JP2021042294A - Resin film for high frequency circuit board, method for producing the same, and high frequency circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、MHz帯域からGHz帯域にかけて使用される高周波回路基板用樹脂フィルム及びその製造方法、並びに高周波回路基板に関するものである。 The present invention relates to a resin film for a high-frequency circuit board used from the MHz band to the GHz band, a method for manufacturing the same, and a high-frequency circuit board.
近年、需要が急速に拡大している多機能携帯電話、タブレット端末等の移動体情報通信機器、次世代テレビ等の電子機器では、より大容量のデータをより高速に送受信することが求められており、これに伴い電気信号の高周波数化が検討されている。例えば、移動体情報通信分野では、第五世代移動通信システム(5G)の検討が世界的に進められている(特許文献1、2参照)。この第五世代移動通信システムの通信速度は前世代の数十倍以上となり、これを実現するために電気信号は10GHz以上の高周波数帯域が検討されている。また、自動車分野においては、車載レーダシステムとして、ミリ波と呼ばれる60GHz以上の高周波数帯域の信号の利用が研究されている。 In recent years, mobile information communication devices such as multifunctional mobile phones and tablet terminals, whose demand is rapidly expanding, and electronic devices such as next-generation televisions are required to send and receive larger volumes of data at higher speeds. Along with this, increasing the frequency of electric signals is being studied. For example, in the field of mobile information and communication, studies on a fifth generation mobile communication system (5G) are being promoted worldwide (see Patent Documents 1 and 2). The communication speed of this 5th generation mobile communication system is several tens of times higher than that of the previous generation, and in order to realize this, a high frequency band of 10 GHz or more is being studied for electric signals. Further, in the field of automobiles, the use of signals in a high frequency band of 60 GHz or more called millimeter waves is being studied as an in-vehicle radar system.
しかしながら、従来の回路基板は、高周波数帯域を活用した大容量・高速通信を前提に設計・開発されてはいないので、通常タイプの比誘電率の値が4.3程度と高く、通常タイプの誘電正接も0.018程度と高い値となる。大容量・高速通信用の回路基板は、比誘電率や誘電正接等の誘電特性が低く、耐熱性や機械的強度等の特性に優れる材料が要求される。ここで、比誘電率とは、誘電体内の分極の程度を示すパラメータであり、比誘電率が高い程、電気信号の伝搬遅延が大きくなる。したがって、電気信号の伝搬速度を高め、高速演算を可能にするためには、比誘電率は低いほうが好ましい。 However, since the conventional circuit board is not designed and developed on the premise of large-capacity and high-speed communication utilizing the high frequency band, the relative permittivity value of the normal type is as high as about 4.3, and the normal type has a high relative dielectric constant value of about 4.3. The dielectric loss tangent is also as high as about 0.018. Circuit boards for large-capacity and high-speed communication are required to have materials having low dielectric properties such as relative permittivity and dielectric loss tangent, and excellent properties such as heat resistance and mechanical strength. Here, the relative permittivity is a parameter indicating the degree of polarization in the dielectric, and the higher the relative permittivity, the larger the propagation delay of the electric signal. Therefore, in order to increase the propagation speed of the electric signal and enable high-speed calculation, it is preferable that the relative permittivity is low.
また、誘電正接(tanδともいう)とは、誘電体内の伝搬する電気信号が熱に変換されて失われる量を示すパラメータであり、誘電正接が低い程、信号の損失が少なくなり、電気信号の伝達率が向上する。比誘電率が高いと、電気信号の伝搬速度が遅くなり、誘電正接が高いと、電気信号の伝達率が低下する。また、誘電正接は、高周波数帯域では、周波数の増加に伴って増大してしまうので、損失を少しでも小さくするためには、値の小さい材料を用いる必要がある。したがって、MHz帯域からGHz帯域等の高周波数帯域で使用される回路基板は、比誘電率と誘電正接の低い材料が強く望まれる。 Further, the dielectric loss tangent (also referred to as tan δ) is a parameter indicating the amount of the electric signal propagating in the dielectric that is converted into heat and lost. The lower the dielectric loss tangent, the smaller the signal loss and the electric signal. The transmission rate is improved. When the relative permittivity is high, the propagation speed of the electric signal becomes slow, and when the dielectric loss tangent is high, the transmission rate of the electric signal decreases. Further, since the dielectric loss tangent increases as the frequency increases in the high frequency band, it is necessary to use a material having a small value in order to reduce the loss as much as possible. Therefore, for a circuit board used in a high frequency band such as a MHz band to a GHz band, a material having a low relative permittivity and a dielectric loss tangent is strongly desired.
本発明は上記に鑑みなされたもので、比誘電率と誘電正接の値を低くし、優れた機械的強度と耐熱性を得ることができ、MHz帯域からGHz帯域を活用した大容量・高速通信の実現を容易にすることのできる高周波回路基板用樹脂フィルム及びその製造方法、並びに高周波回路基板を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above, and it is possible to lower the values of the relative permittivity and the dielectric loss tangent, obtain excellent mechanical strength and heat resistance, and perform large-capacity and high-speed communication utilizing the MHz band to the GHz band. It is an object of the present invention to provide a resin film for a high-frequency circuit board, a method for manufacturing the same, and a high-frequency circuit board, which can facilitate the realization of the above.
本発明においては上記課題を解決するため、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂と含フッ素系共重合体とを含み、これらの配合比がポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部に対して含フッ素系共重合体が3質量部以上30質量部以下であり、周波数800MHz以上100GHz以下の範囲における比誘電率が3.3以下であるとともに、誘電正接が0.006以下であることを特徴としている。 In the present invention, in order to solve the above problems, the polyarylene ether ketone resin and the fluorine-containing copolymer are contained, and the compounding ratio of these is such that the fluorine-containing copolymer is contained in 100 parts by mass of the polyarylene ether ketone resin. It is characterized in that it has 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, has a relative permittivity of 3.3 or less in a frequency range of 800 MHz or more and 100 GHz or less, and has a dielectric loss tangent of 0.006 or less.
なお、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂とポリエーテルケトン樹脂の少なくともいずれか一方であることが好ましい。
また、含フッ素系共重合体は、パーフルオロアルコキシアルカンとすることができる。
The polyarylene ether ketone resin is preferably at least one of a polyether ether ketone resin and a polyether ketone resin.
Further, the fluorine-containing copolymer can be a perfluoroalkoxyalkane.
また、含フッ素系共重合体は、エステル基、カーボネート基、水酸基、エポキシ基、カルボキシル基、カルボニルジオキシド基、カルボニルフルオリド基、酸無水物残基、カルボニル基、及びイソシアネート基の官能基のうち、少なくとも1種を有するようにすることができる。
また、高周波回路基板用樹脂フィルムの厚さは、3μm以上200μm以下であることが好ましい。
The fluorine-containing copolymer is a functional group of an ester group, a carbonate group, a hydroxyl group, an epoxy group, a carboxyl group, a carbonyl dioxide group, a carbonyl fluoride group, an acid anhydride residue, a carbonyl group, and an isocyanate group. Of these, at least one can be possessed.
The thickness of the resin film for a high-frequency circuit board is preferably 3 μm or more and 200 μm or less.
また、本発明においては上記課題を解決するため、請求項1ないし5のいずれかに記載した高周波回路基板用樹脂フィルムの製造方法であって、
少なくともポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部と含フッ素系共重合体3質量部以上30質量部以下とを溶融混練して成形材料を調製し、この成形材料をTダイスから押し出して高周波回路基板用樹脂フィルムを成形し、この高周波回路基板用樹脂フィルムを冷却ロールに接触させて冷却することを特徴としている。
Further, in the present invention, in order to solve the above problems, the method for producing a resin film for a high-frequency circuit board according to any one of claims 1 to 5 is used.
A molding material is prepared by melt-kneading at least 100 parts by mass of a polyarylene ether ketone resin and 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less of a fluorine-containing copolymer, and this molding material is extruded from a T-die to be a resin for a high-frequency circuit board. It is characterized in that a film is formed and the resin film for a high frequency circuit board is brought into contact with a cooling roll to be cooled.
また、本発明においては上記課題を解決するため、請求項1ないし5のいずれかに記載の高周波回路基板用樹脂フィルムの両面のうち、少なくとも片面に金属層を積層することを特徴としている。 Further, in order to solve the above problems, the present invention is characterized in that a metal layer is laminated on at least one of both sides of the resin film for a high frequency circuit board according to any one of claims 1 to 5.
ここで、特許請求の範囲における含フッ素系共重合体は、様々な種類があるが、接着性を有するパーフルオロアルコキシアルカンであるのが好ましい。また、高周波回路基板用樹脂フィルムは、透明、不透明、半透明等を特に問うものではない。本発明に係る高周波回路基板は、800MHzから100GHz以下の周波数帯域で使用されることが好ましい。 Here, although there are various types of fluorine-containing copolymers in the claims, it is preferable that they are perfluoroalkoxyalkanes having adhesiveness. Further, the resin film for a high-frequency circuit board does not particularly ask whether it is transparent, opaque, translucent or the like. The high frequency circuit board according to the present invention is preferably used in a frequency band of 800 MHz to 100 GHz or less.
本発明によれば、機械的特性や熱的特性に優れるポリアリーレンエーテルケトン樹脂に誘電特性に資する含フッ素系共重合体を配合して高周波回路基板用樹脂フィルムを成形するので、高周波回路基板用樹脂フィルムの周波数800MHz以上100GHz以下の範囲における比誘電率が3.3以下で、かつ誘電正接が0.006以下となり、比誘電率と誘電正接の値を従来よりも低くすることができる。 According to the present invention, a resin film for a high-frequency circuit board is formed by blending a polyarylene ether ketone resin having excellent mechanical properties and thermal properties with a fluorine-containing copolymer that contributes to a dielectric property, and thus is used for a high-frequency circuit board. The relative permittivity in the frequency range of 800 MHz or more and 100 GHz or less of the resin film is 3.3 or less, and the dielectric loss tangent is 0.006 or less, so that the values of the relative permittivity and the dielectric loss tangent can be made lower than before.
本発明によれば、高周波回路基板用樹脂フィルムの比誘電率と誘電正接の値を低くし、優れた機械的強度と耐熱性を得ることができるという効果がある。また、高周波回路基板に使用すれば、MHz帯域からGHz帯域を活用した大容量・高速通信の実現を容易にすることができるという効果がある。 According to the present invention, there is an effect that the relative permittivity and the value of the dielectric loss tangent of the resin film for a high frequency circuit board can be lowered, and excellent mechanical strength and heat resistance can be obtained. Further, when used for a high frequency circuit board, there is an effect that it is possible to easily realize a large capacity and high speed communication utilizing the MHz band to the GHz band.
請求項2記載の発明によれば、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂を使用するので、高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、耐熱性、電気特性、耐寒性、耐薬品性、耐溶剤性等を向上させることができる。また、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂として、ポリエーテルエーテルケトン樹脂を選択すれば、機械的特性、耐熱性、電気特性、耐寒性、耐薬品性、耐溶剤性等を向上させることができる他、易入手性や成形の容易化が期待でき、製造コストの削減も期待できる。
According to the invention of
請求項3記載の発明によれば、含フッ素系共重合体がパーフルオロアルコキシアルカンなので、優れた耐熱性、滑り性、耐薬品性、低摩擦性、絶縁性、溶融成形性を得ることができる。
請求項4記載の発明によれば、含フッ素系共重合体に優れた接着性を付与することが可能となり、接着性の高周波回路基板用樹脂フィルムを得ることができる。また、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂と含フッ素系共重合体とを適切に混練することが可能となり、高周波回路基板用樹脂フィルムの外観上や特性上の差異を低減することができる。
According to the invention of claim 3, since the fluorine-containing copolymer is perfluoroalkoxyalkane, excellent heat resistance, slipperiness, chemical resistance, low friction resistance, insulation property, and melt moldability can be obtained. ..
