JP2020180021A - Reforming system - Google Patents

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Hiroyasu Kawachi
浩康 河内
鈴木 秀明
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Abstract

To provide a reforming system capable of quickly supplying gas in a necessary timing.SOLUTION: A reforming system 1 comprises: a buffer tank 5 capable of supplying pressure-accumulated gas by a differential pressure while pressure-accumulating reformed gas generated by a reforming part 4; and a supply-line L21 for supplying from the buffer tank 5 to a gas utilization part 11 for using gas. In this case, the buffer tank 5 is able to quickly supply the pressure-accumulated gas by releasing pressure on the supply-line L21 side. A switching part 30 can switch a flow of the reformed gas from the reforming part 4 between a pressure-accumulating line L22 and a bypass line L23. After reforming at the reforming part 4 is stabilized, the gas pressure-accumulated in the buffer tank 5 is not needed to be used. Accordingly, the buffer tank 5 is able to quickly supply the gas to the gas utilization part 11 in a subsequently necessary timing.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、改質システムに関する。 The present invention relates to a reforming system.

従来の改質システムとしては、例えば特許文献1に記載されている技術が知られている。特許文献1に記載の改質システムは、原料ガスを改質することで水素ガスを含む改質ガスを生成する改質部を備えている。改質ガスは、エンジンや燃料電池などに供給される。これにより、改質ガス中の水素が、エンジンや燃料電池などで用いられる。 As a conventional reforming system, for example, the technique described in Patent Document 1 is known. The reforming system described in Patent Document 1 includes a reforming unit that generates a reforming gas containing hydrogen gas by reforming the raw material gas. The reformed gas is supplied to the engine, fuel cell, and the like. As a result, hydrogen in the reformed gas is used in engines, fuel cells, and the like.

特開2003−293867号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-293867

上記従来技術のような改質システムでは、運転開始から改質が安定して一定量の改質ガスを供給できるようになるまでに、時間がかかる。従って、改質部で生成された改質ガスの供給先のガス利用部では、安定した改質ガスが供給されるまでの間、起動を行うことができない場合がある。従って、改質ガスを利用するガス利用部では、必要なタイミングで必要な量のガスを供給することが求められる。 In a reforming system such as the above-mentioned conventional technique, it takes time from the start of operation until the reforming can be stably supplied with a certain amount of reforming gas. Therefore, the gas utilization unit to which the reformed gas generated in the reforming unit is supplied may not be able to start up until a stable reformed gas is supplied. Therefore, the gas utilization unit that uses the reformed gas is required to supply the required amount of gas at the required timing.

本発明の目的は、必要なタイミングで速やかにガスを供給することができる改質システムを提供することである。 An object of the present invention is to provide a reforming system capable of promptly supplying gas at a required timing.

本発明の一態様に係る改質システムは、水素含有原料を水素に分解する改質触媒を有し、水素含有原料を改質して水素ガスを含有した改質ガスを生成する改質部と、改質部に水素含有原料を供給する原料供給部と、改質部で生成された改質ガスを蓄圧すると共に、蓄圧したガスを差圧によって供給可能な蓄圧部と、蓄圧部からガスを利用するガス利用部へ供給する供給ラインと、改質部から改質ガスを蓄圧部へ蓄圧させる蓄圧ラインと、改質部から蓄圧部をバイパスさせて改質ガスを流すバイパスラインと、改質部からの改質ガスの流れを蓄圧ラインとバイパスラインとの間で切り替える切替部と、を備える。 The reforming system according to one aspect of the present invention has a reforming catalyst that decomposes a hydrogen-containing raw material into hydrogen, and has a reforming unit that reforms the hydrogen-containing raw material to generate a reformed gas containing hydrogen gas. , A raw material supply unit that supplies hydrogen-containing raw materials to the reforming unit, a pressure accumulating unit that can accumulate the reformed gas generated in the reforming unit, and can supply the accumulated gas by differential pressure, and gas from the pressure accumulating unit. A supply line that supplies the gas to be used, a pressure accumulator line that accumulates the reformed gas from the reformer to the accumulator, and a bypass line that bypasses the accumulator from the reformer to flow the reformed gas. It is provided with a switching unit for switching the flow of reformed gas from the unit between the accumulator line and the bypass line.

このような改質システムは、改質部で生成された改質ガスを蓄圧すると共に、蓄圧したガスを差圧によって供給可能な蓄圧部と、蓄圧部からガスを利用するガス利用部へ供給する供給ラインと、を備える。この場合、蓄圧部は、供給ライン側での圧力を解放することによって、速やかに蓄圧したガスを供給することができる。すなわち、改質部での改質が安定しない状態であっても、ガス利用部にて必要になったタイミングにて、蓄圧部が速やかにガス利用部にガスを供給することができる。ここで、改質システムは、改質部から改質ガスを蓄圧部へ蓄圧させる蓄圧ラインに加えて、改質部から蓄圧部をバイパスさせて改質ガスを流すバイパスラインを備えている。そして、切替部は、改質部からの改質ガスの流れを蓄圧ラインとバイパスラインとの間で切り替えることができる。この場合、改質部での改質が安定したら、改質部は、蓄圧部をバイパスしてガス利用部へ改質ガスを供給することが可能となる。従って、蓄圧部に蓄圧されたガスを用いなくてよくなるため、蓄圧部は、次に必要となったタイミングにて、速やかにガス利用部へガスを供給することができる。以上により、改質システムは、必要なタイミングで速やかにガス利用部にガスを供給することができる。 In such a reforming system, the reforming gas generated in the reforming section is accumulated, and the accumulated gas is supplied to the pressure accumulating section that can be supplied by the differential pressure and the gas utilization section that uses the gas from the pressure accumulating section. It is equipped with a supply line. In this case, the accumulator unit can quickly supply the accumulating gas by releasing the pressure on the supply line side. That is, even if the reforming in the reforming section is not stable, the pressure accumulating section can quickly supply the gas to the gas utilizing section at the timing required by the gas utilizing section. Here, the reforming system includes a bypass line for accumulating the reformed gas from the reforming section to the accumulating section, and a bypass line for passing the reforming gas by bypassing the accumulating section from the reforming section. Then, the switching unit can switch the flow of the reformed gas from the reforming unit between the accumulator line and the bypass line. In this case, when the reforming in the reforming section is stable, the reforming section can bypass the accumulator section and supply the reforming gas to the gas utilization section. Therefore, since it is not necessary to use the gas accumulated in the accumulator, the accumulator can promptly supply the gas to the gas utilization unit at the next required timing. As described above, the reforming system can promptly supply gas to the gas utilization unit at a required timing.

