JP2020176109A - Method for producing bisphenol compound - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ビスフェノール化合物の製造法に関する。詳しくは、特定のビスフェノール化合物の製造工程において、4,4’−置換体を効率良く製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a bisphenol compound. More specifically, the present invention relates to a method for efficiently producing a 4,4'-substituted product in a process for producing a specific bisphenol compound.
2つのフェノール構造がメチレン構造にて架橋されたビスフェノール化合物は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリレート樹脂、ポリアリレート樹脂等の熱可塑性樹脂の原料や、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂等の熱硬化性樹脂原料、硬化剤、天然ゴム、合成ゴム及び潤滑油などの酸化防止剤、感熱記録体の顕色剤等のほか、殺菌剤、酸化防止剤、防かび剤、難燃剤等の添加剤として広く使用されており、化学工業上重要な化合物である。ビスフェノール化合物はその製造原料に由来する構造の違いによって、ビスフェノールAなどのメチレン架橋部に置換基を2有する化合物(以下、「ケトン型ビスフェノール化合物」と呼称することがある)群、およびビスフェノールFやビスフェノールEなどのメチレン架橋部に置換基を0または1有する化合物(以下、「アルデヒド型ビスフェノール化合物」と呼称することがある)群に分類できる。これらの中でも特にアルデヒド型ビスフェノール化合物は、メチレン架橋部に水素原子を有することによる酸化防止特性や、化合物の対称性向上に由来する融点の向上および樹脂とした際の結晶特性の向上など、ケトン型ビスフェノール化合物にはない種々の特異な特性の発現が期待されることから、工業的な応用が期待されている化合物である。 Bisphenol compounds in which two phenol structures are crosslinked with a methylene structure include raw materials for thermoplastic resins such as polycarbonate resins, polyester resins, acrylate resins and polyarylate resins, and epoxy resins, polyimide resins, phenol resins, cyanate resins and the like. Addition of heat-curable resin raw materials, hardeners, natural rubbers, antioxidants such as synthetic rubbers and lubricating oils, color-developing agents for heat-sensitive recorders, as well as bactericides, antioxidants, fungicides, flame retardants, etc. Widely used as an agent, it is an important compound in the chemical industry. The bisphenol compound is a group of compounds having two substituents at the methylene cross-linked portion such as bisphenol A (hereinafter, may be referred to as "ketone type bisphenol compound"), and bisphenol F and bisphenol F, depending on the difference in structure derived from the manufacturing raw material. It can be classified into a group of compounds having a substituent of 0 or 1 in a methylene bridge such as bisphenol E (hereinafter, may be referred to as "aldehyde type bisphenol compound"). Among these, aldehyde-type bisphenol compounds are ketone-type, such as antioxidant properties due to having a hydrogen atom in the methylene bridge, improvement in melting point due to improvement of compound symmetry, and improvement in crystal properties when made into a resin. It is a compound that is expected to be applied industrially because it is expected to exhibit various peculiar properties that bisphenol compounds do not have.
ビスフェノール化合物は、通常ケトン類やアルデヒド類などカルボニル類もしくはその誘導体を、フェノール類もしくはその誘導体と酸触媒存在下に縮合させることによって製造されるのが一般的である。製造の際得られる反応混合物は、通常ヒドロキシ基の置換位置が異なる異性体やフェノール類が3以上縮合したオリゴフェノール化合物を含むことが知られており、ビスフェノール化合物の低粘度化、結晶性向上や、樹脂とした際の製造安定性など、種々の面で有利となることから、前記混合物から特定の置換位置にヒドロキシ基が置換したビスフェノール化合物のみを精製処理等で取り出して用いることが一般的になされている。そのため、製造の効率化および精製処理における負荷低減による低コスト化の観点から、製造時に特定の置換位置にヒドロキシ基が置換したビスフェノール化合物、特に工業上応用可能性の広い4,4’−ジヒドロキシ置換体(以下、4,4’−置換体と呼称することがある。)を効率良く製造できる方法が強く求められている。 The bisphenol compound is generally produced by condensing a carbonyl group such as a ketone or an aldehyde or a derivative thereof with a phenol or a derivative thereof in the presence of an acid catalyst. It is known that the reaction mixture obtained at the time of production usually contains an oligophenol compound in which isomers having different substitution positions of hydroxy groups and phenols are condensed at 3 or more, and the bisphenol compound can be reduced in viscosity and crystallized. Since it is advantageous in various aspects such as production stability when it is made into a resin, it is generally used by extracting only a bisphenol compound in which a hydroxy group is substituted at a specific substitution position from the mixture by a purification treatment or the like. It has been done. Therefore, from the viewpoint of improving production efficiency and reducing costs by reducing the load in the purification process, bisphenol compounds in which a hydroxy group is substituted at a specific substitution position during production, particularly 4,4'-dihydroxy substitution having wide industrial applicability. There is a strong demand for a method capable of efficiently producing a body (hereinafter, may be referred to as a 4,4'-substituted product).
