JP2020525805A - 表示パネルおよびその製造方法、表示装置 - Google Patents

Abstract

表示パネルおよびその製造方法、表示装置を提供する。該表示パネルは、対向して設置される第１基板（１００）と反射型の第２基板（２００）と、第１基板（１００）と第２基板（２００）との間に位置する液晶層（３００）と、液晶層（３００）の第２基板（２００）から遠い側に位置する第１偏光層（４００）と、液晶層（３００）と第２基板（２００）との間に位置するとともに、透過した光が第１偏光方向を有するように配置される第２偏光層（５００）と、を備え、液晶層（３００）に電圧が印加されない場合、液晶層（３００）と第１偏光層（４００）を透過した光は、第１偏光方向にほぼ垂直な第２偏光方向を有する。該表示パネルは、ノーマリブラックが図られ、表示画像のコントラストが向上し、表示効果が向上する。

Description

本願は、２０１７年６月２９日に出願された中国特許出願第２０１７１０５１３０５６．０号の優先権を主張し、ここで上記中国特許出願の開示全体が本願の一部として援用される。

本開示の少なくとも一実施例は、表示パネルおよびその製造方法、表示装置に関する。

反射型表示製品は、環境光で表示可能であり、低消費電力、軽量薄型などの利点を有するため、ますます人気が高まっている。しかしながら、従来の反射型表示製品は画像を表示する時、コントラスト不足で、表示効果が悪い。

本開示の少なくとも一実施例は、第１基板と、前記第１基板と対向して設置された反射型の第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に位置する液晶層と、前記液晶層の前記第２基板から遠い側に位置する第１偏光層と、前記液晶層と前記第２基板との間に位置するとともに、透過した光が第１偏光方向を有するように配置される第２偏光層と、を備え、前記液晶層に電圧が印加されない場合、前記液晶層と前記第１偏光層を透過した光は、前記第１偏光方向にほぼ垂直な第２偏光方向を有する表示パネルを提供する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルは、前記第１基板または前記第２基板の少なくとも一方に位置する配向層をさらに備え、前記配向層は、電圧が印加されない場合に前記液晶層が同じ初期ツイスト角を有するように配置される。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルにおいて、前記第１偏光層は、透過した光が前記第１偏光方向に垂直な第３偏光方向を有するように配置され、前記液晶層の前記初期ツイスト角は、０度とされる。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルにおいて、前記第１偏光層は、透過した光が前記第１偏光方向に平行な第３偏光方向を有するように配置され、前記液晶層の前記初期ツイスト角は、９０度とされる。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルにおいて、前記第２偏光層は、ナノグレーティングに配置される。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルにおいて、前記第１偏光層は、前記第１基板と前記第２基板との間に設置され、あるいは前記第１偏光層は、前記第１基板の前記第２基板から遠い側に設置される。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルにおいて、前記表示パネルは、複数の画素ユニットを含み、前記画素ユニットごとには、少なくとも１つのサブ画素ユニットが含まれ、隣接する前記サブ画素ユニット間における間隔領域は、ノーマリブラックである。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルにおいて、前記第２基板は、複数のゲート線とデータ線を含み、前記ゲート線と前記データ線は、少なくとも１つの前記サブ画素ユニットを定めるように、相互に交差し、前記第２基板の前記サブ画素ユニットの各々に対応する位置には、画素電極が設置される。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルにおいて、前記画素電極は、反射電極に配置され、且つ前記第２偏光層と前記第２基板との間に位置する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルにおいて、前記第１基板の前記液晶層と対向側には、共通電極が設置され、前記画素電極と前記共通電極は、前記液晶層に電圧を印加して、前記サブ画素ユニットに対応する前記液晶層のツイスト度を調整するように配置される。

