JP2021084881A - Method for producing iodotrialkylsilane compound - Google Patents
Method for producing iodotrialkylsilane compound Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021084881A JP2021084881A JP2019215096A JP2019215096A JP2021084881A JP 2021084881 A JP2021084881 A JP 2021084881A JP 2019215096 A JP2019215096 A JP 2019215096A JP 2019215096 A JP2019215096 A JP 2019215096A JP 2021084881 A JP2021084881 A JP 2021084881A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- iodotrialkylsilane
- compound
- producing
- compound represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 77
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910001516 alkali metal iodide Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical group OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical group C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AALUTIYNYXEFNT-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane hydroiodide Chemical compound C[SiH](C)C.I AALUTIYNYXEFNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 36
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- -1 iodotrimethylsilane compound Chemical class 0.000 description 11
- CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl iodide Chemical compound C[Si](C)(C)I CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 5
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 5
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 4
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 4
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical group NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L magnesium iodide Chemical compound [Mg+2].[I-].[I-] BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001641 magnesium iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)C RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KFSZGBHNIHLIAA-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;fluoride Chemical compound [F-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KFSZGBHNIHLIAA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YBQCZIKWFFYEEM-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;hydrogen sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YBQCZIKWFFYEEM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LRRJQNMXIDXNIM-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 LRRJQNMXIDXNIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CREVBWLEPKAZBH-UHFFFAOYSA-M hydron;tetraethylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CC[N+](CC)(CC)CC CREVBWLEPKAZBH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000010813 internal standard method Methods 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UQFSVBXCNGCBBW-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium iodide Chemical compound [I-].CC[N+](CC)(CC)CC UQFSVBXCNGCBBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QSUJAUYJBJRLKV-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;fluoride Chemical compound [F-].CC[N+](CC)(CC)CC QSUJAUYJBJRLKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyl)silane Chemical compound C[SiH2][Si](C)(C)C VIPCDVWYAADTGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Abstract
Description
本発明は、ヨードトリアルキルシラン化合物の新規な製造方法に関する。詳しくは、種々の有機溶媒においても安定的に製造可能なヨードトリアルキルシラン化合物の新規な製造方法に関する。 The present invention relates to a novel method for producing an iodotrialkylsilane compound. More specifically, the present invention relates to a novel method for producing an iodotrialkylsilane compound that can be stably produced even in various organic solvents.
ヨードトリメチルシラン等のヨードトリアルキルシラン化合物は、エ−テル結合の切断、カルバメート保護基の除去、エステル基の切断などに用いることができる有用な試薬である。一方、湿気や光に敏感であり、取り扱いが極めて困難な化合物であることが知られている(非特許文献1参照)。 Iodotrialkylsilane compounds such as iodotrimethylsilane are useful reagents that can be used for cleavage of ether bonds, removal of carbamate protecting groups, cleavage of ester groups, and the like. On the other hand, it is known that it is a compound that is sensitive to moisture and light and is extremely difficult to handle (see Non-Patent Document 1).
これまで、ヨードトリアルキルシラン化合物を得る方法として種々の方法が提案されている。例えば、テトラヒドロフラン中で塩化トリメチルシランとヨウ化マグネシウムの反応によりヨードトリメチルシラン化合物を得る方法(非特許文献2参照)、ヘキサメチルジシランとヨウ素の反応によりヨードトリメチルシラン化合物を得る方法(非特許文献3参照)、アセトニトリル溶媒中でクロロトリメチルシランとヨウ化ナトリウムを接触させて得る方法(非特許文献4参照)等が提案されている。 So far, various methods have been proposed as methods for obtaining an iodotrialkylsilane compound. For example, a method of obtaining an iodidetrimethylsilane compound by the reaction of trimethylsilane chloride and magnesium iodide in tetrahydrofuran (see Non-Patent Document 2), and a method of obtaining an iodotrimethylsilane compound by the reaction of hexamethyldisilane and iodine (Non-Patent Document 3). (See), a method obtained by contacting chlorotrimethylsilane and sodium iodide in an acetonitrile solvent (see Non-Patent Document 4) and the like have been proposed.
