JP2021034147A - Electric charge particle beam device and piping for vacuum - Google Patents

Electric charge particle beam device and piping for vacuum Download PDF

Info

Publication number
JP2021034147A
JP2021034147A JP2019150243A JP2019150243A JP2021034147A JP 2021034147 A JP2021034147 A JP 2021034147A JP 2019150243 A JP2019150243 A JP 2019150243A JP 2019150243 A JP2019150243 A JP 2019150243A JP 2021034147 A JP2021034147 A JP 2021034147A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pipe
bellows
vacuum
piping
tubes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019150243A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7257915B2 (en
Inventor
英一 武井
Hidekazu Takei
英一 武井
通広 川口
Michihiro Kawaguchi
通広 川口
圭介 山口
Keisuke Yamaguchi
圭介 山口
高橋 洋介
Yosuke Takahashi
洋介 高橋
吉郎 山中
Yoshiro Yamanaka
吉郎 山中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nuflare Technology Inc
Original Assignee
Nuflare Technology Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nuflare Technology Inc filed Critical Nuflare Technology Inc
Priority to JP2019150243A priority Critical patent/JP7257915B2/en
Publication of JP2021034147A publication Critical patent/JP2021034147A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7257915B2 publication Critical patent/JP7257915B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

To provide an electric charge particle beam device capable of maintaining an irradiation accuracy of an electric charge particle beam, and easily piping and connecting between a vacuum pump and a lens tube, and provide a piping for a vacuum.SOLUTION: An electric charge particle beam device comprises: a chamber that irradiates a processing object with an electric charge particle; a piping for a vacuum, connected to the chamber; and a decompression device that is connected to the piping for the vacuum, and decompresses inside of the chamber via the piping for the vacuum. The chamber includes an exhaust part connected to the piping for the vacuum, and the decompression device includes a suction part connected to the piping for the vacuum. The piping for the vacuum, contains: a first piping and a second piping, which are connected to the exhaust part and are extendable/retractable in a prescribed direction; a third piping which is connected to the first piping, and in which a central axis is vertical to the prescribed direction; a fourth piping which is connected to the second piping, and in which the central axis is parallel to the third piping and is vertical to the prescribed direction; and a fifth piping and a sixth piping which are connected to the third piping and the fourth piping, respectively, and are connected to the suction part, and are extendable/retractable in the prescribed direction.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本実施形態は、荷電粒子ビーム装置および真空用配管に関する。 The present embodiment relates to a charged particle beam device and vacuum piping.

マスク描画装置やマスク検査装置等の荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子ビームの照射空間として設けられている鏡筒内を真空引きし、該鏡筒内の減圧雰囲気中において荷電粒子ビームをマスクへ照射する。このとき、鏡筒内を真空引きするために、真空ポンプを鏡筒に接続する。 A charged particle beam device such as a mask drawing device or a mask inspection device evacuates the inside of a lens barrel provided as an irradiation space for the charged particle beam, and irradiates the mask with the charged particle beam in a reduced pressure atmosphere inside the lens barrel. To do. At this time, a vacuum pump is connected to the lens barrel in order to evacuate the inside of the lens barrel.

特開2007−165232号公報JP-A-2007-165232

しかし、真空ポンプは、真空配管を介して鏡筒に接続されている。従って、真空ポンプの振動が真空配管を伝わって鏡筒に伝わり、荷電粒子ビームの照射精度を悪化させる場合があった。また、真空配管で真空ポンプと鏡筒とを接続する際に、真空ポンプと鏡筒との位置合わせが難しく、真空ポンプおよび鏡筒の組み立てに時間がかかる、という問題もあった。 However, the vacuum pump is connected to the lens barrel via a vacuum pipe. Therefore, the vibration of the vacuum pump may be transmitted to the lens barrel through the vacuum pipe, which may deteriorate the irradiation accuracy of the charged particle beam. Further, when connecting the vacuum pump and the lens barrel with a vacuum pipe, there is a problem that it is difficult to align the vacuum pump and the lens barrel, and it takes time to assemble the vacuum pump and the lens barrel.

そこで、本実施形態の目的は、荷電粒子ビームの照射精度を維持し、かつ、真空ポンプと鏡筒とを容易に配管接続することができる荷電粒子ビーム装置および真空用配管を提供することである。 Therefore, an object of the present embodiment is to provide a charged particle beam device and a vacuum pipe capable of maintaining the irradiation accuracy of the charged particle beam and easily connecting the vacuum pump and the lens barrel to the pipe. ..

本実施形態による荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子を処理対象に照射するチャンバと、チャンバに接続される真空用配管と、真空用配管に接続され、真空用配管を介してチャンバ内を減圧する減圧装置と、を備える。チャンバは、真空用配管と接続される排気部を有し、減圧装置は、真空用配管と接続される吸気部とを有する。真空用配管は、排気部と接続し、所定方向に伸縮可能な第1配管および第2配管と、第1配管と接続し、中心軸が所定方向と垂直な第3配管と、第2配管と接続し、中心軸が第3配管と平行で所定方向と垂直な第4配管と、それぞれ第3配管、第4配管と接続するとともに吸気部と接続し、それぞれ所定方向に伸縮可能な第5配管および第6配管と、を含む。 The charged particle beam device according to the present embodiment has a chamber that irradiates a charged particle to a processing target, a vacuum pipe connected to the chamber, and a vacuum pipe connected to the vacuum pipe to reduce the pressure in the chamber via the vacuum pipe. It is equipped with a device. The chamber has an exhaust section connected to the vacuum piping, and the decompression device has an intake section connected to the vacuum piping. The vacuum pipe is connected to the exhaust portion, and is connected to the first pipe and the second pipe that can expand and contract in a predetermined direction, and the third pipe and the second pipe whose central axis is perpendicular to the predetermined direction. The fourth pipe, which is connected and whose central axis is parallel to the third pipe and perpendicular to the predetermined direction, is connected to the third pipe and the fourth pipe, respectively, and is connected to the intake part, and the fifth pipe which can expand and contract in the predetermined direction respectively. And the sixth pipe.

本実施形態による真空用配管は、減圧装置と排気部との間を配管接続する真空用配管であって、チャンバに接続される排気部と、排気部に接続され、所定方向に伸縮可能な第1配管および第2配管と、第1配管と接続され、中心軸が所定方向と垂直な第3配管と、第2配管と接続され、中心軸が所定方向と垂直な第4配管と、第3配管と接続され、所定方向に伸縮可能な第5配管と、第4配管と接続され、所定方向に伸縮可能な第6配管と、第5配管および第6配管と接続されるとともに、減圧装置に接続される吸気部と、を含む。 The vacuum pipe according to the present embodiment is a vacuum pipe that connects the decompression device and the exhaust part with a pipe, and is connected to the exhaust part connected to the chamber and the exhaust part and can be expanded and contracted in a predetermined direction. The first pipe, the second pipe, the third pipe connected to the first pipe and the central axis perpendicular to the predetermined direction, the fourth pipe connected to the second pipe and the central axis perpendicular to the predetermined direction, and the third pipe. A fifth pipe that is connected to a pipe and can be expanded and contracted in a predetermined direction, a sixth pipe that is connected to a fourth pipe and can be expanded and contracted in a predetermined direction, a fifth pipe and a sixth pipe, and a decompression device Includes an intake unit to be connected.

第1実施形態の電子ビーム描画装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the electron beam drawing apparatus of 1st Embodiment. 電子鏡筒、真空ポンプおよび真空用配管の構成を示す平面図。The plan view which shows the structure of an electronic lens barrel, a vacuum pump and a vacuum pipe. 第2実施形態による描画装置の構成例を示す断面図。The cross-sectional view which shows the structural example of the drawing apparatus by 2nd Embodiment. 第3実施形態による描画装置の構成例を示す断面図。The cross-sectional view which shows the structural example of the drawing apparatus according to 3rd Embodiment. 第4実施形態による描画装置の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the drawing apparatus according to 4th Embodiment.

以下、図面を参照して本発明に係る実施形態を説明する。本実施形態は、本発明を限定するものではない。図面は模式的または概念的なものであり、各部分の比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。明細書と図面において、既出の図面に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。 Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings. The present embodiment is not limited to the present invention. The drawings are schematic or conceptual, and the ratio of each part is not always the same as the actual one. In the specification and the drawings, the same elements as those described above with respect to the existing drawings are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted as appropriate.

以下に示す本実施形態では、電子ビームを放射する電子銃を備えた電子ビーム描画装置の構成について説明する。但し、ビームは、電子ビームに限定するものではなく、イオンビーム等の他の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、本実施形態は、描画装置だけでなく、検査装置等に適用してもよい。 In the present embodiment shown below, a configuration of an electron beam drawing apparatus including an electron gun that emits an electron beam will be described. However, the beam is not limited to the electron beam, and a beam using other charged particles such as an ion beam may be used. Moreover, this embodiment may be applied not only to a drawing apparatus but also to an inspection apparatus or the like.

(第1実施形態)
図1は、第1実施形態の電子ビーム描画装置の構成を示す図である。図1において、電子ビーム描画装置(以下描画装置)100は、可変成形型の電子ビーム描画装置の一例であり、描画部150と制御演算部160とを備えている。
(First Embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an electron beam drawing apparatus of the first embodiment. In FIG. 1, the electron beam drawing device (hereinafter referred to as drawing device) 100 is an example of a variable molding type electron beam drawing device, and includes a drawing unit 150 and a control calculation unit 160.

