JP2020191517A - Vibrating device, electronic apparatus, mobile object, and frequency adjustment method of vibrating element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、振動デバイス、電子機器、移動体および振動素子の周波数調整方法に関するものである。 The present invention relates to a method for adjusting the frequency of a vibrating device, an electronic device, a moving body and a vibrating element.
例えば、特許文献1には、音叉振動子の周波数を調整する方法として、ベースに設けられた錘用金属膜にレーザーを照射し、当該レーザー照射によって錘用金属膜から飛散した金属を振動腕に付着させることにより、音叉振動子の周波数を調整する方法が記載されている。また、特許文献2には、ベースと、ベースに固定されたICと、ICの上方に位置し、ベースに固定されたポリイミドフィルムからなる基板と、基板の上方に位置し、ボンディングワイヤーを介して基板に固定された振動素子と、を有する振動子が記載されている。
For example, in
しかしながら、特許文献1に記載された構成では、錘用金属膜が均一な厚さであるため、錘用金属膜のどの部分にレーザーを照射しても、単位時間当たりの金属の飛散量は同じで、その最小飛散量は、用いる装置で設定可能な最短照射時間でレーザーを照射したときとなる。つまり、金属の飛散量を、前記最小飛散量未満とすることができず、周波数の微調が困難で、高精度な周波数調整を行うことができないという課題がある。
However, in the configuration described in
また、特許文献2に記載された構成に特許文献1に記載された錘用金属膜を適用した場合、振動素子とベースとの間に基板およびICが位置してしまう。そのため、錘用金属膜にレーザーを照射することができず、また、レーザーを照射できたとしても、基板およびICに邪魔されて飛散した金属を振動素子に付着させることができない。したがって、特許文献1のような周波数調整を行うことができない。
Further, when the metal film for weight described in
本適用例に係る振動デバイスは、ベースと、
振動腕および前記振動腕に設けられている金属膜を有し、前記ベースに支持されている振動素子と、
前記ベースと前記振動素子との間に位置し、前記振動素子の周波数を調整する調整部材と、を有し、
前記調整部材は、平面視で前記振動腕と重なる領域を有し、前記領域内に厚さの異なる部分を有することを特徴とする。
The vibration device according to this application example is the base and
A vibrating arm and a vibrating element having a metal film provided on the vibrating arm and supported by the base,
It has an adjusting member located between the base and the vibrating element and adjusting the frequency of the vibrating element.
The adjusting member has a region that overlaps with the vibrating arm in a plan view, and has a portion having a different thickness in the region.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記調整部材の一部が飛散して前記振動腕に付着していることが好ましい。 In the vibrating device according to the present application example, it is preferable that a part of the adjusting member is scattered and adhered to the vibrating arm.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記金属膜の少なくとも一部は、平面視で前記調整部材と重なっていることが好ましい。 In the vibration device according to the present application example, it is preferable that at least a part of the metal film overlaps with the adjusting member in a plan view.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記調整部材は、前記領域内において前記金属膜と重なっていない部分を有することが好ましい。 In the vibration device according to the present application example, it is preferable that the adjusting member has a portion in the region that does not overlap with the metal film.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記領域は、前記振動腕の延在方向に厚さが異なることが好ましい。 In the vibrating device according to the present application example, it is preferable that the region has a different thickness in the extending direction of the vibrating arm.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記領域は、前記振動腕の先端側の方が基端側よりも厚さが厚いことが好ましい。 In the vibrating device according to the present application example, it is preferable that the region on the tip end side of the vibrating arm is thicker than the base end side.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記ベースに支持されている基板を有し、
前記基板に前記振動素子が支持されていることが好ましい。
The vibrating device according to this application example has a substrate supported by the base and has a substrate.
It is preferable that the vibrating element is supported on the substrate.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記調整部材は、前記基板に設けられていることが好ましい。 In the vibration device according to this application example, it is preferable that the adjusting member is provided on the substrate.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記ベースに支持され前記振動素子と電気的に接続されている回路素子を有し、
前記振動素子と前記回路素子との間に前記基板が位置していることが好ましい。
The vibrating device according to this application example has a circuit element supported by the base and electrically connected to the vibrating element.
It is preferable that the substrate is located between the vibrating element and the circuit element.
本適用例に係る振動デバイスでは、前記振動素子は、物理量を検出するセンサー素子であることが好ましい。 In the vibration device according to this application example, the vibration element is preferably a sensor element that detects a physical quantity.
本適用例に係る電子機器は、上述の振動デバイスと、
前記振動デバイスの出力信号に基づいて信号処理を行う信号処理回路と、を備えていることを特徴とする。
The electronic device according to this application example includes the above-mentioned vibration device and
It is characterized by including a signal processing circuit that performs signal processing based on the output signal of the vibration device.
本適用例に係る移動体は、上述の振動デバイスと、
前記振動デバイスの出力信号に基づいて信号処理を行う信号処理回路と、を備えていることを特徴とする。
The moving body according to this application example includes the above-mentioned vibration device and
It is characterized by including a signal processing circuit that performs signal processing based on the output signal of the vibration device.
本適用例に係る振動素子の周波数調整方法は、ベースと、振動腕および前記振動腕に設けられている金属膜を備え、前記ベースに支持されている振動素子と、前記ベースと前記振動素子との間に位置し、前記振動素子の周波数を調整する調整部材と、を有し、前記調整部材は、平面視で前記振動腕と重なる領域を有し、前記領域内に厚さの異なる部分を有する構造体を準備する工程と、
前記調整部材にレーザー光を照射し、前記調整部材の少なくとも一部を飛散させて前記振動腕に付着させることにより、前記振動素子の周波数を調整する工程と、を有することを特徴とする。
The frequency adjusting method of the vibrating element according to this application example includes a base, a vibrating arm, and a vibrating element provided on the vibrating arm and supported by the base, and the base and the vibrating element. It has an adjusting member that is located between the two and adjusts the frequency of the vibrating element, and the adjusting member has a region that overlaps with the vibrating arm in a plan view, and portions having different thicknesses are formed in the region. The process of preparing the structure to have and
It is characterized by having a step of adjusting the frequency of the vibrating element by irradiating the adjusting member with a laser beam, scattering at least a part of the adjusting member and attaching it to the vibrating arm.
以下、本発明の振動デバイス、電子機器、移動体および振動素子の周波数調整方法を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, a method for adjusting the frequency of the vibrating device, electronic device, mobile body, and vibrating element of the present invention will be described in detail based on the embodiments shown in the accompanying drawings.
