JP2021063963A - Glass substrate - Google Patents

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翼 北村
Tsubasa Kitamura
翼 北村
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Abstract

To provide a glass substrate for color filter that is less likely to cause a resist to remain on front and rear surfaces and a side face in a peripheral edge part of a substrate.SOLUTION: A glass substrate is used for a display device color filter and is a glass substrate 1-1 that comprises a water-repellent layer 4 on peripheral edge parts 7, outside an effective area 3 on which a color filter 2 is formed, and a substrate side face 8 of a glass substrate 1. Preferably, the water-repellent layer contains one or more selected from a fluorine-based compound and a siloxane compound.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、液晶表示装置などで使用するカラーフィルタ用のガラス基板に関する。 The present invention relates to a glass substrate for a color filter used in a liquid crystal display device or the like.

カラーフィルタは、大型のガラス基板に複数のカラーフィルタが多面付されて製造されるのが一般的である。
この様なガラス基板を用いて、感光性着色レジストの塗布、フォトマスクを用いた露光、現像工程、乾燥等からなるフォトリソ工程を繰り返すことにより、ブラックマトリクスと赤色、緑色、青色などの各着色画素を形成する事により製造され、更にフォトスペーサを形成することにより、多面付されたカラーフィルタ(以後、カラーフィルタ基板とも記す。)が製造されている。
Color filters are generally manufactured by mounting a plurality of color filters on a large glass substrate on multiple surfaces.
By repeating the photolithography process consisting of application of a photosensitive colored resist, exposure using a photomask, development process, drying, etc. using such a glass substrate, a black matrix and each colored pixel such as red, green, and blue are formed. By forming a photospacer, a multi-faceted color filter (hereinafter, also referred to as a color filter substrate) is manufactured.

この様な一連の処理工程を経て製造されるカラーフィルタ基板の周縁部と基板側面には、各処理工程の後、ブラックマトリクスや着色画素の形成に使用した着色レジストが残留することがある。 After each processing step, the colored resist used for forming the black matrix and the colored pixels may remain on the peripheral edge portion and the side surface of the color filter substrate manufactured through such a series of processing steps.

多面付カラーフィルタ基板の周縁部の表裏面や基板側面に、現像後にレジストの残留があると、フォトリソ工程の中にある搬送ロールとカラーフィルタ基板の周縁部が接触した時に搬送不良を起こす場合がある。また、露光工程で基板をステージに真空吸着する時に残留したレジストにより真空漏れを起こして、真空吸着が完了するまでに時間がかかったり、最悪の場合は、吸着不良により露光工程が行なえない場合があった。 If resist remains on the front and back surfaces of the peripheral edge of the multi-sided color filter substrate or on the side surface of the substrate after development, transfer failure may occur when the transfer roll in the photolithography process comes into contact with the peripheral edge of the color filter substrate. is there. In addition, vacuum leakage may occur due to the resist remaining when the substrate is vacuum-adsorbed to the stage in the exposure process, and it may take time to complete the vacuum adsorption, or in the worst case, the exposure process may not be possible due to poor adsorption. there were.

その様なトラブルを解消するため、現像時間を長くする事で、残留したレジストを除去する方法が考えられた。しかしながら、ガラス基板の周縁部に残留したレジストを現像時間の延長で除去しようとすると、有効画面の内部領域のレジストが現像過剰となり、所定の形状が得られなくなる問題がある。 In order to eliminate such troubles, a method of removing the residual resist by lengthening the developing time has been considered. However, if an attempt is made to remove the resist remaining on the peripheral edge of the glass substrate by extending the developing time, there is a problem that the resist in the internal region of the effective screen is overdeveloped and a predetermined shape cannot be obtained.