上記のとおり、ヨードトリアルキルシラン化合物は種々の反応に用いられる試薬である反面、反応系中では不安定な化合物であり、該ヨードトリアルキルシラン化合物を安定的に製造する点で課題がある。例えば、上記テトラヒドロフラン中でクロロトリメチルシランとヨウ化マグネシウムの反応によりヨードトリアルキルシラン化合物を得る方法においては、生成したヨードトリアルキルシラン化合物が溶媒であるテトラヒドロフランと反応し、次いでクロロトリメチルシランとの反応により、テトラメチルジシラン等の混合物が得られることが知られており、当該方法でのヨードトリアルキルシラン化合物の製法は反応させる基質等の条件に大きな制約がある点で課題があった。また、ヘキサメチルジシランとヨウ素の反応によりヨードトリメチルシラン化合物を得る方法は、反応速度が非常に低く、且つ高価な原料を用いている点でなお課題があった。さらに、アセトニトリル溶媒中でクロロトリメチルシランとヨウ化ナトリウムを接触させて得る方法では、生成するヨードトリアルキルシラン化合物が溶媒であるアセトニトリルとの反応により、準安定的な状態となることが知られており、他の有機溶媒を用いる反応への適用という点でなお課題があった。 As described above, while the iodotrialkylsilane compound is a reagent used in various reactions, it is an unstable compound in the reaction system, and there is a problem in stably producing the iodotrialkylsilane compound. For example, in the method for obtaining an iodotrialkylsilane compound by the reaction of chlorotrimethylsilane and magnesium iodide in tetrahydrofuran, the produced iodotrialkylsilane compound reacts with tetrahydrofuran which is a solvent, and then reacts with chlorotrimethylsilane. It is known that a mixture of tetramethyldisilane and the like can be obtained, and the method for producing an iodotrialkylsilane compound by this method has a problem in that the conditions such as the substrate to be reacted are greatly restricted. Further, the method for obtaining an iodotrimethylsilane compound by the reaction of hexamethyldisilane and iodine still has a problem in that the reaction rate is very low and an expensive raw material is used. Further, it is known that in the method obtained by contacting chlorotrimethylsilane and sodium iodide in an acetonitrile solvent, the produced iodotrialkylsilane compound becomes a semi-stable state by reaction with acetonitrile as a solvent. Therefore, there is still a problem in terms of application to reactions using other organic solvents.
従って、本発明の目的は、種々の有機溶媒中においてもヨードトリアルキルシラン化合物を安定的に製造することが可能なヨードトリアルキルシラン化合物の製造方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing an iodotrialkylsilane compound capable of stably producing an iodotrialkylsilane compound even in various organic solvents.
本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、種々の有機溶媒中、ハロゲン化トリアルキルシラン化合物を、ヨウ化アルカリ金属塩と接触させることにより反応させることにより、ハロゲン化トリアルキルシラン化合物を製造することができること、特に有機溶媒がトルエン、塩化メチレン等の非極性溶媒を用いる場合に安定的にハロゲン化トリアルキルシラン化合物を製造することができることを見出した。また、得られるハロゲン化トリアルキルシラン化合物は、溶媒との反応物ではなく、目的物であるハロゲン化トリアルキルシラン化合物であることを確認した。さらに、上記ハロゲン化トリアルキルシラン化合物と、ヨウ化アルカリ金属塩とを接触させる際に、4置換アンモニウム塩を存在せしめることにより、短時間で反応が進行し、高収率で目的とするハロゲン化トリアルキルシラン化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have made extensive studies to solve the above problems. As a result, a halogenated trialkylsilane compound can be produced by reacting the halogenated trialkylsilane compound with an alkali metal iodide salt in various organic solvents, and in particular, the organic solvent is toluene. , It has been found that a halogenated trialkylsilane compound can be stably produced when a non-polar solvent such as methylene chloride is used. Further, it was confirmed that the obtained trialkylsilane halide compound was not a reaction product with a solvent but a target trialkylsilane halide compound. Further, by allowing the tetra-substituted ammonium salt to be present when the above-mentioned trialkylsilane compound halide is brought into contact with the alkali metal iodide salt, the reaction proceeds in a short time, and the desired halogenation occurs in a high yield. They have found that a trialkylsilane compound can be produced, and have completed the present invention.
すなわち本発明は、下記式(1) That is, the present invention has the following equation (1).
(式中、R1〜R3は、炭素数1〜4である置換または非置換のアルキル基であり、R1〜R3は、それぞれ同一の基であっても、異なる基であってもよい。Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子から選ばれる基である。)
で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物を、有機溶媒中、ヨウ化アルカリ金属塩と接触させることにより反応させ、下記式(2)
(In the formula, R 1 to R 3 are substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and R 1 to R 3 may be the same group or different groups, respectively. Good. X is a group selected from fluorine atom, chlorine atom and bromine atom.)
The halogenated trialkylsilane compound represented by (2) is reacted by contacting it with an alkali metal iodide salt in an organic solvent, and the following formula (2)
(式中、R1〜R3は前記式(1)におけるものと同義である。)
で示されるヨードトリアルキルシラン化合物を製造する、ヨードトリアルキルシラン化合物の製造方法である。
(In the formula, R 1 to R 3 are synonymous with those in the above formula (1).)
