である。このような構成であれば、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。

第１の位相差層２０の遅相軸と偏光子１１の吸収軸とのなす角度θは、好ましくは４０°〜５０°であり、より好ましくは４２°〜４８°であり、さらに好ましくは約４５°である。角度θがこのような範囲であれば、上記のように第１の位相差層をλ／４板とすることにより、非常に優れた円偏光特性（結果として、非常に優れた反射防止特性）を有する位相差層付偏光板が得られ得る。

別の実施形態においては、第１の位相差層２０は、図３に示すように第１の液晶配向固化層２１と第２の液晶配向固化層２２との積層構造を有し得る。この場合、第１の液晶配向固化層２１および第２の液晶配向固化層２２のいずれか一方がλ／４板として機能し、他方がλ／２板として機能し得る。したがって、第１の液晶配向固化層２１および第２の液晶配向固化層２２の厚みは、λ／４板またはλ／２板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。例えば、第１の液晶配向固化層２１がλ／２板として機能し、第２の液晶配向固化層２２がλ／４板として機能する場合、第１の液晶配向固化層２１の厚みは例えば２．０μｍ〜３．０μｍであり、第２の液晶配向固化層２２の厚みは例えば１．０μｍ〜２．０μｍである。この場合、第１の液晶配向固化層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは２００ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは２３０ｎｍ〜２９０ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。第２の液晶配向固化層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、単一層に関して上記で説明したとおりである。第１の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°〜２０°であり、より好ましくは１２°〜１８°であり、さらに好ましくは約１５°である。第２の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは７０°〜８０°であり、より好ましくは７２°〜７８°であり、さらに好ましくは約７５°である。このような構成であれば、理想的な逆波長分散特性に近い特性を得ることが可能であり、結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。第１の液晶配向固化層および第２の液晶配向固化層を構成する液晶化合物、第１の液晶配向固化層および第２の液晶配向固化層の形成方法、光学特性等については、単一層に関して上記で説明したとおりである。

Ｄ．ヨウ素透過抑制層
ヨウ素透過抑制層は、上記のとおり、ヨウ素吸収指数が０．０１５以下である。ヨウ素吸収指数は、好ましくは０．０１２以下であり、より好ましくは０．００９以下であり、さらに好ましくは０．００７以下であり、特に好ましくは０．００５以下である。ヨウ素吸収指数は小さいほど好ましく、理想的にはゼロであり、その下限は例えば０．００１であり得る。ヨウ素吸収指数は、ヨウ素透過抑制層のヨウ素透過抑制能力の指標であり、この指数が小さいほどヨウ素がヨウ素透過抑制層に吸収されにくい（すなわち、ヨウ素がヨウ素透過抑制層によって遮断されやすい）ことを示す。したがって、ヨウ素吸収指数がこのような範囲であれば、位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に偏光子中のヨウ素が画像表示装置（実質的には、画像表示セル）に移行することを顕著に抑制することができる。その結果、位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に、高温高湿環境下においてヨウ素に起因する信頼性低下を抑制し、したがって反射率上昇を抑制することができる。さらに、ヨウ素透過抑制層は、上記のとおり、カリウム吸収指数が好ましくは０．０１５以下である。カリウム吸収指数は、より好ましくは０．０１３以下であり、さらに好ましくは０．０１１以下であり、特に好ましくは０．００９以下である。カリウム吸収指数は小さいほど好ましく、理想的にはゼロであり、その下限は例えば０．００２であり得る。カリウム吸収指数は、ヨウ素透過抑制層のカリウム透過抑制能力の指標であり、この指数が小さいほどカリウムがヨウ素透過抑制層に吸収されにくく、その結果、ヨウ化カリウムの形態のヨウ素およびポリヨウ素カリウム（Ｉ_３ ⁻Ｋ^＋）の形態のヨウ素がヨウ素透過抑制層に吸収されにくいことを示す。したがって、カリウム吸収指数がこのような範囲であれば、ヨウ素単体のみならずヨウ化カリウムおよびポリヨウ素カリウムの形態でもヨウ素の移行を抑制することができる。ヨウ素吸収指数は、ヨウ素透過抑制層の蛍光Ｘ線分析により得られるヨウ素強度（ｋｃｐｓ）として規定され得、カリウム吸収指数は、ヨウ素透過抑制層の蛍光Ｘ線分析により得られるカリウム強度（ｋｃｐｓ）として規定され得る。

ヨウ素透過抑制層は、代表的には、樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物または熱硬化物である。樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物または熱硬化物である。このような構成であれば、厚みを非常に薄く（例えば、１０μｍ以下に）することができる。ヨウ素透過抑制層の厚みは、好ましくは０．０５μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．０８μｍ〜５μｍであり、さらに好ましくは０．１μｍ〜１μｍであり、特に好ましくは０．２μｍ〜０．７μｍである。さらに、このような構成であれば、ヨウ素透過抑制層を隣接層（例えば、偏光子、位相差層）に直接（すなわち、接着剤層または粘着剤層を介することなく）形成することができる。本発明の実施形態によれば、上記のとおり偏光子、位相差層およびヨウ素透過抑制層が非常に薄く、かつ、ヨウ素透過抑制層を積層するための接着剤層または粘着剤層を省略することができるので、位相差層付偏光板の総厚みをきわめて薄くすることができる。さらに、このようなヨウ素透過抑制層は、水溶液または水分散体のような水系の塗布膜の固化物に比べて吸湿性および透湿性が小さいので加湿耐久性に優れるという利点を有する。その結果、高温高湿環境下においても光学特性を維持し得る、耐久性に優れた位相差層付偏光板を実現することができる。また、このようなヨウ素透過抑制層は、例えば紫外線硬化性樹脂の硬化物に比べて紫外線照射による偏光板（偏光子）に対する悪影響を抑制することができる。ヨウ素透過抑制層は、好ましくは、樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物である。固化物は、硬化物に比べてフィルム成形時の収縮が小さい、および、残存モノマー等が含まれないのでフィルム自体の劣化が抑制され、かつ、残存モノマー等に起因する偏光板（偏光子）に対する悪影響を抑制することができる。