また、特許文献1には、ガラス基板の周縁部に残存する余剰レジストを精度良く除去するレジスト除去装置が開示されている。この装置は、残存した余剰レジストを、溶解可能なシンナーをノズルから吐出しながら、ガラス基板の周縁部に沿って移動することにより除去する装置である。しかしながら、この装置はガラス基板の周縁部の表(おもて)面にある余剰レジストは除去可能であるが、周縁部の裏面に回り込んだ余剰レジストや基板端部の側面にある余剰レジストは除去することができない。裏面の余剰レジストを除去する場合は、基板を裏返して処理しなければならない。また、複雑な機構や制御装置が必要となるため、高価な専用装置となる。 Further, Patent Document 1 discloses a resist removing device that accurately removes excess resist remaining on the peripheral edge of a glass substrate. This device is a device that removes the remaining excess resist by moving along the peripheral edge of the glass substrate while discharging thinner that can be dissolved from the nozzle. However, although this device can remove the excess resist on the front surface of the peripheral edge of the glass substrate, the excess resist that wraps around the back surface of the peripheral edge and the excess resist on the side surface of the edge of the substrate are removed. Cannot be removed. When removing the excess resist on the back surface, the substrate must be turned inside out for processing. In addition, since a complicated mechanism and control device are required, it becomes an expensive dedicated device.

また、特許文献2には、面取り処理により発生する不要物を確実に除去可能なガラス基板の端面処理装置が開示されている。この装置は、ガラス基板の端面を面取り加工する面取り装置を備えたガラス基板の端面処理装置であって、ガラス基板の周縁部の上面と側面を研磨した後、研磨によって発生した当該ガラス基板の端部表面に付着した不要物を除去する不要物除去装置を具備することを特徴とする端面処理装置である。
この装置においては、ガラス基板周縁部の裏面の処理については、何ら記載が無く、処理は困難と思われる。
また、この装置によりガラス基板周縁部の表面および基板側面におけるレジスト残留物の除去は可能であると考えられるが、研磨により発生するガラスの微細粒子などを除去する必要があり、工程が長くなると同時に、複雑な機構や制御装置が必要となるため、高価な専用装置となる。
Further, Patent Document 2 discloses an end face treatment device for a glass substrate capable of reliably removing unnecessary substances generated by chamfering. This device is an end face processing device for a glass substrate provided with a chamfering device for chamfering the end face of the glass substrate. The edge of the glass substrate generated by polishing the upper surface and the side surface of the peripheral edge of the glass substrate is polished. The end face treatment device is provided with an unnecessary substance removing device for removing unnecessary substances adhering to the surface of the portion.
In this device, there is no description about the treatment of the back surface of the peripheral portion of the glass substrate, and it seems that the treatment is difficult.
Further, it is considered that the resist residue on the surface of the peripheral portion of the glass substrate and the side surface of the substrate can be removed by this apparatus, but it is necessary to remove fine particles of glass generated by polishing, and the process becomes long at the same time. Since a complicated mechanism and control device are required, it becomes an expensive dedicated device.

その為、高価な専用装置を使用せずに、カラーフィルタ基板の周縁部の表裏面と基板側面にレジスト残留物を生じさせない技術が待望されていた。 Therefore, there has been a long-awaited technology that does not generate resist residue on the front and back surfaces of the peripheral edge of the color filter substrate and the side surface of the substrate without using an expensive dedicated device.

特開2003−158066号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-158066 特開2014−69248号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-69248

上記の事情に鑑み、本発明は、基板の周縁部の表裏面と側面にレジストの残留を生じ難いカラーフィルタ用のガラス基板を提供することを課題とする。 In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a glass substrate for a color filter in which resist does not easily remain on the front and back surfaces and side surfaces of the peripheral edge of the substrate.

上記の課題を解決する手段として、本発明の請求項1に記載の発明は、表示装置用カラーフィルタに使用するガラス基板であって、
ガラス基板のカラーフィルタが形成される有効エリアの外側の周縁部と、基板側面と、に撥水層を備えていることを特徴とするガラス基板である。
As a means for solving the above problems, the invention according to claim 1 of the present invention is a glass substrate used for a color filter for a display device.
It is a glass substrate characterized in that a water-repellent layer is provided on an outer peripheral edge portion of an effective area on which a color filter of the glass substrate is formed and a side surface of the substrate.

また、請求項2に記載の発明は、前記撥水層が、フッ素系化合物とシロキサン化合物から選ばれたいずれか一以上を含むことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板である。 The invention according to claim 2 is the glass substrate according to claim 1, wherein the water-repellent layer contains any one or more selected from a fluorine-based compound and a siloxane compound.

また、請求項3に記載の発明は、前記撥水層の厚さが、100μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のガラス基板である。 The invention according to claim 3 is the glass substrate according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the water-repellent layer is 100 μm or less.

