JP2020183563A - Winding type film deposition apparatus and winding type film deposition method - Google Patents

Winding type film deposition apparatus and winding type film deposition method Download PDF

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Abstract

To improve the reliability of a winding type film deposition.SOLUTION: A winding type film deposition apparatus of the embodiment forms a film on a film deposition surface of a base film which is wound off from a wind-off roller and wound up by a wind-up roller. The winding type film deposition apparatus includes: a main roller having an outer circumferential surface which comes into contact with a non-film deposition surface of the base film opposite to the film deposition surface, and configured such that an arithmetic average roughness Ra of the outer circumferential surface is 10 μm or more and 300 μm or less; and a film deposition source opposing to the outer circumferential surface of the main roller which comes into contact with the non-film deposition surface.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法に関する。 The present invention relates to a retractable film forming apparatus and a retractable film forming method.

巻取式成膜装置の中に、真空容器内で帯状のフィルムを所定の巻き取り角度でローラによって巻回し、ローラをフィルムを介して成膜源に対向させて、フィルムの成膜面に薄膜を形成するものがある。このような巻取式成膜装置では、フィルムが成膜源から熱負荷を受けるために、ローラの外周面に鏡面加工を施す場合がある(例えば、特許文献1参照)。 In a retractable film forming apparatus, a strip-shaped film is wound by a roller at a predetermined winding angle in a vacuum vessel, and the roller is made to face the film forming source through the film to form a thin film on the film forming surface of the film. There is something that forms. In such a retractable film forming apparatus, the outer peripheral surface of the roller may be mirror-finished in order to receive a heat load from the film forming source (see, for example, Patent Document 1).

このような加工を施せば、フィルムと外周面とが密着する面積が充分に確保されるため、フィルムが成膜源から熱負荷を受けたとしても、フィルムがローラによって効率よく冷却される。 By performing such processing, a sufficient area for the film to be in close contact with the outer peripheral surface is secured, so that the film is efficiently cooled by the rollers even if the film receives a heat load from the film forming source.

特開2010−242217号公報JP-A-2010-242217

しかしながら、外周面が鏡面になるほどの加工を施すと、外周面とフィルムとの間の密着力が過剰になり、外周面とフィルムとの間に働く摩擦力が大きくなる可能性がある。さらに、成膜源から放たれた材料の熱量が大きいと、フィルムが材料から受けた熱の影響によって外周面上で伸びようとする。しかし、外周面とフィルムとの間の摩擦力が大きいと、この伸びが抑制されて、外周面上でフィルムに皺が発生してしまう。この結果、巻取式成膜の信頼性が低下してしまう。 However, if the outer peripheral surface is processed to be a mirror surface, the adhesive force between the outer peripheral surface and the film becomes excessive, and the frictional force acting between the outer peripheral surface and the film may increase. Further, when the amount of heat of the material released from the film forming source is large, the film tends to stretch on the outer peripheral surface due to the influence of the heat received from the material. However, if the frictional force between the outer peripheral surface and the film is large, this elongation is suppressed and the film is wrinkled on the outer peripheral surface. As a result, the reliability of the retractable film formation is lowered.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、巻取式成膜の信頼性を向上させた巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法を提供することにある。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a take-up type film forming apparatus and a take-up type film forming method in which the reliability of the take-up type film forming is improved.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る巻取式成膜装置は、巻出ローラから繰り出され巻取ローラによって巻き取られるフィルムの成膜面に膜を形成する巻取式成膜装置である。
主ローラは、上記成膜面とは反対側の上記フィルムの非成膜面に当接する外周面を有し、上記外周面の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成されている。
成膜源は、上記非成膜面に当接する上記主ローラの上記外周面に対向する。
In order to achieve the above object, the take-up film forming apparatus according to one embodiment of the present invention is a take-up film forming device that forms a film on the film forming surface of a film that is unwound from a take-up roller and taken up by the take-up roller. It is a device.
The main roller has an outer peripheral surface that abuts on the non-deposited surface of the film on the side opposite to the film-forming surface, and the arithmetic average roughness Ra of the outer peripheral surface is configured to be 10 μm or more and 300 μm or less.
The film forming source faces the outer peripheral surface of the main roller in contact with the non-deposited surface.