本開示の少なくとも一実施例は、上記実施例のいずれかに記載の表示パネルを備える表示装置を提供する。

本開示の少なくとも一実施例は、第１基板を提供するとともに、前記第１基板上に第１偏光層を形成するステップと、反射型の第２基板を提供するとともに、前記第２基板上に、透過した光が第１偏光方向を有するようにする第２偏光層を形成するステップと、前記第１基板と前記第２基板を対向して設置し、且つ前記第１基板と前記第２基板との間に液晶層を形成するステップと、を含み、前記第１偏光層は、前記液晶層の前記第２基板から遠い側に形成され、前記第２偏光層は、前記第２基板と前記液晶層との間に形成され、前記液晶層に電圧が印加されない場合、前記液晶層と前記第１偏光層を透過した光は、前記第１偏光方向にほぼ垂直な第２偏光方向を有する表示パネルの製造方法を提供する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法は、前記第１基板または前記第２基板の少なくとも一方において、電圧が印加されない場合に前記液晶層が同じ初期ツイスト角を有するようにする配向層を形成するステップをさらに含んでもよい。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法において、前記第１偏光層は、透過した光が前記第１偏光方向に垂直な第３偏光方向を有するようにされ、且つ、前記液晶層の前記初期ツイスト角は、０度とされ、あるいは 前記第１偏光層は、透過した光が前記第１偏光方向に平行な第３偏光方向を有するようにされ、且つ、前記液晶層の前記初期ツイスト角は、９０度とされる。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法は、前記第１基板の前記液晶層と対向側に共通電極を形成し、前記第２基板の前記液晶層と対向側に画素電極を形成するステップをさらに含んでもよく、前記画素電極と前記共通電極は、前記液晶層に電圧を印加して、前記サブ画素ユニットに対応する前記液晶層のツイスト度を調整する。

以下、本発明の実施例に係る技術手段をより明確に説明するために、実施例の図面について簡単に説明する。以下に説明する図面は、本発明のいくつかの実施例のみに関し、本発明を限定するものではないことが明白であろう。

本開示の一実施例に係る表示パネルの断面図である。 本開示の一実施例に係る表示パネルの部分断面図である。 本開示の一実施例に係る別の表示パネルの部分断面図である。 本開示の一実施例に係る表示パネルの平面図である。 図４に示される表示パネルにおける１つのサブ画素ユニットの部分構造模式図である。 図４に示される表示パネルのＭ−Ｎ線に沿った断面図である。 本開示の一実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。 本開示の一実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。 本開示の一実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。 本開示の一実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。 本開示の一実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。 本開示の一実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。 本開示の一実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。

本発明の実施例の目的、技術手段および利点をより明確にするために、以下、本発明の実施例の技術手段について、本発明の実施例の図面を参照しながら明確で完全に説明する。説明された実施例が本発明の一部の実施例のみであり、本発明の全ての実施例ではないことは明白であろう。当業者には、開示された本発明の実施例に基づき、容易に成し遂げることができた他の実施例の全ては本発明の精神から逸脱しない。

特に定義しない限り、本開示に使用された技術用語または科学用語は、当業者に理解される一般的な意味である。本発明に係る特許出願の明細書及び特許請求の範囲に使用される「第１」、「第２」のような用語は順序、数量または重要性を示すものではなく、異なる構成要素を区別するものにすぎない。「備える」、「含む」および類似する用語は、挙げられた要素に加えて、他の要素が共存してもよいことを意味する。「接続」や「連結」などのような用語は物理的または機械的接続に限定されなく、直接的や間接的にかかわらず電気的接続を含む。「上」、「下」、「左」、「右」などは相対的位置関係のみを示し、説明対象の絶対的位置が変わると、該相対位置関係もその分変わる。

本開示の少なくとも一実施例は、表示パネルおよびその製造方法、表示装置を提供する。該表示パネルは、第１基板、反射型の第２基板、液晶層、第１偏光層および第２偏光層を備えており、第１基板と第２基板は対向して設置され、液晶層は第１基板と第２基板との間に位置し、第１偏光層は液晶層の第２基板から遠い側に位置し、第２偏光層は液晶層と第２基板との間に位置するとともに、透過した光が第１偏光方向を有するように配置され、液晶層に電圧が印加されない場合、液晶層と第１偏光層を透過した光は第１偏光方向にほぼ垂直な第２偏光方向を有する。液晶層に電圧が印加されない場合、環境からの入射光が第１偏光層と液晶層を透過した後に第２偏光層を透過できないため、表示パネルは、ノーマリブラックが図られることで、表示パネルによる表示画像のコントラストが向上し、表示効果が向上する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、第２基板と第１基板の種類を制限しない。たとえば、第２基板と第１基板はそれぞれ、アレイ基板と、たとえばカラーフィルム基板のような対向基板であってもよい。

なお、本開示の少なくとも一実施例では、液晶層に電圧が印加されていないことは、表示パネルの作動状態に制限されない。たとえば、表示パネルの非表示状態では、液晶層全体に電圧が印加されていないので、表示パネル全体がブラックにあり、たとえば、表示パネルの表示状態では、液晶層の一部に電圧が印加されるので、表示パネルの該部分に対応する領域が第１領域とされており、残り部分に電圧が印加されないので、表示パネルの該部分に対応する領域が第２領域とされる。そうすると、表示パネルの第２領域に対応する部分がブラックにある。