本発明のガラス基板によれば、ガラス基板のブラックマトリクスが形成される有効エリアの外側の周縁部と、基板側面と、に撥水層を備えているため、ガラス基板の周縁部と基板側面に着色レジストの残留が生じ難い。 According to the glass substrate of the present invention, since the water-repellent layer is provided on the outer peripheral edge portion of the effective area where the black matrix of the glass substrate is formed and the side surface of the substrate, the peripheral edge portion of the glass substrate and the side surface of the substrate are provided. Residual coloring resist is unlikely to occur.

本発明のガラス基板を使用して作製したカラーフィルタ基板を例示する説明図であって、(a)は上面図、(b)は断面図、である。It is explanatory drawing which illustrates the color filter substrate manufactured using the glass substrate of this invention, (a) is a top view, (b) is a sectional view. 本発明のガラス基板の製造方法の一例を示す説明図であって、(a)はガラス基板の周縁部の一辺を処理槽に浸漬した状態の正面断面図、(b)は(a)の側面断面図、(c)はガラス基板を処理槽から出した状態で、ガラス基板の一辺に撥水層が形成された状態、を示している。It is explanatory drawing which shows an example of the manufacturing method of the glass substrate of this invention, (a) is the front sectional view in the state which one side of the peripheral part of the glass substrate is immersed in the processing tank, (b) is the side surface of (a). The cross-sectional view (c) shows a state in which a water-repellent layer is formed on one side of the glass substrate in a state where the glass substrate is taken out from the processing tank. 本発明のガラス基板の実施例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the Example of the glass substrate of this invention.

図1(a)は、本発明のガラス基板1を使用した表示装置用のカラーフィルタ基板10を例示した説明図である。カラーフィルタ基板10は、ガラス基板1上に1以上のカラーフィルタ2が備えられたものである。
図1(b)は、図1(a)の切断線A−A´における断面図である。
図1(c)は、本発明のガラス基板1の断面図である。この様に、本発明のガラス基板1は、その周縁部(の表裏面)と側面に、撥水層4が形成されている。
FIG. 1A is an explanatory diagram illustrating a color filter substrate 10 for a display device using the glass substrate 1 of the present invention. The color filter substrate 10 is a glass substrate 1 provided with one or more color filters 2.
FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the cutting line AA'of FIG. 1A.
FIG. 1C is a cross-sectional view of the glass substrate 1 of the present invention. As described above, the glass substrate 1 of the present invention has the water-repellent layer 4 formed on the peripheral edge portion (front and back surfaces) and the side surface thereof.

<ガラス基板>
本発明のガラス基板1について説明する。
本発明のガラス基板1は、表示装置用カラーフィルタに使用するガラス基板である。
本発明のガラス基板1は、ガラス基板1のカラーフィルタ2が形成される有効エリア3
の外側の周縁部7と、側面8と、に撥水層4を備えていることが特徴である。
カラーフィルタ2が形成される有効エリア3とは、ブラックマトリクスおよび着色画素が形成される領域である。その有効エリア3の外側の周縁部7の表裏面とガラス基板の側面8に撥水層4が形成されていることにより、フォトリソ工程のレジスト塗布工程で塗布された着色レジストが、ガラス基板1の周縁部7に至り、更に側面8を経て周縁部7の裏面に裏回りしても、撥水層4により撥かれてしまう。その為、撥水層4上に着色レジストなどが残留する事は無い。
<Glass substrate>
The glass substrate 1 of the present invention will be described.
The glass substrate 1 of the present invention is a glass substrate used for a color filter for a display device.
The glass substrate 1 of the present invention has an effective area 3 in which the color filter 2 of the glass substrate 1 is formed.
A water-repellent layer 4 is provided on the outer peripheral edge portion 7 and the side surface 8 of the above.
The effective area 3 in which the color filter 2 is formed is an area in which the black matrix and the colored pixels are formed. Since the water-repellent layer 4 is formed on the front and back surfaces of the outer peripheral edge portion 7 of the effective area 3 and the side surface 8 of the glass substrate, the colored resist applied in the resist coating step of the photolithography step is the colored resist of the glass substrate 1. Even if it reaches the peripheral edge portion 7 and further reverses to the back surface of the peripheral edge portion 7 via the side surface 8, it is repelled by the water repellent layer 4. Therefore, the colored resist or the like does not remain on the water-repellent layer 4.

