JP2020500840A - プロピレン及びc4の炭化水素類を製造する方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
Description
a)乱流流動床式反応器(1)であって、反応器ハウジング(2)、n個の反応器フィード分配器(3−1〜3−n)、反応器気固分離器1(4)、反応器気固分離器2(5)、反応器熱除去器(6)、製品ガス出口(7)及び反応器ストリッパー(8)を含み、乱流流動床式反応器(1)の下部が反応領域であり、乱流流動床式反応器(1)の上部が沈降領域であり、n個の反応器フィード分配器(3−1〜3−n)が反応領域に配置されており(好ましくはn個の反応器フィード分配器が下から上へと反応領域に配置されており、0<n<10である。)、反応器熱除去器(6)が反応領域に配置されており、反応器気固分離器1(4)及び反応器気固分離器2(5)が沈降領域又は反応器ハウジング(2)の外部に配置されており、反応器気固分離器1(4)の入口が再生リフトパイプ(24)に接続されており、反応器気固分離器1(4)の触媒出口が反応領域の底部に配置されており、反応器気固分離器1(4)のガス出口が沈降領域に配置されており、反応器気固分離器2(5)の入口が沈降領域に配置されており、反応器気固分離器2(5)の触媒出口が反応領域に配置されており、反応器気固分離器2(5)のガス出口が製品ガス出口(7)に接続されており、反応器ストリッパー(8)が乱流流動床式反応器(1)の底部において外部から内部へと反応器ハウジング(2)を通過して乱流流動床式反応器(1)の反応領域内に開口する(好ましくは反応器ストリッパーが反応器ハウジング内部に開口する水平高さが反応領域の1/10の高さよりも高い。)、乱流流動床式反応器(1)と、
b)接触分解リフトパイプ(28)であって、その底部が接触分解傾斜管(26)の出口に接続されてC5以上の炭化水素類入口(29)が設けられており、接触分解リフトパイプ(28)の出口が乱流流動床式反応器(1)の沈降領域に接続されている、接触分解リフトパイプ(28)と、
c)流動床再生器(14)であって、再生器ハウジング(15)、再生器フィード分配器(16)、再生器気固分離器(17)、再生器熱除去器(18)、排ガス出口(19)及び再生器ストリッパー(20)を含み、流動床再生器(14)の下部が再生領域であり、流動床再生器(14)の上部が沈降領域であり、再生器フィード分配器(16)が再生領域の底部に配置されており、再生器熱除去器(18)が再生領域に配置されており、再生器気固分離器(17)が沈降領域又は再生器ハウジング(15)の外部に配置されており、再生器気固分離器(17)の入口が沈降領域に配置されており、再生器気固分離器(17)の触媒出口が再生領域に配置されており、再生器気固分離器(17)のガス出口が排ガス出口(19)に接続されており、再生器ストリッパー(20)が再生器ハウジング(15)の底部に開口する、流動床再生器(14)と、
を含み、
d)反応器ストリッパー(8)の底部には反応器ストリッピングガス入口(9)が設けられており、反応器ストリッパー(8)の底部が再生待ち触媒用傾斜管(10)の入口に接続されており、再生待ち触媒用傾斜管(10)には再生待ち触媒用スライドバルブ(11)が設けられており、再生待ち触媒用傾斜管(10)の出口が再生待ち触媒用リフトパイプ(12)の入口に接続されており、再生待ち触媒用リフトパイプ(12)の底部には再生待ち触媒用リフトガス入口(13)が設けられており、再生待ち触媒用リフトパイプ(12)の出口が流動床再生器(14)の沈降区間に接続されており、