このような巻取式成膜装置によれば、主ローラによってフィルムが確実に支持され、フィルムが成膜源からの熱の影響を受けたとしても、フィルムには、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。 According to such a retractable film forming apparatus, the film is surely supported by the main roller, and even if the film is affected by the heat from the film forming source, a film having a uniform thickness is formed on the film. Will be done. That is, the reliability of the retractable film formation is improved.

上記の巻取式成膜装置においては、上記主ローラの上記外周面は、ブラスト加工面を有してもよい。 In the winding type film forming apparatus, the outer peripheral surface of the main roller may have a blasted surface.

このような巻取式成膜装置によれば、主ローラの外周面がブラスト加工面を有するため、主ローラによってフィルムが確実に支持され、フィルムが成膜源からの熱の影響を受けたとしても、フィルムには、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。 According to such a retractable film forming apparatus, since the outer peripheral surface of the main roller has a blasted surface, the film is reliably supported by the main roller, and the film is affected by heat from the film forming source. However, a film having a uniform thickness is formed on the film. That is, the reliability of the retractable film formation is improved.

上記の巻取式成膜装置においては、上記主ローラの上記外周面に、厚みが1μm以上200μm以下の樹脂層に、平均粒径が0.1μm以上10μm以下の粉末粒子が分散された層が設けられてもよい。 In the winding type film forming apparatus, a layer in which powder particles having an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less are dispersed in a resin layer having a thickness of 1 μm or more and 200 μm or less is formed on the outer peripheral surface of the main roller. It may be provided.

このような巻取式成膜装置によれば、主ローラの外周面が上記層で形成されているため、主ローラによってフィルムが確実に支持され、フィルムが成膜源からの熱の影響を受けたとしても、フィルムには、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。 According to such a retractable film forming apparatus, since the outer peripheral surface of the main roller is formed by the above layer, the film is surely supported by the main roller, and the film is affected by the heat from the film forming source. Even so, a film having a uniform thickness is formed on the film. That is, the reliability of the retractable film formation is improved.

上記の巻取式成膜装置においては、上記主ローラは、180°以上330°以下の巻付角度で上記フィルムを巻回してもよい。 In the winding type film forming apparatus, the main roller may wind the film at a winding angle of 180 ° or more and 330 ° or less.

このような巻取式成膜装置によれば、主ローラが180°以上330°以下の巻付角度でフィルムを巻回するため、主ローラによってフィルムが確実に支持される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。 According to such a retractable film forming apparatus, the main roller winds the film at a winding angle of 180 ° or more and 330 ° or less, so that the film is surely supported by the main roller. That is, the reliability of the retractable film formation is improved.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る巻取式成膜方法は、巻出ローラから繰り出され巻取ローラによって巻き取られるフィルムの成膜面に膜を形成する巻取式成膜方法である。
上記成膜面とは反対側の上記フィルムの非成膜面に当接する外周面を有し、上記外周面の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成された主ローラが用いられて、上記非成膜面に当接する上記主ローラの上記外周面に成膜源を対向させて上記成膜面に上記膜が形成される。
In order to achieve the above object, the take-up film formation method according to one embodiment of the present invention is a take-up film formation method in which a film is formed on the film formation surface of a film unwound from a take-up roller and taken up by the take-up roller. The method.
A main roller having an outer peripheral surface that is in contact with the non-deposited surface of the film on the side opposite to the film-forming surface and having an arithmetic mean roughness Ra of the outer peripheral surface of 10 μm or more and 300 μm or less is used. The film is formed on the film-forming surface with the film-forming source facing the outer peripheral surface of the main roller in contact with the non-film-forming surface.

このような巻取式成膜方法によれば、主ローラによってフィルムが確実に支持され、フィルムが成膜源からの熱の影響を受けたとしても、フィルムには、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。 According to such a retractable film forming method, the film is surely supported by the main roller, and even if the film is affected by the heat from the film forming source, a film having a uniform thickness is formed on the film. Will be done. That is, the reliability of the retractable film formation is improved.

以上述べたように、本発明によれば、巻取式成膜の信頼性を向上させた巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法が提供される。 As described above, according to the present invention, there is provided a retractable film forming apparatus and a retractable film forming method in which the reliability of the retractable film forming is improved.