また、本発明のガラス基板1においては、撥水層4が、フッ素系化合物とシロキサン化合物から選ばれたいずれか一以上を含んでいることが好ましい。 Further, in the glass substrate 1 of the present invention, it is preferable that the water-repellent layer 4 contains any one or more selected from a fluorine-based compound and a siloxane compound.

また、本発明のガラス基板1においては、撥水層4の厚さが、100μm以下であることが好ましい。 Further, in the glass substrate 1 of the present invention, the thickness of the water-repellent layer 4 is preferably 100 μm or less.

(ガラス基板の材料)
本発明のガラス基板1の材料としては、従来から表示装置用のガラス基板として使用されてきた材料であれば特に限定する必要は無い。例えば、従来から使用されて来たノンアルカリガラスを好適に使用する事ができる。
(Glass substrate material)
The material of the glass substrate 1 of the present invention is not particularly limited as long as it is a material conventionally used as a glass substrate for a display device. For example, non-alkali glass that has been conventionally used can be preferably used.

(撥水層)
本発明のガラス基板で使用する撥水層4としては、ガラス基板1との密着性が良好な撥水性や撥レジスト性を備えた材料であれば好適に使用することができる。撥レジスト性とは、カラーフィルタの構成要素であるブラックマトリクスや着色画素を形成するための感光性着色レジストを撥く性質を指す。ガラス基板とは必ずしも密着性が良好でない材料であっても良い。その場合は、シランカプリング材の様なガラス基板と密着性が良い材料との親和性が良好であれば良い。
(Water repellent layer)
As the water-repellent layer 4 used in the glass substrate of the present invention, any material having good water repellency and resist resistance with good adhesion to the glass substrate 1 can be preferably used. The repellent property refers to the property of repelling a photosensitive colored resist for forming a black matrix or colored pixels, which are components of a color filter. A material that does not necessarily have good adhesion to the glass substrate may be used. In that case, it suffices if the glass substrate such as a silane coupling material has a good affinity with a material having good adhesion.

撥水層4を形成するための撥水性材料としては、フッ素系化合物とシロキサン化合物などのガラス基板1の表面を撥水化することができる材料であれば良い。これらのいずれか一方、または両方を含んでいるものであって良い。 The water-repellent material for forming the water-repellent layer 4 may be any material such as a fluorine-based compound and a siloxane compound that can make the surface of the glass substrate 1 water-repellent. Any one or both of these may be included.

フッ素系化合物としては、特に限定しないが、例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、FEP(フッ化エチレンポリプロピレンコポリマー)、PFA(テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー)、ETFE(エチレン・テトラフルオロエチレン共重合体)、PCTFE(ポリクロロトリフルオロエチレン)、PVDF(ポリフッ化ビニリデン)、E−CTFE(三フッ化塩化エチレン−エチレンコポリマー)などのフッ素樹脂を好適に使用することができる。 The fluoropolymer is not particularly limited, but for example, PTFE (polytetrafluoroethylene), FEP (fluoroethylene polypropylene copolymer), PFA (tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer), ETFE (ethylene / tetrafluoroethylene). Fluororesin such as copolymer), PCTFE (polychlorotrifluoroethylene), PVDF (polyfluorovinylidene), E-CTFE (ethylene trifluoride-ethylene copolymer) and the like can be preferably used.

