JP2020512042A - Support structure for MRI gradient coil assembly - Google Patents

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Abstract

本発明は、磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムにおける使用のための傾斜磁場コイルアセンブリ６２に関する。傾斜磁場コイルアセンブリ６２は、一次コイル６８と、シールドコイル７２と、一次コイル６８とシールドコイル７２との間に配置される支持構造体１０とを含み、支持構造体１０は、第１の端面１４と、第１の端面１４に開口２６を有する少なくとも第１の凹部２４とを含む支持要素１２を少なくとも含み、第１の凹部２４は、支持要素１２の長手方向１８に延在して、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する。The present invention relates to a gradient coil assembly 62 for use in a magnetic resonance imaging (MRI) system. The gradient coil assembly 62 includes a primary coil 68, a shield coil 72, and a support structure 10 disposed between the primary coil 68 and the shield coil 72, the support structure 10 including the first end surface 14 and the shield structure 72. And at least a first recess 24 having an opening 26 in the first end surface 14, the first recess 24 extending in the longitudinal direction 18 of the support element 12 to provide a passive shim. Form a tray to receive the bar.

Description

本発明は、磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムの傾斜磁場コイルアセンブリの一次コイルとシールドコイルとの間に配置する支持構造体、ＭＲＩシステムでの使用のための支持構造体を含む傾斜磁場コイルアセンブリ、支持構造体を有する傾斜磁場コイルアセンブリを含む磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システム、及び、傾斜磁場コイルアセンブリを製造する方法に関する。   The present invention provides a support structure disposed between a primary coil and a shield coil of a magnetic resonance imaging (MRI) system gradient coil assembly, a gradient coil assembly including a support structure for use in an MRI system, A magnetic resonance imaging (MRI) system including a gradient coil assembly having a support structure and a method of manufacturing the gradient coil assembly.

磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）は、関心被験者の解剖学的構造及び生理学的過程を撮像するために放射線学において使用される医用撮像技術である。ＭＲＩは、磁石を使用して、強力で均一な静磁場（即ち「主磁場」）を生成し、また、ｘ、ｙ及びｚ傾斜磁場コイル、即ち、一次コイルを含む傾斜磁場コイルアセンブリを使用して、各コイルに電流が印加されると、より小さい振幅で、空間的に変化する磁場を生成する。傾斜磁場コイルアセンブリは更に、渦電流を防ぐためのアクティブシールドを含む。アクティブシールドは、ｘ、ｙ及びｚ傾斜磁場コイルを越えて配置される３つの対応するアクティブシールドコイルを含む。アクティブシールドコイルは、撮像用のそれらの関連するｘ、ｙ、及びｚ傾斜磁場コイルと平行なトポロジーを有するが、半径がより大きい。均一な主磁場を達成するためのパッシブシム要素が、傾斜磁場コイルとシールドコイルとの間に配置されている。   Magnetic resonance imaging (MRI) is a medical imaging technique used in radiology to image the anatomy and physiological processes of a subject of interest. MRI uses magnets to produce a strong and uniform static magnetic field (or "main field") and also uses a gradient coil assembly that includes x, y and z gradient coils, ie, primary coils. Then, when a current is applied to each coil, a spatially varying magnetic field is generated with a smaller amplitude. The gradient coil assembly further includes an active shield to prevent eddy currents. The active shield includes three corresponding active shield coils located beyond the x, y and z gradient coils. Active shield coils have a topology parallel to their associated x, y, and z gradient coils for imaging, but with a larger radius. A passive shim element for achieving a uniform main magnetic field is arranged between the gradient coil and the shield coil.

既知の傾斜磁場コイルアセンブリは、通常、３つの主要工程で製造される。第１の主要工程において、ｘ、ｙ及びｚ傾斜磁場コイルを含む内側円筒形モールドが製造される。第２の主要工程において、内側円筒形モールドよりも大きい半径を有し、アクティブシールドコイルを含む外側円筒形モールドが成形される。第３の主要工程において、外側円筒形モールドを内側円筒形モールドに押し付ける。パッシブシムバー用のトレイを提供するためのパッシブシムバーツールが、内側円筒形モールドと外側円筒形モールドとの間の環帯内に配置される。最後に、内側円筒形モールドと外側円筒形モールドとの間の環帯が鋳造される。しかし、内側円筒形モールドと外側円筒形モールドとの間の環帯は狭いため、それぞれのパッシブシムバー用のトレイを生成するためのパッシブシムバーツールの配置及び位置合わせは困難である。したがって、傾斜磁場コイルアセンブリを製造することが複雑であり、したがって、時間と費用が効果的ではない。   Known gradient coil assemblies are typically manufactured in three main steps. In a first main step, an inner cylindrical mold containing x, y and z gradient coils is manufactured. In a second main step, an outer cylindrical mold having a larger radius than the inner cylindrical mold and containing the active shield coil is molded. In the third main step, the outer cylindrical mold is pressed against the inner cylindrical mold. A passive shim bar tool for providing a tray for the passive shim bar is located in the annulus between the inner cylindrical mold and the outer cylindrical mold. Finally, the annulus between the inner and outer cylindrical molds is cast. However, the narrow annulus between the inner and outer cylindrical molds makes placement and alignment of the passive shim bar tools difficult to produce trays for each passive shim bar. Therefore, manufacturing a gradient coil assembly is complicated and therefore not time and cost effective.

米国特許出願公開第２００３／０２１８４６０Ａ１号から、傾斜磁場コイルとシールドコイルとの間に、パッシブシム要素用の少なくとも１つのシム収容可能空間を有する傾斜磁場コイルシステムが知られている。   From US 2003/0218460 A1 a gradient coil system is known which has at least one shim-accommodable space for a passive shim element between the gradient coil and the shield coil.

特開昭５７‐３８７１５Ｂ２号には、傾斜磁場コイルの振動を抑制しつつ、傾斜磁場コイルの厚さを薄くした磁気共鳴撮像装置が説明されている。この磁気共鳴撮像装置は、主コイルを一体成形する円筒形内側モールド部と、内側モールド部の半径方向上側に設けられ、シールドコイルを一体成形する円筒形上側モールド部とを有するモールド部を含む傾斜磁場コイルを含む。上側モールド部の軸方向における両端は、内側モールド部の外側に向かって軸方向に突出している。上側モールド部の軸方向における両端の内周面には、円周方向において、補強リブが互いから間隔を空けて取り付けられている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-38715B2 describes a magnetic resonance imaging apparatus in which the gradient magnetic field coil is thinned while suppressing the vibration of the gradient magnetic field coil. This magnetic resonance imaging apparatus includes a tilt portion including a cylindrical inner mold portion that integrally molds a main coil and a mold portion that is provided above the inner mold portion in a radial direction and that has a cylindrical upper mold portion that integrally molds a shield coil. Includes magnetic field coils. Both ends of the upper mold part in the axial direction project in the axial direction toward the outside of the inner mold part. Reinforcing ribs are attached to the inner peripheral surfaces of both ends of the upper mold portion in the axial direction at intervals in the circumferential direction.

米国特許出願公開第２０１６／０２０２３３３Ａ１号には、円筒形の一次コイルセットと、一次コイルセットの外周上に円筒状に被覆された二次コイルセットと、傾斜磁場コイルの半径方向に二次コイルセットを支持するように、一次コイルセットの外周面に置かれた１つ以上の支持構造体とを有する磁気共鳴撮像システム用の傾斜磁場コイルが開示されている。   U.S. Pat. App. Pub. No. 2016 / 0202333A1 discloses a cylindrical primary coil set, a secondary coil set that is cylindrically coated on the outer circumference of the primary coil set, and a secondary coil set in the radial direction of the gradient magnetic field coil. A magnetic field gradient coil for a magnetic resonance imaging system having one or more support structures disposed on an outer peripheral surface of a primary coil set to support the magnetic field detector.

しかしながら、製造時間及びコストを削減するために、傾斜磁場コイルアセンブリの製造工程を最適化することが常に必要とされている。   However, there is always a need to optimize the manufacturing process of gradient coil assemblies to reduce manufacturing time and cost.

傾斜磁場コイルアセンブリの製造工程を単純化し、ＭＲＩシステムのコストを削減するために、傾斜磁場コイルアセンブリの製造時間及びコストを削減することが望ましい。   In order to simplify the manufacturing process of the gradient coil assembly and reduce the cost of the MRI system, it is desirable to reduce the manufacturing time and cost of the gradient coil assembly.

したがって、本発明は、傾斜磁場コイルアセンブリ内でのパッシブシムバーの位置決め及び／又は位置合わせを簡単にするために、傾斜磁場コイルアセンブリの一次コイルとシールドコイルとの間に配置する支持構造体を提供することを目的とする。本発明は更に、傾斜磁場コイルアセンブリの製造時間及びコストを削減することだけでなく、製造時間及びコストが削減された傾斜磁場コイルアセンブリを製造する方法を提供することを更なる目的とする。   Accordingly, the present invention provides a support structure disposed between the primary coil and the shield coil of the gradient coil assembly to facilitate positioning and / or alignment of the passive shim bar within the gradient coil assembly. The purpose is to provide. It is a further object of the present invention not only to reduce the manufacturing time and cost of the gradient coil assembly, but also to provide a method of manufacturing the gradient coil assembly with reduced manufacturing time and cost.

