JP2021070590A - Cover glass and in-cell liquid-crystal display device - Google Patents

Cover glass and in-cell liquid-crystal display device Download PDF

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Akio Koike
章夫 小池
洋介 竹田
Yosuke Takeda
洋介 竹田
康成 齋藤
Yasunari Saito
康成 齋藤
池田 徹
Toru Ikeda
徹 池田
貴章 村上
Takaaki Murakami
貴章 村上
真 府川
Makoto Fukawa
真 府川
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Abstract

To provide: a cover glass which can be prevented from becoming cloudy, without an increase in the thickness thereof and the number of steps for production thereof, and which also has superior impact resistance; and an in-cell liquid crystal display device.SOLUTION: The present invention pertains to a cover glass comprising: a chemically strengthened glass including a first main surface and a second main surface; and a fingerprint-resistant treatment layer provided on the first main surface, wherein of all alkali metals contained in a tensile stress layer of the chemically strengthened glass, the number of moles of Li is the largest, the depth DOL of a compressive stress layer is 60μ m or more, and the surface of the fingerprint-resistant treatment layer has a triboelectric charge amount of -1.5 to 0 kV.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、カバーガラス、およびインセル型液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a cover glass and an in-cell liquid crystal display device.

スマートフォンのような液晶表示装置を有する電子機器には、タッチ機能が搭載される場合がある。ここでいうタッチ機能とは、表示装置の表面に設けられたカバーガラスに操作者が指を接触あるいは近接させることにより、情報を入力する機能である。
タッチ機能を実現する構造としては、液晶表示装置にタッチパネルを取り付ける外付け型(アウトセル型)がある。
外付け型は液晶表示装置とタッチパネルの一方が不良であっても他方は利用可能であるため、歩留まりに優れるが、厚みや重さが増えるという問題もある。
そこで、液晶表示装置の液晶素子と偏光板の間にタッチパネルを挟み込んだオンセル型の液晶表示装置が登場している。
さらに、オンセル型よりも薄型軽量な構造として、タッチ機能を有する素子を液晶素子に埋め込んだインセル型の液晶表示装置も開発されている。
An electronic device having a liquid crystal display device such as a smartphone may be equipped with a touch function. The touch function referred to here is a function of inputting information by an operator touching or bringing a finger close to or in contact with a cover glass provided on the surface of the display device.
As a structure that realizes the touch function, there is an external type (out-cell type) in which a touch panel is attached to a liquid crystal display device.
The external type is excellent in yield because even if one of the liquid crystal display device and the touch panel is defective, the other can be used, but there is also a problem that the thickness and weight increase.
Therefore, an on-cell type liquid crystal display device in which a touch panel is sandwiched between a liquid crystal element of the liquid crystal display device and a polarizing plate has appeared.
Further, an in-cell type liquid crystal display device in which an element having a touch function is embedded in a liquid crystal element has been developed as a structure thinner and lighter than the on-cell type.

一方で、インセル型の液晶表示装置(特にIPS液晶表示装置)は、指でカバーガラスをタッチした際に、帯電により、液晶画面が部分的に白濁するという問題があった。これは、外付け型やオンセル型では、液晶素子よりも操作者側に位置するタッチパネルが除電に寄与する一方で、インセル型の液晶表示装置は、液晶素子よりも操作者側にタッチパネルが配置されないため、液晶素子が静電気で帯電しやすいためである。特に、カバーガラスの表面には耐衝撃性や防汚性を高めるための層を形成する場合があり、これらの層が帯電しやすいと、より白濁化が生じやすくなる。 On the other hand, the in-cell type liquid crystal display device (particularly the IPS liquid crystal display device) has a problem that the liquid crystal screen is partially clouded due to charging when the cover glass is touched with a finger. This is because, in the external type and the on-cell type, the touch panel located on the operator side of the liquid crystal element contributes to static electricity elimination, while in the in-cell type liquid crystal display device, the touch panel is not arranged on the operator side of the liquid crystal element. Therefore, the liquid crystal element is easily charged by static electricity. In particular, layers for enhancing impact resistance and antifouling property may be formed on the surface of the cover glass, and if these layers are easily charged, white turbidity is more likely to occur.

そこで、インセル型の液晶表示装置において、液晶表示装置よりも操作者側に導電層を設けて静電気を逃がすことにより白濁化を防止する構造が提案されている(特許文献1)。 Therefore, in an in-cell type liquid crystal display device, a structure has been proposed in which a conductive layer is provided on the operator side of the liquid crystal display device to release static electricity to prevent white turbidity (Patent Document 1).

国際公開第2014/069377号International Publication No. 2014/069377

しかしながら、特許文献1の構造は導電層を設けることにより、厚さが増えるという問題があった。また、表示装置を製造するための工数が増えるという問題もあった。 However, the structure of Patent Document 1 has a problem that the thickness is increased by providing the conductive layer. There is also a problem that the man-hours for manufacturing the display device increase.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、厚さも、製造のための工数も増加させずに白濁化を防止でき、耐衝撃性にも優れたカバーガラス、およびインセル型液晶表示装置(特にIPS液晶表示装置)の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is a cover glass that can prevent white turbidity without increasing the thickness and man-hours for manufacturing, and has excellent impact resistance, and an in-cell liquid crystal display device (in-cell type liquid crystal display device). In particular, the purpose is to provide an IPS liquid crystal display device).

本発明のカバーガラスは、第1の主面および第2の主面を備える化学強化ガラスと、前記化学強化ガラスの第1の主面上に設けられた指紋防止処理層と、を備え、前記化学強化ガラスは、引張応力層の含有する全アルカリ金属のうち、Liのモル数が最も多く、圧縮応力層の深さDOLが60μm以上であり、前記指紋防止処理層の表面の摩擦帯電量が、JIS L1094:2014に記載のD法で0kV以下、−1.5kV以上であることを特徴とする。 The cover glass of the present invention includes a chemically strengthened glass having a first main surface and a second main surface, and an anti-fingerprint treatment layer provided on the first main surface of the chemically strengthened glass. Among all alkali metals contained in the tensile stress layer, the chemically strengthened glass has the largest number of moles of Li, the depth DOL of the compressive stress layer is 60 μm or more, and the amount of frictional charge on the surface of the anti-fingerprint layer is large. , JIS L1094: 2014, characterized in that it is 0 kV or less and −1.5 kV or more by the D method.

本発明によれば、指紋防止処理層の表面の摩擦帯電量が0kV以下、−1.5kV以上であるため、表面に使用者の指等が接触しても摩擦帯電がし難く、表示装置に組み込んだ場合に、静電気に起因する白濁化を防止できる。
また、本発明によれば、カバーガラスの物性で摩擦帯電を抑制しているため、導電層を設ける必要がなく、厚さも工数も増加させずに白濁化を防止できる。
さらに、本発明によれば、化学強化ガラスは、引張応力層の含有する全アルカリ金属のうち、Liのモル数が最も多い。そのため、圧縮応力層は、化学強化の際に、Liよりイオン半径の大きいKやNaをより多く含有でき、圧縮応力層の表面圧縮応力を高められる。
本発明によれば、化学強化ガラスは、圧縮応力層の深さDOLが60μm以上であるため、外部から衝撃が加えられた場合に、衝撃による変形が引張応力層まで伝わり難くなり、耐衝撃性を高められる。
According to the present invention, since the amount of triboelectric charge on the surface of the anti-fingerprint treatment layer is 0 kV or less and -1.5 kV or more, it is difficult for triboelectric charge even if a user's finger or the like comes into contact with the surface, and the display device can be used. When incorporated, it is possible to prevent white turbidity due to static electricity.
Further, according to the present invention, since triboelectric charging is suppressed by the physical characteristics of the cover glass, it is not necessary to provide a conductive layer, and white turbidity can be prevented without increasing the thickness and man-hours.
Further, according to the present invention, the chemically strengthened glass has the largest number of moles of Li among all alkali metals contained in the tensile stress layer. Therefore, the compressive stress layer can contain a larger amount of K and Na having a larger ionic radius than Li at the time of chemical strengthening, and the surface compressive stress of the compressive stress layer can be increased.
According to the present invention, since the depth DOL of the compressive stress layer of the chemically strengthened glass is 60 μm or more, when an impact is applied from the outside, the deformation due to the impact is not easily transmitted to the tensile stress layer, and the impact resistance Can be enhanced.

本発明では、前記化学強化ガラスは、引張応力層を構成する酸化物成分のうち、Li2O、Na2O、K2Oの濃度の合計をAモル%、Al23の濃度をBモル%としたとき、Aが14.5以上、かつ、A×Bが120以上であるのが好ましい。
あるいは、引張応力層を構成する酸化物成分のうち、Li2O、Na2O、K2Oの濃度の合計をC質量%、Al23の濃度をD質量%としたとき、Cが11以上、かつ、C×Dが140以上であるのが好ましい。
本発明によれば、ガラスの骨格形成に寄与せず、移動度が高く静電気と結びついて除電を行うLi2O、Na2O、K2Oを一定量以上含むため、表面に使用者の指等が接触してもより摩擦帯電がし難い。
また、本発明によれば、骨格形成に寄与し、かつLi2O、Na2O、K2Oと近接する傾向があるAl23も一定量以上含むため、Li2O、Na2O、K2OがAl23で形成される骨格の間に入り込んで距離を拡張する。そのため、Li2O、Na2O、K2Oが、より移動しやすくなり、表面に使用者の指等が接触してもより摩擦帯電がし難い。
In the present invention, in the chemically strengthened glass, the total concentration of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O among the oxide components constituting the tensile stress layer is A mol%, and the concentration of Al 2 O 3 is B. In terms of mol%, it is preferable that A is 14.5 or more and A × B is 120 or more.
Alternatively, when the total concentration of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O among the oxide components constituting the tensile stress layer is C mass% and the concentration of Al 2 O 3 is D mass%, C is It is preferable that the value is 11 or more and C × D is 140 or more.
According to the present invention, since Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O, which do not contribute to the formation of the skeleton of glass and have high mobility and perform static electricity elimination in combination with static electricity, are contained in a certain amount or more, the user's finger is on the surface. It is more difficult to be triboelectrically charged even if they come into contact with each other.
Further, according to the present invention, since Al 2 O 3 which contributes to skeleton formation and tends to be close to Li 2 O, Na 2 O and K 2 O is also contained in a certain amount or more, Li 2 O and Na 2 O are contained. , K 2 O penetrates between the skeletons formed by Al 2 O 3 to extend the distance. Therefore, Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are more easily moved, and even if the user's finger or the like comes into contact with the surface, triboelectric charging is less likely to occur.

本発明では、前記化学強化ガラスは、引張応力層を構成する酸化物成分のうち、SiO2、Al23、B23、P25の濃度の合計が81モル%以下であるのが好ましい。
あるいは、引張応力層を構成する酸化物成分のうち、SiO2、Al23、B23、P25の濃度の合計が82質量%以下であるのが好ましい。
本発明では、ガラスの骨格形成に寄与するため、移動度が低く、静電気と結びついて除電を行う作用が弱い成分であるSiO2、Al23、B23、P25の濃度を一定以下に抑制する。そのため、表面に使用者の指等が接触してもより摩擦帯電がし難い。
In the present invention, the chemically strengthened glass has a total concentration of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 among the oxide components constituting the tensile stress layer of 81 mol% or less. Is preferable.
Alternatively, it is preferable that the total concentration of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 among the oxide components constituting the tensile stress layer is 82% by mass or less.
In the present invention, since it contributes to the formation of the skeleton of glass, the concentrations of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 which have low mobility and have a weak action of removing static electricity in combination with static electricity. Is suppressed below a certain level. Therefore, even if the user's finger or the like comes into contact with the surface, triboelectric charging is less likely to occur.

本発明では、前記カバーガラスは、前記化学強化ガラスと前記指紋防止処理層の間に設けられた防眩機能層または反射防止層の少なくとも一方を備えるのが好ましい。
本発明では、カバーガラスが防眩機能層を備える場合、入射した光を散乱させ、入射光による映り込みをぼかすことができる。反射防止層を備える場合、入射した光の反射を防止でき、入射光による映り込みを防止できる。
In the present invention, the cover glass preferably includes at least one of an antiglare function layer and an antireflection layer provided between the chemically strengthened glass and the anti-fingerprint treatment layer.
In the present invention, when the cover glass is provided with the antiglare function layer, the incident light can be scattered and the reflection due to the incident light can be blurred. When the antireflection layer is provided, the reflection of the incident light can be prevented, and the reflection due to the incident light can be prevented.

本発明では、前記第2の主面上に設けられた遮光層を備えるのが好ましい。
本発明によれば、第2の主面上に遮光層が設けられるため、カバーガラスを表示装置に組み込んだ際に、表示装置側の配線を隠蔽したり、バックライトの照明光を隠蔽して、表示装置の周囲から照明光が漏れるのを防止したりできる。
In the present invention, it is preferable to provide a light-shielding layer provided on the second main surface.
According to the present invention, since the light-shielding layer is provided on the second main surface, when the cover glass is incorporated into the display device, the wiring on the display device side is concealed or the illumination light of the backlight is concealed. , It is possible to prevent the illumination light from leaking from the surroundings of the display device.

本発明では、前記遮光層は開口部を有するのが好ましく、前記開口部には、赤外線透過率が前記遮光層よりも高い赤外線透過層が設けられているのが好ましい。
本発明によれば、遮光層に赤外線透過層が設けられているので、赤外線センサを有する表示装置にカバーガラスを組み込んだ際に、赤外線センサを遮光層の裏側に設けることができ、かつ赤外線透過層を目立たなくできる。
In the present invention, the light-shielding layer preferably has an opening, and the opening is preferably provided with an infrared-transmitting layer having an infrared transmittance higher than that of the light-shielding layer.
According to the present invention, since the light-shielding layer is provided with the infrared-transmitting layer, the infrared sensor can be provided on the back side of the light-shielding layer when the cover glass is incorporated in the display device having the infrared sensor, and the infrared-transmitting is transmitted. You can make the layers inconspicuous.

本発明では、前記化学強化ガラスは屈曲ガラスであるのが好ましい。
本発明によれば、化学強化ガラスが屈曲ガラスであるため、カバーガラスを取り付ける相手側部材が屈曲形状を有していても、取り付けの精度が下がるおそれがない。
In the present invention, the chemically strengthened glass is preferably bent glass.
According to the present invention, since the chemically strengthened glass is bent glass, there is no possibility that the mounting accuracy will be lowered even if the mating member to which the cover glass is attached has a bent shape.

本発明では、防眩層を有する場合には、最表面にある前記指紋防止処理層の表面で測定した表面粗さがRaで0.01μm〜0.5μmであるのが好ましい。
本発明によれば、防眩層を有するカバーガラスの場合には、前記指紋防止処理層の表面で測定した表面粗さがRaで0.01μm〜0.5μmであるため、帯電を防止しつつ、視認性を確保できる。
なお、本明細書で「a〜b」とは下限値aと上限値bを表し、「下限値aと上限値b」をそれぞれ含むと解釈する。
In the present invention, when the antiglare layer is provided, the surface roughness measured on the surface of the anti-fingerprint treatment layer on the outermost surface is preferably 0.01 μm to 0.5 μm in Ra.
According to the present invention, in the case of a cover glass having an antiglare layer, the surface roughness measured on the surface of the anti-fingerprint treatment layer is 0.01 μm to 0.5 μm in Ra, so that while preventing charging. , Visibility can be ensured.
In the present specification, "a to b" represent a lower limit value a and an upper limit value b, and are interpreted to include "lower limit value a and upper limit value b", respectively.

本発明のインセル型液晶表示装置は、上記のいずれかのカバーガラスを備えることを特徴とする。
本発明によれば、カバーガラスで保護されたインセル型液晶表示装置を得られる。
The in-cell liquid crystal display device of the present invention is characterized by including any of the above-mentioned cover glasses.
According to the present invention, an in-cell liquid crystal display device protected by a cover glass can be obtained.

本発明の一実施形態に係るカバーガラスの断面図。Sectional drawing of the cover glass which concerns on one Embodiment of this invention. 変形例に係るカバーガラスの断面図。Sectional drawing of the cover glass which concerns on a modification. 変形例に係るカバーガラスの断面図。Sectional drawing of the cover glass which concerns on a modification. (A)は変形例に係るカバーガラスの斜視図、(B)は(A)のB−B断面図。(A) is a perspective view of the cover glass according to the modified example, and (B) is a sectional view taken along line BB of (A). 変形例に係るカバーガラスの断面図。Sectional drawing of the cover glass which concerns on a modification. 本発明の一実施形態に係るカバーガラスを備える表示装置の部分断面図。FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a display device including a cover glass according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。
〔カバーガラスの構成〕
まず、カバーガラスの構成について説明する。
図1に示すカバーガラス1は、化学強化ガラス2と、指紋防止処理層81を備える。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Composition of cover glass]
First, the configuration of the cover glass will be described.
The cover glass 1 shown in FIG. 1 includes a chemically strengthened glass 2 and an anti-fingerprint processing layer 81.

