JP2021077244A - Touch pad, touch panel and method for producing the same and electronic apparatus including the same - Google Patents

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迭弥 竹下
Soya Takeshita
迭弥 竹下
邦治 齋藤
Kuniharu Saito
邦治 齋藤
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Koinex Co Ltd
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Abstract

To provide a transparent touch pad that prevents the strength of six-sides tempered glass from deteriorating.SOLUTION: A transparent touch panel 10 has six-sides tempered glass 12, a groove structure formed of a transparent photoresist on one side of the six-sides tempered glass 12 through plating catalyst layers 14, 20, and electrode layers (first electrode layer 16 and second electrode layer 22) disposed in the groove structure and constituted by metal layers. The transparent photoresist contains at least one of ultraviolet absorber or radical scavenger.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、携帯端末、PC、テレビ、車載用ディスプレイ等の電子機器の入力装置として使用されるタッチパネルのタッチパッド、タッチパネルとその製造方法およびそれを用いた電子機器に関する発明である。 The present invention relates to a touch pad of a touch panel used as an input device for an electronic device such as a mobile terminal, a PC, a television, or an in-vehicle display, a touch panel, a manufacturing method thereof, and an electronic device using the touch pad.

タッチパネルとは、液晶表示装置や有機ELといった表示装置と位置入力装置である透明タッチパッドを組み合わせた装置である。表示された画面の部分に触れたり、触れた部分から指を動かす動作などで、装置に入力を行う。現在普及している携帯端末のほとんどに搭載されている入出力装置である。 A touch panel is a device that combines a display device such as a liquid crystal display device or an organic EL with a transparent touch pad that is a position input device. Input to the device by touching the displayed screen part or moving a finger from the touched part. It is an input / output device installed in most of the mobile terminals currently in widespread use.

タッチパネルを構成する部品では、表示装置とともに、透明タッチパッドが重要となる。透明タッチパッドとは、ガラスや透明樹脂といった可視光が透過する基材上に位置検出用の部品を配置したものである。位置検出のための部品としては、圧力で位置を検出するものと、静電容量の変化で位置を検出するものがあるが、携帯端末に用いられているのは、応答速度の速い静電容量で位置を検出するものが主流となっている。 In the parts that make up the touch panel, a transparent touch pad is important along with the display device. The transparent touch pad is a device in which a component for position detection is arranged on a base material such as glass or transparent resin through which visible light is transmitted. As parts for position detection, there are those that detect the position by pressure and those that detect the position by the change of capacitance, but the one used in mobile terminals is the capacitance with fast response speed. The one that detects the position with is the mainstream.

従来この透明タッチパッドは、ITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)、ZnO(酸化亜鉛)系材料やTiO(酸化チタン)系材料を用いた透明電極で、X方向およびY方向のセンサを形成し、これを表示装置に貼り付けていた。しかし、このような透明タッチパッドは製造の多くの工程を必要とするため、電子機器のカバーガラスにタッチパッド機能を組み込んだワン・ガラス・ソリューション(one−glass solution)(OGS)が提案されている。 Conventionally, this transparent touch pad is a transparent electrode using ITO (Indium Tin Oxide), ZnO (zinc oxide) material or TiO 2 (titanium oxide) material, and forms sensors in the X and Y directions. And this was pasted on the display device. However, since such a transparent touchpad requires many manufacturing processes, a one-glass solution (OGS) that incorporates a touchpad function into the cover glass of an electronic device has been proposed. There is.

このOGSでは、電子機器のカバーガラスにタッチパッド機能が組み込まれるために、カバーガラスの破損によって、タッチパッド機能が動作しなくなる。つまり、カバーガラスが破損していても、タッチ操作を行える従来の電気機器より、カバーガラスの強度を高める必要がある。 In this OGS, since the touch pad function is incorporated in the cover glass of the electronic device, the touch pad function does not operate due to the breakage of the cover glass. That is, even if the cover glass is damaged, it is necessary to increase the strength of the cover glass as compared with the conventional electric device capable of touch operation.

カバーガラスの強化については、ガラスのイオン交換強化法(化学強化法)が提案されている。これは、ガラス転移点以下の溶融塩にガラスを浸漬することにより、ガラス内部のアルカリイオンをよりイオン半径の大きなアルカリイオンと交換することにより、イオン半径の違いで圧縮応力をガラス表面に発生させる方法である。 As for the strengthening of the cover glass, an ion exchange strengthening method (chemical strengthening method) for glass has been proposed. By immersing the glass in a molten salt below the glass transition point, the alkaline ions inside the glass are exchanged for alkaline ions with a larger ionic radius, and compressive stress is generated on the glass surface due to the difference in ionic radius. The method.