本発明の目的は、独立請求項の主題によって達成される。本発明の好適な実施形態は、従属請求項に記載されている。   The objects of the invention are achieved by the subject matter of the independent claims. Preferred embodiments of the invention are described in the dependent claims.

一態様では、上記目的は、傾斜磁場コイルアセンブリの一次コイルとシールドコイルとの間に配置する支持構造体によって達成される。支持構造体は、
第１の端面を含む支持要素と、
第１の端面に開口を有する少なくとも第１の凹部と、
を含み、第１の凹部は、支持要素の長手方向に延在して、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する。 In one aspect, the above objective is accomplished by a support structure disposed between the primary coil and the shield coil of the gradient coil assembly. The support structure is
A support element including a first end surface;
At least a first recess having an opening in the first end surface;
And the first recess extends longitudinally of the support element to form a tray for receiving the passive shim bar.

本発明の一態様は、支持構造体が支持要素を含み、支持要素が第１の端面を含むことである。第１の端面に開口を有する第１の凹部は、支持要素の長手方向に延在し、凹部は、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する。好適には、第１の凹部及び／又は開口は、支持要素の長手方向に垂直である断面において長方形の形状を有する。したがって、支持構造体は、支持構造体の長手方向に延在する凹部を含み、パッシブシムバーを第１の端面の開口を通して第１の凹部に容易に挿入することができる。したがって、パッシブシムバーの位置合わせは、支持要素内の一続きの第１の凹部によって規定される。一続きの第１の凹部が画定される支持要素は、一次コイル上に容易に配置及び位置合わせさせることができる。このようにして、傾斜磁場コイルアセンブリの一次コイル上での支持要素の単純化された位置合わせを可能にし、また、傾斜磁場コイルアセンブリ内にパッシブシムバーを安定的かつ正確に配置することを可能にする支持構造体が提供される。支持構造体の単純化された位置合わせ及びパッシブシムバー用のトレイの位置合わせによって、傾斜磁場コイルアセンブリの製造時間及びコストを削減することができる。   One aspect of the invention is that the support structure includes a support element and the support element includes a first end surface. A first recess having an opening in the first end surface extends in the longitudinal direction of the support element, the recess forming a tray for receiving the passive shim bar. Suitably, the first recess and / or the opening have a rectangular shape in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the support element. Therefore, the support structure includes a recess extending in the longitudinal direction of the support structure, and the passive shim bar can be easily inserted into the first recess through the opening of the first end face. Thus, the alignment of the passive shim bar is defined by the series of first recesses in the support element. The support element, in which a series of first recesses is defined, can be easily placed and aligned on the primary coil. In this way, a simplified alignment of the support elements on the primary coil of the gradient coil assembly is possible, and a passive shim bar can be stably and accurately placed in the gradient coil assembly. A support structure is provided. Simplified alignment of the support structure and tray alignment for the passive shim bar can reduce manufacturing time and cost of the gradient coil assembly.

本発明の好適な実施形態では、支持要素は、それぞれ支持要素の長手方向と平行な方向に配置された内面及び外面を含み、外面は内面に対して離間して配置される。第１の凹部は内面上に配置されるか、又は、第１の凹部は内面と外面との間に配置される。したがって、トレイを形成する第１の凹部は、支持要素の内面にある溝状構造として設置されるか、又は、内面と外面との間の枠状に縁取りされた凹部として設置される。内面に第１の凹部を配置することは、支持要素の製造工程を単純化することができる。更に、支持要素の長手方向に対して垂直な方向における支持要素の構造上の高さを低減することができる。しかし、内面と外面との間の枠状に縁取りされた凹部としての第１の凹部の配置は、パッシブシムバーの案内を最適化することができる。   In a preferred embodiment of the invention, the support element comprises an inner surface and an outer surface, respectively, arranged in a direction parallel to the longitudinal direction of the support element, the outer surface being spaced apart from the inner surface. The first recess is located on the inner surface, or the first recess is located between the inner surface and the outer surface. Thus, the first recess forming the tray is installed as a groove-like structure on the inner surface of the support element or as a frame-edged recess between the inner and outer surfaces. Placing the first recess on the inner surface can simplify the manufacturing process of the support element. Furthermore, the structural height of the support element in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the support element can be reduced. However, the arrangement of the first recess as a frame-edged recess between the inner surface and the outer surface can optimize the guiding of the passive shim bar.

本発明の好適な実施形態では、外面は複数の第１の溝を含む。したがって、冷却チャネル及び／又はシールドコイルのｚワイヤを、支持要素の第１の溝内に容易に配置し案内することができる。   In a preferred embodiment of the invention the outer surface comprises a plurality of first grooves. Therefore, the z-wire of the cooling channel and / or the shield coil can be easily placed and guided in the first groove of the support element.

本発明の好適な実施形態では、各第１の溝の長手方向は、支持要素の長手方向に対して８０°乃至９０°の間の角度で配置されている。好適には、第１の溝は、支持要素の長手方向に対して垂直な方向である、支持要素の長手方向に対して９０°で配置されている。好適には、第１の溝は、少なくとも部分的に互いに隣り合わせで配置される。したがって、冷却チャネル及び／又はシールドコイルｚワイヤを、支持要素の第１の溝内に容易に配置し案内することができる。   In a preferred embodiment of the invention, the longitudinal direction of each first groove is arranged at an angle between 80 ° and 90 ° with respect to the longitudinal direction of the support element. Preferably, the first groove is arranged at 90 ° to the longitudinal direction of the support element, which is the direction perpendicular to the longitudinal direction of the support element. Suitably, the first grooves are arranged at least partially next to each other. Therefore, the cooling channel and / or the shield coil z-wire can be easily arranged and guided in the first groove of the support element.

本発明の好適な実施形態では、支持要素は更に、支持要素の外面上に少なくとも部分的に配置可能である距離設定要素を含み、距離設定要素は、支持要素の外面と同じ方向を向く外表面を含み、外表面は複数の第２の溝を含む。したがって、冷却チャネル及び／又はシールドコイルのｚワイヤを第２の溝に挿入して案内することができる。したがって、冷却チャネル及び／又はシールドコイルのｚワイヤを案内するための溝の数を増やすことができる。好適には、支持構造体は、その外面上に、冷却チャネル及び／又はシールドコイルのｚワイヤのいずれかを案内するための第１の溝を含む。距離設定要素は、支持要素の外面上に配置され、第１の溝内に案内される冷却チャネル又はｚワイヤの他方が、距離設定要素の第２の溝内に案内される。   In a preferred embodiment of the invention, the support element further comprises a distance setting element at least partially positionable on the outer surface of the support element, the distance setting element facing the outer surface in the same direction as the outer surface of the support element. And the outer surface includes a plurality of second grooves. Thus, the cooling channel and / or the z-wire of the shield coil can be inserted and guided in the second groove. Therefore, the number of grooves for guiding the cooling wire and / or the z-wire of the shield coil can be increased. Suitably, the support structure comprises on its outer surface a first groove for guiding either the cooling channel and / or the z-wire of the shield coil. The distance setting element is arranged on the outer surface of the support element and the other of the cooling channels or z-wires guided in the first groove is guided in the second groove of the distance setting element.

本発明の好適な実施形態では、支持要素の外面は、支持要素の長手方向に第２の凹部を含み、距離設定要素は、第２の凹部内に配置可能である。したがって、距離設定要素が支持要素の第２の凹部内に案内されるので、距離設定要素の位置を固定することができる。   In a preferred embodiment of the invention, the outer surface of the support element comprises a second recess in the longitudinal direction of the support element, and the distance setting element is positionable in the second recess. Therefore, the distance setting element is guided into the second recess of the support element, so that the position of the distance setting element can be fixed.

本発明の好適な実施形態では、第２の溝の長手方向は、支持要素の長手方向に対して８０°乃至９０°の間の角度で配置されている。好適には、第２の溝は、支持要素の長手方向軸に対して垂直な方向である、支持要素の長手方向に対して９０°で配置されている。したがって、冷却チャネル及び／又はシールドコイルのｚワイヤを、第２の溝内に容易に案内することができる。   In a preferred embodiment of the invention, the longitudinal direction of the second groove is arranged at an angle between 80 ° and 90 ° with respect to the longitudinal direction of the support element. Preferably, the second groove is arranged at 90 ° to the longitudinal direction of the support element, which is the direction perpendicular to the longitudinal axis of the support element. Therefore, the z-wire of the cooling channel and / or the shield coil can be easily guided into the second groove.