以下、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルおよびその製造方法、表示装置について、図面を参照しながら詳細に説明する。

本開示の少なくとも一実施例は表示パネルを提供し、図１は本開示の一実施例に係る表示パネルの断面図である。たとえば、図１に示すように、表示パネルは、対向して設置される第１基板１００と反射型の第２基板２００、液晶層３００、第１偏光層４００および第２偏光層５００を備える。液晶層３００は、第１基板１００と第２基板２００との間に設置される。第１偏光層４００は、液晶層３００の第２基板２００から遠い側に設置される。第２偏光層５００は、透過した光が第１偏光方向を有するように配置されるとともに、液晶層３００と第２基板２００との間に設置される。液晶層３００は、電圧が印加されない場合、第１偏光層４００とともに、それらを透過した光が第１偏光方向にほぼ垂直な第２偏光方向を有するように配置される。たとえば、表示パネルの非表示状態（液晶層３００は初期状態を保持し、電圧が印加されていない）において、環境からの入射光は、第１偏光層４００と液晶層３００を透過してから、第２偏光方向を有する偏光光となる。第２偏光層５００は透過した光が第２偏光方向にほぼ垂直な第１偏光方向を有するようにされるため、第１偏光層４００と液晶層３００を透過した光は第２偏光層５００を透過できず、このように、環境からの入射光は表示パネルに入射した後、たとえば第２基板２００により反射されて出射することがなく、すなわち表示パネルはノーマリブラックを実現でき、表示パネルの表示状態では、表示画像のコントラストを向上させ、表示パネルの表示効果を向上させることができる。また、表示パネルの表示側において、第１偏光層４００を透過した入射光がすべて表示パネルに入り、従来の表示パネル構造に比べて、環境光がたとえばブラックマトリックスなどの構造に遮光されることがなく、すなわち、表示パネルの入光量を高め、表示パネルの表示状態では、表示画像の輝度を向上させることができる。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、第１基板１００はカラーフィルム基板であり、且つ複数のカラーフィルムユニットを含む。カラーフィルムユニットごとには表示パネルのサブ画素が対応付けられる（下記実施例のサブ画素ユニット７１０参照）。

なお、本開示の少なくとも一実施例では、第１偏光方向と第２偏光方向とはほぼ垂直であり、すなわち第１偏光方向は第２偏光方向に垂直であってもよく、第１偏光方向と第２偏光方向とのなす角は所定の角度範囲内に変化してもよい。たとえば、第１偏光方向と第２偏光方向とのなす角の範囲は約８０度〜９０度、更にたとえば約８５〜９０度であってもよい。表示パネルにおける液晶層３００に電圧が印加されない場合、液晶層３００、第１偏光層４００および第２偏光層５００を、それらを透過した光の透過率を許容範囲に下げ、すなわち表示パネルのノーマリブラックまたは略ノーマリブラックを実現できるように配置すればよく、この条件において第１偏光方向と第２偏光方向とのなす角を制限しない。以下、第１偏光方向が第２偏光方向に垂直であるものを例として、本開示の少なくとも１つの実施例の技術手段を説明する。

本開示の少なくとも一実施例では、第１偏光層４００の具体的な設置位置を限定しない。たとえば、図１に示すように、第１偏光層４００は第１基板１００と第２基板２００との間に設置されてもよく、第１基板１００の第２基板２００から遠い側に設置されてもよい。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、液晶層３００を仮配向し、液晶層３００は第１偏光層４００と組み合わせて、それらを透過した光が特定の偏光方向を有する（たとえば、液晶層３００に電圧が印加されない場合、それらを透過した光が第２偏光方向を有する）ようにされてもよい。たとえば、図１に示すように、本開示の少なくとも一実施例では、第２基板２００上には、配向層６００が設置されており、配向層６００は、第２基板２００と液晶層３００との間に位置してもよい。液晶層３００は、電圧が印加されない場合。同じ初期ツイスト角を有するように配置される。このようにして、液晶層３００に電圧が印加されない場合、入射光が第１偏光層４００と液晶層３００を透過した後に同一の偏光方向、たとえば第２偏光方向を有し、それにより入射光が第２偏光層５００を透過できず、表示パネルをノーマリブラックにする。

