JP2020176429A - Monitoring system and monitoring method - Google Patents

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丈時 出路
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Abstract

To determine a cause of insufficient protection potential when electrolytic protection is performed on a steel foundation beam.SOLUTION: The monitoring system comprises: a concrete pile that is embedded in the ground and in which a plurality of pile reinforcements are arranged; a concrete bottom slab that is set on the surface of the ground and in which a plurality of slab reinforcements are arranged; and a steel foundation part that connects the pile and bottom slab, and at least part of which is embedded in the ground. The foundation part comprises: a steel pile head joint part that is connected to an upper end of the pile; a steel support part that extends upward from the pile head joint part; a current supply part that extends horizontally from the support part and supplies currents to foundation beams of a foundation structure including steel foundation beams that support the bottom slab; a receiving part that receives potential to ground information for foundation beams of the foundation structure; and a processing part that, based on potential to ground information, performs one of or both of the following: determination of whether low earth objects contact foundation beams and determination of whether the outflow of currents is occurring due to interference with stray currents.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明の実施形態は、監視システム、および監視方法に関する。 Embodiments of the present invention relate to monitoring systems and monitoring methods.

従来、例えば特許文献1に示すような基礎構造が知られている。この基礎構造は、土壌中に埋設され、かつ内側に複数の杭鉄筋が配設されたコンクリート製の杭と、土壌の表面に設置され、かつ内側に複数のスラブ鉄筋が配設されたコンクリート製の床スラブと、杭と床スラブとを連結し、かつ少なくとも一部が土壌中に埋設された鋼製の基礎部とを備えている。
基礎部は、杭の上端部に連結された鋼製の杭頭接合部と、杭頭接合部から上方に向けて延びる鋼製の支柱部と、支柱部から水平方向に延びるとともに、床スラブを支持する鋼製の基礎梁とを備えている。
この基礎構造では、一般的な土壌でのミクロセル腐食だけではなく、コンクリート土壌マクロセル腐食(以下、「CSマクロセル腐食」という。)が生じる。この基礎構造では、杭鉄筋やスラブ鉄筋と、基礎部とが導通されていることから、これらの間に電位差が生じ、基礎部がアノードとなって基礎部でアノード反応が生じて杭鉄筋やスラブ鉄筋がカソードとなって杭鉄筋やスラブ鉄筋でカソード反応が生じ、アノードから土壌を通してカソードに腐食電流が流れアノードである基礎部にCSマクロセル腐食が生じる。このとき、基礎部の電位が貴側に移行する。
CSマクロセル腐食とミクロセル腐食を防止するため、鋼製の基礎部に塗装を施し、更にマグネシウム合金陽極などの電気防食を適用する技術がある。本技術では、鋼製の基礎部の塗装欠陥部に十分な防食電流密度が流入すると貴側であった鋼製の基礎部の対地電位が卑側に移行し、対地電位が防食電位より卑側になると鋼製の基礎部の防食が達成される。
電気防食では、対象の鋼製の基礎部に必要な防食電流密度を供給できるように必要な防食電流発生装置(例えばマグネシウム合金陽極)が設計される。
しかし、対象の鋼製の基礎部に他の金属物が接触すると、マグネシウム合金陽極から発生する防食電流は、対象の鋼製の基礎部以外の他の金属物にも流入するため、本来防食が必要であった鋼製の基礎部の防食電流密度は防食電位に達する値以下になる。そのため、鋼製の基礎部は電気防食を適用しているにもかかわらず、他の金属物の金属接触により防食電位未達となり腐食が発生する。このとき、金属接触している箇所の近傍のマグネシウム合金陽極の発生電流は増加する。鋼製の基礎部に接触する他の金属物としては、鋼製の建物への引き込み配管、工事の残置金属物、そのほか土中の金属物などがある。
また、直流電気鉄道などが原因となる迷走電流が流れている土壌に、鋼製の基礎部が設置されている場合、迷走電流は低接地構造体である鋼製の基礎部を含むコンクリート杭やマグネシウム合金陽極に流出入する。迷走電流が流入する箇所は、電位が卑側に移行して電気防食と同じように防食効果が得られるが、流出する箇所では対地電位が貴側に移行し、迷走電流腐食(電食)が発生する。このように迷走電流の流出入によって、対象物の対地電位が卑側や貴側に移行する現象を干渉という。
このとき、迷走電流がマグネシウム合金に流入する場合には、陽極の対地電位が卑化するとともに陽極の発生電流は抑制されるが、迷走電流がマグネシウム合金から流出する場合には、陽極の対地電位が貴化するとともに陽極の発生電流は迷走電流分増加し、陽極の溶解が電流増加分進行する。そのため陽極設計で見込んだ陽極の耐用年数前に陽極が消耗してしまう問題が発生する。
Conventionally, for example, a basic structure as shown in Patent Document 1 is known. This foundation structure is made of concrete piles buried in the soil and having multiple slab reinforcing bars inside, and concrete piles installed on the surface of the soil and having multiple slab reinforcing bars inside. It has a floor slab, a steel foundation that connects the pile and the floor slab, and at least partly buried in the soil.
The foundation consists of a steel pile head joint connected to the upper end of the pile, a steel strut extending upward from the pile head joint, and a floor slab extending horizontally from the strut. It is equipped with a supporting steel foundation beam.
In this foundation structure, not only microcell corrosion in general soil but also concrete soil macrocell corrosion (hereinafter referred to as "CS macrocell corrosion") occurs. In this foundation structure, since the pile reinforcing bar or slab reinforcing bar and the foundation portion are conducted, a potential difference is generated between them, the foundation portion becomes an anode, and an anode reaction occurs at the foundation portion to cause the pile reinforcing bar or slab. Reinforcing bars serve as cathodes, and cathode reactions occur in pile reinforcing bars and slab reinforcing bars, and corrosion current flows from the anode to the cathode through the soil, causing CS macrocell corrosion in the foundation, which is the anode. At this time, the potential of the base portion shifts to your side.
In order to prevent CS macrocell corrosion and microcell corrosion, there is a technique of applying coating to a steel base and further applying electrocorrosion protection such as a magnesium alloy anode. In this technology, when a sufficient anticorrosion current density flows into the coating defect of the steel foundation, the ground potential of the steel foundation on your side shifts to the base side, and the ground potential is on the base side of the anticorrosion potential. Then, corrosion protection of the steel foundation is achieved.
In electrocorrosion, the required anticorrosion current generator (eg, magnesium alloy anode) is designed so that the required anticorrosion current density can be supplied to the target steel foundation.
However, when another metal object comes into contact with the target steel base, the anticorrosion current generated from the magnesium alloy anode also flows into other metal objects other than the target steel foundation, so that corrosion protection is inherently achieved. The required anticorrosion current density of the steel base is below the value that reaches the anticorrosion potential. Therefore, although the steel foundation is provided with electrocorrosion protection, the corrosion protection potential is not reached due to metal contact with other metal objects, and corrosion occurs. At this time, the generated current of the magnesium alloy anode in the vicinity of the metal contact portion increases. Other metal objects that come into contact with the steel foundation include lead-in pipes to steel buildings, leftover metal objects for construction work, and other metal objects in the soil.
In addition, if a steel foundation is installed in the soil where the stray current is flowing due to a DC electric railway, etc., the stray current will be a concrete pile including the steel foundation, which is a low grounding structure. It flows in and out of the magnesium alloy anode. At the place where the stray current flows in, the potential shifts to the base side and the same anticorrosion effect as electrocorrosion is obtained, but at the place where it flows out, the ground potential shifts to your side and stray current corrosion (electrocorrosion) occurs. Occur. The phenomenon in which the ground potential of an object shifts to the base side or your side due to the inflow and outflow of stray current is called interference.
At this time, when the stray current flows into the magnesium alloy, the ground potential of the anode is lowered and the generated current of the anode is suppressed, but when the stray current flows out of the magnesium alloy, the ground potential of the anode is suppressed. However, the generated current of the anode increases by the stray current, and the dissolution of the anode progresses by the increase of the current. Therefore, there is a problem that the anode is consumed before the useful life of the anode expected in the anode design.

特開2005−068953号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-068953

仮に、鋼製の基礎部が電気防食されている場合でも、前述した理由によって、鋼製の基礎部が防食電位に達しない場合が想定される。鋼製の基礎部が防食電位に達しない原因として、鋼製の基礎部と導通する全ての鋼材(主に鉄筋)に他の金属物(低接地物)が接触すること、電鉄等からの迷走電流の干渉によって迷走電流が流出することなどが想定される。
しかし、鋼製の基礎部の防食電位に達しない箇所と原因とを特定することは、困難である。このため、パイプラインでは、防食電位に達しない箇所を検出する技術の開発が行われている。例えば、パイプラインに他の金属の接触がある場合の接触位置の検出法の一つに磁気センサー法がある。これは、電流をパイプラインに流し、パイプラインに流れる電流により発生する磁界を磁気センサーで、パイプラインに沿って連続測定していくものであるが、金属接触箇所でパイプラインに流れる電流が分岐することから、接触前後で磁界の大きさが変化し、磁界の大きさの変曲点から金属物との接触位置を検知するといった方法である。この方法は、パイプラインのような単純な延伸構造で効果を発揮するが、鋼製基礎の様な複雑な構造物では、鋼製基礎部に電流を流し磁界を測定しようとしても、部材同士の磁界が重なりあって、金属物の接触位置の検知は不可能である。このように、パイプラインで開発された技術を、鋼製の基礎部には適用できない。
Even if the steel foundation is electrolytically protected, it is assumed that the steel foundation does not reach the corrosion protection potential for the reasons described above. The reason why the steel foundation does not reach the anticorrosion potential is that all steel materials (mainly reinforcing bars) that conduct with the steel foundation come into contact with other metal objects (low grounding objects), and stray from electric railways, etc. It is assumed that stray current will flow out due to current interference.
However, it is difficult to identify the location where the anticorrosion potential of the steel foundation is not reached and the cause. For this reason, in the pipeline, a technique for detecting a portion that does not reach the anticorrosion potential is being developed. For example, there is a magnetic sensor method as one of the methods for detecting the contact position when there is contact with another metal in the pipeline. In this method, a current is passed through the pipeline, and the magnetic field generated by the current flowing through the pipeline is continuously measured along the pipeline with a magnetic sensor, but the current flowing through the pipeline branches at the metal contact point. Therefore, the magnitude of the magnetic field changes before and after the contact, and the contact position with the metal object is detected from the bending point of the magnitude of the magnetic field. This method is effective for simple stretched structures such as pipelines, but for complex structures such as steel foundations, even if an electric current is passed through the steel foundation to measure the magnetic field, the members will work together. Due to the overlapping magnetic fields, it is impossible to detect the contact position of a metal object. Thus, the technology developed in the pipeline cannot be applied to steel foundations.

本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであり、鋼製の基礎部が電気防食されている場合に、基礎部が防食電位に達しなくなった原因を特定できる監視システム、および監視方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and provides a monitoring system and a monitoring method capable of identifying the cause of the foundation portion not reaching the anticorrosion potential when the steel foundation portion is electrolytically protected. The purpose is to provide.

(1)本発明の一態様に係る監視システムは、土壌中に埋設され、かつ内側に複数の杭鉄筋が配設されたコンクリート製の杭と、前記土壌の表面に設置され、かつ内側に複数のスラブ鉄筋が配設されたコンクリート製の床スラブと、前記杭と前記床スラブとを連結し、かつ少なくとも一部が前記土壌中に埋設された鋼製の基礎部とを備え、前記基礎部は、杭の上端部に連結された鋼製の杭頭接合部と、杭頭接合部から上方に向けて延びる鋼製の支柱部と、支柱部から水平方向に延びるとともに、前記床スラブを支持する鋼製の基礎梁とを備える基礎構造の前記基礎部に防食電流を供給する電流供給部と、前記基礎構造の前記基礎部の対地電位を示す情報を受け付ける受付部と、前記受付部が受け付けた前記対地電位を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触しているか否かの判断と、迷走電流の干渉による電流流出が鋼製の基礎部で発生しているか否かの判定とのいずれか一方又は両方を行う処理部とを備える。 (1) The monitoring system according to one aspect of the present invention includes a concrete pile buried in the soil and having a plurality of pile reinforcements arranged inside, and a plurality of monitoring systems installed on the surface of the soil and inside. A concrete floor slab on which the slab reinforcements of the above are arranged, and a steel foundation portion connecting the pile and the floor slab and at least partially buried in the soil, said foundation portion. Supports the floor slab as well as a steel pile head joint connected to the upper end of the pile, a steel strut extending upward from the pile head joint, and extending horizontally from the strut. A current supply unit that supplies an anticorrosion current to the foundation portion of the foundation structure including a steel foundation beam, a reception unit that receives information indicating the ground potential of the foundation portion of the foundation structure, and the reception unit accepts information. Based on the information indicating the ground potential, it is determined whether or not a low ground object is in contact with the foundation, and whether or not a current outflow due to the interference of stray current is occurring in the steel foundation. It is provided with a processing unit that performs either one or both of the determinations.

この発明によれば、監視システムは、基礎構造の鋼製の基礎梁の対地電位を示す情報を受け付ける。このため、監視システムは、受け付けた対地電位を示す情報に基づいて、基礎部が低接地物と接触していることと、迷走電流の干渉により電流流出箇所が鋼製の基礎部で発生していることとのいずれか一方又は両方を判定する。 According to the present invention, the monitoring system receives information indicating the ground potential of a steel foundation beam of the foundation structure. For this reason, in the monitoring system, based on the information indicating the received ground potential, the base part is in contact with a low grounded object, and the current outflow point is generated in the steel base part due to the interference of the stray current. Determine one or both of the presence.

(2)本発明の一態様に係る監視システムは、上記(1)に係る監視システムであって、前記受付部は、陽極が発生する防食電流を示す情報を受け付け、前記処理部は、前記受付部が受け付けた前記防食電流を示す情報にさらに基づいて、前記基礎部に低接地物が接触しているか否かの判定と、迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かの判定とのいずれか一方又は両方を行う。 (2) The monitoring system according to one aspect of the present invention is the monitoring system according to (1) above, the reception unit receives information indicating the anticorrosion current generated by the anode, and the processing unit receives the reception. Further, based on the information indicating the anticorrosion current received by the unit, it is determined whether or not a low grounded object is in contact with the foundation portion, and whether or not a current outflow occurs due to the interference of the stray current. Do one or both of the above.

この場合、受付部は、陽極が発生する防食電流を示す情報を受け付ける。このため、監視システムは、受け付けた防食電流を示す情報にさらに基づいて、基礎部が低接地物と接触していることと、迷走電流の干渉により電流流出箇所が鋼製の基礎部で発生していることとのいずれか一方又は両方を判定する。 In this case, the reception unit receives information indicating the anticorrosion current generated by the anode. Therefore, in the monitoring system, based on the information indicating the received anticorrosion current, the base part is in contact with the low grounded object, and the current outflow point is generated in the steel base part due to the interference of the stray current. Determine one or both of the items.

(3)本発明の一態様に係る監視システムは、上記(1)又は上記(2)に記載の監視システムであって、前記受付部は、複数の前記基礎構造の各々の前記基礎部の前記対地電位を示す情報を受け付け、前記監視システムは、前記受付部が受け付けた複数の前記基礎構造の各々の前記基礎部の前記対地電位を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う特定部を備える。 (3) The monitoring system according to one aspect of the present invention is the monitoring system according to (1) or (2) above, and the reception unit is the above-mentioned basic unit of each of the plurality of basic structures. The monitoring system receives information indicating the ground potential, and the monitoring system contacts the base with a low ground object based on the information indicating the ground potential of each of the foundations of the plurality of foundation structures received by the reception. It is provided with a specific part for deriving one or both of the derivation of the position where the current is occurring and the position where the current outflow occurs due to the interference of the stray current.

この場合、監視システムは、複数の基礎構造の各々の基礎梁の対地電位を示す情報を受け付ける。このため、監視システムは、受け付けた複数の対地電位を示す情報に基づいて、基礎梁が低接地物と接触している位置と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置とのいずれか一方又は両方を導出できる。 In this case, the monitoring system receives information indicating the ground potential of each foundation beam of the plurality of foundation structures. Therefore, the monitoring system determines whether the foundation beam is in contact with the low grounded object or the position where the current outflow occurs due to the interference of the stray current, based on the information indicating the plurality of received ground potentials. One or both can be derived.

(4)本発明の一態様に係る監視システムは、上記(3)に記載の監視システムであって、前記特定部は、少なくとも三箇所の前記対地電位を示す情報によって定義される平面に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う。
この場合、監視システムは、少なくとも三箇所の対地電位を示す情報を受け付ける。このため、監視システムは、受け付けた少なくとも三箇所の対地電位を示す情報によって定義される平面に基づいて、基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う。
(4) The monitoring system according to one aspect of the present invention is the monitoring system according to (3) above, and the specific unit is based on a plane defined by information indicating the ground potential at at least three locations. , One or both of the derivation of the position where the low grounded object is in contact with the base portion and the derivation of the position where the current outflow due to the interference of the stray current is generated.
In this case, the monitoring system receives information indicating at least three potentials to the ground. For this reason, the monitoring system derives the position where the low ground object is in contact with the foundation based on the plane defined by the information indicating the ground potential at at least three points received, and the current outflow due to the interference of the stray current. Either or both of the derivation of the position where is occurring is performed.

(5)本発明の一態様に係る監視システムは、上記(1)に記載の監視システムであって、前記受付部は、複数の前記電流供給部の各々が複数の前記基礎構造の各々の基礎部に電流を供給することによって、複数の陽極の各々が発生する防食電流を示す情報を受け付け、前記受付部が受け付けた複数の前記陽極の各々が発生する前記防食電流を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う特定部を備える。
この場合、監視システムは、複数の陽極の各々が発生する防食電流を示す情報を受け付ける。このため、監視システムは、受け付けた複数の陽極の各々が発生する防食電流を示す情報に基づいて、基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う。
(5) The monitoring system according to one aspect of the present invention is the monitoring system according to (1) above, and in the reception unit, each of the plurality of current supply units is the basis of each of the plurality of basic structures. By supplying a current to the unit, information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes is received, and based on the information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes received by the reception unit. The base portion is provided with a specific portion that derives one or both of a position where a low ground contact object is in contact with the base portion and a position where a current outflow occurs due to interference of a stray current.
In this case, the monitoring system receives information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes. Therefore, the monitoring system derives the position where the low grounded object is in contact with the foundation based on the information indicating the anticorrosion current generated by each of the received plurality of anodes, and causes the current outflow due to the interference of the stray current. Either or both of the derivation of the generated position is performed.

(6)本発明の一態様に係る監視方法は、土壌中に埋設され、かつ内側に複数の杭鉄筋が配設されたコンクリート製の杭と、前記土壌の表面に設置され、かつ内側に複数のスラブ鉄筋が配設されたコンクリート製の床スラブと、前記杭と前記床スラブとを連結し、かつ少なくとも一部が前記土壌中に埋設された鋼製の基礎部とを備え、前記基礎部は、杭の上端部に連結された鋼製の杭頭接合部と、杭頭接合部から上方に向けて延びる鋼製の支柱部と、支柱部から水平方向に延びるとともに、前記床スラブを支持する鋼製の基礎梁とを備える基礎構造の前記基礎部に電流を供給するステップと、前記基礎構造の前記基礎部の対地電位を示す情報を受け付けるステップと、前記受け付けるステップで受け付けた前記対地電位を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触しているか否かの判定と、迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かの判定とのいずれか一方又は両方を行うステップとを有する監視システムが実行する監視方法である。 (6) The monitoring method according to one aspect of the present invention includes a concrete pile buried in the soil and having a plurality of pile reinforcing bars arranged inside, and a plurality of monitoring methods installed on the surface of the soil and inside. A concrete floor slab on which the slab reinforcing bars of the above slab are arranged, and a steel foundation portion connecting the pile and the floor slab and at least partially buried in the soil, said foundation portion. Supports the floor slab as well as a steel pile head joint connected to the upper end of the pile, a steel strut extending upward from the pile head joint, and extending horizontally from the strut. A step of supplying a current to the foundation portion of a foundation structure including a steel foundation beam, a step of receiving information indicating the ground potential of the foundation portion of the foundation structure, and a step of receiving the ground potential received in the receiving step. Based on the information indicating the above, one or both of the determination of whether or not a low ground object is in contact with the foundation portion and the determination of whether or not a current outflow occurs due to the interference of stray current is performed. It is a monitoring method executed by a monitoring system having steps.

(7)本発明の一態様に係る監視方法は、上記(6)に記載の監視方法であって、前記受け付けるステップでは、複数の前記基礎構造の各々の前記基礎部の前記対地電位を示す情報を受け付け、前記監視方法は、前記受け付けるステップで受け付けた複数の前記基礎構造の各々の前記基礎部の前記対地電位を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う特定ステップを有する。
(8)本発明の一態様に係る監視方法は、上記(7)に記載の監視方法であって、複数の前記基礎構造の各々の前記床スラブには、前記対地電位を測定する電位測定機が設置され、前記特定ステップでは、前記基礎部に低接地物が接触している床スラブの位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している床スラブの位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う。
(7) The monitoring method according to one aspect of the present invention is the monitoring method according to (6) above, and in the receiving step, information indicating the ground potential of each of the foundation parts of the plurality of foundation structures. In the monitoring method, the position where the low ground contact object is in contact with the foundation portion is based on the information indicating the ground potential of each of the foundation portions of the plurality of foundation structures received in the acceptance step. It has a specific step of performing one or both of the derivation and the derivation of the position where the current outflow due to the interference of the stray current is occurring.
(8) The monitoring method according to one aspect of the present invention is the monitoring method according to (7) above, and a potential measuring machine for measuring the ground potential is attached to each of the floor slabs of the plurality of foundation structures. Is installed, and in the specific step, either the position of the floor slab in which the low ground contact object is in contact with the foundation portion is derived, or the position of the floor slab in which the current outflow occurs due to the interference of the stray current is derived. Do one or both.