さらに、ヨウ素透過抑制層を構成する樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は例えば８５℃以上であり、重量平均分子量Ｍｗは例えば２５０００以上である。当該樹脂のＴｇおよびＭｗがこのような範囲であれば、ヨウ素透過抑制層を樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物または熱硬化物で構成することによる効果との相乗的な効果により、非常に薄いにもかかわらず、偏光子中のヨウ素の画像表示セルへの移行を顕著に抑制することができる。結果として、位相差層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に、高温高湿環境下においてヨウ素に起因する信頼性低下を抑制し、したがって反射率上昇を抑制することができる。さらに、金属部材の腐食を顕著に抑制することができる。当該樹脂のＴｇは、好ましくは９０℃以上であり、より好ましくは１００℃以上であり、さらに好ましくは１１０℃以上であり、特に好ましくは１２０℃以上である。Ｔｇの上限は、例えば２００℃であり得る。また、当該樹脂のＭｗは、好ましくは３００００以上であり、より好ましくは３５０００以上であり、さらに好ましくは４００００以上である。Ｍｗの上限は、例えば１５００００であり得る。

ヨウ素透過抑制層を構成する樹脂としては、有機溶媒溶液の塗布膜の固化物または熱硬化物を形成可能であり、かつ上記のようなＴｇおよびＭｗを有する限りにおいて、任意の適切な熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂を用いることができる。好ましくは、熱可塑性樹脂である。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂が挙げられる。アクリル系樹脂とエポキシ系樹脂とを組み合わせて用いてもよい。以下、ヨウ素透過抑制層に用いられ得るアクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂の代表例を説明する。

アクリル系樹脂は、代表的には、直鎖または分岐構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体由来の繰り返し単位を主成分として含有する。本明細書において、（メタ）アクリルとは、アクリルおよび／またはメタクリルをいう。アクリル系樹脂は、目的に応じた任意の適切な共重合単量体由来の繰り返し単位を含有し得る。共重合単量体（共重合モノマー）としては、例えば、カルボキシル基含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマー、アミド基含有モノマー、芳香環含有（メタ）アクリレート、複素環含有ビニル系モノマーが挙げられる。モノマー単位の種類、数、組み合わせおよび共重合比等を適切に設定することにより、上記所定のＭｗを有するアクリル系樹脂が得られ得る。

＜ホウ素含有アクリル系樹脂＞
アクリル系樹脂は、１つの実施形態においては、５０重量部を超える（メタ）アクリル系単量体と０重量部を超えて５０重量部未満の式（１）で表される単量体（以下、共重合単量体と称する場合がある）とを含むモノマー混合物を重合することにより得られる共重合体（以下、ホウ素含有アクリル系樹脂と称する場合がある）を含む：

（式中、Ｘはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、または、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｒ^１およびＲ^２は互いに連結して環を形成してもよい）。

ホウ素含有アクリル系樹脂は、代表的には下記式で表される繰り返し単位を有する。式（１）で表される共重合単量体と（メタ）アクリル系単量体とを含むモノマー混合物を重合することにより、ホウ素含有アクリル系樹脂は側鎖にホウ素を含む置換基（例えば、下記式中ｋの繰り返し単位）を有する。これにより、ヨウ素透過抑制層を偏光子に隣接して配置した場合に偏光子との密着性が向上し得る。このホウ素を含む置換基は、ホウ素含有アクリル系樹脂に連続して（すなわち、ブロック状に）含まれていてもよく、ランダムに含まれていてもよい。

（式中、Ｒ^６は任意の官能基を表し、jおよびｋは１以上の整数を表す）。

＜（メタ）アクリル系単量体＞
（メタ）アクリル系単量体としては任意の適切な（メタ）アクリル系単量体を用いることができる。例えば、直鎖または分岐構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体、および、環状構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体が挙げられる。

直鎖または分岐構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸メチル２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等が挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル酸メチルが用いられる。（メタ）アクリル酸エステル系単量体は、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

