JP2021066832A - Polyfunctional phenolic resin, polyfunctional epoxy resin, curable resin composition including the same and cured product thereof - Google Patents

Polyfunctional phenolic resin, polyfunctional epoxy resin, curable resin composition including the same and cured product thereof Download PDF

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Abstract

To provide a polyfunctional phenolic resin that has low viscosity and results in a cured product having excellent mechanical characteristics and heat resistance, and a polyfunctional epoxy resin, a curable resin composition including the same, and a cured product thereof.SOLUTION: The present invention relates to a polyfunctional phenolic resin in which a naphthol structure optionally having a substituent on an aromatic ring and a catechol structure having a C4 to 8 alkyl group as a substituent on an aromatic ring are coupled through an optionally substituted methylene group. There are also provided a polyfunctional epoxy resin obtained by epoxidizing the polyfunctional phenolic resin, a curable resin composition including any of these, and a cured product thereof.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、得られる硬化物の耐熱性、機械強度のバランスに優れ、複合材用途や電材用途等に好適に用いることができる多官能フェノール樹脂、多官能エポキシ樹脂、それらを含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物に関する。 The present invention has an excellent balance between heat resistance and mechanical strength of the obtained cured product, and is a polyfunctional phenol resin, a polyfunctional epoxy resin, and a curable resin composition containing them, which can be suitably used for composite materials and electrical materials. Regarding a product and its cured product.

フェノール樹脂やエポキシ樹脂は、接着剤や、成形材料、塗料等の材料に用いられている他、得られる硬化物が耐熱性や機械強度、耐湿性などに優れる点から繊維強化複合材料等の複合材用途や半導体封止材、プリント配線板用絶縁材料等の電気・電子分野で幅広く用いられている。 Phenol formaldehyde and epoxy resins are used as materials for adhesives, molding materials, paints, etc., and composites such as fiber-reinforced composite materials because the obtained cured product is excellent in heat resistance, mechanical strength, moisture resistance, etc. It is widely used in the electrical and electronic fields such as material applications, semiconductor encapsulants, and insulating materials for printed wiring boards.

近年、強化繊維で強化した繊維強化樹脂成形品は、軽量でありながら機械強度に優れるといった特徴が注目され、自動車や航空機、船舶等の筐体或いは各種部材をはじめ、様々な構造体用途での利用が拡大している。前記繊維強化樹脂成形品は、フィラメントワインディング法、プレス成形法、ハンドレイアップ法、プルトルージョン法、RTM法などの成形方法にて繊維強化複合材料を成形し、製造することができる。 In recent years, fiber-reinforced resin molded products reinforced with reinforced fibers have attracted attention for their light weight and excellent mechanical strength, and are used in various structural applications such as housings for automobiles, aircraft, ships, and various members. The use is expanding. The fiber-reinforced resin molded product can be manufactured by molding a fiber-reinforced composite material by a molding method such as a filament winding method, a press molding method, a hand lay-up method, a pull-fusion method, or an RTM method.

前記繊維強化複合材料は、強化繊維に樹脂を含浸させたものである。前記繊維強化複合材料に用いられる樹脂には、常温での安定性、硬化物の耐久性や強度等が求められることから、一般的には、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が用いられている。これらの中でも、エポキシ樹脂は、高い強度及び弾性率、並びに優れた耐熱性を有することから繊維強化複合材料用樹脂として様々な用途において実用化が進んでいる。 The fiber-reinforced composite material is made by impregnating reinforcing fibers with a resin. Since the resin used for the fiber-reinforced composite material is required to have stability at room temperature, durability and strength of the cured product, etc., generally, unsaturated polyester resin, vinyl ester resin, epoxy resin and the like are used. Thermosetting resin is used. Among these, epoxy resins have high strength, elastic modulus, and excellent heat resistance, and are therefore being put to practical use in various applications as resins for fiber-reinforced composite materials.

前記繊維強化複合材料用のエポキシ樹脂としては、上述の通り、樹脂を強化繊維に含浸させて用いることから、低粘度であることが求められる。また、繊維強化樹脂成形品として、自動車等におけるエンジン周りの構造部品や、電線コア材に用いられる場合には、繊維強化樹脂成形品が過酷な使用環境に長期間耐えうるよう、硬化物における耐熱性や機械強度に優れる樹脂が求められる。 As the epoxy resin for the fiber-reinforced composite material, as described above, the reinforcing fibers are impregnated with the resin and used, so that the epoxy resin is required to have a low viscosity. In addition, when used as a fiber-reinforced resin molded product for structural parts around engines in automobiles and the like, and as an electric wire core material, the heat-resistant product is heat-resistant so that the fiber-reinforced resin molded product can withstand harsh usage environments for a long period of time. Resins with excellent properties and mechanical strength are required.

前述のような、低粘度と、硬化物の機械強度等のバランスの観点からは、例えば、1,2,4−トリヒドロキシベンゼンをエポキシ化して得られるエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物が提供されている(例えば、特許文献1参照。)。また、2価フェノールのグリシジルエーテルと、3官能以上のグリシジルアミン型エポキシ樹脂を併用して硬化剤と組み合わせてなるエポキシ樹脂組成物も知られている(例えば、特許文献2参照。)。しかし、前記特許文献1、及び2で提供されているエポキシ樹脂組成物は、強化繊維への含浸性が高く、硬化物における耐熱性や機械強度にも一定の性能を発現するものの、昨今ますます高まる要求特性を満足するものではなかった。 From the viewpoint of the balance between low viscosity and mechanical strength of the cured product as described above, for example, an epoxy resin composition containing an epoxy resin obtained by epoxidizing 1,2,4-trihydroxybenzene is provided. (See, for example, Patent Document 1). Further, an epoxy resin composition in which a divalent phenol glycidyl ether and a trifunctional or higher functional glycidyl amine type epoxy resin are used in combination and combined with a curing agent is also known (see, for example, Patent Document 2). However, although the epoxy resin compositions provided in Patent Documents 1 and 2 have high impregnation properties for reinforcing fibers and exhibit certain performances in heat resistance and mechanical strength of cured products, these days It did not satisfy the increasing required characteristics.

国際公開第2019/013081号International Publication No. 2019/013081 国際公開第2016/148175号International Publication No. 2016/148175

従って、本発明が解決しようとする課題は、低粘度であり、得られる硬化物において機械特性と耐熱性のバランスに優れる多官能フェノール樹脂、多官能エポキシ樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、およびその硬化物を提供することである。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is a polyfunctional phenol resin, a polyfunctional epoxy resin, and a curable resin composition containing the same, which have a low viscosity and an excellent balance between mechanical properties and heat resistance in the obtained cured product. , And its cured product.

本発明者らは、前記課題を解決するため、鋭意検討した結果、1分子中にナフトール構造と置換基含有カテコール構造とを有する多官能性の化合物を用いると、硬化物の耐熱性と機械特性、特に弾性率とのバランスが良好となることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies in order to solve the above problems, the present inventors have used a polyfunctional compound having a naphthol structure and a substituent-containing catechol structure in one molecule, and the heat resistance and mechanical properties of the cured product are used. In particular, they have found that the balance with the elastic modulus is good, and have completed the present invention.

即ち、本発明は、芳香環上に置換基を有していてもよいナフトール構造と、芳香環上の置換基として炭素原子数4〜8のアルキル基を有するカテコール構造とが、置換基を有していてもよいメチレン基を介して結合してなることを特徴とする多官能フェノール樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、およびその硬化物を提供するものである。 That is, in the present invention, the naphthol structure which may have a substituent on the aromatic ring and the catechol structure which has an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms as the substituent on the aromatic ring have a substituent. Provided are a polyfunctional phenol resin characterized by being bonded via a methylene group which may be used, a curable resin composition containing the same, and a cured product thereof.

更に本発明は、芳香環上に置換基を有していてもよいナフトール構造と、芳香環上の置換基として炭素原子数4〜8のアルキル基を有するカテコール構造とが、置換基を有していてもよいメチレン基を介して結合してなることを特徴とする多官能エポキシ樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、およびその硬化物を提供するものである。 Further, in the present invention, the naphthol structure which may have a substituent on the aromatic ring and the catechol structure which has an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms as the substituent on the aromatic ring have a substituent. Provided are a polyfunctional epoxy resin characterized by being bonded via a methylene group which may be present, a curable resin composition containing the polyfunctional epoxy resin, and a cured product thereof.

本発明によれば、低粘度であり、かつ硬化物の耐熱性、機械特性のバランスが良好であって、繊維強化複合材料や半導体封止材料等に好適に用いることができる多官能フェノール樹脂、多官能エポキシ樹脂、これらを含有する硬化性樹脂組成物とその硬化物を提供できる。 According to the present invention, a polyfunctional phenol resin having a low viscosity, a good balance of heat resistance and mechanical properties of a cured product, and which can be suitably used as a fiber-reinforced composite material, a semiconductor encapsulating material, or the like. It is possible to provide a polyfunctional epoxy resin, a curable resin composition containing these, and a cured product thereof.

図1は実施例1で合成した多官能フェノール樹脂のGPCチャートである。FIG. 1 is a GPC chart of the polyfunctional phenol resin synthesized in Example 1. 図2は実施例1で得られた多官能エポキシ樹脂のGPCチャートである。FIG. 2 is a GPC chart of the polyfunctional epoxy resin obtained in Example 1. 図3は実施例1で得られた多官能エポキシ樹脂の13C−NMRスペクトルである。 FIG. 3 is a 13 C-NMR spectrum of the polyfunctional epoxy resin obtained in Example 1. 図4は実施例1で得られた多官能エポキシ樹脂のMSスペクトルである。FIG. 4 is an MS spectrum of the polyfunctional epoxy resin obtained in Example 1.

以下、本発明を詳細に説明する。
<多官能フェノール樹脂>
本発明の多官能フェノール樹脂は、芳香環上に置換基を有していてもよいナフトール構造と、芳香環上の置換基として炭素原子数4〜8のアルキル基を有するカテコール構造とが、置換基を有していてもよいメチレン基を介して結合してなることを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<Polyfunctional phenol resin>
In the polyfunctional phenol resin of the present invention, a naphthol structure which may have a substituent on the aromatic ring and a catechol structure having an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms as the substituent on the aromatic ring are substituted. It is characterized in that it is bonded via a methylene group which may have a group.

前記多官能フェノール樹脂は、1分子中にフェノール性水酸基を3個以上有するものであり、また、ベンゼン環とナフタレン環とを有することから、硬化物における架橋密度が向上するとともに、ベンゼン環上の水酸基が隣接することによって、水素結合が働きやすくなることから、弾性率も向上すると考えられる。 The polyfunctional phenol resin has three or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and also has a benzene ring and a naphthalene ring, so that the crosslink density in the cured product is improved and the crosslink density on the benzene ring is improved. Adjacent hydroxyl groups make it easier for hydrogen bonds to work, and it is thought that the elastic coefficient is also improved.

前記ナフタレン環上には、水酸基以外の置換基を有していてもよいが、硬化物における架橋密度が向上し、より耐熱性に優れる観点からは、置換基を有していないことが好ましい。また、原料入手の容易性、反応性の観点からは、ベンゼン環とナフタレン環との連結部は、置換基を有さないメチレン基であることがより好ましい。 The naphthalene ring may have a substituent other than the hydroxyl group, but it is preferable that the naphthalene ring does not have a substituent from the viewpoint of improving the crosslink density in the cured product and further improving the heat resistance. Further, from the viewpoint of easy availability of raw materials and reactivity, it is more preferable that the connecting portion between the benzene ring and the naphthalene ring is a methylene group having no substituent.

前記多官能フェノール樹脂としては、例えば、下記構造式(1)で表されるものを挙げることができる。 Examples of the polyfunctional phenol resin include those represented by the following structural formula (1).

Figure 2021066832
〔構造式(1)中、Rは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、Rは水素原子または炭素原子数4〜8のアルキル基であり、少なくとも一つは炭素原子数4〜8のアルキル基である。Rは水素原子またはアルキル基であり、nは0〜3の整数であり、mは0〜6の整数であり、lは1〜3の整数であり、n+lは4である。複数あるR、Rは同一でも異なっていてもよい。〕
なお、前記式(1)において、ナフタレン環と置換基を有していてもよいメチレン基との結合位置は任意であり、水酸基を有する環上であっても、水酸基を有さない環上で結合していてもよいことを示すものであり、lが2以上の場合、同一構造であっても異なる構造であってもよい。
Figure 2021066832
[In the structural formula (1), R is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms, and at least one has 4 to 8 carbon atoms. It is an alkyl group. R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, n is an integer of 0 to 3, m is an integer of 0 to 6, l is an integer of 1 to 3, and n + l is 4. A plurality of R 1 and R 2 may be the same or different. ]
In the above formula (1), the bonding position between the naphthalene ring and the methylene group which may have a substituent is arbitrary, and even on a ring having a hydroxyl group, on a ring having no hydroxyl group. It indicates that they may be combined, and when l is 2 or more, they may have the same structure or different structures.

前記構造式(1)中のRは、水素原子、アルキル基、またはアリール基であり、アルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、シクロへキシル基等が挙げられ、アリール基としては例えば、フェニル基、アルコキシフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。後述する製法において、原料入手の容易性、および反応性の観点、並びに得られる硬化物の耐熱性の観点からはRは水素原子、メチル基、エチル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。 R in the structural formula (1) is a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a cyclo. Examples thereof include a xyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group, an alkoxyphenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, and a naphthyl group. In the production method described later, R is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and is a hydrogen atom, from the viewpoint of easy availability of raw materials, reactivity, and heat resistance of the obtained cured product. Is particularly preferable.

また前記構造式(1)中のRは水素原子または炭素原子数4〜8のアルキル基であり、少なくとも一つは炭素原子数4〜8のアルキル基であるが、得られる硬化物の耐熱性と弾性率とのバランスの観点から、ベンゼン環上の置換基として炭素原子数4〜8のアルキル基を一つ有することが好ましく、アルキル基としてはブチル基であることが好ましく、特にt−ブチル基であることが最も好ましい。また、反応性の観点から、水酸基に対してパラ位の何れかに結合していることが好ましい。 Further, R 1 in the structural formula (1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms, and at least one is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms. From the viewpoint of the balance between properties and elasticity, it is preferable to have one alkyl group having 4 to 8 carbon atoms as a substituent on the benzene ring, and the alkyl group is preferably a butyl group, particularly t-. Most preferably it is a butyl group. Further, from the viewpoint of reactivity, it is preferable that the hydroxyl group is bonded to any of the para positions.

更に、前記構造式(1)中のRは水素原子またはアルキル基であり、アルキル基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基が挙げられる。後述する製法において、原料入手の容易性、および反応性の観点、並びに得られる硬化物の耐熱性と弾性率のバランスの観点からは、ナフタレン環上に置換基がないことが好ましいため、水素原子であってかつmが6であることが特に好ましい。 Further, R 2 in the structural formula (1) is a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group. Examples include a group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. In the production method described later, from the viewpoint of easy availability of raw materials and reactivity, and from the viewpoint of the balance between heat resistance and elastic modulus of the obtained cured product, it is preferable that there is no substituent on the naphthalene ring, and therefore a hydrogen atom. It is particularly preferable that m is 6.

