JP2021015925A - Multilayer ceramic capacitor - Google Patents

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Shinichi Yamaguchi
晋一 山口
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Abstract

To provide a multilayer ceramic capacitor exhibiting excellent durability and excellent dielectric characteristics even when a dielectric layer becomes thinner and a voltage of high electric field intensity is applied.SOLUTION: A multilayer ceramic capacitor 10 includes a multilayer body 12. The multilayer body 12 includes an inner layer portion 16 including from an inner electrode layer 22 located closest to a first main surface 12a side to an inner electrode layer 22 located closest to a second main surface 12b side, a first main surface side outer layer portion 18a located on the first main surface 12a side of the inner layer portion 16, and a second main surface side outer layer portion 18b located on the second main surface 12b side of the inner layer portion 16. Only in the inner electrode layer 22 in contact with the first and second main surface side outer layer portions 18a and 18b, Cu is solved in a solid solution of Ni of the inner electrode layer 22. When a total of Ni and Cu in the inner electrode layer 22 in contact with the first and second main surface side outer layer portions 18a and 18b is set to be 100 mol, a content of Cu is equal to or more than 0.1 mol and equal to or less than 8.61 mol.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、積層セラミック電子部品、特に、積層セラミックコンデンサに関する。 The present invention relates to monolithic ceramic electronic components, especially monolithic ceramic capacitors.

近年、エレクトロニクス技術の進展に伴い、積層セラミックコンデンサには、小型化および大容量化が要求されている。これらの要求を満たすために、積層セラミックコンデンサを構成する誘電体層の薄層化が進められている。しかし、誘電体層を薄層化すると、1層あたりに加わる電界強度が相対的に高くなる。よって、電圧印加時における耐久性、信頼性の向上が求められる。 In recent years, with the progress of electronics technology, multilayer ceramic capacitors are required to be smaller and have a larger capacity. In order to meet these requirements, the dielectric layer constituting the multilayer ceramic capacitor is being thinned. However, when the dielectric layer is thinned, the electric field strength applied to each layer becomes relatively high. Therefore, it is required to improve durability and reliability when a voltage is applied.

積層セラミックコンデンサとしては、例えば、積層されている複数の誘電体層と、誘電体層間の界面に沿って形成されている複数の内部電極とを有する積層体と、積層体の外表面に形成され、内部電極と電気的に接続されている複数の外部電極とを備えた積層セラミックコンデンサが知られている(特許文献1を参照)。そして、この特許文献1の積層セラミックコンデンサにおいては、内部電極として、Niを主成分として用いたものが開示されている。 The multilayer ceramic capacitor is formed on, for example, a laminate having a plurality of laminated dielectric layers and a plurality of internal electrodes formed along the interface between the dielectric layers, and an outer surface of the laminate. , A monolithic ceramic capacitor including a plurality of external electrodes electrically connected to an internal electrode is known (see Patent Document 1). Further, in the multilayer ceramic capacitor of Patent Document 1, a capacitor using Ni as a main component is disclosed as an internal electrode.

特開平11−283867号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-283867

しかしながら、Niを主成分として用いた内部電極を備える、上記特許文献1の積層セラミックコンデンサにおいては、近年の小型化および大容量化の要求に応えるためには、高電圧印加時における耐久性が未だ不十分であるという問題がある。 However, the multilayer ceramic capacitor of Patent Document 1 provided with an internal electrode using Ni as a main component still has durability when a high voltage is applied in order to meet the recent demand for miniaturization and large capacity. There is a problem of inadequacy.

それゆえに、この発明の主たる目的は、誘電体層がより薄層化し、高電界強度の電圧が印加された場合にも、優れた耐久性と、良好な誘電体特性を示す積層セラミックコンデンサを提供することである。 Therefore, a main object of the present invention is to provide a monolithic ceramic capacitor that exhibits excellent durability and good dielectric properties even when the dielectric layer is thinner and a voltage with high electric field strength is applied. It is to be.

この発明にかかる積層セラミックコンデンサは、積層された複数の誘電体層を含み、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、を含む積層体と、複数の誘電体層と交互に積層され、第1の端面に露出する第1の内部電極層および第2の端面に露出する第2の内部電極層と、第1の内部電極層に接続され、第1の端面上に配置された第1の外部電極と、第2の内部電極層に接続され、第2の端面上に配置された第2の外部電極と、を有する積層セラミックコンデンサにおいて、積層体が、積層方向において、最も第1の主面側に位置する第1の内部電極層または第2の内部電極層から最も第2の主面側に位置する第1の内部電極層または第2の内部電極層までを含む内層部と、第1の主面側に位置し、第1の主面と第1の主面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第1の主面側外層部と、第2の主面側に位置し、第2の主面と第2の主面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の主面側外層部と、第1の側面側に位置し、第1の側面と第1の側面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第1の側面側外層部と、第2の側面側に位置し、第2の側面と第2の側面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の側面側外層部と、を有し、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部と接する内層部の第1の内部電極層または第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部と接する内層部の第1の内部電極層または第2の内部電極層(Cuが固溶する第1の内部電極層または第2の内部電極層)におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.1mol以上8.61mol以下である、積層セラミックコンデンサである。 The multilayer ceramic capacitor according to the present invention includes a plurality of laminated dielectric layers, and has a first main surface and a second main surface facing the stacking direction and a first surface facing the width direction orthogonal to the stacking direction. A laminated body including the side surface and the second side surface, and a first end face and a second end face facing each other in the length direction orthogonal to the stacking direction and the width direction, and a plurality of dielectric layers are alternately laminated. , A first internal electrode layer exposed on the first end face, a second internal electrode layer exposed on the second end face, and a first arranged on the first end face connected to the first internal electrode layer. In a multilayer ceramic capacitor having an external electrode of 1 and a second external electrode connected to a second internal electrode layer and arranged on a second end face, the laminate is the first in the lamination direction. With an inner layer portion including the first internal electrode layer or the second internal electrode layer located on the main surface side of the capacitor to the first internal electrode layer or the second internal electrode layer located on the second main surface side. , The first main surface side formed from a plurality of dielectric layers located on the first main surface side and located between the first main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first main surface side. A second layer formed of a plurality of dielectric layers located on the outer layer portion and the second main surface side and located between the second main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the second main surface side. A first formed of a plurality of dielectric layers located on the main surface side outer layer portion and the first side surface side and located between the first side surface and the outermost surface of the first side surface side inner layer portion. A second side surface formed from a plurality of dielectric layers located on the side surface side outer layer portion and the second side surface side and located between the second side surface and the outermost surface of the second side surface side inner layer portion. Cu is hardened only in the first inner electrode layer or the second inner electrode layer of the inner layer portion which has a side outer layer portion and is in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. The first internal electrode layer or the second internal electrode layer (the first internal where Cu is melted), which is melted and is in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. This is a multilayer ceramic capacitor in which the Cu content in the electrode layer or the second internal electrode layer) is 0.1 mol or more and 8.61 mol or less when the total of Ni and Cu is 100 mol.

この発明にかかる積層セラミックコンデンサは、積層された複数の誘電体層を含み、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、を含む積層体と、複数の誘電体層と交互に積層され、第1の端面に露出する第1の内部電極層および第2の端面に露出する第2の内部電極層と、第1の内部電極層に接続され、第1の端面上に配置された第1の外部電極と、第2の内部電極層に接続され、第2の端面上に配置された第2の外部電極と、を有する積層セラミックコンデンサにおいて、積層体が、積層方向において、最も第1の主面側に位置する第1の内部電極層または第2の内部電極層から最も第2の主面側に位置する第1の内部電極層または第2の内部電極層までを含む内層部と、第1の主面側に位置し、第1の主面と第1の主面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第1の主面側外層部と、第2の主面側に位置し、第2の主面と第2の主面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の主面側外層部と、第1の側面側に位置し、第1の側面と第1の側面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第1の側面側外層部と、第2の側面側に位置し、第2の側面と第2の側面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の側面側外層部と、を有し、内層部における第1の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内の第1の内部電極層または第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、第1の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極側に5μm入った領域内の第1の内部電極層および第2の内部電極層(Cuが固溶する前記第1の内部電極層または前記第2の内部電極層)におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.11mol以上8.44mol以下である、積層セラミックコンデンサである。 The multilayer ceramic capacitor according to the present invention includes a plurality of laminated dielectric layers, and has a first main surface and a second main surface facing the stacking direction and a first surface facing the width direction orthogonal to the stacking direction. A laminate including the side surfaces and the second side surface, and the first end face and the second end face facing each other in the length direction orthogonal to the stacking direction and the width direction, and the plurality of dielectric layers are alternately laminated. , A first internal electrode layer exposed on the first end face, a second internal electrode layer exposed on the second end face, and a first surface connected to the first internal electrode layer and arranged on the first end face. In a multilayer ceramic capacitor having an external electrode of 1 and a second external electrode connected to a second internal electrode layer and arranged on a second end face, the laminate is the first in the lamination direction. With an inner layer portion including from the first internal electrode layer or the second internal electrode layer located on the main surface side of the above to the first internal electrode layer or the second internal electrode layer located on the most second main surface side. , The first main surface side formed from a plurality of dielectric layers located on the first main surface side and located between the first main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first main surface side. A second layer formed of a plurality of dielectric layers located on the outer layer portion and the second main surface side and located between the second main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the second main surface side. A first formed of a plurality of dielectric layers located on the main surface side outer layer portion and the first side surface side and located between the first side surface and the outermost surface of the first side surface side inner layer portion. A second side surface formed from a plurality of dielectric layers located on the side surface side outer layer portion and the second side surface side and located between the second side surface and the outermost surface of the second side surface side inner layer portion. A region having a side outer layer portion and 5 μm in the inner electrode layer side from the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side in the inner layer portion and the innermost layer portion on the second side surface side. Cu is dissolved only in the first internal electrode layer or the second internal electrode layer in the region 5 μm on the internal electrode layer side in the width direction from the surface, and the inner layer portion on the first side surface side. The first in the region containing 5 μm on the inner electrode layer side from the outermost surface in the width direction and in the region containing 5 μm on the inner electrode layer side in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. The content of Cu in the internal electrode layer and the second internal electrode layer (the first internal electrode layer in which Cu is dissolved or the second internal electrode layer) is 100 mol when the total of Ni and Cu is 100 mol. , 0.11 mol or more and 8.44 mol or less, which is a multilayer ceramic capacitor.

この発明にかかる積層セラミックコンデンサは、積層された複数の誘電体層を含み、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、を含む積層体と、複数の誘電体層と交互に積層され、第1の端面に露出する第1の内部電極層および第2の端面に露出する第2の内部電極層と、第1の内部電極層に接続され、第1の端面上に配置された第1の外部電極と、第2の内部電極に接続され、第2の端面上に配置された第2の外部電極と、を有する積層セラミックコンデンサにおいて、積層体が、積層方向において、最も第1の主面側に位置する第1の内部電極層または第2の内部電極層から最も第2の主面側に位置する第1の内部電極層または第2の内部電極層までを含む内層部と、第1の主面側に位置し、第1の主面と第1の主面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第1の主面側外層部と、第2の主面側に位置し、第2の主面と第2の主面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の主面側外層部と、第1の側面側に位置し、第1の側面と第1の側面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第1の側面側外層部と、第2の側面側に位置し、第2の側面と第2の側面側の内層部の最表面との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の側面側外層部と、を有し、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部と接する内層部の第1の内部電極層または第2の内部電極層、並びに、内層部における第1の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に向かって5μm入った領域内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって5μm入った領域内の第1の内部電極層または第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部に接する第1の内部電極層および第2の内部電極層におけるNiとSnとの合計を100molとしたときのSnの含有量が、0.1mol以上8.61mol以上であり、第1の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内の第1の内部電極層および第2の内部電極層におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.11mol以上8.44mol以下である、積層セラミックコンデンサである。 The multilayer ceramic capacitor according to the present invention includes a plurality of laminated dielectric layers, and has a first main surface and a second main surface facing the stacking direction and a first surface facing the width direction orthogonal to the stacking direction. A laminate including the side surfaces and the second side surface, and the first end face and the second end face facing each other in the length direction orthogonal to the stacking direction and the width direction, and the plurality of dielectric layers are alternately laminated. , A first internal electrode layer exposed on the first end face, a second internal electrode layer exposed on the second end face, and a first surface connected to the first internal electrode layer and arranged on the first end face. In a multilayer ceramic capacitor having one external electrode and a second external electrode connected to a second internal electrode and disposed on a second end face, the laminate is the first in the lamination direction. An inner layer portion including a first internal electrode layer or a second internal electrode layer located on the main surface side to a first internal electrode layer or a second internal electrode layer located on the second main surface side. A first main surface side outer layer formed from a plurality of dielectric layers located on the first main surface side and between the first main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first main surface side. A second main surface formed from a plurality of dielectric layers located on the second main surface side and between the second main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the second main surface side. A first side surface formed from a plurality of dielectric layers located on the surface side outer layer portion and the first side surface side and located between the first side surface and the outermost surface of the first side surface side inner layer portion. A second side surface side formed from a plurality of dielectric layers located on the side outer layer portion and the second side surface side and located between the second side surface and the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. The first inner electrode layer or the second inner electrode layer of the inner layer portion which has an outer layer portion and is in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion, and the second inner layer portion. Within the region containing 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion on the side surface side of 1 toward the inner electrode layer side and the region containing 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side in the width direction. Cu is dissolved only in the first internal electrode layer or the second internal electrode layer, and the first internal electrode is in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. When the total of Ni and Sn in the layer and the second internal electrode layer is 100 mol, the Sn content is 0.1 mol or more and 8.61 mol or more, from the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side. The first interior in the region containing 5 μm on the inner electrode layer side in the width direction and in the region containing 5 μm on the inner electrode layer side in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. A multilayer ceramic capacitor having a Cu content of 0.11 mol or more and 8.44 mol or less when the total of Ni and Cu in the electrode layer and the second internal electrode layer is 100 mol.

この発明にかかる積層セラミックコンデンサによれば、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部と接する内層部の第1の内部電極層または第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部と接する内層部の第1の内部電極層または第2の内部電極層(Cuが固溶する第1の内部電極層または第2の内部電極層)におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.1mol以上8.61mol以下であるので、上記の所定の内部電極層のNiにCuが固溶することとなり、内部電極層の所定の位置においてNi−Cu合金が形成されるので、その結果、内部電極層と外部電極との拡散係数の差を小さくすることができるために、外部電極を焼付する際の内部電極層と外部電極との拡散係数差によって生じる外部電極と内部電極層との接合部に空隙が形成されることを抑制することが可能となることによって、その後のセラミックコンデンサの製造工程のめっき処理や、セラミックコンデンサの使用環境において、めっき液の浸入や水分の侵入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができ、積層セラミックコンデンサの高温負荷寿命を向上させることが可能となる。 According to the multilayer ceramic capacitor according to the present invention, Cu is applied only to the first internal electrode layer or the second internal electrode layer of the inner layer portion in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. Is solid-dissolved, and the first internal electrode layer or the second internal electrode layer (the first in which Cu is solid-dissolved) of the inner layer portion in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. The Cu content in the internal electrode layer or the second internal electrode layer) is 0.1 mol or more and 8.61 mol or less when the total of Ni and Cu is 100 mol. Therefore, the above-mentioned predetermined internal electrode layer Cu is dissolved in Ni, and a Ni—Cu alloy is formed at a predetermined position on the internal electrode layer. As a result, the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer and the external electrode can be reduced. Therefore, it is possible to suppress the formation of voids at the joint between the external electrode and the internal electrode layer caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer and the external electrode when the external electrode is baked. In the subsequent plating process in the manufacturing process of ceramic capacitors and in the environment where ceramic capacitors are used, deterioration of insulation resistance due to infiltration of plating solution and invasion of moisture can be suppressed, and the high temperature load life of multilayer ceramic capacitors is improved. It becomes possible.