改質システムの起動時において、蓄圧部はガス利用部へ供給ラインを介してガスを供給してよい。改質システムの起動時は、改質部での改質が安定しない。このようなタイミングにて、蓄圧部はガス利用部へ速やかにガスを供給することができる。 At the time of starting the reforming system, the accumulator unit may supply gas to the gas utilization unit via the supply line. When the reforming system is started, reforming in the reforming part is not stable. At such a timing, the accumulator unit can quickly supply gas to the gas utilization unit.

切替部は、蓄圧部に蓄圧されるガスが所定量となるまでは改質ガスを蓄圧ラインに流し、蓄圧部に蓄圧されるガスが所定量となったら改質ガスをバイパスラインに流してよい。これにより、次に蓄圧部からガス利用部へガスを供給するときに、蓄圧部は、十分な圧力でガスを供給することができる。 The switching unit may flow the reformed gas to the accumulator line until the amount of gas accumulated in the accumulator reaches a predetermined amount, and then the reformed gas to the bypass line when the amount of gas accumulated in the accumulator reaches a predetermined amount. .. As a result, the next time the gas is supplied from the accumulator to the gas utilization unit, the accumulator can supply the gas at a sufficient pressure.

蓄圧ラインの上流側には、改質ガスから水素を分離して蓄圧部に供給する分離部が設けられてよい。この場合、蓄圧部内の水素の純度を高めることができるため、蓄圧部の小型化を図ることができる。 On the upstream side of the accumulator line, a separation unit that separates hydrogen from the reformed gas and supplies it to the accumulator may be provided. In this case, since the purity of hydrogen in the accumulator can be increased, the accumulator can be miniaturized.

蓄圧ラインの上流側には、改質ガスを蓄圧部へ圧送するポンプが設けられてよい。この場合、蓄圧部の圧力を高くすることができるため、蓄圧部の小型化を図ることができる。 A pump for pumping the reformed gas to the accumulator may be provided on the upstream side of the accumulator line. In this case, since the pressure of the pressure accumulator can be increased, the pressure accumulator can be miniaturized.

改質システムは、蓄圧部のガスを改質部へ戻すリターンラインを更に備えてよい。この場合、改質システムの起動時において、改質部が蓄圧部のガスを用いることで、起動時間を短くすることができる。 The reforming system may further include a return line that returns the gas in the accumulator to the reforming section. In this case, when the reforming system is started, the starting time can be shortened by using the gas of the accumulator for the reforming part.

本発明によれば、必要なタイミングで速やかにガスを供給することができる。 According to the present invention, gas can be supplied promptly at a required timing.

本発明の実施形態に係る改質システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the modification system which concerns on embodiment of this invention. 各種構成要素の状態を示すグラフである。It is a graph which shows the state of various components. 改質システムの動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation of a reforming system. 変形例に係る改質システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the reforming system which concerns on the modification. 変形例に係る改質システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the reforming system which concerns on the modification.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、図面において、同一または同等の要素には同じ符号を付し、重複する説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or equivalent elements are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.

図1は、本発明の実施形態に係る改質システムを示す概略構成図である。図1に示すように、改質システム1は、原料供給部2と、空気供給部3と、改質部4と、バッファタンク5(蓄圧部)と、コントローラ6と、を備える。 FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a reforming system according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the reforming system 1 includes a raw material supply unit 2, an air supply unit 3, a reforming unit 4, a buffer tank 5 (accumulation unit), and a controller 6.

原料供給部2は、改質部4に水素含有原料を供給する。水素含有原料とは、組成の構成元素として水素を含む原料である。本実施形態では、水素含有原料としてアンモニア(NH)を採用する。原料供給部2は、液体状態でアンモニアを貯蔵するタンク2aと、当該液体状態のアンモニアを気化してアンモニアガスとする気化器2bと、を備える。タンク2aのアンモニアはラインL1を介して気化器2bへ供給される。気化器2bは、ラインL2,L3を介して、ガス利用部11へアンモニアガスを供給する。なお、ラインL2とラインL3は、後述のラインL9との接続点P2にて互いに接続されている。気化器2bは、ラインL4を介して改質部4へアンモニアガスを供給する。 The raw material supply unit 2 supplies the hydrogen-containing raw material to the reforming unit 4. The hydrogen-containing raw material is a raw material containing hydrogen as a constituent element of the composition. In this embodiment, ammonia (NH 3 ) is used as the hydrogen-containing raw material. The raw material supply unit 2 includes a tank 2a that stores ammonia in a liquid state, and a vaporizer 2b that vaporizes the ammonia in the liquid state into ammonia gas. Ammonia in the tank 2a is supplied to the vaporizer 2b via the line L1. The vaporizer 2b supplies ammonia gas to the gas utilization unit 11 via the lines L2 and L3. The line L2 and the line L3 are connected to each other at a connection point P2 with the line L9 described later. The vaporizer 2b supplies ammonia gas to the reforming unit 4 via the line L4.

ガス利用部11は、改質システム1から供給されるガスを利用する部分である。ガス利用部11としては、例えばアンモニアを燃料としたアンモニアエンジンまたはアンモニアガスタービン等の内燃機関が挙げられる。これらの内燃機関は、起動時に水素を利用する。 The gas utilization unit 11 is a portion that utilizes the gas supplied from the reforming system 1. Examples of the gas utilization unit 11 include an internal combustion engine such as an ammonia engine or an ammonia gas turbine using ammonia as fuel. These internal combustion engines utilize hydrogen at startup.

空気供給部3は、空気を改質部4へ供給する。空気供給部3としては、例えば大気中の空気を改質部4へ送る送風機等が用いられる。空気供給部3は、ラインL5を介して空気を改質部4へ供給する。 The air supply unit 3 supplies air to the reforming unit 4. As the air supply unit 3, for example, a blower or the like that sends air in the atmosphere to the reforming unit 4 is used. The air supply unit 3 supplies air to the reforming unit 4 via the line L5.

