JP2021075702A - Polyamide-imide resin, optical film and flexible display device - Google Patents

Polyamide-imide resin, optical film and flexible display device Download PDF

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Abstract

To provide an optical film which suppresses deterioration in optical characteristics and mechanical characteristics with time and is excellent in quality stability, and a polyamide-imide resin providing the optical film.SOLUTION: In a polyamide-imide resin, in a 1H-13C HSQC spectrum in which a deuterated dimethyl sulfoxide solution of a polyamide-imide resin is obtained as a measurement sample, a ratio (intA/intB) of an integral value (intA) of a peak present in a region (A) where a chemical shift of proton is 8.06-8.14 ppm and a chemical shift of carbon is 129.6-130.3 ppm to an integral value (intB) of a peak present in a region (B) where a chemical shift of proton is 7.26-7.85 ppm and a chemical shift of carbon is 132.4-134.0 ppm is 1.5% or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂を含む光学フィルム、並びに、該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置に関する。 The present invention relates to a polyamide-imide resin, an optical film containing a polyamide-imide resin, and a flexible display device including the optical film.

現在、液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置は、テレビのみならず、携帯電話やスマートウォッチといった種々の用途で広く活用されている。従来、このような表示装置の前面板としてはガラスが用いられてきた。しかし、ガラスは透明度が高く、種類によっては高硬度を発現できる反面、非常に剛直であり、割れやすいため、フレキシブル表示装置の前面板材料としての利用は難しい。 Currently, display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are widely used not only in televisions but also in various applications such as mobile phones and smart watches. Conventionally, glass has been used as the front plate of such a display device. However, while glass has high transparency and can exhibit high hardness depending on the type, it is very rigid and easily broken, so that it is difficult to use it as a front plate material for a flexible display device.

そのため、ガラスに代わる材料として高分子材料の活用が検討されている。高分子材料からなる前面板はフレキシブル特性を発現し易いため、種々の用途に用いることが期待される。柔軟性を有する高分子材料の1つとして、例えばポリアミドイミド樹脂を用いる光学フィルムが検討されている(特許文献1)。 Therefore, the use of polymer materials as an alternative material to glass is being studied. Since the front plate made of a polymer material easily exhibits flexible properties, it is expected to be used for various purposes. As one of the flexible polymer materials, an optical film using, for example, a polyamide-imide resin has been studied (Patent Document 1).

特表2015−521686号公報Special Table 2015-521686

ポリアミドイミド樹脂を含む光学フィルムを例えばフレキシブル表示装置において使用する場合、光学的特性、機械的特性等の種々の特性を満たすことが求められる。しかし、該光学フィルムを備えたフレキシブル表示装置を長期間使用する場合、フレキシブル表示装置が置かれる環境によっては、光学フィルムが劣化し、光学特性及び機械的特性が経時的に低下する場合があることがわかった。 When an optical film containing a polyamide-imide resin is used, for example, in a flexible display device, it is required to satisfy various properties such as optical properties and mechanical properties. However, when the flexible display device provided with the optical film is used for a long period of time, the optical film may deteriorate and the optical characteristics and mechanical characteristics may deteriorate over time depending on the environment in which the flexible display device is placed. I understood.

したがって本発明は、光学特性及び機械的特性の経時的な低下が抑制された品質安定性に優れる光学フィルム、並びに、該光学フィルムを与えるポリアミドイミド樹脂を提供することを課題とする。 Therefore, it is an object of the present invention to provide an optical film having excellent quality stability in which deterioration of optical properties and mechanical properties with time is suppressed, and a polyamide-imide resin that gives the optical film.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、ポリアミドイミド樹脂のH−13C HSQCスペクトルにおける特定のピークのピーク体積が特定の関係を満たす場合に、当該ポリアミドイミド樹脂を含む光学フィルムの品質安定性を向上させることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have made a case where the peak volume of a specific peak in the 1 H- 13 C HSQC spectrum of the polyamide-imide resin satisfies a specific relationship, the polyamide-imide resin. We have found that the quality stability of the optical film containing the above can be improved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、以下の好適な態様を包含する。
〔1〕ポリアミドイミド樹脂の重水素化ジメチルスルホキシド溶液を測定試料として得たH−13C HSQCスペクトルにおいて、プロトンのケミカルシフトが8.06〜8.14ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが129.6〜130.3ppmである領域(A)に存在するピークの積分値(int)と、プロトンのケミカルシフトが7.26〜7.85ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが132.4〜134.0ppmである領域(B)に存在するピークの積分値(int)との割合(int/int)が1.5%以下である、ポリアミドイミド樹脂。
〔2〕式(1):

Figure 2021075702
[式(1)中、Yは4価の有機基を表し、
Xは2価の有機基を表し、
*は結合手を表す]
で表される構成単位、及び、式(2):
Figure 2021075702
[式(2)中、Z及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、
*は結合手を表す]
で表される構成単位を少なくとも有する、前記〔1〕に記載のポリアミドイミド樹脂。
〔3〕200,000以上1,000,000以下の重量平均分子量を有する、前記〔1〕又は〔2〕に記載のポリアミドイミド樹脂。
〔4〕式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(4):
Figure 2021075702
[式(4)中、H4a及びH4bは水素原子を表し、
4a〜R4dは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R4a〜R4dに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
*は結合手を表す]
で表される構造を少なくとも有する、前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂。
〔5〕式(2)中のZとして、式(3):
Figure 2021075702
[式(3)中、R3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Wは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、
sは0〜4の整数であり、
tは0〜4の整数であり、
uは0〜4の整数であり、
*は結合手を表す]
で表される構造を少なくとも有する、前記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂。
〔6〕前記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂を含む光学フィルム。
〔7〕ポリアミドイミド樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムを温度85℃、湿度85%の条件で1週間保管する保管試験の前後の重量平均分子量の変化率が26%以下である、光学フィルム。
〔8〕前記保管試験の前後の重量平均分子量の変化率が25%以下である、前記〔7〕に記載の光学フィルム。
〔9〕前記〔6〕〜〔8〕のいずれかに記載の光学フィルムを有するフレキシブル表示装置の前面板。
〔10〕前記〔9〕に記載の前面板を備えるフレキシブル表示装置。
〔11〕タッチセンサをさらに備える、前記〔10〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔12〕偏光板をさらに備える、前記〔10〕又は〔11〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔13〕ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物を反応させるポリアミドイミド樹脂の製造方法であって、該テトラカルボン酸化合物及び該ジカルボン酸化合物の合計モル数に対する該ジアミン化合物のモル数の割合が1.000を超える、前記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂の製造方法。 That is, the present invention includes the following preferred embodiments.
[1] In the 1 H- 13 C HSQC spectrum obtained by using a deuterated dimethylsulfoxide solution of a polyamide-imide resin as a measurement sample, the chemical shift of protons is 8.06 to 8.14 ppm, and the chemical shift of carbon is The integrated value (int A ) of the peak existing in the region (A) of 129.6 to 130.3 ppm, the chemical shift of the proton is 7.26 to 7.85 ppm, and the chemical shift of carbon is 132. integral value of peaks present in the region (B) is a 4~134.0ppm ratio between (int B) (int a / int B) is 1.5% or less, a polyamide-imide resin.
[2] Equation (1):
Figure 2021075702
[In formula (1), Y represents a tetravalent organic group and represents
X represents a divalent organic group
* Represents a bond]
The structural unit represented by and the equation (2):
Figure 2021075702
[In formula (2), Z and X represent divalent organic groups independently of each other.
* Represents a bond]
The polyamide-imide resin according to the above [1], which has at least the structural unit represented by.
[3] The polyamide-imide resin according to the above [1] or [2], which has a weight average molecular weight of 200,000 or more and 1,000,000 or less.
[4] As X in the formula (1) or X in the formula (2), the formula (4):
Figure 2021075702
[In formula (4), H 4a and H 4b represent hydrogen atoms.
R 4a to R 4d independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and are included in R 4a to R 4d. Hydrogen atoms may be substituted with halogen atoms independently of each other.
* Represents a bond]
The polyamide-imide resin according to any one of the above [1] to [3], which has at least the structure represented by.
[5] As Z in the equation (2), the equation (3):
Figure 2021075702
[In the formula (3), R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 3a. And the hydrogen atoms contained in R 3b may be substituted with halogen atoms independently of each other.
W, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 -, - S -, - CO- or -N (R 9) - represents, R 9 is a hydrogen atom, monovalent 1-12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom Represents a hydrocarbon group
s is an integer from 0 to 4
t is an integer from 0 to 4
u is an integer from 0 to 4
* Represents a bond]
The polyamide-imide resin according to any one of [1] to [4] above, which has at least the structure represented by.
[6] An optical film containing the polyamide-imide resin according to any one of the above [1] to [5].
[7] An optical film containing a polyamide-imide resin, wherein the rate of change in weight average molecular weight before and after a storage test in which the optical film is stored at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% for one week is 26% or less. Optical film.
[8] The optical film according to the above [7], wherein the rate of change in the weight average molecular weight before and after the storage test is 25% or less.
[9] A front plate of a flexible display device having the optical film according to any one of the above [6] to [8].
[10] A flexible display device including the front plate according to the above [9].
[11] The flexible display device according to the above [10], further comprising a touch sensor.
[12] The flexible display device according to the above [10] or [11], further comprising a polarizing plate.
[13] A method for producing a polyamideimide resin in which a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound and a dicarboxylic acid compound are reacted, and the ratio of the number of moles of the diamine compound to the total number of moles of the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound. The method for producing a polyamideimide resin according to any one of [1] to [5] above, wherein the amount exceeds 1.000.

本発明によれば、光学特性及び機械的特性の経時的な低下が抑制された品質安定性に優れる光学フィルム、並びに、該光学フィルムを与えるポリアミドイミド樹脂を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical film having excellent quality stability in which deterioration of optical properties and mechanical properties with time is suppressed, and a polyamide-imide resin that gives the optical film.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The scope of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

〔ポリアミドイミド樹脂〕
本発明のポリアミドイミド樹脂は、ポリアミドイミド樹脂の重水素化ジメチルスルホキシド溶液を測定試料として得たH−13C HSQCスペクトルにおいて、プロトンのケミカルシフトが8.06〜8.14ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが129.6〜130.3ppmである領域(A)に存在するピークの積分値(int)と、プロトンのケミカルシフトが7.26〜7.85ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが132.4〜134.0ppmである領域(B)に存在するピークの積分値(int)との割合(int/int)が1.5%以下である。
[Polyamide-imide resin]
The polyamide-imide resin of the present invention has a chemical shift of protons of 8.06 to 8.14 ppm in a 1 H- 13 C HSQC spectrum obtained by using a deuterated dimethyl sulfoxide solution of the polyamide-imide resin as a measurement sample, and has a chemical shift of 8.06 to 8.14 ppm. The integrated value (int A ) of the peak existing in the region (A) where the chemical shift of carbon is 129.6 to 130.3 ppm, and the chemical shift of protons are 7.26 to 7.85 ppm, and the carbon integral value of the peak chemical shift is present in the region (B) is a 132.4~134.0ppm ratio between (int B) (int a / int B) is 1.5% or less.

H−13C HSQC(Heteronuclear Single Quantum Correlation)スペクトルは、プロトンとカーボンとの間の異種核間カップリングを示すNMRスペクトルであり、通常、該スペクトルにおいて、縦軸がカーボンのケミカルシフトを表し、横軸がプロトンのケミカルシフトを表す。本発明者は、プロトンのケミカルシフトが8.06〜8.14ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが129.6〜130.3ppmである領域(A)に存在するピークの積分値(int)と、プロトンのケミカルシフトが7.26〜7.85ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが132.4〜134.0ppmである領域(B)に存在するピークの積分値(int)との割合(int/int)が1.5%以下であるポリアミドイミド樹脂を用いることにより、光学特性及び機械的特性の経時的な低下が抑制された品質安定性に優れる光学フィルムを提供できることを見出した。割合(int/int)が1.5%を超える場合、当該樹脂を含む光学フィルムは、光学特性及び機械的特性の経時的な低下が起こりやすくなる。割合(int/int)は、光学特性及び機械的特性の低下の抑制効果をより向上させやすい観点から、好ましくは1.2%以下、より好ましくは1.0%以下、さらに好ましくは0.8%以下、とりわけ好ましくは0.6%以下である。割合(int/int)は小さいほど好ましく、その下限は特に限定されず、通常0以上、例えば0.01%以上である。 1 H- 13 C HSQC (Heteronuclear Single Quantum Correlation) spectrum is an NMR spectrum showing heteronuclear coupling between protons and carbon, and in the spectrum, the vertical axis usually represents the chemical shift of carbon. The horizontal axis represents the chemical shift of protons. The present inventor has an integral value (int A ) of peaks existing in the region (A) in which the chemical shift of protons is 8.06 to 8.14 ppm and the chemical shift of carbon is 129.6 to 130.3 ppm. ) And the integral value (int B ) of the peak existing in the region (B) where the chemical shift of the proton is 7.26 to 7.85 ppm and the chemical shift of the carbon is 132.4 to 134.0 ppm. By using a polyamide-imide resin having a ratio (int A / int B ) of 1.5% or less, it is possible to provide an optical film having excellent quality stability in which deterioration of optical properties and mechanical properties over time is suppressed. I found. When the ratio (int A / int B ) exceeds 1.5%, the optical film containing the resin tends to deteriorate in optical properties and mechanical properties with time. The ratio (int A / int B ) is preferably 1.2% or less, more preferably 1.0% or less, still more preferably 0, from the viewpoint of easily improving the effect of suppressing deterioration of optical properties and mechanical properties. It is 8.8% or less, particularly preferably 0.6% or less. The smaller the ratio (int A / int B ), the more preferable, and the lower limit thereof is not particularly limited, and is usually 0 or more, for example 0.01% or more.

割合(int/int)が1.5%以下である場合に、得られる光学フィルムの光学特性及び機械的特性の経時的な低下を抑制できる理由は明らかではないが、後述する理由によると考えられる。ポリアミドイミド樹脂は通常、テトラカルボン酸化合物と、ジカルボン酸化合物と、ジアミン化合物とをモノマーとして用いて重合させることにより得られる。そして、重合させるモノマーの割合、ポリマーの重合条件によっては、得られるポリマーの末端にジカルボン酸に由来するカルボン酸部分が残存する場合がある。ここで、H−13C HSQCスペクトルにおける、プロトンのケミカルシフトが8.06〜8.14ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが129.6〜130.3ppmである領域(A)には、ジカルボン酸に由来してポリアミドイミド樹脂の末端に存在するカルボン酸部分の量に対応するプロトンのピークが存在すると考えられる。そのため、末端のジカルボン酸由来のカルボン酸部分の存在量を相対的に表す、領域(A)に存在するピークの積分値(ピークの体積)が、ポリアミドイミド樹脂の他の部分のプロトンに相当する領域(B)に存在するピークの積分値に対して、所定の値以下である場合、ポリアミドイミド樹脂の末端に存在するカルボン酸部分の量が非常に少ないことを表し、得られる光学フィルムの光学特性及び機械的特性の経時的な低下を抑制できると考えられる。光学フィルムが長期間使用されると、特に光学フィルムの表面から外的環境等による侵食が生じることによって、光学特性及び機械的特性が経時的に低下し得ると考えられる。光学フィルムに含まれるポリアミドイミド樹脂の末端に存在するカルボン酸部分の量が少ない場合、光学フィルムの表面の例えば高温多湿条件下での侵食を低減することができ、このような侵食の低減が、光学特性及び機械的特性の経時的な低下の抑制をもたらす一因であると考えられる。また同様の理由により、割合(int/int)が1.5%以下である樹脂から得られる光学フィルムは重量平均分子量の経時的な低下をも抑制できる。 When the ratio (int A / int B ) is 1.5% or less, the reason why the deterioration of the optical properties and mechanical properties of the obtained optical film with time can be suppressed is not clear, but according to the reason described later. Conceivable. The polyamide-imide resin is usually obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and a diamine compound as monomers. Then, depending on the proportion of the monomer to be polymerized and the polymerization conditions of the polymer, a carboxylic acid moiety derived from a dicarboxylic acid may remain at the end of the obtained polymer. Here, in the region (A) in the 1 H- 13 C HSQC spectrum, where the chemical shift of protons is 8.06 to 8.14 ppm and the chemical shift of carbon is 129.6 to 130.3 ppm, It is considered that there is a proton peak corresponding to the amount of the carboxylic acid moiety present at the end of the polyamide-imide resin derived from the dicarboxylic acid. Therefore, the integral value (volume of the peak) of the peak existing in the region (A), which relatively represents the abundance of the carboxylic acid portion derived from the terminal dicarboxylic acid, corresponds to the proton of the other portion of the polyamide-imide resin. When it is equal to or less than a predetermined value with respect to the integral value of the peak existing in the region (B), it means that the amount of the carboxylic acid moiety present at the end of the polyamide-imide resin is very small, and the optical of the obtained optical film It is considered that the deterioration of the characteristics and the mechanical characteristics with time can be suppressed. It is considered that when the optical film is used for a long period of time, the optical characteristics and the mechanical characteristics may deteriorate with time, especially due to erosion from the surface of the optical film due to the external environment or the like. When the amount of the carboxylic acid moiety present at the end of the polyamide-imide resin contained in the optical film is small, erosion of the surface of the optical film under, for example, high temperature and high humidity conditions can be reduced, and such reduction of erosion can be achieved. It is considered to be one of the factors that suppress the deterioration of optical properties and mechanical properties over time. Further, for the same reason, an optical film obtained from a resin having a ratio (int A / int B ) of 1.5% or less can suppress a decrease in weight average molecular weight with time.

割合(int/int)におけるintは、上記のように、ポリアミドイミド樹脂の末端に存在するジカルボン酸の末端カルボン酸部分の量が多くなると大きくなる。そのため、ジカルボン酸に由来する末端のカルボン酸部分ができるだけ少なくなるようにポリアミドイミド樹脂を合成することにより、上記の割合を1.5%以下の範囲に調整することが可能である。末端のカルボン酸部分ができるだけ少なくなるようにポリアミドイミド樹脂を合成する方法の一例としてはポリアミドイミド樹脂を合成する際に、ジカルボン酸化合物のうち、反応性が低く末端カルボン酸となりやすい化合物を最初に加えることや、ジアミンモノマーのモル量をジカルボン酸及びテトラカルボン酸の合計モル量よりも高くすることが考えられる。具体的には、例えばポリアミドイミド樹脂を得るために、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を共重合させる際に、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の合計モル量を1としたときのジアミン化合物のモル量の割合(ジアミン化合物のモル量/(テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の合計モル量)、この割合を以下において「アミン比」とも称する)を、好ましくは1.000以上、より好ましくは1.003以上、さらに好ましくは1.005以上、さらにより好ましくは1.008以上、とりわけ好ましくは1.01以上となるように調整する場合、割合(int/int)を上記の範囲に調整しやすい。該アミン比の上限は、ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量を高めやすい観点から、好ましくは1.05以下、より好ましくは1.03以下、さらに好ましくは1.02以下である。 As described above, int A in the ratio (int A / int B ) increases as the amount of the terminal carboxylic acid portion of the dicarboxylic acid present at the end of the polyamide-imide resin increases. Therefore, the above ratio can be adjusted to the range of 1.5% or less by synthesizing the polyamide-imide resin so that the terminal carboxylic acid portion derived from the dicarboxylic acid is as small as possible. As an example of a method for synthesizing a polyamide-imide resin so that the terminal carboxylic acid portion is as small as possible, when synthesizing a polyamide-imide resin, among the dicarboxylic acid compounds, the compound having low reactivity and easily becoming a terminal carboxylic acid is first selected. In addition, it is conceivable that the molar amount of the diamine monomer is higher than the total molar amount of the dicarboxylic acid and the tetracarboxylic acid. Specifically, for example, when the tetracarboxylic acid compound, the dicarboxylic acid compound and the diamine compound are copolymerized in order to obtain a polyamideimide resin, the total molar amount of the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is set to 1. The ratio of the molar amount of the diamine compound (the molar amount of the diamine compound / (the total molar amount of the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound), this ratio is also referred to as “amine ratio” below) is preferably 1.000 or more. When the ratio (int A / int B ) is adjusted to be more preferably 1.003 or more, still more preferably 1.005 or more, still more preferably 1.008 or more, and particularly preferably 1.01 or more, the above-mentioned ratio (int A / int B) is adjusted. Easy to adjust to the range of. The upper limit of the amine ratio is preferably 1.05 or less, more preferably 1.03 or less, still more preferably 1.02 or less, from the viewpoint of easily increasing the weight average molecular weight of the polyamide-imide resin.

さらに、ポリアミドイミド樹脂を合成する際に使用する溶媒中の水分量を調整することによっても、割合(int/int)を上記の範囲に調整することができる。具体的には、溶媒中に水分量が一定量存在する場合、合成溶媒中のジカルボン酸化合物の一部が失活し、ポリアミドイミド樹脂に導入されにくくなる。その結果、溶媒中に水分量が一定量存在する場合、ポリアミドイミド樹脂の末端に存在するジカルボン酸由来のカルボン酸部分の存在量を小さくすることができ、割合(int/int)を上記の範囲に調整しやすくなると考えられる。割合(int/int)を上記の範囲に調整しやすい観点から、ポリアミドイミド樹脂を合成する際に使用する溶媒中の水分量は、好ましくは400ppm以上、より好ましくは500ppm以上であり、ポリアミドイミド樹脂の分解を抑制する観点から、好ましくは1,000ppm以下、より好ましくは800ppm以下である。 Further, the ratio (int A / int B ) can be adjusted within the above range by adjusting the amount of water in the solvent used when synthesizing the polyamide-imide resin. Specifically, when a certain amount of water is present in the solvent, a part of the dicarboxylic acid compound in the synthetic solvent is inactivated, and it becomes difficult to introduce the dicarboxylic acid compound into the polyamide-imide resin. As a result, when a certain amount of water is present in the solvent, the abundance of the dicarboxylic acid-derived carboxylic acid moiety present at the end of the polyamide-imide resin can be reduced, and the ratio (int A / int B ) can be set as described above. It is thought that it will be easier to adjust to the range of. From the viewpoint that the ratio (int A / int B ) can be easily adjusted to the above range, the water content in the solvent used when synthesizing the polyamide-imide resin is preferably 400 ppm or more, more preferably 500 ppm or more, and the polyamide. From the viewpoint of suppressing the decomposition of the imide resin, it is preferably 1,000 ppm or less, more preferably 800 ppm or less.