この発明にかかる積層セラミックコンデンサによれば、内層部における第1の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極側に5μm入った領域内の第1の内部電極層または第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、第1の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内の第1の内部電極層および第2の内部電極層(Cuが固溶する第1の内部電極層または第2の内部電極層)におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.11mol以上8.44mol以下であるので、上記の所定の内部電極のNiにCuが固溶することとなり、内部電極層の所定の位置においてNi−Cu合金が形成されるので、その結果、内部電極層と外部電極との拡散係数の差を小さくすることができるために、外部電極を焼付する際の内部電極と外部電極との拡散係数差によって生じる外部電極と内部電極層との接合部に空隙が形成されることを抑制することが可能となることによって、その後のセラミックコンデンサの製造工程のめっき処理や、セラミックコンデンサの使用環境において、めっき液の浸入や水分の侵入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができ、積層セラミックコンデンサの高温負荷寿命を向上させることが可能となる。 According to the multilayer ceramic capacitor according to the present invention, the inner layer portion in the region in which 5 μm is formed in the inner electrode layer side in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side in the inner layer portion and the inner layer portion on the second side surface side. Cu is solid-dissolved only in the first internal electrode layer or the second internal electrode layer in the region 5 μm on the internal electrode side from the outermost surface in the width direction, and the inner layer on the first side surface side. The first in the region containing 5 μm on the inner electrode layer side in the width direction from the outermost surface of the portion and in the region containing 5 μm on the inner electrode layer side in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. The Cu content when the total of Ni and Cu in the internal electrode layer 1 and the second internal electrode layer (the first internal electrode layer in which Cu is solidified or the second internal electrode layer) is 100 mol. Since it is 0.11 mol or more and 8.44 mol or less, Cu is solidified in Ni of the above-mentioned predetermined internal electrode, and a Ni—Cu alloy is formed at a predetermined position of the internal electrode layer. Since the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer and the external electrode can be reduced, the bonding between the external electrode and the internal electrode layer caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode and the external electrode when the external electrode is baked. By making it possible to suppress the formation of voids in the portions, the insulation resistance due to the infiltration of the plating solution and the intrusion of moisture in the subsequent plating process in the manufacturing process of the ceramic capacitor and the usage environment of the ceramic capacitor Deterioration can be suppressed, and the high-temperature load life of the multilayer ceramic capacitor can be improved.

この発明にかかる積層セラミックコンデンサによれば、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部と接する内層部の第1の内部電極層または第2の内部電極層、並びに、内層部における第1の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極側に向かって5μm入った領域内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって5μm入った領域内の第1の内部電極層または第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部に接する第1の内部電極層および第2の内部電極層におけるNiとSnとの合計を100molとしたときのSnの含有量が、0.1mol以上8.61mol以上であり、第1の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内の第1の内部電極層および第2の内部電極層におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.11mol以上8.44mol以下なので、上記の所定の内部電極のNiにCuが固溶することとなり、内部電極層の所定の位置においてNi−Cu合金が形成されるので、その結果、内部電極層と外部電極との拡散係数の差を小さくすることができる。そのため、外部電極を焼付する際の内部電極層と外部電極との拡散係数差によって生じる外部電極と内部電極層との接合部に空隙が形成されることを抑制することが可能となり、その後のセラミックコンデンサの製造工程のめっき処理や、セラミックコンデンサの使用環境において、めっき液の浸入や水分の侵入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができ、積層セラミックコンデンサの高温負荷寿命を向上させることが可能となる。 According to the multilayer ceramic capacitor according to the present invention, the first inner electrode layer or the second inner electrode layer and the inner layer of the inner layer portion in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. In the region containing 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side toward the inner electrode side in the width direction, and 5 μm in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. Cu is solid-dissolved only in the first internal electrode layer or the second internal electrode layer in the region, and is in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. When the total of Ni and Sn in the inner electrode layer and the second inner electrode layer is 100 mol, the Sn content is 0.1 mol or more and 8.61 mol or more, which is the maximum of the inner layer portion on the first side surface side. The first interior in the region containing 5 μm on the inner electrode layer side in the width direction from the surface and in the region containing 5 μm on the inner electrode layer side in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. When the total of Ni and Cu in the electrode layer and the second internal electrode layer is 100 mol, the Cu content is 0.11 mol or more and 8.44 mol or less. Therefore, Cu is solidified in Ni of the above-mentioned predetermined internal electrode. As a result, the Ni—Cu alloy is formed at a predetermined position on the internal electrode layer, and as a result, the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer and the external electrode can be reduced. Therefore, it is possible to suppress the formation of voids at the joint between the external electrode and the internal electrode layer caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer and the external electrode when the external electrode is baked, and the subsequent ceramic. In the plating process of the capacitor manufacturing process and the usage environment of the ceramic capacitor, it is possible to suppress the deterioration of the insulation resistance due to the infiltration of the plating solution and the invasion of moisture, and it is possible to improve the high temperature load life of the multilayer ceramic capacitor. Become.

この発明によれば、セラミックコンデンサの製造工程のめっき処理や、セラミックコンデンサの使用環境において、めっき液の浸入や水分の侵入による絶縁抵抗の劣化を抑制することによって、高温負荷寿命を向上させることができる積層セラミックコンデンサが得られる。 According to the present invention, it is possible to improve the high temperature load life by suppressing the deterioration of the insulation resistance due to the infiltration of the plating solution and the invasion of moisture in the plating process in the manufacturing process of the ceramic capacitor and the environment in which the ceramic capacitor is used. A possible monolithic ceramic capacitor is obtained.

この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明を実施するための形態の説明から一層明らかとなろう。 The above-mentioned object, other object, feature and advantage of the present invention will be further clarified from the description of the embodiment for carrying out the following invention with reference to the drawings.

この発明にかかる積層セラミックコンデンサの一例を示す外観斜視図である。It is an external perspective view which shows an example of the multilayer ceramic capacitor which concerns on this invention. この発明にかかる積層セラミックコンデンサを示す図1のII−II線における断面図である。It is sectional drawing in line II-II of FIG. 1 which shows the multilayer ceramic capacitor which concerns on this invention. この発明にかかる積層セラミックコンデンサを示す図1のIII−III線における断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 1 showing a monolithic ceramic capacitor according to the present invention. (a)この発明にかかる積層セラミックコンデンサの内部電極層の対向電極部が2つに分割された構造を示す図1の線II−IIにおける断面図であり、(b)この発明にかかる積層セラミックコンデンサの内部電極層の対向電極部が3つに分割された構造を示す図1の線II−IIにおける断面図であり、(c)この発明にかかる積層セラミックコンデンサの内部電極層の対向電極部が4つに分割された構造を示す図1の線II−IIにおける断面図である。(A) is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1 showing a structure in which the counter electrode portion of the internal electrode layer of the multilayer ceramic capacitor according to the present invention is divided into two, and (b) the laminated ceramic according to the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1 showing a structure in which the counter electrode portion of the internal electrode layer of the capacitor is divided into three. (C) The counter electrode portion of the internal electrode layer of the multilayer ceramic capacitor according to the present invention. Is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1 showing a structure divided into four parts.

1.第1の実施の形態
(1)積層セラミックコンデンサ
この発明の第1の実施の形態にかかる積層セラミックコンデンサについて説明する。図1は、この発明にかかる積層セラミックコンデンサの一例を示す外観斜視図である。図2は、この発明にかかる積層セラミックコンデンサを示す図1のII−II線における断面図であり、図3は、この発明にかかる積層セラミックコンデンサを示す図1のIII−III線における断面図である。
1. 1. First Embodiment (1) Multilayer Ceramic Capacitor The monolithic ceramic capacitor according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is an external perspective view showing an example of a multilayer ceramic capacitor according to the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1 showing the multilayer ceramic capacitor according to the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 1 showing the multilayer ceramic capacitor according to the present invention. is there.

(積層体)
図1ないし図3に示すように、積層セラミックコンデンサ10は、直方体状の積層体12を含む。
(Laminate)
As shown in FIGS. 1 to 3, the multilayer ceramic capacitor 10 includes a rectangular parallelepiped laminate 12.

積層体12は、図2、および図3に示すように、積層された複数の誘電体層14と複数の内部電極層22とを有する。さらに、積層体12は、積層方向xに相対する第1の主面12aおよび第2の主面12bと、積層方向xに直交する幅方向yに相対する第1の側面12cおよび第2の側面12dと、積層方向xおよび幅方向yに直交する長さ方向zに相対する第1の端面12eおよび第2の端面12fとを有する。積層体12の長さ方向zの寸法は、幅方向yの寸法よりも必ずしも長いとは限らない。 As shown in FIGS. 2 and 3, the laminated body 12 has a plurality of laminated dielectric layers 14 and a plurality of internal electrode layers 22. Further, the laminated body 12 has a first main surface 12a and a second main surface 12b facing the stacking direction x, and a first side surface 12c and a second side surface facing the width direction y orthogonal to the stacking direction x. It has 12d and a first end face 12e and a second end face 12f facing the length direction z orthogonal to the stacking direction x and the width direction y. The dimension of the laminate 12 in the length direction z is not always longer than the dimension of the width direction y.

積層体12は、図2、および図3に示すように、積層方向xに複数の内部電極層22が対向し、内部電極層22の間には、誘電体層14が形成されている内層部16と、第1の主面12a側に位置し、第1の主面12aと第1の主面側の内層部の最表面16aとその最表面16aの延長線上との間に位置する複数の誘電体層14から形成される第1の主面側外層部18aと、第2の主面12b側に位置し、第2の主面12bと第2の主面側の内層部の最表面16bとその最表面16bの延長線上との間に位置する複数の誘電体層14から形成される第2の主面側外層部18bと、第1の側面12c側に位置し、第1の側面12cと第1の側面側の内層部の最表面16cとその最表面16cの延長線上との間に位置する複数の誘電体層14から形成される第1の側面側外層部18cと、第2の側面12d側に位置し、第2の側面12bと第2の側面側の内層部の最表面16dとその最表面16dの延長線上との間に位置する複数の誘電体層14から形成される第2の側面側外層部18dと、を有する。 As shown in FIGS. 2 and 3, the laminated body 12 has a plurality of internal electrode layers 22 facing each other in the stacking direction x, and an inner layer portion in which a dielectric layer 14 is formed between the internal electrode layers 22. A plurality of elements located on the first main surface 12a side and between the first main surface 12a and the outermost surface 16a of the inner layer portion on the first main surface side and the extension line of the outermost surface 16a. The outermost surface 16b of the first main surface side outer layer portion 18a formed from the dielectric layer 14 and the second main surface side inner layer portion located on the second main surface 12b side, the second main surface 12b and the second main surface side. The second main surface side outer layer portion 18b formed from the plurality of dielectric layers 14 located between the surface and the extension line of the outermost surface 16b, and the first side surface 12c located on the first side surface 12c side. The first side surface side outer layer portion 18c formed from the plurality of dielectric layers 14 located between the outermost surface 16c of the inner layer portion on the first side surface side and the extension line of the outermost surface 16c, and the second side surface side outer layer portion 18c. A second dielectric layer 14 located on the side surface 12d side and located between the second side surface 12b, the outermost surface 16d of the inner layer portion on the second side surface side, and an extension line of the outermost surface 16d. It has an outer layer portion 18d on the side surface side of 2.

第1の主面側外層部18aおよび第2の主面側外層部18bと接する内層部16の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにのみ、Cuが固溶しており、第1の主面側外層部18aおよび第2の主面側外層部18bと接する内層部16の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22b(Cuが固溶する第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22b)におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.1mol以上8.61mol以下である。これにより、上記の所定の内部電極層22のNiにCuが固溶することとなり、内部電極層22の第1の主面側外層部18aおよび第2の主面側外層部18bと接する内層部16の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22b、並びに、内層部16における第1の側面側の内層部の最表面16cから幅方向yに向かって内部電極層22側に向かって5μm入った領域A内および第2の側面12d側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって5μm入った領域A第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにおいてNi−Cu合金が形成される。その結果、内部電極層22と外部電極30との拡散係数の差を小さくすることができる。そのため、外部電極22を焼付する際の内部電極層22と外部電極30との拡散係数差によって生じる外部電極30と内部電極層22との接合部に空隙が形成されることを抑制することが可能となる。よって、その後の積層セラミックコンデンサ10の製造工程のめっき処理や、積層セラミックコンデンサ10の使用環境において、めっき液の浸入や水分の侵入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができ、積層セラミックコンデンサ10の高温負荷寿命を向上させることが可能となる。 Cu is solid-dissolved only in the first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b of the inner layer portion 16 in contact with the first main surface side outer layer portion 18a and the second main surface side outer layer portion 18b. , The first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b of the inner layer portion 16 in contact with the first main surface side outer layer portion 18a and the second main surface side outer layer portion 18b (the first in which Cu is solid-dissolved). When the total of Ni and Cu in the internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b) is 100 mol, the Cu content is 0.1 mol or more and 8.61 mol or less. As a result, Cu is dissolved in Ni of the predetermined internal electrode layer 22, and the inner layer portion in contact with the first main surface side outer layer portion 18a and the second main surface side outer layer portion 18b of the internal electrode layer 22. From the outermost surface 16c of the first inner electrode layer 22a or the second inner electrode layer 22b of 16 and the inner layer portion on the first side surface side of the inner layer portion 16 toward the inner electrode layer 22 side in the width direction y. In the region A containing 5 μm and in the region A first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b containing 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion 16 on the second side surface 12d side in the width direction y, Ni -Cu alloy is formed. As a result, the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer 22 and the external electrode 30 can be reduced. Therefore, it is possible to suppress the formation of voids at the joint between the external electrode 30 and the internal electrode layer 22 caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer 22 and the external electrode 30 when the external electrode 22 is baked. It becomes. Therefore, in the subsequent plating process in the manufacturing process of the monolithic ceramic capacitor 10 and in the usage environment of the monolithic ceramic capacitor 10, deterioration of insulation resistance due to infiltration of plating solution and invasion of moisture can be suppressed, and the monolithic ceramic capacitor 10 can be used. It is possible to improve the high temperature load life.

ここで、内部電極層22全体をNi−Cu合金とすることも考えられるが、内部電極層22全体をNi−Cu合金とした場合、内部電極層22の融点が低下してしまい内部電極層22の連続性(カバレージ)が低下することになる。したがって、本実施の形態の積層セラミックコンデンサ10では、第1の主面側外層部18aおよび第2の主面側外層部18bと接する内層部16の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにのみ、Cuを固溶することによって、内層部16における第1の側面側12cの内層部16の最表面から幅方向yに向かって内部電極層22側に向かって5μm入った領域A内および第2の側面12d側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって5μm入った領域A内の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにおいてのみ内部電極層をNi−Cu合金化している。 Here, it is conceivable that the entire internal electrode layer 22 is made of a Ni—Cu alloy, but if the entire internal electrode layer 22 is made of a Ni—Cu alloy, the melting point of the internal electrode layer 22 is lowered and the internal electrode layer 22 is used. The continuity (coverage) of is reduced. Therefore, in the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment, the first internal electrode layer 22a or the second inside of the inner layer portion 16 in contact with the first main surface side outer layer portion 18a and the second main surface side outer layer portion 18b. By solidifying Cu only in the electrode layer 22b, a region of 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion 16 of the first side surface side 12c of the inner layer portion 16 toward the inner electrode layer 22 side in the width direction y. The internal electrode layer only in the first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b in the region A in which the inner layer portion 16 on the side A and the second side surface 12d is 5 μm in the width direction y from the outermost surface. Is Ni—Cu alloyed.

なお、めっき液や水分の浸入による絶縁性の劣化は、外部電極30膜厚が最も薄い箇所、つまりセラミック素体の稜線部やコーナー部で発生する確率が高い。本実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、その部分の外部電極30と内部電極層22との接合部の空隙を抑制しているため、絶縁抵抗の劣化抑制と内部電極層22の連続性の確保を両立することが可能となる。 It should be noted that the deterioration of the insulating property due to the infiltration of the plating solution and water has a high probability of occurring at the portion where the film thickness of the external electrode 30 is the thinnest, that is, at the ridgeline portion and the corner portion of the ceramic body. Since the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment suppresses the gap at the joint between the external electrode 30 and the internal electrode layer 22 at that portion, it suppresses deterioration of the insulation resistance and secures the continuity of the internal electrode layer 22. It becomes possible to achieve both.

