JP2021097136A - Manufacturing method of magnetic sheet - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、磁性シートの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a magnetic sheet.
従来、自己インダクタンスを有するコイル等の導体部とそれを被覆する磁性部とを備えるインダクタが知られている。このようなインダクタは、例えば、２枚の磁性シート間に導体部を配置した状態でこれら磁性シートを厚み方向に加熱プレスして、当該磁性シートおよび導体部を一体化させることによって、製造することができる。 Conventionally, an inductor having a conductor portion such as a coil having self-inductance and a magnetic portion covering the conductor portion is known. Such an inductor is manufactured, for example, by heat-pressing these magnetic sheets in the thickness direction with the conductor portions arranged between the two magnetic sheets and integrating the magnetic sheets and the conductor portions. Can be done.
例えばインダクタの製造に用いられる磁性シートは、例えば次のように製造されうる。まず、磁性粒子とバインダー成分とを含む複数枚の薄い磁性シート（「磁性薄シート」と称する場合がある）を個別に作製する。各磁性薄シートは、磁性粒子とバインダー成分とを含む組成物を所定の基材上に塗布して乾燥させることによって作製することができる。次に、積層ラミネート装置を使用して、磁性薄シート上に所定数の磁性薄シートを順次に積層する（積層工程）ことによって、磁性シートを製造する。このような製造方法では、積層工程において磁性薄シートごとに積層ラミネート装置を使用して積層する必要があるため、工程数が多くなりやすい。また、積層工程では、磁性薄シートの位置ずれが生ずる場合がある。加えて、積層工程では、磁性薄シート間に気泡が入り込みやすい。 For example, a magnetic sheet used for manufacturing an inductor can be manufactured as follows, for example. First, a plurality of thin magnetic sheets (sometimes referred to as "magnetic thin sheets") containing magnetic particles and a binder component are individually produced. Each magnetic thin sheet can be produced by applying a composition containing magnetic particles and a binder component onto a predetermined base material and drying it. Next, a magnetic sheet is manufactured by sequentially laminating a predetermined number of magnetic thin sheets on the magnetic thin sheet using a laminating laminating device (lamination step). In such a manufacturing method, it is necessary to laminate each magnetic thin sheet by using a laminating laminating device in the laminating process, so that the number of steps tends to increase. Further, in the laminating process, the position of the magnetic thin sheet may be displaced. In addition, in the laminating process, air bubbles easily enter between the magnetic thin sheets.
一方、下記の特許文献１は、磁性シートの他の製造方法を提示する。同文献に記載の製造方法では、扁平な軟磁性粉末と、溶媒に溶解したバインダー成分としての熱可塑性樹脂と、架橋剤とを混合して調製される磁性塗料が用いられる。当該製造方法は、具体的には次の工程を含む。前記磁性塗料を所定の基材上に塗布した後に乾燥させて磁性薄シートを形成する工程、同シート上に更に磁性塗料を塗布した後に乾燥させて別の磁性薄シートを積層形成する工程（積層工程）、磁性薄シート積層体を所定温度（磁性塗料中の熱可塑性樹脂のガラス転移温度以上、且つ、前記熱可塑性樹脂と前記架橋剤との反応開始温度未満）で圧縮する工程（第１圧縮工程）、および、前記反応開始温度以上で圧縮する工程（第２圧縮工程）である。 On the other hand, Patent Document 1 below presents another method for producing a magnetic sheet. In the production method described in the same document, a magnetic coating material prepared by mixing a flat soft magnetic powder, a thermoplastic resin as a binder component dissolved in a solvent, and a cross-linking agent is used. Specifically, the manufacturing method includes the following steps. A step of applying the magnetic paint on a predetermined base material and then drying it to form a magnetic thin sheet, and a step of further applying the magnetic paint on the sheet and then drying it to form another magnetic thin sheet in a laminated manner (lamination). Step), a step of compressing the magnetic thin sheet laminate at a predetermined temperature (greater than or equal to the glass transition temperature of the thermoplastic resin in the magnetic paint and less than the reaction starting temperature of the thermoplastic resin and the cross-linking agent) (first compression). Step) and a step of compressing at the reaction start temperature or higher (second compression step).
しかしながら、特許文献１の磁性シート製造方法では、高分子体たる熱可塑性樹脂含有の磁性塗料の調製時に当該塗料に気泡が入りやすく、また、そのような磁性塗料が塗布・乾燥される積層工程において磁性薄シート間に気泡が入り込みやすい。そのため、気泡を除去するための第１圧縮工程が、積層工程後に必要とされる。気泡除去のための工程を要することは、磁性シート製造の効率化の点で好ましくない。 However, in the method for producing a magnetic sheet of Patent Document 1, when preparing a magnetic paint containing a thermoplastic resin as a polymer, air bubbles are likely to enter the paint, and in the laminating step in which such the magnetic paint is applied and dried. Bubbles easily enter between the magnetic thin sheets. Therefore, a first compression step for removing air bubbles is required after the laminating step. It is not preferable to require a step for removing air bubbles from the viewpoint of improving the efficiency of magnetic sheet production.
本発明は、磁性シートを効率よく製造するのに適した磁性シートの製造方法を提供する。 The present invention provides a method for producing a magnetic sheet suitable for efficiently producing a magnetic sheet.
本発明［１］は、磁性粒子および熱硬化性樹脂を含有する組成物から形成された硬化性磁性層の厚み方向一方面上に、磁性粒子および熱硬化性樹脂を含有する組成物を塗布して乾燥させて硬化性磁性層を形成することにより、前記厚み方向に硬化性磁性層の積層数を増やす積層工程を、少なくとも一つ含む磁性シートの製造方法を含む。 In the present invention [1], a composition containing magnetic particles and a thermosetting resin is applied onto one surface of a curable magnetic layer formed from a composition containing magnetic particles and a thermosetting resin in the thickness direction. The method includes a method for producing a magnetic sheet, which comprises at least one laminating step of increasing the number of laminated curable magnetic layers in the thickness direction by forming a curable magnetic layer by drying.
本製造方法において、積層工程で硬化性磁性層を形成するのに用いられる磁性粒子含有の組成物は、バインダー成分として熱硬化性樹脂を含有する。事後的な硬化反応を経て高分子化して硬化する熱硬化性樹脂をバインダー成分として含有する当該組成物は、比較的低粘度で気泡の混入を抑制しつつ調製しやすい。また、そのような組成物は、積層工程では、先行して形成されている硬化性磁性層との間への気泡の入り込みを抑制しつつ同層上に塗布しやすい。そのため、当該組成物によると、積層工程において、硬化性磁性層上への更なる硬化性磁性層を、層内および層間への気泡の入り込みを抑制しつつ形成しやすい。このような組成物を用いて硬化性磁性層が積層形成される本製造方法は、磁性シート製造過程において気泡除去工程の実施を回避するのに適し、従って、磁性シートを効率よく製造するのに適する。 In the present production method, the composition containing magnetic particles used for forming the curable magnetic layer in the laminating step contains a thermosetting resin as a binder component. The composition containing a thermosetting resin as a binder component, which is polymerized and cured through a subsequent curing reaction, has a relatively low viscosity and is easy to prepare while suppressing the mixing of air bubbles. Further, in the laminating step, such a composition can be easily applied onto the same layer while suppressing the entry of air bubbles between the curable magnetic layer and the previously formed curable magnetic layer. Therefore, according to the composition, in the laminating step, it is easy to form a further curable magnetic layer on the curable magnetic layer while suppressing the entry of air bubbles into the layer and between the layers. This manufacturing method in which a curable magnetic layer is laminated and formed using such a composition is suitable for avoiding the implementation of a bubble removing step in the magnetic sheet manufacturing process, and therefore, for efficiently manufacturing the magnetic sheet. Suitable.
本発明［２］は、前記積層工程において塗布される前記組成物の粘度が５０〜２０００ｍＰａ・ｓである、上記［１］に記載の磁性シートの製造方法を含む。 The present invention [2] includes the method for producing a magnetic sheet according to the above [1], wherein the composition applied in the laminating step has a viscosity of 50 to 2000 mPa · s.
このような構成は、組成物調製時の気泡の混入を抑制するのに適し、また、積層工程において硬化性磁性層間への気泡の入り込みを抑制するのに適する。 Such a configuration is suitable for suppressing the mixing of air bubbles during the preparation of the composition, and is also suitable for suppressing the entry of air bubbles into the curable magnetic layers in the laminating step.