また、イミド化昇温速度を調整することによっても、割合(int/int)を上記の範囲に調整することができる。具体的には、ポリアミドイミド樹脂を合成する際、イミド化昇温速度が速すぎる場合には、イミド化触媒が合成溶媒中の塩酸を十分にトラップしきれず、この塩酸がポリアミドイミド樹脂を分解することにより、ポリアミドイミド樹脂の末端にジカルボン酸化合物由来のカルボン酸部分が存在しやすくなる。そのため、イミド化時の昇温速度を調整し、ポリアミドイミド樹脂の分解を抑制することにより、割合(int/int)を上記の範囲に調整することができる。割合(int/int)を上記の範囲に調整しやすい観点から、イミド化時の昇温速度を低くすることが好ましく、10℃から50℃までの昇温に、30分以上かけることがより好ましい。 The ratio (int A / int B ) can also be adjusted within the above range by adjusting the imidization heating rate. Specifically, when synthesizing a polyamide-imide resin, if the imidization heating rate is too fast, the imidization catalyst cannot sufficiently trap the hydrochloric acid in the synthesis solvent, and this hydrochloric acid decomposes the polyamide-imide resin. As a result, a carboxylic acid moiety derived from the dicarboxylic acid compound is likely to be present at the end of the polyamide-imide resin. Therefore, the ratio (int A / int B ) can be adjusted within the above range by adjusting the rate of temperature rise during imidization and suppressing the decomposition of the polyamide-imide resin. From the viewpoint that the ratio (int A / int B ) can be easily adjusted to the above range, it is preferable to lower the heating rate at the time of imidization, and it is possible to take 30 minutes or more to raise the temperature from 10 ° C to 50 ° C. More preferred.

また、反応時の加熱条件を調整することによっても、割合(int/int)を上記の範囲に調整することができる。具体的には、ポリアミドイミド樹脂を合成する際、同じ昇温速度を達成するために、反応容器全体を加熱する場合よりも、反応容器を局所的に加熱することにより、ポリアミドイミド樹脂の主鎖の分解を抑制しつつ、末端のカルボン酸の加水分解を進行させやすいことがわかった。末端のカルボン酸が脱離することで、代わりにアミン末端が露出するため、割合(int/int)を上記の範囲に調整することができる。これは、ポリアミドイミド樹脂を合成する際、反応容器全体を熱媒で加熱すると、過剰に加熱される反応溶液の量が多くなり、樹脂末端のカルボン酸の加水分解だけでなく、主鎖の分解も進行する。その結果、割合(int/int)を上記の範囲に調整しにくくなると共に、分子量の低下も生じやすくなるためであると考えられる。反応容器を局所的に加熱する場合、ポリアミドイミド樹脂の主鎖の分解を低減しつつ、主鎖の分解よりも反応性が高い、カルボン酸末端の加水分解が優先的に生じ、割合(int/int)を上記の範囲に調整しやすいと考えられる。 The ratio (int A / int B ) can also be adjusted within the above range by adjusting the heating conditions during the reaction. Specifically, when synthesizing a polyamide-imide resin, the main chain of the polyamide-imide resin is formed by locally heating the reaction vessel rather than heating the entire reaction vessel in order to achieve the same heating rate. It was found that the hydrolysis of the terminal carboxylic acid can be easily promoted while suppressing the decomposition of the resin. By desorbing the terminal carboxylic acid, the amine terminal is exposed instead, so that the ratio (int A / int B ) can be adjusted to the above range. This is because when the entire reaction vessel is heated with a heat medium when synthesizing a polyamide-imide resin, the amount of the reaction solution that is overheated increases, and not only the hydrolysis of the carboxylic acid at the resin terminal but also the decomposition of the main chain Also progresses. As a result, it is considered that it becomes difficult to adjust the ratio (int A / int B ) to the above range, and the molecular weight tends to decrease. When the reaction vessel is locally heated, hydrolysis of the carboxylic acid terminal, which is more reactive than decomposition of the main chain, occurs preferentially while reducing decomposition of the main chain of the polyamide-imide resin, and the ratio (int A). It is considered that / int B ) can be easily adjusted to the above range.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂は、式(1):

Figure 2021075702
[式(1)中、Yは4価の有機基を表し、
Xは2価の有機基を表し、
*は結合手を表す]
で表される構成単位及び式(2):
Figure 2021075702
[式(2)中、Z及びXは、互いに独立に、
2価の有機基を表し、
*は結合手を表す]
で表される構成単位を少なくとも有する。 In one preferred embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin is represented by the formula (1):
Figure 2021075702
[In formula (1), Y represents a tetravalent organic group and represents
X represents a divalent organic group
* Represents a bond]
Structural unit represented by and formula (2):
Figure 2021075702
[In equation (2), Z and X are independent of each other.
Represents a divalent organic group
* Represents a bond]
It has at least a structural unit represented by.

式(1)で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式(2)で表される構成単位は、ジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。ポリアミドイミド樹脂が式(1)で表される構成単位と式(2)で表される構成単位とを有する場合、通常ポリアミドイミド樹脂は、式(1)で表される複数の構成単位と、式(2)で表される複数の構成単位を有する。式(1)で表される複数の構成単位は、1種類の構成単位であってもよいし、2種類以上の構成単位であってもよい。また、式(2)で表される複数の構成単位も、1種類の構成単位であってもよいし、2種類以上の構成単位であってもよい。さらに、ポリアミドイミド樹脂は、式(1)及び式(2)とは異なるさらなる構成単位を有していてもよい。 The structural unit represented by the formula (1) is a structural unit formed by reacting a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the structural unit represented by the formula (2) is a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. Is a structural unit formed by the reaction of and. When the polyamide-imide resin has a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the formula (2), the polyamide-imide resin usually has a plurality of structural units represented by the formula (1) and a plurality of structural units. It has a plurality of structural units represented by the formula (2). The plurality of structural units represented by the formula (1) may be one type of structural unit or two or more types of structural units. Further, the plurality of structural units represented by the formula (2) may also be one type of structural unit or two or more types of structural units. Furthermore, the polyamide-imide resin may have additional structural units different from those of the formulas (1) and (2).

上記の式(2)において、Zは、2価の有機基であり、好ましくは、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子、好ましくはフッ素原子で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、炭素数4〜40の2価の有機基であり、より好ましくは、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子、好ましくはフッ素原子で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数4〜40の2価の有機基を表す。なお、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基の例としては、後述する式(3)中のR3a及びR3bに関する例示が同様にあてはまる。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Zの有機基として、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29):

Figure 2021075702
[式(20)〜式(29)中、Wは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−Ar−、−SO−、−CO−、−O−Ar−O−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−又は−Ar−SO−Ar−を表し、ここで、Arは、互いに独立に、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基、例えばフェニレン基を表し、*は結合手を表す]
で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が例示され、Zのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が例示される。Zとしては、光学フィルムの黄色度(以下、YI値と略すことがある)を低減しやすい観点から、式(20)〜式(29)で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が好ましい。 In the above formula (2), Z is a divalent organic group, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms ( The hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom, preferably a fluorine atom), and is a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably carbon atoms. Substituted with an alkyl group of 1 to 6, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom, preferably a fluorine atom). It represents a divalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms. Examples of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms include examples relating to R 3a and R 3b in the formula (3) described later. The same applies. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. As the organic group of Z, the formula (20), the formula (21), the formula (22), the formula (23), the formula (24), the formula (25), the formula (26), the formula (27), the formula (28). And equation (29):
Figure 2021075702
Wherein (20) to Formula (29), W 1 represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3 ) 2 -, - Ar -, - SO 2 -, - CO -, - O-Ar-O -, - Ar-O-Ar -, - Ar-CH 2 -Ar-, Represents -Ar-C (CH 3 ) 2- Ar- or -Ar-SO 2- Ar-, where Ar has 6 to 6 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom independently of each other. Represents 20 arylene groups, such as phenylene groups, where * represents a bond]
Of the group bonds represented by, a group in which two non-adjacent groups are replaced with hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and the heterocyclic structure of Z is a thiophene ring skeleton. The group having is exemplified. Z is a group represented by the formulas (20) to (29) and a group having a thiophene ring skeleton from the viewpoint of easily reducing the yellowness of the optical film (hereinafter, may be abbreviated as YI value). Is preferable.

Zの有機基としては、式(20’)、式(21’)、式(22’)、式(23’)、式(24’)、式(25’)、式(26’)、式(27’)、式(28’)及び式(29’):

Figure 2021075702
[式(20’)〜式(29’)中、W及び*は、式(20)〜式(29)において定義した通りである]
で表される2価の有機基がより好ましい。なお、式(20)〜式(29)及び式(20’)〜式(29’)における環上の水素原子は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子、好ましくはフッ素原子で置換されていてもよい)で置換されていてもよい。 Examples of the organic group of Z include the formula (20'), the formula (21'), the formula (22'), the formula (23'), the formula (24'), the formula (25'), the formula (26'), and the formula. (27'), equation (28') and equation (29'):
Figure 2021075702
In formula (20 ') to formula (29'), W 1 and * are as defined in formula (20) to (29)]
The divalent organic group represented by is more preferable. The hydrogen atom on the ring in the formulas (20) to (29) and the formulas (20') to (29') is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. It may be substituted with an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom, preferably a fluorine atom).

ポリアミドイミド樹脂が、式(2)中のZが上記の式(20’)〜式(29’)のいずれかで表される構成単位を有する場合、中でも式(2)中のZが後述する式(3’)で表される構成単位を有する場合、ポリアミドイミド樹脂は、該構成単位に加えて、次の式(d1):

Figure 2021075702
[式(d1)中、R24は後述する式(3)中のR3aについて定義する基又は水素原子を表し、
25は、R24又は−C(=O)−*を表し、
*は結合手を表す]
で表されるカルボン酸由来の構成単位をさらに有することが、該樹脂を含むワニスの成膜性を高めやすく、得られる光学フィルムの均一性を高めやすい観点から好ましい。構成単位(d1)としては、具体的には、R24及びR25がいずれも水素原子である構成単位、すなわちジカルボン酸化合物に由来する構成単位、R24がいずれも水素原子であり、R25が−C(=O)−*を表す構成単位、すなわちトリカルボン酸化合物に由来する構成単位等が挙げられる。 When the polyamide-imide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by any of the above formulas (20') to (29'), the Z in the formula (2) will be described later. When having a structural unit represented by the formula (3'), the polyamide-imide resin is added to the structural unit and has the following formula (d1):
Figure 2021075702
[In the formula (d1), R 24 represents a group or a hydrogen atom defining R 3a in the formula (3) described later.
R 25 represents R 24 or -C (= O)-*,
* Represents a bond]
It is preferable to further have a carboxylic acid-derived structural unit represented by (1) from the viewpoint of easily improving the film-forming property of the varnish containing the resin and easily improving the uniformity of the obtained optical film. Specifically, as the structural unit (d1), R 24 and R 25 are both hydrogen atoms, that is, a structural unit derived from a dicarboxylic acid compound, and R 24 is a hydrogen atom and R 25. A structural unit representing −C (= O) − *, that is, a structural unit derived from a tricarboxylic acid compound and the like can be mentioned.

本発明のポリアミドイミド樹脂は、式(2)中のZとして複数種のZを含んでよく、複数種のZは、互いに同一であっても異なっていてもよい。中でも、本発明のポリアミドイミド樹脂を用いて得た光学フィルムの耐衝撃性を高めやすく、かつ、光学特性を高めやすい観点から、式(2)中のZが好ましくは式(3):

Figure 2021075702
[式(3)中、R3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Wは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、
sは0〜4の整数であり、
tは0〜4の整数であり、
uは0〜4の整数であり、
*は結合手を表す]
、より好ましくは式(3’):
Figure 2021075702
[式(3’)中、R3a、R3b、s、t、u、W及び*は、式(3)において定義した通りである]
で表される構成単位を少なくとも有することが好ましい。なお、本明細書において、ポリアミドイミド樹脂が式(2)中のZが式(3)で表される構成単位を有することと、ポリアミドイミド樹脂が式(2)中のZとして式(3)で表される構造を有することとは、同様の意味を有し、ポリアミドイミド樹脂に含まれる複数の式(2)で表される構成単位のうち、少なくとも一部の構成単位におけるZが式(3)で表されることを意味する。当該記載は、他の同様の記載にもあてはまる。 The polyamide-imide resin of the present invention may contain a plurality of types of Z as Z in the formula (2), and the plurality of types of Z may be the same as or different from each other. Above all, Z in the formula (2) is preferably used from the viewpoint that the impact resistance of the optical film obtained by using the polyamide-imide resin of the present invention can be easily enhanced and the optical characteristics can be easily enhanced.
Figure 2021075702
[In the formula (3), R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 3a. And the hydrogen atoms contained in R 3b may be substituted with halogen atoms independently of each other.
W, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 -, - S -, - CO- or -N (R 9) - represents, R 9 is a hydrogen atom, monovalent 1-12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom Represents a hydrocarbon group
s is an integer from 0 to 4
t is an integer from 0 to 4
u is an integer from 0 to 4
* Represents a bond]
, More preferably equation (3'):
Figure 2021075702
[In equation (3'), R 3a , R 3b , s, t, u, W and * are as defined in equation (3)]
It is preferable to have at least a structural unit represented by. In the present specification, the polyamide-imide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by the formula (3), and the polyamide-imide resin has the Z in the formula (2) as the formula (3). Having a structure represented by (2) has the same meaning, and among the plurality of structural units represented by the formula (2) contained in the polyamide-imide resin, Z in at least a part of the structural units is represented by the formula (. It means that it is represented by 3). This statement also applies to other similar statements.

式(3)及び式(3’)において、Wは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、光学フィルムの耐屈曲性の観点から、好ましくは−O−又は−S−、より好ましくは−O−を表す。
3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1〜6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6〜12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学フィルムの表面硬度及び柔軟性の観点から、R3a及びR3bは、互いに独立に、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基を表す。ここで、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
In formulas (3) and (3 '), W, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C ( CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, preferably from the viewpoint of bending resistance of the optical film. It represents −O− or −S−, more preferably −O−.
R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, and 2 -Methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Groups, cyclohexyloxy groups and the like can be mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, a naphthyl group, a biphenyl group and the like. From the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical film, R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Here, the hydrogen atoms contained in R 3a and R 3b may be substituted with halogen atoms independently of each other.
R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Examples of monovalent hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and n-. Pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group Etc., and these may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

式(3)及び式(3’)中のt及びuは、互いに独立に、0〜4の整数であり、好ましくは0〜2の整数、より好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0である。 T and u in the formula (3) and the formula (3') are independently integers of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0. is there.

式(3)及び式(3’)中のsは0〜4の範囲の整数であり、sがこの範囲内であると、本発明のポリアミドイミド樹脂を用いて得た光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上しやすい。式(3)及び式(3’)中のsは、得られる光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性をより向上しやすい観点から、好ましくは0〜3の範囲の整数、より好ましくは0〜2の範囲の整数、さらに好ましくは0又は1、とりわけ好ましくは0である。式(2)中のZとしてsが0である式(3)又は式(3’)で表される構造を含む構成単位は、例えばテレフタル酸又はイソフタル酸に由来する構成単位であり、該構成単位は、特に、式(3)又は式(3’)中のsが0及びuが0である構造を含む構成単位であることが好ましい。光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上しやすい観点から、ポリアミドイミド樹脂はテレフタル酸に由来する構成単位を含むことが好ましい。ポリアミドイミド樹脂はZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位を1種又は2種類以上含んでいてもよい。光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性の向上、YI値低減の観点からは、ポリアミドイミド樹脂は式(2)中のZとして、式(3)又は式(3’)中のsの値が異なる2種類以上の構造を含むことが好ましく、式(3)又は式(3’)中のsの値が異なる2種類又は3種類の構造を含むことがより好ましい。この場合、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、光学フィルムのYI値を低減しやすい観点から、ポリアミドイミド樹脂が式(2)で表される構成単位におけるZとして、sが0である式(3)で表される構造を含有し、該構造を含む構成単位に加えてsが1である式(3)で表される構造を含む構成単位をさらに含有することがとりわけ好ましい。また、sが0である式(3)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位に加えて、上記の式(d1)で表される構成単位をさらに有することも好ましい。 S in the formulas (3) and (3') is an integer in the range of 0 to 4, and when s is in this range, the impact resistance of the optical film obtained by using the polyamide-imide resin of the present invention. , Elastic modulus and bending resistance are likely to be improved. The s in the formula (3) and the formula (3') is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably, from the viewpoint of easily improving the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the obtained optical film. Is an integer in the range 0-2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0. The structural unit including the structure represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 as Z in the formula (2) is, for example, a structural unit derived from terephthalic acid or isophthalic acid. The unit is particularly preferably a structural unit including a structure in which s is 0 and u is 0 in the formula (3) or the formula (3'). From the viewpoint of easily improving the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film, the polyamide-imide resin preferably contains a structural unit derived from terephthalic acid. The polyamide-imide resin may contain one or more structural units in which Z is represented by the formula (3) or the formula (3'). From the viewpoint of improving the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film, and reducing the YI value, the polyamide-imide resin is designated as Z in the formula (2) and s in the formula (3) or the formula (3'). It is preferable to include two or more types of structures having different values of, and more preferably to include two or three types of structures having different values of s in the formula (3) or the formula (3'). In this case, the polyamide-imide resin is used in the structural unit represented by the formula (2) from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film and easily reducing the YI value of the optical film. Z includes a structure represented by the formula (3) in which s is 0, and in addition to the structural unit including the structure, a structural unit including the structure represented by the formula (3) in which s is 1 is further added. It is particularly preferable to contain it. Further, in addition to the structural unit represented by the formula (2) having Z represented by the formula (3) in which s is 0, it is also preferable to further have the structural unit represented by the above formula (d1). ..

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂は、式(3)又は式(3’)で表される構造(2価の基)として、s=0であり、かつu=0である構造を有する。本発明のより好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂は、式(3)又は式(3’)で表される構造として、s=0であり、かつu=0である構造と、式(3”):

Figure 2021075702
で表される構造を有する。この場合、該ポリアミドイミド樹脂を用いて得られる光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上させやすいと共に、YI値を低減しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin has a structure (divalent group) represented by the formula (3) or the formula (3') in which s = 0 and u = 0. Has. In a more preferred embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin has a structure represented by the formula (3) or the formula (3'), in which s = 0 and u = 0, and a structure represented by the formula (3'). "):
Figure 2021075702
It has a structure represented by. In this case, it is easy to improve the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film obtained by using the polyamide-imide resin, and it is easy to reduce the YI value.

本発明のポリアミドイミド樹脂が、式(2)中のZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位を有する場合、その割合は、ポリアミドイミド樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは20モル%以上、より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは40モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上、とりわけ好ましくは60モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、さらに好ましくは80モル%以下である。式(2)中のZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。式(2)中のZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。 When the polyamideimide resin of the present invention has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by the formula (3) or the formula (3'), the ratio thereof is represented by the formula (1) of the polyamideimide resin. When the total of the structural units to be used and the structural units represented by the formula (2) is 100 mol%, it is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, still more preferably 40 mol% or more, and further. It is more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, still more preferably 80 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in the formula (2) is equal to or more than the above lower limit, the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film are enhanced. Cheap. When Z in the formula (2) is equal to or less than the above upper limit of the proportion of the structural unit represented by the formula (3) or the formula (3'), the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the formula (3). It is easy to improve the processability of the film by suppressing the increase in viscosity of the film.

また、ポリアミドイミド樹脂が式(2)中のZとしてs=1〜4である式(3)又は式(3’)で表される構造を有する場合、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合は、ポリアミドイミド樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは3モル%以上、より好ましくは5モル%以上、さらに好ましくは7モル%以上、とりわけ好ましくは9モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、とりわけ好ましくは30モル%以下である。sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)又は式(3’)で表される構造由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式(1)、式(2)、式(2)中のZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 Further, when the polyamideimide resin has a structure represented by the formula (3) or the formula (3') in which s = 1 to 4 as Z in the formula (2), the formula (3) in which s is 1 to 4 ) Or the ratio of the structural unit represented by the formula (2) having Z represented by the formula (3') is represented by the structural unit represented by the formula (1) and the formula (2) of the polyamide imide resin. When the total of the constituent units is 100 mol%, it is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, further preferably 7 mol% or more, particularly preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or more. It is mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, and particularly preferably 30 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by the formula (3) in which s is 1 to 4 or the formula (2) having Z represented by the formula (3') is equal to or more than the above lower limit, the impact resistance of the optical film is increased. It is easy to improve the property, elastic modulus and bending resistance. When the ratio of the structural unit represented by the formula (3) in which s is 1 to 4 or the formula (2) having Z represented by the formula (3') is equal to or less than the above upper limit, the formula (3) or the formula (3') It is easy to improve the processability of the film by suppressing the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the structure represented by the formula (3'). The ratio of the structural unit in which Z in the formula (1), the formula (2), and the formula (2) is represented by the formula (3) or the formula (3') is measured by using, for example, 1 1 H-NMR. It can also be calculated from the raw material charging ratio.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明のポリアミドイミド樹脂中のZの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは40モル%以上、さらに好ましくは45モル%以上、とりわけ好ましくは50モル%以上が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表される。Zの上記の下限以上が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表されると、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。また、ポリアミドイミド樹脂中のZの100モル%以下が、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表されればよい。なお、樹脂中の、sが0〜4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide-imide resin of the present invention is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more, and particularly preferably 50 mol% or more. Is expressed by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4. When the above lower limit of Z or more is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4, the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily enhanced. Further, 100 mol% or less of Z in the polyamide-imide resin may be represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4. The ratio of the structural unit represented by the formula (3) in which s is 0 to 4 or the formula (2) having Z represented by the formula (3') in the resin is, for example, 1 1 H-NMR. It can be measured using it, or it can be calculated from the charging ratio of raw materials.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明のポリアミドイミド樹脂中のZの、好ましくは5モル%以上、より好ましくは8モル%以上、さらに好ましくは10モル%以上、とりわけ好ましくは12モル%以上が、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される。ポリアミドイミド樹脂のZの上記の下限以上が、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される場合、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。また、Zの、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、とりわけ好ましくは30モル%以下が、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される。Zの上記の上限以下が、sが1〜4である式(3)で表される場合、sが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお樹脂中のsが1〜4である式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide-imide resin of the present invention is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, and particularly preferably 12 mol% or more. Is expressed by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4. When the above lower limit or more of Z of the polyamide-imide resin is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4, the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film are enhanced. Cheap. Further, the formula (3) or formula (3) or formula in which s is 1 to 4, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, and particularly preferably 30 mol% or less of Z. It is represented by (3'). When the above upper limit or less of Z is represented by the formula (3) in which s is 1 to 4, it is derived from the structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4. It is easy to improve the processability of the film by suppressing the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds. The ratio of the structural units represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4 in the resin can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or the raw material charging ratio. It can also be calculated from.