環状構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、ビフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニルオキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ｍ−ビフェニルオキシエチルアクリレート、ｐ−ビフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ｐ−ビフェニルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ｍ−ビフェニルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−ビフェニル＝カルバマート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｐ−ビフェニル＝カルバマート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｍ−ビフェニル＝カルバマート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等のビフェニル基含有モノマー、ターフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ターフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル酸１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが用いられる。これらの単量体を用いることにより、ガラス転移温度の高い重合体が得られる。これらの単量体は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、上記（メタ）アクリル酸エステル系単量体に代えて、（メタ）アクリロイル基を有するシルセスキオキサン化合物を用いてもよい。シルセスキオキサン化合物を用いることにより、ガラス転移温度が高いアクリル系重合体が得られる。シルセスキオキサン化合物は、種々の骨格構造、例えば、カゴ型構造、ハシゴ型構造、ランダム構造などの骨格を持つものが知られている。シルセスキオキサン化合物は、これらの構造を１種のみを有するものでもよく、２種以上を有するものでもよい。シルセスキオキサン化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（メタ）アクリロイル基を含有するシルセスキオキサン化合物として、例えば、東亜合成株式会社ＳＱシリーズのＭＡＣグレード、および、ＡＣグレードを用いることができる。ＭＡＣグレードは、メタクリロイル基を含有するシルセスキオキサン化合物であり、具体的には、例えば、ＭＡＣ−ＳＱ ＴＭ−１００、ＭＡＣ−ＳＱ ＳＩ−２０、ＭＡＣ−ＳＱ ＨＤＭ等が挙げられる。ＡＣグレードは、アクリロイル基を含有するシルセスキオキサン化合物であり、具体的には、例えば、ＡＣ−ＳＱ ＴＡ−１００、ＡＣ−ＳＱ ＳＩ−２０等が挙げられる。

（メタ）アクリル系単量体は、モノマー混合物１００重量部に対して、５０重量部を超えて用いられる。

＜共重合単量体＞
共重合単量体としては、上記式（１）で表される単量体が用いられる。このような共重合単量体を用いることにより、得られる重合体の側鎖にホウ素を含む置換基が導入される。共重合単量体は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記式（１）における脂肪族炭化水素基としては、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖または分岐のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜２０の環状アルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基が挙げられる。上記アリール基としては、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、置換基を有していてもよい炭素数１０〜２０のナフチル基等が挙げられる。ヘテロ環基としては、置換基を有していてもよい少なくとも１つのヘテロ原子を含む５員環基または６員環基が挙げられる。なお、Ｒ^１およびＲ^２は互いに連結して環を形成してもよい。Ｒ^１およびＲ^２は、好ましくは水素原子、もしくは、炭素数１〜３の直鎖または分岐のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。

Ｘで表される官能基が含む反応性基は、ビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種である。好ましくは、反応性基は（メタ）アクリル基および／または（メタ）アクリルアミド基である。これらの反応性基を有することにより、ヨウ素透過抑制層を偏光子に隣接して配置した場合に偏光子との密着性がさらに向上し得る。

１つの実施形態においては、Ｘで表される官能基は、Ｚ−Ｙ−で表される官能基であることが好ましい。ここで、Ｚはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｙはフェニレン基またはアルキレン基を表す。

共重合単量体としては、具体的には以下の化合物を用いることができる。

共重合単量体は、モノマー混合物１００重量部に対して、０重量部を超えて５０重量部未満の含有量で用いられる。好ましくは０．０１重量部以上５０重量部未満であり、より好ましくは０．０５重量部〜２０重量部であり、さらに好ましくは０．１重量部〜１０重量部であり、特に好ましくは０．５重量部〜５重量部である。

＜ラクトン環等含有アクリル系樹脂＞

アクリル系樹脂は、別の実施形態においては、ラクトン環単位、無水グルタル酸単位、グルタルイミド単位、無水マレイン酸単位およびマレイミド（Ｎ−置換マレイミド）単位から選択される環構造を含む繰り返し単位を有する。環構造を含む繰り返し単位は、１種類のみがアクリル系樹脂の繰り返し単位に含まれていてもよく、２種類以上が含まれていてもよい。

ラクトン環単位は、好ましくは、下記一般式（２）で表される：

一般式（２）において、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。アクリル系樹脂には、単一のラクトン環単位のみが含まれていてもよく、上記一般式（２）におけるＲ^２、Ｒ^３およびＲ^４が異なる複数のラクトン環単位が含まれていてもよい。ラクトン環単位を有するアクリル系樹脂は、例えば特開２００８−１８１０７８号公報に記載されており、当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。

グルタルイミド単位は、好ましくは、下記一般式（３）で表される：

一般式（３）において、Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ^１３は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数６〜１０のアリール基を示す。一般式（３）において、好ましくは、Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立して水素またはメチル基であり、Ｒ^１３は水素、メチル基、ブチル基またはシクロヘキシル基である。より好ましくは、Ｒ^１１はメチル基であり、Ｒ^１２は水素であり、Ｒ^１３はメチル基である。アクリル系樹脂には、単一のグルタルイミド単位のみが含まれていてもよく、上記一般式（３）におけるＲ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３が異なる複数のグルタルイミド単位が含まれていてもよい。グルタルイミド単位を有するアクリル系樹脂は、例えば、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報に記載されており、当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。なお、無水グルタル酸単位については、上記一般式（３）におけるＲ^１３で置換された窒素原子が酸素原子となること以外は、グルタルイミド単位に関する上記の説明が適用される。

無水マレイン酸単位およびマレイミド（Ｎ−置換マレイミド）単位については、名称から構造が特定されるので、具体的な説明は省略する。

アクリル系樹脂における環構造を含む繰り返し単位の含有割合は、好ましくは１モル％〜５０モル％、より好ましくは１０モル％〜４０モル％、さらに好ましくは２０モル％〜３０モル％である。なお、アクリル系樹脂は、主たる繰り返し単位として、上記の（メタ）アクリル系単量体由来の繰り返し単位を含む。

