JP2020205293A - Solar cell module - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、太陽電池モジュールに関する。 The present invention relates to a solar cell module.
太陽電池モジュールにおいて、太陽電池モジュールの表面を保護する表面保護シートとして、透明性および化学的安定性の高いフッ素樹脂フィルムが用いられている。また、太陽電池セルへの水分等の侵入を防止するため、ガスバリア層をフッ素樹脂フィルム上に形成することも提案されている。 In the solar cell module, a fluororesin film having high transparency and chemical stability is used as a surface protective sheet for protecting the surface of the solar cell module. It has also been proposed to form a gas barrier layer on a fluororesin film in order to prevent moisture or the like from entering the solar cell.
例えば、特許文献１には、太陽電池モジュールの表面保護シートとして、フッ素樹脂フィルムを用いることが記載されている。また、耐候性、防汚性等のために、フッ素樹脂フィルム上に金属酸化物の薄膜を形成することが記載されている。
特許文献２には、フッ素樹脂フィルムに直接ガスバリア層を成膜した太陽電池モジュール用の多層物品が記載されている。また、ガスバリア層としてＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等の無機酸化物が記載されている。
For example, Patent Document 1 describes that a fluororesin film is used as a surface protective sheet for a solar cell module. Further, it is described that a thin film of a metal oxide is formed on a fluororesin film for weather resistance, antifouling property and the like.
Patent Document 2 describes a multi-layer article for a solar cell module in which a gas barrier layer is directly formed on a fluororesin film. Further, inorganic oxides such as SiO 2 and Al 2 O 3 are described as the gas barrier layer.
ところで、特許文献１にも記載されるように、太陽電池モジュールにおいて、太陽電池セルと表面保護シートとの間には、封止層としてエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等の樹脂が充填されている。
本発明者の検討によれば、表面保護シートの表面にガスバリア層等の無機酸化物（金属酸化物）の層（無機層）を形成した場合には、無機層と封止層との密着性が不十分であることがわかった。そのため、無機層と封止層とが剥離して無機層と封止層との間から水分等が侵入してしまい、太陽電池セルの性能が低下してしまうという問題があることがわかった。
By the way, as described in Patent Document 1, in the solar cell module, a resin such as ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) is filled as a sealing layer between the solar cell and the surface protection sheet. Has been done.
According to the study of the present inventor, when a layer (inorganic layer) of an inorganic oxide (metal oxide) such as a gas barrier layer is formed on the surface of the surface protective sheet, the adhesion between the inorganic layer and the sealing layer Turned out to be inadequate. Therefore, it has been found that there is a problem that the inorganic layer and the sealing layer are separated from each other and moisture or the like invades between the inorganic layer and the sealing layer, resulting in deterioration of the performance of the solar cell.
本発明の課題は、上記従来技術の問題点を解決することにあり、耐久性に優れる太陽電池モジュールを提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to provide a solar cell module having excellent durability.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、フッ素系樹脂を含有する基板、基板に直接、形成されるガスバリア層、アクリル系樹脂およびイミド系樹脂の少なくとも一方を含む有機層、封止層、および、太陽電池セル、がこの順に積層され、ガスバリア層が、酸素、窒素および炭素からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ケイ素またはアルミニウムとから形成される無機化合物を含有し、基板とガスバリア層との間のＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）のクロスカット試験での残存マスが８０マス以上であることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を解決することができることを見出した。
As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have made a substrate containing a fluororesin, a gas barrier layer directly formed on the substrate, and an organic layer containing at least one of an acrylic resin and an imide resin. The sealing layer and the solar cell are laminated in this order, and the gas barrier layer contains at least one selected from the group consisting of oxygen, nitrogen and carbon, and an inorganic compound formed of silicon or aluminum. The present invention has been completed by finding that the above problems can be solved when the remaining mass in the cross-cut test of JIS-K5600-5-6 (1999) between the substrate and the gas barrier layer is 80 cells or more.
That is, it was found that the above problem can be solved by the following configuration.
［１］ フッ素系樹脂を含有する基板、
基板に直接、形成されるガスバリア層、
アクリル系樹脂およびイミド系樹脂の少なくとも一方を含む有機層、
封止層、および、
太陽電池セル、がこの順に積層され、
ガスバリア層が、酸素、窒素および炭素からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ケイ素またはアルミニウムとから形成される無機化合物を含有し、
基板とガスバリア層との間のＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）のクロスカット試験での残存マスが８０マス以上である太陽電池モジュール。
［２］ 封止層が、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂を含む［１］に記載の太陽電池モジュール。
［３］ ガスバリア層は、原子層堆積法で基板に直接、形成されたものである［１］または［２］に記載の太陽電池モジュール。
［４］ ガスバリア層の厚みが５ｎｍ以上２５ｎｍ以下である［１］〜［３］のいずれかに記載の太陽電池モジュール。
［５］ ガスバリア層の水蒸気透過率が１０-6（ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））以上１０-4（ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））以下である［１］〜［４］のいずれかに記載の太陽電池モジュール。
［６］ 有機層はアクリル系樹脂およびイミド系樹脂の少なくとも１つを含有する［１］〜［５］のいずれかに記載の太陽電池モジュール。
[1] Substrate containing a fluororesin,
Gas barrier layer formed directly on the substrate,
An organic layer containing at least one of an acrylic resin and an imide resin,
Sealing layer and
Solar cells are stacked in this order,
The gas barrier layer contains at least one selected from the group consisting of oxygen, nitrogen and carbon and an inorganic compound formed of silicon or aluminum.
A solar cell module in which the remaining mass in the cross-cut test of JIS-K5600-5-6 (1999) between the substrate and the gas barrier layer is 80 cells or more.
[2] The solar cell module according to [1], wherein the sealing layer contains an ethylene-vinyl acetate copolymer resin.
[3] The solar cell module according to [1] or [2], wherein the gas barrier layer is directly formed on a substrate by an atomic layer deposition method.
[4] The solar cell module according to any one of [1] to [3], wherein the thickness of the gas barrier layer is 5 nm or more and 25 nm or less.
[5] Any of [1] to [4] in which the water vapor permeability of the gas barrier layer is 10 -6 (g / (m 2 · day)) or more and 10 -4 (g / (m 2 · day)) or less. The solar cell module described in.
[6] The solar cell module according to any one of [1] to [5], wherein the organic layer contains at least one of an acrylic resin and an imide resin.
本発明によれば、耐久性に優れる太陽電池モジュールを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a solar cell module having excellent durability.
以下、本発明の太陽電池モジュールについて、添付の図面に示される好適例を基に、詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
Hereinafter, the solar cell module of the present invention will be described in detail based on a preferred example shown in the accompanying drawings.
The description of the constituent elements described below may be based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
In the present specification, the numerical range represented by using "~" means a range including the numerical values before and after "~" as the lower limit value and the upper limit value.
As used herein, "(meth) acrylate" is used to mean "one or both of acrylate and methacrylate".
［太陽電池モジュール］
本発明の太陽電池モジュールは、
フッ素系樹脂を含有する基板、
基板に直接、形成されるガスバリア層、
アクリル系樹脂およびイミド系樹脂の少なくとも一方を含む有機層、
封止層、および、
太陽電池セル、がこの順に積層され、
ガスバリア層が、酸素、窒素および炭素からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ケイ素またはアルミニウムとから形成される無機化合物を含有し、
基板とガスバリア層との間のＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）のクロスカット試験での残存マスが８０マス以上である太陽電池モジュールである。
また、本発明の太陽電池モジュールにおいて、ガスバリア層は、原子層堆積法で基板に直接、形成されたものであるのが好ましい。これにより、基板とガスバリア層との密着性が向上し、上記クロスカット試験での残存マスを８０マス以上とすることができる。
[Solar cell module]
The solar cell module of the present invention
Substrate containing fluororesin,
Gas barrier layer formed directly on the substrate,
An organic layer containing at least one of an acrylic resin and an imide resin,
Sealing layer and
Solar cells are stacked in this order,
The gas barrier layer contains at least one selected from the group consisting of oxygen, nitrogen and carbon and an inorganic compound formed of silicon or aluminum.