描画部150は、描画室101と、電子鏡筒102と、を備えている。 The drawing unit 150 includes a drawing chamber 101 and an electronic lens barrel 102.

チャンバとしての電子鏡筒102は、電子銃201、照明レンズ202、ブランキング偏向器212、ブランキングアパーチャ214、成形アパーチャ203,206、投影レンズ204、成形偏向器205、対物レンズ207、偏向器208,209、電子銃室217を備える。電子鏡筒102は、真空ポンプ117に接続されており、真空ポンプ117によって真空引きされ減圧されている。電子銃201は、電子銃室217内に収容されおり、荷電粒子として電子ビームを発生する。 The electron barrel 102 as a chamber includes an electron gun 201, an illumination lens 202, a blanking deflector 212, a blanking aperture 214, a molded aperture 203, 206, a projection lens 204, a molded deflector 205, an objective lens 207, and a deflector 208. , 209, equipped with an electron gun chamber 217. The electronic lens barrel 102 is connected to the vacuum pump 117, and is evacuated and depressurized by the vacuum pump 117. The electron gun 201 is housed in the electron gun chamber 217 and generates an electron beam as charged particles.

照明レンズ202、投影レンズ204および対物レンズ207は、いずれも励磁を変えて電子ビームを収束させ、結像位置(照射位置)を調節する電磁レンズである。これらのレンズは、電子銃201が配置された上流側の一端から、ステージ105が配置された下流側に向けて、電子ビーム200の軸方向に沿って配列されている。 The illumination lens 202, the projection lens 204, and the objective lens 207 are all electromagnetic lenses that change the excitation to converge the electron beam and adjust the imaging position (irradiation position). These lenses are arranged along the axial direction of the electron beam 200 from one end on the upstream side where the electron gun 201 is arranged toward the downstream side where the stage 105 is arranged.

照明レンズ202は、電子銃201から出射された電子ビーム200を成形アパーチャ203に照明する。成形アパーチャ203で成形された電子ビーム200は、投影レンズ204で成形アパーチャ206に投影される。成形アパーチャ206における成形アパーチャ像の位置は、成形偏向器205で制御される。これにより、電子ビームの形状と寸法が変化する。成形アパーチャ206を透過した電子ビーム200は、対物レンズ207で照射位置合わせが行われた後、偏向器208、209で偏向される。そして、偏向器208、209は、電子ビーム200の照射位置を修正し、描画室101に載置されたマスク216に電子ビーム200を照射する。 The illumination lens 202 illuminates the molded aperture 203 with the electron beam 200 emitted from the electron gun 201. The electron beam 200 formed by the forming aperture 203 is projected onto the forming aperture 206 by the projection lens 204. The position of the molded aperture image on the molded aperture 206 is controlled by the molding deflector 205. This changes the shape and dimensions of the electron beam. The electron beam 200 that has passed through the molded aperture 206 is deflected by the deflectors 208 and 209 after the irradiation alignment is performed by the objective lens 207. Then, the deflectors 208 and 209 correct the irradiation position of the electron beam 200, and irradiate the mask 216 placed in the drawing chamber 101 with the electron beam 200.

描画室101の内部には、ステージ105が配置されている。ステージ105は、制御部110によって、X方向、Y方向およびZ方向に駆動される。ステージ105上には、処理対象となるマスク216が載置される。マスク216は、例えば、石英等のマスク基板上に、クロム(Cr)膜やモリブデンシリコン(MoSi)膜等の遮光膜が形成され、さらにその上にレジスト膜が形成されたものでよい。このレジスト膜上に、電子ビーム200によって所定のパターンを描画する。マスク216は、例えば、まだパターンを有しないマスクブランクスであってもよい。 A stage 105 is arranged inside the drawing chamber 101. The stage 105 is driven in the X, Y, and Z directions by the control unit 110. The mask 216 to be processed is placed on the stage 105. The mask 216 may be, for example, one in which a light-shielding film such as a chromium (Cr) film or a molybdenum silicon (MoSi) film is formed on a mask substrate such as quartz, and a resist film is further formed on the light-shielding film. A predetermined pattern is drawn on the resist film by the electron beam 200. The mask 216 may be, for example, mask blanks that do not yet have a pattern.

制御演算部160は、制御部110を備えている。 The control calculation unit 160 includes a control unit 110.

制御部110は、描画データを記憶する描画データ記憶部110aと、描画データを処理してショットデータを生成するショットデータ生成部110bと、電子鏡筒102を制御する描画制御部110cとを備えている。描画データ記憶部110aは、マスク216にパターンを描画するための描画データを記憶する記憶部である。ショットデータ生成部110bは、描画データにより規定される描画パターンを分割し、ショットデータを生成する。描画制御部110cは、ステージ105をストライプ領域の長手方向に移動させつつ、所定位置に生成されたショットデータに基づき描画パターンを描画するために制御を行う。 The control unit 110 includes a drawing data storage unit 110a for storing drawing data, a shot data generation unit 110b for processing drawing data to generate shot data, and a drawing control unit 110c for controlling the electronic lens barrel 102. There is. The drawing data storage unit 110a is a storage unit that stores drawing data for drawing a pattern on the mask 216. The shot data generation unit 110b divides the drawing pattern defined by the drawing data and generates shot data. The drawing control unit 110c controls to draw a drawing pattern based on the shot data generated at a predetermined position while moving the stage 105 in the longitudinal direction of the stripe region.

減圧装置としての真空ポンプ117は、電子鏡筒102に配管接続されており、電子鏡筒102内を減圧する。真空ポンプ117は、例えば、ロータリポンプ、イオンポンプ等でよい。真空ポンプ117によって、電子鏡筒102は、高い真空度に減圧されている。 The vacuum pump 117 as a depressurizing device is connected to the electronic lens barrel 102 by a pipe, and decompresses the inside of the electronic lens barrel 102. The vacuum pump 117 may be, for example, a rotary pump, an ion pump, or the like. The electronic lens barrel 102 is depressurized to a high degree of vacuum by the vacuum pump 117.

このような構成を有する描画装置100は、電子ビームをマスク216に照射して、マスク216に所望の描画パターンを形成する。 The drawing apparatus 100 having such a configuration irradiates the mask 216 with an electron beam to form a desired drawing pattern on the mask 216.

図2は、電子鏡筒102、真空ポンプ117および真空用配管10の構成を示す平面図である。電子鏡筒102は、その内部を真空引きするために排気部としての排気管103を有する。排気管103の一端部は、電子鏡筒102の排気口OP1に連通するように接続されている。排気管103は、電子鏡筒102の排気方向D1に延伸しており、その両側壁に2つの排気口OP2,OP3を有する。排気口OP2,OP3は、D1方向に対して略垂直方向のD2方向およびD3方向に向かってそれぞれ開口している。排気管103の他端部は閉塞されており、排気口OP1からの気体は排気口OP2,OP3以外から排出されないように構成されている。 FIG. 2 is a plan view showing the configurations of the electronic lens barrel 102, the vacuum pump 117, and the vacuum pipe 10. The electronic lens barrel 102 has an exhaust pipe 103 as an exhaust unit for evacuating the inside thereof. One end of the exhaust pipe 103 is connected so as to communicate with the exhaust port OP1 of the electronic lens barrel 102. The exhaust pipe 103 extends in the exhaust direction D1 of the electronic lens barrel 102, and has two exhaust ports OP2 and OP3 on both side walls thereof. The exhaust ports OP2 and OP3 are open in the D2 direction and the D3 direction in a direction substantially perpendicular to the D1 direction, respectively. The other end of the exhaust pipe 103 is closed so that the gas from the exhaust port OP1 is not discharged from other than the exhaust ports OP2 and OP3.

一方、真空ポンプ117は、電子鏡筒102の内部の気体を吸引するために吸気部としての吸気管104を有する。吸気管104の一端部は、真空ポンプ117の開口OP4に連通するように接続されている。吸気管104は、真空ポンプ117の吸気方向D4の逆方向に延伸しており、その両側壁に2つの開口OP5,OP6を有する。開口OP5,OP6は、D4方向に対して略垂直方向のD5方向およびD6方向の逆方向に向かってそれぞれ開口している。吸気管104の他端部は閉塞されており、開口OP5,OP6以外から気体は吸引されないように構成されている。 On the other hand, the vacuum pump 117 has an intake pipe 104 as an intake unit for sucking the gas inside the electron barrel 102. One end of the intake pipe 104 is connected so as to communicate with the opening OP4 of the vacuum pump 117. The intake pipe 104 extends in the direction opposite to the intake direction D4 of the vacuum pump 117, and has two openings OP5 and OP6 on both side walls thereof. The openings OP5 and OP6 are opened in the directions opposite to the D5 direction and the D6 direction, which are substantially perpendicular to the D4 direction, respectively. The other end of the intake pipe 104 is closed so that gas is not sucked from other than the openings OP5 and OP6.