(9)本発明の一態様に係る監視方法は、上記(6)に記載の監視方法であって、前記受け付けるステップでは、複数の前記基礎構造の各々の基礎部に電流を供給することによって、複数の陽極の各々が発生する防食電流を示す情報を受け付け、前記監視方法は、前記受け付けるステップで受け付けた複数の前記陽極の各々が発生する前記防食電流を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う特定ステップを有する。
(10)本発明の一態様に係る監視方法は、上記(9)に記載の監視方法であって、複数の前記基礎構造の各々の前記床スラブには、前記防食電流を測定する電流測定機が設置され、前記特定ステップでは、前記基礎部に低接地物が接触している床スラブの位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している床スラブの位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う。
(9) The monitoring method according to one aspect of the present invention is the monitoring method according to (6) above, and in the receiving step, an electric current is supplied to each foundation portion of the plurality of foundation structures. Information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes is received, and the monitoring method applies to the foundation portion based on the information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes received in the receiving step. It has a specific step of deriving the position where the low ground object is in contact and deriving the position where the current outflow occurs due to the interference of the stray current, or both.
(10) The monitoring method according to one aspect of the present invention is the monitoring method according to (9) above, and a current measuring machine for measuring the anticorrosion current is attached to each of the floor slabs of the plurality of foundation structures. Is installed, and in the specific step, either the position of the floor slab in which the low ground contact object is in contact with the foundation portion is derived, or the position of the floor slab in which the current outflow occurs due to the interference of the stray current is derived. Do one or both.

本発明の実施形態によれば、鋼製の基礎梁が電気防食されている場合に、基礎梁が防食電位に達しなくなった原因である他金属との接触有無と位置や迷走電流の干渉による電流流出の発生有無と流出位置を特定することができる。 According to the embodiment of the present invention, when the steel foundation beam is electrically protected, the current due to the presence / absence of contact with other metals, the position, and the interference of the stray current, which is the cause of the foundation beam not reaching the corrosion protection potential. It is possible to specify whether or not an outflow has occurred and the location of the outflow.

本発明の実施形態に係る基礎構造を示す図である。It is a figure which shows the basic structure which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る監視システムの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the monitoring system which concerns on embodiment of this invention. 基礎床版の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the foundation floor slab. 本発明の実施形態に係る監視システムを構成する監視装置を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the monitoring apparatus which comprises the monitoring system which concerns on embodiment of this invention. 基礎梁の寸法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the dimension of a foundation beam. 参照電極の設置位置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the installation position of a reference electrode. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. 金属接触位置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a metal contact position. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. 基礎床版の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the foundation floor slab. 参照電極の設置位置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the installation position of a reference electrode. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. 金属接触位置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a metal contact position. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. シミュレーション結果の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the simulation result. 鋼製基礎梁の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a steel foundation beam. 金属物接触時のマグネシウム合金陽極発生電流の経時変化の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the time-dependent change of the magnesium alloy anode generation current at the time of contact with a metal object. 迷走電流の流出箇所のマグネシウム合金陽極の発生電流経時変化の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the time-dependent change of the generated current of the magnesium alloy anode at the outflow part of a stray current. 本実施形態の監視システムの動作の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the operation of the monitoring system of this embodiment. 本実施形態の監視システムの動作の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the operation of the monitoring system of this embodiment.

次に、本実施形態の監視システム、および監視方法を、図面を参照しつつ説明する。以下で説明する実施形態は一例に過ぎず、本発明が適用される実施形態は、以下の実施形態に限られない。
なお、実施形態を説明するための全図において、同一の機能を有するものは同一符号を用い、繰り返しの説明は省略する。
また、本願でいう「XXに基づいて」とは、「少なくともXXに基づく」ことを意味し、XXに加えて別の要素に基づく場合も含む。また、「XXに基づいて」とは、XXを直接に用いる場合に限定されず、XXに対して演算や加工が行われたものに基づく場合も含む。「XX」は、任意の要素(例えば、任意の情報)である。
Next, the monitoring system and the monitoring method of the present embodiment will be described with reference to the drawings. The embodiments described below are merely examples, and the embodiments to which the present invention is applied are not limited to the following embodiments.
In all the drawings for explaining the embodiment, the same reference numerals are used for those having the same function, and the repeated description will be omitted.
Further, "based on XX" in the present application means "based on at least XX", and includes a case where it is based on another element in addition to XX. Further, "based on XX" is not limited to the case where XX is used directly, but also includes the case where XX is calculated or processed. "XX" is an arbitrary element (for example, arbitrary information).

(実施形態)
(基礎構造)
図1は、本発明の実施形態に係る基礎構造を示す図である。
図1に示すように、本実施形態に係る基礎構造1は、土壌D中に埋設され、かつ内側に複数の杭鉄筋11が配設されたコンクリート製の杭10と、地面Gに設置され、かつ内側に複数のスラブ鉄筋21が配設されたコンクリート製の床スラブ20と、杭10と床スラブ20とを連結し、かつ少なくとも一部が土壌D中に埋設された鋼製の基礎部30と、基礎部30に防食電流を供給する電流供給部51とを備えている。基礎構造1では、電気防食法を採用している。
以下の説明において、杭10が延びる方向を上下方向Xといい、上下方向Xと直交する方向を水平方向という。
(Embodiment)
(Basic structure)
FIG. 1 is a diagram showing a basic structure according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the foundation structure 1 according to the present embodiment is installed on the ground G and a concrete pile 10 buried in the soil D and having a plurality of pile reinforcing bars 11 arranged inside. A concrete floor slab 20 in which a plurality of slab reinforcing bars 21 are arranged inside, and a steel foundation portion 30 which connects the pile 10 and the floor slab 20 and at least a part of which is buried in the soil D And a current supply unit 51 that supplies an anticorrosion current to the foundation unit 30. In the foundation structure 1, the electrocorrosion protection method is adopted.
In the following description, the direction in which the pile 10 extends is referred to as the vertical direction X, and the direction orthogonal to the vertical direction X is referred to as the horizontal direction.

杭10は筒状をなしている。杭10の周壁の内側に、複数の杭鉄筋11が配設されている。杭鉄筋11は周方向に間隔をあけて上下方向Xおよびスパイラル状に複数形成されている。
床スラブ20は、表裏面が上下方向Xを向く板状に形成され、上面視で矩形状を呈している。床スラブ20の内側には、スラブ鉄筋21が水平方向に間隔をあけて複数配設されている。
The pile 10 has a tubular shape. A plurality of pile reinforcing bars 11 are arranged inside the peripheral wall of the pile 10. A plurality of pile reinforcing bars 11 are formed in a vertical direction X and a spiral shape at intervals in the circumferential direction.
The front and back surfaces of the floor slab 20 are formed in a plate shape facing the vertical direction X, and have a rectangular shape when viewed from above. A plurality of slab reinforcing bars 21 are arranged inside the floor slab 20 at intervals in the horizontal direction.

基礎部30は、杭10の上端部に連結された鋼製の杭頭接合部31と、杭頭接合部31から上方に向けて延びる鋼製の支柱部32と、支柱部32から水平方向に延びるとともに、床スラブ20を支持する鋼製の基礎梁33と、を備えている。
杭頭接合部31は有頂筒状をなしている。杭頭接合部31の頂部には、支柱部32が立設されている。
杭頭接合部31は、杭鉄筋11と当接している。これにより、杭頭接合部31および杭鉄筋11は互いに導通されている。杭鉄筋11の上端部が、杭頭接合部31の下端開口縁と当接している。
The foundation portion 30 includes a steel pile head joint portion 31 connected to the upper end portion of the pile 10, a steel strut portion 32 extending upward from the pile head joint portion 31, and a strut portion 32 in the horizontal direction. It extends and includes a steel foundation beam 33 that supports the floor slab 20.
The pile head joint 31 has a ridged tubular shape. A strut portion 32 is erected at the top of the pile head joint portion 31.
The pile head joint portion 31 is in contact with the pile reinforcing bar 11. As a result, the pile head joint portion 31 and the pile reinforcing bar 11 are electrically connected to each other. The upper end of the pile reinforcing bar 11 is in contact with the lower end opening edge of the pile head joint 31.

支柱部32は地面Gの上方に向けて延びている。支柱部32は、床スラブ20の上面視における4隅をなす各角部に配置されている。図示の例では、支柱部32として、上面視でH字状を呈するH鋼が採用されているが、他に角形鋼管なども採用される。
基礎梁33は支柱部32に複数接続されている。基礎梁33は、床スラブ20の上面視における周縁部に配置され矩形状をなし、床スラブ20を下方から支持している。
The strut portion 32 extends upward toward the ground G. The support columns 32 are arranged at the four corners of the floor slab 20 in the top view. In the illustrated example, H-steel having an H-shape when viewed from above is used as the support column 32, but a square steel pipe or the like is also used.
A plurality of foundation beams 33 are connected to the support columns 32. The foundation beam 33 is arranged at the peripheral edge of the floor slab 20 in a top view and has a rectangular shape, and supports the floor slab 20 from below.

基礎梁33は、延在方向から見た平面視でH字状を呈するH鋼である。基礎梁33のうち、表裏面が延在方向と直交する方向を向くウェブ33Aの上下方向Xの両端部には、表裏面が上下方向Xを向くフランジ部33Bが各別に接続されている。
基礎梁33における上側に位置するフランジ部33Bの上面には、上方に向けて突出するスタッドジベル34が配設されている。スタッドジベル34は、フランジ部33Bの上面に、基礎梁33の延在方向に沿って、間隔をあけて複数配設されている。基礎梁33は、スタッドジベル34を介してスラブ鉄筋21と連結されている。これにより、基礎梁33およびスラブ鉄筋21が互いに導通されている。
The foundation beam 33 is an H-steel having an H-shape in a plan view when viewed from the extending direction. Of the foundation beams 33, flange portions 33B whose front and back surfaces face in the vertical direction X are separately connected to both ends of the web 33A whose front and back surfaces face orthogonal to the extending direction in the vertical direction X.
A stud gibber 34 projecting upward is provided on the upper surface of the flange portion 33B located on the upper side of the foundation beam 33. A plurality of stud gibber 34s are arranged on the upper surface of the flange portion 33B at intervals along the extending direction of the foundation beam 33. The foundation beam 33 is connected to the slab reinforcing bar 21 via a stud gibber 34. As a result, the foundation beam 33 and the slab reinforcing bar 21 are electrically connected to each other.

本実施形態では、基礎構造1が、杭鉄筋11およびスラブ鉄筋21のうちの少なくとも一方と、土壌Dとの間に介在され、土壌Dよりも電気抵抗が大きい第1絶縁部材40を更に備えている。本実施形態では、第1絶縁部材40は、杭鉄筋11およびスラブ鉄筋21の双方と、土壌Dとの間に各別に介在している。第1絶縁部材40は、スラブ鉄筋21と土壌Dとの間に介在されたスラブ絶縁部材41と、杭鉄筋11と土壌Dとの間に介在された杭絶縁部材42とを備える。なお、このような態様に限られず、第1絶縁部材40は、杭鉄筋11およびスラブ鉄筋21のうちのいずれか一方と、土壌Dとの間に介在していてもよい。
第1絶縁部材40は、杭10と土壌Dとの間、又は床スラブ20と土壌Dとの間に介在されている。本実施形態では、スラブ絶縁部材41は、床スラブ20と土壌Dとの間に介在され、杭絶縁部材42は、杭10と土壌Dとの間に介在されている。
In the present embodiment, the foundation structure 1 is further provided with a first insulating member 40 that is interposed between at least one of the pile reinforcing bars 11 and the slab reinforcing bars 21 and the soil D and has a higher electric resistance than the soil D. There is. In the present embodiment, the first insulating member 40 is separately interposed between both the pile reinforcing bar 11 and the slab reinforcing bar 21 and the soil D. The first insulating member 40 includes a slab insulating member 41 interposed between the slab reinforcing bar 21 and the soil D, and a pile insulating member 42 interposed between the pile reinforcing bar 11 and the soil D. Not limited to such an embodiment, the first insulating member 40 may be interposed between either one of the pile reinforcing bar 11 and the slab reinforcing bar 21 and the soil D.
The first insulating member 40 is interposed between the pile 10 and the soil D, or between the floor slab 20 and the soil D. In the present embodiment, the slab insulating member 41 is interposed between the floor slab 20 and the soil D, and the pile insulating member 42 is interposed between the pile 10 and the soil D.

スラブ絶縁部材41はアスファルトにより形成されている。スラブ絶縁部材41は、地面Gに敷設された割栗石22の上方、かつ床スラブ20の下方に配置されている。スラブ絶縁部材41は、床スラブ20の下面における全域に介在されている。なお、スラブ絶縁部材41は床スラブ20の下面における一部に介在されてもよい。このように、床スラブ20と土壌Dとの間にスラブ絶縁部材41が介在されることで、スラブ鉄筋21と土壌Dとの間に第1絶縁部材40が介在されている。
なお、スラブ絶縁部材41はアスファルトに限られない。例えばポリエチレンシート、絶縁ゴムシートなど絶縁性の高い有機材料であれば、スラブ絶縁部材41に適用することができる。
The slab insulating member 41 is formed of asphalt. The slab insulating member 41 is arranged above the split chestnut stone 22 laid on the ground G and below the floor slab 20. The slab insulating member 41 is interposed in the entire area on the lower surface of the floor slab 20. The slab insulating member 41 may be interposed in a part of the lower surface of the floor slab 20. As described above, the slab insulating member 41 is interposed between the floor slab 20 and the soil D, so that the first insulating member 40 is interposed between the slab reinforcing bar 21 and the soil D.
The slab insulating member 41 is not limited to asphalt. For example, any organic material having high insulating properties such as a polyethylene sheet and an insulating rubber sheet can be applied to the slab insulating member 41.

杭絶縁部材42は、杭10の外周面に塗装されている。杭絶縁部材42は、杭10の外周面における上側に位置する部分に塗装されている。このように、杭10の外周面に杭絶縁部材42が塗装されることにより、杭鉄筋11と土壌Dとの間に杭絶縁部材42が介在されている。
なお、杭絶縁部材42は塗装に限られない。例えば、アスファルト、ポリエチレンシート、絶縁ゴムシートなど絶縁性が高い有機材料であれば、杭絶縁部材42に適用することができる。
The pile insulating member 42 is painted on the outer peripheral surface of the pile 10. The pile insulating member 42 is painted on a portion located on the upper side of the outer peripheral surface of the pile 10. By coating the pile insulating member 42 on the outer peripheral surface of the pile 10 in this way, the pile insulating member 42 is interposed between the pile reinforcing bar 11 and the soil D.
The pile insulating member 42 is not limited to painting. For example, any organic material having high insulating properties such as asphalt, polyethylene sheet, and insulating rubber sheet can be applied to the pile insulating member 42.

ここで、地面Gから杭絶縁部材42の下端部までの上下方向Xの寸法は、例えば5mに設定されている。土壌D中において、地面Gから5mよりも下方に位置する部分では、後述するカソード反応を起こす際に必要な酸素の含有量(濃度)が極端に少なくなる。そのため、杭10において地面Gから5m以下に位置する部分には、杭絶縁部材42を設けていない。なお、地面Gから杭絶縁部材42の下端部までの上下方向Xの長さは5m以下であってもよいし、5m以上であってもよい。また、杭10の外面を、上下方向Xの全域にわたって杭絶縁部材42により塗装してもよい。 Here, the dimension of the vertical direction X from the ground G to the lower end of the pile insulating member 42 is set to, for example, 5 m. In the soil D, in the portion located below 5 m from the ground G, the oxygen content (concentration) required for causing the cathode reaction described later becomes extremely small. Therefore, the pile insulating member 42 is not provided in the portion of the pile 10 located 5 m or less from the ground G. The length of the vertical direction X from the ground G to the lower end of the pile insulating member 42 may be 5 m or less, or 5 m or more. Further, the outer surface of the pile 10 may be painted with the pile insulating member 42 over the entire area in the vertical direction X.

基礎構造1では、土壌D中に埋設された鋼製の基礎部30の電位(例えば−0.6V 飽和硫酸銅電極基準)は、コンクリートの内側に配設された鉄筋(杭鉄筋11、スラブ鉄筋21)の電位(例えば−0.3V 飽和硫酸銅電極基準)よりも低い。そのため、電位の低い基礎部30がアノードとなり、電位の高い杭鉄筋11、スラブ鉄筋21がカソードとなり、アノード(基礎部30)から土壌Dを通してカソード(杭鉄筋11、スラブ鉄筋21)に腐食電流が流れ、CSマクロセル腐食が生じようとする。
なおこのとき、基礎部30では、下記(1)式に示すアノード反応が起こり、杭鉄筋11、スラブ鉄筋21では、下記(2)式に示すカソード反応が起こる。
In the foundation structure 1, the potential of the steel foundation portion 30 buried in the soil D (for example, based on the −0.6 V saturated copper sulfate electrode) is the reinforcing bar (pile reinforcing bar 11, slab reinforcing bar 11) arranged inside the concrete. It is lower than the potential of 21) (for example, based on -0.3 V saturated copper sulfate electrode). Therefore, the foundation portion 30 having a low potential serves as an anode, the pile reinforcing bar 11 and the slab reinforcing bar 21 having a high potential serve as a cathode, and a corrosion current is applied from the anode (foundation portion 30) to the cathode (pile reinforcing bar 11, slab reinforcing bar 21) through the soil D. Flow, CS macrocell corrosion is about to occur.
At this time, the anodic reaction shown in the following formula (1) occurs in the foundation portion 30, and the cathode reaction shown in the following formula (2) occurs in the pile reinforcing bar 11 and the slab reinforcing bar 21.

Fe→Fe2++2e・・・(1)
1/2O+HO+2e→2OH・・・(2)
Fe → Fe 2+ + 2e ・ ・ ・ (1)
1 / 2O 2 + H 2 O + 2e → 2OH ・ ・ ・ (2)

(電気防食)
電流供給部51は、犠牲陽極52である。犠牲陽極52は、土壌D中に埋設されている。犠牲陽極52は、基礎部30と導通されている。土壌D中の犠牲陽極52のうちマグネシウム合金陽極の電位(例えば−1.5V 飽和硫酸銅電極基準)は、土壌D中の基礎部30の電位(例えば−0.6V)よりも低い。したがって、この電位差に基づいて、犠牲陽極52をアノードとするとともに基礎部30をカソードとし、アノードからカソードへ土壌D中を流れる防食電流を流すことができる。図示の例では、犠牲陽極52は、マグネシウム合金やマグネシウムにより形成されており、犠牲陽極52では、下記(3)式に示すアノード反応が生じる。
Mg→Mg2++2e・・・(3)
なお、犠牲陽極52を形成する材料には、マグネシウム合金やマグネシウムに代えて、例えば、亜鉛合金や亜鉛などを採用することも可能である。
(Electrical protection)
The current supply unit 51 is a sacrificial anode 52. The sacrificial anode 52 is buried in soil D. The sacrificial anode 52 is conductive with the base portion 30. The potential of the magnesium alloy anode of the sacrificial anode 52 in soil D (for example, based on the -1.5V saturated copper sulfate electrode) is lower than the potential of the foundation 30 in soil D (for example, -0.6V). Therefore, based on this potential difference, the sacrificial anode 52 is used as the anode and the base portion 30 is used as the cathode, and the anticorrosion current flowing in the soil D can flow from the anode to the cathode. In the illustrated example, the sacrificial anode 52 is formed of a magnesium alloy or magnesium, and the sacrificial anode 52 causes the anode reaction shown in the following equation (3).
Mg → Mg 2+ + 2e - ··· (3)
As the material for forming the sacrificial anode 52, for example, zinc alloy or zinc can be used instead of magnesium alloy or magnesium.

本実施形態に係る基礎構造1によれば、第1絶縁部材40が、杭鉄筋11およびスラブ鉄筋21のうちの少なくとも一方と、土壌Dとの間に介在されている。このため、コンクリート内に配設された杭鉄筋11およびスラブ鉄筋21(カソード)のうち、例えば、土壌D中の酸素濃度が高い領域に位置する部分などにおいて、上記(2)式で示すカソード反応が発生することを抑制し、土壌Dから杭鉄筋11やスラブ鉄筋21に電流が流れ込むのを抑制することができる。これにより、腐食電流の総量を抑えてアノード(基礎部30)における腐食電流密度を小さくすることが可能になり、基礎部30におけるCSマクロセル腐食を抑制することができる。 According to the foundation structure 1 according to the present embodiment, the first insulating member 40 is interposed between at least one of the pile reinforcing bar 11 and the slab reinforcing bar 21 and the soil D. Therefore, among the pile reinforcing bars 11 and the slab reinforcing bars 21 (cathodes) arranged in the concrete, for example, in the portion located in the region where the oxygen concentration is high in the soil D, the cathode reaction represented by the above equation (2) Can be suppressed, and the flow of current from the soil D into the pile reinforcing bar 11 and the slab reinforcing bar 21 can be suppressed. As a result, the total amount of corrosion current can be suppressed and the corrosion current density at the anode (foundation portion 30) can be reduced, and CS macrocell corrosion at the foundation portion 30 can be suppressed.