e)再生器ストリッパー(20)の底部には再生器ストリッピングガス入口(21)が設けられており、再生器ストリッパー(20)の底部が再生傾斜管(22)の入口に接続されており、再生傾斜管(22)には再生スライドバルブ(23)が設けられており、再生傾斜管(22)の出口が再生リフトパイプ(24)の入口に接続されており、再生リフトパイプ(24)の底部には再生リフトガス入口(25)が設けられており、再生リフトパイプ(24)の出口が反応器気固分離器1(4)の入口に接続されており、
再生器ストリッパー(20)の底部がさらに接触分解傾斜管(26)の入口に接続されており、接触分解傾斜管には接触分解スライドバルブ(27)が設けられている。
a)酸素含有化合物を含有する原料をn個の反応器フィード分配器(3−1〜3−n)から乱流流動床式反応器(1)の反応領域に導入し、触媒と接触させ、プロピレン及びC4の炭化水素類製品を含有する流れと、炭素を含有する再生待ち触媒を生成し、
b)再生待ち触媒を流動床再生器(14)により再生し、再生触媒を形成し、再生触媒の一部が反応器気固分離器1(4)により気固分離された後に、乱流流動床式反応器(1)における反応領域の底部に入り、再生触媒のもう一部が接触分解傾斜管(26)を経過して接触分解リフトパイプ(28)に入り、
c)乱流流動床式反応器(1)から流出した、プロピレン及びC4の炭化水素類製品を含有する流れを製品分離システムに送入し、分離によりプロピレン、C4の炭化水素類、軽質分、プロパン、C5以上の炭化水素類を得、軽質分が90wt%超のエチレンを含み、さらに少量のメタン、エタン、水素ガス、CO及びCO2を含み、70wt.%以上の軽質分が乱流流動床式反応器(1)の最も下方の反応器フィード分配器(3−1)から乱流流動床式反応器(1)の反応領域に戻り、エチレン及び酸素含有化合物が触媒の作用によりアルキル化反応が生じ、プロピレンの生成物を生成し、30wt.%未満の軽質分を副生成物として回収し、
d)80wt.%以上の分離システムから出たC5以上の炭化水素類がC5以上の炭化水素類入口(29)から接触分解リフトパイプ(28)に入り、接触分解傾斜管(26)からの再生触媒と並流接触し、分解反応させ、プロピレン、C4の炭化水素類を含有する流れと、炭素を含有する触媒と、を生成し、その後、プロピレン、C4の炭化水素類を含有する流れと、炭素を含有する触媒とが接触分解リフトパイプ(28)の出口を経過して乱流流動床式反応器(1)の沈降領域に入り、20wt.%未満のC5以上の炭化水素類を副生成物として回収する。
再生待ち触媒が反応器ストリッパー(8)、再生待ち触媒用傾斜管(10)、再生待ち触媒用スライドバルブ(11)及び再生待ち触媒用リフトパイプ(12)を経過して流動床再生器(14)の沈降区間に入り、
再生媒体を再生器フィード分配器(16)から流動床再生器(14)の再生領域に導入し、再生媒体及び再生待ち触媒はカーボン燃焼反応が発生し、CO、CO2を含有する排ガスと再生触媒とを生成し、排ガスを再生器気固分離器(17)により除塵した後に排出し、
再生触媒の一部が再生器ストリッパー(20)、再生傾斜管(22)、再生スライドバルブ(23)及び再生リフトパイプ(24)を経過して反応器気固分離器1(4)の入口に入り、気固分離された後に、再生触媒が乱流流動床式反応器(1)における反応領域の底部に入り、再生触媒のもう一部が再生器ストリッパー(20)、接触分解傾斜管(26)、接触分解スライドバルブ(27)を経過して接触分解リフトパイプ(28)に入り、
反応器ストリッピングガスが反応器ストリッピングガス入口(9)から反応器ストリッパー(8)に入って再生待ち触媒と向流接触し、その後、乱流流動床式反応器(1)に入り、再生待ち触媒用リフトガスが再生待ち触媒用リフトガス入口(13)から再生待ち触媒用リフトパイプ(12)に入って再生待ち触媒と並流接触し、その後、流動床再生器(14)の沈降区間に入り、