アルデヒド型ビスフェノールを製造するためのアルデヒド類としては、アルデヒドそのものの他に、反応時に分解してアルデヒドを生成する化合物も用いることができる。このような化合物の一例として、アルデヒドの三量体である1,3,5−トリオキサン化合物が挙げられる。1,3,5−トリオキサン化合物をアルデヒドの代わりに原料として用いる際に期待される点としては、揮発性の低下および毒性低下による原料取り扱い性向上や、反応時の総発熱量減少による反応取り扱い性向上などが挙げられる。このような観点から、トリオキサン化合物を原料としてアルデヒド型ビスフェノール化合物を製造する方法は、工業的に優れていると期待される。 As the aldehydes for producing the aldehyde-type bisphenol, in addition to the aldehyde itself, a compound that decomposes during the reaction to produce an aldehyde can also be used. Examples of such compounds include 1,3,5-trioxane compounds, which are trimers of aldehydes. When the 1,3,5-trioxane compound is used as a raw material instead of an aldehyde, the expected points are the improvement in the handleability of the raw material due to the decrease in volatility and the decrease in toxicity, and the reaction handleability due to the decrease in the total calorific value during the reaction. Improvements can be mentioned. From this point of view, a method for producing an aldehyde-type bisphenol compound using a trioxane compound as a raw material is expected to be industrially superior.
トリオキサン化合物およびフェノール類を反応させてビスフェノールを製造する方法として、例えば特許文献1には、パラアルデヒド(2,4,6−トリメチル−1,3,5−トリオキサン)と2,6−ジ−tert−ブチルフェノールをナトリウムメトキシドなどの塩基存在下で縮合させ、1,1−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)エタンを製造する方法が記載されている。また、特許文献2には、パラアルデヒドとo−クレゾールをリン酸水溶液存在下で縮合させて、1,1−ビス(4−メチル−3−ヒドロキシフェニル)エタンを製造する方法が記載されている。 As a method for producing bisphenol by reacting a trioxane compound and phenols, for example, Patent Document 1 describes paraaldehyde (2,4,6-trimethyl-1,3,5-trioxane) and 2,6-di-tert. A method for producing 1,1-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) ethane by condensing −butylphenol in the presence of a base such as sodium methoxydo has been described. Further, Patent Document 2 describes a method for producing 1,1-bis (4-methyl-3-hydroxyphenyl) ethane by condensing paraldehyde and o-cresol in the presence of an aqueous phosphoric acid solution. ..
しかしながら、本発明者が検討した結果、特許文献1〜2のいずれの方法においても、工業的な応用に課題が存在することが判明した。まず特許文献1については、o−クレゾールなどのヒドロキシル基のオルト位に置換基を有さないフェノール類を用いた場合、4,4’−置換体の選択率が著しく低く、非常に限られたアルデヒド型ビスフェノールにしか適用できないことが判明した。一方特許文献2については、触媒であるリン酸を大過剰量用いており、精製工程における触媒除去に対する負荷が大きい点で工業化に適した方法であるとは言いがたく、さらに前記課題を解消するため触媒量を低減させると、反応速度、および4,4’−置換体の選択率共に低下する傾向があり、工業化の観点で課題があることが判明した。 However, as a result of the examination by the present inventor, it has been found that there is a problem in industrial application in any of the methods of Patent Documents 1 and 2. First, with respect to Patent Document 1, when phenols having no substituent at the ortho position of the hydroxyl group such as o-cresol were used, the selectivity of the 4,4'-substituted product was extremely low and very limited. It turned out that it can only be applied to aldehyde-type bisphenol. On the other hand, Patent Document 2 uses a large excess amount of phosphoric acid as a catalyst, and cannot be said to be a method suitable for industrialization in that the load on catalyst removal in the purification step is large, and further solves the above-mentioned problems. Therefore, when the amount of catalyst is reduced, both the reaction rate and the selectivity of 4,4'-substituted products tend to decrease, and it has been found that there is a problem from the viewpoint of industrialization.
