JP2020189764A - 光劣化抑制材 - Google Patents
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Abstract
Description
[2] 200〜800nmの波長の光の少なくとも一部を吸収する[1]に記載の光劣化抑制材。
[3] 上記結晶体が、+2価、及び、+4価の上記スズ原子を含有する、[1]又は[2]に記載の光劣化抑制材。
[4]
更に界面活性剤を含有する[1]〜[3]のいずれかに記載の光劣化抑制材。
[5] 上記界面活性剤が、上記結晶体に担持されている、[4]に記載の光劣化抑制材。
[6] 更に有機系、及び/又は、無機系のバインダを含有する[1]〜[5]のいずれかに記載の光劣化抑制材。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に制限されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本発明の実施形態に係る光劣化抑制材は、価数の異なる2種以上のスズ(Sn)原子と酸素(O)原子とからなる結晶体(以下、「特定結晶体」ともいう。)を含有する光劣化抑制材である。
つまり、上記のような金属酸化物は、光劣化の原因となる光を反射、吸収し、その影響を低減する機能を有する一方で、光によるROS(特にヒドロキシラジカル)の発生を惹起し、光劣化を促進する機能も有するのである。
図1は、上記金属酸化物の典型的なバンド図(模式図)である。図1に示すとおり、光遮蔽材に対して、そのバンドギャップよりも高いエネルギーを有する光を照射した場合、光励起によって価電子帯頂上(VBT)に正孔が発生し、この正孔とOH基(例えば、水、及び/又は、アルコールのOH基)とが反応することにより、ROS(この場合、ヒドロキシラジカル(OH・))が生成される。なお、正孔は常に高いエネルギー準位に遷移しようとする性質があるため、OH・の生成促進に際しては、OH―/OH・酸化準位が、VBTよりもエネルギー的に高い場所に位置していることが必要条件である。
一方でZnO及びTiO2は、価電子帯が酸素のp軌道から構成されているため、価電子帯の上端がOH−酸化準位よりも低く、光照射によりOH・が生成することがわかる。
本光劣化抑制材は特定結晶体を含有する。光劣化抑制材における特定結晶体の含有量としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する光劣化抑制材が得られる点で、一般に、光劣化抑制材の全質量に対して、1〜99質量%が好ましい。なお、光劣化抑制材は、特定結晶体の1種を単独で含有してもよく、2種以上を含有していてもよい。光劣化抑制材が、2種以上の特定結晶体を含有する場合には、その合計含有量が上記数値範囲内であることが好ましい。
図4は、特定結晶体の一例を示す構造モデル平面図(a)及び構造モデル側面図(b)である。
なお、図4は、Sn3O4の化学式で表される理想的な結晶体の結晶構造の模式図を表しており、本発明の光劣化抑制材が含有する特定結晶体としては上記に制限されず、Sn2+とSn4+O6八面体との配列により、SnOx(1<x<2)で表される常温常圧で安定な構造であってもよい。
この工程では、原料と界面活性剤を水中に分散して、分散液を調製する。原料としては、SnCl2・2H2Oが挙げられる。また、界面活性剤として、クエン酸ナトリウム(Na3C6H5O7・H2O)が挙げられる。界面活性剤を添加することにより、原料をより均一に分散できる。水は超純水であることが好ましい。不純物を少なくすることにより、得られる結晶の純度を向上させることができる。
この工程では、分散液中にNaOH水溶液を加えて、アルカリ性分散液を調製する。この時、NaOH濃度を0.2M以下とすることが好ましい。
この工程では、アルカリ性分散液を加熱して、光触媒を水熱合成する。
アルカリ性分散液の加熱温度は、150℃以上200℃以下であることが好ましく、170℃以上190℃以下とすることがより好ましい。また、加熱温度に5時間以上19時間以下保持することが好ましく、10時間以上14時間以下保持することがより好ましい。これにより、水熱合成による結晶の生成効率を向上させることができる。
本光劣化抑制材は特定結晶体を含有していれば、本発明の効果を奏する範囲内において他の成分を含有していてもよく、他の成分としては特に制限されないが、溶媒、界面活性剤、及び、有機系、及び/又は、無機系バインダ(以下、単に「バインダ」ともいう。)等が挙げられる。
本光劣化抑制材が界面活性剤を含有する場合、その形態としては特に制限されないが、特定結晶体に担持されている形態が好ましい。
(特定結晶の水熱合成)
まず、原料としてSnCl2・2H2O(0.90g、4.0mmol)、界面活性剤としてクエン酸ナトリウム(Na3C6H5O7・H2O)(0.294g、10mmol)を用意し、これらを超純水(Milli−Q water)10ml中に分散してから、撹拌して、均一分散させて、分散液を調製した。
次に、オートクレーブを電気炉内で、180℃で12時間、加熱してから、室温に戻した。
次に、遠心分離により沈殿物を得た後、この沈殿物を、0.2MNaOH水溶液にて数回洗浄後、超純水(Milli−Q water)とアセトンで逐次的に数回、洗浄した。
以上の工程により、Sn3O4の結晶を得た。
SEMにはFIB(Focused ion beam、SII Nano technology Inc.製)を備えたものを用いた。
図5は、上記結晶の顕微鏡観察結果を示す写真である。
図6は、X線光電子分光の結果を示すグラフである。価電子帯頂上部に、Sn2+の5d軌道に由来する状態密度を持つ。このSn2+の5d軌道の存在によりUV光照射下にあっても、VBTに生成された正孔は、OH−酸化準位よりもエネルギー的に高い準位に位置することができるため、OH基と結合してOH・を生成することが禁制される結果となる。
Claims (6)
- 価数の異なる2種以上のスズ(Sn)原子と酸素(O)原子とからなる結晶体を含有する光劣化抑制材。
- 200〜800nmの波長の光の少なくとも一部を吸収する請求項1に記載の光劣化抑制材。
- 前記結晶体が、+2価、及び、+4価の前記スズ原子を含有する、請求項1又は2に記載の光劣化抑制材。
- 更に界面活性剤を含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の光劣化抑制材。
- 前記界面活性剤が、前記結晶体に担持されている、請求項4に記載の光劣化抑制材。
- 更に有機系、及び/又は、無機系のバインダを含有する請求項1〜5のいずれか1項に記載の光劣化抑制材。
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