This is a solar cell module in which the remaining mass in the cross-cut test of JIS-K5600-5-6 (1999) between the substrate and the gas barrier layer is 80 cells or more.
Further, in the solar cell module of the present invention, the gas barrier layer is preferably formed directly on the substrate by the atomic layer deposition method. As a result, the adhesion between the substrate and the gas barrier layer is improved, and the remaining mass in the cross-cut test can be 80 mass or more.
図１に、本発明の太陽電池モジュールの一例を概念的に示す。
図１に示される太陽電池モジュール１０は、基板１２と、ガスバリア層１４と、有機層１６と、封止層１８と、太陽電池セル２０とをこの順に有するものである。
基板１２は、フッ素系樹脂を含有する基板である。
ガスバリア層１４は、基板１２に直接、原子層堆積法で形成された無機化合物を含む層である。無機化合物は、酸素、窒素および炭素からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ケイ素またはアルミニウムとから形成される。
また、ガスバリア層１４が原子層堆積法で基板１２に直接、形成されることで、基板１２とガスバリア層１４との間のＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）に準拠した、１ｍｍ幅で１００マスのクロスカット試験での残存マスの数が８０マス以上となる。
FIG. 1 conceptually shows an example of the solar cell module of the present invention.
The solar cell module 10 shown in FIG. 1 has a substrate 12, a gas barrier layer 14, an organic layer 16, a sealing layer 18, and a solar cell 20 in this order.
The substrate 12 is a substrate containing a fluororesin.
The gas barrier layer 14 is a layer containing an inorganic compound formed directly on the substrate 12 by an atomic layer deposition method. The inorganic compound is formed from at least one selected from the group consisting of oxygen, nitrogen and carbon, and silicon or aluminum.
Further, since the gas barrier layer 14 is formed directly on the substrate 12 by the atomic layer deposition method, 100 in a width of 1 mm in accordance with JIS-K5600-5-6 (1999) between the substrate 12 and the gas barrier layer 14. The number of remaining cells in the mass cross-cut test is 80 cells or more.
太陽電池モジュール１０は、表面保護シートとなる基板１２の表面に、高いガスバリア性を発揮する無機化合物を含むガスバリア層１４を有することによって、太陽電池セルへの水分等の侵入を抑制する。
ここで、前述のとおり、本発明者の検討によれば、表面保護シートの表面にガスバリア層等の無機化合物を含む層を形成した場合には、ガスバリア層と封止層との間の密着性が不十分であることがわかった。そのため、ガスバリア層と封止層とが剥離してガスバリア層と封止層との間から水分等が侵入してしまい、太陽電池セルの性能が低下してしまうという問題があることがわかった。
The solar cell module 10 has a gas barrier layer 14 containing an inorganic compound exhibiting a high gas barrier property on the surface of the substrate 12 serving as a surface protective sheet, thereby suppressing the intrusion of moisture and the like into the solar cell.
Here, as described above, according to the study of the present inventor, when a layer containing an inorganic compound such as a gas barrier layer is formed on the surface of the surface protective sheet, the adhesion between the gas barrier layer and the sealing layer Turned out to be inadequate. Therefore, it has been found that there is a problem that the gas barrier layer and the sealing layer are peeled off and moisture or the like invades between the gas barrier layer and the sealing layer, and the performance of the solar cell is deteriorated.
これに対して、本発明の太陽電池モジュール１０は、ガスバリア層１４と封止層１８との間に有機層１６を有するので、ガスバリア層１４と有機層１６との間で密着が良好になり、また、有機層１６と封止層１８との間で密着が良好になる。具体的には、有機層１６と封止層１８との間のＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）に準拠したクロスカット試験での残存マスの数が８０マス以上とすることができる。
これにより、層の剥離を抑制して、層間から水分等が侵入することを抑制することができるため、太陽電池セルの性能低下を防止して耐久性に優れる太陽電池モジュールを提供することができる。
On the other hand, since the solar cell module 10 of the present invention has the organic layer 16 between the gas barrier layer 14 and the sealing layer 18, the adhesion between the gas barrier layer 14 and the organic layer 16 becomes good. Further, the adhesion between the organic layer 16 and the sealing layer 18 is improved. Specifically, the number of remaining cells in the cross-cut test according to JIS-K5600-5-6 (1999) between the organic layer 16 and the sealing layer 18 can be 80 or more.
As a result, peeling of the layers can be suppressed and moisture or the like can be suppressed from entering from the layers, so that it is possible to provide a solar cell module having excellent durability by preventing deterioration of the performance of the solar cell. ..
なお、有機層１６と封止層１８との間のＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）に準拠したクロスカット試験での残存マスの数は９０マス以上であるのがより好ましく、１００マスであるのがさらに好ましい。 The number of remaining cells between the organic layer 16 and the sealing layer 18 in the cross-cut test based on JIS-K5600-5-6 (1999) is more preferably 90 cells or more, preferably 100 cells. It is more preferable to have it.
〔基板〕
基板１２は、太陽電池モジュールにおける表面保護シート（フロントシート）であり、フッ素系樹脂を含有するフィルム状物である。
基板１２として利用されるフッ素系樹脂材料としては、具体的には、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー（ＦＥＰ）、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロジイオキソールコポリマー（ＴＦＥ／ＰＤＤ）等が挙げられる。これ以外にもＰＴＦＥ及びＰＶＦを除く加熱溶融が可能なフッ素樹脂であればよく、これらの１種あるいは２種以上の混合物でもよい。さらに、上記のフッ素樹脂材料あるいはフッ素樹脂材料を主体とする混合物に、これらのフッ素樹脂材料以外の耐熱性のある高分子材料を混合したものでもよい。
〔substrate〕
The substrate 12 is a surface protective sheet (front sheet) in the solar cell module, and is a film-like material containing a fluorine-based resin.
Specific examples of the fluororesin material used as the substrate 12 include perfluoroalkoxy alkane (PFA), perfluoroethylene propene copolymer (FEP), ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), and polychlorotrifluoroethylene. (PCTFE), ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), tetrafluoroethylene-perfluorodiioxol copolymer (TFE / PDD) and the like. In addition to this, any fluororesin other than PTFE and PVF that can be melted by heating may be used, and one kind or a mixture of two or more kinds thereof may be used. Further, the above-mentioned fluororesin material or a mixture mainly composed of the fluororesin material may be mixed with a heat-resistant polymer material other than these fluororesin materials.
基板１２は、ガスバリア層が形成される面とは反対側の面に、保護層、接着層、光反射層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層等の、各種の機能を得るための機能層が形成されているものであってもよい。
この際において、これらの機能層は、１層に限定はされず、複数層の機能層が形成されているものを、基板１２として用いてもよい。
The substrate 12 obtains various functions such as a protective layer, an adhesive layer, a light reflection layer, a light shielding layer, a flattening layer, a buffer layer, and a stress relaxation layer on a surface opposite to the surface on which the gas barrier layer is formed. A functional layer for the purpose may be formed.