本発明［３］は、前記積層工程において塗布される前記組成物中の前記熱硬化性樹脂が５０〜１２０℃の範囲内に軟化温度を有する、上記［１］または［２］に記載の磁性シートの製造方法を含む。 In the present invention [3], the magnetism according to the above [1] or [2], wherein the thermosetting resin in the composition applied in the laminating step has a softening temperature in the range of 50 to 120 ° C. Includes sheet manufacturing methods.
このような構成によると、積層工程において、硬化性磁性層上に塗布された組成物を加熱乾燥する場合に、当該組成物から溶媒や気泡を効率よく除去することができる。したがって、組成物乾燥時間を短縮することができるとともに、硬化性磁性層の内部や層間への気泡の混入を抑制または防止することができる。 According to such a configuration, when the composition applied on the curable magnetic layer is heat-dried in the laminating step, the solvent and air bubbles can be efficiently removed from the composition. Therefore, the drying time of the composition can be shortened, and the mixing of air bubbles inside or between the layers of the curable magnetic layer can be suppressed or prevented.
本発明［４］は、前記積層工程において形成される前記硬化性磁性層中の前記熱硬化性樹脂の硬化物が１２０℃以上のガラス転移温度を有する、上記［１］から［３］のいずれか一つに記載の磁性シートの製造方法を含む。 The present invention [4] is any one of the above [1] to [3], wherein the cured product of the thermosetting resin in the curable magnetic layer formed in the laminating step has a glass transition temperature of 120 ° C. or higher. The method for producing a magnetic sheet according to one of the above is included.
このような構成は、製造される磁性シートにおいて、各硬化性磁性層中の熱硬化性樹脂の熱硬化後に良好な熱的安定性を確保するのに好適である。 Such a configuration is suitable for ensuring good thermal stability after thermosetting the thermosetting resin in each curable magnetic layer in the manufactured magnetic sheet.
本発明［５］は、前記厚み方向に隣接する少なくとも二つの同一組成の硬化性磁性層を含む磁性シートが得られる、上記［１］から［４］のいずれか一つに記載の磁性シートの製造方法を含む。 The present invention [5] is the magnetic sheet according to any one of the above [1] to [4], wherein a magnetic sheet containing at least two curable magnetic layers having the same composition adjacent to each other in the thickness direction can be obtained. Includes manufacturing method.
本製造方法によると、硬化性磁性層１層分よりも厚い同一組成領域を含む磁性シートを製造することができ、例えば、同一組成領域が厚み方向全体にわたる磁性シートを製造することができる。 According to this production method, a magnetic sheet containing the same composition region thicker than one curable magnetic layer can be produced, and for example, a magnetic sheet having the same composition region covering the entire thickness direction can be produced.
本発明［６］は、前記厚み方向に隣り合い且つ互いに異なる組成を有する二つの硬化性磁性層を含む磁性シートが得られる、上記［１］から［５］のいずれか一つに記載の磁性シートの製造方法を含む。 According to the present invention [6], the magnetism according to any one of the above [1] to [5], wherein a magnetic sheet containing two curable magnetic layers adjacent to each other in the thickness direction and having different compositions can be obtained. Includes sheet manufacturing methods.
本製造方法によると、組成を異にして厚み方向に並ぶ領域を含む磁性シートを製造することができ、例えば、隣り合う領域どうしは組成が異なる２または３以上の領域が厚み方向に並ぶ磁性シートを製造することができる。 According to this manufacturing method, a magnetic sheet containing regions having different compositions and arranged in the thickness direction can be produced. For example, a magnetic sheet in which two or three or more regions having different compositions are arranged in the thickness direction between adjacent regions. Can be manufactured.
本発明［７］は、前記厚み方向に隣り合ういずれの二つの硬化性磁性層においても、前記厚み方向一方側に位置する硬化性磁性層の透磁率が、前記厚み方向他方側に位置する硬化性磁性層の透磁率以上である磁性シートが得られる、上記［１］から［６］のいずれか一つに記載の磁性シートの製造方法を含む。 In the present invention [7], in any of the two curable magnetic layers adjacent to each other in the thickness direction, the magnetic permeability of the curable magnetic layer located on one side in the thickness direction is cured on the other side in the thickness direction. The method for producing a magnetic sheet according to any one of the above [1] to [6], wherein a magnetic sheet having a magnetic permeability equal to or higher than that of the magnetic magnetic layer can be obtained.
本製造方法によると、磁性シートの厚み方向における上記他方側から上記一方側にかけて透磁率が漸次的または段階的に高められた磁性シートを得ることができる。 According to this manufacturing method, it is possible to obtain a magnetic sheet in which the magnetic permeability is gradually or gradually increased from the other side to the one side in the thickness direction of the magnetic sheet.
本発明［８］は、下記（１）〜（３）のいずれかの形態の磁性シートが得られる、請求項１から７のいずれか一つに記載の磁性シートの製造方法を含む。
形態（１）：前記磁性粒子として扁平磁性粒子を含有する硬化性磁性層を前記厚み方向の両端に有する形態
形態（２）：前記磁性粒子として球状磁性粒子を含有する硬化性磁性層を前記厚み方向の両端に有する形態
形態（３）：前記磁性粒子として扁平磁性粒子を含有する硬化性磁性層を前記厚み方向の一方端に有し且つ前記磁性粒子として球状磁性粒子を含有する硬化性磁性層を前記厚み方向の他方端に有する形態
このような構成は、例えば、磁性シートの厚み方向において多様な透磁率変化を設けるのに適する。
The present invention [8] includes the method for producing a magnetic sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein a magnetic sheet in any of the following forms (1) to (3) can be obtained.
Form (1): A curable magnetic layer containing flat magnetic particles as the magnetic particles is provided at both ends in the thickness direction. Form (2): A curable magnetic layer containing spherical magnetic particles as the magnetic particles is thickened. Form (3) having both ends in the direction: A curable magnetic layer having a curable magnetic layer containing flat magnetic particles as the magnetic particles at one end in the thickness direction and containing spherical magnetic particles as the magnetic particles. Such a configuration is suitable for providing various changes in magnetic permeability in the thickness direction of the magnetic sheet, for example.
図１は、本発明の磁性シートの製造方法の一実施形態を表す。本製造方法は、複数の硬化性磁性層を順次に積層形成して磁性シートを製造する方法であって、本実施形態では、用意工程と、１層目形成工程と、少なくとも一つの積層工程とを含む。本製造方法によって製造される磁性シートは、例えば、インダクタ製造においてコイル等の導体部を被覆する磁性シートとして用いられる。 FIG. 1 represents an embodiment of the method for manufacturing a magnetic sheet of the present invention. This manufacturing method is a method for manufacturing a magnetic sheet by sequentially laminating and forming a plurality of curable magnetic layers. In the present embodiment, a preparation step, a first layer forming step, and at least one laminating step are performed. including. The magnetic sheet manufactured by this manufacturing method is used, for example, as a magnetic sheet for covering a conductor portion such as a coil in inductor manufacturing.
用意工程では、図１Ａに示すように、シート状の基材１０を用意する。また、基材１０上に後述のように硬化性磁性層２０を積層形成するための組成物（磁性粒子含有のワニス）を調製する。組成物は、形成目的物である硬化性磁性層２０の組成に応じた１種類または２種類以上が用意される。
In the preparation step, as shown in FIG. 1A, the sheet-shaped
基材１０としては、プラスチック基材を好適に用いることができる。プラスチック基材の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリエチレン、およびポリプロピレンが挙げられる。基材１０の厚みは、例えば１０μｍ以上であり、例えば１０００μｍ以下である。また、基材１０において後述のように磁性シートが形成される側の面１１は、好ましくは、離型処理が施されている。離型処理としては、例えばシリコーン離型処理が挙げられる。
As the
上記組成物は、磁性粒子と、熱硬化性樹脂などの樹脂成分とを少なくとも含有する。樹脂成分は、同組成物における、磁性粒子などフィラー以外の成分をいうものとする。 The composition contains at least magnetic particles and a resin component such as a thermosetting resin. The resin component refers to a component other than the filler such as magnetic particles in the same composition.
組成物中の磁性粒子を構成する磁性材料としては、例えば、軟磁性体および硬磁性体が挙げられる。本製造方法によって得られる磁性シートが用いられて製造されるインダクタにおいて良好なインダクタンスを確保する観点からは、当該磁性材料は、好ましくは軟磁性体である。 Examples of the magnetic material constituting the magnetic particles in the composition include a soft magnetic material and a hard magnetic material. From the viewpoint of ensuring good inductance in the inductor manufactured by using the magnetic sheet obtained by this manufacturing method, the magnetic material is preferably a soft magnetic material.