以上から、トリオキサンを原料として用いるアルデヒド型ビスフェノール化合物の製造は、前記の通り工業的な応用が期待されているにも関わらず、4,4’−置換体を容易に、高選択的かつ少量の触媒を用いた反応工程にて得る方法がないため、その応用が阻害されているという課題が見出された。 Based on the above, the production of aldehyde-type bisphenol compounds using trioxane as a raw material is expected to have industrial applications as described above, but 4,4'-substituted products can be easily produced in a highly selective and small amount. Since there is no method to obtain it in the reaction process using a catalyst, the problem that its application is hindered has been found.
本発明者は、上記課題に鑑み、特定のアルデヒド型ビスフェノール化合物の製造方法において、トリオキサン化合物および特定の触媒種を組み合わせることで、著しく高い位置選択性で4,4’−置換体を効率的かつ容易に得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 In view of the above problems, the present inventor can efficiently and efficiently produce 4,4'-substituted products with extremely high regioselectivity by combining a trioxane compound and a specific catalyst species in a method for producing a specific aldehyde-type bisphenol compound. We have found that it can be easily obtained, and have completed the present invention.
すなわち、本発明の要旨は、以下の[1]〜[4]に存する。 That is, the gist of the present invention lies in the following [1] to [4].
[1] 下記式(1)で表されるビスフェノール化合物の製造方法であって、
少なくともフェノール類、ヘテロポリ酸、および下記式(2)で表されるトリオキサン化合物を共存させた状態から、下記式(1)で表されるビスフェノール化合物を生成させる工程を含むことを特徴とする、ビスフェノール化合物の製造方法。
[1] A method for producing a bisphenol compound represented by the following formula (1).
A bisphenol comprising a step of producing a bisphenol compound represented by the following formula (1) from a state in which at least phenols, a heteropolyacid, and a trioxane compound represented by the following formula (2) coexist. Method for producing compound.
[式(1)中、R1は、水素原子もしくは炭素数1〜29の一価の有機基を表し、R2、R3はそれぞれ独立に、ハロゲン原子又は炭素数1〜29の一価の有機基を表し、a及びbはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。a又はbが2以上の場合、同一のベンゼン環上にある2以上のR2又はR3は互いに結合して当該ベンゼン環に縮合する環を形成していてもよい。] [In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 29 carbon atoms, and R 2 and R 3 independently represent a halogen atom or a monovalent organic group having 1 to 29 carbon atoms. It represents an organic group, and a and b each independently represent an integer of 0 to 4. When a or b is 2 or more, two or more R 2 or R 3 on the same benzene ring may be bonded to each other to form a ring condensed with the benzene ring. ]
[式(2)中、R1は、式(1)におけると同義である。] [In equation (2), R 1 is synonymous with that in equation (1). ]
[2] 前記ヘテロポリ酸の総量が、前記トリオキサン化合物の総量に対して0.01モル%以上、1.5モル%以下であることを特徴とする、[1]に記載のビスフェノール化合物の製造方法。 [2] The method for producing a bisphenol compound according to [1], wherein the total amount of the heteropolyacid is 0.01 mol% or more and 1.5 mol% or less with respect to the total amount of the trioxane compound. ..
[3] 前記ヘテロポリ酸がケイタングステン酸、リンタングステン酸、もしくはそれらの塩から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする、[1]または[2]に記載のビスフェノール化合物の製造方法。 [3] The method for producing a bisphenol compound according to [1] or [2], wherein the heteropolyacid is at least one selected from silicotungstic acid, phosphotungstic acid, and salts thereof.