At this time, these functional layers are not limited to one layer, and those having a plurality of functional layers formed may be used as the substrate 12.
基板１２の厚みには、太陽電池モジュールの表面を保護することができれば、特に限定はなく、１０〜１０００μｍが好ましい。 The thickness of the substrate 12 is not particularly limited as long as the surface of the solar cell module can be protected, and is preferably 10 to 1000 μm.
〔ガスバリア層〕
ガスバリア層１４は、主にガスバリア性を発現する、無機化合物を含む層である。ガスバリア層１４は、基板１２に直接、原子層堆積法で形成される。
ガスバリア層１４が含有する無機化合物は、酸素、窒素および炭素からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ケイ素またはアルミニウムとから形成される無機化合物である。具体的には、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、炭化アルミニウムが挙げられる。また、これらの２種以上の混合物も、利用可能である。
特に、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、ならびに、これらの２種以上の混合物は、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、好適に利用される。中でも特に、窒化ケイ素、および、窒化ケイ素を含む混合物は、優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、また、柔軟性も高いため好適に利用される。
[Gas barrier layer]
The gas barrier layer 14 is a layer containing an inorganic compound that mainly exhibits gas barrier properties. The gas barrier layer 14 is formed directly on the substrate 12 by an atomic layer deposition method.
The inorganic compound contained in the gas barrier layer 14 is an inorganic compound formed of at least one selected from the group consisting of oxygen, nitrogen and carbon, and silicon or aluminum. Specific examples thereof include silicon nitride, silicon oxynitride, silicon oxide, silicon carbide, aluminum oxide, aluminum nitride, and aluminum carbide. Mixtures of two or more of these are also available.
In particular, silicon nitride, silicon oxide, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a mixture of two or more of these are preferably used because they have high transparency and can exhibit excellent gas barrier properties. Among them, silicon nitride and a mixture containing silicon nitride are preferably used because of their excellent gas barrier properties, high transparency, and high flexibility.
ガスバリア層１４の厚さは、５ｎｍ〜２５ｎｍとするのが好ましい。
ガスバリア層１４の厚さを５ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性を安定して確保することができる。また、ガスバリア性は、基本的に、ガスバリア層１４が厚い方が好ましいが、２５ｎｍを超えると柔軟性が低下してわれやすくなるため、２５ｎｍ以下とすることにより、ガスバリア層１４の柔軟性を確保して割れ等を好適に防止することができる。
また、上記利点を、より好適に得られる等の点で、ガスバリア層１４の厚さは、より好ましくは、８ｎｍ〜２０ｎｍであり、さらに好ましくは、１０ｎｍ〜１５ｎｍである。
The thickness of the gas barrier layer 14 is preferably 5 nm to 25 nm.
By setting the thickness of the gas barrier layer 14 to 5 nm or more, sufficient gas barrier properties can be stably ensured. Further, as for the gas barrier property, it is basically preferable that the gas barrier layer 14 is thick, but if it exceeds 25 nm, the flexibility tends to decrease. Therefore, by setting the gas barrier layer 14 to 25 nm or less, the flexibility of the gas barrier layer 14 is ensured. Therefore, cracking and the like can be suitably prevented.
Further, the thickness of the gas barrier layer 14 is more preferably 8 nm to 20 nm, and further preferably 10 nm to 15 nm in that the above advantages can be obtained more preferably.
ガスバリア層１４の水蒸気透過率は、１×１０-6（ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））以上１×１０-4（ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））以下であるのが好ましく、１×１０-6（ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））以上１×１０-5（ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））以下であるのがより好ましい。
水蒸気透過率は、カルシウム法（G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERらSID Conference Record of the International Display Research Conference 1435-1438頁に記載の方法）によって測定できる。測定条件は、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨとする。
The water vapor permeability of the gas barrier layer 14 is preferably 1 × 10 -6 (g / (m 2 · day)) or more and 1 × 10 -4 (g / (m 2 · day)) or less, preferably 1 × 10 It is more preferably -6 (g / (m 2 · day)) or more and 1 × 10 -5 (g / (m 2 · day)) or less.
The water vapor permeability can be measured by the calcium method (G.NISATO, PCPBOUTEN, PJSLIKKERVEER et al., SID Conference Record of the International Display Research Conference, p. 1435-1438). The measurement conditions are a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% RH.
ガスバリア層１４は、基板の表面に直接、原子層堆積法（ＡＬＤ（Atomic Layer Deposition））で形成される。
ＡＬＤ法は、表面吸着した物質を表面における化学反応によって原子レベルで一層ずつ成膜していく方法である。前駆体またはプリカーサとも云われる活性に富んだガスと反応性ガスを交互に用い、基板表面における吸着と、これに続く化学反応によって原子レベルで一層ずつ薄膜を成長させていく特殊な成膜方法である。
The gas barrier layer 14 is formed directly on the surface of the substrate by an atomic layer deposition method (ALD (Atomic Layer Deposition)).
The ALD method is a method in which a substance adsorbed on the surface is deposited layer by layer at the atomic level by a chemical reaction on the surface. A special film-forming method in which a thin film is grown layer by layer at the atomic level by adsorption on the substrate surface and subsequent chemical reaction by alternately using highly active gas and reactive gas, which are also called precursors or precursors. is there.
ＡＬＤ法の具体的な成膜方法は、基板表面がある種のガスで覆われると、それ以上そのガスの吸着が生じない、いわゆるセルフ・リミッテイング効果を利用し、前駆体が一層のみ吸着したところで未反応の前駆体を排気する。続いて、反応性ガスを導入して、先の前駆体を酸化または還元させて所望の組成を有する薄膜を一層のみ得たのちに反応性ガスを排気する。このような処理を１サイクルとし、このサイクルを繰り返して薄膜を成長させていくものである。したがって、ＡＬＤ法では薄膜は２次元的に成長する。また、ＡＬＤ法は、従来の成膜方法と比較して、成膜欠陥が少ないことが特徴である。 The specific film formation method of the ALD method utilizes the so-called self-limiting effect, in which when the surface of the substrate is covered with a certain gas, no further adsorption of the gas occurs, and only one layer of the precursor is adsorbed. By the way, the unreacted precursor is exhausted. Subsequently, a reactive gas is introduced to oxidize or reduce the precursor to obtain only one thin film having a desired composition, and then the reactive gas is exhausted. Such a process is regarded as one cycle, and this cycle is repeated to grow the thin film. Therefore, in the ALD method, the thin film grows two-dimensionally. Further, the ALD method is characterized in that there are few film forming defects as compared with the conventional film forming method.
また、ＡＬＤ法は、他の成膜方法と比較して斜影効果（成膜粒子が基板表面に斜めに入射して成膜バラツキが生じる現象）が無いなどの特徴があるため、ガスが入り込める隙間があれば一様な成膜が可能である。基板上の凹凸のある傷について、従来の成膜方法は成膜粒子が凹凸部を完全に覆うことが困難であるのに対し、ＡＬＤ法は凹凸に追従するように成膜することが可能であるため、ピンホール欠陥を著しく低減できる。 In addition, the ALD method has features such as no oblique shadow effect (a phenomenon in which film-forming particles are obliquely incident on the substrate surface to cause film-forming variation) as compared with other film-forming methods, so that a gap through which gas can enter If there is, uniform film formation is possible. For uneven scratches on the substrate, it is difficult for the film-forming particles to completely cover the uneven portion with the conventional film-forming method, whereas the ALD method can form a film so as to follow the unevenness. Therefore, pinhole defects can be significantly reduced.