軟磁性体としては、例えば、１種類の金属元素を純物質の状態で含む単一金属体、例えば、１種類以上の金属元素（第１金属元素）と、１種類以上の金属元素（第２金属元素）および／または非金属元素（炭素、窒素、ケイ素、リンなど）との共融体（混合物）である合金体が挙げられる。これらは、単独使用または２種以上併用することができる。 Examples of the soft magnetic material include a single metal body containing one kind of metal element in a pure substance state, for example, one or more kinds of metal elements (first metal element) and one or more kinds of metal elements (second metal element). Examples thereof include alloys that are eutectic (mixtures) with metallic elements) and / or non-metallic elements (carbon, nitrogen, silicon, phosphorus, etc.). These can be used alone or in combination of two or more.
単一金属体としては、例えば、１種類の金属元素（第１金属元素）のみからなる金属単体が挙げられる。第１金属元素としては、例えば、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、その他、軟磁性体の第１金属元素として含有することが可能な金属元素の中から適宜選択される。 Examples of the single metal body include a simple metal composed of only one kind of metal element (first metal element). The first metal element is appropriately selected from, for example, iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni), and other metal elements that can be contained as the first metal element of the soft magnetic material. ..
また、単一金属体としては、例えば、１種類の金属元素のみを含むコアと、そのコアの表面の一部または全部を修飾する無機物および／または有機物を含む表面層とを含む形態、例えば、第１金属元素を含む有機金属化合物や無機金属化合物が分解（熱分解など）された形態などが挙げられる。後者の形態として、より具体的には、第１金属元素として鉄を含む有機鉄化合物（具体的には、カルボニル鉄）が熱分解された鉄粉（カルボニル鉄粉と称される場合がある）などが挙げられる。なお、１種類の金属元素のみを含む部分を修飾する無機物および／または有機物を含む層の位置は、上記のような表面に限定されない。なお、単一金属体を得ることができる有機金属化合物や無機金属化合物としては、特に制限されず、軟磁性体の単一金属体を得ることができる公知乃至慣用の有機金属化合物や無機金属化合物から適宜選択することができる。 The single metal body includes, for example, a core containing only one kind of metal element and a surface layer containing an inorganic substance and / or an organic substance that modifies a part or all of the surface of the core, for example. Examples thereof include an organic metal compound containing a first metal element and a form in which an inorganic metal compound is decomposed (thermal decomposition, etc.). In the latter form, more specifically, iron powder obtained by thermally decomposing an organic iron compound (specifically, carbonyl iron) containing iron as the first metal element (sometimes referred to as carbonyl iron powder). And so on. The position of the layer containing the inorganic substance and / or the organic substance that modifies the portion containing only one kind of metal element is not limited to the above-mentioned surface. The organometallic compound or inorganic metal compound capable of obtaining a single metal body is not particularly limited, and a known or commonly used organometallic compound or inorganic metal compound capable of obtaining a soft magnetic single metal body is not particularly limited. Can be appropriately selected from.
合金体は、１種類以上の金属元素（第１金属元素）と、１種類以上の金属元素（第２金属元素）および／または非金属元素（炭素、窒素、ケイ素、リンなど）との共融体であり、軟磁性体の合金体として利用することができるものであれば特に制限されない。 The alloy body is a eutectic of one or more kinds of metal elements (first metal element) and one or more kinds of metal elements (second metal element) and / or non-metal elements (carbon, nitrogen, silicon, phosphorus, etc.). It is not particularly limited as long as it is a body and can be used as an alloy body of a soft magnetic material.
第１金属元素は、合金体における必須元素であり、例えば、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）などが挙げられる。なお、第１金属元素がＦｅであれば、合金体は、Ｆｅ系合金とされ、第１金属元素がＣｏであれば、合金体は、Ｃｏ系合金とされ、第１金属元素がＮｉであれば、合金体は、Ｎｉ系合金とされる。 The first metal element is an essential element in the alloy body, and examples thereof include iron (Fe), cobalt (Co), and nickel (Ni). If the first metal element is Fe, the alloy body is an Fe-based alloy, and if the first metal element is Co, the alloy body is a Co-based alloy, and the first metal element is Ni. For example, the alloy body is a Ni-based alloy.
第２金属元素は、合金体に副次的に含有される元素（副成分）であり、第１金属元素に相溶（共融）する金属元素であって、例えば、鉄（Ｆｅ）（第１金属元素がＦｅ以外である場合）、コバルト（Ｃｏ）（第１金属元素がＣｏ以外である場合）、ニッケル（Ｎｉ）（第１金属元素Ｎｉ以外である場合）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、マンガン（Ｍｎ）、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、亜鉛（Ｚｎ）、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、スズ（Ｓｎ）、鉛（Ｐｂ）、スカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、各種希土類元素などが挙げられる。これらは、単独使用または２種以上併用することができる。 The second metal element is an element (sub-component) secondarily contained in the alloy body, and is a metal element that is compatible (co-fused) with the first metal element, and is, for example, iron (Fe) (the first). 1 When the metal element is other than Fe), Cobalt (Co) (when the first metal element is other than Co), Nickel (Ni) (when the first metal element is other than Ni), Chromium (Cr), Aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), manganese (Mn), calcium (Ca), barium (Ba), titanium (Ti), zirconium (Zr), hafnium (Hf), vanadium (V), niobium (Nb), tantalum (Ta), molybdenum (Mo), tungsten (W), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), zinc (Zn), gallium (Ga), indium (In), germanium (Ge), tin Examples thereof include (Sn), lead (Pb), scandium (Sc), ittrium (Y), strontium (Sr), and various rare earth elements. These can be used alone or in combination of two or more.
非金属元素は、合金体に副次的に含有される元素（副成分）であり、第１金属元素に相溶（共融）する非金属元素であって、例えば、ホウ素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、窒素（Ｎ）、ケイ素（Ｓｉ）、リン（Ｐ）、硫黄（Ｓ）などが挙げられる。これらは、単独使用または２種以上併用することができる。 The non-metal element is an element (sub-component) secondarily contained in the alloy body, and is a non-metal element that is compatible (combined) with the first metal element, and is, for example, boron (B) or carbon. Examples thereof include (C), nitrogen (N), silicon (Si), phosphorus (P) and sulfur (S). These can be used alone or in combination of two or more.
合金体の一例であるＦｅ系合金として、例えば、磁性ステンレス（Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ−Ｓｉ合金）（電磁ステンレスを含む）、センダスト（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金）（スーパーセンダストを含む）、パーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ合金）、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｏ−Ｃｕ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｓｉ合金、ケイ素銅（Ｆｅ−Ｃｕ−Ｓｉ合金）、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ―Ｂ（−Ｃｕ−Ｎｂ）合金、Ｆｅ−Ｂ−Ｓｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎ合金、Ｆｅ−Ｃ合金、Ｆｅ−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｐ合金、フェライト（ステンレス系フェライト、さらには、Ｍｎ−Ｍｇ系フェライト、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ−Ｃｕ系フェライト、Ｃｕ−Ｚｎ系フェライト、Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎ系フェライトなどのソフトフェライトを含む）、パーメンジュール（Ｆｅ−Ｃｏ合金）、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ合金、Ｆｅ基アモルファス合金などが挙げられる。 Examples of Fe-based alloys that are examples of alloys include magnetic stainless steel (Fe-Cr-Al-Si alloy) (including electromagnetic stainless steel), sentust (Fe-Si-Al alloy) (including super sentust), and permalloy (including supersendust). Fe-Ni alloy), Fe-Ni-Mo alloy, Fe-Ni-Mo-Cu alloy, Fe-Ni-Co alloy, Fe-Cr alloy, Fe-Cr-Al alloy, Fe-Ni-Cr alloy, Fe- Ni-Cr-Si alloy, silicon copper (Fe-Cu-Si alloy), Fe-Si alloy, Fe-Si-B (-Cu-Nb) alloy, Fe-B-Si-Cr alloy, Fe-Si-Cr -Ni alloy, Fe-Si-Cr alloy, Fe-Si-Al-Ni-Cr alloy, Fe-Ni-Si-Co alloy, Fe-N alloy, Fe-C alloy, Fe-B alloy, Fe-P alloy , Ferrites (stainless ferrites, Mn-Mg ferrites, Mn-Zn ferrites, Ni-Zn ferrites, Ni-Zn-Cu ferrites, Cu-Zn ferrites, Cu-Mg-Zn ferrites, etc. (Including soft ferrite), permenzur (Fe-Co alloy), Fe-Co-V alloy, Fe-based amorphous alloy and the like.