改質部4は、アンモニアガスを改質して、水素ガスを含有した改質ガスを生成する。改質部4は、アンモニアガスを水素に分解する改質触媒を有している。改質触媒は、アンモニアガスを水素に分解する機能に加え、アンモニアガスを燃焼させる機能も有してよい。改質触媒としては、例えばパラジウム、ロジウムまたは白金等が用いられる。改質部4にて生成された改質ガスは、ラインL6,L7を介してバッファタンク5に供給される。なお、ラインL6とラインL7は、後述のラインL9との接続点P1にて互いに接続されている。 The reforming unit 4 reforms ammonia gas to generate a reformed gas containing hydrogen gas. The reforming unit 4 has a reforming catalyst that decomposes ammonia gas into hydrogen. The reforming catalyst may have a function of burning ammonia gas in addition to a function of decomposing ammonia gas into hydrogen. As the reforming catalyst, for example, palladium, rhodium, platinum or the like is used. The reforming gas generated in the reforming unit 4 is supplied to the buffer tank 5 via the lines L6 and L7. The line L6 and the line L7 are connected to each other at a connection point P1 with the line L9 described later.

改質部4には、改質触媒の温度を検出する温度センサ20が設けられている。温度センサ20は、アンモニアガスが流入する改質触媒の入口部の温度、及び改質ガスが流出する改質触媒の出口部の温度の何れかを検出すればよい。 The reforming unit 4 is provided with a temperature sensor 20 that detects the temperature of the reforming catalyst. The temperature sensor 20 may detect either the temperature of the inlet of the reforming catalyst into which the ammonia gas flows in or the temperature of the outlet of the reforming catalyst in which the reforming gas flows out.

バッファタンク5は、改質部4で生成された改質ガスを蓄圧すると共に、蓄圧したガスを差圧によって供給可能なタンクである。バッファタンク5は、ラインL8を介してガス利用部11へガスを供給する。バッファタンク5は、ガスを高圧状態で貯留することができる。従って、バッファタンク5は、当該バッファタンク5よりも圧力が低いガス利用部11との差圧によって、ガスをガス利用部11へ供給することができる。バッファタンク5は、改質ガスに含まれるガスとして、水素ガス、窒素ガス、アンモニアガス、水蒸気を高圧状態で蓄圧する。バッファタンク5の圧力は特に限定されるものではないが、ガス利用部11に対するガスの供給を開始する時点では、少なくとも0.2MPa以上の圧力でガスを蓄圧していることが好ましい。バッファタンク5には、内部の圧力を検出する圧力センサ21と、蓄圧している水素の濃度を検出する水素濃度センサ22と、が設けられている。 The buffer tank 5 is a tank capable of accumulating the reformed gas generated by the reforming unit 4 and supplying the accumulated gas by a differential pressure. The buffer tank 5 supplies gas to the gas utilization unit 11 via the line L8. The buffer tank 5 can store the gas in a high pressure state. Therefore, the buffer tank 5 can supply gas to the gas utilization unit 11 by the differential pressure from the gas utilization unit 11 whose pressure is lower than that of the buffer tank 5. The buffer tank 5 stores hydrogen gas, nitrogen gas, ammonia gas, and water vapor as gases contained in the reforming gas in a high pressure state. The pressure of the buffer tank 5 is not particularly limited, but it is preferable that the gas is stored at a pressure of at least 0.2 MPa or more at the time when the supply of the gas to the gas utilization unit 11 is started. The buffer tank 5 is provided with a pressure sensor 21 for detecting the internal pressure and a hydrogen concentration sensor 22 for detecting the concentration of accumulated hydrogen.

上述のように、改質システム1は、ラインL1〜L8を備える。また、改質システム1は、改質部4及びバッファタンク5間のラインL6,L7と、気化器2b及びガス利用部11間のラインL2,L3と、を接続するラインL9を備える。このようなラインのうち、ラインL8は、バッファタンク5からガスをガス利用部11へ供給する供給ラインL21として機能する。ラインL6,L7は、改質部4から改質ガスをバッファタンク5へ蓄圧させる蓄圧ラインL22として機能する。ラインL6,L9,L3は、改質部4からバッファタンク5をバイパスさせて改質ガスを流すバイパスラインL23として機能する。 As described above, the reforming system 1 includes lines L1 to L8. Further, the reforming system 1 includes lines L6 and L7 connecting the reforming unit 4 and the buffer tank 5, and lines L2 and L3 between the vaporizer 2b and the gas utilization unit 11. Among such lines, the line L8 functions as a supply line L21 for supplying gas from the buffer tank 5 to the gas utilization unit 11. The lines L6 and L7 function as a pressure accumulating line L22 for accumulating the reformed gas from the reforming unit 4 to the buffer tank 5. The lines L6, L9, and L3 function as bypass lines L23 in which the reforming gas is flowed by bypassing the buffer tank 5 from the reforming unit 4.

改質システム1は、バイパスラインL23のラインL9に、バルブ12を備えている。バルブ12は、ラインL9の開閉を切り替える。改質システム1は、蓄圧ラインL22のラインL7に、バルブ13を備えている。バルブ13は、ラインL7の開閉を切り替える。バルブ12,13の組み合わせによって、切替部30が構成される。切替部30は、改質部4からの改質ガスの流れを蓄圧ラインL22とバイパスラインL23との間で切り替える。具体的に、切替部30は、バイパスラインL23側のバルブ12を閉とし、蓄圧ラインL22側のバルブ13を開とすることで、改質ガスの流れを蓄圧ラインL22に切り替える。切替部30は、バイパスラインL23側のバルブ12を開とし、蓄圧ラインL22側のバルブ13を閉とすることで、改質ガスの流れをバイパスラインL23に切り替える。ただし、切替部30は、改質ガスの全部をバイパスラインL23及び蓄圧ラインL22の何れかに流すのみならず、バルブ12,13の開度を調整することで、バイパスラインL23及び蓄圧ラインL22の両方に改質ガスを流してもよい。 The reforming system 1 includes a valve 12 on line L9 of bypass line L23. The valve 12 switches the opening and closing of the line L9. The reforming system 1 includes a valve 13 on line L7 of accumulator line L22. The valve 13 switches the opening and closing of the line L7. The switching unit 30 is configured by the combination of the valves 12 and 13. The switching unit 30 switches the flow of the reformed gas from the reforming unit 4 between the accumulator line L22 and the bypass line L23. Specifically, the switching unit 30 switches the reformed gas flow to the accumulator line L22 by closing the valve 12 on the bypass line L23 side and opening the valve 13 on the accumulator line L22 side. The switching unit 30 switches the reformed gas flow to the bypass line L23 by opening the valve 12 on the bypass line L23 side and closing the valve 13 on the accumulator line L22 side. However, the switching unit 30 not only allows the entire reformed gas to flow through either the bypass line L23 or the accumulator line L22, but also adjusts the opening degrees of the valves 12 and 13 to allow the bypass line L23 and the accumulator line L22 to flow. The reforming gas may flow through both.