According to the invention of claim 4, it is possible to impart excellent adhesiveness to the fluorine-containing copolymer, and it is possible to obtain an adhesive resin film for a high-frequency circuit board. Further, the polyarylene ether ketone resin and the fluorine-containing copolymer can be appropriately kneaded, and the difference in appearance and characteristics of the resin film for a high-frequency circuit substrate can be reduced.
請求項5記載の発明によれば、高周波回路基板の厚さを充分に確保したり、ハンドリング性を向上させたり、高周波回路基板の薄型化等を図ることが可能となる。 According to the invention of claim 5, it is possible to secure a sufficient thickness of the high-frequency circuit board, improve the handleability, reduce the thickness of the high-frequency circuit board, and the like.
請求項6記載の発明によれば、高周波回路基板用樹脂フィルムを、Tダイスを用いた溶融押出成形法により押出成形するので、高周波回路基板用樹脂フィルムの厚さ精度、生産性、ハンドリング性を向上させ、しかも、設備の簡略化が期待できる。
請求項7記載の発明によれば、高周波回路基板用樹脂フィルムの比誘電率と誘電正接が低いので、電気信号の伝搬速度が向上し、MHz帯域からGHz帯域等の高周波数帯域での使用に好適な高周波回路基板を得ることができる。
According to the invention of claim 6, since the resin film for a high-frequency circuit board is extruded by a melt extrusion molding method using a T-die, the thickness accuracy, productivity, and handleability of the resin film for a high-frequency circuit board can be improved. It can be expected to improve and simplify the equipment.
According to the invention of claim 7, since the relative permittivity and the dielectric loss tangent of the resin film for a high frequency circuit board are low, the propagation speed of an electric signal is improved, and the resin film can be used in a high frequency band such as a MHz band to a GHz band. A suitable high frequency circuit board can be obtained.
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施の形態を説明すると、本実施形態における高周波回路基板用樹脂フィルム1は、図1や図2に示すように、少なくともポリアリーレンエーテルケトン樹脂と誘電特性に資する含フッ素系共重合体とを含み、これらの配合比がポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部に対して含フッ素系共重合体が3質量部以上30質量部以下の薄膜の樹脂フィルムであり、片面に金属層2が積層されることにより、主に第五世代移動通信システム用の高周波回路基板を形成する。
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 and 2, the resin film 1 for a high-frequency circuit substrate in the present embodiment has at least a polyarylene ether ketone resin and dielectric properties. It is a thin resin film containing 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less of the fluorine-containing copolymer with respect to 100 parts by mass of the polyarylene ether ketone resin. By laminating the
高周波回路基板用樹脂フィルム1を形成するポリアリーレンエーテルケトン樹脂とフッ素樹脂である含フッ素系共重合体との配合比は、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部に対して含フッ素系共重合体が3質量部以上30質量部以下、好ましくは含フッ素系共重合体が4質量部以上25質量部以下、より好ましくは含フッ素系共重合体が5質量部以上20質量部以下が良い。 The compounding ratio of the polyarylene ether ketone resin forming the resin film 1 for the high frequency circuit substrate and the fluororesin containing fluorine-based copolymer is such that the fluorine-containing copolymer is 100 parts by mass of the polyarylene ether ketone resin. 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, preferably 4 parts by mass or more and 25 parts by mass or less of the fluoropolymer, and more preferably 5 parts by mass or more and 20 parts by mass or less of the fluoropolymer.
これは、含フッ素系共重合体が3質量部未満の場合には、高周波回路基板用樹脂フィルム1の誘電特性が向上しないおそれがあるからである。逆に、30質量部を越える場合には、分散性や高周波回路基板用樹脂フィルム1の成形性が悪化し、高周波回路基板用樹脂フィルム1に外観不良が生じたり、物性の局所的な差異が発生し易くなるからである。 This is because if the amount of the fluorine-containing copolymer is less than 3 parts by mass, the dielectric property of the resin film 1 for a high-frequency circuit board may not be improved. On the contrary, when it exceeds 30 parts by mass, the dispersibility and moldability of the resin film 1 for a high-frequency circuit board deteriorate, the resin film 1 for a high-frequency circuit board has a poor appearance, and there is a local difference in physical properties. This is because it is likely to occur.
ポリアリーレンエーテルケトン樹脂は、良好な機械的特性、及び熱的特性を有する熱可塑性樹脂であり、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリエーテルケトン(PEK)樹脂、あるいはポリエーテルエーテルケトン樹脂及びポリエーテルケトン樹脂の混合物が使用される。これらの中では、機械的特性、耐熱性、耐薬品性等に優れ、比較的安価なポリエーテルエーテルケトン樹脂が最適である。 Polyethereneetherketone resin is a thermoplastic resin having good mechanical properties and thermal properties, and is a polyetheretherketone (PEEK) resin, a polyetherketone (PEK) resin, or a polyetheretherketone resin and poly. A mixture of etherketone resins is used. Among these, a relatively inexpensive polyetheretherketone resin, which has excellent mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, etc., is the most suitable.
以下、ポリエーテルエーテルケトン樹脂について説明すると、ポリエーテルエーテルケトン樹脂は、特に限定されるものではないが、以下の繰り返し単位を有する結晶性の樹脂で、ガラス転移点が通常130℃以上160℃以下(測定方法:示差走査熱量計)、好ましくは135℃以上155℃以下、より好ましくは140℃以上150℃以下である。また、融点が通常320℃以上360℃以下(測定方法:示差走査熱量計)、好ましくは330℃以上350℃以下、より好ましく335℃以上345℃以下であり、通常は粉状、粒状、顆粒状、ペレット状の成形加工に適した形で使用される。 Hereinafter, the polyetheretherketone resin will be described. The polyetheretherketone resin is not particularly limited, but is a crystalline resin having the following repeating units, and the glass transition point is usually 130 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. (Measuring method: differential scanning calorimeter), preferably 135 ° C. or higher and 155 ° C. or lower, more preferably 140 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. The melting point is usually 320 ° C. or higher and 360 ° C. or lower (measurement method: differential scanning calorimetry), preferably 330 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, more preferably 335 ° C. or higher and 345 ° C. or lower, and usually powdery, granular, or granular. , Used in a form suitable for pellet molding.
ポリエーテルエーテルケトン樹脂の構造式のnは、機械的特性の観点から、10以上、好ましくは20以上が良い。このポリエーテルエーテルケトン樹脂は、〔化1〕の繰り返し単位のみからなるホモポリマーでも良いが、〔化1〕以外の繰り返し単位を有していても良い。ポリエーテルエーテルケトン樹脂中、〔化1〕の化学構造の割合は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂を構成する全繰り返し単位の合計に対し、50モル%以上、好ましくは70モル%以上、より好ましくは80モル%以上が最適である。 The structural formula n of the polyetheretherketone resin is preferably 10 or more, preferably 20 or more, from the viewpoint of mechanical properties. This polyetheretherketone resin may be a homopolymer composed of only the repeating unit of [Chemical formula 1], but may have a repeating unit other than [Chemical formula 1]. The ratio of the chemical structure of [Chemical 1] in the polyetheretherketone resin is 50 mol% or more, preferably 70 mol% or more, more preferably 80, based on the total of all the repeating units constituting the polyetheretherketone resin. More than mol% is optimal.
ポリエーテルエーテルケトン樹脂の具体例としては、ビクトレックス社製の製品名:Victex Powderシリーズ、Victrex Granulesシリーズ、ダイセル・エボニック社製の製品名:ベスタキープシリーズ、ソルベイスペシャルティポリマーズ社製の製品名:キータスパイアポリエーテルエーテルケトンシリーズがあげられる。また、ポリエーテルエーテルケトン樹脂の製造方法としては、例えば特開昭50−27897号公報、特開昭5l−119797号公報、特開昭52−38000号公報、特開昭54−90296号公報、特公昭55−23574号公報、特公昭56−2091号公報等に記載の方法があげられる。 Specific examples of the polyetheretherketone resin include product names manufactured by Victrex, Victorex Powerer series, Victorex Granules series, product names manufactured by Daicel Ebonic, Vestakeep series, and product names manufactured by Solvay Specialty Polymers: Keta. Spire polyether ether ketone series can be mentioned. Examples of the method for producing the polyetheretherketone resin include JP-A-50-27897, JP-A-5l-119797, JP-A-52-38000, and JP-A-54-90296. Examples thereof include the methods described in Japanese Patent Publication No. 55-23574 and Japanese Patent Publication No. 56-2091.
なお、ポリエーテルエーテルケトン樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で他の共重合可能な単量体とのブロック共重合体、ランダム共重合体、あるいは変性体も使用することができる。 As the polyetheretherketone resin, a block copolymer, a random copolymer, or a modified product with another copolymerizable monomer can also be used as long as the effect of the present invention is not impaired.
含フッ素共重合体は、テトラフルオロエチレン(以下、TFEという)、及び/又はクロロトリフルオロエチレン(以下、CTFEという)に基づく繰り返し単位(a)、ジカルボン酸無水物基を有し、かつ環内に重合性不飽和基を有する環状炭化水素モノマーに基づく繰り返し単位(b)、及びその他のモノマー(但し、繰り返し単位(a)、(b)と重複する場合は、そのモノマーを除く)に基づく繰り返し単位(c)を含有する溶融成形可能な接着性の共重合体である。 The fluorine-containing copolymer has a repeating unit (a) based on tetrafluoroethylene (hereinafter referred to as TFE) and / or chlorotrifluoroethylene (hereinafter referred to as CTFE), a dicarboxylic acid anhydride group, and is in the ring. A repeating unit (b) based on a cyclic hydrocarbon monomer having a polymerizable unsaturated group, and a repeating unit based on other monomers (however, if it overlaps with the repeating units (a) and (b), the monomer is excluded). A melt-moldable adhesive copolymer containing the unit (c).
含フッ素共重合体において、繰り返し単位(a)、繰り返し単位(b)、及び繰り返し単位(c)の合計モル量に対し、繰り返し単位(a)が50〜99.89モル%、繰り返し単位(b)が0.01〜5モル%であり、繰り返し単位(c)が0.1〜49.99モル%である。好ましくは繰り返し単位(a)が50〜99.47モル%、繰り返し単位(b)が0.03〜3モル%であり、繰り返し単位(c)が0.5〜49.97モル%、より好ましくは繰り返し単位(a)が50〜98.95モル%、繰り返し単位(b)が0.05〜2モル%であり、繰り返し単位(c)が1〜49.95モル%である。 In the fluorine-containing copolymer, the repeating unit (a) is 50 to 99.89 mol%, and the repeating unit (b) is based on the total molar amount of the repeating unit (a), the repeating unit (b), and the repeating unit (c). ) Is 0.01 to 5 mol%, and the repeating unit (c) is 0.1 to 49.99 mol%. The repeating unit (a) is preferably 50 to 99.47 mol%, the repeating unit (b) is 0.03 to 3 mol%, and the repeating unit (c) is 0.5 to 49.97 mol%, more preferably. The repeating unit (a) is 50 to 98.95 mol%, the repeating unit (b) is 0.05 to 2 mol%, and the repeating unit (c) is 1 to 49.95 mol%.
これは、繰り返し単位(a)、繰り返し単位(b)、及び繰り返し単位(c)のモル%が係る範囲にあれば、含フッ素共重合体の耐熱性や耐薬品性の向上が期待できるからである。また、繰り返し単位(b)のモル%が係る範囲にあれば、含フッ素共重合体の高周波回路基板用樹脂フィルム1との接着性に優れるからである。さらに、繰り返し単位(c)のモル%が係る範囲にあれば、含フッ素共重合体の成形性が向上し、耐ストレスクラック性等の機械物性にも優れるからである。 This is because if the molar% of the repeating unit (a), the repeating unit (b), and the repeating unit (c) is within the relevant range, the heat resistance and chemical resistance of the fluorine-containing copolymer can be expected to be improved. is there. Further, when the molar% of the repeating unit (b) is within the above range, the adhesion of the fluorine-containing copolymer to the resin film 1 for a high-frequency circuit board is excellent. Further, if the molar% of the repeating unit (c) is within the above range, the moldability of the fluorine-containing copolymer is improved, and the mechanical properties such as stress crack resistance are also excellent.