本発明のポリアミドイミド樹脂における、ジカルボン酸化合物に由来する、カルボン酸末端部分の構造としては、例えば式(32):

Figure 2021075702
[式(32)中、R32a及びR32bは、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R32a及びR32bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
32cは、水素原子(この場合、−OR32cは−OHである)、アルカリ金属原子、ハロゲン原子、又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、
pは0〜4の整数であり、
rは0〜4の整数であり、好ましくは0〜2の整数、より好ましくは0であり、
Aは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、
qは0〜4の整数であり、
*は結合手を表す]
で表される構造が挙げられる。カルボン酸末端部分の構造が式(32)で表される場合(好ましくはr=0、q=0であり、カルボン酸基の置換位置がアミド基に対してパラ位である)、カルボン酸基(−C(=O)OR32c)を有するベンゼン環上の炭素原子に結合する水素原子に帰属されるピークが、領域(A)に検出されると考えられる。式(32)で表されるカルボン酸末端部分の構造は、式(2)中のZが上記の式(3)で表される構成単位を与えるジカルボン酸及びジアミンにおける、該ジカルボン酸とジアミンの一部とに由来する構造である。そのため、ポリアミドイミド樹脂が、式(2)中のZが上記の式(3)で表される構成単位を有する場合、式(32)で表される末端構造がポリアミドイミド樹脂に含まれ得る。そのため、式(3)中のR3a、R3b、W、s、t及びuは、それぞれ、式(32)中のR32a、R32b、A、p、q及びrに対応し得る。 The structure of the carboxylic acid terminal portion derived from the dicarboxylic acid compound in the polyamide-imide resin of the present invention is, for example, the formula (32):
Figure 2021075702
[In formula (32), R 32a and R 32b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 32a. And the hydrogen atoms contained in R 32b may be substituted with halogen atoms independently of each other.
R 32c represents a hydrogen atom (in this case, -OR 32c is -OH), an alkali metal atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
p is an integer from 0 to 4
r is an integer from 0 to 4, preferably an integer from 0 to 2, more preferably 0.
A is, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 -, - S -, - CO- or -N (R 9) - represents, R 9 is a hydrogen atom, monovalent 1-12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom Represents a hydrocarbon group
q is an integer from 0 to 4
* Represents a bond]
The structure represented by is mentioned. When the structure of the carboxylic acid terminal portion is represented by the formula (32) (preferably r = 0, q = 0, and the substitution position of the carboxylic acid group is the para position with respect to the amide group), the carboxylic acid group It is considered that the peak attributed to the hydrogen atom bonded to the carbon atom on the benzene ring having (-C (= O) OR 32c) is detected in the region (A). The structure of the terminal portion of the carboxylic acid represented by the formula (32) is the structure of the dicarboxylic acid and the diamine in the dicarboxylic acid and the diamine in which Z in the formula (2) gives the structural unit represented by the above formula (3). It is a structure derived from a part. Therefore, when the polyamide-imide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by the above formula (3), the terminal structure represented by the formula (32) can be contained in the polyamide-imide resin. Therefore, R 3a , R 3b , W, s, t and u in the formula (3) can correspond to R 32a , R 32b , A, p, q and r in the formula (32), respectively.

式(1)及び式(2)において、Xは、互いに独立に、2価の有機基を表し、好ましくは炭素数4〜40の2価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数4〜40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。本発明の一実施形態において、本発明のポリアミドイミド樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Xとしては、式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)〜式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In the formulas (1) and (2), X represents a divalent organic group independently of each other, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably 4 carbon atoms having a cyclic structure. Represents a divalent organic group of ~ 40. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. In the organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine, in which case the number of carbon atoms of the hydrocarbon group and the hydrocarbon group substituted with fluorine is preferable. Is 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin of the present invention may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. X is represented by the formula (10), the formula (11), the formula (12), the formula (13), the formula (14), the formula (15), the formula (16), the formula (17) and the formula (18). Groups; Groups in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a chain having 6 or less carbon atoms. The formula hydrocarbon group is exemplified.

Figure 2021075702
Figure 2021075702

式(10)〜式(18)中、*は結合手を表し、
、V及びVは、互いに独立に、単結合、−O−、−S−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−CO−又は−N(Q)−を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、Rについて上記に述べた基が挙げられる。
1つの例は、V及びVが単結合、−O−又は−S−であり、かつ、Vが−CH−、−C(CH−、−C(CF−又は−SO−である。VとVとの各環に対する結合位置、及び、VとVとの各環に対する結合位置は、互いに独立に、各環に対して、好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。
In equations (10) to (18), * represents a bond,
V 1, V 2 and V 3 independently of one another, a single bond, -O -, - S -, - CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3 ) Represents 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -CO- or -N (Q)-. Here, Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups mentioned above for R 9.
In one example, V 1 and V 3 are single bonds, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2. -Or -SO 2- . The bonding positions of V 1 and V 2 with respect to each ring and the bonding positions of V 2 and V 3 with respect to each ring are independent of each other, preferably in the meta position or para position, more preferably with respect to each ring. It is a para position.

式(10)〜式(18)で表される基の中でも、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及び式(17)で表される基が好ましく、式(14)、式(15)及び式(16)で表される基がより好ましい。また、V、V及びVは、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び柔軟性を高めやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−O−又は−S−、より好ましくは単結合又は−O−である。 Among the groups represented by the formulas (10) to (18), the formulas (13), (14), and (15) are used from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film. , The groups represented by the formulas (16) and (17) are preferable, and the groups represented by the formulas (14), (15) and (16) are more preferable. Further, V 1 , V 2 and V 3 are independent of each other, preferably single bond, -O- or -S-, more preferably, from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus and flexibility of the optical film. Single bond or -O-.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明のポリアミドイミド樹脂は、式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(4):

Figure 2021075702
[式(4)中、H4a及びH4bは水素原子を表し、R4a〜R4dは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R4a〜R4dに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
*は結合手を表す]
で表される構造を有する。ポリアミドイミド樹脂が、式(1)中のX又は式(2)中のXとして式(4)で表される構造を有する場合、式(4)中のH4a及びH4bに帰属されるピークが、領域(B)に検出されると考えられる。なお、式(1)で表される構成単位、及び、式(2)で表される構成単位は、ポリアミドイミド樹脂中に複数存在する。これらの構成単位の少なくとも一部において、式(1)及び式(2)中のXが式(4)で表される場合、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び透明性を高めやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin of the present invention has the formula (4): X as X in the formula (1) or X in the formula (2).
Figure 2021075702
[In the formula (4), H 4a and H 4b represent a hydrogen atom, and R 4a to R 4d are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, respectively. A hydrogen atom representing an aryl group having 6 to 12 carbon atoms and contained in R 4a to R 4d may be substituted with a halogen atom independently of each other.
* Represents a bond]
It has a structure represented by. When the polyamide-imide resin has a structure represented by the formula (4) as X in the formula (1) or X in the formula (2), the peaks assigned to H 4a and H 4b in the formula (4). Is considered to be detected in the region (B). In addition, a plurality of structural units represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2) exist in the polyamide-imide resin. When X in the formulas (1) and (2) is represented by the formula (4) in at least a part of these constituent units, the impact resistance, elastic modulus and transparency of the optical film can be easily increased.

本発明の好ましい一実施形態において、式(4)で表される構成単位は式(4’):

Figure 2021075702
で表される構成単位であり、すなわち、式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中の複数のXの少なくとも一部は、式(4’)で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリアミドイミド樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。ポリアミドイミド樹脂が式(1)又は式(2)中のXとして、式(4)又は式(4’)で表される構造を含む場合、式(4)中のH4a及びH4bで表される水素原子、又は、式(4’)中の同様の位置の水素原子に帰属されるピークが、領域(B)に検出されると考えられる。 In one preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (4) is the formula (4'):
Figure 2021075702
That is, at least a part of the plurality of Xs in the plurality of structural units represented by the equations (1) and (2) is the structural unit represented by the equation (4'). Is. In this case, the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyamide-imide resin in the solvent, and it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, and it is easy to reduce the viscosity of the varnish. Easy to improve workability. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical film. When the polyamide-imide resin contains a structure represented by the formula (4) or the formula (4') as X in the formula (1) or the formula (2), it is represented by H 4a and H 4 b in the formula (4). It is considered that the hydrogen atom to be generated or the peak assigned to the hydrogen atom at a similar position in the formula (4') is detected in the region (B).

本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリアミドイミド樹脂中のXの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(4)、中でも式(4’)で表される。ポリアミドイミド樹脂における上記範囲内のXが式(4)、中でも式(4’)で表される場合、得られる光学フィルムは、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性も向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリアミドイミド樹脂中のXの100モル%以下が式(4)、特中でも(4’)で表される。上記樹脂中のXは式(4)、中でも式(4’)であってもよい。上記樹脂中のXの式(4)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more of X in the above-mentioned polyamide-imide resin is the formula (4), particularly the formula (4). It is represented by'). When X in the above range in the polyamide-imide resin is represented by the formula (4), particularly the formula (4'), the obtained optical film has a skeleton containing a fluorine element to enhance the solubility of the resin in the solvent. It is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, it is easy to reduce the viscosity of the varnish, and it is easy to improve the processability of the optical film. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical film. It should be noted that preferably, 100 mol% or less of X in the above-mentioned polyamide-imide resin is represented by the formula (4), especially (4'). X in the resin may be of the formula (4), particularly of the formula (4'). The ratio of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

式(1)又は式(2)中のXが式(4)又は式(4’)で表される構成単位に加えて、又は、該構成単位に代えて含有される、式(1)又は式(2)中のXが他の構造式で表される構成単位としては、例えば式(1)又は式(2)中のXが式(6):

Figure 2021075702
[式(6)中、R10〜R17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R10〜R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ただし、R11及びR12のいずれか一方と、R14及びR17のいずれか一方とがトリフルオロメチル基となる場合を除く、
*は結合手を表す]
で表される構成単位が挙げられる。式(1)及び式(2)中の複数のXの少なくとも一部が式(6)で表される基である場合にも、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び透明性を高めやすい。 Formula (1) or formula (1) or in which X in formula (1) or formula (2) is contained in addition to or in place of the structural unit represented by formula (4) or formula (4'). As a structural unit in which X in the formula (2) is represented by another structural formula, for example, X in the formula (1) or the formula (2) is the formula (6) :.
Figure 2021075702
[In formula (6), R 10 to R 17 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. The hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 may be substituted with halogen atoms independently of each other, except that one of R 11 and R 12 and one of R 14 and R 17 are used. Except when it becomes a trifluoromethyl group,
* Represents a bond]
The structural unit represented by is mentioned. Even when at least a part of the plurality of Xs in the formulas (1) and (2) is a group represented by the formula (6), the impact resistance, elastic modulus and transparency of the optical film can be easily improved.

式(4)におけるR4a、R4b、R4c及びR4d、並びに、式(6)におけるR10、R11、R12、R13、R14、R15、R16及びR17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として例示した基が挙げられる。R4a〜R4d及びR10〜R17は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R4a〜R4d及びR10〜R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R4a〜R4d及びR10〜R17は、互いに独立に、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率、透明性及び耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR4a〜R4dが水素原子であり、R10、R12、R13、R14、R15及びR16が水素原子であり、R11及びR17が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基である。ただし、式(6)においては、R11及びR12のいずれか一方と、R14及びR17のいずれか一方とがトリフルオロメチル基となる場合を除く。 R 4a , R 4b , R 4c and R 4d in formula (4) , and R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 and R 17 in formula (6) are mutually exclusive. Independently, it represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3). Examples thereof include groups exemplified as groups or aryl groups having 6 to 12 carbon atoms. R 4a to R 4d and R 10 to R 17 represent independent of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Here, the hydrogen atoms contained in R 4a to R 4d and R 10 to R 17 may be substituted with halogen atoms independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 4a to R 4d and R 10 to R 17 are more preferably hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, and chloros, independently of each other, from the viewpoint of impact resistance, elasticity, transparency, and bending resistance of the optical film. Groups or trifluoromethyl groups, most preferably R 4a to R 4d are hydrogen atoms, R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 is a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group. However, in the formula (6), the case where either one of R 11 and R 12 and one of R 14 and R 17 form a trifluoromethyl group is excluded.

式(1)において、Yは、4価の有機基を表し、好ましくは炭素数4〜40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4〜40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられ、耐衝撃性及び弾性率を高めやすい観点からは、好ましくは芳香環が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。本発明の一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Yとしては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基;該式(20)〜式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In the formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a tetravalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms. Represents a group. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure, and an aromatic ring is preferably used from the viewpoint of easily increasing impact resistance and elastic modulus. The organic group is an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, in which case the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group The number of carbon atoms is preferably 1-8. In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same as or different from each other. As Y, the following formulas (20), formulas (21), formulas (22), formulas (23), formulas (24), formulas (25), formulas (26), formulas (27), formulas (28) And a group represented by the formula (29); a group in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; In addition, a chain hydrocarbon group having 4 or less valences of 6 carbon atoms is exemplified.

Figure 2021075702
Figure 2021075702

式(20)〜式(29)中、*は結合手を表し、Wは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−Ar−、−SO−、−CO−、−O−Ar−O−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−又は−Ar−SO−Ar−を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。 In the formula (20) to (29), * represents a bond, W 1 is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar- CH 2 -Ar -, - Ar- C (CH 3) represents a 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group.

式(20)〜式(29)で表される基の中でも、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましく、式(26)で表される基がより好ましい。また、Wは、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学フィルムのYI値を低減しやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−又は−C(CF−、より好ましくは単結合、−O−、−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−又は−C(CF−、さらに好ましくは単結合、−C(CH−又は−C(CF−、とりわけ好ましくは単結合又は−C(CF−である。 Among the groups represented by the formulas (20) to (29), the formula (26), the formula (28) or the formula (29) from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film. The group represented by the formula (26) is preferable, and the group represented by the formula (26) is more preferable. Further, W 1 is independent of each other, preferably single bond, −O−, − from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film and easily reducing the YI value of the optical film. CH 2- , -CH 2- CH 2-, -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , more preferably single bond, -O-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , more preferably single bond, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- , particularly preferably a single bond or -C (CF 3 ) 2- .

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(26)で表される。ポリアミドイミド樹脂における上記範囲内のYが式(26)、好ましくはWが単結合、−C(CH−又は−C(CF−である式(26)、より好ましくはWが単結合又は−C(CF−である式(26)で表されると、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学フィルムのYI値を低減しやすい。ポリアミドイミド樹脂中のYが式(26)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more of Y in the polyamide-imide resin is represented by the formula (26). Y is the formula within the above range in the polyamide-imide resin (26), preferably W 1 is a single bond, -C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 - a is the formula (26), more preferably When W 1 is represented by the equation (26) of single bond or −C (CF 3 ) 2− , the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased, and the YI value of the optical film can be increased. Easy to reduce. The ratio of the structural unit in which Y is represented by the formula (26) in the polyamide-imide resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

本発明の好ましい一実施形態において、複数の式(1)中のYの少なくとも一部は、式(5):

Figure 2021075702
[式(5)中、R18〜R25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R18〜R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
*は結合手を表す]
及び/又は式(9):
Figure 2021075702
[式(9)中、R35〜R40は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R35〜R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される。複数の式(1)中のYの少なくとも一部が式(5)で表される、及び/又は、式(9)で表されると、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び光学特性を向上させやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is the formula (5) :.
Figure 2021075702
[In formula (5), R 18 to R 25 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. The hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 may be substituted with halogen atoms independently of each other.
* Represents a bond]
And / or equation (9):
Figure 2021075702
[In the formula (9), R 35 to R 40 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and hydrogen contained in R 35 to R 40. Atoms may be substituted with halogen atoms independently of each other, with * representing a bond]
It is represented by. When at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is represented by the formula (5) and / or the formula (9), the impact resistance, elastic modulus and optical characteristics of the optical film are determined. Easy to improve.

式(5)において、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24及びR25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。R18〜R25は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R18〜R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。R18〜R25は、互いに独立に、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、さらにより好ましくはR18、R19、R20、R23、R24及びR25が水素原子、R21及びR22が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR21及びR22がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are independent of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 carbon atom. Represents an alkoxy group of ~ 6 or an aryl group of 6-12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3). Examples of groups or aryl groups having 6 to 12 carbon atoms can be mentioned above. R 18 to R 25 represent independently of each other, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and here, R 18 to R 25. The hydrogen atom contained in R 25 may be substituted with a halogen atom independently of each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 18 to R 25 are more preferable from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elasticity and bending resistance of the optical film, and easily increasing the transparency and maintaining the transparency independently of each other. Is a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and even more preferably R 18 , R 19 , R 20 and R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22. Is a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 21 and R 22 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

式(9)において、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、R35〜R40は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子である。ここで、R35〜R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R35〜R40における炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数6〜12のアリール基としては、それぞれ上記に例示のものが挙げられる。 In the formula (9), R 35 to R 40 are described from the viewpoints of easily increasing the impact resistance, elastic coefficient and bending resistance of the optical film, and easily increasing the transparency and maintaining the transparency. It is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and examples of the halogen atoms include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms. .. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 35 to R 40 are exemplified above.

本発明の好ましい一実施形態においては、式(5)は式(5’)で表され、式(9)は式(9’):

Figure 2021075702
で表される。すなわち、複数のYの少なくとも一部は、式(5’)及び/又は式(9’)で表される。この場合、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。さらに、式(5)が式(5’)で表される場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリアミドイミド樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, formula (5) is represented by formula (5'), and formula (9) is represented by formula (9') :.
Figure 2021075702
It is represented by. That is, at least a part of the plurality of Y is represented by the formula (5') and / or the formula (9'). In this case, it is easy to improve the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film. Further, when the formula (5) is represented by the formula (5'), the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyamide-imide resin in the solvent and improves the storage stability of the varnish containing the resin. In addition to being easy, it is easy to reduce the viscosity of the varnish and improve the processability of the optical film. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical film.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(5)、中でも式(5’)で表される。ポリアミドイミド樹脂における上記範囲内のYが式(5)、中でも式(5’)で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリアミドイミド樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリアミドイミド樹脂中のYの100モル%以下が式(5)、中でも式(5’)で表される。ポリアミドイミド樹脂中のYは式(5)、中でも式(5’)であってもよい。ポリアミドイミド樹脂中のYの式(5)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Y in the polyamide-imide resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, according to the formula (5), particularly the formula (5). It is represented by'). When Y in the above range in the polyamide-imide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5'), the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyamide-imide resin in a solvent and contains the resin. It is easy to reduce the viscosity of the varnish, and it is easy to improve the workability of the optical film. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical film. It should be noted that preferably, 100 mol% or less of Y in the above-mentioned polyamide-imide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5'). Y in the polyamide-imide resin may be of the formula (5), particularly of the formula (5'). The ratio of the structural units represented by the formula (5) of Y in the polyamide-imide resin can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

本発明の好ましい一実施形態において、式(1)で表される複数の構成単位はYが式(5)で表される構成単位に加えて、Yが式(9)で表される構成単位をさらに含むことが好ましい。Yが式(9)で表される構成単位をさらに含む場合、光学フィルムの耐衝撃性及び弾性率をさらに向上させやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the plurality of structural units represented by the formula (1) are the structural units in which Y is represented by the formula (9) in addition to the structural units in which Y is represented by the formula (5). It is preferable to further include. When Y further includes the structural unit represented by the formula (9), the impact resistance and elastic modulus of the optical film can be further improved.

ポリアミドイミド樹脂は、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよく、また式(1)及び場合により式(2)で表される構成単位の他に、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよい。

Figure 2021075702
The polyamide-imide resin may contain a structural unit represented by the formula (30) and / or a structural unit represented by the formula (31), and may be represented by the formula (1) and optionally the formula (2). In addition to the structural unit represented by the formula (30), the structural unit represented by the formula (30) and / or the structural unit represented by the formula (31) may be included.
Figure 2021075702

式(30)において、Yは4価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基、該式(20)〜式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In the formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, preferably an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine. Examples of Y 1 include formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and A group represented by the formula (29), a group in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a group. A chain hydrocarbon group having a tetravalent carbon number of 6 or less is exemplified. In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin may include a plurality of kinds of Y 1, Y 1 of the plural kinds may being the same or different.

式(31)において、Yは3価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、上記の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、及び3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In the formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine. Examples of Y 2 include the above equations (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), and (28). ) And a group in which any one of the bonds of the group represented by the formula (29) is replaced with a hydrogen atom, and a chain hydrocarbon group having a trivalent carbon number of 6 or less are exemplified. In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin may include a plurality of kinds of Y 2, Y 2 a plurality of species may be be the same or different from each other.

式(30)及び式(31)において、X及びXは、互いに独立に、2価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。X及びXとしては、上記の式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)〜式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are divalent organic groups independently of each other, and preferably a hydrocarbon group in which a hydrogen atom in the organic group is substituted with a hydrocarbon group or fluorine. It is an organic group that may be substituted with. Examples of X 1 and X 2 include the above equations (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) and A group represented by the formula (18); a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; A chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

本発明の一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂は、式(1)及び式(2)で表される構成単位、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される構成単位からなる。また、光学フィルムの光学特性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、上記ポリアミドイミド樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び式(31)で表される全構成単位に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上である。なお、ポリアミドイミド樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される全構成単位に基づいて、通常100%以下である。なお、上記割合は、例えば、H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin is derived from the structural units represented by the formulas (1) and (2) and, in some cases, the structural units represented by the formulas (30) and / or the formula (31). Become. Further, from the viewpoint of easily improving the optical characteristics, impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film, the ratio of the structural units represented by the formulas (1) and (2) in the above-mentioned polyamide-imide resin is expressed by the formula. Based on (1) and the formula (2), and optionally all the structural units represented by the formulas (30) and (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, still more preferably. It is 95 mol% or more. In the polyamide-imide resin, the proportions of the structural units represented by the formulas (1) and (2) are the formulas (1) and (2), and in some cases, the formulas (30) and / or the formula (31). It is usually 100% or less based on all the constituent units represented by. The above ratio can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the raw material charging ratio.