ここで、無機化合物を含む薄膜の成膜方法として、スパッタリング、および、プラズマＣＶＤ（chemical vapor deposition）等の方法が知られている。しかしながら、フッ素系樹脂を含有する基板にスパッタリング、および、プラズマＣＶＤ等の方法で無機化合物を含むガスバリア層を形成した場合には、基板とガスバリア層との密着性が十分ではなかった。
これに対して、本発明においては、フッ素系樹脂を含む基板１２にＡＬＤ法によってガスバリア層１４を形成するので、基板１２とガスバリア層１４との密着性を高くすることができる。
Here, as a method for forming a thin film containing an inorganic compound, methods such as sputtering and plasma CVD (chemical vapor deposition) are known. However, when a gas barrier layer containing an inorganic compound is formed on a substrate containing a fluorine-based resin by a method such as sputtering or plasma CVD, the adhesion between the substrate and the gas barrier layer is not sufficient.
On the other hand, in the present invention, since the gas barrier layer 14 is formed on the substrate 12 containing the fluororesin by the ALD method, the adhesion between the substrate 12 and the gas barrier layer 14 can be improved.
具体的に、ＡＬＤ法によってガスバリア層１４を形成することで、基板１２とガスバリア層１４との密着性を、基板１２とガスバリア層１４との間のＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）のクロスカット試験での残存マスの数を８０マス以上とすることができる。基板１２とガスバリア層１４との間のクロスカット試験での残存マスの数は、９０マス以上であるのがより好ましく、１００マスであるのがさらに好ましい。 Specifically, by forming the gas barrier layer 14 by the ALD method, the adhesion between the substrate 12 and the gas barrier layer 14 is improved by the cross of JIS-K5600-5-6 (1999) between the substrate 12 and the gas barrier layer 14. The number of remaining cells in the cut test can be 80 or more. The number of remaining cells in the cross-cut test between the substrate 12 and the gas barrier layer 14 is more preferably 90 cells or more, and further preferably 100 cells.
〔有機層〕
有機層１６は、ガスバリア層１４の表面に形成され、封止層１８との密着性を確保するための層である。
有機層１６の形成材料は、ガスバリア層１４と、後述する封止層１８との密着性が良好な材料であればよい。
有機層１６は、例えば、有機化合物（モノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー、および、ポリマー等）を含有する、有機層形成用組成物を硬化して形成される。有機層形成用組成物は、有機化合物を１種のみ含んでもよく、２種以上含んでもよい。
[Organic layer]
The organic layer 16 is formed on the surface of the gas barrier layer 14 and is a layer for ensuring adhesion with the sealing layer 18.
The material for forming the organic layer 16 may be any material having good adhesion between the gas barrier layer 14 and the sealing layer 18 described later.
The organic layer 16 is formed by curing, for example, a composition for forming an organic layer containing an organic compound (monomer, dimer, trimmer, oligomer, polymer, etc.). The composition for forming an organic layer may contain only one type of organic compound, or may contain two or more types of organic compounds.
有機層１６は、例えば、熱可塑性樹脂および有機ケイ素化合物等を含有する。
具体的には、熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、テフロン（登録商標）系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。特に、密着性の観点から、アクリル系樹脂、イミド系樹脂が好ましい。
The organic layer 16 contains, for example, a thermoplastic resin, an organosilicon compound, and the like.
Specifically, as the thermoplastic resin, acrylic resin, imide resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, polyurethane resin, Teflon (registered) Trademark) -based resin, ABS resin, polyamide-based resin, polyacetal-based resin, polycarbonate-based resin, polyester-based resin and the like can be mentioned. In particular, acrylic resins and imide resins are preferable from the viewpoint of adhesion.
アクリル樹脂としては、ポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレンが挙げられる。より好ましくは、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上の（メタ）アクリレートのモノマー、ダイマーおよびオリゴマー等の重合体を主成分とする（メタ）アクリル樹脂を含み、さらに好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレートのモノマー、ダイマーおよびオリゴマー等の重合体を主成分とする（メタ）アクリル樹脂を含む。また、これらの（メタ）アクリル樹脂を、複数用いてもよい。 Examples of the acrylic resin include polyester, (meth) acrylic resin, methacrylic acid-maleic acid copolymer, and polystyrene. More preferably, bifunctional or higher functional (meth) acrylates such as dipropylene glycol di (meth) acrylate (DPGDA), trimerol propantri (meth) acrylate (TMPTA) and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (DPHA). Contains a (meth) acrylic resin containing a polymer such as a monomer, dimer and oligomer as a main component, and more preferably a polymer such as a trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer, dimer and oligomer as a main component. Contains (meth) acrylic resin. Moreover, you may use a plurality of these (meth) acrylic resins.
イミド樹脂としては、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドが挙げられる。 Examples of the imide resin include polyimide, fluorinated polyimide, polyamide, polyamideimide, and polyetherimide.
有機層１６の成膜方法（形成方法）には、特に限定はなく、公知の有機物の膜の成膜方法が、全て利用可能である。
一例として、有機物や有機物モノマー、さらには重合開始剤等を溶媒に溶解（分散）して調製した塗料を、ロールコート、グラビアコート、スプレーコート、等の公知の塗布手段でガスバリア層１４上に塗布して、乾燥し、必要に応じて、加熱、紫外線照射、電子線照射等によって硬化する、塗布法が例示される。また、有機物あるいは塗布法と同様の塗料を蒸発させて、その蒸気をガスバリア層１４の表面に付着させて、冷却／凝縮して液体状の膜を形成し、この膜を紫外線や電子線によって硬化することで成膜を行なう、フラッシュ蒸着法も好適に利用可能である。また、シート状に成形した有機層１６を転写する転写法も利用可能である。
The film forming method (forming method) of the organic layer 16 is not particularly limited, and all known organic film forming methods can be used.
As an example, a coating material prepared by dissolving (dispersing) an organic substance, an organic substance monomer, a polymerization initiator or the like in a solvent is applied onto the gas barrier layer 14 by a known coating means such as a roll coat, a gravure coat, or a spray coat. An example is a coating method in which the material is dried, and if necessary, cured by heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, or the like. Further, an organic substance or a paint similar to the coating method is evaporated, the vapor is adhered to the surface of the gas barrier layer 14, and the film is cooled / condensed to form a liquid film, which is cured by ultraviolet rays or electron beams. A flash evaporation method, in which a film is formed by forming a film, can also be preferably used. Further, a transfer method for transferring the organic layer 16 formed into a sheet shape can also be used.
有機層１６を形成するための塗料に含まれる光重合開始剤としては、ＢＡＳＦ社から市販されているイルガキュア（Irgacure）シリーズ（例えば、イルガキュア６５１、イルガキュア７５４、イルガキュア１８４、イルガキュア２９５９、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９など）、ダロキュア（Darocure)シリーズ（例えば、ダロキュアＴＰＯ、ダロキュア１１７３など）、クオンタキュア（Quantacure）ＰＤＯ、ランベルティ(Lamberti）社から市販されているエザキュア（Ezacure）シリーズ（例えば、エザキュアＴＺＭ、エザキュアＴＺＴ、エザキュアＫＴＯ４６など）等が挙げられる。有機層形成用組成物（塗料）中の重合開始剤の含量は、有機化合物の合計量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２．０モル％であることがより好ましい。 Examples of the photopolymerization initiator contained in the coating material for forming the organic layer 16 include the Irgacure series (for example, Irgacure 651, Irgacure 754, Irgacure 184, Irgacure 2959, Irgacure 907, Irgacure) commercially available from BASF. 369, Irgacure 379, Irgacure 819, etc.), Darocure series (eg, Darocure TPO, DaroCure 1173, etc.), Quantacure PDO, Ezacure series commercially available from Lamberti (Lamberti, etc.) For example, EzaCure TZM, EzaCure TZT, EzaCure KTO46, etc.) and the like. The content of the polymerization initiator in the composition (paint) for forming an organic layer is preferably 0.1 mol% or more, and more preferably 0.5 to 2.0 mol% of the total amount of the organic compounds. preferable.