合金体の一例であるＣｏ系合金としては、例えば、Ｃｏ−Ｔａ−Ｚｒ、コバルト（Ｃｏ）基アモルファス合金などが挙げられる。 Examples of Co-based alloys, which are examples of alloys, include Co-Ta-Zr and cobalt (Co) -based amorphous alloys.
合金体の一例であるＮｉ系合金としては、例えば、Ｎｉ−Ｃｒ合金などが挙げられる。 Examples of Ni-based alloys, which are examples of alloys, include Ni—Cr alloys.
硬化性磁性層２０に含まれる磁性粒子の形状としては、例えば、球状および扁平形状が挙げられる。
Examples of the shape of the magnetic particles contained in the curable
磁性粒子が球状磁性粒子である場合、磁性粒子の粒径Ｄ５０の下限は、好ましくは３μｍ、より好ましくは４μｍであり、同粒径Ｄ５０の上限は、好ましくは１００μｍ、より好ましくは８０μｍである。 When the magnetic particles are spherical magnetic particles, the lower limit of the particle size D50 of the magnetic particles is preferably 3 μm, more preferably 4 μm, and the upper limit of the same particle size D50 is preferably 100 μm, more preferably 80 μm.
磁性粒子が扁平磁性粒子である場合、磁性粒子の扁平率の下限は、好ましくは８、より好ましくは１５であり、同扁平率の上限は、好ましくは８０、より好ましくは６５である。扁平率は、磁性粒子の粒径Ｄ５０を磁性粒子の平均厚さで除したアスペクト比として算出される。磁性粒子が扁平磁性粒子である場合の粒径Ｄ５０の下限は、好ましくは３μｍ、より好ましくは４μｍであり、同粒径Ｄ５０の上限は、好ましくは１００μｍ、より好ましくは７０μｍである。磁性粒子が扁平磁性粒子である場合の平均厚さの下限は、好ましくは０．３μｍ、より好ましくは、０．５μｍであり、同平均厚さの上限は、好ましくは３μｍ、より好ましくは２．５μｍである。 When the magnetic particles are flat magnetic particles, the lower limit of the flatness of the magnetic particles is preferably 8, more preferably 15, and the upper limit of the flatness is preferably 80, more preferably 65. The flatness is calculated as an aspect ratio obtained by dividing the particle size D50 of the magnetic particles by the average thickness of the magnetic particles. When the magnetic particles are flat magnetic particles, the lower limit of the particle size D50 is preferably 3 μm, more preferably 4 μm, and the upper limit of the same particle size D50 is preferably 100 μm, more preferably 70 μm. When the magnetic particles are flat magnetic particles, the lower limit of the average thickness is preferably 0.3 μm, more preferably 0.5 μm, and the upper limit of the average thickness is preferably 3 μm, more preferably 2. It is 5 μm.
組成物における磁性粒子の体積割合（充填率）の下限は、好ましくは１０体積％、より好ましくは１５体積％であり、同体積割合の上限は、好ましくは９０体積％、より好ましくは８５体積％である。 The lower limit of the volume ratio (filling ratio) of the magnetic particles in the composition is preferably 10% by volume, more preferably 15% by volume, and the upper limit of the same volume ratio is preferably 90% by volume, more preferably 85% by volume. Is.
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、および熱硬化性ポリイミド樹脂が挙げられる。接着性および耐熱性などの観点から、好ましくは、エポキシ樹脂が用いられる。 Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, and thermosetting polyimide resin. From the viewpoint of adhesiveness, heat resistance and the like, an epoxy resin is preferably used.
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオンレン型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、トリスグリシジルイソシアヌレート型エポキシ樹脂、およびグリシジルアミン型エポキシ樹脂が挙げられる。ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、およびビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂が挙げられる。フェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、およびオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましくは、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が用いられる。 Examples of the epoxy resin include bisphenol type epoxy resin, phenol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylol ethane type epoxy resin, and hidden type. Examples thereof include epoxy resins, trisglycidyl isocyanurate type epoxy resins, and glycidylamine type epoxy resins. Examples of the bisphenol type epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, and bisphenol AF type epoxy resin. Can be mentioned. Examples of the phenol type epoxy resin include a phenol novolac type epoxy resin and an orthocresol novolac type epoxy resin. These may be used alone or in combination of two or more. Preferably, an orthocresol novolac type epoxy resin is used.
熱硬化性樹脂の軟化温度の下限は、好ましくは５０℃、より好ましくは６０℃であり、同軟化温度の上限は、好ましくは１２０℃、より好ましくは１００℃である。 The lower limit of the softening temperature of the thermosetting resin is preferably 50 ° C., more preferably 60 ° C., and the upper limit of the softening temperature is preferably 120 ° C., more preferably 100 ° C.
熱硬化性樹脂の配合量は、樹脂成分全量１００質量部に対して、例えば１０質量部以上であり、好ましくは３０質量部以上である。また、熱硬化性樹脂の配合量は、樹脂成分全量１００質量部に対して、例えば１００質量部以下であり、好ましくは７０質量部以下である。 The blending amount of the thermosetting resin is, for example, 10 parts by mass or more, preferably 30 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the total amount of the resin component. The amount of the thermosetting resin blended is, for example, 100 parts by mass or less, preferably 70 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the total amount of the resin component.
組成物は、エポキシ樹脂を含有する場合、エポキシ樹脂硬化剤としてフェノール樹脂を含有するのが好ましい。当該フェノール樹脂としては、例えば、フェノールビフェニレン樹脂、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ｔｅｒｔ−ブチルフェノールノボラック樹脂、およびノニルフェノールノボラック樹脂が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましくは、フェノールビフェニレン樹脂が用いられる。 When the composition contains an epoxy resin, it preferably contains a phenol resin as an epoxy resin curing agent. Examples of the phenol resin include phenol biphenylene resin, phenol novolac resin, phenol aralkyl resin, cresol novolac resin, tert-butylphenol novolak resin, and nonylphenol novolac resin. These may be used alone or in combination of two or more. Preferably, a phenol biphenylene resin is used.
エポキシ樹脂とフェノール樹脂との硬化反応を充分に進行させるという観点からは、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量当たりのフェノール樹脂の水酸基の量の下限は、好ましくは０.２当量、より好ましくは０.５当量であり、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量当たりのフェノール樹脂の水酸基の量の上限は、好ましくは２.０当量、より好ましくは１.２当量である。 From the viewpoint of sufficiently advancing the curing reaction between the epoxy resin and the phenol resin, the lower limit of the amount of hydroxyl groups of the phenol resin per equivalent of the epoxy group of the epoxy resin is preferably 0.2 equivalent, more preferably 0. It is 5 equivalents, and the upper limit of the amount of the hydroxyl group of the phenol resin per 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin is preferably 2.0 equivalents, more preferably 1.2 equivalents.
熱硬化性樹脂の硬化物は、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１４０℃以上のガラス転移温度を有する。 The cured product of the thermosetting resin preferably has a glass transition temperature of 120 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher.
組成物は、他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、イミダゾール化合物などの硬化促進剤、および、アクリル樹脂などの熱可塑性樹脂が挙げられる。 The composition may contain other components. Examples of other components include a curing accelerator such as an imidazole compound and a thermoplastic resin such as an acrylic resin.
組成物は、形成目的物である硬化性磁性層２０の組成に応じて配合される各成分（磁性粒子および熱硬化性樹脂を含む）を溶剤に溶解または分散させることによって、調製することができる。溶剤としては、例えば、アセトンおよびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）などのケトン類、酢酸エチルなどのエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類の有機溶媒が挙げられる。また、溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、およびイソプロパノールなどのアルコール、並びに水も、挙げられる。組成物における固形分量の下限は、例えば１０質量％、好ましくは３０質量％、より好ましくは５０質量％であり、同固形分量の上限は、例えば９０質量％、好ましくは８０質量％である。
The composition can be prepared by dissolving or dispersing each component (including magnetic particles and thermosetting resin) blended according to the composition of the curable
組成物の粘度の下限は、例えば５０ｍＰａ・ｓ、好ましくは８０ｍＰａ・ｓ、より好ましくは９０ｍＰａ・ｓである。組成物の粘度の上限は、例えば２０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１５００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは１０００ｍＰａ・ｓである。 The lower limit of the viscosity of the composition is, for example, 50 mPa · s, preferably 80 mPa · s, and more preferably 90 mPa · s. The upper limit of the viscosity of the composition is, for example, 2000 mPa · s, preferably 1500 mPa · s, and more preferably 1000 mPa · s.