上記「ジカルボン酸無水物基を有しかつ環内に重合性不飽和基を有する環状炭化水素モノマー」(以下、単に環状炭化水素モノマーと略称する)は、1つ以上の5員環又は6員環からなる環状炭化水素であって、しかも、ジカルボン酸無水物基と環内重合性不飽和基を有する重合性化合物をいう。環状炭化水素としては、1つ以上の有橋多環炭化水素を有する環状炭化水素が好ましい。すなわち、有橋多環炭化水素からなる環状炭化水素、有橋多環炭化水素の2以上が縮合した環状炭化水素、又は有橋多環炭化水素と他の環状炭化水素が縮合した環状炭化水素であることが好ましい。 The above-mentioned "cyclic hydrocarbon monomer having a dicarboxylic acid anhydride group and a polymerizable unsaturated group in the ring" (hereinafter, simply abbreviated as a cyclic hydrocarbon monomer) has one or more 5-membered rings or 6-membered rings. A cyclic hydrocarbon composed of a ring, which is a polymerizable compound having a dicarboxylic acid anhydride group and an intracyclically polymerizable unsaturated group. As the cyclic hydrocarbon, a cyclic hydrocarbon having one or more bridged polycyclic hydrocarbons is preferable. That is, a cyclic hydrocarbon composed of an Arihashi polycyclic hydrocarbon, a cyclic hydrocarbon obtained by condensing two or more of the Arihashi polycyclic hydrocarbons, or a cyclic hydrocarbon obtained by condensing an Arihashi polycyclic hydrocarbon with another cyclic hydrocarbon. It is preferable to have.
また、環状炭化水素モノマーは環内重合性不飽和基、すなわち炭化水素環を構成する炭素原子間に存在する重合性不飽和基を1つ以上有する。この環状炭化水素モノマーはさらにジカルボン酸無水物基(−CO−O−CO−)を有し、ジカルボン酸無水物基は炭化水素環を構成する2つの炭素原子に結合していても良く、環外の2つの炭素原子に結合していても良い。好ましくは、ジカルボン酸無水物基は上記環状炭化水素の環を構成する炭素原子であって、かつ隣接する2つの炭素原子に結合する。さらに、環状炭化水素の環を構成する炭素原子には、水素原子の代わりに、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、その他の置換基が結合していても良い。 Further, the cyclic hydrocarbon monomer has one or more polymerizable unsaturated groups in the ring, that is, one or more polymerizable unsaturated groups existing between the carbon atoms constituting the hydrocarbon ring. This cyclic hydrocarbon monomer further has a dicarboxylic acid anhydride group (-CO-O-CO-), and the dicarboxylic acid anhydride group may be bonded to two carbon atoms constituting the hydrocarbon ring, and the ring may be bonded. It may be bonded to two outer carbon atoms. Preferably, the dicarboxylic acid anhydride group is a carbon atom constituting the ring of the cyclic hydrocarbon and is bonded to two adjacent carbon atoms. Further, a halogen atom, an alkyl group, an alkyl halide group, or another substituent may be bonded to the carbon atom constituting the ring of the cyclic hydrocarbon instead of the hydrogen atom.
その具体例としては、式(2)〜(9)で表されるものである。ここで、式(3)、(6)〜(9)におけるRは、炭素原子数1〜6の低級アルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子から選択されるハロゲン原子、上記低級アルキル基中の水素原子がハロゲン原子で置換されたハロゲン化アルキル基を示す。 Specific examples thereof are those represented by the formulas (2) to (9). Here, R in the formulas (3) and (6) to (9) is a halogen atom selected from a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Indicates an alkyl halide group in which a hydrogen atom in a lower alkyl group is replaced with a halogen atom.
上記環状炭化水素モノマーとしては、好ましくは式(2)で表される、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物(以下、NAHという)、式(4)、(5)で表される酸無水物である環状炭化水素モノマー、式(3)、及び式(6)〜(9)において、置換基Rがメチル基である環状炭化水素モノマーある。より好ましくはNAHである。 The cyclic hydrocarbon monomer is preferably 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride (hereinafter referred to as NAH) represented by the formula (2), represented by the formulas (4) and (5). Cyclic hydrocarbon monomers which are acid anhydrides, and cyclic hydrocarbon monomers whose substituent R is a methyl group in the formulas (3) and (6) to (9). More preferably, it is NAH.
その他のモノマーとしては、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン(以下、VdFという)、CTFE(但し、繰り返し単位(a)として使用される場合を除く)、トリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン(以下、HFPという)、CF2=CFORf1(ここで、Rf1は炭素数1〜10で炭素原子間に酸素原子を含んでも良いペルフルオロアルキル基)、CF2=CFORf2SO2X1(Rf2は炭素数1〜10で炭素原子間に酸素原子を含んでも良いペルフルオロアルキレン基、X1はハロゲン原子又は水酸基)、CF2=CFORf2CO2X2(ここで、Rf2は上記と同様、X2は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基)、CF2=CF(CF2)pOCF=CF2(ここで、pは1又は2)、CH2=CX3(CF2)qX4(ここで、X3及びX4は、互いに独立に水素原子又はフッ素原子、qは2〜10の整数)、ペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1,3−ジオキソラン)、エチレン、プロピレン、イソブテン等の炭素数2〜4のオレフィン、酢酸ビニル等のビニルエステル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のビニルエーテル等があげられる。その他のモノマーは、1種単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。 Examples of other monomers include vinyl fluoride, vinylidene fluoride (hereinafter referred to as VdF), CTFE (excluding the case where it is used as a repeating unit (a)), trifluoroethylene, and hexafluoropropylene (hereinafter referred to as HFP). ), CF 2 = CFOR f1 (where R f1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms and may contain oxygen atoms between carbon atoms), CF 2 = CFOR f2 SO 2 X 1 (where R f2 is the number of carbon atoms) Perfluoroalkylene groups 1 to 10 which may contain an oxygen atom between carbon atoms, X 1 is a halogen atom or a hydroxyl group), CF 2 = CFOR f2 CO 2 X 2 (where R f2 is the same as above, X 2 is Hydrogen atom or alkyl group with 1-3 carbon atoms), CF 2 = CF (CF 2 ) p OCF = CF 2 (where p is 1 or 2), CH 2 = CX 3 (CF 2 ) q X 4 (where p is 1 or 2) Here, X 3 and X 4 are hydrogen atoms or fluorine atoms independently of each other, q is an integer of 2 to 10), perfluoro (2-methylene-4-methyl-1,3-dioxolane), ethylene, propylene, isobutene. Examples thereof include olefins having 2 to 4 carbon atoms, vinyl esters such as vinyl acetate, and vinyl ethers such as ethyl vinyl ether and cyclohexyl vinyl ether. Other monomers may be used alone or in combination of two or more.
CF2=CFORf1の具体例としては、例えば、CF2=CFOCF2CF3、CF2=CFOCF2CF2CF3、CF2=CFOCF2CF2CF2CF3、CF2=CFO(CF2)8F等があげられる。好ましくは、CF2=CFOCF2CF2CF3である。また、CH2=CX3(CF2)qX4の具体例としては、例えば、CH2=CH(CF2)2F、CH2=CH(CF2)3F、CH2=CH(CF2)4F、CH2=CF(CF2)3H、CH2=CF(CF2)4H等があげられる。好ましくは、CH2=CH(CF2)4F又はCH2=CH(CF2)2Fである。 Specific examples of CF 2 = CFOR f1 include, for example, CF 2 = CFOCF 2 CF 3 , CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 3 , CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 2 CF 3 , CF 2 = CFO (CF 2). ) 8 F, and the like. Preferably, CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 3 . Further, as specific examples of CH 2 = CX 3 (CF 2 ) q X 4 , for example, CH 2 = CH (CF 2 ) 2 F, CH 2 = CH (CF 2 ) 3 F, CH 2 = CH (CF). 2 ) 4 F, CH 2 = CF (CF 2 ) 3 H, CH 2 = CF (CF 2 ) 4 H and the like. Preferably, CH 2 = CH (CF 2 ) 4 F or CH 2 = CH (CF 2 ) 2 F.
その他のモノマーとしては、好ましくはVdF、HFP、CTFE(但し、繰り返し単位(a)として使用される場合を除く)、CF2=CFORf1、CH2=CX3(CF2)qX4、エチレン、プロピレン、及び酢酸ビニルからなる群から選ばれる1種以上であり、より好ましくは、HFP、CTFE(但し、繰り返し単位(a)として使用される場合を除く)、CF2=CFORf1、エチレン、及びCH2=CX3(CF2)qX4からなる群から選ばれる1種以上である。最も好ましくは、HFP又はCF2=CFORf1である。また、CF2=CFORf1としては、Rf1が炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素数2〜4のペルフルオロアルキル基がより好ましく、ペルフルオロプロピル基が最適である。 Other monomers are preferably VdF, HFP, CTFE (except when used as a repeating unit (a)), CF 2 = CFOR f1 , CH 2 = CX 3 (CF 2 ) q X 4 , ethylene. , Propylene, and vinyl acetate, more preferably HFP, CTFE (except when used as the repeating unit (a)), CF 2 = CFOR f1 , ethylene, And CH 2 = CX 3 (CF 2 ) q X 4 is one or more selected from the group. Most preferably, HFP or CF 2 = CFOR f1 . Further, as CF 2 = CFOR f1 , a perfluoroalkyl group having R f1 having 1 to 6 carbon atoms is preferable, a perfluoroalkyl group having 2 to 4 carbon atoms is more preferable, and a perfluoropropyl group is most suitable.
接着性の含フッ素系共重合体の具体例としては、例えば、TFE/CF2=CFOCF2CF2CF3/NAH共重合体、TFE/HFP/NAH共重合体、TFE/CF2=CFOCF2CF2CF3/HFP/NAH共重合体、TFE/VdF/NAH共重合体、TFE/CH2=CH(CF2)4F/NAH/エチレン共重合体、TFE/CH2=CH(CF2)2F/NAH/エチレン共重合体、CTFE/CH2=CH(CF2)4F/NAH/エチレン共重合体、CTFE/CH2=CH(CF2)2F/NAH/エチレン共重合体、CTFE/CH2=CH(CF2)2F/NAH/エチレン共重合体等があげられる。 Specific examples of the adhesive fluoropolymer include TFE / CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 3 / NAH copolymer, TFE / HFP / NAH copolymer, TFE / CF 2 = CFOCF 2. CF 2 CF 3 / HFP / NAH copolymer, TFE / VdF / NAH copolymer, TFE / CH 2 = CH (CF 2 ) 4 F / NAH / ethylene copolymer, TFE / CH 2 = CH (CF 2) ) 2 F / NAH / ethylene copolymer, CTFE / CH 2 = CH (CF 2 ) 4 F / NAH / ethylene copolymer, CTFE / CH 2 = CH (CF 2 ) 2 F / NAH / ethylene copolymer , CTFE / CH 2 = CH (CF 2 ) 2 F / NAH / ethylene copolymer and the like.
含フッ素共重合体の融点は、150℃以上320℃以下が好ましく、200℃以上310℃以下がより好ましい。融点は、繰り返し単位(a)、繰り返し単位(b)、及び繰り返し単位(c)の含有割合を上記範囲内で適宜選定して調整することができる。 The melting point of the fluorine-containing copolymer is preferably 150 ° C. or higher and 320 ° C. or lower, and more preferably 200 ° C. or higher and 310 ° C. or lower. The melting point can be adjusted by appropriately selecting the content ratio of the repeating unit (a), the repeating unit (b), and the repeating unit (c) within the above range.