積層体12は角部および稜線部に丸みがつけられていることが好ましい。角部は、積層体12の3面が交る部分であり、稜線部は、積層体12の2面が交る部分である。
誘電体材料としては、例えば、BaTiO3、CaTiO3、SrTiO3、またはCaZrO3などの成分を含む誘電体セラミックを用いることができる。また、これらの成分にMN化合物、Fe化合物、Cr化合物、Co化合物、Ni化合物などの主成分よりも含有量の少ない成分を添加したものを用いてもよい。
誘電体層14の厚みは0.5μm以上10μm以下であることが好ましい。
The laminated body 12 preferably has rounded corners and ridges. The corner portion is a portion where the three surfaces of the laminated body 12 intersect, and the ridge portion portion is a portion where the two surfaces of the laminated body 12 intersect.
As the dielectric material, for example, a dielectric ceramic containing components such as Badio 3 , CaTIO 3 , SrTiO 3 , or CaZrO 3 can be used. Further, those to which a component having a content smaller than that of the main component such as an MN compound, an Fe compound, a Cr compound, a Co compound and a Ni compound is added may be used.
The thickness of the dielectric layer 14 is preferably 0.5 μm or more and 10 μm or less.

積層体の寸法は、特に限定されない。 The dimensions of the laminate are not particularly limited.

(内部電極層)
積層された複数の内部電極層22は、図2、および図3に示すように、複数の第1の内部電極層22a、および複数の第2の内部電極層22bを有する。
(Internal electrode layer)
The plurality of laminated internal electrode layers 22 have a plurality of first internal electrode layers 22a and a plurality of second internal electrode layers 22b, as shown in FIGS. 2 and 3.

第1の内部電極層22aは、図2、および図3に示すように、第2の内部電極層22bと対向する第1の対向電極部24aと、第1の内部電極層22aの一端側に位置し、第1の対向電極部22aから積層体12の第1の端面12eまでの第1の引出電極部26aを有する。第1の引出電極部26aは、その端部が第1の端面12eに引き出され、露出している。
第2の内部電極層22bは、図2、および図3に示すように、第1の内部電極層22aと対向する第2の対向電極部24bと、第2の内部電極層22bの一端側に位置し、第2の対向電極部22bから積層体12の第2の端面12fまでの第2の引出電極部26bを有する。第2の引出電極部26bは、その端部が第2の端面12fに引き出され、露出している。
As shown in FIGS. 2 and 3, the first internal electrode layer 22a is formed on the one end side of the first counter electrode portion 24a facing the second internal electrode layer 22b and the first internal electrode layer 22a. It is located and has a first lead-out electrode portion 26a from the first counter electrode portion 22a to the first end surface 12e of the laminated body 12. The end of the first extraction electrode portion 26a is exposed by being pulled out to the first end face 12e.
As shown in FIGS. 2 and 3, the second internal electrode layer 22b is provided on the one end side of the second counter electrode portion 24b facing the first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b. It is located and has a second lead-out electrode portion 26b from the second counter electrode portion 22b to the second end surface 12f of the laminated body 12. The end of the second extraction electrode portion 26b is exposed by being pulled out to the second end surface 12f.

第1の内部電極層22aの一方の対向電極部24aと第2の内部電極層22bの他方の対向電極部24bの形状は、特に限定されないが、矩形状であることが好ましい。もっとも、コーナー部が丸められていたり、コーナー部が斜めに(テーパー状)形成されていたりしてもよい。
第1の内部電極層22aの第1の引出電極部26aと第2の内部電極層22bの第2の引出電極部26bの形状は、特に限定されないが、矩形状であることが好ましい。もっとも、コーナー部が丸められていたり、コーナー部が斜めに(テーパー状)形成されていたりしてもよい。
第1の内部電極層22aの第1の対向電極部24aの幅と第1の内部電極層22aの第1の引出電極部26aの幅とは、同じ幅に形成されていてもよく、どちらか一方が狭く形成されてもよい。同様に、第2の内部電極層22bの第2の対向電極部24bの幅と第2の内部電極層22bの第2の引出電極部26bの幅とは、同じ幅に形成されていてもよく、どちらか一方が狭く形成されてもよい。
The shape of one counter electrode portion 24a of the first internal electrode layer 22a and the other counter electrode portion 24b of the second internal electrode layer 22b is not particularly limited, but is preferably rectangular. However, the corners may be rounded or the corners may be formed diagonally (tapered).
The shapes of the first extraction electrode portion 26a of the first internal electrode layer 22a and the second extraction electrode portion 26b of the second internal electrode layer 22b are not particularly limited, but are preferably rectangular. However, the corners may be rounded or the corners may be formed diagonally (tapered).
The width of the first counter electrode portion 24a of the first internal electrode layer 22a and the width of the first extraction electrode portion 26a of the first internal electrode layer 22a may be formed to be the same width, whichever is used. One may be formed narrowly. Similarly, the width of the second counter electrode portion 24b of the second internal electrode layer 22b and the width of the second extraction electrode portion 26b of the second internal electrode layer 22b may be formed to be the same width. , Either one may be formed narrowly.

なお、図4に示すように、内部電極層22として、第1の内部電極層22aおよび第2の内部電極層22bに加えて、第1の端面12eおよび第2の端面12fのどちらにも引き出されない浮き内部電極層22cが設けられ、浮き内部電極層22cによって、対向電極部24が複数に分割された構造としてもよい。たとえば、図4(a)に示すような2連、図4(b)に示すような3連、図4(c)に示すような4連構造であり、4連以上の構造でもよいことは言うまでもない。このように、対向電極部24を複数個に分割した構造とすることによって、対向する内部電極層22a、22b、22c間において複数のコンデンサ成分が形成され、これらのコンデンサ成分が直列に接続された構成となる。そのため、それぞれのコンデンサ成分に印加される電圧が低くなり、積層セラミックコンデンサの高耐圧化を図ることができる。 As shown in FIG. 4, the internal electrode layer 22 is pulled by both the first end surface 12e and the second end surface 12f in addition to the first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b. A floating internal electrode layer 22c that is not exposed may be provided, and the counter electrode portion 24 may be divided into a plurality of structures by the floating internal electrode layer 22c. For example, the structure may be 2 stations as shown in FIG. 4 (a), 3 stations as shown in FIG. 4 (b), or 4 stations as shown in FIG. 4 (c), and may have a structure of 4 or more stations. Needless to say. By forming the counter electrode portion 24 into a plurality of divided structures in this way, a plurality of capacitor components are formed between the opposing internal electrode layers 22a, 22b, and 22c, and these capacitor components are connected in series. It becomes a composition. Therefore, the voltage applied to each capacitor component becomes low, and the withstand voltage of the multilayer ceramic capacitor can be increased.

第1の内部電極層22aおよび第2の内部電極層22bは、Niを含む。
本発明の実施の形態である積層セラミックコンデンサ10では、第1の内部電極層22aおよび第2の内部電極層22bが誘電体層14を介して対向することにより容量が形成され、コンデンサの特性が発現する。
第1の内部電極層22aおよび第2の内部電極層22bのそれぞれの厚みは、例えば、0.2μm以上2.0μm以下程度であることが好ましい。
第1の内部電極層22aおよび第2の内部電極層22bの総枚数は、例えば、15枚以上であることが好ましい。
The first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b contain Ni.
In the multilayer ceramic capacitor 10 according to the embodiment of the present invention, the capacitance is formed by the first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b facing each other via the dielectric layer 14, and the characteristics of the capacitor are improved. Express.
The thickness of each of the first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b is preferably, for example, about 0.2 μm or more and 2.0 μm or less.
The total number of the first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b is preferably, for example, 15 or more.

(外部電極層)
外部電極層30は、図2、および図3に示すように、第1の外部電極30aと第2の外部電極30bとを有する。
第1の外部電極30aは、第1の内部電極層22aに接続され、第1の端面12eの上に配置されている。また、第1の主面12aの一部および第2の主面12bの一部、第1の側面12cの一部および第2の側面12dの一部にも配置されていてもよい。
第2の外部電極30bは、第2の内部電極層に接続され、第2の端面上に配置されている。また、第1の主面12aの一部および第2の主面12bの一部、第1の側面12cの一部および第2の側面12dの一部にも配置されていてもよい。
第1の外部電極30aおよび第2の外部電極30bは、下地電極層32とめっき層34とを有していることが好ましい。
下地電極層32は、焼付け層、導電性樹脂層、薄膜層等から選ばれる少なくとも1つを含む。
(External electrode layer)
The external electrode layer 30 has a first external electrode 30a and a second external electrode 30b, as shown in FIGS. 2 and 3.
The first external electrode 30a is connected to the first internal electrode layer 22a and is arranged on the first end surface 12e. It may also be arranged on a part of the first main surface 12a and a part of the second main surface 12b, a part of the first side surface 12c and a part of the second side surface 12d.
The second external electrode 30b is connected to the second internal electrode layer and is arranged on the second end face. It may also be arranged on a part of the first main surface 12a and a part of the second main surface 12b, a part of the first side surface 12c and a part of the second side surface 12d.
The first external electrode 30a and the second external electrode 30b preferably have a base electrode layer 32 and a plating layer 34.
The base electrode layer 32 includes at least one selected from a baking layer, a conductive resin layer, a thin film layer, and the like.

下地電極層32が、焼付け層で形成された第1の下地電極層32aおよび第2の下地電極層32bについて説明する。
焼付け層のガラス成分は、B、Si、Ba、Mg、Al、Li等から選ばれる少なくとも1つを含む。
焼付け層の金属としては、たとえば、CuもしくはCuを含む合金を用いることができる。
焼付け層は複数枚あってもよい。
焼付け層は、ガラスおよび金属を含む導電性ペーストを積層体12に塗布して焼き付けたものであり、誘電体層14および内部電極層22と同時に焼成したものでもよく、誘電体層14および内部電極層22を焼成した後に焼き付けたものでもよい。
第1の端面12eに位置する第1の下地電極層26aおよび第2の端面12fに位置する第2の下地電極層26bの高さ方向中央部におけるそれぞれの焼付け層の厚みは、15μm以上160μm以下であることが好ましい。
The first base electrode layer 32a and the second base electrode layer 32b in which the base electrode layer 32 is formed by the baking layer will be described.
The glass component of the baking layer contains at least one selected from B, Si, Ba, Mg, Al, Li and the like.
As the metal of the baking layer, for example, Cu or an alloy containing Cu can be used.
There may be a plurality of baking layers.
The baking layer is obtained by applying a conductive paste containing glass and metal to the laminate 12 and baking it, and may be baked at the same time as the dielectric layer 14 and the internal electrode layer 22, and the dielectric layer 14 and the internal electrode may be baked. The layer 22 may be fired and then baked.
The thickness of each of the first base electrode layer 26a located on the first end surface 12e and the second base electrode layer 26b located on the second end face 12f at the center in the height direction is 15 μm or more and 160 μm or less. Is preferable.

樹脂層は、導電性粒子と熱硬化性樹脂を含む樹脂層を含んでもよい。樹脂層を形成する場合は、焼付け電極層を形成せずに積層体上に直接形成してもよい。 The resin layer may include a resin layer containing conductive particles and a thermosetting resin. When the resin layer is formed, it may be formed directly on the laminate without forming the baking electrode layer.

導電性樹脂層は、複数層であってもよい。
導電性樹脂層は、焼き付け層上に焼き付け層を覆うように配置されるか、積層体上に直接配置されてもよい。
第1の端面12eおよび第2の端面12fに位置する第1および第2の下地電極層の高さ方向中央部における第1および第2の樹脂層の厚みは、例えば、10μm以上120μm以下程度であることが好ましい。
また、第1の主面12aおよび第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12d上に下地電極層32を設ける場合には、第1の主面12aおよび第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12fの上に位置する第1および第2の下地電極層である長さ方向の中央部における第1および第2の樹脂層の厚みは、例えば、5μm以上40μm以下程度であることが好ましい。
The conductive resin layer may be a plurality of layers.
The conductive resin layer may be arranged on the baking layer so as to cover the baking layer, or may be arranged directly on the laminate.
The thickness of the first and second resin layers at the central portion in the height direction of the first and second base electrode layers located on the first end face 12e and the second end face 12f is, for example, about 10 μm or more and 120 μm or less. It is preferable to have.
Further, when the base electrode layer 32 is provided on the first main surface 12a and the second main surface 12b, the first side surface 12c and the second side surface 12d, the first main surface 12a and the second main surface 12a and the second main surface are provided. The thickness of the first and second resin layers in the central portion in the length direction, which is the first and second base electrode layers located on the surface 12b, the first side surface 12c and the second side surface 12f, is, for example, It is preferably about 5 μm or more and 40 μm or less.

導電性樹脂層は、熱硬化性樹脂および金属を含む。
導電性樹脂層は、熱硬化性樹脂を含むため、例えばめっき膜や導電性ペーストの焼成物からなる導電層よりも柔軟性に富んでいる。このため、セラミック電子部品に物理的な衝撃や熱サイクルに起因する衝撃が加わった場合であっても、導電性樹脂層が緩衝層として機能し、セラミック電子部品へのクラックを防止することができる。
導電性樹脂層に含まれる金属としては、Ag、Cu、またはそれらの合金を使用することができる。また、金属粉の表面にAgコーティングされたものを使用することができる。金属粉の表面にAgコーティングされたものを使用する際には金属粉としてCuやNiを用いることが好ましい。またCuに酸化防止処理を施したものを使用することもできる。
The conductive resin layer contains a thermosetting resin and a metal.
Since the conductive resin layer contains a thermosetting resin, it is more flexible than, for example, a conductive layer made of a plating film or a fired product of a conductive paste. Therefore, even when a physical impact or an impact due to a thermal cycle is applied to the ceramic electronic component, the conductive resin layer functions as a buffer layer, and cracks in the ceramic electronic component can be prevented. ..
As the metal contained in the conductive resin layer, Ag, Cu, or an alloy thereof can be used. Further, the surface of the metal powder coated with Ag can be used. When using an Ag-coated metal powder, it is preferable to use Cu or Ni as the metal powder. It is also possible to use Cu that has been subjected to an antioxidant treatment.

導電性金属にAgの導電性金属粉を用いる理由としては、Agは金属の中でもっとも比抵抗が低いため電極材料に適しており、Agは貴金属であるため酸化せず対抗性が高いためである。なお、Agコーティングされた金属を用いる理由としては、上記のAgの特性は保ちつつ、母材の金属を安価なものにすることが可能になるためである。
導電性樹脂層に含まれる金属である導電性フィラーは、導電性樹脂全体の体積に対して、35vol%以上75vol%以下で含まれていることが好ましい。
導電性フィラーの形状は、特に限定されない。導電性フィラーは、球形状、扁平状などのものを用いることができるが、球形状金属粉と扁平状金属粉とを混合して用いるのが好ましい。
導電性フィラーの平均粒径は、特に限定されない。導電性フィラーの平均粒径は、たとえば、0.3μm以上10μm以下程度であってもよい。
導電性フィラーは、主に導電性樹脂層の通電性を担う。具体的には、導電性フィラーどうしが接触することにより、導電性樹脂層内部に通電経路が形成される。
導電性フィラーは、球形状、扁平状などのものを用いることができるが、球形状金属粉と扁平状金属粉とを混合して用いるのが好ましい。
The reason for using Ag conductive metal powder as the conductive metal is that Ag is suitable as an electrode material because it has the lowest specific resistance among metals, and Ag is a noble metal and therefore does not oxidize and has high resistance. is there. The reason for using the Ag-coated metal is that the metal of the base material can be made inexpensive while maintaining the above-mentioned characteristics of Ag.
The conductive filler, which is a metal contained in the conductive resin layer, is preferably contained in an amount of 35 vol% or more and 75 vol% or less with respect to the total volume of the conductive resin.
The shape of the conductive filler is not particularly limited. As the conductive filler, a spherical one or a flat one can be used, but it is preferable to use a mixture of the spherical metal powder and the flat metal powder.
The average particle size of the conductive filler is not particularly limited. The average particle size of the conductive filler may be, for example, about 0.3 μm or more and 10 μm or less.
The conductive filler mainly bears the electrical conductivity of the conductive resin layer. Specifically, when the conductive fillers come into contact with each other, an energization path is formed inside the conductive resin layer.
As the conductive filler, a spherical one or a flat one can be used, but it is preferable to use a mixture of the spherical metal powder and the flat metal powder.