＜エポキシ樹脂＞
エポキシ樹脂としては、好ましくは芳香族環を有するエポキシ樹脂が用いられる。芳香族環を有するエポキシ樹脂をエポキシ樹脂として用いることにより、ヨウ素透過抑制層を偏光子に隣接して配置した場合に偏光子との密着性が向上し得る。さらに、ヨウ素透過抑制層に隣接して粘着剤層を配置した場合に、粘着剤層の投錨力が向上し得る。芳香族環を有するエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂などのビスフェノール型エポキシ樹脂；フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂などのノボラック型のエポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルメタンのグリシジルエーテル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテル、エポキシ化ポリビニルフェノールなどの多官能型のエポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂などが挙げられる。好ましくは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂が用いられる。エポキシ樹脂は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

ヨウ素透過抑制層は、上記のような樹脂の有機溶媒溶液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化または熱硬化させることにより形成され得る。有機溶媒としては、アクリル系樹脂を溶解または均一に分散し得る任意の適切な有機溶媒を用いることができる。有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロペンタノン、シクロヘキサノンが挙げられる。溶液の樹脂濃度は、溶媒１００重量部に対して、好ましくは３重量部〜２０重量部である。このような樹脂濃度であれば、均一な塗布膜を形成することができる。

溶液は、任意の適切な基材に塗布してもよく、隣接層（例えば、偏光子、位相差層）に塗布してもよい。溶液を基材に塗布する場合には、基材上に形成された塗布膜の固化物（ヨウ素透過抑制層）が隣接層に転写される。溶液を隣接層に塗布する場合には、塗布膜を乾燥（固化）させることにより、隣接層上に保護層が直接形成される。好ましくは、溶液は隣接層に塗布され、隣接層上に保護層が直接形成される。このような構成であれば、転写に必要とされる接着剤層または粘着剤層を省略することができるので、位相差層付偏光板をさらに薄くすることができる。溶液の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ナイフコート法（コンマコート法等）が挙げられる。

溶液の塗布膜を固化または熱硬化させることにより、ヨウ素透過抑制層が形成され得る。固化または熱硬化の加熱温度は、好ましくは１００℃以下であり、より好ましくは５０℃〜７０℃である。加熱温度がこのような範囲であれば、偏光子に対する悪影響を防止することができる。加熱時間は、加熱温度に応じて変化し得る。加熱時間は、例えば１分〜１０分であり得る。

ヨウ素透過抑制層（実質的には、上記樹脂の有機溶媒溶液）は、目的に応じて任意の適切な添加剤を含んでいてもよい。添加剤の具体例としては、紫外線吸収剤；レベリング剤；ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーまたは無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；などが挙げられる。添加剤の種類、数、組み合わせ、添加量等は、目的に応じて適切に設定され得る。

Ｅ．第２の位相差層
第２の位相差層は、上記のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す、いわゆるポジティブＣプレートであり得る。第２の位相差層としてポジティブＣプレートを用いることにより、斜め方向の反射を良好に防止することができ、反射防止機能の広視野角化が可能となる。この場合、第２の位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは−５０ｎｍ〜−３００ｎｍ、より好ましくは−７０ｎｍ〜−２５０ｎｍ、さらに好ましくは−９０ｎｍ〜−２００ｎｍ、特に好ましくは−１００ｎｍ〜−１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、第２の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ未満であり得る。

ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を有する第２の位相差層は、任意の適切な材料で形成され得る。第２の位相差層は、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムからなる。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該位相差層の形成方法の具体例としては、特開２００２−３３３６４２号公報の［００２０］〜［００２８］に記載の液晶化合物および当該位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、第２の位相差層の厚みは、好ましくは０．５μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．５μｍ〜８μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ〜５μｍである。

Ｆ．導電層または導電層付等方性基材
導電層は、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。

導電層が金属酸化物を含む場合、該導電層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、より好ましくは３５ｎｍ以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは１０ｎｍである。

導電層は、上記基材から第１の位相差層（あるいは、ヨウ素透過抑制層または存在する場合には第２の位相差層）に転写されて導電層単独で位相差層付偏光板の構成層とされてもよく、基材との積層体（導電層付基材）として第１の位相差層（あるいは、ヨウ素透過抑制層または存在する場合には第２の位相差層）に積層されてもよい。好ましくは、上記基材は光学的に等方性であり、したがって、導電層は導電層付等方性基材として位相差層付偏光板に用いられ得る。

光学的に等方性の基材（等方性基材）としては、任意の適切な等方性基材を採用し得る。等方性基材を構成する材料としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂などの共役系を有さない樹脂を主骨格としている材料、ラクトン環やグルタルイミド環などの環状構造をアクリル系樹脂の主鎖中に有する材料などが挙げられる。このような材料を用いると、等方性基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。等方性基材の厚みは、好ましくは５０μｍ以下であり、より好ましくは３５μｍ以下である。等方性基材の厚みの下限は、例えば２０μｍである。

上記導電層および／または上記導電層付等方性基材の導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサ電極として機能し得る。パターニング方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。パターニング方法の具体例としては、ウエットエッチング法、スクリーン印刷法が挙げられる。

Ｇ．画像表示装置
上記Ａ項からＦ項に記載の位相差層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明の実施形態は、そのような位相差層付偏光板を用いた画像表示装置を包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、その視認側に上記Ａ項からＦ項に記載の位相差層付偏光板を備える。位相差層付偏光板は、位相差層が画像表示セル（例えば、液晶セル、有機ＥＬセル、無機ＥＬセル）側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。このような画像表示装置は、非常に薄型でありながら高温高湿環境下における信頼性に優れ、反射率上昇が抑制されている。さらに、金属部材の腐食が顕著に抑制されている。１つの実施形態においては、画像表示装置は、湾曲した形状（実質的には、湾曲した表示画面）を有し、および／または、折り曲げもしくは折り畳み可能である。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。