図(a)は、本実施形態に係る巻取式成膜装置の模式的断面図である。図(b)は、巻取式成膜装置における主ローラの外周面周辺の様子を説明する模式図である。FIG. (A) is a schematic cross-sectional view of the retractable film forming apparatus according to the present embodiment. FIG. (B) is a schematic view illustrating the state around the outer peripheral surface of the main roller in the retractable film forming apparatus. 図(a)は、図1(b)の破線P1で囲む部分の構成を示す模式的断面図である。図(b)は、破線P1で囲む部分の別の構成を示す模式的断面図である。FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the portion surrounded by the broken line P1 in FIG. 1B. FIG. (B) is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the portion surrounded by the broken line P1. 巻取式成膜装置の作用の一例を説明する模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view explaining an example of the operation of the winding type film forming apparatus.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。各図面には、XYZ軸座標が導入される場合がある。また、同一の部材または同一の機能を有する部材には同一の符号を付す場合があり、その部材を説明した後には適宜説明を省略する場合がある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. XYZ axis coordinates may be introduced in each drawing. Further, the same member or a member having the same function may be designated by the same reference numeral, and the description may be omitted as appropriate after the description of the member.

[巻取式成膜装置] [Rewind-type film forming apparatus]

図1(a)は、本実施形態に係る巻取式成膜装置の模式的断面図である。図1(b)は、巻取式成膜装置における主ローラの外周面周辺の様子を説明する模式図である。 FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of the retractable film forming apparatus according to the present embodiment. FIG. 1B is a schematic view illustrating a state around the outer peripheral surface of the main roller in the retractable film forming apparatus.

巻取式成膜装置1は、真空容器70内でフィルム60が走行しながら、フィルム60の成膜面60dに金属膜(例えば、リチウム膜)が形成される成膜装置である。巻取式成膜装置1は、例えば、主ローラ10と、成膜源20と、フィルム走行機構30と、仕切板40と、真空容器70とを具備する。 The take-up film forming apparatus 1 is a film forming apparatus in which a metal film (for example, a lithium film) is formed on the film forming surface 60d of the film 60 while the film 60 runs in the vacuum vessel 70. The take-up type film forming apparatus 1 includes, for example, a main roller 10, a film forming source 20, a film traveling mechanism 30, a partition plate 40, and a vacuum vessel 70.

主ローラ10は、鉄、ステンレス鋼、アルミニウム等の金属製の筒状ローラである。主ローラ10は、中心軸C1を中心に回転する。主ローラ10は、フィルム60と、成膜源20との間に配置される。 The main roller 10 is a tubular roller made of a metal such as iron, stainless steel, or aluminum. The main roller 10 rotates about the central axis C1. The main roller 10 is arranged between the film 60 and the film forming source 20.

巻取式成膜装置1の外部には、主ローラ10を回転駆動させる回転駆動機構が設けられている。あるいは、主ローラ10が回転駆動機構を有してもよい。あるいは、主ローラ10は、回転駆動機構によって回転されず、中心軸10cを中心に自由に回転するローラであってもよい。主ローラ10においては、その外周面10sがローラ面となり、外周面10sがフィルム60の成膜面60dとは反対側のフィルム60の非成膜面60rに当接する。 A rotary drive mechanism for rotationally driving the main roller 10 is provided outside the take-up film forming apparatus 1. Alternatively, the main roller 10 may have a rotation drive mechanism. Alternatively, the main roller 10 may be a roller that is not rotated by the rotation drive mechanism and freely rotates about the central axis 10c. In the main roller 10, the outer peripheral surface 10s becomes a roller surface, and the outer peripheral surface 10s comes into contact with the non-deposited surface 60r of the film 60 on the side opposite to the film-forming surface 60d of the film 60.

主ローラ10の直径は、特に限定されることなく、例えば、10mm以上1500mm以下である。主ローラ10のX軸方向における長さは、フィルム60の幅以下に構成される。例えば、主ローラ10の長さは、特に限定されることなく、例えば、50mm以上2000mm以下である。 The diameter of the main roller 10 is not particularly limited, and is, for example, 10 mm or more and 1500 mm or less. The length of the main roller 10 in the X-axis direction is configured to be equal to or less than the width of the film 60. For example, the length of the main roller 10 is not particularly limited, and is, for example, 50 mm or more and 2000 mm or less.