本発明の好適な実施形態では、支持要素の長手方向に垂直である方向における第１の溝の構造的深さは、支持要素の長手方向に垂直である方向における第２の凹部の構造的深さよりも大きい。したがって、冷却チャネル又はシールドコイルのｚワイヤを、第１の溝に挿入して案内することができ、距離設定要素は、支持要素の外面の第２の凹部内に配置され、第１の溝内に案内される冷却チャネル又はｚワイヤの他方を、距離設定要素の第２の溝内に挿入し案内することができる。   In a preferred embodiment of the invention, the structural depth of the first groove in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the support element is equal to the structural depth of the second recess in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the support element. Bigger than Sa. Thus, the cooling channel or the z-wire of the shield coil can be inserted and guided in the first groove, the distance setting element being arranged in the second recess of the outer surface of the support element and in the first groove. The other of the cooling channels or the z-wires, which are guided in, can be inserted and guided in the second groove of the distance setting element.

好適には、第１の溝及び第２の溝は、互いに等距離に配置される。より好適には、第１の溝及び第２の溝は、互いにオフセットがあるように配置される。   Suitably, the first groove and the second groove are arranged equidistant from each other. More preferably, the first groove and the second groove are arranged offset from each other.

本発明の好適な実施形態では、支持要素は更に、内面と外面とを接続する第１の側面と、内面と外面とを接続する第２の側面とを含み、第１の側面は第２の側面に対して離間して配置される。   In a preferred embodiment of the invention, the support element further comprises a first side connecting the inner surface and the outer surface and a second side connecting the inner surface and the outer surface, the first side being the second side. It is spaced apart from the side surface.

本発明の好適な実施形態では、支持要素は、支持要素の長手方向に垂直である平面内にリングセグメント形状を含む。したがって、内面は、支持要素の長手方向に垂直である平面内の第１の円弧として形成され、外面は、第２の円弧として形成されている。第２の円弧の半径は、第１の円弧の半径よりも大きい。第１の側面及び第２の側面は半径方向に向けられている。したがって、複数の支持体を円筒状に容易に配置することができる。   In a preferred embodiment of the invention, the support element comprises a ring segment shape in a plane perpendicular to the longitudinal direction of the support element. Therefore, the inner surface is formed as a first arc in a plane perpendicular to the longitudinal direction of the support element and the outer surface is formed as a second arc. The radius of the second arc is larger than the radius of the first arc. The first side surface and the second side surface are oriented in the radial direction. Therefore, the plurality of supports can be easily arranged in a cylindrical shape.

本発明の好適な実施形態では、支持要素の長手方向に延在する第３の溝が、外面と第１の側面との角領域、及び／又は、外側と第２の側面との角領域に形成される。したがって、支持要素は、対応する長手方向に配置される冷却チャネル用の案内構造を支持要素の長手方向に含む。   In a preferred embodiment of the invention, a third groove extending in the longitudinal direction of the support element is provided in the corner area between the outer surface and the first side surface and / or in the corner area between the outer surface and the second side surface. It is formed. Therefore, the support element comprises in the longitudinal direction of the support element guide structures for the corresponding longitudinally arranged cooling channels.

本発明の好適な実施形態では、支持構造体は、支持要素の長手方向に延在する少なくともチャネルを含む。好適には、チャネルは、第１の端面に第１のチャネル開口及び／又は第２の端面に第２のチャネル開口を含み、第２の端面は、支持要素の長手方向において第１の端面に対して離間して配置される。したがって、冷却チャネルを、チャネルを通して案内することができる。より好適には、冷却ユニットを第１のチャネル開口及び／又は第２のチャネル開口に接続することができ、冷却媒体を、チャネルを通して案内することができる。したがって、冷却ユニットの安定した接続、冷却チャネルの安定した配置を可能にする支持構造体が提供される。   In a preferred embodiment of the invention, the support structure comprises at least channels extending in the longitudinal direction of the support element. Suitably, the channel comprises a first channel opening at the first end surface and / or a second channel opening at the second end surface, the second end surface at the first end surface in the longitudinal direction of the support element. It is arranged separately from each other. Therefore, the cooling channel can be guided through the channel. More preferably, the cooling unit can be connected to the first channel opening and / or the second channel opening and the cooling medium can be guided through the channel. Thus, a support structure is provided which allows a stable connection of cooling units, a stable arrangement of cooling channels.

本発明の好適な実施形態では、支持構造体は、複数の支持要素を含む。好適には、複数の支持要素は、傾斜磁場コイルアセンブリの一次コイルの周りに周方向に配置される。したがって、パッシブシムバーを挿入するための複数の第１の凹部を含み、支持要素を一次コイル上に安定的かつ容易に配置及び位置合わせすることができ、傾斜磁場コイルアセンブリの製造工程を最適化する支持構造体が提供される。   In a preferred embodiment of the invention, the support structure comprises a plurality of support elements. Suitably, the plurality of support elements are circumferentially arranged around the primary coil of the gradient coil assembly. Therefore, the support element can be stably and easily arranged and aligned on the primary coil, including a plurality of first recesses for inserting the passive shim bar, and the manufacturing process of the gradient coil assembly can be optimized. A support structure is provided.

本発明の好適な実施形態では、複数の支持要素は、円筒形に形成され、第１の支持要素の第１の側面が、第２の支持要素の第２の側面に接続されている。   In a preferred embodiment of the invention, the plurality of support elements are cylindrically shaped, the first side surface of the first support element being connected to the second side surface of the second support element.

本発明の好適な実施形態では、第１の側面は第１の連結構造部を含み、第２の側面は第２の連結構造部を含み、第１の連結構造部は第２の連結構造部に対応する。したがって、支持要素を互いに接続することができる。したがって、複数の支持要素を含む支持構造体の構造強度を高めることができる。更に、動作中の傾斜磁場コイルアセンブリの振動を低減することができる。第１の連結構造部及び対応する第２の連結構造部は、特定のデザインに限定されない。好適には、第１の連結構造部及び第２の連結構造部は、さねはぎ接続部であり、凸部が少なくとも部分的に支持要素の第１の側面に形成され、溝部が少なくとも部分的に支持要素の第２の側面に形成される。より好適には、第１の連結構造部は、支持要素の第１の側面に形成された突起であり、第２の連結構造部は、支持要素の第２の側面に形成された連結凹部であり、第１の支持要素の突起は、第２の支持要素の連結凹部内に連結する。   In a preferred embodiment of the present invention, the first side surface includes a first connecting structure portion, the second side surface includes a second connecting structure portion, and the first connecting structure portion includes a second connecting structure portion. Corresponding to. Therefore, the support elements can be connected to each other. Therefore, the structural strength of the support structure including a plurality of support elements can be increased. Further, vibration of the gradient coil assembly during operation can be reduced. The first connecting structure and the corresponding second connecting structure are not limited to a particular design. Suitably, the first connecting structure and the second connecting structure are tongue-and-groove connections, the projections being at least partially formed on the first side of the support element and the grooves being at least partially. Formed on the second side of the support element. More preferably, the first connecting structure is a protrusion formed on the first side surface of the support element, and the second connecting structure is a connecting recess formed on the second side surface of the support element. And the projections of the first support element connect into the connection recesses of the second support element.

支持構造体は、好適にはガラス玉が充填されたエポキシ材料を含むことができる。エポキシの縦弾性係数は２乃至５ＧＰａである。ガラス玉が充填されたエポキシは、５乃至１２ＧＰａ程度の縦弾性係数を有する。本発明の好適な実施形態によれば、支持構造体は、コンクリート、ガラス及び／又はセラミック、好適にはアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を含む。したがって、傾斜磁場コイルアセンブリの動作中の傾斜磁場コイルの振動振幅及び音響ノイズレベルを最小限に抑えるために高い縦弾性係数を有する支持構造体を提供することができる。高強度コンクリートは、３０ＧＰａ程度の縦弾性係数を有する。コンクリートの特性は、所望の強度及び必要な減衰に合わせて調整することができる。ガラスは、６５乃至７０ＧＰａ程度の縦弾性係数を有する。更に、ガラスを鋳造することができる。したがって、支持構造体は、鋳造されるか及び／又は押出成形によって製造することができる。好適にはアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）であるセラミックは、３９０ＧＰａ程度の縦弾性係数を有する。Ａｌ２Ｏ３を含む支持構造体を押出成形によって製造することができる。 The support structure may include an epoxy material, preferably filled with glass beads. The longitudinal elastic modulus of epoxy is 2 to 5 GPa. The epoxy filled with glass beads has a longitudinal elastic modulus of about 5 to 12 GPa. According to a preferred embodiment of the present invention, the support structure comprises concrete, glass and / or ceramic, preferably alumina (Al 2 O 3 ). Therefore, it is possible to provide a support structure having a high modulus of elasticity to minimize the vibration amplitude and acoustic noise level of the gradient coil during operation of the gradient coil assembly. High-strength concrete has a longitudinal elastic modulus of about 30 GPa. The properties of the concrete can be tailored to the desired strength and the required damping. Glass has a longitudinal elastic modulus of about 65 to 70 GPa. Furthermore, glass can be cast. Thus, the support structure can be cast and / or manufactured by extrusion. Ceramic, which is preferably alumina (Al 2 O 3 ), has a longitudinal elastic modulus of about 390 GPa. The support structure containing Al 2 O 3 can be manufactured by extrusion.