（１）厚み
１０μｍ以下の厚みは、干渉膜厚計（大塚電子社製、製品名「ＭＣＰＤ−３０００」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ−３５１Ｃ」）を用いて測定した。

（２）ヨウ素吸収指数およびカリウム吸収指数
３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに実施例および比較例で用いた樹脂溶液を乾燥後の厚みが１μｍになるように塗工し、乾燥して樹脂層／ＰＥＴフィルムの試験サンプルを得た。得られた試験サンプルを、２３℃に調整したヨウ化カリウム１０％水溶液（純水９０重量部、ヨウ化カリウム１０重量部）に２４時間浸漬した。浸漬後、試験サンプルを水溶液から取り出し、表面の水滴を拭き取った後、樹脂層表面の蛍光Ｘ線測定によりヨウ素およびカリウムの強度（ｋｃｐｓ）を得た。得られたヨウ素の強度をヨウ素吸収指数とし、カリウムの強度をカリウム吸収指数とした。なお、蛍光Ｘ線分析の条件は以下のとおりであった。
・分析装置：理学電機工業社製 蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）、製品名「ＺＳＸ１００ｅ」
・試験サンプル：直径１０ｍｍの円形サンプル
・対陰極：ロジウム
・分光結晶：フッ化リチウム
・励起光エネルギー：４０ｋＶ−９０ｍＡ
・ヨウ素測定線：Ｉ−ＬＡ
・定量法：ＦＰ法
・２θ角ピーク：１０３．０７８ｄｅｇ（ヨウ素）、１３６．８４７ｄｅｇ（カリウム）
・測定時間：４０秒

（３）反射率上昇
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板を無アルカリガラスに貼り合わせ、試験サンプルとした。この試験サンプルを反射率が８０％の反射板の上に置き、分光測色計（コニカミノルタ社製ＣＭ７００Ｄ）を用いてＳＣＩモードで５５０ｎｍでの数値を反射率（％）とし、これを初期反射率とした。さらに、試験サンプルを信頼性試験（６０℃・９０％ＲＨの環境下に５００時間置き、その後２３℃・５５％ＲＨの環境下で２４時間放置）に供した後、上記と同様にして反射率を測定した。以下の式により反射率上昇を算出した。
反射率上昇（％）＝初期反射率（％）−信頼性試験後の反射率（％）
さらに、以下の基準で評価した。
良好 ：反射率上昇が０．５０％未満
許容可能：反射率上昇が０．５０％以上１．００％未満
不良 ：反射率上昇が１．００％以上

（４）金属腐食性（４８時間）
５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面に、銀ナノワイヤー液（ＭＥＲＣＫ社製、ナノワイヤーサイズ：直径１１５ｎｍ、長さ２０μｍ〜５０μｍ、固形分０．５％のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液）をワイヤーバーでウェット膜厚が１５μｍになるように塗工し、１００℃のオーブンで５分間乾燥し、銀ナノワイヤー塗膜を形成した。次いで、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）９９部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）１部、および光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア９０７」）０．０３部を含むオーバーコート液（固形分濃度：約１％）を、銀ナノワイヤー塗膜の表面にワイヤーバーを用いてウェット膜厚が１０μｍになるように塗工し、１００℃のオーブンで５分間乾燥した。次いで、活性エネルギー線を照射してオーバーコート塗膜を硬化させ、ＰＥＴフィルム／銀ナノワイヤー層／オーバーコート層（厚み１００ｎｍ）の構成を有する金属フィルムを作製した。この金属フィルムを、粘着剤（１５μｍ）を用いて厚さ０．５ｍｍのガラス板に貼り合わせ、金属フィルム／粘着剤／ガラス板の積層体を得た。得られた積層体を非接触式抵抗測定器（ナプソン社製、製品名「ＥＣ−８０」）にて抵抗値を測定したところ、５０Ω／□であった。

実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板を積層体の金属フィルムのオーバーコート層表面に貼り合わせ、試験サンプルとした。この試験サンプルの抵抗値を非接触式抵抗測定器にて測定し、初期抵抗値とした。さらに、試験サンプルを信頼性試験（８５℃・８５％ＲＨの環境下に４８時間置き、その後２３℃・５５％ＲＨの環境下で２時間放置）に供した後、上記と同様にして抵抗値を測定した。以下の式により抵抗値上昇率を算出した。なお、測定値（抵抗値）が非接触式抵抗測定器の測定限界（１０００Ω／□）を超える場合には、測定値を１５００Ω／□として仮定した。
抵抗値上昇率（％）＝｛（信頼性試験後の抵抗値−初期抵抗値）/初期抵抗値｝×１００
さらに、以下の基準で評価した。
良好：抵抗値上昇率が２００％未満
不良：抵抗値上昇率が２００％以上

（５）金属腐食性（２００時間）
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板を、（２）で得られた積層体の金属フィルムのオーバーコート層形成面に貼り合わせ、試験サンプルとした。この試験サンプルの抵抗値を非接触式抵抗測定器にて測定し、初期の抵抗値とした。さらに、試験サンプルを信頼性試験（８５℃・８５％ＲＨの環境下に２００時間置き、その後２３℃・５５％ＲＨの環境下で２時間放置）に供した後、上記と同様にして抵抗値を測定した。以下の式により抵抗値上昇率を算出した。なお、測定値（抵抗値）が非接触式抵抗測定器の測定限界（１０００Ω／□）を超える場合には、測定値を１５００Ω／□として仮定した。
抵抗値上昇率（％）＝｛（信頼性試験後の抵抗値−初期抵抗値）/初期抵抗値｝×１００
さらに、以下の基準で評価した。
優：抵抗値上昇率が２００％未満
良：抵抗値上昇率が２００％以上２０００％未満
不良：抵抗値上昇率が２０００％以上