化学強化法によるカバーガラスは、強化した後、裁断して所望の大きさにする場合と、強化前のガラスを所望の大きさに裁断し、その後強化する方法がある。強化後裁断すると、強化面は表面と裏面の2面となり(2面強化ガラス)、四方の裁断面は非強化面となる。裁断後に強化すれば、四方の裁断面も強化面となる(6面強化ガラス)。 The cover glass by the chemical strengthening method may be hardened and then cut to a desired size, or the unstrengthened glass may be cut to a desired size and then strengthened. When cut after strengthening, the strengthened surface becomes two surfaces, the front surface and the back surface (two-sided tempered glass), and the cut surfaces on all sides become non-reinforced surfaces. If it is strengthened after cutting, the cut surfaces on all sides will also be strengthened surfaces (6-sided tempered glass).

化学強化法によるガラスは、通常のガラスよりも衝撃に対する強度が高く、破損しにくい。しかし、一定の熱処理に晒されることでこの強度は低下する。タッチパネルの製造時には、通常ITOを形成するための高温アニールや、導電線をスパッタ等で形成する際にプラズマに晒されるなどの熱処理に晒される工程が多い。 Chemically strengthened glass has higher impact resistance and is less likely to break than ordinary glass. However, this strength is reduced by exposure to constant heat treatment. When manufacturing a touch panel, there are many steps that are usually exposed to high-temperature annealing for forming ITO and heat treatment such as exposure to plasma when forming a conductive wire by sputtering or the like.

そのため、特許文献1では、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含有する硬化性組成物を用いて強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成することで、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下を抑制する方法が開示されている。 Therefore, in Patent Document 1, a cured film is formed between a glass that has been strengthened using a curable composition containing a compound having an organic group and a siloxane bond and a transparent conductive film formed on one surface of the glass. A method of suppressing a decrease in surface strength due to the formation of a transparent conductive film of a strengthened glass by forming the glass is disclosed.

また、特許文献2では、ガラス基板を化学強化することにより化学強化ガラス基板が形成され、前記化学強化ガラス基板上に透明導電膜が形成されてなる透明導電膜付き化学強化ガラス基板であって、前記透明導電膜付き化学強化ガラス基板は、質量%表示で2〜7%のNa2Oおよび0〜3%のLi2Oを含有し、歪点が550℃以上であり、かつ表面圧縮応力が200〜800MPaである透明導電膜付き化学強化ガラス基板が開示されている。 Further, in Patent Document 2, a chemically strengthened glass substrate with a transparent conductive film is formed by chemically strengthening a glass substrate to form a chemically strengthened glass substrate and forming a transparent conductive film on the chemically strengthened glass substrate. The chemically strengthened glass substrate with a transparent conductive film contains 2 to 7% Na2O and 0 to 3% Li2O in terms of mass%, has a strain point of 550 ° C. or higher, and has a surface compressive stress of 200 to 800 MPa. A chemically strengthened glass substrate with a transparent conductive film is disclosed.

特開2016−124720号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-124720 特開2004−131314号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-131314

ITOといった透明電極材料は電気抵抗が比較的高く、タッチパネルの面積が大きくなると、反応速度が低下するといった課題があった。したがって、化学強化ガラスの強度を低下させるといった問題を鑑みると、電極材料としては、金属細線を使用することが望ましい。 A transparent electrode material such as ITO has a relatively high electrical resistance, and there is a problem that the reaction speed decreases as the area of the touch panel increases. Therefore, in view of the problem of reducing the strength of the chemically strengthened glass, it is desirable to use a thin metal wire as the electrode material.

しかし、金属細線をスパッタといった真空成膜法で形成すると化学強化ガラスがプラズマに晒され強度低下が生じるといった課題がった。 However, when the thin metal wire is formed by a vacuum film forming method such as sputtering, there is a problem that the chemically strengthened glass is exposed to plasma and the strength is lowered.

本発明は上記課題に鑑みて想到されたものであり、破損しにくいOGS構造の透明タッチパッドと、それを用いたタッチパネル、それらの製造方法と、タッチパネルを用いた電子機器を提供するものである。 The present invention has been conceived in view of the above problems, and provides a transparent touch pad having an OGS structure that is not easily damaged, a touch panel using the transparent touch pad, a manufacturing method thereof, and an electronic device using the touch panel. ..

より具体的に本発明に係る透明タッチパッドは、
六面強化ガラスと、
前記六面強化ガラスの一方の面に、
めっき触媒層を介して透明フォトレジストで形成された溝構造と、
前記溝構造内に配置された金属層で構成された電極層を有し、
前記透明フォトレジストには、紫外線吸収剤若しくはラジカル捕捉剤の少なくとも一方を含ませたことを特徴とする。
More specifically, the transparent touch pad according to the present invention is
Six-sided tempered glass and
On one side of the six-sided tempered glass,
A groove structure formed of a transparent photoresist via a plating catalyst layer,
It has an electrode layer composed of a metal layer arranged in the groove structure, and has an electrode layer.
The transparent photoresist contains at least one of an ultraviolet absorber and a radical scavenger.