本発明の好適な実施形態では、粘弾性材料が、第１の支持要素の第１の側面と第２の支持要素の第２の側面との間に配置される。したがって、傾斜磁場コイルアセンブリの動作中の周波数の関数としての高共振ピークを低減することができる。   In a preferred embodiment of the invention, the viscoelastic material is arranged between the first side of the first support element and the second side of the second support element. Therefore, the high resonance peaks as a function of frequency during operation of the gradient coil assembly can be reduced.

本発明は更に、磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムにおける使用のための傾斜磁場コイルアセンブリに関する。傾斜磁場コイルアセンブリは、
一次コイルと、
シールドコイルと、
一次コイルとシールドコイルとの間に配置される支持構造体と、
を含み、支持構造体は、第１の端面と、第１の端面に開口を有する少なくとも第１の凹部とを含む支持要素を少なくとも含み、第１の凹部は、支持要素の長手方向に延在して、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する。 The invention further relates to a gradient coil assembly for use in a magnetic resonance imaging (MRI) system. The gradient coil assembly is
A primary coil,
Shield coil,
A support structure arranged between the primary coil and the shield coil,
And a support structure including at least a support element including a first end surface and at least a first recess having an opening in the first end surface, the first recess extending in a longitudinal direction of the support element. Then, a tray for receiving the passive shim bar is formed.

一次コイルは、好適には、ｘ、ｙ及びｚ傾斜磁場コイルを含む。シールドコイルは、ｘ、ｙ、及びｚシールドコイルを含む。支持構造体は、傾斜磁場コイルとシールドコイルとの間に配置される。通常、支持構造体は、複数の支持要素を含み、各支持要素は第１の端面を含む。第１の端面に開口を有する第１の凹部が、支持要素の長手方向に延在し、凹部は、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する。好適には、第１の凹部及び／又は開口は、支持要素の長手方向に垂直である断面において長方形の形状を有する。したがって、支持構造体は、支持構造体の長手方向に延在する凹部を含み、パッシブシムバーを第１の端面の開口を通して第１の凹部に容易に挿入することができる。したがって、パッシブシムバーの位置合わせは、支持要素内の一続きの第１の凹部によって規定される。第１の凹部が画定される支持要素は、一次コイル上に容易に配置することができる。支持構造体を一次コイル上に配置した後、シールドコイルを支持構造体上に配置することができる。したがって、パッシブシムバー用のトレイを提供する、一次コイル上の支持構造体の単純化された位置合わせによって、傾斜磁場コイルアセンブリの製造時間及びコストを削減することができる。   The primary coil preferably comprises x, y and z gradient coils. Shield coils include x, y, and z shield coils. The support structure is arranged between the gradient coil and the shield coil. Typically, the support structure includes a plurality of support elements, each support element including a first end surface. A first recess having an opening in the first end surface extends in the longitudinal direction of the support element, the recess forming a tray for receiving the passive shim bar. Suitably, the first recess and / or the opening have a rectangular shape in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the support element. Therefore, the support structure includes a recess extending in the longitudinal direction of the support structure, and the passive shim bar can be easily inserted into the first recess through the opening of the first end face. Thus, the alignment of the passive shim bar is defined by the series of first recesses in the support element. The support element in which the first recess is defined can easily be arranged on the primary coil. After placing the support structure on the primary coil, the shield coil can be placed on the support structure. Therefore, the simplified alignment of the support structure on the primary coil, which provides the tray for the passive shim bars, can reduce the manufacturing time and cost of the gradient coil assembly.

上述の支持構造体のすべての利点及び好適な実施形態は、傾斜磁場コイルアセンブリにも当てはまる。   All the advantages and preferred embodiments of the support structure described above also apply to the gradient coil assembly.

本発明は更に、磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システム用の傾斜磁場コイルアセンブリを製造する方法に関する。方法は、
内側ケーシングとして、外殻表面を有する円筒形マンドレルを設けるステップと、
第１の層内で、円筒形マンドレルの外殻面上に一次コイルを配置するステップと、
一次コイル上に支持構造体を配置するステップと、
第２層内で、支持構造上にシールドコイルを配置するステップと、
シールドコイル上に外側ケーシングを配置するするステップと、
内側ケーシングと外側ケーシングとの間の環帯を鋳造するステップと、
を含み、
支持構造体は、第１の端面と、第１の端面に開口を有する少なくとも第１の凹部とを有する支持要素を少なくとも含み、第１の凹部は、支持要素の長手方向に延在し、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する。 The invention further relates to a method of manufacturing a gradient coil assembly for a magnetic resonance imaging (MRI) system. The method is
Providing a cylindrical mandrel having an outer shell surface as an inner casing;
Arranging the primary coil on the outer shell surface of the cylindrical mandrel in the first layer;
Disposing a support structure on the primary coil,
Disposing a shield coil on the support structure in the second layer;
Disposing the outer casing on the shield coil,
Casting the annulus between the inner casing and the outer casing,
Including,
The support structure includes at least a support element having a first end surface and at least a first recess having an opening in the first end surface, the first recess extending in a longitudinal direction of the support element and being passive. Form a tray to receive the shim bar.

一次コイルは、好適には、ｘ、ｙ及びｚ傾斜磁場コイルを含む。一次コイルは、内側ケーシングである円筒形マンドレルの外表面の殻表面に、第１の層内で塗布される。複数の支持要素を通常含む支持構造体が、一次コイル上に配置される。各支持要素は、第１の端面と、第１の端面に開口を有する少なくとも第１の凹部とを含み、第１の凹部は、支持要素の長手方向に延在して、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する。支持要素の長手方向は、円筒形内側ケーシングの長手方向に対応し、これはまた、ＭＲＩシステムの傾斜磁場コイルアセンブリのｚ方向でもある。したがって、パッシブシムバーの位置合わせは、支持要素内の一続きの第１の凹部によって規定される。一続きの第１の凹部が画定される支持要素は、一次コイル上に容易に配置することができる。一次コイル上に支持構造体を配置した後、シールドコイルを、第２の層内で、支持構造上に配置する。内側ケーシングよりも大きい半径を有する外側ケーシングが第２の層を囲む。好適には、パッシブシムバーツールが第１の凹部に挿入される。パッシブシムバーツールは、スペースホルダ、パッシブシムバーのダミーである。内側ケーシングと外側ケーシングとの間の環帯は、好適には樹脂で鋳造される。ダミーが第１凹部に挿入されるので、第１凹部への鋳造材料の進入を防ぐことができる。したがって、１回の鋳造ステップで傾斜磁場コイルアセンブリを製造することで、製造時間及びコストが節約される方法が提供される。   The primary coil preferably comprises x, y and z gradient coils. The primary coil is applied in the first layer to the shell surface of the outer surface of the cylindrical casing mandrel, which is the inner casing. A support structure, which typically comprises a plurality of support elements, is arranged on the primary coil. Each support element includes a first end surface and at least a first recess having an opening in the first end surface, the first recess extending longitudinally of the support element to receive the passive shim bar. Form a tray. The longitudinal direction of the support element corresponds to the longitudinal direction of the cylindrical inner casing, which is also the z direction of the gradient coil assembly of the MRI system. Thus, the alignment of the passive shim bar is defined by the series of first recesses in the support element. The support element, in which a series of first recesses is defined, can be easily arranged on the primary coil. After placing the support structure on the primary coil, the shield coil is placed on the support structure in the second layer. An outer casing having a larger radius than the inner casing surrounds the second layer. Suitably, a passive shim bar tool is inserted in the first recess. The passive shim bar tool is a dummy for space holders, passive shim bars. The annulus between the inner casing and the outer casing is preferably cast of resin. Since the dummy is inserted into the first recess, it is possible to prevent the casting material from entering the first recess. Therefore, manufacturing a gradient coil assembly in a single casting step provides a method that saves manufacturing time and cost.

上述の支持構造体及び傾斜磁場コイルアセンブリのすべての利点及び好適な実施形態はまた、傾斜磁場コイルアセンブリを製造する方法にも当てはまる。   All of the advantages and preferred embodiments of the support structure and gradient coil assembly described above also apply to the method of manufacturing the gradient coil assembly.

本発明のこれら及び他の態様は、以下に説明される実施形態から明らかとなり、また、当該実施形態を参照して説明される。   These and other aspects of the invention will be apparent from, and described with reference to, the embodiments described below.