再生器ストリッピングガスが再生器ストリッピングガス入口(21)から再生器ストリッパー(20)に入って再生触媒と向流接触し、その後、流動床再生器(14)に入り、再生リフトガスが再生リフトガス入口(25)から再生リフトパイプ(24)に入って再生触媒と並流接触し、その後、反応器気固分離器1(4)の入口に入る。
a)乱流流動床式反応器(1)であって、反応器ハウジング(2)、n個の反応器フィード分配器(3−1〜3−n)、反応器気固分離器1(4)、反応器気固分離器2(5)、反応器熱除去器(6)、製品ガス出口(7)及び反応器ストリッパー(8)を含み、乱流流動床式反応器(1)の下部が反応領域であり、乱流流動床式反応器(1)の上部が沈降領域であり、n個の反応器フィード分配器(3−1〜3−n)が下から上へと並んで反応領域に配置されており、0<n<10であり、反応器熱除去器(6)が反応領域に配置されており、反応器気固分離器1(4)及び反応器気固分離器2(5)が沈降領域又は反応器ハウジング(2)の外部に配置されており、反応器気固分離器1(4)の入口が再生リフトパイプ(24)に接続されており、反応器気固分離器1(4)の触媒出口が反応領域の底部に配置されており、反応器気固分離器1(4)のガス出口が沈降領域に配置されており、反応器気固分離器2(5)の入口が沈降領域に配置されており、反応器気固分離器2(5)の触媒出口が反応領域に配置されており、反応器気固分離器2(5)のガス出口が製品ガス出口(7)に接続されており、反応器ストリッパー(8)の入口が乱流流動床式反応器(1)の反応領域内に位置し、その水平高さが反応領域の1/10の高さよりも高い、乱流流動床式反応器(1)と、
b)接触分解リフトパイプ(28)であって、その底部にはC5以上の炭化水素類入口(29)が設けられており、接触分解リフトパイプ(28)の出口が乱流流動床式反応器(1)の沈降領域に接続されており、接触分解リフトパイプ(28)の入口が接触分解傾斜管(26)の出口に接続されており、接触分解傾斜管(26)には接触分解スライドバルブ(27)が設けられており、接触分解傾斜管(26)の入口が再生器ストリッパー(20)に接続されている、接触分解リフトパイプ(28)と、
c)流動床再生器(14)であって、再生器ハウジング(15)、再生器フィード分配器(16)、再生器気固分離器(17)、再生器熱除去器(18)、排ガス出口(19)及び再生器ストリッパー(20)を含み、流動床再生器(14)の下部が再生領域であり、流動床再生器(14)の上部が沈降領域であり、再生器フィード分配器(16)が再生領域の底部に配置されており、再生器熱除去器(18)が再生領域に配置されており、再生器気固分離器(17)が沈降領域又は再生器ハウジング(15)の外部に配置されており、再生器気固分離器(17)の入口が沈降領域に配置されており、再生器気固分離器(17)の触媒出口が再生領域に配置されており、再生器気固分離器(17)のガス出口が排ガス出口(19)に接続されており、再生器ストリッパー(20)の入口が再生器ハウジング(15)の底部に接続されている、流動床再生器(14)と、
を含み、
d)反応器ストリッパー(8)の底部には反応器ストリッピングガス入口(9)が設けられており、反応器ストリッパー(8)の底部が再生待ち触媒用傾斜管(10)の入口に接続されており、再生待ち触媒用傾斜管(10)には再生待ち触媒用スライドバルブ(11)が設けられており、再生待ち触媒用傾斜管(10)の出口が再生待ち触媒用リフトパイプ(12)の入口に接続されており、再生待ち触媒用リフトパイプ(12)の底部には再生待ち触媒用リフトガス入口(13)が設けられており、再生待ち触媒用リフトパイプ(12)の出口が流動床再生器(14)の沈降区間に接続されており、