改質システム1は、供給ラインL21のラインL8に、バルブ14を備えている。バルブ14は、ラインL8の開閉を切り替える。これにより、バルブ14は、ガス利用部11に対するバッファタンク5のガスの供給と停止を切り替えることができる。なお、バルブ14は、開度を調整することで、バッファタンク5からガス利用部11に対するガスの流量を調整することができる。 The reforming system 1 includes a valve 14 on line L8 of supply line L21. The valve 14 switches the opening and closing of the line L8. As a result, the valve 14 can switch between supplying and stopping the gas of the buffer tank 5 to the gas utilization unit 11. The valve 14 can adjust the flow rate of gas from the buffer tank 5 to the gas utilization unit 11 by adjusting the opening degree.

改質システム1は、気化器2b及び改質部4間のラインL4に、バルブ16を備えている。バルブ16は、ラインL4の開閉を切り替える。これにより、バルブ16は、改質部4に対する気化器2bのアンモニアガスの供給と停止を切り替えることができる。なお、バルブ16は、開度を調整することで、気化器2bから改質部4に対するガスの流量を調整することができる。改質システム1は、気化器2b及びガス利用部11間のラインL2に、バルブ17を備えている。バルブ17は、ラインL2の開閉を切り替える。これにより、バルブ17は、ガス利用部11に対する気化器2bのアンモニアガスの供給と停止を切り替えることができる。なお、バルブ17は、開度を調整することで、気化器2bからガス利用部11に対するガスの流量を調整することができる。 The reforming system 1 includes a valve 16 on the line L4 between the vaporizer 2b and the reforming unit 4. The valve 16 switches the opening and closing of the line L4. As a result, the valve 16 can switch between supplying and stopping the ammonia gas of the vaporizer 2b to the reforming unit 4. The valve 16 can adjust the flow rate of gas from the vaporizer 2b to the reforming unit 4 by adjusting the opening degree. The reforming system 1 includes a valve 17 on the line L2 between the vaporizer 2b and the gas utilization unit 11. The valve 17 switches the opening and closing of the line L2. As a result, the valve 17 can switch between supplying and stopping the ammonia gas of the vaporizer 2b to the gas utilization unit 11. The valve 17 can adjust the flow rate of gas from the vaporizer 2b to the gas utilization unit 11 by adjusting the opening degree.

コントローラ6は、改質システム1全体を制御する制御部である。コントローラ6は、CPU、RAM、ROM及び入出力インターフェース等により構成されている。コントローラ6は、原料供給部2、空気供給部3、及びバルブ12,13,14,16,17に電気的に接続されており、これらに対して制御信号を送信する。また、コントローラ6は、温度センサ20、圧力センサ21、及び水素濃度センサ22に電気的に接続されている。コントローラ6は、温度センサ20によって検出された改質部4の改質触媒の温度を取得する。コントローラ6は、温度センサ20の検出結果から改質部4が目標温度になったことを判定することができる。ここで、目標温度とは、改質部4が定常運転を行うことができる温度であり、例えば600℃に設定されてよい。定常運転時には、改質部4は、設定された一定量の水素を生成することができる。ただし、具体的な目標温度は当該温度に限定されるものではない。コントローラ6は、圧力センサ21及び水素濃度センサ22の検出結果に基づいて、バッファタンク5に対する蓄圧が完了したか否かを判定できる。コントローラ6は、温度センサ20、圧力センサ21、及び水素濃度センサ22の検出結果に基づいて、原料供給部2、空気供給部3、及びバルブ12,13,14,16,17を制御する。 The controller 6 is a control unit that controls the entire reforming system 1. The controller 6 is composed of a CPU, RAM, ROM, an input / output interface, and the like. The controller 6 is electrically connected to the raw material supply unit 2, the air supply unit 3, and the valves 12, 13, 14, 16, and 17, and transmits control signals to these. Further, the controller 6 is electrically connected to the temperature sensor 20, the pressure sensor 21, and the hydrogen concentration sensor 22. The controller 6 acquires the temperature of the reforming catalyst of the reforming unit 4 detected by the temperature sensor 20. The controller 6 can determine from the detection result of the temperature sensor 20 that the reforming unit 4 has reached the target temperature. Here, the target temperature is a temperature at which the reforming unit 4 can perform steady operation, and may be set to, for example, 600 ° C. During steady operation, the reforming unit 4 can generate a set constant amount of hydrogen. However, the specific target temperature is not limited to the temperature. The controller 6 can determine whether or not the pressure accumulation on the buffer tank 5 is completed based on the detection results of the pressure sensor 21 and the hydrogen concentration sensor 22. The controller 6 controls the raw material supply unit 2, the air supply unit 3, and the valves 12, 13, 14, 16, 17 based on the detection results of the temperature sensor 20, the pressure sensor 21, and the hydrogen concentration sensor 22.

コントローラ6は、改質システム1の起動時には、原料供給部2、空気供給部3をONとすると共に、バルブ13,14,16,17を開とし、バルブ12を閉とする。ただし、コントローラ6は、起動直後だけは、バルブ12を開とし、バルブ13を閉としておくことで、バッファタンク5からガスが逆流することを防止する。コントローラ6は、改質部4の改質触媒が目標温度になったら、バッファタンク5からガス利用部11へ供給するガスの流量を抑えると共に、バッファタンク5へ改質ガスを蓄圧する。具体的には、コントローラ6は、バルブ14の開度を少なくすることでガス利用部11に対するガスの流量を絞る。 When the reforming system 1 is started, the controller 6 turns on the raw material supply unit 2 and the air supply unit 3, opens the valves 13, 14, 16 and 17, and closes the valve 12. However, the controller 6 prevents the gas from flowing back from the buffer tank 5 by opening the valve 12 and closing the valve 13 only immediately after the start. When the reforming catalyst of the reforming unit 4 reaches the target temperature, the controller 6 suppresses the flow rate of the gas supplied from the buffer tank 5 to the gas utilization unit 11 and stores the reforming gas in the buffer tank 5. Specifically, the controller 6 reduces the opening degree of the valve 14 to reduce the flow rate of gas with respect to the gas utilization unit 11.