図１は、本発明の好適な実施形態による支持要素の長手方向に第１の凹部を有する当該支持要素を含む支持構造体の一部を示す。FIG. 1 shows a part of a support structure including a support element having a first recess in the longitudinal direction of the support element according to a preferred embodiment of the present invention. 図２は、本発明の好適な実施形態による支持要素の長手方向に第１の凹部を有する当該支持要素を含む支持構造体の一部を示し、ここで、第１の凹部は、当該支持要素の内面と外面との間に配置されている。FIG. 2 shows a part of a support structure comprising a support element having a first recess in the longitudinal direction of the support element according to a preferred embodiment of the present invention, wherein the first recess is the support element. Is disposed between the inner surface and the outer surface of the. 図３は、本発明の好適な実施形態による支持要素の長手方向にチャネルを有する当該支持要素を含む支持構造体の一部を示す。FIG. 3 shows a part of a support structure including a support element having channels in the longitudinal direction of the support element according to a preferred embodiment of the present invention. 図４は、本発明の好適な実施形態による第３の溝を有する支持要素を含む支持構造体の一部を示す。FIG. 4 shows a portion of a support structure including a support element having a third groove according to a preferred embodiment of the present invention. 図５は、本発明の好適な実施形態による支持要素の長手方向に垂直な平面における支持構造体の断面図を示す。FIG. 5 shows a sectional view of the support structure in a plane perpendicular to the longitudinal direction of the support element according to a preferred embodiment of the present invention. 図６は、本発明の好適な実施形態による支持要素及び距離設定要素を含む支持構造体の一部を示す。FIG. 6 shows a portion of a support structure including a support element and a distance setting element according to a preferred embodiment of the present invention. 図７は、本発明の好適な実施形態による、連結構造部を含む、支持要素の長手方向に垂直な平面における支持構造体の断面図を示す。FIG. 7 shows a sectional view of a support structure in a plane perpendicular to the longitudinal direction of the support element, including the connection structure, according to a preferred embodiment of the invention. 図８は、本発明の好適な実施形態による支持構造体を含む傾斜磁場コイルアセンブリを示す。FIG. 8 shows a gradient coil assembly including a support structure according to a preferred embodiment of the present invention. 図９は、本発明の好適な実施形態による支持構造体を含む傾斜磁場コイルアセンブリの一部を示す。FIG. 9 shows a portion of a gradient coil assembly including a support structure according to a preferred embodiment of the present invention. 図１０は、本発明の好適な実施形態による更なる支持構造体を含む傾斜磁場コイルアセンブリを示す。FIG. 10 shows a gradient coil assembly including a further support structure according to a preferred embodiment of the present invention. 図１１は、本発明の好適な実施形態による傾斜磁場コイルアセンブリの製造方法を示す。FIG. 11 shows a method of manufacturing a gradient magnetic field coil assembly according to a preferred embodiment of the present invention. 図１２は、本発明の好適な実施形態による製造方法のフローチャートを示す。FIG. 12 shows a flow chart of a manufacturing method according to a preferred embodiment of the present invention.

図１は、第１の実施形態による傾斜磁場コイルアセンブリの一次コイルとシールドコイルとの間に配置する支持構造体１０の一部を示す。支持構造体１０は、支持要素１２を含む。支持要素１２は、第１の端面１４及び第２の端面１６を含む（図３に示す）。第１の端面１４は、支持要素１２の長手方向１８において、第２の端面１６に対して離間して配置されている。支持要素１２は、それぞれ支持要素１２の長手方向１８と平行な方向に配置されている内面２０及び外面２２を含む。外面２２は、内面２０に対して離間して配置されている。第１の端面１４に開口２６を含む第１の凹部２４が、支持要素１２の長手方向１８に延在する。第１の凹部２４は、支持要素１２の内面２０に配置されて、パッシブシムバーを受け入れるスロットを形成する。したがって、支持構造体１０は、支持要素１２の長手方向１８に延在する第１の凹部２４を含み、パッシブシムバーを、第１の端面１４の開口２６を通して第１の凹部２４に容易に挿入することができる。したがって、パッシブシムバーの位置合わせは、支持要素１２内の一続きの第１の凹部２４によって画定される。一続きの第１の凹部２４が画定される支持要素１２は、傾斜磁場コイルアセンブリの一次コイルに容易に配置することができる。したがって、傾斜磁場コイルアセンブリの一次コイルに対するパッシブシムバーの単純化された位置合わせを可能にする支持構造体１０が提供される。支持構造体１０により、傾斜磁場コイルアセンブリの製造時間及びコストを削減することができる。支持構造体１０、支持要素１２は、容易に及び／又は好適には押出成形によって製造することができる。   FIG. 1 shows a part of a support structure 10 arranged between a primary coil and a shield coil of a gradient coil assembly according to the first embodiment. The support structure 10 includes a support element 12. The support element 12 includes a first end surface 14 and a second end surface 16 (shown in FIG. 3). The first end face 14 is arranged in the longitudinal direction 18 of the support element 12 and spaced apart from the second end face 16. The support element 12 comprises an inner surface 20 and an outer surface 22 which are each arranged in a direction parallel to the longitudinal direction 18 of the support element 12. The outer surface 22 is arranged apart from the inner surface 20. A first recess 24, which includes an opening 26 in the first end face 14, extends in the longitudinal direction 18 of the support element 12. The first recess 24 is arranged on the inner surface 20 of the support element 12 and forms a slot for receiving a passive shim bar. Accordingly, the support structure 10 includes a first recess 24 extending in the longitudinal direction 18 of the support element 12 to facilitate insertion of the passive shim bar into the first recess 24 through the opening 26 in the first end face 14. can do. Therefore, the alignment of the passive shim bar is defined by the series of first recesses 24 in the support element 12. The support element 12, in which a series of first recesses 24 is defined, can be easily placed in the primary coil of the gradient coil assembly. Thus, a support structure 10 is provided that allows for simplified alignment of the passive shim bar with respect to the primary coil of the gradient coil assembly. The support structure 10 can reduce the manufacturing time and cost of the gradient coil assembly. The support structure 10, support element 12 can be manufactured easily and / or preferably by extrusion.

外面２２は、複数の第１の溝２８を含む。第１の溝２８は、支持要素１２の長手方向１８に垂直な方向である、支持要素１２の長手方向１８に対して９０°で配置されている。第１の溝２８は、少なくとも部分的に、互いに隣り合わせで配置される。したがって、冷却チャネル（図示せず）及び／又はシールドコイルのｚワイヤ（図示せず）を、支持要素１２の第１の溝２８内に容易に配置して案内することができる。   The outer surface 22 includes a plurality of first grooves 28. The first groove 28 is arranged at 90 ° to the longitudinal direction 18 of the support element 12, which is a direction perpendicular to the longitudinal direction 18 of the support element 12. The first grooves 28 are arranged at least partially next to each other. Thus, cooling channels (not shown) and / or shield coil z-wires (not shown) can be easily placed and guided in the first groove 28 of the support element 12.

支持要素１２は更に、支持要素１２の外面２２に少なくとも部分的に配置される距離設定要素３０を含む。距離設定要素３０は、支持要素１２の外面２２と同じ方向に向いている外表面３２を含む。外表面３２は、複数の第２の溝３４を含む。したがって、冷却チャネル及び／又はシールドコイルのｚワイヤを第２の溝３４に挿入して案内することができる。冷却チャネル又はシールドコイルのｚワイヤが、第１の溝内を案内され、一方が当該第１の溝内を案内される冷却チャネル又はｚワイヤの他方が、距離設定要素の第２の溝内を案内されることが好適である。   The support element 12 further comprises a distance setting element 30 which is at least partially arranged on the outer surface 22 of the support element 12. The distance setting element 30 includes an outer surface 32 that faces in the same direction as the outer surface 22 of the support element 12. The outer surface 32 includes a plurality of second grooves 34. Therefore, the z-wire of the cooling channel and / or the shield coil can be inserted and guided in the second groove 34. The cooling channel or the z-wire of the shield coil is guided in the first groove, one of which is guided in the first groove and the other of the cooling channel or the z-wire is guided in the second groove of the distance setting element. It is preferable to be guided.

図示されるように、支持要素１２の外面は、支持要素１２の長手方向１８における第２の凹部３６を含み、距離設定要素３０は、第２の凹部３６内に配置される。これにより、距離設定要素３０が支持要素１２の第２の凹部３６内を案内されるので、距離設定要素３０の位置を固定することができる。   As shown, the outer surface of the support element 12 comprises a second recess 36 in the longitudinal direction 18 of the support element 12 and the distance setting element 30 is arranged in the second recess 36. As a result, the distance setting element 30 is guided in the second recess 36 of the support element 12, so that the position of the distance setting element 30 can be fixed.

図２は、図１から知られる支持構造体１０を示す。図２に示す支持構造体１０は、第１の凹部２４が内面２０と外面２２との間に配置されている点で図１に示すものと異なる。したがって、第１の凹部２４は、支持要素１２の長手方向１８に垂直である平面内で枠状に縁取りされる。したがって、内面２０と外面２２との間の枠状に縁取りされた第１の凹部２４は、開口２６を通って第１の凹部２４に挿入されるはずであるパッシブシムバーの案内を最適化することができる。   FIG. 2 shows a support structure 10 known from FIG. The support structure 10 shown in FIG. 2 differs from that shown in FIG. 1 in that the first recess 24 is arranged between the inner surface 20 and the outer surface 22. Thus, the first recess 24 is framed in a plane perpendicular to the longitudinal direction 18 of the support element 12. Thus, the frame-shaped first recess 24 between the inner surface 20 and the outer surface 22 optimizes the guidance of the passive shim bar, which should be inserted into the first recess 24 through the opening 26. be able to.