ポリアミドイミド樹脂において、式(2)で表される構成単位の含有量は、式(1)で表される構成単位1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上、さらに好ましくは1.0モル以上、とりわけ好ましくは1.5モル以上であり、好ましくは6.0モル以下、より好ましくは5.0モル以下、さらに好ましくは4.5モル以下である。式(2)で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの耐衝撃性及び弾性率を高めやすい。また、式(2)で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式(2)中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、光学フィルムの加工性を向上させやすい。 In the polyamide imide resin, the content of the structural unit represented by the formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, with respect to 1 mol of the structural unit represented by the formula (1). It is mol or more, more preferably 1.0 mol or more, particularly preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, still more preferably 4.5 mol or less. .. When the content of the structural unit represented by the formula (2) is at least the above lower limit, the impact resistance and elastic modulus of the optical film can be easily increased. Further, when the content of the structural unit represented by the formula (2) is not more than the above upper limit, the thickening due to the hydrogen bond between the amide bonds in the formula (2) is suppressed and the processability of the optical film is improved. Easy to make.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明のポリアミドイミド樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリアミドイミド樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学フィルムの弾性率を向上させ、かつYI値を低減させやすい。光学フィルムの弾性率が高いと、傷及びシワ等の発生を抑制しやすい。また、光学フィルムのYI値が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリアミドイミド樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin of the present invention may contain a halogen atom such as a fluorine atom which can be introduced by, for example, the above-mentioned fluorine-containing substituent or the like. When the polyamide-imide resin contains a halogen atom, it is easy to improve the elastic modulus of the optical film and reduce the YI value. When the elastic modulus of the optical film is high, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles. Further, when the YI value of the optical film is low, it becomes easy to improve the transparency and visibility of the film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents for containing a fluorine atom in the polyamide-imide resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリアミドイミド樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、それぞれ、ポリアミドイミド樹脂の質量を基準として、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは5〜40質量%、さらに好ましくは5〜30質量%である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率をより向上させ、吸水率を下げ、YI値をより低減し、透明性及び視認性をより向上させやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、合成がしやすくなる。 The content of halogen atoms in the polyamide-imide resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, still more preferably 5 to 30% by mass, based on the mass of the polyamide-imide resin. When the content of the halogen atom is at least the above lower limit, the elastic modulus of the optical film is further improved, the water absorption rate is lowered, the YI value is further reduced, and the transparency and visibility are more likely to be improved. When the content of halogen atoms is not more than the above upper limit, synthesis becomes easy.

ポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは96%以上であり、通常100%以下である。光学フィルムの光学特性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。イミド化率は、ポリアミドイミド樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリアミドイミド樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリアミドイミド樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリアミドイミド樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリアミドイミド樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。 The imidization ratio of the polyamide-imide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, still more preferably 96% or more, and usually 100% or less. From the viewpoint of easily improving the optical characteristics of the optical film, the imidization ratio is preferably at least the above lower limit. The imidization ratio indicates the ratio of the molar amount of imide bond in the polyamide-imide resin to the value twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyamide-imide resin. When the polyamide-imide resin contains a tricarboxylic acid compound, the value is twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyamide-imide resin, and the molar amount of the structural unit derived from the tricarboxylic acid compound. The ratio of the molar amount of the imide bond in the polyamide-imide resin to the total of the above is shown. The imidization rate can be determined by an IR method, an NMR method, or the like.

ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量は、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、標準ポリスチレン換算で、好ましくは200,000以上、より好ましくは230,000以上、さらに好ましくは250,000以上、さらにより好ましくは270,000以上、とりわけ好ましくは280,000以上である。また、ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量は、該樹脂の溶媒に対する溶解性を向上しやすいと共に、光学フィルムの延伸性及び加工性を向上しやすい観点から、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは800,000以下、さらに好ましくは700,000以下、とりわけ好ましくは500,000以下である。重量平均分子量は、例えばGPC測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。 The weight average molecular weight of the polyamide-imide resin is preferably 200,000 or more, more preferably 230,000 or more, still more preferably 230,000 or more, in terms of standard polystyrene, from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film. Is 250,000 or more, even more preferably 270,000 or more, and particularly preferably 280,000 or more. The weight average molecular weight of the polyamide-imide resin is preferably 1,000,000 or less, more preferably from the viewpoint of easily improving the solubility of the resin in a solvent and improving the stretchability and processability of the optical film. Is 800,000 or less, more preferably 700,000 or less, and particularly preferably 500,000 or less. The weight average molecular weight can be determined by, for example, GPC measurement and standard polystyrene conversion, and may be calculated by, for example, the method described in Examples.

〔ポリアミドイミド樹脂の製造方法〕
ポリアミドイミド樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造できる。
[Manufacturing method of polyamide-imide resin]
The polyamide-imide resin and the polyamide-imide precursor resin can be produced, for example, using a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials.

樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 Examples of the diamine compound used in the production of the resin include aliphatic diamines, aromatic diamines and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group or other substituent may be contained in a part of the structure. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferable. Further, the "aliphatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be contained as a part of the structure thereof.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。 Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine and 4,4'. − Examples thereof include cyclic aliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えばp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(以下、TFMBと記載することがある)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylene diamine, p-xylylene diamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene and the like. , 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'- Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4) -Aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (hereinafter, TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) ) Aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, etc. Be done. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンは、好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、TFMB、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルであり、より好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、TFMB、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルである。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 The aromatic diamines are preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3 , 3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2 , 2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, TFMB, 4,4'- Bis (4-aminophenoxy) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 1, 4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine , TFMB, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミン化合物の中でも、光学フィルムの高弾性率、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、TFMBを用いることがよりさらに好ましい。 Among the above diamine compounds, one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure are selected from the viewpoints of high elastic modulus, high transparency, high flexibility, high bending resistance and low coloring property of the optical film. It is preferable to use it. One selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether. It is more preferable to use the above, and it is even more preferable to use TFMB.

樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the production of the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. Be done. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic dian compound may be a tetracarboxylic dian compound analog such as an acid chloride compound in addition to the dianhydride.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(以下、6FDAと記載することがある)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Specific examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and condensed polycyclic aromatic tetraides. Examples include carboxylic dianhydride. Examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 2,2. ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride , 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-di) Carboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (hereinafter referred to as 6FDA). (May be), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis ( 3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2) , 3-Dicarboxyphenyl) methanedianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride, and examples thereof. .. Examples of the monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and the condensed polycyclic aromatic dianhydride dianhydride. Examples thereof include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.

これらの中でも、好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、6FDA、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、6FDA、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Among these, preferably 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride. Anhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl Sulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2- Bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 6FDA, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ) Etan dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-) Dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride and 4,4'-(m-) Phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride is mentioned, more preferably 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',. Examples thereof include 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 6FDA, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride. .. These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2] .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride and their positional isomers are listed. Be done. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Further, a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used in combination.

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムの高耐衝撃性、高弾性率、高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性、及び低着色性の観点から、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、6FDA、並びにこれらの混合物が好ましく、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び6FDA、並びにこれらの混合物がより好ましく、6FDA及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物がさらに好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, 4,4'from the viewpoints of high impact resistance, high elasticity, high surface hardness, high transparency, high flexibility, high bending resistance, and low coloring property of the optical film. -Oxydiphthalic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3, 3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propanedianhydride, 6FDA , And a mixture thereof, preferably 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 6FDA, and a mixture thereof, more preferably 6FDA and 3,3', 4,4'-biphenyltetra. A carboxylic dianhydride is more preferred.

樹脂の製造に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸、イソフタル酸、4,4’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物が用いられる。テレフタル酸、イソフタル酸、4,4’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’−ビフェニルジカルボン酸;3,3’−ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−又はフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。具体例としては、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)(以下、OBBCと称することがある)、テレフタル酸クロリド(以下、TPCと称することがある)又はイソフタロイルクロリドが好ましく、OBBCとTPCとを組合せて用いることがさらに好ましい。 As the dicarboxylic acid compound used in the production of the resin, terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-oxybis benzoic acid or an acid chloride compound thereof is preferably used. In addition to terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-oxybis benzoic acid or their acid chloride compounds, other dicarboxylic acid compounds may be used. Examples of other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include a dicarboxylic acid compound of isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms, and two benzoic acids. Examples thereof include compounds in which is single-bonded, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or phenylene groups, and their acid chloride compounds. Specific examples thereof are 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) (hereinafter, may be referred to as OBBC), terephthalic acid chloride (hereinafter, which may be referred to as TPC) or isophthaloyl chloride, and OBBC and TPC are preferable. It is more preferable to use in combination with.

なお、上記ポリアミドイミド樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記テトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。 The polyamide-imide resin is obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid and their anhydrides and derivatives in addition to the tetracarboxylic acid compound as long as the various physical properties of the optical film are not impaired. May be good.

テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Examples of the tetracarboxylic acid include a water adduct of the anhydride of the tetracarboxylic acid compound.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸の無水物、1,3,5−ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6−ナフタレントリカルボン酸−2,3−無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−O−、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−又はフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include an anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid, an anhydride of 1,3,5-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; phthalic acid. A compound in which an anhydride and benzoic acid are single-bonded, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or a phenylene group is linked. Can be mentioned.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び/又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とするポリアミドイミド樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択してよいが、上記のように、ポリアミドイミド樹脂の末端に存在するジカルボン酸ができるだけ少なくなるようにポリアミドイミド樹脂を合成することにより、割合(int/int)を所望の範囲に調整することが可能である。そのため、上記のように、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を共重合させる際のアミン比(ジアミン化合物のモル量/(テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の合計モル量))が好ましくは1.000超、より好ましくは1.003以上、さらに好ましくは1.005以上、さらにより好ましくは1.008以上、とりわけ好ましくは1.01以上となるように、各モノマーの使用量を調整することが好ましい。 In the production of the resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and / or the dicarboxylic acid compound used may be appropriately selected according to the ratio of each structural unit of the desired polyamide-imide resin, but as described above, By synthesizing the polyamide-imide resin so that the amount of dicarboxylic acid present at the end of the polyamide-imide resin is as small as possible, the ratio (int A / int B ) can be adjusted to a desired range. Therefore, as described above, the amine ratio (molar amount of diamine compound / (total molar amount of tetracarboxylic acid compound and dicarboxylic acid compound)) when copolymerizing the tetracarboxylic acid compound, dicarboxylic acid compound and diamine compound is preferable. Adjusted the amount of each monomer used so that It is preferable to do so.

なお、本発明は、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物を反応させるポリアミドイミド樹脂の製造方法であって、該テトラカルボン酸化合物及び該ジカルボン酸化合物の合計モル数に対する該ジアミン化合物のモル数の割合(アミン比)が1.000を超える、ポリアミドイミド樹脂の製造方法も提供する。 The present invention is a method for producing a polyamide-imide resin in which a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound and a dicarboxylic acid compound are reacted, and the molar amount of the diamine compound is based on the total number of moles of the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound. Also provided is a method for producing a polyamide-imide resin having a number ratio (amine ratio) of more than 1.000.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば5〜350℃、好ましくは20〜200℃、より好ましくは25〜100℃である。割合(int/int)を所望の範囲に調整しやすい観点からは、反応容器を、場合により局所的に、加熱することにより、上記反応温度となるように調整して製造を行ってもよく、局所的な加熱と同時に後述のイミド化触媒の量とともに無水酢酸などの酸無水物の量を調整してもよい。反応時間も特に限定されないが、例えば30分〜10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び/又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン(以下、GBLと称することがある)、γ−バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N−ジメチルアセトアミド(以下、DMAcと称することがある)、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと称することがある)等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。割合(int/int)を所望の範囲に調整しやすい観点からは、使用する溶媒中の水分量を好ましくは400ppm以上、より好ましくは500ppm以上となるように調整する。なお、ポリアミドイミド樹脂の分解を抑制する観点からは、該溶媒中の水分量は、好ましくは1,000ppm以下、より好ましくは800ppm以下である。 In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350 ° C., preferably 20 to 200 ° C., and more preferably 25 to 100 ° C. From the viewpoint that the ratio (int A / int B ) can be easily adjusted to a desired range, the reaction vessel may be locally heated in some cases to adjust the reaction temperature to the above-mentioned reaction temperature. Often, the amount of acid anhydride such as acetic anhydride may be adjusted together with the amount of the imidization catalyst described below at the same time as local heating. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out under conditions of an inert atmosphere or reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and / or an atmosphere of an inert gas with stirring. The reaction is preferably carried out in a solvent inert to the reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, etc. Alcohol-based solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone (hereinafter sometimes referred to as GBL), γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether Ester solvents such as acetate and ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone and methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; ethylcyclohexane and the like. Alicyclic hydrocarbon solvent; aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene; nitrile solvent such as acetonitrile; ether solvent such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvent such as chloroform and chlorobenzene; N, N-dimethylacetamide Amid-based solvents such as (hereinafter, may be referred to as DMAc) and N, N-dimethylformamide (hereinafter, may be referred to as DMF); sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, and sulfolane; ethylene carbonate, Carbonated solvents such as propylene carbonate; and combinations thereof may be mentioned. Among these, an amide-based solvent can be preferably used from the viewpoint of solubility. From the viewpoint that the ratio (int A / int B ) can be easily adjusted to a desired range, the amount of water in the solvent used is preferably adjusted to 400 ppm or more, more preferably 500 ppm or more. From the viewpoint of suppressing the decomposition of the polyamide-imide resin, the water content in the solvent is preferably 1,000 ppm or less, more preferably 800 ppm or less.

ポリアミドイミド樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N−エチルピペリジン、N−プロピルピペリジン、N−ブチルピロリジン、N−ブチルピペリジン、及びN−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2−メチルピリジン(2−ピコリン)、3−メチルピリジン(3−ピコリン)、4−メチルピリジン(4−ピコリン)、2−エチルピリジン、3−エチルピリジン、4−エチルピリジン、2,4−ジメチルピリジン、2,4,6−トリメチルピリジン、3,4−シクロペンテノピリジン、5,6,7,8−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。割合(int/int)を所望の範囲に調整しやすい観点からは、イミド化工程における昇温速度を低くすることが好ましく、10℃から50℃までの昇温に30分以上かけることがより好ましい。 In the imidization step in the production of the polyamide-imide resin, imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst. Examples of imidization catalysts include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; N-ethylpiperidin, N-propylpiperidin, N-butylpyrrolidin, N-butylpiperidin, and N-propylhexahydro. Alicyclic amines such as azepine (monocyclic); azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2. 2] Alicyclic amines such as nonane (polycyclic); and pyridine, 2-methylpyridine (2-picolin), 3-methylpyridine (3-picolin), 4-methylpyridine (4-picolin), 2- Ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and Examples include aromatic amines such as isoquinolin. Further, from the viewpoint of easily accelerating the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in the imidization reaction, and specific examples thereof include acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride and other aliphatic acid anhydrides, and phthalic acid and other aromatics. Acid anhydride and the like can be mentioned. From the viewpoint that the ratio (int A / int B ) can be easily adjusted to a desired range, it is preferable to lower the heating rate in the imidization step, and it is possible to take 30 minutes or more to raise the temperature from 10 ° C. to 50 ° C. More preferred.

ポリアミドイミド樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により分離精製して単離してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミドイミド樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 The polyamide-imide resin may be separated and purified by a conventional method, for example, a separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, or column chromatography, or a separation means combining these, which is preferable. In the embodiment, it can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to a reaction solution containing a transparent polyamide-imide resin, precipitating the resin, and performing concentration, filtration, drying, and the like.

〔光学フィルム〕
本発明は、上記に述べた本発明のポリアミドイミド樹脂を含む光学フィルムも提供する。本発明の一実施形態において、本発明の光学フィルム中における本発明のポリアミドイミド樹脂の含有量は、光学フィルム100質量部に対して、好ましくは10質量部以上、より好ましくは30質量部以上、さらに好ましくは50質量部以上であり、好ましくは99.5質量部以下、より好ましくは95質量部以下である。ポリアミドイミド樹脂の含有量が上記範囲内であると、光学フィルムの光学特性、耐衝撃性及び弾性率を向上させやすいと共に、光学フィルムの光学特性及び機械的特性の経時的な低下を抑制しやすく、光学フィルムの品質安定性を向上させやすい。
[Optical film]
The present invention also provides an optical film containing the above-mentioned polyamide-imide resin of the present invention. In one embodiment of the present invention, the content of the polyamide-imide resin of the present invention in the optical film of the present invention is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the optical film. It is more preferably 50 parts by mass or more, preferably 99.5 parts by mass or less, and more preferably 95 parts by mass or less. When the content of the polyamide-imide resin is within the above range, it is easy to improve the optical properties, impact resistance and elastic coefficient of the optical film, and it is easy to suppress the deterioration of the optical properties and mechanical properties of the optical film with time. , It is easy to improve the quality stability of the optical film.

本発明の光学フィルムは、本発明のポリアミドイミド樹脂に加えて、少なくとも1種のフィラーを含んでよい。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられ、これらの中でも、光学フィルムの弾性率及び/又は引裂き強度を高め、耐衝撃性を向上しやすい観点から、好ましくはシリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が挙げられ、より好ましくはシリカ粒子が挙げられる。これらのフィラーは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 The optical film of the present invention may contain at least one filler in addition to the polyamide-imide resin of the present invention. Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, and preferably inorganic particles. Examples of the inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide, magnesium fluoride, and foot. Examples thereof include metal fluoride particles such as sodium oxide. Among these, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferable from the viewpoint of increasing the elasticity and / or tear strength of the optical film and easily improving the impact resistance. , And more preferably silica particles. These fillers can be used alone or in combination of two or more.

フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、さらに好ましくは11nm以上、とりわけ好ましくは13nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは90nm以下、さらに好ましくは80nm以下、さらにより好ましくは70nm以下、とりわけ好ましくは60nm以下、とりわけより好ましくは50nm以下、とりわけさらに好ましくは40nm以下である。フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、フィラー、好ましくはシリカ粒子の凝集を抑制し、得られる光学フィルムの光学特性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、BET法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡TEMや走査型電子顕微鏡SEMの画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。 The average primary particle size of the filler, preferably silica particles, is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, still more preferably 11 nm or more, particularly preferably 13 nm or more, preferably 100 nm or less, more preferably. It is 90 nm or less, more preferably 80 nm or less, even more preferably 70 nm or less, particularly preferably 60 nm or less, particularly more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 40 nm or less. When the average primary particle size of the filler, preferably silica particles, is within the above range, aggregation of the filler, preferably silica particles is suppressed, and the optical characteristics of the obtained optical film can be easily improved. The average primary particle size of the filler can be measured by the BET method. The average primary particle size may be measured by image analysis of a transmission electron microscope TEM or a scanning electron microscope SEM.

本発明の光学フィルムがフィラー、好ましくはシリカ粒子を含有する場合、フィラーの含有量は、光学フィルム100質量部に対して、通常0.1質量部以上、好ましくは1質量部以上、より好ましくは5質量部以上、さらに好ましくは10質量部以上、さらによりに好ましくは20質量部以上、とりわけ好ましくは30質量部以上であり、好ましくは60質量部以下である。フィラーの含有量が上記の下限以上であると、得られる光学フィルムの弾性率を向上しやすい。また、フィラーの含有量が上記の上限以下であると、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 When the optical film of the present invention contains a filler, preferably silica particles, the content of the filler is usually 0.1 part by mass or more, preferably 1 part by mass or more, more preferably 1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the optical film. It is 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, even more preferably 20 parts by mass or more, particularly preferably 30 parts by mass or more, and preferably 60 parts by mass or less. When the content of the filler is at least the above lower limit, the elastic modulus of the obtained optical film can be easily improved. Further, when the content of the filler is not more than the above upper limit, the optical characteristics of the optical film can be easily improved.

本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤をさらに含有してもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、400nm以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。紫外線吸収剤は単独又は二種以上を組合せて使用できる。光学フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、得られる光学フィルムを画像表示装置等に適用した場合に視認性を高めることができる。本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。 The optical film of the present invention may further contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those usually used as an ultraviolet absorber in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds. The UV absorber can be used alone or in combination of two or more. Since the optical film contains an ultraviolet absorber, deterioration of the resin is suppressed, so that visibility can be improved when the obtained optical film is applied to an image display device or the like. As used herein, the term "system compound" refers to a derivative of a compound to which the "system compound" is attached. For example, the "benzophenone-based compound" refers to a compound having benzophenone as a maternal skeleton and a substituent attached to benzophenone.

光学フィルムが紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、光学フィルム100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは2質量部以上、さらに好ましくは3質量部以上であり、好ましくは10質量部以下、より好ましくは8質量部以下、さらに好ましくは6質量部以下である。好適な含有量は用いる紫外線吸収剤により異なるが、400nmの光線透過率が20〜60%程度になるように紫外線吸収剤の含有量を調節すると、光学フィルムの耐光性が高められるとともに、透明性を高めやすい。 When the optical film contains an ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 1 part by mass or more, more preferably 2 parts by mass or more, still more preferably 3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the optical film. It is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or less, and further preferably 6 parts by mass or less. The suitable content varies depending on the UV absorber used, but if the content of the UV absorber is adjusted so that the light transmittance at 400 nm is about 20 to 60%, the light resistance of the optical film is enhanced and the transparency is improved. Easy to increase.

本発明の光学フィルムは、フィラー、紫外線吸収剤以外の他の添加剤をさらに含有していてもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、pH調整剤、シリカ分散剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等が挙げられる。他の添加剤を含有する場合、その含有量は、光学フィルム100質量部に対して、好ましくは0.001〜20質量部、より好ましくは0.01〜15質量部、さらに好ましくは0.1〜10質量部であってよい。 The optical film of the present invention may further contain additives other than fillers and ultraviolet absorbers. Other additives include, for example, antioxidants, mold release agents, stabilizers, bluing agents, flame retardants, pH regulators, silica dispersants, lubricants, thickeners, leveling agents and the like. When other additives are contained, the content thereof is preferably 0.001 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 15 parts by mass, and further preferably 0.1 with respect to 100 parts by mass of the optical film. It may be 10 parts by mass.