フィルム60が矢印Aの方向に走行しているとき、例えば、フィルム60に接する主ローラ10は、時計回りに回転する。このとき、外周面10sが中心軸10cを中心に動く速度(接線速度)は、例えば、フィルム60の走行速度と同じ速度に設定される。これにより、フィルム60の走行中には、外周面10sとフィルム60との間でずれが起きにくく、成膜面60dに安定して膜を形成することができる。 When the film 60 is traveling in the direction of arrow A, for example, the main roller 10 in contact with the film 60 rotates clockwise. At this time, the speed at which the outer peripheral surface 10s moves about the central axis 10c (tangential velocity) is set to, for example, the same speed as the traveling speed of the film 60. As a result, while the film 60 is running, the outer peripheral surface 10s and the film 60 are less likely to be displaced, and a film can be stably formed on the film-forming surface 60d.

本実施形態においては、主ローラ10の内部には、外周面10sの温度を調節する温調媒体循環系等の温調機構が設けられてもよい。温調機構は、例えば、温調媒体循環系等の温調機構である。なお、主ローラ10が成膜源20から熱を受けたとしても、主ローラ10は、中心軸10cを中心に回転しているため、主ローラ10の外周面10sの温度は、均一の温度に保たれている。 In the present embodiment, a temperature control mechanism such as a temperature control medium circulation system for adjusting the temperature of the outer peripheral surface 10s may be provided inside the main roller 10. The temperature control mechanism is, for example, a temperature control mechanism such as a temperature control medium circulation system. Even if the main roller 10 receives heat from the film forming source 20, the temperature of the outer peripheral surface 10s of the main roller 10 becomes a uniform temperature because the main roller 10 rotates about the central axis 10c. It is kept.

成膜源20は、溶融容器21(坩堝)を有する。成膜源20は、主ローラ10の外周面10sに対向する。溶融容器21には、例えば、リチウム(Li)等の蒸着材料25が収容される。蒸着材料25は、例えば、溶融容器21内において抵抗加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱等の手法によって溶融される。 The film forming source 20 has a melting container 21 (crucible). The film forming source 20 faces the outer peripheral surface 10s of the main roller 10. A vapor deposition material 25 such as lithium (Li) is housed in the melting container 21. The thin-film deposition material 25 is melted in the melting vessel 21 by a method such as resistance heating, induction heating, or electron beam heating.

フィルム走行機構30は、巻出ローラ31と、巻取ローラ32と、ガイドローラ33a、33b、33c、33dとを有する。巻取式成膜装置1の外部には、巻出ローラ31及び巻取ローラ32を回転駆動させる回転駆動機構が設けられている。あるいは、巻出ローラ31及び巻取ローラ32のそれぞれが回転駆動機構を有してもよい。 The film traveling mechanism 30 includes a winding roller 31, a winding roller 32, and guide rollers 33a, 33b, 33c, and 33d. A rotation drive mechanism for rotationally driving the take-up roller 31 and the take-up roller 32 is provided outside the take-up type film forming apparatus 1. Alternatively, each of the unwinding roller 31 and the winding roller 32 may have a rotation drive mechanism.

フィルム60は、予め巻出ローラ31に巻かれ、巻出ローラ31から繰り出される。この後、フィルム60には、成膜処理が施され、フィルム60は、巻取ローラ32によって巻き取られる。 The film 60 is previously wound on the unwinding roller 31 and unwound from the unwinding roller 31. After that, the film 60 is subjected to a film forming process, and the film 60 is wound by the winding roller 32.

例えば、巻出ローラ31から連続的に繰り出されたフィルム60は、走行中にガイドローラ33a、33bによって支持されつつ、ガイドローラ33a、33bのそれぞれによって走行方向が変えられ、主ローラ10に巻回される。フィルム60を巻回する主ローラ10の巻付角度θ1は、特に限定されることなく、例えば、180°以上330°以下である。 For example, the film 60 continuously unwound from the unwinding roller 31 is supported by the guide rollers 33a and 33b during traveling, and the traveling direction is changed by each of the guide rollers 33a and 33b, and the film 60 is wound around the main roller 10. Will be done. The winding angle θ1 of the main roller 10 around which the film 60 is wound is not particularly limited, and is, for example, 180 ° or more and 330 ° or less.

主ローラ10に巻回されたフィルム60は、主ローラ10の外周面10sに接触しながら、主ローラ10によって支持されて、ガイドローラ33cに導かれる。 The film 60 wound around the main roller 10 is supported by the main roller 10 and guided to the guide roller 33c while being in contact with the outer peripheral surface 10s of the main roller 10.