また、前記構造式(1)中のlは、ベンゼン環と結合するナフタレン環の数を示すものであり、1〜3の整数であるが、後述する多官能エポキシ樹脂の前駆体として用いる場合には、lが1の化合物の含有率が高いものであることが好ましい。 Further, l in the structural formula (1) indicates the number of naphthalene rings bonded to the benzene ring, which is an integer of 1 to 3, but when used as a precursor of a polyfunctional epoxy resin described later. Is preferably one having a high content of the compound in which l is 1.

<多官能エポキシ樹脂>
本発明の多官能エポキシ樹脂は、芳香環上に置換基を有していてもよいナフトール構造と、芳香環上の置換基として炭素原子数4〜8のアルキル基を有するカテコール構造とが、置換基を有していてもよいメチレン基を介して結合してなる多官能フェノール樹脂と、エピハロヒドリンとの反応物であることを特徴とする。
<Multifunctional epoxy resin>
In the polyfunctional epoxy resin of the present invention, a naphthol structure which may have a substituent on the aromatic ring and a catechol structure having an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms as the substituent on the aromatic ring are substituted. It is characterized by being a reaction product of epihalohydrin and a polyfunctional phenol resin bonded via a methylene group which may have a group.

前記多官能エポキシ樹脂は、1分子中にグリシジルエーテル基を2個以上有するものであり、また、ベンゼン環とナフタレン環とを有することから、硬化物における架橋密度が向上するとともに、近接するグリシジルエーテル基と硬化剤との硬化反応時に生成する水酸基も近接する。その結果として、水素結合がより強く作用し、硬化物の弾性率も向上すると考えられる。 The polyfunctional epoxy resin has two or more glycidyl ether groups in one molecule, and also has a benzene ring and a naphthalene ring, so that the crosslink density in the cured product is improved and the adjacent glycidyl ethers are present. The hydroxyl groups generated during the curing reaction between the group and the curing agent are also close to each other. As a result, it is considered that hydrogen bonds act more strongly and the elastic modulus of the cured product is also improved.

前記ナフタレン環上には、グリシジルエーテル基以外の置換基を有していてもよいが、硬化物における架橋密度が向上し、より耐熱性に優れる観点からは、置換基を有していないことが好ましい。また、原料入手の容易性、反応性の観点からは、ベンゼン環とナフタレン環との連結部は、置換基を有さないメチレン基であることがより好ましい。 The naphthalene ring may have a substituent other than the glycidyl ether group, but from the viewpoint of improving the crosslink density in the cured product and having more excellent heat resistance, the naphthalene ring may not have a substituent. preferable. Further, from the viewpoint of easy availability of raw materials and reactivity, it is more preferable that the connecting portion between the benzene ring and the naphthalene ring is a methylene group having no substituent.

前記多官能エポキシ樹脂としては、例えば、下記構造式(2)で表されるものを挙げることができる。 Examples of the polyfunctional epoxy resin include those represented by the following structural formula (2).

Figure 2021066832
〔構造式(2)中、Gはグリシジル基であり、Rは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、Rは水素原子または炭素原子数4〜8のアルキル基であり、少なくとも一つは炭素原子数4〜8のアルキル基である。Rは水素原子またはアルキル基であり、nは0〜3の整数であり、mは0〜6の整数であり、lは1〜3の整数であり、n+lは4である。複数あるR、Rは同一でも異なっていてもよい。〕
なお、前記式(2)において、ナフタレン環と置換基を有していてもよいメチレン基との結合位置は任意であり、水酸基を有する環上であっても、水酸基を有さない環上で結合していてもよいことを示すものであり、lが2以上の場合、同一構造であっても異なる構造であってもよい。
Figure 2021066832
[In structural formula (2), G is a glycidyl group, R is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms, and at least one is It is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms. R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, n is an integer of 0 to 3, m is an integer of 0 to 6, l is an integer of 1 to 3, and n + l is 4. A plurality of R 1 and R 2 may be the same or different. ]
In the above formula (2), the bonding position between the naphthalene ring and the methylene group which may have a substituent is arbitrary, and even on a ring having a hydroxyl group, on a ring having no hydroxyl group. It indicates that they may be combined, and when l is 2 or more, they may have the same structure or different structures.

前記構造式(2)中のRは、水素原子、アルキル基、またはアリール基であり、アルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、シクロへキシル基等が挙げられ、アリール基としては例えば、フェニル基、アルコキシフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。後述する製法において、原料入手の容易性、および反応性の観点、並びに得られる硬化物の耐熱性の観点からはRは水素原子、メチル基、エチル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。 R in the structural formula (2) is a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a cyclo. Examples thereof include a xyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group, an alkoxyphenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, and a naphthyl group. In the production method described later, R is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and is a hydrogen atom, from the viewpoint of easy availability of raw materials, reactivity, and heat resistance of the obtained cured product. Is particularly preferable.

また前記構造式(1)中のRは水素原子または炭素原子数4〜8のアルキル基であり、少なくとも一つは炭素原子数4〜8のアルキル基であるが、得られる硬化物の耐熱性と弾性率とのバランスの観点から、ベンゼン環上の置換基として炭素原子数4〜8のアルキル基を一つ有することが好ましく、アルキル基としてはブチル基であることが好ましく、特にt−ブチル基であることが最も好ましい。また、反応性の観点から、グリシジルエーテル基に対してパラ位の何れかに結合していることが好ましい。 Further, R 1 in the structural formula (1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms, and at least one is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms. From the viewpoint of the balance between properties and elasticity, it is preferable to have one alkyl group having 4 to 8 carbon atoms as a substituent on the benzene ring, and the alkyl group is preferably a butyl group, particularly t-. Most preferably it is a butyl group. Further, from the viewpoint of reactivity, it is preferable that the glycidyl ether group is bonded to any of the para positions.

更に、前記構造式(2)中のRは水素原子またはアルキル基であり、アルキル基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基が挙げられる。後述する製法において、原料入手の容易性、および反応性の観点、並びに得られる硬化物の耐熱性と弾性率のバランスの観点からは、ナフタレン環上に置換基がないことが好ましいため、水素原子であってかつmが6であることが特に好ましい。 Further, R 2 in the structural formula (2) is a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group. Examples include a group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. In the production method described later, from the viewpoint of easy availability of raw materials and reactivity, and from the viewpoint of the balance between heat resistance and elastic modulus of the obtained cured product, it is preferable that there is no substituent on the naphthalene ring, and therefore a hydrogen atom. It is particularly preferable that m is 6.

また、前記構造式(2)中のlは、ベンゼン環と結合するナフタレン環の数を示すものであり、1〜3の整数であるが、後述する多官能エポキシ樹脂を硬化性樹脂組成物として用いる際の取り扱い性、硬化性の観点からは、lが1の化合物の含有率が高いものであることが好ましい。 Further, l in the structural formula (2) indicates the number of naphthalene rings bonded to the benzene ring, which is an integer of 1 to 3, but a polyfunctional epoxy resin described later is used as a curable resin composition. From the viewpoint of handleability and curability when used, it is preferable that the content of the compound having l of 1 is high.

前記多官能エポキシ樹脂のエポキシ当量としては、得られる硬化物の耐熱性により優れる観点から165〜300g/eqの範囲であることかが好ましく、特に165〜250g/eqの範囲であることが好ましい。 The epoxy equivalent of the polyfunctional epoxy resin is preferably in the range of 165 to 300 g / eq, particularly preferably in the range of 165 to 250 g / eq, from the viewpoint of being superior in heat resistance of the obtained cured product.

また、前記多官能エポキシ樹脂の150℃における溶融粘度としては、取り扱い容易性の観点から、0.1〜2dPa・sの範囲であることかが好ましく、特に0.1〜1dPa・sの範囲であることが好ましい。 The melt viscosity of the polyfunctional epoxy resin at 150 ° C. is preferably in the range of 0.1 to 2 dPa · s, particularly in the range of 0.1 to 1 dPa · s, from the viewpoint of ease of handling. It is preferable to have.

本発明での多官能エポキシ樹脂は、中間体の多官能フェノール樹脂とエピハロヒドリンとを反応させて水酸基をグリシジルエーテル化するものであるが、この反応時に、副反応が起こり、カテコール構造における隣接する水酸基同士、あるいは、ベンゼン環上の水酸基とナフタレン環上の水酸基とが環化することがある。このような副生成物を含むことにより、グリシジルエーテル化反応後のエポキシ樹脂がより低粘度になることがあり、また得られる硬化物における弾性率の向上にも寄与するため、副生成物を含んだままで樹脂組成物とすることも好ましい。 The polyfunctional epoxy resin in the present invention reacts an intermediate polyfunctional phenol resin with epihalohydrin to convert hydroxyl groups into glycidyl ether, but during this reaction, a side reaction occurs and adjacent hydroxyl groups in the catechol structure occur. The hydroxyl groups on the benzene ring and the hydroxyl groups on the naphthalene ring may cyclize with each other or on the naphthalene ring. By including such a by-product, the epoxy resin after the glycidyl etherification reaction may have a lower viscosity, and also contributes to the improvement of the elastic modulus in the obtained cured product, so that the by-product is contained. It is also preferable to use the resin composition as it is.

前記の環化によって得られる化合物としては、例えば、下記構造式で表されるものを挙げることができる。 Examples of the compound obtained by the cyclization include those represented by the following structural formulas.

Figure 2021066832
Figure 2021066832

<多官能フェノール樹脂の製造方法>
本発明の多官能フェノール樹脂の製造方法としては、特に限定されるものではないが、ナフトール化合物とアルキルカテコール化合物とアルデヒド化合物とを反応させる方法があげられる。
<Manufacturing method of polyfunctional phenol resin>
The method for producing the polyfunctional phenol resin of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a method of reacting a naphthol compound, an alkylcatechol compound, and an aldehyde compound.

前記ナフトール化合物としては、置換基を有していてもよいα−ナフトール、β−ナフトール、各種ジヒドロキシナフタレンが挙げられるが、反応性の観点から、無置換のβ−ナフトールを用いることが好ましい。 Examples of the naphthol compound include α-naphthol, β-naphthol, and various dihydroxynaphthalene which may have a substituent, but from the viewpoint of reactivity, it is preferable to use unsubstituted β-naphthol.

またアルキルカテコール化合物としては、例えば、n−ブチルカテコール、sec−ブチルカテコール、t−ブチルカテコール、4−オクチルカテコール、3,5−ジ−t−ブチルカテコールなどが挙げられ、1種のみからなるものであっても、2種以上を混合して用いてもよい。これらの中でも、得られる硬化物の弾性率の観点から、より嵩高い構造のアルキル基を有していることが好ましく、t−ブチルカテコール、3,5−ジ−t−ブチルカテコールを用いることが好ましく、t−ブチルカテコールが最も好ましい。 Examples of the alkylcatechol compound include n-butylcatechol, sec-butylcatechol, t-butylcatechol, 4-octylcatechol, 3,5-di-t-butylcatechol and the like, and the compound comprises only one kind. However, two or more kinds may be mixed and used. Among these, from the viewpoint of the elastic modulus of the obtained cured product, it is preferable to have an alkyl group having a bulkier structure, and t-butylcatechol and 3,5-di-t-butylcatechol may be used. Preferably, t-butylcatechol is most preferred.

更にアルデヒド化合物としては、例えば、ホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、テトラオキシメチレン、ポリオキシメチレン、クロラール、ヘキサメチレンテトラミン等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。中でも、反応性に優れることからホルムアルデヒドを用いることが好ましい。ホルムアルデヒドは水溶液の状態であるホルマリンとして用いても、固形の状態であるパラホルムアルデヒドとして用いても、どちらでも良い。 Further, examples of the aldehyde compound include formaldehyde, trioxane, acetaldehyde, propionaldehyde, tetraoxymethylene, polyoxymethylene, chloral, hexamethylenetetramine and the like. Each of these may be used alone, or two or more types may be used in combination. Of these, formaldehyde is preferably used because of its excellent reactivity. Formaldehyde may be used as formalin in an aqueous solution state or as paraformaldehyde in a solid state.

前記原料の使用割合としては、分子量分布制御の観点から、ナフトール化合物とアルキルカテコール化合物の合計モルに対して、アルデヒド化合物を0.90〜1.20モル倍の範囲で用いることが好ましく、特に1.00〜1.10モル倍の範囲で用いることが好ましい。 From the viewpoint of controlling the molecular weight distribution, it is preferable to use the aldehyde compound in the range of 0.99 to 1.20 mol times the total molar amount of the naphthol compound and the alkylcatechol compound, and particularly 1 It is preferable to use it in the range of 0.001 to 1.10 mol times.

また、ナフトール化合物とアルキルカテコール化合物との使用割合としては、高耐熱性化と高弾性率化の観点から、モル比でナフトール化合物/カテコール化合物=7/3〜3/7の範囲で用いることが好ましい。 The ratio of the naphthol compound and the alkyl catechol compound should be in the range of naphthol compound / catechol compound = 7/3 to 3/7 in terms of molar ratio from the viewpoint of high heat resistance and high elastic modulus. preferable.

前記反応は、通常のノボラック化反応と同様の条件で実施することができる。より効率よく目的の化合物が得られる観点からは、溶剤としては、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等を用いることができる。溶剤は、原料のナフトール化合物、アルキルカテコール化合物の総質量に対し0.1〜10質量倍の範囲で用いることが好ましい。 The reaction can be carried out under the same conditions as a normal novolacization reaction. From the viewpoint of more efficiently obtaining the desired compound, as the solvent, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, isopropyl alcohol, n-butanol, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol and the like can be used. .. The solvent is preferably used in the range of 0.1 to 10 times by mass with respect to the total mass of the raw material naphthol compound and alkyl catechol compound.

更に、反応触媒としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機アルカリ類があげられる。触媒の使用量としては、ナフトール化合物とカテコール化合物の合計モルの0.02〜0.50倍モルの範囲であることが好ましい。 Further, examples of the reaction catalyst include inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate. The amount of the catalyst used is preferably in the range of 0.02 to 0.50 times the total mole of the naphthol compound and the catechol compound.

反応温度としては、60〜120℃の範囲であることが好ましく、反応で生成する水は留去しながら実施することが好ましい。反応時間は、通常1〜16時間であり、2〜12時間であることがより好ましい。 The reaction temperature is preferably in the range of 60 to 120 ° C., and the water produced by the reaction is preferably distilled off. The reaction time is usually 1 to 16 hours, more preferably 2 to 12 hours.

前記反応によって、前記構造式(1)で表される多官能フェノール樹脂が得られるが、その他副生成物を含むことがある。この副生成物を除去して、前記構造式(1)で表される化合物のみを取り出して用いてもよいが、副生成物を含んだまま後述する硬化性樹脂組成物として用いる、あるいは後述する多官能エポキシ樹脂の前駆体として用いることもできる。また、前記構造式(1)中のlが1の含有率は、前述の手法で、通常60質量%以上で得ることができ、特に70質量%以上の高含有率で含むものを得ることができる。 By the reaction, a polyfunctional phenol resin represented by the structural formula (1) is obtained, but other by-products may be contained. This by-product may be removed and only the compound represented by the structural formula (1) may be taken out and used, but the by-product may be removed and used as a curable resin composition described later, or may be described later. It can also be used as a precursor of a polyfunctional epoxy resin. Further, the content of l in 1 in the structural formula (1) can be usually obtained in an amount of 60% by mass or more by the above-mentioned method, and in particular, a content having a high content of 70% by mass or more can be obtained. it can.