本発明の好ましい一態様において、上記の本発明のポリアミドイミド樹脂を含む本発明の光学フィルムは、光学特性及び機械的特性の経時的な低下を抑制しやすく、品質安定性を高めやすい観点から、温度85℃、湿度85%の条件で1週間保管する保管試験前後の重量平均分子量の変化率が、26%以下であることが好ましい。また、本発明のより好ましい一態様において、上記の本発明のポリアミドイミド樹脂を含む本発明の光学フィルムは、光学特性及び機械的特性の経時的な低下を抑制しやすく、品質安定性を高めやすい観点から、温度85℃、湿度85%の条件で1週間保管する保管試験前後の重量平均分子量の変化率が25%以下であることが好ましい。上記条件下での重量平均分子量の変化率が26%又は25%を超える場合、光学フィルム中の保管条件、光学フィルムを組み込んだ表示装置の保管条件によっては、光学フィルム中に含まれるポリアミド樹脂において何らかの反応が生じ、光学特性及び/又は機械的特性の経時的な低下がもたらされ易くなる場合があると考えられる。重量平均分子量の変化率は、より好ましくは25%以下、さらに好ましくは23%以下、さらにより好ましくは22%以下である。本発明は、光学特性及び/又は機械的特性の経時的な低下が生じにくい、温度85℃、湿度85%の条件で1週間保管する保管試験前後の重量平均分子量の変化率が好ましくは26%以下、より好ましくは25%以下である、ポリアミドイミド樹脂含有光学フィルムも提供する。上記の保管試験前後の重量平均分子量の変化率は、好ましくは26%以下、より好ましくは25%以下、さらに好ましくは23%以下、さらにより好ましくは22%以下である。なお、重量平均分子量の変化率は、例えば実施例に記載の方法により算出できる。上記の保管試験前後の重量平均分子量の変化率が好ましくは26%以下、より好ましくは25%以下である、上記のポリアミドイミド樹脂含有光学フィルムに関し、重量平均分子量の変化率を上記の上限以下にする方法は特に限定されないが、例えば、該光学フィルムに含まれるポリアミドイミド樹脂の重水素化ジメチルスルホキシド溶液を測定試料として得たH−13C HSQCスペクトルにおいて、プロトンのケミカルシフトが8.06〜8.14ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが129.6〜130.3ppmである領域(A)に存在するピークの積分値(int)と、プロトンのケミカルシフトが7.26〜7.85ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが132.4〜134.0ppmである領域(B)に存在するピークの積分値(int)との割合(int/int)を1.5%以下とする場合、重量平均分子量の変化率を上記の上限以下に調整しやすい。なお、割合(int/int)を特定の範囲以下とすることによって、重量平均分子量の変化率を特定の範囲に調整しやすいが、光学特性及び機械的特性の経時的な低下を抑制する観点では、重量平均分子量の変化率を特定の範囲とすることは必須ではなく、割合(int/int)を特定の範囲以下とすることが重要である。 In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention containing the above-mentioned polyamide-imide resin of the present invention can easily suppress deterioration of optical properties and mechanical properties over time, and can easily improve quality stability. The rate of change in the weight average molecular weight before and after the storage test in which the product is stored for one week under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% is preferably 26% or less. Further, in a more preferable aspect of the present invention, the optical film of the present invention containing the above-mentioned polyamide-imide resin of the present invention is likely to suppress deterioration of optical properties and mechanical properties over time, and is likely to enhance quality stability. From the viewpoint, it is preferable that the rate of change in the weight average molecular weight before and after the storage test of storing for one week under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% is 25% or less. When the rate of change in weight average molecular weight under the above conditions exceeds 26% or 25%, the polyamide resin contained in the optical film depends on the storage conditions in the optical film and the storage conditions of the display device incorporating the optical film. It is considered that some reaction may occur and the optical property and / or the mechanical property may be easily deteriorated with time. The rate of change in weight average molecular weight is more preferably 25% or less, even more preferably 23% or less, and even more preferably 22% or less. In the present invention, the rate of change in the weight average molecular weight before and after the storage test of storing for one week under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%, which is unlikely to cause a decrease in optical properties and / or mechanical properties over time, is preferably 26%. Hereinafter, a polyamide-imide resin-containing optical film, which is more preferably 25% or less, is also provided. The rate of change in the weight average molecular weight before and after the storage test is preferably 26% or less, more preferably 25% or less, still more preferably 23% or less, still more preferably 22% or less. The rate of change in the weight average molecular weight can be calculated by, for example, the method described in Examples. Regarding the above-mentioned polyamide-imide resin-containing optical film in which the rate of change in weight average molecular weight before and after the above storage test is preferably 26% or less, more preferably 25% or less, the rate of change in weight average molecular weight is set to the above upper limit or less. The method is not particularly limited, but for example, in the 1 H- 13 C HSQC spectrum obtained by using a dehydrohydride dimethyl sulfoxide solution of the polyamide-imide resin contained in the optical film as a measurement sample, the chemical shift of protons is 8.06 to The integrated value (int A ) of the peak existing in the region (A) where the chemical shift of carbon is 12.14 ppm and the chemical shift of carbon is 129.6 to 130.3 ppm, and the chemical shift of protons are 7.26 to 7. is 85 ppm, and the integral value of the peak carbon chemical shift is present in the region (B) is a 132.4~134.0ppm the proportion between the (int B) (int a / int B) 1.5% In the following cases, it is easy to adjust the rate of change in weight average molecular weight to the above upper limit or less. By setting the ratio (int A / int B ) to a specific range or less, the rate of change in the weight average molecular weight can be easily adjusted to a specific range, but the decrease in optical properties and mechanical properties over time is suppressed. From the viewpoint, it is not essential to set the rate of change of the weight average molecular weight within a specific range, and it is important to keep the ratio (int A / int B) below the specific range.

本発明の光学フィルムの弾性率は、光学フィルムのシワや傷付き等を防止しやすい観点から、好ましくは4.5GPa以上、より好ましくは4.8GPa以上、さらに好ましくは5.0GPa以上、さらにより好ましくは5.1GPa以上、とりわけ好ましくは5.2GPa以上であり、通常100GPa以下である。なお、弾性率は、引張試験機(チャック間距離50mm、引張速度10mm/分)を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The elastic modulus of the optical film of the present invention is preferably 4.5 GPa or more, more preferably 4.8 GPa or more, still more preferably 5.0 GPa or more, and even more, from the viewpoint of easily preventing wrinkles and scratches of the optical film. It is preferably 5.1 GPa or more, particularly preferably 5.2 GPa or more, and usually 100 GPa or less. The elastic modulus can be measured using a tensile tester (distance between chucks 50 mm, tensile speed 10 mm / min), for example, by the method described in Examples.

本発明の光学フィルムの全光線透過率(以下、Ttと略すことがある)は、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは88%以上、さらにより好ましくは89%以上、とりわけ好ましくは90%以上であり、通常100%以下である。全光線透過率が上記の下限以上であると、光学フィルムを、前面板として、表示装置に組み込んだ際に視認性を高めやすい。本発明の光学フィルムは通常、高い全光線透過率を示すので、例えば、透過率の低いフィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを得るために必要な表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。例えば、本発明の光学フィルムを表示装置に組みこむ場合、バックライトの光量を減らしても明るい表示を得られる傾向があり、エネルギーの節約に貢献できる。なお、全光線透過率は、例えばJIS K 7361−1:1997に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。全光線透過率は、後述する光学フィルムの厚さの範囲における全光線透過率であってよい。なお、本明細書において、光学フィルムが光学特性に優れるとは、全光線透過率が高いこと及び/又はヘーズが低いこと、及び/又はYIが低いことを意味する。 The total light transmittance (hereinafter, may be abbreviated as Tt) of the optical film of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 88% or more, still more preferably 89% or more. Particularly preferably, it is 90% or more, and usually 100% or less. When the total light transmittance is equal to or higher than the above lower limit, it is easy to improve the visibility when the optical film is incorporated into the display device as the front plate. Since the optical film of the present invention usually exhibits a high total light transmittance, the emission intensity of a display element or the like required to obtain a constant brightness is suppressed as compared with the case where a film having a low transmittance is used, for example. It becomes possible. Therefore, power consumption can be reduced. For example, when the optical film of the present invention is incorporated into a display device, a bright display tends to be obtained even if the amount of light from the backlight is reduced, which can contribute to energy saving. The total light transmittance can be measured using a haze computer in accordance with, for example, JIS K 7361-1: 1997. The total light transmittance may be the total light transmittance in the range of the thickness of the optical film described later. In the present specification, when the optical film is excellent in optical characteristics, it means that the total light transmittance is high and / or the haze is low and / or the YI is low.

本発明の光学フィルムのヘーズは、好ましくは5%以下、より好ましくは4%以下、さらに好ましくは3%以下、さらにより好ましくは2.5%以下、とりわけ好ましくは2%以下、とりわけより好ましくは1%以下、とりわけさらに好ましくは0.5%以下であり、通常0.01%以上である。光学フィルムのヘーズが上記の上限以下であると、光学フィルムを、前面板として、表示装置に組み込んだ際に、視認性を高めやすい。なお、ヘーズは、JIS K 7136:2000に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。 The haze of the optical film of the present invention is preferably 5% or less, more preferably 4% or less, still more preferably 3% or less, even more preferably 2.5% or less, particularly preferably 2% or less, and particularly more preferably. It is 1% or less, more preferably 0.5% or less, and usually 0.01% or more. When the haze of the optical film is not more than the above upper limit, it is easy to improve the visibility when the optical film is incorporated into the display device as the front plate. The haze can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7136: 2000.

本発明の光学フィルムのYI値は、好ましくは3.0以下、より好ましくは2.0以下、さらに好ましくは1.9以下、とりわけ好ましくは1.8以下であり、通常−5以上であり、好ましくは−2以上である。光学フィルムのYI値が上記の上限以下であると、透明性が良好となり、表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。なおYI値は、品質安定性を高める観点から、温度85℃、湿度85%の条件で1週間保管した後も前記範囲内であることが好ましい。このYI値は紫外可視近赤外分光光度計を用いて300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Yの式に基づいて算出できる。なお、光学フィルムは、温度85℃、湿度85%の条件で1週間保管する保管試験後においても、上記の範囲のYI値を有することが好ましい。 The YI value of the optical film of the present invention is preferably 3.0 or less, more preferably 2.0 or less, still more preferably 1.9 or less, particularly preferably 1.8 or less, and usually -5 or more. It is preferably -2 or more. When the YI value of the optical film is not more than the above upper limit, the transparency becomes good, and when it is used for the front plate of the display device, it can contribute to high visibility. From the viewpoint of enhancing quality stability, the YI value is preferably within the above range even after being stored for one week under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%. This YI value is measured by measuring the transmittance for light of 300 to 800 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer, and the tristimulus values (X, Y, Z) are obtained, and YI = 100 × (1.2769X-1). It can be calculated based on the formula of .0592Z) / Y. The optical film preferably has a YI value in the above range even after a storage test in which the optical film is stored at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% for one week.

本発明の光学フィルムの厚さは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、さらに好ましくは25μm以上、とりわけ好ましくは30μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下、さらに好ましくは80μm以下、とりわけ好ましくは60μm以下であり、厚さの範囲はこれらの上限と下限との組合せであってよい。光学フィルムの厚さが上記の範囲内であると、光学フィルムの弾性率をより高めやすい。なお、光学フィルムの厚さは、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The thickness of the optical film of the present invention is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, further preferably 25 μm or more, particularly preferably 30 μm or more, preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 80 μm. Hereinafter, it is particularly preferably 60 μm or less, and the thickness range may be a combination of these upper and lower limits. When the thickness of the optical film is within the above range, the elastic modulus of the optical film is likely to be increased. The thickness of the optical film can be measured using a micrometer, for example, by the method described in Examples.

本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面の鉛筆硬度は、好ましくはHB以上、より好ましくはF以上である。光学フィルムの少なくとも一方の面の鉛筆硬度が上記の硬度以上である場合、光学フィルムの該表面における傷等を防止しやすい。なお、鉛筆硬度は、JIS K 5600−5−4:1999に準拠して測定できる。 The pencil hardness of at least one surface of the optical film of the present invention is preferably HB or higher, more preferably F or higher. When the pencil hardness of at least one surface of the optical film is equal to or higher than the above hardness, it is easy to prevent scratches or the like on the surface of the optical film. The pencil hardness can be measured according to JIS K 5600-5-4: 1999.

本発明の光学フィルムは、優れた耐屈曲性を有する。本発明の光学フィルムのASTM規格D2176−16に準拠したMIT耐折疲労試験における耐屈曲回数は、好ましくは50,000回以上、より好ましくは60,000回以上、さらに好ましくは70,000回以上である。耐屈曲回数が上記の下限以上であると、フレキシブルディスプレイ等の前面板材料として使用する際の屈曲による傷つき等を防止することができる。なお、MIT耐折疲労試験は、MIT耐折疲労試験機を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。なお、光学フィルムは、温度85℃、湿度85%の条件で1週間保管する保管試験後においても、好ましくは35,000回以上、より好ましくは40,000回以上、さらに好ましくは50,000回以上の上記耐屈曲回数を満たすことが好ましい。 The optical film of the present invention has excellent bending resistance. The number of bending resistances of the optical film of the present invention in the MIT folding fatigue resistance test according to ASTM standard D2176-16 is preferably 50,000 times or more, more preferably 60,000 times or more, still more preferably 70,000 times or more. Is. When the bending resistance is not more than the above lower limit, it is possible to prevent scratches due to bending when used as a front plate material for a flexible display or the like. The MIT fold resistance fatigue test can be measured using a MIT fold resistance fatigue tester, for example, by the method described in Examples. The optical film is preferably stored 35,000 times or more, more preferably 40,000 times or more, and further preferably 50,000 times even after a storage test in which the optical film is stored at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% for one week. It is preferable to satisfy the above bending resistance times.

本発明の光学フィルムは、光学特性及び機械的特性の経時的な低下が抑制された品質安定性に優れる光学フィルムである。具体的には、光学フィルムを温度85℃、相対湿度85%の環境下に1週間保管し、保管試験前の光学フィルムの耐屈曲回数(N1)と、保管試験後の光学フィルムの耐屈曲回数(N2)を、それぞれ温度25℃湿度50%に24時間以上静置後、MIT耐折疲労試験機を用いて、例えば実施例に記載の条件で測定する。得られた耐屈曲回数から、次の式:
耐屈曲回数の変化率(%)={(N1−N2)/N1}×100
により算出される耐屈曲回数の変化率(%)は、小さければ小さい程よいが、好ましくは40%以下、より好ましくは35%以下、さらに好ましくは30%以下、さらにより好ましくは25%以下、とりわけ好ましくは20%以下である。
The optical film of the present invention is an optical film having excellent quality stability in which deterioration of optical properties and mechanical properties with time is suppressed. Specifically, the optical film is stored in an environment of a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% for one week, and the number of times the optical film is bent (N1) before the storage test and the number of times the optical film is bent after the storage test. (N2) is allowed to stand at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50% for 24 hours or more, and then measured using a MIT folding fatigue tester under the conditions described in, for example, Examples. From the obtained number of bending resistances, the following formula:
Rate of change in bending resistance (%) = {(N1-N2) / N1} x 100
The smaller the rate of change (%) of the bending resistance calculated by the above, the smaller the better, but it is preferably 40% or less, more preferably 35% or less, still more preferably 30% or less, still more preferably 25% or less, in particular. It is preferably 20% or less.

また、上記の保管試験前の光学フィルのYI値(Y1)と、保管試験後の光学フィルムのYI値(Y2)を、紫外可視近赤外分光光度計を用い、例えば実施例に記載の方法で算出する。得られたYI値から、次の式:
YI値の変化率(%)={(Y2−Y1)/Y1}×100
に従い算出されるYI値の変化率(%)は、小さければ小さい程よいが、好ましくは25%以下、より好ましくは20%以下、さらに好ましくは15%以下である。
Further, the YI value (Y1) of the optical fill before the storage test and the YI value (Y2) of the optical film after the storage test are measured by using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer, for example, the method described in Examples. Calculate with. From the obtained YI value, the following formula:
Rate of change of YI value (%) = {(Y2-Y1) / Y1} × 100
The smaller the rate of change (%) of the YI value calculated according to the above, the smaller the better, but it is preferably 25% or less, more preferably 20% or less, and further preferably 15% or less.

〔光学フィルムの製造方法〕
本発明の光学フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)前記ポリアミドイミド樹脂と溶媒とを少なくとも含む樹脂組成物(以下において、「ワニス」とも称する)を調製する工程(ワニス調製工程)、
(b)ワニスを支持材に塗布して塗膜を形成する工程(塗布工程)、及び
(c)前記塗膜を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程(光学フィルム形成工程)
を少なくとも含む製造方法であってよい。
[Manufacturing method of optical film]
The method for producing the optical film of the present invention is not particularly limited, but for example, the following steps:
(A) A step (varnish preparation step) of preparing a resin composition (hereinafter, also referred to as "varnish") containing at least the polyamide-imide resin and a solvent.
(B) A step of applying varnish to a support material to form a coating film (coating step), and (c) a step of drying the coating film to form an optical film (optical film forming step).
It may be a manufacturing method including at least.

ワニス調製工程において、ポリアミドイミド樹脂を溶媒に溶解させ、必要に応じて、前記フィラー、紫外線吸収剤等の添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。なお、フィラーとしてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子を含むシリカゾルの分散液を、前記樹脂が溶解可能な溶媒、例えば下記のワニスの調製に用いられる溶媒で置換したシリカゾルを樹脂に添加してもよい。 In the varnish preparation step, the polyamide-imide resin is dissolved in a solvent, and if necessary, additives such as the filler and the ultraviolet absorber are added and mixed by stirring to prepare the varnish. When silica particles are used as the filler, a silica sol in which the dispersion liquid of the silica sol containing the silica particles is replaced with a solvent in which the resin can be dissolved, for example, a solvent used for preparing the following varnish may be added to the resin. ..

ワニスの調製に用いる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばDMAc、DMF等のアミド系溶媒;GBL、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは1〜25質量%、より好ましくは5〜20質量%、さらに好ましくは5〜15質量%である。 The solvent used for preparing the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. Examples of such a solvent include amide solvents such as DMAc and DMF; lactone solvents such as GBL and γ-valerolactone; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfoxide and sulfolane; and carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate. Solvents; and combinations thereof. Among these, an amide solvent or a lactone solvent is preferable. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Further, the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and further preferably 5 to 15% by mass.

塗布工程において、公知の塗布方法により、支持材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。 In the coating step, a varnish is applied onto the support material by a known coating method to form a coating film. Known coating methods include, for example, wire bar coating method, reverse coating, roll coating method such as gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, dipping method, and the like. Examples include a spray method and a salivation molding method.

フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、支持材から剥離することによって、光学フィルムを形成することができる。剥離後にさらに光学フィルムを乾燥する工程を設けてもよい。塗膜の乾燥は、通常50〜350℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。 In the film forming step, an optical film can be formed by drying the coating film and peeling it from the support material. A step of further drying the optical film after peeling may be provided. The coating film can be dried at a temperature of usually 50 to 350 ° C. If necessary, the coating film may be dried under an inert atmosphere or under reduced pressure conditions.

支持材の例としては、金属系であればSUS板、樹脂系であればPETフィルム、PENフィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、他のポリイミド系樹脂フィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム、アクリル系フィルム等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点から、PETフィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、PETフィルムがより好ましい。 Examples of the support material include a SUS plate for a metal-based material, a PET film, a PEN film, a polyamide-based resin film for a resin-based material, another polyimide-based resin film, a cycloolefin-based polymer film, an acrylic-based film, and the like. Be done. Among them, a PET film, a cycloolefin-based polymer film and the like are preferable from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, and a PET film is more preferable from the viewpoint of adhesion to an optical film and cost.

本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してよい。本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、本発明の光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。なお、光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めて光学フィルムと称する。 The use of the optical film of the present invention is not particularly limited, and it may be used for various purposes. The optical film of the present invention may be a single layer or a laminated body, the optical film of the present invention may be used as it is, or may be used as a laminated body with another film. .. When the optical film is a laminated body, it is referred to as an optical film including all the layers laminated on one side or both sides of the optical film.

(機能層)
本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面には、1以上の機能層が積層されていてもよい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上を組合せて使用できる。
(Functional layer)
One or more functional layers may be laminated on at least one surface of the optical film of the present invention. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer, and a refractive index adjusting layer. The functional layer can be used alone or in combination of two or more.

本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面には、ハードコート層が設けられていてもよい。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、2〜100μmであってもよい。前記ハードコート層の厚さが前記の範囲にあると、耐衝撃性をより高めることができると共に、耐屈曲性が低下しにくく、硬化収縮によるカール発生の問題が発生し難い傾向がある。ハードコート層は、活性エネルギー線照射、或いは熱エネルギー付与により架橋構造を形成し得る反応性材料を含むハードコート組成物を硬化させて形成することができ、活性エネルギー線照射によるものが好ましい。活性エネルギー線は、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義され、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線などが挙げられ、好ましくは紫外線が挙げられる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する。 A hard coat layer may be provided on at least one surface of the optical film of the present invention. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited and may be, for example, 2 to 100 μm. When the thickness of the hard coat layer is within the above range, the impact resistance can be further enhanced, the bending resistance is less likely to be lowered, and the problem of curl generation due to curing shrinkage tends to be less likely to occur. The hard coat layer can be formed by curing a hard coat composition containing a reactive material capable of forming a crosslinked structure by irradiation with active energy rays or by applying thermal energy, and is preferably formed by irradiation with active energy rays. Active energy rays are defined as energy rays that can generate active species by decomposing compounds that generate active species, and are visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and electron beams. And the like, preferably ultraviolet rays. The hard coat composition contains at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound.

前記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素‐炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上である。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、好ましくは(メタ)アクリロイル基を有する化合物が挙げられ、具体的には1分子中に2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートと称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーが挙げられ、好ましくはエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート及びポリエステル(メタ)アクリレートから選択された1種以上が挙げられる。 The radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group. The radically polymerizable group contained in the radically polymerizable compound may be a functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specifically, a vinyl group. , (Meta) acryloyl group and the like. When the radically polymerizable compound has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be the same or different from each other. The number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably 2 or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer. Examples of the radically polymerizable compound include compounds having a (meth) acryloyl group, preferably from the viewpoint of high reactivity, and specifically, 2 to 6 (meth) acryloyl groups in one molecule. Compounds called polyfunctional acrylate monomers and epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates have a molecular weight of several hundreds of (meth) acryloyl groups in the molecule. Thousands of oligomers are mentioned, preferably one or more selected from epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates and polyester (meth) acrylates.