電子鏡筒102の排気管103と真空ポンプ117の吸気管104との間には、真空用配管10が配管接続されている。真空用配管10は、ベローズ管11〜14と、リジッド管15,16と、プレートPL1,PL2とを備えている。 A vacuum pipe 10 is connected between the exhaust pipe 103 of the electronic lens barrel 102 and the intake pipe 104 of the vacuum pump 117. The vacuum pipe 10 includes bellows pipes 11 to 14, rigid pipes 15 and 16, and plates PL1 and PL2.

第1配管としてのベローズ管11は、排気管103の排気口OP2とリジッド管15との間に配管接続されており、電子鏡筒102からD1方向へ排気された気体をD2方向へ導出する。ベローズ管11は、例えば、中空の円筒形を有し、その側壁が蛇腹状に成形されている。これにより、ベローズ管11はD2方向に伸縮可能であり、真空ポンプ117からの振動が排気管103に伝達することを抑制することができる。 The bellows pipe 11 as the first pipe is connected by a pipe between the exhaust port OP2 of the exhaust pipe 103 and the rigid pipe 15, and the gas exhausted from the electron barrel 102 in the D1 direction is led out in the D2 direction. The bellows tube 11 has, for example, a hollow cylindrical shape, and its side wall is formed in a bellows shape. As a result, the bellows pipe 11 can be expanded and contracted in the D2 direction, and the vibration from the vacuum pump 117 can be suppressed from being transmitted to the exhaust pipe 103.

第2配管としてのベローズ管12は、排気管103の排気口OP3とリジッド管16との間に配管接続されており、電子鏡筒102からD1方向へ排気された気体をD3方向へ導出する。ベローズ管12も、ベローズ管11と同様の構成を有する。例えば、ベローズ管12は、中空の円筒形を有し、その側壁が蛇腹状に成形されている。これにより、ベローズ管12はD3方向に伸縮可能であり、真空ポンプ117からの振動が排気管103に伝達することを抑制することができる。 The bellows pipe 12 as the second pipe is connected by a pipe between the exhaust port OP3 of the exhaust pipe 103 and the rigid pipe 16, and the gas exhausted from the electron barrel 102 in the D1 direction is led out in the D3 direction. The bellows tube 12 also has the same configuration as the bellows tube 11. For example, the bellows tube 12 has a hollow cylindrical shape, and its side wall is formed in a bellows shape. As a result, the bellows pipe 12 can be expanded and contracted in the D3 direction, and the vibration from the vacuum pump 117 can be suppressed from being transmitted to the exhaust pipe 103.

第5配管としてのベローズ管13は、吸気管104の開口OP5とリジッド管15との間に配管接続されており、電子鏡筒102からベローズ管11およびリジッド管15を介して流れてきた気体をD5方向へ導出する。ベローズ管13も、ベローズ管11,12と同様の構成を有する。例えば、ベローズ管13は、中空の円筒形を有し、その側壁が蛇腹状に成形されている。これにより、ベローズ管13はD5方向に伸縮可能であり、真空ポンプ117からの振動が排気管103に伝達することを抑制することができる。ができる。 The bellows pipe 13 as the fifth pipe is connected by a pipe between the opening OP5 of the intake pipe 104 and the rigid pipe 15, and allows gas flowing from the electron barrel 102 through the bellows pipe 11 and the rigid pipe 15. Derived in the D5 direction. The bellows tube 13 also has the same configuration as the bellows tubes 11 and 12. For example, the bellows tube 13 has a hollow cylindrical shape, and its side wall is formed in a bellows shape. As a result, the bellows pipe 13 can be expanded and contracted in the D5 direction, and the vibration from the vacuum pump 117 can be suppressed from being transmitted to the exhaust pipe 103. Can be done.

第6配管としてのベローズ管14は、吸気管104の開口OP6とリジッド管16との間に配管接続されており、電子鏡筒102からベローズ管12およびリジッド管16を介して流れてきた気体をD6方向へ導出する。ベローズ管14も、ベローズ管11〜13と同様の構成を有する。例えば、ベローズ管14は、中空の円筒形を有し、その側壁が蛇腹状に成形されている。これにより、ベローズ管14はD6方向に伸縮可能であり、真空ポンプ117からの振動が排気管103に伝達することを抑制することができる。
これらベローズ管11〜14は、内外の差圧に対して耐性が高く、かつ、薬品に対する耐腐食性に優れた材料で構成されている。例えば、ステンレス等の金属材料で構成されている。これにより、ベローズ管11〜14は、電子鏡筒102内を真空引きしたときに、それぞれの伸縮方向に伸縮するが、径方向に潰れることなく、排気経路を確保することができる。
The bellows pipe 14 as the sixth pipe is connected by a pipe between the opening OP6 of the intake pipe 104 and the rigid pipe 16, and allows gas flowing from the electron barrel 102 via the bellows pipe 12 and the rigid pipe 16. Derived in the D6 direction. The bellows tube 14 also has the same configuration as the bellows tubes 11 to 13. For example, the bellows tube 14 has a hollow cylindrical shape, and its side wall is formed in a bellows shape. As a result, the bellows pipe 14 can be expanded and contracted in the D6 direction, and the vibration from the vacuum pump 117 can be suppressed from being transmitted to the exhaust pipe 103.
These bellows tubes 11 to 14 are made of a material having high resistance to differential pressure inside and outside and excellent corrosion resistance to chemicals. For example, it is made of a metal material such as stainless steel. As a result, the bellows tubes 11 to 14 expand and contract in their respective expansion and contraction directions when the inside of the electronic lens barrel 102 is evacuated, but the exhaust path can be secured without collapsing in the radial direction.

第3配管としてのリジッド管15は、ベローズ管11とベローズ管13との間に配管接続されており、ベローズ管11からの気体をベローズ管13へ向かって流す。リジッド管15は、例えば、その両端が閉塞された中空の円筒形を有し、その両端近傍の側壁にそれぞれ排気口OP7,OP8を有する。リジッド管15の中心軸は、ベローズ管11〜14の伸縮方向(所定方向)と略垂直である。 The rigid pipe 15 as the third pipe is connected by a pipe between the bellows pipe 11 and the bellows pipe 13, and the gas from the bellows pipe 11 flows toward the bellows pipe 13. The rigid pipe 15 has, for example, a hollow cylindrical shape in which both ends thereof are closed, and has exhaust ports OP7 and OP8 on the side walls in the vicinity of both ends thereof, respectively. The central axis of the rigid tube 15 is substantially perpendicular to the expansion / contraction direction (predetermined direction) of the bellows tubes 11 to 14.

第4配管としてのリジッド管16は、ベローズ管12とベローズ管14との間に配管接続されており、ベローズ管12からの気体をベローズ管14へ向かって流す。リジッド管16は、リジッド管15と同様の構成を有する。例えば、リジッド管16は、その両端が閉塞された中空の円筒形を有し、その両端近傍の側壁にそれぞれ排気口OP9,OP10を有する。リジッド管16の中心軸は、リジッド管15の中心軸と略平行であり、かつ、ベローズ管11〜14の伸縮方向と略垂直である。
これらリジッド管15,16は、その内外の差圧に対して耐性が高く、かつ、薬品に対する耐腐食性に優れた材料で構成されている。例えば、リジッド管15,16は、ステンレス等の金属材料で構成されており、側壁に蛇腹形状を有しない円柱状の鋼管である。これにより、リジッド管15,16は、電子鏡筒102内を真空引きしたときにほとんど変形することなく、排気経路を確保することができる。また、リジッド管15,16は、それぞれベローズ管11,13、ベローズ管12,14の伸縮によって、これらの伸縮方向へ移動することができる。
The rigid pipe 16 as the fourth pipe is connected by a pipe between the bellows pipe 12 and the bellows pipe 14, and the gas from the bellows pipe 12 flows toward the bellows pipe 14. The rigid tube 16 has the same configuration as the rigid tube 15. For example, the rigid pipe 16 has a hollow cylindrical shape in which both ends thereof are closed, and has exhaust ports OP9 and OP10 on the side walls in the vicinity of both ends thereof, respectively. The central axis of the rigid tube 16 is substantially parallel to the central axis of the rigid tube 15 and substantially perpendicular to the expansion and contraction directions of the bellows tubes 11 to 14.
These rigid pipes 15 and 16 are made of a material having high resistance to differential pressure inside and outside the rigid pipes and having excellent corrosion resistance to chemicals. For example, the rigid pipes 15 and 16 are columnar steel pipes made of a metal material such as stainless steel and having no bellows shape on the side wall. As a result, the rigid tubes 15 and 16 can secure an exhaust path with almost no deformation when the inside of the electron barrel 102 is evacuated. Further, the rigid tubes 15 and 16 can be moved in these expansion / contraction directions by the expansion / contraction of the bellows tubes 11 and 13 and the bellows tubes 12 and 14, respectively.