また、杭10又は床スラブ20と土壌Dとの間に第1絶縁部材40を介在させることにより、杭鉄筋11又はスラブ鉄筋21を土壌Dと絶縁することが可能になる。これにより、例えば複数の杭鉄筋11又は複数のスラブ鉄筋21それぞれの外表面を第1絶縁部材40により個別に被覆する構成と比較して、杭鉄筋11又はスラブ鉄筋21を絶縁する作業を容易に行うことができる。 Further, by interposing the first insulating member 40 between the pile 10 or the floor slab 20 and the soil D, the pile reinforcing bar 11 or the slab reinforcing bar 21 can be insulated from the soil D. This facilitates the work of insulating the pile reinforcing bars 11 or the slab reinforcing bars 21 as compared with a configuration in which the outer surfaces of the plurality of pile reinforcing bars 11 or the plurality of slab reinforcing bars 21 are individually covered with the first insulating member 40, for example. It can be carried out.

また、本実施形態における基礎構造1によれば、電流供給部51が基礎部30に防食電流を供給する。したがって、貴側に移行していた土壌D中の基礎部30の電位を、防食電流によって、例えばCSマクロセル腐食が発生しない場合の基礎部30の自然電位までは勿論、一般的な土壌腐食であるミクロセル腐食が発生しない防食電位まで卑化させることができる。このように、電気防食によって基礎部30のCSマクロセル腐食およびミクロセル腐食を電気防食法によって抑制することができる。
電気防食は、基礎部30が設計耐用年数、防食電位になるように設計する必要がある。具体的には、基礎部30が防食電位に達にするために必要な防食電流密度(例えば0.02A/m)に電気防食の対象となる基礎部30の表面積を乗じて、必要な防食電流を算出し、防食電流を耐用年数の間、供給できる犠牲陽極52の質量、形状寸法、個数を決定する。
Further, according to the foundation structure 1 in the present embodiment, the current supply unit 51 supplies the anticorrosion current to the foundation unit 30. Therefore, the potential of the foundation portion 30 in the soil D that has been transferred to your side is, of course, general soil corrosion up to the natural potential of the foundation portion 30 when CS macrocell corrosion does not occur due to the anticorrosive current. It is possible to reduce the anticorrosion potential to the extent that microcell corrosion does not occur. In this way, the CS macrocell corrosion and the microcell corrosion of the base portion 30 can be suppressed by the electrocorrosion protection method.
The electrocorrosion protection needs to be designed so that the foundation portion 30 has a design service life and an corrosion protection potential. Specifically, the required anticorrosion is obtained by multiplying the anticorrosion current density (for example, 0.02 A / m 2 ) required for the foundation 30 to reach the anticorrosion potential by the surface area of the foundation 30 to be electrocorroded. The current is calculated to determine the mass, shape, size, and number of sacrificial anodes 52 that can supply the anticorrosion current over its useful life.

また、本実施形態では、基礎部30と杭鉄筋11、スラブ鉄筋21が導通しているので、犠牲陽極52の防食電流は基礎部30のみならず、杭鉄筋11、スラブ鉄筋21の絶縁材の欠陥部に防食電流が流入する。
そのため、犠牲陽極52の設計では、基礎部30のほかに、杭鉄筋11、スラブ鉄筋21に流入する電流を加算し、犠牲陽極52の質量、形状寸法、個数を決定する。
Further, in the present embodiment, since the foundation portion 30, the pile reinforcing bar 11, and the slab reinforcing bar 21 are conductive, the anticorrosion current of the sacrificial anode 52 is not only the foundation portion 30, but also the insulating material of the pile reinforcing bar 11, the slab reinforcing bar 21. Anticorrosion current flows into the defective part.
Therefore, in the design of the sacrificial anode 52, the current flowing into the pile reinforcing bar 11 and the slab reinforcing bar 21 is added in addition to the foundation portion 30, and the mass, shape, size, and number of the sacrificial anode 52 are determined.

(電気防食下での他の金属物の接触の影響)
電気防食は、防食電流が流入する範囲を決定し、その防食対象が防食電位になるように設計している。防食対象である基礎構造1の金属部に他の金属物が接触してしまうと、防食電流は他の接触金属物にも流入するため、防食電流の流入範囲が拡大し、もともと防食対象であった鋼製の基礎部30へ流入すべき防食電流密度が低下し、基礎部30は防食電位に達せず、防食電位よりかなり貴側(高い)電位となり、腐食が発生する。
また、陽極発生電流は、金属物が接触している位置に近い犠牲陽極52ほど、陽極発生電流が大きく、他の金属接触金属物に遠いほど、陽極発生電流は小さくなる傾向を示す。
(Effect of contact with other metal objects under electrolytic protection)
The electrocorrosion protection determines the range in which the corrosion protection current flows, and is designed so that the corrosion protection target has the corrosion protection potential. When another metal object comes into contact with the metal part of the foundation structure 1 which is the object of corrosion protection, the anticorrosion current also flows into the other contact metal object, so that the inflow range of the anticorrosion current expands and it is originally the object of corrosion protection. The anticorrosion current density to flow into the steel base portion 30 decreases, and the base portion 30 does not reach the anticorrosion potential, becomes a potential on the noble side (higher) than the anticorrosion potential, and corrosion occurs.
Further, as for the anode-generated current, the sacrificial anode 52 closer to the position where the metal object is in contact has a larger anode-generated current, and the farther from the other metal-contacted metal object, the smaller the anode-generated current tends to be.

(電気防食下での迷走電流による干渉の影響)
迷走電流が流れている土壌中に基礎構造1が存在すると、迷走電流の一部が基礎構造1の一部に流入し、基礎構造1の別の位置から流出する場合がある。迷走電流が流入する基礎構造1では対地電位が卑側になり、この迷走電流によっても電気防食効果が得られるが、迷走電流が流出する基礎構造1では対地電位が貴側に移行し、腐食が発生する。
一方、基礎構造1に迷走電流が流入する範囲における陽極発生電流は減少し、逆に基礎構造1に迷走電流が流出する範囲における陽極発生電流は増加する。特に犠牲陽極52から迷走電流が流出すると、過大な電流により犠牲陽極52の消耗が急速に進展し、計画耐用年数に達する前に消耗してしまう危険性がある。
(Effect of interference due to stray current under electrolytic protection)
If the foundation structure 1 is present in the soil through which the stray current is flowing, a part of the stray current may flow into a part of the foundation structure 1 and flow out from another position of the foundation structure 1. In the basic structure 1 in which the stray current flows in, the ground potential is on the base side, and the anticorrosion effect can be obtained by this stray current, but in the basic structure 1 in which the stray current flows out, the ground potential shifts to your side and corrosion occurs. Occur.
On the other hand, the anode-generated current in the range where the stray current flows into the foundation structure 1 decreases, and conversely, the anode-generated current in the range where the stray current flows out into the foundation structure 1 increases. In particular, when the stray current flows out from the sacrificial anode 52, the sacrificial anode 52 is rapidly consumed due to the excessive current, and there is a risk that the sacrificial anode 52 will be consumed before reaching the planned useful life.

(監視システム)
図2は、本発明の実施形態に係る監視システムの一例を示す図である。
監視システム200は、電気防食されているにもかかわらず、基礎構造1の鋼製の基礎梁33が防食電位に達しないことを検出する。さらに、監視システム200は、基礎構造1の鋼製の基礎梁33が防食電位に達しない原因を特定する。本実施形態では、一例として、4個の基礎構造1を含む基礎床版毎に、基礎構造1の鋼製の基礎梁33が防食電位に達しないことを検出する場合について説明を続ける。ただし、基礎床版に含まれる基礎構造1の数は、4個に限られない。例えば、基礎床版が、1個から3個の基礎構造1を含んでもよいし、5個以上の基礎構造1を含んでもよい。
監視システム200は、基礎床版B11に含まれる基礎構造1a−11と、基礎構造1b−11と、基礎構造1c−11と、基礎構造1d−11とのうち、複数の基礎構造の基礎梁の対地電位を測定する。ここで、基礎床版は、荷重を直接受ける部材である。
基礎構造1a−11の基礎部30と基礎構造1b−11の基礎部30とは、鋼製の基礎梁33ab−11を共有する。基礎構造1b−11の基礎部30と基礎構造1d−11の基礎部30とは、鋼製の基礎梁33bd−11を共有する。基礎構造1d−11の基礎部30と基礎構造1c−11の基礎部30とは、鋼製の基礎梁33dc−11を共有する。基礎構造1c−11の基礎部30と基礎構造1a−11の基礎部30とは、鋼製の基礎梁33ca−11を共有する。
以下、基礎梁33ab−mn、基礎梁33bc−mn、基礎梁33ca−mn、基礎梁33bd−mnのうち、任意の基礎梁を、基礎梁33と記載する。
(Monitoring system)
FIG. 2 is a diagram showing an example of a monitoring system according to an embodiment of the present invention.
The monitoring system 200 detects that the steel foundation beam 33 of the foundation structure 1 does not reach the anticorrosion potential even though it is electrically protected. Further, the monitoring system 200 identifies the reason why the steel foundation beam 33 of the foundation structure 1 does not reach the anticorrosion potential. In the present embodiment, as an example, the case where it is detected that the steel foundation beam 33 of the foundation structure 1 does not reach the anticorrosion potential will be described for each foundation floor slab including the four foundation structures 1. However, the number of foundation structures 1 included in the foundation floor slab is not limited to four. For example, the foundation slab may contain 1 to 3 foundation structures 1 or 5 or more foundation structures 1.
The monitoring system 200 includes foundation beams of a plurality of foundation structures 1a-11, foundation structure 1b-11, foundation structure 1c-11, and foundation structure 1d-11 included in the foundation floor slab B11. Measure the ground potential. Here, the foundation floor slab is a member that directly receives a load.
The foundation portion 30 of the foundation structure 1a-11 and the foundation portion 30 of the foundation structure 1b-11 share a steel foundation beam 33ab-11. The foundation portion 30 of the foundation structure 1b-11 and the foundation portion 30 of the foundation structure 1d-11 share a steel foundation beam 33bd-11. The foundation portion 30 of the foundation structure 1d-11 and the foundation portion 30 of the foundation structure 1c-11 share a steel foundation beam 33dc-11. The foundation portion 30 of the foundation structure 1c-11 and the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-11 share a steel foundation beam 33ca-11.
Hereinafter, any foundation beam among the foundation beam 33ab-mn, the foundation beam 33bc-mn, the foundation beam 33ca-mn, and the foundation beam 33bd-mn will be referred to as the foundation beam 33.

図2に示される例では、基礎梁33の対地電位を測定するために、電位測定機60a−11が、照合電極71a−11と、基礎構造1a−11の基礎部30の鋼製の基礎梁33に電線を介して接続されたクーポン72a−11と接続される。複数の基礎構造の各々の床スラブに、対地電位を測定する電位測定機を設置する。電位測定機60a−11は、ネットワーク50を経由して、監視装置100と接続される。また、スイッチSW−11を介して、基礎構造1a−11の基礎部30の鋼製の基礎梁33が接続される。
基礎梁33の対地電位は、鋼製の基礎梁33の塗膜欠陥部の鋼露出面(以下「塗膜欠陥部」と記す)を模擬したクーポン72a−11の照合電極71a−11を基準とした対地電位として測定する。クーポンは鋼製の基礎梁と成分が同一のもので、表面積が予め公知な小鋼片である。
In the example shown in FIG. 2, in order to measure the ground potential of the foundation beam 33, the potential measuring machine 60a-11 uses the reference electrode 71a-11 and the steel foundation beam of the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-11. It is connected to the coupon 72a-11 connected to 33 via an electric wire. A potential measuring machine for measuring the ground potential is installed on each floor slab of the plurality of foundation structures. The potential measuring device 60a-11 is connected to the monitoring device 100 via the network 50. Further, the steel foundation beam 33 of the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-11 is connected via the switch SW-11.
The ground potential of the foundation beam 33 is based on the reference electrode 71a-11 of the coupon 72a-11 that simulates the exposed steel surface of the coating defect portion of the steel foundation beam 33 (hereinafter referred to as “coating defect portion”). Measure as the ground potential. The coupon is a small steel piece having the same composition as the steel foundation beam and having a surface area known in advance.

土中に埋設して恒久的に使用できる照合電極71a−11としては、一般的に亜鉛照合電極が使用されることから、鋼製の基礎梁の対地電位測定用には亜鉛照合電極を適用する。亜鉛照合電極は、亜鉛合金の周囲をベントナイトが主成分となるバックフィルで覆ったものとする。
照合電極71a−11はクーポン72a−11に接近させて設置する。その理由は、クーポン72a−11から照合電極71a−11までの距離があると、土中を流れる防食電流によって生じる土壌での電圧降下(IRドロップ)が、クーポン72a−11の対地電位に対してマイナス側に加算されるため、クーポン72a−11は防食電位に達してなくとも、見かけ上防食電位に達していると判断してしまうからである。
また、照合電極71a−11はクーポン72a−11に接近させた方法に加え、スイッチSW−11によりクーポン72a−11に流入している防食電流を遮断し、その瞬間のクーポン72a−11に対する対地電位を照合電極71a−11で測定すれば、よりIRドロップが抑制される。
なお、クーポンをオフしないときのクーポンの対地電位をクーポンオン電位、クーポンをオフした時のクーポンの対地電位をクーポンオフ電位という。
電位測定機60a−11には、電圧計、高感度記録計、デジタルマルチメータ、データロガーなどが用いられる。電位測定機60a−11への電線の接続は通常、照合電極71a−11側をマイナス極、クーポン72a−11をプラス極とする。
電位測定機60a−11は、照合電極71a−11を基準とした基礎部30の鋼製の基礎梁33の塗膜欠陥の対地電位を、鋼製の基礎梁33の塗膜欠陥部を模擬したクーポン72−a11の対地電位として、測定し、対地電位の測定結果を示す情報と、基礎梁33の識別情報と、測定時刻情報とを含む対地電位測定情報を作成し、作成した対地電位測定情報を、監視装置100に送信する。
Since a zinc reference electrode is generally used as the reference electrode 71a-11 that can be buried in the soil and used permanently, a zinc reference electrode is applied for measuring the ground potential of a steel foundation beam. .. The zinc reference electrode shall have a zinc alloy covered with a backfill containing bentonite as the main component.
The reference electrode 71a-11 is installed close to the coupon 72a-11. The reason is that when there is a distance from the coupon 72a-11 to the reference electrode 71a-11, the voltage drop (IR drop) in the soil caused by the anticorrosion current flowing in the soil is relative to the ground potential of the coupon 72a-11. This is because it is added to the negative side, so even if the coupon 72a-11 does not reach the anticorrosion potential, it is determined that the coupon 72a-11 apparently reaches the anticorrosion potential.
Further, in addition to the method of bringing the reference electrode 71a-11 closer to the coupon 72a-11, the switch SW-11 cuts off the anticorrosion current flowing into the coupon 72a-11, and the ground potential with respect to the coupon 72a-11 at that moment. Is measured with the reference electrode 71a-11, the IR drop is further suppressed.
The ground potential of the coupon when the coupon is not turned off is called the coupon on potential, and the ground potential of the coupon when the coupon is turned off is called the coupon off potential.
A voltmeter, a high-sensitivity recorder, a digital multimeter, a data logger, and the like are used in the potential measuring machine 60a-11. The electric wire is usually connected to the potential measuring machine 60a-11 with the reference electrode 71a-11 as the negative electrode and the coupon 72a-11 as the positive electrode.
The potential measuring machine 60a-11 simulates the ground potential of the coating film defect of the steel foundation beam 33 of the foundation portion 30 with reference to the reference electrode 71a-11 and the coating film defect portion of the steel foundation beam 33. As the ground potential of the coupon 72-a11, information indicating the measurement result of the ground potential, identification information of the foundation beam 33, and ground potential measurement information including the measurement time information are created, and the ground potential measurement information is created. Is transmitted to the monitoring device 100.

また、電流供給部51a−11に発生する電流を測定するために、電流測定機70a−11が、電流供給部51a−11と、基礎構造1a−11の基礎部30の鋼製の基礎梁33と接続される。電流測定機70a−11は、ネットワーク50を経由して、監視装置100と接続される。電流供給部51a−11の発生電流は、電流供給部51a−11と基礎構造1a−11の鋼製の基礎梁33との間に挿入した電流測定機70a−11で測定する。電流測定機70a−11には、電流計や、分流器と高感度記録計、若しくはデジタルマルチメータ、データロガーとの組み合わせが用いられる。発生電流の大きさが設計値より大きい場合、鋼製の基礎梁33が防食電位を維持していることを前提に、電流回路に直列に挿入した可変抵抗器、若しくは固定抵抗器により、設計値以内となるように発生電流を抑制する。
電流供給部51a−11が一床に一個以上設置されるため、鋼製の基礎梁用防食モニタリングは一床毎に設置する。複数の基礎構造の各々の床スラブに、防食電流を測定する電流測定機を設置する。照合電極71a−11とクーポン72a−11とはマグネシウム合金陽極からの防食電流が流入しにくいマグネシウム合金陽極から遠方の端部付近に接近させて埋設する。
また、マグネシウム合金陽極、照合電極71a−11、クーポン72a−11からのリード線は床版上に立ち上げ、建柱に設けた端子台に接続する。リード線は断線や損傷しないように土中から端子台まで電線保護管で保護する。端子台には、防食電流遮断や電流値調整ができるようにスイッチや、抵抗を配する。これにより、全ての箇所において、測定したいときに測定計器を持ち込めば、建柱に設置した端子台で、鋼製の基礎梁の対地電位(クーポンオン電位、および、クーポンオフ電位)、陽極が発生する防食電流であるマグネシウム合金陽極発生電流を測定できる。また、必要に応じてデータロガーを設置すれば連続測定が可能となる。さらに、ネットワーク50や監視装置100を付加すれば遠隔監視も可能となる。
電流測定機70a−11は、電流供給部51a−11から発生し、基礎梁33を含む基礎部30とそれに連なる杭鉄筋に流入する電流を測定し、電流の測定結果を示す情報と、基礎梁33の識別情報と、測定時刻情報とを含む電流測定情報を作成し、作成した電流測定情報を、監視装置100に送信する。
Further, in order to measure the current generated in the current supply unit 51a-11, the current measuring machine 70a-11 uses the current supply unit 51a-11 and the steel foundation beam 33 of the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-11. Is connected with. The current measuring device 70a-11 is connected to the monitoring device 100 via the network 50. The generated current of the current supply unit 51a-11 is measured by a current measuring machine 70a-11 inserted between the current supply unit 51a-11 and the steel foundation beam 33 of the foundation structure 1a-11. For the current measuring machine 70a-11, a combination of an ammeter, a shunt and a high-sensitivity recorder, a digital multimeter, and a data logger is used. When the magnitude of the generated current is larger than the design value, the design value is provided by a variable resistor or fixed resistor inserted in series with the current circuit on the assumption that the steel foundation beam 33 maintains the anticorrosion potential. Suppress the generated current so that it is within.
Since one or more current supply units 51a-11 are installed on one floor, anticorrosion monitoring for steel foundation beams is installed on each floor. A current measuring machine for measuring anticorrosion current is installed on each floor slab of multiple foundation structures. The reference electrode 71a-11 and the coupon 72a-11 are embedded close to the end far from the magnesium alloy anode where the anticorrosion current from the magnesium alloy anode is difficult to flow.
Further, the lead wires from the magnesium alloy anode, the reference electrode 71a-11, and the coupon 72a-11 are raised on the floor slab and connected to the terminal block provided on the building column. Protect the lead wire from the soil to the terminal block with a wire protection tube to prevent disconnection or damage. A switch and a resistor are arranged on the terminal block so that the anticorrosion current can be cut off and the current value can be adjusted. As a result, if you bring in a measuring instrument when you want to measure at all points, the ground potential (coupon-on potential and coupon-off potential) and anode of the steel foundation beam will be generated at the terminal block installed on the building column. It is possible to measure the magnesium alloy anode generation current, which is the anticorrosion current. In addition, continuous measurement is possible by installing a data logger as needed. Further, if the network 50 and the monitoring device 100 are added, remote monitoring becomes possible.
The current measuring machine 70a-11 measures the current generated from the current supply unit 51a-11 and flows into the foundation portion 30 including the foundation beam 33 and the pile reinforcing bar connected to the foundation portion 30, and the information showing the measurement result of the current and the foundation beam. Current measurement information including the identification information of 33 and the measurement time information is created, and the created current measurement information is transmitted to the monitoring device 100.