導電性樹脂層の樹脂としては、たとえば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂などの公知の種々の熱硬化性樹脂を使用することができる。その中でも、耐熱性、耐湿性、密着性などに優れたエポキシ樹脂は、最も適切な樹脂の一つである。
導電性樹脂層に含まれる樹脂は、導電性樹脂全体の体積に対して、25vol%以上65vol%以下で含まれていることが好ましい。
また、導電性樹脂層には、熱硬化性樹脂とともに、硬化剤を含むことが好ましい。ベース樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合、エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノール樹脂、アミン系、酸無水物系、イミダゾール系など公知の種々の化合物を使用することができる。
As the resin of the conductive resin layer, for example, various known thermosetting resins such as epoxy resin, phenol resin, urethane resin, silicone resin, and polyimide resin can be used. Among them, epoxy resin having excellent heat resistance, moisture resistance, adhesion and the like is one of the most suitable resins.
The resin contained in the conductive resin layer is preferably contained in an amount of 25 vol% or more and 65 vol% or less with respect to the total volume of the conductive resin.
Further, the conductive resin layer preferably contains a curing agent together with the thermosetting resin. When an epoxy resin is used as the base resin, various known compounds such as a phenol resin, an amine type, an acid anhydride type, and an imidazole type can be used as the curing agent for the epoxy resin.

また、下地電極層32が薄膜層の場合、薄膜層は、スパッタ法または蒸着法等の薄膜形成法により形成され、金属粒子が堆積された1μm以下の層である。 When the base electrode layer 32 is a thin film layer, the thin film layer is a layer having a thickness of 1 μm or less formed by a thin film forming method such as a sputtering method or a vapor deposition method and having metal particles deposited therein.

めっき層34は、第1のめっき層34a、および第2のめっき層34bを有する。
第1のめっき層34aは、第1の下地電極層32aを覆うように配置される。
第2のめっき層28bは、第2の下地電極層26bを覆うように配置される。
また、第1のめっき層28aおよび第2のめっき層28b(以下、単にめっき層28ともいう)としては、たとえば、Cu、Ni、Sn、Ag、Pd、Ag−Pd合金、Au等から選ばれる少なくとも1つを含む。
めっき層28は、複数層によって形成されてもよい。この場合、めっき層28は、Niめっき層とSnめっき層の2層構造である。Niめっき層が、下地電極層26の表面を覆うように設けられることで、積層セラミックコンデンサ10を実装する際に、実装に用いられる半田によって下地電極層26が侵食されることを防止することができる。また、Niめっき層の表面に、Snめっき層を設けることにより、積層セラミックコンデンサ10を実装する際に、実装に用いられる半田の濡れ性を向上させ、容易に実装することができる。
めっき層一層あたりの厚みは、2μm以上15μm以下であることが好ましい。
The plating layer 34 has a first plating layer 34a and a second plating layer 34b.
The first plating layer 34a is arranged so as to cover the first base electrode layer 32a.
The second plating layer 28b is arranged so as to cover the second base electrode layer 26b.
The first plating layer 28a and the second plating layer 28b (hereinafter, also simply referred to as the plating layer 28) are selected from, for example, Cu, Ni, Sn, Ag, Pd, Ag-Pd alloy, Au, and the like. Includes at least one.
The plating layer 28 may be formed by a plurality of layers. In this case, the plating layer 28 has a two-layer structure of a Ni plating layer and a Sn plating layer. By providing the Ni plating layer so as to cover the surface of the base electrode layer 26, it is possible to prevent the base electrode layer 26 from being eroded by the solder used for mounting when the multilayer ceramic capacitor 10 is mounted. it can. Further, by providing the Sn plating layer on the surface of the Ni plating layer, when mounting the multilayer ceramic capacitor 10, the wettability of the solder used for mounting is improved, and the mounting can be easily performed.
The thickness of one layer of the plating layer is preferably 2 μm or more and 15 μm or less.

(積層セラミックコンデンサ)
図1に示すように、積層体12、第1の外部電極30aおよび第2の外部電極30bを含む積層セラミックコンデンサ10の長さ方向zの寸法をL寸法とし、積層体12、第1の外部電極30aおよび第2の外部電極30bを含む積層セラミックコンデンサ10の積層方向xの寸法をT寸法とし、積層体12、第1の外部電極30aおよび第2の外部電極30bを含む積層セラミックコンデンサ10の幅方向yの寸法をW寸法とする。
積層セラミックコンデンサ10の寸法は、長さ方向zのL寸法が0.2mm以上3.2mm以下、積層方向xのT寸法が0.1mm以上2.5mm以下、幅方向yのW寸法が0.1mm以上2.5mm以下、であることが好ましい。
(Multilayer ceramic capacitor)
As shown in FIG. 1, the dimension in the length direction z of the laminated ceramic capacitor 10 including the laminated body 12, the first external electrode 30a and the second external electrode 30b is defined as the L dimension, and the laminated body 12, the first external electrode The dimension of the laminated ceramic capacitor 10 including the electrode 30a and the second external electrode 30b in the stacking direction x is defined as the T dimension, and the laminated ceramic capacitor 10 including the laminated body 12, the first external electrode 30a and the second external electrode 30b. Let the dimension y in the width direction be the W dimension.
The dimensions of the multilayer ceramic capacitor 10 are such that the L dimension in the length direction z is 0.2 mm or more and 3.2 mm or less, the T dimension in the lamination direction x is 0.1 mm or more and 2.5 mm or less, and the W dimension in the width direction y is 0. It is preferably 1 mm or more and 2.5 mm or less.

(積層セラミックコンデンサの製造方法)
次に、以上の構成からなる第1の実施の形態にかかる積層セラミックコンデンサ10の製造方法について説明する。
(Manufacturing method of multilayer ceramic capacitors)
Next, a method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 10 according to the first embodiment having the above configuration will be described.

(a)誘電体原料粉末の作成
まず、主成分であるBaTiO3粉末を用意する。具体的には、BaCO3粉末、TiO2粉末を所定量秤量し、ボールミルにより一定時間混合した後、熱処理を行い、主成分のBaTiO3粉末を得た。
次に、副成分である、Dy23、MgO、MnO、SiO2の各粉末を用意する。そして、主成分100モル部に対してDy23が0.75モル部、MgOが1モル部、MnOが0.2モル部、SiO2が1モル部となるように秤量した。これらの粉末を主成分のBT粉末(BaTiO3粉末)と配合し、ボールミルにより一定時間混合した後、乾燥、乾式粉砕し、原料粉末1を得る。
また、副成分である、Dy23、MgO、MnO、SiO2に加えて、Cu2O粉末を用意した。そして、主成分100モル部に対してDy23が0.75モル部、MgOが1モル部、MnOが0.2モル部、SiO2が1モル部、Cu2Oが表1となるように秤量した。ここでCu2Oを添加することで本実施の形態のCuの固溶が生じる材料を得ることができる。これらの粉末を主成分のBT粉末と配合し、ボールミルにより一定時間混合した後、乾燥、乾式粉砕し、原料粉末2を得る。
(A) Preparation of Dielectric Raw Material Powder First, Badio 3 powder, which is the main component, is prepared. Specifically, BaCO 3 powder and TiO 2 powder were weighed in a predetermined amount, mixed by a ball mill for a certain period of time, and then heat-treated to obtain Badio 3 powder as a main component.
Next, each powder of Dy 2 O 3 , MgO, MnO, and SiO 2 which is a sub-component is prepared. Then, it was weighed so that Dy 2 O 3 was 0.75 mol, Mg O was 1 mol, MnO was 0.2 mol, and SiO 2 was 1 mol, based on 100 mol of the main component. These powders are mixed with the main component BT powder (BaTIO 3 powder), mixed for a certain period of time with a ball mill, and then dried and pulverized in a dry manner to obtain a raw material powder 1.
Further, in addition to the sub-ingredients Dy 2 O 3 , MgO, MnO, and SiO 2 , Cu 2 O powder was prepared. Table 1 shows 0.75 mol parts of Dy 2 O 3 , 1 mol part of MgO, 0.2 mol part of MnO, 1 mol part of SiO 2 and Cu 2 O with respect to 100 mol parts of the main component. Weighed as follows. Here, by adding Cu 2 O, a material in which the Cu of the present embodiment is solid-solved can be obtained. These powders are mixed with the main component BT powder, mixed for a certain period of time with a ball mill, and then dried and pulverized in a dry manner to obtain a raw material powder 2.

(b)積層セラミックコンデンサの製造
その後に、原料粉末1(Cu2Oを含まない)、原料粉末2(Cu2Oを含む)のそれぞれにポリビニルブチラール系バインダおよびエタノール等の有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、スラリーを調整した。このセラミックスラリーをドクターブレード法によりシート成形する。これによって、厚み2.8μmのグリーンシート1(原料粉末1から製造されており、Cu2Oを含まない)およびグリーンシート2(原料粉末2から製造されており、Cu2Oを含む)が製造される。このグリーンシート2により本実施の形態の積層セラミックコンデンサ10のCuの固溶が得られる。
(B) Manufacture of multilayer ceramic capacitor After that, an organic solvent such as polyvinyl butyral binder and ethanol was added to each of the raw material powder 1 (not containing Cu 2 O) and the raw material powder 2 (containing Cu 2 O). Wet mixing was performed with a ball mill to prepare a slurry. This ceramic slurry is sheet-molded by the doctor blade method. As a result, a 2.8 μm-thick green sheet 1 (manufactured from raw material powder 1 and does not contain Cu 2 O) and a green sheet 2 (manufactured from raw material powder 2 and containing Cu 2 O) are produced. Will be done. The green sheet 2 provides a solid solution of Cu in the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment.

次に、導電性ペーストを用意した。導電性粉末としてNi粉末を用意し、ポリビニルブチラール系バインダおよびエタノールなどの有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、導電性ペーストを作製した。
次に、セラミックグリーンシート1上に、前記の内部電極ペーストを印刷し、内部電極層を構成するための導電性ペースト層を形成した。
Next, a conductive paste was prepared. Ni powder was prepared as the conductive powder, an organic solvent such as a polyvinyl butyral binder and ethanol was added, and wet-mixed with a ball mill to prepare a conductive paste.
Next, the internal electrode paste was printed on the ceramic green sheet 1 to form a conductive paste layer for forming the internal electrode layer.

次いで、グリーンシート2のみを50枚積み重ね、その上に導電性ペーストを印刷したグリーンシート1を積み、導電性ペースト膜の引き出されている側が互い違いになるように301枚積層し、更にその上にグリーンシート2のみを50枚積み重ねて、積層体ブロックを得た。この積層体ブロックをカットする際に、カット位置を調整して、焼成後のWギャップの厚みが約100μmになるようにした積層体を得た。
これらの積層体を、N2雰囲気にて350℃の温度で加熱し、バインダを燃焼させた後、酸素分圧10-10〜10-12MPaのH2−N2−H20ガスからなる還元雰囲気中において20℃/minで昇温し、1200℃にて20分焼成した。
次に、焼成後の積層体の両端面にCu粉末を主成分としてガラスフリットを含んだ導電性ペーストを塗布し、700℃以上900℃以下の温度で焼き付け、内部電極層と電気的に接続された外部電極を形成した。その後、湿式めっきによってNiめっきとSnめっきを形成した。
Next, 50 sheets of only the green sheet 2 are stacked, the green sheet 1 on which the conductive paste is printed is stacked, 301 sheets are laminated so that the drawn sides of the conductive paste film are staggered, and further, 301 sheets are laminated on the green sheet 1. Only 50 green sheets 2 were stacked to obtain a laminated block. When cutting this laminated body block, the cutting position was adjusted to obtain a laminated body in which the thickness of the W gap after firing was about 100 μm.
These laminates are heated at a temperature of 350 ° C. in an N 2 atmosphere to burn the binder, and then consist of H 2 −N 2 −H 20 gas having an oxygen partial pressure of 10 -10 to -12 MPa. The temperature was raised at 20 ° C./min in a reducing atmosphere, and the mixture was calcined at 1200 ° C. for 20 minutes.
Next, a conductive paste containing Cu powder as a main component and glass frit is applied to both end faces of the fired laminate, baked at a temperature of 700 ° C. or higher and 900 ° C. or lower, and electrically connected to the internal electrode layer. External electrodes were formed. Then, Ni plating and Sn plating were formed by wet plating.

このようにして、第1の実施の形態にかかる積層セラミックコンデンサ10が製造される。 In this way, the monolithic ceramic capacitor 10 according to the first embodiment is manufactured.

2.第2の実施の形態
第2の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、第1の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10の変形例である。第2の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、第1の側面側外層部20a、および第2の側面側外層部20bに接する内部電極層22にのみCuが固溶している点が、第1の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10とは異なる。
2. 2. 2nd Embodiment The multilayer ceramic capacitor 10 of the 2nd embodiment is a modification of the multilayer ceramic capacitor 10 of the 1st embodiment. In the multilayer ceramic capacitor 10 of the second embodiment, Cu is solid-solved only in the inner electrode layer 22 in contact with the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b. It is different from the multilayer ceramic capacitor 10 of the first embodiment.

(積層体)
内層部16における第1の側面12c側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって内部電極層22側に5μm入った領域A内および第2の側面12d側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって内部電極層側に5μm入った領域A内の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにのみ、Cuが固溶しており、第1の側面12c側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって内部電極層22側に5μm入った領域A内および第2の側面12c側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって内部電極層22側に5μm入った領域A内の第1の内部電極層22aおよび第2の内部電極層22b(Cuが固溶する第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22b)におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.11mol以上8.44mol以下である。これにより、上記の所定の内部電極層22のNiにCuが固溶することとなり、内部電極層22の所定の位置においてNi−CU合金が形成される。その結果、内部電極層22と外部電極30との拡散係数の差を小さくすることができる。そのため、外部電極30を焼付する際の内部電極層22と外部電極30との拡散係数差によって生じる外部電極30と内部電極層22との接合部に空隙が形成されることを抑制することが可能となる。よって、その後の積層セラミックコンデンサ10の製造工程のめっき処理や、積層セラミックコンデンサ10の使用環境において、めっき液の浸入や水分の侵入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができ、積層セラミックコンデンサ10の高温負荷寿命を向上させることが可能となる。
(Laminate)
In the inner layer portion 16, the outermost surface of the inner layer portion 16 on the second side surface 12d side and in the region A having 5 μm on the inner electrode layer 22 side in the width direction y from the outermost surface of the inner layer portion 16 on the first side surface 12c side. Cu is solid-dissolved only in the first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b in the region A having 5 μm on the internal electrode layer side in the width direction y from the first side surface 12c. Internal electrode from the outermost surface of the inner layer portion 16 on the side in the width direction y from the outermost surface of the inner layer portion 16 in the region A having 5 μm on the inner electrode layer 22 side and on the second side surface 12c side. Ni in the first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b (first internal electrode layer 22a or second internal electrode layer 22b in which Cu is solidified) in the region A having 5 μm on the layer 22 side. When the total of and Cu is 100 mol, the Cu content is 0.11 mol or more and 8.44 mol or less. As a result, Cu is dissolved in Ni in the predetermined internal electrode layer 22 and a Ni—CU alloy is formed at a predetermined position in the internal electrode layer 22. As a result, the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer 22 and the external electrode 30 can be reduced. Therefore, it is possible to suppress the formation of voids at the joint between the external electrode 30 and the internal electrode layer 22 caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer 22 and the external electrode 30 when the external electrode 30 is baked. It becomes. Therefore, in the subsequent plating process in the manufacturing process of the monolithic ceramic capacitor 10 and in the usage environment of the monolithic ceramic capacitor 10, deterioration of the insulation resistance due to the infiltration of the plating solution and the invasion of moisture can be suppressed, and the monolithic ceramic capacitor 10 can be used. It is possible to improve the high temperature load life.