１層目形成工程では、図１Ｂに示すように、基材１０上に１層目の硬化性磁性層２０を形成する。具体的には、まず、基材１０の厚み方向一方面である面１１上に、１層目の硬化性磁性層２０を形成するために調製された組成物を塗布して塗膜を形成する。次に、当該塗膜を加熱して乾燥させる。加熱温度は、塗膜中の熱硬化性樹脂の硬化反応開始温度未満の温度であり、例えば６０〜１２０℃である。加熱時間は、例えば１〜５分間である。このようにして、基材１０の面１１上に、１層目の硬化性磁性層２０として、半硬化状態にある硬化性磁性層２１を形成する。硬化性磁性層２１の厚さは、例えば５０〜１５０μｍである。
In the first layer forming step, as shown in FIG. 1B, the first curable
積層工程では、図１Ｃに示すように、硬化性磁性層２１上に２層目の硬化性磁性層２０を形成する（第１積層工程）。具体的には、まず、硬化性磁性層２１の厚み方向一方面上に、２層目の硬化性磁性層２０を形成するために調製された組成物を塗布して塗膜を形成する。次に、当該塗膜を加熱して乾燥させる。加熱温度は、塗膜中の熱硬化性樹脂の硬化反応開始温度未満の温度である。積層工程において、加熱温度は例えば６０〜１２０℃であり、加熱時間は例えば１〜５分間である。このようにして、硬化性磁性層２０上に、２層目の硬化性磁性層２０として、半硬化状態にある硬化性磁性層２２を形成する。積層工程で形成される硬化性磁性層２０の厚さは、例えば５０〜１５０μｍである。
In the laminating step, as shown in FIG. 1C, a second curable
硬化性磁性層２０上に更に硬化性磁性層２０を積層形成する積層工程は、製造目的物である磁性シートの構成に応じて、必要回数、行われる。すなわち、各積層工程により、厚み方向に硬化性磁性層２０の積層数が増える。
The laminating step of further laminating and forming the curable
また、各積層工程では、製造目的物である磁性シートの構成に応じて、先行して形成されている硬化性磁性層２０と同一組成または異なる組成を有する硬化性磁性層２０が形成される。硬化性磁性層２０において異なる組成とは、磁性粒子の種類、磁性粒子の含有割合、磁性粒子の形状、熱硬化性樹脂の種類、および熱硬化性樹脂の含有割合から選択される少なくとも一つが異なることをいうものとする。
Further, in each laminating step, a curable
図１Ｄは、（Ｎ＋１）層目の硬化性磁性層２０を積層形成する第Ｎ積層工程を表す。第Ｎ積層工程では、Ｎ層目の硬化性磁性層２０の厚み方向一方面上に、（Ｎ＋１）層目の硬化性磁性層２０を形成するために調製された組成物を塗布して塗膜を形成する。次に、当該塗膜を加熱して乾燥させる。加熱温度は、塗膜中の熱硬化性樹脂の硬化反応開始温度未満の温度である。第Ｎ積層工程までを経ることにより、半硬化状態にある合計（Ｎ＋１）層の硬化性磁性層２０を含む磁性シートＸが製造される。
FIG. 1D represents the Nth laminating step of laminating and forming the curable
図２Ａ〜図２Ｄは、それぞれ、図１に示す磁性シートの製造方法によって製造される磁性シートＸの一例を表す。 2A to 2D represent an example of the magnetic sheet X manufactured by the method for manufacturing the magnetic sheet shown in FIG. 1, respectively.
図２Ａは、合計９層の硬化性磁性層２０が積層形成された磁性シートＸ１の断面模式図である。磁性シートＸ１では、厚み方向一方側に向けて、球状磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ａが３層、扁平磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ｂが２層、他の扁平磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ｃが４層、積層している。このような磁性シートＸ１は、例えば、１層目形成工程、第１積層工程および第２積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ａが形成され、第３積層工程および第４積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ｂが形成され、第５〜第８積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ｃが形成されることによって、製造される。
FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of the magnetic sheet X1 in which a total of nine curable
磁性シートＸ１においては、例えば、厚み方向に隣り合ういずれの二つの硬化性磁性層２０においても、厚み方向一方側に位置する硬化性磁性層２０の透磁率が、厚み方向他方側に位置する硬化性磁性層２０の透磁率以上である。本製造方法によると、磁性シートの厚み方向における他方側から一方側にかけて透磁率が漸次的または段階的に高められたこのような磁性シートＸ１を得ることもできる。
In the magnetic sheet X1, for example, in any of the two curable
図２Ｂは、合計３層の硬化性磁性層２０が積層形成された磁性シートＸ２の断面模式図である。磁性シートＸ２では、厚み方向一方側に向けて、球状磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ａが３層、積層している。このような磁性シートＸ２は、１層目形成工程、第１積層工程および第２積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ａが形成されることによって、製造される。
FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of the magnetic sheet X2 in which a total of three curable
図２Ｃは、合計２層の硬化性磁性層２０が積層形成された磁性シートＸ３の断面模式図である。磁性シートＸ３では、厚み方向一方側に向けて、扁平磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ｂが２層、積層している。このような磁性シートＸ３は、１層目形成工程および第１積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ｂが形成されることによって、製造される。
FIG. 2C is a schematic cross-sectional view of the magnetic sheet X3 in which a total of two curable
図２Ｄは、合計４層の硬化性磁性層２０が積層形成された磁性シートＸ４の断面模式図である。磁性シートＸ４では、厚み方向一方側に向けて、扁平磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ｃが４層、積層している。このような磁性シートＸ４は、１層目形成工程および第１から第３積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ｃが形成されることによって、製造される。
FIG. 2D is a schematic cross-sectional view of the magnetic sheet X4 in which a total of four curable
図３Ａ〜図３Ｃは、それぞれ、図１に示す磁性シートの製造方法によって製造される磁性シートの他の例を表す。 3A to 3C show other examples of the magnetic sheet manufactured by the method for manufacturing the magnetic sheet shown in FIG. 1, respectively.