また、監視システム200は、基礎床版Bmnに含まれる基礎構造1a−mn(m、nは、m>1、n>1の整数)と、基礎構造1b−mnと、基礎構造1c−mnと、基礎構造1d−mnとのうち、複数の基礎梁の対地電位を測定する。
図3は、基礎床版の一例を示す図である。図3に示すように、基礎構造1a−mnの基礎部30と基礎構造1b−mnの基礎部30とは、鋼製の基礎梁33ab−mnを共有する。基礎構造1b−mnの基礎部30と基礎構造1d−mnの基礎部30とは、鋼製の基礎梁33bd−mnを共有する。基礎構造1d−mnの基礎部30と基礎構造1c−mnの基礎部30とは、鋼製の基礎梁33dc−mnを共有する。基礎構造1c−mnの基礎部30と基礎構造1a−mnの基礎部30とは、鋼製の基礎梁33ca−11を共有する。図2に戻り説明を続ける。図2に示される例では、基礎梁33の対地電位を測定するために、電位測定機60a−mnが、照合電極71a−mnと、基礎構造1a−mnの基礎部30の鋼製の基礎梁33(基礎梁33ab−mn、基礎梁33ca−mn)に電線を介して接続されたクーポン72a−mnと接続される。電位測定機60a−mnは、ネットワーク50を経由して、監視装置100と接続される。また、スイッチSW−mnを介して、基礎構造1a−mnの基礎部30の鋼製の基礎梁33(基礎梁33ab−mn、基礎梁33ca−mn)と、クーポン72a−mnとが接続される。
Further, the monitoring system 200 includes a foundation structure 1a-mn (m and n are integers of m> 1 and n> 1) included in the foundation floor slab Bmn, a foundation structure 1b-mn, and a foundation structure 1c-mn. , Of the foundation structure 1d-mn, the ground potentials of a plurality of foundation beams are measured.
FIG. 3 is a diagram showing an example of a foundation floor slab. As shown in FIG. 3, the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-mn and the foundation portion 30 of the foundation structure 1b-mn share a steel foundation beam 33ab-mn. The foundation portion 30 of the foundation structure 1b-mn and the foundation portion 30 of the foundation structure 1d-mn share a steel foundation beam 33bd-mn. The foundation portion 30 of the foundation structure 1d-mn and the foundation portion 30 of the foundation structure 1c-mn share a steel foundation beam 33dc-mn. The foundation portion 30 of the foundation structure 1c-mn and the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-mn share a steel foundation beam 33ca-11. Return to FIG. 2 and continue the explanation. In the example shown in FIG. 2, in order to measure the ground potential of the foundation beam 33, the potential measuring machine 60a-mn is a steel foundation beam of the collating electrode 71a-mn and the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-mn. It is connected to a coupon 72a-mn connected to 33 (foundation beam 33ab-mn, foundation beam 33ca-mn) via an electric wire. The potential measuring device 60a-mn is connected to the monitoring device 100 via the network 50. Further, the steel foundation beam 33 (foundation beam 33ab-mn, foundation beam 33ca-mn) of the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-mn and the coupon 72a-mn are connected via the switch SW-mn. ..

電位測定機60a−mnは、クーポン72a−mnの土壌に対す電位を照合電極71a−mnを基準として測定し、基礎梁33の対地電位の測定結果を示す情報と、基礎梁33の識別情報と、測定時刻情報とを含む対地電位測定情報を作成し、作成した対地電位測定情報を、監視装置100に出力する。
また、電流供給部51a−mnに発生する電流を測定するために、電流測定機70a−mnが、電流供給部51a−mnと、基礎構造1a−11の基礎部30の鋼製の基礎梁33と接続される。電流測定機70a−mnは、ネットワーク50を経由して、監視装置100と接続される。
電流測定機70a−mnは、電流供給部51a−mnから発生し、基礎梁33を含む基礎部30とそれに連なる杭鉄筋に流入する電流とを測定し、電流の測定結果を示す情報と、基礎梁33の識別情報と、測定時刻情報とを含む対地電位測定情報を作成し、作成した対地電位測定情報を、監視装置100に出力する。
The potential measuring machine 60a-mn measures the potential of the coupon 72a-mn with respect to the soil with reference to the reference electrode 71a-mn, and includes information indicating the measurement result of the ground potential of the foundation beam 33 and identification information of the foundation beam 33. , The ground potential measurement information including the measurement time information is created, and the created ground potential measurement information is output to the monitoring device 100.
Further, in order to measure the current generated in the current supply unit 51a-mn, the current measuring machine 70a-mn uses the current supply unit 51a-mn and the steel foundation beam 33 of the foundation portion 30 of the foundation structure 1a-11. Is connected with. The current measuring machine 70a-mn is connected to the monitoring device 100 via the network 50.
The current measuring machine 70a-mn measures the current generated from the current supply unit 51a-mn and flows into the foundation portion 30 including the foundation beam 33 and the pile reinforcing bar connected to the foundation portion 30, and the information showing the measurement result of the current and the foundation. The ground potential measurement information including the identification information of the beam 33 and the measurement time information is created, and the created ground potential measurement information is output to the monitoring device 100.

監視装置100は、電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mnの各々が出力した対地電位測定情報と、電流測定機70a−11〜電流測定機70a−mnの各々が出力した電流測定情報とを受信する。監視装置100は、受信した対地電位測定情報と、電流測定情報とに基づいて、基礎部30の鋼製の基礎梁33に低接地物が接触しているか否かの判断と、迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かの判断とのいずれか一方又は両方を行う。 The monitoring device 100 includes the potential measurement information to ground output by each of the potential measuring machines 60a-11 to 60a-mn and the current measurement information output by each of the current measuring machines 70a-11 to the current measuring machine 70a-mn. And receive. The monitoring device 100 determines whether or not a low grounded object is in contact with the steel foundation beam 33 of the foundation portion 30 based on the received ground potential measurement information and the current measurement information, and interferes with the stray current. Either or both of the determination as to whether or not the current outflow has occurred is performed.

以下、基礎床版B11〜基礎床版Bmnのうち任意の基礎床版を基礎床版Bmnと記載する。また、基礎構造1a−11〜基礎構造1a−mnのうち任意の基礎構造を基礎構造1a−mnと記載し、基礎構造1b−11〜基礎構造1b−mnのうち任意の基礎構造を基礎構造1b−mnと記載し、基礎構造1c−11〜基礎構造1c−mnのうち任意の基礎構造を基礎構造1c−mnと記載し、基礎構造1d−11〜基礎構造1d−mnのうち任意の基礎構造を基礎構造1d−mnと記載する。
また、電流供給部51a−11〜電流供給部51a−mnのうち任意の電流供給部を電流供給部51a−mnと記載し、電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mnのうち任意の電位測定機を電位測定機60a−mnと記載する。また、電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mnのうち任意の電位測定機を電位測定機60a−mnと記載し、電流測定機70a−11〜電流測定機70a−mnのうち任意の電流測定機を電流測定機70a−mnと記載する。また、照合電極71a−11〜照合電極71a−mnのうち任意の照合電極を照合電極71a−mnと記載する。また、クーポン72a−11〜クーポン72a−mnのうち任意のクーポンをクーポン72a−mnと記載する。
Hereinafter, any of the foundation plate B11 to the foundation plate Bmn will be referred to as a foundation plate Bmn. Further, any foundation structure among the foundation structures 1a-11 to 1a-mn is described as the foundation structure 1a-mn, and any foundation structure among the foundation structures 1b-11 to the foundation structure 1b-mn is described as the foundation structure 1b. It is described as −mn, and any foundation structure among the foundation structures 1c-11 to 1c-mn is described as the foundation structure 1c-mn, and any foundation structure among the foundation structures 1d-11 to the foundation structure 1d-mn is described. Is described as the basic structure 1d-mn.
Further, any current supply unit among the current supply units 51a-11 to 51a-mn is described as a current supply unit 51a-mn, and any of the potential measuring machines 60a-11 to 60a-mn The potential measuring machine is referred to as a potential measuring machine 60a-mn. Further, any potential measuring machine 60a-11 to 60a-mn of the potential measuring machine is described as a potential measuring machine 60a-mn, and any of the current measuring machines 70a-11 to 70a-mn The current measuring machine is referred to as a current measuring machine 70a-mn. Further, any matching electrode among the matching electrodes 71a-11 to 71a-mn is referred to as the matching electrode 71a-mn. Further, any coupon among the coupons 72a-11 to 72a-mn is described as the coupon 72a-mn.

以下、監視システム200に含まれる電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mnと、電流測定機70a−11〜電流測定機70a−mnと、監視装置100とのうち、監視装置100について説明する。
(監視装置100)
図4は、本発明の実施形態に係る監視システムを構成する監視装置を示すブロック図である。
監視装置100は、パーソナルコンピュータ、サーバー、又は産業用コンピュータ等の装置によって実現される。
監視装置100は、通信部110と、記憶部120と、情報処理部130と、各構成要素を図4に示されているように電気的に接続するためのアドレスバスやデータバスなどのバスライン160とを備える。
Hereinafter, the monitoring device 100 will be described among the potential measuring machine 60a-11 to the potential measuring machine 60a-mn, the current measuring machine 70a-11 to the current measuring machine 70a-mn, and the monitoring device 100 included in the monitoring system 200. To do.
(Monitoring device 100)
FIG. 4 is a block diagram showing a monitoring device constituting the monitoring system according to the embodiment of the present invention.
The monitoring device 100 is realized by a device such as a personal computer, a server, or an industrial computer.
The monitoring device 100 includes a communication unit 110, a storage unit 120, an information processing unit 130, and a bus line such as an address bus or a data bus for electrically connecting each component as shown in FIG. It is equipped with 160.

通信部110は、通信モジュールによって実現される。通信部110はネットワーク50を介して、電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mn、電流測定機70a−11〜電流測定機70a−mnなどの外部の装置と通信する。具体的には、通信部110は、電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mnの各々が送信した対地電位測定情報を受信し、受信した対地電位測定情報を情報処理部130へ出力する。また、通信部110は、電流測定機70a−11〜電流測定機70a−mnの各々が送信した電流測定情報を受信し、受信した電流測定情報を情報処理部130へ出力する。 The communication unit 110 is realized by a communication module. The communication unit 110 communicates with an external device such as the potential measuring machine 60a-11 to the potential measuring machine 60a-mn and the current measuring machine 70a-11 to the current measuring machine 70a-mn via the network 50. Specifically, the communication unit 110 receives the ground potential measurement information transmitted by each of the potential measuring machines 60a-11 to the potential measuring machine 60a-mn, and outputs the received ground potential measurement information to the information processing unit 130. .. Further, the communication unit 110 receives the current measurement information transmitted by each of the current measuring machines 70a-11 to the current measuring machine 70a-mn, and outputs the received current measurement information to the information processing unit 130.

記憶部120は、例えば、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)、HDD(Hard Disk Drive)、フラッシュメモリ、又はこれらのうち複数が組み合わされたハイブリッド型記憶装置などにより実現される。記憶部120の一部又は全部は、監視システム200の一部として設けられる場合に代えて、NAS(Network Attached Storage)や外部のストレージサーバなど、監視装置100のプロセッサがネットワーク50を介してアクセス可能な外部装置により実現されてもよい。記憶部120には、情報処理部130により実行されるプログラム122と、アプリ124と、シミュレーション結果126と、基礎梁位置情報128とが記憶される。 The storage unit 120 is realized by, for example, a RAM (Random Access Memory), a ROM (Read Only Memory), an HDD (Hard Disk Drive), a flash memory, or a hybrid storage device in which a plurality of these is combined. A part or all of the storage unit 120 can be accessed via the network 50 by a processor of the monitoring device 100 such as NAS (Network Attached Storage) or an external storage server instead of being provided as a part of the monitoring system 200. It may be realized by an external device. The storage unit 120 stores the program 122 executed by the information processing unit 130, the application 124, the simulation result 126, and the foundation beam position information 128.

アプリ124は、監視装置100に、電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mnの各々が送信した対地電位測定情報を受信させる。
アプリ124は、監視装置100に、電流測定機70a−11〜電流測定機70a−mnの各々が送信した電流測定情報を受信させる。
アプリ124は、監視装置100に、受信させた複数の対地電位測定情報と、複数の電流測定情報とを受け付けさせる。
アプリ124は、監視装置100に、受け付けさせた複数の対地電位測定情報と、複数の電流測定情報とに基づいて、鋼製の基礎梁33と導通する全ての鋼材に他の金属物(低接地物)が接触している箇所があるか否かを判定させる。
アプリ124は、監視装置100に、鋼製の基礎梁33と導通する全ての鋼材に他の金属物が接触している箇所があると判定させた場合に、その箇所を特定させる。
アプリ124は、監視装置100に、受け付けさせた対地電位測定情報と、電流測定情報とに基づいて、電鉄等からの迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かを判定させる。
アプリ124は、監視装置100に、電鉄等からの迷走電流の干渉による電流流出が発生していると判定させた場合に、その箇所を特定させる。
The application 124 causes the monitoring device 100 to receive the ground potential measurement information transmitted by each of the potential measuring devices 60a-11 to 60a-mn.
The application 124 causes the monitoring device 100 to receive the current measurement information transmitted by each of the current measuring machines 70a-11 to the current measuring machine 70a-mn.
The application 124 causes the monitoring device 100 to receive a plurality of received ground potential measurement information and a plurality of current measurement information.
Based on the plurality of ground potential measurement information received by the monitoring device 100 and the plurality of current measurement information, the application 124 has other metal objects (low grounding) on all the steel materials conducting with the steel foundation beam 33. Have them judge whether or not there is a place where the object) is in contact.
The application 124 causes the monitoring device 100 to identify a portion where another metal object is in contact with all the steel materials conducting with the steel foundation beam 33.
The application 124 causes the monitoring device 100 to determine whether or not a current outflow occurs due to the interference of the stray current from the electric railway or the like based on the received ground potential measurement information and the current measurement information.
The application 124 causes the monitoring device 100 to specify the location when it is determined that a current outflow due to interference of a stray current from an electric railway or the like has occurred.

シミュレーション結果126は、鋼製の基礎梁と導通する全ての鋼材に他の金属物(低接地物)が接触している箇所がない場合とある場合とのシミュレーション結果と、電鉄等からの迷走電流の干渉による電流流出が発生していない場合と干渉による電流流出が発生している場合とのシミュレーション結果とを記憶する。ここで、鋼製の基礎梁と導通する全ての鋼材に他の金属物が接触している箇所がない場合とある場合とのシミュレーション結果の一例は、鋼製の基礎梁に対して電気防食を施した場合に、複数の照合電極を用いて電位をシミュレーションした結果である。その詳細については、後述する。電鉄等からの迷走電流の干渉による電流流出が発生していない場合と干渉による電流流出が発生している場合とのシミュレーション結果の一例は、犠牲陽極(マグネシウム合金)による電気防食を施した場合に、迷走電流の方向を変えて、電位計測値をシミュレーションした結果である。その詳細については、後述する。
基礎梁位置情報128は、基礎梁の識別情報と、その基礎梁の位置情報とを関連付けたテーブル形式の情報である。
The simulation result 126 shows the simulation results in the case where all the steel materials conducting with the steel foundation beam have no contact with other metal objects (low grounding objects) and the stray current from the electric railway or the like. The simulation results of the case where the current outflow due to the interference does not occur and the case where the current outflow occurs due to the interference are stored. Here, as an example of the simulation result in the case where there is no place where other metal objects are in contact with all the steel materials conducting with the steel foundation beam, the electrolytic corrosion protection is applied to the steel foundation beam. This is the result of simulating the potential using a plurality of reference electrodes when the application is applied. The details will be described later. An example of the simulation results of the case where the current outflow due to the interference of the stray current from the electric railway etc. does not occur and the case where the current outflow occurs due to the interference is the case where the electric corrosion protection by the sacrificial anode (magnesium alloy) is applied. , This is the result of simulating the potential measurement value by changing the direction of the stray current. The details will be described later.
The foundation beam position information 128 is table-type information in which the identification information of the foundation beam and the position information of the foundation beam are associated with each other.

情報処理部130は、例えば、CPU(Central Processing Unit)などのプロセッサが記憶部120に格納されたプログラム122や、アプリ124を実行することにより実現される機能部(以下「ソフトウェア機能部」という)である。なお、情報処理部130の全部又は一部は、LSI(Large Scale Integration)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、またはFPGA(Field-Programmable Gate Array)などのハードウェアにより実現されてもよく、ソフトウェア機能部とハードウェアとの組み合わせによって実現されてもよい。
情報処理部130は、例えば、受付部131と、処理部132と、特定部133とを備える。
The information processing unit 130 is, for example, a functional unit (hereinafter referred to as “software functional unit”) realized by executing a program 122 stored in a storage unit 120 or an application 124 by a processor such as a CPU (Central Processing Unit). Is. All or part of the information processing unit 130 may be realized by hardware such as LSI (Large Scale Integration), ASIC (Application Specific Integrated Circuit), or FPGA (Field-Programmable Gate Array), and is a software function. It may be realized by a combination of a unit and hardware.
The information processing unit 130 includes, for example, a reception unit 131, a processing unit 132, and a specific unit 133.

受付部131は、通信部110が出力した複数の対地電位測定情報を取得し、取得した複数の対地電位測定情報を受け付ける。また、受付部131は、通信部110が出力した複数の電流測定情報を取得し、取得した複数の電流測定情報を受け付ける。受付部131は、受け付けた複数の対地電位測定情報と、複数の電流測定情報とを処理部132に出力する。
処理部132は、受付部131が出力した複数の対地電位測定情報と、複数の電流測定情報とを取得し、取得した複数の対地電位測定情報と、電流測定情報とに基づいて、鋼製の基礎梁33と導通する全ての鋼材に他の金属物が接触しているか否かと、電鉄等からの迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かを判定する。
鋼製の基礎梁33の対地電位は、陽極に発生する電流の変動とリンクしている。このため、対地電位と、陽極に発生する電流とに基づいて、現象をより確実にとらえることができる。対地電位の変動量と陽極に発生する電流の変動とに基づいて、対象物の接地抵抗Rを導出できる。接地抵抗Rは、土壌抵抗率ρと損傷面積Aとの関数であるため、接触物の大きさの目安にできる。また、迷走電流の干渉による電流流出についても、対地電位と、陽極に発生する電流との相関が高い。
このため、本実施形態では、対地電位と陽極に発生する電流とを測定する場合について説明する。また、陽極に発生する電流は、陽極の消耗量に影響するため、耐用年数をチェックするためにも使用される。
具体的には、鋼製の基礎梁33と導通する全ての鋼材に他の金属物が接触している場合には、電流供給部51が基礎部30の鋼製の基礎梁33に供給する防食電流が急増し、鋼製の基礎梁33の対地電位が貴化する。この防食電流の急増と、対地電位の貴化とは、接触箇所で顕著であり、接触箇所から離隔するほど、防食電流の増加と、対地電位の貴化とが見られなくなる。
The reception unit 131 acquires a plurality of ground potential measurement information output by the communication unit 110, and receives the acquired plurality of ground potential measurement information. Further, the reception unit 131 acquires a plurality of current measurement information output by the communication unit 110, and receives the acquired plurality of current measurement information. The reception unit 131 outputs the received plurality of ground potential measurement information and the plurality of current measurement information to the processing unit 132.
The processing unit 132 acquires a plurality of ground potential measurement information output by the reception unit 131 and a plurality of current measurement information, and is made of steel based on the acquired plurality of ground potential measurement information and the current measurement information. It is determined whether or not other metal objects are in contact with all the steel materials conducting with the foundation beam 33, and whether or not a current outflow occurs due to the interference of the stray current from the electric iron or the like.
The ground potential of the steel foundation beam 33 is linked to the fluctuation of the current generated at the anode. Therefore, the phenomenon can be more reliably captured based on the ground potential and the current generated at the anode. The ground resistance R of the object can be derived based on the fluctuation amount of the ground potential and the fluctuation of the current generated at the anode. Since the ground resistance R is a function of the soil resistivity ρ and the damaged area A, it can be used as a guide for the size of the contact object. In addition, the current outflow due to the interference of the stray current also has a high correlation between the ground potential and the current generated at the anode.
Therefore, in the present embodiment, the case of measuring the ground potential and the current generated at the anode will be described. The current generated at the anode also affects the amount of wear of the anode, so it is also used to check the useful life.
Specifically, when another metal object is in contact with all the steel materials conducting with the steel foundation beam 33, the current supply unit 51 supplies the steel foundation beam 33 of the foundation portion 30 with anticorrosion. The current increases sharply, and the ground potential of the steel foundation beam 33 becomes noble. The rapid increase in the anticorrosion current and the nobility of the ground potential are remarkable at the contact point, and the farther away from the contact point, the less the increase in the anticorrosion current and the nobility of the ground potential are observed.