<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る振動デバイスの断面図である。図2は、図1の振動デバイスが有する振動素子を示す平面図である。図3は、図2中のA−A線断面図である。図4は、図2中のB−B線断面図である。図5は、振動素子の駆動振動モードを示す模式図である。図6は、振動素子の検出振動モードを示す模式図である。図7は、図1の振動デバイスを示す平面図である。図8は、図1の振動デバイスが有する支持基板および振動素子を示す平面図である。図9は、図8中のC−C線断面図である。図10は、振動デバイスの製造工程を示す図である。図11は、振動デバイスの製造方法を説明するための平面図である。図12は、振動デバイスの製造方法を説明するための断面図である。図13は、振動デバイスの製造方法を説明するための断面図である。図14は、振動デバイスの製造方法を説明するための断面図である。図15は、調整部材の機能を説明するための断面図である。図16は、調整部材へのレーザー光の照射方法を示す断面図である。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a cross-sectional view of the vibration device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing a vibrating element included in the vibrating device of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. FIG. 5 is a schematic diagram showing a drive vibration mode of the vibrating element. FIG. 6 is a schematic view showing the detected vibration mode of the vibrating element. FIG. 7 is a plan view showing the vibration device of FIG. FIG. 8 is a plan view showing a support substrate and a vibration element included in the vibration device of FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. FIG. 10 is a diagram showing a manufacturing process of the vibration device. FIG. 11 is a plan view for explaining a method of manufacturing a vibration device. FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a vibration device. FIG. 13 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a vibration device. FIG. 14 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a vibration device. FIG. 15 is a cross-sectional view for explaining the function of the adjusting member. FIG. 16 is a cross-sectional view showing a method of irradiating the adjusting member with laser light.
なお、説明の便宜上、図10を除く各図には、互いに直交する3軸であるX軸、Y軸およびZ軸を示す。また、Z軸方向のプラス側を「上」とも言い、マイナス側を「下」とも言う。また、Z軸方向からの平面視を、単に「平面視」とも言う。なお、X軸、Y軸およびZ軸は、後述するように、水晶の結晶軸に相当する。 For convenience of explanation, each drawing except FIG. 10 shows an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis which are three axes orthogonal to each other. Further, the positive side in the Z-axis direction is also referred to as "upper", and the negative side is also referred to as "lower". Further, the plan view from the Z-axis direction is also simply referred to as "plan view". The X-axis, Y-axis, and Z-axis correspond to the crystal axis of quartz, as will be described later.
図1に示す振動デバイス1は、物理量センサーであり、特に、角速度を検出することのできるジャイロセンサーである。振動デバイス1は、パッケージ3と、パッケージ3内に収納されている振動素子4、支持基板5および回路素子6と、を有する。
The
パッケージ3は、上面に開口する凹部311を備えるベース31と、凹部311の開口を塞ぐようにベース31の上面に接合部材33を介して接合されている板状のリッド32と、を有する。パッケージ3の内側には凹部311によって内部空間Sが形成され、内部空間Sに振動素子4、支持基板5および回路素子6が収納されている。例えば、ベース31は、アルミナ等のセラミックスで構成することができ、リッド32は、コバール等の金属材料で構成することができる。ただし、ベース31およびリッド32の構成材料としては、それぞれ、特に限定されない。例えば、リッド32は、光透過性を有するガラス材料で構成されていてもよい。
The
また、内部空間Sは、気密であり、減圧状態、好ましくは、より真空に近い状態となっている。これにより、振動素子4の振動特性が向上する。ただし、内部空間Sの雰囲気は、特に限定されず、例えば、窒素またはAr等の不活性ガスを封入した雰囲気であってもよく、減圧状態でなく大気圧状態または加圧状態となっていてもよい。
Further, the internal space S is airtight and is in a reduced pressure state, preferably in a state closer to vacuum. As a result, the vibration characteristics of the vibrating
また、凹部311は、ベース31の上面に開口している凹部311aと、凹部311aの底面に開口し、凹部311aよりも開口幅が小さい凹部311bと、凹部311bの底面に開口し、凹部311bよりも開口幅が小さい凹部311cと、を有する。そして、凹部311aの底面に支持基板5が導電性の第1接合部材B1を介して接合され、支持基板5に振動素子4が導電性の第2接合部材B2を介して接合され、凹部311cの底面に回路素子6が接合されている。
Further, the
振動素子4とベース31との間に支持基板5を介在させることにより、例えば、衝撃やパッケージ3の熱撓み等により生じる応力が振動素子4に伝わり難くなり、振動素子4の振動特性の低下や変動を抑制することができる。
By interposing the
また、凹部311aの底面には複数の内部端子341が配置され、凹部311bの底面には複数の内部端子342が配置され、ベース31の下面には外部端子343が配置されている。複数の内部端子342の一部は、ベース31内に形成されている図示しない内部配線を介して内部端子341と電気的に接続され、残りの一部は、前記内部配線を介して外部端子343と電気的に接続されている。また、各内部端子342は、ボンディングワイヤーBWを介して回路素子6と電気的に接続されている。
Further, a plurality of
振動素子4は、物理量を検出するセンサー素子であり、特に、本実施形態では、Z軸まわりの角速度ωzを検出することのできる角速度センサー素子である。振動素子4は、図2ないし図4に示すように、振動体41と、振動体41に配置されている電極48と、周波数調整用の金属膜としての錘46、47と、を有する。
The vibrating
振動体41は、Zカット水晶板から形成され、水晶の結晶軸であるX軸(電気軸)およびY軸(機械軸)で規定されるXY平面に広がりを有し、Z軸(光軸)方向に厚みを有する。また、振動体41は、基部42と、基部42からY軸方向両側に延出する検出腕431、432と、基部42からX軸方向両側に延出する連結腕441、442と、連結腕441の先端部からY軸方向両側に延出する駆動腕451、452と、連結腕442の先端部からY軸方向両側に延出する駆動腕453、454と、を有する。なお、振動体41は、水晶で構成されているため、光透過性を有する。
The vibrating
また、駆動腕451、452、453、454は、その先端部に基端側よりも幅(X軸方向の長さ)が広い幅広部451a、452a、453a、454aを有する。また、検出腕431、432は、その先端部に基端部よりも幅が広い幅広部431a、432aを有する。これにより、同じ周波数で比べた場合に、駆動腕451、452、453、454や検出腕431、432を短くすることができ、振動素子4の小型化を図ることができる。また、駆動腕451、452、453、454の長さが短くなることで、粘性抵抗が減り、発振特性が向上する。また、駆動腕451、452、453、454は、その上面に開口する溝451b、452b、453b、454bと、その下面に開口する溝451c、452c、453c、454cと、を有する。ただし、駆動腕451、452、453、454および検出腕431、432の構成としては、これに限定されず、例えば、幅広部を有していなくてもよいし、溝を有していなくてもよい。
Further, the
また、電極48は、駆動信号電極481と、駆動接地電極482と、第1検出信号電極483と、第1検出接地電極484と、第2検出信号電極485と、第2検出接地電極486と、を有する。また、駆動信号電極481は、駆動腕451、452の上面および下面と、駆動腕453、454の両側面と、に配置されている。一方、駆動接地電極482は、駆動腕451、452の両側面と、駆動腕453、454の上面および下面と、に配置されている。
Further, the
また、第1検出信号電極483は、検出腕431の上面および下面に配置され、第1検出接地電極484は、検出腕431の両側面に配置されている。一方、第2検出信号電極485は、検出腕432の上面および下面に配置され、第2検出接地電極486は、検出腕432の両側面に配置されている。また、図示しないが、これら各電極481、482、483、484、485、486は、それぞれ、基部42の下面に引き回され、基部42において第2接合部材B2を介して支持基板5と電気的に接続されている。
Further, the first
振動素子4は、次のようにして検出軸であるZ軸まわりの角速度ωzを検出することができる。まず、駆動信号電極481および駆動接地電極482間に駆動信号を印加すると、駆動腕451、452、453、454が、図5に示すような駆動振動モードで振動する。駆動振動モードで駆動している状態で、振動素子4にZ軸まわりの角速度ωzが加わると、図6に示すような検出振動モードが新たに励振される。検出振動モードでは、駆動腕451、452、453、454にコリオリの力が作用して矢印Aに示す方向の振動が励振され、この振動に呼応するように、検出腕431、432が矢印Bに示すX軸方向に屈曲振動する。このような検出振動モードによって検出腕431、432に発生した電荷を第1、第2検出信号電極483、485および第1、第2検出接地電極484、486の間から検出信号として取り出し、この信号に基づいて角速度ωzを検出することができる。
The vibrating
なお、駆動振動モードの周波数fdと、検出振動モードの周波数fsとは、互いに異なっており、これらの差の絶対値(|fd−fs|)を離調周波数Δfと言う。なお、fd>fsであっても、fd<fsであってもよい。 The frequency fd in the drive vibration mode and the frequency fs in the detection vibration mode are different from each other, and the absolute value (| fd−fs |) of these differences is called the detuning frequency Δf. In addition, fd> fs or fd <fs may be used.