化学強化ガラス2は平面視で矩形であり、可視光が透過する。化学強化ガラス2は、第1の主面21と、第2の主面22と、端面23とを備える。端面23には、面取り部24が設けられる。 The chemically strengthened glass 2 is rectangular in a plan view and transmits visible light. The chemically strengthened glass 2 includes a first main surface 21, a second main surface 22, and an end surface 23. A chamfered portion 24 is provided on the end surface 23.

化学強化ガラス2は圧縮応力層25、32および引張応力層27を備える。圧縮応力層25、32は圧縮応力が作用する層(圧縮応力が0MPa以上の層)である。圧縮応力層25は第1の主面21側の表面に設けられ、圧縮応力層32は、第2の主面22側の表面に設けられる。圧縮応力層は端面23にも設けられるが、ここでは説明を省略する。
引張応力層27は、引張応力が作用する層(圧縮応力が0MPa未満の層)である。引張応力層27は、圧縮応力層25と圧縮応力層32の間に設けられる。
The chemically strengthened glass 2 includes compressive stress layers 25 and 32 and tensile stress layers 27. The compressive stress layers 25 and 32 are layers on which compressive stress acts (layers having a compressive stress of 0 MPa or more). The compressive stress layer 25 is provided on the surface on the first main surface 21 side, and the compressive stress layer 32 is provided on the surface on the second main surface 22 side. The compressive stress layer is also provided on the end face 23, but description thereof will be omitted here.
The tensile stress layer 27 is a layer on which tensile stress acts (a layer having a compressive stress of less than 0 MPa). The tensile stress layer 27 is provided between the compressive stress layer 25 and the compressive stress layer 32.

化学強化ガラス2は、引張応力層27の含有する全アルカリ金属のうち、Liのモル数が最も多い。Liのモル数が最も多い組成であることにより、圧縮応力層25、32は、化学強化の際に、Liよりイオン半径の大きいKやNaをより多く含有できる。Liのモル数は、より好ましくはNaのモル数に対して0.5倍以上、さらに好ましくは0.8以上である。 The chemically strengthened glass 2 has the largest number of moles of Li among all the alkali metals contained in the tensile stress layer 27. Since the composition has the largest number of moles of Li, the compressive stress layers 25 and 32 can contain a larger amount of K and Na having an ionic radius larger than that of Li at the time of chemical strengthening. The number of moles of Li is more preferably 0.5 times or more, still more preferably 0.8 or more with respect to the number of moles of Na.

化学強化ガラス2は、圧縮応力層25、32の深さDOL(Depth of Layer)が60μm以上である。DOLが60μm以上であることにより、外部から衝撃が加えられた場合に、衝撃による変形が引張応力層まで伝わり難くなり、ガラス表面の耐衝撃性を高めることができる。
より好ましくは、DOLが80μm〜250μmである。
DOLは、理論上は、板厚方向において、表面から圧縮応力が0MPaの位置までの深さを意味するが、EPMA(electron probe micro analyzer、電子線マイクロアナライザー)にてガラスの深さ方向のアルカリイオン濃度分析(この例の場合は化学強化で拡散したイオンの濃度分析)を行い、測定により得られたイオン拡散深さをDOLとみなすことができる。また、DOLは表面応力計(例えば、折原製作所製FSM−6000)等を用いても測定できる。
The chemically strengthened glass 2 has a depth DOL (Depth of Layer) of 60 μm or more at the compressive stress layers 25 and 32. When the DOL is 60 μm or more, when an impact is applied from the outside, the deformation due to the impact is less likely to be transmitted to the tensile stress layer, and the impact resistance of the glass surface can be improved.
More preferably, the DOL is 80 μm to 250 μm.
The DOL theoretically means the depth from the surface to the position where the compressive stress is 0 MPa in the plate thickness direction, but is alkali in the depth direction of the glass by EPMA (electron probe microanalyzer, electron probe microanalyzer). Ion concentration analysis (in this example, concentration analysis of ions diffused by chemical strengthening) can be performed, and the ion diffusion depth obtained by the measurement can be regarded as DOL. DOL can also be measured using a surface stress meter (for example, FSM-6000 manufactured by Orihara Seisakusho) or the like.

化学強化ガラス2は、引張応力層を構成する酸化物成分のうち、Li2O、Na2O、K2Oの濃度の合計をAモル%、Al23の濃度をBモル%としたとき、Aが14.5以上、かつ、A×Bが120以上であるのが好ましい。より好ましくは、Aが15〜20、A×Bが170〜300である。 In the chemically strengthened glass 2, the total concentration of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O among the oxide components constituting the tensile stress layer was A mol%, and the concentration of Al 2 O 3 was B mol%. At that time, it is preferable that A is 14.5 or more and A × B is 120 or more. More preferably, A is 15 to 20 and A × B is 170 to 300.

なお、Aを質量で表す場合(C質量%とする)は、Li2O、Na2O、K2Oの合計に対する各成分のモル比にもよるが、11以上が好ましく、12〜20がより好ましい。
A×Bを質量で表す場合(C質量%×D質量%とする)も、Li2O、Na2O、K2Oの合計に対する各成分のモル比にもよるが、140以上が好ましく、150〜400がより好ましい。
理由は以下の通りである。
When A is expressed by mass (C mass%), it is preferably 11 or more, preferably 12 to 20, although it depends on the molar ratio of each component to the total of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O. More preferred.
When A × B is expressed by mass (C mass% × D mass%), 140 or more is preferable, although it depends on the molar ratio of each component to the total of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O. 150-400 is more preferable.
The reason is as follows.

ガラスを構成する成分は、ガラスの骨格形成に寄与する成分(ネットワークフォーマーともいう)と、骨格形成に寄与しない成分とに大別できる。
このうち、帯電を防止する観点からは、骨格形成に寄与しない成分が多い方が好ましい。骨格形成に寄与しない成分は、寄与する成分よりも、移動度が高いため、静電気と結びついて除電を行うと考えられるためである。Li2O、Na2O、K2Oは、ガラスにおいては、骨格形成に寄与しない成分であるので、多い方が好ましい。これがAを規定する根拠である。
また、Al23は、骨格形成に寄与する成分としても、寄与しない成分としてもふるまう。骨格形成に寄与する場合、Li2O、Na2O、K2Oと近接する傾向にある。近接すると、Li2O、Na2O、K2Oが骨格を形成する成分の間に入り込んで、骨格間の距離を拡張する。骨格間の距離を拡張すると、骨格形成に寄与しない成分が骨格間を移動しやすくなり、移動度が上昇するため、好ましい。これがA×Bを規定する理由である。
The components that make up glass can be broadly divided into components that contribute to the formation of the skeleton of glass (also called network formers) and components that do not contribute to the formation of the skeleton.
Of these, from the viewpoint of preventing charging, it is preferable that there are many components that do not contribute to skeleton formation. This is because the components that do not contribute to skeleton formation have higher mobility than the components that contribute to skeleton formation, and are therefore considered to be combined with static electricity to eliminate static electricity. Since Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are components that do not contribute to skeleton formation in glass, a large amount is preferable. This is the basis for defining A.
In addition, Al 2 O 3 behaves as a component that contributes to skeleton formation or as a component that does not contribute to skeleton formation. When contributing to skeleton formation, it tends to be close to Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O. In close proximity, Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O enter between the components that form the skeleton, increasing the distance between the skeletons. Increasing the distance between skeletons is preferable because components that do not contribute to skeleton formation can easily move between skeletons and the mobility increases. This is the reason for defining AxB.

なお、摩擦帯電は、圧縮応力層25の表面で生じる現象であるが、引張応力層27の好ましい組成を規定する理由は以下の通りである。
摩擦帯電に影響するのはガラスの骨格であるため、本来はガラスの構造を規定するのが望ましい。しかしながら、ガラスは非晶質であり、構造を特定し難い場合があるため、組成で規定するのが好ましい。一方で、圧縮応力層25は化学強化により、イオン交換が行われているため、引張応力層27とは組成が異なるが、ガラスのネットワーク構造は同じである。仮に圧縮応力層25の組成と同じ組成のガラスを化学強化なしで製造すると、ネットワーク構造が異なってしまうため、圧縮応力層25の組成で圧縮応力層25の構造を特定することは困難である。よって、引張応力層27の組成を特定することにより、引張応力層27の構造を特定し、化学強化しても引張応力層27と圧縮応力層25の構造が変わらないことを利用して、引張応力層27の組成から圧縮応力層25の構造を特定する。
Triboelectric charging is a phenomenon that occurs on the surface of the compressive stress layer 25, and the reason for defining a preferable composition of the tensile stress layer 27 is as follows.
Since it is the skeleton of the glass that affects triboelectric charging, it is desirable to define the structure of the glass. However, since glass is amorphous and it may be difficult to specify the structure, it is preferable to specify the composition. On the other hand, since the compressive stress layer 25 is ion-exchanged by chemical strengthening, the composition is different from that of the tensile stress layer 27, but the glass network structure is the same. If glass having the same composition as that of the compressive stress layer 25 is manufactured without chemical strengthening, the network structure will be different, so that it is difficult to specify the structure of the compressive stress layer 25 by the composition of the compressive stress layer 25. Therefore, by specifying the composition of the tensile stress layer 27, the structure of the tensile stress layer 27 is specified, and the structures of the tensile stress layer 27 and the compressive stress layer 25 do not change even if they are chemically strengthened. The structure of the compressive stress layer 25 is specified from the composition of the stress layer 27.

化学強化ガラス2は、引張応力層27を構成する酸化物成分のうち、SiO2、Al23、B23、P25の濃度の合計が81モル%以下であるのが好ましい。これらの元素はガラスの骨格形成に寄与する成分であるため、含有量が少ない方が、除電に寄与する成分が多くなるためである。また、含有量が少ない方が、骨格を形成する成分間の距離が広くなり、骨格形成に寄与しない成分の移動度が上がるためである。
なお、摩擦帯電は、圧縮応力層25の表面で生じる現象であるが、引張応力層の好ましい組成を規定する理由は、AとBを規定する理由と同じである。
In the chemically strengthened glass 2, the total concentration of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 among the oxide components constituting the tensile stress layer 27 is preferably 81 mol% or less. .. This is because these elements are components that contribute to the formation of the skeleton of glass, and the smaller the content, the greater the components that contribute to static elimination. Further, the smaller the content, the wider the distance between the components forming the skeleton, and the higher the mobility of the components that do not contribute to the skeleton formation.
Triboelectric charging is a phenomenon that occurs on the surface of the compressive stress layer 25, but the reason for defining the preferable composition of the tensile stress layer is the same as the reason for defining A and B.

なお、SiO2、Al23、B23、P25の濃度の合計を質量%で表す場合は、これらの合計に対する各成分のモル比にもよるが、82質量%以下が好ましく、70質量%〜81質量%がより好ましい。 When the total concentration of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 is expressed in mass%, it is 82% by mass or less, although it depends on the molar ratio of each component to the total. It is preferably 70% by mass to 81% by mass, more preferably.

より具体的な引張応力層27の組成としては、酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2を55%〜68%、Al23を10%〜25%、B23を0%〜5%、P25を0%〜15%、Li2Oを0%〜8%、Na2Oを1%〜20%、K2Oを0.1%〜10%、MgOを0%〜10%、CaOを0%〜5%、SrOを0%〜5%、BaOを0%〜5%、ZnOを0%〜5%、TiO2を0%〜1%、ZrO2を0%〜5%、及びFe23を0.005%〜0.1%含有するガラス組成が好ましい。
引張応力層27の組成は、化学分析、吸光光度分析、原子吸光分析、蛍光X線分析等の、公知の組成分析方法で定量できる。測定位置は、引張応力層27の任意の位置であるが、ガラス基板の厚さ方向の中心位置で、かつ平面上の重心位置が好ましい。
As a more specific composition of the tensile stress layer 27, in terms of mass percentage display based on oxide, SiO 2 is 55% to 68%, Al 2 O 3 is 10% to 25%, and B 2 O 3 is 0% to 0%. 5%, P 2 O 5 0% -15%, Li 2 O 0% -8%, Na 2 O 1% -20%, K 2 O 0.1% -10%, Mg O 0% 10%, CaO 0% -5%, SrO 0% -5%, BaO 0% -5%, ZnO 0% -5%, TiO 2 0% -1%, ZrO 2 0% A glass composition containing ~ 5% and 0.005% to 0.1% of Fe 2 O 3 is preferable.
The composition of the tensile stress layer 27 can be quantified by a known composition analysis method such as chemical analysis, absorptiometry, atomic absorption spectroscopy, and fluorescent X-ray analysis. The measurement position is an arbitrary position of the tensile stress layer 27, but a center position in the thickness direction of the glass substrate and a position of the center of gravity on a plane are preferable.

上述した引張応力層27の好ましいガラス組成における各成分について、以下に例示する。 Each component in the preferable glass composition of the above-mentioned tensile stress layer 27 is exemplified below.

SiO2はガラスの骨格を構成する成分である。また、化学的耐久性を上げる成分であり、ガラス表面に傷(圧痕)がついた時のクラックの発生を低減させる成分である。クラックの発生を抑制するために、SiO2含有量は55%以上が好ましく、56%以上がより好ましく、56.5%以上がさらに好ましく、58%以上が特に好ましい。一方、ガラス中で除電に寄与する元素の移動度を向上させるため、およびガラス製造工程における溶融性を向上させるためには、SiO2含有量は68%以下が好ましく、より好ましくは65%以下、さらに好ましくは63%以下、特に好ましくは61%以下である。 SiO 2 is a component that constitutes the skeleton of glass. In addition, it is a component that increases chemical durability and reduces the occurrence of cracks when the glass surface is scratched (indented). In order to suppress the occurrence of cracks, the SiO 2 content is preferably 55% or more, more preferably 56% or more, further preferably 56.5% or more, and particularly preferably 58% or more. On the other hand, in order to improve the mobility of the element contributing to static elimination in the glass and to improve the meltability in the glass manufacturing process, the SiO 2 content is preferably 68% or less, more preferably 65% or less. It is more preferably 63% or less, and particularly preferably 61% or less.

Al23は化学強化処理の際のイオン交換性能を向上させ、化学強化後の表面圧縮応力CSを大きくするために有効な成分である。また、ガラスの破壊靭性値を向上する効果がある。また、ガラスのTgを高くする成分であり、ヤング率を高くする成分でもある。ガラス中で除電に寄与する元素の移動度を向上させる効果も有する。これらの特性を高めるためには、Al23含有量は10%以上が好ましく、12%以上がより好ましい。また破壊靭性値を大きくするためには14%以上がさらに好ましい。一方、ガラス中で除電に寄与する元素の含有量を増やすという観点、およびガラスの耐酸性を保持し、失透温度を低くするという観点からは、Al23の含有量は、好ましくは25%以下、より好ましくは23%以下である。 Al 2 O 3 is an effective component for improving the ion exchange performance during the chemical strengthening treatment and increasing the surface compressive stress CS after the chemical strengthening. It also has the effect of improving the fracture toughness value of glass. It is also a component that increases the Tg of glass and is also a component that increases Young's modulus. It also has the effect of improving the mobility of elements that contribute to static elimination in glass. In order to enhance these properties, the Al 2 O 3 content is preferably 10% or more, more preferably 12% or more. Further, in order to increase the fracture toughness value, 14% or more is more preferable. On the other hand, from the viewpoint of increasing the content of elements contributing to static elimination in the glass and from the viewpoint of maintaining the acid resistance of the glass and lowering the devitrification temperature, the content of Al 2 O 3 is preferably 25. % Or less, more preferably 23% or less.

また、Al23はリチウムアルミノシリケート結晶の構成成分である。曲げ成形時の結晶析出を抑制するためには、Al23の含有量は好ましくは22%以下、より好ましくは20%以下、さらに好ましくは19%以下である。 Al 2 O 3 is a constituent of lithium aluminosilicate crystals. In order to suppress crystal precipitation during bending, the content of Al 2 O 3 is preferably 22% or less, more preferably 20% or less, still more preferably 19% or less.

23は、ガラスの溶融性を向上させる成分である。また、ガラスのチッピング耐性を向上させる成分である。B23は必須ではないが、含有させる場合の含有量は、溶融性を向上するために、好ましくは0.1%以上、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。一方、ガラス中で除電に寄与する元素の移動度を向上させるという観点、および溶融時に脈理が発生するのを防ぐという観点からは、B23の含有量は好ましくは5%以下、より好ましくは4%以下、さらに好ましくは3%以下であり、特に好ましくは2.5%以下である。 B 2 O 3 is a component that improves the meltability of glass. It is also a component that improves the chipping resistance of glass. B 2 O 3 is not essential, but the content when it is contained is preferably 0.1% or more, more preferably 0.5% or more, still more preferably 1% or more in order to improve the meltability. is there. On the other hand, from the viewpoint of improving the mobility of the elements that contribute to static elimination in the glass and from the viewpoint of preventing the occurrence of veins during melting, the content of B 2 O 3 is preferably 5% or less. It is preferably 4% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 2.5% or less.