また、本発明に係るタッチパネルは、
上記に記載された透明タッチパッドの前記電極層が配置された側に光学糊を介して表示装置が接着されたことを特徴とする。
Further, the touch panel according to the present invention is
The display device is adhered to the side of the transparent touch pad described above on which the electrode layer is arranged via optical glue.

また、本発明に係る電子機器は、
上記タッチパネルを用いたことを特徴とする。
Further, the electronic device according to the present invention is
It is characterized by using the above touch panel.

また、本発明に係る透明タッチパッドの製造方法は、
六面強化ガラスの一方の面にめっき触媒層を形成する工程と、
前記めっき触媒層の上面に底面に前記めっき触媒層が露出した溝構造を有する溝付き透明フォトレジスト層を形成する工程と、
前記六面強化ガラスに無電解めっきを行い、前記溝構造中に金属層を形成する工程を有することを特徴とする。
Further, the method for manufacturing a transparent touch pad according to the present invention is as follows.
The process of forming a plating catalyst layer on one surface of six-sided tempered glass,
A step of forming a grooved transparent photoresist layer having a groove structure in which the plating catalyst layer is exposed on the bottom surface on the upper surface of the plating catalyst layer.
It is characterized by having a step of electroless plating the six-sided tempered glass to form a metal layer in the groove structure.

本発明に係る透明タッチパッドは、6面強化ガラスに、形成された金属層は、金属層が形成されていない部分を透明フォトレジストで埋められているので、表面を平滑に形成することができ、表示装置への接着にムラがない。 In the transparent touch pad according to the present invention, the surface of the metal layer formed on the six-sided tempered glass can be formed smoothly because the portion where the metal layer is not formed is filled with the transparent photoresist. , There is no unevenness in adhesion to the display device.

また、この構成は、6面強化ガラスに対して100℃以上になるような熱処理に晒されないので、6面強化ガラスの強度を低下させることなく利用することができる。 Further, since this configuration is not exposed to heat treatment such that the temperature of the 6-sided tempered glass becomes 100 ° C. or higher, it can be used without lowering the strength of the 6-sided tempered glass.

本発明に係る透明タッチパッドの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the transparent touch pad which concerns on this invention. 本発明に係る透明タッチパッドの一部断面図である。It is a partial cross-sectional view of the transparent touch pad which concerns on this invention. 本発明に係る透明タッチパッドの製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the transparent touch pad which concerns on this invention. 本発明に係る透明タッチパッドの製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the transparent touch pad which concerns on this invention. 本発明に係るタッチパネルの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the touch panel which concerns on this invention. 本発明に係るタッチパネルの一部断面図である。It is a partial sectional view of the touch panel which concerns on this invention. 本発明の透明タッチパッドを用いたタッチパネルを搭載した通信端末および電子機器の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the communication terminal and the electronic device equipped with the touch panel which used the transparent touch pad of this invention.

以下に本発明に係る透明タッチパッド、タッチパネルおよび電子機器について図面および実施例を示し説明を行う。なお、以下の説明は、本発明の一実施形態および一実施例を例示するものであり、本発明が以下の説明に限定されるものではない。以下の説明は本発明の趣旨を逸脱しない範囲で改変することができる。 The transparent touch pad, the touch panel, and the electronic device according to the present invention will be described below with reference to drawings and examples. The following description exemplifies one embodiment and one embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following description. The following description can be modified without departing from the spirit of the present invention.

図1に本発明に係る透明タッチパッド10の構成を示す。透明タッチパッド10は、六面強化ガラス12の一方の面に電極部13が形成される構造を有する。電極構造13は、六面強化ガラスに近い層から、メッキ触媒層14、第1電極層16、中間層18、メッキ触媒層20、第2電極層22で構成されている。 FIG. 1 shows the configuration of the transparent touch pad 10 according to the present invention. The transparent touch pad 10 has a structure in which the electrode portion 13 is formed on one surface of the six-sided tempered glass 12. The electrode structure 13 is composed of a plating catalyst layer 14, a first electrode layer 16, an intermediate layer 18, a plating catalyst layer 20, and a second electrode layer 22 from a layer close to the six-sided tempered glass.

図2には、図1のA−A断面の一部を示す。六面強化ガラス12は、化学強化ガラスである。例えば、所定の大きさに切り出したソーダ石灰ガラスを、380℃の硝酸カリ溶融塩に入れ、ガラス表面のNaイオンをKaイオンと置き換えることで、衝撃に強い化学強化ガラスを得ることができる。 FIG. 2 shows a part of the AA cross section of FIG. The six-sided tempered glass 12 is a chemically tempered glass. For example, by putting soda-lime glass cut into a predetermined size in a molten salt of potassium nitrate at 380 ° C. and replacing Na ions on the glass surface with Ka ions, a chemically strengthened glass resistant to impact can be obtained.