また、図2に示すように、錘46は、幅広部451a、452a、453a、454aの上面に設けられており、錘47は、幅広部431a、432aの上面に設けられている。錘46は、駆動振動モードの周波数fdや振動バランスを調整するための錘であり、錘47は、検出振動モードの周波数fsや振動バランスを調整するための錘である。後述するように、レーザー光Lを錘46に照射して錘46の一部を除去することにより駆動振動モードの周波数fdや振動バランスを調整することができ、レーザー光Lを錘47に照射して錘47の一部を除去することにより検出振動モードの周波数fsや振動バランスを調整することができる。
Further, as shown in FIG. 2, the
電極48および錘46、47の構成としては、特に限定されないが、例えば、Cr(クロム)、Ni(ニッケル)等の下地層に、Au(金)やAl(アルミ)、およびAu(金)やAl(アルミ)を主成分とする合金を積層した金属被膜で構成することができる。
The configurations of the
支持基板5は、TAB(Tape Automated Bonding)実装用の基板である。支持基板5は、図7に示すように、枠状の基板51と、基板51に設けられている複数のリード52と、を有する。
The
基板51は、その厚さ方向すなわちZ軸方向からの平面視で枠状をなし、ポリイミド等の絶縁性の樹脂で構成されたフィルムからなる。ただし、基板51の構成材料としては、特に限定されず、例えば、ポリイミド以外の絶縁性の樹脂で構成することもできる。また、基板51は、第1接合部材B1によって凹部311aの底面に固定され、さらに、この第1接合部材B1を介して各リード52と内部端子341とが電気的に接続されている。また、各リード52の先端部には第2接合部材B2によって振動素子4の基部42が固定され、さらに、この第2接合部材B2を介して各リード52と電極481〜486とが電気的に接続されている。これにより、振動素子4は、支持基板5を介してベース31に支持されると共に回路素子6と電気的に接続される。
The
図8および図9に示すように、基板51の上面すなわち振動素子4側の面には、振動素子4の周波数fd、fsを調整するための周波数調整錘として機能する調整部材2が設けられている。また、調整部材2は、Z軸方向からの平面視で、検出腕431、432の幅広部431a、432aおよび駆動腕451、452、453、454の幅広部451a、452a、453a、454aすなわち錘46、47と重なって設けられている。なお、図9では、駆動腕451と重なる調整部材2を代表して図示しており、その他の調整部材2については図示を省略している。
As shown in FIGS. 8 and 9, an adjusting
前述したように、調整部材2は、それぞれ、振動素子4の周波数を調整するための周波数調整錘用材料またはその供給部として機能する。具体的には、後の振動デバイス1の製造方法および図14で詳細に説明するが、調整部材2にレーザー光Lを照射して調整部材2の少なくとも一部を飛散させ、飛散させた飛沫20を周波数調整錘用材料として、その直上に位置する駆動腕451、452、453、454や検出腕431、432に付着させることにより質量を増加させ、駆動振動モードの周波数fdおよび振動バランスや、検出振動モードの周波数fsおよび振動バランスを調整することができる。調整部材2を基板51に設けることにより、調整部材2を駆動腕451、452、453、454や検出腕431、432の近傍に設けやすくなり、飛沫20をより確実に駆動腕451、452、453、454や検出腕431、432に付着させることができる。
As described above, each of the adjusting
このような調整部材2は、特に限定されないが、例えば、金属材料、樹脂材料、これらの複合材料等で構成することができる。なお、調整部材2の詳細な構成については、振動デバイス1の製造方法を説明した後に説明する。
Such an adjusting
図1に示すように、回路素子6は、凹部311cの底面に固定されている。また、回路素子6は、支持基板5の下側に位置しており、支持基板5に対して振動素子4と反対側に位置している。言い換えると、振動素子4と回路素子6との間に支持基板5が位置している。このような配置とすることにより、前述したように、支持基板5がレーザー光Lを遮蔽し、回路素子6にレーザー光Lが照射されるのを効果的に抑制することができる。そのため、回路素子6を保護することができる。このような回路素子6には、例えば、外部のホストデバイスと通信を行うインターフェース部や、振動素子4を駆動し、振動素子4に加わった角速度ωzを検出する駆動/検出回路が含まれている。
As shown in FIG. 1, the
以上、振動デバイス1の構成について説明したが、振動デバイス1としては、特に限定されず、例えば、回路素子6を省略してもよい。また、本実施形態では、振動素子4として角速度センサー素子を用いているが、これに限定されず、例えば、振動素子4として加速度センサー素子を用い、振動デバイス1を加速度センサーとしてもよいし、振動素子4として発振素子を用い、振動デバイス1を発振器としてもよい。
Although the configuration of the
また、振動素子4の構成としても特に限定されず、例えば、駆動腕451、452、453、454の1本ないし3本を省略してもよいし、他の駆動腕を有していてもよい。同様に、検出腕431、432のうちの一方を省略してもよいし、他の検出腕を有していてもよい。また、振動素子4の検出軸としては、Z軸に限定されず、例えば、X軸であってもよいし、Y軸であってもよい。また、X軸、Y軸およびZ軸のうちの複数の検出軸を有していてもよい。
Further, the configuration of the vibrating
次に、振動デバイス1の製造方法を説明しつつ、振動素子4の周波数調整方法について説明する。図10に示すように、振動デバイス1の製造方法は、振動素子4を準備する準備工程と、水晶ウエハ40上で振動素子4の周波数を調整する第1周波数調整工程と、振動素子4をベース31にマウントするマウント工程と、振動素子4の周波数を調整する第2周波数調整工程と、ベース31にリッド32を接合する封止工程と、を含む。
Next, the frequency adjusting method of the vibrating
[準備工程]
まず、図11に示すように、水晶ウエハ40を準備し、フォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いて水晶ウエハ40をパターニングすることにより、水晶ウエハ40に複数の振動体41を形成する。次に、スパッタリング等によって、振動体41の表面に電極48を形成する。さらに、スパッタリング等によって、駆動腕451、452、453、454の幅広部451a、452a、453a、454aに錘46を形成すると共に、検出腕431、432の幅広部431a、432aに錘47を形成する。
[Preparation process]
First, as shown in FIG. 11, a
[第1周波数調整工程]
次に、水晶ウエハ40上で振動素子4の周波数fd、fsを粗調する。具体的には、必要に応じて、駆動腕451、452、453、454に設けられた錘46にレーザー光Lを照射し、錘46の一部を除去して質量を減少させることにより駆動振動モードの周波数fdを調整する。同様に、必要に応じて、検出腕431、432に設けられた錘47にレーザー光Lを照射し、錘47の一部を除去して質量を減少させることにより検出振動モードの周波数fsを調整する。なお、レーザー光Lとしては、特に限定されず、例えば、YAG、YVO4、エキシマレーザー等のパルス状レーザー光、炭酸ガスレーザー等の連続発振レーザー光を用いることができる。また、レーザー以外のエネルギー線、例えば、電子ビームを用いてもよい。
[First frequency adjustment process]