It is a method for producing an iodotrialkylsilane compound, which produces an iodotrialkylsilane compound represented by.
上記本発明は、以下の態様を好適に採り得る。 The present invention preferably adopts the following aspects.
1)前記有機溶媒が、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、アミド類から選択される少なくとも一種であること。 1) The organic solvent is at least one selected from halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and amides.
2)前記有機溶媒が、非極性溶媒であること。 2) The organic solvent is a non-polar solvent.
3)前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物を、下記式(3) 3) The halogenated trialkylsilane compound represented by the above formula (1) is subjected to the following formula (3).
(式中、R4〜R7は、アルキル基又はアラルキル基であり、それぞれ同一の基であっても、異なる基であってもよい。Yは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、又は硫酸水素基である。)
で示される4置換アンモニウム塩の存在下、ヨウ化アルカリ金属塩と接触させること。
(In the formula, R 4 to R 7 are alkyl groups or aralkyl groups, which may be the same group or different groups, respectively. Y is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom. , A hydroxyl group, or a hydrogen sulfate group.)
Contact with alkali metal iodide salt in the presence of the tetra-substituted ammonium salt indicated by.
4)前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物が下記式(1A) 4) The halogenated trialkylsilane compound represented by the above formula (1) is the following formula (1A).
(式中、Xは、は前記式(1)におけるものと同義である。)
で示されるハロゲン化トリメチルシランであり、前記式(2)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物が下記式(2A)
(In the formula, X is synonymous with that in the formula (1).)
The trimethylsilane halide represented by the above formula (2), and the iodotrialkylsilane compound represented by the above formula (2) is the following formula (2A).
(式中、Rは、前記式(1A)におけるものと同義である。)
で表わされるヨウ化トリメチルシランであること。
(In the formula, R is synonymous with that in the formula (1A).)
Must be trimethylsilane iodide represented by.
本発明の製造方法によれば、反応時に用いる有機溶媒の種類によらず、ハロゲン化トリアルキルシラン化合物を高収率で製造することができる。また、ハロゲン化トリアルキルシラン化合物及びヨウ化アルカリ金属塩は比較的安価な原料であり、これらを用いることで工業的に効率良くハロゲン化トリアルキルシラン化合物を製造することができる。特に有機溶媒として非極性溶媒を用いた場合にもハロゲン化トリアルキルシラン化合物を高収率で製造することができ、ハロゲン化トリアルキルシラン化合物を用いた有機合成の適用範囲の拡大が期待できる。 According to the production method of the present invention, a halogenated trialkylsilane compound can be produced in a high yield regardless of the type of organic solvent used in the reaction. Further, the halogenated trialkylsilane compound and the alkali metal iodide salt are relatively inexpensive raw materials, and by using these, the halogenated trialkylsilane compound can be industrially and efficiently produced. In particular, a halogenated trialkylsilane compound can be produced in high yield even when a non-protic solvent is used as the organic solvent, and the range of application of organic synthesis using the halogenated trialkylsilane compound can be expected to be expanded.
さらに、4置換アンモニウム塩の存在下でハロゲン化トリアルキルシラン化合物を、ヨウ化アルカリ金属塩と接触させて反応させることにより短時間で収率良くハロゲン化トリアルキルシラン化合物を製造することができる。上述のとおり、ヨードトリメチルシラン等のヨードトリアルキルシラン化合物は、エ−テル結合の切断、カルバメート保護基の除去、エステル基の切断などに用いることができる有用な試薬であり、短時間で収率良くハロゲン化トリアルキルシラン化合物を製造することができる本発明の製造方法は、極めて有用な方法であり、本発明の工業的利用価値は非常に高い。 Further, by contacting the halogenated trialkylsilane compound with the alkali metal iodide salt and reacting it in the presence of the tetrasubstituted ammonium salt, the halogenated trialkylsilane compound can be produced in a short time and in good yield. As described above, an iodotrialkylsilane compound such as iodotrimethylsilane is a useful reagent that can be used for cleavage of ether bonds, removal of carbamate protecting groups, cleavage of ester groups, etc., and yields in a short time. The production method of the present invention capable of producing a halogenated trialkylsilane compound well is an extremely useful method, and the industrial utility value of the present invention is very high.