プレートPL1,PL2は、リジッド管15とリジッド管16との間に渡って設けられており、リジッド管15,16の上面に接続されている。ここで、プレートPL1,PL2はリジッド管15,16の下面に接続されてもよく、それぞれ上下に2枚ずつ接続されてもよい。プレートPL1,PL2は、ほとんど伸縮しない剛性を有する材質で構成されており、リジッド管15とリジッド管16との間の距離を固定する。プレートPL1,PL2は、リジッド管15とリジッド管16とに接続されているが、ベローズ管11〜14、排気管103および吸気管104には接続されていない。従って、プレートPL1,PL2は、リジッド管15とリジッド管16との間の距離を維持しつつ、リジッド管15,16をD2またはD3方向(D5またはD6方向)へほぼ平行に移動させることができる。 The plates PL1 and PL2 are provided between the rigid pipe 15 and the rigid pipe 16 and are connected to the upper surfaces of the rigid pipes 15 and 16. Here, the plates PL1 and PL2 may be connected to the lower surfaces of the rigid tubes 15 and 16, and two plates may be connected one above the other. The plates PL1 and PL2 are made of a material having rigidity that hardly expands and contracts, and fixes the distance between the rigid tube 15 and the rigid tube 16. The plates PL1 and PL2 are connected to the rigid pipe 15 and the rigid pipe 16, but are not connected to the bellows pipes 11 to 14, the exhaust pipe 103, and the intake pipe 104. Therefore, the plates PL1 and PL2 can move the rigid tubes 15 and 16 substantially in parallel in the D2 or D3 direction (D5 or D6 direction) while maintaining the distance between the rigid tube 15 and the rigid tube 16. ..

例えば、プレートPL1,PL2が設けられていない場合、ベローズ管11〜14の蛇腹部分が真空引きによって収縮して硬化してしまう。この場合、真空ポンプ117の振動がベローズ管11〜14を伝わって電子鏡筒102へ伝導してしまう。これに対し、プレートPL1,PL2を設けることによって、ベローズ管11〜14の蛇腹部分の収縮を抑制して蛇腹状態を維持し、真空ポンプ117から電子鏡筒102への振動の伝達を抑制することができる。 For example, when the plates PL1 and PL2 are not provided, the bellows portions of the bellows tubes 11 to 14 are contracted and hardened by evacuation. In this case, the vibration of the vacuum pump 117 is transmitted through the bellows tubes 11 to 14 and conducted to the electron barrel 102. On the other hand, by providing the plates PL1 and PL2, the contraction of the bellows portion of the bellows tubes 11 to 14 is suppressed to maintain the bellows state, and the transmission of vibration from the vacuum pump 117 to the electron barrel 102 is suppressed. Can be done.

また、例えば、ベローズ管11〜14はほぼ同一構成を有するが、製造誤差等のばらつきを幾分有する場合がある。この場合、電子鏡筒102内を真空引きしたときに、配管内外の差圧による圧力がベローズ管11〜14にほぼ均等に印加される。しかし、ベローズ管11〜14にばらつきがあると、ベローズ管11〜14に圧力が均等に印加されたときに、ベローズ管11〜14の長さが相互に相違する。このようにベローズ管11〜14の長さが相違することによって、ベローズ管11〜14に印加される圧力のバランスが維持され得る。このとき、プレートPL1,PL2がリジッド管15とリジッド管16との間の距離を固定しているので、例えば、ベローズ管11が伸びている場合には、その分、ベローズ管12が縮み、ベローズ管12が伸びている場合には、その分、ベローズ管11が縮む。同様に、例えば、ベローズ管13が伸びている場合には、その分、ベローズ管14が縮み、ベローズ管13が伸びている場合には、その分、ベローズ管14が縮む。このようにして、ベローズ管11〜14は、リジッド管15とリジッド管16との間の距離を維持しつつ、印加される圧力のバランス(釣り合い)を維持している。 Further, for example, the bellows tubes 11 to 14 have substantially the same configuration, but may have some variations such as manufacturing errors. In this case, when the inside of the electron barrel 102 is evacuated, the pressure due to the differential pressure inside and outside the pipe is applied to the bellows tubes 11 to 14 substantially evenly. However, if the bellows tubes 11 to 14 are uneven, the lengths of the bellows tubes 11 to 14 are different from each other when the pressure is evenly applied to the bellows tubes 11 to 14. By making the lengths of the bellows tubes 11 to 14 different in this way, the balance of the pressure applied to the bellows tubes 11 to 14 can be maintained. At this time, since the plates PL1 and PL2 fix the distance between the rigid tube 15 and the rigid tube 16, for example, when the bellows tube 11 is extended, the bellows tube 12 contracts by that amount and the bellows is expanded. When the tube 12 is extended, the bellows tube 11 is contracted by that amount. Similarly, for example, when the bellows tube 13 is extended, the bellows tube 14 is contracted by that amount, and when the bellows tube 13 is extended, the bellows tube 14 is contracted by that amount. In this way, the bellows tubes 11 to 14 maintain the balance (balance) of the applied pressure while maintaining the distance between the rigid tube 15 and the rigid tube 16.

プレートPL1,PL2をベローズ管11〜14およびリジッド管15,16の内部に設けてもよい。この場合、プレートPL1,PL2は、ベローズ管11〜14、リジッド管15,16および開口OP2,OP3,OP7,OP9のコンダクタンスに影響を与えるおそれがある。 The plates PL1 and PL2 may be provided inside the bellows tubes 11 to 14 and the rigid tubes 15 and 16. In this case, the plates PL1 and PL2 may affect the conductance of the bellows tubes 11 to 14, the rigid tubes 15 and 16, and the openings OP2, OP3, OP7 and OP9.

本実施形態においては、プレートPL1,PL2をリジッド管15,16の外側面に取り付けることによって、ベローズ管11〜14、リジッド管15,16および開口OP2,OP3,OP5,OP6,OP7,OP8,OP9,OP10のコンダクタンスに影響を与えることなく、リジッド管15とリジッド管16との間隔を維持することができる。 In the present embodiment, by attaching the plates PL1 and PL2 to the outer surfaces of the rigid tubes 15 and 16, the bellows tubes 11 to 14, the rigid tubes 15 and 16 and the openings OP2, OP3, OP5, OP6, OP7, OP8, OP9 , The distance between the rigid tube 15 and the rigid tube 16 can be maintained without affecting the conductance of the OP10.

排気管103の中心軸と吸気管104の中心軸は、軸A1とほぼ一致するように配置される。また、排気管103の開口OP2,OP3の中心軸、ベローズ管11,12の中心軸、および、リジッド管15,16の開口OP7,OP9の中心軸は、軸A2とほぼ一致するように配置される。ベローズ管11およびベローズ管12は、ほぼ同一の構成を有し、排気管103および吸気管104の中心軸である軸A1に関して対称となる位置に配置されている。 The central axis of the exhaust pipe 103 and the central axis of the intake pipe 104 are arranged so as to substantially coincide with the axis A1. Further, the central axes of the openings OP2 and OP3 of the exhaust pipe 103, the central axes of the bellows pipes 11 and 12, and the central axes of the openings OP7 and OP9 of the rigid pipes 15 and 16 are arranged so as to substantially coincide with the axis A2. To. The bellows pipe 11 and the bellows pipe 12 have substantially the same configuration, and are arranged at positions symmetrical with respect to the axis A1 which is the central axis of the exhaust pipe 103 and the intake pipe 104.

また、同様に、吸気管104の開口OP5,OP6の中心軸、ベローズ管13,14の中心軸、および、リジッド管15,16の開口OP8,OP10の中心軸も、軸A3とほぼ一致するように配置される。ベローズ管13およびベローズ管14は、ほぼ同一の構成を有し、排気管103および吸気管104の中心軸である軸A1に関して対称となる位置に配置されている。さらに、リジッド管15の中心軸A4およびリジッド管16の中心軸A5は、軸A1に関して対称となる位置に配置され、該軸A1に対して略平行である。電子鏡筒102がまだ真空引きされていないときに、リジッド管15と軸A1との距離は、リジッド管16と軸A1との距離とほぼ等しい。これにより、真空用配管10は、軸A1に関して対称な構成を有する。 Similarly, the central axes of the openings OP5 and OP6 of the intake pipe 104, the central axes of the bellows pipes 13 and 14, and the central axes of the openings OP8 and OP10 of the rigid pipes 15 and 16 also substantially coincide with the axes A3. Is placed in. The bellows pipe 13 and the bellows pipe 14 have substantially the same configuration, and are arranged at positions symmetrical with respect to the axis A1 which is the central axis of the exhaust pipe 103 and the intake pipe 104. Further, the central axis A4 of the rigid tube 15 and the central axis A5 of the rigid tube 16 are arranged at positions symmetrical with respect to the axis A1 and are substantially parallel to the axis A1. When the electron barrel 102 has not yet been evacuated, the distance between the rigid tube 15 and the axis A1 is approximately equal to the distance between the rigid tube 16 and the axis A1. As a result, the vacuum pipe 10 has a symmetrical configuration with respect to the axis A1.

次に、真空引きの動作について簡単に説明する。 Next, the operation of evacuation will be briefly described.

まず、真空ポンプ117が駆動され、真空引きを開始する。電子鏡筒102内の気体は、開口OP1を介して排気管103へD1方向に排気される。排気管103内の気体は、開口OP2,OP3を介してベローズ管11,12へD2またはD3方向に流れ、開口OP7,OP9を介してリジッド管15,16へ流れる。 First, the vacuum pump 117 is driven to start evacuation. The gas in the electron barrel 102 is exhausted to the exhaust pipe 103 in the D1 direction through the opening OP1. The gas in the exhaust pipe 103 flows to the bellows pipes 11 and 12 through the openings OP2 and OP3 in the D2 or D3 direction, and flows to the rigid pipes 15 and 16 through the openings OP7 and OP9.