[4] メルカプト化合物をさらに共存させることを特徴とする、[1]〜[3]のいずれかに記載のビスフェノール化合物の製造方法。 [4] The method for producing a bisphenol compound according to any one of [1] to [3], which comprises further coexisting a mercapto compound.
本発明によれば、アルデヒド型ビスフェノール化合物のうち工業的に応用可能性の広い4,4’−置換体を、高選択的かつ効率的に、工業的規模で製造することができる。 According to the present invention, among aldehyde-type bisphenol compounds, 4,4'-substituted products having wide industrial applicability can be produced on an industrial scale with high selectivity and efficiency.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の記載内容に限定されるものではない。
なお、本明細書において「〜」という表現を用いる場合、その前後の数字または物性値を含む表現として用いるものとする。
The embodiments of the present invention will be described in detail below, but the description of the constituent elements described below is an example of the embodiments of the present invention, and the following description contents do not exceed the gist of the present invention. It is not limited to.
In addition, when the expression "~" is used in this specification, it shall be used as an expression including numbers or physical property values before and after the expression.
[メカニズム]
以下に、本発明の製造方法により効率的に本発明のビスフェノール化合物を製造することができる理由について記載する。
ビスフェノール化合物を製造する際、通常ヒドロキシル基の置換位置が異なる異性体の混合物として得られるが、各異性体の製造過程においてそれぞれ中間体として特定のカチオンを経ることが一般的に知られている。本発明の製造方法を用いることで、ヘテロポリ酸により、目的となる4,4’−置換体の中間体となるカチオンのみを特異的に強く安定化させることができ、結果として本発明のビスフェノール化合物を高選択的に得ることができたと考えられる。さらに、ヘテロポリ酸は活性に優れた酸であることから、ごく微量の触媒量にて十分に高い反応活性を得ることができる。このことは、触媒使用量の低減と、反応時間の短縮化を同時に達成できることを意味し、製造プロセスにおける負荷低減の観点で、工業的な応用に対し極めて有用である。これらの効果は、ヘテロポリ酸とメルカプト化合物を組み合わせた場合により顕著となる。
[mechanism]
The reason why the bisphenol compound of the present invention can be efficiently produced by the production method of the present invention will be described below.
When producing a bisphenol compound, it is usually obtained as a mixture of isomers having different hydroxyl group substitution positions, but it is generally known that each isomer passes through a specific cation as an intermediate in the production process of each isomer. By using the production method of the present invention, it is possible to specifically and strongly stabilize only the cation that is an intermediate of the target 4,4'-substituted product by the heteropolyacid, and as a result, the bisphenol compound of the present invention can be stabilized. It is considered that was able to be obtained with high selectivity. Furthermore, since the heteropolyacid is an acid having excellent activity, a sufficiently high reaction activity can be obtained with a very small amount of catalyst. This means that the amount of catalyst used can be reduced and the reaction time can be shortened at the same time, which is extremely useful for industrial applications from the viewpoint of reducing the load in the manufacturing process. These effects are more pronounced when the heteropolyacid and the mercapto compound are combined.
[ビスフェノール化合物]
本発明の製造方法により製造されるビスフェノール化合物(以下、本発明のビスフェノール化合物と呼称する)は、下記式(1)で表されることを特徴とする。
[Bisphenol compound]
The bisphenol compound produced by the production method of the present invention (hereinafter referred to as the bisphenol compound of the present invention) is characterized by being represented by the following formula (1).