e)再生器ストリッパー(20)の底部には再生器ストリッピングガス入口(21)が設けられており、再生器ストリッパー(20)の底部が再生傾斜管(22)の入口に接続されており、再生傾斜管(22)には再生スライドバルブ(23)が設けられており、再生傾斜管(22)の出口が再生リフトパイプ(24)の入口に接続されており、再生リフトパイプ(24)の底部には再生リフトガス入口(25)が設けられており、再生リフトパイプ(24)の出口が反応器気固分離器1(4)の入口に接続されている。
a)酸素含有化合物を含有する原料をn個の反応器フィード分配器(3−1〜3−n)から乱流流動床式反応器(1)の反応領域に導入し、触媒と接触させ、プロピレン及びC4の炭化水素類製品を含有する流れと、炭素を含有する再生待ち触媒とを生成し、
b)乱流流動床式反応器(1)から流出した、プロピレン及びC4の炭化水素類製品を含有する流れを製品分離システムに送入し、分離によりプロピレン、C4の炭化水素類、軽質分、プロパン、C5以上の炭化水素類を得、軽質分は90wt%超のエチレンを含み、さらに少量のメタン、エタン、水素ガス、CO及びCO2を含み、70〜98wt.%の軽質分が乱流流動床式反応器(1)の最も下方の反応器フィード分配器(3−1)から乱流流動床式反応器(1)の反応領域に戻り、エチレン及び酸素含有化合物が触媒の作用によりアルキル化反応が生じ、プロピレン等の生成物を生成し、30wt.%未満の軽質分を副生成物として回収し、
c)80wt.%以上の分離システムから出たC5以上の炭化水素類がC5以上の炭化水素類入口(29)から接触分解リフトパイプ(28)に入り、接触分解傾斜管(26)からの再生触媒と並流接触し、分解反応させ、プロピレン、C4の炭化水素類を含有する流れと、炭素を含有する触媒と、を生成し、その後、プロピレン、C4の炭化水素類を含有する流れと、炭素を含有する触媒とが接触分解リフトパイプ(28)の出口を経過して乱流流動床式反応器(1)の沈降領域に入り、20wt.%未満のC5以上の炭化水素類を副生成物として回収し、
d)再生待ち触媒が反応器ストリッパー(8)、再生待ち触媒用傾斜管(10)、再生待ち触媒用スライドバルブ(11)及び再生待ち触媒用リフトパイプ(12)を経過して流動床再生器(14)の沈降区間に入り、
e)再生媒体を再生器フィード分配器(16)から流動床再生器(14)の再生領域に導入し、再生媒体及び再生待ち触媒はカーボン燃焼反応が生じ、CO、CO2を含有する排ガスと再生触媒とを生成し、排ガスを再生器気固分離器(17)により除塵した後に排出し、
f)再生触媒の一部が再生器ストリッパー(20)、再生傾斜管(22)、再生スライドバルブ(23)及び再生リフトパイプ(24)を経過して反応器気固分離器1(4)の入口に入り、気固分離された後に、再生触媒が乱流流動床式反応器(1)における反応領域の底部に入り、再生触媒のもう一部が再生器ストリッパー(20)、接触分解傾斜管(26)、接触分解スライドバルブ(27)を経過して接触分解リフトパイプ(28)に入り、
g)反応器ストリッピングガスが反応器ストリッピングガス入口(9)から反応器ストリッパー(8)に入って再生待ち触媒と向流接触し、その後、乱流流動床式反応器(1)に入り、再生待ち触媒用リフトガスが再生待ち触媒用リフトガス入口(13)から再生待ち触媒用リフトパイプ(12)に入って再生待ち触媒と並流接触し、その後、流動床再生器(14)の沈降区間に入り、
h)再生器ストリッピングガスが再生器ストリッピングガス入口(21)から再生器ストリッパー(20)に入って再生触媒と向流接触し、その後、流動床再生器(14)に入り、再生リフトガスが再生リフトガス入口(25)から再生リフトパイプ(24)に入って再生触媒と並流接触し、その後、反応器気固分離器1(4)の入口に入る。
この例は比較例であり、図1に示す装置を用いたが、乱流流動床式反応器(1)において反応器気固分離器1(4)を含まず、再生リフトパイプ(24)が乱流流動床式反応器(1)の沈降領域に直接に接続されている。