次に、リジッド管15,16内の気体は、開口OP8,OP10を介してベローズ管13,14へD5またはD6方向に流れ、開口OP5,OP6を介して吸気管104へ流れる。吸気管104内の気体は、開口OP4を介して真空ポンプ117へD4方向に吸引され、外部へ排気される。このように、電子鏡筒102内の気体は、真空用配管10を介して真空ポンプ117によって吸引され、電子鏡筒102の外部へ排気される。これにより、電子鏡筒102の内部は真空引きされ減圧状態となる。
(ベローズ管11〜14の伸縮量と伸縮力との関係)
ベローズ管11に印加されるD2またはD3方向の伸縮力をF1とし、ベローズ管12に印加されるD2またはD3方向の伸縮力をF2とする。このとき、F1およびF2は、それぞれ式1および式2で表される。

F1=p×a1−k1×|Δx| (式1)
F2=p×a2−k2×|Δx| (式2)

k1およびk2は、ベローズ管11,12のそれぞれの蛇腹構造のばね定数を示す。
Δxは、ベローズ管11,12の伸縮量(長さ)を示す。尚、図2のxは、真空引き前において、ベローズ管11,12の内外の差圧が生じていないときもとの長さを示す。即ち、Δxは、xからの伸縮量(長さ)を示す。プレートPL1,PL2がリジッド管15とリジッド管16との間の距離を固定しているので、ベローズ管11の伸縮量の絶対値|Δx|は、ベローズ管12のそれと同じになる。図2では、ベローズ管11,12の収縮量を−Δxで示し、伸長量を+Δxで示している。
pは、ベローズ管11,12に印加される単位面積当たりの圧力を示す。圧力pは、ベローズ管11,12の内部と外部(大気圧)との差圧を示す。
a1およびa2は、ベローズ管11,12のそれぞれの開口面積を示す。ベローズ管11の開口面積は、D2またはD3方向に対して略垂直断面におけるベローズ管11の開口面積であり、例えば、開口OP2またはOP7の面積とほぼ等しくてもよい。ベローズ管12の開口面積は、D2またはD3方向に対して略垂直断面におけるベローズ管12の開口面積であり、例えば、開口OP3またはOP9の面積とほぼ等しくてもよい。
ここで、ベローズ管11,12は、それらの内部が減圧されると、F1とF2とを等しくするように、それぞれΔxだけ収縮/伸長する。例えば、ベローズ管11がΔxだけ収縮した場合、ベローズ管12は、Δxだけ伸長する。逆に、ベローズ管11がΔxだけ伸長した場合、ベローズ管12は、Δxだけ収縮する。もし、ベローズ管11,12が同一構成である場合には、F1=F2のときに、Δxはゼロになるが、ベローズ管11,12の構成は通常ばらつくので、Δxは何らかの値になる。ベローズ管11,12がΔxだけ収縮/伸長することにより、ベローズ管11,12の圧力F1,F2のバランスが維持される(F1=F2)。
Next, the gas in the rigid pipes 15 and 16 flows to the bellows pipes 13 and 14 through the openings OP8 and OP10 in the D5 or D6 direction, and flows to the intake pipe 104 through the openings OP5 and OP6. The gas in the intake pipe 104 is sucked into the vacuum pump 117 in the D4 direction through the opening OP4 and exhausted to the outside. In this way, the gas in the electron barrel 102 is sucked by the vacuum pump 117 via the vacuum pipe 10 and exhausted to the outside of the electron barrel 102. As a result, the inside of the electron barrel 102 is evacuated to a reduced pressure state.
(Relationship between the amount of expansion and contraction of bellows tubes 11 to 14 and the expansion and contraction force)
Let F1 be the stretching force in the D2 or D3 direction applied to the bellows tube 11, and let F2 be the stretching force in the D2 or D3 direction applied to the bellows tube 12. At this time, F1 and F2 are represented by the formulas 1 and 2, respectively.

F1 = p × a1-k1 × | Δx | (Equation 1)
F2 = p × a2-k2 × | Δx | (Equation 2)

k1 and k2 indicate the spring constants of the bellows structures of the bellows tubes 11 and 12, respectively.
Δx indicates the amount of expansion and contraction (length) of the bellows tubes 11 and 12. Note that x in FIG. 2 indicates the original length when there is no differential pressure between the inside and outside of the bellows tubes 11 and 12 before evacuation. That is, Δx indicates the amount of expansion and contraction (length) from x. Since the plates PL1 and PL2 fix the distance between the rigid tube 15 and the rigid tube 16, the absolute value | Δx | of the expansion / contraction amount of the bellows tube 11 is the same as that of the bellows tube 12. In FIG. 2, the amount of contraction of the bellows tubes 11 and 12 is indicated by −Δx, and the amount of extension is indicated by + Δx.
p indicates the pressure per unit area applied to the bellows tubes 11 and 12. The pressure p indicates the differential pressure between the inside and the outside (atmospheric pressure) of the bellows tubes 11 and 12.
a1 and a2 indicate the opening areas of the bellows tubes 11 and 12, respectively. The opening area of the bellows tube 11 is the opening area of the bellows tube 11 in a cross section substantially perpendicular to the D2 or D3 direction, and may be substantially equal to, for example, the area of the opening OP2 or OP7. The opening area of the bellows tube 12 is the opening area of the bellows tube 12 in a cross section substantially perpendicular to the D2 or D3 direction, and may be substantially equal to, for example, the area of the opening OP3 or OP9.
Here, when the insides of the bellows tubes 11 and 12 are depressurized, the bellows tubes 11 and 12 contract / expand by Δx so that F1 and F2 become equal to each other. For example, when the bellows tube 11 contracts by Δx, the bellows tube 12 expands by Δx. On the contrary, when the bellows tube 11 extends by Δx, the bellows tube 12 contracts by Δx. If the bellows tubes 11 and 12 have the same configuration, Δx becomes zero when F1 = F2, but the configurations of the bellows tubes 11 and 12 usually vary, so Δx has some value. By contracting / expanding the bellows tubes 11 and 12 by Δx, the balance of the pressures F1 and F2 of the bellows tubes 11 and 12 is maintained (F1 = F2).

以上のように、本実施形態による真空用配管10は、排気または吸気の方向に沿った軸A1に関してほぼ対称に対向する位置にベローズ管11とベローズ管12を備えている。ベローズ管11およびベローズ管12は、中心軸が軸A2とほぼ一致するように配置されている。また、真空用配管10は、軸A1に関してほぼ対称に対向する位置にベローズ管13とベローズ管14を備えている。ベローズ管13およびベローズ管14は、中心軸が軸A3とほぼ一致するように配置されている。さらに、真空用配管10は、軸A1に関してほぼ対称に対向する位置にリジッド管15とリジッド管16を備えている。ベローズ管11〜14は、ほぼ同一の構成を有する。リジッド管15,16も、ほぼ同一の構成を有する。従って、真空用配管10は、全体として軸A1に関してほぼ対称の構成を有する。 As described above, the vacuum pipe 10 according to the present embodiment includes the bellows pipe 11 and the bellows pipe 12 at positions that face each other substantially symmetrically with respect to the axis A1 along the direction of exhaust or intake. The bellows tube 11 and the bellows tube 12 are arranged so that the central axis substantially coincides with the axis A2. Further, the vacuum pipe 10 includes a bellows pipe 13 and a bellows pipe 14 at positions that face each other substantially symmetrically with respect to the axis A1. The bellows tube 13 and the bellows tube 14 are arranged so that the central axis substantially coincides with the axis A3. Further, the vacuum pipe 10 includes a rigid pipe 15 and a rigid pipe 16 at positions that face each other substantially symmetrically with respect to the axis A1. The bellows tubes 11 to 14 have substantially the same structure. The rigid tubes 15 and 16 also have substantially the same configuration. Therefore, the vacuum pipe 10 has a structure substantially symmetrical with respect to the axis A1 as a whole.

これにより、ベローズ管11〜14の伸縮方向は、電子鏡筒102と真空ポンプ117との間の排気管103および吸気管104の方向(排気または吸気方向に沿った軸A1の方向)に対してほぼ垂直方向となっている。電子鏡筒102内を真空引きしたときに、ベローズ管11〜14の伸縮力は、軸A1の方向にはほとんど印加されず、電子鏡筒102と真空ポンプ117との間を引張したり、逆に押圧したりしない。さらに、ベローズ管11とベローズ管12は、軸A1に対してほぼ対称に対向する位置に配置されているので、それらの伸縮力はほぼ相殺される。ベローズ管13とベローズ管14も、軸A1に関してほぼ対称に対向する位置に配置されているので、それらの伸縮力もほぼ相殺される。これにより、ベローズ管11〜14の伸縮力は、実質的に、軸A1に対して略垂直方向にもほとんど印加されない。 As a result, the expansion and contraction directions of the bellows tubes 11 to 14 are relative to the directions of the exhaust pipe 103 and the intake pipe 104 between the electron barrel 102 and the vacuum pump 117 (the direction of the axis A1 along the exhaust or intake direction). It is almost vertical. When the inside of the electron barrel 102 is evacuated, the expansion and contraction force of the bellows tubes 11 to 14 is hardly applied in the direction of the axis A1, and the tension between the electron barrel 102 and the vacuum pump 117 is pulled or reversed. Do not press on. Further, since the bellows tube 11 and the bellows tube 12 are arranged at positions that face each other substantially symmetrically with respect to the axis A1, their expansion and contraction forces are substantially offset. Since the bellows tube 13 and the bellows tube 14 are also arranged at positions that face each other substantially symmetrically with respect to the axis A1, their expansion and contraction forces are also substantially offset. As a result, the stretching force of the bellows tubes 11 to 14 is substantially not applied in the direction substantially perpendicular to the axis A1.