一方、迷走電流の干渉では、迷走電流が、鋼製の基礎部、杭鉄筋11、電流供給部51のいずれか、または、それらの組み合わせたところに流入する箇所(以下「迷走電流流入箇所」という)と、鋼製の基礎部、杭鉄筋11、電流供給部51のいずれか、または、それらの組み合わせたところから迷走電流が流出する箇所(以下「迷走電流流出箇所」という)とが生じる。迷走電流流入箇所と、迷走電流流出箇所とは離れている。迷走電流流入箇所では、鋼製の基礎梁33の対地電位が卑化し、陽極発生電流が減少する。迷走電流流出箇所では、鋼製の基礎梁33の対地電位が貴化し、陽極発生電流が増加する。
処理部132は、取得した複数の対地電位測定情報の各々に含まれる対地電位の測定結果を示す情報を取得し、取得した複数の対地電位の測定結果を示す情報の各々に基づいて、対地電位の測定結果が電位閾値以上変化したか否かを判定する。
処理部132は、複数の電位の測定結果のいずれも電位閾値以上変化しない場合には、鋼製の基礎梁33と導通する全ての鋼材に他の金属物が接触しておらず、迷走電流の干渉による電流流出も発生していないと判定する。
処理部132は、複数の電位の測定結果のうち少なくとも一つが電位閾値以上変化した場合に、複数の電位の測定結果に卑側に変動したものがないか否かを判定する。
処理部132は、複数の電位の測定結果に卑側に変動したものがない場合には、鋼製の基礎梁33と導通する鋼材に他の金属物が接触したものがあると判定する。
処理部132は、複数の電位の測定結果のうち、少なくとも一つが卑側に変動している場合には、迷走電流の干渉による電流流出が発生していると判定する。
また、処理部132は、取得した複数の電流測定情報の各々に含まれる電流の測定結果を示す情報を取得し、取得した複数の電流の測定結果を示す情報に基づいて、電流の測定結果が電流閾値以上変化したか否かを判定する。
処理部132は、複数の電流の測定結果のいずれも電流閾値以上変化しない場合には、鋼製の基礎梁33と導通する全ての鋼材に他の金属物が接触しておらず、迷走電流の干渉による電流流出も発生していないと判定する。
処理部132は、複数の電流の測定結果のうち少なくとも一つが電流閾値以上変化した場合に、複数の電流の測定結果に減少したものがないか否かを判定する。
処理部132は、複数の電流の測定結果に減少したものがない場合には、鋼製の基礎梁33と導通する鋼材に他の金属物が接触しているものがあると判定する。
処理部132は、複数の電流の測定結果に減少したものがある場合には、迷走電流の干渉による電流流出が発生していると判定する。
On the other hand, in the interference of stray current, a place where the stray current flows into any one of the steel foundation part, the pile reinforcing bar 11, the current supply part 51, or a combination thereof (hereinafter referred to as "stray current inflow point"). ), And a portion where the stray current flows out from any one of the steel foundation portion, the pile reinforcing bar 11, the current supply portion 51, or a combination thereof (hereinafter referred to as “stray current outflow portion”). The stray current inflow point and the stray current outflow point are separated. At the stray current inflow point, the ground potential of the steel foundation beam 33 is lowered, and the anode generated current is reduced. At the stray current outflow point, the ground potential of the steel foundation beam 33 becomes noble and the anode generated current increases.
The processing unit 132 acquires information indicating the ground potential measurement result included in each of the acquired plurality of ground potential measurement information, and based on each of the acquired information indicating the ground potential measurement result, the ground potential It is determined whether or not the measurement result of is changed by the potential threshold value or more.
When none of the measurement results of the plurality of potentials changes by the potential threshold value or more, the processing unit 132 means that no other metal object is in contact with all the steel materials conducting with the steel foundation beam 33, and the stray current is generated. It is determined that no current outflow due to interference has occurred.
When at least one of the measurement results of the plurality of potentials changes by the potential threshold value or more, the processing unit 132 determines whether or not the measurement results of the plurality of potentials have changed on the base side.
When the measurement results of the plurality of potentials do not fluctuate on the base side, the processing unit 132 determines that the steel material conducting with the steel foundation beam 33 is in contact with another metal object.
When at least one of the measurement results of the plurality of potentials fluctuates to the base side, the processing unit 132 determines that a current outflow due to interference of the stray current has occurred.
Further, the processing unit 132 acquires information indicating the current measurement result included in each of the acquired plurality of current measurement information, and the current measurement result is obtained based on the information indicating the acquired current measurement result. Determine if the change is greater than or equal to the current threshold.
When none of the measurement results of the plurality of currents changes by the current threshold value or more, the processing unit 132 means that no other metal object is in contact with all the steel materials conducting with the steel foundation beam 33, and the stray current is generated. It is determined that no current outflow due to interference has occurred.
When at least one of the measurement results of the plurality of currents changes by the current threshold value or more, the processing unit 132 determines whether or not there is any decrease in the measurement results of the plurality of currents.
If there is no decrease in the measurement results of the plurality of currents, the processing unit 132 determines that the steel material conducting with the steel foundation beam 33 is in contact with another metal object.
When the measurement results of the plurality of currents are reduced, the processing unit 132 determines that a current outflow occurs due to the interference of the stray current.

処理部132は、鋼製の基礎梁33と導通する鋼材に他の金属物が接触しているものがあると判定した場合に、低接地物との接触が発生したことを示す情報を、表示部150に出力する。処理部132は、低接地物との接触が発生したと判定した場合に、低接地物との接触が発生したことを示す情報と、複数の鋼製の基礎梁33の識別情報と、その鋼製の基礎梁33で計測された電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報を含む低接地物接触発生情報を作成し、作成した低接地物接触発生情報を、特定部133へ出力する。
処理部132は、迷走電流の干渉による電流流出が発生したと判定した場合に、迷走電流の干渉による電流流出が発生したことを示す情報を、表示部150に出力する。処理部132は、迷走電流の干渉による電流流出が発生したと判定した場合に、迷走電流の干渉による電流流出が発生したことを示す情報と、複数の鋼製の基礎梁33の識別情報と、その鋼製の基礎梁33で計測された電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報とを含む迷走電流発生情報を作成し、作成した迷走電流発生情報を、特定部133へ出力する。
The processing unit 132 displays information indicating that contact with a low grounded object has occurred when it is determined that the steel material conducting with the steel foundation beam 33 is in contact with another metal object. Output to unit 150. When the processing unit 132 determines that contact with a low grounded object has occurred, information indicating that contact with a low grounded object has occurred, identification information of a plurality of steel foundation beams 33, and steel thereof. The low-grounded object contact generation information including the information associated with the information indicating the measurement result of the potential measured by the foundation beam 33 manufactured by the steel is created, and the created low-grounded object contact generation information is output to the specific unit 133.
When it is determined that a current outflow has occurred due to the interference of the stray current, the processing unit 132 outputs information indicating that the current outflow has occurred due to the interference of the stray current to the display unit 150. When the processing unit 132 determines that a current outflow has occurred due to the interference of the stray current, the processing unit 132 includes information indicating that the current outflow has occurred due to the interference of the stray current, identification information of the plurality of steel foundation beams 33, and information. Stray current generation information including information indicating the measurement result of the potential measured by the steel foundation beam 33 and information associated with the information is created, and the created stray current generation information is output to the specific unit 133.

特定部133は、処理部132が出力した低接地物接触発生情報と、迷走電流発生情報とのいずれか一方又は両方を取得した場合に、取得した低接地物接触発生情報と、迷走電流発生情報とのいずれか一方又は両方と、記憶部120に記憶されているシミュレーション結果126と、基礎梁位置情報128とに基づいて、低接地物との接触箇所と、迷走電流の発生箇所とのいずれか一方又は両方を特定する。
ここで、記憶部120に記憶されているシミュレーション結果126の詳細について説明する。
シミュレーション条件(数値解析条件)について説明する。大梁で囲まれた一区画を、基礎床版Bmnとした。防食対象を鋼製の基礎梁とし、防食方法を犠牲陽極(マグネシウム合金)による電気防食とした。基礎梁は、塗装されている。犠牲陽極は、その寸法Φを、200mm×1200mmとし、地上から、1.6mの深さに水平に埋設した。なお、梁の分極曲線は、塗装の絶縁欠陥率1%とし、無塗装の鋼材(土中)の分極曲線に欠陥率を作用させた。土壌抵抗は、50Ωmとした。
迷走電流に関して、電位の勾配を、5mV/mとした。迷走電流の方向を変えて、電位の計測値から方向を導出した。
他の金属接触に関して、鋼の接触を仮定した。接触する鋼は、その寸法Φを100mm×2000mmとした。接触位置を変えて、電位計測値から接触位置を算出した。
鋼製の基礎梁33に関して、図3を参照して説明した基礎梁33ab−mnの長手方向の長さと、基礎梁33bd−mnの長手方向の長さと、基礎梁33dc−mnの長手方向の長さと、基礎梁33ca−mnの長手方向の長さとの各々を10mとした。
図5は、基礎梁の寸法の一例を示す。図5に示すように、フランジ厚を28mmとし、ウェブ厚を16mmとし、高さを900mmとし、フランジの短辺の長さを250mmとした。
When one or both of the low ground contact occurrence information output by the processing unit 132 and the stray current generation information are acquired, the specific unit 133 acquires the low ground contact occurrence information and the stray current generation information. Based on either one or both of the above, the simulation result 126 stored in the storage unit 120, and the foundation beam position information 128, either the contact point with the low ground object or the stray current generation point. Identify one or both.
Here, the details of the simulation result 126 stored in the storage unit 120 will be described.
The simulation conditions (numerical analysis conditions) will be described. One section surrounded by girders was used as the foundation floor slab Bmn. The target of corrosion protection was a steel foundation beam, and the corrosion protection method was electrocorrosion protection using a sacrificial anode (magnesium alloy). The foundation beams are painted. The sacrificial anode had a size Φ of 200 mm × 1200 mm and was buried horizontally at a depth of 1.6 m from the ground. The polarization curve of the beam was set to 1% of the insulation defect rate of the coating, and the defect rate was applied to the polarization curve of the unpainted steel material (in the soil). The soil resistance was 50 Ωm.
Regarding the stray current, the potential gradient was set to 5 mV / m. The direction of the stray current was changed, and the direction was derived from the measured value of the potential.
For other metal contacts, steel contacts were assumed. The steel in contact has a size Φ of 100 mm × 2000 mm. The contact position was calculated from the potential measurement value by changing the contact position.
Regarding the steel foundation beam 33, the longitudinal length of the foundation beam 33ab-mn, the longitudinal length of the foundation beam 33bd-mn, and the longitudinal length of the foundation beam 33dc-mn described with reference to FIG. 3 Each of the length of the foundation beam 33ca-mn in the longitudinal direction was set to 10 m.
FIG. 5 shows an example of the dimensions of the foundation beam. As shown in FIG. 5, the flange thickness was 28 mm, the web thickness was 16 mm, the height was 900 mm, and the length of the short side of the flange was 250 mm.

(シミュレーション結果の一例(その1))
図6は、参照電極の設置位置の一例を示す。図6に示すように、基礎構造1a−mnに設置される参照電極2Eと基礎構造1b−mnに設置される参照電極1Eとの距離を9mとした。また、基礎構造1b−mnに設置される参照電極1Eと基礎構造1d−mnに設置される参照電極4Eとの距離を9mとした。また、基礎構造1d−mnに設置される参照電極4Eと基礎構造1c−mnに設置される参照電極3Eとの距離を9mとした。また、基礎構造1c−mnに設置される参照電極3Eと基礎構造1a−mnに設置される参照電極2Eとの距離を9mとした。参照電極1Eと、参照電極2Eと、参照電極3Eと、参照電極4Eとを、地上から0.9mの深さに設置した。
(Example of simulation result (1))
FIG. 6 shows an example of the installation position of the reference electrode. As shown in FIG. 6, the distance between the reference electrode 2E installed in the foundation structure 1a-mn and the reference electrode 1E installed in the foundation structure 1b-mn was set to 9 m. Further, the distance between the reference electrode 1E installed in the foundation structure 1b-mn and the reference electrode 4E installed in the foundation structure 1d-mn was set to 9 m. Further, the distance between the reference electrode 4E installed in the foundation structure 1d-mn and the reference electrode 3E installed in the foundation structure 1c-mn was set to 9 m. Further, the distance between the reference electrode 3E installed in the foundation structure 1c-mn and the reference electrode 2E installed in the foundation structure 1a-mn was set to 9 m. The reference electrode 1E, the reference electrode 2E, the reference electrode 3E, and the reference electrode 4E were installed at a depth of 0.9 m from the ground.

図7は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図7には、迷走電流の干渉による電流流出が発生せず、且つ基礎梁に金属が接触していない場合を示す。
図7の上図は、基礎梁33ab−mnと、基礎梁33bd−mnと、基礎梁33dc−mnと、基礎梁33ca−mnと、電流供給部51との各々の電位を示す。図7の下図(a)は、地上から0.9m深さの電位を示す。図7の上図(a)と下図(b)の両方において、防食電位は、−0.725VvsSSEである。
図7の上図(a)によれば、基礎梁表面は、−0.875VvsSSEであるため、卑に分極されていることが分かる。図7の下図(b)によれば、電流供給部51は、−1.000VvsSSEであるため、卑に分極されていることが分かる。
FIG. 7 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 7 shows a case where the current outflow due to the interference of the stray current does not occur and the metal is not in contact with the foundation beam.
The upper view of FIG. 7 shows the potentials of the foundation beam 33ab-mn, the foundation beam 33bd-mn, the foundation beam 33dc-mn, the foundation beam 33ca-mn, and the current supply unit 51, respectively. The lower figure (a) of FIG. 7 shows a potential at a depth of 0.9 m from the ground. In both the upper figure (a) and the lower figure (b) of FIG. 7, the anticorrosion potential is −0.725 V vs SSE.
According to the upper figure (a) of FIG. 7, since the surface of the foundation beam is −0.875V vs SSE, it can be seen that it is polarized in a base manner. According to the lower figure (b) of FIG. 7, since the current supply unit 51 is -1,000 V vs SSE, it can be seen that the current supply unit 51 is basely polarized.

図8は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図8には、迷走電流の方向と電位分布との関係を示す。迷走電流の方向について説明する。基礎床版Bmnの中心を原点とし、原点から右側に引いた水平線を0度とする。この水平線に対して、反時計回りに回転する方向をプラス方向とする。
図8において、(a)は迷走電流が無い場合であり、(b)は迷走電流が0度の方向から流入する場合であり、(c)は迷走電流が15度の方向から流入する場合であり、(d)は迷走電流が30度の方向から流入する場合であり、(e)は迷走電流が45度の方向から流入する場合である。図8において、防食電位は、−0.725VvsSSEである。図8によれば、迷走電流が流入する方向を変えることによって、迷走電流が流入する方向が、卑に分極されることが分かる。
FIG. 8 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 8 shows the relationship between the direction of the stray current and the potential distribution. The direction of the stray current will be described. The center of the foundation plate bridge Bmn is the origin, and the horizontal line drawn to the right from the origin is 0 degrees. The direction of rotation counterclockwise with respect to this horizontal line is the positive direction.
In FIG. 8, (a) is a case where there is no stray current, (b) is a case where the stray current flows in from the direction of 0 degrees, and (c) is a case where the stray current flows in from the direction of 15 degrees. Yes, (d) is a case where the stray current flows in from the direction of 30 degrees, and (e) is a case where the stray current flows in from the direction of 45 degrees. In FIG. 8, the anticorrosion potential is −0.725 V vs SSE. According to FIG. 8, it can be seen that the direction in which the stray current flows is negatively polarized by changing the direction in which the stray current flows.

図9は、シミュレーション結果の一例を示す図である。
図9は、図6を参照して説明した参照電極1E〜参照電極4Eの各々について、迷走電流が無い場合と、迷走電流が流入する方向を0度とした場合と、迷走電流が流入する方向を15度とした場合と、迷走電流が流入する方向を30度とした場合と、迷走電流が流入する方向を45度とした場合とについて、電位を導出した結果を示す。図9によれば、参照電極1Eと参照電極4Eとは、参照電極2Eと参照電極3Eとに比べて、迷走電流が流入する方向に近いため、より卑側に変化していることが分かる。
また、図9に基づいて、参照電極の電位の値から電位勾配の大きさと、方向(角度)とを導出した。その結果を表1に示す。
FIG. 9 is a diagram showing an example of simulation results.
FIG. 9 shows, for each of the reference electrodes 1E to 4E described with reference to FIG. 6, when there is no stray current, when the direction in which the stray current flows is 0 degrees, and in the direction in which the stray current flows. The result of deriving the potential is shown in the case where the temperature is 15 degrees, the direction in which the stray current flows in is 30 degrees, and the direction in which the stray current flows in is 45 degrees. According to FIG. 9, since the reference electrode 1E and the reference electrode 4E are closer to the direction in which the stray current flows, as compared with the reference electrode 2E and the reference electrode 3E, it can be seen that they are changed to the base side.
Further, based on FIG. 9, the magnitude and direction (angle) of the potential gradient were derived from the potential value of the reference electrode. The results are shown in Table 1.

Figure 2020176429
Figure 2020176429

表1によれば、参照電極の電位の値から導出した電位勾配の角度と、迷走電流の方向とがほぼ一致していることが分かる。このため、参照電極の電位の計測値から迷走電流の方向を導出できることかわかる。 According to Table 1, it can be seen that the angle of the potential gradient derived from the potential value of the reference electrode and the direction of the stray current are substantially the same. Therefore, it can be seen that the direction of the stray current can be derived from the measured value of the potential of the reference electrode.

(シミュレーション結果の一例(その2))
図10は、金属接触位置の一例を示す。参照電極1E〜参照電極4Eは、前述したように、地上から0.9mの深さに設置した。なお、接触金属の寸法Φは、100mm×2000mmである。
図10において、(a)に示すように、参照電極1Eと参照電極4Eとの垂直二等分線上で、地上から0.45mの深さの位置に、接触金属(鋼)CMを埋設した。(b)に示すように、(a)に対して、+y方向に2m平行移動させた位置に、接触金属(鋼)CMを埋設した。(c)に示すように、(a)に対して、+y方向に4m平行移動させた位置に、接触金属(鋼)CMを埋設した。
(Example of simulation result (Part 2))
FIG. 10 shows an example of the metal contact position. The reference electrode 1E to the reference electrode 4E were installed at a depth of 0.9 m from the ground as described above. The size Φ of the contact metal is 100 mm × 2000 mm.
In FIG. 10, as shown in (a), the contact metal (steel) CM was embedded at a depth of 0.45 m from the ground on the perpendicular bisector of the reference electrode 1E and the reference electrode 4E. As shown in (b), the contact metal (steel) CM was embedded at a position translated by 2 m in the + y direction with respect to (a). As shown in (c), the contact metal (steel) CM was embedded at a position translated by 4 m in the + y direction with respect to (a).

図11は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図11には、金属の接触がない場合と、図10の(a)の場合と、図10の(b)の場合と、図10の(c)の場合とを示す。図11によれば、金属の接触がない場合と比較して、金属を接触させた場合には、対地電位が貴化していることが分かる。
図12は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図12には、金属を接触させた場合の解析結果を示す。図12は、図6を参照して説明した参照電極1E〜参照電極4Eの各々について、金属の接触が無い場合と、図10の(a)の場合と、図10の(b)の場合と、図10の(c)の場合とについて、電位を導出した結果を示す。図12によれば、金属を接触させることによって、基礎梁を、貴側に変化できることが分かる。また、図12によれば、参照電極1Eと参照電極4Eとは、参照電極2Eと参照電極3Eとに比べて、接触金属に近いため、より貴側に変化していることが分かる。
また、図12に基づいて、参照電極の値から、電位の勾配の方向を導出し、梁の中央から導出した電位の方向を見た場合の位置(接触推定位置)、つまりy方向の位置を導出した。その結果を表2に示す。
FIG. 11 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 11 shows a case where there is no metal contact, a case (a) in FIG. 10, a case (b) in FIG. 10, and a case (c) in FIG. According to FIG. 11, it can be seen that the ground potential is noble when the metal is brought into contact with the metal as compared with the case where there is no metal contact.
FIG. 12 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 12 shows the analysis results when the metals are brought into contact with each other. 12 shows a case where there is no metal contact, a case of FIG. 10A, and a case of FIG. 10B for each of the reference electrode 1E to the reference electrode 4E described with reference to FIG. , The result of deriving the potential with respect to the case of (c) of FIG. 10 is shown. According to FIG. 12, it can be seen that the foundation beam can be changed to your side by bringing the metal into contact with each other. Further, according to FIG. 12, since the reference electrode 1E and the reference electrode 4E are closer to the contact metal than the reference electrode 2E and the reference electrode 3E, it can be seen that they are changed to the noble side.
Further, based on FIG. 12, the direction of the potential gradient is derived from the value of the reference electrode, and the position (contact estimated position) when the direction of the potential derived from the center of the beam is viewed, that is, the position in the y direction is determined. Derived. The results are shown in Table 2.

Figure 2020176429
Figure 2020176429

表2によれば、参照電極の値から導出した金属の接触推定位置は、金属を接触させた位置と近いことが分かる。このため、参照電極の電位計測値から、金属の接触位置を導出できることかわかる。 According to Table 2, it can be seen that the estimated contact position of the metal derived from the value of the reference electrode is close to the position where the metal is brought into contact. Therefore, it can be seen from the potential measurement value of the reference electrode that the contact position of the metal can be derived.

(シミュレーション結果の一例(その3))
図13は、基礎床版の一例を示す図である。
シミュレーション結果の一例(その3)は、前述したシミュレーション結果の一例(その1、その2)と、鋼製の基礎梁の一区画(基礎床版B11)を、3×6区画集めて、一単位とした点で異なる。また、犠牲陽極は、各区画の中央で、且つ地上から、1.6mの深さに水平に埋設した。
図14は、参照電極の設置位置の一例を示す。図14に示すように、鋼製の基礎梁の一区画(基礎床版B11)を、3×6区画集めたものについて、四隅と、長手方向の中点との計6点に、参照電極1E〜参照電極6Eを設置した。
図15は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図15には、迷走電流の干渉による電流流出が発生せず、且つ基礎梁に低接地物が接触していない場合を示す。
図15の上図(a)は、鋼製の基礎梁の一区画を、3×6区画集めたものについて、各基礎梁と、電流供給部51との各々の電位を示す。図15の下図(b)は、地上から0.9m深さの電位を示す。図15の上図(a)と下図(b)の両方において、防食電位は、−0.725VvsSSEである。
図15の上図(a)によれば、基礎梁表面は、−0.925VvsSSEであるため、卑に分極されていることが分かる。図15の下図(b)によれば、電流供給部51は、−1.000VvsSSEであるため、卑に分極されていることが分かる。ここでは、3×6区画について示したが、3×6区画に限らず、任意の区画についても同様である。
(Example of simulation result (3))
FIG. 13 is a diagram showing an example of a foundation floor slab.
An example of the simulation result (No. 3) is a unit obtained by collecting 3 × 6 sections of the above-mentioned example of the simulation result (No. 1 and No. 2) and one section of the steel foundation beam (foundation plate bridge B11). It is different in that. The sacrificial anode was buried horizontally in the center of each section and at a depth of 1.6 m from the ground.
FIG. 14 shows an example of the installation position of the reference electrode. As shown in FIG. 14, one section of the steel foundation beam (foundation floor slab B11) is collected in 3 × 6 sections, and the reference electrode 1E is provided at a total of 6 points, the four corners and the midpoint in the longitudinal direction. ~ Reference electrode 6E was installed.
FIG. 15 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 15 shows a case where no current outflow occurs due to the interference of the stray current and the low grounded object is not in contact with the foundation beam.
The upper figure (a) of FIG. 15 shows the potentials of each foundation beam and the current supply unit 51 for a group of 3 × 6 sections of a steel foundation beam. The lower figure (b) of FIG. 15 shows a potential at a depth of 0.9 m from the ground. In both the upper figure (a) and the lower figure (b) of FIG. 15, the anticorrosion potential is −0.725 V vs SSE.
According to the upper figure (a) of FIG. 15, since the surface of the foundation beam is −0.925 Vvs SSE, it can be seen that it is basely polarized. According to the lower figure (b) of FIG. 15, since the current supply unit 51 is -1,000 V vs SSE, it can be seen that the current supply unit 51 is basely polarized. Here, the 3 × 6 compartment is shown, but the same applies not only to the 3 × 6 compartment but also to any compartment.