コントローラ6は、バッファタンク5のガスが所定量となったら、改質部4からの改質ガスをバイパスラインL23へ流す。具体的には、コントローラ6は、バルブ13,14を閉として、バルブ12を開とする。なお、コントローラ6は、バッファタンク5のガスが所定量となったか否かの判定をどのように行ってもよいが、圧力センサ21及び水素濃度センサ22の検出結果に基づいて、判定を行ってよい。すなわち、コントローラ6は、圧力センサ21によって検出された圧力が、所定の閾値に達したら、バッファタンク5のガスが所定量となったと判定してよい。また、コントローラ6は、圧力センサ21に基づく条件、及び水素濃度センサ22に基づく条件を両方満たしたときに、バッファタンク5のガスが所定量となったと判定してよい。 When the amount of gas in the buffer tank 5 reaches a predetermined amount, the controller 6 causes the reformed gas from the reforming unit 4 to flow to the bypass line L23. Specifically, the controller 6 closes the valves 13 and 14 and opens the valve 12. The controller 6 may determine whether or not the amount of gas in the buffer tank 5 has reached a predetermined amount, but the controller 6 makes a determination based on the detection results of the pressure sensor 21 and the hydrogen concentration sensor 22. Good. That is, when the pressure detected by the pressure sensor 21 reaches a predetermined threshold value, the controller 6 may determine that the gas in the buffer tank 5 has reached a predetermined amount. Further, the controller 6 may determine that the amount of gas in the buffer tank 5 has reached a predetermined amount when both the condition based on the pressure sensor 21 and the condition based on the hydrogen concentration sensor 22 are satisfied.

これにより、改質システム1の起動時において、バッファタンク5はガス利用部11へ供給ラインL21を介してガスを供給する。切替部30は、バッファタンク5に蓄圧されるガスが所定量となるまでは改質ガスを蓄圧ラインL22に流し、バッファタンク5に蓄圧されるガスが所定量となったら改質ガスをバイパスラインL23に流す。 As a result, when the reforming system 1 is started, the buffer tank 5 supplies gas to the gas utilization unit 11 via the supply line L21. The switching unit 30 allows the reformed gas to flow through the accumulator line L22 until the amount of gas accumulated in the buffer tank 5 reaches a predetermined amount, and bypasses the reformed gas when the amount of gas accumulated in the buffer tank 5 reaches a predetermined amount. Flow to L23.

次に、図2及び図3を参照して、改質システム1の動作について説明する。図2は、各種構成要素の状態を示すグラフである。図2の「改質部温度」は、改質部4の改質触媒の温度を示すグラフである。図2の「改質部出口ガス」は、改質ガスに含まれるH及びNHの濃度を示すグラフである。図2の「バッファタンク圧」はバッファタンク5の圧力を示すグラフである。図2の「バルブ12,13,14,16,17」は、バルブ12,13,14,16,17の切替状態を示すグラフである。グラフの上段側はバルブ12,13,14,16,17が開となっていることを示し、下段側はバルブ12,13,14,16,17が閉となっていることを示す。図3は、改質システム1の動作を示すフローチャートである。図3の処理は、改質システム1の起動時においてコントローラ6で実行される処理である。 Next, the operation of the reforming system 1 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is a graph showing the states of various components. The “reformer temperature” in FIG. 2 is a graph showing the temperature of the reformer of the reformer 4. The “reformer outlet gas” in FIG. 2 is a graph showing the concentrations of H 2 and NH 3 contained in the reformed gas. The “buffer tank pressure” in FIG. 2 is a graph showing the pressure of the buffer tank 5. “Valve 12, 13, 14, 16, 17” in FIG. 2 is a graph showing a switching state of valves 12, 13, 14, 16, 17. The upper side of the graph shows that the valves 12, 13, 14, 16 and 17 are open, and the lower side shows that the valves 12, 13, 14, 16 and 17 are closed. FIG. 3 is a flowchart showing the operation of the reforming system 1. The process of FIG. 3 is a process executed by the controller 6 when the reforming system 1 is started.

図3に示すように、改質システム1の起動がなされたら、コントローラ6は、起動処理を実行する(ステップS10)。S10では、コントローラ6は、原料供給部2、空気供給部3をONとすると共に、バルブ13,14,16,17を開とし、バルブ12を閉とする。これにより、バッファタンク5は、ガス利用部11へ供給ラインL21を介してガスを速やかに供給する。ただし、コントローラ6は、起動直後の一定時間だけは、バルブ12を開とし、バルブ13を閉としておくことで、バッファタンク5からガスが逆流することを防止する。また、気化器2bは、ガス利用部11へラインL2,L3を介してアンモニアガスを供給する。また、気化器2bは、改質部4へラインL4を介してアンモニアガスを供給する。空気供給部3は、改質部4へラインL5を介して空気を供給する。改質部4は、蓄圧ラインL22を介して改質ガスをバッファタンク5へ供給する。 As shown in FIG. 3, when the reforming system 1 is started, the controller 6 executes the start processing (step S10). In S10, the controller 6 turns on the raw material supply unit 2 and the air supply unit 3, opens the valves 13, 14, 16 and 17, and closes the valve 12. As a result, the buffer tank 5 promptly supplies gas to the gas utilization unit 11 via the supply line L21. However, the controller 6 keeps the valve 12 open and the valve 13 closed for a certain period of time immediately after the start, thereby preventing the gas from flowing back from the buffer tank 5. Further, the vaporizer 2b supplies ammonia gas to the gas utilization unit 11 via the lines L2 and L3. Further, the vaporizer 2b supplies ammonia gas to the reforming unit 4 via the line L4. The air supply unit 3 supplies air to the reforming unit 4 via the line L5. The reforming unit 4 supplies the reforming gas to the buffer tank 5 via the accumulator line L22.