含フッ素共重合体は、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂との適切な混練を図るため、高分子末端基として、エステル基、カーボネート基、水酸基、カルボキシル基、カルボニルフルオリド基、酸無水物残基、カルボニル基、及びイソシアネート基の官能基のうち、少なくとも1種を有することが好ましい。これは、これらの官能基のうち、少なくとも1種を有すれば、含フッ素共重合体以外の熱可塑性樹脂等との接着性に優れるからである。接着性官能基を有する高分子末端基は、含フッ素共重合体の製造時に、ラジカル重合開始剤、連鎖移動剤等を適宜選定することにより導入することができる。 The fluorine-containing copolymer has an ester group, a carbonate group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a carbonyl fluoride group, an acid anhydride residue, and a carbonyl as polymer terminal groups in order to appropriately knead the polyarylene ether ketone resin. It is preferable to have at least one functional group of a group and an isocyanate group. This is because if at least one of these functional groups is present, the adhesiveness to a thermoplastic resin other than the fluorine-containing copolymer is excellent. The polymer terminal group having an adhesive functional group can be introduced by appropriately selecting a radical polymerization initiator, a chain transfer agent, or the like at the time of producing the fluorine-containing copolymer.
含フッ素共重合体は、その容量流速(以下、Q値という)が0.1〜100mm3/秒の範囲が好ましい。Q値は、含フッ素共重合体の溶融流動性を表す指標であり、分子量の目安となる。Q値が大きい場合には、分子量が低く、小さい場合には、分子量が高いことを示す。 The fluorine-containing copolymer preferably has a volumetric flow velocity (hereinafter referred to as Q value) in the range of 0.1 to 100 mm 3 / sec. The Q value is an index showing the melt fluidity of the fluorine-containing copolymer and serves as a guideline for the molecular weight. A large Q value indicates a low molecular weight, and a small Q value indicates a high molecular weight.
Q値は、島津製作所製フローテスタを用い、含フッ素共重合体の融点より50℃高い温度において、荷重7kg下に直径2.1mm、長さ8mmのオリフィス中に押し出すときの含フッ素共重合体の押出し速度である。このQ値が小さすぎると、押し出し成形が困難となり、逆に大きすぎると、含フッ素共重合体の機械的強度が低下する。含フッ素共重合体のQ値は、5〜500mm3/秒が好ましく、10〜200mm3/秒がより好ましい。 The Q value is the fluorine-containing copolymer when extruded into an orifice with a diameter of 2.1 mm and a length of 8 mm under a load of 7 kg at a temperature 50 ° C. higher than the melting point of the fluorine-containing copolymer using a flow tester manufactured by Shimadzu Corporation. Extrusion speed. If this Q value is too small, extrusion molding becomes difficult, and conversely, if it is too large, the mechanical strength of the fluorine-containing copolymer decreases. Q value of the fluorocopolymer is preferably from 5 to 500 mm 3 / sec, 10 to 200 mm 3 / sec is more preferable.
含フッ素共重合体の製造方法は、特に限定されるものではなく、ラジカル重合開始剤を用いるラジカル重合法が用いられる。重合方法としては、塊状重合、フッ化炭化水素、塩化炭化水素、フッ化塩化炭化水素、アルコール、炭化水素等の有機溶媒を使用する溶液重合、水性媒体、及び必要に応じて適当な有機溶剤を使用する懸濁重合、水性媒体、並びに乳化剤を使用する乳化重合があげられ、特に溶液重合が好ましい。 The method for producing the fluorine-containing copolymer is not particularly limited, and a radical polymerization method using a radical polymerization initiator is used. As the polymerization method, bulk polymerization, solution polymerization using an organic solvent such as fluorinated hydrocarbon, chlorinated hydrocarbon, fluorinated hydrocarbon, alcohol, hydrocarbon, aqueous medium, and if necessary, an appropriate organic solvent are used. Suspension polymerization used, an aqueous medium, and emulsion polymerization using an emulsifier can be mentioned, and solution polymerization is particularly preferable.
ラジカル重合開始剤としては、半減期が10時間である温度が0℃〜100℃、より好ましくは20〜90℃であるラジカル重合開始剤が好ましい。具体例としては、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、イソブチリルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等の非フッ素系ジアシルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカ−ボネート、ジ−n−プロピルペルオキシジカーボネート等のペルオキシジカーボネート、tert−ブチルペルオキシピバレート、tert−ブチルペルオキシイソブチレート、tert−ブチルペルオキシアセテート等のペルオキシエステル、(Z(CF2)rCOO)2(ここで、Zは水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、rは1〜10の整数である)で表される化合物等の含フッ素ジアシルペルオキシド、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等の無機過酸化物等があげられる。 As the radical polymerization initiator, a radical polymerization initiator having a half-life of 10 hours and a temperature of 0 ° C. to 100 ° C., more preferably 20 to 90 ° C. is preferable. Specific examples include azo compounds such as azobisisobutyronitrile, non-fluorinated diacyl peroxides such as isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, benzoyl peroxide and lauroyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate and di-n-propyl peroxide. Peroxy dicarbonates such as dicarbonates, peroxyesters such as tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyisobutyrate, and tert-butyl peroxyacetate, (Z (CF 2 ) rCOO) 2 (where Z is a hydrogen atom , Fluorine atom or chlorine atom, where r is an integer of 1 to 10) includes fluorine-containing diacyl peroxides such as compounds, and inorganic peroxides such as potassium persulfate, sodium persulfate, and ammonium persulfate. Be done.
含フッ素共重合体のQ値を制御する場合、連鎖移動剤を使用することも好ましい。この連鎖移動剤としては、メタノール、エタノール等のアルコール、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン等のクロロフルオロハイドロカーボン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等のハイドロカーボンが挙げられる。含フッ素共重合体の高分子末端に接着性官能基を導入するための連鎖移動剤としては、酢酸、無水酢酸、酢酸メチル、エチレングリコール、プロピレングリコール等があげられる。 When controlling the Q value of the fluorine-containing copolymer, it is also preferable to use a chain transfer agent. Examples of this chain transfer agent include alcohols such as methanol and ethanol, and chlorofluorohydrocarbons such as 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane and 1,1-dichloro-1-fluoroethane. , Pentan, hexane, cyclohexane and other hydrocarbons. Examples of the chain transfer agent for introducing an adhesive functional group into the polymer terminal of the fluorine-containing copolymer include acetic acid, acetic anhydride, methyl acetate, ethylene glycol, propylene glycol and the like.
含フッ素共重合体の重合条件は特に限定されるものではなく、重合温度は0〜100℃が好ましく、20〜90℃がより好ましい。また、重合圧力は0.1〜10MPaが好ましく、0.5〜3MPaがより好ましい。重合時間は1〜30時間が良い。 The polymerization conditions of the fluorine-containing copolymer are not particularly limited, and the polymerization temperature is preferably 0 to 100 ° C, more preferably 20 to 90 ° C. The polymerization pressure is preferably 0.1 to 10 MPa, more preferably 0.5 to 3 MPa. The polymerization time is preferably 1 to 30 hours.
重合中の環状炭化水素モノマーの濃度は、全モノマーに対して0.01〜5モル%が好ましく、0.1〜3モル%がより好ましく、0.1〜1モル%が最も好ましい。環状炭化水素モノマーの濃度が高すぎると、重合速度が低下する傾向となる。上記範囲にあると製造時の重合速度が低下せず、かつ、含フッ素共重合体は接着性に優れる。重合中、環状炭化水素モノマーが重合で消費されるに従って、消費された量を連続的又は断続的に重合槽内に供給し、環状炭化水素モノマーの濃度をこの範囲に維持することが好ましい。 The concentration of the cyclic hydrocarbon monomer during the polymerization is preferably 0.01 to 5 mol%, more preferably 0.1 to 3 mol%, and most preferably 0.1 to 1 mol% with respect to all the monomers. If the concentration of the cyclic hydrocarbon monomer is too high, the polymerization rate tends to decrease. Within the above range, the polymerization rate during production does not decrease, and the fluorine-containing copolymer has excellent adhesiveness. During the polymerization, as the cyclic hydrocarbon monomer is consumed in the polymerization, it is preferable to continuously or intermittently supply the consumed amount into the polymerization tank to maintain the concentration of the cyclic hydrocarbon monomer in this range.
上記製造方法で得られた含フッ素共重合体は、定法に従い、ペレット、粉体、その他の形態として得ることができる。この含フッ素共重合体は、成形性に優れるため、射出成形や押出成形が可能であり、所望の形状に成形することができる。また、上記フッ素共重合体は柔軟性に優れているため、これらを接着剤として用いた高周波回路基板用樹脂フィルム1は、曲げ加工や絞り加工を行ったとしても、高周波回路基板の剥離や損傷を抑制することが可能となる。 The fluorine-containing copolymer obtained by the above production method can be obtained in the form of pellets, powder, or other forms according to a conventional method. Since this fluorine-containing copolymer is excellent in moldability, it can be injection-molded or extrusion-molded, and can be molded into a desired shape. Further, since the above-mentioned fluorine copolymer is excellent in flexibility, the resin film 1 for a high-frequency circuit board using these as an adhesive is peeled off or damaged even if it is bent or drawn. Can be suppressed.
接着性の含フッ素共重合体は、上記のようにして製造することもできるが、市販品を用いることもできる。接着性の市販品としては、特に限定されるものではないが、例えばAGC株式会社製のEA−2000等があげられる。 The adhesive fluorine-containing copolymer can be produced as described above, but a commercially available product can also be used. The adhesive commercially available product is not particularly limited, and examples thereof include EA-2000 manufactured by AGC Inc.
高周波回路基板用樹脂フィルム1には、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂やフッ素樹脂の他、ポリイミド(PI)樹脂、ポリアミドイミド(PAI)樹脂、ポリエーテルイミド(PEI)樹脂等のポリイミド樹脂、ポリアミド4T(PA4T)樹脂、ポリアミド6T(PA6T)樹脂、変性ポリアミド6T(PA6T)樹脂、ポリアミド9T(PA9T)樹脂、ポリアミド10T(PA10T)樹脂、ポリアミド11T(PA11T)樹脂、ポリアミド6(PA6)樹脂、ポリアミド66(PA66)樹脂、ポリアミド46(PA46)樹脂等のポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、ポリブチレンテレフタレート(PBT)樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)樹脂等のポリエステル樹脂、ポリエーテルケトン(PEK)樹脂、ポリエーテルエーテルエーテル(PEEEK)樹脂、ポリエーテルケトンケトン(PEKK)樹脂、ポリエーテルエーテルケトンケトン(PEEKK)樹脂、ポリエーテルケトンエーテルケトンケトン(PEKEKK)樹脂等のポリアリーレンエーテルケトン樹脂、ポリサルホン(PSU)樹脂)、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂、ポリフェニレンサルホン(PPSU)樹脂等のポリサルホン樹脂、ポリフェニレンスルフィド(PPS)樹脂、ポリフェニレンスルフィルケトン樹脂、ポリフェニレンスルフィドスルホン樹脂、ポリフェニレンスルフィドケトンスルホン樹脂等のポリアリーレンサルファイド樹脂、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)樹脂、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)樹脂、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピル共重合体(FEP)樹脂、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体(ETFE)樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)樹脂、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)樹脂、フッ化ビニリデン・テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体樹脂等のフッ素樹脂、液晶ポリマー(LCP)、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリアリレート(PAR)樹脂等を必要に応じ、添加することができる。 The resin film 1 for a high-frequency circuit substrate includes a polyetherketone resin, a fluororesin, a polyimide resin such as a polyimide (PI) resin, a polyamideimide (PAI) resin, and a polyetherimide (PEI) resin, and a polyamide 4T (PA4T). ) Resin, Polyamide 6T (PA6T) Resin, Modified Polyamide 6T (PA6T) Resin, Polyamide 9T (PA9T) Resin, Polyamide 10T (PA10T) Resin, Polyamide 11T (PA11T) Resin, Polyamide 6 (PA6) Resin, Polyamide 66 (PA66) ) Resin, polyamide resin such as polyamide 46 (PA46) resin, polyethylene terephthalate (PET) resin, polybutylene terephthalate (PBT) resin, polyester resin such as polyethylene naphthalate (PEN) resin, polyetherketone (PEK) resin, poly Polyetheretheretherketone (PEEEK) resin, polyetherketoneketone (PEKK) resin, polyetheretherketoneketone (PEEKK) resin, polyetherketone etherketoneketone (PEKEKK) resin, and other polyaralyene etherketone resins, polysalphon (PSU) resins ), Polyetherketone (PES) resin, polysulfone resin such as polyphenylene sulphon (PPSU) resin, polyphenylene sulfide (PPS) resin, polyphenylene sulfite resin, polyphenylene sulfide sulfone resin, polyphenylene sulfide ketone sulfone resin, etc. Sulfide resin, polytetrafluoroethylene (PTFE) resin, polytetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA) resin, tetrafluoroethylene-hexafluoropropyl copolymer (FEP) resin, tetrafluoroethylene-ethylene Polymer (ETFE) resin, polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) resin, polyvinylidene fluoride (PVDF) resin, fluororesin such as vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene copolymer resin, liquid crystal polymer (LCP) ), Polyetherketone (PC) resin, polyarylate (PAR) resin and the like can be added as needed.