主ローラ10の外周面10sから離れたフィルム60は、走行中にガイドローラ33c、33dに支持されつつ、ガイドローラ33c、33dのそれぞれによって走行方向が変えられ、巻取ローラ32に連続的に巻き取られる。ここで、主ローラ10の外周面10sに支持されたフィルム60の張力は、張力(N)/フィルム幅(mm)の値が0.1(N/mm)以上1.0(N/mm)以下に設定されている。 The film 60 separated from the outer peripheral surface 10s of the main roller 10 is supported by the guide rollers 33c and 33d during traveling, and the traveling direction is changed by each of the guide rollers 33c and 33d, and the film 60 is continuously wound around the winding roller 32. Taken. Here, the tension of the film 60 supported by the outer peripheral surface 10s of the main roller 10 has a tension (N) / film width (mm) value of 0.1 (N / mm) or more and 1.0 (N / mm). It is set as follows.

仕切板40は、成膜源20と主ローラ10との間に配置される。仕切板40には、成膜源20を主ローラ10の外周面10sに向けて開口する開口41が設けられている。主ローラ10の回転方向Rにおける開口41の幅W1を底辺とし、主ローラ10の中心(中心軸10c)を頂点とする三角形を想定した場合、三角形の頂角θ2は、特に限定されることなく、例えば、0°より大きく180°以下に構成されている。 The partition plate 40 is arranged between the film forming source 20 and the main roller 10. The partition plate 40 is provided with an opening 41 that opens the film forming source 20 toward the outer peripheral surface 10s of the main roller 10. Assuming a triangle whose base is the width W1 of the opening 41 in the rotation direction R of the main roller 10 and whose apex is the center of the main roller 10 (center axis 10c), the apex angle θ2 of the triangle is not particularly limited. For example, it is configured to be larger than 0 ° and 180 ° or less.

ここで、角度θ1から角度θ2を差し引いた角度(θ1−θ2)は、角度θ2よりも大きい((θ1−θ2)>θ2)。 Here, the angle (θ1-θ2) obtained by subtracting the angle θ2 from the angle θ1 is larger than the angle θ2 ((θ1-θ2)> θ2).

フィルム60は、所謂webであり、所定幅に裁断された長尺のフィルムである。フィルム60は、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、ステンレス箔、樹脂フィルムの少なくともいずれかを含む。フィルム60の厚みは、特に限定されることなく、例えば、1μm以上500μm以下である。 The film 60 is a so-called web, which is a long film cut to a predetermined width. The film 60 includes at least one of a copper foil, an aluminum foil, a nickel foil, a stainless foil, and a resin film. The thickness of the film 60 is not particularly limited, and is, for example, 1 μm or more and 500 μm or less.

真空容器70は、主ローラ10、成膜源20、フィルム走行機構30、仕切板40、及びフィルム60等を収容する。真空容器70は、減圧状態を維持することができ、例えば、真空ポンプ等の真空排気系(不図示)に接続された排気管71を通じて、その内部が所定の真空度に維持される。 The vacuum vessel 70 houses the main roller 10, the film forming source 20, the film traveling mechanism 30, the partition plate 40, the film 60, and the like. The vacuum vessel 70 can maintain a reduced pressure state, and the inside thereof is maintained at a predetermined degree of vacuum through, for example, an exhaust pipe 71 connected to a vacuum exhaust system (not shown) such as a vacuum pump.

または、真空容器70内には、ガス供給機構72によって乾燥空気、不活性ガス(Ar、He等)、二酸化炭素(CO)、窒素等の少なくともいずれかのガスが供給されてもよい。 Alternatively, at least one gas such as dry air, an inert gas (Ar, He, etc.), carbon dioxide (CO 2 ), nitrogen, or the like may be supplied into the vacuum vessel 70 by the gas supply mechanism 72.

また、本実施形態においては、リチウム以外に、インジウム(In)、亜鉛(Zn)、錫(Sn)、ガリウム(Ga)、ビスマス(Bi)、ナトリウム(Na)、及びカリウム(K)等の少なくともいずれかが溶融容器21内に収容されてもよい。 Further, in the present embodiment, in addition to lithium, at least at least indium (In), zinc (Zn), tin (Sn), gallium (Ga), bismuth (Bi), sodium (Na), potassium (K) and the like are used. Either may be housed in the melting container 21.

図2(a)は、図1(b)の破線P1で囲む部分の構成を示す模式的断面図である。図2(b)は、破線P1で囲む部分の別の構成を示す模式的断面図である。図2(a)及び図2(b)の構成は、独立した構成とは限らず、互いの構成を複合させてもよい。 FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the portion surrounded by the broken line P1 in FIG. 1B. FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing another configuration of the portion surrounded by the broken line P1. The configurations of FIGS. 2 (a) and 2 (b) are not limited to independent configurations, and may be combined with each other.