Next, the frequencies fd and fs of the vibrating
このように、水晶ウエハ40上で、すなわち、振動素子4をベース31に搭載する前に周波数fd、fsを調整することにより、調整時に蒸散した錘46、47がベース31に付着することによる悪影響を抑制することができる。
In this way, by adjusting the frequencies fd and fs on the
[マウント工程]
次に、図12に示すように、振動素子4を水晶ウエハ40から切り取って、切り取った振動素子4を支持基板5を介してベース31に接合する。このように、振動素子4をベース31に固定すると、応力等の環境変化に起因して、振動素子4の周波数fd、fsや振動バランスが変化するおそれがある。
[Mounting process]
Next, as shown in FIG. 12, the vibrating
[第2周波数調整工程]
前述したように、マウント工程において周波数fdや振動バランスが変化するおそれがあるため、本工程では、再び、レーザー光Lを用いて錘46の一部を除去して周波数fdを調整する。具体的には、真空状態とし、図13に示すように、必要に応じて、レーザー光Lを駆動腕451、452、453、454の錘46に照射し、錘46の少なくとも一部を除去することにより周波数fdを目標値に合わせ込むと共に、駆動腕451、452、453、454の振動バランスを調整する。
[Second frequency adjustment process]
As described above, since the frequency fd and the vibration balance may change in the mounting process, in this step, a part of the
ここで、錘46を除去し過ぎて周波数fdが目標値よりも高くなってしまったり、駆動腕451、452、453、454の振動バランスが崩れてしまったりする場合が考えられる。その際は、図14に示すように、上述のレーザー照射によって錘46が除去されて形成された窓部Mを介してレーザー光Lを駆動腕451、452、453、454の直下に位置する調整部材2に照射して調整部材2の少なくとも一部を飛散させ、飛散した飛沫20を駆動腕451、452、453、454の下面に付着させる。これにより、駆動腕451、452、453、454の質量を増加させることができ、周波数fdを低くすることができる。このように、振動デバイス1によれば、錘46を除去することにより周波数fdを高める調整と、飛沫20を付着させることにより周波数fdを低める調整と、を行うことができる。そのため、周波数fdや駆動腕451、452、453、454の振動バランスを精度よく調整することができる。
Here, it is conceivable that the
なお、このような調整は、必要がなければ行わなくてもよいし、必要な場合には、駆動腕451、452、453、454の少なくとも1つにおいて行えばよい。つまり、駆動腕451、452、453、454の全てにおいて上述の調整を行う必要はない。
It should be noted that such adjustment may not be performed if it is not necessary, and if necessary, it may be performed on at least one of the driving
また、飛沫20が駆動腕451、452、453、454の下面に付着することにより、下面側の質量を増加させることができ、錘46によって増加している上面側の質量とのバランスをとることもできる。つまり、駆動腕451、452、453、454の上面側の質量と下面側の質量との差を小さくすることができる。そのため、駆動振動モードにおいて、駆動腕451、452、453、454のZ軸方向への不要な振動を抑制することもできる。
Further, the
ここで、調整部材2を金属材料で構成した場合には、調整部材2の比重を十分に高くすることができる。そのため、周波数fdの調整を効率的に行うことができる。また、調整部材2を樹脂材料で構成した場合、調整部材2が絶縁性を有するため、駆動腕451、452、453、454に付着した飛沫20によって駆動信号電極481と駆動接地電極482とがショートするおそれがない。
Here, when the adjusting
また、各駆動腕451、452、453、454に設けられた錘46の少なくとも一部が、その直下に位置する調整部材2と重なっている。そのため、調整部材2と重なる部分に窓部Mを形成することができ、この窓部Mを介してレーザー光Lを調整部材2に照射することができる。そのため、調整部材2へのレーザー光Lの照射が容易となる。さらには、各駆動腕451、452、453、454の直下で飛沫20を飛散させることができるため、飛沫20を効率的に各駆動腕451、452、453、454の下面に付着させることができる。また、このような窓部Mがあれば、調整部材2にレーザー光Lを照射するために、新たに錘46や電極48の一部を除去する必要がなくなるため、その行為によって、各駆動腕451、452、453、454の質量がさらに低下するのを抑制することもできる。
Further, at least a part of the
同様に、マウント工程において周波数fsや振動バランスが変化する場合もあり、また、上述した周波数fdの調整によってずれた離調周波数Δfを再度調整し直す必要が生じる場合もある。そこで、本工程では、再び、レーザー光Lを用いて錘47の一部を除去することにより、周波数fsを調整する。周波数fsの調整方法は、上述した周波数fdの調整方法と同様である。すなわち、錘47を除去することにより周波数fsを高める調整と、飛沫20を検出腕431、432に付着させることにより周波数fsを低める調整と、を必要に応じて行う。
Similarly, the frequency fs and the vibration balance may change in the mounting process, and the detuning frequency Δf deviated by the above-mentioned adjustment of the frequency fd may need to be readjusted. Therefore, in this step, the frequency fs is adjusted by removing a part of the
なお、このような調整は、必要がなければ行わなくてもよいし、必要な場合には、検出腕431、432の少なくとも1つにおいて行えばよい。つまり、検出腕431、432の全てにおいて上述の調整を行う必要はない。
It should be noted that such adjustment may not be performed if it is not necessary, and if necessary, it may be performed on at least one of the
[封止工程]
次に、真空状態で、例えば、シームリングからなる接合部材33を介してリッド32をベース31の上面にシーム溶接する。これにより、内部空間Sが気密封止され、振動デバイス1が得られる。
[Sealing process]
Next, in a vacuum state, the
以上、振動デバイス1の製造方法について説明した。以下、調整部材2について詳細に説明する。なお、各調整部材2の構成は、互いに同様であるため、以下では、駆動腕451と重なる調整部材2について代表して説明し、検出腕431、432および駆動腕452、453、454と重なる調整部材2については、その説明を省略する。
The manufacturing method of the