前記カチオン重合性化合物は、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が1分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上であり、より好ましくは3以上である。
また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
The cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group such as an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group. The number of cationically polymerizable groups contained in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
Further, as the cationically polymerizable compound, a compound having at least one of an epoxy group and an oxetanyl group as the cationically polymerizable group is preferable. A cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetanyl group is preferable because the shrinkage associated with the polymerization reaction is small. Further, among the cyclic ether groups, compounds having an epoxy group are easily available, compounds having various structures are easily available, the durability of the obtained hard coat layer is not adversely affected, and compatibility with radically polymerizable compounds is easily controlled. There is an advantage. Further, among the cyclic ether groups, the oxetanyl group tends to have a higher degree of polymerization than the epoxy group and has low toxicity, accelerates the network formation rate obtained from the cationically polymerizable compound of the obtained hard coat layer, and is a radical. Even in the region mixed with the polymerizable compound, there are advantages such as forming an independent network without leaving unreacted monomers in the film.
Examples of the cationically polymerizable compound having an epoxy group include polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring, or a cyclohexene ring or cyclopentene ring-containing compound with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Alicyclic epoxy resin obtained by epoxidation; polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or its alkylene oxide adduct, polyglycidyl ester of aliphatic long chain polybasic acid, homopolymer of glycidyl (meth) acrylate, An aliphatic epoxy resin such as a copolymer; a glycidyl ether produced by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and hydrogenated bisphenol A, or derivatives such as their alkylene oxide adducts and caprolactone adducts with epichlorohydrin. And novolak epoxy resin and the like, and glycidyl ether type epoxy resin derived from bisphenols and the like can be mentioned.

前記ハードコート組成物は重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるType1型ラジカル重合開始剤と、3級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するType2型ラジカル重合開始剤があり、それらは単独で又は併用して使用される。
カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄(II)錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれかあるいはいずれでもカチオン重合を開始することができる。
The hard coat composition may further contain a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical and a cationic polymerization initiator, and the like, which are appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of activation energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization.
The radical polymerization initiator may be any as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by at least one of irradiation with active energy rays and heating. For example, examples of the thermal radical polymerization initiator include organic peroxides such as hydrogen peroxide and perbenzoic acid, and azo compounds such as azobisbutyronitrile.
Active energy ray radical polymerization initiators include Type 1 radical polymerization initiators, which generate radicals by decomposition of molecules, and Type 2 radical polymerization initiators, which coexist with tertiary amines and generate radicals by hydrogen abstraction type reaction. Yes, they are used alone or in combination.
The cationic polymerization initiator may be any one as long as it can release a substance that initiates cationic polymerization by at least one of activation energy ray irradiation and heating. As the cationic polymerization initiator, an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, a cyclopentadienyl iron (II) complex and the like can be used. These can initiate cationic polymerization by either irradiation with active energy rays or heating, depending on the structure.

前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体100質量%に対して好ましくは0.1〜10質量%を含むことができる。前記重合開始剤の含量が前記の範囲にあると、硬化を十分に進行させることができ、最終的に得られる塗膜の機械的物性や密着力を良好な範囲とすることができ、また、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生し難くなる傾向がある。 The polymerization initiator can preferably contain 0.1 to 10% by mass based on 100% by mass of the entire hard coat composition. When the content of the polymerization initiator is in the above range, curing can proceed sufficiently, and the mechanical properties and adhesive strength of the finally obtained coating film can be in a good range. Poor adhesive strength due to curing shrinkage, cracking phenomenon, and curling phenomenon tend to be less likely to occur.

前記ハードコート組成物は、溶剤及び添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。
前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られている溶剤であれば、本発明の効果を阻害しない範囲で、使用することができる。
前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。
The hard coat composition may further comprise one or more selected from the group consisting of solvents and additives.
The solvent can dissolve or disperse the polymerizable compound and the polymerization initiator, and any solvent known as a solvent for hard coat compositions in the present art does not impair the effects of the present invention. In the range, it can be used.
The additive may further contain inorganic particles, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, an antistatic agent, a lubricant, an antifouling agent and the like.

紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。 The ultraviolet absorbing layer is a layer having an ultraviolet absorbing function. For example, a main material selected from an ultraviolet curable transparent resin, an electron beam curable transparent resin, and a thermosetting transparent resin, and the main material thereof. It is composed of a dispersed ultraviolet absorber.

粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。 The adhesive layer is a layer having an adhesive function, and has a function of adhering an optical film to another member. As a material for forming the adhesive layer, a commonly known material can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy after the fact.

粘着層は、感圧型接着剤(Pressure Sensitive Adhesive、PSAと称されることがある)と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」(JIS K 6800)である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜(マイクロカプセル)に内容し、圧力や熱等の適当な手段によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」(JIS K 6800に規定)であるカプセル型接着剤であってもよい。 The adhesive layer may be a layer called a pressure-sensitive adhesive (sometimes referred to as Pressure Sensitive Adhesive, PSA), which is attached to an object by pressing. The pressure-sensitive adhesive may be an adhesive that is "a substance that has adhesiveness at room temperature and adheres to an adherend with a light pressure" (JIS K 6800), and "protects a specific component (microcapsules). ), It may be a capsule type adhesive which is "an adhesive which can maintain stability until the film is broken by an appropriate means such as pressure or heat" (specified in JIS K 6800).

色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学フィルムを含む積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料;アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料;硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料;並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。 The hue adjusting layer is a layer having a hue adjusting function, and is a layer capable of adjusting a laminate containing an optical film to a desired hue. The hue adjusting layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of this colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, petals, titanium oxide-based calcined pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; azo compounds, quinacridone compounds, anthracinone compounds, and the like. Organic pigments such as perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, slene compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and basic dyes, Examples thereof include dyes such as acidic dyes and medium dyes.

屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、0.1μm以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を0.1μm以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。 The refractive index adjusting layer is a layer having a function of adjusting the refractive index, for example, a layer having a refractive index different from that of an optical film and capable of imparting a predetermined refractive index to the optical laminate. The refractive index adjusting layer may be, for example, a resin layer appropriately selected and, in some cases, a resin layer further containing a pigment, or a thin film of metal. Examples of the pigment for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide and tantalum oxide. The average primary particle size of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle size of the pigment to 0.1 μm or less, diffuse reflection of light transmitted through the refractive index adjusting layer can be prevented, and deterioration of transparency can be prevented. Examples of the metal used for the refractive index adjusting layer include metals such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. Oxides or metal nitrides can be mentioned.

本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、例えば上記のようにして製造される光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。 The optical film of the present invention may be a single layer or a laminated body. For example, the optical film produced as described above may be used as it is, or a laminated body with another film. May be used as.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学フィルムは、画像表示装置の前面板、中でもフレキシブル表示装置の前面板(以下、ウィンドウフィルムと称することがある)、ローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイの前面板として非常に有用である。フレキシブル表示装置は、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブル表示装置の前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層、例えばフレキシブルディスプレイ内の画像表示素子を保護する機能を有する。なお、フレキシブル表示装置とは、画像表示装置を繰り返し折り曲げる、繰り返し巻く等の操作を伴い使用される表示装置である。このような繰り返しの折り曲げ操作等を伴い使用されるフレキシブル表示装置の前面板には高い耐屈曲性が求められる。また、前面板には、高い視認性も求められる。画像表示装置の内部で使用される画像表示装置の基板用のフィルムと比較して、画像表示装置の前面板、特にフレキシブル表示装置の前面板用のフィルムには、高い視認性が求められると共に、高い耐屈曲性が求められる。例えば、本発明のフィルムは、フレキシブル表示装置の前面板用に用いる場合の視認性を高めやすい観点から、上記に記載したような全光線透過率、ヘーズ及び/又はYI値を有することが好ましく、また、フレキシブル表示装置の前面板として用いる場合の耐屈曲性を高めやすい観点から、上記に記載したようなMIT耐折疲労試験における耐屈曲回数を満たすことが好ましい。 In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention is a front plate of an image display device, particularly a front plate of a flexible display device (hereinafter, may be referred to as a window film), a rollable display or a foldable display. Very useful as a front plate. The flexible display device has, for example, a flexible functional layer and an optical film that is superposed on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible display device is arranged on the visual side on the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting a flexible functional layer, for example, an image display element in a flexible display. The flexible display device is a display device that is used with operations such as repeatedly bending and repeatedly winding the image display device. High bending resistance is required for the front plate of a flexible display device used with such repeated bending operations. The front plate is also required to have high visibility. Compared with the film for the substrate of the image display device used inside the image display device, the front plate of the image display device, particularly the film for the front plate of the flexible display device, is required to have high visibility and high visibility. High bending resistance is required. For example, the film of the present invention preferably has the total light transmittance, haze and / or YI value as described above from the viewpoint of easily enhancing visibility when used for the front plate of a flexible display device. Further, from the viewpoint of easily increasing the bending resistance when used as the front plate of the flexible display device, it is preferable to satisfy the bending resistance number of times in the MIT folding resistance test as described above.

画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブル表示装置としては、フレキシブル特性を有する全ての画像表示装置が挙げられ、例えば上記のようなローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイが挙げられる。ローラブルディスプレイとは、前面板を含む画像表示部分がロール状に巻き取られており、該画像表示部分を引き出して平面又は曲面にした状態で使用される画像表示装置であり、ロール状に巻き取る等の操作が使用の度に行われるような画像表示装置である。また、フォルダブルディスプレイとは、前面板を含む画像表示部分が折り曲げられており、該画像表示部分を開いて平面又は曲面にした状態で使用される画像表示装置であり、折り曲げ等の操作が使用の度に行われるような画像表示装置である。このような巻き取り、折り曲げ等の操作が繰り返し行われる画像表示装置をフレキシブル画像表示装置と称する。 Examples of the image display device include wearable devices such as televisions, smartphones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game machines, electronic papers, indicators, bulletin boards, watches, and smart watches. Examples of the flexible display device include all image display devices having flexible characteristics, and examples thereof include the rollable display and the foldable display as described above. The rollable display is an image display device in which an image display portion including a front plate is wound in a roll shape, and the image display portion is pulled out to form a flat surface or a curved surface, and is wound in a roll shape. It is an image display device in which operations such as taking are performed each time it is used. A foldable display is an image display device in which an image display portion including a front plate is bent and is used in a state where the image display portion is opened to form a flat surface or a curved surface, and an operation such as folding is used. It is an image display device that is performed every time. An image display device in which such operations such as winding and bending are repeatedly performed is referred to as a flexible image display device.

[フレキシブル表示装置]
本発明は、本発明の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置も提供する。本発明の光学フィルムは、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いられる。フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機EL表示パネルとからなり、有機EL表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体は、本発明の光学フィルムであるウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサ又はウィンドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、ウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
[Flexible display device]
The present invention also provides a flexible display device including the optical film of the present invention. The optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device. The flexible display device includes a laminated body for a flexible display device and an organic EL display panel, and the laminated body for the flexible display device is arranged on the visual side with respect to the organic EL display panel and is configured to be bendable. The laminated body for a flexible display device may contain a window film, a polarizing plate, and a touch sensor, which are the optical films of the present invention, and the stacking order thereof is arbitrary, but from the visual side, the window film, the polarizing plate, and the polarizing plate, It is preferable that the touch sensor or window film, the touch sensor, and the polarizing plate are laminated in this order. The presence of the polarizing plate on the visual side of the touch sensor is preferable because the pattern of the touch sensor is less likely to be visually recognized and the visibility of the displayed image is improved. Each member can be laminated using an adhesive, an adhesive, or the like. Further, a light-shielding pattern formed on at least one surface of any layer of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor can be provided.

[偏光板]
本発明のフレキシブル表示装置は、偏光板、好ましくは円偏光板をさらに備えていてもよい。円偏光板は、直線偏光板にλ/4位相差板を積層することにより右円偏光成分又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ELパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ELの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ/4位相差板の遅相軸は理論上45°である必要があるが、実用的には45±10°である。直線偏光板とλ/4位相差板とは必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ/4位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
[Polarizer]
The flexible display device of the present invention may further include a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate. The circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only a right circularly polarized light component or a left circularly polarized light component by laminating a λ / 4 retardation plate on a linear polarizing plate. For example, the external light is converted to right-handed circularly polarized light and reflected by the organic EL panel to block the left-handed circularly polarized light, and only the light emitting component of the organic EL is transmitted to suppress the influence of the reflected light. It is used to make it easier to see. In order to achieve the circularly polarized light function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ / 4 retardation plate need to be theoretically 45 °, but practically, they are 45 ± 10 °. The linear polarizing plate and the λ / 4 retardation plate do not necessarily have to be laminated adjacent to each other, and the relationship between the absorption axis and the slow phase axis may satisfy the above range. It is preferable to achieve perfect circularly polarized light at all wavelengths, but it is not always necessary in practical use. Therefore, the circularly polarizing plate in the present invention also includes an elliptical polarizing plate. It is also preferable to further laminate a λ / 4 retardation film on the visible side of the linear polarizing plate to convert the emitted light into circularly polarized light to improve the visibility when wearing polarized sunglasses.

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは0.5〜100μmである。厚さが前記の範囲にあると柔軟性が低下し難い傾向にある。
前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール(以下、PVAと略すことがある)系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したPVA系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はPVAに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はPVA系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるPVA系フィルムの厚さは好ましくは10〜100μmであり、延伸倍率は好ましくは2〜10倍である。
さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子であってもよい。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は液晶状態を示す性質を有していればよく、スメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は重合性官能基を有していることも好ましい。
The linear polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting light vibrating in the transmission axis direction but blocking polarization of a vibration component perpendicular to the linear polarizing plate. The linear polarizing plate may be configured to include a linear polarizing element alone or a linear polarizing element and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, preferably 0.5 to 100 μm. If the thickness is within the above range, the flexibility tends to be difficult to decrease.
The linear polarizer may be a film-type polarizer produced by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter, may be abbreviated as PVA) -based film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed on the PVA-based film oriented by stretching, or the dichroic dye is oriented in a state of being adsorbed on the PVA to exhibit polarization performance. In the production of the film-type polarizer, other steps such as swelling, cross-linking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be included. The stretching and dyeing steps may be performed on the PVA-based film alone, or may be performed in a state of being laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 μm, and the draw ratio is preferably 2 to 10 times.
Further, as another example of the polarizer, a liquid crystal coating type polarizer formed by coating a liquid crystal polarizing composition may be used. The liquid crystal polarizing composition may contain a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystal compound may have a property of exhibiting a liquid crystal state, and it is preferable that the liquid crystal compound has a higher-order orientation state such as a smectic phase because it can exhibit high polarization performance. It is also preferable that the liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

前記二色性色素は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、二色性色素自身が液晶性を有していてもよいし、重合性官能基を有していることもできる。液晶偏光組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。
前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。
液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは0.5〜10μm、より好ましくは1〜5μmであってもよい。
The dichroic dye is a dye that is oriented together with the liquid crystal compound to exhibit dichroism, and the dichroic dye itself may have liquid crystal properties or has a polymerizable functional group. You can also do it. Any compound in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group.
The liquid crystal polarizing composition can further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a cross-linking agent, a silane coupling agent and the like.
The liquid crystal polarizing layer is manufactured by applying a liquid crystal polarizing composition on an alignment film to form a liquid crystal polarizing layer.
The liquid crystal polarizing layer can be formed to be thinner than the film-type polarizing element. The thickness of the liquid crystal polarizing layer may be preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.

前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することで製造することができる。前記配向膜形成組成物は、配向剤の他に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類を使用できる。光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量が10,000〜1,000,000程度であってもよい。前記配向膜の厚さは、配向規制力の観点から、好ましくは5〜10,000nm、より好ましは10〜500nmである。前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウィンドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。 The alignment film can be produced, for example, by applying an alignment film forming composition on a substrate and imparting orientation by rubbing, polarized light irradiation, or the like. The alignment film forming composition may contain a solvent, a cross-linking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent, and the like in addition to the alignment agent. As the alignment agent, for example, polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides can be used. When applying photo-orientation, it is preferable to use an orientation agent containing a synnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the alignment agent may be about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of orientation regulating force. The liquid crystal polarizing layer can be peeled off from the base material, transferred and laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, and a window film.

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく、具体的には、用いられる高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の(変性)セルロース類、メチルメタクリレート(共)重合体等のアクリル類、スチレン(共)重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などのフィルムが挙げられ、透明性及び耐熱性に優れる点で、好ましくはポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエステル、オレフィン、アクリル又はセルロース系のフィルムが挙げられる。これらの高分子はそれぞれ単独又は2種以上混合して使用することができる。これらのフィルムは未延伸のまま、あるいは1軸又は2軸延伸したフィルムとして使用される。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記保護フィルムの厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは1〜100μmである。前記保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、保護フィルムの柔軟性が低下し難い。 The protective film may be a transparent polymer film, and specifically, the polymer film used has a unit of a monomer containing polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, norbornene or cycloolefin. Polyolefins such as cycloolefin derivatives, (modified) celluloses such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, propionyl cellulose, acrylics such as methyl methacrylate (co) polymer, polystyrenes such as styrene (co) polymer, acrylonitrile -Butadiene-styrene copolymers, acrylonitrile-styrene copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers, polyvinyl chlorides, polyvinylidene chlorides, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, poly Films such as polyesters such as allylate, polyamides such as nylon, polyimides, polyamideimides, polyetherimides, polyethersulfones, polysulfones, polyvinyl alcohols, polyvinylacetals, polyurethanes, epoxy resins, etc. In terms of excellent transparency and heat resistance, preferred examples include polyamide, polyamideimide, polyimide, polyester, olefin, acrylic or cellulose-based films. Each of these polymers can be used alone or in combination of two or more. These films are used unstretched or as uniaxially or biaxially stretched films. Cellulose-based films, olefin-based films, acrylic films, and polyester-based films are preferable. It may be a coating type protective film obtained by applying a cationic curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as acrylate and curing the film. If necessary, plasticizers, UV absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc. May include. The thickness of the protective film may be 200 μm or less, preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the protective film is within the above range, the flexibility of the protective film is unlikely to decrease.

前記λ/4位相差板は、入射光の進行方向に直交する方向、言い換えるとフィルムの面内方向にλ/4の位相差を与えるフィルムである。前記λ/4位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記延伸型位相差板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは1〜100μmである。厚さが前記の範囲にあるとフィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。
さらに前記λ/4位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板であってもよい。前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す性質を有する液晶性化合物を含む。液晶組成物の中の液晶性化合物を含むいずれかの化合物は重合性官能基を有している。前記液晶塗布型位相差板はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層での記載と同様に配向膜上に液晶組成物を塗布硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、通常0.5〜10μm、好ましくは1〜5μmであってもよい。前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウィンドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
The λ / 4 retardation plate is a film that gives a λ / 4 phase difference in a direction orthogonal to the traveling direction of incident light, in other words, in the in-plane direction of the film. The λ / 4 retardation plate may be a stretch-type retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film. Phase difference adjusters, plasticizers, UV absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antioxidants, antioxidants as needed , Lubricants, solvents and the like may be contained. The thickness of the stretchable retardation plate may be 200 μm or less, preferably 1 to 100 μm. When the thickness is in the above range, the flexibility of the film tends to be difficult to decrease.
Further, as another example of the λ / 4 retardation plate, a liquid crystal coating type retardation plate formed by coating a liquid crystal composition may be used. The liquid crystal composition contains a liquid crystal compound having a property of exhibiting a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, and smectic. Any compound, including the liquid crystal compound in the liquid crystal composition, has a polymerizable functional group. The liquid crystal coating type retardation plate can further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a cross-linking agent, a silane coupling agent, and the like. The liquid crystal coating type retardation plate can be manufactured by coating and curing a liquid crystal composition on an alignment film to form a liquid crystal retardation layer in the same manner as described in the liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal coating type retardation plate can be formed to be thinner than the stretch type retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer may be usually 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. The liquid crystal coating type retardation plate can be peeled off from the base material, transferred and laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, and a window film.

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく、長波長ほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ/4の位相差を達成することはできないので、視感度の高い560nm付近に対してλ/4となるような面内位相差、すなわち100〜180nm、好ましくは130〜150nmとなるように設計されることが多い。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ/4位相差板を用いることは視認性をよくすることができるので好ましい。このような材料としては延伸型位相差板の場合は特開2007−232873号公報等、液晶塗布型位相差板の場合には特開2010−30979号公報に記載されているものを用いることも好ましい。
また、他の方法としてはλ/2位相差板と組合せることで広帯域λ/4位相差板を得る技術も知られている(例えば、特開平10−90521号公報)。λ/2位相差板もλ/4位相差板と同様の材料及び方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板との組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることは厚さを薄くすることができるので好ましい。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のCプレートを積層する方法も知られている(例えば、特開2014−224837号公報)。正のCプレートも液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。厚さ方向の位相差は、通常−200〜−20nm、好ましくは−140〜−40nmである。
In general, there are many materials that exhibit greater birefringence at shorter wavelengths and smaller birefringence at longer wavelengths. In this case, since it is not possible to achieve a phase difference of λ / 4 in the entire visible light region, an in-plane phase difference of λ / 4 with respect to the vicinity of 560 nm having high visual sensitivity, that is, 100 to 180 nm is preferable. Is often designed to be 130-150 nm. It is preferable to use a reverse dispersion λ / 4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic opposite to the usual one because visibility can be improved. As such a material, those described in JP-A-2007-232873 for stretch-type retardation plates and those described in JP-A-2010-30979 for liquid crystal-coated retardation plates may be used. preferable.
Further, as another method, a technique for obtaining a wideband λ / 4 retardation plate by combining with a λ / 2 retardation plate is also known (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-90521). The λ / 2 retardation plate is also manufactured by the same material and method as the λ / 4 retardation plate. The combination of the stretchable retardation plate and the liquid crystal coating type retardation plate is arbitrary, but it is preferable to use the liquid crystal coating type retardation plate in both cases because the thickness can be reduced.
A method of laminating a positive C plate on the circularly polarizing plate in order to improve visibility in an oblique direction is also known (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-224738). The positive C plate may be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretched retardation plate. The phase difference in the thickness direction is usually −200 to −20 nm, preferably −140 to −40 nm.