図2(a)に示すように、主ローラ10の外周面10sには、樹脂層102に粉末粒子103が分散された層101が設けられている。層101の厚みは、特に限定されることなく、例えば、1μm以上200μm以下である。粉末粒子103の平均粒径は、特に限定されることなく、例えば、0.1μm以上10μm以下である。粉末粒子103の平均粒径は、例えば、レーザ回折散乱法等で測定される。例えば、測定分布のピーク値が平均粒径とされる。 As shown in FIG. 2A, a layer 101 in which powder particles 103 are dispersed in a resin layer 102 is provided on the outer peripheral surface 10s of the main roller 10. The thickness of the layer 101 is not particularly limited, and is, for example, 1 μm or more and 200 μm or less. The average particle size of the powder particles 103 is not particularly limited, and is, for example, 0.1 μm or more and 10 μm or less. The average particle size of the powder particles 103 is measured by, for example, a laser diffraction / scattering method or the like. For example, the peak value of the measurement distribution is taken as the average particle size.

粉末粒子103は、特に限定されることなく、例えば、0.1wt%以上50wt%以下で樹脂層102に含有されている。本実施形態では、層101を主ローラ10に含めて、層101の外周面101sを主ローラ10の外周面としてもよい。 The powder particles 103 are not particularly limited, and are contained in the resin layer 102 in an amount of, for example, 0.1 wt% or more and 50 wt% or less. In the present embodiment, the layer 101 may be included in the main roller 10 and the outer peripheral surface 101s of the layer 101 may be the outer peripheral surface of the main roller 10.

樹脂層102は、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、炭素系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の少なくとも1つを含む。粉末粒子103は、シリカ、マグネシア、チタニア、アルミナ等の少なくとも1つを含む。 The resin layer 102 contains at least one of a silicon-based resin, a fluororesin, a carbon-based resin, an acrylic resin, an epoxy-based resin, and the like. The powder particles 103 contain at least one of silica, magnesia, titania, alumina and the like.

または、主ローラ10の外周面10sには、層101が設けられることなく、図2(b)に示すように、外周面10sが凸凹構造を有してもよい。例えば、外周面10sには、アルミナ粒子、ガラス粒子等によってブラスト加工が施されたブラスト加工面が施されている。 Alternatively, as shown in FIG. 2B, the outer peripheral surface 10s may have an uneven structure without the layer 101 being provided on the outer peripheral surface 10s of the main roller 10. For example, the outer peripheral surface 10s is provided with a blasted surface that has been blasted with alumina particles, glass particles, or the like.

このような、外周面101s及び外周面10sの算術平均粗さRaは、特に限定されることなく、例えば、10μm以上300μm以下に構成されている。 The arithmetic mean roughness Ra of the outer peripheral surface 101s and the outer peripheral surface 10s is not particularly limited, and is configured to be, for example, 10 μm or more and 300 μm or less.

本実施形態では、このような主ローラ10を用いて、フィルム60の成膜面60dに膜を形成する巻取式成膜方法も提供される。 In the present embodiment, a take-up type film forming method for forming a film on the film forming surface 60d of the film 60 by using such a main roller 10 is also provided.

[作用] [Action]

図3は、巻取式成膜装置の作用の一例を説明する模式的断面図である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the operation of the retractable film forming apparatus.

図3では、主ローラ10の外周面10sがフィルム60が角度θ2の範囲で主ローラ10に接する領域110と、フィルム60が角度θ2を除く角度θ1の範囲で主ローラ10に接する領域120とに分けられた状態が示されている。主ローラ10が回転しても、領域110、120のそれぞれの位置は、固定である。 In FIG. 3, the outer peripheral surface 10s of the main roller 10 is divided into a region 110 in which the film 60 is in contact with the main roller 10 in the range of the angle θ2 and a region 120 in which the film 60 is in contact with the main roller 10 in the range of the angle θ1 excluding the angle θ2. The divided state is shown. Even if the main roller 10 rotates, the positions of the regions 110 and 120 are fixed.

