JP2020192085A - Particle beam therapy system and operation screen update method of particle beam therapy system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、陽子や重イオンなどの荷電粒子ビーム（イオンビーム）を利用した腫瘍の治療装置である粒子線治療システムとその操作画面の更新方法であって、特には、粒子線治療を継続しながら、新システムの導入を行うことが容易な粒子線治療システムおよび粒子線治療システムの操作画面更新方法に関する。 The present invention is a method for updating a particle beam therapy system, which is a tumor treatment device using a charged particle beam (ion beam) such as protons and heavy ions, and an operation screen thereof, and in particular, continuing particle beam therapy. However, the present invention relates to a particle beam therapy system in which it is easy to introduce a new system and a method for updating the operation screen of the particle beam therapy system.
既設システムでの治療を維持した状態で、夜間や休日など治療していない時間に更新作業（新たなシステムの追設、調整、試験）を実施できるような更新方法の一例として、特許文献１には、粒子線治療システムの既設ビーム輸送系から分岐するように、新たなビーム輸送系を設けるステップと、新たなビーム輸送系に接続された新たな設備を設けるステップを有し、分岐は、既設ビーム輸送系の直線部分に設ける、ことが記載されている。
がんの放射線治療として、陽子または重イオン等のイオンビームを患者のがん患部に照射して治療する粒子線治療が知られている。 As radiotherapy for cancer, particle beam therapy is known in which an ion beam such as a proton or a heavy ion is irradiated to a cancer-affected part of a patient for treatment.
粒子線治療システムでは、イオンビームを患部へ導入するために高精度なビーム位置調整が必要であり、その調整および試験には多大な時間がかかる。その時間を必要最小限に抑える技術の一つとして、上述の特許文献１に記載されている技術がある。
In a particle beam therapy system, highly accurate beam position adjustment is required to introduce an ion beam into an affected area, and the adjustment and testing take a lot of time. As one of the techniques for minimizing the time, there is a technique described in
粒子線治療システムにおいて、システム更新の際に操作画面を含めてまるごと１式交換するとなると、その調整と試験には非常に時間がかかる。このため、治療停止期間が長期化してしまい、既設システムが稼動していた場合に治療できていた患者を治療できなくなってしまうことが問題となる。 In a particle beam therapy system, if the entire set including the operation screen is replaced when updating the system, it takes a very long time to adjust and test the whole set. For this reason, the treatment suspension period becomes long, and there is a problem that the patient who could be treated when the existing system is in operation cannot be treated.
このような問題により、設備維持のための収入源の低下、治療患者の需要に対する設備供給不足が懸念される。 Due to such problems, there is a concern that the income source for maintaining the equipment will decrease and the equipment supply will be insufficient to meet the demand of the treated patients.
既設の治療システムに対して新たな装置を追加する更新作業を行う場合、システムの操作画面を始めとした操作系や制御システム、設備などを細分化して部品ごとの交換を徐々に実施することは可能である。しかしながら、大幅な設備更新を行う場合を考えると、既設の部分と新規の部分との組合せによる調整と試験は必須であるため、既設システムの治療時間外（たとえば夜間や休日など）での対応では明らかに時間が足りない部分が出てくる。このため、時間と手間のかからない手法が必要となることに変わりはない。 When performing update work to add a new device to an existing treatment system, it is not possible to subdivide the operation system, control system, equipment, etc., including the system operation screen, and gradually replace each part. It is possible. However, considering the case of major equipment renewal, adjustment and testing by combining the existing part and the new part are indispensable, so it is necessary to deal with the existing system outside the treatment hours (for example, at night or on holidays). Obviously there is a shortage of time. For this reason, there is still a need for a time-saving and hassle-free method.
更に、更新後の新規システムに問題があった場合、既設のシステムに戻してもすぐに元通り使えるわけではなく、調整および試験は必要となるので、更新作業を行うリスクも高い、との課題がある。 Furthermore, if there is a problem with the new system after the update, even if it is returned to the existing system, it cannot be used immediately, and adjustment and testing are required, so there is a high risk of performing the update work. There is.
このように、システムの更新時に操作画面などをできる限り簡易に更新する手法が求められる。 In this way, there is a need for a method for updating the operation screen and the like as easily as possible when updating the system.
本発明は、上述のような課題に鑑みなされたものであって、既設システムでの治療を維持した状態で、夜間や休日など治療していない時間に、新たなシステムの追設、調整、試験等の更新作業を実施することができる粒子線治療システムおよび粒子線治療システムの操作画面更新方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a new system is added, adjusted, and tested while the treatment with the existing system is maintained and the treatment is not performed at night or on holidays. It is an object of the present invention to provide a particle beam therapy system and an operation screen update method of the particle beam therapy system capable of carrying out the update work such as.
本発明は、上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば、患者の患部に対して粒子線を照射する粒子線治療システムであって、前記粒子線を生成する粒子線源と、前記粒子線源で生成した前記粒子線を前記患部に対して照射する照射装置と、前記粒子線を前記粒子線源から前記照射装置へ輸送する輸送系と、前記粒子線源、前記輸送系、および前記照射装置の動作を制御する制御装置と、前記粒子線治療システムの状態を表示する操作画面を有する操作端末と、を備え、前記制御装置は、マスク信号のＯＮ／ＯＦＦによって、特定の装置に関連する画像または情報をマスクした状態で前記操作端末の前記操作画面に表示する非解放モードと、前記特定の装置に関連する画像または情報をマスクせずに前記操作画面に表示する解放モードと、が切り替わり、前記操作端末の前記操作画面には、前記非解放モードの際には前記特定の装置に関連する画像または情報がマスクされた状態で表示され、前記解放モードの際には前記特定の装置に関連する画像または情報が表示されることを特徴とする。 The present invention includes a plurality of means for solving the above problems, and one example thereof is a particle beam therapy system that irradiates an affected part of a patient with a particle beam, and the particles that generate the particle beam. An irradiation device that irradiates the affected area with the particle beam generated by the particle beam source, a transport system that transports the particle beam from the particle beam source to the irradiation device, and the particle beam source. The transport system, a control device for controlling the operation of the irradiation device, and an operation terminal having an operation screen for displaying the state of the particle beam therapy system, the control device is provided by turning on / off a mask signal. , A non-release mode to be displayed on the operation screen of the operation terminal in a state where the image or information related to the specific device is masked, and a non-release mode to be displayed on the operation screen without masking the image or information related to the specific device. The release mode is switched to, and the operation screen of the operation terminal displays the image or information related to the specific device in a masked state in the non-release mode, and in the release mode. Is characterized in that an image or information related to the particular device is displayed.
