JP2021089371A5 - - Google Patents

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本発明の一側面によれば、光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、前記光源を収容する第1構造体と、入射端面から入射した前記光源からの光を内面で複数回反射させるオプティカルインテグレータと、前記被照明面に前記オプティカルインテグレータの射出端面の像を形成する結像光学系と、前記結像光学系を収容する、前記第1構造体とは異なる第2構造体と、前記オプティカルインテグレータの前記入射端面における位置を回転中心として前記オプティカルインテグレータを傾ける第1チルト機構と、前記オプティカルインテグレータの射出端面における位置を回転中心として前記オプティカルインテグレータを傾ける第2チルト機構と、を有し、前記第1チルト機構は前記第1構造体に結合され、前記第2チルト機構は前記第2構造体に結合される、ことを特徴とする照明光学系が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an illumination optical system for illuminating a surface to be illuminated using light from a light source , comprising: a first structure housing the light source; an optical integrator that reflects multiple times on the inner surface, an imaging optical system that forms an image of the exit end face of the optical integrator on the illuminated surface , and a first structure that houses the imaging optical system. a second structure, a first tilt mechanism that tilts the optical integrator about a position on the incident end surface of the optical integrator as a center of rotation, and a second tilt mechanism that tilts the optical integrator about a position on the exit end surface of the optical integrator as a center of rotation. and wherein said first tilting mechanism is coupled to said first structure and said second tilting mechanism is coupled to said second structure. .

図4は、固定機構42の構成を示す図である。図4は、固定機構42を、結像光学系108側から光軸方向に見た図であり、ハッチングされた部分は断面図を表している。ここで、オプティカルインテグレータ104の射出端面104b付近の側面は、第2保持部材513によって保持されている。なお、第2保持部材513は、図3で示した保持部材413と同一の部材であってもよいし、別の部材であってもよい。固定機構42は、第2保持部材513を支持し、第2保持部材513(すなわちオプティカルインテグレータ104の射出端面104b)のY方向(第1軸方向)の位置を調整するY調整ベース502(第1調整ベース)を含みうる。また、固定機構42は、第2保持部材513(すなわちオプティカルインテグレータ104の射出端面104b)のZ方向(第2軸方向)の位置を調整するZ調整ベース501(第2調整ベース)を含みうる。Z調整ベース501は、構造体201に結合されている。Y調整ベース502は、X-Z面においてボルト503で固定されることにより、Z調整ベース501によって支持されている。第2保持部材13は、X-Y面においてボルト504で固定されることによりY調整ベース502によって支持されている。 FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the fixing mechanism 42. As shown in FIG. FIG. 4 is a view of the fixing mechanism 42 viewed in the optical axis direction from the imaging optical system 108 side, and hatched portions represent cross-sectional views. Here, the side surface of the optical integrator 104 near the exit end surface 104 b is held by the second holding member 513 . The second holding member 513 may be the same member as the holding member 413 shown in FIG. 3, or may be a different member. The fixing mechanism 42 supports the second holding member 513 and includes a Y adjustment base 502 (first axis direction) for adjusting the position of the second holding member 513 (that is, the exit end surface 104b of the optical integrator 104) in the Y direction (first axis direction). adjustment basis). The fixing mechanism 42 can also include a Z adjustment base 501 (second adjustment base) that adjusts the position of the second holding member 513 (that is, the exit end surface 104b of the optical integrator 104) in the Z direction (second axial direction). Z-adjust base 501 is coupled to structure 201 . The Y adjustment base 502 is supported by the Z adjustment base 501 by being fixed with bolts 503 on the XZ plane. The second holding member 513 is supported by the Y adjustment base 502 by being fixed with bolts 504 in the XY plane.

オプティカルインテグレータ104のZ方向の位置を調整する場合、ボルト503を緩め、所望の位置にZ調整ベース501を移動させ、ボルト503を固定する。オプティカルインテグレータ104のY方向の位置を調整する場合、ボルト504を緩め、所望の位置に第2保持部材13を移動させ、ボルト504を固定する。このような固定機構42によって、チルト機構41によって調整されたオプティカルインテグレータ104の傾き状態が維持される。 When adjusting the position of the optical integrator 104 in the Z direction, the bolt 503 is loosened, the Z adjustment base 501 is moved to a desired position, and the bolt 503 is fixed. When adjusting the position of the optical integrator 104 in the Y direction, the bolt 504 is loosened, the second holding member 513 is moved to a desired position, and the bolt 504 is fixed. Such a fixing mechanism 42 maintains the tilted state of the optical integrator 104 adjusted by the tilting mechanism 41 .