図15に示すように、調整部材2は、平面視で、幅広部451aと重なる領域Qを有し、この領域Q内に厚さの異なる部分を有する。つまり、領域Q内に、比較的厚い第1部分Q1と、第1部分Q1よりも厚さの薄い第2部分Q2と、を有する。これにより、例えば、第1部分Q1内の位置P1にレーザー光Lを照射したときの飛沫20の単位時間あたりの飛散量よりも、位置P1よりも厚さが薄い第2部分Q2内の位置P2にレーザー光Lを照射したときの飛沫20の単位時間当たりの飛散量が少なくなる。
As shown in FIG. 15, the adjusting
つまり、レーザー光Lを照射する場所によって、飛沫20の飛散量を変化させることができる。そのため、例えば、位置P1にレーザー光Lを照射すれば、飛沫20の飛散量が多くなり、周波数fdの粗調整を、より短いレーザー光Lの照射時間で効率的に行うことができ、位置P2にレーザー光Lを照射すれば、飛沫20の飛散量が少なくなり、周波数fdの微調整をより精度よく行うことができる。そのため、周波数fdをより効率的にかつ精度よく調整することができる。
That is, the amount of the
ここで、位置P2での調整部材2の厚さを十分に薄くしておくことが好ましい。具体的には、第2周波数調整工程で用いるレーザー照射装置で設定可能な最短照射時間でレーザー光Lを調整部材2に照射したときに除去される深さをDとしたとき、位置P2での調整部材2の厚さは、深さDよりも薄いことが好ましい。つまり、調整部材2は、深さDよりも薄い部分を有することが好ましい。これにより、飛沫20の飛散量をより少なくすることができ、具体的には、前述の「発明が解決しようとする課題」で説明した最小飛散量未満とすることができ、周波数fdの微調整をより精度よく行うことができる。ただし、位置P2での調整部材2の厚さとしては、特に限定されない。
Here, it is preferable that the thickness of the adjusting
また、調整部材2は、駆動腕451の延在方向に沿って厚さが変化している。すなわち、領域Qの上面を基板51の上面と非平行な斜面とすることにより、第1部分Q1および第2部分Q2を得ている。そのため、上述のような調整方法を行う場合、レーザー光Lの照射位置を駆動腕451の延在方向にずらせばよく、それに応じて、飛沫20が駆動腕451の延在方向に沿って付着する。したがって、駆動腕451の厚み方向および延在方向に直交する方向である幅方向の質量バランスにずれが生じ難く、駆動振動モードでの不要振動の発生を効果的に抑制することができる。ただし、これに限定されず、例えば、調整部材2は、駆動腕451の幅方向に沿って厚さが変化していてもよい。
Further, the thickness of the adjusting
特に、本実施形態では、調整部材2は、駆動腕451の基端側から先端側に向けて厚さが漸増している。つまり、調整部材2は、駆動腕451の基端側から先端側に向けて厚さが連続的に増加し、駆動腕451の先端側の方が基端側よりも厚さが厚い。そのため、レーザー光Lを照射したときの飛沫20の単位時間当たりの飛散量が駆動腕451の先端側程多くなる。駆動腕451の先端側程、質量変化に対する周波数fdの変化量が大きいため、駆動腕451の先端部により多くの飛沫20を付着させることにより、効率的に、周波数fdを低くすることができる。
In particular, in the present embodiment, the thickness of the adjusting
反対に、レーザー光Lを照射したときの飛沫20の単位時間当たりの飛散量が駆動腕451の基端側程少なくなる。駆動腕451の基端側程、質量変化に対する周波数fdの変化量が小さいため、基端側により少ない飛沫20を付着させることにより、周波数fdの微調整をより精度よく行うことができる。つまり、このような構成によれば、周波数fdの粗調整をより短時間で効率的に行うことができると共に、周波数fdの微調整をより精度よく行うことができる。
On the contrary, the amount of
なお、調整部材2の構成は、特に限定されず、例えば、駆動腕451の基端側から先端側に向けて厚さが漸減していてもよい。また、調整部材2が階段形状であり、その厚さが段階的に変化する構成であってもよい。すなわち、厚さの均一な第1部分Q1と厚さの均一な第2部分Q2とを有し、第1部分Q1の厚さが第2部分Q2の厚さよりも厚い構成であってもよい。
The configuration of the adjusting
ここで、以上のような調整部材2へのレーザー光Lの照射方法について詳細に説明する。図16に示すように、レーザー光LのビームウェストL0の位置が位置P2における調整部材2の表面からずれるように、調整部材2にレーザー光Lを照射することが好ましい。特に、本実施形態では、調整部材2の厚さの二等分線を仮想線Rとしたとき、この仮想線R上にレーザー光LのビームウェストL0が位置するように、調整部材2にレーザー光Lを照射している。これにより、調整部材2の位置P2ではレーザー光Lのビームスポットが広がって単位面積当たりのエネルギー量が減り、その分、飛沫20の飛散量が減少する。これにより、飛沫20の飛散量をより少なくすることができ、周波数fdの微調整をより精度よく行うことができる。ただし、レーザー光Lの照射方法としては、特に限定されない。
Here, the method of irradiating the adjusting
以上のように、振動デバイス1は、ベース31と、振動腕としての駆動腕451、452、453、454および駆動腕451、452、453、454に設けられている金属膜としての錘46を有し、ベース31に支持されている振動素子4と、ベース31と振動素子4との間に位置し、振動素子4の周波数fdを調整する調整部材2と、を有する。そして、調整部材2は、平面視で駆動腕451、452、453、454と重なる領域Qを有し、領域Q内に厚さの異なる部分、すなわち、第1部分Q1と第2部分Q2とを有する。
As described above, the vibrating
このような構成によれば、レーザー光Lを錘46に照射して錘46の少なくとも一部を除去することにより、駆動腕451、452、453、454の質量を減少させることができ、周波数fdを高くすることができる。反対に、レーザー光Lを調整部材2に照射して調整部材2の少なくとも一部を飛散させ、飛散した飛沫20を駆動腕451、452、453、454の下面に付着させることにより、駆動腕451、452、453、454の質量を増加させることができ、周波数fdを低くすることができる。このように、周波数fdを高くも低くもできることにより、周波数fdを精度よく調整することができる。さらには、調整部材2が厚さの異なる部分を有するため、レーザー光Lを照射する場所によって、飛沫20の飛散量を変化させることができる。そのため、周波数fdをより効率的にかつ精度よく調整することができる。
According to such a configuration, the mass of the driving
また、前述したように、振動デバイス1では、調整部材2の一部が飛散して駆動腕451、452、453、454に付着している。これにより、駆動腕451、452、453、454の質量を増加させることができ、周波数fdを低くすることができる。
Further, as described above, in the
また、前述したように、錘46の少なくとも一部は、平面視で調整部材2と重なっている。これにより、調整部材2と重なる部分の錘46が除去されることにより、レーザー光Lを透過させるための窓部Mを形成することができ、この窓部Mを介してレーザー光Lを調整部材2に照射することができる。そのため、調整部材2へのレーザー光Lの照射が容易となる。また、このような窓部Mがあれば、調整部材2にレーザー光Lを照射するために、新たに錘46や電極48の一部を除去する必要がなくなるため、その行為によって各駆動腕451、452、453、454の質量がさらに低下するのを抑制することもできる。