25は、化学強化処理時のイオン交換性能、および、チッピング耐性を向上させる成分である。P25は必須ではないが、含有させる場合の含有量は、好ましくは0.1%以上、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは2%以上である。一方、耐酸性を確保し、帯電を防止するためには、好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは8%以下、さらに好ましくは6%以下、特に好ましくは4%以下である。 P 2 O 5 is a component that improves ion exchange performance and chipping resistance during chemical strengthening treatment. Although P 2 O 5 is not essential, the content when it is contained is preferably 0.1% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 2% or more. On the other hand, in order to secure acid resistance and prevent charging, it is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, further preferably 8% or less, further preferably 6% or less, and particularly preferably 4% or less. is there.

Li2Oは、硝酸ナトリウム等のナトリウム塩による化学強化処理で、表面圧縮応力層を形成させる成分である。ガラス中で除電に寄与する物質でもある。
Li2Oの含有量は、含有させる効果を得るためには0.1%以上であるのが好ましく、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは2%以上である。一方、耐候性を確保する観点からは8%以下が好ましい。また、曲げ成形時の結晶析出を抑制するためには、7%以下が好ましく、6%以下がより好ましい。
Li 2 O is a component that forms a surface compressive stress layer by chemical strengthening treatment with a sodium salt such as sodium nitrate. It is also a substance that contributes to static elimination in glass.
The content of Li 2 O is preferably 0.1% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 2% or more in order to obtain the effect of containing it. On the other hand, from the viewpoint of ensuring weather resistance, 8% or less is preferable. Further, in order to suppress crystal precipitation during bending molding, 7% or less is preferable, and 6% or less is more preferable.

Na2Oは、カリウム塩を用いる化学強化処理において表面圧縮応力層を形成させる成分であり、ガラスの溶融性を向上させ得る成分である。ガラス中で除電に寄与する物質でもある。
その効果を得るために、Na2Oの含有量は、1%以上が好ましく、より好ましくは1.5%以上、さらに好ましくは2%以上である。一方、表面圧縮応力CSを向上させるためには、20%以下が好ましく、16%以下がより好ましく、14%以下がさらに好ましく、8%以下が特に好ましい。
Na 2 O is a component that forms a surface compressive stress layer in a chemical strengthening treatment using a potassium salt, and is a component that can improve the meltability of glass. It is also a substance that contributes to static elimination in glass.
In order to obtain the effect, the content of Na 2 O is preferably 1% or more, more preferably 1.5% or more, still more preferably 2% or more. On the other hand, in order to improve the surface compressive stress CS, 20% or less is preferable, 16% or less is more preferable, 14% or less is further preferable, and 8% or less is particularly preferable.

2Oは、ガラスの溶融性を向上させる物質である。ガラス中で除電に寄与する物質でもある。K2Oを含有させる場合の含有量は、好ましくは0.1%以上であり、より好ましくは0.5%以上である。一方、化学強化ガラスの破砕性を確保するという観点からは、K2Oの含有量は8%以下が好ましく、5%以下がより好ましく、3%以下がさらに好ましい。 K 2 O is a substance that improves the meltability of glass. It is also a substance that contributes to static elimination in glass. When K 2 O is contained, the content is preferably 0.1% or more, more preferably 0.5% or more. On the other hand, from the viewpoint of ensuring the crushability of the chemically strengthened glass, the K 2 O content is preferably 8% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 3% or less.

MgOは必須ではないが、化学強化ガラスの表面圧縮応力CSを増大させるために、含有させることが好ましい。また、破壊靱性値を向上する効果がある。そのため、MgOの含有量は、好ましくは0.1%以上であり、より好ましくは、0.5%以上、さらに好ましくは2%以上である。一方、ガラス溶融時の失透を抑制するために、MgOの含有量は10%以下が好ましく、8%以下がより好ましく、6%以下がさらに好ましい。 MgO is not essential, but it is preferably contained in order to increase the surface compressive stress CS of the chemically strengthened glass. It also has the effect of improving the fracture toughness value. Therefore, the content of MgO is preferably 0.1% or more, more preferably 0.5% or more, still more preferably 2% or more. On the other hand, in order to suppress devitrification during glass melting, the MgO content is preferably 10% or less, more preferably 8% or less, still more preferably 6% or less.

CaOは必須ではないが、ガラスの溶融性を向上させる成分であり、含有させてもよい。CaOを含有させる場合の含有量は、好ましくは0.05%以上であり、より好ましくは0.1%以上、さらに好ましくは0.15%以上である。一方、化学強化処理時のイオン交換性能を確保する観点からは、5%以下が好ましく、2%以下がより好ましく1.5%以下がさらに好ましい。 CaO is not essential, but it is a component that improves the meltability of glass and may be contained. When CaO is contained, the content is preferably 0.05% or more, more preferably 0.1% or more, still more preferably 0.15% or more. On the other hand, from the viewpoint of ensuring the ion exchange performance during the chemical strengthening treatment, 5% or less is preferable, 2% or less is more preferable, and 1.5% or less is further preferable.

SrOは必須ではないが、ガラスの溶融性を向上させる成分であり、含有させてもよい。含有させる場合の含有量は、好ましくは0.05%以上、より好ましくは0.1%以上、さらに好ましくは0.5%以上である。一方、化学強化処理時のイオン交換性能を高くするために、SrOの含有量は5%以下が好ましく、3.5%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。 Although SrO is not essential, it is a component that improves the meltability of glass and may be contained. The content when contained is preferably 0.05% or more, more preferably 0.1% or more, still more preferably 0.5% or more. On the other hand, in order to improve the ion exchange performance during the chemical strengthening treatment, the SrO content is preferably 5% or less, more preferably 3.5% or less, further preferably 2% or less, and substantially not contained. Especially preferable.

BaOは必須ではないがガラスの溶融性を向上させる成分であり、含有させてもよい。含有させる場合の含有量は、好ましくは0.1%以上、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。一方、化学強化処理時のイオン交換性能を高くするために、BaOの含有量は5%以下が好ましく、3%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。 BaO is a component that improves the meltability of glass, although it is not essential, and may be contained. The content when contained is preferably 0.1% or more, more preferably 0.5% or more, still more preferably 1% or more. On the other hand, in order to improve the ion exchange performance during the chemical strengthening treatment, the BaO content is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 2% or less, and further preferably substantially not contained. ..

ZnOはガラスの溶融性を向上させる成分であり、含有させてもよい。ZnOを含有させる場合の含有量は、好ましくは0.05%以上であり、より好ましくは0.1%以上である。一方、ZnO含有量が5%以下であるとガラスの耐候性を高くできるので好ましい。ZnOの含有量は3%以下がより好ましく、さらに好ましくは1%以下であり、実質的に含有しないことが特に好ましい。 ZnO is a component that improves the meltability of glass and may be contained. When ZnO is contained, the content is preferably 0.05% or more, more preferably 0.1% or more. On the other hand, when the ZnO content is 5% or less, the weather resistance of the glass can be increased, which is preferable. The content of ZnO is more preferably 3% or less, further preferably 1% or less, and it is particularly preferable that the ZnO content is substantially not contained.

TiO2は、ソラリゼーションによるガラスの色調変化を抑制する成分であり、含有させてもよい。TiO2を含有させる場合の含有量は、好ましくは0.01%以上であり、より好ましくは0.03%以上、さらに好ましくは0.05%以上、特に好ましくは0.1%以上である。一方、溶融時の失透を抑制するためには1%以下が好ましく、より好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.2%以下である。 TiO 2 is a component that suppresses a change in the color tone of glass due to solarization, and may be contained. When TiO 2 is contained, the content is preferably 0.01% or more, more preferably 0.03% or more, still more preferably 0.05% or more, and particularly preferably 0.1% or more. On the other hand, in order to suppress devitrification at the time of melting, it is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, still more preferably 0.2% or less.

ZrO2は、化学強化処理時にイオン交換による表面圧縮応力CSを増大させる成分であり、含有させてもよい。これらを含有させる場合の含有量は、好ましくは0.1%以上であり、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。一方、溶融時の失透を抑制し、化学強化ガラスの品質を高めるためには、5%以下が好ましく、より好ましくは3%以下であり、特に好ましくは2.5%以下である。 ZrO 2 is a component that increases the surface compressive stress CS due to ion exchange during the chemical strengthening treatment, and may be contained. When these are contained, the content is preferably 0.1% or more, more preferably 0.5% or more, still more preferably 1% or more. On the other hand, in order to suppress devitrification during melting and improve the quality of the chemically strengthened glass, it is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 2.5% or less.

Fe23は熱線を吸収するのでガラスの溶解性を向上させる効果があり、大型の溶解窯を用いてガラスを大量生産する場合には、含有することが好ましい。その場合の含有量は好ましくは0.005%以上、より好ましくは0.006%以上、さらに好ましくは0.007%以上である。一方、過剰に含有すると着色が生じるので、ガラスの透明性を高めるためには0.1%以下が好ましく、より好ましくは0.05%以下、さらに好ましくは0.02%以下、特に好ましくは0.015%以下である。
なお、ここではガラス中の鉄酸化物をすべてFe23として説明したが、実際には、酸化状態のFe(III)と還元状態のFe(II)が混在しているのが普通である。このうちFe(III)は黄色の着色を生じ、Fe(II)は青色の着色を生じ、両者のバランスでガラスに緑色の着色が生じる。
Since Fe 2 O 3 absorbs heat rays, it has the effect of improving the solubility of glass, and is preferably contained when glass is mass-produced using a large melting kiln. In that case, the content is preferably 0.005% or more, more preferably 0.006% or more, still more preferably 0.007% or more. On the other hand, if it is contained in an excessive amount, coloring occurs. Therefore, in order to increase the transparency of the glass, 0.1% or less is preferable, 0.05% or less is more preferable, 0.02% or less is more preferable, and 0 is particularly preferable. It is less than .015%.
Although all the iron oxides in the glass have been described as Fe 2 O 3 here, in reality, Fe (III) in the oxidized state and Fe (II) in the reduced state are usually mixed. .. Of these, Fe (III) produces yellow coloring, Fe (II) produces blue coloring, and the balance between the two produces green coloring in the glass.

23、La23、Nb25を含有させてもよい。これらの成分を含有させる場合の合計の含有量は、好ましくは0.01%以上であり、より好ましくは0.05%以上、さらに好ましくは0.1%以上であり、特に好ましくは0.15%以上、最も好ましくは1%以上である。一方、Y23、La23、Nb25の含有量が多すぎると、溶融時にガラスが失透しやすくなり、化学強化ガラスの品質が低下する恐れがあるため、これらの含有量は合計で7%以下とすることが好ましい。Y23、La23、Nb25の含有量の合計は、より好ましくは6%以下、さらに好ましくは5%以下、特に好ましくは4%以下であり、最も好ましくは3.5%以下である。 Y 2 O 3 , La 2 O 3 , and Nb 2 O 5 may be contained. When these components are contained, the total content is preferably 0.01% or more, more preferably 0.05% or more, still more preferably 0.1% or more, and particularly preferably 0.15. % Or more, most preferably 1% or more. On the other hand, if the contents of Y 2 O 3 , La 2 O 3 , and Nb 2 O 5 are too large, the glass tends to be devitrified at the time of melting, and the quality of the chemically strengthened glass may deteriorate. The total amount is preferably 7% or less. The total content of Y 2 O 3 , La 2 O 3 , and Nb 2 O 5 is more preferably 6% or less, further preferably 5% or less, particularly preferably 4% or less, and most preferably 3.5. % Or less.

Ta25、Gd23は、化学強化ガラスの破砕性を改善するために少量含有してもよいが、屈折率や反射率が高くなるので5%以下が好ましく、2%以下がより好ましく、含有しないことがさらに好ましい。 Ta 2 O 5 and Gd 2 O 3 may be contained in a small amount in order to improve the crushability of the chemically strengthened glass, but 5% or less is preferable and 2% or less is more preferable because the refractive index and reflectance are high. It is preferable, and it is more preferable that it is not contained.

さらに、ガラスに着色する場合は、所望の化学強化特性の達成を阻害しない範囲において着色成分を添加してもよい。着色成分としては、例えば、Co34、MnO2、NiO、CuO、Cr23、V25、Bi23、SeO2、CeO2、Er23、Nd33等が好適なものとして挙げられる。
着色成分の含有量は合計で7%以下であると失透等の問題が生じにくいので好ましい。この含量は好ましくは5%以下であり、より好ましくは3%以下であり、さらに好ましくは2%以下である。ガラスの可視光透過率を優先させる場合は、これらの成分は実質的に含有しないことが好ましい。
Further, when coloring the glass, a coloring component may be added as long as the achievement of the desired chemical strengthening property is not hindered. Examples of the coloring component include Co 3 O 4 , MnO 2 , NiO, CuO, Cr 2 O 3 , V 2 O 5 , Bi 2 O 3 , SeO 2 , CeO 2 , Er 2 O 3 , Nd 3 O 3, and the like. Is mentioned as a suitable one.
It is preferable that the total content of the coloring components is 7% or less because problems such as devitrification are unlikely to occur. This content is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, still more preferably 2% or less. When giving priority to the visible light transmittance of glass, it is preferable that these components are not substantially contained.

ガラスの溶融の際の清澄剤として、SO3、塩化物、フッ化物などを適宜含有してもよい。As23は環境負荷が大きいので含有しないことが好ましい。Sb23を含有する場合は、1%以下が好ましく、0.5%以下がより好ましく、含有しないことが最も好ましい。 SO 3 , chloride, fluoride and the like may be appropriately contained as a fining agent when melting glass. As 2 O 3 has a large environmental load, so it is preferable not to contain it. When Sb 2 O 3 is contained, it is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and most preferably not contained.

化学強化ガラス2は、表面圧縮応力CSが300MPa〜1500MPaであるのが好ましい。
300MPa以上であることにより、カバーガラスとして必要な曲げ強度を保持することできる。1500MPa以下であることにより、割れたときに粉々に飛散することを防ぐことができる。より好ましくは800MPa〜1200MPaである。
表面圧縮応力CSは、ここではガラス最表面の圧縮応力を意味する。表面圧縮応力CSは、表面応力計(例えば、折原製作所製FSM−6000)等を用いて測定できる。
The chemically strengthened glass 2 preferably has a surface compressive stress CS of 300 MPa to 1500 MPa.
When it is 300 MPa or more, the bending strength required for the cover glass can be maintained. When it is 1500 MPa or less, it is possible to prevent it from being scattered into pieces when it is cracked. More preferably, it is 800 MPa to 1200 MPa.
The surface compressive stress CS here means the compressive stress on the outermost surface of the glass. The surface compressive stress CS can be measured using a surface stress meter (for example, FSM-6000 manufactured by Orihara Seisakusho) or the like.

化学強化ガラス2は、内部引張応力CTが20MPa〜100MPaであるのが好ましい。
20MPa以上であることにより、反作用として存在する圧縮応力が適切な応力値と深さである状態を達成できる。100MPa以下であることにより、割れたときに粉々に飛散することを防ぐことができる。より好ましくは40MPa〜85MPaである。
内部引張応力CTは、カバーガラス1の厚みをtとすると、関係式CT=(CS×DOL)/(t−2×DOL)により近似的に求められる。
The chemically strengthened glass 2 preferably has an internal tensile stress CT of 20 MPa to 100 MPa.
When it is 20 MPa or more, it is possible to achieve a state in which the compressive stress existing as a reaction has an appropriate stress value and depth. When it is 100 MPa or less, it can be prevented from being scattered into pieces when it is cracked. More preferably, it is 40 MPa to 85 MPa.
The internal tensile stress CT is approximately obtained by the relational expression CT = (CS × DOL) / (t-2 × DOL), where t is the thickness of the cover glass 1.

指紋防止処理層81は、第2の主面22に人間の指が触れた際に、指紋、皮脂、汗等による汚れが付着するのを低減する層である。 The anti-fingerprint processing layer 81 is a layer that reduces the adhesion of stains due to fingerprints, sebum, sweat, etc. when a human finger touches the second main surface 22.