高周波回路基板用樹脂フィルム1には、本発明の特性を損なわない範囲で上記樹脂の他、酸化防止剤、光安定剤、着色剤、紫外線吸収剤、可塑剤、帯電防止剤、耐熱向上剤、難燃剤、無機化合物、有機化合物、樹脂改質剤等を選択的に添加することが可能である。 In addition to the above resins, the resin film 1 for high-frequency circuit boards includes antioxidants, light stabilizers, colorants, ultraviolet absorbers, plasticizers, antistatic agents, heat-resistant improvers, as long as the characteristics of the present invention are not impaired. It is possible to selectively add flame retardants, inorganic compounds, organic compounds, resin modifiers and the like.
高周波回路基板用樹脂フィルム1の結晶化度は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂が選択される場合、15%以上、好ましくは20%以上、より好ましくは23%以上、さらに好ましくは25%以上が良い。これは、高周波回路基板用樹脂フィルム1の結晶化度が15%未満の場合には、樹脂フィルムのはんだ耐熱性に問題が生じるからである。逆に、結晶化度が15%以上の場合には、高周波回路基板として使用可能な機械的強度の確保が期待できるからである。 When the polyetheretherketone resin is selected, the crystallinity of the resin film 1 for a high-frequency circuit board is preferably 15% or more, preferably 20% or more, more preferably 23% or more, still more preferably 25% or more. This is because when the crystallinity of the resin film 1 for a high-frequency circuit board is less than 15%, there is a problem in the solder heat resistance of the resin film. On the contrary, when the crystallinity is 15% or more, it can be expected to secure the mechanical strength that can be used as a high frequency circuit board.
高周波回路基板用樹脂フィルム1の結晶化度の上限は、特に限定されるものでないが、50%以下が好適である。これは、高周波回路基板用樹脂フィルム1の結晶化度が50%を越える場合には、長時間の熱処理を必要とし、生産性に問題が生じるという理由に基づく。 The upper limit of the crystallinity of the resin film 1 for a high-frequency circuit board is not particularly limited, but is preferably 50% or less. This is based on the reason that when the crystallinity of the resin film 1 for a high-frequency circuit board exceeds 50%, a long-time heat treatment is required, which causes a problem in productivity.
高周波回路基板用樹脂フィルム1の厚さは、高周波回路基板の充分な厚さの確保、ハンドリング性、薄型化等の観点からすると、3μm以上200μm以下、好ましくは8μm以上110μm以下、より好ましくは10μm以上100μm以下、さらに好ましくは12.5μm以上100μm以下が良い。 The thickness of the resin film 1 for a high-frequency circuit board is 3 μm or more and 200 μm or less, preferably 8 μm or more and 110 μm or less, and more preferably 10 μm from the viewpoint of ensuring a sufficient thickness of the high-frequency circuit board, handleability, and thinning. It is preferably 100 μm or less, more preferably 12.5 μm or more and 100 μm or less.
高周波回路基板用樹脂フィルム1の機械的特性に関しては、23℃における引張最大強度、引張破断時伸び、及び引張弾性率で評価することができる。引張最大強度は、60N/mm2以上、好ましくは90N/mm2以上140N/mm2以下、より好ましくは100N/mm2以上135N/mm2以下が良い。 The mechanical properties of the resin film 1 for a high-frequency circuit board can be evaluated by the maximum tensile strength at 23 ° C., the elongation at tensile break, and the tensile elastic modulus. Maximum tensile strength, 60N / mm 2 or more, preferably 90 N / mm 2 or more 140 N / mm 2 or less, more preferably 100 N / mm 2 or more 135N / mm 2 or less is good.
高周波回路基板用樹脂フィルム1の23℃における引張弾性率は、2600N/mm2以上8000N/mm2以下、好ましくは2650N/mm2以上3900N/mm2以下、より好ましくは2700N/mm2以上3850N/mm2以下の範囲が最適である。これは、引張弾性率が2600N/mm2未満の場合、高周波回路基板用樹脂フィルム1が剛性に劣るため、高周波回路基板の加工中のハンドリング性が低下してしまうという理由に基づく。逆に、8000N/mm2を越える場合、高周波回路基板用樹脂フィルム1の成形に長時間を要し、コストの削減が期待できないという理由に基づく。 Tensile modulus at 23 ° C. in a high-frequency circuit board resin film 1, 2600N / mm 2 or more 8000 N / mm 2 or less, preferably 2650N / mm 2 or more 3900N / mm 2 or less, more preferably 2700N / mm 2 or more 3850N / The optimum range is mm 2 or less. This is based on the reason that when the tensile elastic modulus is less than 2600 N / mm 2 , the resin film 1 for a high-frequency circuit board is inferior in rigidity, so that the handleability during processing of the high-frequency circuit board is deteriorated. On the contrary, when it exceeds 8000 N / mm 2 , it takes a long time to mold the resin film 1 for a high frequency circuit board, and the cost reduction cannot be expected.
高周波回路基板用樹脂フィルム1の引張破断時伸びは、50%以上、好ましくは155%以上300%以下、より好ましくは160%以上280%以下が良い。これは、引張最大強度が60N/mm2未満で破断時伸びが50%未満の場合、高周波回路基板用樹脂フィルム1が十分な靭性を有していないので、高周波回路基板の加工中に破断や割れ等のトラブルが生じてしまうおそれがあるからである。 The elongation at tensile break of the resin film 1 for a high-frequency circuit board is preferably 50% or more, preferably 155% or more and 300% or less, and more preferably 160% or more and 280% or less. This is because when the maximum tensile strength is less than 60 N / mm 2 and the elongation at break is less than 50%, the resin film 1 for high-frequency circuit boards does not have sufficient toughness, so that it may break during processing of high-frequency circuit boards. This is because there is a risk of trouble such as cracking.
高周波回路基板用樹脂フィルム1の周波数800MHz以上100GHz以下の範囲における比誘電率は、高周波回路基板の電気信号の伝搬遅延を防止し、高速通信を実現する観点から、3.3以下、好ましくは2.60以上3.0以下、より好ましくは2.63以上2.90以下が良い。また、高周波回路基板用樹脂フィルム1の周波数800MHz以上100GHz以下の範囲における誘電正接は、高周波回路基板の電気信号の伝搬遅延を防止し、高速通信を実現する観点から、0.006以下、好ましくは0.0017以上0.0058以下、より好ましくは0.0018以上0.0055以下が良い。 The relative permittivity of the resin film 1 for a high-frequency circuit board in the frequency range of 800 MHz or more and 100 GHz or less is 3.3 or less, preferably 2 from the viewpoint of preventing propagation delay of electric signals of the high-frequency circuit board and realizing high-speed communication. It is preferably .60 or more and 3.0 or less, more preferably 2.63 or more and 2.90 or less. Further, the dielectric loss tangent of the resin film 1 for a high-frequency circuit board in the frequency range of 800 MHz or more and 100 GHz or less is 0.006 or less, preferably 0.006 or less, from the viewpoint of preventing propagation delay of the electric signal of the high-frequency circuit board and realizing high-speed communication. It is preferably 0.0017 or more and 0.0058 or less, more preferably 0.0018 or more and 0.0055 or less.
これら比誘電率と誘電正接の測定方法としては、特に限定されるものではないが、同軸プローブ法、同軸Sパラメータ法、導波管Sパラメータ法、フリースペースSパラメータ法等の反射・伝送(Sパラメータ)法、ストリップライン(リング)共振器を用いた測定法、空洞共振器摂動法、スプリットポスト誘電体共振器を用いた測定法、円筒型(スプリットシリンダー)空洞共振器を用いた測定法、マルチ周波数平衡形円板共振器を用いた測定法、遮断円筒導波管空洞共振器を用いた測定法、ファブリペロー共振器を用いた開放型共振器法等の共振器法等の方法があげられる。 The method for measuring the specific dielectric constant and the dielectric tangent is not particularly limited, but is reflected / transmitted (S) such as a coaxial probe method, a coaxial S parameter method, a waveguide S parameter method, and a free space S parameter method. Parameter) method, measurement method using stripline (ring) resonator, cavity resonator perturbation method, measurement method using split-post dielectric resonator, measurement method using cylindrical (split cylinder) cavity resonator, Measurement methods using multi-frequency balanced disc resonators, measurement methods using cut-off cylindrical waveguide hollow resonators, resonator methods such as open-type resonators using Fabry Perot resonators, etc. Be done.
また、干渉計開放型を使用するファブリペロー法、空洞共振器摂動法により高周波数の比誘電率及び誘電正接を求める方法、相互誘導ブリッジ回路による3端子測定法等があげられる。これらの中では、高分解性に優れるファブリペロー法の選択が最適である。 Further, the Fabry-Perot method using an open interferometer, the method of obtaining the high frequency relative permittivity and the dielectric loss tangent by the cavity resonator perturbation method, the three-terminal measurement method by a mutual induction bridge circuit, and the like can be mentioned. Of these, the Fabry-Perot method, which has excellent high resolution, is the most suitable.