本発明によれば、既設システムでの治療を維持した状態で、夜間や休日など治療していない時間に更新作業を実施することができる。上記した以外の課題、構成および効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。 According to the present invention, it is possible to carry out the renewal work at a time when the treatment is not performed, such as at night or on a holiday, while maintaining the treatment in the existing system. Issues, configurations and effects other than those described above will be clarified by the description of the following embodiments.
本発明の粒子線治療システムおよび粒子線治療システムの操作画面更新方法の実施形態について図１乃至図１１を用いて説明する。 An embodiment of the particle beam therapy system of the present invention and the method for updating the operation screen of the particle beam therapy system will be described with reference to FIGS. 1 to 11.
まず、本発明の粒子線照射システムの大まかな構成について、図１を用いて説明する。図１は本実施形態の粒子線照射システムの全体構成を示す構成である。 First, a rough configuration of the particle beam irradiation system of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a configuration showing the overall configuration of the particle beam irradiation system of the present embodiment.
図１に示すような本実施形態の粒子線治療システム１００は、患者１３の患部１３ａに対して荷電粒子ビーム１２を照射するための装置であって、荷電粒子ビーム発生装置１、ビーム輸送系２、ビーム照射装置３、制御システム４、および操作端末４０を概略備えている。
The particle
荷電粒子ビーム発生装置１は、患者１３の患部１３ａに対して照射する荷電粒子ビーム１２を生成する装置であり、イオン源１５ａ、前段加速器１５ｂおよび円形加速器１６を有する。前段加速器１５ｂの上流側にイオン源１５ａが接続されており、前段加速器１５ｂの下流側に円形加速器１６が接続されている。
The charged
なお、図１では、円形加速器１６としてシンクロトロンを例に記載しているが、シンクロトロン加速器の他に、サイクロトロン加速器やシンクロサイクロトロン加速器などの様々な公知の加速器を用いることができる。その場合、前段加速器１５ｂは不要となることがある。
Although the synchrotron is described as an example of the
イオン源１５ａで生成する荷電粒子ビーム１２の種類についても特に限定されず、患者１３の患部１３ａに対して照射する荷電粒子ビーム１２としては、陽子や、炭素やヘリウム等の重粒子が挙げられる。
The type of the
ビーム輸送系２は、荷電粒子ビーム発生装置１の下流側に接続されており、荷電粒子ビーム発生装置１とビーム照射装置３とを接続している。このビーム輸送系２により、荷電粒子ビーム１２を荷電粒子ビーム発生装置１からビーム照射装置３へ輸送される。
The
ビーム照射装置３は、荷電粒子ビーム発生装置１で生成され、ビーム輸送系２により輸送されてきた荷電粒子ビーム１２を患者の患部１３ａに照射するための装置であり、図１に示すように、患者１３を載せる治療台１０、照射ノズル１１および回転ガントリ１４を概略備えている。
The
このビーム照射装置３は複数設けることができ、その場合は複数設けられた偏向電磁石９のうち対応する偏向電磁石９を制御することでビーム照射を行うビーム照射装置３へ荷電粒子ビーム１２は誘導される。
A plurality of the beam irradiating
照射ノズル１１には、上流ビームモニタ、走査電磁石、線量モニタ、下流ビームモニタ（各々、図示の都合上省略）がビーム経路に沿って配置されており、ビームの照射野を形成する。
An upstream beam monitor, a scanning electromagnet, a dose monitor, and a downstream beam monitor (each omitted for convenience of illustration) are arranged along the beam path in the
上流ビームモニタは、照射ノズル１１内に入射された荷電粒子ビーム１２の通過位置およびビーム幅（ビーム径）を計測する。
The upstream beam monitor measures the passing position and beam width (beam diameter) of the
走査電磁石は、通過する荷電粒子ビーム１２を第一の方向（例えば、Ｘ軸方向）に偏向・走査する第１走査電磁石と、第一の方向と垂直な第二の方向（例えば、Ｙ軸方向）に荷電粒子ビーム１２を偏向・走査する第２走査電磁石から構成される。ここで、Ｘ軸方向とは、照射ノズル１１に入射された荷電粒子ビーム１２の進行方向に垂直な平面内の一方向であり、Ｙ軸方向とは、当該平面内であってＸ軸と垂直な方向を示す。
The scanning electromagnets are a first scanning electromagnet that deflects and scans the passing
線量モニタは、通過する荷電粒子ビーム１２の照射線量を計測する。すなわち、線量モニタは、患者に照射された荷電粒子ビーム１２の照射線量を監視するモニタである。
The dose monitor measures the irradiation dose of the
下流ビームモニタは、走査電磁石の下流側に設置され、通過する荷電粒子ビーム１２の位置およびビーム幅を計測する。すなわち、下流ビームモニタは、走査電磁石によって走査された荷電粒子ビーム１２の位置およびビーム幅を計測するモニタである。
The downstream beam monitor is installed on the downstream side of the scanning electromagnet and measures the position and beam width of the passing charged
なお、本発明における荷電粒子ビーム１２の照射法は特に限定されず、例えば、患部１３ａをスポットと呼ばれる微小な領域に複数分割し、そのスポット間で荷電粒子ビーム１２を停止する離散スポット照射法や、スポット間で荷電粒子ビーム１２を停止しない連続スポット照射法、ワブラー法や二重散乱体法など荷電粒子ビーム１２の分布を広げた後でコリメータやボーラスを用いて患部１３ａの形状に合わせた線量分布を形成する照射法を採用することができる。
The irradiation method of the charged
回転ガントリ１４は、アイソセンタ（図示省略）を中心に回転可能な構成であり、ビームの照射角度を決める。回転ガントリ１４が回転することによって、患者１３に照射する荷電粒子ビーム１２の照射角度を変更することができる。
The
なお、ビーム照射装置３は回転ガントリ１４を有さない固定照射装置とすることも出来る。
The
治療台１０は、治療室内に配置されており、患者１３を載せるベッドである。治療台１０は、制御システム４からの指示に基づき、直交する３軸の方向へ移動することができ、さらにそれぞれの軸を中心として回転する、いわゆる６軸方向に移動することができる。これらの移動と回転により、患者１３の患部１３ａの位置を所望の位置に移動させることができる。
The treatment table 10 is arranged in the treatment room and is a bed on which the
治療計画装置６は、ＣＴ画像作成装置（図示省略）で作成されたＣＴ画像を利用して、患部を一様な線量で照射するための照射スポットの位置と各照射スポットに対する目標照射量とを計算する。
The
制御システム４は、荷電粒子ビーム発生装置１、ビーム輸送系２、ビーム照射装置３、治療計画装置６、操作端末４０などと接続されており、荷電粒子ビーム発生装置１、ビーム輸送系２、およびビーム照射装置３を構成する各機器の動作を制御する。
The control system 4 is connected to a charged
制御システム４は、図１に示すように、中央制御装置５、加速器・輸送系制御システム７および照射制御システム８を概略備えている。
As shown in FIG. 1, the control system 4 roughly includes a
中央制御装置５は、治療計画装置６、加速器・輸送系制御システム７、照射制御システム８および操作端末４０に接続されている。この中央制御装置５は、治療計画装置６からの設定データに基づいて、加速器運転のための運転パラメータの設定値、照射野を形成するための運転パラメータ、計画されるビーム位置およびビーム幅、線量の設定値を算出する機能を備えている。これらの運転パラメータおよびモニタ設定値は、中央制御装置５から加速器・輸送系制御システム７、照射制御システム８および操作端末４０に出力される。
The
本実施形態の中央制御装置５では、中央制御装置５が持っているパラメータであるマスク信号のＯＮ／ＯＦＦによって、特定の装置に関連する画像または情報をマスクした状態で操作端末４０の表示画面４０ａに表示する非解放モードと、特定の装置に関連する画像または情報をマスクせずに表示画面４０ａに表示する解放モードと、を切り替える制御を実行する。
In the
なお、本実施形態では、マスクされると機能が使用できなくなることとする。例えば、本実施形態における機能には、ボタン押下による操作、制御パラメータ表示、機器や条件の状態表示ランプ、キーボードによる入力などの指令操作や表示機能、入力操作などが含まれる。 In this embodiment, if masked, the function cannot be used. For example, the functions in the present embodiment include operation by pressing a button, control parameter display, status display lamp of a device or condition, command operation and display function such as input by a keyboard, and input operation.