Further, as described above, at least a part of the
また、前述したように、領域Qは、各駆動腕451、452、453、454の延在方向に沿って厚さが変化する。そのため、飛沫20を付着させても、各駆動腕451、452、453、454の幅方向の質量バランスにずれが生じ難く、駆動振動モードでの不要振動の発生を効果的に抑制することができる。
Further, as described above, the thickness of the region Q changes along the extending direction of each of the driving
また、前述したように、領域Qは、各駆動腕451、452、453、454の先端側の方が基端側より厚さが厚い。これにより、レーザー光Lを照射したときの飛沫20の単位時間当たりの飛散量が駆動腕451の先端側程多くなる。そのため、調整部材2の先端側にレーザー光Lを照射すれば周波数fdの粗調整をより短い照射時間で効率的に行うことができ、基端側にレーザー光Lを照射すれば周波数fdの微調整をより精度よく行うことができる。
Further, as described above, the region Q is thicker on the distal end side of each of the driving
また、前述したように、振動デバイス1は、ベース31に支持されている基板51を有し、基板51に振動素子4が支持されている。これにより、例えば、衝撃やベース31の熱撓み等により生じる応力が振動素子4に伝わり難くなり、振動素子4の振動特性の低下や変動を抑制することができる。
Further, as described above, the
また、前述したように、調整部材2は、基板51に設けられている。これにより、調整部材2を各駆動腕451、452、453、454の近傍に設けやすくなり、飛沫20をより確実に各駆動腕451、452、453、454に付着させることができる。
Further, as described above, the adjusting
また、前述したように、振動デバイス1は、ベース31に支持され振動素子4と電気的に接続されている回路素子6を有する。そして、振動素子4と回路素子6との間に基板51が位置している。これにより、基板51がレーザー光Lを遮断して、レーザー光Lが回路素子6に照射されるのを抑制することができる。そのため、回路素子6を保護することができる。
Further, as described above, the
また、前述したように、振動素子4は、物理量を検出するセンサー素子である。本実施形態では、振動素子4は、角速度を検出する角速度センサー素子である。これにより、利便性の高い振動デバイス1となる。
Further, as described above, the
また、前述したように、振動素子4の周波数調整方法は、ベース31と、駆動腕451、452、453、454および駆動腕451、452、453、454に設けられている金属膜としての錘46を備え、ベース31に支持されている振動素子4と、ベース31と振動素子4との間に位置し、振動素子4の周波数fdを調整する調整部材2と、を有し、調整部材2は、平面視で駆動腕451、452、453、454と重なる領域Qを有し、領域Q内に厚さの異なる部分を有する構造体を準備する工程と、調整部材2にレーザー光Lを照射し、調整部材2の少なくとも一部を飛散させて駆動腕451、452、453、454に付着させることにより、振動素子4の周波数fdを調整する工程と、を有する。
Further, as described above, the frequency adjusting method of the vibrating
このような周波数調整方法によれば、レーザー光Lを錘46に照射して錘46の少なくとも一部を除去することにより、駆動腕451、452、453、454の質量を減少させることができ、周波数fdを高くすることができる。反対に、レーザー光Lを調整部材2に照射して調整部材2の少なくとも一部を飛散させ、飛散した飛沫20を駆動腕451、452、453、454の下面に付着させることにより、駆動腕451、452、453、454の質量を増加させることができ、周波数fdを低くすることができる。このように、周波数fdを高くも低くもできることにより、周波数fdを精度よく調整することができる。さらには、調整部材2が厚さの異なる部分を有するため、レーザー光Lを照射する場所によって、飛沫20の飛散量を変化させることができる。そのため、周波数fdをより効率的にかつ精度よく調整することができる。
According to such a frequency adjusting method, the mass of the driving
<第2実施形態>
図17は、本発明の第2実施形態に係る振動デバイスが有する振動素子および支持基板の断面図である。
<Second Embodiment>
FIG. 17 is a cross-sectional view of a vibration element and a support substrate included in the vibration device according to the second embodiment of the present invention.
本実施形態に係る振動デバイス1では、振動素子4の構成が異なること以外は、前述した第1実施形態の振動デバイス1と同様である。なお、以下の説明では、第2実施形態の振動デバイス1に関し、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項に関してはその説明を省略する。また、図17では、前述した第1実施形態と同様の構成について、同一符号を付している。なお、各調整部材2の構成は、互いに同様であるため、以下では、駆動腕451と重なる調整部材2について代表して説明し、検出腕431、432および駆動腕452、453、454と重なる調整部材2については、その説明を省略する。
The
図17に示すように、Z軸方向からの平面視で、幅広部451aに、錘46および電極48が形成されていない窓部Mが設けられている。つまり、前述した第1実施形態ではレーザー光Lの照射によって形成される窓部Mが、本実施形態では初めから形成されている。そして、調整部材2の少なくとも一部は、基板51の平面視で、窓部Mと重なっている。つまり、調整部材2の少なくとも一部は、基板51の平面視で、錘46および電極48と重なっていない。このような構成によれば、第1実施形態で説明した第2周波数調整工程の際に、錘46を除去して窓部Mを形成する必要がないため、錘46の除去を行わずに、窓部Mを介して調整部材2にレーザー光Lを照射することができる。つまり、周波数fdを低くする調整だけを行うことができる。そのため、周波数fdの調整がより容易となる。
As shown in FIG. 17, in a plan view from the Z-axis direction, the
以上のように、調整部材2の少なくとも一部は、基板51の平面視で、金属膜としての錘46と重なっていない。このような構成によれば、第2周波数調整工程の際に、錘46を除去して窓部Mを形成する必要がないため、錘46の除去を行わずに、窓部Mを介して調整部材2にレーザー光Lを照射することができる。つまり、周波数fdを低くする調整だけを行うことができる。そのため、周波数fdの調整がより容易となる。
As described above, at least a part of the adjusting
以上のような第2実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。 The second embodiment as described above can also exert the same effect as the first embodiment described above.