具体的なフッ素系の撥水性材料としては、パーフルオロスルホン酸樹脂の他、カルボキシル基や水酸基を付与したり、グラフト処理して有機溶剤への溶解性を付与した溶剤可溶型フッ素樹脂(セントラル硝子(株)製「セフラルコートA101E」、「セフラルコートA202B」、「セフラルコートA402B」、「セフラルコートA610X」、「セフラルコートA670X」、「セフラルコートA680XS」、「セフラルコートWS250」(水系)、「セフラルコートFG700X」(グラフト処理品)、旭硝子(株)製「ルミフロンLF100」、「ルミフロンLF200」、「ルミフロンLF302」、「ルミフロンLF400」、「ルミフロンLF554」、「ルミフロンLF600」、)等の溶剤可溶型のフッ素樹脂等を挙げることができる。 Specific fluorine-based water-repellent materials include perfluorosulfonic acid resins, solvent-soluble fluororesins (central) that have been imparted with carboxyl groups or hydroxyl groups, or have been grafted to impart solubility in organic solvents. Glass Co., Ltd. "Cefral Coat A101E", "Cefral Coat A202B", "Cefral Coat A402B", "Cefral Coat A610X", "Cefral Coat A670X", "Cefral Coat A680XS", "Cefral Coat WS250" (water-based), "Cefral Coat FG700X" ), Solvent-soluble fluororesin such as "Lumiflon LF100", "Lumiflon LF200", "Lumiflon LF302", "Lumiflon LF400", "Lumiflon LF554", "Lumiflon LF600", manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. Can be mentioned.

<ガラス基板への撥水層の形成方法>
本発明のガラス基板1の製造方法、具体的にはガラス基板1への撥水層4の形成方法は
、特に限定する必要は無い。
<Method of forming a water-repellent layer on a glass substrate>
The method for producing the glass substrate 1 of the present invention, specifically, the method for forming the water-repellent layer 4 on the glass substrate 1 does not need to be particularly limited.

例えば、図2に例示した様な部分的な浸漬法によって、容易に形成可能である。 For example, it can be easily formed by a partial dipping method as illustrated in FIG.

図2(a)、(b)は、処理液6が入れられた処理槽5に、ガラス基板1の一辺を浸漬した状態を例示した説明断面図である。図2(a)は正面断面図、(b)は側断面図、である。この様にしてガラス基板1の4つの辺を処理槽5に順次、浸漬し乾燥する事を繰り返すことにより、ガラス基板1の周縁部7の全てに撥水層4が形成されたガラス基板1を得ることができる(図2(c))。 2 (a) and 2 (b) are explanatory cross-sectional views illustrating a state in which one side of the glass substrate 1 is immersed in the treatment tank 5 containing the treatment liquid 6. FIG. 2A is a front sectional view, and FIG. 2B is a side sectional view. By repeating the process of sequentially immersing the four sides of the glass substrate 1 in the treatment tank 5 and drying the glass substrate 1 in this way, the glass substrate 1 in which the water-repellent layer 4 is formed on all the peripheral edges 7 of the glass substrate 1 is formed. It can be obtained (Fig. 2 (c)).

また、撥水層4を形成しない部分をマスキングした後、マスキングしていない開口部のみに撥水層4を形成する方法によって形成する事もできる。 It is also possible to form the water-repellent layer 4 by masking the portion that does not form the water-repellent layer 4 and then forming the water-repellent layer 4 only in the unmasked openings.

以上のような所謂ウェットプロセスによる撥水層4の形成方法の他に、ドライプロセスによる形成方法を採用しても良い。例えばフッ素系のガスをプラズマCVD(Chemical Vapour Deposition)を使用して、フッ素系樹脂薄膜を形成することが可能である。また、真空蒸着可能な撥水性材料を使用して、真空蒸着することも可能である。 In addition to the method for forming the water-repellent layer 4 by the so-called wet process as described above, a method for forming the water-repellent layer 4 by a dry process may be adopted. For example, it is possible to form a fluorinated resin thin film by using plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) for a fluorinated gas. It is also possible to vacuum-deposit using a water-repellent material that can be vacuum-deposited.

次に、本発明の実施例について図3を用いて説明する。 Next, examples of the present invention will be described with reference to FIG.

<実施例1>
まず、ガラス基板1として日本電気硝子(株)製の無アルカリガラス、OA−10G(厚さ0.7mm)を用意した(図3(a))。
<Example 1>
First, as the glass substrate 1, non-alkali glass manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., OA-10G (thickness 0.7 mm) was prepared (FIG. 3 (a)).