このような高周波回路基板用樹脂フィルム1を製造する場合、少なくともポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部と含フッ素系共重合体3質量部以上30質量部以下とを含有したペレットの成形材料11を用い、溶融押出成形法、カレンダー成形、又はキャスティング成形法等の公知の製造方法を採用することができる。これらの製造方法の中では、高周波回路基板用樹脂フィルム1の厚さ精度、生産性、ハンドリング性の向上、設備の簡略化の観点から、Tダイス12を用いた溶融押出成形法により連続的に押出成形することが好ましい。
When producing such a resin film 1 for a high-frequency circuit substrate, a
ここで、溶融押出成形法とは、ミキサーや溶融押出成形機10等を使用してポリアリーレンエーテルケトン樹脂と含フッ素系共重合体を溶融温度以上の温度で溶融混練してペレットの成形材料11を調製し、この成形材料11を溶融押出成形機10に投入してTダイス12から高周波回路基板用樹脂フィルム1を連続的に押し出す成形方法である。溶融押出成形機10は、例えば単軸押出成形機や二軸押出成形機等を使用することができ、特に制限されるものでない。
Here, the melt extrusion molding method is a
溶融押出成形機10等で溶融混練してペレット化された成形材料11は、溶融押出成形機10の先端部のTダイス12により帯形の高周波回路基板用樹脂フィルム1に連続して押出成形され、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルム1が下方の圧着ロール13と連接した複数の冷却ロール14との間に挟んで冷却され、その後、巻取機15の巻取管16にテンションロール17を介して巻き取られることで製造される。
The
高周波回路基板用樹脂フィルム1を製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルム1上に金属層2を形成し、さらに導電回路の配線パターンを形成すれば、高周波回路基板を製造することができる。金属層2は、高周波回路基板用樹脂フィルム1の表面に積層形成され、後から導電回路の配線パターンが形成される。この金属層2に用いられる導電体としては、通常、例えば銅、金、銀、クロム、鉄、アルミニウム、ニッケル、スズ等の金属、あるいはこれら金属からなる合金を使用することができる。
After the high-frequency circuit board resin film 1 is manufactured, the high-frequency circuit board can be manufactured by forming the
金属層2の形成方法としては、特に限定されるものではないが、(1)高周波回路基板用樹脂フィルム1と金属箔とを熱融着して金属層2を形成する方法、(2)高周波回路基板用樹脂フィルム1と金属箔とを接着剤で接着することにより、金属層2を形成する方法、(3)高周波回路基板用樹脂フィルム1と金属箔とを蒸着して金属層2を形成する方法、(4)高周波回路基板用樹脂フィルム1に金属層2をスパッタリングする方法等があげられる。
The method for forming the
(1)の方法は、高周波回路基板用樹脂フィルム1と金属箔とをプレス成形機あるいはロール間に挟み、加熱・加圧して金属層2を形成する方法である。この方法の場合、金属箔は、電解銅箔や圧延銅箔等の銅箔が主に使用される。金属箔の厚さは、1μm以上100μm以下、好ましくは5μm以上80μm以下、より好ましくは10μm以上70μm以下の範囲内が良い。
The method (1) is a method in which a resin film 1 for a high-frequency circuit board and a metal foil are sandwiched between a press molding machine or a roll, and heated and pressed to form a
高周波回路基板用樹脂フィルム1あるいは金属箔の表面は、融着強度を向上させるため、微細な凹凸を形成することができる。また、高周波回路基板用樹脂フィルム1あるいは金属箔の表面をコロナ照射処理、紫外線照射処理、プラズマ照射処理、フレーム照射処理、イトロ照射処理、酸化処理、ヘアライン加工、サンドマッド加工等で表面処理しても良い。また、高周波回路基板用樹脂フィルム1あるいは金属箔の表面をシランカップリング剤、シラン剤、チタンネート系カップリング剤、あるいはアルミネート系カップリング剤で処理することもできる。 The surface of the resin film 1 or metal foil for a high-frequency circuit board can form fine irregularities in order to improve the fusion strength. Further, the surface of the resin film 1 or metal foil for a high frequency circuit substrate is surface-treated by corona irradiation treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma irradiation treatment, frame irradiation treatment, itro irradiation treatment, oxidation treatment, hairline processing, sand mud processing, etc. Is also good. Further, the surface of the resin film 1 for a high frequency circuit substrate or the metal foil can be treated with a silane coupling agent, a silane agent, a titaniumate-based coupling agent, or an aluminate-based coupling agent.
(2)の方法は、高周波回路基板用樹脂フィルム1と金属層2となる金属箔の間に、エポキシ樹脂系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤、アクリル樹脂系接着剤、メラミン樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、シリコーン樹脂系接着剤、ポリイミド樹脂系接着剤、ポリスチレン樹脂系接着剤等の接着剤を配置し、プレス成形機あるいはロール間に挟んだ後、加熱・加圧して金属箔を高周波回路基板用樹脂フィルム1上に形成する方法である。金属箔の厚さは、1μm以上100μm以下、好ましくは5μm以上80μm以下、より好ましくは10μm以上70μm以下の範囲内が良い。
In the method (2), an epoxy resin adhesive, a urethane resin adhesive, an acrylic resin adhesive, and a melamine resin adhesive are used between the resin film 1 for a high frequency circuit board and the metal foil to be the
高周波回路基板用樹脂フィルム1あるいは金属箔の表面は、上記同様、接着強度を向上させる観点から、微細な凹凸を形成することができる。また、高周波回路基板用樹脂フィルム1あるいは金属箔の表面をコロナ照射処理、紫外線照射処理、プラズマ照射処理、フレーム照射処理、イトロ照射処理、酸化処理、ヘアライン加工、サンドマッド加工等で表面処理を施しても構わない。また、高周波回路基板用樹脂フィルム1あるいは金属箔の表面を上記同様、シランカップリング剤、シラン剤、チタンネート系カップリング剤、あるいはアルミネート系カップリング剤で処理しても良い。 Similar to the above, the surface of the resin film 1 or metal foil for a high-frequency circuit board can be formed with fine irregularities from the viewpoint of improving the adhesive strength. In addition, the surface of the resin film 1 or metal foil for a high-frequency circuit substrate is surface-treated by corona irradiation treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma irradiation treatment, frame irradiation treatment, itro irradiation treatment, oxidation treatment, hairline processing, sand mud processing, etc. It doesn't matter. Further, the surface of the resin film 1 for a high frequency circuit substrate or the metal foil may be treated with a silane coupling agent, a silane agent, a titaniumate-based coupling agent, or an aluminate-based coupling agent in the same manner as described above.
(3)、(4)の方法の場合には、専用の蒸着装置やスパッタリング装置を使用すれば、金属層2を積層形成することができる。これら(3)、(4)の方法の中でも、(3)の蒸着法を採用すれば、第五世代移動通信システム用の高周波回路基板を容易に得ることができる。また、(4)のスパッタリング法を採用すれば、様々な金属を金属層2として使用することができ、しかも、高い密着強度を得ることが可能となる。
In the case of the methods (3) and (4), the
金属層2の配線パターンは、エッチング法、めっき法、あるいは印刷法等により必要数形成することができる。この配線パターンの形成方法には、アンダーカットや配線細りの発生を最小限に止め、良好な配線形成を可能とする硫酸‐過酸化水素系、塩化鉄のエッチング剤等の使用が可能である。このような所定形状の配線パターンを形成すれば、低誘電性に優れ、信号の損失を抑制することのできる高周波回路基板を製造することができる。
A required number of wiring patterns for the
上記によれば、機械的特性や熱的特性に優れるポリアリーレンエーテルケトン樹脂に誘電特性に資する含フッ素系共重合体を配合して高周波回路基板用樹脂フィルム1を成形するので、高周波回路基板用樹脂フィルム1の周波数800MHz以上100GHz以下の範囲における比誘電率が3.3以下で、かつ誘電正接が0.006以下となり、比誘電率と誘電正接の値を従来よりも低くすることができる。 According to the above, since the resin film 1 for a high-frequency circuit board is formed by blending a fluorine-containing copolymer that contributes to a dielectric property to a polyarylene ether ketone resin having excellent mechanical properties and thermal properties, it is used for a high-frequency circuit board. The relative permittivity of the resin film 1 in the frequency range of 800 MHz or more and 100 GHz or less is 3.3 or less, and the dielectric loss tangent is 0.006 or less, so that the values of the relative permittivity and the dielectric loss tangent can be made lower than before.
したがって、大容量の高周波信号を高速で送受信可能な高周波回路基板を得ることができる。そして、この高周波回路基板の使用により、第五世代移動通信システムの実現に大いに寄与することができる。また、含フッ素系共重合体が誘電特性の他、官能基の導入により優れた接着性を有するので、高周波回路基板を製造する際、高周波回路基板用樹脂フィルム1に金属層2を容易に積層接着したり、金属層2の剥離や脱落を防止することができる。また、含フッ素系共重合体が摺動性にも優れるので、高周波回路基板用樹脂フィルム1の製造時における巻取り等がきわめて容易となる。
Therefore, it is possible to obtain a high-frequency circuit board capable of transmitting and receiving a large-capacity high-frequency signal at high speed. The use of this high-frequency circuit board can greatly contribute to the realization of a fifth-generation mobile communication board. Further, since the fluorine-containing copolymer has excellent adhesiveness due to the introduction of functional groups in addition to the dielectric properties, the
また、耐熱性に優れる結晶化度15%以上のポリエーテルエーテルケトン樹脂フィルムを高周波回路基板用樹脂フィルム1に使用すれば、優れたはんだ耐熱特性を得ることが可能となる。また、放熱特性に優れるポリエーテルエーテルケトン樹脂フィルムを高周波回路基板用樹脂フィルム1に使用すれば、損失が減少したり、高周波回路基板用樹脂フィルム1の長期使用が可能となり、高周波数帯を活用した高速通信の実現が非常に容易となる。さらに、ポリイミド樹脂フィルムではなく、接着性のポリエーテルエーテルケトン樹脂フィルムを用いれば、高周波回路基板を簡易に多層化することができる。 Further, if a polyetheretherketone resin film having a crystallinity of 15% or more, which is excellent in heat resistance, is used for the resin film 1 for a high frequency circuit board, excellent solder heat resistance characteristics can be obtained. Further, if a polyetheretherketone resin film having excellent heat dissipation characteristics is used for the resin film 1 for a high frequency circuit board, the loss can be reduced and the resin film 1 for a high frequency circuit board can be used for a long period of time, so that the high frequency band can be utilized. Realization of high-speed communication is very easy. Further, if an adhesive polyetheretherketone resin film is used instead of the polyimide resin film, the high frequency circuit board can be easily multilayered.
次に、図3は本発明の第2の実施形態を示すもので、この場合には、高周波回路基板用樹脂フィルム1の表裏両面に金属層2がそれぞれ積層されることにより、第五世代移動通信システム用の高周波回路基板を形成するようにしている。その他の部分については、上記実施形態と同様であるので説明を省略する。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、高周波回路基板の構成の多様化を図ることができるのは明らかである。
Next, FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. In this case, the
It is clear that the same effects as those of the above-described embodiment can be expected in this embodiment as well, and that the configuration of the high-frequency circuit board can be diversified.
なお、上記実施形態では熱溶融成形が可能な半結晶性のパーフルオロアルコキシアルカン(四フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重合樹脂:PFA)に官能基を導入した接着性の含フッ素系共重合体を示したが、官能基を導入しない非接着性のパーフルオロアルコキシアルカンでも良い。この含フッ素共重合体は、製造することもできるが、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えばダイキン工業株式会社製のAP−210等があげられる。さらに、上記実施形態では第五世代移動通信システム用の高周波回路基板を示したが、何らこれに限定されるものではなく、高周波回路基板を、自動車の衝突防止ミリ波レーダ装置、先進運転支援システム(ADAS)、人工知能(AI)等に用いても良い。 In the above embodiment, an adhesive fluorine-containing co-weight obtained by introducing a functional group into a semi-crystalline perfluoroalkoxy alkane (tetrafluoroethylene / perfluoroalkoxy ethylene copolymer resin: PFA) capable of thermal melt molding. A non-adhesive perfluoroalkoxy alkane that has shown coalescence but does not introduce a functional group may also be used. This fluorine-containing copolymer can be produced, but a commercially available product can also be used. Examples of commercially available products include AP-210 manufactured by Daikin Industries, Ltd. Further, in the above embodiment, the high frequency circuit board for the fifth generation mobile communication system is shown, but the present invention is not limited to this, and the high frequency circuit board is used as an automobile collision prevention millimeter wave radar device and an advanced driver assistance system. (ADAS), artificial intelligence (AI), etc. may be used.
以下、本発明に係る高周波回路基板用樹脂フィルム及びその製造方法の実施例を比較例と共に説明する。
〔実施例1〕
先ず、溶融押出成形機等を使用してポリアリーレンエーテルケトン樹脂と含フッ素系共重合体を溶融温度以上の温度340℃で溶融混練してペレットの成形材料を調製した。ポリアリーレンエーテルケトン樹脂としては、KT‐851 NL SP〔ソルベイスペシャルティポリマーズ社製:製品名 キータスパイアポリエーテルエーテルケトンシリーズ〕のポリエーテルエーテルケトン樹脂100質量部を使用した。また、含フッ素系共重合体としては、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名 EA‐2000〕5質量部を使用した。
Hereinafter, examples of the resin film for a high-frequency circuit board and the method for manufacturing the same according to the present invention will be described together with comparative examples.
[Example 1]
First, a polyarylene ether ketone resin and a fluorine-containing copolymer were melt-kneaded at a temperature higher than the melting temperature of 340 ° C. using a melt extrusion molding machine or the like to prepare a pellet molding material. As the polyarylene ether ketone resin, 100 parts by mass of a polyetheretherketone resin of KT-851 NL SP [manufactured by Solvay Specialty Polymers: product name Ketaspire polyetheretherketone series] was used. As the fluorine-containing copolymer, 5 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [manufactured by AGC: product name EA-2000] was used.