<第3実施形態>
図18は、本発明の第3実施形態に係る振動デバイスを示す断面図である。図19は、図18の振動デバイスを示す平面図である。
<Third Embodiment>
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a vibration device according to a third embodiment of the present invention. FIG. 19 is a plan view showing the vibration device of FIG.
本実施形態に係る振動デバイス1では、回路素子6および支持基板5が省略されていること以外は、前述した第1実施形態の振動デバイス1と同様である。なお、以下の説明では、第3実施形態の振動デバイス1に関し、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項に関してはその説明を省略する。また、図18および図19では、前述した第1実施形態と同様の構成について、同一符号を付している。
The
図18に示すように、本実施形態の振動デバイス1は、パッケージ3と、パッケージ3内に収納されている振動素子4と、を有する。また、ベース31に形成されている凹部311は、ベース31の上面に開口している凹部311aと、凹部311aの底面に開口し、凹部311aよりも開口幅が小さい凹部311bと、を有する。そして、凹部311aの底面に振動素子4が導電性の第1接合部材B1を介して接合され、凹部311bの底面に調整部材2が設けられている。また、凹部311aの底面には、第1接合部材B1を介して振動素子4と電気的に接続されている複数の内部端子341が配置され、ベース31の下面には図示しない内部配線を介して内部端子341と電気的に接続されている複数の外部端子343が配置されている。
As shown in FIG. 18, the
また、図19に示すように、振動素子4は、前述した第1実施形態の構成に加えて、第1接合部材B1によって凹部311aの底面に接合されている一対の支持部491、492と、基部42と支持部491とを連結する一対の連結梁493、494と、基部42と支持部492とを連結する一対の連結梁495、496と、を有する。そして、図示しないが、各電極481、482、483、484、485、486は、それぞれ、支持部491、492の下面に引き回され、支持部491、492において第1接合部材B1を介して内部端子341と電気的に接続されている。
Further, as shown in FIG. 19, in addition to the configuration of the first embodiment described above, the vibrating
以上のような第3実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。 The third embodiment as described above can also exert the same effect as the first embodiment described above.
<第4実施形態>
図20は、第4実施形態のパーソナルコンピューターを示す斜視図である。
<Fourth Embodiment>
FIG. 20 is a perspective view showing the personal computer of the fourth embodiment.
図20に示す電子機器としてのパーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部1108を備えた表示ユニット1106と、により構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。また、パーソナルコンピューター1100には、物理量センサーとしての振動デバイス1と、振動デバイス1からの出力信号に基づいて信号処理すなわち各部の制御を行う信号処理回路1110と、が内蔵されている。
The
このように、電子機器としてのパーソナルコンピューター1100は、振動デバイス1と、振動デバイス1の出力信号に基づいて信号処理を行う信号処理回路1110と、を備える。そのため、前述した振動デバイス1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。
As described above, the
<第5実施形態>
図21は、第5実施形態の携帯電話機を示す斜視図である。
<Fifth Embodiment>
FIG. 21 is a perspective view showing the mobile phone of the fifth embodiment.
図21に示す電子機器としての携帯電話機1200は、図示しないアンテナ、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部1208が配置されている。また、携帯電話機1200には、物理量センサーとしての振動デバイス1と、振動デバイス1からの出力信号に基づいて信号処理すなわち各部の制御を行う信号処理回路1210と、が内蔵されている。
The
このように、電子機器としての携帯電話機1200は、振動デバイス1と、振動デバイス1の出力信号に基づいて信号処理を行う信号処理回路1210と、を備える。そのため、前述した振動デバイス1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。
As described above, the
<第6実施形態>
図22は、第6実施形態のデジタルスチールカメラを示す斜視図である。
<Sixth Embodiment>
FIG. 22 is a perspective view showing the digital still camera of the sixth embodiment.
図22に示す電子機器としてのデジタルスチールカメラ1300は、ケース1302を備え、このケース1302の背面には表示部1310が設けられている。表示部1310は、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成となっており、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側には、光学レンズやCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。そして、撮影者が表示部1310に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押すと、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。また、デジタルスチールカメラ1300には、物理量センサーとしての振動デバイス1と、振動デバイス1からの出力信号に基づいて信号処理すなわち各部の制御を行う信号処理回路1312と、が内蔵されている。
The
このように、電子機器としてのデジタルスチールカメラ1300は、振動デバイス1と、振動デバイス1の出力信号に基づいて信号処理を行う信号処理回路1312と、を備える。そのため、前述した振動デバイス1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。
As described above, the
なお、振動デバイス1を備える電子機器は、前述したパーソナルコンピューター1100、携帯電話機1200およびデジタルスチールカメラ1300の他、例えば、スマートフォン、タブレット端末、スマートウォッチを含む時計、インクジェット式吐出装置、例えばインクジェットプリンター、HMD(ヘッドマウントディスプレイ)等のウェアラブル端末、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャ、通信機能付も含む電子手帳、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡のような医療機器、魚群探知機、各種測定機器、車両、航空機、船舶のような計器類、携帯端末用の基地局、フライトシミュレーター等であってもよい。
In addition to the
<第7実施形態>
図23は、第7実施形態の自動車を示す斜視図である。
<7th Embodiment>
FIG. 23 is a perspective view showing the automobile of the seventh embodiment.