更に、支持要素１２は、内面２０と外面２２とを接続する第１の側面３８と、内面２０と外面２２とを接続する第２の側面４０とを含み、第１の側面３８は、第２の側面４０に対して離間して配置される。   Further, the support element 12 comprises a first side surface 38 connecting the inner surface 20 and the outer surface 22 and a second side surface 40 connecting the inner surface 20 and the outer surface 22, the first side surface 38 being the second side surface 40. And is spaced apart from the side surface 40 of the.

図３は、支持要素１２が、第１の凹部２４と平行である支持要素１２の長手方向１８にそれぞれ延在する第１のチャネル４２及び第２のチャネル４４を含む支持構造体１０を示す。各チャネル４２、４４は、第１の端面１４に第１のチャネル開口４６、及び／又は、第２の端面１６に第２のチャネル開口（図示せず）を含む。したがって、冷却チャネルを、第１のチャネル４２及び／又は第２のチャネル４４を通って案内することができる。より好適には、冷却ユニットを第１のチャネル開口４６及び／又は第２のチャネル開口に接続して、冷却媒体を第１のチャネル４２及び／又は第２のチャネル４４を通して案内することができる。このようにして、冷却ユニットの安定した接続、冷却チャネルの安定した配置を可能にする支持構造体１０が提供される。   FIG. 3 shows the support structure 10 in which the support element 12 comprises a first channel 42 and a second channel 44 respectively extending in the longitudinal direction 18 of the support element 12 which is parallel to the first recess 24. Each channel 42, 44 includes a first channel opening 46 in the first end surface 14 and / or a second channel opening (not shown) in the second end surface 16. Thus, the cooling channel can be guided through the first channel 42 and / or the second channel 44. More preferably, a cooling unit may be connected to the first channel opening 46 and / or the second channel opening to guide the cooling medium through the first channel 42 and / or the second channel 44. In this way, a support structure 10 is provided which allows a stable connection of cooling units, a stable arrangement of cooling channels.

好適には、支持要素１２はアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を含む。したがって、支持要素１２は高い比熱伝導率を含む。支持構造体１０上及び／又は第１の溝２８内に配置される傾斜磁場コイルアセンブリのシールドコイルからの熱は、支持要素１２を通って、支持要素１２内の第１の冷却チャネル４２及び／又は第２の冷却チャネル４２に伝達され、冷却される。したがって、第１の溝２８及び／又は図２に示す距離設定要素３０の第２の溝３４内の更なる冷却チャネルを回避することができる。したがって、支持構造体１０の構造上の高さを低くすることができる。 Suitably, the support element 12 comprises alumina (Al 2 O 3 ). Therefore, the support element 12 comprises a high specific thermal conductivity. Heat from the shield coil of the gradient coil assembly, which is located on the support structure 10 and / or in the first groove 28, passes through the support element 12 and the first cooling channels 42 and / or in the support element 12. Alternatively, it is transmitted to the second cooling channel 42 and cooled. Therefore, further cooling channels in the first groove 28 and / or the second groove 34 of the distance setting element 30 shown in FIG. 2 can be avoided. Therefore, the structural height of the support structure 10 can be reduced.

図４は、外面２２と第１の側面３８との角領域及び外面２２と第２の側面４０との角領域に、支持要素１２の長手方向１８に延在する第３の溝４８が形成されている図２から知られる支持構造体１０を示す。したがって、支持要素１２は、支持要素１２の長手方向１８に冷却チャネル用の案内溝４８を含む。   In FIG. 4, a third groove 48 extending in the longitudinal direction 18 of the support element 12 is formed in the corner area between the outer surface 22 and the first side surface 38 and in the corner area between the outer surface 22 and the second side surface 40. 3 shows a support structure 10 known from FIG. Thus, the support element 12 comprises in the longitudinal direction 18 of the support element 12 guide grooves 48 for cooling channels.

図５は、支持要素１２の長手方向１８に垂直である平面における図４に示す支持構造体１０の断面図を示す。図示されるように、冷却チャネル５０が、支持要素１２の第３の溝４８内に配置されている。   FIG. 5 shows a sectional view of the support structure 10 shown in FIG. 4 in a plane perpendicular to the longitudinal direction 18 of the support element 12. As shown, the cooling channel 50 is arranged in the third groove 48 of the support element 12.

図６は、外面２２に第１の溝２８を有する支持要素１２と、外表面３２に第２の溝３４がある距離設定要素３０とを含む図４から知られる支持構造体１０を示す。距離設定要素３０は、支持部材１２の第２の凹部３６内に配置されている。冷却チャネル５０が支持要素１２の第１の溝２８内に挿入及び案内され、シールドコイルのｚワイヤ５２が第２の溝３４内に挿入及び案内されている。   FIG. 6 shows a support structure 10 known from FIG. 4 which comprises a support element 12 having a first groove 28 on the outer surface 22 and a distance setting element 30 with a second groove 34 on the outer surface 32. The distance setting element 30 is arranged in the second recess 36 of the support member 12. A cooling channel 50 is inserted and guided in the first groove 28 of the support element 12 and a shield coil z-wire 52 is inserted and guided in the second groove 34.

図７は、支持要素１２の長手方向１８に垂直な方向の断面図で支持構造体１０を示す。支持要素１２は、支持要素１２の長手方向１８に垂直な平面内でリングセグメント形状を含む。したがって、内面２０は、支持要素１２の長手方向１８に垂直な平面内に第１の円弧として形成され、外面２２は第２の円弧に形成され、第２の円弧の半径が第１の円弧の半径よりも大きい。第１の側面３８及び第２の側面４０は半径方向に向けられている。したがって、支持要素１２を、円筒形マンドレルの周りの一次コイルに容易に取り付けることができる。   FIG. 7 shows the support structure 10 in a sectional view in a direction perpendicular to the longitudinal direction 18 of the support element 12. The support element 12 comprises a ring segment shape in a plane perpendicular to the longitudinal direction 18 of the support element 12. Therefore, the inner surface 20 is formed as a first arc in a plane perpendicular to the longitudinal direction 18 of the support element 12, the outer surface 22 is formed in a second arc, and the radius of the second arc is of the first arc. Greater than radius. The first side surface 38 and the second side surface 40 are oriented in the radial direction. Therefore, the support element 12 can be easily attached to the primary coil around the cylindrical mandrel.

第１の側面３８は第１の連結構造部５４を含み、第２の側面４０は第２の連結構造部５６を含み、第１の連結構造部５４は第２の連結構造部５６に対応する。したがって、第１の支持要素１２を第２の支持要素１２に接続することができる。したがって、複数の支持要素１２を含む支持構造体１０の構造強度を高めることができ、また、動作中の傾斜磁場コイルアセンブリの振動を減少させることができる。第１の連結構造部５４及び対応する第２の連結構造部５６は、特定のデザインに限定されない。好適には、第１の連結構造部５４は、支持要素１２の第１の側面３８に形成される突起５８であり、第２の連結構造部５６は、支持要素１２の第２の側面４０に形成される連結凹部６０である。   The first side surface 38 includes a first connecting structure 54, the second side 40 includes a second connecting structure 56, and the first connecting structure 54 corresponds to the second connecting structure 56. . Therefore, the first support element 12 can be connected to the second support element 12. Therefore, the structural strength of the support structure 10 including the plurality of support elements 12 can be increased, and the vibration of the gradient coil assembly during operation can be reduced. The first connecting structure 54 and the corresponding second connecting structure 56 are not limited to a particular design. Preferably, the first connecting structure 54 is a protrusion 58 formed on the first side 38 of the support element 12 and the second connecting structure 56 is formed on the second side 40 of the support element 12. It is the connecting recess 60 formed.

図８は、一次コイル６８、シールドコイル７２及び一次コイル６８とシールドコイル７２との間に配置される支持構造体１０を含む磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムで使用する円筒形に作られた傾斜磁場コイルアセンブリ６２の断面図を示す。支持構造体１０は、図４及び図６から知られる複数の支持要素１２を含む。支持要素１２は、円筒状に配置された一次コイル６８の周りに周方向に配置され、各支持要素１２の第１の凹部２４、したがって、各支持要素１２の長手方向は、円筒形に作られた傾斜磁場コイルアセンブリ６２の長手方向に向けられる。   FIG. 8 illustrates a cylindrically shaped gradient magnetic field for use in a magnetic resonance imaging (MRI) system that includes a primary coil 68, a shield coil 72, and a support structure 10 disposed between the primary coil 68 and the shield coil 72. A cross-sectional view of the coil assembly 62 is shown. The support structure 10 comprises a plurality of support elements 12 known from FIGS. 4 and 6. The support elements 12 are circumferentially arranged around a cylindrically arranged primary coil 68, the first recess 24 of each support element 12 and thus the longitudinal direction of each support element 12 being made cylindrical. Is oriented in the longitudinal direction of the gradient coil assembly 62.