ここで、内部電極層22全体をNi−Cu合金とすることも考えられるが、内部電極層22全体をNi−Cu合金とした場合、内部電極層22の融点が低下してしまい内部電極層22の連続性(カバレージ)が低下することになる。したがって、本実施の形態の積層セラミックコンデンサ10では、第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bと接する内層部16の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにのみ、Cuを固溶することによって、内層部16における第1の側面側12cの内層部16の最表面から幅方向yに向かって内部電極層22側に向かって5μm入った領域A内および第2の側面12d側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって5μm入った領域A内の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにおいてのみ内部電極層をNi−Cu合金化している。 Here, it is conceivable that the entire internal electrode layer 22 is made of a Ni—Cu alloy, but if the entire internal electrode layer 22 is made of a Ni—Cu alloy, the melting point of the internal electrode layer 22 is lowered and the internal electrode layer 22 is used. The continuity (coverage) of is reduced. Therefore, in the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment, the first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer of the inner layer portion 16 in contact with the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b. By solidifying Cu only in 22b, the inside of the region A having 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion 16 of the first side surface side 12c of the inner layer portion 16 toward the inner electrode layer 22 side in the width direction y. And the internal electrode layer is Ni only in the first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b in the region A which is 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion 16 on the second side surface 12d side in the width direction y. -Cu alloying.

なお、めっき液や水分の浸入による絶縁性の劣化は、外部電極30膜厚が最も薄い箇所、つまりセラミック素体の稜線部やコーナー部で発生する確率が高い。本実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、その部分の外部電極30と内部電極層22との接合部の空隙を抑制しているため、絶縁抵抗の劣化抑制と内部電極層22の連続性の確保を両立することが可能となる。 It should be noted that the deterioration of the insulating property due to the infiltration of the plating solution or water has a high probability of occurring at the portion where the film thickness of the external electrode 30 is the thinnest, that is, at the ridgeline portion or the corner portion of the ceramic element body. Since the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment suppresses the gap at the joint between the external electrode 30 and the internal electrode layer 22 at that portion, it suppresses deterioration of the insulation resistance and secures the continuity of the internal electrode layer 22. It becomes possible to achieve both.

第2の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10の積層体12以外の構成要素は、第1の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10の構成要素と同じである。 The components of the multilayer ceramic capacitor 10 of the second embodiment other than the laminate 12 are the same as the components of the multilayer ceramic capacitor 10 of the first embodiment.

(積層セラミックコンデンサの製造方法)
次に、以上の構成からなる第2の実施の形態にかかる積層セラミックコンデンサ10の製造方法について説明する。
(Manufacturing method of multilayer ceramic capacitors)
Next, a method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 10 according to the second embodiment having the above configuration will be described.

(a)誘電体原料粉末の作成
まず、主成分であるBaTiO3粉末を用意する。具体的には、BaCO3粉末、TiO2粉末を所定量秤量し、ボールミルにより一定時間混合した後、熱処理を行い、主成分のBaTiO3粉末を得た。
次に、副成分である、Dy23、MgO、MnO、SiO2の各粉末を用意する。そして、主成分100モル部に対してDy23が0.75モル部、MgOが1モル部、MnOが0.2モル部、SiO2が1モル部となるように秤量した。これらの粉末を主成分のBT粉末(BaTiO3粉末)と配合し、ボールミルにより一定時間混合した後、乾燥、乾式粉砕し、原料粉末1を得る。
また、副成分である、Dy23、MgO、MnO、SiO2に加えて、Cu2O粉末を用意した。そして、主成分100モル部に対してDy23が0.75モル部、MgOが1モル部、MnOが0.2モル部、SiO2が1モル部、Cu2Oが表1となるように秤量した。ここでCu2Oを添加することで本実施の形態のCuの固溶が生じる材料を得ることができる。これらの粉末を主成分のBT粉末と配合し、ボールミルにより一定時間混合した後、乾燥、乾式粉砕し、原料粉末2を得る。
(A) Preparation of Dielectric Raw Material Powder First, Badio 3 powder, which is the main component, is prepared. Specifically, BaCO 3 powder and TiO 2 powder were weighed in a predetermined amount, mixed by a ball mill for a certain period of time, and then heat-treated to obtain Badio 3 powder as a main component.
Next, each powder of Dy 2 O 3 , MgO, MnO, and SiO 2 which is a sub-component is prepared. Then, it was weighed so that Dy 2 O 3 was 0.75 mol, Mg O was 1 mol, MnO was 0.2 mol, and SiO 2 was 1 mol, based on 100 mol of the main component. These powders are mixed with the main component BT powder (BaTIO 3 powder), mixed for a certain period of time with a ball mill, and then dried and pulverized in a dry manner to obtain a raw material powder 1.
Further, in addition to the sub-ingredients Dy 2 O 3 , MgO, MnO, and SiO 2 , Cu 2 O powder was prepared. Table 1 shows 0.75 mol parts of Dy 2 O 3 , 1 mol part of MgO, 0.2 mol part of MnO, 1 mol part of SiO 2 and Cu 2 O with respect to 100 mol parts of the main component. Weighed as follows. Here, by adding Cu 2 O, a material in which the Cu of the present embodiment is solid-solved can be obtained. These powders are mixed with the main component BT powder, mixed for a certain period of time with a ball mill, and then dried and pulverized in a dry manner to obtain a raw material powder 2.

(b)積層セラミックコンデンサの製造
原料粉末2にポリビニルブチラール系バインダおよびエタノール等の有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合すると、スラリー2が製造される。スラリー2によって、第2の実施の形態の内部電極層22には、Cuの固溶が得られる。
(B) Production of Multilayer Ceramic Capacitor Slurry 2 is produced by adding a polyvinyl butyral binder and an organic solvent such as ethanol to the raw material powder 2 and wet-mixing them with a ball mill. The slurry 2 provides a solid solution of Cu in the internal electrode layer 22 of the second embodiment.

次に、導電性ペーストを用意した。導電性粉末としてNi粉末を用意し、ポリビニルブチラール系バインダおよびエタノールなどの有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、導電性ペーストを作製した。
その上で、セラミックグリーンシート1上に、前記の内部電極ペーストを印刷し、内部電極層を構成するための導電性ペースト層を形成した。
Next, a conductive paste was prepared. Ni powder was prepared as the conductive powder, an organic solvent such as a polyvinyl butyral binder and ethanol was added, and wet-mixed with a ball mill to prepare a conductive paste.
Then, the above-mentioned internal electrode paste was printed on the ceramic green sheet 1 to form a conductive paste layer for forming the internal electrode layer.

次いで、グリーンシート1を50枚積み重ね、その上に導電性ペーストを印刷したグリーンシート1を積み、導電性ペースト膜の引き出されている側が互い違いになるように301枚積層し、更にその上にグリーンシート1を50枚積み重ねて、積層体ブロックを得た。この積層体ブロックをカットする際に、カット位置を調整して、第1の側面側外層部および第2の側面側外層部を有さない(幅方向yも内部電極層が露出している)積層体を得た。 Next, 50 green sheets 1 are stacked, the green sheet 1 on which the conductive paste is printed is stacked, 301 sheets are laminated so that the drawn sides of the conductive paste film are staggered, and the green is further stacked. Fifty sheets 1 were stacked to obtain a laminated block. When cutting this laminated body block, the cut position is adjusted so that the first side surface side outer layer portion and the second side surface side outer layer portion are not provided (the inner electrode layer is also exposed in the width direction y). A laminate was obtained.

続いて、第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bを形成した。具体的には、側面(LT面)が上を向くようにマトリクス上に前記カット後の積層体を整列した集合体を枠体内にはめ込んだ。この際、形成したい第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bの厚さ分だけ(ここでは約130μm)、集合体の表面が枠体の表面から低い位置に位置するようにした。そして、第1の側面側外層部および第2の側面側外層部形成用スラリー2をスキージで塗布し乾燥させることにより、側面に第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bを形成した。その後、同様にして、もう片側の側面(LT面)にも第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bを形成した。なお、第1の側面側外層部および第2の側面側外層部形成用スラリーは、側面からたれ落ちないように高粘度のものが好ましい。 Subsequently, the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b were formed. Specifically, an aggregate in which the cut laminates are arranged on a matrix so that the side surface (LT surface) faces upward is fitted into the frame. At this time, the surface of the aggregate is located at a position lower than the surface of the frame by the thickness of the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b to be formed (here, about 130 μm). I made it. Then, by applying the first side surface side outer layer portion and the second side surface side outer layer portion forming slurry 2 with a squeegee and drying them, the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b are applied to the side surfaces. Was formed. Then, in the same manner, the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b were formed on the other side surface (LT surface). The first side surface side outer layer portion and the second side surface side outer layer portion forming slurry are preferably those having a high viscosity so as not to drip from the side surface.

次に、これらの積層体12を、N2雰囲気にて350℃の温度で加熱し、バインダを燃焼させた後、酸素分圧10-10〜10-12MPaのH2−N2−H20ガスからなる還元雰囲気中において20℃/minで昇温し、1200℃にて20分焼成する。
その上で、焼成後の積層体の両端面にCu粉末を主成分としてガラスフリットを含んだ導電性ペーストを塗布し、700℃以上900℃以下の温度で焼き付け、内部電極と電気的に接続された外部電極を形成した。その後、湿式めっきによってNiめっきとSnめっきを形成する。
Next, these laminates 12 are heated at a temperature of 350 ° C. in an N 2 atmosphere to burn the binder, and then H 2 −N 2 −H 2 having an oxygen partial pressure of 10 -10 to 10 -12 MPa. The temperature is raised at 20 ° C./min in a reducing atmosphere consisting of 0 gas, and firing is performed at 1200 ° C. for 20 minutes.
Then, a conductive paste containing Cu powder as the main component and glass frit is applied to both end faces of the fired laminate, baked at a temperature of 700 ° C. or higher and 900 ° C. or lower, and electrically connected to the internal electrodes. External electrodes were formed. Then, Ni plating and Sn plating are formed by wet plating.

このようにして、第2の実施の形態にかかる積層セラミックコンデンサ10が製造される。 In this way, the monolithic ceramic capacitor 10 according to the second embodiment is manufactured.

3.第3の実施の形態
第3の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、第1の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10の変形例である。第3の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、第1の主面側外層部18a、および第2の主面側外層部18bだけではなく、第1の側面側外層部20a、および第2の側面側外層部20bに接する内部電極層22にCuが固溶している点が、第1の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10とは異なる。
3. 3. Third Embodiment The multilayer ceramic capacitor 10 of the third embodiment is a modification of the multilayer ceramic capacitor 10 of the first embodiment. The multilayer ceramic capacitor 10 of the third embodiment includes not only the first main surface side outer layer portion 18a and the second main surface side outer layer portion 18b, but also the first side surface side outer layer portion 20a and the second main surface side outer layer portion 18b. It differs from the multilayer ceramic capacitor 10 of the first embodiment in that Cu is solid-solved in the internal electrode layer 22 in contact with the side outer layer portion 20b.

(積層体)
内層部16における第1の主面側外層部16aに接する第1の主面側外層部18a、および第2の主面側外層部16bに接する第2の主面側外層部18b、並びに、第1の側面側の内層部の最表面16cから幅方向yに向かって内部電極層22側に5μm入った領域A内および第2の側面側の内層部の最表面16dから幅方向yに向かって内部電極層側に5μm入った領域A内の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bに、Cuが固溶しており、内層部16における第1の主面側外層部16aに接する第1の内部電極層22a、および第2の主面側外層部16bに接する第2の内部電極層22bにおけるNiとSnとの合計を100molとしたときのSnの含有量が、0.1mol以上8.61mol以下であり、第1の側面側の内層部の最表面16cから幅方向yに向かって内部電極層22側に5μm入った領域A内および第2の側面側の内層部の最表面16dから幅方向yに向かって内部電極層22側に5μm入った領域A内の第1の内部電極層22aおよび第2の内部電極層22bにおけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.11mol以上8.44mol以下である。これにより、上記の所定の内部電極層22のNiにCuが固溶することとなり、内部電極層22の所定の位置においてNi−CU合金が形成される。その結果、内部電極層22と外部電極30との拡散係数の差を小さくすることができる。そのため、外部電極30を焼付する際の内部電極層22と外部電極30との拡散係数差によって生じる外部電極30と内部電極層22との接合部に空隙が形成されることを抑制することが可能となる。よって、その後の積層セラミックコンデンサ10の製造工程のめっき処理や、積層セラミックコンデンサ10の使用環境において、めっき液の浸入や水分の侵入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができ、積層セラミックコンデンサの高温負荷寿命を向上させることが可能となる。
(Laminate)
The first main surface side outer layer portion 18a in contact with the first main surface side outer layer portion 16a in the inner layer portion 16, the second main surface side outer layer portion 18b in contact with the second main surface side outer layer portion 16b, and the second main surface side outer layer portion 18b. From the outermost surface 16c of the inner layer portion on the side surface side of No. 1 toward the width direction y from the outermost surface 16d of the inner layer portion on the inner layer portion on the second side surface side and in the region A having 5 μm on the inner electrode layer 22 side. Cu is solid-dissolved in the first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b in the region A having 5 μm on the internal electrode layer side, and the first main surface side outer layer portion 16a in the inner layer portion 16 When the total of Ni and Sn in the first internal electrode layer 22a in contact with the first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b in contact with the second main surface side outer layer portion 16b is 100 mol, the Sn content is 0. 1 mol or more and 8.61 mol or less, and 5 μm in the inner electrode layer 22 side from the outermost surface 16c of the inner layer portion on the first side surface side in the width direction y, and in the inner layer portion on the second side surface side. When the total of Ni and Cu in the first internal electrode layer 22a and the second internal electrode layer 22b in the region A having 5 μm on the internal electrode layer 22 side in the width direction y from the outermost surface 16d is 100 mol. The Cu content of is 0.11 mol or more and 8.44 mol or less. As a result, Cu is dissolved in Ni in the predetermined internal electrode layer 22 and a Ni—CU alloy is formed at a predetermined position in the internal electrode layer 22. As a result, the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer 22 and the external electrode 30 can be reduced. Therefore, it is possible to suppress the formation of voids at the joint between the external electrode 30 and the internal electrode layer 22 caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer 22 and the external electrode 30 when the external electrode 30 is baked. It becomes. Therefore, in the subsequent plating process in the manufacturing process of the multilayer ceramic capacitor 10 and in the usage environment of the multilayer ceramic capacitor 10, deterioration of insulation resistance due to infiltration of plating solution and invasion of moisture can be suppressed, and the high temperature of the multilayer ceramic capacitor 10 can be suppressed. It is possible to improve the load life.

ここで、内部電極層22全体をNi−Cu合金とすることも考えられるが、内部電極層22全体をNi−Cu合金とした場合、内部電極層22の融点が低下してしまい内部電極層22の連続性(カバレージ)が低下することになる。したがって、本実施の形態の積層セラミックコンデンサ10では、第1の主面側外層部16aに接する第1の主面側外層部18a、および第2の主面側外層部16bに接する第2の主面側外層部18b、並びに、第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bと接する内層部16の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにのみ、Cuを固溶することによって、内層部16における第1の側面側12cの内層部16の最表面から幅方向yに向かって内部電極層22側に向かって5μm入った領域A内および第2の側面12d側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって5μm入った領域A内の第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22bにおいてのみ内部電極層をNi−Cu合金化している。 Here, it is conceivable that the entire internal electrode layer 22 is made of a Ni—Cu alloy, but if the entire internal electrode layer 22 is made of a Ni—Cu alloy, the melting point of the internal electrode layer 22 is lowered and the internal electrode layer 22 is used. The continuity (coverage) of is reduced. Therefore, in the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment, the first main surface side outer layer portion 18a in contact with the first main surface side outer layer portion 16a and the second main surface side outer layer portion 16b in contact with the second main surface side outer layer portion 16b. Cu only on the first inner electrode layer 22a or the second inner electrode layer 22b of the surface side outer layer portion 18b and the inner layer portion 16 in contact with the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b. In the region A and the second side surface, which is 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion 16 of the first side surface side 12c of the inner layer portion 16 toward the inner electrode layer 22 side in the width direction y. The internal electrode layer is Ni—Cu alloyed only in the first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b in the region A 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion 16 on the 12d side in the width direction y. There is.