図1に示す装置を用い、乱流流動床式反応器(1)は3つの反応器フィード分配器(3−1〜3−3)を含み、反応器気固分離器1(4)が反応器ハウジング(2)の外部に配置されており、反応器ストリッパー(8)の入口の水平高さが反応領域の1/2の高さに位置する。乱流流動床式反応器(1)の反応領域の反応条件は、ガス見掛け線速度が約1.0m/s、反応温度が約450℃、反応圧力が約150kPa、床密度が約350kg/m3である。
この例は比較例であり、図1に示す装置を用いたが、接触分解傾斜管(26)、接触分解スライドバルブ(27)及び接触分解リフトパイプ(28)を含まない。C5以上の炭化水素類が循環リサイクルせずに、副生成物として直接回収される。
図1に示す装置を用い、乱流流動床式反応器(1)は4つの反応器フィード分配器(3−1〜3−4)を含み、反応器気固分離器1(4)が沈降領域に配置されており、反応器ストリッパー(8)の入口の水平高さが反応領域の3/4の高さに位置する。乱流流動床式反応器(1)の反応領域の反応条件は、ガス見掛け線速度が約1.2m/s、反応温度が約360℃、反応圧力が約200kPa、床密度が約300kg/m3である。
図1に示す装置を用い、乱流流動床式反応器(1)は6つの反応器フィード分配器(3−1〜3−6)を含み、反応器気固分離器1(4)が沈降領域に配置されており、反応器ストリッパー(8)の入口の水平高さが反応領域の5/6の高さに位置する。乱流流動床式反応器(1)の反応領域の反応条件は、ガス見掛け線速度が約1.5m/s、反応温度が約420℃、反応圧力が約250kPa、床密度が約250kg/m3である。
2 反応器ハウジング
3 反応器フィード分配器(3−1〜3−n)
4 反応器気固分離器1
5 反応器気固分離器2
6 反応器熱除去器
7 製品ガス出口
8 反応器ストリッパー
9 反応器ストリッピングガス入口
10 再生待ち触媒用傾斜管
11 再生待ち触媒用スライドバルブ
12 再生待ち触媒用リフトパイプ
13 再生待ち触媒用リフトガス入口
14 流動床再生器
15 再生器ハウジング
16 再生器フィード分配器
17 再生器気固分離器
18 再生器熱除去器
19 排ガス出口
20 再生器ストリッパー
21 再生器ストリッピングガス入口
22 再生傾斜管
23 再生スライドバルブ
24 再生リフトパイプ
25 再生リフトガス入口
26 接触分解傾斜管
27 接触分解スライドバルブ
28 接触分解リフトパイプ
29 C5以上の炭化水素類入口
Claims (14)
- 酸素含有化合物からプロピレン及びC4の炭化水素類を製造するための装置であって、
乱流流動床式反応器であって、反応器ハウジング、n個の反応器フィード分配器、反応器気固分離器1、反応器気固分離器2、反応器熱除去器、製品ガス出口及び反応器ストリッパーを含み、乱流流動床式反応器の下部が反応領域であり、乱流流動床式反応器の上部が沈降領域であり、n個の反応器フィード分配器が反応領域に配置されており、反応器熱除去器が反応領域に配置されており、反応器気固分離器1及び反応器気固分離器2が沈降領域又は反応器ハウジングの外部に配置されており、反応器気固分離器1の入口が再生リフトパイプに接続されており、反応器気固分離器1の触媒出口が反応領域の底部に配置されており、反応器気固分離器1のガス出口が沈降領域に配置されており、反応器気固分離器2の入口が沈降領域に配置されており、反応器気固分離器2の触媒出口が反応領域に配置されており、反応器気固分離器2のガス出口が製品ガス出口に接続されており、反応器ストリッパーが乱流流動床式反応器の底部において外部から内部へと反応器ハウジングを通過して乱流流動床式反応器の反応領域内に開口する、乱流流動床式反応器と、