[式(1)中、R1は、水素原子もしくは炭素数1〜29の一価の有機基を表し、R2、R3はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜29の一価の有機基を表し、a及びbはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。a又はbが2以上の場合、同一のベンゼン環上にある2以上のR2又はR3は互いに結合して当該ベンゼン環に縮合する環を形成していてもよい。] [In formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 29 carbon atoms, and R 2 and R 3 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom and 1 to 29 carbon atoms. It represents a monovalent organic group, and a and b each independently represent an integer of 0 to 4. When a or b is 2 or more, two or more R 2 or R 3 on the same benzene ring may be bonded to each other to form a ring condensed with the benzene ring. ]
[R1]
式(1)中、R1は、水素原子もしくは炭素数1〜29の一価の有機基を表す。ここで、一価の有機基の例としては、飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基を含む炭化水素基、もしくはヘテロ原子を含む基などが挙げられる。これらのうち、本発明のビスフェノール化合物をより効率的に生成させやすい点で、R1は水素原子、飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基を含む炭化水素基のいずれかであることが好ましく、水素原子、飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基を含む炭化水素基のいずれかであることが特に好ましく、飽和脂肪族炭化水素基であることがさらに好ましい。
[R 1 ]
In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 29 carbon atoms. Here, examples of the monovalent organic group include a saturated aliphatic hydrocarbon group, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, a hydrocarbon group containing an aromatic hydrocarbon group, a group containing a hetero atom, and the like. Of these, R 1 is a hydrocarbon containing a hydrogen atom, a saturated aliphatic hydrocarbon group, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group in that the bisphenol compound of the present invention can be easily produced more efficiently. It is preferably any of the groups, particularly preferably any of a hydrocarbon group containing a hydrogen atom, a saturated aliphatic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group, and preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group. More preferred.
R1が炭素数1〜29の飽和脂肪族炭化水素基の場合、直鎖状又は分岐状のアルキル基、一部環状構造を有するアルキル基などが挙げられるが、なかでも本発明のビスフェノール化合物をより効率的に生成させやすい点で、直鎖状又は分岐状アルキル基であることが好ましく、直鎖状アルキル基がさらに好ましい。 When R 1 is a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 29 carbon atoms, linear or branched alkyl groups, alkyl groups having a partially cyclic structure, and the like can be mentioned. Among them, the bisphenol compound of the present invention is used. A linear or branched alkyl group is preferable, and a linear alkyl group is more preferable, because it is easy to generate more efficiently.
直鎖状アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−イコシル基、n−ヘンイコシル基、n−ドコシル基、n−トリコシル基、n−テトラコシル基などが挙げられるが、この中でも、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基などの炭素数1〜18の直鎖状アルキル基が好ましい。なお、本発明のビスフェノールの結晶性を向上させ、精製工程の負荷を低減させやすい点でアルキル基の炭素数は1〜5であることが好ましく、1〜3であることが特に好ましい。 Specific examples of the linear alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group and n-. Decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecil group, n- Examples thereof include an icosyl group, an n-henicosyl group, an n-docosyl group, an n-tricosyl group, an n-tetracosyl group, and among these, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group and an n-hexyl group. Group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, etc. A linear alkyl group is preferred. The alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms, from the viewpoint of improving the crystallinity of the bisphenol of the present invention and easily reducing the load in the purification step.
分岐状アルキル基の具体例としては、メチルエチル基、メチルブチル基、メチルペンチル基、メチルヘキシル基、メチルへプチル基、メチルオクチル基、メチルノニル基、メチルデシル基、メチルウンデシル基、メチルドデシル基、メチルトリデシル基、メチルテトラデシル基、メチルペンタデシル基、メチルヘキサデシル基、メチルヘプタデシル基、メチルオクタデシル基、メチルノナデシル基、メチルイコシル基、メチルイコシル基、メチルヘンイコシル基、メチルドコシル基、メチルトリコシル基;