このようにガラスを強化する工程をガラス強化プロセスと呼ぶ。六面強化ガラスは、予め利用する大きさに形成した後に、強化プロセスを行うので、6面全てに強化プロセスが施される。結果、衝撃強度は非常に強くなる。 The process of strengthening glass in this way is called a glass strengthening process. Since the six-sided tempered glass is formed into a size to be used in advance and then subjected to the strengthening process, the strengthening process is performed on all six sides. As a result, the impact strength becomes very strong.

メッキ触媒層14は、Pd、Ni、Pt、Cu等を含む金属物質若しくはこれらを含浸したポリマー部材で好適に形成される。しかし、これらの金属物質は、光透過性がない。そこで、メッキ触媒層14は、透明タッチパッド10としての光透過率が低下しないように、十分に薄く形成される。具体的には、およそ30nm程度の厚みで形成することで、実用上問題ないメッキ触媒層14を形成することができる。 The plating catalyst layer 14 is preferably formed of a metal substance containing Pd, Ni, Pt, Cu and the like, or a polymer member impregnated with these substances. However, these metallic substances are not light transmissive. Therefore, the plating catalyst layer 14 is formed sufficiently thin so that the light transmittance of the transparent touch pad 10 does not decrease. Specifically, the plating catalyst layer 14 can be formed with a thickness of about 30 nm so that there is no problem in practical use.

なお、ここで「実用上問題ない」とは、透明タッチパッド10としての透明性を確保し、なおかつ後述する金属層16m、金属層22mを無電解メッキで形成することができるという意味である。 Here, "there is no problem in practical use" means that the transparency of the transparent touch pad 10 can be ensured, and the metal layer 16 m and the metal layer 22 m, which will be described later, can be formed by electroless plating.

第1電極層16は、透明タッチパッド10のX若しくはY方向の電極である。ここでは仮に第1電極層16をX方向電極、第2電極層22をY方向電極とする。図1を再度参照して、第1電極層16は、X方向に延設したセンシングライン16aと、個々のセンシングライン16aと接続したX方向アドレスライン16bで構成されている。 The first electrode layer 16 is an electrode of the transparent touch pad 10 in the X or Y direction. Here, the first electrode layer 16 is assumed to be an X-direction electrode, and the second electrode layer 22 is a Y-direction electrode. With reference to FIG. 1 again, the first electrode layer 16 is composed of a sensing line 16a extending in the X direction and an address line 16b in the X direction connected to each sensing line 16a.

なお、ここでは、電極層を2層用い、X方向とY方向にアドレスラインを別々に有する構成を示したが、電極層は2層に限定されるものではなく、1層中にX方向およびY方向のアドレスラインを集約した構成であったり、第3の電極層を別途設けるような構成であってもよい。 Here, although two electrode layers are used and the address lines are separately provided in the X direction and the Y direction, the electrode layer is not limited to the two layers, and the X direction and the X direction are included in one layer. The configuration may be such that the address lines in the Y direction are integrated, or a configuration in which a third electrode layer is separately provided may be used.

各センシングライン16aは複数の導通線15で構成されている。導通線15は、線幅が1〜5μm程度に形成されている。この程度の幅であれば、肉眼ではほとんど認識できないため、透明に見えるからである。 Each sensing line 16a is composed of a plurality of conduction lines 15. The conductive wire 15 has a line width of about 1 to 5 μm. This is because with this width, it looks transparent because it is almost invisible to the naked eye.

一方、X方向アドレスライン16bは、導通線15より太い線でよい。X方向アドレスライン16bは、透明タッチパッド10の縁に形成され、利用者からは見えない位置に配置されるからである。 On the other hand, the X-direction address line 16b may be a line thicker than the conduction line 15. This is because the X-direction address line 16b is formed on the edge of the transparent touch pad 10 and is arranged at a position invisible to the user.

再び第2図を参照する。第1電極層16は、メッキ触媒層14上に形成された透明フォトレジスト16rの溝構造16cに、金属層16mが充填されて構成されている。溝構造16cに充填された金属層16mが導通線15といってよい。なお、図2の第1電極層16は、導通線15の長さ方向に直角な面で切断した切断面を表している。したがって、符号15wは導通線15の線幅である。 See FIG. 2 again. The first electrode layer 16 is formed by filling the groove structure 16c of the transparent photoresist 16r formed on the plating catalyst layer 14 with a metal layer 16m. The metal layer 16m filled in the groove structure 16c can be called a conduction wire 15. The first electrode layer 16 in FIG. 2 represents a cut surface cut along a surface perpendicular to the length direction of the conduction wire 15. Therefore, reference numeral 15w is the line width of the conduction line 15.