［実施例１］
１．偏光子の作製
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、吸水率０．７５％、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用いた。樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーＺ４１０」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に２．４倍に自由端一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴（水１００重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が４３．０％以上となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度４．０重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに約２秒接触させた（乾燥収縮処理）。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は５．２％であった。
このようにして、樹脂基材上に厚み５μｍの偏光子を形成した。

２．偏光板の作製
上記で得られた偏光子の表面（樹脂基材とは反対側の面）に、保護層としてＨＣ−ＣＯＰフィルムを、紫外線硬化型接着剤を介して貼り合せた。具体的には、硬化型接着剤の総厚みが１．０μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、ＵＶ光線を保護層側から照射して接着剤を硬化させた。なお、ＨＣ−ＣＯＰフィルムは、シクロオレフィン（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン社製、製品名「ＺＦ１２」、厚み２５μｍ）にハードコート（ＨＣ）層（厚み２μｍ）が形成されたフィルムであり、ＣＯＰフィルムが偏光子側となるようにして貼り合わせた。次いで、樹脂基材を剥離し、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子の構成を有する偏光板を得た。

３．位相差層を構成する第１の配向固化層および第２の配向固化層の作製
ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名「Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２」、下記式で表される）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：商品名「イルガキュア９０７」）３ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。

ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み３８μｍ）表面を、ラビング布を用いてラビングし、配向処理を施した。配向処理の方向は、偏光板に貼り合わせる際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て１５°方向となるようにした。この配向処理表面に、上記液晶塗工液をバーコーターにより塗工し、９０℃で２分間加熱乾燥することによって液晶化合物を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて１ｍＪ/ｃｍ^２の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、ＰＥＴフィルム上に液晶配向固化層Ａを形成した。液晶配向固化層Ａの厚みは２．５μｍ、面内位相差Ｒｅ（５５０）は２７０ｎｍであった。さらに、液晶配向固化層Ａは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有していた。
塗工厚みを変更したこと、および、配向処理方向を偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て７５°方向となるようにしたこと以外は上記と同様にして、ＰＥＴフィルム上に液晶配向固化層Ｂを形成した。液晶配向固化層Ｂの厚みは１．５μｍ、面内位相差Ｒｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。さらに、液晶配向固化層Ｂは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有していた。

４．位相差層の形成
上記２．で得られた偏光板の偏光子表面に、上記３．で得られた液晶配向固化層Ａおよび液晶配向固化層Ｂをこの順に転写した。このとき、偏光子の吸収軸と液晶配向固化層Ａの遅相軸とのなす角度が１５°、偏光子の吸収軸と液晶配向固化層Ｂの遅相軸とのなす角度が７５°になるようにして転写（貼り合わせ）を行った。なお、それぞれの転写（貼り合わせ）は、上記２．で用いた紫外線硬化型接着剤（厚み１．０μｍ）を介して行った。このようにして、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／接着剤層／位相差層（第１の液晶配向固化層／接着剤層／第２の液晶配向固化層）の構成を有する積層体を作製した。

５．位相差層付偏光板の作製
アクリル系樹脂（楠本化成社製、製品名「Ｂ−８１１」、Ｔｇ：１１０℃、Ｍｗ：４００００）２０部をメチルエチルケトン８０部に溶解し、樹脂溶液（２０％）を得た。この樹脂溶液を、上記４．で得られた積層体の第２の液晶配向固化層表面にワイヤーバーを用いて塗布し、塗布膜を６０℃で５分間乾燥して、樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物として構成されるヨウ素透過抑制層（厚み０．５μｍ）を形成した。ヨウ素透過抑制層のヨウ素吸収指数は０．００４６であり、カリウム吸収指数は０．００８７であった。次いで、ヨウ素透過抑制層表面に粘着剤層（厚み１５μｍ）を設け、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／接着剤層／位相差層（第１の液晶配向固化層／接着剤層／第２の液晶配向固化層）／ヨウ素透過抑制層／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは３９．５μｍであった。得られた位相差層付偏光板を上記（３）〜（５）の評価に供した。さらに、金属腐食性に関して、ヨウ素透過抑制層を形成しなかった比較例１（後述）と比較した。結果を表１および表２に示す。