成形材料を調製したら、この成形材料をφ40mmの単軸押出成形機からなる溶融押出成形機に投入してその先端部の幅900mmのTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ25μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。ここで、φ40mmの溶融押出成形機の温度は380℃〜420℃、Tダイスの温度は400℃とした。また、冷却ロールは、210℃の金属ロールとした。 After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine consisting of a single-screw extrusion molding machine having a diameter of 40 mm, and a resin film for a high-frequency circuit board is continuously extruded from a T-die having a width of 900 mm at the tip thereof. The continuous resin film for a high frequency circuit board was sandwiched between a crimping roll below and a cooling roll articulated to cool the resin film, and a resin film for a high frequency circuit board having a thickness of 25 μm was produced. Here, the temperature of the melt extrusion molding machine having a diameter of 40 mm was 380 ° C. to 420 ° C., and the temperature of the T die was 400 ° C. The cooling roll was a metal roll at 210 ° C.
高周波回路基板用樹脂フィルムが得られたら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表1に記載した。機械的特性は引張最大強度、引張破断時伸び、及び引張弾性率により評価し、誘電特性は比誘電率と誘電正接により評価し、 Once a resin film for a high-frequency circuit board was obtained, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of this resin film for a high-frequency circuit board were evaluated, and the results are shown in Table 1. Mechanical properties are evaluated by maximum tensile strength, elongation at tensile break, and tensile elastic modulus, and dielectric properties are evaluated by relative permittivity and dielectric loss tangent.
・高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性
高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性は、23℃における引張最大強度、引張破断時伸び、及び引張弾性率で評価した。機械的特性は、高周波回路基板用樹脂フィルムの押出方向と幅方向(押出方向の直角方向)について測定した。測定は、JIS K7127に準拠し、引張速度50mm/分、温度23℃の条件で実施した。
-Mechanical properties of the resin film for high-frequency circuit boards The mechanical properties of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated by the maximum tensile strength at 23 ° C., elongation at tensile break, and tensile elastic modulus. The mechanical properties were measured in the extrusion direction and the width direction (direction perpendicular to the extrusion direction) of the resin film for a high-frequency circuit board. The measurement was carried out in accordance with JIS K7127 under the conditions of a tensile speed of 50 mm / min and a temperature of 23 ° C.
・高周波回路基板用樹脂フィルムの誘電特性〔周波数:1GHz、10GHz〕
高周波回路基板用樹脂フィルムの周波数:1GHzにおける誘電特性は、ネットワーク・アナライザー〔Anritsu社製 ネットワークアナライザー MS46122B〕を用い、空洞共振器摂動法により測定した。1GHzにおける誘電特性の測定は、空洞共振器を空洞共振器1GHz〔キーコム社製 型式;TMR‐1A〕に、10GHzにおける誘電特性の測定は、空洞共振器を空洞共振器10GHz〔キーコム社製 型式;TMR‐10A〕に変更した以外は、ASTMD2520に準拠して実施した。誘電特性の測定は、温度:23℃±1℃、湿度50%RH±5%RH環境下で実施した。
Dielectric characteristics of resin film for high-frequency circuit boards [Frequency: 1 GHz, 10 GHz]
The dielectric property of the resin film for a high-frequency circuit board at a frequency of 1 GHz was measured by a cavity resonator perturbation method using a network analyzer [Network analyzer MS46122B manufactured by Anritsu Co., Ltd.]. For the measurement of the dielectric property at 1 GHz, the cavity resonator is the cavity resonator 1 GHz [Keycom model; TMR-1A], and for the measurement of the dielectric property at 10 GHz, the cavity resonator is the
・高周波回路基板用樹脂フィルムの誘電特性〔周波数:28GHz付近、76.5GHz付近〕
高周波回路基板用樹脂フィルムの周波数:28GHz付近、及び76.5GHz付近の誘電特性は、ベクトルネットワークアナライザーを用い、開放型共振器法の一種であるファブリペロー法により測定した。共振器は、開放型共振器〔キーコム社製:ファブリペロー共振器 Model No.DPS03〕を使用した。
Dielectric characteristics of resin film for high-frequency circuit boards [Frequency: around 28 GHz, around 76.5 GHz]
The frequency of the resin film for a high-frequency circuit board: around 28 GHz and around 76.5 GHz was measured by the Fabry-Perot method, which is a kind of open resonator method, using a vector network analyzer. The resonator is an open type resonator [manufactured by Keycom: Fabry-Perot resonator Model No. DPS03] was used.
測定に際しては、開放型共振器冶具の試料台上に高周波回路基板用樹脂フィルムを載せ、ベクトルネットワークアナライザー用いて開放型共振器法の一種であるファブリペロー法で測定した。具体的には、試料台の上に高周波回路基板用樹脂フィルムを載せない状態と、高周波回路基板用樹脂フィルムを載せた状態の共振周波数の差を利用する共振法により、比誘電率と誘電正接とを測定した。 In the measurement, a resin film for a high-frequency circuit board was placed on the sample table of the open resonator jig, and the measurement was performed by the Fabry-Perot method, which is a kind of open resonator method, using a vector network analyzer. Specifically, the relative permittivity and the dielectric loss tangent are obtained by a resonance method that utilizes the difference in resonance frequency between the state where the resin film for high-frequency circuit board is not placed on the sample table and the state where the resin film for high-frequency circuit board is placed. And was measured.
誘電特性の測定、具体的には28GHz付近、及び76.5GHz付近の誘電特性は温度:24℃、湿度45%環境下で測定した。所定の測定装置としては、28GHz付近はベクトルネットワークアナライザE8361A〔アジレント・テクノロジー社製:製品名〕を用いた。76.5GHz付近では、ベクトルネットワークアナライザN5227A〔アジレント・テクノロジー社製:製品名〕を用いた。 The measurement of the dielectric property, specifically, the dielectric property near 28 GHz and 76.5 GHz was measured in an environment of temperature: 24 ° C. and humidity of 45%. As a predetermined measuring device, a vector network analyzer E8631A [manufactured by Agilent Technologies: product name] was used near 28 GHz. At around 76.5 GHz, a vector network analyzer N5227A [manufactured by Agilent Technologies: product name] was used.
・高周波回路基板用樹脂フィルムの成形性
製造した高周波回路基板用樹脂フィルムの表裏両面を目視により観察し、○×で評価した。
-Formability of resin film for high-frequency circuit boards The front and back sides of the manufactured resin film for high-frequency circuit boards were visually observed and evaluated as XX.
〔実施例2〕
基本的には実施例1と同様だが、含フッ素系共重合体として、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名 EA‐2000〕10質量部を使用した。成形材料を調製したら、この成形材料をφ40mmの単軸押出成形機からなる溶融押出成形機に投入してその先端部の幅900mmのTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ50μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
[Example 2]
Although basically the same as in Example 1, 10 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [manufactured by AGC: product name EA-2000] was used as the fluorine-containing copolymer. After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine consisting of a single-screw extrusion molding machine having a diameter of 40 mm, and a resin film for a high-frequency circuit board is continuously extruded from a T-die having a width of 900 mm at the tip thereof. The continuous resin film for a high-frequency circuit board was sandwiched between a crimping roll below and a cooling roll connected to the lower surface to cool the resin film, to produce a resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 50 μm.
高周波回路基板用樹脂フィルムが得られたら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表1に記載した。 Once a resin film for a high-frequency circuit board was obtained, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of this resin film for a high-frequency circuit board were evaluated, and the results are shown in Table 1.
〔実施例3〕
基本的には実施例1と同様だが、含フッ素系共重合体として、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名 EA‐2000〕10質量部を使用した。成形材料を調製したら、この成形材料をφ40mmの単軸押出成形機からなる溶融押出成形機に投入してその先端部の幅900mmのTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ75μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
[Example 3]
Although basically the same as in Example 1, 10 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [manufactured by AGC: product name EA-2000] was used as the fluorine-containing copolymer. After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine consisting of a single-screw extrusion molding machine having a diameter of 40 mm, and a resin film for a high-frequency circuit board is continuously extruded from a T-die having a width of 900 mm at the tip thereof. The continuous resin film for a high frequency circuit board was sandwiched between a crimping roll below and a cooling roll articulated to cool the resin film, and a resin film for a high frequency circuit board having a thickness of 75 μm was produced.
高周波回路基板用樹脂フィルムが得られたら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表1に記載した。 Once a resin film for a high-frequency circuit board was obtained, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of this resin film for a high-frequency circuit board were evaluated, and the results are shown in Table 1.
〔実施例4〕
基本的には実施例1と同様だが、含フッ素系共重合体として、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名 EA‐2000〕20質量部を使用した。成形材料を調製したら、この成形材料をφ40mmの単軸押出成形機からなる溶融押出成形機に投入してその先端部の幅900mmのTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ50μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
[Example 4]
Although basically the same as in Example 1, 20 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [manufactured by AGC: product name EA-2000] was used as the fluorine-containing copolymer. After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine consisting of a single-screw extrusion molding machine having a diameter of 40 mm, and a resin film for a high-frequency circuit board is continuously extruded from a T-die having a width of 900 mm at the tip thereof. The continuous resin film for a high-frequency circuit board was sandwiched between a crimping roll below and a cooling roll connected to the lower surface to cool the resin film, to produce a resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 50 μm.
高周波回路基板用樹脂フィルムが得られたら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表1に記載した。 Once a resin film for a high-frequency circuit board was obtained, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of this resin film for a high-frequency circuit board were evaluated, and the results are shown in Table 1.
〔実施例5〕
基本的には実施例1と同様だが、含フッ素系共重合体を、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名 EA‐2000〕20質量部に変更し、厚さ75μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。高周波回路基板用樹脂フィルムを製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表1に記載した。
[Example 5]
Basically the same as in Example 1, but the fluorine-containing copolymer was changed to 20 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [AGC: product name EA-2000], and the thickness was 75 μm. Manufactured a resin film for high-frequency circuit boards. After producing the resin film for high-frequency circuit boards, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated, and the results are shown in Table 1.
〔実施例6〕
基本的には実施例1と同様だが、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂を、381G〔ビクトレックス社製:製品名 Victrex Granulesシリーズ〕のポリエーテルエーテルケトン樹脂100質量部に変更した。また、含フッ素系共重合体として、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名EA‐2000〕10質量部を使用した。
[Example 6]
Basically the same as in Example 1, the polyetheretherketone resin was changed to 100 parts by mass of a polyetheretherketone resin of 381G [manufactured by Victrex: product name Victorex Granules series]. Further, as the fluorine-containing copolymer, 10 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [manufactured by AGC: product name EA-2000] was used.
成形材料を調製したら、この成形材料を溶融押出成形機に投入してその先端部のTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ50μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
高周波回路基板用樹脂フィルムを製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表2にまとめた。
After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine, a resin film for a high frequency circuit board is continuously extruded from a T die at the tip thereof, and the continuous resin film for a high frequency circuit board is pushed downward. A resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 50 μm was produced by sandwiching it between a crimping roll and a cooling roll articulated in the above.
After manufacturing the resin film for high-frequency circuit boards, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated, and the results are summarized in Table 2.
〔実施例7〕
基本的には実施例6と同様だが、含フッ素系共重合体として、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名EA‐2000〕20質量部を使用した。成形材料を調製後、この成形材料を溶融押出成形機に投入してその先端部のTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ50μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
[Example 7]
Although basically the same as in Example 6, 20 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [manufactured by AGC: product name EA-2000] was used as the fluorine-containing copolymer. After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine, a resin film for a high frequency circuit board is continuously extruded from a T die at the tip thereof, and the continuous resin film for a high frequency circuit board is pushed downward. A resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 50 μm was produced by sandwiching it between a crimping roll and a cooling roll articulated in the above.
高周波回路基板用樹脂フィルムを製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表2にまとめた。 After manufacturing the resin film for high-frequency circuit boards, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated, and the results are summarized in Table 2.