<多官能エポキシ樹脂の製造方法>
本発明の多官能エポキシ樹脂は、前述の方法で得られた多官能フェノール樹脂をエポキシ化する方法により得ることができる。
<Manufacturing method of polyfunctional epoxy resin>
The polyfunctional epoxy resin of the present invention can be obtained by a method of epoxidizing the polyfunctional phenol resin obtained by the above-mentioned method.

また、本発明の効果を損なわない範囲で、その他のフェノール類を併用してもよい。 In addition, other phenols may be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired.

本発明の多官能エポキシ樹脂の製造方法は、前記のように本発明の多官能フェノール樹脂をエピハロヒドリンと反応させてエポキシ化するエポキシ樹脂の製造方法であり、エポキシ化の方法は公知技術を適宜適用することができる。 The method for producing a polyfunctional epoxy resin of the present invention is a method for producing an epoxy resin in which the polyfunctional phenol resin of the present invention is reacted with epihalohydrin to epoxidize as described above, and a known technique is appropriately applied to the epoxidation method. can do.

例えば、エピハロヒドリンは、多官能フェノール樹脂に含まれる水酸基1モルに対し、1〜10モルを添加し、更に、原料の水酸基1モルに対し0.9〜2.0モルの塩基性触媒を一括添加または徐々に添加しながら20〜120℃の温度で0.5〜10時間反応させる方法が挙げられる。この塩基性触媒は固形でもその水溶液を使用してもよく、水溶液を使用する場合は、連続的に添加すると共に、反応混合物中から減圧下、または常圧下、連続的に水及びエピハロヒドリン類を留出せしめ、更に分液して水は除去しエピハロヒドリン類は反応混合物中に連続的に戻す方法でもよい。 For example, for epihalohydrin, 1 to 10 mol is added to 1 mol of the hydroxyl group contained in the polyfunctional phenol resin, and 0.9 to 2.0 mol of the basic catalyst is added all at once to 1 mol of the raw material hydroxyl group. Alternatively, a method of reacting at a temperature of 20 to 120 ° C. for 0.5 to 10 hours with gradual addition can be mentioned. This basic catalyst may be solid or an aqueous solution thereof may be used. When an aqueous solution is used, water and epihalohydrins are continuously added from the reaction mixture under reduced pressure or under normal pressure. It may be dispensed, further separated to remove water, and epihalohydrins may be continuously returned to the reaction mixture.

なお、工業生産を行う際、エポキシ樹脂生産の初バッチでは仕込みに用いるエピハロヒドリン類の全てが新しいものであるが、次バッチ以降は、粗反応生成物から回収されたエピハロヒドリン類と、反応で消費される分で消失する分に相当する新しいエピハロヒドリン類とを併用することが好ましい。この際、グリシドール等、エピクロルヒドリンと水、有機溶剤等との反応により誘導される不純物を含有していても良い。この時、使用するエピハロヒドリンは特に限定されないが、例えば、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリン等が挙げられる。これらの中でも、工業的に入手が容易なことからエピクロルヒドリンが好ましい。 During industrial production, all of the epihalohydrins used for preparation are new in the first batch of epoxy resin production, but after the next batch, they are consumed in the reaction with the epihalohydrins recovered from the crude reaction product. It is preferable to use in combination with new epihalohydrins corresponding to the amount that disappears in a certain amount. At this time, impurities such as glycidol, which are induced by the reaction of epichlorohydrin with water, an organic solvent, etc., may be contained. At this time, the epichlorohydrin used is not particularly limited, and examples thereof include epichlorohydrin, epibromohydrin, and β-methylepichlorohydrin. Among these, epichlorohydrin is preferable because it is industrially easily available.

また、前記塩基性触媒は、具体的には、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属水酸化物等が挙げられる。特にエポキシ樹脂合成反応の触媒活性に優れる点からアルカリ金属水酸化物が好ましく、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。使用に際しては、これらの塩基性触媒を10質量%〜55質量%程度の水溶液の形態で使用してもよいし、固形の形態で使用しても構わない。また、有機溶媒を併用することにより、エポキシ樹脂の合成における反応速度を高めることができる。このような有機溶媒としては特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、テトラヒドロフラン、1、4−ジオキサン、1、3−ジオキサン、ジエトキシエタン等のエーテル類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で使用してもよいし、また、極性を調製するために適宜二種以上を併用してもよい。 Specific examples of the basic catalyst include alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates and alkali metal hydroxides. In particular, alkali metal hydroxides are preferable from the viewpoint of excellent catalytic activity in the epoxy resin synthesis reaction, and examples thereof include sodium hydroxide and potassium hydroxide. In use, these basic catalysts may be used in the form of an aqueous solution of about 10% by mass to 55% by mass, or may be used in the form of a solid. Further, by using an organic solvent in combination, the reaction rate in the synthesis of the epoxy resin can be increased. Such an organic solvent is not particularly limited, and for example, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, 1-butanol, secondary butanol and tertiary butanol, and methyl. Examples thereof include cellosolves such as cellosolve and ethyl cellosolve, ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane and diethoxyethane, and aprotic polar solvents such as acetonitrile, dimethylsulfoxide and dimethylformamide. Each of these organic solvents may be used alone, or two or more kinds may be used in combination as appropriate to adjust the polarity.

続いて、前述のエポキシ化反応の反応物を水洗後、加熱減圧下、蒸留によって未反応のエピハロヒドリンや併用する有機溶媒を留去する。また更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、得られたエポキシ樹脂を再びトルエン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどの有機溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えてさらに反応を行うこともできる。この際、反応速度の向上を目的として、4級アンモニウム塩やクラウンエーテル等の相関移動触媒を存在させてもよい。相関移動触媒を使用する場合のその使用量としては、用いるエポキシ樹脂に対して0.1質量%〜3.0質量%の範囲が好ましい。反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に、加熱減圧下トルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤を留去することにより高純度のエポキシ樹脂を得ることができる。このような方法により、前記構造式(2)中のlが1の含有率は、前述の手法で、通常50質量%以上で得ることができ、特に60質量%以上の高含有率で含むものを得ることができる。 Subsequently, the reaction product of the above-mentioned epoxidation reaction is washed with water, and then the unreacted epihalohydrin and the organic solvent used in combination are distilled off by distillation under heating and reduced pressure. Further, in order to obtain an epoxy resin having less hydrolyzable halogen, the obtained epoxy resin is dissolved again in an organic solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone, and alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide and potassium hydroxide is used. Further reaction can be carried out by adding an aqueous solution of the substance. At this time, a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt or a crown ether may be present for the purpose of improving the reaction rate. When the phase transfer catalyst is used, the amount used is preferably in the range of 0.1% by mass to 3.0% by mass with respect to the epoxy resin used. After completion of the reaction, the produced salt is removed by filtration, washing with water, or the like, and further, a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone is distilled off under heating and reduced pressure to obtain a high-purity epoxy resin. By such a method, the content of l of 1 in the structural formula (2) can be usually obtained in an amount of 50% by mass or more by the above-mentioned method, and particularly in a high content of 60% by mass or more. Can be obtained.

<多官能フェノール樹脂を含有する硬化性樹脂組成物>
本発明の多官能フェノール樹脂は、水酸基と反応する官能基を有する、その他の化合物、すなわち硬化剤(X)を併用することで、硬化性樹脂組成物とすることができる。硬化性樹脂組成物は、接着剤や塗料、フォトレジスト、プリント配線基板、半導体封止材料等の各種の電気・電子部材用途に好適に用いることが出来る。
<Curable resin composition containing polyfunctional phenol resin>
The polyfunctional phenol resin of the present invention can be made into a curable resin composition by using another compound having a functional group that reacts with a hydroxyl group, that is, a curing agent (X) in combination. The curable resin composition can be suitably used for various electric / electronic member applications such as adhesives, paints, photoresists, printed wiring boards, and semiconductor encapsulation materials.

前記硬化剤(X)としては、例えば、メチロール基、アルコキシメチル基、アシロキシメチル基から選ばれる少なくとも一つの基で置換されたメラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物、ウレア化合物、レゾール樹脂、エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、アジド化合物、アルケニルエーテル基等の2重結合を含む化合物、酸無水物、オキサゾリン化合物等が挙げられる。 Examples of the curing agent (X) include a melamine compound, a guanamine compound, a glycoluril compound, a urea compound, a resole resin, and an epoxy substituted with at least one group selected from a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group. Examples thereof include resins, isocyanate compounds, azide compounds, compounds containing double bonds such as alkenyl ether groups, acid anhydrides, and oxazoline compounds.

前記メラミン化合物は、例えば、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンの1〜6個のメチロール基がメトキシメチル化した化合物、ヘキサメトキシエチルメラミン、ヘキサアシロキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の1〜6個がアシロキシメチル化した化合物等が挙げられる。 The melamine compound is, for example, a compound in which 1 to 6 methylol groups of hexamethylol melamine, hexamethoxymethyl melamine, and hexamethylol melamine are methoxymethylated, hexamethoxyethyl melamine, hexaacyloxymethyl melamine, and methylol of hexamethylol melamine. Examples thereof include compounds in which 1 to 6 groups are asyloxymethylated.

前記グアナミン化合物は、例えば、テトラメチロールグアナミン、テトラメトキシメチルグアナミン、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン、テトラメチロールグアナミンの1〜4個のメチロール基がメトキシメチル化した化合物、テトラメトキシエチルグアナミン、テトラアシロキシグアナミン、テトラメチロールグアナミンの1〜4個のメチロール基がアシロキシメチル化した化合物等が挙げられる。 The guanamine compound is, for example, a compound in which 1 to 4 methylol groups of tetramethylol guanamine, tetramethoxymethyl guanamine, tetramethoxymethylbenzoguanamine, and tetramethylol guanamine are methoxymethylated, tetramethoxyethyl guanamine, tetraacyloxyguanamine, and tetra. Examples thereof include compounds in which 1 to 4 methylol groups of methoxyl guanamine are asyloxymethylated.

前記グリコールウリル化合物は、例えば、1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ブトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ヒドロキシメチル)グリコールウリル等が挙げられる。 The glycoluril compound is, for example, 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (1,3,4,6-tetrakis). Hydroxymethyl) glycol uryl and the like can be mentioned.

前記ウレア化合物は、例えば、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(ブトキシメチル)尿素及び1,1,3,3−テトラキス(メトキシメチル)尿素等が挙げられる。 Examples of the urea compound include 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) urea and 1,1,3,3-tetrakis (methoxymethyl) urea. Be done.

前記レゾール樹脂は、例えば、フェノール、クレゾールやキシレノール等のアルキルフェノール、フェニルフェノール、レゾルシノール、ビフェニル、ビスフェノールAやビスフェノールF等のビスフェノール、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のフェノール性水酸基含有化合物と、アルデヒド化合物とをアルカリ性触媒条件下で反応させて得られる重合体が挙げられる。 The resole resin is, for example, phenol, an alkylphenol such as cresol or xylenol, phenylphenol, resorcinol, biphenyl, bisphenol such as bisphenol A or bisphenol F, a phenolic hydroxyl group-containing compound such as naphthol or dihydroxynaphthalene, and an aldehyde compound that is alkaline. Examples thereof include a polymer obtained by reacting under catalytic conditions.

前記エポキシ樹脂は、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、ポリヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ジグリシジルオキシナフタレン、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂、1,1−ビス(2,7−ジグリシジルオキシ−1−ナフチル)アルカン、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、リン原子含有エポキシ樹脂、フェノール性水酸基含有化合物とアルコキシ基含有芳香族化合物との共縮合物のポリグリシジルエーテル等、あるいは本発明の多官能エポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ樹脂の中でも、特に難燃性に優れる硬化物が得られる点においては、テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ポリヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂を用いることが好ましく、誘電特性に優れる硬化物が得られる点においては、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂が好ましい。 Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, polyhydroxynaphthalene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and cresol novolac type epoxy resin. Triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolac type epoxy resin, diglycidyloxynaphthalene, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol- Phenolic co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol-cresol co-condensed novolak type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin type epoxy resin, biphenyl modified novolac type epoxy resin, 1,1-bis (2,7-diglycidyl) Oxy-1-naphthyl) alkane, naphthylene ether type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, phosphorus atom-containing epoxy resin, polyglycidyl ether of cocondensate of phenolic hydroxyl group-containing compound and alkoxy group-containing aromatic compound, etc. Alternatively, the polyfunctional epoxy resin of the present invention can be mentioned. Among these epoxy resins, tetramethylbiphenol type epoxy resin, biphenylaralkyl type epoxy resin, polyhydroxynaphthalene type epoxy resin, and novolac type epoxy resin can be used in terms of obtaining a cured product having particularly excellent flame retardancy. A dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin is preferable in that a cured product having excellent dielectric properties can be obtained.

前記イソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the isocyanate compound include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate and the like.

前記アジド化合物は、例えば、1,1’−ビフェニル−4,4’−ビスアジド、4,4’−メチリデンビスアジド、4,4’−オキシビスアジド等が挙げられる。 Examples of the azide compound include 1,1'-biphenyl-4,4'-bis azide, 4,4'-methylidene azide, 4,4'-oxybis azide and the like.

前記アルケニルエーテル基等の2重結合を含む化合物は、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,2−プロパンジオールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、テトラメチレングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、ソルビトールペンタビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等が挙げられる。 Examples of the compound containing a double bond such as an alkenyl ether group include ethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, 1,2-propanediol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, and tetramethylene glycol divinyl ether. , Neopentyl glycol divinyl ether, trimethylolpropantrivinyl ether, hexanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, sorbitol tetravinyl ether, sorbitol pentavinyl ether, trimethylol propanetrivinyl ether And so on.

前記酸無水物は例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−(イソプロピリデン)ジフタル酸無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物等の芳香族酸無水物;無水テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸無水ドデセニルコハク酸、無水トリアルキルテトラヒドロフタル酸等の脂環式カルボン酸無水物等が挙げられる。 The acid anhydrides include, for example, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 4,4. Aromatic acid anhydrides such as'-(isopropyridene) diphthalic anhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride; tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride , Alicyclic carboxylic acid anhydrides such as methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride dodecenylsuccinic anhydride, and trialkyltetrahydrophthalic anhydride.

これらの中でも、硬化性や硬化物における耐熱性に優れる硬化性樹脂組成物となることから、エポキシ樹脂が特に好ましい。 Among these, an epoxy resin is particularly preferable because it is a curable resin composition having excellent curability and heat resistance in the cured product.

更に前記エポキシ樹脂を使用する場合には、エポキシ樹脂用硬化剤を配合してもよい。 Further, when the epoxy resin is used, a curing agent for epoxy resin may be blended.

ここで用いることのできるエポキシ樹脂用硬化剤としては、例えば、アミン系化合物、アミド系化合物、酸無水物系化合物、フェノール系化合物などの各種の公知のエポキシ樹脂用の硬化剤が挙げられる。 Examples of the epoxy resin curing agent that can be used here include various known curing agents for epoxy resins such as amine compounds, amide compounds, acid anhydride compounds, and phenol compounds.