指紋防止処理層81の構成材料は、防汚性、撥水性、撥油性を付与できるフッ素含有有機化合物等から適宜選択できる。具体的には、含フッ素有機ケイ素化合物や、含フッ素加水分解性化合物が挙げられる。フッ素含有有機化合物は、防汚性、撥水性および撥油性を付与できれば、特に制限なく使用できる。
なお、フッ素含有有機化合物は、本来は化学強化ガラス上に形成すると、指で触れた際に帯電しやすい特性を有するが、本実施形態では、指紋防止処理層81の表面の摩擦帯電量が0kV以下、−1.5kV以上であるため、帯電を抑制できる。
The constituent material of the fingerprint prevention treatment layer 81 can be appropriately selected from a fluorine-containing organic compound and the like that can impart antifouling property, water repellency, and oil repellency. Specific examples thereof include a fluorine-containing organosilicon compound and a fluorine-containing hydrolyzable compound. The fluorine-containing organic compound can be used without particular limitation as long as it can impart antifouling property, water repellency and oil repellency.
The fluorine-containing organic compound originally has a property of being easily charged when touched with a finger when formed on chemically strengthened glass, but in the present embodiment, the triboelectric amount on the surface of the fingerprint prevention treatment layer 81 is 0 kV. Hereinafter, since it is −1.5 kV or more, charging can be suppressed.

指紋防止処理層81を形成する含フッ素有機ケイ素化合物被膜は、透明基板の主面または防眩層の処理面に反射防止層が形成される場合には、当該反射防止層の表面に形成されることが好ましい。また、透明基板として防眩処理、化学強化処理等の表面処理が施され、反射防止層が形成されないガラス基板を用いる場合には、含フッ素有機ケイ素化合物被膜は、これら表面処理の施された面に直接形成されることが好ましい。 The fluorine-containing organosilicon compound coating forming the anti-fingerprint treatment layer 81 is formed on the surface of the antireflection layer when the antireflection layer is formed on the main surface of the transparent substrate or the treatment surface of the antiglare layer. Is preferable. Further, when a glass substrate that has been subjected to surface treatment such as antiglare treatment or chemical strengthening treatment as the transparent substrate and does not form an antireflection layer is used, the fluorine-containing organosilicon compound coating is the surface to which these surface treatments have been applied. It is preferably formed directly on.

指紋防止処理層81において、含フッ素有機ケイ素化合物被膜の形成に用いる含フッ素加水分解性ケイ素化合物は、得られる含フッ素有機ケイ素化合物被膜が、撥水性、撥油性等の防汚性を有するものであれば特に制限はない。具体的には、パーフルオロポリエーテル基、パーフルオロアルキレン基、およびパーフルオロアルキル基からなる群から選ばれる、1つ以上の基を有する、含フッ素加水分解性ケイ素化合物が挙げられる。 In the anti-fingerprint treatment layer 81, the fluorine-containing organosilicon compound film used for forming the fluorine-containing organosilicon compound film is such that the obtained fluorine-containing organosilicon compound film has antifouling properties such as water repellency and oil repellency. If there is, there is no particular limitation. Specific examples thereof include a fluorine-containing hydrolyzable silicon compound having one or more groups selected from the group consisting of a perfluoropolyether group, a perfluoroalkylene group, and a perfluoroalkyl group.

指紋防止処理層81の層厚は、特に制限されないが、2nm〜20nmが好ましく、2nm〜15nmがより好ましく、3nm〜10nmがさらに好ましい。層厚が2nm以上であれば、指紋防止処理層81によって反射防止層の表面が均一に覆われた状態となり、指紋防止性、耐擦り性が実用に耐えるものとなる。また、層厚が20nm以下であれば、指紋防止処理層81が積層された状態での視感反射率やヘイズ値等の光学特性が良好である。 The layer thickness of the anti-fingerprint treatment layer 81 is not particularly limited, but is preferably 2 nm to 20 nm, more preferably 2 nm to 15 nm, and even more preferably 3 nm to 10 nm. When the layer thickness is 2 nm or more, the surface of the antireflection layer is uniformly covered by the anti-fingerprint treatment layer 81, and the anti-fingerprint property and the anti-scratch property can be put into practical use. Further, when the layer thickness is 20 nm or less, the optical characteristics such as the visual reflectance and the haze value in the state where the fingerprint prevention processing layer 81 is laminated are good.

カバーガラス1は、指紋防止処理層81表面での摩擦帯電量が0kV以下、−1.5kV以上である。ここでいう摩擦帯電量は、JIS L1094:2014に記載のD法(摩擦帯電減衰測定法)により求められた、摩擦帯電量を意味する。フッ素系の指紋防止処理層は上記評価方法では負に帯電するが、−1.5kV以上であることにより、帯電を防止できる。
より好ましくは0kV〜−1kVである。
以上が、カバーガラス1の構成の説明である。
The cover glass 1 has a triboelectric charge amount of 0 kV or less and −1.5 kV or more on the surface of the anti-fingerprint treatment layer 81. The triboelectric charge amount referred to here means the triboelectric charge amount obtained by the D method (triboelectric attenuation measurement method) described in JIS L1094: 2014. The fluorine-based anti-fingerprint treatment layer is negatively charged in the above evaluation method, but can be prevented from being charged when it is −1.5 kV or higher.
More preferably, it is 0 kV to -1 kV.
The above is the description of the configuration of the cover glass 1.

〔カバーガラス1の製造方法〕
次に、カバーガラス1の製造方法の例について説明する。
[Manufacturing method of cover glass 1]
Next, an example of a method for manufacturing the cover glass 1 will be described.

まず、化学強化ガラス2を製造する。
化学強化ガラス2は、一般的なガラス製造方法によって製造された化学強化用ガラスを、化学強化処理して製造される。
化学強化処理は、ガラスの表面にイオン交換処理を施し、圧縮応力を有する表面層を形成させる処理である。具体的には、化学強化用ガラスのガラス転移点以下の温度でイオン交換処理を行い、ガラス板表面付近に存在するイオン半径が小さな金属イオン(典型的には、LiイオンまたはNaイオン)を、イオン半径のより大きいイオン(典型的には、Liイオンに対してはNaイオンまたはKイオンであり、Naイオンに対してはKイオン)に置換する。
First, the chemically strengthened glass 2 is manufactured.
The chemically strengthened glass 2 is produced by chemically strengthening glass for chemically strengthening produced by a general glass manufacturing method.
The chemical strengthening treatment is a treatment in which the surface of glass is subjected to an ion exchange treatment to form a surface layer having compressive stress. Specifically, the ion exchange treatment is performed at a temperature below the glass transition point of the chemically strengthened glass, and metal ions (typically Li ions or Na ions) having a small ionic radius existing near the surface of the glass plate are transferred. Substitute with ions having a larger ionic radius (typically Na or K ions for Li ions and K ions for Na ions).

本強化ガラスは、例えば前述の引張応力層27の組成を有する化学強化用ガラスを、化学強化処理して製造できる。
なお、下記の製造方法は、板状の化学強化ガラスを製造する場合の例である。
The present tempered glass can be produced, for example, by chemically strengthening the chemically strengthened glass having the composition of the above-mentioned tensile stress layer 27.
The following manufacturing method is an example of manufacturing a plate-shaped chemically strengthened glass.

まず、ガラス原料を調合し、ガラス溶融窯で加熱溶融する。その後、バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、従来公知の成形法により所定の厚さのガラス板に成形し、徐冷する。またはブロック状に成形して徐冷した後に切断する方法で板状に成形してもよい。 First, the glass raw material is prepared and heated and melted in a glass melting kiln. Then, the glass is homogenized by bubbling, stirring, addition of a fining agent, etc., molded into a glass plate having a predetermined thickness by a conventionally known molding method, and slowly cooled. Alternatively, it may be formed into a plate shape by a method of forming it into a block shape, slowly cooling it, and then cutting it.

板状に成形する方法としては、例えば、フロート法、プレス法、フュージョン法及びダウンドロー法が挙げられる。特に、大型のガラス板を製造する場合は、フロート法が好ましい。また、フロート法以外の連続成形法、たとえば、フュージョン法及びダウンドロー法も好ましい。 Examples of the method for forming into a plate shape include a float method, a press method, a fusion method and a down draw method. In particular, when producing a large glass plate, the float method is preferable. Further, continuous molding methods other than the float method, for example, the fusion method and the down draw method are also preferable.

その後、成形したガラスを所定の大きさに切断し、面取りを行う。平面視での面取り部24の寸法が、0.05mm以上0.5mm以下となるように面取りを行うことが好ましい。 Then, the formed glass is cut into a predetermined size and chamfered. It is preferable to perform chamfering so that the size of the chamfered portion 24 in a plan view is 0.05 mm or more and 0.5 mm or less.

次に、ガラス板を1回または2回程度(1段階または2段階程度)イオン交換処理することにより、化学強化を行い、圧縮応力層25、32および引張応力層27を形成する。
化学強化工程では、処理に供するガラスを、そのガラス中に含まれるアルカリ金属イオン(例えば、ナトリウムイオン、または、リチウムイオン)より、イオン半径の大きなアルカリ金属イオンを含む溶融塩(例えば、カリウム塩、または、ナトリウム塩)と、ガラスの転移温度を超えない温度域で接触させる。
Next, the glass plate is chemically strengthened by ion exchange treatment about once or twice (about one or two steps) to form compressive stress layers 25 and 32 and tensile stress layers 27.
In the chemical strengthening step, the glass to be treated is subjected to a molten salt (for example, potassium salt, etc.) containing an alkali metal ion having an ionic radius larger than that of the alkali metal ion (for example, sodium ion or lithium ion) contained in the glass. Alternatively, the sodium salt) is brought into contact with the glass in a temperature range not exceeding the transition temperature of the glass.

ガラス中のアルカリ金属イオンと、アルカリ金属塩のイオン半径の大きなアルカリ金属塩とを、イオン交換させ、アルカリ金属イオンの占有面積の差により、ガラス表面に圧縮応力を発生させ、圧縮応力層を形成する。ガラスを溶融塩と接触させる温度域はガラスの転移温度を超えない温度域であればよいが、ガラス転移点より50℃以下であることが好ましい。これによりガラスの応力緩和を防げる。 The alkali metal ions in the glass and the alkali metal salt having a large ionic radius of the alkali metal salt are ion-exchanged to generate compressive stress on the glass surface due to the difference in the occupied area of the alkali metal ions to form a compressive stress layer. To do. The temperature range in which the glass is brought into contact with the molten salt may be a temperature range that does not exceed the transition temperature of the glass, but is preferably 50 ° C. or lower from the glass transition point. This prevents stress relaxation of the glass.

化学強化処理において、ガラスとアルカリ金属イオンを含む溶融塩とを接触させる処理温度および処理時間は、ガラスおよび溶融塩の組成に応じて適宜調整できる。溶融塩の加熱温度は、通常350℃以上が好ましく、370℃以上がより好ましい。また、通常500℃以下が好ましく、450℃以下がより好ましい。 In the chemical strengthening treatment, the treatment temperature and the treatment time for bringing the glass into contact with the molten salt containing alkali metal ions can be appropriately adjusted according to the composition of the glass and the molten salt. The heating temperature of the molten salt is usually preferably 350 ° C. or higher, more preferably 370 ° C. or higher. Further, usually 500 ° C. or lower is preferable, and 450 ° C. or lower is more preferable.

溶融塩の加熱温度を350℃以上とすることにより、イオン交換速度の低下により化学強化が入りにくくなるのを防ぐ。また、500℃以下とすることにより溶融塩の分解・劣化を抑制できる。 By setting the heating temperature of the molten salt to 350 ° C. or higher, it is possible to prevent chemical fortification from becoming difficult due to a decrease in the ion exchange rate. Further, the decomposition / deterioration of the molten salt can be suppressed by setting the temperature to 500 ° C. or lower.

ガラスを溶融塩に接触させる処理時間は1回あたり、十分な圧縮応力を付与するためには、通常10分以上が好ましく、15分以上がより好ましい。また、長時間のイオン交換では、生産性が落ちるとともに、緩和により圧縮応力値が低下するため、通常20時間以下であり、16時間以下が好ましい。 The treatment time for bringing the glass into contact with the molten salt is usually preferably 10 minutes or more, and more preferably 15 minutes or more in order to apply sufficient compressive stress. Further, in ion exchange for a long time, the productivity is lowered and the compressive stress value is lowered due to relaxation. Therefore, it is usually 20 hours or less, preferably 16 hours or less.

化学強化の回数は、1回または2回を例示したが、目標とする圧縮応力層および引張応力層の物性(DOL、CS、CT)が得られるのであれば、特に回数は限定されない。3回以上の強化でもよい。また、2回の強化の間に、熱処理工程を行ってもよい。以下の説明では、3回化学強化を行う場合、および2回の強化の間に、熱処理工程を行う場合を3段階の強化と呼ぶ。
3段階の場合、例えば以下に説明する強化処理方法1または強化処理方法2を用いて製造できる。
The number of times of chemical strengthening is exemplified once or twice, but the number of times is not particularly limited as long as the physical properties (DOL, CS, CT) of the target compressive stress layer and tensile stress layer can be obtained. It may be strengthened three times or more. In addition, a heat treatment step may be performed between the two strengthenings. In the following description, the case where the chemical strengthening is performed three times and the case where the heat treatment step is performed between the two times of strengthening are referred to as three-step strengthening.
In the case of three stages, it can be produced by using, for example, the strengthening treatment method 1 or the strengthening treatment method 2 described below.

(強化処理方法1)
強化処理方法1においては、まず、ナトリウム(Na)イオンを含む金属塩(第一の金属塩)に、Li2Oを含有する化学強化用ガラスを接触させて、金属塩中のNaイオンと、ガラス中のLiイオンとの、イオン交換を起こさせる。以下ではこのイオン交換処理を「1段目の処理」と呼ぶことがある。
1段目の処理は、たとえば化学強化用ガラスを、350℃〜500℃程度のNaイオンを含む金属塩(例えば硝酸ナトリウム)に、0.1時間〜24時間程度浸漬する。生産性を向上するためには、1段目の処理時間は12時間以下が好ましく、6時間以下がより好ましい。
(Strengthening processing method 1)
In the strengthening treatment method 1, first, a metal salt containing sodium (Na) ions (first metal salt) is brought into contact with a chemically strengthening glass containing Li 2 O to obtain Na ions in the metal salt. Causes ion exchange with Li ions in the glass. Hereinafter, this ion exchange treatment may be referred to as "first stage treatment".
In the first-stage treatment, for example, chemically strengthened glass is immersed in a metal salt containing Na ions (for example, sodium nitrate) at about 350 ° C. to 500 ° C. for about 0.1 to 24 hours. In order to improve the productivity, the treatment time of the first stage is preferably 12 hours or less, more preferably 6 hours or less.

1段目の処理によって、ガラス表面に深い圧縮応力層が形成され、CSが200MPa以上、圧縮応力深さDOLが、板厚の1/8以上となるような応力プロファイルを形成できる。また、1段目の処理を終えた段階のガラスは、内部引張応力CTが大きいので破砕性が大きい。しかし、後の処理によって破砕性が改善されるので、この段階でのCTが大きいことはむしろ好ましい。1段目の処理を終えたガラスの内部引張応力CTは、90MPa以上が好ましく、100MPa以上がより好ましく、110MPa以上がさらに好ましい。圧縮応力層25の表面圧縮応力CSが大きくなるからである。 By the first-stage treatment, a deep compressive stress layer is formed on the glass surface, and a stress profile can be formed such that the CS is 200 MPa or more and the compressive stress depth DOL is 1/8 or more of the plate thickness. Further, the glass at the stage where the first stage treatment is completed has a large internal tensile stress CT, and therefore has a high crushability. However, it is rather preferable that the CT at this stage is large, because the crushability is improved by the subsequent treatment. The internal tensile stress CT of the glass after the first-stage treatment is preferably 90 MPa or more, more preferably 100 MPa or more, still more preferably 110 MPa or more. This is because the surface compressive stress CS of the compressive stress layer 25 becomes large.

第一の金属塩はアルカリ金属塩であり、アルカリ金属イオンとしては、Naイオンを最も多く含有する。Liイオンを含有してもよいが、アルカリイオンのモル数100%に対して、Liイオンは2%以下が好ましく、1%以下がより好ましく、0.2%以下がさらに好ましい。また、Kイオンを含有してもよい。第一の金属塩に含まれるアルカリイオンのモル数100%に対して、Kイオンは20%以下が好ましく、5%以下がより好ましい。 The first metal salt is an alkali metal salt, and the alkali metal ion contains the largest amount of Na ion. Although Li ions may be contained, Li ions are preferably 2% or less, more preferably 1% or less, still more preferably 0.2% or less, based on 100% of the number of moles of alkaline ions. It may also contain K ions. With respect to 100% of the number of moles of alkaline ions contained in the first metal salt, K ions are preferably 20% or less, more preferably 5% or less.