もし、ベローズ管の伸縮方向が軸A1の方向に沿っている場合あるいはベローズ管の伸縮力が軸A1に対して対称でない場合、電子鏡筒102と真空ポンプ117との間を引張したり、押圧する。この場合、電子鏡筒102が傾斜して描画精度に悪影響を与えるおそれがある。 If the expansion / contraction direction of the bellows tube is along the direction of the axis A1 or the expansion / contraction force of the bellows tube is not symmetrical with respect to the axis A1, tension or pressure is applied between the electron barrel 102 and the vacuum pump 117. To do. In this case, the electronic lens barrel 102 may be tilted, which may adversely affect the drawing accuracy.

これに対し、本実施形態による真空用配管10は、ベローズ管11〜14の伸縮力を電子鏡筒102および真空ポンプ117に伝達せず、電子鏡筒102を傾斜させない。よって、電子鏡筒102における描画精度に影響を与えない。さらに、ベローズ管11〜14は、蛇腹構造を有するので、真空ポンプ117の振動が電子鏡筒102へ伝達することを抑制することができる。その結果、電子鏡筒102における描画精度を向上させることができる。 On the other hand, the vacuum pipe 10 according to the present embodiment does not transmit the expansion / contraction force of the bellows tubes 11 to 14 to the electronic lens barrel 102 and the vacuum pump 117, and does not tilt the electronic lens barrel 102. Therefore, it does not affect the drawing accuracy of the electronic lens barrel 102. Further, since the bellows tubes 11 to 14 have a bellows structure, it is possible to suppress the vibration of the vacuum pump 117 from being transmitted to the electron barrel 102. As a result, the drawing accuracy of the electronic lens barrel 102 can be improved.

また、上述のように、真空用配管10が軸A1に関してほぼ対称の構成を有するので、電子鏡筒102内を真空引きしたときに、配管内外の差圧による圧力がベローズ管11〜14にほぼ均等に印加される。ベローズ管11〜14はほぼ同一構成を有するが、製造誤差等のばらつきを幾分有する場合がある。この場合、真空引きしたときに、ベローズ管11〜14の伸縮の長さが相互に幾分相違することによって、ベローズ管11〜14に印加される圧力がほぼ均等になり、バランスをとることができる。このとき、プレートPL1、PL2によってリジッド管15とリジッド管16との間の距離を維持した状態で、ベローズ管11〜14に印加される圧力はほぼ均等に印加される。また、プレートPL1,PL2は、ベローズ管11〜14の蛇腹部分の蛇腹状態を維持し、真空ポンプ117から電子鏡筒102への振動伝達の抑制効果を確実にする役目も果たす。 Further, as described above, since the vacuum pipe 10 has a structure substantially symmetrical with respect to the axis A1, when the inside of the electron barrel 102 is evacuated, the pressure due to the differential pressure inside and outside the pipe is substantially applied to the bellows pipes 11 to 14. It is applied evenly. The bellows tubes 11 to 14 have substantially the same configuration, but may have some variations such as manufacturing errors. In this case, when the bellows tubes 11 to 14 are evacuated, the expansion and contraction lengths of the bellows tubes 11 to 14 are slightly different from each other, so that the pressure applied to the bellows tubes 11 to 14 becomes almost equal and balanced. it can. At this time, the pressure applied to the bellows tubes 11 to 14 is applied substantially evenly while the distance between the rigid tubes 15 and the rigid tubes 16 is maintained by the plates PL1 and PL2. Further, the plates PL1 and PL2 also serve to maintain the bellows state of the bellows portions of the bellows tubes 11 to 14 and to ensure the effect of suppressing vibration transmission from the vacuum pump 117 to the electron barrel 102.

また、真空用配管10にベローズ管11〜14を用いることによって、ベローズ管11〜14と開口OP2,OP3,OP5,OP6との位置合わせによる、真空用配管10と排気管103または吸気管104との配管接続が容易になる。その結果、電子鏡筒102、真空ポンプ117および真空用配管10の組み立てに掛かる時間が短縮され得る。 Further, by using the bellows pipes 11 to 14 for the vacuum pipe 10, the vacuum pipe 10 and the exhaust pipe 103 or the intake pipe 104 are aligned by aligning the bellows pipes 11 to 14 with the openings OP2, OP3, OP5, OP6. Piping connection becomes easy. As a result, the time required for assembling the electronic lens barrel 102, the vacuum pump 117, and the vacuum pipe 10 can be shortened.

(第2実施形態)
図3(A)および図3(B)は、第2実施形態による描画装置の構成例を示す断面図である。図3(A)のB−B線に沿った断面を図3(B)に示し、図3(B)のC−C線に沿った断面を図3(A)に示す。第2実施形態では、真空用配管10は、図2の方向D1〜D6がほぼ同一の水平面内にあるように横型配置されている。
(Second Embodiment)
3 (A) and 3 (B) are cross-sectional views showing a configuration example of the drawing apparatus according to the second embodiment. A cross section along the line BB of FIG. 3 (A) is shown in FIG. 3 (B), and a cross section along the line CC of FIG. 3 (B) is shown in FIG. 3 (A). In the second embodiment, the vacuum pipes 10 are horizontally arranged so that the directions D1 to D6 in FIG. 2 are in substantially the same horizontal plane.

描画装置100は、土台210と、ダンパ220と、支持台230とをさらに備えている。電子鏡筒102およびダンパ220は、土台210上に固定されている。ダンパ220上に支持台230が載置されており、ダンパ220が土台210からの振動を遮断する。支持台230上には、真空用配管10が固定されている。 The drawing device 100 further includes a base 210, a damper 220, and a support base 230. The electronic lens barrel 102 and the damper 220 are fixed on the base 210. A support base 230 is placed on the damper 220, and the damper 220 blocks vibration from the base 210. A vacuum pipe 10 is fixed on the support base 230.

真空用配管10は、支持台230上において、ベローズ管11〜14およびリジッド管15,16がほぼ同一の水平面内に配置されるように、横向きに配置される。この場合、プレートPL1a,PL1b,PL2a,PL2bも略水平方向に延伸するように配置される。尚、プレートPL1,L2は、図2に示すように、それぞれリジッド管15,16の一側面にのみに設けられていてもよいが、図3(A)および図3(B)に示すように、それぞれリジッド管15,16の一側面とその反対側の面の両方に設けられていてもよい。以下、リジッド管15,16の一側面に設けられたプレートPL1,PL2を、PL1a,PL2aと呼び、リジッド管15,16の反対側の面に設けられたプレートPL1,PL2を、PL1b,PL2bと呼ぶ。 The vacuum pipe 10 is arranged sideways on the support base 230 so that the bellows pipes 11 to 14 and the rigid pipes 15 and 16 are arranged in substantially the same horizontal plane. In this case, the plates PL1a, PL1b, PL2a, PL2b are also arranged so as to extend in the substantially horizontal direction. As shown in FIG. 2, the plates PL1 and L2 may be provided only on one side surface of the rigid tubes 15 and 16, respectively, but as shown in FIGS. 3 (A) and 3 (B). , Each may be provided on both one side of the rigid tubes 15 and 16 and the opposite side. Hereinafter, the plates PL1 and PL2 provided on one side surface of the rigid tubes 15 and 16 are referred to as PL1a and PL2a, and the plates PL1 and PL2 provided on the opposite surfaces of the rigid tubes 15 and 16 are referred to as PL1b and PL2b. Call.

第2実施形態では、真空用配管10は、プレートPL1b,PL2bを支持台230に接触させるように配置されている。プレートPL1b,PL2bと支持台230の表面との間には、摩擦係数の低い平滑層240が設けられている。平滑層240は、プレートPL1b,PL2bと支持台230との間の摩擦を低下させ、ベローズ管11〜14の伸縮方向(D2、D3)にリジッド管15,16およびプレートPL1a,PL2a,PL1b,PL2bを支持台230上で滑らかに移動可能にする。平滑層240は、例えば、テフロン等の摩擦係数の低い材料で構成されている。これにより、電子鏡筒102を真空引きしたときに、ベローズ管11,12が収縮/伸長することができ、ベローズ管11,12の圧力F1,F2のバランスを維持することができる。 In the second embodiment, the vacuum pipe 10 is arranged so that the plates PL1b and PL2b are in contact with the support base 230. A smooth layer 240 having a low friction coefficient is provided between the plates PL1b and PL2b and the surface of the support base 230. The smooth layer 240 reduces the friction between the plates PL1b and PL2b and the support 230, and the rigid tubes 15 and 16 and the plates PL1a, PL2a, PL1b and PL2b in the expansion and contraction directions (D2 and D3) of the bellows tubes 11 to 14 Allows smooth movement on the support 230. The smooth layer 240 is made of a material having a low coefficient of friction, such as Teflon. As a result, when the electron barrel 102 is evacuated, the bellows tubes 11 and 12 can be contracted / expanded, and the balance of the pressures F1 and F2 of the bellows tubes 11 and 12 can be maintained.