本発明は、前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物を、有機溶媒中、ヨウ化アルカリ金属塩と接触させることにより反応させ、前記式(2)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物を製造する、ヨードトリアルキルシラン化合物の製造方法である。以下、本発明について詳細に説明する。 In the present invention, the trialkylsilane halide compound represented by the formula (1) is reacted by contacting it with an alkali metal iodide salt in an organic solvent, and the trialkylsilane compound represented by the formula (2) is reacted. Is a method for producing an iodotrialkylsilane compound. Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(ハロゲン化トリアルキルシラン化合物)
本発明の製造方法において、ハロゲン化トリアルキルシラン化合物は、下記式(1)
(Halogenated trialkylsilane compound)
In the production method of the present invention, the halogenated trialkylsilane compound is represented by the following formula (1).
で示される化合物である。式(1)中、R1〜R3は、炭素数1〜4である置換または非置換のアルキル基である。かかるアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、n−ブチル基、n−プロピル基、1−メチルブチル基、t−ブチル基が挙げられる。R1〜R3は、それぞれ同一の基であっても、異なる基であってもよい。R1〜R3は、これらのアルキル基の中でも上記試薬としての有用性の点から、全てが同じアルキル基であることが好ましい。即ち、式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物は、下記式(1A) It is a compound indicated by. In formula (1), R 1 to R 3 are substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. Specific examples of such an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group, an n-propyl group, a 1-methylbutyl group and a t-butyl group. R 1 to R 3 may be the same group or different groups, respectively. Among these alkyl groups, R 1 to R 3 are preferably all the same alkyl group from the viewpoint of usefulness as the above-mentioned reagent. That is, the halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1) has the following formula (1A).
で示されるハロゲン化トリメチルシリル化合物が好適である。また、Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子から選ばれる基である。これらのハロゲン化トリアルキルシラン化合物は、工業的に入手可能な化合物を用いることができる。 The halogenated trimethylsilyl compound represented by is suitable. Further, X is a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom. As these halogenated trialkylsilane compounds, industrially available compounds can be used.
(有機溶媒)
本発明の製造方法においては、有機溶媒中で、前記式(2)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物を製造する。有機溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定されないが、極性の低いもの又は非極性の有機溶媒であることが好ましい。
(Organic solvent)
In the production method of the present invention, the iodotrialkylsilane compound represented by the above formula (2) is produced in an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but a low-polarity or non-polar organic solvent is preferable.
有機溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、クロロベンゼン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド(DMF),N,N−ジメチルアセトアミド(DMA),N−メチルー2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルイミダゾリジン−オン(DMI)等のアミド類等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類等の非極性溶媒であり、特に好ましくは、トルエン、塩化メチレンである。これら有機溶媒は、単独で、又はこれらの混合溶媒として用いることができる。 Examples of the organic solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, chlorobenzene and carbon tetrachloride; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide. Examples thereof include amides such as (DMA), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N, N-dimethylimidazolidine-one (DMI) and the like. Non-polar solvents such as halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons are preferable, and toluene and methylene chloride are particularly preferable. These organic solvents can be used alone or as a mixed solvent thereof.
有機溶媒の使用量は、特に制限されるものではない。前記式(1)で表わされるハロゲン化トリアルキルシラン化合物1質量部に対して、有機溶媒を0.5〜100倍容量使用することが好ましく、1〜10倍容量使用することがより好ましく、1〜3倍容量使用することが特に好ましい。なお、反応溶媒として混合溶媒を使用する場合には、混合溶媒の全量が前記範囲を満足すれば良い。 The amount of the organic solvent used is not particularly limited. It is preferable to use 0.5 to 100 times the volume of the organic solvent, and more preferably 1 to 10 times the volume of the halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1). It is particularly preferable to use ~ 3 times the capacity. When a mixed solvent is used as the reaction solvent, the total amount of the mixed solvent may satisfy the above range.
(ヨウ化アルカリ金属塩)
本発明において、前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物とヨウ化アルカリ金属塩とを接触させて反応させる。ヨウ化アルカリ金属塩として具体的には、ヨウ化リチウム(LiI),ヨウ化ナトリウム(NaI)、ヨウ化カリウム(KI)、ヨウ化セシウム(CsI)等が挙げられる。これらのヨウ化アルカリ金属塩の中でも、前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物との反応性や価格の観点からからヨウ化ナトリウムを用いることが好ましい。
(Alkali metal iodide)
In the present invention, the halogenated trialkylsilane compound represented by the above formula (1) is brought into contact with an alkali metal iodide salt to cause a reaction. Specific examples of the alkali metal iodide salt include lithium iodide (LiI), sodium iodide (NaI), potassium iodide (KI), and cesium iodide (CsI). Among these alkali metal iodide salts, it is preferable to use sodium iodide from the viewpoint of reactivity with the halogenated trialkylsilane compound represented by the above formula (1) and price.