なお、めっき液や水分の浸入による絶縁性の劣化は、外部電極30膜厚が最も薄い箇所、つまりセラミック素体の稜線部やコーナー部で発生する確率が高い。本実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、その部分の外部電極30と内部電極層22との接合部の空隙を抑制しているため、絶縁抵抗の劣化抑制と内部電極層22の連続性の確保を両立することが可能となる。 It should be noted that the deterioration of the insulating property due to the infiltration of the plating solution and water has a high probability of occurring at the portion where the film thickness of the external electrode 30 is the thinnest, that is, at the ridgeline portion and the corner portion of the ceramic body. Since the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment suppresses the gap at the joint between the external electrode 30 and the internal electrode layer 22 at that portion, it suppresses deterioration of the insulation resistance and secures the continuity of the internal electrode layer 22. It becomes possible to achieve both.

第2の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10の積層体12以外の構成要素は、第1の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10の構成要素と同じである。 The components of the multilayer ceramic capacitor 10 of the second embodiment other than the laminate 12 are the same as the components of the multilayer ceramic capacitor 10 of the first embodiment.

(積層セラミックコンデンサの製造方法)
次に、以上の構成からなる第3の実施の形態にかかる積層セラミックコンデンサ10の製造方法について説明する。
(Manufacturing method of multilayer ceramic capacitors)
Next, a method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 10 according to the third embodiment having the above configuration will be described.

まず、主成分であるBaTiO3粉末を用意する。具体的には、BaCO3粉末、TiO2粉末を所定量秤量し、ボールミルにより一定時間混合した後、熱処理を行い、主成分のBaTiO3粉末を得た。
次に、副成分である、Dy23、MgO、MnO、SiO2の各粉末を用意する。そして、主成分100モル部に対してDy23が0.75モル部、MgOが1モル部、MnOが0.2モル部、SiO2が1モル部となるように秤量した。これらの粉末を主成分のBT粉末(BaTiO3粉末)と配合し、ボールミルにより一定時間混合した後、乾燥、乾式粉砕し、原料粉末1を得る。
また、副成分である、Dy23、MgO、MnO、SiO2に加えて、Cu2O粉末を用意した。そして、主成分100モル部に対してDy23が0.75モル部、MgOが1モル部、MnOが0.2モル部、SiO2が1モル部、Cu2Oが表1となるように秤量した。ここでCu2Oを添加することで本実施の形態のCuの固溶が生じる材料を得ることができる。これらの粉末を主成分のBT粉末と配合し、ボールミルにより一定時間混合した後、乾燥、乾式粉砕し、原料粉末2を得た。
First, BaTIO 3 powder, which is the main component, is prepared. Specifically, BaCO 3 powder and TiO 2 powder were weighed in a predetermined amount, mixed by a ball mill for a certain period of time, and then heat-treated to obtain Badio 3 powder as a main component.
Next, each powder of Dy 2 O 3 , MgO, MnO, and SiO 2 which is a sub-component is prepared. Then, it was weighed so that Dy 2 O 3 was 0.75 mol, Mg O was 1 mol, MnO was 0.2 mol, and SiO 2 was 1 mol, based on 100 mol of the main component. These powders are mixed with the main component BT powder (BaTIO 3 powder), mixed for a certain period of time with a ball mill, and then dried and pulverized in a dry manner to obtain a raw material powder 1.
Further, in addition to the sub-ingredients Dy 2 O 3 , MgO, MnO, and SiO 2 , Cu 2 O powder was prepared. Table 1 shows 0.75 mol parts of Dy 2 O 3 , 1 mol part of MgO, 0.2 mol part of MnO, 1 mol part of SiO 2 and Cu 2 O with respect to 100 mol parts of the main component. Weighed as follows. Here, by adding Cu 2 O, a material in which the Cu of the present embodiment is solid-solved can be obtained. These powders were mixed with the main component BT powder, mixed for a certain period of time with a ball mill, and then dried and pulverized in a dry manner to obtain a raw material powder 2.

(b)積層セラミックコンデンサの製造
その後に、原料粉末1(Cu2Oを含まない)、原料粉末2(Cu2Oを含む)のそれぞれにポリビニルブチラール系バインダおよびエタノール等の有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、スラリーを調整した。このセラミックスラリーをドクターブレード法によりシート成形する。これによって、厚み2.8μmのグリーンシート1(原料粉末1から製造されており、Cu2Oを含まない)およびグリーンシート2(原料粉末2から製造されており、Cu2Oを含む)が製造される。このグリーンシート2により本実施の形態の積層セラミックコンデンサ10のCuの固溶が得られる。
(B) Manufacture of multilayer ceramic capacitor After that, an organic solvent such as polyvinyl butyral binder and ethanol was added to each of the raw material powder 1 (not containing Cu 2 O) and the raw material powder 2 (containing Cu 2 O). Wet mixing was performed with a ball mill to prepare a slurry. This ceramic slurry is sheet-molded by the doctor blade method. As a result, a 2.8 μm-thick green sheet 1 (manufactured from raw material powder 1 and does not contain Cu 2 O) and a green sheet 2 (manufactured from raw material powder 2 and containing Cu 2 O) are produced. Will be done. The green sheet 2 provides a solid solution of Cu in the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment.

また、原料粉末2にポリビニルブチラール系バインダおよびエタノール等の有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、スラリーを調整し、第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20b形成用スラリー2を作製した。この第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20b形成用スラリー2により本実施の形態のCuの固溶が得られる。 Further, an organic solvent such as a polyvinyl butyral binder and ethanol is added to the raw material powder 2 and wet-mixed by a ball mill to prepare a slurry for forming the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b. Slurry 2 was prepared. The solid solution of Cu of the present embodiment can be obtained by the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b forming slurry 2.

次に、導電性ペーストを用意した。導電性粉末としてNi粉末を用意し、ポリビニルブチラール系バインダおよびエタノールなどの有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、導電性ペーストを作製した。
その上で、セラミックグリーンシート1上に、前記の内部電極ペーストを印刷し、内部電極層を構成するための導電性ペースト層を形成した。
Next, a conductive paste was prepared. Ni powder was prepared as the conductive powder, an organic solvent such as a polyvinyl butyral binder and ethanol was added, and wet-mixed with a ball mill to prepare a conductive paste.
Then, the above-mentioned internal electrode paste was printed on the ceramic green sheet 1 to form a conductive paste layer for forming the internal electrode layer.

次いで、グリーンシート2を50枚積み重ね、その上に導電性ペーストを印刷したグリーンシート1を積み、導電性ペースト膜の引き出されている側が互い違いになるように301枚積層し、更にその上にグリーンシート2を50枚積み重ねて、積層体ブロックを得た。この積層体ブロックをカットする際に、カット位置を調整して、第1の側面側外層部および第2の側面側外層部を有さない(幅方向yも内部電極層が露出している)積層体を得た。 Next, 50 green sheets 2 are stacked, a green sheet 1 on which the conductive paste is printed is stacked, 301 sheets are laminated so that the drawn sides of the conductive paste film are staggered, and green is further stacked on the green sheet 1. Fifty sheets 2 were stacked to obtain a laminated block. When cutting this laminated body block, the cut position is adjusted so that the first side surface side outer layer portion and the second side surface side outer layer portion are not provided (the inner electrode layer is also exposed in the width direction y). A laminate was obtained.

続いて、第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bを形成した。具体的には、側面(LT面)が上を向くようにマトリクス上に前記カット後の積層体を整列した集合体を枠体内にはめ込んだ。この際、形成したい第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bの厚さ分だけ(ここでは約130μm)、集合体の表面が枠体の表面から低い位置に位置するようにした。そして、第1の側面側外層部および第2の側面側外層部形成用スラリー2をスキージで塗布し乾燥させることにより、側面に第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層20b部を形成した。その後、同様にして、もう片側の側面(LT面)にも第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20bを形成した。なお、第1の側面側外層部および第2の側面側外層部形成用スラリーは、側面からたれ落ちないように高粘度のものが好ましい。 Subsequently, the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b were formed. Specifically, an aggregate in which the cut laminates are arranged on a matrix so that the side surface (LT surface) faces upward is fitted into the frame. At this time, the surface of the aggregate is located at a position lower than the surface of the frame by the thickness of the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b to be formed (here, about 130 μm). I made it. Then, the first side surface side outer layer portion and the second side surface side outer layer portion forming slurry 2 are applied with a squeegee and dried by applying the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b to the side surface. Was formed. Then, in the same manner, the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b were formed on the other side surface (LT surface). The first side surface side outer layer portion and the second side surface side outer layer portion forming slurry are preferably those having a high viscosity so as not to drip from the side surface.

これらの積層体を、N2雰囲気にて350℃の温度で加熱し、バインダを燃焼させた後、酸素分圧10-10〜10-12MPaのH2−N2−H20ガスからなる還元雰囲気中において20℃/minで昇温し、1200℃にて20分焼成した。
次に、焼成後の積層体の両端面にCu粉末を主成分としてガラスフリットを含んだ導電性ペーストを塗布し、700℃以上900℃以下の温度で焼き付け、内部電極層と電気的に接続された外部電極を形成した。その後、湿式めっきによってNiめっきとSnめっきを形成した。
These laminates are heated at a temperature of 350 ° C. in an N 2 atmosphere to burn the binder, and then consist of H 2 −N 2 −H 20 gas having an oxygen partial pressure of 10 -10 to -12 MPa. The temperature was raised at 20 ° C./min in a reducing atmosphere, and the mixture was calcined at 1200 ° C. for 20 minutes.
Next, a conductive paste containing Cu powder as a main component and glass frit is applied to both end faces of the fired laminate, baked at a temperature of 700 ° C. or higher and 900 ° C. or lower, and electrically connected to the internal electrode layer. External electrodes were formed. Then, Ni plating and Sn plating were formed by wet plating.

このようにして、第3の実施の形態にかかる積層セラミックコンデンサ10が製造される。 In this way, the monolithic ceramic capacitor 10 according to the third embodiment is manufactured.

(実験例)
上述の第1の実施の形態、第2の実施の形態、および第3の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10の製造方法によって製造された、第1の実施の形態、第2の実施の形態、および第3の実施の形態の積層セラミックコンデンサ10の外形寸法は、幅1.2mm、長さ2.0mm、厚さが1.2mmであり、内部電極層22の間に介在する誘電体層の厚みが2.2μmであった。また、有効誘電体セラミック層の総数は300層であり、1層あたりの対向電極の面積は1.6×10-62であった。また、積層方向zの無効層)の厚みおよびWギャップ28(幅方向yの無効層)の厚みは約100μmであった。
(Experimental example)
The first embodiment, the second embodiment, manufactured by the method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 10 of the first embodiment, the second embodiment, and the third embodiment described above. The external dimensions of the monolithic ceramic capacitor 10 of the third embodiment are 1.2 mm in width, 2.0 mm in length, and 1.2 mm in thickness, and the dielectric layer interposed between the internal electrode layers 22. The thickness was 2.2 μm. The total number of effective dielectric ceramic layers was 300, and the area of the counter electrode per layer was 1.6 × 10 -6 m 2 . The thickness of the ineffective layer in the stacking direction z) and the thickness of the W gap 28 (invalid layer in the width direction y) were about 100 μm.

表1に示すように、試料番号1ないし試料番号19のサンプルを各試料番号について20個ずつサンプルを作製した。次に、150℃、12Vで高温負荷試験を行い、絶縁抵抗が10KΩ以下になった時間を故障と判定した。この故障時間からMTTFを算出し、比較を行った。結果を表1に示す。
なお、表1の試料番号3ないし試料番号6のデータが第1の実施の形態に対応する積層セラミックコンデンサ10のデータであり、試料番号9ないし試料番号12のデータが第2の実施の形態に対応する積層セラミックコンデンサ10のデータであり、試料番号15ないし試料番号18のデータが第3の実施の形態に積層セラミックコンデンサ10のデータである。
As shown in Table 1, 20 samples of sample number 1 to sample number 19 were prepared for each sample number. Next, a high-temperature load test was performed at 150 ° C. and 12 V, and the time when the insulation resistance became 10 KΩ or less was determined to be a failure. MTTF was calculated from this failure time and compared. The results are shown in Table 1.
The data of sample numbers 3 to 6 in Table 1 are the data of the multilayer ceramic capacitor 10 corresponding to the first embodiment, and the data of sample numbers 9 to 12 are the data of the second embodiment. It is the data of the corresponding multilayer ceramic capacitor 10, and the data of the sample number 15 to the sample number 18 is the data of the multilayer ceramic capacitor 10 in the third embodiment.

Figure 2021015925
Figure 2021015925

表1の外層近傍とは、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部に接する第1または第2の内部電極層である。
表1のWギャップ近傍とは、内層部における第1の側面側の内層部の最表面から幅方向yに向かって内部電極層側に5μm入った領域A内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向yに向かって内部電極層側に5μm入った領域Aの内の第1の内部電極層または第2の内部電極層である。
表1のwt%とは、Cu2O/BaTiO3の値である。
表1のat%とは、Cu/(Ni+Cu)の値である。
MTTFとは、平均故障間隔のことで、故障するまでの時間である。
The vicinity of the outer layer in Table 1 is a first or second inner electrode layer in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion.
The vicinity of the W gap in Table 1 refers to the inner layer portion in the region A and the inner layer portion on the second side surface side, which is 5 μm in the inner electrode layer side in the width direction y from the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side in the inner layer portion. It is the first internal electrode layer or the second internal electrode layer in the region A having 5 μm on the internal electrode layer side in the width direction y from the outermost surface of the above.
The wt% in Table 1 is the value of Cu 2 O / BaTIO 3 .
At% in Table 1 is a value of Cu / (Ni + Cu).
MTTF is the mean time between failures, which is the time until failure.

積層セラミックコンデンサのサンプルに150℃で、12Vの負荷をかけた場合に、絶縁抵抗が10KΩ以下になれば、故障したと判断した。
このため、積層セラミックコンデンサに150℃で、12Vの負荷をかけた場合に、絶縁抵抗が10KΩ以下になるまでの時間がMTTFになる。
また、積層セラミックコンデンサに150℃で、12Vの負荷をかけた高温負荷試験を行った場合に、MTTFは70時間以上であることが望まれる。
このため、本実験では、積層セラミックコンデンサに150℃、12Vで高温負荷試験を行って、MTTFが70時間以上になる積層セラミックコンデンサを良好と判定した。
When a load of 12 V was applied to the sample of the multilayer ceramic capacitor at 150 ° C., if the insulation resistance became 10 KΩ or less, it was judged that the failure occurred.
Therefore, when a load of 12 V is applied to the monolithic ceramic capacitor at 150 ° C., the time until the insulation resistance becomes 10 KΩ or less becomes MTTF.
Further, when a high temperature load test in which a load of 12 V is applied to a monolithic ceramic capacitor at 150 ° C. is performed, it is desirable that the MTTF is 70 hours or more.
Therefore, in this experiment, a high-temperature load test was performed on the monolithic ceramic capacitor at 150 ° C. and 12 V, and the monolithic ceramic capacitor having an MTTF of 70 hours or more was judged to be good.

(評価)
試料番号1は、外層近傍、およびWギャップ近傍にCuは固溶されておらず、MTTFは29時間である。このため、試料番号1は不良と判定された。試料番号1が不良と判定されたのは、外層近傍、およびWギャップ近傍にCuは固溶されていないからであると考えられる。
試料番号2は、外層近傍にCuが固溶されており、Wギャップ近傍にはCuが固溶されてはおらず、外層近傍のCu量は0.10at%であり、MTTFは33時間であった。このため、試料番号2は不良と判定された。試料番号2が不良と判定されたのは、外層近傍に固溶されたCuが少なすぎるために効果がなかったからであると考えられる。
(Evaluation)
In sample No. 1, Cu is not dissolved in the vicinity of the outer layer and the vicinity of the W gap, and the MTTF is 29 hours. Therefore, sample number 1 was determined to be defective. It is considered that the reason why Sample No. 1 was determined to be defective is that Cu was not dissolved in the vicinity of the outer layer and the vicinity of the W gap.
In sample No. 2, Cu was solid-dissolved in the vicinity of the outer layer, Cu was not solid-dissolved in the vicinity of the W gap, the amount of Cu in the vicinity of the outer layer was 0.10 at%, and the MTTF was 33 hours. .. Therefore, sample number 2 was determined to be defective. It is probable that the reason why Sample No. 2 was determined to be defective was that there was no effect because the amount of Cu dissolved in the vicinity of the outer layer was too small.