接触分解リフトパイプであって、その底部が接触分解傾斜管の出口に接続されてC5以上の炭化水素類入口が設けられており、その出口が乱流流動床式反応器の沈降領域に接続されている、接触分解リフトパイプと、
流動床再生器であって、再生器ハウジング、再生器フィード分配器、再生器気固分離器、再生器熱除去器、排ガス出口及び再生器ストリッパーを含み、流動床再生器の下部が再生領域であり、流動床再生器の上部が沈降領域であり、再生器フィード分配器が再生領域の底部に配置されており、再生器熱除去器が再生領域に配置されており、再生器気固分離器が沈降領域又は再生器ハウジングの外部に配置されており、再生器気固分離器の入口が沈降領域に配置されており、再生器気固分離器の触媒出口が再生領域に配置されており、再生器気固分離器のガス出口が排ガス出口に接続されており、再生器ストリッパーが再生器ハウジングの底部に開口する、流動床再生器と、
を含み、
反応器ストリッパーの底部には反応器ストリッピングガス入口が設けられており、反応器ストリッパーの底部が再生待ち触媒用傾斜管の入口に接続されており、再生待ち触媒用傾斜管には再生待ち触媒用スライドバルブが設けられており、再生待ち触媒用傾斜管の出口が再生待ち触媒用リフトパイプの入口に接続されており、再生待ち触媒用リフトパイプの底部には再生待ち触媒用リフトガス入口が設けられており、再生待ち触媒用リフトパイプの出口が流動床再生器の沈降区間に接続されており、
再生器ストリッパーの底部には再生器ストリッピングガス入口が設けられており、再生器ストリッパーの底部が再生傾斜管の入口に接続されており、再生傾斜管には再生スライドバルブが設けられており、再生傾斜管の出口が再生リフトパイプの入口に接続されており、再生リフトパイプの底部には再生リフトガス入口が設けられており、再生リフトパイプの出口が反応器気固分離器1の入口に接続されており、
再生器ストリッパーの底部がさらに接触分解傾斜管の入口に接続されており、接触分解傾斜管には接触分解スライドバルブが設けられている、
装置。 - 前記n個の反応器フィード分配器が下から上へと反応領域に配置されており、0<n<10である請求項1に記載の装置。
- 前記反応器ストリッパーが反応器ハウジング内部に開口する水平高さが反応領域の1/10の高さよりも高い請求項1に記載の装置。
- 前記接触分解リフトパイプ及び前記乱流流動床式反応器が気固分離器2を共用する請求項1に記載の装置。
- 前記流動床再生器が乱流流動床再生器である請求項1に記載の装置。
- 前記反応器気固分離器1、反応器気固分離器2及び再生器気固分離器がサイクロン分離器である請求項1に記載の装置。
- 酸素含有化合物を含有する原料をn個の反応器フィード分配器から乱流流動床式反応器の反応領域に導入して、触媒と接触させ、プロピレン及びC4の炭化水素類製品を含有する流れと、炭素を含有する再生待ち触媒とを生成し、
再生待ち触媒を流動床再生器により再生し、再生触媒を形成し、再生触媒の一部が反応器気固分離器1により気固分離された後、乱流流動床式反応器における反応領域の底部に入り、再生触媒のもう一部が接触分解傾斜管を経過して接触分解リフトパイプに入り、
乱流流動床式反応器から流出したプロピレン及びC4の炭化水素類製品を含有する流れを製品分離システムに送入し、分離によりプロピレン、C4の炭化水素類、軽質分、プロパン、C5以上の炭化水素類を得、軽質分は90wt%超のエチレンを含み、さらに少量のメタン、エタン、水素ガス、CO及びCO2を含み、70wt.%以上の軽質分が乱流流動床式反応器の最下方の反応器フィード分配器から乱流流動床式反応器の反応領域に戻り、エチレン及び酸素含有化合物が触媒の作用によりアルキル化反応が生じ、プロピレンの生成物を生成し、30wt.%未満の軽質分を副生成物として回収し、