なお、本開示の少なくとも一実施例では、配向層６００は、第２基板２００に加えて、第１基板１００上に設置されてもよく、第１基板１００または第２基板２００の少なくとも一方に配向層６００が配置されればよい。その具体的な設置形態は下記実施例の関連内容を参照すればよく、ここで詳細な説明を省略する。

本開示の少なくとも一実施例では、液晶層３００に電圧が印加されない場合、入射光が第２偏光層５００に到達する前に第２偏光方向を有するのは、第１偏光層４００と液晶層３００の共同作用のためであり、従って、本開示の少なくとも一実施例では、第１偏光層４００と液晶層３００は、具体的な設置形態が制限されず、それらを透過した光が特定の偏光方向、たとえば第２偏光方向を有するようにすればよい。以下、本開示の少なくとも一実施例では、第１偏光層４００は透過した光が第３偏光方向を有するように配置されるものを例として、第１偏光層４００と液晶層３００との具体的な設置関係を説明する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、図２は、本開示の一実施例に係る表示パネルの部分断面図であり、示される領域の液晶層が電圧を印加されていない。たとえば、図２に示すように、液晶層３００の初期ツイスト角を約０度とすると、第１偏光層４００と第２偏光層５００は、透過した光の偏光方向が互いに垂直であり、すなわち第３偏光方向が第１偏光方向に垂直であるように配置される。液晶層３００に電圧が印加されない場合、液晶層３００が透過した光の偏光方向に影響を与えないので、入射光が第１偏光層４００と液晶層３００を透過した後、第３偏光方向に平行な第２偏光方向を有し、且つ該入射光が第２偏光層５００を透過できず、表示パネルがノーマリブラックを実現できる。

図２に示すように、液晶層３００の初期ツイスト角を０度とすると、液晶層３００の一側に配向層６００を設置し、たとえば第２基板２００の液晶層３００と対向側に配向層６００を設置可能である。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、図３は、本開示の一実施例に係る別の表示パネルの部分断面図であり、示される領域の液晶層が電圧を印加されていない。たとえば、図３に示すように、液晶層３００の初期ツイスト角を約９０度とすると、第１偏光層４００と第２偏光層５００は、第１偏光層４００を透過した光の偏光方向が第２偏光層５００を透過した光の偏光方向に平行であり、すなわち第３偏光方向が第１偏光方向に平行でありように配置される。液晶層３００に電圧が印加されない場合、液晶層３００が透過した光の偏光方向を約９０度偏向させ、それにより、入射光が第１偏光層４００と液晶層３００を透過した後、第３偏光方向に垂直な第２偏光方向を有し、従って、入射光が第２偏光層５００を透過できず、表示パネルがノーマリブラックを実現できる。

図３に示すように、液晶層３００の初期ツイスト角を９０度とすると、液晶層３００の両側に配向層６００を設置可能である。たとえば、第２基板２００の液晶層３００と対向側に第１配向層６１０を設置し、第１基板１００の液晶層３００と対向側に第２配向層６２０を設置するとともに、第１配向層６１０と第２配向層３２０の摩擦方向を垂直にすることで、液晶層３００の初期ツイスト角が９０度となる。

なお、本開示の少なくとも一実施例では、第１偏光層４００と第２偏光層５００の具体的な設置関係（第３偏光方向と第１偏光方向の関係）は、液晶層３００の初期ツイスト角に応じて決められる一方、液晶層３００の初期ツイスト角は実際の必要に応じて決められる。本開示の実施例では、液晶層３００の初期ツイスト角を制限しないため、第３偏光方向と第１偏光方向は上記した平行または垂直的関係に限定されない。たとえば、液晶層３００の初期ツイスト角を２０度としてもよく、この場合、第３偏光方向と第１偏光方向とのなす角を１１０度または７０度とされ、それでも表示パネルがノーマリブラックを実現できる。以下、図３に示される液晶層３００の初期ツイスト角を９０度とされ且つ第３偏光方向を第１偏光方向に平行とされるものを例として、本開示の少なくとも１つの実施例の技術手段を説明する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、図３に示すように、第２偏光層５００はナノグレーティングなどの構造に配置されてもよい。本開示の少なくとも一実施例では、該ナノグレーティング５００の具体的な構造に関わるパラメータを制限せず、透過した光が特定の偏光方向を有するようにすればよい。たとえば、ナノグレーティング５００は並設された複数の格子バーを含んでもよく、格子バーごとの幅は５０〜８０ナノメートルであってもよく、格子バーの幅と隣接する格子バー間の間隔距離との比は２／３〜１であり、ナノグレーティング５００のある面に垂直な方向において、格子バーの厚さは１５０〜２５０ナノメートルである。ナノグレーティング５００は、金属材料または重合体（たとえば、ポリジメチルシロキサン）などから構成されてもよいが、本開示の実施例では、それらに限定されない。たとえば、ナノグレーティング５００は、ナノインプリントなどにより第２基板２００上に製造される。