図16は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図16には、迷走電流の方向と電位分布との関係を示す。鋼製の基礎梁の一区画を、3×6区画集めたものについて、その中心を原点とし、原点から右側に引いた水平線を0度とする。この水平線に対して、反時計回りに回転する方向をプラス方向とする。
図16において、(a)は迷走電流の干渉による電流流出が発生していない場合であり、(b)は迷走電流が0度の方向から流入する場合であり、(c)は迷走電流が45度の方向から流入する場合であり、(d)は迷走電流が90度の方向から流入する場合である。図16において、防食電位は、−0.750VvsSSEである。図16によれば、迷走電流が流入する方向を変えることによって、迷走電流が流入する方向が、卑に分極されることが分かる。ここでは、3×6区画について示したが、3×6区画に限らず、任意の区画についても同様である。
図17は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図17は、迷走電流の解析結果を示す。図17は、図14を参照して説明した参照電極1E〜参照電極6Eの各々について、迷走電流の干渉による電流流出が発生していない場合と、迷走電流が流入する方向を0度とした場合と、迷走電流が流入する方向を45度とした場合と、迷走電流が流入する方向を90度とした場合とについて、電位を導出した結果を示す。図17によれば、迷走電流が流入する方向が0度から90度に変化するにしたがって、迷走電流が流入する方向に近い参照電極5E、参照電極6E、参照電極3Eが順により卑側に変化していることが分かる。
また、図17に基づいて、参照電極の値から電位勾配の大きさと角度とを導出した。その結果を表3に示す。
FIG. 16 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 16 shows the relationship between the direction of the stray current and the potential distribution. For a group of 3 x 6 sections of a steel foundation beam, the center is the origin, and the horizontal line drawn to the right from the origin is 0 degrees. The direction of rotation counterclockwise with respect to this horizontal line is the positive direction.
In FIG. 16, (a) is a case where a current outflow does not occur due to interference of a stray current, (b) is a case where a stray current flows in from a direction of 0 degrees, and (c) is a case where a stray current is 45. This is the case where the stray current flows in from the direction of 90 degrees, and (d) is the case where the stray current flows in from the direction of 90 degrees. In FIG. 16, the anticorrosion potential is −0.750 V vs SSE. According to FIG. 16, it can be seen that the direction in which the stray current flows is negatively polarized by changing the direction in which the stray current flows. Here, the 3 × 6 compartment is shown, but the same applies not only to the 3 × 6 compartment but also to any compartment.
FIG. 17 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 17 shows the analysis result of the stray current. FIG. 17 shows a case where no current outflow occurs due to the interference of the stray current and a case where the direction in which the stray current flows is 0 degrees for each of the reference electrodes 1E to 6E described with reference to FIG. The results of deriving the potentials are shown for the case where the direction in which the stray current flows in is 45 degrees and the case where the direction in which the stray current flows in is 90 degrees. According to FIG. 17, as the direction in which the stray current flows in changes from 0 degrees to 90 degrees, the reference electrode 5E, the reference electrode 6E, and the reference electrode 3E, which are close to the direction in which the stray current flows in, change to the base side in order. You can see that it is doing.
Further, based on FIG. 17, the magnitude and angle of the potential gradient were derived from the value of the reference electrode. The results are shown in Table 3.

Figure 2020176429
Figure 2020176429

表3によれば、参照電極の値から導出した角度は、迷走電流が流入する角度と近いことが分かる。このため、参照電極の電位の計測値から迷走電流が流入する方向(角度)を導出できることかわかる。つまり、迷走電流の干渉による電流流出が発生している床スラブの位置を導出できる。 According to Table 3, it can be seen that the angle derived from the value of the reference electrode is close to the angle at which the stray current flows in. Therefore, it can be seen that the direction (angle) in which the stray current flows can be derived from the measured value of the potential of the reference electrode. That is, the position of the floor slab where the current outflow due to the interference of the stray current is generated can be derived.

(シミュレーション結果の一例(その4))
図18は、金属接触位置の一例を示す。参照電極1E〜参照電極6Eは、前述したように、地上から0.9mの深さに設置した。なお、接触金属CMの寸法Φは、100mm×2000mmである。
図18において、参照電極6Eと参照電極4Eとの垂直二等分線からy軸方向に4m平行移動させ、地上から0.45mの深さの位置に、接触金属(鋼)CMを埋設した。
図19は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図19には、金属の接触がない場合と、図18の場合とを示す。図19によれば、金属の接触がない場合と比較して、金属を接触させた場合には、対地電位が貴化していることが分かる。
図20は、シミュレーション結果の一例を示す図である。図20には、金属を接触させた場合の解析結果を示す。図20は、図14を参照して説明した参照電極1E〜参照電極6Eの各々について、金属の接触が無い場合と、金属の接触がある場合とについて、電位を示す。図20によれば、金属を接触させることによって、基礎梁を、貴側に変化できることが分かる。
また、図20に基づいて、参照電極の値から、電位の勾配の方向を導出し、梁の中央から導出した電位の方向を見た場合の位置、つまりy方向の位置を導出した。その結果は、1.2mであり、参照電極の電位の値から導出した金属の接触推定位置と近い値が得られた。このため、参照電極の電位の計測値から、金属の接触位置を導出できることかわかる。つまり、基礎部に低接地物が接触している床スラブの位置を導出できる。
(Example of simulation result (4))
FIG. 18 shows an example of the metal contact position. The reference electrode 1E to the reference electrode 6E were installed at a depth of 0.9 m from the ground as described above. The size Φ of the contact metal CM is 100 mm × 2000 mm.
In FIG. 18, the reference electrode 6E and the reference electrode 4E were translated by 4 m in the y-axis direction from the perpendicular bisector, and the contact metal (steel) CM was embedded at a depth of 0.45 m from the ground.
FIG. 19 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 19 shows a case where there is no metal contact and a case where there is no metal contact. According to FIG. 19, it can be seen that the ground potential is noble when the metal is brought into contact with the metal as compared with the case where there is no metal contact.
FIG. 20 is a diagram showing an example of simulation results. FIG. 20 shows the analysis result when the metal is brought into contact with the metal. FIG. 20 shows the potentials of each of the reference electrode 1E to the reference electrode 6E described with reference to FIG. 14 when there is no metal contact and when there is metal contact. According to FIG. 20, it can be seen that the foundation beam can be changed to your side by bringing the metal into contact with each other.
Further, based on FIG. 20, the direction of the potential gradient was derived from the value of the reference electrode, and the position when the direction of the potential derived from the center of the beam was viewed, that is, the position in the y direction was derived. The result was 1.2 m, which was close to the estimated contact position of the metal derived from the potential value of the reference electrode. Therefore, it can be seen from the measured value of the potential of the reference electrode that the contact position of the metal can be derived. That is, the position of the floor slab in which the low ground contact object is in contact with the foundation can be derived.

図4に戻り説明を続ける。特定部133は、取得した低接地物接触発生情報に含まれる複数の鋼製の基礎梁33の識別情報と、その鋼製の基礎梁33で計測された電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報を取得する。特定部133は、取得した複数の鋼製の基礎梁33の識別情報の各々に基づいて、記憶部120の基礎梁位置情報128から、各鋼製の基礎梁33の識別情報に関連付けられる基礎梁の位置情報を取得する。特定部133は、取得した複数の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とに基づいて、低接地物が接触している床スラブの位置を導出する。また、特定部133は、取得した複数の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とを、シミュレーション結果と比較することによって、低接地物が接触した位置を導出する。具体的には、特定部133は、図12と、取得した複数の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とを比較することによって、接触なしと、case1と、case2と、case3とのうち、最も類似する電位が得られている床スラブを選択し、選択した床スラブから接地物が接触している位置を導出する。
また、特定部133は、取得した複数の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とから、少なくとも3箇所の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とを取得する。特定部133は、取得した少なくとも3箇所の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とに基づいて、電位勾配を導出し、導出した電位勾配からその方向を導出する。特定部133は、導出した電位勾配に基づいて、基礎床版Bmnの中央から、電位勾配の方向を見た場合の基礎梁の位置を導出することによって、低接地物が接触した位置を導出する。特定部133は、導出した低接地物が接触した位置を示す情報を、表示部150に出力する。
The explanation will be continued by returning to FIG. The specific unit 133 associates the identification information of the plurality of steel foundation beams 33 included in the acquired low ground contact occurrence information with the information indicating the measurement result of the potential measured by the steel foundation beam 33. Get the information. Based on each of the acquired identification information of the plurality of steel foundation beams 33, the specific portion 133 is associated with the identification information of each steel foundation beam 33 from the foundation beam position information 128 of the storage unit 120. Get the location information of. The specific unit 133 derives the position of the floor slab in contact with the low ground contact object based on each of the acquired position information of the plurality of foundation beams and the measurement result of the ground potential measured by the foundation beam. .. In addition, the specific unit 133 compares each of the acquired position information of the plurality of foundation beams with the measurement result of the ground potential measured by the foundation beam with the simulation result, and thereby, the position where the low ground contact object comes into contact. Is derived. Specifically, the specific unit 133 determines that there is no contact by comparing FIG. 12 with each of the acquired position information of the plurality of foundation beams and the measurement result of the ground potential measured by the foundation beam. Among case1, case2, and case3, the floor slab in which the most similar potential is obtained is selected, and the position where the ground contact object is in contact is derived from the selected floor slab.
In addition, the specific unit 133 is based on each of the acquired position information of the plurality of foundation beams and the measurement result of the ground potential measured by the foundation beam, each of the position information of at least three foundation beams and the foundation thereof. Obtain the measurement result of the ground potential measured by the beam. The specific unit 133 derives a potential gradient based on each of the acquired position information of the foundation beam at at least three locations and the measurement result of the ground potential measured by the foundation beam, and the direction from the derived potential gradient. Is derived. Based on the derived potential gradient, the specific unit 133 derives the position of the foundation beam when the direction of the potential gradient is viewed from the center of the foundation floor slab Bmn, thereby deriving the position where the low ground object is in contact. .. The identification unit 133 outputs information indicating the position where the derived low ground object comes into contact with the display unit 150 to the display unit 150.

また、特定部133は、取得した迷走電流発生情報に含まれる複数の鋼製の基礎梁33の識別情報と、その鋼製の基礎梁33で計測された電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報を取得する。特定部133は、取得した複数の鋼製の基礎梁33の識別情報の各々に基づいて、記憶部120の基礎梁位置情報128から、各鋼製の基礎梁33の識別情報に関連付けられる基礎梁の位置情報を取得する。特定部133は、取得した複数の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された電位の測定結果に基づいて、迷走電流の干渉による電流流出が発生している床スラブの位置を導出する。また、特定部133は、取得した複数の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された電位の測定結果とを、シミュレーション結果と比較することによって、迷走電流の方向を導出する。具体的には、特定部133は、図9と、取得した複数の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とを比較することによって、迷走電流なしと、0度と、15度と、30度と、45度とのうち、最も類似する電位が得られている床スラブを選択し、選択した床スラブから、迷走電流の方向を導出する。
また、特定部133は、取得した複数の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とから、少なくとも3箇所の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とを取得する。特定部133は、取得した少なくとも3箇所の基礎梁の位置情報の各々と、その基礎梁で計測された対地電位の測定結果とに基づいて、電位の勾配を導出し、導出した電位の勾配からその方向を導出する。特定部133は、導出した電位の勾配に基づいて、基礎床版Bmnの中央から、電位の勾配の方向を見た場合の角度を導出することによって、迷走電流の角度を導出する。特定部133は、導出した迷走電流が流入した位置を示す情報を、表示部150に出力する。
Further, the specific unit 133 associates the identification information of the plurality of steel foundation beams 33 included in the acquired stray current generation information with the information indicating the measurement result of the potential measured by the steel foundation beam 33. Get the information. Based on each of the acquired identification information of the plurality of steel foundation beams 33, the specific portion 133 is associated with the identification information of each steel foundation beam 33 from the foundation beam position information 128 of the storage unit 120. Get the location information of. Based on each of the acquired position information of the plurality of foundation beams and the measurement result of the potential measured by the foundation beam, the specific unit 133 determines the position of the floor slab in which the current outflow due to the interference of the stray current is generated. Derived. Further, the specific unit 133 derives the direction of the stray current by comparing each of the acquired position information of the plurality of foundation beams with the measurement result of the potential measured by the foundation beam with the simulation result. Specifically, the specific unit 133 determines that there is no stray current by comparing FIG. 9 with each of the acquired position information of the plurality of foundation beams and the measurement result of the ground potential measured by the foundation beam. , 0 degree, 15 degree, 30 degree, and 45 degree, the floor slab in which the most similar potential is obtained is selected, and the direction of the stray current is derived from the selected floor slab.
In addition, the specific unit 133 is based on each of the acquired position information of the plurality of foundation beams and the measurement result of the ground potential measured by the foundation beam, each of the position information of at least three foundation beams and the foundation thereof. Obtain the measurement result of the ground potential measured by the beam. The specific unit 133 derives a potential gradient based on each of the acquired position information of the foundation beam at at least three locations and the measurement result of the ground potential measured by the foundation beam, and derives the potential gradient from the derived potential gradient. Derive that direction. The identification unit 133 derives the angle of the stray current from the center of the base slab Bmn based on the derived potential gradient by deriving the angle when the direction of the potential gradient is viewed. The identification unit 133 outputs information indicating the position where the derived stray current has flowed into the display unit 150.

ここで、マグネシウム合金陽極発生電流による金属接触箇所および、迷走電流の干渉による電流流出箇所の検出する処理について説明する。
図21は、鋼製基礎梁の一例を示す図である。
特定部133が、金属物接触位置の検知する処理について説明する。マグネネシウム合金陽極の発生電流測定のため、電流測定装置を、マグネシム合金陽極と鋼製基礎梁と導通のある建柱との間に挿入し、電流測定装置を鋼製基礎梁1区画毎に準備する。複数の基礎構造の各々の床スラブに、防食電流を測定する電流測定装置が設置される。このように構成することによって、全ての区画のマグネシム合金陽極発生電流を常時監視できるようにする。図21に示すように、鋼製基礎梁の位置を、区画の横方向を1列目、2列目、・・・、n列目(nは、n>0の整数)とし、区画の縦方向を1行目、2行目、・・・、m行目(mは、m>0の整数)とし、鋼製基礎梁の各位置をn列目×m行目で表すこととする。図21には、一例として、5列×3行の15区画が示される。この場合、15区画の各々に含まれる床スラブに、電流測定装置が設置される。
仮に、1列×1行の鋼製基礎梁に、他の金属物が接触した場合に、マグネシウム合金陽極の発生電流は経過時間とともに変化する。
Here, a process for detecting a metal contact portion due to the magnesium alloy anode generated current and a current outflow portion due to interference of the stray current will be described.
FIG. 21 is a diagram showing an example of a steel foundation beam.
The process of detecting the contact position of a metal object by the specific unit 133 will be described. In order to measure the generated current of the magnetesium alloy anode, a current measuring device is inserted between the magnesium alloy anode, the steel foundation beam and the conductive building column, and the current measuring device is prepared for each section of the steel foundation beam. To do. A current measuring device for measuring anticorrosion current is installed in each floor slab of the plurality of foundation structures. With this configuration, the magnesium alloy anode generated current in all compartments can be constantly monitored. As shown in FIG. 21, the positions of the steel foundation beams are set in the first row, the second row, ..., The nth row (n is an integer of n> 0) in the horizontal direction of the section, and the vertical direction of the section is set. The directions are the 1st row, the 2nd row, ..., The mth row (m is an integer of m> 0), and each position of the steel foundation beam is represented by the nth column × mth row. As an example, FIG. 21 shows 15 sections of 5 columns × 3 rows. In this case, a current measuring device is installed on the floor slab included in each of the 15 compartments.
If another metal object comes into contact with the steel foundation beam of 1 column × 1 row, the generated current of the magnesium alloy anode changes with the elapsed time.

図22は、金属物接触時のマグネシウム合金陽極発生電流の経時変化の一例を示す図である。
金属物の接触がない場合には、鋼製基礎梁の位置によらず防食電流はほぼ一定と想定される。この定常の状態の鋼製基礎梁に金属物が接触すると接触した金属接触部にもマグネシウム合金陽極からの発生電流が流入する。したがって、マグネシウム合金陽極の発生電流は金属物が接触すると、定常状態から大きく増加する。マグネシウム合金陽極の発生電流の増加の度合いは、鋼製基礎梁との金属接触部に近いマグネシウム合金陽極ほど大きくなり、金属接触部に遠いマグネシウム合金陽極ほど小さくなる。
このため、金属物が3列目、2行目の鋼製基礎梁の中央部に接触した場合におけるマグネシウム合金の発生電流の大きさは、n列目×m行目の鋼製基礎梁に発生する電流を、「In,m」で表した場合、以下のようになる。
I3,2>I3,1,I3,3,I2,2,I4,2>I2,1,I4,1,I2,3,I4,3
したがって、マグネシウム合金陽極の発生電流を常時監視できればマグネシウム合金陽極の発生電流の大きさから、金属物の接触位置が推定できる。特定部133は、マグネシウム合金陽極の発生電流の大きさに基づいて、基礎部に低接地物が接触している床スラブを導出する。
なお、マグネシウム合金陽極の発生電流は、通信回線による常時監視でなくてもよく、定期的なマグネシウム合金陽極の発生電流の測定によっても、マグネシウム合金陽極の発生電流の大きさから金属物の接触箇所は推定できる。
また、マグネシウム合金陽極の発生電流は、全箇所測定ではなく、隣接する数箇所のマグネシウム合金陽極をスキップして測定しても、大まかには金属物の接触箇所をとらえることができる。
FIG. 22 is a diagram showing an example of a change with time of the magnesium alloy anode generated current at the time of contact with a metal object.
When there is no contact with metal objects, the anticorrosion current is assumed to be almost constant regardless of the position of the steel foundation beam. When a metal object comes into contact with the steel foundation beam in this steady state, the current generated from the magnesium alloy anode also flows into the contacted metal contact portion. Therefore, the generated current of the magnesium alloy anode greatly increases from the steady state when a metal object comes into contact with it. The degree of increase in the generated current of the magnesium alloy anode is larger for the magnesium alloy anode closer to the metal contact portion with the steel foundation beam, and smaller for the magnesium alloy anode farther from the metal contact portion.
Therefore, the magnitude of the generated current of the magnesium alloy when the metal object comes into contact with the central portion of the steel foundation beam in the third row and the second row is generated in the steel foundation beam in the nth column × m row. When the current to be generated is expressed by "In, m", it is as follows.
I3,2> I3,1, I3,3, I2,2, I4,2> I2,1, I4,1, I2,3,I4,3
Therefore, if the generated current of the magnesium alloy anode can be constantly monitored, the contact position of the metal object can be estimated from the magnitude of the generated current of the magnesium alloy anode. The specific portion 133 derives a floor slab in which a low ground contact object is in contact with the base portion based on the magnitude of the generated current of the magnesium alloy anode.
The generated current of the magnesium alloy anode does not have to be constantly monitored by the communication line, and even by measuring the generated current of the magnesium alloy anode on a regular basis, the contact point of the metal object is determined by the magnitude of the generated current of the magnesium alloy anode. Can be estimated.
Further, the generated current of the magnesium alloy anode can be roughly measured at the contact points of metal objects even if the measurement is performed by skipping several adjacent magnesium alloy anodes instead of measuring at all points.