このような制御により、マスク信号がＯＮとなった非解放モードの際にはマスク処理により特定の装置に関連する画像または情報が操作端末４０の表示画面４０ａに表示されなくなり、機能しなくなる。これに対し、マスク信号がＯＦＦとなった解放モードの際には機能が解放されて、特定の装置に関連する画像または情報が表示される。その詳細は詳しくは後述する。
Due to such control, in the non-release mode in which the mask signal is turned ON, the image or information related to the specific device is not displayed on the
このようなマスクにより表示・非表示となる画像、情報には、粒子線治療システム１００に追加で設置される第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系用の偏向電磁石９ｃ（いずれも詳しくは図４等参照）に関連する画像または情報、更には、制御システム４の中央制御装置５に記録されている、追加で設置される上記各装置の制御パラメータが含まれる。
The images and information displayed / hidden by such a mask include the third
また、中央制御装置５は、マスク信号がＯＦＦとなった際には、マスクにより非表示であった特定の装置に関連する画像または情報を一度に複数、望ましくはすべての加増または情報を解放することが望ましい。
Further, when the mask signal is turned off, the
例えば、マスク信号がＯＦＦとなり機能が解放される際には、制御システム４の中央制御装置５に記録されている、追加で設置される特定の装置の制御パラメータについても解放されることが望ましい。
For example, when the mask signal is turned off and the function is released, it is desirable that the control parameters of a specific device additionally installed, which is recorded in the
マスク信号は、安全性を考え、マスク信号のＯＮ／ＯＦＦを切り替える入力指示は、操作端末４０以外から入力されることが望ましい。例えば、システム設計者が決めた特定のユーザのみが使用できる中央制御装置５でのコマンド操作でのみＯＮ／ＯＦＦの切り替えを可能とすることが望ましい。中央制御装置５のコマンド操作は外部の端末による遠隔操作で実行可能とすることもできる。
Considering the safety of the mask signal, it is desirable that the input instruction for switching ON / OFF of the mask signal is input from other than the
上述したマスク信号は、中央制御装置５が持っているパラメータであり、操作端末４０に周期的に送信されている。ただし、操作端末４０以外に送信されてもよい。
The above-mentioned mask signal is a parameter possessed by the
また、図２に示すように、中央制御装置５が操作端末４０に対しマスク信号を送信した後、操作端末４０が中央制御装置５に対しマスク信号の打返しを送信することにより、信頼性を確保することが望ましい。なお、図２は、中央制御装置と操作端末間のマスク信号のやり取りを表した図である。
Further, as shown in FIG. 2, after the
このような構成により、中央制御装置５は、マスク信号のＯＮ／ＯＦＦの変更時には、操作端末４０からの打返しを受けてから解放モード、あるいは非解放モードを切り替えることが望ましい。
With such a configuration, it is desirable that the
加速器・輸送系制御システム７は、荷電粒子ビーム発生装置１およびビーム輸送系２に接続されており、荷電粒子ビーム発生装置１およびビーム輸送系２を構成する機器の動作を制御する。
The accelerator / transport
照射制御システム８は、ビーム照射装置３に接続されており、ビーム照射装置３を構成する各機器の動作を制御する。
The
操作端末４０は、粒子線治療システム１００の状態を表示するコンピュータであり、操作者（医者、オペレータ等の医療従事者）がデータや指示信号を入力する入力装置および表示画面４０ａを備えている。
The
表示画面４０ａには粒子線治療システムを構成する機器の稼働状況、治療情報、制御パラメータが、中央制御装置５から送信されるデータに対応して表示される。ただし、他機能が表示されるものとすることができる。
On the
これら制御システム４や加速器・輸送系制御システム７、照射制御システム８、治療計画装置６、操作端末４０は、中央演算装置（ＣＰＵ）およびＣＰＵに接続されたメモリを有する。
The control system 4, the accelerator / transport
制御システム４は、治療計画装置６で作成された治療計画から粒子線治療システム１００を構成する各機器の照射に関係する各種の動作制御プログラムを読み込み、読み込んだプログラムを実行して、加速器・輸送系制御システム７、照射制御システム８を介して指令を出力することで、粒子線治療システム１００内の各機器の動作を制御する。
The control system 4 reads various motion control programs related to irradiation of each device constituting the particle
なお、実行される動作の制御処理は、１つのプログラムにまとめられていても、それぞれが複数のプログラムに分かれていても良く、更にはそれらの組み合わせでも良い。 The operation control process to be executed may be integrated into one program, may be divided into a plurality of programs, or may be a combination thereof.