有機層１６の厚さは、ガスバリア層１４との密着性、および、封止層１８との密着性を確保することができれば、特に限定はなく、適宜、設定すればよい。具体的には、０．１〜１００μｍが好ましく、０．２〜５０μｍがより好ましい。
有機層１６の厚さを、上記範囲とすることにより、密着性、柔軟性を向上できる、高い透明性を保つことができる等の点で、好ましい結果を得ることができる。
The thickness of the organic layer 16 is not particularly limited as long as the adhesion to the gas barrier layer 14 and the adhesion to the sealing layer 18 can be ensured, and may be appropriately set. Specifically, 0.1 to 100 μm is preferable, and 0.2 to 50 μm is more preferable.
By setting the thickness of the organic layer 16 within the above range, favorable results can be obtained in terms of improving adhesion and flexibility, maintaining high transparency, and the like.
なお、本発明において、有機層１６は、１つの有機物の膜で形成されるのに限定はされず、複数の有機物の膜によって、有機層１６を形成してもよい。
例えば、塗布法で成膜した有機物の膜の上に、フラッシュ蒸着で成膜した有機物の膜を設け、この２層の有機膜によって、有機層１６を形成してもよい。
In the present invention, the organic layer 16 is not limited to being formed by a film of one organic substance, and the organic layer 16 may be formed by a film of a plurality of organic substances.
For example, an organic film formed by flash vapor deposition may be provided on an organic film formed by the coating method, and the organic layer 16 may be formed by the two organic films.
〔封止層〕
封止層１８は、有機層１６と太陽電池セル２０との間に充填されて太陽電池セル２０を封止するものである。
封止層１８の形成材料としては、従来公知の太陽電池モジュールで用いられている封止材が適宜利用可能である。具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ）、エチレン・（メタ）アクリル酸系共重合体、エチレン・（メタ）アクリル酸系共重合体等が挙げられる。
[Encapsulation layer]
The sealing layer 18 is filled between the organic layer 16 and the solar cell 20 to seal the solar cell 20.
As a material for forming the sealing layer 18, a sealing material used in a conventionally known solar cell module can be appropriately used. Specific examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA), ethylene / (meth) acrylic acid-based copolymer, and ethylene / (meth) acrylic acid-based copolymer.
封止層１８の厚みには特に限定はないが、５μｍ〜２０００μｍ（０．００５ｍｍ〜２ｍｍ）の範囲であることが好ましく、１００μｍ〜２０００μｍ（０．１ｍｍ〜２ｍｍ）の範囲であることがより好ましく、１００μｍ〜１５００μｍ（０．１ｍｍ〜１．５ｍｍ）が好ましい。 The thickness of the sealing layer 18 is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 μm to 2000 μm (0.005 mm to 2 mm), and more preferably in the range of 100 μm to 2000 μm (0.1 mm to 2 mm). , 100 μm to 1500 μm (0.1 mm to 1.5 mm) is preferable.
ここで、前述のとおり、有機層１６と封止層１８との間の密着性は、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）のクロスカット試験での残存マスの数が８０マス以上であるのが好ましく、９０マス以上がより好ましく、１００マスがさらに好ましい。 Here, as described above, the adhesion between the organic layer 16 and the sealing layer 18 is such that the number of remaining cells in the cross-cut test of JIS-K5600-5-6 (1999) is 80 cells or more. Is preferable, 90 squares or more is more preferable, and 100 squares is further preferable.
〔太陽電池セル〕
太陽電池セル２０は、太陽光の光エネルギーを電気エネルギーに変換する素子である。
太陽電池セル２０としては限定はなく、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコンなどのシリコン系、銅−インジウム−ガリウム−セレン、銅−インジウム−セレン、カドミウム−テルル、ガリウム−砒素などのIII−V族やII−VI族化合物半導体系など、従来公知の太陽電池モジュールで用いられている太陽電池セル（素子）が適宜、利用可能である。
[Solar cell]
The solar cell 20 is an element that converts the light energy of sunlight into electrical energy.
The solar cell 20 is not limited, and is silicon-based such as single crystal silicon, polycrystalline silicon, and amorphous silicon, and III- such as copper-indium-gallium-selenium, copper-indium-selenium, cadmium-tellu, and gallium-arsenide. Solar cell cells (elements) used in conventionally known solar cell modules, such as group V and group II-VI compound semiconductor systems, can be appropriately used.
ここで、図１に示す例では、ガスバリア層１４および有機層１６をそれぞれ１層有する構成としたが、これに限定はされず、ガスバリア層１４および有機層１６をそれぞれ２層以上、交互に有する構成としてもよい。すなわち、例えば、太陽電池モジュールは、基板１２、ガスバリア層１４、有機層、ガスバリア層、有機層１６、封止層１８、および、太陽電池セル２０の順に積層された構成としてもよい。ガスバリア層および有機層をそれぞれ複数層有する場合でも、基板１２に接するのはガスバリア層１４であり、封止層１８に接するのは有機層１６である。
また、有機層の表面に形成されるガスバリア層は、ＡＬＤ法で形成されるものに限定はされず、従来公知のスパッタリング、および、プラズマＣＶＤ等の方法で無機化合物を含むガスバリア層を形成してもよい。
また、ガスバリア層を複数有する場合には、各ガスバリア層の厚みは同じでも異なっていてもよく、また、材料も同じでも異なっていてもよい。同様に、有機層を複数有する場合は、各有機層の厚みは同じでも異なっていてもよく、また、材料も同じでも異なっていてもよい。
Here, in the example shown in FIG. 1, the configuration is such that one gas barrier layer 14 and one organic layer 16 are provided, but the present invention is not limited to this, and the gas barrier layer 14 and the organic layer 16 are alternately provided in two or more layers. It may be configured. That is, for example, the solar cell module may have a configuration in which the substrate 12, the gas barrier layer 14, the organic layer, the gas barrier layer, the organic layer 16, the sealing layer 18, and the solar cell 20 are laminated in this order. Even when a plurality of gas barrier layers and organic layers are provided, it is the gas barrier layer 14 that is in contact with the substrate 12, and the organic layer 16 is in contact with the sealing layer 18.
Further, the gas barrier layer formed on the surface of the organic layer is not limited to that formed by the ALD method, and a gas barrier layer containing an inorganic compound is formed by a conventionally known method such as sputtering or plasma CVD. May be good.
When a plurality of gas barrier layers are provided, the thickness of each gas barrier layer may be the same or different, and the materials may be the same or different. Similarly, when a plurality of organic layers are provided, the thickness of each organic layer may be the same or different, and the materials may be the same or different.
以上、本発明の太陽電池モジュールについて詳細に説明したが、本発明は、上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。 Although the solar cell module of the present invention has been described in detail above, the present invention is not limited to the above-mentioned examples, and various improvements and changes may be made without departing from the gist of the present invention. Of course.
［実施例１］
図１に示すような太陽電池モジュール１０を作製した。
[Example 1]
A solar cell module 10 as shown in FIG. 1 was manufactured.
基板１２としては、厚み５０μｍのＥＴＦＥフィルム（旭硝子株式会社製Ｆｌｕｏｎ）を用いた。 As the substrate 12, an ETFE film (Fluon manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm was used.