外周面10sが鏡面になるほどの加工を施すと、外周面10sとフィルム60との間に働く摩擦力が大きくなり、成膜中、蒸着材料25を受容したフィルム60の伸びが抑制される。これにより、外周面10s上でフィルム60に皺が発生する可能性がある。 When the outer peripheral surface 10s is processed to be a mirror surface, the frictional force acting between the outer peripheral surface 10s and the film 60 becomes large, and the elongation of the film 60 receiving the vapor-deposited material 25 is suppressed during the film formation. As a result, wrinkles may occur on the film 60 on the outer peripheral surface 10s.

これにより、例えば、外周面10sの領域110では、フィルム60の一部が外周面10sから浮いてしまい、浮いた部分が主ローラ10によって充分に冷却されなくなったり、あるいは、フィルム60に入射する蒸着材料25の入射角度がフィルム60の場所によって変わったりしてしまう。この結果、均一な厚みの膜がフィルム60に形成されなくなる可能性がある。 As a result, for example, in the region 110 of the outer peripheral surface 10s, a part of the film 60 floats from the outer peripheral surface 10s, and the floating portion is not sufficiently cooled by the main roller 10, or the film 60 is deposited. The incident angle of the material 25 changes depending on the location of the film 60. As a result, a film having a uniform thickness may not be formed on the film 60.

これに対して本実施形態では、外周面10s(または、外周面101s)の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成されている。 On the other hand, in the present embodiment, the arithmetic average roughness Ra of the outer peripheral surface 10s (or the outer peripheral surface 101s) is configured to be 10 μm or more and 300 μm or less.

このため、領域110でフィルム60の伸びたとしても、その伸びは抑制されず、フィルム60が領域110では外周面10sに沿って自由に膨脹する。これにより、領域110ではフィルム60に皺が発生しにくくなる。この結果、均一な厚みの膜がフィルム60に形成される。ここで、外周面10s(または、外周面101s)の算術平均粗さRaが10μmよりも小さくなると、領域110でフィルム60の伸びが抑制されるので好ましくない。 Therefore, even if the film 60 is stretched in the region 110, the stretch is not suppressed, and the film 60 freely expands along the outer peripheral surface 10s in the region 110. As a result, wrinkles are less likely to occur in the film 60 in the region 110. As a result, a film having a uniform thickness is formed on the film 60. Here, if the arithmetic mean roughness Ra of the outer peripheral surface 10s (or the outer peripheral surface 101s) is smaller than 10 μm, the elongation of the film 60 is suppressed in the region 110, which is not preferable.

一方、主ローラ10において、角度(θ1−θ2)は、角度θ2よりも大きく構成されている。このため、領域120の面積は、領域110の面積よりも圧倒的に大きくなり、フィルム60は、主ローラ10とは領域120において大きな接触面積を有することになる。ここで、巻付角度θ1が180°より小さくなると、フィルム60と主ローラ10との充分な接触面積が取れなくなり、好ましくない。 On the other hand, in the main roller 10, the angle (θ1-θ2) is configured to be larger than the angle θ2. Therefore, the area of the region 120 is overwhelmingly larger than the area of the region 110, and the film 60 has a large contact area with the main roller 10 in the region 120. Here, if the winding angle θ1 is smaller than 180 °, a sufficient contact area between the film 60 and the main roller 10 cannot be obtained, which is not preferable.

これにより、領域120においては、フィルム60と外周面10sとがずれにくく、フィルム60は、主ローラ10に支持されつつ、ガイドローラ33bからガイドローラ33cにまで搬送されることになる。ここで、外周面10s(または、外周面101s)の算術平均粗さRaが300μmよりも大きくなると、領域120でもフィルム60と外周面10sのずれが起きやすくなり好ましくない。 As a result, in the region 120, the film 60 and the outer peripheral surface 10s are less likely to be displaced, and the film 60 is conveyed from the guide roller 33b to the guide roller 33c while being supported by the main roller 10. Here, if the arithmetic mean roughness Ra of the outer peripheral surface 10s (or the outer peripheral surface 101s) is larger than 300 μm, the film 60 and the outer peripheral surface 10s are likely to be displaced even in the region 120, which is not preferable.

このように、本実施形態によれば、主ローラ10によってフィルム60が確実に支持され、フィルム60が成膜源20からの熱の影響を受けたとしても、フィルム60には、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。 As described above, according to the present embodiment, even if the film 60 is reliably supported by the main roller 10 and the film 60 is affected by the heat from the film forming source 20, the film 60 has a uniform thickness. A film is formed. That is, the reliability of the retractable film formation is improved.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。各実施形態は、独立の形態とは限らず、技術的に可能な限り複合することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made. Each embodiment is not limited to an independent form and can be combined as technically possible as possible.