また、プログラムの一部またはすべては専用ハードウェアで実現しても良く、モジュール化されていても良い。更には、各種プログラムは、プログラム配布サーバや外部記憶メディアによって各装置にインストールされていても良い。 Further, a part or all of the program may be realized by dedicated hardware or may be modularized. Further, various programs may be installed in each device by a program distribution server or an external storage medium.
また、各装置は、各々が独立した装置で有線あるいは無線のネットワークで接続されたものであっても、２つ以上が一体化していてもよい。 Further, each device may be an independent device connected by a wired or wireless network, or two or more may be integrated.
次に、本実施形態の粒子線治療システムにおける、治療システム更新時の手順と、更新前後における操作端末４０に表示される画面に関して図３以降を用いて説明する。
Next, in the particle beam therapy system of the present embodiment, the procedure at the time of updating the treatment system and the screen displayed on the
最初に、更新前後の粒子線治療システムの構成について図３、図４を用いて説明する。図３は治療室を追設する前の状態の構成を簡略的に示す図、図４は治療室を追設した後の状態の構成を簡略的に示す図である。 First, the configuration of the particle beam therapy system before and after the update will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is a diagram that simply shows the configuration of the state before the additional treatment room is added, and FIG. 4 is a diagram that simply shows the configuration of the state after the additional treatment room is added.
以下では、粒子線治療システムは、新規建設時は図３に示すように、１つの円形加速器１６とビーム輸送系２、第１治療室ビーム照射装置３ａ、第２治療室ビーム照射装置３ｂ、更には第１治療室ビーム照射装置３ａにビームを輸送する第１ビーム輸送系２ａや偏向電磁石９ａ、第２治療室ビーム照射装置３ｂにビームを輸送する第２ビーム輸送系２ｂや偏向電磁石９ｂを有する系とする。
In the following, the particle beam therapy system includes one
また、将来的には、図４に示すように図３に第３治療室ビーム照射装置３ｃや第３治療室ビーム照射装置３ｃにビームを輸送する第３ビーム輸送系２ｃを１つ増設する予定となっている。
Further, in the future, as shown in FIG. 4, one third
このような粒子線治療システム１００における、治療室に関わる設備と制御システムの更新に関して、上述した図３や図４、更には図５以降を用いて以下説明する。図５は、治療室の追設手順の一例を説明するためのフローチャートである。
The update of the equipment and the control system related to the treatment room in the particle
以下に示す手順では、マスクにより表示される、されない、の切り替えが行われる対象の特定の装置は、第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系２ｃ用の偏向電磁石９ｃとする。
In the procedure shown below, the specific device to be switched between displayed and not displayed by the mask is for the third
なお、治療室数や配置などは設備ごとに変わるため、代表例として説明するものであることは言うまでもない。 It goes without saying that the number and arrangement of treatment rooms vary depending on the facility, so this is a typical example.
まず、図５に示すように、新規建設時に使用する、操作端末４０に表示される画面を作成する（ステップＳ１０１）。画面作成は建設前に、デバッグ用端末または顧客に納入する操作端末４０を用いて行う。ただし、デバッグ用端末を用いる場合は、建設前に操作端末４０に画面データを入れておくことが望ましい。
First, as shown in FIG. 5, a screen displayed on the
なお、本ステップＳ１０１での画面作成では、新規建設時に建設予定の第１治療室ビーム照射装置３ａやそれに関連する第１ビーム輸送系２ａ、第２治療室ビーム照射装置３ｂやそれに関連する第２ビーム輸送系２ｂ以外の第３治療室ビーム照射装置３ｃやそれに関連する第３ビーム輸送系２ｃの機能も含める。ここでは第３治療室ビーム照射装置３ｃ等を例に説明する。
In the screen creation in this step S101, the first treatment room beam irradiation device 3a scheduled to be constructed at the time of new construction, the first
画面作成後、マスク処理により表示、非表示とする範囲を設定する（ステップＳ１０２）。 After creating the screen, the range to be displayed or hidden by mask processing is set (step S102).
その後、荷電粒子ビーム発生装置１、ビーム輸送系２、第１治療室ビーム照射装置３ａ、第２治療室ビーム照射装置３ｂ、制御システム４、および操作端末４０を病院などに新規に建設する（ステップＳ１０３）。
After that, a charged
建設完了後、システム設計者等が中央制御装置５をコマンド操作することによりマスク信号がＯＮとなる（ステップＳ１０４）。これにより、中央制御装置５は第３治療室ビーム照射装置３ｃ等に関係する機能をマスクする（ステップＳ１０４）。
After the construction is completed, the mask signal is turned on by the system designer or the like commanding the central control device 5 (step S104). As a result, the
このようなマスク処理により、操作端末４０に表示される画面は、詳しくは後述する図７に示すような画面、あるいは図９に示すような画面へと変わる。
By such mask processing, the screen displayed on the
その後、第１治療室ビーム照射装置３ａ等、および第２治療室ビーム照射装置３ｂの機能試験を実行する（ステップＳ１０５）。このステップＳ１０５では、第１治療室ビーム照射装置３ａ等や第２治療室ビーム照射装置３ｂの機能の試験だけでなく、第３治療室ビーム照射装置３ｃ等の機能が使用できないことの確認も行うことが望ましい。
After that, the functional test of the first treatment room beam irradiation device 3a and the like and the second treatment room
機能試験が完了した後、治療が開始される（ステップＳ１０６）。 After the functional test is complete, treatment is initiated (step S106).