なお、本開示の少なくとも一実施例では、第１偏光層４００と第２偏光層５００の具体的な構造を制限しない。たとえば、第２偏光層５００は、上記ナノグレーティング構造に限定されず、透過した光が特定の偏光方向（たとえば、第１偏光方向）を有するようにすればよい。たとえば、該第２偏光層５００は偏光板などの構造も配置されてもよい。たとえば、第１偏光層４００は、偏光板、ナノグレーティングまたは偏光機能を有するほかの構造に配置されてもよい。

図４は、本開示の一実施例に係る表示パネルの平面図である。たとえば、図４に示すように、本開示の少なくとも一実施例では、表示パネルは複数の画素ユニット７００を含み、画素ユニット７００の各々は少なくとも１つのサブ画素ユニット７１０を含み、隣接するサブ画素ユニット７１０の間の領域は間隔領域７２０である。表示パネルの非表示状態では、サブ画素ユニット７１０および間隔領域７２０がともにブラックにあり、表示パネルの表示状態では、間隔領域７２０がブラックにある。つまり、隣接するサブ画素ユニット７１０の間の間隔領域７２０は、ノーマリブラックである。このようにして、表示パネルは、間隔領域７２０に対応するブラックマトリックス構造を設置する必要がなく、表示パネルの製造プロセスを簡略化し、コストを低減させる。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、画素ユニット７００に含まれるサブ画素ユニット７１０の種類と数量を制限しない。たとえば、各画素ユニット７００は赤色、緑色および青色の３色のサブ画素ユニット７１０を含んでもよい。

図５は、図４に示される表示パネルにおける１つのサブ画素ユニットの部分構造模式図である。たとえば図５に示すように、本開示の少なくとも一実施例では、第２基板２００は複数のゲート線８１０および複数のデータ線８２０を含んでもよい。ゲート線８１０とデータ線８２０は、少なくとも１つのサブ画素ユニット７１０を定めるように、相互に交差する。第２基板２００のサブ画素ユニット７１０ごとに対応する位置には、画素電極９１０が設置される。画素電極９１０のある領域は図５に示されるものに限定されず、画素電極９１０はゲート線８１０またはデータ線８２０を部分的に被覆するように設置されてもよく、その具体的な設置位置については実際の必要に応じて決められ、本開示では詳細な説明をしない。画素電極９１０は、サブ画素ユニット７１０における液晶層３００に電圧を印加して液晶層３００のツイスト度を変更することが可能であり、具体的な操作過程は下記実施例（図６に示される実施例）の関連内容を参照すればよく、ここで詳細な説明をしない。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、画素電極９１０は透明電極に配置されてもよい。そうすると、サブ画素ユニット７１０における入射光を反射するように、少なくともサブ画素ユニット７１０の第２基板に反射層が設置される。たとえば、画素電極９１０の製造材料は、透明導電材料または金属材料などを含める。たとえば、画素電極９１０の製造材料は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウムガリウム（ＩＧＯ）、酸化ガリウム亜鉛（ＧＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化アルミニウム亜鉛（ＡＺＯ）およびカーボンナノチューブなどを含める。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例では、図５に示すように、画素電極９１０は反射電極に配置されてもよい。たとえば、画素電極９１０は、第２偏光層と第２基板２００との間に位置する。そうすると、第２基板２００に反射層（入射光を反射するための構造）などの構造を増設する必要がない。たとえば、画素電極９１０は、アルミニウム、銅およびその合金などの金属導電材料を含める。以下、画素電極９１０を反射電極とするものを例として、後述する本開示の少なくとも一実施例の技術手段を説明する。