＜無機層の形成＞
ＡＬＤ法によって、基板１２の表面に酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）からなるガスバリア層１４を形成した。
使用した前駆体は、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）蒸気および水蒸気であった。前駆体を順番に反応器（Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ Ｎａｎｏ Ｔｅｃｈ（Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，Ｍａｓｓ．）製Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ Ｎａｎｏｔｅｃｈ Ｓａｖａｎｎａｈ ２００）に導入した。反応器を、２０ｓｃｃｍで窒素気体で連続的にパージし、小型メカニカルポンプで約４０Ｐａのバックグラウンド圧力（反応物も前駆体もない圧力）まで排気した。窒素気体を、ＴＭＡおよびＨ2Ｏ前駆体の担体として、またパージ気体としても使用した。
基板を１５ミリ秒間、窒素気体によって運搬された水蒸気に曝し、続いて３０秒間窒素気体で反応器をパージした。次いで、基板を１５ミリ秒間、窒素気体によって運搬されたトリメチルアルミニウム蒸気に曝し、続いて１５秒間、窒素流のパージを行った。この反応手順によって、基板１２上にＡｌ2Ｏ3層が製造された。この反応手順を２５０回繰り返すと、基板１２上に厚さ２５ｎｍのＡｌ2Ｏ3からなるガスバリア層１４が形成された。
なお、単位ｓｃｃｍで表す流量は、１０１３ｈＰａ、０℃における流量（ｃｃ／ｍｉｎ）に換算した値である。
<Formation of inorganic layer>
A gas barrier layer 14 made of aluminum oxide (Al 2 O 3 ) was formed on the surface of the substrate 12 by the ALD method.
The precursors used were trimethylaluminum (TMA) vapor and water vapor. The precursors were sequentially introduced into a reactor (Cambridge NanoTech (Cambridge, Mass.), Cambridge Nanotech Savannah 200). The reactor was continuously purged with nitrogen gas at 20 sccm and evacuated to a background pressure of about 40 Pa (pressure without reactants or precursors) with a small mechanical pump. Nitrogen gas, as a carrier of TMA and H 2 O precursor, also was also used as a purge gas.
The substrate was exposed to steam carried by nitrogen gas for 15 milliseconds, followed by purging the reactor with nitrogen gas for 30 seconds. The substrate was then exposed to trimethylaluminum vapor carried by nitrogen gas for 15 milliseconds, followed by purging the nitrogen stream for 15 seconds. By this reaction procedure, an Al 2 O 3 layer was produced on the substrate 12. When this reaction procedure was repeated 250 times, a gas barrier layer 14 made of Al 2 O 3 having a thickness of 25 nm was formed on the substrate 12.
The flow rate expressed in units of sccm is a value converted into a flow rate (cc / min) at 1013 hPa and 0 ° C.
成膜したガスバリア層１４の水蒸気透過率をカルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって測定した。水蒸気透過率は、１×１０-5（g/(m2・day)）であった。 The water vapor permeability of the formed gas barrier layer 14 was measured by a calcium corrosion method (method described in JP-A-2005-283651). The water vapor permeability was 1 × 10 -5 (g / (m 2 · day)).
また、サンプルとして上記と同様の方法で作製したガスバリア層１４と基板１２と間で、１ｍｍ幅で１００マスのクロスカット試験（ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９））を行い、剥離しなかったマスの数を測定した。残存マス数は１００マスであった。 Further, a cross-cut test (JIS-K5600-5-6 (1999)) of 100 squares with a width of 1 mm was performed between the gas barrier layer 14 and the substrate 12 prepared by the same method as above as a sample, and no peeling was performed. The number of squares was measured. The number of remaining squares was 100 squares.
＜有機層の形成＞
ガスバリア層１４の表面にアクリル樹脂からなる有機層１６を形成した。
ＴＭＰＴＡ（ダイセル・オルネクス社製）を２８．５ｇ、紫外線重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＴＯ４６）を１．５ｇ、および、２−ブタノン（和光純薬工業社製）を１７０ｇ、混合し、有機層を形成するための有機層形成用組成物を調製した。有機層形成用組成物の固形分濃度は、１５質量％であった。
調製した有機層形成用組成物を、ガスバリア層１４の表面に塗布した。塗布は、ダイコーターを用い、有機層の膜厚が１μｍとなるように行った。塗布後、８０℃のオーブンで３分間乾燥させた。次いで、窒素置換法により酸素濃度を０．１％としたチャンバー内で高圧水銀ランプの紫外線を照射（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ2）することで有機層形成用組成物を硬化させて、有機層１６を形成し積層体とした。
<Formation of organic layer>
An organic layer 16 made of acrylic resin was formed on the surface of the gas barrier layer 14.
28.5 g of TMPTA (manufactured by Daicel Ornex), 1.5 g of an ultraviolet polymerization initiator (manufactured by Lamberti, ESACURE KTO46), and 170 g of 2-butanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were mixed. A composition for forming an organic layer for forming an organic layer was prepared. The solid content concentration of the composition for forming an organic layer was 15% by mass.
The prepared composition for forming an organic layer was applied to the surface of the gas barrier layer 14. The coating was carried out using a die coater so that the film thickness of the organic layer was 1 μm. After application, it was dried in an oven at 80 ° C. for 3 minutes. Next, the composition for forming an organic layer is cured by irradiating ultraviolet rays of a high-pressure mercury lamp (integrated irradiation amount of about 600 mJ / cm 2 ) in a chamber having an oxygen concentration of 0.1% by a nitrogen substitution method, and organic. The layer 16 was formed to form a laminated body.
＜太陽電池セルの封止＞
結晶系太陽電池セル（Ｈａｎｗｈａ Ｑ ＣＥＬＬＳ社製 Ｑ６ＬＭＸ３）と、封止材（Ｓｈｅｚｈｅｎ Ｓｖｅｃｋ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製、エチレン・ビニルアセテート共重合体（ＥＶＡ） ＳＶＫ−１５２９７）と、上記で作製した積層体と、をこの順に重ね合わせた。この際、積層体の有機層１６が封止材（封止層１８）と接触するように配置した。
真空ラミネータ（日清紡（株）製、真空ラミネート機 ＬＡＭＩＮＡＴＯＲ０５０５Ｓ）を用いて、１４５℃、真空引き時間５分、加圧時間１０分の条件下でラミネートすることで、各部材間を接着させ、太陽電池モジュールを作製した。
<Seal of solar cell>
A crystalline solar cell (Q6LMX3 manufactured by Hanwha Q CELLS), a sealing material (ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) SVK-15297, manufactured by Shezhen Sveck Technology), and the laminate prepared above. They were layered in this order. At this time, the organic layer 16 of the laminated body was arranged so as to be in contact with the sealing material (sealing layer 18).
By laminating under the conditions of 145 ° C, vacuuming time 5 minutes, and pressurization time 10 minutes using a vacuum laminator (vacuum laminating machine LAMINATOR0505S manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.), each member is adhered to each other and a solar cell is used. The module was made.
また、サンプルとして上記と同様の方法で作製した有機層１６と封止層１８との間で、１ｍｍ幅で１００マスのクロスカット試験（ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９））を行い、剥離しなかったマスの数を測定した。残存マス数は８０マスであった。 Further, a cross-cut test (JIS-K5600-5-6 (1999)) of 100 squares with a width of 1 mm was performed between the organic layer 16 and the sealing layer 18 prepared by the same method as above as a sample, and peeled off. The number of squares that did not was measured. The number of remaining squares was 80 squares.