80wt.%以上の分離システムから出たC5以上の炭化水素類がC5以上の炭化水素類入口から接触分解リフトパイプに入り、接触分解傾斜管からの再生触媒と並流接触し、分解反応させ、プロピレン、C4の炭化水素類を含有する流れと、炭素を含有する触媒と、を生成し、その後、プロピレン、C4の炭化水素類を含有する流れと、炭素を含有する触媒とが接触分解リフトパイプの出口を経過して乱流流動床式反応器の沈降領域に入り、20wt.%未満のC5以上の炭化水素類を副生成物として回収する、
酸素含有化合物からプロピレン及びC4の炭化水素類を製造する方法。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置を用いて行われる請求項7に記載の方法であって、
再生待ち触媒が反応器ストリッパー、再生待ち触媒用傾斜管、再生待ち触媒用スライドバルブ及び再生待ち触媒用リフトパイプを経過して流動床再生器の沈降区間に入り、
再生媒体が再生器フィード分配器から流動床再生器の再生領域に導入され、再生媒体及び再生待ち触媒はカーボン燃焼反応が生じ、CO、CO2を含有する排ガスと再生触媒とを生成し、排ガスを再生器気固分離器により除塵した後に排出し、
再生触媒の一部が再生器ストリッパー、再生傾斜管、再生スライドバルブ及び再生リフトパイプを経過して反応器気固分離器1の入口に入り、気固分離された後、再生触媒が乱流流動床式反応器における反応領域の底部に入り、再生触媒のもう一部が再生器ストリッパー、接触分解傾斜管、接触分解スライドバルブを経過して接触分解リフトパイプに入り、
反応器ストリッピングガスが反応器ストリッピングガス入口から反応器ストリッパーに入って再生待ち触媒と向流接触し、その後、乱流流動床式反応器に入り、再生待ち触媒用リフトガスが再生待ち触媒用リフトガス入口から再生待ち触媒用リフトパイプに入って再生待ち触媒と並流接触し、その後、流動床再生器の沈降区間に入り、
再生器ストリッピングガスが再生器ストリッピングガス入口から再生器ストリッパーに入って再生触媒と向流接触し、その後、流動床再生器に入り、再生リフトガスが再生リフトガス入口から再生リフトパイプに入って再生触媒と並流接触し、その後、反応器気固分離器1の入口に入る、
方法。 - 前記触媒がSAPO分子篩を含有する請求項7に記載の方法。
- 軽質分の循環量が酸素含有化合物フィード量の5〜40wt.%である請求項7に記載の方法。
- C5以上の炭化水素類の循環量が酸素含有化合物フィード量の2〜20wt.%である請求項7に記載の方法。
- 前記再生待ち触媒のカーボン含有量が5〜12wt.%であり、かつ前記再生触媒のカーボン含有量が<2wt.%である請求項7に記載の方法。
- 前記酸素含有化合物がメタノール及び/又はジメチルエーテルであり、及び/又は前記再生媒体が空気、酸欠空気又は水蒸気のうちのいずれか1種又は複数種の混合物であり、及び/又は前記反応器ストリッピングガス、再生器ストリッピングガス、再生待ち触媒用リフトガス及び再生リフトガスが水蒸気又は窒素ガスである請求項7に記載の方法。
- 前記乱流流動床式反応器の反応領域の反応条件は、ガス見掛け線速度が0.1〜2m/s、反応温度が300〜550℃、反応圧力が100〜500kPa、床密度が200〜1200kg/m3であり、及び/又は前記接触分解リフトパイプ反応条件は、ガス見掛け線速度が2.0〜10.0m/s、反応温度が400〜750℃、反応圧力が100〜500kPa、床密度が30〜300kg/m3であり、及び/又は前記流動床再生器の再生領域の反応条件は、ガス見掛け線速度が0.1〜2m/s、再生温度が500〜750℃、再生圧力が100〜500kPa、床密度が200〜1200kg/m3である請求項7に記載の方法。
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