[タッチセンサ]
本発明のフレキシブル表示装置は、タッチセンサをさらに備えていてもよい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域、すなわち表示部に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域、すなわち非表示部に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と;前記基板の活性領域に形成された感知パターンと;前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記高分子フィルムと同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、その靱性が2,000MPa%以上であるものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が2,000〜30,000MPa%であってもよい。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力(MPa)−歪み(%)曲線(Stress-strain curve)で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
[Touch sensor]
The flexible display device of the present invention may further include a touch sensor. The touch sensor is used as an input means. As the touch sensor, various types such as a resistive film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, and a capacitance method have been proposed, and any method may be used. Of these, the capacitance method is preferable. The capacitive touch sensor is divided into an active region and an inactive region located outside the active region. The active area is the area where the screen is displayed on the display panel, that is, the area corresponding to the display unit, and the area where the user's touch is sensed, and the inactive area is the area where the screen is not displayed on the display device, that is, This is the area corresponding to the non-display part. The touch sensor is formed on a substrate having flexible characteristics; a sensing pattern formed in an active region of the substrate; and is formed in an inactive region of the substrate, and is connected to an external drive circuit via the sensing pattern and a pad portion. Each sensing line for can be included. As the substrate having flexible properties, the same material as the polymer film can be used. The substrate of the touch sensor preferably has a toughness of 2,000 MPa% or more from the viewpoint of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, toughness is defined as the lower area of the curve to the fracture point by the stress-strain curve obtained through the tensile experiment of the polymer material.

前記感知パターンは、第1方向に形成された第1パターン及び第2方向に形成された第2パターンを備えることができる。第1パターンと第2パターンは互いに異なる方向に配置される。第1パターン及び第2パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第1パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第2パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第2パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、インジウムガリウム亜鉛酸化物(IGZO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4−ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。好ましくはITOを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、セレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。 The sensing pattern can include a first pattern formed in the first direction and a second pattern formed in the second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions from each other. The first pattern and the second pattern are formed in the same layer, and each pattern must be electrically connected in order to sense the point to be touched. The first pattern is a form in which the unit patterns are connected to each other via a joint, but the second pattern has a structure in which the unit patterns are separated from each other into an island form, so that the second pattern is electrically connected. A separate bridge electrode is required for connection. A well-known transparent electrode material can be applied to the sensing pattern. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO). , PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wire and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. ITO can be preferably used. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium. These can be used alone or in combination of two or more.

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの2種以上の合金などの金属で形成することもできる。第1パターンと第2パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第1パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第2パターンを接続することができる。前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と 、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を上昇させることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
The bridge electrode can be formed on the upper part of the insulating layer via the insulating layer on the upper part of the sensing pattern, the bridge electrode is formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern can be formed on the bridge electrode. The bridge electrode can also be formed of the same material as the sensing pattern and is made of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or an alloy of two or more of these. You can also do it. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer can be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or can be formed in a layer structure covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer. In the touch sensor, the difference in transmittance between the patterned region in which the pattern is formed and the non-patterned region in which the pattern is not formed, specifically, the light transmittance induced by the difference in the refractive index in these regions. An optical control layer can be further included between the substrate and the electrode as a means for appropriately compensating for the difference, and the optical control layer can include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer can be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further contain inorganic particles. The refractive index of the optical control layer can be increased by the inorganic particles.
The photocurable organic binder may contain, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.
The inorganic particles can include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles and the like. The photocuring composition may further contain additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

[接着層]
前記フレキシブル表示装置用積層体を形成する、ウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサなどの各層並びに各層を構成する、直線偏光板、λ/4位相差板等のフィルム部材は接着剤によって接着することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系接着剤、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型接着剤、水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤、感圧型粘着剤、再湿型接着剤等、汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、例えば0.01〜500μm、好ましくは0.1〜300μmである。接着層は、前記フレキシブル画像表示装置用積層体には複数存在してよいが、それぞれの厚さ及び用いられる接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。
[Adhesive layer]
Each layer such as a window film, a polarizing plate, and a touch sensor forming the flexible display device laminate, and a film member such as a linear polarizing plate and a λ / 4 retardation plate constituting each layer can be adhered with an adhesive. it can. Adhesives include water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent volatilization adhesives, moisture-curable adhesives, heat-curable adhesives, anaerobic curable adhesives, and water-based adhesives. It is widely used in solvent volatilization adhesives, active energy ray-curable adhesives, hardener mixed adhesives, heat-melt adhesives, pressure-sensitive adhesives, pressure-sensitive adhesives, re-wet adhesives, etc. Things can be used. Of these, water-based solvent volatilization adhesives, active energy ray-curable adhesives, and adhesives are often used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive force and the like, and is, for example, 0.01 to 500 μm, preferably 0.1 to 300 μm. A plurality of adhesive layers may be present in the laminated body for the flexible image display device, but the thickness of each adhesive layer and the type of adhesive used may be the same or different.

前記水系溶剤揮散型接着剤としてはポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。水、前記主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは0.01〜10μm、好ましくは0.1〜1μmであってもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び前記接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。 As the water-based solvent volatilization type adhesive, a polyvinyl alcohol-based polymer, a water-soluble polymer such as starch, an ethylene-vinyl acetate-based emulsion, a styrene-butadiene-based emulsion, or the like in an aqueous-dispersed state can be used as the main component polymer. In addition to water and the main polymer, a cross-linking agent, a silane compound, an ionic compound, a cross-linking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent and the like may be blended. When adhering with the water-based solvent volatilization type adhesive, the water-based solvent volatilization type adhesive can be injected between the layers to be adhered, the adherend layers are bonded, and then dried to impart adhesiveness. When the aqueous solvent volatilization type adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 1 μm. When the water-based solvent volatilization type adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of the adhesive may be the same or different.

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物と同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物とは、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。接着層に用いられるラジカル重合性化合物としてはアクリロイル基を有する化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を含むことも好ましい。 The active energy ray-curable adhesive can be formed by curing an active energy ray-curable composition containing a reactive material that is irradiated with active energy rays to form an adhesive layer. The active energy ray-curable composition can contain at least one polymer of a radical-polymerizable compound and a cationically polymerizable compound similar to the hard coat composition. The radically polymerizable compound is the same as the hard coat composition, and the same kind as the hard coat composition can be used. As the radically polymerizable compound used for the adhesive layer, a compound having an acryloyl group is preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound in order to reduce the viscosity of the adhesive composition.

前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が好ましい。接着剤組成物の粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
活性エネルギー線組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル又はカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
The cationically polymerizable compound is the same as the hard coat composition, and the same kind as the hard coat composition can be used. As the cationically polymerizable compound used in the active energy ray-curing composition, an epoxy compound is preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent in order to reduce the viscosity of the adhesive composition.
The active energy ray composition may further contain a polymerization initiator. The polymerization initiator includes a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical or cationic polymerization initiator, and the like, and can be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of activation energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization. In the description of the hard coat composition, an initiator that can initiate at least one of radical polymerization or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.

前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか又は両方に塗布後貼合し、いずれかの被着層又は両方の被着層を通して活性エネルギー線を照射して硬化させることで接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは、通常0.01〜20μm、好ましくは0.1〜10μmであってもよい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数層の形成に用いる場合には、それぞれの層の厚さ及び用いられる接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。 The active energy ray-curing composition further comprises an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion imparting agent, a thermoplastic resin, a filler, a fluid viscosity modifier, a plasticizer, a defoaming agent solvent, an additive, and a solvent. Can be included. When adhering with the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to either or both of the adherend layers and then bonded, and is activated through either or both adherend layers. Adhesion can be achieved by irradiating with energy rays and curing. When the active energy ray-curable adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be usually 0.01 to 20 μm, preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of adhesive used may be the same or different.

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着層や接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記粘着剤を用いる場合の接着層の厚さは、通常1〜500μm、好ましくは2〜300μmであってもよい。前記粘着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる粘着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。 The pressure-sensitive adhesive may be classified into acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, rubber-based pressure-sensitive adhesives, silicone-based pressure-sensitive adhesives, and the like, depending on the main polymer. In addition to the main polymer, the pressure-sensitive adhesive may contain a cross-linking agent, a silane compound, an ionic compound, a cross-linking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizing agent, a dye, a pigment, an inorganic filler and the like. A pressure-sensitive adhesive layer and an adhesive layer are formed by dissolving and dispersing each component constituting the pressure-sensitive adhesive in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, applying the pressure-sensitive adhesive composition on a substrate, and then drying the mixture. To. The adhesive layer may be directly formed, or a separately formed base material may be transferred. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before bonding. When the pressure-sensitive adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be usually 1 to 500 μm, preferably 2 to 300 μm. When the pressure-sensitive adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of pressure-sensitive adhesive used may be the same or different.

[遮光パターン]
前記遮光パターンは前記フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有することができる。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は2種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、通常1〜100μm、好ましくは2〜50μmである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
[Shading pattern]
The shading pattern can be applied as at least a part of the bezel or housing of the flexible image display device. The light-shielding pattern hides the wiring arranged at the edge of the flexible image display device to make it difficult to see, thereby improving the visibility of the image. The shading pattern may be in the form of a single layer or multiple layers. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and can have various colors such as black, white, and metallic. The light-shielding pattern can be formed of a pigment for embodying color and a polymer such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, or silicone. They can also be used alone or in mixtures of two or more. The shading pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the light-shielding pattern is usually 1 to 100 μm, preferably 2 to 50 μm. It is also preferable to give a shape such as an inclination in the thickness direction of the light-shielding pattern.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記しない限り、質量%及び質量部を意味する。まず評価方法について説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. Unless otherwise specified, "%" and "part" in the example mean mass% and parts by mass. First, the evaluation method will be described.

<HSQC−NMRによる(int/int)の測定>
HSQC-NMRによる(int/int)は、以下のようにして求めた。
(1)測定試料の調製方法
ポリアミドイミド樹脂を重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO−d)に溶解させて2質量%溶液としたものを測定溶液とした。
(2)測定条件
測定装置:Bruker製600MHzNMR装置AVANCE600
試料温度:303K
測定手法:HSQC
化学シフト基準:DMSO(プロトン2.49ppm、カーボン40.44ppm)
(3)解析方法
得られたHSQC−NMRスペクトルにおいて、プロトンのケミカルシフトが8.06〜8.14ppm、かつ、カーボンのケミカルシフトが129.6〜130.3ppmである領域Aに存在するピークの体積を積分により得て、積分値(int)を得た。さらに、プロトンのケミカルシフトが7.26〜7.85ppm、かつ、カーボンのケミカルシフトが132.4〜134.0ppmである領域Bに存在するピークの体積を積分により得て、積分値(int)を得た。積分値(int)に対する積分値(int)の割合を算出することで、割合(int/int)[%]を得た。
<Measurement of (int A / int B ) by HSQC-NMR>
(Int A / int B ) by HSQC-NMR was obtained as follows.
(1) Method for preparing measurement sample A 2% by mass solution prepared by dissolving a polyamide-imide resin in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6) was used as a measurement solution.
(2) Measurement conditions Measuring device: Bruker 600 MHz NMR device AVANCE600
Sample temperature: 303K
Measurement method: HSQC
Chemical shift criteria: DMSO (proton 2.49 ppm, carbon 40.44 ppm)
(3) Analysis method In the obtained HSQC-NMR spectrum, the peak existing in the region A in which the chemical shift of protons is 8.06 to 8.14 ppm and the chemical shift of carbon is 129.6 to 130.3 ppm. The volume was obtained by integration to obtain the integrated value (int A ). Further, the volume of the peak existing in the region B in which the chemical shift of protons is 7.26 to 7.85 ppm and the chemical shift of carbon is 132.4 to 134.0 ppm is obtained by integration, and the integrated value (int B) is obtained. ) Was obtained. By calculating the ratio of the integrated value (int A ) to the integrated value (int B ), the ratio (int A / int B ) [%] was obtained.

<ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量(ポリスチレン換算重量平均分子量)の測定>
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定
(1)前処理方法
ポリアミドイミドフィルムにDMF溶離液(10mmol/L臭化リチウム添加溶液)を濃度2mg/mLとなるように加え、80℃にて30分間撹拌しながら加熱し、冷却後、0.45μmメンブランフィルターろ過したものを測定溶液とした。
(2)測定条件
カラム:東ソー(株)製TSKgel α−2500((7)7.8mm径×300mm)×1本、α−M((13)7.8mm径×300mm)×2本
溶離液:DMF(10mmol/Lの臭化リチウム添加)
流量:1.0mL/分
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
<Measurement of weight average molecular weight of polyamide-imide resin (polystyrene equivalent weight average molecular weight)>
Gel Permeation Chromatography (GPC) Measurement (1) Pretreatment Method DMF eluent (10 mmol / L lithium bromide-added solution) was added to the polyamide-imide film to a concentration of 2 mg / mL, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 30 minutes. After heating and cooling, the solution was filtered through a 0.45 μm membrane filter to prepare a measurement solution.
(2) Measurement condition Column: TSKgel α-2500 manufactured by Tosoh Corporation ((7) 7.8 mm diameter x 300 mm) x 1, α-M ((13) 7.8 mm diameter x 300 mm) x 2 eluent : DMF (10 mmol / L lithium bromide added)
Flow rate: 1.0 mL / min Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene

<重量平均分子量の変化率>
実施例及び比較例で得た光学フィルムを温度85℃、相対湿度85%の環境下に1週間保管した。そして、保管試験前の光学フィルに含まれるポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量(Mw1)と、上記の保管試験後の光学フィルムに含まれるポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量(Mw2)を上記の方法に従い測定した。得られた重量平均分子量から、次の式に従い、重量平均分子量の変化率(%)を算出した。
重量平均分子量の変化率(%)={(Mw1−Mw2)/Mw1}×100
<Rate of change in weight average molecular weight>
The optical films obtained in Examples and Comparative Examples were stored for 1 week in an environment having a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85%. Then, the weight average molecular weight (Mw1) of the polyamide-imide resin contained in the optical fill before the storage test and the weight average molecular weight (Mw2) of the polyamide-imide resin contained in the optical film after the storage test are measured according to the above method. did. From the obtained weight average molecular weight, the rate of change (%) of the weight average molecular weight was calculated according to the following formula.
Rate of change in weight average molecular weight (%) = {(Mw1-Mw2) / Mw1} × 100

<厚さ>
実施例及び比較例で得た光学フィルムの厚さは、ABSデジマチックインジケーター((株)ミツトヨ製、「ID−C112BS」)を用いて測定した。
<Thickness>
The thickness of the optical film obtained in Examples and Comparative Examples was measured using an ABS digital indicator (“ID-C112BS” manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.).

<弾性率>
実施例及び比較例で得た光学フィルムの温度25℃、相対湿度50%における弾性率を(株)島津製作所製「オートグラフAG−IS」を用いて測定した。より詳細には、縦横10mm幅のフィルムを作製し、チャック間距離50mm、引張速度20mm/分の条件で応力−歪曲線(S−S曲線)を測定し、その傾きから弾性率を算出した。
<Elastic modulus>
The elastic modulus of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50% was measured using "Autograph AG-IS" manufactured by Shimadzu Corporation. More specifically, a film having a width of 10 mm in length and width was produced, a stress-strain curve (SS curve) was measured under the conditions of a distance between chucks of 50 mm and a tensile speed of 20 mm / min, and the elastic modulus was calculated from the inclination.

<全光線透過率(Tt)>
JIS K 7105:1981に準拠して、全自動直読ヘーズコンピュータ(スガ試験機(株)製 HGM−2DP)により、実施例及び比較例で得られた光学フィルムの全光線透過率を測定した。
<Total light transmittance (Tt)>
In accordance with JIS K 7105: 1981, the total light transmittance of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was measured by a fully automatic direct reading haze computer (HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).

<ヘーズ>
JIS K 7136:2000に準拠して、実施例及び比較例で得られた光学フィルムを30mm×30mmの大きさにカットし、全自動直読ヘーズコンピュータ(スガ試験機(株)製 HGM−2DP)を用いてヘーズ(%)を測定した。
<Haze>
In accordance with JIS K 7136: 2000, the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 30 mm × 30 mm, and a fully automatic direct reading haze computer (HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) was used. Haze (%) was measured using.

<YI値>
紫外可視近赤外分光光度計(日本分光(株)製 V−670)を用いて、三刺激値(X,Y,Z)を求め、下記計算式に代入することにより、YI値を算出した。
YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Y
<YI value>
The tristimulus values (X, Y, Z) were calculated using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (V-670 manufactured by JASCO Corporation) and substituted into the following formula to calculate the YI value. ..
YI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y

<YI値の変化率>
実施例及び比較例で得た光学フィルムを温度85℃、相対湿度85%の環境下に1週間保管する保管試験を実施した。該保管試験前の光学フィルムのYI値(Y1)と、保管試験後の光学フィルムのYI値(Y2)を、上記の方法に従い測定した。得られたそれぞれのYI値から、次の式に従い、YI値の変化率(%)を算出した。
YI値の変化率(%)={(Y2−Y1)/Y1}×100
<Rate of change in YI value>
A storage test was carried out in which the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were stored in an environment of a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% for one week. The YI value (Y1) of the optical film before the storage test and the YI value (Y2) of the optical film after the storage test were measured according to the above method. From each of the obtained YI values, the rate of change (%) of the YI value was calculated according to the following formula.
Rate of change of YI value (%) = {(Y2-Y1) / Y1} × 100

<MIT試験における耐屈曲回数>
実施例及び比較例で得た光学フィルムを、それぞれ、ダンベルカッターを用いて10mm×100mmの大きさにカットした。カットしたフィルムを温度25℃湿度50%に24時間以上静置、MIT耐折疲労試験機((株)東洋精機製作所製「MIT−DA」 形式:0530)にセットして、試験速度175cpm、折り曲げ角度135°、荷重750g、折り曲げクランプのR 1.0mmの条件で、裏表両方向への折り曲げ試験を実施し、各フィルムの耐屈曲回数、すなわち破断せずに折り曲げ可能な回数を測定した。
<Number of bending resistance in MIT test>
The optical films obtained in Examples and Comparative Examples were each cut into a size of 10 mm × 100 mm using a dumbbell cutter. The cut film is allowed to stand at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50% for 24 hours or more, set in a MIT folding fatigue tester (“MIT-DA” format: 0530 manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.), and bent at a test speed of 175 cpm. A bending test was carried out in both the front and back directions under the conditions of an angle of 135 °, a load of 750 g, and a bending clamp R of 1.0 mm, and the number of times each film was bent, that is, the number of times it could be bent without breaking was measured.

<耐屈曲回数の変化率>
実施例及び比較例で得た光学フィルムを温度85℃、相対湿度85%の環境下に1週間保管した。そして、上記の保管試験前の光学フィルムの耐屈曲回数(N1)と、上記の保管試験後の光学フィルムの耐屈曲回数(N2)を、それぞれ温度25℃湿度50%に24時間以上静置後上記の方法に従い測定した。得られた耐屈曲回数から、次の式に従い、耐屈曲回数の変化率(%)を算出した。
耐屈曲回数の変化率(%)={(N1−N2)/N1}×100
<Rate of change in bending resistance>
The optical films obtained in Examples and Comparative Examples were stored for 1 week in an environment having a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85%. Then, the bending resistance (N1) of the optical film before the storage test and the bending resistance (N2) of the optical film after the storage test are set to a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50% for 24 hours or more. It was measured according to the above method. From the obtained number of bending resistances, the rate of change (%) of the number of bending resistances was calculated according to the following formula.
Rate of change in bending resistance (%) = {(N1-N2) / N1} x 100

<アミン比>
ポリアミドイミド樹脂の合成に使用した、ジアミン化合物のモル量をMモルとし、ジカルボン酸化合物のモル量をMモルとし、テトラカルボン酸化合物のモル量をMモルとし、次の式により、樹脂の合成におけるアミン比を算出した。
アミン比=M/(M+M
<Amine ratio>
Used for the synthesis of the polyamide-imide resin, a molar amount of the diamine compound and M A mole, the molar amount of the dicarboxylic acid compound and M B moles, the molar amount of the tetracarboxylic acid compound and M C mol, by the following equation, The amine ratio in the synthesis of the resin was calculated.
Amine ratio = M A / (M B + M C)

<実施例1>
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、DMAc 313.57gを加え、水分量が700ppmになるようにイオン交換水を必要量投入した。次いで、TFMB 18.53g(57.86mmol)を加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに6FDA 7.64g(17.19mmol)を添加し、10℃に冷却し、16時間撹拌した。その後、OBBC 1.69g(5.73mmol)、次いでTPC 6.28g(30.93mmol)をフラスコに加え、10℃で30分間撹拌した。次いで、水分量700ppmに調整したDMAc 313.57gを加え、10分間撹拌した後、さらにTPC 0.70g(3.45mmоl)をフラスコに加え、10℃で30分間撹拌した後、さらにTFMB 0.0367g(0.115mmоl)を加え、2時間撹拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミン 5.18g(40.11)と4−メチルピリジン 3.74g(40.11mmol)、無水酢酸 12.29g(120.30mmol)とを加え、10℃で30分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて、10℃から50℃まで30分間、50℃から60℃まで10分間、60℃から65℃まで10分間かけてそれぞれ昇温した後、65℃から70℃まで10分間、70℃から75℃まで10分間かけてそれぞれ、段階的に昇温し、さらに70℃で3時間保温しながら撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(1)を得た。
<Example 1>
Under a nitrogen gas atmosphere, 313.57 g of DMAc was added to a 1 L separable flask equipped with a stirring blade, and a required amount of ion-exchanged water was added so that the water content became 700 ppm. Then, 18.53 g (57.86 mmol) of TFMB was added, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 7.64 g (17.19 mmol) of 6FDA was added to the flask, the mixture was cooled to 10 ° C., and the mixture was stirred for 16 hours. Then 1.69 g (5.73 mmol) of OBBC and then 6.28 g (30.93 mmol) of TPC were added to the flask and stirred at 10 ° C. for 30 minutes. Next, 313.57 g of DMAc adjusted to a water content of 700 ppm was added, and the mixture was stirred for 10 minutes. Then, 0.70 g (3.45 mmоl) of TPC was added to the flask, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 30 minutes, and then TFMB 0.0367 g. (0.115 mmоl) was added, and the mixture was stirred for 2 hours. Next, 5.18 g (40.11) of diisopropylethylamine, 3.74 g (40.11 mmol) of 4-methylpyridine, and 12.29 g (120.30 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 30 minutes. Then, using an oil bath, the temperature was raised from 10 ° C. to 50 ° C. for 30 minutes, from 50 ° C. to 60 ° C. for 10 minutes, and from 60 ° C. to 65 ° C. for 10 minutes, respectively, and then from 65 ° C. to 70 ° C. for 10 minutes. The temperature was gradually raised from 70 ° C. to 75 ° C. over 10 minutes, and the mixture was further stirred at 70 ° C. for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of filaments, the precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain a polyamide-imide resin (1).