［実施例２および３］
ガスバリア層１４の厚みをそれぞれ１０ｎｍ、５ｎｍとした以外は実施例１と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Examples 2 and 3]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gas barrier layer 14 was 10 nm and 5 nm, respectively.
［実施例４および５］
基板１２としてそれぞれ、ＰＣＴＦＥフィルム（ダイキン工業株式会社製 ネオフロン）、ＥＣＴＦＥフィルム（ソルベイ社製 ヘイラー（登録商標） ＥＣＴＦＥ）を用いた以外は実施例１と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Examples 4 and 5]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that a PCTFE film (Neoflon manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and an ECTFE film (Hailer (registered trademark) ECTFE manufactured by Solvay Co., Ltd.) were used as the substrates 12, respectively.
［実施例６］
下記のＡＬＤ法によって、基板１２の表面に窒化ケイ素（ＳｉＮ）からなるガスバリア層１４を形成した以外は実施例１と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
使用した前駆体は、Ｓｉプリカーサとして、ジクロロシラン（ＤＣＳ；ＳｉＣｌ２Ｈ２）、ヘキサクロロジシラン（ＨＣＤ；Ｓｉ２Ｃｌ６）であった。前駆体を順番に反応器（Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ Ｎａｎｏ Ｔｅｃｈ（Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，Ｍａｓｓ．）製Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ Ｎａｎｏｔｅｃｈ Ｓａｖａｎｎａｈ ２００）に導入した。反応器を、２０ｓｃｃｍでＮＨ3ガスで連続的にパージし、小型メカニカルポンプで約４０Ｐａのバックグラウンド圧力（反応物も前駆体もない圧力）まで排気した。ＮＨ3ガスを、ジクロロシラン（ＤＣＳ；ＳｉＣｌ２Ｈ２）、ヘキサクロロジシラン（ＨＣＤ；Ｓｉ２Ｃｌ６）の担体として、またパージ気体としても使用した。
基板を１５ミリ秒間、ＮＨ3ガスによって運搬されたジクロロシラン（ＤＣＳ；ＳｉＣｌ２Ｈ２）、ヘキサクロロジシラン（ＨＣＤ；Ｓｉ２Ｃｌ６）に曝し、続いて３０秒間、ＮＨ3ガスで反応器をパージした。次いで、基板を１５ミリ秒間、ＮＨ3ガスによって運搬されたジクロロシラン（ＤＣＳ；ＳｉＣｌ２Ｈ２）、ヘキサクロロジシラン（ＨＣＤ；Ｓｉ２Ｃｌ６）に曝し、続いて１５秒間、ＮＨ3ガス流のパージを行った。この反応手順によって、基板１２上にＳｉＮ層が製造された。この反応手順を２５０回繰り返すと、基板１２上に厚さ２５ｎｍのＳｉＮからなるガスバリア層１４が形成された。
[Example 6]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that a gas barrier layer 14 made of silicon nitride (SiN) was formed on the surface of the substrate 12 by the following ALD method.
The precursors used were dichlorosilane (DCS; SiCl 2 H 2 ) and hexachlorodisilane (HCD; Si 2 Cl 6 ) as Si precursors. The precursors were sequentially introduced into a reactor (Cambridge NanoTech (Cambridge, Mass.), Cambridge Nanotech Savannah 200). The reactor was continuously purged with NH 3 gas at 20 sccm and evacuated to a background pressure of about 40 Pa (no reactants or precursors) with a small mechanical pump. NH 3 gas was used as a carrier for dichlorosilane (DCS; SiCl 2 H 2 ) and hexachlorodisilane (HCD; Si 2 Cl 6 ), and also as a purge gas.
The substrate was exposed to dichlorosilane (DCS; SiCl 2 H 2 ), hexachlorodisilane (HCD; Si 2 Cl 6 ) carried by NH 3 gas for 15 milliseconds, and then the reactor was purged with NH 3 gas for 30 seconds. did. The substrate is then exposed to dichlorosilane (DCS; SiCl 2 H 2 ), hexachlorodisilane (HCD; Si 2 Cl 6 ) carried by NH 3 gas for 15 milliseconds, followed by purging the NH 3 gas stream for 15 seconds. Was done. By this reaction procedure, a SiN layer was produced on the substrate 12. When this reaction procedure was repeated 250 times, a gas barrier layer 14 made of SiN having a thickness of 25 nm was formed on the substrate 12.
［実施例７および８］
ガスバリア層１４の厚みをそれぞれ１０ｎｍ、５ｎｍとした以外は実施例６と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Examples 7 and 8]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 6 except that the thickness of the gas barrier layer 14 was 10 nm and 5 nm, respectively.
［実施例９および１０］
基板１２としてそれぞれ、ＰＣＴＦＥフィルム（ダイキン工業株式会社製 ネオフロン）、ＥＣＴＦＥフィルム（ソルベイ社製 ヘイラー（登録商標） ＥＣＴＦＥ）を用いた以外は実施例６と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Examples 9 and 10]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 6 except that a PCTFE film (Neoflon manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and an ECTFE film (Haler (registered trademark) ECTFE manufactured by Solvay Co., Ltd.) were used as the substrates 12, respectively.
［実施例１１］
ガスバリア層１４の表面にポリイミド樹脂からなる有機層１６を形成した以外は実施例１と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
ネオプリム（透明ポリイミド樹脂：三菱ガス化学（株）社製 標準グレード）をガスバリア層１４の表面に塗布した。塗布はバー塗布で行い、有機層の膜厚が１μｍとなるように行なった。塗布後、７０℃のオーブンで２０分間乾燥させた。次いで、窒素雰囲気下で１５０℃、６０分間加熱硬化させて、有機層１６を形成した。
[Example 11]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that an organic layer 16 made of a polyimide resin was formed on the surface of the gas barrier layer 14.
Neoprim (transparent polyimide resin: standard grade manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.) was applied to the surface of the gas barrier layer 14. The coating was carried out by bar coating so that the film thickness of the organic layer was 1 μm. After application, it was dried in an oven at 70 ° C. for 20 minutes. Next, the organic layer 16 was formed by heating and curing at 150 ° C. for 60 minutes in a nitrogen atmosphere.
［実施例１２］
実施例１１と同様の方法でガスバリア層１４の表面にポリイミド樹脂からなる有機層１６を形成した以外は実施例６と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Example 12]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 6 except that the organic layer 16 made of polyimide resin was formed on the surface of the gas barrier layer 14 in the same manner as in Example 11.
［実施例１３および１４］
ガスバリア層１４の厚みをそれぞれ３ｎｍ、５０ｎｍとした以外は実施例１と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Examples 13 and 14]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the gas barrier layer 14 was 3 nm and 50 nm, respectively.
［実施例１５および１６］
ガスバリア層１４の厚みをそれぞれ３ｎｍ、５０ｎｍとした以外は実施例６と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Examples 15 and 16]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 6 except that the thickness of the gas barrier layer 14 was 3 nm and 50 nm, respectively.
［比較例１］
ガスバリア層１４をＣＶＤ法によって基板１２上に成膜し、有機層１６を有さない以外は実施例１と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
ガスバリア層の形成は、ＣＣＰ−ＣＶＤ装置（サムコ株式会社製）を使用し、基板を装置の真空容器内に設置し、６×１０-4Ｐａ程度まで真空引きした後に、原料ガスを供給した。原料ガスは、トリメチルアリミニウムガス（４０ｓｃｃｍ）、Ｈ2Ｏガス（２０ｓｃｃｍ）とした。周波数２７．１２ＭＨｚの高周波電源により、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2で電圧を印加し、基板１２上にＡｌ2Ｏ3膜を２５ｎｍ成膜した。チャンバー内の圧力は２０Ｐａとした。
[Comparative Example 1]
The gas barrier layer 14 was formed on the substrate 12 by the CVD method, and a solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that the organic layer 16 was not provided.