試料番号3ないし試料番号6は、外層近傍にCuが固溶されており、Wギャップ近傍にはCuが固溶されてはおらず、外層近傍のCu量は0.10at%以上8.61at%以下であり、MTTFは73時間ないし95時間であった。このため、試料番号3ないし試料番号6は良好と判定された。試料番号3ないし試料番号6が良好と判定されたのは、外層近傍で固溶されたCu量が0.1at%以上8.5at%以下の範囲内にあったため、外部電極を焼付けする際の内部電極層と外部電極との拡散係数差によって生じる外部電極と内部電極層との接合部に空隙が形成されることが抑制されることから、積層セラミックコンデンサに対するめっき液の浸入や水分の浸入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができるためであると考えられる。 In sample numbers 3 to 6, Cu is solid-dissolved in the vicinity of the outer layer, Cu is not solid-dissolved in the vicinity of the W gap, and the amount of Cu in the vicinity of the outer layer is 0.10 at% or more and 8.61 at% or less. The MTTF was 73 to 95 hours. Therefore, sample number 3 to sample number 6 were judged to be good. Sample Nos. 3 to 6 were judged to be good because the amount of Cu dissolved in the vicinity of the outer layer was in the range of 0.1 at% or more and 8.5 at% or less, so that when the external electrode was baked. Since the formation of voids at the joint between the external electrode and the internal electrode layer caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer and the external electrode is suppressed, the infiltration of the plating solution or the infiltration of water into the multilayer ceramic capacitor is caused. This is considered to be because the deterioration of the insulation resistance can be suppressed.

試料番号7は、外層近傍にCuが固溶されており、Wギャップ近傍にはCuが固溶されてはおらず、外層近傍のCu量は9.88at%であり、MTTFは22時間であった。このため、試料番号7は不良と判定された。試料番号7が不良と判定されたのは、Cuが多すぎると融点が低下するため、内部電極端部が溶融して表面エネルギーを最小化するために球状化する。それによって誘電体素子が圧迫されて肉薄化する。そのため、電圧印加時にその肉薄箇所に電界が集中しやすくなり、高温負荷寿命が低下からであると考えられる。
試料番号8は、外層近傍にはCuは固溶されてはおらず、Wギャップ近傍にはCuが固溶されており、Wギャップ近傍のCu量は0.04at%であり、MTTFは35時間であった。このため、試料番号8は不良と判定された。試料番号8が不良と判定されたのは、Wギャップ近傍に固溶されたCuが少なすぎるために効果がなかったからであると考えられる。
In sample No. 7, Cu was solid-dissolved in the vicinity of the outer layer, Cu was not solid-dissolved in the vicinity of the W gap, the amount of Cu in the vicinity of the outer layer was 9.88 at%, and the MTTF was 22 hours. .. Therefore, sample number 7 was determined to be defective. The reason why sample number 7 was determined to be defective is that if the amount of Cu is too large, the melting point is lowered, so that the end portion of the internal electrode is melted and spheroidized in order to minimize the surface energy. As a result, the dielectric element is compressed and thinned. Therefore, it is considered that the electric field tends to be concentrated on the thin portion when the voltage is applied, and the high temperature load life is shortened.
In sample No. 8, Cu was not solid-dissolved in the vicinity of the outer layer, Cu was solid-dissolved in the vicinity of the W gap, the amount of Cu in the vicinity of the W gap was 0.04 at%, and the MTTF was 35 hours. there were. Therefore, sample number 8 was determined to be defective. It is probable that the reason why the sample number 8 was determined to be defective was that there was no effect because the amount of Cu dissolved in the vicinity of the W gap was too small.

試料番号9ないし試料番号12は、外層近傍にはCuは固溶されてはおらず、Wギャップ近傍にはCuが固溶されており、Wギャップ近傍のCu量は0.11at%以上8.44at%以下であり、MTTFは76時間以上86時間以下であった。このため、試料番号9ないし試料番号12は良好と判定された。試料番号9ないし試料番号12が良好と判定されたのは、Wギャップ近傍で固溶されたCu量が0.1at%以上8.5at%以下の範囲内にあったため、外部電極を焼付けする際の内部電極層と外部電極との拡散係数差によって生じる外部電極と内部電極層との接合部に空隙が形成されることが抑制されることから、積層セラミックコンデンサに対するめっき液の浸入や水分の浸入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができるためであると考えられる。 In sample numbers 9 to 12, Cu is not solid-dissolved in the vicinity of the outer layer, Cu is solid-dissolved in the vicinity of the W gap, and the amount of Cu in the vicinity of the W gap is 0.11 at% or more and 8.44 at. % Or less, and MTTF was 76 hours or more and 86 hours or less. Therefore, sample numbers 9 to 12 were judged to be good. Sample No. 9 to Sample No. 12 were judged to be good because the amount of Cu dissolved in the vicinity of the W gap was in the range of 0.1 at% or more and 8.5 at% or less, so that when the external electrode was baked. Since the formation of voids at the joint between the external electrode and the internal electrode layer caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer and the external electrode is suppressed, the infiltration of the plating solution and the infiltration of moisture into the multilayer ceramic capacitor are suppressed. It is considered that this is because the deterioration of the insulation resistance due to the above can be suppressed.

試料番号13は、外層近傍にはCuは固溶されてはおらず、Wギャップ近傍にはCuが固溶されており、Wギャップ近傍のCu量は10.10at%であり、MTTFは24時間であった。このため、試料番号13は不良と判定された。試料番号13が不良と判定されたのは、Wギャップ近傍で固溶されたCuが多すぎると融点が低下するため、内部電極端部が溶融して表面エネルギーを最小化するために球状化する。それによって誘電体素子が圧迫されて肉薄化する。そのため、電圧印加時にその肉薄箇所に電界が集中しやすくなり、高温負荷寿命が低下からであると考えられる。
試料番号14は、外層近傍、およびWギャップ近傍にCuが固溶されており、外層近傍のCu量は0.05at%であり、Wギャップ近傍のCu量は0.04at%であり、MTTFは29時間であった。このため、試料番号14は不良と判定された。試料番号14が不良と判定されたのは、外層近傍、およびWギャップ近傍に固溶されたCuが少なすぎるために効果がなかったからであると考えられる。
In sample No. 13, Cu was not solid-dissolved in the vicinity of the outer layer, Cu was solid-dissolved in the vicinity of the W gap, the amount of Cu in the vicinity of the W gap was 10.10 at%, and the MTTF was 24 hours. there were. Therefore, sample number 13 was determined to be defective. The reason why sample number 13 was determined to be defective is that if too much Cu is dissolved in the vicinity of the W gap, the melting point decreases, so the end of the internal electrode melts and becomes spheroidized in order to minimize surface energy. .. As a result, the dielectric element is compressed and thinned. Therefore, it is considered that the electric field tends to be concentrated on the thin portion when the voltage is applied, and the high temperature load life is shortened.
In sample number 14, Cu is dissolved in the vicinity of the outer layer and the vicinity of the W gap, the amount of Cu in the vicinity of the outer layer is 0.05 at%, the amount of Cu in the vicinity of the W gap is 0.04 at%, and the MTTF is It was 29 hours. Therefore, sample number 14 was determined to be defective. It is considered that the reason why the sample number 14 was determined to be defective was that there was no effect because the amount of Cu dissolved in the vicinity of the outer layer and the vicinity of the W gap was too small.

試料番号15ないし試料番号18は、外層近傍、およびWギャップ近傍にCuが固溶されており、外層近傍のCu量は0.10at%以上8.61at%以下であり、Wギャップ近傍のCu量は0.11at%以上8.44at%以下であり、MTTFは81時間ないし98時間であった。このため、試料番号15ないし試料番号18は良好と判定された。試料番号15ないし試料番号18が良好と判定されたのは、外層近傍、およびWギャップ近傍に固溶されたCu量がほぼ0.1at%以上8.5at%以下の範囲内にあったため、外部電極を焼付けする際の内部電極層と外部電極との拡散係数差によって生じる外部電極と内部電極層との接合部に空隙が形成されることが抑制されることから、積層セラミックコンデンサに対するめっき液の浸入や水分の浸入による絶縁抵抗の劣化を抑制することができるためであると考えられる。 In sample numbers 15 to 18, Cu is dissolved in the vicinity of the outer layer and the vicinity of the W gap, and the amount of Cu in the vicinity of the outer layer is 0.10 at% or more and 8.61 at% or less, and the amount of Cu in the vicinity of the W gap. Was 0.11 at% or more and 8.44 at% or less, and MTTF was 81 hours to 98 hours. Therefore, sample numbers 15 to 18 were judged to be good. Sample numbers 15 to 18 were judged to be good because the amount of Cu dissolved in the vicinity of the outer layer and the vicinity of the W gap was in the range of approximately 0.1 at% or more and 8.5 at% or less. Since the formation of voids at the joint between the external electrode and the internal electrode layer caused by the difference in diffusion coefficient between the internal electrode layer and the external electrode when the electrode is baked is suppressed, the plating solution for the multilayer ceramic capacitor can be used. It is considered that this is because the deterioration of the insulation resistance due to the infiltration and the infiltration of water can be suppressed.

試料番号19は、外層近傍、およびWギャップ近傍にCuが固溶されており、外層近傍にCuのCu量は9.88at%であり、Wギャップ近傍のCu量は10.10at%であり、MTTFは19時間であった。このため、試料番号19は不良と判定された。試料番号19が不良と判定されたのは、外層近傍、およびWギャップ近傍で固溶されたCuが多すぎると融点が低下するため、内部電極端部が溶融して表面エネルギーを最小化するために球状化する。それによって誘電体素子が圧迫されて肉薄化する。そのため、電圧印加時にその肉薄箇所に電界が集中しやすくなり、高温負荷寿命が低下からであると考えられる。 In sample number 19, Cu is solid-dissolved in the vicinity of the outer layer and the vicinity of the W gap, the amount of Cu in the vicinity of the outer layer is 9.88 at%, and the amount of Cu in the vicinity of the W gap is 10.10 at%. The MTTF was 19 hours. Therefore, sample number 19 was determined to be defective. The reason why sample number 19 was determined to be defective is that if too much Cu is dissolved in the vicinity of the outer layer and the vicinity of the W gap, the melting point decreases, and the end of the internal electrode melts to minimize the surface energy. Spheroidized. As a result, the dielectric element is compressed and thinned. Therefore, it is considered that the electric field tends to be concentrated on the thin portion when the voltage is applied, and the high temperature load life is shortened.

ここで、焼成後の積層セラミックコンデンサ(積層体)において、第1の主面側外層および第2の主面側外層部(積層方向xの無効層)に接した内部電極層の中にCuが存在していることは以下のようにして確認した。
第1の主面側外層部および第2の主面側外層部に接した内部電極層の中にCuが存在することおよびその量の確認をFE−WDXで確認した。
Here, in the laminated ceramic capacitor (laminated body) after firing, Cu is contained in the internal electrode layer in contact with the first main surface side outer layer and the second main surface side outer layer portion (invalid layer in the stacking direction x). It was confirmed that it existed as follows.
It was confirmed by FE-WDX that Cu was present in the inner electrode layer in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion and the amount thereof was confirmed.

(1)研磨
まず、各試料の第1の端面と第2の端面を結ぶ方向が作業面と垂直になるように立てて、各試料の周りを樹脂で固めた。
研磨機により、WT面(第1の端面12eまたは第2の端面12f)を研磨面として研磨を行い、積層体の長さ方向zの1/2程度の深さで研磨を終了させ、WT断面を出した。
そして、研磨による内部電極のダレをなくすために、研磨終了後、イオンミリングにより研磨表面を加工した。
なお、長さ方向zは1/2程度である必要はないが、引出電極部を露出させることが望ましい。これは長さ方向zの研磨距離が短いと外部電極から拡散してきたCuとの区別がつかないためである。
(1) Polishing First, the direction connecting the first end face and the second end face of each sample was erected so as to be perpendicular to the work surface, and the circumference of each sample was hardened with resin.
Polishing is performed using the WT surface (first end surface 12e or second end surface 12f) as the polishing surface by a polishing machine, and the polishing is completed at a depth of about 1/2 of the length direction z of the laminated body, and the WT cross section is cross-sectioned. Was issued.
Then, in order to eliminate the sagging of the internal electrode due to polishing, the polished surface was processed by ion milling after the polishing was completed.
The length direction z does not have to be about 1/2, but it is desirable to expose the extraction electrode portion. This is because if the polishing distance in the length direction z is short, it is indistinguishable from Cu diffused from the external electrode.

(2)内部電極層の組成分析
次に、試料番号1ないし資料番号7の積層セラミックコンデンサの各試料については、図1に示す通り、WT断面の長さ方向z1/2程度において、試料の内部電極層が積層されている領域から、第1の主面側外層部18aおよび第2の主面側外層部18bに接した第1の内部電極層22aまたは第2の内部電極層22b、内層部16における第1の側面12c側の内層部16の最表面から幅方向yに向かって内部電極層22側に5μm入った領域A内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向yに向かって内部電極層側に5μm入った領域Aの内の第1の内部電極層および第2の内部電極層からそれぞれ1本ずつ内部電極層を選んだ。それぞれの内部電極層の10箇所に対して、FE−WDXを用いてNiとCuの定量分析を実施した。なお、FE−WDX、JXA−8500F(JEOL製)を用い、加速電圧は15kV、照射電流50nAで測定した。
また、第1の主面側外層部および第2の主面側外層部と接した第1の内部電極層又は第2の内部電極層は、任意の10箇所を測定し、内層部における第1の側面側の内層部の最表面から幅方向yに向かって内部電極層側に5μm入った領域A内および第2の側面側の内層部の最表面から幅方向yに向かって内部電極層側に5μm入った領域Aの内の第1の内部電極層および第2の内部電極層は、それぞれの両端部の領域A内において左右任意に5箇所を選び測定した。
(2) Composition Analysis of Internal Electrode Layer Next, for each sample of the multilayer ceramic capacitor of Sample No. 1 to Document No. 7, as shown in FIG. 1, the inside of the sample is about z1 / 2 in the length direction of the WT cross section. From the region where the electrode layers are laminated, the first internal electrode layer 22a or the second internal electrode layer 22b, the inner layer portion, which is in contact with the first main surface side outer layer portion 18a and the second main surface side outer layer portion 18b. In region A having 5 μm on the inner electrode layer 22 side in the width direction y from the outermost surface of the inner layer portion 16 on the first side surface 12c side of 16, and in the width direction y from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. One internal electrode layer was selected from each of the first internal electrode layer and the second internal electrode layer in the region A having 5 μm on the internal electrode layer side. Quantitative analysis of Ni and Cu was performed using FE-WDX at 10 points on each internal electrode layer. Using FE-WDX and JXA-8500F (manufactured by JEOL), the measurement was performed at an acceleration voltage of 15 kV and an irradiation current of 50 nA.
Further, for the first internal electrode layer or the second internal electrode layer in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion, any 10 points are measured, and the first in the inner layer portion. In the region A having 5 μm in the inner electrode layer side from the outermost surface of the inner layer portion on the side surface side in the width direction y, and on the inner electrode layer side in the width direction y from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. The first internal electrode layer and the second internal electrode layer in the region A having a size of 5 μm were measured by arbitrarily selecting 5 locations on the left and right in the region A at both ends.

試料番号8ないし試料番号13の積層セラミックコンデンサの各試料については、焼成後の積層セラミックコンデンサ(積層体)において、第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20b(幅方向yの無効層)から内側(有効層側)の5μm以内の位置の内部電極層中にCuが存在しているかどうかを確認した。確認方法は、第1の実施の形態の方法と同様である。 For each sample of the multilayer ceramic capacitor of sample number 8 to sample number 13, in the laminated ceramic capacitor (laminated body) after firing, the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b (width direction y). It was confirmed whether or not Cu was present in the internal electrode layer located within 5 μm from the ineffective layer) to the inside (effective layer side). The confirmation method is the same as the method of the first embodiment.