第2実施形態のその他の構成は、第1実施形態の対応する構成と同様でよい。真空用配管10、電子鏡筒102および真空ポンプ117の構成も、第1実施形態のそれらの構成と同様でよい。また、第2実施形態の動作は、プレートPL1a,PL2a,PL1b,PL2bが指示台230上を移動する点以外は第1実施形態の動作と同様でよい。これにより、第2実施形態は、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。 Other configurations of the second embodiment may be the same as the corresponding configurations of the first embodiment. The configurations of the vacuum pipe 10, the electronic lens barrel 102, and the vacuum pump 117 may be the same as those of the first embodiment. The operation of the second embodiment may be the same as that of the first embodiment except that the plates PL1a, PL2a, PL1b, and PL2b move on the indicator table 230. Thereby, the second embodiment can obtain the same effect as the first embodiment.

(第3実施形態)
図4(A)および図4(B)は、第3実施形態による描画装置の構成例を示す断面図である。図4(A)のB−B線に沿った断面を図4(B)に示し、図4(B)のC−C線に沿った断面を図4(A)に示す。第3実施形態は、ベローズ管11〜14の伸縮方向にリジッド管15,16およびプレートPL1a,PL1b,PL2a,PL2bを移動可能にするガイド250を備えている。第3実施形態のその他の構成は、第2実施形態の対応する構成と同様でよい。
(Third Embodiment)
4 (A) and 4 (B) are cross-sectional views showing a configuration example of the drawing apparatus according to the third embodiment. A cross section along the line BB of FIG. 4 (A) is shown in FIG. 4 (B), and a cross section of FIG. 4 (B) along the line CC is shown in FIG. 4 (A). The third embodiment includes rigid tubes 15 and 16 and guides 250 that allow the plates PL1a, PL1b, PL2a, and PL2b to move in the expansion and contraction directions of the bellows tubes 11 to 14. Other configurations of the third embodiment may be the same as the corresponding configurations of the second embodiment.

ガイド250は、例えば、支持台230上に固定されたガイドレール251と、プレートPL1b,PL2bに固定されたローラ252とを含む。ガイドレール251は、ベローズ管11〜14の伸縮方向(D2、D3)に延伸するように設けられている。ローラ252は、ガイドレール251に沿ってベローズ管11〜14の伸縮方向に移動可能である。 The guide 250 includes, for example, a guide rail 251 fixed on the support base 230 and a roller 252 fixed to the plates PL1b and PL2b. The guide rail 251 is provided so as to extend in the expansion / contraction direction (D2, D3) of the bellows pipes 11 to 14. The roller 252 can move along the guide rail 251 in the expansion / contraction direction of the bellows tubes 11-14.

第3実施形態では、ローラ252がガイドレール251上を移動することによって、ベローズ管11,12が収縮/伸長することができ、ベローズ管11,12の圧力F1,F2のバランスを維持することができる。 In the third embodiment, the bellows tubes 11 and 12 can be contracted / expanded by the roller 252 moving on the guide rail 251 to maintain the balance of the pressures F1 and F2 of the bellows tubes 11 and 12. it can.

第3実施形態のその他の構成は、第2実施形態の対応する構成と同様でよい。真空用配管10、電子鏡筒102および真空ポンプ117の構成は、第1実施形態のそれらの構成と同様でよい。また、第3実施形態の動作は、プレートPL1b,PL2bに固定されたローラ252がガイドレール251上を移動する点以外は第2実施形態の動作と同様でよい。これにより、第3実施形態は、第1または第2実施形態と同様の効果を得ることができる。 Other configurations of the third embodiment may be the same as the corresponding configurations of the second embodiment. The configurations of the vacuum pipe 10, the electronic lens barrel 102, and the vacuum pump 117 may be the same as those of the first embodiment. Further, the operation of the third embodiment may be the same as the operation of the second embodiment except that the roller 252 fixed to the plates PL1b and PL2b moves on the guide rail 251. Thereby, the third embodiment can obtain the same effect as the first or second embodiment.

(第4実施形態)
図5(A)および図5(B)は、第4実施形態による描画装置の構成例を示す図である。図5(A)は、描画装置の側面を示し、図5(B)は、図5(A)のB−B線に沿った断面を示す。第4実施形態による真空用配管10は、ベローズ管11〜14の伸縮方向が略鉛直方向となるように縦向きに配置されている。リジッド管15,16およびプレートPL1a,PL1b,PL2a,PL2bを略鉛直方向に移動可能にするために、ガイド330a,330b,340a,340bがプレートPL1a,PL1b,PL2a,PL2bに沿ってそれぞれに対応するように設けられている。ガイド330a,330b,340a,340bは、それぞれ支持台230に固定された支柱331と、プレートPL1a〜PL2bに固定され支柱331を挿入するリング332とを有する。ガイド330a,330b,340a,340bは、リング332が支柱331を略鉛直方向に滑動することによって、プレートPL1a,PL1b,PL2a,PL2bを移動させることができる。
(Fourth Embodiment)
5 (A) and 5 (B) are diagrams showing a configuration example of the drawing apparatus according to the fourth embodiment. 5 (A) shows a side surface of the drawing apparatus, and FIG. 5 (B) shows a cross section along the line BB of FIG. 5 (A). The vacuum pipe 10 according to the fourth embodiment is arranged vertically so that the expansion and contraction directions of the bellows pipes 11 to 14 are substantially vertical. Guides 330a, 330b, 340a, 340b correspond along the plates PL1a, PL1b, PL2a, PL2b, respectively, to allow the rigid tubes 15, 16 and the plates PL1a, PL1b, PL2a, PL2b to move substantially vertically. It is provided as follows. The guides 330a, 330b, 340a, and 340b each have a support column 331 fixed to the support base 230 and a ring 332 fixed to the plates PL1a to PL2b into which the support column 331 is inserted. The guides 330a, 330b, 340a, and 340b can move the plates PL1a, PL1b, PL2a, and PL2b by the ring 332 sliding the support column 331 in the substantially vertical direction.

しかし、真空用配管10を縦方向に配置した場合、電子鏡筒102内が減圧されていない状態であっても、リジッド管15,16およびプレートPL1a,PL1b,PL2a,PL2bの重さによって、ベローズ管11および13が収縮しかつベローズ管12および14が伸長してしまう。即ち、リジッド管15,16およびプレートPL1a,PL1b,PL2a,PL2bがその自重によって鉛直下方向へ移動し、オフセットが生じてしまう。 However, when the vacuum pipe 10 is arranged in the vertical direction, even if the inside of the electron barrel 102 is not decompressed, the bellows are due to the weight of the rigid tubes 15 and 16 and the plates PL1a, PL1b, PL2a and PL2b. The tubes 11 and 13 contract and the bellows tubes 12 and 14 expand. That is, the rigid tubes 15 and 16 and the plates PL1a, PL1b, PL2a, PL2b move vertically downward due to their own weight, and an offset occurs.

そこで、第4実施形態では、真空用配管10と支持台230との間に弾性部材としてのバネ構造体310,320が設けられている。バネ構造体310,320は、電子鏡筒102内が減圧されていない状態において、ベローズ管11〜14の伸縮方向の長さをほぼ等しくするように、リジッド管15,16を支持する。これにより、リジッド管15,16およびプレートPL1a,PL1b,PL2a,PL2bのオフセットをキャンセルすることができる。第4実施形態のその他の構成は、第2または第3実施形態の対応する構成と同様である。尚、弾性部材は、ゴムやダンパ等の真空用配管10を弾性的に支持可能な部材であればよい。 Therefore, in the fourth embodiment, the spring structures 310 and 320 as elastic members are provided between the vacuum pipe 10 and the support base 230. The spring structures 310 and 320 support the rigid tubes 15 and 16 so that the lengths of the bellows tubes 11 to 14 in the expansion and contraction direction are substantially equal to each other when the inside of the electron barrel 102 is not depressurized. Thereby, the offsets of the rigid tubes 15 and 16 and the plates PL1a, PL1b, PL2a and PL2b can be canceled. Other configurations of the fourth embodiment are similar to the corresponding configurations of the second or third embodiment. The elastic member may be a member that can elastically support the vacuum pipe 10 such as rubber or a damper.

第4実施形態のように、真空用配管10を縦型配置しても、本実施形態の効果は失われない。また、真空用配管10を縦型配置することによって、描画装置の設置面積を低減させることができる。 Even if the vacuum pipe 10 is arranged vertically as in the fourth embodiment, the effect of the present embodiment is not lost. Further, by arranging the vacuum pipe 10 vertically, the installation area of the drawing device can be reduced.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 Although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, as well as in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof.