次に、特定部133が、迷走電流の干渉による電流流出範囲を検知する処理について、説明する。
直流電気鉄道などを発生源とし、レールから漏洩した迷走電流が土壌中に流れているところにいくつもの鋼製基礎梁があると、土壌中を流れる迷走電流は電圧降下が最少となるような経路を取るので、接地抵抗の低い杭鉄筋や鋼製基礎梁の塗膜欠陥部やマグネシウム合金陽極などに流入する。一旦、杭鉄筋や鋼製基礎梁の塗膜欠陥部やマグネシウム合金陽極に流入した迷走電流は、別の個所の杭鉄筋や鋼製基礎梁の塗膜欠陥部やマグネシウム合金陽極から土壌中に流出し、その後、直流電気鉄道のレールに戻る。
図23は、迷走電流の流出箇所のマグネシウム合金陽極の発生電流経時変化の一例を示す図である。
直流電気鉄道から漏れた迷走電流が、図21に示される鋼製基礎梁の1列1行〜1列3行の、鋼製基礎梁の塗膜欠陥部や杭鉄筋、更にはマグネシウム合金陽極に流入し、5列1行〜5列3行にかけて流出し、直流電気鉄道のレールに戻る場合を考える。迷走電流が流入した1列1行〜1列3行では鋼製基礎梁の塗膜欠陥部、杭鉄筋、更にはマグネシウム合金陽極の電位が卑側にシフトするとともに、マグネシウム合金陽極の発生電流は迷走電流が流入する前と比較して減少する。
一方、迷走電流が杭鉄筋や鋼製基礎梁の塗膜欠陥部やマグネシウム合金陽極などから流出した場合に、5列1行〜5列3行では、杭鉄筋や鋼製基礎梁の塗膜欠陥部やマグネシウム合金陽極の電位が貴化するとともに、マグネシウム合金陽極の発生電流は迷走電流が流出する前と比較して増加する。迷走電流が土壌中に流出する杭鉄筋や鋼製基礎梁の塗膜欠陥部やマグネシウム合金陽極箇所では腐食が生じる。マグネシウム合金陽極では陽極が強制溶解するので、陽極寿命が縮小となる。
迷走電流の干渉による電流流出範囲はマグネシウム合金陽極の発生電流が上昇したところとなる。特定部133は、マグネシウム合金陽極の発生電流に基づいて、迷走電流の干渉による電流流出が発生している床スラブの位置を導出する。図4に戻り説明を続ける。
Next, the process in which the specific unit 133 detects the current outflow range due to the interference of the stray current will be described.
If there are several steel foundation beams where the stray current leaked from the rail is flowing in the soil from a DC electric railway, etc., the stray current flowing in the soil will have the least voltage drop. Therefore, it flows into a pile reinforcing bar having a low ground resistance, a coating defect part of a steel foundation beam, a magnesium alloy anode, or the like. The stray voltage that once flowed into the coating defect part of the pile reinforcing bar or steel foundation beam or the magnesium alloy anode flows out into the soil from the coating defect part of the pile reinforcing bar or steel foundation beam or the magnesium alloy anode in another place. Then, return to the rail of the DC electric railway.
FIG. 23 is a diagram showing an example of the time-dependent change of the generated current of the magnesium alloy anode at the outflow point of the stray current.
The stray current leaked from the DC electric rail is applied to the coating defect part of the steel foundation beam, the pile reinforcing bar, and the magnesium alloy anode in 1 row 1 row to 1 row 3 rows of the steel foundation beam shown in FIG. Consider the case where the inflow flows in, flows out from 1 row in 5 columns to 3 rows in 5 columns, and returns to the rail of the DC electric railway. In the 1st row 1st row to 1st row 3rd row where the stray current flows, the potential of the coating defect part of the steel foundation beam, the pile reinforcing bar, and the magnesium alloy anode shifts to the base side, and the generated current of the magnesium alloy anode is It decreases compared to before the stray current flows in.
On the other hand, when the stray current flows out from the coating defect part of the pile reinforcing bar or the steel foundation beam or the magnesium alloy anode, the coating defect of the pile reinforcing bar or the steel foundation beam occurs in the 5th column, 1st row to the 5th row, 3rd row. As the potential of the part and the magnesium alloy anode becomes noble, the generated current of the magnesium alloy anode increases as compared with before the stray current flows out. Corrosion occurs at the coating defects of pile reinforcing bars and steel foundation beams where stray current flows into the soil, and at the anode of magnesium alloy. In the magnesium alloy anode, the anode is forcibly dissolved, so that the anode life is shortened.
The current outflow range due to the interference of the stray current is where the generated current of the magnesium alloy anode rises. The identification unit 133 derives the position of the floor slab in which the current outflow due to the interference of the stray current is generated based on the generated current of the magnesium alloy anode. The explanation will be continued by returning to FIG.

操作部140は、ユーザの操作を受け付ける入力デバイスであり、タッチパネル等のポインティングデバイス、ボタン、ダイヤル、タッチセンサ、タッチパッド等を含む。
表示部150は、例えば液晶ディスプレイ等によって構成される。表示部150は、処理部132が出力した低接地物が接触していることを示す情報、特定部133が出力した低接地物が接触した位置を示す情報、処理部132が出力した迷走電流が発生していることを示す情報、特定部133が出力した迷走電流が発生している位置を示す情報などを表示する。
The operation unit 140 is an input device that accepts user operations, and includes a pointing device such as a touch panel, buttons, dials, touch sensors, touch pads, and the like.
The display unit 150 is composed of, for example, a liquid crystal display or the like. The display unit 150 contains information output by the processing unit 132 indicating that the low ground object is in contact, information indicating the position where the low ground object output by the specific unit 133 is in contact, and stray current output by the processing unit 132. Information indicating that the current is occurring, information indicating the position where the stray current output by the specific unit 133 is generated, and the like are displayed.

(監視システムの動作)
図24と、図25とは、本実施形態の監視システムの動作の一例を示すフローチャートである。図24と、図25とには、主に、監視システム200に含まれる監視装置100の動作を示す。
対象物に電流が流出入することで対地電位が変動する。電流の変動は変状発生とともに直ちに変化するが、対地電位は対象物の分極を伴う場合が多く、変状発生に伴う電位変動は電流よりは遅くなる。以上のことから、本実施形態では、鋼製部材対地電位に加え、陽極発生電流の両方をモニタリングし、他金属との接触の有無、迷走電流の干渉(流出域が腐食箇所)の有無を検知する場合について説明を続ける。
図24を参照して、基礎構造(1a−11〜1a−mn)の基礎部30の鋼製の基礎梁33に電線を介して接続されたクーポン72a−11の対地電位を照合電極(71a−11〜71a−mn)で測定し、その測定結果に基づいて、基礎梁33に低接地物が接触しているか否かの判断と、迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かの判定とのいずれか一方又は両方を行う処理について説明する。
(Operation of monitoring system)
24 and 25 are flowcharts showing an example of the operation of the monitoring system of the present embodiment. 24 and 25 mainly show the operation of the monitoring device 100 included in the monitoring system 200.
The ground potential fluctuates as the current flows in and out of the object. The fluctuation of the current changes immediately when the deformation occurs, but the ground potential is often accompanied by the polarization of the object, and the potential fluctuation due to the occurrence of the deformation is slower than the current. From the above, in the present embodiment, in addition to the steel member ground potential, both the anode generated current is monitored, and the presence or absence of contact with other metals and the presence or absence of stray current interference (outflow area is a corroded part) are detected. Continue the explanation of the case.
With reference to FIG. 24, the ground potential of the coupon 72a-11 connected to the steel foundation beam 33 of the foundation portion 30 of the foundation structure (1a-11 to 1a-mn) via an electric current is checked against the ground potential (71a-). 11 to 71a-mn), and based on the measurement result, it is judged whether or not a low grounded object is in contact with the foundation beam 33, and whether or not a current outflow occurs due to the interference of stray current. The process of performing either one or both of the determinations will be described.

電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mnの各々は、基礎構造(1a−11〜1a−mn)の基礎部30の鋼製の基礎梁33に電線を介して接続されたクーポン72a−11の対地電位を照合電極(71a−11〜71a−mn)で測定し、対地電位の測定結果を示す情報と、基礎梁33の識別情報と、測定時刻情報とを含む対地電位測定情報を作成し、作成した対地電位測定情報を、監視装置100に送信する。
(ステップS1)
監視装置100の通信部110は、電位測定機60a−11〜電位測定機60a−mnの各々が送信した対地電位測定情報を受信し、受信した対地電位測定情報を、情報処理部130に出力する。
情報処理部130の受付部131は、通信部110が出力した複数の対地電位測定情報を取得し、取得した複数の対地電位測定情報を受け付ける。
Each of the potential measuring machines 60a-11 to 60a-mn is a coupon 72a- connected to the steel foundation beam 33 of the base portion 30 of the base structure (1a-11 to 1a-mn) via an electric wire. The ground potential of 11 is measured with a reference electrode (71a-11 to 71a-mn), and the ground potential measurement information including the information indicating the measurement result of the ground potential, the identification information of the foundation beam 33, and the measurement time information is created. Then, the created ground potential measurement information is transmitted to the monitoring device 100.
(Step S1)
The communication unit 110 of the monitoring device 100 receives the ground potential measurement information transmitted by each of the potential measuring machines 60a-11 to the potential measuring machine 60a-mn, and outputs the received ground potential measurement information to the information processing unit 130. ..
The reception unit 131 of the information processing unit 130 acquires a plurality of ground potential measurement information output by the communication unit 110, and receives the acquired plurality of ground potential measurement information.

(ステップS2)
処理部132は、受付部131が出力した複数の対地電位測定情報を取得し、取得した複数の対地電位測定情報の各々に含まれる対地電位の測定結果を示す情報を取得する。処理部132は、取得した複数の対地電位の測定結果を示す情報の各々に基づいて、電位の測定結果が電位閾値以上変化したものがあるか否かを判定する。
(ステップS3)
処理部132は、複数の電位の測定結果の全てが電位閾値以上変化しない場合には、鋼製の基礎梁33と導通する全ての鋼材に他の金属物が接触しておらず、迷走電流の干渉による電流流出も発生していないと判定する。
(ステップS4)
処理部132は、複数の電位の測定結果のうち少なくとも一つが電位閾値以上変化した場合に、複数の電位の測定結果に卑側に変動したものがないか否かを判定する。
(Step S2)
The processing unit 132 acquires a plurality of ground potential measurement information output by the reception unit 131, and acquires information indicating the measurement result of the ground potential included in each of the acquired plurality of ground potential measurement information. The processing unit 132 determines whether or not the potential measurement result has changed by the potential threshold value or more based on each of the acquired information indicating the measurement results of the plurality of ground potentials.
(Step S3)
When all the measurement results of the plurality of potentials do not change by the potential threshold value or more, the processing unit 132 means that no other metal object is in contact with all the steel materials conducting with the steel foundation beam 33, and the stray current is generated. It is determined that no current outflow due to interference has occurred.
(Step S4)
When at least one of the measurement results of the plurality of potentials changes by the potential threshold value or more, the processing unit 132 determines whether or not the measurement results of the plurality of potentials have changed on the base side.

(ステップS5)
処理部132は、複数の対地電位の測定結果に卑側に変動したものがない場合には、基礎梁33に低接地物が接触していると判定する。処理部132は、基礎梁33に低接地物が接触していると判定した場合に、基礎梁33に低接地物が接触していることを示す情報を、表示部150に出力する。処理部132は、基礎梁33に低接地物が接触していると判定した場合に、基礎梁33に低接地物が接触していることを示す情報と、鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報を含む低接地物接触発生情報を作成し、作成した低接地物接触発生情報を、特定部133へ出力する。
(ステップS6)
特定部133は、取得した低接地物接触発生情報に含まれる鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報とを取得する。特定部133は、取得した鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報に基づいて、低接地物が接触した床スラブの位置を導出する。特定部133は、取得した鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報に基づいて、低接地物が接触した位置を導出する。特定部133は、導出した低接地物が接触した位置を示す情報を、表示部150に出力する。
低接地物が接触した場合には、基礎梁33の電位が上昇してしまう。この場合、低接地物が接触した位置に基づいて、低接地物を除去することによって、基礎梁33の電位を下げることができる。
(Step S5)
When the measurement results of the plurality of ground potentials do not fluctuate on the base side, the processing unit 132 determines that the low ground contact object is in contact with the foundation beam 33. When the processing unit 132 determines that the low grounded object is in contact with the foundation beam 33, the processing unit 132 outputs information indicating that the low grounded object is in contact with the foundation beam 33 to the display unit 150. When the processing unit 132 determines that the low grounded object is in contact with the foundation beam 33, the processing unit 132 indicates that the low grounded object is in contact with the foundation beam 33 and the identification information of the steel foundation beam 33. The low ground contact occurrence information including the information associated with the information indicating the measurement result of the ground potential is created, and the created low ground contact occurrence information is output to the specific unit 133.
(Step S6)
The specific unit 133 acquires information that associates the identification information of the steel foundation beam 33 included in the acquired low ground contact occurrence information with the information indicating the measurement result of the ground potential. The identification unit 133 derives the position of the floor slab in contact with the low ground contact object based on the information associated with the acquired identification information of the steel foundation beam 33 and the information indicating the measurement result of the ground potential. The identification unit 133 derives the position where the low ground contact object comes into contact with the information based on the information associated with the acquired identification information of the steel foundation beam 33 and the information indicating the measurement result of the ground potential. The identification unit 133 outputs information indicating the position where the derived low ground object comes into contact with the display unit 150 to the display unit 150.
When a low grounded object comes into contact, the potential of the foundation beam 33 rises. In this case, the potential of the foundation beam 33 can be lowered by removing the low grounded object based on the position where the low grounded object is in contact.

(ステップS7)
処理部132は、複数の対地電位の測定結果に、卑側に変動したものがある場合には、迷走電流の干渉による電流流出が発生したと判定する。処理部132は、迷走電流の干渉による電流流出が発生したと判定した場合に、迷走電流の干渉による電流流出が発生したことを示す情報を、表示部150に出力する。処理部132は、迷走電流の干渉による電流流出が発生したと判定した場合に、迷走電流の干渉による電流流出が発生したことを示す情報と、鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報とを含む迷走電流の干渉による電流流出発生情報を作成し、作成した迷走電流の干渉による電流流出発生情報を、特定部133へ出力する。
(ステップS8)
特定部133は、処理部132が出力した迷走電流の干渉による電流流出発生情報を取得し、取得した迷走電流の干渉による電流流出発生情報に含まれる鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報とを取得する。特定部133は、取得した鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とに基づいて、迷走電流の干渉による電流流出が発生した床スラブの位置を導出する。特定部133は、取得した鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報に基づいて、対地電位の測定結果から、迷走電流の干渉による電流流出が発生した箇所を導出する。特定部133は、導出した迷走電流の干渉による電流流出が発生した箇所を示す情報を、表示部150に出力する。
迷走電流の干渉による電流流出が発生した場合に、電位が高い箇所は流出電流が多いため、腐食が問題となる。この場合、マグネシウム電極の回路に抵抗を挿入することによって、電流を下げることができる。マグネシウムの電極の回路に抵抗を挿入しても、電位が下がらない場合には、マグネシウムを追加することによって、電位を下げることができる。
(Step S7)
When the measurement results of the plurality of ground potentials fluctuate on the base side, the processing unit 132 determines that a current outflow has occurred due to the interference of the stray current. When it is determined that a current outflow has occurred due to the interference of the stray current, the processing unit 132 outputs information indicating that the current outflow has occurred due to the interference of the stray current to the display unit 150. When the processing unit 132 determines that a current outflow has occurred due to the interference of the stray current, the processing unit 132 indicates that the current outflow has occurred due to the interference of the stray current, the identification information of the steel foundation beam 33, and the ground potential. The current outflow generation information due to the interference of the stray current including the information associated with the information indicating the measurement result of the above is created, and the current outflow generation information due to the interference of the created stray current is output to the specific unit 133.
(Step S8)
The specific unit 133 acquires the current outflow generation information due to the interference of the stray current output by the processing unit 132, and the identification information of the steel foundation beam 33 included in the current outflow generation information due to the interference of the acquired stray current, and the ground. The information associated with the information indicating the measurement result of the electric potential is acquired. The identification unit 133 derives the position of the floor slab in which the current outflow due to the interference of the stray current has occurred, based on the acquired identification information of the steel foundation beam 33 and the information indicating the measurement result of the ground potential. Based on the information in which the acquired identification information of the steel foundation beam 33 and the information indicating the measurement result of the ground potential are associated with the specific unit 133, the current outflow due to the interference of the stray current is generated from the measurement result of the ground potential. Derive the location where it occurred. The specific unit 133 outputs information indicating a location where a current outflow occurs due to the interference of the derived stray current to the display unit 150.
When a current outflow occurs due to the interference of the stray current, corrosion becomes a problem because the outflow current is large in the place where the potential is high. In this case, the current can be reduced by inserting a resistor into the circuit of the magnesium electrode. If the potential does not decrease even if a resistor is inserted into the circuit of the magnesium electrode, the potential can be decreased by adding magnesium.

図25を参照して、電流供給部(51a−11〜51a−mn)から、基礎構造の基礎部30の鋼製の基礎梁33の他、それに導通している杭鉄筋に流れる電流の測定結果に基づいて、基礎梁33に低接地物が接触しているか否かの判断と、迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かの判定とのいずれか一方又は両方を行う処理について説明する。
電流測定機70a−11〜電流測定機70a−mnの各々は、電流供給部(51a−11〜51a−mn)から、基礎構造の基礎部30の鋼製の基礎梁33の他、それに導通している杭鉄筋に流れる電流を測定し、電流の測定結果を示す情報と、基礎梁33の識別情報と、測定時刻情報とを含む電流測定情報を作成し、作成した電流測定情報を、監視装置100に送信する。
(ステップS11)
監視装置100の通信部110は、電流測定機70a−11〜電流測定機70a−mnの各々が送信した電流測定情報を受信し、受信した電流測定情報を、情報処理部130に出力する。
情報処理部130の受付部131は、受け付けた複数の電流測定情報を、処理部132に出力する。
(ステップS12)
処理部132は、受付部131が出力した複数の電流測定情報を取得し、取得した複数の電流測定情報の各々に含まれる電流の測定結果を示す情報を取得する。処理部132は、取得した複数の電流の測定結果を示す情報の各々に基づいて、電流の測定結果が電流閾値以上変化したものがあるか否かを判定する。
(ステップS13)
処理部132は、複数の電流の測定結果の全てが電流閾値以上変化しない場合には、鋼製の基礎梁33と導通する全ての鋼材に他の金属物が接触しておらず、迷走電流の干渉による電流流出も発生していないと判定する。
(ステップS14)
処理部132は、複数の電流の測定結果のうち少なくとも一つが電流閾値以上変化した場合に、複数の電流の測定結果に減少したものがないか否かを判定する。
(ステップS15)
処理部132は、複数の電流の測定結果に減少したものがない場合には、基礎梁33に低接地物が接触していると判定する。処理部132は、基礎梁33に低接地物が接触していると判定した場合に、基礎梁33に低接地物が接触していることを示す情報を、表示部150に出力する。ここで、特定部133は、複数の電流の測定結果に基づいて、基礎梁33に低接地物が接触している床スラブの位置を導出してもよい。
With reference to FIG. 25, the measurement result of the current flowing from the current supply unit (51a-11 to 51a-mn) to the steel foundation beam 33 of the foundation portion 30 of the foundation structure and the pile reinforcing bar conducting to the steel foundation beam 33. Based on the above, a process of determining whether or not a low grounded object is in contact with the foundation beam 33 and determining whether or not a current outflow occurs due to interference of stray current, or both of them will be described. To do.
Each of the current measuring machines 70a-11 to 70a-mn conducts from the current supply part (51a-11 to 51a-mn) to the steel foundation beam 33 of the foundation part 30 of the foundation structure and the current beam 33. The current flowing through the pile reinforcing bar is measured, information indicating the measurement result of the current, identification information of the foundation beam 33, and current measurement information including measurement time information are created, and the created current measurement information is monitored by the monitoring device. Send to 100.
(Step S11)
The communication unit 110 of the monitoring device 100 receives the current measurement information transmitted by each of the current measuring machines 70a-11 to the current measuring machine 70a-mn, and outputs the received current measurement information to the information processing unit 130.
The reception unit 131 of the information processing unit 130 outputs a plurality of received current measurement information to the processing unit 132.
(Step S12)
The processing unit 132 acquires a plurality of current measurement information output by the reception unit 131, and acquires information indicating a current measurement result included in each of the acquired current measurement information. The processing unit 132 determines whether or not the current measurement result has changed by the current threshold value or more based on each of the acquired information indicating the measurement results of the plurality of currents.
(Step S13)
When all of the measurement results of the plurality of currents do not change by the current threshold value or more, the processing unit 132 means that no other metal object is in contact with all the steel materials conducting with the steel foundation beam 33, and the stray current is generated. It is determined that no current outflow due to interference has occurred.
(Step S14)
When at least one of the measurement results of the plurality of currents changes by the current threshold value or more, the processing unit 132 determines whether or not there is any decrease in the measurement results of the plurality of currents.
(Step S15)
If there is no decrease in the measurement results of the plurality of currents, the processing unit 132 determines that the low grounded object is in contact with the foundation beam 33. When the processing unit 132 determines that the low grounded object is in contact with the foundation beam 33, the processing unit 132 outputs information indicating that the low grounded object is in contact with the foundation beam 33 to the display unit 150. Here, the specific unit 133 may derive the position of the floor slab in which the low ground contact object is in contact with the foundation beam 33 based on the measurement results of a plurality of currents.

(ステップS16)
処理部132は、複数の電流の測定結果に減少したものがある場合には、迷走電流の干渉による電流流出が発生したと判定する。処理部132は、迷走電流の干渉による電流流出が発生したと判定した場合に、迷走電流が発生したことを示す情報を、表示部150に出力する。ここで、特定部133は、複数の電流の測定結果に基づいて、迷走電流の干渉による電流流出が発生した床スラブの位置を導出してもよい。
ステップS15の後に、処理部132は、基礎梁33に低接地物が接触していることを示す情報と、鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報を含む低接地物接触発生情報を作成し、作成した低接地物接触発生情報を、特定部133へ出力してもよい。
特定部133は、取得した低接地物接触発生情報に含まれる鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報とを取得する。特定部133は、取得した鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報を関連付けた情報とに基づいて、低接地物が接触した位置を導出する。特定部133は、導出した低接地物が接触した位置を示す情報を、表示部150に出力する。
低接地物が接触した場合には、基礎梁33の電位が上昇してしまう。この場合、低接地物が接触した位置に基づいて、低接地物を除去することによって、基礎梁33の電位を下げることができる。
(Step S16)
When the measurement results of the plurality of currents are reduced, the processing unit 132 determines that a current outflow has occurred due to the interference of the stray current. When it is determined that the current outflow due to the interference of the stray current has occurred, the processing unit 132 outputs information indicating that the stray current has occurred to the display unit 150. Here, the specific unit 133 may derive the position of the floor slab in which the current outflow due to the interference of the stray current has occurred, based on the measurement results of the plurality of currents.
After step S15, the processing unit 132 associates the information indicating that the low ground contact object is in contact with the foundation beam 33, the identification information of the steel foundation beam 33, and the information indicating the measurement result of the ground potential. The low ground contact occurrence information including the above information may be created, and the created low ground contact occurrence information may be output to the specific unit 133.
The specific unit 133 acquires information that associates the identification information of the steel foundation beam 33 included in the acquired low ground contact occurrence information with the information indicating the measurement result of the ground potential. The identification unit 133 derives the position where the low ground contact object comes into contact with the acquired identification information of the steel foundation beam 33 and the information associated with the information indicating the measurement result of the ground potential. The identification unit 133 outputs information indicating the position where the derived low ground object comes into contact with the display unit 150 to the display unit 150.
When a low grounded object comes into contact, the potential of the foundation beam 33 rises. In this case, the potential of the foundation beam 33 can be lowered by removing the low grounded object based on the position where the low grounded object is in contact.