［実施例２］
メタクリル酸メチル（ＭＭＡ、富士フイルム和光純薬社製、商品名「メタクリル酸メチルモノマー」）９７．０部、上記一般式（１ｅ）で表される共重合単量体３．０部、重合開始剤（富士フイルム和光純薬社製、商品名「２，２´−アゾビス（イソブチロニトリル）」）０．２部をトルエン２００部に溶解した。次いで、窒素雰囲気下で７０℃に加熱しながら５．５時間重合反応を行い、ホウ素含有アクリル系樹脂溶液（固形分濃度：３３％）を得た。得られたホウ素含有アクリル系重合体のＴｇは１１０℃、Ｍｗは８００００であった。このホウ素含有アクリル系重合体をアクリル系樹脂「Ｂ−８１１」の代わりに用いたこと、および、ヨウ素透過抑制層の厚みを０．３μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［実施例３］
ヨウ素透過抑制層の厚みを０．５μｍとしたこと以外は実施例２と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［実施例４］
アクリル系樹脂「Ｂ−８１１」の代わりに熱可塑性エポキシ樹脂（三菱ケミカル株式会社製、商品名「ｊＥＲ（登録商標）１２５６Ｂ４０」、Ｔｇ：１００℃、Ｍｗ：４５０００）を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［実施例５］
アクリル系樹脂「Ｂ−８１１」の代わりに熱可塑性エポキシ樹脂（三菱ケミカル株式会社製、商品名「ｊＥＲ（登録商標）ＹＸ７２００Ｂ３５」、Ｔｇ：１５０℃、Ｍｗ：３００００）を用いたこと、および、ヨウ素透過抑制層の厚みを０．３μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［実施例６］
ヨウ素透過抑制層の厚みを０．５μｍとしたこと以外は実施例５と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［実施例７］
アクリル系樹脂「Ｂ−８１１」の代わりに、「Ｂ−８１１」１５部と熱可塑性エポキシ樹脂（三菱ケミカル株式会社製、商品名「ｊＥＲ（登録商標）ＹＸ６９５４ＢＨ３０」）８５部（固形分換算）とのブレンドを用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。当該ブレンドのＴｇは１２５℃、Ｍｗは３８０００であった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

[実施例８]
実施例１の２．で得られた保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子の構成を有する偏光板の偏光子側に、実施例７で使用した樹脂ブレンドを塗布および乾燥して、樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物として構成されるヨウ素透過抑制層（厚み０．５μｍ）を形成した。ヨウ素透過抑制層の表面に実施例１と同様にして液晶配向固化層Ａおよび液晶配向固化層Ｂをこの順に転写し、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／ヨウ素透過抑制層／接着剤層／位相差層（第１の液晶配向固化層／接着剤層／第２の液晶配向固化層）／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表２に示す。

[実施例９]
実施例２におけるホウ素含有アクリル系重合体を用いたこと以外は実施例８と同様にして、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／ヨウ素透過抑制層の構成を有する積層体を作製した。次いで、実施例２におけるホウ素含有アクリル系重合体１５部と熱可塑性エポキシ樹脂（三菱ケミカル株式会社製、商品名「ｊＥＲ（登録商標）ＹＸ６９５４ＢＨ３０」）８５部（固形分換算）とのブレンドを用いたこと以外は実施例１と同様にして、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／ヨウ素透過抑制層／接着剤層／位相差層（第１の液晶配向固化層／接着剤層／第２の液晶配向固化層）／ヨウ素透過抑制層／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４０μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表２に示す。

[実施例１０]
偏光子と位相差層との間であって、偏光子に隣接した位置に設けられたヨウ素透過抑制層に、実施例２で得られたホウ素含有アクリル系重合体１５部と熱可塑性エポキシ樹脂（三菱ケミカル株式会社製、商品名「ｊＥＲ（登録商標）ＹＸ６９５４ＢＨ３０」）８５部（固形分換算）とのブレンドを用いたこと以外は実施例９と同様にして、位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４０μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表２に示す。

[実施例１１]
偏光子と位相差層との間であって、偏光子に隣接した位置に形成されたヨウ素透過抑制層を、偏光子と位相差層との間であって、位相差層に隣接した位置に形成したこと以外は実施例１０と同様にして、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／接着剤層／ヨウ素透過抑制層／位相差層（第１の液晶配向固化層／接着剤層／第２の液晶配向固化層）／ヨウ素透過抑制層／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４０μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表２に示す。

[実施例１２]
実施例９と同様に、偏光子と位相差層との間であって、偏光子に隣接した位置にヨウ素透過抑制層をさらに形成したこと以外は実施例１１と同様にして、保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／接着剤層／偏光子／ヨウ素透過抑制層／接着剤層／ヨウ素透過抑制層／位相差層（第１の液晶配向固化層／接着剤層／第２の液晶配向固化層）／ヨウ素透過抑制層／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４０．５μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表２に示す。

［比較例１］
ヨウ素透過抑制層を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［比較例２］
アクリル系樹脂「Ｂ−８１１」の代わりにアクリル系樹脂「Ｂ−７２３」（楠本化成社製、Ｔｇ：５４℃、Ｍｗ：２０００００）を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［比較例３］
アクリル系樹脂「Ｂ−８１１」の代わりに光硬化性エポキシ樹脂（三菱ケミカル株式会社製、商品名「ｊＥＲ（登録商標）８２８」、光重合開始剤としてサンアプロ社製「ＣＰＩ１００Ｐ」を使用）を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［比較例４］
アクリル系樹脂「Ｂ−８１１」の代わりにＰＶＡ系樹脂（三菱ケミカル株式会社製、商品名「ゴーセノールＺ２００」、Ｔｇ：８０℃、Ｍｗ：８８００）を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［参考例１］
１．偏光板の作製
実施例１と同様にして保護層（ＨＣ層／ＣＯＰフィルム）／偏光子の構成を有する偏光板を得た。

２．位相差層を構成する位相差フィルムの作製
２−１．ポリエステルカーボネート系樹脂の重合
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９−（２−フェノキシカルボニルエチル）フルオレン−９−イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、イソソルビド（ＩＳＢ）２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、スピログリコール（ＳＰＧ）４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）及び触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０^−２質量部（６．７８×１０^−５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。