次に、リチウム(Li)イオンを含有する金属塩(第二の金属塩)に、1段目の処理を終えたガラスを接触させ、金属塩中のLiイオンとガラス中のNaイオンとのイオン交換により、表層近傍の圧縮応力値を減少させる。この処理を「2段目の処理」と呼ぶことがある。
具体的には、たとえば、350℃〜500℃程度のNaとLiを含む金属塩(例えば硝酸ナトリウムと硝酸リチウムの混合塩)に、0.1時間〜24時間程度浸漬する。生産性を向上するためには、2段目の処理時間は12時間以下が好ましく、6時間以下がより好ましい。
Next, the metal salt containing lithium (Li) ions (second metal salt) is brought into contact with the glass after the first stage treatment, and the Li ions in the metal salt and the Na ions in the glass are ionized. The exchange reduces the compressive stress value near the surface layer. This process may be referred to as "second stage process".
Specifically, for example, it is immersed in a metal salt containing Na and Li at about 350 ° C. to 500 ° C. (for example, a mixed salt of sodium nitrate and lithium nitrate) for about 0.1 to 24 hours. In order to improve the productivity, the treatment time of the second stage is preferably 12 hours or less, more preferably 6 hours or less.

2段目の処理を終えたガラスは、内部の引っ張り応力を下げることができ、割れた際に激しい割れ方をしなくなる。 The glass after the second stage treatment can reduce the internal tensile stress, and when it breaks, it does not break violently.

第2の金属塩は、アルカリ金属塩であり、アルカリ金属イオンとしてNaイオンとLiイオンを含有することが好ましい。また硝酸塩が好ましい。第二の金属塩に含まれるアルカリ金属イオンのモル数100%に対して、NaイオンとLiイオンの合計のモル数は、50%以上が好ましく、70%以上がより好ましく、80%以上がさらに好ましい。Na/Liモル比を調整することで、DOL/4〜DOL/2における応力プロファイルを制御できる。
第2の金属塩のNa/Liモル比の最適値は、ガラス組成によって異なるが、0.3以上が好ましく、0.5以上がより好ましく、1以上がより好ましい。CTを小さくしつつ、圧縮応力層の圧縮応力値を大きくするためには、100以下であることが好ましく、60以下であることがより好ましく、40以下であることがさらに好ましい。
The second metal salt is an alkali metal salt, and preferably contains Na ion and Li ion as alkali metal ions. Also, nitrates are preferred. The total number of moles of Na ion and Li ion is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and further 80% or more, based on 100% of the number of moles of alkali metal ions contained in the second metal salt. preferable. By adjusting the Na / Li molar ratio, the stress profile in DOL / 4 to DOL / 2 can be controlled.
The optimum value of the Na / Li molar ratio of the second metal salt varies depending on the glass composition, but is preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, and more preferably 1 or more. In order to increase the compressive stress value of the compressive stress layer while reducing the CT, it is preferably 100 or less, more preferably 60 or less, and further preferably 40 or less.

第2の金属塩が、硝酸ナトリウム−硝酸リチウム混合塩の場合、硝酸ナトリウムと硝酸リチウムの質量比は、たとえば25:75〜99:1が好ましく、50:50〜98:2がより好ましく、70:30〜97:3が、さらに好ましい。 When the second metal salt is a sodium nitrate-lithium nitrate mixed salt, the mass ratio of sodium nitrate to lithium nitrate is preferably, for example, 25:75 to 99: 1, more preferably 50:50 to 98: 2, and 70. : 30 to 97: 3 is more preferable.

次に、カリウム(K)イオンを含む金属塩(第3の金属塩)に、2段目の処理を終えたガラスを接触させ、金属塩中のKイオンとガラス中のNaイオンとのイオン交換により、ガラス表面に大きな圧縮応力を発生させる。このイオン交換処理を「3段目の処理」と呼ぶことがある。
具体的には、たとえば350℃〜500℃程度のKイオンを含む金属塩(例えば硝酸カリウム)に0.1時間〜10時間程度浸漬する。このプロセスにより、ガラス表層の0μm〜10μm程度の領域に大きな圧縮応力を形成できる。
Next, the metal salt containing potassium (K) ions (third metal salt) is brought into contact with the glass after the second stage treatment, and ion exchange between K ions in the metal salt and Na ions in the glass is performed. Causes a large compressive stress to be generated on the glass surface. This ion exchange treatment may be referred to as a "third stage treatment".
Specifically, for example, it is immersed in a metal salt (for example, potassium nitrate) containing K ions at about 350 ° C. to 500 ° C. for about 0.1 to 10 hours. By this process, a large compressive stress can be formed in a region of about 0 μm to 10 μm on the glass surface layer.

3段目の処理はガラス表面の浅い部分の圧縮応力だけを大きくし、内部にはほとんど影響しないので、内部の引っ張り応力を抑制したままで、表層に大きな圧縮応力を形成できる。
第3の金属塩はアルカリ金属塩であり、アルカリ金属イオンとして、Liイオンを含んでもよいが、アルカリ金属の原子数100%に対してLiイオンは2%以下が好ましく、1%以下がより好ましく、0.2%以下がさらに好ましい。また、Naイオンの含有量は2%以下が好ましく、1%以下がより好ましく0.2%以下がさらに好ましい。
Since the third-stage treatment increases only the compressive stress of the shallow portion of the glass surface and has almost no effect on the inside, a large compressive stress can be formed on the surface layer while suppressing the tensile stress inside.
The third metal salt is an alkali metal salt and may contain Li ions as alkali metal ions, but Li ions are preferably 2% or less, more preferably 1% or less, based on 100% of the number of atoms of the alkali metal. , 0.2% or less is more preferable. The Na ion content is preferably 2% or less, more preferably 1% or less, and even more preferably 0.2% or less.

強化処理方法1では、1段目〜3段目の処理時間の総和を24時間以下にできるので、生産性が高く好ましい。処理時間の総和は15時間以下がより好ましく、10時間以下がさらに好ましい。 In the strengthening treatment method 1, the total treatment time of the first to third stages can be set to 24 hours or less, which is preferable because of high productivity. The total processing time is more preferably 15 hours or less, further preferably 10 hours or less.

(強化処理方法2)
強化処理方法2においては、まず、ナトリウム(Na)イオンを含む第一の金属塩に、Li2Oを含有する化学強化用ガラスを接触させて、金属塩中のNaイオンと、ガラス中のLiイオンとのイオン交換を起こさせる、1段目の処理を行う。
1段目の処理については、強化処理方法1の場合と同様なので説明を省略する。
(Strengthening processing method 2)
In the strengthening treatment method 2, first, the first metal salt containing sodium (Na) ions is brought into contact with a chemically strengthening glass containing Li 2 O, and Na ions in the metal salt and Li in the glass are brought into contact with each other. The first step of processing is performed to cause ion exchange with ions.
Since the first-stage processing is the same as in the case of the strengthening processing method 1, the description thereof will be omitted.

次に、1段目の処理を終えたガラスを金属塩に接触させずに熱処理する。これを2段目の処理と呼ぶ。
2段目の処理は、たとえば1段目の処理を終えたガラスを、大気中で350℃以上の温度に一定時間保持して行う。保持温度は化学強化用ガラスの歪点以下の温度であり、1段目の処理温度より10℃高い温度以下が好ましく、1段目の処理温度と同じ温度がより好ましい。
この処理によれば、1段目の処理でガラス表面に導入されたアルカリイオンが、熱拡散することでCTが低下すると考えられる。
Next, the glass after the first stage treatment is heat-treated without being brought into contact with the metal salt. This is called the second stage processing.
The second-stage treatment is performed, for example, by holding the glass after the first-stage treatment at a temperature of 350 ° C. or higher for a certain period of time in the atmosphere. The holding temperature is a temperature equal to or lower than the strain point of the chemically strengthened glass, preferably a temperature 10 ° C. higher than the treatment temperature of the first stage, and more preferably the same temperature as the treatment temperature of the first stage.
According to this treatment, it is considered that the alkaline ions introduced into the glass surface in the first-stage treatment are thermally diffused to lower the CT.

次に、カリウム(K)イオンを含む第3の金属塩に、2段目の処理を終えたガラスを接触させ、金属塩中のKイオンとガラス中のNaイオンとのイオン交換により、ガラス表面に大きな圧縮応力を発生させる。このイオン交換処理を「3段目の処理」と呼ぶことがある。
3段目の処理については、強化処理方法1の場合と同様なので説明を省略する。
Next, the glass after the second stage treatment is brought into contact with the third metal salt containing potassium (K) ions, and the glass surface is exchanged between K ions in the metal salt and Na ions in the glass. Generates a large compressive stress. This ion exchange treatment may be referred to as a "third stage treatment".
Since the third-stage processing is the same as in the case of the strengthening processing method 1, the description thereof will be omitted.

強化処理方法2では、1段目〜3段目の処理時間の総和を24時間以下にできるので、生産性が高く好ましい。処理時間の総和は15時間以下がより好ましく、10時間以下がさらに好ましい。 In the strengthening treatment method 2, the total treatment time of the first to third stages can be set to 24 hours or less, which is preferable because of high productivity. The total processing time is more preferably 15 hours or less, further preferably 10 hours or less.

強化処理方法1によれば、2段目の処理に用いる第2の金属塩の組成や処理温度の調整により、応力プロファイルを精密に制御できる。
強化処理方法2によれば、比較的簡単な処理により低コストで優れた特性の化学強化ガラスが得られる。
According to the strengthening treatment method 1, the stress profile can be precisely controlled by adjusting the composition of the second metal salt used in the second-stage treatment and the treatment temperature.
According to the tempered treatment method 2, a chemically strengthened glass having excellent properties can be obtained at low cost by a relatively simple treatment.

化学強化処理の処理条件は、ガラスの特性・組成や溶融塩の種類などを考慮して、時間及び温度等を適切に選択すればよい。
以上の手順で化学強化ガラス2が製造される。
As the treatment conditions for the chemical strengthening treatment, the time, temperature, etc. may be appropriately selected in consideration of the characteristics and composition of the glass, the type of molten salt, and the like.
The chemically strengthened glass 2 is manufactured by the above procedure.

次に、化学強化ガラス2の第1の主面21に、指紋防止処理層81を形成する。
形成方法としては、フッ素含有有機化合物等を真空槽内で蒸発させて、反射防止層の表面に付着させる真空蒸着法(乾式法)や、フッ素含有有機化合物等を有機溶剤に溶解させ、所定の濃度になるように調整し、反射防止層の表面に塗布する方法(湿式法)等を利用できる。
Next, the anti-fingerprint treatment layer 81 is formed on the first main surface 21 of the chemically strengthened glass 2.
As a forming method, a vacuum vapor deposition method (dry method) in which a fluorine-containing organic compound or the like is evaporated in a vacuum chamber and adhered to the surface of the antireflection layer, or a fluorine-containing organic compound or the like is dissolved in an organic solvent to form a predetermined method. A method of adjusting the concentration to a concentration and applying it to the surface of the antireflection layer (wet method) or the like can be used.

乾式法としては、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法、スパッタ法、プラズマCVD法等、湿式法としては、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレー法等から適宜選択できる。乾式法、湿式法のどちらも使用できる。 The dry method can be appropriately selected from the ion beam assisted vapor deposition method, the ion plate method, the sputtering method, the plasma CVD method and the like, and the wet method can be appropriately selected from the spin coating method, the dip coating method, the casting method, the slit coating method, the spray method and the like. .. Both the dry method and the wet method can be used.

含フッ素有機ケイ素化合物被膜を形成する方法としては、パーフルオロアルキル基;パーフルオロ(ポリオキシアルキレン)鎖を含む、フルオロアルキル基等のフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤の組成物を、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレーコート法等により塗布した後加熱処理する方法、または、含フッ素有機ケイ素化合物を気相蒸着させた後加熱処理する、真空蒸着法等が挙げられる。
含フッ素有機ケイ素化合物被膜の形成は、含フッ素加水分解性ケイ素化合物を含有する、被膜形成用組成物を用いて行うことが好ましい。
以上が、カバーガラス1の製造方法の例についての説明である。
As a method for forming a fluorine-containing organosilicon compound film, a composition of a silane coupling agent having a fluoroalkyl group such as a fluoroalkyl group containing a perfluoroalkyl group; a perfluoro (polyoxyalkylene) chain is spin-coated. Examples include a method of applying by a method, a dip coating method, a casting method, a slit coating method, a spray coating method, etc. and then heat-treating, or a vacuum vapor deposition method in which a fluorine-containing organosilicon compound is vapor-deposited and then heat-treated. Be done.
The formation of the fluorine-containing organosilicon compound film is preferably carried out using a film-containing composition containing a fluorine-containing hydrolyzable silicon compound.
The above is the description of the example of the manufacturing method of the cover glass 1.

〔カバーガラス1の作用効果〕
カバーガラス1は、指紋防止処理層81の表面の摩擦帯電量が0kV以下、−1.5kV以上であるため、表面に使用者の指等が接触しても摩擦帯電がし難く、表示装置に組み込んだ場合に、静電気に起因する白濁化を防止できる。
カバーガラス1は、化学強化ガラスの物性で摩擦帯電を抑制しているため、導電層を設ける必要がなく、厚さも工数も増加させずに白濁化を防止できる。
カバーガラス1は、化学強化ガラス2の圧縮応力層25、32の深さDOLが60μm以上である。そのため、外部から衝撃が加えられた場合に、衝撃による変形が引張応力層まで伝わり難くなり、ガラス表面の耐衝撃性を高めることができる。
[Action and effect of cover glass 1]
Since the amount of triboelectric charge on the surface of the fingerprint prevention treatment layer 81 of the cover glass 1 is 0 kV or less and −1.5 kV or more, it is difficult for the cover glass 1 to be triboelectricly charged even if the user's finger or the like comes into contact with the surface, and the display device When incorporated, it is possible to prevent white turbidity due to static electricity.
Since the cover glass 1 suppresses triboelectric charging due to the physical characteristics of the chemically strengthened glass, it is not necessary to provide a conductive layer, and white turbidity can be prevented without increasing the thickness and man-hours.
The cover glass 1 has a depth DOL of 60 μm or more in the compressive stress layers 25 and 32 of the chemically strengthened glass 2. Therefore, when an impact is applied from the outside, the deformation due to the impact is less likely to be transmitted to the tensile stress layer, and the impact resistance of the glass surface can be improved.

カバーガラス1は、化学強化ガラス2が、引張応力層を構成する酸化物成分のうち、ガラスの骨格形成に寄与せず、移動度が高く静電気と結びついて除電を行うLi2O、Na2O、K2Oの濃度の合計をAモル%、Al23の濃度をBモル%としたとき、Aが14.5以上、かつ、A×Bが120以上である。あるいは、引張応力層を構成する酸化物成分のうち、Li2O、Na2O、K2Oの濃度の合計をC質量%、Al23の濃度をD質量%としたとき、Cが11以上、かつ、C×Dが140以上である。
よって、ガラスの骨格形成に寄与せず、移動度が高く静電気と結びついて除電を行うLi2O、Na2O、K2Oを一定量以上含むため、表面に使用者の指等が接触してもより摩擦帯電がし難い。
さらに、骨格形成に寄与し、かつLi2O、Na2O、K2Oと近接するAl23も一定量以上含むため、Li2O、Na2O、K2Oがネットワーク間に入り込んで距離を拡張する。そのため、Li2O、Na2O、K2Oが、より移動しやすくなり、表面に使用者の指等が接触してもより摩擦帯電がし難い。
Cover glass 1 is chemically tempered glass 2, of the oxide components constituting the tensile stress layer, without contributing to skeletal formation of the glass, Li 2 O performing neutralization combines with high mobility static, Na 2 O When the total concentration of K 2 O is A mol% and the concentration of Al 2 O 3 is B mol%, A is 14.5 or more and A × B is 120 or more. Alternatively, when the total concentration of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O among the oxide components constituting the tensile stress layer is C mass% and the concentration of Al 2 O 3 is D mass%, C is 11 or more and C × D is 140 or more.
Therefore, since it contains a certain amount or more of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O that do not contribute to the formation of the skeleton of the glass and have high mobility and perform static electricity elimination in combination with static electricity, the user's finger or the like comes into contact with the surface. However, it is more difficult to be triboelectrically charged.
Furthermore, contributes to skeletal formation, and Li 2 O, for containing Na 2 O, Al 2 close to the K 2 O O 3 also a certain amount or more, Li 2 O, Na 2 O , K 2 O is entered into between the networks Extend the distance with. Therefore, Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are more easily moved, and even if the user's finger or the like comes into contact with the surface, triboelectric charging is less likely to occur.