ステップS16の後に、処理部132は、迷走電流の干渉による電流流出が発生したことを示す情報と、鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報とを含む迷走電流の干渉による電流流出発生情報を作成し、作成した迷走電流発生情報を、特定部133へ出力してもよい。
特定部133は、処理部132が出力した迷走電流の干渉による電流流出発生情報を取得し、取得した迷走電流の干渉による電流流出発生情報に含まれる鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報とを取得する。特定部133は、取得した鋼製の基礎梁33の識別情報と、対地電位の測定結果を示す情報とを関連付けた情報に基づいて、対地電位の測定結果から、迷走電流の干渉による電流流出が発生した箇所を導出する。特定部133は、導出した迷走電流の干渉による電流流出が発生した箇所を示す情報を、表示部150に出力する。
迷走電流の干渉による電流流出が発生した場合に、電位が高い箇所は流出電流が多いため、腐食が問題となる。この場合、マグネシウム電極の回路に抵抗を挿入することによって、電流を下げることができる。マグネシウムの電極の回路に抵抗を挿入しても、電位が下がらない場合には、マグネシウムを追加することによって、電位を下げることができる。
After step S16, the processing unit 132 associates information indicating that a current outflow has occurred due to interference of the stray current, identification information of the steel foundation beam 33, and information indicating the measurement result of the ground potential. The current outflow generation information due to the interference of the stray current including the above may be created, and the created stray current generation information may be output to the specific unit 133.
The specific unit 133 acquires the current outflow generation information due to the interference of the stray current output by the processing unit 132, and the identification information of the steel foundation beam 33 included in the current outflow generation information due to the interference of the acquired stray current, and the ground. The information associated with the information indicating the measurement result of the electric potential is acquired. Based on the information in which the acquired identification information of the steel foundation beam 33 and the information indicating the measurement result of the ground potential are associated with the specific unit 133, the current outflow due to the interference of the stray current is generated from the measurement result of the ground potential. Derive the location where it occurred. The specific unit 133 outputs information indicating a location where a current outflow occurs due to the interference of the derived stray current to the display unit 150.
When a current outflow occurs due to the interference of the stray current, corrosion becomes a problem because the outflow current is large in the place where the potential is high. In this case, the current can be reduced by inserting a resistor into the circuit of the magnesium electrode. If the potential does not decrease even if a resistor is inserted into the circuit of the magnesium electrode, the potential can be decreased by adding magnesium.

前述した実施形態では、基礎構造1に第1絶縁部材40が含まれる場合について説明したが、この例に限られない。例えば、基礎構造1から第1絶縁部材40を除いてもよい。
前述した実施形態では、杭10の外周面に杭絶縁部材42が塗装されている場合について説明したが、この例に限られない。例えば、杭10の外周面に杭絶縁部材42が塗装されていなくてもよい。
前述した実施形態では、監視システム200に、一台の監視装置100が含まれる場合について説明したが、この例に限られない。例えば、監視システム200に、複数の監視装置100が含まれてもよい。
前述した実施形態では、監視システム200が、迷走電流の干渉による電流流出が発生したことの判定と、低接地物が接触したことの判定との両方を行う場合について説明したが、この例に限られない。例えば、監視システム200が、迷走電流の干渉による電流流出が発生したことの判定と、低接地物が接触したことの判定とのいずれかを行うようにしてもよい。
実施形態に係る監視システム200によれば、監視装置100は、システム鋼製の基礎梁の防食で懸念される迷走電流の干渉による電流流出が発生したことを判定できるとともに、迷走電流が流入した方向を導出できる。このため、マグネシウム電極の回路に抵抗を挿入して電流を下げる。抵抗のみで設計値まで電位が下がらない場合は、マグネシウムを追加するなどの対策を施すことができる。
また、監視装置100は、システム鋼製の基礎梁の防食で懸念される低接地物が接触したことを判定できるとともに、低接触物が接触した位置を導出できる。このため、低接触物が接触した位置に基づいて、低接地物を除去するなどの対策を施すことができる。
前述した実施形態では、監視システム200が、基礎梁33の対地電位と、陽極が発生する防食電流とをモニタリングし、モニタリンクの結果に基づいて、他金属との接触の有無、迷走電流の干渉による電流流出の有無を検知する場合について説明したが、この例に限られない。例えば、監視システム200が、基礎梁33の対地電位をモニタリングし、モニタリンクの結果に基づいて、他金属との接触の有無、迷走電流の干渉による電流流出の有無を検知してもよいし、陽極が発生する防食電流とをモニタリングし、モニタリンクの結果に基づいて、他金属との接触の有無、迷走電流の干渉による電流流出の有無を検知してもよい。
以上、実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、組合せを行うことができる。これら実施形態は、発明の範囲や要旨に含まれると同時に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
In the above-described embodiment, the case where the first insulating member 40 is included in the basic structure 1 has been described, but the present invention is not limited to this example. For example, the first insulating member 40 may be removed from the foundation structure 1.
In the above-described embodiment, the case where the pile insulating member 42 is painted on the outer peripheral surface of the pile 10 has been described, but the present invention is not limited to this example. For example, the pile insulating member 42 may not be painted on the outer peripheral surface of the pile 10.
In the above-described embodiment, the case where the monitoring system 200 includes one monitoring device 100 has been described, but the present invention is not limited to this example. For example, the monitoring system 200 may include a plurality of monitoring devices 100.
In the above-described embodiment, the case where the monitoring system 200 determines that the current outflow has occurred due to the interference of the stray current and the determination that the low grounded object has come into contact has been described, but this is limited to this example. I can't. For example, the monitoring system 200 may make either a determination that a current outflow has occurred due to interference of a stray current or a determination that a low grounded object has come into contact with the monitoring system 200.
According to the monitoring system 200 according to the embodiment, the monitoring device 100 can determine that a current outflow has occurred due to interference of a stray current, which is a concern in the corrosion protection of the foundation beam made of system steel, and the direction in which the stray current has flowed. Can be derived. Therefore, a resistor is inserted in the magnesium electrode circuit to reduce the current. If the potential does not drop to the design value due to the resistance alone, measures such as adding magnesium can be taken.
Further, the monitoring device 100 can determine that a low grounded object, which is a concern in the corrosion protection of the system steel foundation beam, has come into contact with the monitoring device 100, and can derive the position where the low contacted object has come into contact. Therefore, it is possible to take measures such as removing the low ground contact object based on the position where the low contact object is in contact.
In the above-described embodiment, the monitoring system 200 monitors the ground potential of the foundation beam 33 and the anticorrosion current generated by the anode, and based on the result of the monitor link, the presence or absence of contact with other metals and the interference of the stray current. The case of detecting the presence or absence of current outflow due to the above has been described, but the present invention is not limited to this example. For example, the monitoring system 200 may monitor the ground potential of the foundation beam 33 and detect the presence or absence of contact with other metals and the presence or absence of current outflow due to the interference of stray current based on the result of the monitor link. The anticorrosion current generated by the anode may be monitored, and the presence or absence of contact with other metals and the presence or absence of current outflow due to the interference of stray current may be detected based on the result of the monitor link.
Although the embodiments have been described above, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, changes, and combinations can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments are included in the scope and gist of the invention, and at the same time, are included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof.

なお、上述した監視装置100は、コンピュータで実現するようにしてもよい。その場合、各機能ブロックの機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録する。この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、CPUが実行することで実現してもよい。ここでいう「コンピュータシステム」とは、OS(Operating System)や周辺機器などのハードウェアを含むものとする。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、CD−ROMなどの可搬媒体のことをいう。また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」は、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスクなどの記憶装置を含む。
The monitoring device 100 described above may be realized by a computer. In that case, a program for realizing the function of each functional block is recorded on a computer-readable recording medium. The program recorded on the recording medium may be read by the computer system and executed by the CPU. The term "computer system" as used herein includes hardware such as an OS (Operating System) and peripheral devices.
Further, the "computer-readable recording medium" refers to a portable medium such as a flexible disk, a magneto-optical disk, a ROM, or a CD-ROM. Further, the "computer-readable recording medium" includes a storage device such as a hard disk built in a computer system.

さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、短時間の間、動的にプログラムを保持するものを含んでいてもよい。短時間の間、動的にプログラムを保持するものは、例えば、インターネットなどのネットワークや電話回線などの通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線である。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」には、サーバーやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含んでもよい。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであってもよい。また、上記プログラムは、前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであってもよい。また、上記プログラムは、プログラマブルロジックデバイスを用いて実現されるものであってもよい。プログラマブルロジックデバイスは、例えば、FPGA(Field Programmable Gate Array)である。
Further, the "computer-readable recording medium" may include a medium that dynamically holds the program for a short period of time. What dynamically holds the program for a short period of time is, for example, a communication line when the program is transmitted via a network such as the Internet or a communication line such as a telephone line.
Further, the "computer-readable recording medium" may include a medium that holds a program for a certain period of time, such as a volatile memory inside a computer system serving as a server or a client. Further, the above program may be for realizing a part of the above-mentioned functions. Further, the above-mentioned program may be realized by combining the above-mentioned functions with a program already recorded in the computer system. Further, the above program may be realized by using a programmable logic device. The programmable logic device is, for example, an FPGA (Field Programmable Gate Array).

なお、上述の監視装置100は内部にコンピュータを有している。そして、上述した監視装置100の各処理の過程は、プログラムの形式でコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶されており、このプログラムをコンピュータが読み出して実行することによって、上記処理が行われる。
ここでコンピュータ読み取り可能な記録媒体とは、磁気ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、DVD−ROM、半導体メモリなどをいう。また、このコンピュータプログラムを通信回線によってコンピュータに配信し、この配信を受けたコンピュータが当該プログラムを実行するようにしてもよい。
また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであってもよい。
さらに、前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル(差分プログラム)であってもよい。
The monitoring device 100 described above has a computer inside. The process of each process of the monitoring device 100 described above is stored in a computer-readable recording medium in the form of a program, and the process is performed by the computer reading and executing this program.
Here, the computer-readable recording medium refers to a magnetic disk, a magneto-optical disk, a CD-ROM, a DVD-ROM, a semiconductor memory, or the like. Further, this computer program may be distributed to a computer via a communication line, and the computer receiving the distribution may execute the program.
Further, the above program may be for realizing a part of the above-mentioned functions.
Further, a so-called difference file (difference program) may be used, which can realize the above-mentioned functions in combination with a program already recorded in the computer system.

1 基礎構造
10 杭
11 杭鉄筋
20 床スラブ
21 スラブ鉄筋
30 基礎部
31 杭頭接合部
32 支柱部
33、33ab−11〜33ab−mn、33bd−11〜33bd−mn、33dc−11〜33dc−mn、33ca−11〜33ca−mn 基礎梁
40 第1絶縁部材
43 第2絶縁部材
50 ネットワーク
51a−11〜51a−mn 電流供給部
52 犠牲陽極
60a−11〜60a−mn 電位測定機
70a−11〜70a−mn 電流測定機
71a−11〜71a−mn 照合電極
72a−11〜72a−mn クーポン
100 監視装置
110 通信部
120 記憶部
130 情報処理部
140 操作部
150 表示部
1 Foundation structure 10 Pile 11 Pile rebar 20 Floor slab 21 Slab rebar 30 Foundation part 31 Pile head joint 32 Strut 33, 33ab-11 to 33ab-mn, 33bd-11 to 33bd-mn, 33dc-11 to 33dc-mn , 33ca-11 to 33ca-mn Foundation beam 40 First insulating member 43 Second insulating member 50 Network 51a-11 to 51a-mn Current supply unit 52 Sacrificial electrode 60a-11 to 60a-mn Potential measuring machine 70a-11 to 70a -Mn Current measuring machine 71a-11 to 71a-mn Collation electrode 72a-11 to 72a-mn Coupon 100 Monitoring device 110 Communication unit 120 Storage unit 130 Information processing unit 140 Operation unit 150 Display unit

Claims (10)

土壌中に埋設され、かつ内側に複数の杭鉄筋が配設されたコンクリート製の杭と、前記土壌の表面に設置され、かつ内側に複数のスラブ鉄筋が配設されたコンクリート製の床スラブと、前記杭と前記床スラブとを連結し、かつ少なくとも一部が前記土壌中に埋設された鋼製の基礎部とを備え、前記基礎部は、杭の上端部に連結された鋼製の杭頭接合部と、杭頭接合部から上方に向けて延びる鋼製の支柱部と、支柱部から水平方向に延びるとともに、前記床スラブを支持する鋼製の基礎梁とを備える基礎構造の前記基礎部に防食電流を供給する電流供給部と、
前記基礎構造の前記基礎部の対地電位を示す情報を受け付ける受付部と、
前記受付部が受け付けた前記対地電位を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触しているか否かの判定と、迷走電流の干渉による電流流出が鋼製の基礎部で発生しているか否かの判定とのいずれか一方又は両方を行う処理部と
を備える、監視システム。
A concrete slab buried in the soil and having a plurality of pile reinforcements arranged inside, and a concrete floor slab installed on the surface of the soil and having a plurality of slab reinforcements arranged inside. A steel foundation that connects the pile to the floor slab and at least partially buried in the soil, the foundation being connected to the upper end of the pile. The foundation of a foundation structure including a head joint, a steel strut extending upward from the pile head joint, and a steel foundation beam extending horizontally from the strut and supporting the floor slab. A current supply unit that supplies anticorrosion current to the unit and
A reception unit that receives information indicating the ground potential of the foundation portion of the foundation structure, and
Based on the information indicating the ground potential received by the reception unit, it is determined whether or not a low grounded object is in contact with the foundation portion, and a current outflow due to the interference of the stray current occurs in the steel foundation portion. A monitoring system including a processing unit that performs one or both of determinations as to whether or not the information is present.
前記受付部は、陽極が発生する防食電流を示す情報を受け付け、
前記処理部は、前記受付部が受け付けた前記防食電流を示す情報にさらに基づいて、前記基礎部に低接地物が接触しているか否かの判定と、迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かの判定とのいずれか一方又は両方を行う、請求項1に記載の監視システム。
The reception unit receives information indicating the anticorrosion current generated by the anode, and receives information.
Based on the information indicating the anticorrosion current received by the reception unit, the processing unit further determines whether or not a low grounded object is in contact with the foundation unit, and a current outflow occurs due to the interference of the stray current. The monitoring system according to claim 1, wherein one or both of the determination is performed.
前記受付部は、複数の前記基礎構造の各々の前記基礎部の前記対地電位を示す情報を受け付け、
前記監視システムは、
前記受付部が受け付けた複数の前記基礎構造の各々の前記基礎部の前記対地電位を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う特定部
を備える、請求項1又は請求項2に記載の監視システム。
The reception unit receives information indicating the ground potential of each of the foundation parts of the plurality of foundation structures.
The monitoring system
Based on the information indicating the ground potential of each of the foundations of the plurality of foundations received by the reception, the derivation of the position where the low ground object is in contact with the foundation and the interference of the stray current. The monitoring system according to claim 1 or 2, further comprising a specific unit that performs either or both of deriving the position where the current outflow is occurring.
前記特定部は、少なくとも三箇所の前記対地電位を示す情報によって定義される平面に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う、請求項3に記載の監視システム。 Based on the plane defined by the information indicating the ground potential at least three places, the specific part derives the position where the low ground object is in contact with the base part, and the current outflow occurs due to the interference of the stray current. The monitoring system according to claim 3, wherein one or both of the derivation of the position is performed. 前記受付部は、複数の前記電流供給部の各々が複数の前記基礎構造の各々の基礎部に電流を供給することによって、複数の陽極の各々が発生する防食電流を示す情報を受け付け、
前記受付部が受け付けた複数の前記陽極の各々が発生する前記防食電流を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う特定部
を備える、請求項1に記載の監視システム。
The receiving unit receives information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes by each of the plurality of current supply units supplying a current to each foundation of the plurality of basic structures.
Based on the information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes received by the receiving unit, the derivation of the position where the low grounded object is in contact with the foundation and the current outflow due to the interference of the stray current are generated. The monitoring system according to claim 1, further comprising a specific unit that performs either or both of the derivation of the generated position.
土壌中に埋設され、かつ内側に複数の杭鉄筋が配設されたコンクリート製の杭と、前記土壌の表面に設置され、かつ内側に複数のスラブ鉄筋が配設されたコンクリート製の床スラブと、前記杭と前記床スラブとを連結し、かつ少なくとも一部が前記土壌中に埋設された鋼製の基礎部とを備え、前記基礎部は、杭の上端部に連結された鋼製の杭頭接合部と、杭頭接合部から上方に向けて延びる鋼製の支柱部と、支柱部から水平方向に延びるとともに、前記床スラブを支持する鋼製の基礎梁とを備える基礎構造の前記基礎部に電流を供給するステップと、
前記基礎構造の前記基礎部の対地電位を示す情報を受け付けるステップと、
前記受け付けるステップで受け付けた前記対地電位を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触しているか否かの判定と、迷走電流の干渉による電流流出が発生しているか否かの判定とのいずれか一方又は両方を行うステップと
を有する監視システムが実行する監視方法。
A concrete slab buried in the soil and having a plurality of pile reinforcements arranged inside, and a concrete floor slab installed on the surface of the soil and having a plurality of slab reinforcements arranged inside. A steel foundation that connects the pile to the floor slab and at least partially buried in the soil, the foundation being connected to the upper end of the pile. The foundation of a foundation structure including a head joint, a steel strut extending upward from the pile head joint, and a steel foundation beam extending horizontally from the strut and supporting the floor slab. The step of supplying current to the part and
A step of receiving information indicating the ground potential of the foundation portion of the foundation structure, and
Based on the information indicating the ground potential received in the accepting step, it is determined whether or not a low grounded object is in contact with the foundation portion and whether or not a current outflow occurs due to the interference of stray current. A monitoring method performed by a monitoring system that has steps to do one or both of the above.
前記受け付けるステップでは、複数の前記基礎構造の各々の前記基礎部の前記対地電位を示す情報を受け付け、
前記監視方法は、
前記受け付けるステップで受け付けた複数の前記基礎構造の各々の前記基礎部の前記対地電位を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う特定ステップ
を有する、請求項6に記載の監視方法。
In the accepting step, information indicating the ground potential of each of the foundations of the plurality of foundation structures is received.
The monitoring method is
Based on the information indicating the ground potential of each of the foundation portions of the plurality of foundation structures received in the acceptance step, the position where the low ground contact object is in contact with the foundation portion is derived, and the stray current interferes. The monitoring method according to claim 6, further comprising a specific step of deriving one or both of the locations where the current outflow is occurring.
複数の前記基礎構造の各々の前記床スラブには、前記対地電位を測定する電位測定機が設置され、
前記特定ステップでは、前記基礎部に低接地物が接触している床スラブの位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している床スラブの位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う、請求項7に記載の監視方法。
A potential measuring machine for measuring the ground potential is installed in each of the floor slabs of the plurality of foundation structures.
In the specific step, one or both of the derivation of the position of the floor slab in which the low ground contact object is in contact with the foundation portion and the derivation of the position of the floor slab in which the current outflow occurs due to the interference of the stray current, or both. 7. The monitoring method according to claim 7.
前記受け付けるステップでは、複数の前記基礎構造の各々の基礎部に電流を供給することによって、複数の陽極の各々が発生する防食電流を示す情報を受け付け、
前記監視方法は、
前記受け付けるステップで受け付けた複数の前記陽極の各々が発生する前記防食電流を示す情報に基づいて、前記基礎部に低接地物が接触している位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う特定ステップ
を有する、請求項6に記載の監視方法。
In the accepting step, information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes is received by supplying a current to each foundation portion of the plurality of foundation structures.
The monitoring method is
Based on the information indicating the anticorrosion current generated by each of the plurality of anodes received in the accepting step, the derivation of the position where the low grounded object is in contact with the base portion and the current outflow due to the interference of the stray current The monitoring method according to claim 6, further comprising a specific step of deriving one or both of the locations where they are occurring.
複数の前記基礎構造の各々の前記床スラブには、前記防食電流を測定する電流測定機が設置され、
前記特定ステップでは、前記基礎部に低接地物が接触している床スラブの位置の導出と、迷走電流の干渉による電流流出が発生している床スラブの位置の導出とのいずれか一方又は両方を行う、請求項9に記載の監視方法。
A current measuring machine for measuring the anticorrosion current is installed in each of the floor slabs of the plurality of foundation structures.
In the specific step, one or both of the derivation of the position of the floor slab in which the low ground contact object is in contact with the foundation portion and the derivation of the position of the floor slab in which the current outflow occurs due to the interference of the stray current. 9. The monitoring method according to claim 9.
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