治療開始後の任意のタイミングでシステムのユーザにより増設が決定されたら、第３治療室ビーム照射装置３ｃからなる第３治療室や第３ビーム輸送系２ｃ、偏向電磁石９ｃなどの増設を開始する（ステップＳ１０７）。治療開始から増設迄の期間は特に指定されず、粒子線治療システム１００の稼働状況等に応じて決まることが多い。
When the expansion is decided by the user of the system at an arbitrary timing after the start of treatment, the expansion of the third treatment room composed of the third treatment room
第３治療室ビーム照射装置３ｃ等の構造体の設置が完了した後、中央制御装置５は、最初に第３治療室ビーム照射装置３ｃ等の更新作業が完了したか否かを判定する（ステップＳ１０８）。完了したと判定されたときは処理をステップＳ１１２に進め、第３治療室ビーム照射装置３ｃを含めた３つの治療室を用いた治療が開始される（ステップＳ１１２）。
After the installation of the structure such as the third treatment room
これに対し、第３治療室ビーム照射装置３ｃ等の更新作業が完了していないと判定されたときは処理をステップＳ１０９に進める。
On the other hand, when it is determined that the update work of the third treatment room
次いで、中央制御装置５は、現在が治療期間であるか否かを判定する（ステップＳ１０９）。治療期間であると判定されたときは、第３治療室ビーム照射装置３ｃ等の調整を行えないことから処理をステップＳ１０８に戻す。これに対し、治療期間であると判定されなかったときは、第３治療室ビーム照射装置３ｃ等の調整を行うため、処理をステップＳ１１０に進める。
The
その後、システム設計者等が中央制御装置５をコマンド操作することによりマスク信号がＯＦＦとなる（ステップＳ１１０）。これにより中央制御装置５は第３治療室ビーム照射装置３ｃ等に関係する機能のマスクを解除し、第３治療室ビーム照射装置３ｃ等の機能を使用可能とする（ステップＳ１１０）。
After that, the mask signal is turned off by the system designer or the like performing a command operation on the central control device 5 (step S110). As a result, the
その後、第３治療室に関係する増設部分の機能の確認試験を行う（ステップＳ１１１）。機能確認試験後は処理をステップＳ１０８に戻し、適宜治療開始ステップへ進める。 After that, a confirmation test of the function of the extension portion related to the third treatment room is performed (step S111). After the function confirmation test, the process returns to step S108 and proceeds to the treatment start step as appropriate.
このようにして、画面を差し替えることなく、１回の信号の切替操作で更新作業時間を最小限にすることが可能となる。 In this way, it is possible to minimize the update work time by one signal switching operation without replacing the screen.
次に、操作端末４０に表示される表示画面４０ａのマスク方法の具体例について図６乃至図９を用いて説明する。図６および図８は機能解放後の操作画面の例を表す図であり、図７および図９は機能解放前の操作画面の例を表す図である。
Next, a specific example of the masking method of the
図６および図７は、マスクシンボル４１を用いる方法であり、粒子線治療システム全体の機器の状態表示を行う画面での使用例である。
6 and 7 are a method using the
図６に示すようにマスクシンボル４１は、マスク信号のＯＦＦ時には非表示となり、マスクシンボル４１部分の閲覧、操作が可能となる。これに対し、図７に示すように、マスク信号ＯＮ時には表示され、マスクシンボル４１部分の表示は見えなくなって空白が表示され、機能の操作も不可となる。
As shown in FIG. 6, the
なお、図６および図７中、点線はマスクシンボル４１を表しており、実際の画面には表示されない。この方法は他にも、機器の状態表示画面、各治療室の治療進行状況確認画面、治療室別画面の呼び出し画面などで使用されることができる。
In FIGS. 6 and 7, the dotted line represents the
図８および図９は、警報リスト表示画面での使用例である。 8 and 9 are examples of use on the alarm list display screen.
図８に示すように、リストに出力する処理の前に、マスク信号がＯＦＦであれば第１治療室や第２治療室に加えて第３治療室の情報についてもリストに出力する。これに対し、マスク信号がＯＮであれば、図９に示すように、第３治療室の情報はリストに出力しない処理を入れることによってマスクを行う。この方法は他にも、制御パラメータ一覧画面、登録機器一覧画面などで使用される。 As shown in FIG. 8, before the process of outputting to the list, if the mask signal is OFF, the information of the third treatment room is also output to the list in addition to the first treatment room and the second treatment room. On the other hand, if the mask signal is ON, as shown in FIG. 9, masking is performed by inserting a process in which the information of the third treatment room is not output to the list. This method is also used on the control parameter list screen, registered device list screen, and the like.
ここまでは、増設する治療室が１つの場合を例に挙げたが、増設する治療室が複数あり、時期が異なる場合の更新手順について図１０および図１１を用いて以下に記載する。図１０および図１１は粒子線治療システムの治療室の追設手順の他の一例を説明するためのフローチャートである。 Up to this point, the case where one treatment room is to be added has been taken as an example, but the update procedure when there are a plurality of treatment rooms to be added and the timing is different will be described below with reference to FIGS. 10 and 11. 10 and 11 are flowcharts for explaining another example of the procedure for adding a treatment room of the particle beam therapy system.
ここでは、新規建設時に第１治療室および第２治療室が建設され、その後、第３治療室の増設が、更にその後に第４治療室の増設が予定されている場合を例に説明する。 Here, an example will be described in which a first treatment room and a second treatment room are constructed at the time of new construction, and then a third treatment room is planned to be added, and then a fourth treatment room is planned to be added.
まず、図５に示したステップＳ１０１と同様に、最終的に建設される第３治療室および第４治療室を含めた操作端末４０の表示画面４０ａを作成する（ステップＳ２０１）。
First, similarly to step S101 shown in FIG. 5, a
次に、中央制御装置５は、第４治療室に関わる機能のマスク処理を行う（ステップＳ２０２）。ここで、本ステップＳ２０２でのマスク処理に対応するマスク信号を第４マスク信号とする。
Next, the
その後、上述のステップＳ２０２と同様にして、中央制御装置５は、第３治療室に関わる機能のマスク処理を行う（ステップＳ２０３）。このステップＳ２０３でのマスク処理に対応するマスク信号を第３マスク信号とし、ステップＳ２０２で用いた第４マスク信号とは異なる信号を用いることとする。これにより、複数のマスク信号を区別し、意図しない増設機器の機能のＯＮ／ＯＦＦが切り替わることを確実に抑制することが望ましい。
After that, in the same manner as in step S202 described above, the
ここでは、マスク処理を第４治療室、第３治療室の順で説明したが、順番は逆でもよく、特に限定されない。 Here, the mask treatment has been described in the order of the fourth treatment room and the third treatment room, but the order may be reversed and is not particularly limited.
その後、荷電粒子ビーム発生装置１、ビーム輸送系２、第１治療室ビーム照射装置３ａ、第２治療室ビーム照射装置３ｂ、制御システム４、および操作端末４０を病院などに新規に建設する（ステップＳ２０４）。
After that, a charged
新規建設後は、システム設計者等が中央制御装置５をコマンド操作することにより第３マスク信号および第４マスク信号のいずれもがＯＮとなる（ステップＳ２０５）。これにより、中央制御装置５は第３治療室ビーム照射装置３ｃや第４治療室等に関係する機能をマスクする（ステップＳ２０５）。
After the new construction, both the third mask signal and the fourth mask signal are turned on by the system designer or the like commanding the central control device 5 (step S205). As a result, the
その後、第１治療室ビーム照射装置３ａや第２治療室ビーム照射装置３ｂ等の機能試験を実行する（ステップＳ２０６）。このステップＳ２０６では、図５に示したステップＳ１０５と同様に、第１治療室ビーム照射装置３ａ等や第２治療室ビーム照射装置３ｂの機能の試験だけでなく、第３治療室ビーム照射装置３ｃ等や第４治療室の機能が使用できないことの確認も行う。
After that, a functional test of the first treatment room beam irradiation device 3a, the second treatment room
次のステップＳ２０７乃至ステップＳ２１３は、上述した図５のステップＳ１０６乃至ステップＳ１１２と同様であり、その詳細は省略する。ステップＳ２１３の第１−３治療室を用いた治療の開始後、処理を図１１のステップＳ２１４に進める。 The next steps S207 to S213 are the same as the steps S106 to S112 of FIG. 5 described above, and the details thereof will be omitted. After starting the treatment using the 1-3 treatment room of step S213, the process proceeds to step S214 of FIG.