２−２．位相差フィルムの作製
得られたポリエステルカーボネート系樹脂（ペレット）を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー設定温度：２５０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２５０℃）、チルロール（設定温度：１２０〜１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３５μｍの長尺状の樹脂フィルムを作製した。得られた長尺状の樹脂フィルムを、幅方向に、延伸温度１３３℃、延伸倍率２．８倍で延伸し、厚み５３μｍの位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８２であり、Ｎｚ係数は１．１２であった。

３．位相差層付偏光板の作製
上記１．で得られた偏光板の偏光子表面に、上記２．で得られた位相差フィルムを、アクリル系粘着剤（厚み５μｍ）を介して貼り合わせた。このとき、偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とが４５°の角度をなすようにして貼り合わせた。さらに、位相差層の表面に実施例１と同様の粘着剤層を設けた。このようにして、保護層／接着剤層／偏光子／粘着剤層／位相差層（樹脂フィルムの延伸フィルム）／粘着剤層の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは９１μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１および表２に示す。

［評価］
表１から明らかなように、本発明の実施例の位相差層付偏光板は、所定値以下のヨウ素吸収指数を有するヨウ素透過抑制層を形成することにより、高温高湿環境下における反射率上昇を顕著に抑制できる。また、このようなヨウ素透過抑制層を形成することにより、高温高湿環境下における金属腐食性も顕著に抑制できる。さらに、参考例１から明らかなように、このような反射率上昇および金属腐食性は、非常に薄型の位相差層付偏光板に特有の課題であることがわかる。

表２から明らかなように、本発明の実施例９〜１２の位相差層付偏光板は、ヨウ素透過抑制層を２層または３層含むことにより、高温高湿環境下に長時間（２００時間）投入された場合においても金属腐食性を顕著に抑制できる。したがって、本発明の実施例９〜１２の位相差層付偏光板は、画像表示装置に適用した場合に金属部材の腐食を顕著に抑制し得ることがわかる。

本発明の位相差層付偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置および無機ＥＬ表示装置用の円偏光板として好適に用いられる。

１０ 偏光板
１１ 偏光子
１２ 保護層
２０ 位相差層
３０ 粘着剤層
４０ ヨウ素透過抑制層
１００ 位相差層付偏光板
１０１ 位相差層付偏光板
１０２ 位相差層付偏光板
１０３ 位相差層付偏光板
１０４ 位相差層付偏光板
１０５ 位相差層付偏光板

Claims (14)

1. 偏光子を含む偏光板と、位相差層と、粘着剤層と、を視認側からこの順に有し、
   該位相差層が円偏光機能または楕円偏光機能を有する液晶化合物の配向固化層であり、
   該偏光子と該粘着剤層との間に、樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物または熱硬化物であるヨウ素透過抑制層が設けられており、
   該ヨウ素透過抑制層のヨウ素吸収指数が０．０１５以下である、
   位相差層付偏光板。
2. 前記ヨウ素透過抑制層が、前記偏光子と前記位相差層との間に設けられている、請求項１に記載の位相差層付偏光板。
3. 前記ヨウ素透過抑制層が、前記位相差層と前記粘着剤層との間に設けられている、請求項１に記載の位相差層付偏光板。
4. 前記ヨウ素透過抑制層が、前記偏光子と前記粘着剤層との間に２層以上設けられている、請求項１に記載の位相差層付偏光板。
5. 前記ヨウ素透過抑制層のカリウム吸収指数が０．０１５以下である、請求項１から４のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
6. 前記ヨウ素透過抑制層を構成する樹脂のガラス転移温度が８５℃以上であり、かつ、重量平均分子量Ｍｗが２５０００以上である、請求項１から５のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
7. 前記ヨウ素透過抑制層を構成する樹脂が、５０重量部を超える（メタ）アクリル系単量体と０重量部を超えて５０重量部未満の式（１）で表される単量体とを含むモノマー混合物を重合することにより得られる共重合体を含む、請求項６に記載の位相差層付偏光板：
   

   

   （式中、Ｘはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、または、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｒ^１およびＲ^２は互いに連結して環を形成してもよい）。
8. 前記位相差層が単一層であり、
   該位相差層のＲｅ（５５０）が１００ｎｍ〜１９０ｎｍであり、
   該位相差層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が４０°〜５０°である、
   請求項１から７のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
9. 前記位相差層が、第１の液晶化合物の配向固化層と第２の液晶化合物の配向固化層との積層構造を有し、
   該第１の液晶化合物の配向固化層のＲｅ（５５０）が２００ｎｍ〜３００ｎｍであり、その遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が１０°〜２０°であり、
   該第２の液晶化合物の配向固化層のＲｅ（５５０）が１００ｎｍ〜１９０ｎｍであり、その遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が７０°〜８０°である、
   請求項１から７のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
10. 前記位相差層と前記粘着剤層との間に別の位相差層をさらに有し、該別の位相差層の屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す、請求項１から９のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
11. 前記ヨウ素透過抑制層と前記粘着剤層との間に導電層または導電層付等方性基材をさらに有する、請求項１から１０のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
12. 総厚みが６０μｍ以下である、請求項１から１１のいずれかに記載の位相差層付偏光板。
13. 請求項１から１２のいずれかに記載の位相差層付偏光板を備える、画像表示装置。
14. 有機エレクトロルミネセンス表示装置または無機エレクトロルミネセンス表示装置である、請求項１３に記載の画像表示装置。

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