ヨウ化アルカリ金属塩の使用量は特に制限されるものではない。前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物1モルに対して、1〜5モル使用することが好ましく、1〜2モル使用することがより好ましい。 The amount of alkali metal iodide used is not particularly limited. It is preferable to use 1 to 5 mol, and more preferably 1 to 2 mol, with respect to 1 mol of the halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1).
(4置換アンモニウム塩)
本発明の製造方法においては、前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物と、上記ヨウ化アルカリ金属塩とを接触させて反応させることが特徴であるが、この時、下記式(3)
(4-substituted ammonium salt)
The production method of the present invention is characterized in that the halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1) is brought into contact with the alkali metal iodide salt and reacted. 3)
で示される4置換アンモニウム塩の存在下で反応を行うことで、短時間で収率良く、上記式(2)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物を製造することができ好ましい。式(3)中、R4〜R7は、アルキル基又はアラルキル基であり、それぞれ同一の基であっても、異なる基であってもよい。また、R4〜R7は、そのうちの少なくとも3個がアルキル基であることが好ましい。 By carrying out the reaction in the presence of the tetra-substituted ammonium salt represented by (2), the iodotrialkylsilane compound represented by the above formula (2) can be produced in a short time with good yield, which is preferable. In the formula (3), R 4 to R 7 are alkyl groups or aralkyl groups, which may be the same group or different groups, respectively. Further, it is preferable that at least 3 of R 4 to R 7 are alkyl groups.
アルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、炭素数1〜4であることがより好ましい。アラルキル基は炭素数7〜20であることが好ましく、炭素数7〜10であることがより好ましい。 The alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 4 carbon atoms. The aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms, and more preferably 7 to 10 carbon atoms.
Yは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、又は硫酸水素基であり、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は硫酸水素基であることが好ましい。 Y is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, or a hydrogen sulfate group, and is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a hydrogen sulfate group.
上記式(3)で示される4置換アンモニウム塩として具体的には、テトラ−n−ブチルアンモニウムヨージド(TBAI)、テトラメチルアンモニウムヨージド(TMAI)、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド(TBAB)、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロリド(TBAC)、テトラメチルアンモニウムクロリド(TMAC)、テトラ−n−ブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)、テトラ−n−ブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、ベンジルトリメチルアンモニウムヨージド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムフルオリド、ベンジルトリメチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、テトラエチルアンモニウムヨージド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムハイドロジェンサルフェートが挙げられる。これらの4置換アンモニウム塩の中でも、上記式(2)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物の収率の点や工業的に入手が容易な点から、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド(TBAB)、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロリド(TBAC)を用いることが好ましい。 Specific examples of the tetra-substituted ammonium salt represented by the above formula (3) include tetra-n-butylammonium iodide (TBAI), tetramethylammonium iodide (TMAI), and tetra-n-butylammonium bromide (TBAB). Tetra-n-butylammonium chloride (TBAC), tetramethylammonium chloride (TMAC), tetra-n-butylammonium fluoride (TBAF), tetra-n-butylammonium hydrogen sulfate, benzyltrimethylammonium iodide, benzyltrimethylammonium Examples thereof include bromide, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium fluoride, benzyltrimethylammonium hydrogen sulfate, tetraethylammonium iodide, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium fluoride and tetraethylammonium hydrogen sulfate. Among these tetra-substituted ammonium salts, tetra-n-butylammonium bromide (TBAB), tetra, from the viewpoint of the yield of the iodotrialkylsilane compound represented by the above formula (2) and the point of being easily available industrially. It is preferable to use -n-butylammonium chloride (TBAC).
上記式(3)で示される4置換アンモニウム塩の使用量は、特に制限されるものではない。前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物1モルに対して、0.001〜1モル使用することが好ましく、0.005〜0.1モル使用することがより好ましい。 The amount of the tetra-substituted ammonium salt represented by the above formula (3) is not particularly limited. It is preferable to use 0.001 to 1 mol, and more preferably 0.005 to 0.1 mol, with respect to 1 mol of the halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1).
(ヨードトリアルキルシラン化合物の製造)
本発明の製造方法においては、前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物を、有機溶媒中、ヨウ化アルカリ金属塩と接触させることにより反応させ、前記式(2)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物を製造する。該反応は、各成分を混合することにより実施できる。
(Manufacture of iodotrialkylsilane compound)
In the production method of the present invention, the halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1) is reacted by contacting it with an alkali metal iodide salt in an organic solvent, and the iodine represented by the formula (2) is reacted. Produces trialkylsilane compounds. The reaction can be carried out by mixing each component.