図６は、図４に示される表示パネルのＭ−Ｎ線に沿った断面図である。たとえば、図６に示すように、本開示の少なくとも一実施例では、表示パネルの第１基板１００の液晶層３００と対向側に共通電極９２０が設置されてもよい。画素電極９１０と共通電極９２０は、液晶層３００に電圧を印加してサブ画素ユニット７１０に対応する液晶層３００のツイスト度を調整するように配置されることで、サブ画素ユニット７１０の表示状態のオン・オフを制御し、且つサブ画素ユニット７１０の表示画像のグレースケールを制御することができる。なお、本開示では、共通電極９２０の具体的な設置位置を制限せず、第２基板２００のある面に垂直な方向において、共通電極９２０と画素電極９１０の間で電界を形成できればよい。共通電極９２０はストリップ電極とされ、且つサブ画素ユニット７１０における画素電極９１０に対応して設置されてもよい。また、共通電極９２０は、面状電極とされてもよい。

本開示の少なくとも一実施例では、図６に示すように、表示パネルが表示状態にあり、且つ図６に示されるサブ画素ユニット７１０が画像表示状態にある。

たとえば、図６に示すように、表示パネルのサブ画素ユニット７１０に対応する領域において、液晶層３００に対し画素電極９１０と共通電極９２０が電圧を印加した後、サブ画素ユニット７１０における液晶層３００のツイスト角が０度になり、この場合、サブ画素ユニット７１０における液晶層３００が第１偏光層４００を透過した光の偏光方向を影響せず、すなわち環境からの入射光は第１偏光層４００と液晶層３００を透過した後、第３偏光方向に平行な第２偏光方向を有し、且つ第３偏光方向が第２偏光層の第１偏光方向に平行である。そして、入射光が第２偏光層５００を透過して、画素電極９１０により反射された後、第２偏光層５００、液晶層３００、第１偏光層４００を順に透過して出射し、このようにして、サブ画素ユニット７１０が画像を表示できる。また、サブ画素ユニット７１０における液晶層３００のツイスト度を制御することで、入射光が第２偏光層５００を透過する時の透過率を制御でき、それにより、サブ画素ユニット７１０による表示画像のグレースケールを制御できる。

たとえば、表示パネルの間隔領域７２０では、液晶層３００は画素電極９１０と共通電極９２０から印加された電圧の影響を受けず、間隔領域７２０における液晶層３００のツイスト角がまだ初期ツイスト角である（たとえば、透過した光の偏光方向を９０度偏向させる）ため、入射光が第１偏光層４００と液晶層３００を透過した後に第２偏光層５００を透過せず、すなわち表示パネルの間隔領域７２０がブラックにある。

本開示の少なくとも一実施例は、上記実施例のいずれかに記載の表示パネルを備える表示装置を提供する。たとえば、該表示装置は、携帯電話、タブレットＰＣ、テレビ、ディスプレイ、ノートパソコン、ナビゲータなどの表示機能を有する任意の液晶表示製品または部材となり得る。

本開示の少なくとも一実施例は、第１基板を提供するとともに、第１基板上に第１偏光層を形成するステップと、反射型の第２基板を提供するとともに、第２基板上に、透過した光が第１偏光方向を有するようにする第２偏光層を形成するステップと、第１基板と前記第２基板を対向して設置し、且つ第１基板と第２基板との間に液晶層を形成するステップと、を含み、第１偏光層は、液晶層の第２基板から遠い側に形成され、第２偏光層は、第２基板と液晶層との間に形成され、液晶層に電圧が印加されない場合、液晶層と第１偏光層を透過した光は、第１偏光方向にほぼ垂直な第２偏光方向を有する表示パネルの製造方法を提供する。液晶層に電圧が印加されない場合、環境からの入射光が第１偏光層と液晶層を透過した後に第２偏光層を透過できないため、表示パネルのノーマリブラックを実現でき、それによって、表示パネルの表示画像のコントラストを向上させ、表示効果を向上させる。該表示パネルの具体的な構造は上記実施例（表示パネルに関する実施例）の関連説明を参照すればよく、本開示の実施例は、ここで詳細な説明を省略する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法は、第１基板または第２基板の少なくとも一方において、電圧が印加されない場合に液晶層が同じ初期ツイスト角を有するようにする配向層を形成するステップをさらに含んでもよい。配向層により、入射光は第１偏光層と液晶層を透過した後に同一の偏光方向たとえば第２偏光方向を有する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法において、第１偏光層は、透過した光が第１偏光方向に垂直な第３偏光方向を有するようにされ、且つ、液晶層の初期ツイスト角は、０度とされ、あるいは第１偏光層は、透過した光が第１偏光方向に平行な第３偏光方向を有するようにされ、且つ、液晶層の初期ツイスト角は、９０度とされる。液晶層の初期ツイスト角は上記の２種に限定されず、具体的には上記実施例（表示パネルに関する実施例）の関連内容を参照すればよく、ここでは詳細な説明を省略する。