ジメチルエチル基、ジメチルブチル基、ジメチルペンチル基、ジメチルヘキシル基、ジメチルへプチル基、ジメチルオクチル基、ジメチルノニル基、ジメチルデシル基、ジメチルウンデシル基、ジメチルドデシル基、ジメチルトリデシル基、ジメチルテトラデシル基、ジメチルペンタデシル基、ジメチルヘキサデシル基、ジメチルヘプタデシル基、ジメチルオクタデシル基、ジメチルノナデシル基、ジメチルイコシル基、ジメチルイコシル基、ジメチルヘンイコシル基、ジメチルドコシル基;
トリメチルヘキシル基、トリメチルへプチル基、トリメチルオクチル基、トリメチルノニル基、トリメチルデシル基、トリメチルウンデシル基、トリメチルドデシル基、トリメチルトリデシル基、トリメチルテトラデシル基、トリメチルペンタデシル基、トリメチルヘキサデシル基、トリメチルヘプタデシル基、トリメチルオクタデシル基、トリメチルノナデシル基、トリメチルイコシル基、トリメチルイコシル基、トリメチルヘンイコシル基;
Specific examples of the branched alkyl group include methyl ethyl group, methyl butyl group, methyl pentyl group, methyl hexyl group, methyl heptyl group, methyl octyl group, methyl nonyl group, methyl decyl group, methyl undecyl group, methyl dodecyl group, and methyl. Tridecyl group, methyltetradecyl group, methylpentadecyl group, methylhexadecyl group, methylheptadecyl group, methyloctadecyl group, methylnonadecil group, methylicosyl group, methylicosyl group, methylhenicosyl group, methyldocosyl group, methyltricosyl group ;
Dimethylethyl group, dimethylbutyl group, dimethylpentyl group, dimethylhexyl group, dimethylheptyl group, dimethyloctyl group, dimethylnonyl group, dimethyldecyl group, dimethylundecyl group, dimethyldodecyl group, dimethyltridecyl group, dimethyltetradecyl Group, dimethylpentadecyl group, dimethylhexadecyl group, dimethylheptadecyl group, dimethyloctadecyl group, dimethylnonadecil group, dimethylicosyl group, dimethylicosyl group, dimethylhenicosyl group, dimethyldocosyl group;
Trimethylhexyl group, trimethylheptyl group, trimethyloctyl group, trimethylnonyl group, trimethyldecyl group, trimethylundecyl group, trimethyldodecyl group, trimethyltridecyl group, trimethyltetradecyl group, trimethylpentadecyl group, trimethylhexadecyl group, Trimethylheptadecyl group, trimethyloctadecyl group, trimethylnonadecil group, trimethylicosyl group, trimethylicosyl group, trimethylhenicosyl group;
エチルペンチル基、エチルヘキシル基、エチルへプチル基、エチルオクチル基、エチルノニル基、エチルデシル基、エチルウンデシル基、エチルドデシル基、エチルトリデシル基、エチルテトラデシル基、エチルペンタデシル基、エチルヘキサデシル基、エチルヘプタデシル基、エチルオクタデシル基、エチルノナデシル基、エチルイコシル基、エチルイコシル基、エチルヘンイコシル基、エチルドコシル基;
プロピルヘキシル基、プロピルへプチル基、プロピルオクチル基、プロピルノニル基、プロピルデシル基、プロピルウンデシル基、プロピルドデシル基、プロピルトリデシル基、プロピルテトラデシル基、プロピルペンタデシル基、プロピルヘキサデシル基、プロピルヘプタデシル基、プロピルオクタデシル基、プロピルノナデシル基、プロピルイコシル基、プロピルイコシル基、プロピルヘンイコシル基;
ブチルヘキシル基、ブチルへプチル基、ブチルオクチル基、ブチルノニル基、ブチルデシル基、ブチルウンデシル基、ブチルドデシル基、ブチルトリデシル基、ブチルテトラデシル基、ブチルペンタデシル基、ブチルヘキサデシル基、ブチルヘプタデシル基、ブチルオクタデシル基、ブチルノナデシル基、ブチルイコシル基、ブチルヘンイコシル基;
が挙げられる。
Ethylpentyl group, ethylhexyl group, ethylheptyl group, ethyloctyl group, ethylnonyl group, ethyldecyl group, ethylundecyl group, ethyldodecyl group, ethyltridecyl group, ethyltetradecyl group, ethylpentadecyl group, ethylhexadecyl group , Ethylheptadecyl group, ethyl octadecyl group, ethyl nonadecyl group, ethyl icosyl group, ethyl icosyl group, ethyl hen icosyl group, ethyl docosyl group;
Propylhexyl group, propylheptyl group, propyloctyl group, propylnonyl group, propyldecyl group, propylundecyl group, propyldodecyl group, propyltridecyl group, propyltetradecyl group, propylpentadecyl group, propylhexadecyl group, Propylheptadecyl group, propyloctadecyl group, propylnonadesyl group, propylicosyl group, propylicosyl group, propylhenicosyl group;
Butylhexyl group, butylheptyl group, butyloctyl group, butylnonyl group, butyldecyl group, butylundecyl group, butyldodecyl group, butyltridecyl group, butyltetradecyl group, butylpentadecyl group, butylhexadecyl group, butylhepta Decyl group, butyl octadecyl group, butyl nonadecyl group, butyl icosyl group, butyl henicosyl group;
Can be mentioned.