各成分を混合する方法は、特に制限されるものではなく、撹拌装置を備えた反応容器内で実施することができる。各成分を反応容器内に添加する手順は、前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物、必要に応じて添加する前記式(3)で示される4置換アンモニウム塩、及び有機溶媒を予め反応容器に仕込み、前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物、及び前記式(3)で示される4置換アンモニウム塩を有機溶媒に溶解させた後、撹拌しながらヨウ化アルカリ金属塩を添加混合する方法が好ましい。 The method of mixing each component is not particularly limited, and can be carried out in a reaction vessel equipped with a stirrer. The procedure for adding each component into the reaction vessel is to add the halogenated trialkylsilane compound represented by the above formula (1), the tetra-substituted ammonium salt represented by the above formula (3) to be added as needed, and an organic solvent. The halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1) and the tetra-substituted ammonium salt represented by the formula (3) are dissolved in an organic solvent in advance in a reaction vessel, and then the alkali metal iodide is stirred. A method of adding and mixing salts is preferable.
前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物、必要に応じて添加する前記式(3)で示される4置換アンモニウム塩、及び有機溶媒を反応容器に仕込む順番は特に制限されないが、まず有機溶媒を仕込み、次いで撹拌しながら前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物、前記式(3)で示される4置換アンモニウム塩の順に添加し、溶解させることが好ましい。この添加、溶解時の温度は、特に制限されるものではなく、0〜100℃の範囲で実施することができる。より具体的には、5〜70℃であることが好ましく、10〜50℃であることがより好ましい。 The order in which the halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1), the tetra-substituted ammonium salt represented by the formula (3) added as needed, and the organic solvent are charged into the reaction vessel is not particularly limited, but first. It is preferable that an organic solvent is charged, and then the halogenated trialkylsilane compound represented by the formula (1) and the tetra-substituted ammonium salt represented by the formula (3) are added and dissolved in this order with stirring. The temperature at the time of addition and dissolution is not particularly limited, and can be carried out in the range of 0 to 100 ° C. More specifically, it is preferably 5 to 70 ° C, more preferably 10 to 50 ° C.
ヨウ化アルカリ金属塩の添加時の温度も特に制限されず、上記温度範囲と同じでよい。ヨウ化アルカリ金属塩添加後の反応温度は、反応が十分に進行する範囲で適宜設定すれば良く、0℃〜100℃であることが好ましく、10℃〜50℃であることがより好ましい。当該温度範囲で反応を実施することで、高収率かつ短時間で反応を進行させることができる。 The temperature at the time of adding the alkali metal iodide salt is not particularly limited and may be the same as the above temperature range. The reaction temperature after the addition of the alkali metal iodide salt may be appropriately set within a range in which the reaction proceeds sufficiently, and is preferably 0 ° C to 100 ° C, more preferably 10 ° C to 50 ° C. By carrying out the reaction in the temperature range, the reaction can proceed in a high yield and in a short time.
反応時間も、特に制限されるものではなく、生成物である前記式(2)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物への転化率を確認しながら適宜決定すればよいが、通常、1時間以上10時間以下であればよく、好ましくは0.5時間以上5時間以下である。 The reaction time is also not particularly limited, and may be appropriately determined while confirming the conversion rate of the product to the iodotrialkylsilane compound represented by the above formula (2), but is usually 1 hour or more and 10 It may be less than an hour, preferably 0.5 hours or more and 5 hours or less.
反応雰囲気も、特に制限されるものではないが、不活性ガス雰囲気下、空気雰囲気下であることが好ましい。 The reaction atmosphere is also not particularly limited, but is preferably under an inert gas atmosphere and an air atmosphere.
また、反応系内は、大気圧下、加圧下、減圧下の何れであってよい。中でも、大気圧下で実施することが好ましい。 Further, the inside of the reaction system may be under atmospheric pressure, pressurization, or decompression. Above all, it is preferable to carry out under atmospheric pressure.
本発明においては、上記反応により、下記式(2) In the present invention, the following formula (2) is obtained by the above reaction.
で示されるヨードトリアルキルシラン化合物が得られる。上記式(2)中、R1〜R3は上記式(1)におけるものと同義である。 The iodotrialkylsilane compound represented by is obtained. In the above formula (2), R 1 to R 3 are synonymous with those in the above formula (1).