図３Ａは、合計４層の硬化性磁性層２０が積層形成された磁性シートＸ５の断面模式図である。磁性シートＸ５では、厚み方向一方側に向けて、球状磁性粒子含有の硬化性磁性層２０ｄが１層、扁平磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ｅが２層、球状磁性粒子含有の硬化性磁性層２０ｄが１層、積層している。磁性シートＸ５は、球状磁性粒子を含有する硬化性磁性層２０ｄを厚み方向の両端に有する。このような磁性シートＸ１は、例えば、１層目形成工程において硬化性磁性層２０ｄが形成され、第１および第２積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ｅが形成され、第３積層工程において硬化性磁性層２０ｄが形成されることによって、製造される。
FIG. 3A is a schematic cross-sectional view of the magnetic sheet X5 in which a total of four curable
図３Ｂは、合計５層の硬化性磁性層２０が積層形成された磁性シートＸ６の断面模式図である。磁性シートＸ６では、厚み方向一方側に向けて、扁平磁性粒子含有の硬化性磁性層２０ｆが１層、球状磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ｇが３層、扁平磁性粒子含有の硬化性磁性層２０ｆが１層、積層している。磁性シートＸ６は、扁平磁性粒子を含有する硬化性磁性層２０ｆを厚み方向の両端に有する。このような磁性シートＸ６は、例えば、１層目形成工程において硬化性磁性層２０ｆが形成され、第１〜第３積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ｇが形成され、第４積層工程において硬化性磁性層２０ｆが形成されることによって、製造される。
FIG. 3B is a schematic cross-sectional view of the magnetic sheet X6 in which a total of five curable
図３Ｃは、合計６層の硬化性磁性層２０が積層形成された磁性シートＸ７の断面模式図である。磁性シートＸ７では、厚み方向一方側に向けて、球状磁性粒子含有の硬化性磁性層２０ｈが１層、扁平磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ｉが２層、球状磁性粒子含有の同一組成の硬化性磁性層２０ｊが２層、扁平磁性粒子含有の硬化性磁性層２０ｋが１層、積層している。磁性シートＸ７は、扁平磁性粒子を含有する硬化性磁性層２０ｋを厚み方向の一方端に有し、且つ、球状磁性粒子を含有する硬化性磁性層２０ｈを厚み方向の他方端に有する。このような磁性シートＸ７は、例えば、１層目形成工程において硬化性磁性層２０ｈが形成され、第１および第２積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ｉが形成され、第３および第４積層工程のそれぞれにおいて硬化性磁性層２０ｊが形成され、第５積層工程において硬化性磁性層２０ｋが形成されることによって、製造される。
FIG. 3C is a schematic cross-sectional view of the magnetic sheet X7 in which a total of 6 curable
以上のような磁性シートの製造方法において、積層工程で硬化性磁性層２０を形成するのに用いられる磁性粒子含有の組成物は、バインダー成分として熱硬化性樹脂を含有する。事後的な硬化反応を経て高分子化して硬化する熱硬化性樹脂をバインダー成分として含有する当該組成物は、比較的低粘度で気泡の混入を抑制しつつ調製しやすい。また、そのような組成物は、積層工程では、先行して形成されている硬化性磁性層２０との間への気泡の入り込みを抑制しつつ同層上に塗布しやすい。そのため、当該組成物によると、積層工程において、硬化性磁性層２０上への更なる硬化性磁性層２０を、層内および層間への気泡の入り込みを抑制しつつ形成しやすい。このような組成物を用いての重ね塗りによって硬化性磁性層２０が積層形成される本製造方法は、積層される２または３以上の硬化性磁性層から気泡を除くための工程を実施せずとも、良好な磁気特性を示す磁性シートを製造するのに適する。磁性シート製造過程において気泡除去工程を必要としないことは、磁性シートを効率よく製造するのに適する。
In the method for producing a magnetic sheet as described above, the composition containing magnetic particles used for forming the curable
上述のように、硬化性磁性層形成用の組成物の粘度の下限は、好ましくは８０ｍＰａ・ｓ、より好ましくは９０ｍＰａ・ｓである。同組成物の粘度の上限は、例えば２０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１５００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは１０００ｍＰａ・ｓである。このような構成は、組成物調製時に組成物への気泡の混入を抑制するのに適し、また、積層工程において硬化性磁性層２０間への気泡の入り込みを抑制するのに適する。
As described above, the lower limit of the viscosity of the composition for forming the curable magnetic layer is preferably 80 mPa · s, more preferably 90 mPa · s. The upper limit of the viscosity of the composition is, for example, 2000 mPa · s, preferably 1500 mPa · s, and more preferably 1000 mPa · s. Such a configuration is suitable for suppressing the mixing of air bubbles into the composition at the time of preparing the composition, and is suitable for suppressing the entry of air bubbles between the curable
上述のように、組成物中の熱硬化性樹脂の軟化温度の下限は、好ましくは５０℃、より好ましくは６０℃であり、同軟化温度の上限は、好ましくは１２０℃、より好ましくは１００℃である。積層工程において、硬化性磁性層２０上に塗布された組成物の加熱乾燥時に、熱硬化性樹脂の軟化温度以上であって硬化反応開始温度未満の温度で組成物を加熱すると、当該組成物から溶媒や気泡を効率よく除去しやすく、従って、組成物乾燥時間を短縮しつつ硬化性磁性層２０の内部や層間への気泡の混入を抑制または防止することができる。
As described above, the lower limit of the softening temperature of the thermosetting resin in the composition is preferably 50 ° C., more preferably 60 ° C., and the upper limit of the softening temperature is preferably 120 ° C., more preferably 100 ° C. Is. In the laminating step, when the composition coated on the curable
上述のように、熱硬化性樹脂の硬化物は、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１４０℃以上のガラス転移温度を有する。このような構成は、製造される磁性シートにおいて、各硬化性磁性層中の熱硬化性樹脂の熱硬化後に良好な熱的安定性を確保するのに好適である。 As described above, the cured product of the thermosetting resin preferably has a glass transition temperature of 120 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher. Such a configuration is suitable for ensuring good thermal stability after thermosetting the thermosetting resin in each curable magnetic layer in the manufactured magnetic sheet.
〈球状磁性粒子用のバインダーの調製例〉
熱硬化性樹脂としてのエポキシ樹脂（商品名「Ｎ−６６５−ＥＸＰ−Ｓ」，軟化温度７０〜７４℃，ＤＩＣ株式会社製）２７．４質量部と、硬化剤としてのフェノール樹脂（商品名「ＭＥＨＣ−７８５１ＳＳ」，明和化成株式会社製）２７．４質量部と、硬化促進剤としてのイミダゾール化合物（商品名「キュアゾール２ＰＨＺ−ＰＷ」，四国化成工業株式会社製）０．９質量部と、熱可塑性樹脂としてのアクリル樹脂（商品名「テイサンレジンＳＧ−７０−ＬＮ」，ナガセケムテックス株式会社製）４４．３質量部と、溶剤としてのメチルエチルケトン２３０質量部とを混合して、球状磁性粒子用のバインダーＢ１を調製した。
<Preparation example of binder for spherical magnetic particles>
Epoxy resin as a thermoplastic resin (trade name "N-665-EXP-S", softening temperature 70 to 74 ° C, manufactured by DIC Co., Ltd.) 27.4 parts by mass and phenol resin as a curing agent (trade name "" MEHC-7851SS ”, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) 27.4 parts by mass, imidazole compound as a curing accelerator (trade name“ Curesol 2PHZ-PW ”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) 0.9 parts by mass, and heat Acrylic resin as a plastic resin (trade name "Taisan Resin SG-70-LN", manufactured by Nagase ChemteX Corporation) 44.3 parts by mass and 230 parts by mass of methyl ethyl ketone as a solvent are mixed and used for spherical magnetic particles. Binder B1 was prepared.
〈扁平磁性粒子用のバインダーの調製例〉
メチルエチルケトンの配合量を２３０質量部に代えて９８０質量部としたこと以外はバインダーＢ１と同様にして、扁平磁性粒子用のバインダーＢ２を調製した。
〈球状磁性粒子含有の硬化性磁性層形成用の組成物の調製例１〉
<Preparation example of binder for flat magnetic particles>
Binder B2 for flat magnetic particles was prepared in the same manner as binder B1 except that the amount of methyl ethyl ketone was 980 parts by mass instead of 230 parts by mass.
<Preparation Example 1 of Composition for Forming Curable Magnetic Layer Containing Spherical Magnetic Particles>
バインダーＢ１と、球状磁性粒子（カルボニル鉄粉，粒径Ｄ５０は４.１μｍ）とを、球状磁性粒子の体積割合が６０体積％（バインダーＢ１中の固形分１００質量部に対して球状磁性粒子の配合量は１１２０質量部）となるように配合および混合して、硬化性磁性層形成用の組成物Ｃ１を調製した。組成物Ｃ１の２５℃での粘度は、１００ｍＰａ・ｓであった。 The binder B1 and the spherical magnetic particles (carbonyl iron powder, particle size D50 is 4.1 μm) have a volume ratio of 60% by volume of the spherical magnetic particles (the volume ratio of the spherical magnetic particles to 100 parts by mass of the solid content in the binder B1). The composition C1 for forming a curable magnetic layer was prepared by blending and mixing so that the blending amount was 1120 parts by mass). The viscosity of the composition C1 at 25 ° C. was 100 mPa · s.
〈扁平磁性粒子含有の硬化性磁性層形成用の組成物の調製例１〉
バインダーＢ２と、扁平磁性粒子（Ｆｅ−Ｓｉ合金，粒径Ｄ５０は４０μｍ）とを、扁平磁性粒子の体積割合が５５体積％（バインダーＢ２中の固形分１００質量部に対して扁平磁性粒子の配合量は８２０質量部）となるように配合および混合して、硬化性磁性層形成用の組成物Ｃ２を調製した。組成物Ｃ２の２５℃での粘度は、１００ｍＰａ・ｓであった。
<Preparation Example 1 of Composition for Forming Curable Magnetic Layer Containing Flat Magnetic Particles>
Binder B2 and flat magnetic particles (Fe-Si alloy, particle size D50 is 40 μm) are mixed with the flat magnetic particles having a volume ratio of 55% by volume (blending of the flat magnetic particles with respect to 100 parts by mass of the solid content in the binder B2). The composition C2 for forming a curable magnetic layer was prepared by blending and mixing so that the amount was 820 parts by mass). The viscosity of the composition C2 at 25 ° C. was 100 mPa · s.