図９は、図８から知られる円筒状に配置された支持要素１２の詳細図を示す。支持要素は、それらの長手方向の側面に従って並んで配置され、各支持要素は、パッシブシムバーを受け入れるための第１の凹部２４を含む。各支持要素１２は、支持要素１２の長手方向に冷却チャネル（図示せず）を案内するための第３の溝４８を含む。更に、各支持要素１２は、外面２２の第１の溝２８と、外表面３２に第２の溝３４がある距離設定要素３０とを含む。冷却チャネル５０が支持要素１２の第１の溝２８内に挿入及び案内され、シールドコイルのｚワイヤ５２が第２の溝３４内に挿入及び案内される。   FIG. 9 shows a detailed view of the cylindrically arranged support element 12 known from FIG. The support elements are arranged side by side according to their longitudinal sides, each support element including a first recess 24 for receiving a passive shim bar. Each support element 12 includes a third groove 48 for guiding a cooling channel (not shown) in the longitudinal direction of the support element 12. In addition, each support element 12 includes a first groove 28 in the outer surface 22 and a distance setting element 30 with a second groove 34 in the outer surface 32. A cooling channel 50 is inserted and guided in the first groove 28 of the support element 12 and a shield coil z-wire 52 is inserted and guided in the second groove 34.

図１０は、複数の支持要素１２を有する支持構造体１０を含む円筒形に作られた傾斜磁場コイルアセンブリ６２の断面図を示す。この傾斜磁場コイルアセンブリ６２は、支持要素１２に第３の溝がないという点で図８に示すものとは異なる。したがって、支持要素は、円筒状に配置された一次コイル６８の周りに周方向に並べて配置され、第１の支持要素１２の第１の側面３８が、第２の支持要素１２の第２の側面４０に接触している。   FIG. 10 shows a cross-sectional view of a cylindrically shaped gradient coil assembly 62 including a support structure 10 having a plurality of support elements 12. This gradient coil assembly 62 differs from that shown in FIG. 8 in that the support element 12 lacks a third groove. Thus, the support elements are circumferentially arranged around the cylindrically arranged primary coils 68, the first side surface 38 of the first support element 12 being the second side surface of the second support element 12. It is in contact with 40.

図１１は、傾斜磁場コイルアセンブリ６２を製造する製造ステップを示す。外殻表面６６を有する円筒形マンドレル６４が内側ケーシング６７として設けられる。一次コイル６８が、第１の層７０内で、内側ケーシング６７の外殻表面６６上に配置される。複数の支持要素１２を含む支持構造体１０が、一次コイル６８上に配置される。各支持要素１２は、パッシブシムバーを受け入れるためのトレイを形成する少なくとも第１の凹部を支持要素１２の長手方向において含む。支持要素１２の長手方向は、円筒形マンドレル６４の長手方向に対応し、これは、傾斜磁場コイルアセンブリ６２のｚ方向でもある。したがって、パッシブシムバーの位置合わせは、支持要素１２内の一続きの第１の凹部によって画定される。一続きの第１の凹部が画定される支持要素１２は、円筒状に配置された一次コイル６８上に周方向に配置される。支持構造体１０を一次コイル６８上に配置した後、シールドコイル７２が、第２の層７４内で、支持構造体１０上に配置される。円筒形に形成された外側ケーシング７６が、第２の層７４を囲む。パッシブシムバーツールが第１の凹部に挿入される。パッシブシムバーツールは、スペースホルダ、パッシブシムバーのダミーである。内側ケーシング６７と外側ケーシング７６との間の環帯は、好適には樹脂で鋳造される。ダミーが第１の凹部に挿入されているので、第１の凹部への鋳造材料の進入を防ぐことができる。したがって、１回の鋳造ステップで傾斜磁場コイルアセンブリを製造することで、製造時間及びコストが節約される方法が提供される。   FIG. 11 shows manufacturing steps for manufacturing the gradient coil assembly 62. A cylindrical mandrel 64 having an outer shell surface 66 is provided as an inner casing 67. A primary coil 68 is disposed within the first layer 70 on the outer shell surface 66 of the inner casing 67. A support structure 10 including a plurality of support elements 12 is disposed on the primary coil 68. Each support element 12 comprises at least a first recess in the longitudinal direction of the support element 12 forming a tray for receiving a passive shim bar. The longitudinal direction of the support element 12 corresponds to the longitudinal direction of the cylindrical mandrel 64, which is also the z direction of the gradient coil assembly 62. Thus, the alignment of the passive shim bar is defined by the series of first recesses in the support element 12. The support element 12, in which a series of first recesses is defined, is circumferentially arranged on a cylindrically arranged primary coil 68. After placing the support structure 10 on the primary coil 68, the shield coil 72 is placed on the support structure 10 in the second layer 74. A cylindrically shaped outer casing 76 surrounds the second layer 74. A passive shim bar tool is inserted into the first recess. The passive shim bar tool is a dummy for space holders, passive shim bars. The annulus between the inner casing 67 and the outer casing 76 is preferably cast of resin. Since the dummy is inserted in the first recess, it is possible to prevent the casting material from entering the first recess. Therefore, manufacturing a gradient coil assembly in a single casting step provides a method that saves manufacturing time and cost.

図１２は、傾斜磁場コイルアセンブリを製造する方法のフローチャートを示す。   FIG. 12 shows a flow chart of a method of manufacturing a gradient coil assembly.

第１のステップ１００では、内側ケーシングとして外殻表面を有する円筒形マンドレルが設けられる。円筒形マンドレルは、傾斜磁場コイルアセンブリの内径を規定する。   In the first step 100, a cylindrical mandrel having an outer shell surface is provided as an inner casing. The cylindrical mandrel defines the inner diameter of the gradient coil assembly.

第２のステップ１１０では、一次コイルが、第１の層内で円筒形マンドレルの外殻表面上に配置される。   In the second step 110, the primary coil is placed on the shell surface of the cylindrical mandrel in the first layer.

第３のステップ１２０によれば、パッシブシムバーを受け入れるための少なくとも第１の凹部をそれぞれ有する複数の支持要素を含む支持構造体１０が、一次コイル上に周方向に配置される。パッシブシムバーを受け入れるための一続きの第１の凹部が画定される支持要素は、一次コイル上で安定してかつ正確に調整することができる。したがって、支持要素、パッシブシムバー用の第１の凹部を調整するための製造時間及びコストを削減することができる。   According to a third step 120, a support structure 10 comprising a plurality of support elements each having at least a first recess for receiving a passive shim bar is circumferentially arranged on the primary coil. The support element, in which a series of first recesses is defined for receiving the passive shim bar, can be adjusted in a stable and precise manner on the primary coil. Therefore, the manufacturing time and cost for adjusting the support element, the first recess for the passive shim bar can be reduced.

更なるステップ１３０において、シールドコイルが支持構造体上に配置される。シールドコイルを支持構造体上に配置することによって、好適にはシールドコイルのｚワイヤによって、支持構造体をパッシブコイルに容易に固定することができる。   In a further step 130, the shield coil is placed on the support structure. By placing the shield coil on the support structure, the support structure can be easily secured to the passive coil, preferably by the z-wire of the shield coil.

更なるステップ１４０では、円筒形に形成された外側ケーシングがシールドコイルを囲む。したがって、内側ケーシングと外側ケーシングとの間に環帯が設けられ、一次コイル、支持構造体及びシールドコイルが当該環帯内に配置される。   In a further step 140, a cylindrically shaped outer casing surrounds the shield coil. Therefore, an annulus is provided between the inner casing and the outer casing, and the primary coil, the support structure and the shield coil are arranged in the annulus.

更なるステップ１５０では、内側ケーシングと外側ケーシングとの間の環帯が、好適には樹脂で鋳造される。したがって、傾斜磁場コイルを１回の鋳造ステップで製造することができる方法が提供される。環帯の鋳造中に、鋳造材料が第１の凹部に入るのを防ぐために、パッシブシムバーツールの形のダミーが、鋳造ステップについて、第１の凹部内に挿入される。   In a further step 150, the annulus between the inner casing and the outer casing is preferably cast of resin. Thus, a method is provided in which the gradient coil can be manufactured in a single casting step. During casting of the annulus, a dummy in the form of a passive shim bar tool is inserted into the first recess for the casting step in order to prevent the casting material from entering the first recess.