ここで、前記式(1)で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物として、前記式(1A)で示されるハロゲン化トリメチルシラン化合物用いた場合には、下記式(2A) Here, when the halogenated trimethylsilane compound represented by the above formula (1A) is used as the halogenated trialkylsilane compound represented by the above formula (1), the following formula (2A) is used.
で示されるヨードトリメチルシランを製造することができる。 The iodidetrimethylsilane represented by is can be produced.
得られた上記ヨードトリアルキルシラン化合物は、反応液から単離することなくそのまま次の反応における試薬として用いることができる。 The obtained iodine trialkylsilane compound can be used as it is as a reagent in the next reaction without being isolated from the reaction solution.
以下に実施例を挙げて、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。反応の追跡は下記のガスクロマトグラフィー分析条件にて行った。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. The reaction was followed up under the following gas chromatography analysis conditions.
(ガスクロマトグラフィー分析条件)
装置:Agilent Technologies製 7820A GC System
カラム:Agilent Technologies製 HP−5(30m×0.32mm×0.25μm)
カラム温度:40℃ 5分間保持→10℃/minで110℃まで昇温→20℃/minで230℃まで昇温→230℃で5分間保持
注入口温度:250℃
注入量:0.2μL
検出器:FID
検出器温度:300℃
キャリアガス:ヘリウム、13.3mL/min
スプリット:30:1
保持時間:クロロトリメチルシラン 4.62min、ヨードトリメチルシラン 8.10min
実施例1
クロロトリメチルシラン(1.0g、9.21mmol)、テトラブチルアンモニウムブロミド(TBAB、148mg、0.460mmol)をジクロロメタン(5.0mL)に溶解させた後、25℃でヨウ化ナトリウム(1.66g、11.1mmol)を添加し、40℃で1時間攪拌した。
(Gas chromatography analysis conditions)
Equipment: Agilent Technologies 7820A GC System
Column: HP-5 (30m x 0.32mm x 0.25μm) manufactured by Agilent Technologies
Column temperature: 40 ° C for 5 minutes → 10 ° C / min to 110 ° C → 20 ° C / min to 230 ° C → 230 ° C for 5 minutes Injection inlet temperature: 250 ° C
Injection volume: 0.2 μL
Detector: FID
Detector temperature: 300 ° C
Carrier gas: helium, 13.3 mL / min
Split: 30: 1
Retention time: chlorotrimethylsilane 4.62 min, iodotrimethylsilane 8.10 min
Example 1
After dissolving chlorotrimethylsilane (1.0 g, 9.21 mmol) and tetrabutylammonium bromide (TBAB, 148 mg, 0.460 mmol) in dichloromethane (5.0 mL), sodium iodide (1.66 g, 1.66 g,) at 25 ° C. 11.1 mmol) was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 1 hour.
反応液(100μL)をジクロロメタン(400μL)で希釈し、得られた試料をガスクロマトグラフィー(GC)で分析することで転化率を算出したところ、添加率は95.4%であった。 The reaction solution (100 μL) was diluted with dichloromethane (400 μL), and the obtained sample was analyzed by gas chromatography (GC) to calculate the conversion rate. As a result, the addition rate was 95.4%.
実施例2
クロロトリメチルシラン(1.0g、9.21mmol)、テトラブチルアンモニウムブロミド(TBAB、148mg、0.460mmol)を重ジクロロメタン(5.0mL)に溶解させた後、25℃でメシチレン(1.11g、9.21mmol)、ヨウ化ナトリウム(1.66g、11.1mmol)を添加し、40℃で1時間攪拌した。
Example 2
After dissolving chlorotrimethylsilane (1.0 g, 9.21 mmol) and tetrabutylammonium bromide (TBAB, 148 mg, 0.460 mmol) in dichloromethane (5.0 mL), mesitylene (1.11 g, 9) at 25 ° C. .21 mmol) and sodium iodide (1.66 g, 11.1 mmol) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 1 hour.
反応終了後に反応液の1H−NMRを測定することにより(内部標準法、内部標準物質:メシチレン)、重ジクロロメタン中にヨードトリメチルシランが1.66g(アッセイ収率:90.00%)含まれていることが分った。 By measuring 1 H-NMR of the reaction solution after completion of the reaction (internal standard method, internal standard substance: mesitylene), 1.66 g of iodotrimethylsilane (assay yield: 90.00%) was contained in heavy dichloromethane. I found out that.
実施例3〜5
溶媒、及びテトラブチルアンモニウムブロミドの量を表2とした以外は実施例1と同様にしてヨードトリメチルシランを製造した。反応後の添加率を表1に示す。
Examples 3-5
Trimethylsilane was produced in the same manner as in Example 1 except that the amounts of the solvent and tetrabutylammonium bromide were shown in Table 2. The addition rate after the reaction is shown in Table 1.