具体的には、アミン系化合物としてはジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ−ル、BF−アミン錯体、グアニジン誘導体等が挙げられ、アミド系化合物としては、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられる。酸無水物系化合物としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。フェノール系化合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂(ザイロック樹脂)、ナフトールアラルキル樹脂、トリフェニロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール性水酸基含有化合物)、ビフェニル変性ナフトール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物)、アミノトリアジン変性フェノール樹脂(メラミン、ベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール性水酸基含有化合物)やアルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂(ホルムアルデヒドでフェノール核及びアルコキシ基含有芳香環が連結された多価フェノール性水酸基含有化合物)等の多価フェノール性水酸基含有化合物が挙げられる。 Specifically, diaminodiphenylmethane as amine compound, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenyl sulfone, isophoronediamine, imidazo - Le, BF 3 - amine complex, guanidine derivatives and the like, Examples of the amide compounds include dicyandiamide , Polyamide resin synthesized by a dimer of linolenic acid and ethylenediamine, and the like. Examples of acid anhydride compounds include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydro. Examples include phthalic anhydride. Examples of phenolic compounds include phenol novolac resin, cresol novolac resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin, dicyclopentadienephenol-added resin, phenol aralkyl resin (Zyroc resin), naphthol aralkyl resin, and triphenylol methane resin. Tetraphenylol ethane resin, naphthol novolac resin, naphthol-phenol co-condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed novolak resin, biphenyl-modified phenol resin (polyphenolic hydroxyl group-containing compound in which phenol nuclei are linked by bismethylene groups), biphenyl Modified naphthol resin (polyvalent naphthol compound in which phenol nuclei are linked by bismethylene group), aminotriazine-modified phenol resin (polyvalent phenolic hydroxyl group-containing compound in which phenol nuclei are linked by melamine, benzoguanamine, etc.) and alkoxy group-containing aromatic ring Examples thereof include polyhydric phenolic hydroxyl group-containing compounds such as modified novolak resin (polyhydric phenolic hydroxyl group-containing compound in which a phenol nucleus and an alkoxy group-containing aromatic ring are linked with formaldehyde).

<多官能エポキシ樹脂を含有する硬化性樹脂組成物>
本発明の多官能エポキシ樹脂は、エポキシ基と反応性を有する基を有する種々の硬化剤(Y)を併用することで、硬化性樹脂組成物とすることができる。硬化性樹脂組成物は、接着剤、塗料、複合材、フォトレジスト、プリント配線基板、半導体封止材料等の各種の用途に好適に用いることが出来る。
<Curable resin composition containing a polyfunctional epoxy resin>
The polyfunctional epoxy resin of the present invention can be made into a curable resin composition by using various curing agents (Y) having a group having reactivity with an epoxy group in combination. The curable resin composition can be suitably used for various applications such as adhesives, paints, composite materials, photoresists, printed wiring boards, and semiconductor encapsulation materials.

ここで用いることのできる硬化剤(Y)としては、例えば、アミン系化合物、アミド系化合物、酸無水物系化合物、フェノール系化合物などの各種の公知のエポキシ樹脂用の硬化剤が挙げられる。 Examples of the curing agent (Y) that can be used here include various known curing agents for epoxy resins such as amine compounds, amide compounds, acid anhydride compounds, and phenol compounds.

具体的には、アミン系化合物としてはジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ−ル、BF−アミン錯体、グアニジン誘導体等が挙げられ、アミド系化合物としては、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられる。酸無水物系化合物としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。フェノール系化合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂(ザイロック樹脂)、ナフトールアラルキル樹脂、トリフェニロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール性水酸基含有化合物)、ビフェニル変性ナフトール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物)、アミノトリアジン変性フェノール樹脂(メラミン、ベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール性水酸基含有化合物)やアルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂(ホルムアルデヒドでフェノール核及びアルコキシ基含有芳香環が連結された多価フェノール性水酸基含有化合物)等の多価フェノール性水酸基含有化合物が挙げられる。更に本発明の多官能フェノール樹脂を用いても良い。 Specifically, diaminodiphenylmethane as amine compound, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenyl sulfone, isophoronediamine, imidazo - Le, BF 3 - amine complex, guanidine derivatives and the like, Examples of the amide compounds include dicyandiamide , Polyamide resin synthesized by a dimer of linolenic acid and ethylenediamine, and the like. Examples of acid anhydride compounds include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydro. Examples include phthalic anhydride. Examples of phenolic compounds include phenol novolac resin, cresol novolac resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin, dicyclopentadienephenol-added resin, phenol aralkyl resin (Zyroc resin), naphthol aralkyl resin, and triphenylol methane resin. Tetraphenylol ethane resin, naphthol novolac resin, naphthol-phenol co-condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed novolak resin, biphenyl-modified phenol resin (polyphenolic hydroxyl group-containing compound in which phenol nuclei are linked by bismethylene groups), biphenyl Modified naphthol resin (polyvalent naphthol compound in which phenol nuclei are linked by bismethylene group), aminotriazine-modified phenol resin (polyvalent phenolic hydroxyl group-containing compound in which phenol nuclei are linked by melamine, benzoguanamine, etc.) and alkoxy group-containing aromatic ring Examples thereof include polyhydric phenolic hydroxyl group-containing compounds such as modified novolak resin (polyhydric phenolic hydroxyl group-containing compound in which a phenol nucleus and an alkoxy group-containing aromatic ring are linked with formaldehyde). Further, the polyfunctional phenol resin of the present invention may be used.

更に、本発明の硬化性樹脂組成物には、前記で規定するエポキシ樹脂以外のその他のエポキシ樹脂を本発明の効果を損なわない範囲で併用することができる。 Further, the curable resin composition of the present invention may be used in combination with other epoxy resins other than the epoxy resin specified above as long as the effects of the present invention are not impaired.

前記その他のエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、ポリヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂の中でも、特に難燃性に優れる硬化物が得られる点においては、テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ポリヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂を用いることが好ましく、誘電特性に優れる硬化物が得られる点においては、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂が好ましい。また、その他のエポキシ樹脂を併用する場合、本発明のエポキシ樹脂とその他のエポキシ樹脂との合計100質量部に対し、本発明のエポキシ樹脂を30〜90質量部で含むことが、本発明の効果を容易に発現することができる観点から好ましいものである。 Examples of the other epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, polyhydroxynaphthalene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and cresol novolac type. Epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolac type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol Examples thereof include a reduced novolac type epoxy resin, a naphthol-cresol co-reduced novolak type epoxy resin, an aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin type epoxy resin, and a biphenyl modified novolak type epoxy resin. Among these epoxy resins, tetramethylbiphenol type epoxy resin, biphenylaralkyl type epoxy resin, polyhydroxynaphthalene type epoxy resin, and novolac type epoxy resin can be used in terms of obtaining a cured product having particularly excellent flame retardancy. A dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin is preferable in that a cured product having excellent dielectric properties can be obtained. When other epoxy resins are used in combination, the effect of the present invention is that the epoxy resin of the present invention is contained in an amount of 30 to 90 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the epoxy resin of the present invention and the other epoxy resin. Is preferable from the viewpoint that can be easily expressed.

本発明の硬化性樹脂組成物において、前記エポキシ樹脂と硬化剤(Y)との配合量は、硬化性に優れる観点より、前記エポキシ樹脂と必要により併用されるその他のエポキシ樹脂中のエポキシ基の合計1当量に対して、前記硬化剤(Y)中の活性基の合計が0.8〜1.2当量となる割合であることが好ましい。 In the curable resin composition of the present invention, the blending amount of the epoxy resin and the curing agent (Y) is the epoxy group in the epoxy resin and other epoxy resins used in combination with the epoxy resin, if necessary, from the viewpoint of excellent curability. It is preferable that the total amount of the active groups in the curing agent (Y) is 0.8 to 1.2 equivalents with respect to the total 1 equivalent.

<その他の成分>
本発明において、前述のフェノール樹脂を含有する硬化性樹脂組成物、エポキシ樹脂を含有する硬化性樹脂組成物のいずれにおいても、その他の熱硬化性樹脂を併用しても良い。
<Other ingredients>
In the present invention, any of the above-mentioned curable resin composition containing a phenol resin and the curable resin composition containing an epoxy resin may be used in combination with other thermosetting resins.

その他の熱硬化性樹脂としては、例えば、シアネートエステル樹脂、ベンゾオキサジン構造を有する樹脂、マレイミド化合物、活性エステル樹脂、ビニルベンジル化合物、アクリル化合物、スチレンとマレイン酸無水物の共重合物などが挙げられる。前記した他の熱硬化性樹脂を併用する場合、その使用量は本発明の効果を阻害しなければ特に制限をうけないが、硬化性樹脂組成物100質量部中1〜50質量部の範囲であることが好ましい。 Examples of other thermosetting resins include cyanate ester resins, resins having a benzoxazine structure, maleimide compounds, active ester resins, vinylbenzyl compounds, acrylic compounds, copolymers of styrene and maleic acid anhydride, and the like. .. When the other thermosetting resin described above is used in combination, the amount used is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, but is in the range of 1 to 50 parts by mass out of 100 parts by mass of the curable resin composition. It is preferable to have.

前記シアネートエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型シアネートエステル樹脂、ビスフェノールF型シアネートエステル樹脂、ビスフェノールE型シアネートエステル樹脂、ビスフェノールS型シアネートエステル樹脂、ビスフェノールスルフィド型シアネートエステル樹脂、フェニレンエーテル型シアネートエステル樹脂、ナフチレンエーテル型シアネートエステル樹脂、ビフェニル型シアネートエステル樹脂、テトラメチルビフェニル型シアネートエステル樹脂、ポリヒドロキシナフタレン型シアネートエステル樹脂、フェノールノボラック型シアネートエステル樹脂、クレゾールノボラック型シアネートエステル樹脂、トリフェニルメタン型シアネートエステル樹脂、テトラフェニルエタン型シアネートエステル樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型シアネートエステル樹脂、フェノールアラルキル型シアネートエステル樹脂、ナフトールノボラック型シアネートエステル樹脂、ナフトールアラルキル型シアネートエステル樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型シアネートエステル樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型シアネートエステル樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型シアネートエステル樹脂、ビフェニル変性ノボラック型シアネートエステル樹脂、アントラセン型シアネートエステル樹脂等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。 Examples of the cyanate ester resin include bisphenol A type cyanate ester resin, bisphenol F type cyanate ester resin, bisphenol E type cyanate ester resin, bisphenol S type cyanate ester resin, bisphenol sulfide type cyanate ester resin, and phenylene ether type cyanate ester resin. , Naftyrene ether type cyanate ester resin, biphenyl type cyanate ester resin, tetramethylbiphenyl type cyanate ester resin, polyhydroxynaphthalene type cyanate ester resin, phenol novolac type cyanate ester resin, cresol novolac type cyanate ester resin, triphenylmethane type cyanate. Ester resin, tetraphenylethane type cyanate ester resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type cyanate ester resin, phenol aralkyl type cyanate ester resin, naphthol novolac type cyanate ester resin, naphthol aralkyl type cyanate ester resin, naphthol-phenol co-condensed novolak Examples thereof include type cyanate ester resin, naphthol-cresol co-condensed novolak type cyanate ester resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin type cyanate ester resin, biphenyl modified novolak type cyanate ester resin, and anthracene type cyanate ester resin. Each of these may be used alone, or two or more types may be used in combination.

これらのシアネートエステル樹脂の中でも、特に耐熱性に優れる硬化物が得られる点においては、ビスフェノールA型シアネートエステル樹脂、ビスフェノールF型シアネートエステル樹脂、ビスフェノールE型シアネートエステル樹脂、ポリヒドロキシナフタレン型シアネートエステル樹脂、ナフチレンエーテル型シアネートエステル樹脂、ノボラック型シアネートエステル樹脂を用いることが好ましく、誘電特性に優れる硬化物が得られる点においては、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型シアネートエステル樹脂が好ましい。 Among these cyanate ester resins, bisphenol A type cyanate ester resin, bisphenol F type cyanate ester resin, bisphenol E type cyanate ester resin, and polyhydroxynaphthalene type cyanate ester resin are particularly excellent in heat resistance. , Naftylene ether type cyanate ester resin and novolak type cyanate ester resin are preferably used, and dicyclopentadiene-phenol addition reaction type cyanate ester resin is preferable in that a cured product having excellent dielectric properties can be obtained.

ベンゾオキサジン構造を有する樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ビスフェノールFとホルマリンとアニリンの反応生成物(F−a型ベンゾオキサジン樹脂)やジアミノジフェニルメタンとホルマリンとフェノールの反応生成物(P−d型ベンゾオキサジン樹脂)、ビスフェノールAとホルマリンとアニリンの反応生成物、ジヒドロキシジフェニルエーテルとホルマリンとアニリンの反応生成物、ジアミノジフェニルエーテルとホルマリンとフェノールの反応生成物、ジシクロペンタジエン−フェノール付加型樹脂とホルマリンとアニリンの反応生成物、フェノールフタレインとホルマリンとアニリンの反応生成物、ジフェニルスルフィドとホルマリンとアニリンの反応生成物などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。 The resin having a benzoxazine structure is not particularly limited, but for example, a reaction product of bisphenol F, formalin and aniline (Fa type benzoxazine resin) or a reaction product of diaminodiphenylmethane, formalin and phenol (P-). D-type benzoxazine resin), reaction product of bisphenol A, formalin and aniline, reaction product of dihydroxydiphenyl ether, formalin and aniline, reaction product of diaminodiphenyl ether, formalin and phenol, dicyclopentadiene-phenol addition type resin and formalin And aniline reaction products, phenolphthalein, formalin and aniline reaction products, diphenylsulfide, formalin and aniline reaction products, and the like. Each of these may be used alone, or two or more types may be used in combination.

前記マレイミド化合物としては、例えば、下記構造式(i)〜(iii)の何れかで表される各種の化合物等が挙げられる。 Examples of the maleimide compound include various compounds represented by any of the following structural formulas (i) to (iii).

Figure 2021066832
(式中Rはm価の有機基であり、α及びβはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基の何れかであり、sは1以上の整数である。)
Figure 2021066832
(In the formula, R is an m-valent organic group, α and β are any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, and an aryl group, respectively, and s is an integer of 1 or more.)

Figure 2021066832
(式中Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基の何れかであり、sは1〜3の整数、tは繰り返し単位の平均で0〜10である。)
Figure 2021066832
(In the formula, R is any of a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, and an alkoxy group, s is an integer of 1 to 3, and t is an average of 0 to 10 in repeating units. .)

Figure 2021066832
(式中Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基の何れかであり、sは1〜3の整数、tは繰り返し単位の平均で0〜10である。)これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。
Figure 2021066832
(In the formula, R is any of a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, and an alkoxy group, s is an integer of 1 to 3, and t is an average of 0 to 10 in repeating units. .) Each of these may be used alone, or two or more types may be used in combination.