透明フォトレジスト16rは通常のフォトリソグラフィのエッチング時に用いるものではなく、露光して硬化させた部分を後々まで部品の構成要素として用いるものである。この意味で永久レジストと呼ぶこともできる。したがって、透明フォトレジスト16rは、硬化して溝構造16cに形成された後でも、透明性およびヘイズ値は、経年変化しにくいものが望ましい。 The transparent photoresist 16r is not used during ordinary photolithography etching, but a portion that has been exposed and cured is used as a component of a component later. In this sense, it can also be called a permanent resist. Therefore, it is desirable that the transparent photoresist 16r does not easily change over time in terms of transparency and haze value even after being cured to form the groove structure 16c.

また、透明フォトレジスト16rは、色むらが生じにくいことが必要である。透明フォトレジスト16rは六面強化ガラス10大部分を覆っているからである。したがって、六面強化ガラス10と一緒に利用しても肉眼で違和感を感じない程度のレタデーションの特性が必要である。例えば、ダウケミカル製ATN1021ネガティブ型アクリル系レジスト等が透明フォトレジストとして好適に利用することができる。 Further, the transparent photoresist 16r needs to be less likely to cause color unevenness. This is because the transparent photoresist 16r covers most of the six-sided tempered glass 10. Therefore, it is necessary to have a retardation characteristic that does not give a sense of discomfort to the naked eye even when used together with the six-sided tempered glass 10. For example, ATN1021 negative acrylic resist manufactured by Dow Chemical Co., Ltd. can be suitably used as a transparent photoresist.

また、透明フォトレジスト16rは、太陽光線だけでなく、後述する表示装置42(図5、図6参照)からも紫外線を受けるので、劣化しやすい。そこで、透明フォトレジスト16rには、紫外線吸収剤若しくはラジカル捕捉剤の少なくとも一方を含ませる。これによって、透明フォトレジスト16rは、紫外線による継時変化を受けにくくなる。 Further, since the transparent photoresist 16r receives ultraviolet rays not only from the sunlight but also from the display device 42 (see FIGS. 5 and 6) described later, it is liable to deteriorate. Therefore, the transparent photoresist 16r contains at least one of an ultraviolet absorber and a radical scavenger. As a result, the transparent photoresist 16r is less susceptible to changes over time due to ultraviolet rays.

第2電極層22は、第1電極層16と同様の構造で透明フォトレジスト22r上に形成された溝構造22cに電極層22mが充填されることで導通線15が形成されている。第2電極層22では、第1電極層16とセンシングライン22aの方向が異なる(図1参照)。また、Y方向アドレスライン22bも第1電極層16と異なる方向に設けられている。第2電極22は、導電線15に平行な面で切った断面を想定している。 The second electrode layer 22 has the same structure as the first electrode layer 16, and the conduction wire 15 is formed by filling the groove structure 22c formed on the transparent photoresist 22r with the electrode layer 22m. In the second electrode layer 22, the directions of the first electrode layer 16 and the sensing line 22a are different (see FIG. 1). Further, the Y-direction address line 22b is also provided in a direction different from that of the first electrode layer 16. The second electrode 22 assumes a cross section cut along a plane parallel to the conductive wire 15.

中間層18は、第1電極層16と第2電極層22の間に配置された層である。厚さはおよそ5μmの透明樹脂である。いわゆる光学糊は中間層18に好適に利用することができる。 The intermediate layer 18 is a layer arranged between the first electrode layer 16 and the second electrode layer 22. It is a transparent resin with a thickness of about 5 μm. The so-called optical glue can be suitably used for the intermediate layer 18.

次に本発明に係る透明タッチパッド10の製造方法について説明する。図3および図4に図2で示した透明タッチパッド10の製造工程の工程図を示す。図3(a)を参照する。予め使用する大きさに形成された後、強化プロセスを経た六面強化ガラス12が基板として用意される。 Next, a method for manufacturing the transparent touch pad 10 according to the present invention will be described. 3 and 4 show a process diagram of the manufacturing process of the transparent touch pad 10 shown in FIG. See FIG. 3 (a). A six-sided tempered glass 12 that has been formed into a size to be used in advance and then undergoes a strengthening process is prepared as a substrate.

次に六面強化ガラス12の一方の面にメッキ触媒層14を形成する。メッキ触媒層14は、Pd、Ni、Pt、Cu等を含む金属物質若しくはこれらを含浸したポリマー部材と溶媒を分散させ塗料とする。そしてその塗料を六面強化ガラス12に塗布する。溶媒が揮発して、乾燥するとおよそ30nmのメッキ触媒層14を形成することができる。 Next, the plating catalyst layer 14 is formed on one surface of the six-sided tempered glass 12. The plating catalyst layer 14 is used as a coating material by dispersing a metal substance containing Pd, Ni, Pt, Cu and the like or a polymer member impregnated with these and a solvent. Then, the paint is applied to the six-sided tempered glass 12. When the solvent volatilizes and dries, a plating catalyst layer 14 having a diameter of about 30 nm can be formed.