化学強化ガラス2は、引張応力層を構成する酸化物成分のうち、SiO2、Al23、B23、P25の濃度の合計が81モル%以下(または82質量%以下)であるため、ガラスの骨格形成に寄与し、移動度が高く静電気と結びついて除電を行う作用が弱い成分であるSiO2、Al23、B23、P25の濃度が一定以下に抑制される。
そのため、表面に使用者の指等が接触してもより摩擦帯電がし難い。
In the chemically strengthened glass 2, the total concentration of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 among the oxide components constituting the tensile stress layer is 81 mol% or less (or 82% by mass or less). ), Therefore, the concentrations of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 , which contribute to the formation of the skeleton of glass and have high mobility and weak action to eliminate static electricity in combination with static electricity, are high. It is suppressed below a certain level.
Therefore, even if the user's finger or the like comes into contact with the surface, triboelectric charging is less likely to occur.

[変形例]
本発明は上記実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の改良ならびに設計の変更等が可能である。本発明の実施の際の具体的な手順、および構造等は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。
[Modification example]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements and design changes can be made without departing from the gist of the present invention. The specific procedure, structure, and the like for carrying out the present invention may be other structures and the like as long as the object of the present invention can be achieved.

化学強化ガラス2の形状は、平坦面のみを有する板のみならず、少なくとも一部に曲面を有する板、凹部を有する板であってもよい。例えば、図2に示すように、化学強化ガラス2が屈曲ガラスでもよい。屈曲ガラスを用いることで、カバーガラス1を取り付ける相手側部材が屈曲形状を有していても、取り付けの精度が下がるおそれがない。
化学強化ガラス2の厚さは0.5mm以上が好ましい。0.5mm以上の厚さを備えたガラスであれば、高い強度と良好な質感を兼ね備えたカバーガラス1を得られる利点がある。厚さは、0.7mm以上がより好ましい。車載用の表示装置に用いる場合、ヘッドインパクト試験に耐えられる耐衝撃性を担保するためには、1.1mm以上であることが好ましい。軽量化や透過率の確保という観点からは、5mm以下が好ましく、3mm以下がより好ましい。
化学強化ガラス2の平面形状は特に限定しない。第1の主面21および第2の主面22の面積も特に限定しないが、例えば5000mm〜50000mm程度である。
The shape of the chemically strengthened glass 2 may be not only a plate having only a flat surface, but also a plate having a curved surface at least partially or a plate having a concave portion. For example, as shown in FIG. 2, the chemically strengthened glass 2 may be bent glass. By using the bent glass, even if the mating member to which the cover glass 1 is attached has a bent shape, there is no possibility that the accuracy of attachment is lowered.
The thickness of the chemically strengthened glass 2 is preferably 0.5 mm or more. If the glass has a thickness of 0.5 mm or more, there is an advantage that the cover glass 1 having both high strength and good texture can be obtained. The thickness is more preferably 0.7 mm or more. When used in an in-vehicle display device, it is preferably 1.1 mm or more in order to ensure impact resistance that can withstand a head impact test. From the viewpoint of weight reduction and ensuring the transmittance, 5 mm or less is preferable, and 3 mm or less is more preferable.
The planar shape of the chemically strengthened glass 2 is not particularly limited. It does not limit the area in particular of the first major surface 21 and second major surface 22 but, for example 5000 mm 2 ~50000Mm 2 about.

化学強化ガラス2の第1の主面21および第2の主面22のうち少なくとも一方の面には、図3に示すように、機能層3として、防眩処理(AG処理)を施した防眩層、または反射防止処理(AR処理)を施した反射防止層の、少なくとも一方を備えてもよい。
指紋防止処理層81が設けられた側の主面に防眩層または反射防止層を備える場合、化学強化ガラス2と指紋防止処理層81の間に、防眩機能層または反射防止層を備える。
機能層3として、防眩層を設けることにより、第2の主面22側から入射した光を散乱させ、入射光による映り込みをぼかすことができる。
防眩性を付与する方法としては、化学強化ガラス2の第2の主面22に凹凸形状を形成する方法が挙げられる。化学強化後に防眩層を設けても、防眩層を設けた後に化学強化処理を行っても、どちらでもよい。
As shown in FIG. 3, at least one of the first main surface 21 and the second main surface 22 of the chemically strengthened glass 2 is subjected to antiglare treatment (AG treatment) as the functional layer 3. At least one of a glare layer and an antireflection layer subjected to an antireflection treatment (AR treatment) may be provided.
When the anti-glare layer or the anti-reflection layer is provided on the main surface on the side where the anti-fingerprint treatment layer 81 is provided, the anti-glare functional layer or the anti-reflection layer is provided between the chemically strengthened glass 2 and the anti-fingerprint treatment layer 81.
By providing the antiglare layer as the functional layer 3, the light incident from the second main surface 22 side can be scattered and the reflection by the incident light can be blurred.
Examples of the method of imparting antiglare property include a method of forming an uneven shape on the second main surface 22 of the chemically strengthened glass 2. Either the antiglare layer is provided after the chemical strengthening, or the chemical strengthening treatment is performed after the antiglare layer is provided.

凹凸形状を形成する方法としては、公知の方法を適用可能である。化学強化ガラス2の第2の主面22に、化学的または物理的に表面処理を施してエッチング層を形成し、所望の表面粗さの凹凸形状を形成する方法や、防眩フィルム等のコーティング層を貼りつける方法が利用できる。
防眩層がエッチング層であると、防眩用の材料を別途被覆する必要がない点で有利である。防眩層がコーティング層であると、材料の選択により、防眩性の制御が容易な点で有利である。
As a method for forming the uneven shape, a known method can be applied. A method of chemically or physically surface-treating the second main surface 22 of the chemically strengthened glass 2 to form an etching layer to form an uneven shape having a desired surface roughness, or coating with an antiglare film or the like. A method of pasting layers is available.
When the antiglare layer is an etching layer, it is advantageous in that it is not necessary to separately coat the antiglare material. When the antiglare layer is a coating layer, it is advantageous in that the antiglare property can be easily controlled by selecting the material.

化学的に防眩処理を行う方法としては、フロスト処理が挙げられる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、被処理体であるガラス基板を浸漬することで実現できる。物理的に防眩処理を行う方法としては、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を加圧空気でガラス基板の主面に吹き付けるサンドブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を付着させたブラシを水で湿らせたものを用いて擦る方法等を利用できる。 Frost treatment can be mentioned as a method of chemically performing antiglare treatment. The frost treatment can be realized, for example, by immersing a glass substrate as an object to be treated in a mixed solution of hydrogen fluoride and ammonium fluoride. Examples of the method of physically performing the antiglare treatment include sandblasting in which crystalline silicon dioxide powder, silicon carbide powder, etc. are sprayed onto the main surface of the glass substrate with pressurized air, crystalline silicon dioxide powder, silicon carbide powder, etc. A method of rubbing a brush to which the powder is attached with a water-moistened one can be used.

防眩層の表面は、表面粗さ(二乗平均粗さ、RMS)が0.01μm〜0.5μmであることが好ましい。表面粗さ(RMS)は、0.01μm〜0.3μmがより好ましく、0.02μm〜0.2μmがさらに好ましい。表面粗さ(RMS)を上記範囲とすることで、防眩層を有する透明基板のヘイズ値を1%〜30%に調整できる。なお、ヘイズ値は、JIS K 7136(2000)で規定される値である。 The surface of the antiglare layer preferably has a surface roughness (root mean square roughness, RMS) of 0.01 μm to 0.5 μm. The surface roughness (RMS) is more preferably 0.01 μm to 0.3 μm, and even more preferably 0.02 μm to 0.2 μm. By setting the surface roughness (RMS) in the above range, the haze value of the transparent substrate having the antiglare layer can be adjusted to 1% to 30%. The haze value is a value defined by JIS K 7136 (2000).

機能層3として、反射防止層を備えることにより、第1の主面21側に反射防止層が設けられるので、第1の主面21側から入射した光の反射を防止でき、入射光による映り込みを防止できる。反射防止層としては、たとえば以下のものが挙げられる。
(1)相対的に屈折率が低い低屈折率層と相対的に屈折率が高い高屈折率層とが交互に積層された多層構造の反射防止層。
(2)化学強化ガラス2よりも屈折率が低い低屈折率層からなる反射防止層。
By providing the antireflection layer as the functional layer 3, since the antireflection layer is provided on the first main surface 21 side, it is possible to prevent the reflection of the light incident from the first main surface 21 side, and the reflection by the incident light can be prevented. Can prevent crowding. Examples of the antireflection layer include the following.
(1) An antireflection layer having a multi-layer structure in which low refractive index layers having a relatively low refractive index and high refractive index layers having a relatively high refractive index are alternately laminated.
(2) An antireflection layer made of a low refractive index layer having a lower refractive index than the chemically strengthened glass 2.

(1)の反射防止層は、波長550nmの光の屈折率が1.9以上の高屈折率層と、波長550nmの光の屈折率が1.6以下の低屈折率層を、積層した構造を備えるのが好ましい。反射防止層が高屈折率層と低屈折率層を積層した構造を備えることにより、可視光の反射を、より確実に防止できる。 The antireflection layer (1) has a structure in which a high refractive index layer having a refractive index of 1.9 or more for light having a wavelength of 550 nm and a low refractive index layer having a refractive index of 1.6 or less for light having a wavelength of 550 nm are laminated. It is preferable to provide. By providing the antireflection layer with a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated, reflection of visible light can be more reliably prevented.

反射防止層における高屈折率層と低屈折率層との層数は、それぞれを1層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれを2層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ1層含む構成の場合は、化学強化ガラス2の第1の主面21に、高屈折率層、低屈折率層の順に積層したものが好ましい。また、高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ2層以上含む構成の場合は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した積層体であることが好ましい。積層体は、生産性の観点から、全体で2層以上8層以下の積層が好ましく、2層以上6層以下の積層がより好ましい。また、光学特性を損なわない範囲での層の追加を行ってもよい。例えば、ガラス板からのNa拡散を防ぐために、ガラスと第1層との間にSiO2膜を挿入しても良い。 The number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer in the antireflection layer may be a form including one layer each, or may include two or more layers each. In the case of a configuration including one high refractive index layer and one low refractive index layer, it is preferable that the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated in this order on the first main surface 21 of the chemically strengthened glass 2. Further, in the case of a configuration including two or more layers each having a high refractive index layer and a low refractive index layer, a laminated body in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated is preferable. From the viewpoint of productivity, the laminate is preferably two or more and eight or less layers as a whole, and more preferably two or more and six or less layers. Further, the layer may be added within a range that does not impair the optical characteristics. For example, in order to prevent Na diffusion from the glass plate, a SiO 2 film may be inserted between the glass and the first layer.

高屈折率層、低屈折率層を構成する材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止性の程度や生産性を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば、酸化ニオブ(Nb25)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化タンタル(Ta25)、窒化ケイ素(SiN)等が挙げられる。これらの材料から選択される1種以上を好ましく使用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素(特に、二酸化ケイ素SiO2)、酸化アルミニウム(Al23)、フッ化マグネシウム(MgF)、SiとSnとの混合酸化物を含む材料、SiとZrとの混合酸化物を含む材料、SiとAlとの混合酸化物を含む材料等が挙げられる。これら材料から選択される1種以上を好ましく使用できる。 The materials constituting the high refractive index layer and the low refractive index layer are not particularly limited, and can be selected in consideration of the required degree of antireflection and productivity. Examples of the material constituting the high refractive index layer include niobium oxide (Nb 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), and silicon nitride (SiN). And so on. One or more selected from these materials can be preferably used. Materials constituting the low refractive index layer include silicon oxide (particularly silicon dioxide SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), and a mixed oxide of Si and Sn. , A material containing a mixed oxide of Si and Zr, a material containing a mixed oxide of Si and Al, and the like. One or more selected from these materials can be preferably used.

(2)の反射防止層において、低屈折率層の屈折率は、化学強化ガラス2の屈折率に応じて設定され、1.1〜1.5が好ましく、1.1〜1.4がより好ましい。 In the antireflection layer (2), the refractive index of the low refractive index layer is set according to the refractive index of the chemically strengthened glass 2, preferably 1.1 to 1.5, and more preferably 1.1 to 1.4. preferable.

反射防止層は、表面に無機薄膜を直接形成する方法、エッチング等の手法により表面処理する方法や、乾式法、例えば、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により好適に形成できる。 The antireflection layer can be obtained by a method of directly forming an inorganic thin film on the surface, a method of surface treatment by a method such as etching, or a dry method, for example, a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a physical vapor deposition method. It can be suitably formed by a kind of vacuum deposition method or sputter method.

反射防止層の厚さは、90nm〜500nmが好ましい。反射防止層の厚さを90nm以上とすることで、効果的に外光の反射を抑制できるため好ましい。 The thickness of the antireflection layer is preferably 90 nm to 500 nm. It is preferable that the thickness of the antireflection layer is 90 nm or more because the reflection of external light can be effectively suppressed.

反射防止層は、CIE(国際照明委員会)色差式において、膜付きカバーガラスの反射色がa*が−6〜1であり、b*が−8〜1であるのが好ましい。
反射防止層のa*が−6〜1であり、b*が−8〜1であると、反射防止層が危険色(警告色)に着色する恐れがなく、反射防止層の色彩が目立つのを防止できる。
防眩層を形成せず、ガラス上に直接、反射防止層および指紋防止処理層81を形成した場合において、カバーガラス1は、コロナ処理やプラズマ処理により指紋防止処理層81を除去した後の反射防止処理層の表面で測定した表面粗さがRaで1nm未満であることが好ましい。表面の、水の接触角が約20°以下であれば防汚膜が除去されたと判断できる。最表面の指紋防止処理層81を除去した後の表面粗さRaが1nm未満であることにより、高耐擦傷性が実現できる。より好ましくは0.3nm〜0.6nm、特に好ましくは0.3nm〜0.5nmである。
表面粗さRaは、例えば、セイコーインスツルメント社製走査型プローブ顕微鏡SPI3800NのDFMモードで測定できる。
In the CIE (International Commission on Illumination) color difference formula, the antireflection layer preferably has a reflection color of a * of 6-1 and b * of -8 to 1 of the cover glass with a film.
When a * of the antireflection layer is -6 to 1 and b * is -8 to 1, there is no risk that the antireflection layer will be colored as a dangerous color (warning color), and the color of the antireflection layer will be conspicuous. Can be prevented.
When the antireflection layer and the antifingerprint treatment layer 81 are formed directly on the glass without forming the antiglare layer, the cover glass 1 reflects after removing the antifingerprint treatment layer 81 by corona treatment or plasma treatment. The surface roughness measured on the surface of the prevention treatment layer is preferably less than 1 nm in Ra. If the contact angle of water on the surface is about 20 ° or less, it can be determined that the antifouling film has been removed. When the surface roughness Ra after removing the outermost surface anti-fingerprint treatment layer 81 is less than 1 nm, high scratch resistance can be realized. It is more preferably 0.3 nm to 0.6 nm, and particularly preferably 0.3 nm to 0.5 nm.
The surface roughness Ra can be measured, for example, in the DFM mode of the scanning probe microscope SPI3800N manufactured by Seiko Instruments Inc.

図4に示すように、カバーガラス1は、第2の主面22上に設けられた遮光層31を備えてもよい。遮光層31は可視光を遮蔽する層であり、具体的には、例えば波長380nm〜780nmの光の視感透過率が50%以下の層である。遮光層31を備えることにより、表示装置側の配線を隠蔽したり、バックライトの照明光を隠蔽して、表示装置の周囲から照明光が漏れるのを防止したりできる。
遮光層31が設けられる第1の主面21および面取り部24には、遮光層31との密着性を向上させるため、プライマー処理やエッチング処理等が施されていてもよい。
As shown in FIG. 4, the cover glass 1 may include a light-shielding layer 31 provided on the second main surface 22. The light-shielding layer 31 is a layer that shields visible light, and specifically, for example, a layer having a visible transmittance of light having a wavelength of 380 nm to 780 nm of 50% or less. By providing the light-shielding layer 31, it is possible to conceal the wiring on the display device side or conceal the illumination light of the backlight to prevent the illumination light from leaking from the periphery of the display device.
The first main surface 21 and the chamfered portion 24 on which the light-shielding layer 31 is provided may be subjected to a primer treatment, an etching treatment, or the like in order to improve the adhesion with the light-shielding layer 31.

遮光層31を設ける方法は特に限定しないが、バーコード法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、スクリーン法、インクジェット法等によりインクを印刷することにより設ける方法が挙げられる。厚さの制御の容易差を考慮すると、スクリーン法が好ましい。
遮光層31に使用するインクは、無機系でも有機系であってもよい。無機系のインクとしては、例えば、SiO2、ZnO、B23、Bi23、Li2O、Na2OおよびK2Oから選択される1種以上、CuO、Al23、ZrO2、SnO2およびCeO2から選択される1種以上、Fe23およびTiO2からなる組成物であってもよい。
The method of providing the light-shielding layer 31 is not particularly limited, and examples thereof include a method of providing the light-shielding layer 31 by printing ink by a barcode method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, a screen method, an inkjet method, or the like. The screen method is preferable in consideration of the easy difference in thickness control.
The ink used for the light-shielding layer 31 may be inorganic or organic. Examples of the inorganic ink include one or more selected from SiO 2 , ZnO, B 2 O 3 , Bi 2 O 3 , Li 2 O, Na 2 O and K 2 O, CuO, Al 2 O 3 , and the like. The composition may consist of one or more selected from ZrO 2 , SnO 2 and CeO 2 , Fe 2 O 3 and TiO 2.