次に、ガラス基板1の周縁部7と側面8を除いた部分にドライフィルムタイプのネガ型感光性レジストであるサンフォートシリーズ(旭化成(株)製)を使用して、マスクパターン9を形成し、ガラス基板の表裏面のマスキングを行った(図3(b))。なお、本発明ではネガ型感光性レジストとしてドライフィルムタイプを用いたが、液レジタイプのレジストをロールコートやスクリーン印刷などの塗布方法にて塗布し、適宜乾燥、硬化させてマスキングとしてもよい。 Next, a mask pattern 9 is formed on the portion of the glass substrate 1 excluding the peripheral edge 7 and the side surface 8 by using the Sunfort series (manufactured by Asahi Kasei Corporation), which is a dry film type negative photosensitive resist. , The front and back surfaces of the glass substrate were masked (FIG. 3 (b)). In the present invention, a dry film type resist is used as the negative photosensitive resist, but a liquid resist type resist may be applied by a coating method such as roll coating or screen printing, and appropriately dried and cured for masking.

次に、図2(a)、(b)に例示したのと同様の、フッ素系の撥水性材料であるセフラルコート(セントラル硝子(株)の登録商標)A101Eを入れた、ガラス基板1のサイズに合わせた処理槽5に、ガラス基板1の全ての周縁部7を順次浸漬した後、常温にて1時間乾燥させることにより、ガラス基板1の周縁部7と側面8に撥水層4を形成した(図3(c))。 Next, the size of the glass substrate 1 containing the same fluorine-based water-repellent material Cefral Coat (registered trademark of Central Glass Co., Ltd.) A101E as illustrated in FIGS. 2 (a) and 2 (b). A water-repellent layer 4 was formed on the peripheral edge 7 and the side surface 8 of the glass substrate 1 by sequentially immersing all the peripheral edges 7 of the glass substrate 1 in the combined treatment tank 5 and then drying at room temperature for 1 hour. (Fig. 3 (c)).

最後に、マスクパターン9を、ネガ型レジストの剥離液を使用して剥離することにより、本発明のガラス基板1−1を得た(図3(d))。 Finally, the mask pattern 9 was peeled off using a stripping solution of a negative resist to obtain the glass substrate 1-1 of the present invention (FIG. 3 (d)).

この様にして作製したガラス基板1−1を用いて、ブラックマトリクスの形成工程を実施した結果、ガラス基板1−1の周縁部7と側面8には、ブラックマトリクスを形成する黒色感光性樹脂の残留は認められなかった。 As a result of carrying out the black matrix forming step using the glass substrate 1-1 thus produced, the black photosensitive resin forming the black matrix is formed on the peripheral portion 7 and the side surface 8 of the glass substrate 1-1. No residue was found.

<比較例1>
ガラス基板1に撥水層4を形成せずに、ブラックマトリクスの形成工程を実施した。その結果、ガラス基板1の周縁部7と側面8には、ブラックマトリクスを形成する黒色感光性樹脂の残留が認められた。
<Comparative example 1>
The black matrix forming step was carried out without forming the water repellent layer 4 on the glass substrate 1. As a result, residual black photosensitive resin forming a black matrix was observed on the peripheral edge 7 and the side surface 8 of the glass substrate 1.

1、1−1・・・ガラス基板
2・・・カラーフィルタ
3・・・有効エリア
4・・・撥水層
5・・・処理槽
6・・・処理液
7・・・周縁部
8・・・側面
9・・・マスクパターン
10・・・カラーフィルタ基板
1, 1-1 ... Glass substrate 2 ... Color filter 3 ... Effective area 4 ... Water repellent layer 5 ... Treatment tank 6 ... Treatment liquid 7 ... Peripheral part 8 ...・ Side surface 9 ・ ・ ・ Mask pattern 10 ・ ・ ・ Color filter substrate

Claims (3)

表示装置用カラーフィルタに使用するガラス基板であって、
ガラス基板のカラーフィルタが形成される有効エリアの外側の周縁部と、基板側面と、に撥水層を備えていることを特徴とするガラス基板。
A glass substrate used for color filters for display devices.
A glass substrate characterized in that a water-repellent layer is provided on an outer peripheral edge portion of an effective area on which a color filter of the glass substrate is formed and a side surface of the substrate.
前記撥水層が、フッ素系化合物とシロキサン化合物から選ばれたいずれか一以上を含むことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板。 The glass substrate according to claim 1, wherein the water-repellent layer contains any one or more selected from a fluorine-based compound and a siloxane compound. 前記撥水層の厚さが、100μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のガラス基板。 The glass substrate according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the water-repellent layer is 100 μm or less.
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