たとえば、本開示の少なくとも一実施例に係る製造方法は、第１基板の液晶層と対向側に共通電極を形成し、第２基板の液晶層と対向側に画素電極を形成するステップをさらに含み、画素電極と共通電極は、液晶層に電圧を印加して、サブ画素ユニットに対応する液晶層のツイスト度を調整する。画素電極と共通電極との間に形成される電界を制御することでサブ画素ユニットの液晶層のツイスト度を制御し、それによって、サブ画素ユニットの画像表示のオン・オフ状態を制御し、且つ画像表示のグレースケールを制御することができる。

以下、図６に示される表示パネル構造を例として、本開示の少なくとも一実施例において、表示パネルの製造方法を説明する。図７ａ〜図７ｃ、図８ａ〜図８ｃおよび図９は本開示の一実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートであり、たとえば、図７ａ〜図７ｃ、図８ａ〜図８ｃおよび図９に示すように、本開示の少なくとも一実施例に係る表示パネルの製造方法は以下のステップを含める。

図７ａに示すように、第１基板１００を提供するとともに、第１基板１００の一側に共通電極９２０を形成する。

図７ｂに示すように、第１基板１００の共通電極９２０が設置された側に第２配向層６２０を形成する。

図７ｃに示すように、第１基板１００上に、透過した光が第３偏光方向を有するようにする第１偏光層４００を形成する。第１偏光層４００は、第１基板１００の共通電極９２０から遠い側に形成されてもよく、第１基板１００の共通電極９２０が設置された側に形成されてもよい。第１偏光層４００の具体的な設置位置は実際に応じて決められ、本開示の実施例では制限しない。

図８ａに示すように、第２基板２００を提供する。該第２基板２００は、複数のサブ画素ユニット７１０を含んでおり、サブ画素ユニット７１０ごとには画素電極９１０が形成される。第２基板２００の製造プロセス（たとえば、薄膜トランジスタの製造プロセスなど）の具体的な過程は従来の第２基板の製造プロセスを参照すればよく、本開示では詳細な説明を省略する。

図８ｂに示すように、第２基板２００上に、透過した光が第３偏光方向に平行な第１偏光方向を有するようにする第２偏光層５００を形成する。たとえば、第２偏光層５００はナノグレーティングとなり得る。たとえば、第２偏光層５００は、ナノインプリントによって第２基板２００上に設置される。

図８ｃに示すように、第２基板２００上に第１配向層６１０を形成する。第１配向層６１０および図７ｂに示される第２配向層６２０を製造する過程において、第１配向層６１０および第２配向層６２０への摩擦処理の方向は、互いに垂直である。そうすると、液晶層の初期ツイスト角を９０度とされる。

図９に示すように、第１基板１００と第２基板２００を対向して設置し、且つ第１基板１００と第２基板２００との間に液晶層３００を充填する。第１配向層６１０と第２配向層６２０は、電圧が印加されない場合に液晶層３００が同じ初期ツイスト角を有するようにする。たとえば、該初期ツイスト角は、９０度とされる。

なお、本開示では、
（１）本開示の実施例の図面は、本開示の実施例に関する構造だけが示されており、ほかの構造については通常の設計を参照すればよい。
（２）明確化するように、本開示の実施例を説明するための図面において、層または領域の厚さが拡大または縮小される場合があり、すなわち、これらの図面は実際の比例に応じて作成するものではない。
（３）矛盾がない限り、本開示の実施例および実施例における特徴を互いに組み合わせることで、新しい実施例が得られる。

以上、本発明の具体的な実施形態を説明したが、本発明の保護範囲はこれらに限定されるものではなく、添付した特許請求の範囲に定められる。

１００−第１基板；２００−第２基板；３００−液晶層；４００−第１偏光層；５００−第２偏光層；６００−配向層；６１０−第１配向層；６２０−第２配向層；７００−画素ユニット；７１０−サブ画素ユニット；７２０−間隔領域；８１０−ゲート線；８２０−データ線；９１０−画素電極；９２０−共通電極。

Claims (15)