〈球状磁性粒子含有の硬化性磁性層形成用の組成物の調製例２〉
バインダーＢ１と、球状磁性粒子（カルボニル鉄粉，粒径Ｄ５０は４.１μｍ）とを、球状磁性粒子の体積割合が６０体積％（バインダーＢ１中の固形分１００質量部に対して球状磁性粒子の配合量は１１２０質量部）となるように配合および混合し、更に溶剤として所定量のメチルエチルケトンを配合および混合して、硬化性磁性層形成用の組成物Ｃ３を調製した。組成物Ｃ３の２５℃での粘度は、５２０ｍＰａ・ｓであった。
<Preparation Example 2 of Composition for Forming Curable Magnetic Layer Containing Spherical Magnetic Particles>
The binder B1 and the spherical magnetic particles (carbonyl iron powder, particle size D50 is 4.1 μm) have a volume ratio of 60% by volume (the volume ratio of the spherical magnetic particles to 100 parts by mass of the solid content in the binder B1). The composition C3 for forming a curable magnetic layer was prepared by blending and mixing so that the blending amount was 1120 parts by mass), and further blending and mixing a predetermined amount of methyl ethyl ketone as a solvent. The viscosity of the composition C3 at 25 ° C. was 520 mPa · s.
〈扁平磁性粒子含有の硬化性磁性層形成用の組成物の調製例２〉
バインダーＢ２と、扁平磁性粒子（Ｆｅ−Ｓｉ合金，粒径Ｄ５０は４０μｍ）とを、扁平磁性粒子の体積割合が５５体積％（バインダーＢ２中の固形分１００質量部に対して扁平磁性粒子の配合量は８２０質量部）となるように配合および混合して、更に溶剤として所定量のメチルエチルケトンを配合および混合して、硬化性磁性層形成用の組成物Ｃ４を調製した。組成物Ｃ４の２５℃での粘度は、５２０ｍＰａ・ｓであった。
<Preparation Example 2 of Composition for Forming Curable Magnetic Layer Containing Flat Magnetic Particles>
Binder B2 and flat magnetic particles (Fe-Si alloy, particle size D50 is 40 μm) are mixed with the flat magnetic particles having a volume ratio of 55% by volume (blending of the flat magnetic particles with respect to 100 parts by mass of the solid content in the binder B2). The composition C4 for forming a curable magnetic layer was prepared by blending and mixing so that the amount was 820 parts by mass), and further blending and mixing a predetermined amount of methyl ethyl ketone as a solvent. The viscosity of the composition C4 at 25 ° C. was 520 mPa · s.
〔実施例１〕
シリコーン離型処理が施されたＰＥＴフィルムの離型処理面上に、組成物Ｃ１を塗布して塗膜を形成した。次に、当該塗膜を、１１０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ６８μｍの１層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。次に、１層目の硬化性磁性層上に、組成物Ｃ２を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、８０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、１層目の硬化性磁性層上に厚さ９０μｍの２層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。以上のようにして、実施例１の２層構成の磁性シートを作製した。この磁性シートにおいて、目視では気泡の存在は確認されなかった。
[Example 1]
The composition C1 was applied on the release-treated surface of the PET film that had been subjected to the silicone release treatment to form a coating film. Next, the coating film was heated at 110 ° C. for 2 minutes and dried. As a result, a first curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 68 μm was formed on the PET film. Next, the composition C2 was applied onto the first curable magnetic layer to form a coating film. The coating was then heated at 80 ° C. for 2 minutes to dry. As a result, a second curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 90 μm was formed on the first curable magnetic layer. As described above, the two-layered magnetic sheet of Example 1 was produced. In this magnetic sheet, the presence of air bubbles was not visually confirmed.
〔実施例２〕
２層目の硬化性磁性層の形成において組成物Ｃ２の代わりに組成物Ｃ１を用いたこと以外は、実施例１の磁性シートと同様にして、実施例２の２層構成の磁性シートを作製した（実施例２の磁性シートは、球状磁性粒子を含有する二つの硬化性磁性層の積層体である）。具体的には、まず、実施例１での１層目の硬化性磁性層と同様にして、ＰＥＴフィルム上に厚さ６８μｍの１層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。次に、１層目の硬化性磁性層上に、組成物Ｃ１を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、８０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、１層目の硬化性磁性層上に厚さ６８μｍの２層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。以上のようにして、実施例２の２層構成の磁性シートを作製した。この磁性シートにおいて、目視では気泡の存在は確認されなかった。
[Example 2]
A two-layered magnetic sheet of Example 2 was produced in the same manner as the magnetic sheet of Example 1 except that the composition C1 was used instead of the composition C2 in forming the second curable magnetic layer. (The magnetic sheet of Example 2 is a laminate of two curable magnetic layers containing spherical magnetic particles). Specifically, first, a first curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 68 μm is formed on the PET film in the same manner as the first curable magnetic layer in Example 1. did. Next, the composition C1 was applied onto the first curable magnetic layer to form a coating film. The coating was then heated at 80 ° C. for 2 minutes to dry. As a result, a second curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 68 μm was formed on the first curable magnetic layer. As described above, the two-layered magnetic sheet of Example 2 was produced. In this magnetic sheet, the presence of air bubbles was not visually confirmed.
〔実施例３〕
１層目の硬化性磁性層の形成において組成物Ｃ１の代わりに組成物Ｃ２を用いたこと以外は、実施例１の磁性シートと同様にして、実施例３の２層構成の磁性シートを作製した（実施例３の磁性シートは、扁平磁性粒子を含有する二つの硬化性磁性層の積層体である）。具体的には、まず、シリコーン離型処理が施されたＰＥＴフィルムの離型処理面上に、組成物Ｃ２を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、１１０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ９０μｍの１層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。次に、実施例１での２層目の硬化性磁性層と同様にして、１層目の硬化性磁性層上に厚さ９０μｍの２層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。以上のようにして、実施例３の２層構成の磁性シートを作製した。この磁性シートにおいて、目視では気泡の存在は確認されなかった。
[Example 3]
A two-layered magnetic sheet of Example 3 was produced in the same manner as the magnetic sheet of Example 1 except that the composition C2 was used instead of the composition C1 in forming the first curable magnetic layer. (The magnetic sheet of Example 3 is a laminate of two curable magnetic layers containing flat magnetic particles). Specifically, first, the composition C2 was applied on the mold release surface of the PET film subjected to the silicone mold release treatment to form a coating film. The coating was then heated at 110 ° C. for 2 minutes to dry. As a result, a first curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 90 μm was formed on the PET film. Next, in the same manner as the second curable magnetic layer in Example 1, the second curable magnetic layer having a thickness of 90 μm is placed on the first curable magnetic layer (in a semi-cured state). Was formed. As described above, the two-layered magnetic sheet of Example 3 was produced. In this magnetic sheet, the presence of air bubbles was not visually confirmed.
〔実施例４〕
１層目の硬化性磁性層の形成において組成物Ｃ１の代わりに組成物Ｃ３を用いたこと、および、２層目の硬化性磁性層の形成において組成物Ｃ２の代わりに組成物Ｃ４を用いたこと以外は、実施例１の磁性シートと同様にして、実施例３の２層構成の磁性シートを作製した（実施例４の磁性シートは、球状磁性粒子を含有する硬化性磁性層と、扁平磁性粒子を含有する硬化性磁性層との積層体である）。具体的には、まず、シリコーン離型処理が施されたＰＥＴフィルムの離型処理面上に、組成物Ｃ３を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、１１０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ６８μｍの１層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。次に、１層目の硬化性磁性層上に、組成物Ｃ４を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、８０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、１層目の硬化性磁性層上に厚さ９０μｍの２層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。以上のようにして、実施例４の２層構成の磁性シートを作製した。この磁性シートにおいて、目視では気泡の存在は確認されなかった。
[Example 4]
The composition C3 was used instead of the composition C1 in the formation of the first curable magnetic layer, and the composition C4 was used instead of the composition C2 in the formation of the second curable magnetic layer. Except for this, a two-layered magnetic sheet of Example 3 was produced in the same manner as the magnetic sheet of Example 1 (the magnetic sheet of Example 4 has a curable magnetic layer containing spherical magnetic particles and a flat surface. It is a laminate with a curable magnetic layer containing magnetic particles). Specifically, first, the composition C3 was applied on the mold release surface of the PET film subjected to the silicone mold release treatment to form a coating film. The coating was then heated at 110 ° C. for 2 minutes to dry. As a result, a first curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 68 μm was formed on the PET film. Next, the composition C4 was applied onto the first curable magnetic layer to form a coating film. The coating was then heated at 80 ° C. for 2 minutes to dry. As a result, a second curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 90 μm was formed on the first curable magnetic layer. As described above, the two-layered magnetic sheet of Example 4 was produced. In this magnetic sheet, the presence of air bubbles was not visually confirmed.