前記活性エステル樹脂としては、特に制限はないが、一般にフェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N−ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に2個以上有する化合物が好ましく用いられる。前記活性エステル樹脂は、カルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物と、ヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物との縮合反応によって得られるものが好ましい。特に耐熱性向上の観点から、カルボン酸化合物又はそのハライドとヒドロキシ化合物とから得られる活性エステル樹脂が好ましく、カルボン酸化合物又はそのハライドと、フェノール化合物及び/又はナフトール化合物とから得られる活性エステル樹脂がより好ましい。カルボン酸化合物としては、例えば安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等、又はそのハライドが挙げられる。フェノール化合物又はナフトール化合物としては、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ジヒドロキシジフェニルエーテル、フェノールフタレイン、メチル化ビスフェノールA、メチル化ビスフェノールF、メチル化ビスフェノールS、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、カテコール、α−ナフトール、β−ナフトール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエン−フェノール付加型樹脂等が挙げられる。 The active ester resin is not particularly limited, but generally contains an ester group having high reactive activity such as phenol esters, thiophenol esters, N-hydroxyamine esters, and esters of heterocyclic hydroxy compounds in one molecule. A compound having two or more is preferably used. The active ester resin is preferably obtained by a condensation reaction between a carboxylic acid compound and / or a thiocarboxylic acid compound and a hydroxy compound and / or a thiol compound. In particular, from the viewpoint of improving heat resistance, an active ester resin obtained from a carboxylic acid compound or a halide thereof and a hydroxy compound is preferable, and an active ester resin obtained from a carboxylic acid compound or a halide thereof and a phenol compound and / or a naphthol compound is preferable. More preferred. Examples of the carboxylic acid compound include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid and the like, or halides thereof. Examples of the phenol compound or naphthol compound include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, dihydroxydiphenyl ether, phenol phthalein, methylated bisphenol A, methylated bisphenol F, methylated bisphenol S, phenol, o-cresol, m. -Cresol, p-cresol, catechol, α-naphthol, β-naphthol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenol, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, fluoroglusin , Benzintriol, dicyclopentadiene-phenol-added resin and the like.

活性エステル樹脂として、具体的にはジシクロペンタジエン−フェノール付加構造を含む活性エステル系樹脂、ナフタレン構造を含む活性エステル樹脂、フェノールノボラックのアセチル化物である活性エステル樹脂、フェノールノボラックのベンゾイル化物である活性エステル樹脂等が好ましく、なかでもピール強度の向上に優れるという点で、ジシクロペンタジエン−フェノール付加構造を含む活性エステル樹脂、ナフタレン構造を含む活性エステル樹脂がより好ましい。ジシクロペンタジエン−フェノール付加構造を含む活性エステル樹脂として、より具体的には下記一般式(iv)で表される化合物が挙げられる。 Specific examples of the active ester resin include an active ester resin containing a dicyclopentadiene-phenol addition structure, an active ester resin containing a naphthalene structure, an active ester resin which is an acetylated product of phenol novolac, and an activity which is a benzoyl product of phenol novolac. Ester resins and the like are preferable, and among them, an active ester resin containing a dicyclopentadiene-phenol addition structure and an active ester resin containing a naphthalene structure are more preferable in that they are excellent in improving peel strength. Specific examples of the active ester resin containing a dicyclopentadiene-phenol addition structure include compounds represented by the following general formula (iv).

Figure 2021066832
Figure 2021066832

但し、式(iv)中、Rはフェニル基又はナフチル基であり、uは0又は1を表し、nは繰り返し単位の平均で0.05〜2.5である。なお、樹脂組成物の硬化物の誘電正接を低下させ、耐熱性を向上させるという観点から、Rはナフチル基が好ましく、uは0が好ましく、また、nは0.25〜1.5が好ましい。 However, in the formula (iv), R is a phenyl group or a naphthyl group, u represents 0 or 1, and n is an average of 0.05 to 2.5 in repeating units. From the viewpoint of reducing the dielectric loss tangent of the cured product of the resin composition and improving the heat resistance, R is preferably a naphthyl group, u is preferably 0, and n is preferably 0.25 to 1.5. ..

更に、各種のノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン等の脂環式ジエン化合物とフェノール化合物との付加重合樹脂、フェノール性水酸基含有化合物とアルコキシ基含有芳香族化合物との変性ノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂(ザイロック樹脂)、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂、及び各種のビニル重合体を併用してもよい。 Further, various novolak resins, addition polymerization resins of alicyclic diene compounds such as dicyclopentadiene and phenol compounds, modified novolak resins of phenolic hydroxyl group-containing compounds and alkoxy group-containing aromatic compounds, and phenol aralkyl resins (Zyrocyl resins). ), Naftor aralkyl resin, trimethylolmethane resin, tetraphenylol ethane resin, biphenyl-modified phenol resin, biphenyl-modified naphthol resin, aminotriazine-modified phenol resin, and various vinyl polymers may be used in combination.

前記各種のノボラック樹脂は、より具体的には、フェノール、フェニルフェノール、レゾルシノール、ビフェニル、ビスフェノールAやビスフェノールF等のビスフェノール、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のフェノール性水酸基含有化合物と、アルデヒド化合物とを酸触媒条件下で反応させて得られる重合体が挙げられる。 More specifically, the various novolak resins are acid catalysts of phenol, phenylphenol, resorcinol, biphenyl, bisphenol such as bisphenol A and bisphenol F, phenolic hydroxyl group-containing compounds such as naphthol and dihydroxynaphthalene, and aldehyde compounds. Examples thereof include a polymer obtained by reacting under conditions.

前記各種のビニル重合体は、ポリヒドロキシスチレン、ポリスチレン、ポリビニルナフタレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルカルバゾール、ポリインデン、ポリアセナフチレン、ポリノルボルネン、ポリシクロデセン、ポリテトラシクロドデセン、ポリノルトリシクレン、ポリ(メタ)アクリレート等のビニル化合物の単独重合体或いはこれらの共重合体が挙げられる。 The various vinyl polymers include polyhydroxystyrene, polystyrene, polyvinylnaphthalene, polyvinylanthracene, polyvinylcarbazole, polyinden, polyacenaftylene, polynorbornene, polycyclodecene, polytetracyclododecene, polynortricyclene, and poly (polynortricyclene, poly). Examples thereof include homopolymers of vinyl compounds such as meth) acrylates and copolymers thereof.

これらその他の樹脂を用いる場合の配合割合は、用途に応じて任意に設定することが出来るが、本発明が奏する組成物としての流動性、加熱硬化時の成形収縮率のバランス効果がより顕著に発現することから、本発明のフェノール樹脂あるいはエポキシ樹脂100質量部に対し、その他の樹脂が0.5〜100質量部となる割合であることが好ましい。 When these other resins are used, the blending ratio can be arbitrarily set according to the intended use, but the effect of balancing the fluidity of the composition and the molding shrinkage during heat curing is more remarkable. From the viewpoint of expression, it is preferable that the proportion of the other resin is 0.5 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the phenol resin or epoxy resin of the present invention.

本発明の硬化性樹脂組成物には、硬化促進剤を併用してもよい。硬化促進剤としてはイミダゾール、ジメチルアミノピリジンなどの3級アミン化合物;トリフェニルホスフィンなどの燐系化合物;3フッ化ホウ素、3フッ化ホウ素モノエチルアミン錯体などの3フッ化ホウ素アミン錯体;チオジプロピオン酸等の有機酸化合物;チオジフェノールベンズオキサジン、スルホニルベンズオキサジン等のベンズオキサジン化合物;スルホニル化合物等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。これら触媒の添加量は、硬化性樹脂組成物100質量部中0.001〜15質量部の範囲であることが好ましい。 A curing accelerator may be used in combination with the curable resin composition of the present invention. As the curing accelerator, tertiary amine compounds such as imidazole and dimethylaminopyridine; phosphorus compounds such as triphenylphosphine; boron trifluoride amine complex such as boron trifluoride and boron trifluoride monoethylamine complex; thiodipropion. Organic acid compounds such as acids; benzoxazine compounds such as thiodiphenol benzoxazine and sulfonylbenzoxazine; sulfonyl compounds and the like can be mentioned. Each of these may be used alone, or two or more types may be used in combination. The amount of these catalysts added is preferably in the range of 0.001 to 15 parts by mass in 100 parts by mass of the curable resin composition.

また、本発明の硬化性樹脂組成物に高い難燃性が求められる用途に用いる場合には、実質的にハロゲン原子を含有しない非ハロゲン系難燃剤を配合してもよい。 Further, when the curable resin composition of the present invention is used for applications where high flame retardancy is required, a non-halogen flame retardant which does not substantially contain a halogen atom may be blended.

前記非ハロゲン系難燃剤は、例えば、リン系難燃剤、窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤、無機系難燃剤、有機金属塩系難燃剤等が挙げられ、それらの使用に際しても何等制限されるものではなく、単独で使用しても、同一系の難燃剤を複数用いても良く、また、異なる系の難燃剤を組み合わせて用いることも可能である。 Examples of the non-halogen flame retardant include phosphorus flame retardants, nitrogen flame retardants, silicone flame retardants, inorganic flame retardants, organic metal salt flame retardants, and the like, and their use is also restricted. It may be used alone, a plurality of flame retardants of the same system may be used, and flame retardants of different systems may be used in combination.

前記リン系難燃剤は、無機系、有機系のいずれも使用することができる。無機系化合物としては、例えば、赤リン、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム類、リン酸アミド等の無機系含窒素リン化合物が挙げられる。 As the phosphorus-based flame retardant, either an inorganic type or an organic type can be used. Examples of the inorganic compound include ammonium phosphates such as red phosphorus, monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate and ammonium polyphosphate, and inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as phosphate amide. ..

また、前記赤リンは、加水分解等の防止を目的として表面処理が施されていることが好ましく、表面処理方法としては、例えば、(i)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン、酸化ビスマス、水酸化ビスマス、硝酸ビスマス又はこれらの混合物等の無機化合物で被覆処理する方法、(ii)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン等の無機化合物、及びフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂の混合物で被覆処理する方法、(iii)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン等の無機化合物の被膜の上にフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂で二重に被覆処理する方法等が挙げられる。 Further, the red phosphorus is preferably surface-treated for the purpose of preventing hydrolysis and the like, and examples of the surface treatment method include (i) magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide and water. A method of coating with an inorganic compound such as titanium oxide, bismuth oxide, bismuth hydroxide, bismuth nitrate or a mixture thereof, (ii) inorganic compounds such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide and titanium hydroxide, and Method of coating with a mixture of thermosetting resins such as phenol resin, (iii) Thermocurability of phenol resin or the like on a film of an inorganic compound such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide, titanium hydroxide Examples thereof include a method of double coating with a resin.

前記有機リン系化合物は、例えば、リン酸エステル化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、有機系含窒素リン化合物等の汎用有機リン系化合物の他、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、10−(2,5―ジヒドロオキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、10−(2,7−ジヒドロオキシナフチル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド等の環状有機リン化合物及びそれをエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の化合物と反応させた誘導体等が挙げられる。 The organic phosphorus compounds include, for example, general-purpose organic phosphorus compounds such as phosphoric acid ester compounds, phosphonic acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phosphoran compounds, and organic nitrogen-containing phosphorus compounds, as well as 9,10-dihydro. -9-Oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,5-dihydrooxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,7-) Examples thereof include cyclic organophosphorus compounds such as dihydrooxynaphthyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide and derivatives obtained by reacting the cyclic organophosphorus compounds with compounds such as epoxy resins and phenol resins.

これらリン系難燃剤の配合量としては、リン系難燃剤の種類、樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した樹脂組成物100質量部中、赤リンを非ハロゲン系難燃剤として使用する場合には0.1質量部〜2.0質量部の範囲で配合することが好ましく、有機リン化合物を用いる場合には同様に0.1質量部〜10.0質量部の範囲で配合することが好ましく、0.5質量部〜6.0質量部の範囲で配合することがより好ましい。 The blending amount of these phosphorus-based flame retardants is appropriately selected depending on the type of the phosphorus-based flame retardant, other components of the resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, a non-halogen flame retardant. When red phosphorus is used as a non-halogen flame retardant, it is blended in the range of 0.1 parts by mass to 2.0 parts by mass in 100 parts by mass of the resin composition containing all of the fillers and other additives. In the same way, when an organic phosphorus compound is used, it is preferably blended in the range of 0.1 parts by mass to 10.0 parts by mass, and blended in the range of 0.5 parts by mass to 6.0 parts by mass. It is more preferable to do so.

また前記リン系難燃剤を使用する場合、該リン系難燃剤にハイドロタルサイト、水酸化マグネシウム、ホウ素化合物、酸化ジルコニウム、黒色染料、炭酸カルシウム、ゼオライト、モリブデン酸亜鉛、活性炭等を併用してもよい。 When the phosphorus-based flame retardant is used, hydrotalcite, magnesium hydroxide, boron compound, zirconium oxide, black dye, calcium carbonate, zeolite, zinc molybdate, activated charcoal, etc. may be used in combination with the phosphorus-based flame retardant. Good.

前記窒素系難燃剤は、例えば、トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、フェノチアジン等が挙げられ、トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物が好ましい。 Examples of the nitrogen-based flame retardant include triazine compounds, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds, and phenothiazine, and triazine compounds, cyanuric acid compounds, and isocyanuric acid compounds are preferable.

前記トリアジン化合物は、例えば、メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、メロン、メラム、サクシノグアナミン、エチレンジメラミン、ポリリン酸メラミン、トリグアナミン等の他、例えば、(1)硫酸グアニルメラミン、硫酸メレム、硫酸メラムなどの硫酸アミノトリアジン化合物、(2)フェノール、クレゾール、キシレノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール等のフェノール類と、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン、ホルムグアナミン等のメラミン類及びホルムアルデヒドとの共縮合物、(3)前記(2)の共縮合物とフェノールホルムアルデヒド縮合物等のフェノール樹脂類との混合物、(4)前記(2)、(3)を更に桐油、異性化アマニ油等で変性したもの等が挙げられる。 The triazine compound includes, for example, melamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melon, melam, succinoguanamine, ethylenedimelamine, polyphosphate melamine, triguanamine and the like, and for example, (1) guanyl melamine sulfate, melem sulfate, melam sulfate. Aminotriazine sulfate compounds such as (2) Phenols such as phenol, cresol, xylenol, butylphenol and nonylphenol, and melamines such as melamine, benzoguanamine, acetguanamine and formguanamine, and a cocondensate of formaldehyde, (3) above. Examples thereof include a mixture of the cocondensate of (2) and a phenol resin such as a phenol formaldehyde condensate, and (4) the above (2) and (3) further modified with tung oil, isomerized melamine oil and the like.

前記シアヌル酸化合物は、例えば、シアヌル酸、シアヌル酸メラミン等を挙げることができる。 Examples of the cyanuric acid compound include cyanuric acid and melamine cyanuric acid.

前記窒素系難燃剤の配合量としては、窒素系難燃剤の種類、樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した樹脂組成物100質量部中、0.05〜10質量部の範囲で配合することが好ましく、0.1質量部〜5質量部の範囲で配合することがより好ましい。 The blending amount of the nitrogen-based flame retardant is appropriately selected depending on the type of the nitrogen-based flame retardant, other components of the resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, a non-halogen flame retardant. And other fillers, additives, etc. are all blended in the range of 0.05 to 10 parts by mass, preferably in the range of 0.1 parts by mass to 5 parts by mass, out of 100 parts by mass of the resin composition. It is more preferable to do so.

また前記窒素系難燃剤を使用する際、金属水酸化物、モリブデン化合物等を併用してもよい。 When using the nitrogen-based flame retardant, a metal hydroxide, a molybdenum compound, or the like may be used in combination.

前記シリコーン系難燃剤は、ケイ素原子を含有する有機化合物であれば特に制限がなく使用でき、例えば、シリコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーン樹脂等が挙げられる。前記シリコーン系難燃剤の配合量としては、シリコーン系難燃剤の種類、樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した樹脂組成物100質量部中、0.05〜20質量部の範囲で配合することが好ましい。また前記シリコーン系難燃剤を使用する際、モリブデン化合物、アルミナ等を併用してもよい。 The silicone-based flame retardant can be used without particular limitation as long as it is an organic compound containing a silicon atom, and examples thereof include silicone oil, silicone rubber, and silicone resin. The blending amount of the silicone flame retardant is appropriately selected depending on the type of the silicone flame retardant, other components of the resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, a non-halogen flame retardant. It is preferable to blend in the range of 0.05 to 20 parts by mass in 100 parts by mass of the resin composition containing all of the other fillers and additives. Further, when using the silicone flame retardant, a molybdenum compound, alumina or the like may be used in combination.