第１−３治療室を用いた治療の開始後の任意のタイミングでシステムのユーザにより更なる増設が決定されたら、第４治療室などの増設を開始する（ステップＳ２１４）。 When the user of the system decides to further expand the system at an arbitrary timing after the start of the treatment using the first to third treatment rooms, the expansion of the fourth treatment room or the like is started (step S214).
第４治療室等の構造体の設置が完了した後、中央制御装置５は、最初に第４治療室の更新作業が完了したか否かを判定する（ステップＳ２１５）。完了したと判定されたときは処理をステップＳ２１９に進め、４つの治療室を用いた治療が開始される（ステップＳ２１９）。
After the installation of the structure such as the fourth treatment room is completed, the
これに対し、第４治療室の更新作業が完了していないと判定されたときは処理をステップＳ２１６に進める。 On the other hand, when it is determined that the renewal work of the fourth treatment room is not completed, the process proceeds to step S216.
次いで、中央制御装置５は、現在が治療期間であるか否かを判定する（ステップＳ２１６）。治療期間であると判定されたときは、第４治療室の調整が行えないことから処理をステップＳ２１５に戻す。これに対し、治療期間であると判定されなかったときは、第４治療室の調整を行うため、処理をステップＳ２１７に進める。
The
その後、システム設計者等が中央制御装置５をコマンド操作することにより第４マスク信号がＯＦＦとなる（ステップＳ２１７）。これにより中央制御装置５は第４治療室に関係する機能のマスクを解除し、第４治療室の機能を使用可能とする（ステップＳ２１７）。
After that, the system designer or the like operates the
その後、第４治療室に関係する増設部分の機能の確認試験を行う（ステップＳ２１８）。機能確認試験後は処理をステップＳ２１５に戻し、適宜治療開始ステップへ進める。 After that, a confirmation test of the function of the extension portion related to the fourth treatment room is performed (step S218). After the function confirmation test, the process returns to step S215 and proceeds to the treatment start step as appropriate.
このようにして増設時期が複数回に分かれる場合は、複数のマスク信号を用いることでマスク機能を実現することが望ましい。 When the expansion period is divided into a plurality of times in this way, it is desirable to realize the mask function by using a plurality of mask signals.
次に、本実施形態の効果について説明する。 Next, the effect of this embodiment will be described.
上述した本実施形態の粒子線治療システム１００では、制御システム４の中央制御装置５は、マスク信号のＯＮ／ＯＦＦによって、第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系２ｃ用の偏向電磁石９ｃに関連する画像または情報をマスクした状態で操作端末４０の表示画面４０ａに表示する非解放モードと、第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系２ｃ用の偏向電磁石９ｃに関連する画像または情報をマスクせずに表示画面４０ａに表示する解放モードと、が切り替わり、操作端末４０の表示画面４０ａには、非解放モードの際には第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系２ｃ用の偏向電磁石９ｃに関連する画像または情報がマスクされた状態で表示され、解放モードの際には第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系２ｃ用の偏向電磁石９ｃに関連する画像または情報が表示される。
In the particle
このような構成によって、既設システムでの治療を維持した状態で、夜間や休日など治療していない時間に操作画面の更新作業が実施されることから、新たなシステムの追設、調整、試験等を行うにあたって、既設システムでの治療停止の影響を低減し、既設システムに最小限の影響で治療室の追加などの更新作業を実施することができる。 With such a configuration, the operation screen is updated during non-treatment hours such as nighttime and holidays while maintaining the treatment with the existing system, so that a new system can be added, adjusted, tested, etc. In doing so, it is possible to reduce the impact of treatment suspension in the existing system and carry out renewal work such as adding treatment rooms with minimal impact on the existing system.
また、治療システムを１式交換しての更新を行う必要がないことから、調整、試験に非常に多くの時間がかかることを抑制し、治療停止期間が長期化することやそれに伴って生じる、既設システムが稼動していた場合に治療できていた患者数を治療できなくなってしまう、との問題が生じることを抑制することができる。 In addition, since it is not necessary to replace one set of treatment system and update it, it is possible to suppress the time required for adjustment and testing, and the treatment suspension period is prolonged and accompanies it. It is possible to suppress the problem that the number of patients who could be treated when the existing system was operating cannot be treated.