〔実施例５〕
２層目の硬化性磁性層の形成において組成物Ｃ２の代わりに組成物Ｃ４を用いたこと以外は、実施例１の磁性シートと同様にして、実施例５の２層構成の磁性シートを作製した（実施例５の磁性シートは、球状磁性粒子を含有する硬化性磁性層と、扁平磁性粒子を含有する硬化性磁性層との積層体である）。具体的には、まず、実施例１での１層目の硬化性磁性層と同様にして、ＰＥＴフィルム上に厚さ６８μｍの１層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。次に、１層目の硬化性磁性層上に、組成物Ｃ４を塗布して塗膜を形成した。当該塗膜を、８０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、１層目の硬化性磁性層上に厚さ９０μｍの２層目の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。以上のようにして、実施例５の２層構成の磁性シートを作製した。この磁性シートにおいて、目視では気泡の存在は確認されなかった。
[Example 5]
A two-layered magnetic sheet of Example 5 was produced in the same manner as the magnetic sheet of Example 1 except that the composition C4 was used instead of the composition C2 in forming the second curable magnetic layer. (The magnetic sheet of Example 5 is a laminate of a curable magnetic layer containing spherical magnetic particles and a curable magnetic layer containing flat magnetic particles). Specifically, first, a first curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 68 μm is formed on the PET film in the same manner as the first curable magnetic layer in Example 1. did. Next, the composition C4 was applied onto the first curable magnetic layer to form a coating film. The coating film was heated at 80 ° C. for 2 minutes and dried. As a result, a second curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 90 μm was formed on the first curable magnetic layer. As described above, the two-layered magnetic sheet of Example 5 was produced. In this magnetic sheet, the presence of air bubbles was not visually confirmed.
〔参考例１〕
シリコーン離型処理が施されたＰＥＴフィルムの離型処理面上に、組成物Ｃ１を塗布して塗膜を形成した。次に、当該塗膜を、１１０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ６８μｍの第１の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。次に、シリコーン離型処理が施された別のＰＥＴフィルムの離型処理面上に、組成物Ｃ２を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、１１０℃で２分間加熱して、乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ９０μｍの第２の硬化性磁性層（半硬化状態にある）を形成した。次に、積層ラミネート装置（商品名「瞬時真空積層装置ＶＳ００８−１５１５」，ミカドテクノス株式会社製）を使用して、第１の硬化性磁性層と第２の硬化性磁性層とをラミネートした。具体的には、ＰＥＴフィルム上の第１の硬化性磁性層の露出面と、ＰＥＴフィルム上の第２の硬化性磁性層の露出面とを貼り合わせるように、１１０℃、０.８ＭＰａおよび１分間の積層ラミネート条件で、両層間の気泡を除去しつつ、両硬化性磁性層をラミネートした（積層ラミネート工程）。以上のようにして、参考例１の２層構成の磁性シートを作製した。
[Reference Example 1]
The composition C1 was applied on the release-treated surface of the PET film that had been subjected to the silicone release treatment to form a coating film. Next, the coating film was heated at 110 ° C. for 2 minutes and dried. As a result, a first curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 68 μm was formed on the PET film. Next, the composition C2 was applied on the release-treated surface of another PET film that had been subjected to the silicone release treatment to form a coating film. The coating was then heated at 110 ° C. for 2 minutes to dry. As a result, a second curable magnetic layer (in a semi-cured state) having a thickness of 90 μm was formed on the PET film. Next, the first curable magnetic layer and the second curable magnetic layer were laminated using a laminating laminating apparatus (trade name “Instantaneous vacuum laminating apparatus VS008-1515”, manufactured by Mikado Technos Co., Ltd.). Specifically, 110 ° C., 0.8 MPa and 1 so as to bond the exposed surface of the first curable magnetic layer on the PET film and the exposed surface of the second curable magnetic layer on the PET film. Both curable magnetic layers were laminated while removing air bubbles between both layers under the lamination and laminating condition for 1 minute (lamination laminating step). As described above, the two-layered magnetic sheet of Reference Example 1 was produced.
〈透磁率測定〉
実施例１および参考例１の各磁性シートについて、次のようにして透磁率を調べた。まず、加熱プレス装置（商品名「バキュームエースＶＡ７６−５０５０」，ミカドテクノス株式会社製）を使用して、１７５℃、１０ＭＰａ、および３０分間の加熱プレス条件で、磁性シートを加熱プレスした。加熱プレス後において、実施例１の磁性シートの厚さは１０３μｍであり、参考例１の磁性シートの厚さは１０１μｍであった。次に、磁性シートについて、透磁率測定装置（商品名「インピーダンスアナライザーＥ４９９１Ｂ」，キーサイトテクノロジー製）を使用して、周波数１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲にわたり複素比透磁率を測定した。その結果、周波数１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲において、複素比透磁率のμ’（実部）およびμ”（虚部）が共に、実施例１の磁性シートは、参考例１の磁性シートとほぼ同じ周波数依存性を示した。また、周波数１０ＭＨｚでのμ’は、実施例１の磁性シートは２１.０であり、参考例１の磁性シートは２０.９であり、ほぼ同じであった。このように、実施例１の磁性シートは、参考例１の磁性シートと同様の、透磁率の高周波特性を示した。このことから、実施例１の磁性シートは、積層ラミネート工程にて層間気泡が除去されつつ硬化性磁性層２層が積層されて作製された参考例１の磁性シートと同程度に、充分に気泡が少ないことが判る。
<Measurement of magnetic permeability>
The magnetic permeability of each of the magnetic sheets of Example 1 and Reference Example 1 was examined as follows. First, the magnetic sheet was heat-pressed under heat-press conditions of 175 ° C., 10 MPa, and 30 minutes using a heat-press device (trade name "Vacuum Ace VA76-5050", manufactured by Mikado Technos Co., Ltd.). After the heat press, the thickness of the magnetic sheet of Example 1 was 103 μm, and the thickness of the magnetic sheet of Reference Example 1 was 101 μm. Next, the magnetic permeability of the magnetic sheet was measured over a frequency range of 1 MHz to 1 GHz using a magnetic permeability measuring device (trade name “Impedance Analyzer E4991B”, manufactured by Keysight Technology). As a result, in the frequency range of 1 MHz to 1 GHz, the magnetic sheet of Example 1 has almost the same frequency as the magnetic sheet of Reference Example 1 in both μ'(real part) and μ'(imaginary part) of the complex relative magnetic permeability. Further, μ'at a frequency of 10 MHz was 21.0 for the magnetic sheet of Example 1 and 20.9 for the magnetic sheet of Reference Example 1, which were almost the same. In addition, the magnetic sheet of Example 1 exhibited the same high-frequency characteristics of magnetic permeability as the magnetic sheet of Reference Example 1. Therefore, the magnetic sheet of Example 1 had interlayer bubbles removed in the laminating and laminating step. It can be seen that there are sufficiently few bubbles as in the magnetic sheet of Reference Example 1 produced by laminating two curable magnetic layers.
Ｘ，Ｘ１〜Ｘ７ 磁性シート
１０ 基材
１１ 面
２０，２１，２２，２０ａ〜２０ｋ 硬化性磁性層
X, X1 to X7
Claims (8)
形態（１）：前記磁性粒子として扁平磁性粒子を含有する硬化性磁性層を前記厚み方向の両端に有する形態
形態（２）：前記磁性粒子として球状磁性粒子を含有する硬化性磁性層を前記厚み方向の両端に有する形態
形態（３）：前記磁性粒子として扁平磁性粒子を含有する硬化性磁性層を前記厚み方向の一方端に有し且つ前記磁性粒子として球状磁性粒子を含有する硬化性磁性層を前記厚み方向の他方端に有する形態
The method for producing a magnetic sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein a magnetic sheet in any of the following forms (1) to (3) can be obtained.
Form (1): A curable magnetic layer containing flat magnetic particles as the magnetic particles is provided at both ends in the thickness direction. Form (2): A curable magnetic layer containing spherical magnetic particles as the magnetic particles is thickened. Form (3) having both ends in the direction: A curable magnetic layer having a curable magnetic layer containing flat magnetic particles as the magnetic particles at one end in the thickness direction and containing spherical magnetic particles as the magnetic particles. At the other end in the thickness direction
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