また、試料番号14ないし試料番号18の積層セラミックコンデンサの各試料については、焼成後の積層セラミックコンデンサ10(積層体12)において、第1の主面側外層部18aおよび第2の主面側外層部18b(積層方向xの無効層)に接した内部電極層22、ならびに第1の側面側外層部20aおよび第2の側面側外層部20b(幅方向yの無効層)から内側(有効層側)の5μm以内の位置の内部電極層中にCuが存在しているかどうかを確認した。確認方法は、第1の実施の形態の方法と同様である。 Further, for each sample of the laminated ceramic capacitor of sample number 14 to sample number 18, in the laminated ceramic capacitor 10 (laminated body 12) after firing, the first main surface side outer layer portion 18a and the second main surface side outer layer The internal electrode layer 22 in contact with the portion 18b (invalid layer in the stacking direction x), and the first side surface side outer layer portion 20a and the second side surface side outer layer portion 20b (invalid layer in the width direction y) to the inside (effective layer side). ), It was confirmed whether Cu was present in the internal electrode layer at a position within 5 μm. The confirmation method is the same as the method of the first embodiment.

積層セラミックコンデンサに対して、150℃で、12Vの負荷をかけた条件による高温負荷試験を行った場合、MTTFは70時間以上であることが望まれる。
ここで実験例では、試料番号3ないし試料番号6、試料番号9ないし試料番号12、および試料番号15ないし試料番号18は、150℃で、12Vの負荷をかけても、MTTFは70時間以上であった。
このため、試料番号3ないし試料番号6、試料番号9ないし試料番号12、および試料番号15ないし試料番号18のような構成を有する積層セラミックコンデンサ10は、最も適切な積層セラミックコンデンサ10であることが明らかになった。
以上の結果から、本発明にかかる積層セラミックコンデンサ10の効果が立証された。
When a high-temperature load test is performed on a monolithic ceramic capacitor at 150 ° C. under a load of 12 V, it is desirable that the MTTF is 70 hours or more.
Here, in the experimental example, sample numbers 3 to 6, sample numbers 9 to 12, and sample numbers 15 to 18 have MTTFs of 70 hours or more even when a load of 12 V is applied at 150 ° C. there were.
Therefore, the multilayer ceramic capacitor 10 having a configuration such as sample number 3 to sample number 6, sample number 9 to sample number 12, and sample number 15 to sample number 18 may be the most suitable multilayer ceramic capacitor 10. It was revealed.
From the above results, the effect of the multilayer ceramic capacitor 10 according to the present invention was proved.

なお、以上のように、本発明の実施の形態は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施の形態に対し、機序、形状、材質、数量、位置又は配置等に関して、様々の変更を加えることができるものであり、それらは、本発明に含まれるものである。
As described above, the embodiments of the present invention are disclosed in the above description, but the present invention is not limited thereto.
That is, various changes can be made to the above-described embodiments with respect to the mechanism, shape, material, quantity, position, arrangement, etc., without departing from the scope of the technical idea and purpose of the present invention. They are, and they are included in the present invention.

10 積層セラミックコンデンサ
12 積層体
12a 第1の主面
12b 第2の主面
12c 第1の側面
12d 第2の側面
12e 第1の端面
12f 第2の端面
14 誘電体層
16 内層部
16a 第1の主面側の内層部の最表面
16b 第2の主面側の内層部の最表面
16c 第1の側面側の内層部の最表面
16d 第2の側面側の内層部の最表面
18a 第1の主面側外層部
18b 第2の主面側外層部
20a 第1の側面側外層部
20b 第2の側面側外層部
22 内部電極層
22a 第1の内部電極層
22b 第2の内部電極層
22c 浮き内部電極層
24 対向電極部
24a 第1の対向電極部
24b 第2の対向電極部
26a 第1の引出電極部
26b 第2の引出電極部
28 側部(Wギャップ)
30 外部電極
30a 第1の外部電極
30b 第2の外部電極
32 下地電極層
32a 第1の下地電極層
32b 第2の下地電極層
34 めっき層
34a 第1のめっき層
34b 第2のめっき層
x 積層方向
y 幅方向
z 長さ方向
10 Multilayer ceramic capacitor 12 Laminated body 12a First main surface 12b Second main surface 12c First side surface 12d Second side surface 12e First end surface 12f Second end surface 14 Dielectric layer 16 Inner layer part 16a First The outermost surface of the inner layer on the main surface side 16b The outermost surface of the inner layer on the second main surface side 16c The outermost surface of the inner layer on the first side surface 16d The outermost surface of the inner layer on the second side surface 18a First Main surface side outer layer part 18b Second main surface side outer layer part 20a First side surface side outer layer part 20b Second side side outer layer part 22 Internal electrode layer 22a First internal electrode layer 22b Second internal electrode layer 22c Floating Internal electrode layer 24 Counter electrode portion 24a First counter electrode portion 24b Second counter electrode portion 26a First extraction electrode portion 26b Second extraction electrode portion 28 Side portion (W gap)
30 External electrode 30a First external electrode 30b Second external electrode 32 Base electrode layer 32a First base electrode layer 32b Second base electrode layer 34 Plating layer 34a First plating layer 34b Second plating layer x Lamination Direction y Width direction z Length direction

Claims (3)

積層された複数の誘電体層を含み、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、を含む積層体と、
前記複数の誘電体層と交互に積層され、前記第1の端面に引き出される第1の内部電極層と、
前記複数の誘電体層と交互に積層され、前記第2の端面に引き出される第2の内部電極層と、
前記第1の内部電極層に接続され、前記第1の端面上に配置された第1の外部電極と、
前記第2の内部電極層に接続され、前記第2の端面上に配置された第2の外部電極と、
を有する積層セラミックコンデンサにおいて、
前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層はNiを含み、
前記積層体は、複数の前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層とが対向する内層部と、
前記第1の主面側に位置し、前記第1の主面と前記第1の主面側の前記内層部の最表面とその最表面の延長線上との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第1の主面側外層部と、
前記第2の主面側に位置し、前記第2の主面と前記第2の主面側の前記内層部の最表面とその最表面の延長線上との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の主面側外層部と、
前記第1の側面側に位置し、前記第1の側面と前記第1の側面側の前記内層部の最表面との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第1の側面側外層部と、
前記第2の側面側に位置し、前記第2の側面と前記第2の側面側の前記内層部の最表面との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第2の側面側外層部と、
を有し、
前記第1の主面側外層部および前記第2の主面側外層部と接する前記内層部の前記第1の内部電極層または前記第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、
前記第1の主面側外層部および前記第2の主面側外層部と接する前記内層部の前記第1の内部電極層または前記第2の内部電極層(Cuが固溶する前記第1の内部電極層または前記第2の内部電極層)におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.1mol以上8.61mol以下である、積層セラミックコンデンサ。
A first main surface and a second main surface that include a plurality of laminated dielectric layers and face each other in the stacking direction, and a first side surface and a second side surface that face each other in the width direction orthogonal to the stacking direction. A laminate including a first end face and a second end face facing each other in the length direction orthogonal to the stacking direction and the width direction.
A first internal electrode layer that is alternately laminated with the plurality of dielectric layers and drawn out to the first end face,
A second internal electrode layer that is alternately laminated with the plurality of dielectric layers and drawn out to the second end face.
With the first external electrode connected to the first internal electrode layer and arranged on the first end face,
With the second external electrode connected to the second internal electrode layer and arranged on the second end face,
In a multilayer ceramic capacitor with
The first internal electrode layer and the second internal electrode layer contain Ni and contain Ni.
The laminated body includes a plurality of inner layer portions in which the first internal electrode layer and the second internal electrode layer face each other.
The plurality of dielectrics located on the first main surface side and between the first main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first main surface side and an extension line of the outermost surface. The first main surface side outer layer formed from the layers,
A plurality of dielectric layers located on the second main surface side and between the outermost surface of the inner layer portion on the second main surface side and the extension line of the outermost surface. The second main surface side outer layer formed from
A first side surface side formed from the plurality of dielectric layers located on the first side surface side and located between the first side surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side. With the outer layer
A second side surface side formed from the plurality of dielectric layers located on the second side surface side and located between the second side surface and the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. With the outer layer
Have,
Cu is solid-solved only in the first internal electrode layer or the second internal electrode layer of the inner layer portion in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. ,
The first internal electrode layer or the second internal electrode layer (the first in which Cu is solid-dissolved) of the inner layer portion in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion. A multilayer ceramic capacitor having a Cu content of 0.1 mol or more and 8.61 mol or less when the total of Ni and Cu in the internal electrode layer or the second internal electrode layer is 100 mol.
積層された複数の誘電体層を含み、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、を含む積層体と、
前記複数の誘電体層と交互に積層され、前記第1の端面に引き出される第1の内部電極層と、
前記複数の誘電体層と交互に積層され、前記第2の端面に引き出される第2の内部電極層と、
前記第1の内部電極層に接続され、前記第1の端面上に配置された第1の外部電極と、
前記第2の内部電極層に接続され、前記第2の端面上に配置された第2の外部電極と、
を有する積層セラミックコンデンサにおいて、
前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層は、Niを含み、
前記積層体は、複数の前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層とが対向する内層部と、
前記第1の主面側に位置し、前記第1の主面と前記第1の主面側の前記内層部の最表面とその最表面の延長線上との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第1の主面側外層部と、
前記第2の主面側に位置し、前記第2の主面と前記第2の主面側の前記内層部の最表面とその最表面の延長線上との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の主面側外層部と、
前記第1の側面側に位置し、前記第1の側面と前記第1の側面側の前記内層部の最表面との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第1の側面側外層部と、
前記第2の側面側に位置し、前記第2の側面と前記第2の側面側の前記内層部の最表面との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第2の側面側外層部と、
を有し、
前記内層部における前記第1の側面側の前記内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および前記第2の側面側の前記内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内の前記第1の内部電極または前記第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、
前記第1の側面側の前記内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および前記第2の側面側の前記内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極側に5μm入った領域内の前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層(Cuが固溶する前記第1の内部電極層または前記第2の内部電極層)におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.11mol以上8.44mol以下である、積層セラミックコンデンサ。
A first main surface and a second main surface that include a plurality of laminated dielectric layers and face each other in the stacking direction, and a first side surface and a second side surface that face each other in the width direction orthogonal to the stacking direction. A laminate including a first end face and a second end face facing each other in the length direction orthogonal to the stacking direction and the width direction.
A first internal electrode layer that is alternately laminated with the plurality of dielectric layers and drawn out to the first end face,
A second internal electrode layer that is alternately laminated with the plurality of dielectric layers and drawn out to the second end face.
With the first external electrode connected to the first internal electrode layer and arranged on the first end face,
With the second external electrode connected to the second internal electrode layer and arranged on the second end face,
In a multilayer ceramic capacitor with
The first internal electrode layer and the second internal electrode layer contain Ni and contain Ni.
The laminated body includes a plurality of inner layer portions in which the first internal electrode layer and the second internal electrode layer face each other.
The plurality of dielectrics located on the first main surface side and between the first main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first main surface side and an extension line of the outermost surface. The first main surface side outer layer formed from the layers,
A plurality of dielectric layers located on the second main surface side and between the outermost surface of the inner layer portion on the second main surface side and the extension line of the outermost surface. The second main surface side outer layer formed from
A first side surface side formed from the plurality of dielectric layers located on the first side surface side and located between the first side surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side. With the outer layer
A second side surface side formed from the plurality of dielectric layers located on the second side surface side and located between the second side surface and the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. With the outer layer
Have,
In the inner layer portion, 5 μm in the inner electrode layer side from the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side in the width direction and in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. Cu is solid-solved only in the first internal electrode or the second internal electrode layer in the region 5 μm on the internal electrode layer side toward the surface.
Inside the region containing 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side toward the inner electrode layer side and inside from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side toward the width direction. Ni and Cu in the first internal electrode layer and the second internal electrode layer (the first internal electrode layer in which Cu is solidified or the second internal electrode layer) in a region containing 5 μm on the electrode side. A multilayer ceramic capacitor having a Cu content of 0.11 mol or more and 8.44 mol or less when the total of the above is 100 mol.
積層された複数の誘電体層を含み、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、を含む積層体と、
前記複数の誘電体層と交互に積層され、前記第1の端面に引き出される第1の内部電極層と、
前記複数の誘電体層と交互に積層され、前記第2の端面に引き出される第2の内部電極層と、
前記第1の内部電極層に接続され、前記第1の端面上に配置された第1の外部電極と、
前記第2の内部電極層に接続され、前記第2の端面上に配置された第2の外部電極と、
を有する積層セラミックコンデンサにおいて、
前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層は、Niを含み、
前記積層体は、複数の前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層とが対向する内層部と、
前記第1の主面側に位置し、前記第1の主面と前記第1の主面側の前記内層部の最表面とその最表面の延長線上との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第1の主面側外層部と、
前記第2の主面側に位置し、前記第2の主面と前記第2の主面側の前記内層部の最表面とその最表面の延長線上との間に位置する複数の誘電体層から形成される第2の主面側外層部と、
前記第1の側面側に位置し、前記第1の側面と前記第1の側面側の前記内層部の最表面との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第1の側面側外層部と、
前記第2の側面側に位置し、前記第2の側面と前記第2の側面側の前記内層部の最表面との間に位置する前記複数の誘電体層から形成される第2の側面側外層部と、
を有し、
前記第1の主面側外層部および前記第2の主面側外層部と接する前記内層部の前記第1の内部電極層または前記第2の内部電極層、並びに、前記内層部における前記第1の側面側の前記内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に向かって5μm入った領域内および前記第2の側面側の前記内層部の最表面から幅方向に向かって5μm入った領域内の前記第1の内部電極層または前記第2の内部電極層にのみ、Cuが固溶しており、
前記第1の主面側外層部および前記第2の主面側外層部に接する前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層におけるNiとSnとの合計を100molとしたときのSnの含有量が、0.1mol以上8.61mol以上であり、
前記第1の側面側の前記内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内および前記第2の側面側の前記内層部の最表面から幅方向に向かって内部電極層側に5μm入った領域内の前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層におけるNiとCuとの合計を100molとしたときのCuの含有量が、0.11mol以上8.44mol以下である、積層セラミックコンデンサ。
A first main surface and a second main surface that include a plurality of laminated dielectric layers and face each other in the stacking direction, and a first side surface and a second side surface that face each other in the width direction orthogonal to the stacking direction. A laminate including a first end face and a second end face facing each other in the length direction orthogonal to the stacking direction and the width direction.
A first internal electrode layer that is alternately laminated with the plurality of dielectric layers and drawn out to the first end face,
A second internal electrode layer that is alternately laminated with the plurality of dielectric layers and drawn out to the second end face.
With the first external electrode connected to the first internal electrode layer and arranged on the first end face,
With the second external electrode connected to the second internal electrode layer and arranged on the second end face,
In a multilayer ceramic capacitor with
The first internal electrode layer and the second internal electrode layer contain Ni and contain Ni.
The laminated body includes a plurality of inner layer portions in which the first internal electrode layer and the second internal electrode layer face each other.
The plurality of dielectrics located on the first main surface side and between the first main surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first main surface side and an extension line of the outermost surface. The first main surface side outer layer formed from the layers,
A plurality of dielectric layers located on the second main surface side and between the outermost surface of the inner layer portion on the second main surface side and the extension line of the outermost surface. The second main surface side outer layer formed from
A first side surface side formed from the plurality of dielectric layers located on the first side surface side and located between the first side surface and the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side. With the outer layer
A second side surface side formed from the plurality of dielectric layers located on the second side surface side and located between the second side surface and the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. With the outer layer
Have,
The first inner electrode layer or the second inner electrode layer of the inner layer portion in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion, and the first in the inner layer portion. 5 μm in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the side surface side of the inner layer portion and 5 μm in the width direction from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side. Cu is solid-dissolved only in the first internal electrode layer or the second internal electrode layer in the region.
Sn when the total of Ni and Sn in the first internal electrode layer and the second internal electrode layer in contact with the first main surface side outer layer portion and the second main surface side outer layer portion is 100 mol. The content of is 0.1 mol or more and 8.61 mol or more.
Inside the region containing 5 μm from the outermost surface of the inner layer portion on the first side surface side toward the inner electrode layer side and inside from the outermost surface of the inner layer portion on the second side surface side toward the width direction. When the total of Ni and Cu in the first internal electrode layer and the second internal electrode layer in the region 5 μm on the electrode layer side is 100 mol, the Cu content is 0.11 mol or more. A multilayer ceramic capacitor having a size of 44 mol or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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