前記無機系難燃剤は、例えば、金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩化合物、金属粉、ホウ素化合物、低融点ガラス等が挙げられる。 Examples of the inorganic flame retardant include metal hydroxides, metal oxides, metal carbonate compounds, metal powders, boron compounds, and low melting point glass.

前記金属水酸化物は、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ドロマイト、ハイドロタルサイト、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ジルコニウム等を挙げることができる。 Examples of the metal hydroxide include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, dolomite, hydrotalcite, calcium hydroxide, barium hydroxide, zirconium hydride and the like.

前記金属酸化物は、例えば、モリブデン酸亜鉛、三酸化モリブデン、スズ酸亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化コバルト、酸化ビスマス、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化銅、酸化タングステン等を挙げることができる。 The metal oxide includes, for example, zinc molybdenum, molybdenum trioxide, zinc tinate, tin oxide, aluminum oxide, iron oxide, titanium oxide, manganese oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, cobalt oxide, and bismuth oxide. Examples thereof include chromium oxide, nickel oxide, copper oxide, and tungsten oxide.

前記金属炭酸塩化合物は、例えば、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸アルミニウム、炭酸鉄、炭酸コバルト、炭酸チタン等を挙げることができる。 Examples of the metal carbonate compound include zinc carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, basic magnesium carbonate, aluminum carbonate, iron carbonate, cobalt carbonate, titanium carbonate and the like.

前記金属粉は、例えば、アルミニウム、鉄、チタン、マンガン、亜鉛、モリブデン、コバルト、ビスマス、クロム、ニッケル、銅、タングステン、スズ等を挙げることができる。 Examples of the metal powder include aluminum, iron, titanium, manganese, zinc, molybdenum, cobalt, bismuth, chromium, nickel, copper, tungsten, tin and the like.

前記ホウ素化合物は、例えば、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸、ホウ砂等を挙げることができる。 Examples of the boron compound include zinc borate, zinc metaborate, barium metaborate, boric acid, and borax.

前記低融点ガラスは、例えば、シープリー(ボクスイ・ブラウン社)、水和ガラスSiO−MgO−HO、PbO−B系、ZnO−P−MgO系、P−B−PbO−MgO系、P−Sn−O−F系、PbO−V−TeO系、Al−HO系、ホウ珪酸鉛系等のガラス状化合物を挙げることができる。 The low melting point glass includes, for example, Shipley (Boxy Brown Co., Ltd.), hydrated glass SiO 2 -MgO-H 2 O, PbO-B 2 O 3 system, ZnO-P 2 O 5- MgO system, P 2 O 5 -B 2 O 3- PbO-MgO system, P-Sn-OF system, PbO-V 2 O 5- TeO 2 system, Al 2 O 3- H 2 O system, lead borosilicate glassy compounds, etc. Can be mentioned.

前記無機系難燃剤の配合量としては、無機系難燃剤の種類、樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した樹脂組成物100質量部中、0.05質量部〜20質量部の範囲で配合することが好ましく、0.5質量部〜15質量部の範囲で配合することがより好ましい。 The blending amount of the inorganic flame retardant is appropriately selected depending on the type of the inorganic flame retardant, other components of the resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, a non-halogen flame retardant. It is preferable to blend in the range of 0.05 parts by mass to 20 parts by mass, and in the range of 0.5 parts by mass to 15 parts by mass, out of 100 parts by mass of the resin composition containing all of the other fillers and additives. It is more preferable to mix with.

前記有機金属塩系難燃剤は、例えば、フェロセン、アセチルアセトナート金属錯体、有機金属カルボニル化合物、有機コバルト塩化合物、有機スルホン酸金属塩、金属原子と芳香族化合物又は複素環化合物がイオン結合又は配位結合した化合物等が挙げられる。 The organometallic salt-based flame retardant includes, for example, ferrocene, an acetylacetonate metal complex, an organometallic carbonyl compound, an organocobalt salt compound, an organosulfonic acid metal salt, a metal atom and an aromatic compound or a heterocyclic compound in an ionic bond or arrangement. Examples thereof include position-bonded compounds.

前記有機金属塩系難燃剤の配合量としては、有機金属塩系難燃剤の種類、樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合した樹脂組成物100質量部中、0.005質量部〜10質量部の範囲で配合することが好ましい。 The blending amount of the organic metal salt-based flame retardant is appropriately selected depending on the type of the organic metal salt-based flame retardant, other components of the resin composition, and the desired degree of flame retardancy. It is preferable to blend in the range of 0.005 parts by mass to 10 parts by mass in 100 parts by mass of the resin composition containing all of the halogen-based flame retardant and other fillers and additives.

本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて無機充填材を配合することができる。前記無機充填材は、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。前記無機充填材の配合量を特に大きくする場合は溶融シリカを用いることが好ましい。前記溶融シリカは破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、溶融シリカの配合量を高め且つ成形材料の溶融粘度の上昇を抑制するためには、球状のものを主に用いる方が好ましい。更に球状シリカの配合量を高めるためには、球状シリカの粒度分布を適当に調整することが好ましい。その充填率は難燃性を考慮して、高い方が好ましく、硬化性樹脂組成物の全質量に対して20質量%以上が特に好ましい。また導電ペーストなどの用途に使用する場合は、銀粉や銅粉等の導電性充填剤を用いることができる。 The curable resin composition of the present invention can be blended with an inorganic filler, if necessary. Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide and the like. When the blending amount of the inorganic filler is particularly large, it is preferable to use fused silica. The molten silica can be used in either a crushed form or a spherical shape, but in order to increase the blending amount of the molten silica and suppress an increase in the melt viscosity of the molding material, it is preferable to mainly use a spherical one. Further, in order to increase the blending amount of spherical silica, it is preferable to appropriately adjust the particle size distribution of spherical silica. The filling rate is preferably high in consideration of flame retardancy, and is particularly preferably 20% by mass or more with respect to the total mass of the curable resin composition. When used for applications such as conductive paste, a conductive filler such as silver powder or copper powder can be used.

本発明の硬化性樹脂組成物は、この他、必要に応じて、シランカップリング剤、離型剤、顔料、乳化剤等の種々の配合剤を添加することができる。 In addition to this, various compounding agents such as a silane coupling agent, a mold release agent, a pigment, and an emulsifier can be added to the curable resin composition of the present invention, if necessary.

<硬化性樹脂組成物の用途>
本発明の硬化性樹脂組成物は、半導体封止材料、半導体装置、プリプレグ、プリント回路基板、ビルドアップ基板、ビルドアップフィルム、繊維強化複合材料、繊維強化樹脂成形品、導電ペースト等に適用することができる。
<Use of curable resin composition>
The curable resin composition of the present invention shall be applied to semiconductor encapsulant materials, semiconductor devices, prepregs, printed circuit boards, build-up substrates, build-up films, fiber-reinforced composite materials, fiber-reinforced resin molded products, conductive pastes, and the like. Can be done.

1.半導体封止材料
本発明の硬化性樹脂組成物から半導体封止材料を得る方法としては、前記硬化性樹脂組成物、及び無機充填剤等の配合剤とを必要に応じて押出機、ニ−ダ、ロ−ル等を用いて均一になるまで充分に溶融混合する方法が挙げられる。その際、無機充填剤としては、通常、溶融シリカが用いられるが、パワートランジスタ、パワーIC用高熱伝導半導体封止材として用いる場合は、溶融シリカよりも熱伝導率の高い結晶シリカ,アルミナ,窒化ケイ素などの高充填化、または溶融シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、窒化ケイ素などを用いるとよい。その充填率は硬化性樹脂組成物100質量部当たり、無機充填剤を30質量部〜95質量部の範囲で用いることが好ましく、中でも、難燃性や耐湿性や耐半田クラック性の向上、線膨張係数の低下を図るためには、70質量部以上がより好ましく、80質量部以上であることがさらに好ましい。
1. 1. Semiconductor encapsulation material As a method for obtaining a semiconductor encapsulation material from the curable resin composition of the present invention, the curable resin composition and a compounding agent such as an inorganic filler are used in an extruder or a feeder as necessary. , A method of sufficiently melting and mixing until uniform using a roll or the like can be mentioned. At that time, fused silica is usually used as the inorganic filler, but when used as a high thermal conductivity semiconductor encapsulant for power transistors and power ICs, crystalline silica, alumina, and silicon nitride having higher thermal conductivity than fused silica are used. It is preferable to use high-filling silicon or the like, or use molten silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, or the like. It is preferable to use an inorganic filler in the range of 30 parts by mass to 95 parts by mass per 100 parts by mass of the curable resin composition, and among them, improvement of flame retardancy, moisture resistance and solder crack resistance, wire In order to reduce the coefficient of expansion, 70 parts by mass or more is more preferable, and 80 parts by mass or more is further preferable.

2.半導体装置
本発明の硬化性樹脂組成物から半導体装置を得る方法としては、前記半導体封止材料を注型、或いはトランスファー成形機、射出成形機などを用いて成形し、さらに50〜200℃で2〜10時間の間、加熱する方法が挙げられる。
2. Semiconductor device As a method for obtaining a semiconductor device from the curable resin composition of the present invention, the semiconductor encapsulant material is cast or molded using a transfer molding machine, an injection molding machine, or the like, and further at 50 to 200 ° C. 2 A method of heating for 10 hours can be mentioned.

3.プリプレグ
本発明の硬化性樹脂組成物からプリプレグを得る方法としては、有機溶剤を配合してワニス化した硬化性樹脂組成物を、補強基材(紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布など)に含浸したのち、用いた溶剤種に応じた加熱温度、好ましくは50〜170℃で加熱することによって、得る方法が挙げられる。この時用いる樹脂組成物と補強基材の質量割合としては、特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20質量%〜60質量%となるように調製することが好ましい。
3. 3. Prepreg As a method for obtaining a prepreg from the curable resin composition of the present invention, a curable resin composition obtained by blending an organic solvent to form a varnish is used as a reinforcing base material (paper, glass cloth, glass non-woven fabric, aramid paper, aramid cloth). , Glass mat, glass roving cloth, etc.) and then heated at a heating temperature, preferably 50 to 170 ° C., depending on the type of solvent used. The mass ratio of the resin composition and the reinforcing base material used at this time is not particularly limited, but it is usually preferable to prepare the resin content in the prepreg to be 20% by mass to 60% by mass.

ここで用いる有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エチルジグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられ、その選択や適正な使用量は用途によって適宜選択し得るが、例えば、下記のようにプリプレグからプリント回路基板をさらに製造する場合には、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド等の沸点が160℃以下の極性溶剤を用いることが好ましく、また、不揮発分が40質量%〜80質量%となる割合で用いることが好ましい。 Examples of the organic solvent used here include methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, methoxypropanol, cyclohexanone, methyl cellosolve, ethyl diglycol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like. It can be appropriately selected depending on the application, but for example, when further producing a printed circuit board from prepylene as described below, it is preferable to use a polar solvent having a boiling point of 160 ° C. or lower, such as methyl ethyl ketone, acetone, or dimethylformamide. , It is preferable to use the non-volatile content at a ratio of 40% by mass to 80% by mass.

4.プリント回路基板
本発明の硬化性樹脂組成物からプリント回路基板を得る方法としては、前記プリプレグを、常法により積層し、適宜銅箔を重ねて、1〜10MPaの加圧下に170〜300℃で10分〜3時間、加熱圧着させる方法が挙げられる。
4. Printed circuit board As a method for obtaining a printed circuit board from the curable resin composition of the present invention, the prepregs are laminated by a conventional method, copper foils are appropriately laminated, and the temperature is 170 to 300 ° C. under a pressure of 1 to 10 MPa. Examples thereof include a method of heat-bonding for 10 minutes to 3 hours.

5.ビルドアップ基板
本発明の硬化性樹脂組成物からビルドアップ基板を得る方法としては、工程1〜3を経由する方法が挙げられる。工程1では、まず、ゴム、フィラーなどを適宜配合した前記硬化性樹脂組成物を、回路を形成した回路基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させる。工程2では、必要に応じて、硬化性樹脂組成物が塗布された回路基板に所定のスルーホール部等の穴あけを行った後、粗化剤により処理し、その表面を湯洗することによって、前記基板に凹凸を形成させ、銅などの金属をめっき処理する。工程3では、工程1〜2の操作を所望に応じて順次繰り返し、樹脂絶縁層及び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアップしてビルドアップ基板を成形する。なお、前記工程において、スルーホール部の穴あけは、最外層の樹脂絶縁層の形成後に行うとよい。また、本発明のビルドアップ基板は、銅箔上で当該樹脂組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、170〜300℃で加熱圧着することで、粗化面を形成、メッキ処理の工程を省き、ビルドアップ基板を作製することも可能である。
5. Build-up substrate As a method for obtaining a build-up substrate from the curable resin composition of the present invention, a method via steps 1 to 3 can be mentioned. In step 1, first, the curable resin composition in which rubber, a filler and the like are appropriately mixed is applied to a circuit board on which a circuit is formed by a spray coating method, a curtain coating method, or the like, and then cured. In step 2, if necessary, a circuit board coated with the curable resin composition is drilled with a predetermined through-hole portion or the like, treated with a roughening agent, and the surface thereof is washed with hot water. Concavities and convexities are formed on the substrate, and a metal such as copper is plated. In step 3, the operations of steps 1 and 2 are sequentially repeated as desired, and the resin insulating layer and the conductor layer having a predetermined circuit pattern are alternately built up to form a build-up substrate. In the above step, the through-hole portion may be drilled after the outermost resin insulating layer is formed. Further, the build-up substrate of the present invention is roughened by heat-pressing a resin-containing copper foil obtained by semi-curing the resin composition on a copper foil onto a wiring board on which a circuit is formed at 170 to 300 ° C. It is also possible to produce a build-up substrate by omitting the steps of forming a chemical surface and plating.

6.ビルドアップフィルム
本発明の硬化性樹脂組成物からビルドアップフィルムを得る方法としては、例えば、支持フィルム上に硬化性樹脂組成物を塗布したのち、乾燥させて、支持フィルムの上に樹脂組成物層を形成する方法が挙げられる。本発明の硬化性樹脂組成物をビルドアップフィルムに用いる場合、該フィルムは、真空ラミネート法におけるラミネートの温度条件(通常70℃〜140℃)で軟化し、回路基板のラミネートと同時に、回路基板に存在するビアホール或いはスルーホール内の樹脂充填が可能な流動性(樹脂流れ)を示すことが肝要であり、このような特性を発現するよう前記各成分を配合することが好ましい。
6. Build-up film As a method of obtaining a build-up film from the curable resin composition of the present invention, for example, a curable resin composition is applied on a support film, dried, and a resin composition layer is placed on the support film. There is a method of forming. When the curable resin composition of the present invention is used as a build-up film, the film is softened under the temperature conditions of lamination (usually 70 ° C. to 140 ° C.) in the vacuum laminating method, and is applied to the circuit board at the same time as laminating the circuit board. It is important to show fluidity (resin flow) capable of filling the existing via hole or through hole with resin, and it is preferable to blend each of the above components so as to exhibit such characteristics.