有機系のインクとしては、樹脂を溶剤に溶解した種々の印刷材料を使用できる。例えば、樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、オレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリウレタンポリオール等の樹脂からなる群から選ばれる、少なくとも1種以上を選択して使用してよい。溶媒としては、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤を用いてもよい。例えば、アルコール類としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等を使用でき、エステル類としては酢酸エチル、ケトン類としてはメチルエチルケトンを使用できる。芳香族炭化水素系溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベッソ(登録商標)100、ソルベッソ(登録商標)150等を使用でき、脂肪族炭化水素系溶剤としてはヘキサン等を使用できる。なお、これらは例として挙げたものであり、その他、種々の印刷材料を使用できる。前記有機系の印刷材料は、化学強化ガラス2に塗布した後、溶媒を蒸発させて樹脂の遮光層31を形成できる。加熱により硬化できる熱硬化性インクでもよく、UV硬化性インクでもよく、特に制限はない。 As the organic ink, various printing materials in which a resin is dissolved in a solvent can be used. For example, as the resin, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, polyamide resin, vinyl acetate resin, phenol resin, olefin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyvinyl acetal resin, natural rubber, styrene-butadiene co-weight. At least one selected from the group consisting of resins such as coalescing, acrylic nitrile-butadiene copolymer, polyester polyol, and polyether polyurethane polyol may be selected and used. As the solvent, water, alcohols, esters, ketones, aromatic hydrocarbon solvents, and aliphatic hydrocarbon solvents may be used. For example, isopropyl alcohol, methanol, ethanol and the like can be used as the alcohols, ethyl acetate can be used as the esters, and methyl ethyl ketone can be used as the ketones. Toluene, xylene, Solbesso (registered trademark) 100, Solbesso (registered trademark) 150 and the like can be used as the aromatic hydrocarbon solvent, and hexane and the like can be used as the aliphatic hydrocarbon solvent. These are given as examples, and various other printing materials can be used. The organic printing material can be applied to the chemically strengthened glass 2 and then the solvent is evaporated to form the light-shielding layer 31 of the resin. It may be a thermosetting ink that can be cured by heating, or a UV curable ink, and there is no particular limitation.

遮光層31に用いられるインクには、着色剤が含まれてもよい。着色剤としては、例えば、遮光層31を黒色とする場合、カーボンブラック等の黒色の着色剤を使用できる。その他、所望の色に応じて適切な色の着色剤を使用できる。
遮光層31は、所望の回数だけ積層してもよく、印刷に用いるインクは、各層異なるものを使用してもよい。また、遮光層31は、一方の主面だけでなく、他方の主面にも印刷してよく、端面に印刷してもよい。
遮光層31を所望の回数だけ積層する場合、各層で異なるインクを用いてもよい。例えば、利用者がカバーガラス1を第1の主面21側から見たときに、遮光層31を白く見せたい場合には、1層目を白色で印刷し、続いて2層目を黒色で印刷すればよい。これにより使用者が第1の主面21側から遮光層31を見た際、遮光層31の背面の視認性に関わる、いわゆる「透け感」を抑制した白色の遮光層31を形成できる。
The ink used for the light-shielding layer 31 may contain a colorant. As the colorant, for example, when the light-shielding layer 31 is black, a black colorant such as carbon black can be used. In addition, a colorant of an appropriate color can be used according to the desired color.
The light-shielding layer 31 may be laminated as many times as desired, and the ink used for printing may be different for each layer. Further, the light-shielding layer 31 may be printed not only on one main surface but also on the other main surface, and may be printed on the end surface.
When the light-shielding layers 31 are laminated a desired number of times, different inks may be used for each layer. For example, if the user wants the light-shielding layer 31 to appear white when the cover glass 1 is viewed from the first main surface 21 side, the first layer is printed in white, and then the second layer is printed in black. Just print it. As a result, when the user sees the light-shielding layer 31 from the first main surface 21 side, the white light-shielding layer 31 that suppresses the so-called "transparency" related to the visibility of the back surface of the light-shielding layer 31 can be formed.

遮光層31の平面形状は、図4では枠形であり、枠の内側が表示領域4を構成するが、枠形ではなく、第2の主面22の一辺に沿う線状、連続する二辺に沿うL字状、対向する二辺に沿う2本の直線状でもよい。遮光層31は、第2の主面22が四角形以外の多角形や円形あるいは異形の場合、これらの形状に対応する枠状、多角形の一辺に沿う直線状、円形の一部に沿う円弧状でもよい。
カバーガラス1を表示装置に用いる場合、遮光層31は、表示装置が非表示の場合の色彩に対応した色彩を有するのが好ましい。例えば、非表示の場合の色彩が黒色系の場合は、遮光層31も黒色系であるのが望ましい。
The planar shape of the light-shielding layer 31 is a frame shape in FIG. 4, and the inside of the frame constitutes the display area 4, but it is not a frame shape but a linear shape along one side of the second main surface 22 and two continuous sides. It may be an L-shape along the line, or two straight lines along the two opposite sides. When the second main surface 22 is a polygon other than a quadrangle, a circle, or a variant, the light-shielding layer 31 has a frame shape corresponding to these shapes, a straight line along one side of the polygon, and an arc shape along a part of the circle. But it may be.
When the cover glass 1 is used as a display device, the light-shielding layer 31 preferably has a color corresponding to the color when the display device is not displayed. For example, when the color when not displayed is black, it is desirable that the light-shielding layer 31 is also black.

カバーガラス1が遮光層31を備える場合、図5に示すように遮光層31は開口部33を有してもよく、開口部33には、赤外線透過率が遮光層31よりも高い赤外線透過層35を備えるのが好ましい。遮光層31の一部に開口部33を設けて、赤外線透過層35を設けることにより、赤外線センサを遮光層31の裏側に設けることができ、かつ赤外線透過層35を目立たなくできる。
赤外線透過層35を形成するインクは、無機系でも有機系であってもよい。無機系インクに含まれる顔料としては、例えば、SiO2、ZnO、B23、Bi23、Li2O、Na2OおよびK2Oから選択される1種以上、CuO、Al23、ZrO2、SnO2およびCeO2から選択される1種以上、Fe23およびTiO2からなる組成物であってもよい。
When the cover glass 1 includes the light-shielding layer 31, the light-shielding layer 31 may have an opening 33 as shown in FIG. 5, and the opening 33 has an infrared-transmitting layer having a higher infrared transmittance than the light-shielding layer 31. It is preferable to include 35. By providing the opening 33 in a part of the light-shielding layer 31 and providing the infrared-transmitting layer 35, the infrared sensor can be provided on the back side of the light-shielding layer 31, and the infrared-transmitting layer 35 can be made inconspicuous.
The ink forming the infrared transmissive layer 35 may be inorganic or organic. Examples of the pigment contained in the inorganic ink include one or more selected from SiO 2 , ZnO, B 2 O 3 , Bi 2 O 3 , Li 2 O, Na 2 O and K 2 O, CuO, Al 2 The composition may consist of one or more selected from O 3 , ZrO 2 , SnO 2 and CeO 2 , Fe 2 O 3 and TiO 2.

有機系インクとしては、樹脂と顔料とを溶剤に溶解した種々の印刷材料を使用できる。例えば、樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、オレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリウレタンポリオール等の樹脂からなる群から選ばれる、少なくとも1種以上を選択して使用してよい。溶媒としては、水、アルコール類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤を用いてもよい。例えば、アルコール類としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等を使用でき、エステル類としては酢酸エチル、ケトン類としてはメチルエチルケトンを使用できる。芳香族炭化水素系溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベッソ(登録商標)100、ソルベッソ(登録商標)150等を使用でき、脂肪族炭化水素系溶剤としてはヘキサン等を使用できる。なお、これらは例として挙げたものであり、その他、種々の印刷材料を使用できる。前記有機系の印刷材料は、化学強化ガラス2に塗布した後、溶媒を蒸発させて樹脂の赤外線透過層35を形成できる。加熱により硬化できる熱硬化性インクでもよく、UV硬化性インクでもよく、特に制限はない。 As the organic ink, various printing materials in which a resin and a pigment are dissolved in a solvent can be used. For example, as the resin, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, polyamide resin, vinyl acetate resin, phenol resin, olefin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyvinyl acetal resin, natural rubber, styrene-butadiene co-weight. At least one selected from the group consisting of resins such as coalescing, acrylic nitrile-butadiene copolymer, polyester polyol, and polyether polyurethane polyol may be selected and used. As the solvent, water, alcohols, esters, ketones, aromatic hydrocarbon solvents, and aliphatic hydrocarbon solvents may be used. For example, isopropyl alcohol, methanol, ethanol and the like can be used as the alcohols, ethyl acetate can be used as the esters, and methyl ethyl ketone can be used as the ketones. Toluene, xylene, Solbesso (registered trademark) 100, Solbesso (registered trademark) 150 and the like can be used as the aromatic hydrocarbon solvent, and hexane and the like can be used as the aliphatic hydrocarbon solvent. These are given as examples, and various other printing materials can be used. The organic printing material can be applied to the chemically strengthened glass 2 and then the solvent is evaporated to form the infrared transmissive layer 35 of the resin. It may be a thermosetting ink that can be cured by heating, or a UV curable ink, and there is no particular limitation.

赤外線透過層35に用いられるインクには、顔料が含まれてもよい。顔料としては、例えば、赤外線透過層35を黒色とする場合、カーボンブラック等の黒色顔料を使用できる。その他、所望の色に応じて適切な色の顔料を使用できる。 The ink used for the infrared transmissive layer 35 may contain a pigment. As the pigment, for example, when the infrared transmissive layer 35 is black, a black pigment such as carbon black can be used. In addition, a pigment having an appropriate color can be used according to the desired color.

赤外線透過層35中の顔料の含有割合は、所望の光学特性に応じて自由に変更できる。赤外線透過層35の全質量に対する、顔料の含有量の比である含有割合は0.01質量%〜10質量%が好ましい。含有割合は、インクの質量全体に対する、赤外線透過材料の含有割合を調整することで実現できる。 The content ratio of the pigment in the infrared transmissive layer 35 can be freely changed according to the desired optical characteristics. The content ratio, which is the ratio of the content of the pigment to the total mass of the infrared transmissive layer 35, is preferably 0.01% by mass to 10% by mass. The content ratio can be realized by adjusting the content ratio of the infrared transmissive material with respect to the total mass of the ink.

赤外線透過層35を形成するインクは、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂に赤外線透過能を有する顔料を含む。顔料としては、無機顔料および有機顔料のいずれも使用できる。無機顔料としては、酸化鉄、酸化チタン、複合酸化物系などが挙げられる。有機顔料としては、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、アゾ系顔料等の金属錯体系顔料などが挙げられる。赤外線透過層35の色彩は、遮光層31と同じであることが好ましい。遮光層31が黒色の場合は、赤外線透過層35も黒色であるのが好ましい。 The ink forming the infrared transmissive layer 35 contains a pigment having an infrared transmissive ability in a photocurable resin or a thermosetting resin. As the pigment, either an inorganic pigment or an organic pigment can be used. Examples of the inorganic pigment include iron oxide, titanium oxide, and composite oxides. Examples of the organic pigment include metal complex pigments such as phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments and azo pigments. The color of the infrared transmitting layer 35 is preferably the same as that of the light shielding layer 31. When the light-shielding layer 31 is black, the infrared transmissive layer 35 is also preferably black.

赤外線透過層35を形成する方法としては、特に限定はされないが、バーコード法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、スクリーン法、インクジェット法が挙げられる。製法の連続性を考慮すると、遮光層31と同じ形成方法が好ましい。 The method for forming the infrared transmissive layer 35 is not particularly limited, and examples thereof include a barcode method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, a screen method, and an inkjet method. Considering the continuity of the production method, the same forming method as that of the light-shielding layer 31 is preferable.

本発明のカバーガラス1は、例えば、液晶ディスプレイ等のパネルディスプレイや、車載用情報機器、携帯機器のカバーガラスといった表示装置用のカバー部材に使用できる。本発明のカバーガラス1を表示装置用カバーに用いることで、被対象物を保護しつつ、タッチセンサ使用時の白濁化を防止できる。
さらに、本発明のカバーガラス1は、例えば、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等のパネルディスプレイや、車載用情報機器、携帯機器を作製する際、パネルとカバーガラス貼合時等に、カバーガラス表面に貼るラミネートを剥がした際に発生するカバーガラスの帯電が抑えられるため、帯電による異物吸着を抑制することができる。
The cover glass 1 of the present invention can be used, for example, as a cover member for a panel display such as a liquid crystal display, a cover member for a display device such as a cover glass for an in-vehicle information device or a portable device. By using the cover glass 1 of the present invention as a cover for a display device, it is possible to protect an object and prevent white turbidity when using a touch sensor.
Further, the cover glass 1 of the present invention is applied to the surface of the cover glass when, for example, a panel display such as a liquid crystal display or an organic EL display, an in-vehicle information device, or a portable device is manufactured, or when the panel and the cover glass are bonded to each other. Since the charge on the cover glass generated when the laminate to be attached is peeled off is suppressed, it is possible to suppress the adsorption of foreign substances due to the charge.

ここで、カバーガラス1を備える表示装置の一例について図6を参照して説明する。ここではインセル型IPS(In Plane Switching)液晶表示装置を例示する。
図6に示す表示装置10は、フレーム5を備える。フレーム5は、底部51と、底部51に対して交差する側壁部52と、底部51に対向する開口部53とを備える。底部51と側壁部52とで囲まれた空間には、液晶モジュール6が配置されている。液晶モジュール6は、底部51側に配置されたバックライト61と、バックライト61上に配置された液晶パネル62(表示パネル)とを備える。液晶パネル62は、IPS液晶を備え、タッチ機能を有する素子が液晶素子に埋め込まれたインセル型である。
また、フレーム5の上端には、第2の主面22が液晶モジュール6側を向くようにカバーガラス1が設けられる。カバーガラス1は、開口部53および側壁部52の上端面に設けられた接着層7を介して、フレーム5と、液晶モジュール6に貼合されている。
Here, an example of a display device including the cover glass 1 will be described with reference to FIG. Here, an in-cell type IPS (In Plane Switching) liquid crystal display device will be illustrated.
The display device 10 shown in FIG. 6 includes a frame 5. The frame 5 includes a bottom portion 51, a side wall portion 52 that intersects the bottom portion 51, and an opening 53 that faces the bottom portion 51. The liquid crystal module 6 is arranged in the space surrounded by the bottom portion 51 and the side wall portion 52. The liquid crystal module 6 includes a backlight 61 arranged on the bottom 51 side and a liquid crystal panel 62 (display panel) arranged on the backlight 61. The liquid crystal panel 62 is an in-cell type that includes an IPS liquid crystal and has an element having a touch function embedded in the liquid crystal element.
A cover glass 1 is provided at the upper end of the frame 5 so that the second main surface 22 faces the liquid crystal module 6 side. The cover glass 1 is attached to the frame 5 and the liquid crystal module 6 via an adhesive layer 7 provided on the upper end surfaces of the opening 53 and the side wall portion 52.

なお、接着層7は、透明で、化学強化ガラス2との屈折率差が小さいことが好ましい。
接着層7としては、例えば、液状の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる透明樹脂からなる層が挙げられる。硬化性樹脂組成物としては、例えば、光硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物等が挙げられ、その中でも、硬化性化合物および光重合開始剤を含む光硬化性樹脂組成物が好ましい。硬化性樹脂組成物を、例えば、ダイコータ、ロールコータ等の方法を用いて塗布し、硬化性樹脂組成物膜を形成する。
接着層7は、OCAフィルム(OCAテープ)であってもよい。この場合、カバーガラス1の第2の主面22側にOCAフィルムを貼合すればよい。
接着層7の厚さは、5μm以上400μm以下が好ましく、50μm以上200μm以下がより好ましい。接着層7の貯蔵せん断弾性率は、5kPa以上5MPa以下が好ましく、1MPa以上5MPa以下がより好ましい。
It is preferable that the adhesive layer 7 is transparent and has a small difference in refractive index from the chemically strengthened glass 2.
Examples of the adhesive layer 7 include a layer made of a transparent resin obtained by curing a liquid curable resin composition. Examples of the curable resin composition include a photocurable resin composition and a thermosetting resin composition. Among them, a photocurable resin composition containing a curable compound and a photopolymerization initiator is preferable. The curable resin composition is applied by a method such as a die coater or a roll coater to form a curable resin composition film.
The adhesive layer 7 may be an OCA film (OCA tape). In this case, the OCA film may be attached to the second main surface 22 side of the cover glass 1.
The thickness of the adhesive layer 7 is preferably 5 μm or more and 400 μm or less, and more preferably 50 μm or more and 200 μm or less. The storage shear elastic modulus of the adhesive layer 7 is preferably 5 kPa or more and 5 MPa or less, and more preferably 1 MPa or more and 5 MPa or less.