Claims (13)

光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系であって、
前記光源を収容する第1構造体と、
入射端面から入射した前記光源からの光を内面で複数回反射させるオプティカルインテグレータと、
前記被照明面に前記オプティカルインテグレータの射出端面の像を形成する結像光学系と、
前記結像光学系を収容する、前記第1構造体とは異なる第2構造体と、
前記オプティカルインテグレータの前記入射端面における位置を回転中心として前記オプティカルインテグレータを傾ける第1チルト機構と、
前記オプティカルインテグレータの射出端面における位置を回転中心として前記オプティカルインテグレータを傾ける第2チルト機構と、
を有し、
前記第1チルト機構は前記第1構造体に結合され、前記第2チルト機構は前記第2構造体に結合される、
ことを特徴とする照明光学系。
An illumination optical system that illuminates a surface to be illuminated using light from a light source,
a first structure housing the light source;
an optical integrator that reflects the light from the light source incident from the incident end surface multiple times on the inner surface;
an imaging optical system that forms an image of the exit end face of the optical integrator on the illuminated surface;
a second structure that houses the imaging optical system and is different from the first structure;
a first tilt mechanism that tilts the optical integrator about a position of the incident end surface of the optical integrator as a center of rotation;
a second tilt mechanism that tilts the optical integrator about a position on the exit end face of the optical integrator as a center of rotation;
has
said first tilting mechanism is coupled to said first structure and said second tilting mechanism is coupled to said second structure;
An illumination optical system characterized by:
前記光源からの光の光軸と前記結像光学系の光軸との間の位置ずれ量をa、前記結像光学系の結像倍率をm、前記被照明面におけるテレセントリシティ許容値をTとするとき、前記オプティカルインテグレータの長さLは、
L>a・m/T
の条件を満たす長さである、ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
a positional deviation amount between the optical axis of the light from the light source and the optical axis of the imaging optical system; m, the imaging magnification of the imaging optical system; When T, the length L of the optical integrator is
L > a m/T
2. The illumination optical system according to claim 1, wherein the length satisfies the condition of .
前記第1チルト機構または前記第2チルト機構は、
外枠部材と、
前記外枠部材の中に配置された中間枠部材と、
前記中間枠部材の中に配置され、前記オプティカルインテグレータ側面を保持する保持部材と、
前記外枠部材に対して前記中間枠部材を第1軸の周りに回転可能に支持する第1軸受と、
前記中間枠部材に対して前記保持部材を前記第1軸と直交する第2軸の周りに回転可能に支持する第2軸受と、
を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の照明光学系。
The first tilt mechanism or the second tilt mechanism ,
an outer frame member;
an intermediate frame member disposed within the outer frame member;
a holding member arranged in the intermediate frame member and holding a side surface of the optical integrator;
a first bearing that supports the intermediate frame member rotatably about a first axis with respect to the outer frame member;
a second bearing that supports the holding member rotatably about a second axis orthogonal to the first axis with respect to the intermediate frame member;
3. The illumination optical system according to claim 1, comprising:
前記第1チルト機構または前記第2チルト機構は、
外枠部材と、
前記外枠部材の中に配置された中間枠部材と、
前記中間枠部材の中に配置され、前記オプティカルインテグレータ側面を保持する保持部材と、
前記外枠部材に対して前記中間枠部材を第1軸の周りに回転可能に支持する第1板バネと、
前記中間枠部材に対して前記保持部材を前記第1軸と直交する第2軸の周りに回転可能に支持する第2板バネと、
を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の照明光学系。
The first tilt mechanism or the second tilt mechanism ,
an outer frame member;
an intermediate frame member disposed within the outer frame member;
a holding member arranged in the intermediate frame member and holding a side surface of the optical integrator;
a first leaf spring supporting the intermediate frame member rotatably about a first axis with respect to the outer frame member;
a second leaf spring that supports the holding member to be rotatable about a second axis perpendicular to the first axis with respect to the intermediate frame member;
3. The illumination optical system according to claim 1, comprising:
記オプティカルインテグレータの傾き状態を固定する固定機構を含むことを特徴とする請求項乃至のいずれか1項に記載の照明光学系。 5. The illumination optical system according to any one of claims 1 to 4, further comprising a fixing mechanism for fixing an inclination state of said optical integrator. 前記固定機構は、
前記オプティカルインテグレータの射出端面の付近の側面を保持する第2保持部材と、
前記第2保持部材の第1軸方向の位置を調整する第1調整ベースと、
前記第2保持部材の前記第1軸方向と直交する第2軸方向の位置を調整する第2調整ベースと、
を含むことを特徴とする請求項に記載の照明光学系。
The fixing mechanism is
a second holding member that holds a side surface of the optical integrator near the exit end surface;
a first adjustment base for adjusting the position of the second holding member in the first axial direction;
a second adjustment base for adjusting the position of the second holding member in a second axial direction orthogonal to the first axial direction;
6. The illumination optical system according to claim 5 , comprising:
前記第1チルト機構または前記第2チルト機構を駆動する駆動部と、
前記駆動部を制御する制御部と、
を更に有し、
前記制御部は、前記オプティカルインテグレータの射出端面の位置と前記被照明面における照度分布との間の予め得られた対応関係に基づいて、前記駆動部を制御する
ことを特徴とする請求項乃至のいずれか1項に記載の照明光学系。
a drive unit that drives the first tilt mechanism or the second tilt mechanism ;
a control unit that controls the driving unit;
further having
1. The control unit controls the driving unit based on a previously obtained correspondence relationship between the position of the exit end face of the optical integrator and the illuminance distribution on the surface to be illuminated. 7. The illumination optical system according to any one of 6 .
前記第1チルト機構または前記第2チルト機構は、前記オプティカルインテグレータの光軸方向に移動可能な直動機構を含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の照明光学系。 8. The illumination optical system according to any one of claims 1 to 7, wherein the first tilt mechanism or the second tilt mechanism includes a translation mechanism movable in the optical axis direction of the optical integrator. . 記オプティカルインテグレータは、前記第1構造体と前記第2構造体との間に配置される、ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の照明光学系。 9. The illumination optical system according to claim 1 , wherein said optical integrator is arranged between said first structure and said second structure. 前記第1チルト機構は断熱部材を介して前記第1構造体に結合され、かつ/または、前記第2チルト機構は断熱部材を介して前記第2構造体に結合されることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の照明光学系。 The first tilt mechanism is coupled to the first structure via a heat insulating member and/or the second tilt mechanism is coupled to the second structure via a heat insulating member. Item 10. The illumination optical system according to any one of Items 1 to 9 . 前記第1チルト機構は吸振部材を介して前記第1構造体に結合され、かつ/または、前記第2チルト機構は吸振部材を介して前記第2構造体に結合されることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の照明光学系。 The first tilt mechanism is coupled to the first structure via a vibration absorbing member, and/or the second tilt mechanism is coupled to the second structure via a vibration absorbing member. 11. The illumination optical system according to any one of Items 1 to 10 . 原版を照明する請求項1乃至11のいずれか1項に記載の照明光学系と、
前記照明された原版のパターンの像を基板に投影する投影光学系と、
を含むことを特徴とする露光装置。
The illumination optical system according to any one of claims 1 to 11 , which illuminates the original;
a projection optical system that projects an image of the illuminated pattern of the original onto a substrate;
An exposure apparatus comprising:
請求項12に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含み、前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
exposing a substrate using the exposure apparatus according to claim 12 ;
a step of developing the substrate exposed in the step;
and manufacturing an article from the developed substrate.
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JP2004253758A (en) 2002-12-27 2004-09-09 Nikon Corp Illuminating light source unit, aligner, and exposure method
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JP2018045060A (en) 2016-09-13 2018-03-22 キヤノン株式会社 Illumination device, exposure device and production method of article

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