図3(b)を参照する。メッキ触媒層14の上に透明フォトレジスト16rを塗布する。厚みはおよそ2〜3μmが好適である。次に透明フォトレジスト16rに溝構造16cを形成する(図3(c))。溝構造16cが形成された透明フォトレジスト16rを溝付き透明レジストと呼んでもよい。溝構造16cは、下層であるメッキ触媒層14が露出する程度に行う。メッキ触媒層14が露出していなければ、無電解メッキを行えないからである。 See FIG. 3 (b). A transparent photoresist 16r is applied onto the plating catalyst layer 14. The thickness is preferably about 2 to 3 μm. Next, a groove structure 16c is formed on the transparent photoresist 16r (FIG. 3 (c)). The transparent photoresist 16r in which the groove structure 16c is formed may be referred to as a grooved transparent resist. The groove structure 16c is formed so that the plating catalyst layer 14 which is the lower layer is exposed. This is because electroless plating cannot be performed unless the plating catalyst layer 14 is exposed.

溝構造16cはドライエッチングで行うことができる。ただし、この際に六面強化ガラス12の温度上昇には注意が必要である。六面強化ガラス12は、熱処理によって、歪が緩和され、強度が低下する。したがって、六面強化ガラス12の温度が上昇しないように、短時間でドライエッチングを行う必要がある。 The groove structure 16c can be performed by dry etching. However, at this time, it is necessary to pay attention to the temperature rise of the six-sided tempered glass 12. The six-sided tempered glass 12 is subjected to heat treatment to reduce strain and reduce its strength. Therefore, it is necessary to perform dry etching in a short time so that the temperature of the six-sided tempered glass 12 does not rise.

なお、透明フォトレジスト16rを塗布した後、透明フォトレジスト16rが完全に硬化しないうちに、マイクロスタンプで溝構造16cを形成しておき、溝の底に薄く残る透明フォトレジスト16だけをドライエッチングで除去するようにすると、六面強化ガラスの温度を上げることなく、溝構想16cを形成することができる。また、この際X方向アドレスライン16aも同時に形成しておいてよい。 After applying the transparent photoresist 16r, a groove structure 16c is formed by microstamping before the transparent photoresist 16r is completely cured, and only the transparent photoresist 16 that remains thin at the bottom of the groove is dry-etched. When removed, the groove concept 16c can be formed without raising the temperature of the six-sided tempered glass. At this time, the address line 16a in the X direction may also be formed at the same time.

図3(d)を参照する。溝構造16cが完成した六面強化ガラス12を無電解メッキ処理し、金属層16mを形成する。金属層16mは導電性金属を無電解メッキすることで溝構造16cに充填される。金属種としては、銅、銀、金といった良伝導物質が好適に用いられる。この中で、導電性に優れ、コストも安い銅は最も好適に利用できる金属種の一つである。以上のようにして第1電極層16が形成される。 See FIG. 3 (d). The six-sided tempered glass 12 in which the groove structure 16c is completed is electroless plated to form a metal layer 16m. The metal layer 16m is filled in the groove structure 16c by electroless plating a conductive metal. As the metal type, a good conductive substance such as copper, silver or gold is preferably used. Among them, copper, which has excellent conductivity and low cost, is one of the most preferably available metal species. The first electrode layer 16 is formed as described above.

図3(e)を参照する。次に第1電極層16上に中間層18を形成する。すでに述べたが、中間層18はおよそ5μm程度が好適である。例えば、光学糊と呼ばれる材料を乾燥厚で5μmになるように塗布し、全体をよく乾燥する。中間層18は第2電極層22の基板となる。 See FIG. 3 (e). Next, the intermediate layer 18 is formed on the first electrode layer 16. As already described, the intermediate layer 18 is preferably about 5 μm. For example, a material called optical glue is applied to a dry thickness of 5 μm, and the whole is dried well. The intermediate layer 18 serves as a substrate for the second electrode layer 22.

図4(f)を参照する。図4は図3からの工程の続きである。中間層18上にメッキ触媒層20を形成する。形成方法は図3(a)の場合と同じである。 See FIG. 4 (f). FIG. 4 is a continuation of the process from FIG. The plating catalyst layer 20 is formed on the intermediate layer 18. The forming method is the same as in the case of FIG. 3A.

図4(g)を参照する。よく乾燥させた中間層18上に、透明フォトレジスト22rを塗布する。塗布の方法は図3(b)の場合と同様である。そして、透明フォトレジスト22rが完全に硬化しないうちに、マイクロスタンプで溝構造22cを形成する。溝構造22cが形成された透明フォトレジスト22rを溝付き透明レジストと呼んでもよい。その後、メッキ触媒層20が露出するようにドライエッチングで、透明フォトレジスト22rを除去する(図4(h))。なお、図4(h)は、導通線15の長手方向にそった部分の断面を表している。 See FIG. 4 (g). A transparent photoresist 22r is applied onto the well-dried intermediate layer 18. The coating method is the same as in the case of FIG. 3 (b). Then, the groove structure 22c is formed by microstamping before the transparent photoresist 22r is completely cured. The transparent photoresist 22r on which the groove structure 22c is formed may be referred to as a grooved transparent resist. Then, the transparent photoresist 22r is removed by dry etching so that the plating catalyst layer 20 is exposed (FIG. 4 (h)). Note that FIG. 4H shows a cross section of a portion of the conduction wire 15 along the longitudinal direction.