ここで、回路基板のスルーホールの直径は通常0.1〜0.5mm、深さは通常0.1〜1.2mmであり、通常この範囲で樹脂充填を可能とするのが好ましい。なお回路基板の両面をラミネートする場合はスルーホールの1/2程度充填されることが望ましい。 Here, the diameter of the through hole of the circuit board is usually 0.1 to 0.5 mm, and the depth is usually 0.1 to 1.2 mm, and it is usually preferable to enable resin filling in this range. When laminating both sides of a circuit board, it is desirable to fill about 1/2 of the through holes.

前記したビルドアップフィルムを製造する具体的な方法としては、有機溶剤を配合してワニス化した樹脂組成物を調製した後、支持フィルムの表面に、前記組成物を塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥して樹脂組成物の層を形成する方法が挙げられる。 As a specific method for producing the above-mentioned build-up film, after preparing a varnished resin composition by blending an organic solvent, the composition is applied to the surface of a support film, and further heated or hot air is used. Examples thereof include a method of drying the organic solvent by spraying or the like to form a layer of the resin composition.

ここで用いる有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等を用いることが好ましく、また、不揮発分30質量%〜60質量%となる割合で使用することが好ましい。 Examples of the organic solvent used here include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and carbitol acetate, cellosolve and butyl carbitol. Carbitols, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like are preferably used, and the non-volatile content is 30% by mass to 60% by mass. Is preferable.

なお、形成される前記樹脂組成物の層の厚さは、通常、導体層の厚さ以上とする必要がある。回路基板が有する導体層の厚さは通常5〜70μmの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは10〜100μmの厚みを有するのが好ましい。なお、本発明における前記樹脂組成物の層は、後述する保護フィルムで保護されていてもよい。保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができる。 The thickness of the layer of the resin composition to be formed usually needs to be equal to or larger than the thickness of the conductor layer. Since the thickness of the conductor layer of the circuit board is usually in the range of 5 to 70 μm, the thickness of the resin composition layer is preferably 10 to 100 μm. The layer of the resin composition in the present invention may be protected by a protective film described later. By protecting with a protective film, it is possible to prevent dust and the like from adhering to the surface of the resin composition layer and scratches.

前記した支持フィルム及び保護フィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、更には離型紙や銅箔、アルミニウム箔等の金属箔などを挙げることができる。なお、支持フィルム及び保護フィルムはマッド処理、コロナ処理の他、離型処理を施してあってもよい。支持フィルムの厚さは特に限定されないが、通常10〜150μmであり、好ましくは25〜50μmの範囲で用いられる。また保護フィルムの厚さは1〜40μmとするのが好ましい。 The support film and protective film described above include polyolefins such as polyethylene, polypropylene and polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate (hereinafter, may be abbreviated as "PET"), polyesters such as polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyimide, and further release. Examples include metal foils such as patterns, copper foils, and aluminum foils. The support film and the protective film may be subjected to a mold release treatment in addition to the mud treatment and the corona treatment. The thickness of the support film is not particularly limited, but is usually 10 to 150 μm, and is preferably used in the range of 25 to 50 μm. The thickness of the protective film is preferably 1 to 40 μm.

前記した支持フィルムは、回路基板にラミネートした後に、或いは加熱硬化することにより絶縁層を形成した後に、剥離される。ビルドアップフィルムを構成する樹脂組成物層が加熱硬化した後に支持フィルムを剥離すれば、硬化工程でのゴミ等の付着を防ぐことができる。硬化後に剥離する場合、通常、支持フィルムには予め離型処理が施される。 The support film described above is peeled off after being laminated on a circuit board or after forming an insulating layer by heat curing. If the support film is peeled off after the resin composition layer constituting the build-up film is heat-cured, it is possible to prevent the adhesion of dust and the like in the curing step. When peeling after curing, the support film is usually subjected to a mold release treatment in advance.

なお、前記のようにして得られたビルドアップフィルムから多層プリント回路基板を製造することができる。例えば、前記樹脂組成物の層が保護フィルムで保護されている場合はこれらを剥離した後、前記樹脂組成物の層を回路基板に直接接するように回路基板の片面又は両面に、例えば真空ラミネート法によりラミネートする。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。また必要により、ラミネートを行う前にビルドアップフィルム及び回路基板を必要により加熱(プレヒート)しておいてもよい。ラミネートの条件は、圧着温度(ラミネート温度)を70〜140℃とすることが好ましく、圧着圧力を1〜11kgf/cm(9.8×10〜107.9×10N/m)とすることが好ましく、空気圧を20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下でラミネートすることが好ましい。 A multilayer printed circuit board can be manufactured from the build-up film obtained as described above. For example, when the layers of the resin composition are protected by a protective film, they are peeled off, and then the layer of the resin composition is directly contacted with the circuit board on one or both sides of the circuit board, for example, a vacuum lamination method. Laminate with. The laminating method may be a batch method or a continuous method using a roll. If necessary, the build-up film and the circuit board may be preheated if necessary before laminating. As for the laminating conditions, the crimping temperature (lamination temperature) is preferably 70 to 140 ° C., and the crimping pressure is 1 to 11 kgf / cm 2 (9.8 × 10 4 to 107.9 × 10 4 N / m 2 ). It is preferable to laminate under a reduced air pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less.

7.繊維強化複合材料
本発明の樹脂組成物から繊維強化複合材料(樹脂が強化繊維に含浸したシート状の中間材料)を得る方法としては、樹脂組成物を構成する各成分を均一に混合してワニスを調整し、次いでこれを強化繊維からなる強化基材に含浸した後、重合反応させることにより製造する方法が挙げられる。
7. Fiber-reinforced composite material As a method of obtaining a fiber-reinforced composite material (a sheet-like intermediate material in which a resin is impregnated in a reinforcing fiber) from the resin composition of the present invention, each component constituting the resin composition is uniformly mixed and varnished. Then, after impregnating the reinforcing base material made of reinforcing fibers with the reinforcing base material, a polymerization reaction may be carried out to produce the material.

かかる重合反応を行う際の硬化温度は、具体的には、50〜250℃の温度範囲であることが好ましく、特に、50〜100℃で硬化させ、タックフリー状の硬化物にした後、更に、120〜200℃の温度条件で処理することが好ましい。 Specifically, the curing temperature at the time of carrying out such a polymerization reaction is preferably in the temperature range of 50 to 250 ° C., in particular, after curing at 50 to 100 ° C. to obtain a tack-free cured product, further , 120-200 ° C. is preferable.

ここで、強化繊維は、有撚糸、解撚糸、又は無撚糸などいずれでも良いが、解撚糸や無撚糸が、繊維強化プラスチック製部材の成形性と機械強度を両立することから、好ましい。さらに、強化繊維の形態は、繊維方向が一方向に引き揃えたものや、織物が使用できる。織物では、平織り、朱子織りなどから、使用する部位や用途に応じて自由に選択することができる。具体的には、機械強度や耐久性に優れることから、炭素繊維、ガラス繊維、アラミド繊維、ボロン繊維、アルミナ繊維、炭化ケイ素繊維などが挙げられ、これらの2種以上を併用することもできる。これらの中でもとりわけ成形品の強度が良好なものとなる点から炭素繊維が好ましく、かかる、炭素繊維は、ポリアクリロニトリル系、ピッチ系、レーヨン系などの各種のものが使用できる。中でも、容易に高強度の炭素繊維が得られるポリアクリロニトリル系のものが好ましい。ここで、ワニスを強化繊維からなる強化基材に含浸して繊維強化複合材料とする際の強化繊維の使用量は、該繊維強化複合材料中の強化繊維の体積含有率が40%〜85%の範囲となる量であることが好ましい。 Here, the reinforcing fiber may be any of twisted yarn, untwisted yarn, untwisted yarn and the like, but the untwisted yarn and the untwisted yarn are preferable because they have both moldability and mechanical strength of the fiber reinforced plastic member. Further, as the form of the reinforcing fiber, one in which the fiber directions are aligned in one direction or a woven fabric can be used. For woven fabrics, plain weaves, satin weaves, and the like can be freely selected according to the part to be used and the intended use. Specific examples thereof include carbon fiber, glass fiber, aramid fiber, boron fiber, alumina fiber, and silicon carbide fiber because of their excellent mechanical strength and durability, and two or more of these can be used in combination. Among these, carbon fibers are particularly preferable from the viewpoint of improving the strength of the molded product, and various carbon fibers such as polyacrylonitrile-based, pitch-based, and rayon-based can be used. Of these, polyacrylonitrile-based ones, which can easily obtain high-strength carbon fibers, are preferable. Here, the amount of the reinforcing fiber used when impregnating the reinforcing base material made of the reinforcing fiber with the varnish to obtain the fiber-reinforced composite material is such that the volume content of the reinforcing fiber in the fiber-reinforced composite material is 40% to 85%. The amount is preferably in the range of.

8.繊維強化樹脂成形品
本発明の樹脂組成物から繊維強化成形品(樹脂が強化繊維に含浸したシート状部材が硬化した成形品)を得る方法としては、型に繊維骨材を敷き、前記ワニスを多重積層してゆくハンドレイアップ法やスプレーアップ法、オス型・メス型のいずれかを使用し、強化繊維からなる基材にワニスを含浸させながら積み重ねて成形、圧力を成形物に作用させることのできるフレキシブルな型をかぶせ、気密シールしたものを真空(減圧)成型する真空バッグ法、あらかじめ強化繊維を含有するワニスをシート状にしたものを金型で圧縮成型するSMCプレス法、繊維を敷き詰めた合わせ型に前記ワニスを注入するRTM法などにより、強化繊維に前記ワニスを含浸させたプリプレグを製造し、これを大型のオートクレーブで焼き固める方法などが挙げられる。なお、前記で得られた繊維強化樹脂成形品は、強化繊維と樹脂組成物の硬化物とを有する成形品であり、具体的には、繊維強化成形品中の強化繊維の量は、40質量%〜70質量%の範囲であることが好ましく、強度の点から50質量%〜70質量%の範囲であることが特に好ましい。
8. Fiber-reinforced resin molded product As a method of obtaining a fiber-reinforced molded product (molded product in which a sheet-like member impregnated with resin impregnated in reinforcing fibers is cured) from the resin composition of the present invention, a fiber aggregate is laid on a mold and the varnish is applied. Using either the hand lay-up method, spray-up method, or male or female type, in which multiple layers are laminated, the base material made of reinforcing fibers is impregnated with varnish and stacked to form, and pressure is applied to the molded product. Vacuum bag method in which a flexible mold that can be used is covered and airtightly sealed is vacuum (decompressed) molded, SMC press method in which a sheet of varnish containing reinforcing fibers is previously compression-molded with a mold, and fibers are laid out. Examples thereof include a method of producing a prepreg in which reinforcing fibers are impregnated with the varnish by an RTM method in which the varnish is injected into a mating mold, and baking the prepreg with a large autoclave. The fiber-reinforced resin molded product obtained above is a molded product having a reinforcing fiber and a cured product of the resin composition. Specifically, the amount of the reinforcing fiber in the fiber-reinforced molded product is 40 mass. It is preferably in the range of% to 70% by mass, and particularly preferably in the range of 50% by mass to 70% by mass from the viewpoint of strength.

9.導電ペースト
本発明の樹脂組成物から導電ペーストを得る方法としては、例えば、微細導電性粒子を該硬化性樹脂組成物中に分散させる方法が挙げられる。前記導電ペーストは、用いる微細導電性粒子の種類によって、回路接続用ペースト樹脂組成物や異方性導電接着剤とすることができる。
9. Conductive Paste As a method for obtaining a conductive paste from the resin composition of the present invention, for example, a method of dispersing fine conductive particles in the curable resin composition can be mentioned. The conductive paste can be a paste resin composition for circuit connection or an anisotropic conductive adhesive depending on the type of fine conductive particles used.

次に本発明を実施例、比較例により具体的に説明するが、以下において「部」及び「%」は特に断わりのない限り質量基準である。尚、GPC、13C−NMR、MSは以下の条件にて測定した。 Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. In the following, "parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified. GPC, 13 C-NMR, and MS were measured under the following conditions.

<GPC測定条件>
測定装置 :東ソー株式会社製「HLC−8320 GPC」、
カラム:東ソー株式会社製ガードカラム「HXL−L」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G2000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G2000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G3000HXL」
+東ソー株式会社製「TSK−GEL G4000HXL」
検出器: RI(示差屈折計)
データ処理:東ソー株式会社製「GPCワークステーション EcoSEC−WorkStation」
測定条件: カラム温度 40℃
展開溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準 : 前記「GPCワークステーション EcoSEC−WorkStation」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
(使用ポリスチレン)
東ソー株式会社製「A−500」
東ソー株式会社製「A−1000」
東ソー株式会社製「A−2500」
東ソー株式会社製「A−5000」
東ソー株式会社製「F−1」
東ソー株式会社製「F−2」
東ソー株式会社製「F−4」
東ソー株式会社製「F−10」
東ソー株式会社製「F−20」
東ソー株式会社製「F−40」
東ソー株式会社製「F−80」
東ソー株式会社製「F−128」
試料 : 樹脂固形分換算で1.0質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(50μl)。
<GPC measurement conditions>
Measuring device: "HLC-8320 GPC" manufactured by Tosoh Corporation,
Column: Guard column "HXL-L" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSK-GEL G2000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSK-GEL G2000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSK-GEL G3000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSK-GEL G4000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
Detector: RI (Differential Refractometer)
Data processing: "GPC Workstation EcoSEC-WorkStation" manufactured by Tosoh Corporation
Measurement conditions: Column temperature 40 ° C
Developing solvent tetrahydrofuran
Flow velocity 1.0 ml / min Standard: The following monodisperse polystyrene with a known molecular weight was used in accordance with the measurement manual of the above-mentioned "GPC workstation EcoSEC-WorkStation".
(Polystyrene used)
"A-500" manufactured by Tosoh Corporation
"A-1000" manufactured by Tosoh Corporation
"A-2500" manufactured by Tosoh Corporation
"A-5000" manufactured by Tosoh Corporation
"F-1" manufactured by Tosoh Corporation
"F-2" manufactured by Tosoh Corporation
"F-4" manufactured by Tosoh Corporation
"F-10" manufactured by Tosoh Corporation
"F-20" manufactured by Tosoh Corporation
"F-40" manufactured by Tosoh Corporation
"F-80" manufactured by Tosoh Corporation
"F-128" manufactured by Tosoh Corporation
Sample: A solution of 1.0% by mass in terms of resin solid content in tetrahydrofuran filtered with a microfilter (50 μl).

13C−NMRの測定条件>
装置:日本電子株式会社製 ECA500
測定モード:逆ゲート付きデカップリング
溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
パルス角度:30°パルス
試料濃度 :30wt%
積算回数 :2000回
< 13 C-NMR measurement conditions>
Equipment: ECA500 manufactured by JEOL Ltd.
Measurement mode: Decoupling with reverse gate Solvent: Deuterated dimethyl sulfoxide Pulse angle: 30 ° pulse Sample concentration: 30 wt%
Accumulation number: 2000 times

<MALDI−MSスペクトルの測定条件>
株式会社島津製作所製のマトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析計AXIMA TOF2を用いて測定した。
<Measurement conditions for MALDI-MS spectrum>
The measurement was performed using a matrix-assisted laser desorption / ionization time-of-flight mass spectrometer AXIMA TOF2 manufactured by Shimadzu Corporation.