また、制御システム４の中央制御装置５は、マスク信号がＯＦＦとなった際には、マスクにより非表示であった複数の第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系２ｃ用の偏向電磁石９ｃに関連する画像または情報を一度に解放するため、複数回に分けて画像や情報を解放する必要がなく、簡易に切り替えを行うことができる。また、増設機器のうち一部が他の機器と異なる解放状態となることを抑制することができる、との効果も得られる。
Further, the
更に、制御システム４の中央制御装置５は、マスク信号のＯＮ／ＯＦＦの変更時には、制御システム４の中央制御装置５から操作端末４０に変更信号を送信して操作端末４０からの打返しを受けてから解放モード、あるいは非解放モードを切り替えることで、粒子線治療システム１００内の各機器が全て同じパラメータを有していることが確認された上で切り替えが行われることになり、システム内の信頼性を確保することができる。
Further, when the ON / OFF of the mask signal is changed, the
また、制御システム４の中央制御装置５は、解放モードでは、制限していた第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系２ｃ用の偏向電磁石９ｃに関連する機能を解放し、解放した機能と既設の装置の機能とを組み合わせたシステムの試験に移行することにより、増設機器を速やかに治療可能状態にもっていくことができ、既設システムでの治療停止の影響をより効果的に低減することができる。
Further, the
更に、非解放モードでは、表示画面４０ａに、マスクとして、画像または情報が表示される部分にマスクシンボル４１として空白が表示されることで、増設前の画面を、増設後の画面のうち、増設部分を空白処理したものを用いることができるため、増設前と増設後とで別途異なる操作画面を作成する必要がなくなり、システムの更新切り替えをよりスムーズに行うことができる。
Further, in the non-release mode, a blank is displayed as a mask on the
また、マスク信号のＯＮ／ＯＦＦを切り替える入力指示は、操作端末４０以外から入力されることにより、粒子線治療システム１００の治療時にユーザが誤って操作した際にマスク信号が不必要に切り替わることを防止することができるため、粒子線治療システム１００をより安定して稼働させることができる。
Further, the input instruction for switching ON / OFF of the mask signal is input from other than the
更に、解放モードでは、制御システム４の中央制御装置５に記録されている、追加で設置される第３ビーム輸送系２ｃ、第３治療室ビーム照射装置３ｃ、第３ビーム輸送系２ｃ用の偏向電磁石９ｃの制御パラメータについても解放されることにより、増設時に新たに中央制御装置５に制御パラメータを導入することなく、また増設前の不要な際に使用されることを抑制することができ、更に安定したシステムの稼働が可能となる。
Further, in the release mode, the deflection for the third
また、マスクにより表示・非表示される対象のビーム輸送系２、ビーム照射装置３が複数存在するときは、マスク信号を個別のものとすることで、対象としていない装置までマスク信号が切り替わることを確実に抑制することができ、更新作業をより安定して実行することができる。
Further, when there are a plurality of target
＜その他＞
なお、本発明は上記の実施形態に限られず、種々の変形、応用が可能なものである。上述した実施形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されない。
<Others>
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications and applications are possible. The above-described embodiments have been described in detail in order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, and are not necessarily limited to those having all the described configurations.
１…荷電粒子ビーム発生装置（粒子線源）
２…ビーム輸送系（輸送系）
２ａ…第１ビーム輸送系
２ｂ…第２ビーム輸送系
２ｃ…第３ビーム輸送系（特定の装置）
３…ビーム照射装置（照射装置）
３ａ…第１治療室ビーム照射装置
３ｂ…第２治療室ビーム照射装置
３ｃ…第３治療室ビーム照射装置（特定の装置）
４…制御システム（制御装置）
５…中央制御装置
９…偏向電磁石
９ａ…第１ビーム輸送系用の偏向電磁石
９ｂ…第２ビーム輸送系用の偏向電磁石
９ｃ…第３ビーム輸送系用の偏向電磁石（特定の装置）
１２…荷電粒子ビーム（粒子線）
１３…患者
１３ａ…患部
４０…操作端末
４０ａ…表示画面（操作画面）
４１…マスクシンボル
１００…粒子線治療システム
1 ... Charged particle beam generator (particle beam source)
2 ... Beam transport system (transport system)
2a ... 1st
3 ... Beam irradiation device (irradiation device)
3a ... 1st treatment room
4 ... Control system (control device)
5 ... Central control device 9 ...
12 ... Charged particle beam (particle beam)
13 ... Patient 13a ...
41 ...
Claims (13)
前記粒子線を生成する粒子線源と、
前記粒子線源で生成した前記粒子線を前記患部に対して照射する照射装置と、
前記粒子線を前記粒子線源から前記照射装置へ輸送する輸送系と、
前記粒子線源、前記輸送系、および前記照射装置の動作を制御する制御装置と、
前記粒子線治療システムの状態を表示する操作画面を有する操作端末と、を備え、
前記制御装置は、マスク信号のＯＮ／ＯＦＦによって、特定の装置に関連する画像または情報をマスクした状態で前記操作端末の前記操作画面に表示する非解放モードと、前記特定の装置に関連する画像または情報をマスクせずに前記操作画面に表示する解放モードと、が切り替わり、
前記操作端末の前記操作画面には、前記非解放モードの際には前記特定の装置に関連する画像または情報がマスクされた状態で表示され、前記解放モードの際には前記特定の装置に関連する画像または情報が表示される
ことを特徴とする粒子線治療システム。 A particle beam therapy system that irradiates the affected area of a patient with particle beams.
The particle beam source that generates the particle beam and
An irradiation device that irradiates the affected area with the particle beam generated by the particle beam source, and
A transport system for transporting the particle beam from the particle beam source to the irradiation device, and
A control device that controls the operation of the particle beam source, the transport system, and the irradiation device, and
An operation terminal having an operation screen for displaying the state of the particle beam therapy system is provided.
The control device has a non-release mode displayed on the operation screen of the operation terminal in a state where an image or information related to the specific device is masked by turning on / off a mask signal, and an image related to the specific device. Alternatively, the release mode, which is displayed on the operation screen without masking the information, is switched.
On the operation screen of the operation terminal, an image or information related to the specific device is displayed in a masked state in the non-release mode, and is related to the specific device in the release mode. A particle beam therapy system characterized in that an image or information to be displayed is displayed.
前記制御装置は、前記マスク信号がＯＦＦとなった際には、前記マスクにより非表示であった複数の前記特定の装置に関連する画像または情報を一度に解放する
ことを特徴とする粒子線治療システム。 In the particle beam therapy system according to claim 1,
The control device is characterized in that when the mask signal is turned off, the image or information related to the plurality of specific devices hidden by the mask is released at once. system.
前記制御装置は、前記マスク信号のＯＮ／ＯＦＦの変更時には、前記制御装置から前記操作端末に変更信号を送信して前記操作端末からの打返しを受けてから前記解放モード、あるいは前記非解放モードを切り替える
ことを特徴とする粒子線治療システム。 In the particle beam therapy system according to claim 1,
When the ON / OFF of the mask signal is changed, the control device transmits a change signal from the control device to the operation terminal and receives a response from the operation terminal before the release mode or the non-release mode. A particle beam therapy system characterized by switching between.
前記制御装置は、前記解放モードでは、制限していた前記特定の装置に関連する機能を解放し、前記解放した機能と既設の装置の機能とを組み合わせたシステムの試験に移行する
ことを特徴とする粒子線治療システム。 In the particle beam therapy system according to claim 1,
The control device is characterized in that, in the release mode, the restricted functions related to the specific device are released, and a system test in which the released functions and the functions of the existing device are combined is started. Particle beam therapy system.
前記非解放モードでは、前記操作画面に、前記マスクとして、前記画像または前記情報が表示される部分に空白が表示される
ことを特徴とする粒子線治療システム。 In the particle beam therapy system according to claim 1,
In the non-release mode, the particle beam therapy system is characterized in that a blank is displayed on the operation screen as the mask in a portion where the image or the information is displayed.