1…巻取式成膜装置
10…主ローラ
10c…中心軸
10s、101s…外周面
20…成膜源
21…溶融容器
25…蒸着材料
30…フィルム走行機構
31…巻出ローラ
32…巻取ローラ
33a、33b、33c、33d…ガイドローラ
40…仕切板
41…開口
60…フィルム
60d…成膜面
60r…非成膜面
70…真空容器
71…排気管
72…ガス供給機構
101…層
102…樹脂層
103…粉末粒子
110、120…領域
1 ... Winding type film forming apparatus 10 ... Main roller 10c ... Central axis 10s, 101s ... Outer peripheral surface 20 ... Film forming source 21 ... Melting container 25 ... Vapor deposition material 30 ... Film traveling mechanism 31 ... Unwinding roller 32 ... Winding roller 33a, 33b, 33c, 33d ... Guide roller 40 ... Partition plate 41 ... Opening 60 ... Film 60d ... Film-formed surface 60r ... Non-deposited surface 70 ... Vacuum container 71 ... Exhaust pipe 72 ... Gas supply mechanism 101 ... Layer 102 ... Resin Layer 103 ... Powder particles 110, 120 ... Region

Claims (5)

巻出ローラから繰り出され巻取ローラによって巻き取られるフィルムの成膜面に膜を形成する巻取式成膜装置であって、
前記成膜面とは反対側の前記フィルムの非成膜面に当接する外周面を有し、前記外周面の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成された主ローラと、
前記非成膜面に当接する前記主ローラの前記外周面に対向する成膜源と
を具備する巻取式成膜装置。
A take-up type film forming apparatus that forms a film on the film-forming surface of a film that is unwound from a unwinding roller and wound up by the winding roller.
A main roller having an outer peripheral surface that is in contact with the non-deposited surface of the film on the side opposite to the film-forming surface, and having an arithmetic average roughness Ra of 10 μm or more and 300 μm or less on the outer peripheral surface.
A retractable film forming apparatus including a film forming source facing the outer peripheral surface of the main roller in contact with the non-deposited surface.
請求項1に記載の巻取式成膜装置であって、
前記主ローラの前記外周面は、ブラスト加工面を有する
巻取式成膜装置。
The retractable film forming apparatus according to claim 1.
A take-up type film forming apparatus having a blasted surface on the outer peripheral surface of the main roller.
請求項1または2に記載の巻取式成膜装置であって、
前記主ローラの前記外周面に、厚みが1μm以上200μm以下の樹脂層に、平均粒径が0.1μm以上10μm以下の粉末粒子が分散された層が設けられている
巻取式成膜装置。
The retractable film forming apparatus according to claim 1 or 2.
A retractable film forming apparatus provided with a resin layer having a thickness of 1 μm or more and 200 μm or less and a layer in which powder particles having an average particle size of 0.1 μm or more and 10 μm or less are dispersed on the outer peripheral surface of the main roller.
請求項1〜3のいずれか1つに記載の巻取式成膜装置であって、
前記主ローラは、180°以上330°以下の巻付角度で前記フィルムを巻回する
巻取式成膜装置。
The retractable film forming apparatus according to any one of claims 1 to 3.
The main roller is a take-up film forming apparatus that winds the film at a winding angle of 180 ° or more and 330 ° or less.
巻出ローラから繰り出され巻取ローラによって巻き取られるフィルムの成膜面に膜を形成する巻取式成膜方法であって、
前記成膜面とは反対側の前記フィルムの非成膜面に当接する外周面を有し、前記外周面の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成された主ローラを用いて、
前記非成膜面に当接する前記主ローラの前記外周面に成膜源を対向させて前記成膜面に前記膜を形成する
巻取式成膜方法。
This is a take-up type film formation method in which a film is formed on the film formation surface of a film unwound from a take-up roller and taken up by a take-up roller.
Using a main roller having an outer peripheral surface that is in contact with the non-deposited surface of the film on the side opposite to the film-forming surface and having an arithmetic average roughness Ra of the outer peripheral surface of 10 μm or more and 300 μm or less.
A winding-type film forming method in which a film forming source is opposed to the outer peripheral surface of the main roller in contact with the non-deposited surface to form the film on the film forming surface.
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