図4(i)を参照し、露出したメッキ触媒層20を利用して金属層22mを無電解メッキによって形成する。以上の工程によって、本発明に係る透明タッチパッド10を得ることができる。第2電極層22は、溝構造22cが金属層22mで充填されているため、表面が平滑に形成することができる。したがって、透明タッチパッド10と他の機器との接続の際に接着にムラが生じることがない。 With reference to FIG. 4 (i), the metal layer 22 m is formed by electroless plating using the exposed plating catalyst layer 20. Through the above steps, the transparent touch pad 10 according to the present invention can be obtained. Since the groove structure 22c of the second electrode layer 22 is filled with the metal layer 22m, the surface of the second electrode layer 22 can be formed to be smooth. Therefore, there is no uneven adhesion when the transparent touch pad 10 is connected to other devices.

なお、透明フォトレジスト16r、22rを除去し、メッキ触媒層14、20を露出させる工程(図3(c)および図4(h))では、透明フォトレジスト16r、22rにマイクロスタンプで導通線15のパターンをインプリントしてからドライエッチングする方法を例示したが、この方法に限定されるものではない。 In the steps of removing the transparent photoresists 16r and 22r to expose the plating catalyst layers 14 and 20 (FIGS. 3 (c) and 4 (h)), the transparent photoresists 16r and 22r are micro-stamped with conductive wires 15. The method of imprinting the pattern of the above and then performing dry etching has been exemplified, but the method is not limited to this method.

本発明に係る透明タッチパッド10は、6面強化ガラスが100℃以上になるような熱処理がかからない構成である点が特徴である。六面強化ガラス12は、およそ120℃以上の熱処理を受けると、歪が緩和され、強度を喪失するとされているが、120℃以下の温度での処理であれば、強度を維持できる。したがって、強度を喪失しない方法であれば、図3(c)、図4(h)で説明した方法以外の方法でい透明フォトレジスト16r、22rを除去してもよい。例えば、ウエットエッチングや、断続的なドライエッチングといった方法が挙げられる。 The transparent touch pad 10 according to the present invention is characterized in that the six-sided tempered glass is not heat-treated to reach 100 ° C. or higher. It is said that the six-sided tempered glass 12 loses its strength due to its strain being relaxed when it is heat-treated at about 120 ° C. or higher, but the strength can be maintained if it is treated at a temperature of 120 ° C. or lower. Therefore, the transparent photoresists 16r and 22r may be removed by a method other than the methods described in FIGS. 3 (c) and 4 (h) as long as the strength is not lost. For example, methods such as wet etching and intermittent dry etching can be mentioned.

図5および図6には、上記のようにして得た透明タッチパッド10を用いたタッチパネル40の構成を示す。図5は斜視図であり、図6は一部断面図である。図5、図6を参照して、透明タッチパッド10の電極部13と表示装置42を光学糊44で接着することで、タッチパネル40が形成される。なお、図4において、Xアドレスライン16bおよびYアドレスライン16bは省略されている。 5 and 6 show the configuration of the touch panel 40 using the transparent touch pad 10 obtained as described above. FIG. 5 is a perspective view, and FIG. 6 is a partial cross-sectional view. The touch panel 40 is formed by adhering the electrode portion 13 of the transparent touch pad 10 and the display device 42 with the optical glue 44 with reference to FIGS. 5 and 6. In FIG. 4, the X address line 16b and the Y address line 16b are omitted.

光学糊層44はOCA(Optical Clear Adhesive)とよばれる光学接着剤で構成された層である。これは公知の材料を利用することができる。例えば、アクリレート化合物を主成分とするもの、チオール化合物、フルオレン環を有する樹脂を用いたもの等がある。 The optical glue layer 44 is a layer made of an optical adhesive called OCA (Optical Clear Adhesive). Known materials can be used for this. For example, there are those containing an acrylate compound as a main component, those using a thiol compound, and those using a resin having a fluorene ring.

図7には、タッチパネル40を用いた通信端末50、および電子機器60の構成を示す。図6で示したタッチパネル40に制御部52、通信部54、カメラ56c、スピーカー56s、図示しないバッテリーを接続することで通信端末50が構成される。透明タッチパッド10は、六面強化ガラス12の表面の静電容量の変化を、X方向アドレスライン16aとY方向アドレスライン16bを通じて信号Scとして制御部52に送信する。制御部52は、信号Scを受信することで、六面強化ガラス12のどの位置がタッチされたかを検出し、それに基づいて制御を行う。 FIG. 7 shows the configuration of the communication terminal 50 using the touch panel 40 and the electronic device 60. A communication terminal 50 is configured by connecting a control unit 52, a communication unit 54, a camera 56c, a speaker 56s, and a battery (not shown) to the touch panel 40 shown in FIG. The transparent touch pad 10 transmits the change in the capacitance on the surface of the six-sided tempered glass 12 to the control unit 52 as a signal Sc through the X-direction address line 16a and the Y-direction address line 16b. By receiving the signal Sc, the control unit 52 detects which position of the six-sided tempered glass 12 is touched, and controls based on the position.