1. 第１基板と、
   前記第１基板と対向して設置された反射型の第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に位置する液晶層と、
   前記液晶層の前記第２基板から遠い側に位置する第１偏光層と、
   前記液晶層と前記第２基板との間に位置するとともに、透過した光が第１偏光方向を有するように配置される第２偏光層と、を備え、
   前記液晶層に電圧が印加されない場合、前記液晶層と前記第１偏光層を透過した光は、前記第１偏光方向にほぼ垂直な第２偏光方向を有する
   表示パネル。
2. 前記第１基板または前記第２基板の少なくとも一方に位置する配向層をさらに備え、
   前記配向層は、電圧が印加されない場合に前記液晶層が同じ初期ツイスト角を有するように配置される
   請求項１に記載の表示パネル。
3. 前記第１偏光層は、透過した光が前記第１偏光方向に垂直な第３偏光方向を有するように配置され、
   前記液晶層の前記初期ツイスト角は、０度とされる
   請求項２に記載の表示パネル。
4. 前記第１偏光層は、透過した光が前記第１偏光方向に平行な第３偏光方向を有するように配置され、
   前記液晶層の前記初期ツイスト角は、９０度とされる
   請求項２に記載の表示パネル。
5. 前記第２偏光層は、ナノグレーティングに配置される
   請求項１〜４のいずれか一項に記載の表示パネル。
6. 前記第１偏光層は、前記第１基板と前記第２基板との間に設置され、あるいは
   前記第１偏光層は、前記第１基板の前記第２基板から遠い側に設置される
   請求項１〜５のいずれか一項に記載の表示パネル。
7. 前記表示パネルは、複数の画素ユニットを含み、
   前記画素ユニットごとには、少なくとも１つのサブ画素ユニットが含まれ、
   隣接する前記サブ画素ユニット間における間隔領域は、ノーマリブラックである
   請求項１〜６のいずれか一項に記載の表示パネル。
8. 前記第２基板は、複数のゲート線とデータ線を含み、
   前記ゲート線と前記データ線は、少なくとも１つの前記サブ画素ユニットを定めるように、相互に交差し、
   前記第２基板の前記サブ画素ユニットの各々に対応する位置には、画素電極が設置される
   請求項７に記載の表示パネル。
9. 前記画素電極は、反射電極に配置され、且つ前記第２偏光層と前記第２基板との間に位置する
   請求項８に記載の表示パネル。
10. 前記第１基板の前記液晶層と対向側には、共通電極が設置され、
    前記画素電極と前記共通電極は、前記液晶層に電圧を印加して、前記サブ画素ユニットに対応する前記液晶層のツイスト度を調整するように配置される
    請求項８または９に記載の表示パネル。
11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の表示パネルを備える表示装置。
12. 第１基板を提供するとともに、前記第１基板上に第１偏光層を形成するステップと、
    反射型の第２基板を提供するとともに、前記第２基板上に、透過した光が第１偏光方向を有するようにする第２偏光層を形成するステップと、
    前記第１基板と前記第２基板を対向して設置し、且つ前記第１基板と前記第２基板との間に液晶層を形成するステップと、を含み、
    前記第１偏光層は、前記液晶層の前記第２基板から遠い側に形成され、
    前記第２偏光層は、前記第２基板と前記液晶層との間に形成され、
    前記液晶層に電圧が印加されない場合、前記液晶層と前記第１偏光層を透過した光は、前記第１偏光方向にほぼ垂直な第２偏光方向を有する
    表示パネルの製造方法。
13. 前記第１基板または前記第２基板の少なくとも一方において、電圧が印加されない場合に前記液晶層が同じ初期ツイスト角を有するようにする配向層を形成するステップをさらに含む
    請求項１２に記載の製造方法。
14. 前記第１偏光層は、透過した光が前記第１偏光方向に垂直な第３偏光方向を有するようにされ、且つ、前記液晶層の前記初期ツイスト角は、０度とされ、あるいは
    前記第１偏光層は、透過した光が前記第１偏光方向に平行な第３偏光方向を有するようにされ、且つ、前記液晶層の前記初期ツイスト角は、９０度とされる
    請求項１３に記載の製造方法。
15. 前記第１基板の前記液晶層と対向側に共通電極を形成し、前記第２基板の前記液晶層と対向側に画素電極を形成するステップをさらに含み、
    前記画素電極と前記共通電極は、前記液晶層に電圧を印加して、前記サブ画素ユニットに対応する前記液晶層のツイスト度を調整する
    請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の製造方法。

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