S10の処理がなされると、改質部4では、改質触媒によりアンモニアが酸化されて燃焼熱が発生する。下記式のように、一部のアンモニアと酸素とが化学反応することで、アンモニアが着火して燃焼する燃焼反応が起こり、燃焼熱が発生する(発熱反応)。
NH+3/4O→1/2N+3/2HO+Q
When the treatment of S10 is performed, ammonia is oxidized by the reforming catalyst in the reforming unit 4, and combustion heat is generated. As shown in the formula below, a chemical reaction between a part of ammonia and oxygen causes a combustion reaction in which ammonia ignites and burns, and combustion heat is generated (exothermic reaction).
NH 3 + 3/4O 2 → 1 / 2N 2 + 3 / 2H 2 O + Q

そして、改質触媒によりアンモニアが改質されて改質ガスが生成される。具体的には、下記式のように、燃焼熱によってアンモニアが水素と窒素とに分解される改質反応が起こり、水素がリッチな状態の改質ガスが生成される(吸熱反応)。
NH→3/2H+1/2N−Q
Then, ammonia is reformed by the reforming catalyst to generate a reformed gas. Specifically, as shown in the following formula, a reforming reaction occurs in which ammonia is decomposed into hydrogen and nitrogen by the heat of combustion, and a reformed gas in a hydrogen-rich state is generated (endothermic reaction).
NH 3 → 3 / 2H 2 + 1 / 2N 2 −Q

アンモニアガスの改質反応が開始されると、改質触媒の温度が上昇する。従って、図2に示すように、改質部4での改質が徐々に進むことによって、改質部4の改質ガスの水素濃度及び改質部4の温度は徐々に上昇し、改質ガスの未反応のアンモニアの濃度は徐々に低くなる。バッファタンク5は、ガス利用部11へガスを供給するため、バッファタンク5の圧力が徐々に低下する。 When the reforming reaction of ammonia gas is started, the temperature of the reforming catalyst rises. Therefore, as shown in FIG. 2, as the reforming in the reforming section 4 gradually progresses, the hydrogen concentration of the reforming gas in the reforming section 4 and the temperature of the reforming section 4 gradually increase, and the reforming occurs. The concentration of unreacted ammonia in the gas gradually decreases. Since the buffer tank 5 supplies gas to the gas utilization unit 11, the pressure in the buffer tank 5 gradually decreases.

次に、コントローラ6は、改質部4の改質触媒の温度が目標温度となったか否かを判定する(ステップS20)。S20において、改質部4の改質触媒の温度が目標温度となっていないと判定された場合、コントローラ6は、S10で設定した状態を維持しながら、S20の処理を再び行う。 Next, the controller 6 determines whether or not the temperature of the reforming catalyst of the reforming unit 4 has reached the target temperature (step S20). When it is determined in S20 that the temperature of the reforming catalyst of the reforming unit 4 has not reached the target temperature, the controller 6 performs the processing of S20 again while maintaining the state set in S10.

S20において、改質部4の改質触媒の温度が目標温度となったと判定された場合(図2にて「t1」で示す時刻における状態)、コントローラ6は、蓄圧処理を実行する(ステップS30)。S30では、コントローラ6は、バルブ14の開度を少なくすることでガス利用部11に対するガスの流量を絞る。これにより、バッファタンク5からガス利用部11へ供給するガスの流量が抑えられ、バッファタンク5へ改質ガスが蓄圧される。従って、図2に示すように、バッファタンク5の圧力及び水素濃度が徐々に上昇する。 When it is determined in S20 that the temperature of the reforming catalyst of the reforming unit 4 has reached the target temperature (state at the time indicated by "t1" in FIG. 2), the controller 6 executes the accumulator process (step S30). ). In S30, the controller 6 reduces the opening degree of the valve 14 to reduce the flow rate of gas with respect to the gas utilization unit 11. As a result, the flow rate of the gas supplied from the buffer tank 5 to the gas utilization unit 11 is suppressed, and the reformed gas is accumulated in the buffer tank 5. Therefore, as shown in FIG. 2, the pressure and hydrogen concentration of the buffer tank 5 gradually increase.

次に、コントローラ6は、バッファタンク5での蓄圧が完了したか否かを判定する(ステップS40)。コントローラ6は、バッファタンク5のガスが所定量となったか否かを判定することで、蓄圧が完了したか否かを判定する。S40において、バッファタンク5のガスが所定量となっていないと判定された場合、コントローラ6は、S30で設定した状態を維持しながら、S40の処理を再び行う。 Next, the controller 6 determines whether or not the pressure accumulation in the buffer tank 5 is completed (step S40). The controller 6 determines whether or not the accumulator has been completed by determining whether or not the amount of gas in the buffer tank 5 has reached a predetermined amount. When it is determined in S40 that the amount of gas in the buffer tank 5 is not a predetermined amount, the controller 6 performs the process of S40 again while maintaining the state set in S30.

S40において、バッファタンク5のガスが所定量となっていると判定された場合、コントローラ6は、バルブ13,14を閉として、バルブ12を開とする。これにより、切替部30は、改質部4からの改質ガスをバイパスラインL23へ流す。当該改質ガスは、バイパスラインL23を介してガス利用部11へ供給される。以降は、改質システム1が停止するまで同じ状態が維持され、図3に示す処理が終了する。 When it is determined in S40 that the amount of gas in the buffer tank 5 is a predetermined amount, the controller 6 closes the valves 13 and 14 and opens the valve 12. As a result, the switching unit 30 causes the reformed gas from the reforming unit 4 to flow to the bypass line L23. The reformed gas is supplied to the gas utilization unit 11 via the bypass line L23. After that, the same state is maintained until the reforming system 1 is stopped, and the process shown in FIG. 3 is completed.

次に、本実施形態に係る改質システム1の作用・効果について説明する。 Next, the operation and effect of the reforming system 1 according to the present embodiment will be described.

改質システム1は、改質部4で生成された改質ガスを蓄圧すると共に、蓄圧したガスを差圧によって供給可能なバッファタンク5と、バッファタンク5からガスを利用するガス利用部11へ供給する供給ラインL21と、を備える。この場合、バッファタンク5は、供給ラインL21側での圧力を解放することによって、速やかに蓄圧したガスを供給することができる。すなわち、改質部4での改質が安定しない状態であっても、ガス利用部11にて必要になったタイミングにて、バッファタンク5が速やかにガス利用部11にガスを供給することができる。このように、ガス利用部11に速やかにガスが供給されると、ガス利用部11のエンジンやタービンは、ガスに含まれる水素を用いることで、速やかに起動することができる。これにより、エンジンやタービンの起動時間が短縮される。ここで、改質システム1は、改質部4から改質ガスをバッファタンク5へ蓄圧させる蓄圧ラインL22に加えて、改質部4からバッファタンク5をバイパスさせて改質ガスを流すバイパスラインL23を備えている。そして、切替部30は、改質部4からの改質ガスの流れを蓄圧ラインL22とバイパスラインL23との間で切り替えることができる。 The reforming system 1 accumulates the reformed gas generated by the reforming unit 4, and supplies the accumulated gas by a differential pressure to the buffer tank 5 and the gas utilization unit 11 that uses the gas from the buffer tank 5. A supply line L21 for supplying is provided. In this case, the buffer tank 5 can quickly supply the accumulated gas by releasing the pressure on the supply line L21 side. That is, even if the reforming in the reforming unit 4 is not stable, the buffer tank 5 can promptly supply the gas to the gas utilization unit 11 at the timing required by the gas utilization unit 11. it can. As described above, when the gas is promptly supplied to the gas utilization unit 11, the engine and the turbine of the gas utilization unit 11 can be started promptly by using the hydrogen contained in the gas. This reduces the start-up time of the engine and turbine. Here, in the reforming system 1, in addition to the pressure accumulating line L22 that accumulates the reformed gas from the reforming unit 4 into the buffer tank 5, a bypass line that bypasses the buffer tank 5 from the reforming unit 4 to flow the reformed gas. It is equipped with L23. Then, the switching unit 30 can switch the flow of the reformed gas from the reforming unit 4 between the accumulator line L22 and the bypass line L23.