参照符号のリスト
１０ 支持構造体
１２ 支持要素
１４ 第１の端面
１６ 第２の端面
１８ 支持要素の長手方向
２０ 内面
２２ 外面
２４ 第１の凹部
２６ 第１の端面の開口
２８ 第１の溝
３０ 距離設定要素
３２ 外表面
３４ 第２の溝
３６ 第２の凹部
３８ 第１の側面
４０ 第２の側面
４２ 第１のチャネル
４４ 第２のチャネル
４６ チャネルの開口
４８ 第３の溝
５０ 冷却チャネル
５２ シールドコイルのＺワイヤ
５４ 第１の連結構造部
５６ 第２の連結構造部
５８ 突起
６０ 連結凹部
６２ 傾斜磁場コイルアセンブリ
６４ マンドレル
６６ 外殻表面
６７ 内側ケーシング
６８ 一次コイル
７０ 第１の層
７２ シールドコイル
７４ 第２の層
７６ 外側ケーシング
１００ 内側ケーシングとしてマンドレルを設ける
１１０ 内側ケーシング上に一次コイルを配置する
１２０ 一次コイル上に支持構造体を配置する
１３０ 支持構造上にシールドコイルを配置する
１４０ シールドコイルを外側ケーシングで囲む
１５０ 内側ケーシングと外側ケーシングとの間の環帯を鋳造する

List of reference numerals 10 Support structure 12 Support element 14 First end surface 16 Second end surface 18 Support element longitudinal 20 Inner surface 22 Outer surface 24 First recess 26 First end surface opening 28 First groove 30 Distance Setting element 32 Outer surface 34 Second groove 36 Second recess 38 First side surface 40 Second side surface 42 First channel 44 Second channel 46 Channel opening 48 Third groove 50 Cooling channel 52 Shield coil Z wire 54 First connection structure 56 Second connection structure 58 Protrusion 60 Connection recess 62 Gradient coil assembly 64 Mandrel 66 Outer shell surface 67 Inner casing 68 Primary coil 70 First layer 72 Shield coil 74 Second Layers of 76 Outer casing 100 Providing mandrel as inner casing 110 Placing primary coil on inner casing 12 0 Place the support structure on the primary coil 130 Place the shield coil on the support structure 140 Surround the shield coil with an outer casing 150 Cast the annulus between the inner and outer casings

Claims (14)

磁気共鳴撮像システムにおける使用のための傾斜磁場コイルアセンブリであって、
一次コイルと、
シールドコイルと、
前記一次コイルと前記シールドコイルとの間に配置される支持構造体と、
を含み、
前記支持構造体は、第１の端面と前記第１の端面に開口を有する少なくとも第１の凹部とを含む支持要素を少なくとも含み、前記第１の凹部は、前記支持要素の長手方向に延在して、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する、傾斜磁場コイルアセンブリ。 A gradient coil assembly for use in a magnetic resonance imaging system, comprising:
A primary coil,
Shield coil,
A support structure arranged between the primary coil and the shield coil,
Including,
The support structure includes at least a support element including a first end surface and at least a first recess having an opening in the first end surface, the first recess extending in a longitudinal direction of the support element. And a gradient coil assembly forming a tray for receiving a passive shim bar. 前記支持要素は、前記支持要素の前記長手方向と平行な方向にそれぞれ配置される内面及び外面を含み、前記外面は、前記内面に対して離間して配置されることを特徴とし、
前記第１の凹部は、前記内面上に配置されるか、又は、前記第１の凹部は、前記内面と前記外面との間に配置されることを特徴とする、請求項１に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。 The support element includes an inner surface and an outer surface that are respectively arranged in a direction parallel to the longitudinal direction of the support element, and the outer surface is arranged to be spaced apart from the inner surface,
The slope according to claim 1, characterized in that the first recess is arranged on the inner surface or the first recess is arranged between the inner surface and the outer surface. Magnetic field coil assembly. 前記外面は、複数の第１の溝を含むことを特徴とする、請求項２に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   The gradient coil assembly of claim 2, wherein the outer surface includes a plurality of first grooves. 各第１の溝の長手方向は、前記支持要素の前記長手方向に対して８０°乃至９０°の間の角度で配置されることを特徴とする、請求項３に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   A gradient coil assembly according to claim 3, characterized in that the longitudinal direction of each first groove is arranged at an angle between 80 ° and 90 ° with respect to the longitudinal direction of the support element. 前記支持要素の前記外面上に少なくとも部分的に配置可能である距離設定要素を更に含み、前記距離設定要素は、前記支持要素の前記外面と同じ方向に向いている外表面を含み、前記外表面は、複数の第２の溝を含む、請求項２乃至４の何れか一項に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   Further comprising a distance setting element at least partially positionable on the outer surface of the support element, the distance setting element including an outer surface oriented in the same direction as the outer surface of the support element, the outer surface The gradient magnetic field coil assembly according to claim 2, further comprising a plurality of second grooves. 前記支持要素の前記外面は、前記支持要素の長手方向に第２の凹部を含み、前記距離設定要素は、前記第２の凹部内に配置可能であることを特徴とする、請求項５に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   6. The outer surface of the support element comprises a second recess in the longitudinal direction of the support element, the distance setting element being positionable in the second recess. Gradient coil assembly. 前記第２の溝の長手方向は、前記支持要素の前記長手方向に対して８０°乃至９０°の間の角度で配置されることを特徴とする、請求項５又は６に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   The gradient coil according to claim 5 or 6, characterized in that the longitudinal direction of the second groove is arranged at an angle between 80 ° and 90 ° with respect to the longitudinal direction of the support element. assembly. 前記支持要素は更に、前記内面と前記外面とを接続する第１の側面と、前記内面と前記外面とを接続する第２の側面とを含むことを特徴とし、前記第１の側面は、前記第２の側面に対して離間して配置される、請求項１乃至７の何れか一項に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   The support element further comprises a first side surface connecting the inner surface and the outer surface, and a second side surface connecting the inner surface and the outer surface, wherein the first side surface is The gradient magnetic field coil assembly according to claim 1, wherein the gradient magnetic field coil assembly is spaced apart from the second side surface. 前記支持要素の長手方向に延在する第３の溝が、前記外面と前記第１の側面との角領域、及び／又は、前記外面と前記第２の側面との角領域に形成されることを特徴とする、請求項８に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   A third groove extending in the longitudinal direction of the support element is formed in a corner area between the outer surface and the first side surface and / or a corner area between the outer surface and the second side surface. 9. The gradient coil assembly according to claim 8, wherein: 前記支持要素は、少なくとも、前記支持要素の長手方向に延在するチャネルを含むことを特徴とする、請求項１乃至８の何れか一項に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   9. The gradient coil assembly according to claim 1, wherein the support element includes at least a channel extending in a longitudinal direction of the support element. 前記第１の側面は、第１の連結構造部を含み、前記第２の側面は、第２の連結構造部を含むことを特徴とし、前記第１の連結構造部は、前記第２の連結構造部に対応する、請求項１乃至１０の何れか一項に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   The first side surface may include a first connection structure portion, the second side surface may include a second connection structure portion, and the first connection structure portion may include the second connection structure portion. The gradient magnetic field coil assembly according to any one of claims 1 to 10, which corresponds to a structural portion. 前記支持構造体は、コンクリート、ガラス及び／又はセラミックを含むことを特徴とする、請求項１乃至１１の何れか一項に記載の傾斜磁場コイルアセンブリ。   12. The gradient coil assembly according to claim 1, wherein the support structure includes concrete, glass and / or ceramic. 請求項１乃至１２の何れか一項に記載の傾斜磁場コイルアセンブリを含む、磁気共鳴撮像システム。   A magnetic resonance imaging system comprising the gradient coil assembly according to claim 1. 内側ケーシングとして、外殻表面を有する円筒形マンドレルを設けるステップと、
第１の層内で、前記円筒形マンドレルの前記外殻表面上に一次コイルを配置するステップと、
前記一次コイル上に支持構造体を配置するステップと、
第２の層内で、前記支持構造体上にシールドコイルを配置するステップと、
前記シールドコイル上に外側ケーシングを配置するステップと、
前記内側ケーシングと前記外側ケーシングとの間の環帯を鋳造するステップと、
を含み、
前記支持構造体は、第１の端面及び第２の端面、並びに、前記第１の端面に開口を含む少なくとも第１の凹部を有する支持要素を少なくとも含み、前記第２の端面は、前記支持要素の長手方向において、前記第１の端面に対して離間して配置され、前記第１の凹部は、前記支持要素の長手方向に延在して、パッシブシムバーを受け入れるトレイを形成する、磁気共鳴撮像システム用の傾斜磁場コイルアセンブリを製造する方法。

Providing a cylindrical mandrel having an outer shell surface as an inner casing;
Disposing a primary coil on the outer shell surface of the cylindrical mandrel in a first layer;
Disposing a support structure on the primary coil;
Disposing a shield coil on the support structure in a second layer;
Disposing an outer casing on the shield coil,
Casting an annulus between the inner casing and the outer casing;
Including,
The support structure includes at least a support element having a first end surface and a second end surface, and at least a first recess including an opening in the first end surface, the second end surface being the support element. In the longitudinal direction of the magnetic resonance element, spaced apart from the first end face, the first recess extending in the longitudinal direction of the support element to form a tray for receiving a passive shim bar. A method of manufacturing a gradient coil assembly for an imaging system.

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008194449A (en) * 2007-01-17 2008-08-28 Toshiba Corp Gradient magnetic field coil unit, gantry for mri apparatus, and mri apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060208732A1 (en) * 2004-10-22 2006-09-21 General Electric Company Method and apparatus for passive shimming of magnets
JP2008194449A (en) * 2007-01-17 2008-08-28 Toshiba Corp Gradient magnetic field coil unit, gantry for mri apparatus, and mri apparatus

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