前記マスク信号のＯＮ／ＯＦＦを切り替える入力指示は、前記操作端末以外から入力される
ことを特徴とする粒子線治療システム。 In the particle beam therapy system according to claim 1,
A particle beam therapy system characterized in that an input instruction for switching ON / OFF of the mask signal is input from a terminal other than the operation terminal.
前記マスクにより表示・非表示されるのは、前記粒子線治療システムに追加で設置される輸送系および照射装置に関連する画像または情報である
ことを特徴とする粒子線治療システム。 In the particle beam therapy system according to claim 1,
What is displayed / hidden by the mask is a particle beam therapy system characterized in that images or information related to a transport system and an irradiation device additionally installed in the particle beam therapy system.
前記解放モードでは、前記制御装置に記録されている、前記追加で設置される輸送系および照射装置の制御パラメータについても解放される
ことを特徴とする粒子線治療システム。 In the particle beam therapy system according to claim 7.
In the release mode, the particle beam therapy system is characterized in that the control parameters of the additionally installed transport system and irradiation device recorded in the control device are also released.
前記マスクにより表示・非表示される対象の前記輸送系、前記照射装置が複数存在するときは、前記マスク信号を個別のものとする
ことを特徴とする粒子線治療システム。 In the particle beam therapy system according to claim 7.
A particle beam therapy system characterized in that, when there are a plurality of the transport system and the irradiation device to be displayed / hidden by the mask, the mask signals are individualized.
前記粒子線治療システムは、前記粒子線を発生させる粒子線源と、前記粒子線源で発生させた前記粒子線を前記患部に対して照射する照射装置と、前記粒子線を前記粒子線源から前記照射装置へ輸送する輸送系と、前記粒子線源、前記輸送系、および前記照射装置の動作を制御する制御装置と、前記粒子線治療システムの状態を表示する操作画面を有する操作端末と、を備えており、
特定の装置に関連する画像または情報がマスクされた状態で前記操作端末の前記操作画面に表示される非解放手順と、前記特定の装置に関連する画像または情報が前記操作画面に表示される解放手順と、を有しており、
前記非解放手順と前記解放手順とがマスク信号のＯＮ／ＯＦＦによって切り替わる
ことを特徴とする粒子線治療システムの操作画面更新方法。 This is a method for updating the operation screen of a particle beam therapy system that irradiates the affected area of a patient with particle beams.
The particle beam therapy system includes a particle beam source that generates the particle beam, an irradiation device that irradiates the affected area with the particle beam generated by the particle beam source, and the particle beam from the particle beam source. An operation terminal having a transport system for transporting to the irradiation device, a control device for controlling the operation of the particle beam source, the transport system, and the irradiation device, and an operation screen for displaying the state of the particle beam therapy system. Is equipped with
The non-release procedure displayed on the operation screen of the operation terminal with the image or information related to the specific device masked, and the release procedure in which the image or information related to the specific device is displayed on the operation screen. Have the procedure and
A method for updating an operation screen of a particle beam therapy system, wherein the non-release procedure and the release procedure are switched by turning on / off a mask signal.
前記マスク信号がＯＦＦとなった際には、前記マスクにより非表示であった複数の前記特定の装置に関連する画像または情報が一度に解放される
ことを特徴とする粒子線治療システムの操作画面更新方法。 In the method for updating the operation screen of the particle beam therapy system according to claim 10.
When the mask signal is turned off, the operation screen of the particle beam therapy system, which is characterized in that images or information related to the plurality of specific devices hidden by the mask are released at once. How to update.
前記マスク信号のＯＮ／ＯＦＦの変更に、前記制御装置から前記操作端末に変更信号を送信して前記操作端末からの打返しを受けてから前記解放手順と前記非解放手順とが切り替わる
ことを特徴とする粒子線治療システムの操作画面更新方法。 In the method for updating the operation screen of the particle beam therapy system according to claim 10.
In order to change the ON / OFF of the mask signal, the release procedure and the non-release procedure are switched after the change signal is transmitted from the control device to the operation terminal and a response is received from the operation terminal. How to update the operation screen of the particle beam therapy system.
前記解放手順では、制限していた前記特定の装置に関連する機能が解放され、
その後に前記解放した機能と既設の装置の機能とを組み合わせたシステムの試験に移行する
ことを特徴とする粒子線治療システムの操作画面更新方法。 In the method for updating the operation screen of the particle beam therapy system according to claim 10.
In the release procedure, the restricted functions related to the specific device are released.
After that, a method of updating the operation screen of the particle beam therapy system, which is characterized by shifting to the test of a system that combines the released function and the function of the existing device.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019099451A JP7146695B2 (en) | 2019-05-28 | 2019-05-28 | Particle beam therapy system and method for updating the operation screen of the particle beam therapy system |
| PCT/JP2020/019482 WO2020241311A1 (en) | 2019-05-28 | 2020-05-15 | Particle radiotherapy system and operation screen update method of particle radiotherapy system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019099451A JP7146695B2 (en) | 2019-05-28 | 2019-05-28 | Particle beam therapy system and method for updating the operation screen of the particle beam therapy system |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020192085A true JP2020192085A (en) | 2020-12-03 |
| JP2020192085A5 JP2020192085A5 (en) | 2021-09-09 |
| JP7146695B2 JP7146695B2 (en) | 2022-10-04 |
Family
ID=73548362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019099451A Active JP7146695B2 (en) | 2019-05-28 | 2019-05-28 | Particle beam therapy system and method for updating the operation screen of the particle beam therapy system |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7146695B2 (en) |
| WO (1) | WO2020241311A1 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009160309A (en) * | 2008-01-09 | 2009-07-23 | Toshiba Corp | Radiotherapy system, radiotherapy support apparatus, and radiotherapy support program |
| WO2014119050A1 (en) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 株式会社日立製作所 | Particle-beam therapy system |
| WO2019008793A1 (en) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | 三菱電機株式会社 | Particle beam irradiation apparatus |
-
2019
- 2019-05-28 JP JP2019099451A patent/JP7146695B2/en active Active
-
2020
- 2020-05-15 WO PCT/JP2020/019482 patent/WO2020241311A1/en active Application Filing
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009160309A (en) * | 2008-01-09 | 2009-07-23 | Toshiba Corp | Radiotherapy system, radiotherapy support apparatus, and radiotherapy support program |
| WO2014119050A1 (en) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 株式会社日立製作所 | Particle-beam therapy system |
| WO2019008793A1 (en) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | 三菱電機株式会社 | Particle beam irradiation apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7146695B2 (en) | 2022-10-04 |
| WO2020241311A1 (en) | 2020-12-03 |
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