<軟化点>
JIS K7234に基づいて測定した。
<Softening point>
Measured based on JIS K7234.

<溶融粘度>
ASTM D4287に準拠し、ICI粘度計にて測定した。
<エポキシ当量>
JIS K7236に基づいて測定した。
<Melting viscosity>
It was measured with an ICI viscometer according to ASTM D4287.
<Epoxy equivalent>
Measured based on JIS K7236.

実施例1:多官能エポキシ樹脂 A−1の合成
温度計、冷却管、攪拌機を取り付けた2Lフラスコにβ−ナフトール122.5g(0.85mol)、t−ブチルカテコール(DIC株式会社製 商品名DIC−TBC)141.2g(0.85mol)、20%水酸化ナトリウム水溶液38.3g(0.19mol)を仕込み、溶解しながら100℃まで昇温した。その温度を保ったまま37%ホルマリン71.0g(0.88mol)を2時間かけて滴下した。次いで100℃で6時間反応させ、室温まで冷却した。リン酸二水素ナトリウム26.4gで中和した後、メチルイソブチルケトン380g加え溶解し、水洗後、減圧下にてメチルイソブチルケトンを留去し、多官能フェノール樹脂を含む生成物を得た。GPCチャートを図1に示す。GPC測定の結果、構造式(1)において、Rがt−ブチル基、n=1、m=0、l=1に相当すると推定されるピークは76面積%であった。
Example 1: Synthesis of polyfunctional epoxy resin A-1 122.5 g (0.85 mol) of β-naphthol, t-butylcatechol (trade name DIC manufactured by DIC Corporation) in a 2 L flask equipped with a thermometer, a cooling tube, and a stirrer. -TBC) 141.2 g (0.85 mol) and 20% aqueous sodium hydroxide solution 38.3 g (0.19 mol) were charged, and the temperature was raised to 100 ° C. while dissolving. While maintaining the temperature, 71.0 g (0.88 mol) of 37% formalin was added dropwise over 2 hours. The reaction was then carried out at 100 ° C. for 6 hours and cooled to room temperature. After neutralization with 26.4 g of sodium dihydrogen phosphate, 380 g of methyl isobutyl ketone was added and dissolved, washed with water, and the methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain a product containing a polyfunctional phenol resin. The GPC chart is shown in FIG. As a result of GPC measurement, in the structural formula (1), R 1 is t- butyl, n = 1, m = 0 , a peak assumed to correspond to the l = 1 was 76 area%.

次いで、エピクロルヒドリン1174.8g(12.7mol)を仕込み、攪拌溶解しながら50℃に昇温した。次いで、塩化ベンジルトリメチルアンモニウムを9.47g仕込み、50℃の温度のまま24時間反応させた。さらに、49%水酸化ナトリウム水溶液238.2gを3時間かけて滴下し、さらに50℃で1時間反応させた。反応終了後、n−ブタノール117.4添加し、攪拌を停止して、下層に溜まった水層を除去し、攪拌を再開し150℃減圧下で未反応エピクロルヒドリンを留去した。それで得られた粗エポキシ樹脂にメチルイソブチルケトン708.9gとn−ブタノール105.0gを加え溶解した。さらにこの溶液に10%水酸化ナトリウム水溶液33.8gを添加して80℃2時間反応させた後に洗浄液のpHが中性となるまで水209.0gで水洗を繰り返した。次いで、共沸によって系内を脱水し、精密ろ過を経た後に、溶媒を減圧下にて留去し目的の多官能エポキシ樹脂(A−1)を得た。得られた多官能エポキシ樹脂(A−1)のエポキシ当量は237g/eqであり、150℃における溶融粘度は0.2dPa・s、軟化点は54℃であった。エポキシ樹脂(A−1)のGPCチャートを図2に、13C−NMRスペクトルを図3に、MALDI−MSスペクトルを図4に示す。GPC測定の結果、構造式(2)において、Rがt−ブチル基、n=1、m=0、l=1に相当すると推定されるピークは65面積%であった。 Next, 1174.8 g (12.7 mol) of epichlorohydrin was charged, and the temperature was raised to 50 ° C. while stirring and dissolving. Then, 9.47 g of benzyltrimethylammonium chloride was charged and reacted at a temperature of 50 ° C. for 24 hours. Further, 238.2 g of a 49% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 3 hours, and the mixture was further reacted at 50 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, n-butanol 117.4 was added, stirring was stopped, the aqueous layer accumulated in the lower layer was removed, stirring was restarted, and unreacted epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 150 ° C. 708.9 g of methyl isobutyl ketone and 105.0 g of n-butanol were added to the obtained crude epoxy resin and dissolved. Further, 33.8 g of a 10% aqueous sodium hydroxide solution was added to this solution and reacted at 80 ° C. for 2 hours, and then washing with 209.0 g of water was repeated until the pH of the washing solution became neutral. Next, the inside of the system was dehydrated by azeotrope, and after undergoing microfiltration, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the desired polyfunctional epoxy resin (A-1). The epoxy equivalent of the obtained polyfunctional epoxy resin (A-1) was 237 g / eq, the melt viscosity at 150 ° C. was 0.2 dPa · s, and the softening point was 54 ° C. The GPC chart of the epoxy resin (A-1) is shown in FIG. 2, the 13 C-NMR spectrum is shown in FIG. 3, and the MALDI-MS spectrum is shown in FIG. As a result of GPC measurement, in the structural formula (2), R 1 is t- butyl, n = 1, m = 0 , a peak assumed to correspond to the l = 1 was 65 area%.

比較用エポキシ樹脂(B−1):t−ブチルカテコール型エポキシ樹脂 DIC株式会社製 EPICLON HP−820 (エポキシ当量 208g/eq 25℃における粘度1500mPa・s)をそのまま用いた。 Comparative epoxy resin (B-1): t-butylcatechol type epoxy resin EPICLON HP-820 manufactured by DIC Corporation (epoxy equivalent 208 g / eq viscosity 1500 mPa · s at 25 ° C.) was used as it was.

比較用エポキシ樹脂(B−2):ナフタレン型エポキシ樹脂 DIC株式会社製 EPICLON HP−4770 (エポキシ当量 204g/eq 150℃での溶融粘度0.7dPa・s)をそのまま用いた。 Comparative epoxy resin (B-2): Naphthalene-type epoxy resin EPICLON HP-4770 manufactured by DIC Corporation (epoxy equivalent 204 g / eq, melt viscosity at 150 ° C. 0.7 dPa · s) was used as it was.

実施例3、比較例1〜2
実施例1で得られたエポキシ樹脂(A−1)、比較用エポキシ樹脂(B−1)、(B−2)比較例1〜2のエポキシ樹脂よび硬化剤として4,4’−ジアミノジフェニルスルホンをエポキシ当量/活性水素当量=1/1となるように配合し、120℃で溶融混合して硬化性樹脂組成物を得た。さらに、硬化性樹脂組成物を、2mmおよび4mmのスペーサーを挟んだガラス板の間にそれぞれ流し込み、150℃で1時間、次いで180℃で3時間硬化反応を行い、硬化物を作製し、下記に従って評価した。結果を表1にまとめる。
Example 3, Comparative Examples 1-2
The epoxy resin (A-1) obtained in Example 1, the comparative epoxy resin (B-1), and (B-2) the epoxy resin of Comparative Examples 1 and 2 and 4,4'-diaminodiphenylsulfone as a curing agent. Was blended so that epoxy equivalent / active hydrogen equivalent = 1/1, and melt-mixed at 120 ° C. to obtain a curable resin composition. Further, the curable resin composition was poured between glass plates sandwiching 2 mm and 4 mm spacers, respectively, and a curing reaction was carried out at 150 ° C. for 1 hour and then at 180 ° C. for 3 hours to prepare a cured product, which was evaluated as follows. .. The results are summarized in Table 1.

<ガラス転移温度>
厚さ2mmの硬化物を幅5mm、長さ20mmのサイズに切り出し、これを試験片とした。この試験片を粘弾性測定装置(DMA:日立ハイテクサイエンス社製固体粘弾性測定装置「DMS6100」、変形モード:両持ち曲げ、測定モード:正弦波振動、周波数1Hz、昇温速度3℃/分)を用いて、弾性率変化が最大となる(tanδ変化率が最も大きい)温度をガラス転移温度として評価した。
<Glass transition temperature>
A cured product having a thickness of 2 mm was cut into a size having a width of 5 mm and a length of 20 mm, and this was used as a test piece. This test piece is used as a viscoelasticity measuring device (DMA: solid viscoelasticity measuring device "DMS6100" manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., deformation mode: double-sided bending, measurement mode: sinusoidal vibration, frequency 1 Hz, heating rate 3 ° C./min) The temperature at which the change in viscoelasticity was maximized (the rate of change in tan δ was the largest) was evaluated as the glass transition temperature.

<曲げ強度、曲げ弾性率、曲げ歪み>
JIS K7171に従って、4mm厚の硬化物の曲げ強度、曲げ弾性率、曲げ歪みを測定した。
<Bending strength, flexural modulus, bending strain>
The bending strength, flexural modulus, and bending strain of a cured product having a thickness of 4 mm were measured according to JIS K7171.

Figure 2021066832
Figure 2021066832

Claims (18)

芳香環上に置換基を有していてもよいナフトール構造と、芳香環上の置換基として炭素原子数4〜8のアルキル基を有するカテコール構造とが、置換基を有していてもよいメチレン基を介して結合してなることを特徴とする多官能フェノール樹脂。 The naphthol structure which may have a substituent on the aromatic ring and the catechol structure which has an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms as the substituent on the aromatic ring may have a substituent. A polyfunctional phenol resin characterized by being bonded via a group. 下記構造式(1)で表されるものである請求項1記載の多官能フェノール樹脂。
Figure 2021066832
〔構造式(1)中、Rは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、Rは水素原子または炭素原子数4〜8のアルキル基であり、少なくとも一つは炭素原子数4〜8のアルキル基である。Rは水素原子またはアルキル基であり、nは0〜3の整数であり、mは0〜6の整数であり、lは1〜3の整数であり、n+lは4である。複数あるR、Rは同一でも異なっていてもよい。〕
The polyfunctional phenol resin according to claim 1, which is represented by the following structural formula (1).
Figure 2021066832
[In the structural formula (1), R is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms, and at least one has 4 to 8 carbon atoms. It is an alkyl group. R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, n is an integer of 0 to 3, m is an integer of 0 to 6, l is an integer of 1 to 3, and n + l is 4. A plurality of R 1 and R 2 may be the same or different. ]
前記構造式(1)におけるR、Rが水素原子であり、mが6である請求項2記載の多官能フェノール樹脂。 The polyfunctional phenol resin according to claim 2, wherein R and R 2 in the structural formula (1) are hydrogen atoms and m is 6. 前記構造式(1)における、Rのうち一つがブチル基であり、他が水素原子であり、かつブチル基が水酸基に対してパラ位の何れかに結合しているものである請求項1〜3の何れか1項記載の多官能フェノール樹脂。 Claim 1 in the structural formula (1), wherein one of R1 is a butyl group, the other is a hydrogen atom, and the butyl group is bonded to any of the para positions with respect to the hydroxyl group. 3. The polyfunctional phenol resin according to any one of Items 3. 請求項1〜4のいずれか1項記載の多官能フェノール樹脂と、硬化剤(X)とを含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 A curable resin composition containing the polyfunctional phenol resin according to any one of claims 1 to 4 and a curing agent (X). 芳香環上に置換基を有していてもよいナフトール構造と、芳香環上の置換基として炭素原子数4〜8のアルキル基を有するカテコール構造とが、置換基を有していてもよいメチレン基を介して結合してなる多官能フェノール樹脂と、エピハロヒドリンとの反応物であることを特徴とする多官能エポキシ樹脂。 The naphthol structure which may have a substituent on the aromatic ring and the catechol structure which has an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms as the substituent on the aromatic ring may have a substituent. A polyfunctional epoxy resin characterized by being a reaction product of a polyfunctional phenol resin bonded via a group and epihalohydrin. 下記構造式(2)で表されるものである請求項6記載の多官能エポキシ樹脂。
Figure 2021066832
〔構造式(2)中、Gはグリシジル基であり、Rは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、Rは水素原子または炭素原子数4〜8のアルキル基であり、少なくとも一つは炭素原子数4〜8のアルキル基である。Rは水素原子またはアルキル基であり、nは0〜3の整数であり、mは0〜6の整数であり、lは1〜3の整数であり、n+lは4である。複数あるR、Rは同一でも異なっていてもよい。〕
The polyfunctional epoxy resin according to claim 6, which is represented by the following structural formula (2).
Figure 2021066832
[In structural formula (2), G is a glycidyl group, R is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms, and at least one is It is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms. R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, n is an integer of 0 to 3, m is an integer of 0 to 6, l is an integer of 1 to 3, and n + l is 4. A plurality of R 1 and R 2 may be the same or different. ]
前記構造式(1)におけるR、Rが水素原子であり、mが6である請求項6記載の多官能エポキシ樹脂。 The polyfunctional epoxy resin according to claim 6, wherein R and R 2 in the structural formula (1) are hydrogen atoms and m is 6. 前記構造式(1)における、Rのうち一つがブチル基であり、他が水素原子であり、かつブチル基がグリシジルエーテル基に対してパラ位の何れかに結合しているものである請求項6〜8の何れか1項記載の多官能エポキシ樹脂。 The claim that one of R1 in the structural formula (1) is a butyl group, the other is a hydrogen atom, and the butyl group is bonded to any of the para positions with respect to the glycidyl ether group. Item 6. The polyfunctional epoxy resin according to any one of Items 6 to 8. 請求項6〜9の何れか1項記載の多官能エポキシ樹脂と、硬化剤(Y)とを含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 A curable resin composition containing the polyfunctional epoxy resin according to any one of claims 6 to 9 and a curing agent (Y). 請求項5又は10記載の硬化性樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the curable resin composition according to claim 5 or 10. 請求項5又は10記載の硬化性樹脂組成物と強化繊維とを含有する繊維強化複合材料。 A fiber-reinforced composite material containing the curable resin composition according to claim 5 or 10 and reinforcing fibers. 請求項10記載の繊維強化複合材料の硬化物である繊維強化成形品。 A fiber-reinforced molded product which is a cured product of the fiber-reinforced composite material according to claim 10. 請求項5又は10記載の硬化性樹脂組成物と無機充填材とを含有する半導体封止材料。 A semiconductor encapsulating material containing the curable resin composition according to claim 5 or 10 and an inorganic filler. 請求項14に記載の半導体封止材料の硬化物である半導体装置。 A semiconductor device which is a cured product of the semiconductor encapsulating material according to claim 14. 請求項5又は10記載の硬化性樹脂組成物と補強基材とを有する含浸基材の半硬化物であるプリプレグ。 A prepreg that is a semi-cured product of an impregnated base material having the curable resin composition according to claim 5 or 10 and a reinforcing base material. 請求項5又は10記載のエポキシ樹脂組成物の板状賦形物と銅箔とからなる回路基板。 A circuit board comprising a plate-shaped excipient of the epoxy resin composition according to claim 5 or 10 and a copper foil. 請求項5又は10記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物と基材フィルムとからなるビルドアップフィルム。 A build-up film comprising a cured product of the epoxy resin composition according to claim 5 or 10 and a base film.
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