表示装置10を製造するにあたり、組立順序は特に限定されない。例えば、予めカバーガラス1に接着層7を配置した構造体を準備しておき、フレーム5に配置し、その後、液晶モジュール6を貼合してもよい。 In manufacturing the display device 10, the assembly order is not particularly limited. For example, a structure in which the adhesive layer 7 is arranged on the cover glass 1 may be prepared in advance, arranged on the frame 5, and then the liquid crystal module 6 may be attached.

次に、本発明の実施例について説明する。本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
種々の特性のカバーガラスを作製し、帯電量および装置に組み込んだ際の白濁化の程度を求めた。具体的な手順は以下の通りである。例1は実施例、例2〜例6は比較例である。
Next, examples of the present invention will be described. The present invention is not limited to the following examples.
Cover glasses having various characteristics were prepared, and the amount of charge and the degree of white turbidity when incorporated into the apparatus were determined. The specific procedure is as follows. Example 1 is an example, and Examples 2 to 6 are comparative examples.

(例1)
まず、化学強化前のガラスとして、表1中の例1に示す組成のガラスになるように、原料を調合、溶解して、約110mm角のブロックとなるように流し出した後、徐冷を行ってガラス体を得た。その後、縦100mm、横100mm、厚さ0.7mmの板状になるように、切断、切削加工した。
次に、このガラスを化学強化した。化学強化の条件は、温度450℃の100重量%硝酸ナトリウム溶液に3時間浸漬後、温度450℃の100重量%硝酸カリウム溶液に3時間浸漬して化学強化した。
強化後のガラスを洗浄した後に、表面に指紋防止処理層81として、旭硝子社製Afluid S−550を旭硝子社製のフッ素溶媒アサヒクリンAC6000で0.1wt%に希釈した液をスプレーコート法により形成し、カバーガラスとした。膜厚は5nmであった。
なお、表1中の例1〜例6の各ガラスの組成(モル%、質量%)の総和は100にならないこともあるが、それぞれの値を四捨五入した結果であり、請求項に記載された濃度の計算に特段の影響を与えない。
作製したカバーガラスに対して以下の評価を行った。
<CS、DOL>
折原製作所社製のガラス表面応力計装置(FSM−6000LE)及び散乱光光弾性を応用した折原製作所社製の測定機SLP1000を用いて、ガラスの厚さ方向の応力分布を測定し、最表面の応力値を表面圧縮応力CSとした。ガラス内部において応力値が0MPaとなるガラス深さを、圧縮応力深さDOLとした。
<CT>
関係式CT=(CS×DOL)/(t−2×DOL)により近似的に求めた。
<摩擦帯電量>
摩擦帯電量は、INTEC社製摩擦帯電圧減衰測定装置を用い、JIS L1094:2014に記載のD法(摩擦帯電減衰測定法)により求めた。
<白濁化>
得られたカバーガラスをインセル型IPS液晶表示装置に組み込み、電源を入れた状態で、カバーガラス表面を指でタッチし、10cmの距離を、1秒間に1往復の速度で、10往復、指を移動し、白濁化の有無を目視で確認した。白濁化したものを「有」、白濁化しなかったものを「無」と判定した。
(Example 1)
First, as the glass before chemical strengthening, the raw materials are mixed and melted so as to obtain the glass having the composition shown in Example 1 in Table 1, and the glass is poured out to form a block of about 110 mm square, and then slowly cooled. I went and got a glass body. Then, it was cut and cut so as to form a plate having a length of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 0.7 mm.
The glass was then chemically strengthened. The conditions for chemical strengthening were as follows: immersion in a 100 wt% sodium nitrate solution at a temperature of 450 ° C. for 3 hours, and then immersing in a 100 wt% potassium nitrate solution at a temperature of 450 ° C. for 3 hours for chemical enhancement.
After cleaning the strengthened glass, a solution obtained by diluting Afluid S-550 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. with Asahi Clean AC6000, a fluorine solvent manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. to 0.1 wt% as an anti-fingerprint treatment layer 81 on the surface is formed by a spray coating method. And used as a cover glass. The film thickness was 5 nm.
The total composition (mol%, mass%) of each glass of Examples 1 to 6 in Table 1 may not be 100, but it is the result of rounding off each value and is described in the claim. It has no particular effect on the calculation of concentration.
The following evaluation was performed on the produced cover glass.
<CS, DOL>
Using the glass surface stress meter (FSM-6000LE) manufactured by Orihara Seisakusho and the measuring machine SLP1000 manufactured by Orihara Seisakusho, which applies scattered photoelasticity, the stress distribution in the thickness direction of the glass is measured, and the stress distribution on the outermost surface is measured. The stress value was defined as the surface compressive stress CS. The glass depth at which the stress value becomes 0 MPa inside the glass was defined as the compressive stress depth DOL.
<CT>
It was approximately calculated by the relational expression CT = (CS × DOL) / (t-2 × DOL).
<Triboelectric charge>
The triboelectric charge amount was determined by the D method (triboelectric attenuation measurement method) described in JIS L1094: 2014 using a friction band voltage attenuation measuring device manufactured by INTEC Inc.
<Whitening>
The obtained cover glass is incorporated into an in-cell type IPS liquid crystal display device, and with the power turned on, the surface of the cover glass is touched with a finger, and the finger touches the surface of the cover glass at a speed of 1 reciprocation per second for 10 reciprocations. It moved and visually confirmed the presence or absence of clouding. Those that became cloudy were judged to be "yes", and those that did not become cloudy were judged to be "absent".

(例2)
化学強化前のガラスとして、表1中の例2に示す組成のガラスをフロート法で製造し、0.7mmのガラス板を得たこと、また、420℃の100重量%硝酸カリウム溶液に8時間浸漬して化学強化を行ったこと以外は、例1と同じ条件でカバーガラスを製造した。
(Example 2)
As the glass before chemical strengthening, the glass having the composition shown in Example 2 in Table 1 was produced by the float method to obtain a 0.7 mm glass plate, and the glass was immersed in a 100 wt% potassium nitrate solution at 420 ° C. for 8 hours. The cover glass was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the cover glass was chemically strengthened.

(例3)
化学強化前のガラスとして、表1中の例3に示す組成のガラスを用いたこと、また、425℃の100重量%硝酸カリウム溶液に6時間浸漬して化学強化を行ったこと以外は、例1と同じ条件でカバーガラスを製造した。
(Example 3)
Example 1 except that the glass having the composition shown in Example 3 in Table 1 was used as the glass before chemical strengthening, and the glass was chemically strengthened by immersing it in a 100 wt% potassium nitrate solution at 425 ° C. for 6 hours. The cover glass was manufactured under the same conditions as above.

(例4)
化学強化前のガラスとして、表1中の例4に示す組成のガラスを用いたこと、また、温度425℃の100重量%硝酸カリウム溶液に6時間浸漬して化学強化したこと以外は、例1と同じ条件でカバーガラスを製造した。
(Example 4)
As the glass before chemical strengthening, the glass having the composition shown in Example 4 in Table 1 was used, and the glass was chemically strengthened by immersing it in a 100 wt% potassium nitrate solution at a temperature of 425 ° C. for 6 hours. The cover glass was manufactured under the same conditions.

(例5)
化学強化前のガラスとして、表1中の例5に示す組成のガラスになるように、原料を調合、溶解してガラスブロックを得たこと、また、温度450℃の100重量%硝酸ナトリウム溶液に2時間浸漬後、温度425℃の100重量%硝酸カリウム溶液に1.5時間浸漬して化学強化したこと以外は、例1と同じ条件でカバーガラスを製造した。
(Example 5)
As the glass before chemical strengthening, the raw materials were mixed and melted so as to obtain the glass having the composition shown in Example 5 in Table 1 to obtain a glass block, and the glass was prepared in a 100 wt% sodium nitrate solution at a temperature of 450 ° C. A cover glass was produced under the same conditions as in Example 1 except that the glass was immersed for 2 hours and then chemically strengthened by being immersed in a 100 wt% potassium nitrate solution at a temperature of 425 ° C. for 1.5 hours.

(例6)
化学強化後のガラスとして、表1中の例6に示す組成のガラスを用いたこと以外は、例1と同じ条件でカバーガラスを製造した。
以上の結果を表1に示す。
(Example 6)
As the chemically strengthened glass, a cover glass was produced under the same conditions as in Example 1 except that the glass having the composition shown in Example 6 in Table 1 was used.
The above results are shown in Table 1.

Figure 2021070590
Figure 2021070590

表1に示すように、例1は、摩擦帯電量が0kV以下、−1.5kV以上であり、圧縮応力層の深さDOLが60μm以上であり、引張応力層の含有する全アルカリ金属のうち、Liのモル数が最も多く、白濁化が生じていなかった。
例2〜4はDOLが60μm未満であったため、ガラス表面の耐衝撃性が劣ってしまい、カバーガラスとしては不適であった。
例4〜6は摩擦帯電量が−1.5kV未満であり、白濁化が生じてしまった。
例1は、CSが800〜1000MPa、CTが60MPa程度であった。
また、例1は、Aが14.5モル以上、かつ、A×Bが120以上であった。
例1は、SiO2、Al23、B23、P25の濃度の合計が81モル%以下であった。
As shown in Table 1, in Example 1, the triboelectric charge amount is 0 kV or less, -1.5 kV or more, the depth DOL of the compressive stress layer is 60 μm or more, and among all the alkali metals contained in the tensile stress layer. , The number of moles of Li was the largest, and white turbidity did not occur.
In Examples 2 to 4, since the DOL was less than 60 μm, the impact resistance of the glass surface was inferior, and it was not suitable as a cover glass.
In Examples 4 to 6, the triboelectric charge amount was less than −1.5 kV, and white turbidity occurred.
In Example 1, CS was about 800 to 1000 MPa and CT was about 60 MPa.
In Example 1, A was 14.5 mol or more and A × B was 120 or more.
In Example 1, the total concentration of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 was 81 mol% or less.

以上の結果から、摩擦帯電量が0kV以下、−1.5kV以上であり、圧縮応力層の深さDOLが60μm以上であり、引張応力層の含有する全アルカリ金属のうち、Liのモル数が最も多い組成とすることにより、白濁化が防止でき、かつ耐衝撃性に優れたカバーガラスが得られることが分かった。 From the above results, the triboelectric charge amount is 0 kV or less, -1.5 kV or more, the depth DOL of the compressive stress layer is 60 μm or more, and the number of moles of Li among all the alkali metals contained in the tensile stress layer is It was found that by using the largest composition, a cover glass that can prevent white turbidity and has excellent impact resistance can be obtained.

1…カバーガラス、2…化学強化ガラス、3…機能層、4…表示領域、5…フレーム、6…液晶モジュール、7…接着層、10…表示装置、21…第1の主面、22…第2の主面、23…端面、24…面取り部、25…圧縮応力層、27…引張応力層、31…遮光層、32…圧縮応力層、33…開口部、35…赤外線透過層、51…底部、52…側壁部、53…開口部、61…バックライト、62…液晶パネル、81…指紋防止処理層 1 ... Cover glass, 2 ... Chemically tempered glass, 3 ... Functional layer, 4 ... Display area, 5 ... Frame, 6 ... Liquid crystal module, 7 ... Adhesive layer, 10 ... Display device, 21 ... First main surface, 22 ... Second main surface, 23 ... end face, 24 ... chamfered portion, 25 ... compressive stress layer, 27 ... tensile stress layer, 31 ... light-shielding layer, 32 ... compressive stress layer, 33 ... opening, 35 ... infrared transmissive layer, 51 ... bottom, 52 ... side wall, 53 ... opening, 61 ... backlight, 62 ... liquid crystal panel, 81 ... anti-fingerprint layer

Claims (11)

第1の主面および第2の主面を備える化学強化ガラスと、
前記化学強化ガラスの第1の主面上に設けられた指紋防止処理層と、
を備え、
前記化学強化ガラスは、
引張応力層の含有する全アルカリ金属のうち、Liのモル数が最も多く、
圧縮応力層の深さDOLが60μm以上であり、
前記指紋防止処理層の表面の摩擦帯電量が、JIS L1094:2014に記載のD法で0kV以下、−1.5kV以上であることを特徴とするカバーガラス。
Chemically tempered glass with a first and second main surface,
An anti-fingerprint treatment layer provided on the first main surface of the chemically strengthened glass,
With
The chemically strengthened glass is
Among all alkali metals contained in the tensile stress layer, the number of moles of Li is the largest,
The depth DOL of the compressive stress layer is 60 μm or more,
A cover glass characterized in that the amount of triboelectric charge on the surface of the anti-fingerprint treatment layer is 0 kV or less and −1.5 kV or more by the D method described in JIS L1094: 2014.
前記化学強化ガラスは、
引張応力層を構成する酸化物成分のうち、Li2O、Na2O、K2Oの濃度の合計をAモル%、Al23の濃度をBモル%としたとき、Aが14.5以上、かつ、A×Bが120以上である請求項1に記載のカバーガラス。
The chemically strengthened glass is
When the total concentration of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O among the oxide components constituting the tensile stress layer is A mol%, and the concentration of Al 2 O 3 is B mol%, A is 14. The cover glass according to claim 1, wherein the cover glass is 5 or more and A × B is 120 or more.
前記化学強化ガラスは、
引張応力層を構成する酸化物成分のうち、Li2O、Na2O、K2Oの濃度の合計をC質量%、Al23の濃度をD質量%としたとき、Cが11以上、かつ、C×Dが140以上である請求項1に記載のカバーガラス。
The chemically strengthened glass is
Of the oxide components constituting the tensile stress layer, when the total concentration of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O is C mass% and the concentration of Al 2 O 3 is D mass%, C is 11 or more. The cover glass according to claim 1, wherein C × D is 140 or more.
前記化学強化ガラスは、
引張応力層を構成する酸化物成分のうち、SiO2、Al23、B23、P25の濃度の合計が81モル%以下である、請求項1または2に記載のカバーガラス。
The chemically strengthened glass is
The cover according to claim 1 or 2, wherein the total concentration of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 among the oxide components constituting the tensile stress layer is 81 mol% or less. Glass.
前記化学強化ガラスは、
引張応力層を構成する酸化物成分のうち、SiO2、Al23、B23、P25の濃度の合計が82質量%以下である、請求項1または2に記載のカバーガラス。
The chemically strengthened glass is
The cover according to claim 1 or 2, wherein the total concentration of SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and P 2 O 5 among the oxide components constituting the tensile stress layer is 82% by mass or less. Glass.
前記化学強化ガラスと前記指紋防止処理層の間に設けられた防眩機能層または反射防止層の少なくとも一方を備える、請求項1から5のいずれか一項に記載のカバーガラス。 The cover glass according to any one of claims 1 to 5, further comprising at least one of an antiglare function layer and an antireflection layer provided between the chemically strengthened glass and the anti-fingerprint treatment layer. 前記第2の主面上に設けられた遮光層を備える、請求項1から6のいずれか一項に記載のカバーガラス。
遮光層
The cover glass according to any one of claims 1 to 6, further comprising a light-shielding layer provided on the second main surface.
Shading layer
前記遮光層は開口部を有し、
前記開口部には、赤外線透過率が前記遮光層よりも高い赤外線透過層が設けられている請求項7に記載のカバーガラス。
The light-shielding layer has an opening and
The cover glass according to claim 7, wherein an infrared transmitting layer having an infrared transmittance higher than that of the light shielding layer is provided at the opening.
前記化学強化ガラスは屈曲ガラスである、請求項1から8のいずれか一項に記載のカバーガラス。 The cover glass according to any one of claims 1 to 8, wherein the chemically strengthened glass is bent glass. 防眩層を有する場合の前記指紋防止処理層の表面で測定した表面粗さがRaで0.01μm〜0.5μmである、請求項1から9のいずれか一項に記載のカバーガラス。 The cover glass according to any one of claims 1 to 9, wherein the surface roughness measured on the surface of the anti-fingerprint treatment layer when having an antiglare layer is 0.01 μm to 0.5 μm in Ra. 請求項1から10のいずれか一項に記載のカバーガラスを備えるインセル型IPS液晶表示装置。 An in-cell type IPS liquid crystal display device including the cover glass according to any one of claims 1 to 10.
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