この場合、改質部4での改質が安定したら、改質部4は、バッファタンク5をバイパスしてガス利用部11へ改質ガスを供給することが可能となる。例えば、バイパスラインL23が設けられていない場合は、改質システム1は、改質部4の改質ガスの供給が安定した後も、バッファタンク5からガス利用部11へガスを供給することになる。この場合、バッファタンク5内のガスの圧力が低下した状態で運転が終了したときなどに、次のガス利用部11のエンジンやタービンの起動時に、バッファタンク5から速やかにガスを供給できない可能性がある。これに対し、バイパスラインL23が設けられている場合、改質部4での改質が安定した後は、バッファタンク5に蓄圧されたガスを用いなくてよくなる。従って、バッファタンク5は、次に必要となったタイミングにて、速やかにガス利用部11へガスを供給することができる。また、バッファタンク5の蓄圧後、バイパスラインL23からガス利用部11へ改質ガスを供給する場合は、改質部4の動作圧力を下げてもよく、これにより改質率を上げることが可能である。以上により、改質システム1は、必要なタイミングで速やかにガス利用部11にガスを供給することができる。 In this case, when the reforming in the reforming unit 4 is stable, the reforming unit 4 can bypass the buffer tank 5 and supply the reformed gas to the gas utilization unit 11. For example, when the bypass line L23 is not provided, the reforming system 1 supplies gas from the buffer tank 5 to the gas utilization unit 11 even after the supply of the reforming gas of the reforming unit 4 is stable. Become. In this case, there is a possibility that the gas cannot be quickly supplied from the buffer tank 5 when the engine or turbine of the next gas utilization unit 11 is started, such as when the operation is completed with the pressure of the gas in the buffer tank 5 lowered. There is. On the other hand, when the bypass line L23 is provided, it is not necessary to use the gas accumulated in the buffer tank 5 after the reforming in the reforming section 4 is stable. Therefore, the buffer tank 5 can promptly supply gas to the gas utilization unit 11 at the next required timing. Further, when the reforming gas is supplied from the bypass line L23 to the gas utilization unit 11 after accumulating the pressure in the buffer tank 5, the operating pressure of the reforming unit 4 may be lowered, whereby the reforming rate can be increased. Is. As described above, the reforming system 1 can promptly supply gas to the gas utilization unit 11 at a required timing.

改質システム1の起動時において、バッファタンク5はガス利用部11へ供給ラインL21を介してガスを供給する。改質システム1の起動時は、改質部4での改質が安定しない。このようなタイミングにて、バッファタンク5はガス利用部11へ速やかにガスを供給することができる。 When the reforming system 1 is started, the buffer tank 5 supplies gas to the gas utilization unit 11 via the supply line L21. When the reforming system 1 is started, the reforming in the reforming unit 4 is not stable. At such a timing, the buffer tank 5 can quickly supply gas to the gas utilization unit 11.

切替部30は、バッファタンク5に蓄圧されるガスが所定量となるまでは改質ガスを蓄圧ラインL22に流し、バッファタンク5に蓄圧されるガスが所定量となったら改質ガスをバイパスラインL23に流す。これにより、次にバッファタンク5からガス利用部11へガスを供給するときに、バッファタンク5は、十分な圧力でガスを供給することができる。 The switching unit 30 allows the reformed gas to flow through the accumulator line L22 until the amount of gas accumulated in the buffer tank 5 reaches a predetermined amount, and bypasses the reformed gas when the amount of gas accumulated in the buffer tank 5 reaches a predetermined amount. Flow to L23. As a result, the buffer tank 5 can supply the gas at a sufficient pressure the next time the gas is supplied from the buffer tank 5 to the gas utilization unit 11.

本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。 The present invention is not limited to the above-described embodiment.

例えば、図4(a)に示す構成が採用されてもよい。図4(a)では、蓄圧ラインL22には、改質ガスから水素を分離してバッファタンク5に供給する分離膜31(分離部)が設けられている。この分離膜31は、改質ガスのうち、水素ガスを他の成分のガスから分離し、当該分離した水素ガスをバッファタンク5へ供給する。この場合、バッファタンク5内の水素の純度を高めることができるため、バッファタンク5の小型化を図ることができる。 For example, the configuration shown in FIG. 4A may be adopted. In FIG. 4A, the accumulator line L22 is provided with a separation membrane 31 (separation portion) that separates hydrogen from the reformed gas and supplies it to the buffer tank 5. The separation membrane 31 separates hydrogen gas from the gas of other components among the reforming gases, and supplies the separated hydrogen gas to the buffer tank 5. In this case, since the purity of hydrogen in the buffer tank 5 can be increased, the size of the buffer tank 5 can be reduced.

また、図4(b)に示す構成が採用されてもよい。図4(b)では、蓄圧ラインL22には、改質ガスをバッファタンク5へ圧送するポンプ40が設けられている。この場合、バッファタンク5の圧力を高くすることができるため、バッファタンク5の小型化を図ることができる。 Further, the configuration shown in FIG. 4B may be adopted. In FIG. 4B, the accumulator line L22 is provided with a pump 40 that pumps the reformed gas to the buffer tank 5. In this case, since the pressure of the buffer tank 5 can be increased, the size of the buffer tank 5 can be reduced.