Claims (5)
で示されるハロゲン化トリアルキルシラン化合物を、
有機溶媒中、
ヨウ化アルカリ金属塩と接触させることにより反応させ、
下記式(2)
で示されるヨードトリアルキルシラン化合物を製造する、ヨードトリアルキルシラン化合物の製造方法。 The following formula (1)
The halogenated trialkylsilane compound represented by,
In an organic solvent,
React by contacting with alkali metal iodide,
The following formula (2)
A method for producing an iodotrialkylsilane compound, which comprises producing the iodotrialkylsilane compound represented by.
下記式(3)
で示される4置換アンモニウム塩の存在下、
ヨウ化アルカリ金属塩と接触させることにより反応させ、
前記式(3)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物を製造する、請求項1から3のいずれか一項に記載のヨードトリアルキルシラン化合物の製造方法。 The halogenated trialkylsilane compound represented by the above formula (1) is used.
The following formula (3)
In the presence of the tetra-substituted ammonium salt indicated by
React by contacting with alkali metal iodide,
The method for producing an iodotrialkylsilane compound according to any one of claims 1 to 3, wherein the iodotrialkylsilane compound represented by the formula (3) is produced.
で示されるハロゲン化トリメチルシランであり、
式(3)で示されるヨードトリアルキルシラン化合物が下記式(2A)
It is a halogenated trimethylsilane indicated by
The iodotrialkylsilane compound represented by the formula (3) is the following formula (2A).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019215096A JP2021084881A (en) | 2019-11-28 | 2019-11-28 | Method for producing iodotrialkylsilane compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019215096A JP2021084881A (en) | 2019-11-28 | 2019-11-28 | Method for producing iodotrialkylsilane compound |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021084881A true JP2021084881A (en) | 2021-06-03 |
Family
ID=76086801
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019215096A Pending JP2021084881A (en) | 2019-11-28 | 2019-11-28 | Method for producing iodotrialkylsilane compound |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021084881A (en) |
-
2019
- 2019-11-28 JP JP2019215096A patent/JP2021084881A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101676054B1 (en) | Processes for preparing poly(pentafluorosulfanyl)aromatic compounds | |
TWI726900B (en) | Process for fluorinating compounds | |
JPWO2008102661A1 (en) | Method for producing trialkylsilyl nitrile | |
CN109311786A (en) | The fluorinated method of aromatics | |
Ferguson et al. | Deoxyfluorination of (Hetero) aryl Aldehydes Using Tetramethylammonium Fluoride and Perfluorobutanesulfonyl Fluoride or Trifluoromethanesulfonic Anhydride | |
Guo et al. | Pd-catalyzed arylation of silyl enol ethers of substituted α-fluoroketones | |
EP1795533B1 (en) | Method for producing trimethylsilylazide | |
JP2009242270A (en) | Method for producing 4-perfluoroisopropylaniline | |
JP2021084881A (en) | Method for producing iodotrialkylsilane compound | |
JP6779468B2 (en) | Pentafluorosulfanilic pyridine | |
JP6498048B2 (en) | Fluorine-containing organic compound and method for producing biaryl compound using this and Grignard reagent | |
JP5001144B2 (en) | Process for producing 2-isopropenyl-5-methyl-4-hexen-1-yl 3-methyl-2-butenoate | |
US20160355452A1 (en) | Method for producing (bromomethyl)cyclopropane and (bromomethyl)cyclobutane | |
JP2008255100A (en) | Method for producing trifluoromethanesulfonyl fluoride | |
JP2022034093A (en) | Method of producing alkane iodide derivative | |
JP6894608B2 (en) | New Cyclic Urea Derivative-Hydrogen Bromide | |
TWI719457B (en) | Method for producing trifluoromethylthiohaloalkane compound and composition of trifluoromethylthiohaloalkane compound | |
JP5482233B2 (en) | Method for producing diaryl disulfide compound | |
JP2023130888A (en) | Method for producing difluoromethyl-substituted pyrazole | |
JP2008174552A (en) | Method for producing 4-perfluoroisopropylanilines | |
JP6760567B2 (en) | Homoallyl halide composition and method for preserving homoallyl halide | |
JP2011184383A (en) | Catalyst for use in ring opening reaction of epoxide, and method for producing homo homoallyl alcohol | |
JP4270045B2 (en) | Process for producing 2-alkyl-2-adamantyl (meth) acrylate | |
JP2021104979A (en) | Production method of iodoalkane derivative using microwave | |
JP2016160240A (en) | Production process for xanthene |