前記ポリアミドイミド樹脂(1)をDMAcに溶解して10質量%溶液とし、得られたポリアミドイミドワニスを目開き10μmのフィルターでろ過した後、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の厚さが55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、200℃で40分間乾燥し、厚さ50μmの光学フィルム1を得た。 The polyamide-imide resin (1) was dissolved in DMAc to prepare a 10% by mass solution, and the obtained polyamide-imide varnish was filtered through a filter having an opening of 10 μm, and then a polyester substrate (manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd., trade name “A4100”). ”) Is applied on the smooth surface of the self-supporting film using an applicator so that the thickness of the free-standing film is 55 μm, dried at 50 ° C. for 30 minutes, and then dried at 140 ° C. for 15 minutes, and then the obtained coating film is obtained from the polyester substrate. It was peeled off to obtain a self-supporting film. The free-standing film was fixed to a gold frame and further dried in the air at 200 ° C. for 40 minutes to obtain an optical film 1 having a thickness of 50 μm.

<比較例1>
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、DMAc 313.57gを加え、水分量が700ppmになるようにイオン交換水を必要量投入した。次いでTFMB 18.27g(57.05mmol)を加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに6FDA 7.76g(17.47mmol)を添加し、10℃に冷却し、16時間撹拌した。その後、OBBC 1.72g(5.85mmol)、次いでTPC 6.38g(31.43mmol)をフラスコに加え、10℃で30分間撹拌した。次いで、水分量700ppmに調整したDMAc 313.57gを加え、10分間撹拌した後、さらにTPC 0.71g(3.50mmоl)をフラスコに加え、10℃で30分間撹拌した後、さらにTFMB 0.186g(0.581mmоl)を加え、30分撹拌した後、さらにTFMB 0.0932g(0.291mmоl)を加え、2時間撹拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミン 5.27g(40.76)と、4−メチルピリジン 3.80g(40.76mmol)、無水酢酸 12.48g(122.27mmol)とを加え、10℃で30分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて10℃から50℃まで20分間、50℃から60℃まで20分間、60℃から75℃まで20分間かけてそれぞれ、段階的に昇温し、さらに75℃で3時間保温しながら撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(2)を得た。
<Comparative example 1>
Under a nitrogen gas atmosphere, 313.57 g of DMAc was added to a 1 L separable flask equipped with a stirring blade, and a required amount of ion-exchanged water was added so that the water content became 700 ppm. Then 18.27 g (57.05 mmol) of TFMB was added and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 7.76 g (17.47 mmol) of 6FDA was added to the flask, the mixture was cooled to 10 ° C., and the mixture was stirred for 16 hours. Then 1.72 g (5.85 mmol) of OBBC and then 6.38 g (31.43 mmol) of TPC were added to the flask and stirred at 10 ° C. for 30 minutes. Next, 313.57 g of DMAc adjusted to a water content of 700 ppm was added and stirred for 10 minutes, then 0.71 g (3.50 mmоl) of TPC was further added to the flask, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 30 minutes, and then 0.186 g of TFMB. (0.581 mmоl) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes, then 0.0932 g (0.291 mmоl) of TFMB was further added, and the mixture was stirred for 2 hours. Next, 5.27 g (40.76) of diisopropylethylamine, 3.80 g (40.76 mmol) of 4-methylpyridine, and 12.48 g (122.27 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 30 minutes. .. Then, using an oil bath, the temperature is gradually raised from 10 ° C. to 50 ° C. for 20 minutes, from 50 ° C. to 60 ° C. for 20 minutes, and from 60 ° C. to 75 ° C. for 20 minutes, respectively, and then at 75 ° C. for 3 hours. The mixture was stirred while keeping warm to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of filaments, the precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain a polyamide-imide resin (2).

前記ポリアミドイミド樹脂(2)を用いた以外は、実施例1と同様にして厚さ50μmの光学フィルム2を得た。 An optical film 2 having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyamide-imide resin (2) was used.

<比較例2>
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、DMAc 313.57gを加えた。この時、DMAc中の水分量は300ppmであった。次いでTFMB 18.36g(57.33mmol)を加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに6FDA 7.72g(17.38mmol)を添加し、10℃に冷却し、16時間撹拌した。その後、OBBC 1.71g(5.81mmol)、次いでTPC 6.35g(31.28mmol)をフラスコに加え、10℃で30分間撹拌した。次いで、水分量300ppmのDMAc 313.57gを加え、10分間撹拌した後、さらにTPC 0.71g(3.48mmоl)をフラスコに加え、2時間撹拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミン 5.24g(40.54)と4−メチルピリジン 7.55g(81.08mmol)、無水酢酸 26.61g(260.60mmol)とを加え、10℃で30分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて10℃から55℃まで20分間、55℃から65℃まで20分間、65℃から85℃まで20分間かけてそれぞれ、段階的に昇温し、さらに85℃で3時間保温しながら撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド樹脂(3)を得た。
<Comparative example 2>
Under a nitrogen gas atmosphere, 313.57 g of DMAc was added to a 1 L separable flask equipped with a stirring blade. At this time, the amount of water in DMAc was 300 ppm. Then 18.36 g (57.33 mmol) of TFMB was added and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 7.72 g (17.38 mmol) of 6FDA was added to the flask, the mixture was cooled to 10 ° C., and the mixture was stirred for 16 hours. Then 1.71 g (5.81 mmol) of OBBC and then 6.35 g (31.28 mmol) of TPC were added to the flask and stirred at 10 ° C. for 30 minutes. Then, 313.57 g of DMAc having a water content of 300 ppm was added and stirred for 10 minutes, then 0.71 g (3.48 mmоl) of TPC was further added to the flask and stirred for 2 hours. Next, 5.24 g (40.54) of diisopropylethylamine, 7.55 g (81.08 mmol) of 4-methylpyridine, and 26.61 g (260.60 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 30 minutes. Then, using an oil bath, the temperature is gradually raised from 10 ° C. to 55 ° C. for 20 minutes, from 55 ° C. to 65 ° C. for 20 minutes, and from 65 ° C. to 85 ° C. for 20 minutes, respectively, and then at 85 ° C. for 3 hours. The mixture was stirred while keeping warm to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of filaments, the precipitated precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain a polyamide-imide resin (3).

前記ポリアミドイミド樹脂(3)を用いた以外は実施例1と同様にして厚さ50μmの光学フィルム3を得た。 An optical film 3 having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyamide-imide resin (3) was used.

<実施例2>
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えた3mの反応容器に、23.66kgのTFMBと、水分量300ppmに調整したDMAcを、反応混合液中のTFMBの固形分濃度が5.54質量%となるように加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAc中に溶解させた。次に、反応容器に6FDAをTFMBに対して30.21mol%になるように添加し、25℃で16時間撹拌した。その後、TPCとOBBCをTFMBに対してそれぞれ60.42mol%と10.07mol%になるように加え、60分間撹拌した。次いで、4−メチルピリジン、及び無水酢酸を、TFMBに対してそれぞれ35.25mol%、105.74mol%となるように加え、30分間撹拌した後、反応混合液の壁面部と底部の平均温度が25℃から50℃になるまで30分間、50℃から60℃になるまで10分間、60℃から65℃になるまで10分間かけて、それぞれ昇温した後、65℃から70℃になるまで10分間かけて、段階的に昇温した。この時、反応容器の壁面には、反応混合液の液面高さの上から7割程度が加熱されるように加熱部を設けて、残りの底部を非加熱部とすることで反応容器の壁面と底部との間に温度差が生じるように設定して、反応容器の壁面を加熱し、反応混合液の壁面近傍だけを局所的に加熱した。この状態で3時間撹拌し、反応液を得た。反応終了時、非加熱の底部が65℃であるのに対し、局所的に加熱した壁面部は81℃であった。
得られた反応液を室温まで冷却し、該反応液に対して重量比で1.6倍のメタノールと0.55倍の水を撹拌しながら投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミド系樹脂(4)を得た。得られたポリアミドイミド樹脂(4)の重量平均分子量は、429,000であった。
<Example 2>
Under a nitrogen atmosphere, 23.66 kg of TFMB and DMAc adjusted to a water content of 300 ppm were placed in a 3 m 3 reaction vessel equipped with a stirring blade, and the solid content concentration of TFMB in the reaction mixture became 5.54% by mass. TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 6 FDA was added to the reaction vessel so as to be 30.21 mol% with respect to TFMB, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 16 hours. Then, TPC and OBBC were added to TFMB in an amount of 60.42 mol% and 10.07 mol%, respectively, and the mixture was stirred for 60 minutes. Next, 4-methylpyridine and acetic anhydride were added so as to be 35.25 mol% and 105.74 mol%, respectively, with respect to TFMB, and after stirring for 30 minutes, the average temperature of the wall surface and the bottom of the reaction mixture became high. It takes 30 minutes from 25 ° C to 50 ° C, 10 minutes from 50 ° C to 60 ° C, 10 minutes from 60 ° C to 65 ° C, and after raising the temperature, 10 from 65 ° C to 70 ° C. The temperature was gradually raised over a minute. At this time, a heating portion is provided on the wall surface of the reaction vessel so that about 70% of the height of the reaction mixture is heated, and the remaining bottom portion is a non-heating portion of the reaction vessel. The wall surface of the reaction vessel was heated by setting so that a temperature difference was generated between the wall surface and the bottom surface, and only the vicinity of the wall surface of the reaction mixture was locally heated. In this state, the mixture was stirred for 3 hours to obtain a reaction solution. At the end of the reaction, the unheated bottom was 65 ° C, while the locally heated wall was 81 ° C.
The obtained reaction solution is cooled to room temperature, 1.6 times by weight of methanol and 0.55 times by weight of water are added to the reaction solution with stirring, and the precipitated precipitate is taken out and washed with methanol. did. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain a polyamide resin (4). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (4) was 429000.

前記ポリアミドイミド樹脂(4)をDMAcに溶解して10質量%溶液とし、得られたポリアミドイミドワニスを目開き10μmのフィルターでろ過した後、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の厚さが55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、200℃で40分間乾燥し、厚さ50μmの光学フィルム4を得た。 The polyamide-imide resin (4) was dissolved in DMAc to prepare a 10% by mass solution, and the obtained polyamide-imide varnish was filtered through a filter having an opening of 10 μm, and then a polyester substrate (manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd., trade name “A4100”). ”) Is applied on the smooth surface of the self-supporting film using an applicator so that the thickness of the free-standing film is 55 μm, dried at 50 ° C. for 30 minutes, and then dried at 140 ° C. for 15 minutes, and then the obtained coating film is obtained from the polyester substrate. It was peeled off to obtain a self-supporting film. The free-standing film was fixed to a gold frame and further dried in the atmosphere at 200 ° C. for 40 minutes to obtain an optical film 4 having a thickness of 50 μm.

<実施例3>
窒素雰囲気下、撹拌翼を備えた3mの反応容器に、23.66kgのTFMBと、水分量300ppmに調整したDMAcを、反応混合液のTFMBの固形分濃度が5.54質量%となるように加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAc中に溶解させた。次に、反応容器に6FDAをTFMBに対して30.21mol%になるように添加し、25℃で16時間撹拌した。その後、TPCとOBBCをTFMBに対してそれぞれ60.42mol%と10.07mol%になるように加え、60分間撹拌した。次いで、4−メチルピリジン、及び無水酢酸を、TFMBに対してそれぞれ35.25mol%、105.74mol%となるように加え、30分間撹拌した後、反応混合液の壁面部と底部の平均温度が25℃から50℃になるまで30分間、50℃から60℃になるまで10分間、60℃から65℃になるまで10分間かけてそれぞれ昇温した後、65℃から70℃になるまで10分間かけて、段階的に昇温した。この時、反応容器の壁面には、反応混合液の液面高さの上から7割程度が加熱されるように加熱部を設けて、残りの底部を非加熱部とすることで反応容器の壁面と底部との間に温度差が生じるように設定して、反応容器の壁面を加熱し、反応混合液の壁面近傍だけを局所的に加熱した。この状態で3時間撹拌し、反応液を得た。反応終了時、非加熱の底部が68℃であるのに対し、局所的に加熱した壁面部は78℃であった。
得られた反応液を室温まで冷却し、該反応液に対して重量比で1.6倍のメタノールと0.55倍の水を撹拌しながら投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで洗浄した。次に、60℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミド系樹脂(5)を得た。得られたポリアミドイミド樹脂(5)の重量平均分子量は、410,000であった。
<Example 3>
Under a nitrogen atmosphere, 23.66 kg of TFMB and DMAc adjusted to a water content of 300 ppm were placed in a 3 m 3 reaction vessel equipped with a stirring blade so that the solid content concentration of TFMB in the reaction mixture was 5.54% by mass. In addition, TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 6 FDA was added to the reaction vessel so as to be 30.21 mol% with respect to TFMB, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 16 hours. Then, TPC and OBBC were added to TFMB in an amount of 60.42 mol% and 10.07 mol%, respectively, and the mixture was stirred for 60 minutes. Next, 4-methylpyridine and acetic anhydride were added so as to be 35.25 mol% and 105.74 mol%, respectively, with respect to TFMB, and after stirring for 30 minutes, the average temperature of the wall surface and the bottom of the reaction mixture became high. The temperature was raised from 25 ° C to 50 ° C for 30 minutes, from 50 ° C to 60 ° C for 10 minutes, from 60 ° C to 65 ° C for 10 minutes, and then from 65 ° C to 70 ° C for 10 minutes. The temperature was raised stepwise. At this time, a heating portion is provided on the wall surface of the reaction vessel so that about 70% of the height of the reaction mixture is heated, and the remaining bottom portion is a non-heating portion of the reaction vessel. The wall surface of the reaction vessel was heated by setting so that a temperature difference was generated between the wall surface and the bottom surface, and only the vicinity of the wall surface of the reaction mixture was locally heated. In this state, the mixture was stirred for 3 hours to obtain a reaction solution. At the end of the reaction, the unheated bottom was 68 ° C, while the locally heated wall was 78 ° C.
The obtained reaction solution is cooled to room temperature, 1.6 times by weight of methanol and 0.55 times by weight of water are added to the reaction solution with stirring, and the precipitated precipitate is taken out and washed with methanol. did. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain a polyamide resin (5). The weight average molecular weight of the obtained polyamide-imide resin (5) was 410,000.

前記ポリアミドイミド樹脂(5)をDMAcに溶解して10質量%溶液とし、得られたポリアミドイミドワニスを目開き10μmのフィルターでろ過した後、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の厚さが55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、200℃で40分間乾燥し、厚さ50μmの光学フィルム5を得た。 The polyamide-imide resin (5) was dissolved in DMAc to prepare a 10% by mass solution, and the obtained polyamide-imide varnish was filtered through a filter having an opening of 10 μm, and then a polyester substrate (manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd., trade name “A4100”). ”) Is applied on the smooth surface of the self-supporting film using an applicator so that the thickness of the free-standing film is 55 μm, dried at 50 ° C. for 30 minutes, and then dried at 140 ° C. for 15 minutes, and then the obtained coating film is obtained from the polyester substrate. It was peeled off to obtain a self-supporting film. The free-standing film was fixed to a gold frame and further dried in the atmosphere at 200 ° C. for 40 minutes to obtain an optical film 5 having a thickness of 50 μm.

実施例及び比較例について、ポリアミドイミド樹脂の重量平均分子量、光学フィルムの弾性率、全光線透過率(Tt)、ヘーズ、YI値を測定した。また、温度85℃、相対湿度85%の環境下に1週間保管後の光学フィルムを用いて、同様にして、重量平均分子量、YI値及び耐屈曲回数を測定し、上記の式に従いこれらの変化率を算出した。得られた結果を次の表1に示す。なお、比較例1の光学フィルムについては、YI値の変化率が非常に大きく、光学フィルムとして使用できるものではなかったため、耐屈曲回数の評価は行わなかった。 For Examples and Comparative Examples, the weight average molecular weight of the polyamide-imide resin, the elastic modulus of the optical film, the total light transmittance (Tt), the haze, and the YI value were measured. Further, using an optical film stored for one week in an environment of a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85%, the weight average molecular weight, the YI value and the number of bending resistances were measured in the same manner, and these changes were made according to the above formula. The rate was calculated. The results obtained are shown in Table 1 below. Regarding the optical film of Comparative Example 1, the rate of change of the YI value was so large that it could not be used as an optical film, so the number of bending resistances was not evaluated.

Figure 2021075702
Figure 2021075702

Claims (13)

ポリアミドイミド樹脂の重水素化ジメチルスルホキシド溶液を測定試料として得たH−13C HSQCスペクトルにおいて、プロトンのケミカルシフトが8.06〜8.14ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが129.6〜130.3ppmである領域(A)に存在するピークの積分値(int)と、プロトンのケミカルシフトが7.26〜7.85ppmであり、かつ、カーボンのケミカルシフトが132.4〜134.0ppmである領域(B)に存在するピークの積分値(int)との割合(int/int)が1.5%以下である、ポリアミドイミド樹脂。 In the 1 H- 13 C HSQC spectrum obtained by using a deuterated dimethylsulfoxide solution of a polyamide-imide resin as a measurement sample, the chemical shift of protons was 8.06 to 8.14 ppm, and the chemical shift of carbon was 129.6. The integrated value (int A ) of the peak existing in the region (A) of ~ 130.3 ppm, the chemical shift of the proton is 7.26 to 7.85 ppm, and the chemical shift of carbon is 132.4 to 134. integral value of peaks present in the region (B) is a .0ppm ratio between (int B) (int a / int B) is 1.5% or less, a polyamide-imide resin. 式(1):
Figure 2021075702
[式(1)中、Yは4価の有機基を表し、
Xは2価の有機基を表し、
*は結合手を表す]
で表される構成単位、及び、式(2):
Figure 2021075702
[式(2)中、Z及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、
*は結合手を表す]
で表される構成単位を少なくとも有する、請求項1に記載のポリアミドイミド樹脂。
Equation (1):
Figure 2021075702
[In formula (1), Y represents a tetravalent organic group and represents
X represents a divalent organic group
* Represents a bond]
The structural unit represented by and the equation (2):
Figure 2021075702
[In formula (2), Z and X represent divalent organic groups independently of each other.
* Represents a bond]
The polyamide-imide resin according to claim 1, which has at least a structural unit represented by.
200,000以上1,000,000以下の重量平均分子量を有する、請求項1又は2に記載のポリアミドイミド樹脂。 The polyamide-imide resin according to claim 1 or 2, which has a weight average molecular weight of 200,000 or more and 1,000,000 or less. 式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(4):
Figure 2021075702
[式(4)中、H4a及びH4bは水素原子を表し、
4a〜R4dは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R4a〜R4dに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
*は結合手を表す]
で表される構造を少なくとも有する、請求項1〜3のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂。
As X in the formula (1) or X in the formula (2), the formula (4):
Figure 2021075702
[In formula (4), H 4a and H 4b represent hydrogen atoms.
R 4a to R 4d independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and are included in R 4a to R 4d. Hydrogen atoms may be substituted with halogen atoms independently of each other.
* Represents a bond]
The polyamide-imide resin according to any one of claims 1 to 3, which has at least the structure represented by.
式(2)中のZとして、式(3):
Figure 2021075702
[式(3)中、R3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Wは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、
sは0〜4の整数であり、
tは0〜4の整数であり、
uは0〜4の整数であり、
*は結合手を表す]
で表される構造を少なくとも有する、請求項1〜4のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂。
As Z in equation (2), equation (3):
Figure 2021075702
[In the formula (3), R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 3a. And the hydrogen atoms contained in R 3b may be substituted with halogen atoms independently of each other.
W, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 -, - S -, - CO- or -N (R 9) - represents, R 9 is a hydrogen atom, monovalent 1-12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom Represents a hydrocarbon group
s is an integer from 0 to 4
t is an integer from 0 to 4
u is an integer from 0 to 4
* Represents a bond]
The polyamide-imide resin according to any one of claims 1 to 4, which has at least the structure represented by.
請求項1〜5のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂を含む光学フィルム。 An optical film containing the polyamide-imide resin according to any one of claims 1 to 5. ポリアミドイミド樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムを温度85℃、湿度85%の条件で1週間保管する保管試験の前後の重量平均分子量の変化率が26%以下である、光学フィルム。 An optical film containing a polyamide-imide resin, wherein the rate of change in weight average molecular weight before and after a storage test in which the optical film is stored at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% for one week is 26% or less. 前記保管試験の前後の重量平均分子量の変化率が25%以下である、請求項7に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 7, wherein the rate of change in the weight average molecular weight before and after the storage test is 25% or less. 請求項6〜8のいずれかに記載の光学フィルムを有する、フレキシブル表示装置の前面板。 A front plate of a flexible display device having the optical film according to any one of claims 6 to 8. 請求項9に記載の前面板を備えるフレキシブル表示装置。 A flexible display device including the front plate according to claim 9. タッチセンサをさらに備える、請求項10に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 10, further comprising a touch sensor. 偏光板をさらに備える、請求項10又は11に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 10 or 11, further comprising a polarizing plate. ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物を反応させるポリアミドイミド樹脂の製造方法であって、該テトラカルボン酸化合物及び該ジカルボン酸化合物の合計モル数に対する該ジアミン化合物のモル数の割合が1.000を超える、請求項1〜5のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂の製造方法。 A method for producing a polyamideimide resin in which a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound and a dicarboxylic acid compound are reacted, wherein the ratio of the number of moles of the diamine compound to the total number of moles of the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is 1. The method for producing a polyamideimide resin according to any one of claims 1 to 5, which exceeds 000.
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