また、図5に示す構成が採用されてもよい。図5に示す改質システム1は、バッファタンク5のガスを改質部4へ戻すリターンラインL10を更に備える。また、リターンラインL10には、バルブ25が設けられる。コントローラ6は、改質システム1の起動時に、バルブ25を開とすることで、バッファタンク5内のガスを改質部4へ速やかに供給する。改質部4では、バッファタンク5のガスを用いて、例えばグロープラグにより速やかに着火し、水素の燃焼熱で改質触媒を加熱することができる。この場合、改質システム1の起動時において、改質部4がバッファタンク5のガスを用いることで、起動時間を短くすることができる。 Further, the configuration shown in FIG. 5 may be adopted. The reforming system 1 shown in FIG. 5 further includes a return line L10 for returning the gas in the buffer tank 5 to the reforming unit 4. Further, a valve 25 is provided on the return line L10. The controller 6 promptly supplies the gas in the buffer tank 5 to the reforming unit 4 by opening the valve 25 when the reforming system 1 is started. In the reforming section 4, the gas in the buffer tank 5 can be used to quickly ignite with, for example, a glow plug, and the reforming catalyst can be heated by the heat of combustion of hydrogen. In this case, when the reforming system 1 is started, the reforming unit 4 uses the gas in the buffer tank 5, so that the starting time can be shortened.

ガス利用部11として、エンジンやタービンの他、水素と空気中の酸素とを化学反応させて発電を行う燃料電池等が採用されてもよい。 In addition to the engine and turbine, a fuel cell or the like that chemically reacts hydrogen with oxygen in the air to generate electricity may be adopted as the gas utilization unit 11.

上述の実施形態では、切替部30が、バルブ12,13によって構成されていたが、切替方法は特に限定されず、例えば、三方弁などをもちいて、蓄圧ラインとバイパスラインとを切り替えてもよい。 In the above-described embodiment, the switching unit 30 is composed of valves 12 and 13, but the switching method is not particularly limited, and for example, a three-way valve or the like may be used to switch between the accumulator line and the bypass line. ..

また、上記実施形態では、酸化性ガスとして空気を使用しているが、特にその形態には限られず、酸化性ガスとして酸素を使用してもよい。 Further, in the above embodiment, air is used as the oxidizing gas, but the embodiment is not particularly limited, and oxygen may be used as the oxidizing gas.

また、上記実施形態では、燃料ガスとしてアンモニアガスを使用しているが、本発明は、燃料ガスとして炭化水素ガス等を使用した改質システムにも適用可能である。 Further, in the above embodiment, ammonia gas is used as the fuel gas, but the present invention can also be applied to a reforming system using a hydrocarbon gas or the like as the fuel gas.

1…改質システム、2…原料供給部、4…改質部、5…バッファタンク(蓄圧部)、31…切替部、30…分離膜(分離部)、40…ポンプ、L21…供給ライン、L22…蓄圧ライン、L23…バイパスライン、L10…リターンライン。 1 ... reforming system, 2 ... raw material supply section, 4 ... reforming section, 5 ... buffer tank (accumulation section), 31 ... switching section, 30 ... separation membrane (separation section), 40 ... pump, L21 ... supply line, L22 ... Accumulation line, L23 ... Bypass line, L10 ... Return line.

Claims (6)

水素含有原料を水素に分解する改質触媒を有し、前記水素含有原料を改質して水素ガスを含有した改質ガスを生成する改質部と、
前記改質部に前記水素含有原料を供給する原料供給部と、
前記改質部で生成された前記改質ガスを蓄圧すると共に、蓄圧したガスを差圧によって供給可能な蓄圧部と、
前記蓄圧部から前記ガスを利用するガス利用部へ供給する供給ラインと、
前記改質部から前記改質ガスを前記蓄圧部へ蓄圧させる蓄圧ラインと、
前記改質部から前記蓄圧部をバイパスさせて前記改質ガスを流すバイパスラインと、
前記改質部からの前記改質ガスの流れを前記蓄圧ラインと前記バイパスラインとの間で切り替える切替部と、を備える、改質システム。
A reforming unit having a reforming catalyst that decomposes a hydrogen-containing raw material into hydrogen and reforming the hydrogen-containing raw material to generate a reformed gas containing hydrogen gas.
A raw material supply unit that supplies the hydrogen-containing raw material to the reforming unit,
A pressure accumulating unit capable of accumulating the reformed gas generated in the reforming unit and supplying the accumulated gas by a differential pressure.
A supply line that supplies the gas from the accumulator to the gas utilization unit that uses the gas.
An accumulator line for accumulating the reformed gas from the reformed portion to the accumulator portion,
A bypass line that bypasses the pressure accumulator from the reformed portion and allows the reformed gas to flow.
A reforming system including a switching section for switching the flow of the reforming gas from the reforming section between the accumulator line and the bypass line.
前記改質システムの起動時において、前記蓄圧部は前記ガス利用部へ前記供給ラインを介して前記ガスを供給する、請求項1に記載の改質システム。 The reforming system according to claim 1, wherein when the reforming system is started, the pressure accumulating section supplies the gas to the gas utilization section via the supply line. 前記切替部は、前記蓄圧部に蓄圧される前記ガスが所定量となるまでは前記改質ガスを前記蓄圧ラインに流し、前記蓄圧部に蓄圧される前記ガスが前記所定量となったら前記改質ガスを前記バイパスラインに流す、請求項1または2に記載の改質システム。 The switching unit causes the reformed gas to flow through the accumulator line until the amount of the gas accumulated in the accumulator reaches a predetermined amount, and when the amount of the gas accumulated in the accumulator reaches the predetermined amount, the modification is performed. The reforming system according to claim 1 or 2, wherein the quality gas is allowed to flow through the bypass line. 前記蓄圧ラインには、前記改質ガスから水素を分離して前記蓄圧部に供給する分離部が設けられる、請求項1〜3の何れか一項に記載の改質システム。 The reforming system according to any one of claims 1 to 3, wherein the pressure accumulating line is provided with a separating unit that separates hydrogen from the reforming gas and supplies it to the accumulating unit. 前記蓄圧ラインには、前記改質ガスを前記蓄圧部へ圧送するポンプが設けられる、請求項1〜4の何れか一項に記載の改質システム。 The reforming system according to any one of claims 1 to 4, wherein the pressure accumulating line is provided with a pump for pumping the reformed gas to the pressure accumulating portion. 前記蓄圧部の前記ガスを前記改質部へ戻すリターンラインを更に備える、請求項1〜5の何れか一項に記載の改質システム。 The reforming system according to any one of claims 1 to 5, further comprising a return line for returning the gas in the accumulator to the reforming section.
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