100 描画装置、150 描画部、101 描画室、102 電子鏡筒、103 排気管、117 真空ポンプ、10 真空用配管、11〜14 ベローズ管、15,16 リジッド管、PL1,PL2 プレート、240 平滑層、250,330a,330b,340a,340b ガイド、310,320 バネ構造体 100 Drawing device, 150 Drawing unit, 101 Drawing room, 102 Electron beam, 103 Exhaust pipe, 117 Vacuum pump, 10 Vacuum pipe, 11-14 Bellows tube, 15,16 Rigid tube, PL1, PL2 plate, 240 Smooth layer , 250, 330a, 330b, 340a, 340b guide, 310, 320 spring structure

Claims (5)

荷電粒子を処理対象に照射するチャンバと、
前記チャンバに接続される真空用配管と、
前記真空用配管に接続され、前記真空用配管を介して前記チャンバ内を減圧する減圧装置と、を備え、
前記チャンバは、前記真空用配管と接続される排気部を有し、
前記減圧装置は、前記真空用配管と接続される吸気部とを有し、
前記真空用配管は、
前記排気部と接続し、所定方向に伸縮可能な第1配管および第2配管と、
前記第1配管と接続し、中心軸が前記所定方向と垂直な第3配管と、
前記第2配管と接続し、中心軸が前記第3配管と平行で前記所定方向と垂直な第4配管と、
それぞれ前記第3配管、前記第4配管と接続するとともに前記吸気部と接続し、それぞれ前記所定方向に伸縮可能な第5配管および第6配管と、を含む、荷電粒子ビーム装置。
A chamber that irradiates the object to be processed with charged particles,
The vacuum pipe connected to the chamber and
A decompression device which is connected to the vacuum pipe and decompresses the inside of the chamber through the vacuum pipe is provided.
The chamber has an exhaust section connected to the vacuum pipe.
The decompression device has an intake unit connected to the vacuum pipe.
The vacuum pipe is
A first pipe and a second pipe that are connected to the exhaust unit and can expand and contract in a predetermined direction,
A third pipe that is connected to the first pipe and whose central axis is perpendicular to the predetermined direction,
A fourth pipe that is connected to the second pipe and whose central axis is parallel to the third pipe and perpendicular to the predetermined direction.
A charged particle beam device including a fifth pipe and a sixth pipe which are connected to the third pipe and the fourth pipe and are connected to the intake unit and can be expanded and contracted in a predetermined direction, respectively.
前記第1配管の中心軸と前記第2配管の中心軸とは、ほぼ一致しており、
前記第5配管の中心軸と前記第6配管の中心軸とは、ほぼ一致しており、
前記第1配管および前記第2配管は、ほぼ同一の構成を有し、所定の軸に関して対称な位置に配置されており、
前記第5配管および前記第6配管は、ほぼ同一の構成を有し、前記所定の軸に関して対称な位置に配置されている、請求項1に記載の荷電粒子ビーム装置。
The central axis of the first pipe and the central axis of the second pipe are substantially the same.
The central axis of the fifth pipe and the central axis of the sixth pipe are substantially the same.
The first pipe and the second pipe have substantially the same configuration and are arranged symmetrically with respect to a predetermined axis.
The charged particle beam device according to claim 1, wherein the fifth pipe and the sixth pipe have substantially the same configuration and are arranged at symmetrical positions with respect to the predetermined axis.
前記第3配管と前記第4配管との間に設けられ、前記第3配管と前記第4配管との距離を固定するプレートをさらに備えた、請求項1または請求項2に記載の荷電粒子ビーム装置。 The charged particle beam according to claim 1 or 2, further provided with a plate provided between the third pipe and the fourth pipe and fixing the distance between the third pipe and the fourth pipe. apparatus. 前記プレートは、前記所定方向に移動可能である請求項3に記載の荷電粒子ビーム装置。 The charged particle beam device according to claim 3, wherein the plate is movable in the predetermined direction. 減圧装置と排気部との間を配管接続する真空用配管であって、
前記チャンバに接続される排気部と、
前記排気部に接続され、所定方向に伸縮可能な第1配管および第2配管と、
前記第1配管と接続され、中心軸が前記所定方向と垂直な第3配管と、
前記第2配管と接続され、中心軸が前記所定方向と垂直な第4配管と、
前記第3配管と接続され、前記所定方向に伸縮可能な第5配管と、
前記第4配管と接続され、前記所定方向に伸縮可能な第6配管と、
前記第5配管および前記第6配管と接続されるとともに、前記減圧装置に接続される吸気部と、を含む、真空用配管。
A vacuum pipe that connects the decompression device and the exhaust unit.
The exhaust unit connected to the chamber and
A first pipe and a second pipe that are connected to the exhaust unit and can expand and contract in a predetermined direction,
A third pipe connected to the first pipe and whose central axis is perpendicular to the predetermined direction,
A fourth pipe connected to the second pipe and whose central axis is perpendicular to the predetermined direction,
A fifth pipe that is connected to the third pipe and can expand and contract in the predetermined direction,
A sixth pipe that is connected to the fourth pipe and can expand and contract in the predetermined direction,
A vacuum pipe including an intake unit connected to the fifth pipe and the sixth pipe and connected to the decompression device.
JP2019150243A 2019-08-20 2019-08-20 Charged particle beam equipment and vacuum piping Active JP7257915B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019150243A JP7257915B2 (en) 2019-08-20 2019-08-20 Charged particle beam equipment and vacuum piping

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019150243A JP7257915B2 (en) 2019-08-20 2019-08-20 Charged particle beam equipment and vacuum piping

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021034147A true JP2021034147A (en) 2021-03-01
JP7257915B2 JP7257915B2 (en) 2023-04-14

Family

ID=74678780

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019150243A Active JP7257915B2 (en) 2019-08-20 2019-08-20 Charged particle beam equipment and vacuum piping

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7257915B2 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5692396A (en) * 1979-12-26 1981-07-27 Hitachi Ltd Vacuum exhaust device
JPH04128578A (en) * 1990-09-19 1992-04-30 Toyo Eng Corp Vacuum pump
JP2004253374A (en) * 2003-01-28 2004-09-09 Hitachi Ltd Electron microscope
JP2007165232A (en) * 2005-12-16 2007-06-28 Hitachi High-Technologies Corp Charged particle beam device
JP2018044474A (en) * 2016-09-13 2018-03-22 コベルコ建機株式会社 Exhaust pipe for construction machine, assembling method for exhaust pipe, and construction machine equipped with exhaust pipe
JP2019160449A (en) * 2018-03-08 2019-09-19 株式会社荏原製作所 Vacuum connection mechanism and electro-optical device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5692396A (en) * 1979-12-26 1981-07-27 Hitachi Ltd Vacuum exhaust device
JPH04128578A (en) * 1990-09-19 1992-04-30 Toyo Eng Corp Vacuum pump
JP2004253374A (en) * 2003-01-28 2004-09-09 Hitachi Ltd Electron microscope
JP2007165232A (en) * 2005-12-16 2007-06-28 Hitachi High-Technologies Corp Charged particle beam device
JP2018044474A (en) * 2016-09-13 2018-03-22 コベルコ建機株式会社 Exhaust pipe for construction machine, assembling method for exhaust pipe, and construction machine equipped with exhaust pipe
JP2019160449A (en) * 2018-03-08 2019-09-19 株式会社荏原製作所 Vacuum connection mechanism and electro-optical device

Also Published As

Publication number Publication date
JP7257915B2 (en) 2023-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6674085B2 (en) Gas-actuated stages including reaction-force-canceling mechanisms for use in charged-particle-beam microlithography systems
US6732610B2 (en) Slide apparatus and its stage mechanism for use in vacuum
TW446998B (en) Parallel link mechanism, exposure system and method of manufacturing the same, and method of manufacturing devices
WO2010013671A1 (en) Exposure method and system, and device manufacturing method
WO2008041575A1 (en) Stage device and exposure device
JP6551762B2 (en) Mobile body apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing flat panel display, and method of manufacturing device
JP6262811B2 (en) Vacuum deposition system
JP2007165232A (en) Charged particle beam device
US7207720B2 (en) Static gas bearing system, stage mechanism, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP7257915B2 (en) Charged particle beam equipment and vacuum piping
KR101670314B1 (en) Patterning device manipulating system and lithographic apparatuses
JP6566192B2 (en) Anti-vibration apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP6610890B2 (en) Charged particle beam exposure apparatus and device manufacturing method
CN110892333B (en) Particle suppression systems and methods
US20040169832A1 (en) Vacuum chamber having instrument-mounting bulkhead exhibiting reduced deformation in response to pressure differential, and energy-beam systems comprising same
US7289192B2 (en) Projection exposure device
US20030043357A1 (en) Vacuum chamber having instrument- mounting bulkhead exhibiting reduced deformation in response to pressure differential, and energy-beam systems comprising same
US20060124864A1 (en) Air bearing compatible with operation in a vacuum
US8779635B2 (en) Arrangement of reticle positioning device for actinic inspection of EUV reticles
US20160056009A1 (en) Charged-particle beam drawing apparatus and vibration damping mechanism
US11249403B2 (en) Vibration isolation system and lithographic apparatus
JP2010219373A (en) Lithography apparatus
JP2001044107A (en) Sliding device for vacuum and stage mechanism thereof
TW201603105A (en) Charged particle beam drawing apparatus
JP2015038967A (en) Charged particle beam lithography apparatus and drawing chamber

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220222

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221115

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221207

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230307

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230404

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7257915

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150