また、制御部52は、表示装置42に信号Siを送信する。表示装置42は信号Siに応じた表示を行う。 Further, the control unit 52 transmits the signal Si to the display device 42. The display device 42 displays according to the signal Si.

また、制御部52は、カメラ56cからの信号を画像処理してもよい。また、制御部52は、指示されたデータをスピーカ56sから出力してもよい。なお、スピーカー56はイヤホンやヘッドホン端子を含む。また、制御部52は、通信部54を通じて外部と信号の送受信を行ってもよい。なお、通信部54は、固体メモリとの接続を含む。 Further, the control unit 52 may perform image processing on the signal from the camera 56c. Further, the control unit 52 may output the instructed data from the speaker 56s. The speaker 56 includes an earphone and a headphone terminal. Further, the control unit 52 may send and receive signals to and from the outside through the communication unit 54. The communication unit 54 includes a connection with a solid-state memory.

また、制御部52は、1つのチップに集約されている必要はなく、複数の制御チップに機能毎に分けられていてもよい。 Further, the control unit 52 does not have to be integrated into one chip, and may be divided into a plurality of control chips for each function.

また、図7の制御装置52に、動作部62が接続された形態の電子機器60であってもよい。動作部62は、センサ等が連結されていたり、機械動作を行うためのモータや内燃機関、制御の対象となるバッテリー等の接続が考えられる。以上のように、本発明に係る透明タッチパッド10は、電子機器60に搭載して利用することができる。 Further, the electronic device 60 may have a form in which the operating unit 62 is connected to the control device 52 of FIG. 7. The operating unit 62 may be connected to a sensor or the like, or may be connected to a motor, an internal combustion engine, a battery to be controlled, or the like for performing mechanical operation. As described above, the transparent touch pad 10 according to the present invention can be mounted on the electronic device 60 and used.

本発明は、携帯端末に用いるタッチパネルに好適に利用できるほか、PC、テレビ、車載用端末や、サイネージ(電子看板)、電子ボード、ヒーター配線、電磁波シールド等にも利用することができる。また、透明でない基板上に設ける回路基板においても、好適に利用することができる。 The present invention can be suitably used for a touch panel used for a mobile terminal, and can also be used for a PC, a television, an in-vehicle terminal, a signage (electronic signage), an electronic board, a heater wiring, an electromagnetic wave shield, and the like. Further, it can also be suitably used in a circuit board provided on a non-transparent substrate.

10 タッチパネル
12 六面強化ガラス12
14 メッキ触媒層
15 導通線
16 第1電極層
16a X方向センシングライン
16b X方向アドレスライン
16c 溝構造
16r 透明フォトレジスト
16m 金属層
18 中間層
20 メッキ触媒層
22 第1電極層
22a X方向センシングライン
22b X方向アドレスライン
22c 溝構造
22r 透明フォトレジスト
22m 金属層
40 タッチパネル
42 表示装置
44 光学糊
50 通信端末
52 制御部
54 通信部
56c カメラ
56s スピーカー
60 電子機器
62 動作部
10 Touch panel 12 Six-sided tempered glass 12
14 Plating catalyst layer 15 Conduction line 16 First electrode layer 16a X-direction sensing line 16b X-direction address line 16c Groove structure 16r Transparent photoresist 16m Metal layer 18 Intermediate layer 20 Plating catalyst layer 22 First electrode layer 22a X-direction sensing line 22b X-direction address line 22c Groove structure 22r Transparent photoresist 22m Metal layer 40 Touch panel 42 Display device 44 Optical glue 50 Communication terminal 52 Control unit 54 Communication unit 56c Camera 56s Speaker 60 Electronic device 62 Operating unit

Claims (1)

六面強化ガラスと、
前記六面強化ガラスの一方の面に、
めっき触媒層を介して透明フォトレジストで形成された溝構造と、
前記溝構造内に配置された金属層で構成された電極層を有し、
前記透明フォトレジストには、紫外線吸収剤若しくはラジカル捕捉剤の少なくとも一方を含ませたことを特徴とする透明タッチパッド。
Six-sided tempered glass and
On one side of the six-sided tempered glass,
A groove structure formed of a transparent photoresist via a plating catalyst layer,
It has an electrode layer composed of a metal layer arranged in the groove structure, and has an electrode layer.
A transparent touch pad characterized in that the transparent photoresist contains at least one of an ultraviolet absorber and a radical scavenger.
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