〔実施例8〕
基本的には実施例6と同様だが、含フッ素系共重合体として、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名EA‐2000〕20質量部を使用した。成形材料を調製後、この成形材料を溶融押出成形機に投入してその先端部のTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ100μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
[Example 8]
Although basically the same as in Example 6, 20 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [manufactured by AGC: product name EA-2000] was used as the fluorine-containing copolymer. After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine, a resin film for a high frequency circuit board is continuously extruded from a T die at the tip thereof, and the continuous resin film for a high frequency circuit board is pushed downward. A resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 100 μm was produced by sandwiching it between a crimping roll and a cooling roll articulated in the above.
高周波回路基板用樹脂フィルムを製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表2にまとめた。 After manufacturing the resin film for high-frequency circuit boards, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated, and the results are summarized in Table 2.
〔実施例9〕
基本的には実施例1と同様だが、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂として、KT‐851 NL SP〔ソルベイスペシャルティポリマーズ社製:製品名 キータスパイアポリエーテルエーテルケトンシリーズ〕のポリエーテルエーテルケトン樹脂100質量部を使用した。また、含フッ素系共重合体を、ペレット化されたパーフルオロアルコキシアルカン〔ダイキン社製:製品名 AP‐210〕10質量部に変更した。
[Example 9]
Basically the same as in Example 1, but as a polyarylene ether ketone resin, 100 parts by mass of polyetheretherketone resin of KT-851 NL SP [manufactured by Solvay Specialty Polymers: product name Ketaspire polyetheretherketone series] is used. used. Further, the fluorine-containing copolymer was changed to 10 parts by mass of pelletized perfluoroalkoxyalkane [manufactured by Daikin Corporation: product name AP-210].
成形材料を調製したら、この成形材料を溶融押出成形機に投入してその先端部のTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ50μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
高周波回路基板用樹脂フィルムを製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表2に記載した。
After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine, a resin film for a high frequency circuit board is continuously extruded from a T die at the tip thereof, and the continuous resin film for a high frequency circuit board is pushed downward. A resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 50 μm was produced by sandwiching it between a crimping roll and a cooling roll articulated in the above.
After manufacturing the resin film for high-frequency circuit boards, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated, and the results are shown in Table 2.
〔実施例10〕
基本的には実施例1と同様だが、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂を、381G〔ビクトレックス社製:製品名 Victrex Granulesシリーズ〕のポリエーテルエーテルケトン樹脂100質量部に変更した。また、含フッ素系共重合体を、ペレット化されたパーフルオロアルコキシアルカン〔ダイキン社製:製品名 AP‐210〕10質量部に変更した。
[Example 10]
Basically the same as in Example 1, the polyetheretherketone resin was changed to 100 parts by mass of a polyetheretherketone resin of 381G [manufactured by Victrex: product name Victorex Granules series]. Further, the fluorine-containing copolymer was changed to 10 parts by mass of pelletized perfluoroalkoxyalkane [manufactured by Daikin Corporation: product name AP-210].
成形材料を調製したら、この成形材料を溶融押出成形機に投入してその先端部のTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ50μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。 After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine, a resin film for a high frequency circuit board is continuously extruded from a T die at the tip thereof, and the continuous resin film for a high frequency circuit board is pushed downward. A resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 50 μm was produced by sandwiching it between a crimping roll and a cooling roll articulated in the above.
高周波回路基板用樹脂フィルムを製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表2に記載した。 After manufacturing the resin film for high-frequency circuit boards, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated, and the results are shown in Table 2.
〔比較例1〕
基本的には実施例1と同様だが、成形材料を、KT‐851 NL SP〔ソルベイスペシャルティポリマーズ社製:製品名 キータスパイアポリエーテルエーテルケトンシリーズ〕のポリエーテルエーテルケトン樹脂100質量部のみとし、含フッ素系共重合体を省略した。
[Comparative Example 1]
Basically the same as in Example 1, but the molding material is only 100 parts by mass of the polyetheretherketone resin of KT-851 NL SP [manufactured by Solvay Specialty Polymers: product name Ketaspire polyetheretherketone series], including The fluoropolymer was omitted.
成形材料を用意したら、この成形材料をφ40mmの単軸押出成形機からなる溶融押出成形機に投入してその先端部の幅900mmのTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ25μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
高周波回路基板用樹脂フィルムが得られたら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表3に記載した。
After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine consisting of a single-screw extrusion molding machine having a diameter of 40 mm, and a resin film for a high-frequency circuit board is continuously extruded from a T-die having a width of 900 mm at the tip thereof. The continuous resin film for a high frequency circuit board was sandwiched between a crimping roll below and a cooling roll articulated to cool the resin film, and a resin film for a high frequency circuit board having a thickness of 25 μm was produced.
Once a resin film for a high-frequency circuit board was obtained, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for a high-frequency circuit board were evaluated, and the results are shown in Table 3.
〔比較例2〕
基本的には比較例1と同様だが、高周波回路基板用樹脂フィルムを厚さ50μmに変更して製造した。
高周波回路基板用樹脂フィルムを製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表3に記載した。
[Comparative Example 2]
It was basically the same as in Comparative Example 1, but was manufactured by changing the resin film for a high-frequency circuit board to a thickness of 50 μm.
After manufacturing the resin film for high-frequency circuit boards, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated, and the results are shown in Table 3.
〔比較例3〕
基本的には比較例1と同様だが、成形材料を、381G〔ビクトレックス社製:製品名 Victrex Granulesシリーズ〕のポリエーテルエーテルケトン樹脂100質量部のみとし、含フッ素系共重合体を省略した。
[Comparative Example 3]
It is basically the same as Comparative Example 1, but the molding material is only 100 parts by mass of a polyetheretherketone resin of 381G [manufactured by Victrex: product name Victorex Granules series], and the fluorine-containing copolymer is omitted.
成形材料を用意したら、この成形材料を溶融押出成形機に投入してその先端部のTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ50μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
高周波回路基板用樹脂フィルムを製造したら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表3にまとめた。
After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine, a resin film for a high frequency circuit board is continuously extruded from a T die at the tip thereof, and the continuous resin film for a high frequency circuit board is pushed downward. A resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 50 μm was produced by sandwiching it between a crimping roll and a cooling roll articulated in the above.
After manufacturing the resin film for high-frequency circuit boards, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of the resin film for high-frequency circuit boards were evaluated, and the results are summarized in Table 3.
〔比較例4〕
基本的には実施例1と同様だが、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂として、KT‐851 NL SP〔ソルベイスペシャルティポリマーズ社製:製品名 キータスパイアポリエーテルエーテルケトンシリーズ〕のポリエーテルエーテルケトン樹脂100質量部を選択した。また、含フッ素系共重合体として、ペレット化された接着性パーフルオロアルコキシアルカン〔AGC社製:製品名 EA‐2000〕40質量部を選択した。
[Comparative Example 4]
Basically the same as in Example 1, but as a polyarylene ether ketone resin, 100 parts by mass of polyetheretherketone resin of KT-851 NL SP [manufactured by Solvay Specialty Polymers: product name Ketaspire polyetheretherketone series] is used. Selected. Further, as the fluorine-containing copolymer, 40 parts by mass of pelletized adhesive perfluoroalkoxyalkane [manufactured by AGC: product name EA-2000] was selected.
成形材料を調製したら、この成形材料を溶融押出成形機に投入してその先端部のTダイスから高周波回路基板用樹脂フィルムを連続的に押出成形し、この連続した高周波回路基板用樹脂フィルムを下方の圧着ロールと連接した冷却ロールとの間に挟んで冷却し、厚さ100μmの高周波回路基板用樹脂フィルムを製造した。
高周波回路基板用樹脂フィルムが得られたら、この高周波回路基板用樹脂フィルムの機械的特性、誘電特性、成形性を評価し、その結果を表1にまとめた。
After preparing the molding material, the molding material is put into a melt extrusion molding machine, a resin film for a high frequency circuit board is continuously extruded from a T die at the tip thereof, and the continuous resin film for a high frequency circuit board is pushed downward. A resin film for a high-frequency circuit board having a thickness of 100 μm was produced by sandwiching it between a crimping roll and a cooling roll articulated in the above.
Once a resin film for a high-frequency circuit board was obtained, the mechanical properties, dielectric properties, and moldability of this resin film for a high-frequency circuit board were evaluated, and the results are summarized in Table 1.
〔評 価〕
各実施例の高周波回路基板用樹脂フィルムは、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部に対して含フッ素系共重合体3質量部以上30質量部以下を配合して成形したので、比誘電率の値が3.3以下であり、誘電正接も0.006以下の低い値となった。また、成形性についても、高周波回路基板用樹脂フィルムに全く変形やシワの発生が認められなかった。
[Rating]
The resin film for the high-frequency circuit substrate of each embodiment was formed by blending 100 parts by mass of the polyarylene ether ketone resin with 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less of the fluorine-containing copolymer, and thus the value of the relative permittivity. Was 3.3 or less, and the dielectric loss tangent was also a low value of 0.006 or less. In terms of moldability, no deformation or wrinkles were observed in the resin film for high-frequency circuit boards.
これに対し、各比較例の高周波回路基板用樹脂フィルムは、含フッ素系共重合体を省略したり、過剰に配合したので、比誘電率の値が比較的高くなり、大容量の高周波信号を高速で送受信可能な高周波回路基板の材料としては、適切とはいえないことが判明した。さらに、比較例4の高周波回路基板用樹脂フィルムの場合、誘電特性には優れるものの、成形性に大きな問題が生じ、高周波回路基板用樹脂フィルムに変形やシワの発生が確認された。 On the other hand, in the resin film for the high frequency circuit board of each comparative example, since the fluorine-containing copolymer was omitted or excessively blended, the value of the relative permittivity became relatively high, and a large-capacity high frequency signal was produced. It turned out that it is not suitable as a material for a high-frequency circuit board capable of transmitting and receiving at high speed. Further, in the case of the resin film for high frequency circuit board of Comparative Example 4, although the dielectric property was excellent, a big problem occurred in moldability, and it was confirmed that the resin film for high frequency circuit board was deformed and wrinkled.
以上の結果から、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部に対して含フッ素系共重合体3質量部以上30質量部以下を配合した高周波回路基板用樹脂フィルムが誘電特性や成形性に優れ、MHz帯域からGHz帯域の高周波帯域で用いられる高周波回路基板に最適であるのが判明した。 From the above results, a resin film for a high-frequency circuit board in which 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less of a fluorine-containing copolymer is blended with 100 parts by mass of a polyarylene ether ketone resin has excellent dielectric properties and moldability, and is in the MHz band. It was found that it is most suitable for high frequency circuit boards used in the high frequency band of the GHz band.
本発明に係る高周波回路基板用樹脂フィルム及びその製造方法、並びに高周波回路基板は、情報通信や自動車機器等の分野で使用される。 The resin film for a high-frequency circuit board and a method for manufacturing the same according to the present invention, and the high-frequency circuit board are used in fields such as information communication and automobile equipment.
1 高周波回路基板用樹脂フィルム
2 金属層
10 溶融押出成形機
11 成形材料
12 Tダイス
13 圧着ロール
14 冷却ロール
15 巻取機
1 Resin film for high-
Claims (7)
少なくともポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部と含フッ素系共重合体3質量部以上30質量部以下とを溶融混練して成形材料を調製し、この成形材料をTダイスから押し出して高周波回路基板用樹脂フィルムを成形し、この高周波回路基板用樹脂フィルムを冷却ロールに接触させて冷却することを特徴とする高周波回路基板用樹脂フィルムの製造方法。 The method for producing a resin film for a high-frequency circuit board according to any one of claims 1 to 5.
A molding material is prepared by melt-kneading at least 100 parts by mass of a polyarylene ether ketone resin and 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less of a fluorine-containing copolymer, and this molding material is extruded from a T-die to be a resin for a high-frequency circuit board. A method for producing a resin film for a high-frequency circuit board, which comprises molding a film and bringing the resin film for a high-frequency circuit board into contact with a cooling roll to cool the film.
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