図23に示す移動体としての自動車1500は、エンジンシステム、ブレーキシステムおよびキーレスエントリーシステム等のシステム1502を含んでいる。また、自動車1500には、物理量センサーとしての振動デバイス1と、振動デバイス1からの出力信号に基づいて信号処理すなわちシステム1502の制御を行う信号処理回路1510と、が内蔵されている。
The
このように、移動体としての自動車1500は、振動デバイス1と、振動デバイス1の出力信号(発振信号)に基づいて信号処理を行う信号処理回路1510と、を備える。そのため、前述した振動デバイス1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。
As described above, the
なお、振動デバイス1を備える移動体は、自動車1500の他、例えば、ロボット、ドローン、二輪車、航空機、船舶、電車、ロケット、宇宙船等であってもよい。
The moving body provided with the
以上、本発明の振動デバイス、電子機器、移動体および振動素子の周波数調整方法について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、各実施形態を適宜組み合わせてもよい。 The frequency adjustment method for the vibrating device, electronic device, mobile body, and vibrating element of the present invention has been described above based on the illustrated embodiment, but the present invention is not limited to this, and the configuration of each part is described. It can be replaced with an arbitrary configuration having a similar function. Further, any other constituents may be added to the present invention. Moreover, each embodiment may be combined appropriately.
1…振動デバイス、2…調整部材、20…飛沫、3…パッケージ、31…ベース、311、311a、311b、311c…凹部、32…リッド、33…接合部材、341、342…内部端子、343…外部端子、4…振動素子、40…水晶ウエハ、41…振動体、42…基部、431、432…検出腕、431a、432a…幅広部、441、442…連結腕、451、452、453、454…駆動腕、451a、452a、453a、454a…幅広部、451b、451c、452b、452c、453b、453c、454b、454c…溝、46、47…錘、48…電極、481…駆動信号電極、482…駆動接地電極、483…第1検出信号電極、484…第1検出接地電極、485…第2検出信号電極、486…第2検出接地電極、491、492…支持部、493、494、495、496…連結梁、5…支持基板、51…基板、52…リード、6…回路素子、1100…パーソナルコンピューター、1102…キーボード、1104…本体部、1106…表示ユニット、1108…表示部、1110…信号処理回路、1200…携帯電話機、1202…操作ボタン、1204…受話口、1206…送話口、1208…表示部、1210…信号処理回路、1300…デジタルスチールカメラ、1302…ケース、1304…受光ユニット、1306…シャッターボタン、1308…メモリー、1310…表示部、1312…信号処理回路、1500…自動車、1502…システム、1510…信号処理回路、A、B…矢印、B1…第1接合部材、B2…第2接合部材、BW…ボンディングワイヤー、L…レーザー光、L0…ビームウェスト、M…窓部、P1、P2…位置、Q…領域、Q1…第1部分、Q2…第2部分、R…仮想線、S…内部空間 1 ... Vibration device, 2 ... Adjusting member, 20 ... Splash, 3 ... Package, 31 ... Base, 311, 311a, 311b, 311c ... Recess, 32 ... Lid, 33 ... Joining member, 341, 342 ... Internal terminal, 343 ... External terminal, 4 ... Vibrating element, 40 ... Crystal wafer, 41 ... Vibrating body, 42 ... Base, 431, 432 ... Detection arm, 431a, 432a ... Wide part, 441, 442 ... Connecting arm, 451, 452, 453, 454 ... Drive arm, 451a, 452a, 453a, 454a ... Wide portion, 451b, 451c, 452b, 452c, 453b, 453c, 454b, 454c ... Groove, 46, 47 ... Weight, 48 ... Electrode, 481 ... Drive signal electrode, 482 ... drive ground electrode, 483 ... first detection signal electrode, 484 ... first detection ground electrode, 485 ... second detection signal electrode, 486 ... second detection ground electrode, 491, 492 ... support, 493, 494, 495, 496 ... Connecting beam, 5 ... Support board, 51 ... Board, 52 ... Lead, 6 ... Circuit element, 1100 ... Personal computer, 1102 ... Keyboard, 1104 ... Main body, 1106 ... Display unit, 1108 ... Display, 1110 ... Signal Processing circuit, 1200 ... Mobile phone, 1202 ... Operation button, 1204 ... Earpiece, 1206 ... Mouthpiece, 1208 ... Display, 1210 ... Signal processing circuit, 1300 ... Digital steel camera, 1302 ... Case, 1304 ... Light receiving unit, 1306 ... Shutter button, 1308 ... Memory, 1310 ... Display, 1312 ... Signal processing circuit, 1500 ... Automobile, 1502 ... System, 1510 ... Signal processing circuit, A, B ... Arrow, B1 ... First joining member, B2 ... First 2 Bonding member, BW ... Bonding wire, L ... Laser light, L0 ... Beam waist, M ... Window, P1, P2 ... Position, Q ... Region, Q1 ... 1st part, Q2 ... 2nd part, R ... Virtual line , S ... Internal space
Claims (13)
振動腕および前記振動腕に設けられている金属膜を有し、前記ベースに支持されている振動素子と、
前記ベースと前記振動素子との間に位置し、前記振動素子の周波数を調整する調整部材と、を有し、
前記調整部材は、平面視で前記振動腕と重なる領域を有し、前記領域内に厚さの異なる部分を有することを特徴とする振動デバイス。 With the base
A vibrating arm and a vibrating element having a metal film provided on the vibrating arm and supported by the base,
It has an adjusting member located between the base and the vibrating element and adjusting the frequency of the vibrating element.
A vibrating device characterized in that the adjusting member has a region overlapping the vibrating arm in a plan view, and has portions having different thicknesses in the region.
前記基板に前記振動素子が支持されている請求項1ないし6のいずれか1項に記載の振動デバイス。 Having a substrate supported by the base
The vibrating device according to any one of claims 1 to 6, wherein the vibrating element is supported on the substrate.
前記振動素子と前記回路素子との間に前記基板が位置している請求項8に記載の振動デバイス。 It has a circuit element supported by the base and electrically connected to the vibrating element.
The vibrating device according to claim 8, wherein the substrate is located between the vibrating element and the circuit element.
前記振動デバイスの出力信号に基づいて信号処理を行う信号処理回路と、を備えていることを特徴とする電子機器。 The vibrating device according to any one of claims 1 to 10.
An electronic device including a signal processing circuit that performs signal processing based on an output signal of the vibration device.
前記振動デバイスの出力信号に基づいて信号処理を行う信号処理回路と、を備えていることを特徴とする移動体。 The vibrating device according to any one of claims 1 to 10.
A mobile body including a signal processing circuit that performs signal processing based on an output signal of the vibration device.
前記調整部材にレーザー光を照射し、前記調整部材の少なくとも一部を飛散させて前記振動腕に付着させることにより、前記振動素子の周波数を調整する工程と、を有することを特徴とする振動素子の周波数調整方法。 A base, a vibrating arm, and a metal film provided on the vibrating arm are provided, and the vibrating element supported by the base is located between the base and the vibrating element, and the frequency of the vibrating element is adjusted. The step of preparing a structure having an adjusting member, the adjusting member having a region overlapping the vibrating arm in a plan view, and having portions having different thicknesses in the region.
The vibrating element is characterized by having a step of adjusting the frequency of the vibrating element by irradiating the adjusting member with laser light, scattering at least a part of the adjusting member and attaching it to the vibrating arm. Frequency adjustment method.
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