To form the gas barrier layer, a CCP-CVD apparatus (manufactured by SAMCO Co., Ltd.) was used, the substrate was placed in the vacuum vessel of the apparatus, evacuated to about 6 × 10 -4 Pa, and then the raw material gas was supplied. The raw material gas was trimethylariminium gas (40 sccm) and H 2 O gas (20 sccm). A voltage was applied at a power density of 0.6 W / cm 2 by a high-frequency power source having a frequency of 27.12 MHz, and an Al 2 O 3 film was formed on the substrate 12 by 25 nm. The pressure in the chamber was 20 Pa.
［比較例２］
ガスバリア層１４をＣＶＤ法によって基板１２上に成膜し、有機層１６を有さない以外は実施例６と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
ガスバリア層の形成は、ＣＣＰ−ＣＶＤ装置（サムコ株式会社製）を使用し、基板を装置の真空容器内に設置し、６×１０-4Ｐａ程度まで真空引きした後に、原料ガスを供給した。原料ガスは、シランガス（５０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（６００ｓｃｃｍ）、窒素ガス（８５０ｓｃｃｍ）とした。周波数２７．１２ＭＨｚの高周波電源により、電力密度０．６Ｗ／ｃｍ2で電圧を印加し、基板１２上にＳｉＮ膜を２５ｎｍ成膜した。チャンバー内の圧力は２０Ｐａとした。
[Comparative Example 2]
The gas barrier layer 14 was formed on the substrate 12 by the CVD method, and a solar cell module was produced in the same manner as in Example 6 except that the organic layer 16 was not provided.
To form the gas barrier layer, a CCP-CVD apparatus (manufactured by SAMCO Co., Ltd.) was used, the substrate was placed in the vacuum vessel of the apparatus, evacuated to about 6 × 10 -4 Pa, and then the raw material gas was supplied. The raw material gas was silane gas (50 sccm), ammonia gas (600 sccm), and nitrogen gas (850 sccm). A voltage was applied at a power density of 0.6 W / cm 2 by a high-frequency power source having a frequency of 27.12 MHz, and a SiN film of 25 nm was formed on the substrate 12. The pressure in the chamber was 20 Pa.
［比較例３］
ガスバリア層１４の厚みを１００ｎｍとした以外は比較例３と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Comparative Example 3]
A solar cell module was produced in the same manner as in Comparative Example 3 except that the thickness of the gas barrier layer 14 was 100 nm.
［比較例４］
有機層を形成しない以外は実施例１と同様にして太陽電池モジュールを作製した。
[Comparative Example 4]
A solar cell module was produced in the same manner as in Example 1 except that an organic layer was not formed.
［評価］
＜発電効率（セル温度）＞
作製した太陽電池モジュールの耐久性を評価した。
具体的には、高温高湿（８５℃８５％ＲＨ）に１０００時間放置後に下記の評価を行った。
モジュール作製時に太陽電池セルとＥＶＡ（封止層）との間に熱電対を設置し、セル温度を測定可能とした。ソーラーシミュレータを用い、ＡＭ１．５Ｇ（太陽光標準スペクトル）相当の光を６時間照射した際の温度を測定した。セル温度が低いほど発電効率の低下が抑制されると言える。評価基準は以下の通りである。
Ａ：６０℃以下
Ｂ：６０℃超８５℃未満
Ｃ：８５℃以上
結果を表１に示す。
[Evaluation]
<Power generation efficiency (cell temperature)>
The durability of the manufactured solar cell module was evaluated.
Specifically, the following evaluation was performed after leaving the product in high temperature and high humidity (85 ° C., 85% RH) for 1000 hours.
A thermocouple was installed between the solar cell and the EVA (sealing layer) when the module was manufactured so that the cell temperature could be measured. Using a solar simulator, the temperature when irradiated with light equivalent to AM1.5G (sunlight standard spectrum) for 6 hours was measured. It can be said that the lower the cell temperature, the more the decrease in power generation efficiency is suppressed. The evaluation criteria are as follows.
A: 60 ° C or less B: 60 ° C or more and less than 85 ° C C: 85 ° C or more The results are shown in Table 1.
表１に示されるように、本発明の実施例である実施例１〜１２は、比較例に比べて耐久性が高いことがわかる。 As shown in Table 1, it can be seen that Examples 1 to 12, which are Examples of the present invention, have higher durability than Comparative Examples.
また、実施例１〜３の対比、ならびに、実施例６〜８の対比から、ガスバリア層の厚みが厚いほど水蒸気透過率は低くなる、すなわち、ガスバリア性が高くなることがわかる。一方、ガスバリア層の厚みが薄いほど有機層のクロスカット試験の結果が高くなる、すなわち、有機層と封止層との密着性が向上することがわかる。これは、ガスバリア層の厚みが厚くなるほど、内部応力が上昇し、有機層の積層により、有機層の内部応力が加わることで、無機層と基材界面への応力集中が大きくなり、剥離が生じ易くなってしまうものと考えられる。従って、ガスバリア層の厚みは、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下であるのが好ましいことがわかる。
以上の結果より、本発明の効果は、明らかである。
Further, from the comparison of Examples 1 to 3 and the comparison of Examples 6 to 8, it can be seen that the thicker the gas barrier layer, the lower the water vapor permeability, that is, the higher the gas barrier property. On the other hand, it can be seen that the thinner the thickness of the gas barrier layer, the higher the result of the cross-cut test of the organic layer, that is, the better the adhesion between the organic layer and the sealing layer. This is because the thicker the gas barrier layer, the higher the internal stress, and the internal stress of the organic layer is applied by the lamination of the organic layer, so that the stress concentration on the interface between the inorganic layer and the base material increases and peeling occurs. It is thought that it will be easier. Therefore, it can be seen that the thickness of the gas barrier layer is preferably 5 nm or more and 25 nm or less.
From the above results, the effect of the present invention is clear.
１０ 太陽電池モジュール
１２ 基板
１４ ガスバリア層
１６ 有機層
１８ 封止層
２０ 太陽電池セル
10 Solar cell module 12 Substrate 14 Gas barrier layer 16 Organic layer 18 Encapsulating layer 20 Solar cell
Claims (5)
前記基板に直接、形成されるガスバリア層、
アクリル系樹脂およびイミド系樹脂の少なくとも一方を含む有機層、
封止層、および、
太陽電池セル、がこの順に積層され、
前記ガスバリア層が、酸素、窒素および炭素からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ケイ素またはアルミニウムとから形成される無機化合物を含有し、
前記基板と前記ガスバリア層との間のＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６（１９９９）のクロスカット試験での残存マスが８０マス以上である太陽電池モジュール。 Substrate containing fluororesin,
A gas barrier layer formed directly on the substrate,
An organic layer containing at least one of an acrylic resin and an imide resin,
Sealing layer and
Solar cells are stacked in this order,
The gas barrier layer contains at least one selected from the group consisting of oxygen, nitrogen and carbon, and an inorganic compound formed of silicon or aluminum.
A solar cell module in which the remaining mass in the cross-cut test of JIS-K5600-5-6 (1999) between the substrate and the gas barrier layer is 80 cells or more.
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| JP2017166939A JP2020205293A (en) | 2017-08-31 | 2017-08-31 | Solar cell module |
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