これらのうち、エチルペンチル基、エチルヘキシル基、エチルへプチル基、エチルオクチル基、エチルウンデシル基、エチルペンタデシル基等の炭素数7〜17の分岐アルキル基が好ましく、エチルペンチル基、エチルヘキシル基がより好ましく、エチルペンチル基が特に好ましい。
なお、前記分岐アルキル基の例において、分岐の位置は任意である。
Among these, branched alkyl groups having 7 to 17 carbon atoms such as ethylpentyl group, ethylhexyl group, ethylheptyl group, ethyloctyl group, ethylundecyl group and ethylpentadecyl group are preferable, and ethylpentyl group and ethylhexyl group are preferable. More preferably, an ethylpentyl group is particularly preferable.
In the example of the branched alkyl group, the branching position is arbitrary.
一部環状構造を有するアルキル基の具体例としては、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基;
シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチルメチル基、シクロノニルメチル基、シクロデシルメチル基、シクロウンデシルメチル基、シクロドデシルメチル基;
シクロヘキシルエチル基、シクロヘプチルエチル基、シクロオクチルエチル基、シクロノニルエチル基、シクロデシルエチル基、シクロウンデシルエチル基、シクロドデシルエチル基;
シクロヘキシルプロピル基、シクロヘプチルプロピル基、シクロオクチルプロピル基、シクロノニルプロピル基、シクロデシルプロピル基、シクロウンデシルプロピル基、シクロドデシルプロピル基;
Specific examples of the alkyl group having a partially cyclic structure include a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, a cycloundecyl group, and a cyclododecyl group;
Cyclohexylmethyl group, cycloheptylmethyl group, cyclooctylmethyl group, cyclononylmethyl group, cyclodecylmethyl group, cycloundecylmethyl group, cyclododecylmethyl group;
Cyclohexyl ethyl group, cycloheptyl ethyl group, cyclooctyl ethyl group, cyclononyl ethyl group, cyclodecyl ethyl group, cycloundecyl ethyl group, cyclododecyl ethyl group;
Cyclohexylpropyl group, cycloheptylpropyl group, cyclooctylpropyl group, cyclononylpropyl group, cyclodecylpropyl group, cycloundecylpropyl group, cyclododecylpropyl group;
メチルシクロヘキシル基、メチルシクロヘプチル基、メチルシクロオクチル基、メチルシクロノニル基、メチルシクロデシル基、メチルシクロウンデシル基、メチルシクロドデシル基;
ジメチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘプチル基、ジメチルシクロオクチル基、ジメチルシクロノニル基、ジメチルシクロデシル基、ジメチルシクロウンデシル基、ジメチルシクロドデシル基;
エチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘプチル基、エチルシクロオクチル基、エチルシクロノニル基、エチルシクロデシル基、エチルシクロウンデシル基、エチルシクロドデシル基;
プロピルシクロヘキシル基、プロピルシクロヘプチル基、プロピルシクロオクチル基、プロピルシクロノニル基、プロピルシクロデシル基、プロピルシクロウンデシル基、プロピルシクロドデシル基;
ヘキシルシクロヘキシル基、ヘキシルシクロヘプチル基、ヘキシルシクロオクチル基、ヘキシルシクロノニル基、ヘキシルシクロデシル基、ヘキシルシクロウンデシル基、ヘキシルシクロドデシル基;
Methylcyclohexyl group, methylcycloheptyl group, methylcyclooctyl group, methylcyclononyl group, methylcyclodecyl group, methylcycloundecyl group, methylcyclododecyl group;
Dimethylcyclohexyl group, dimethylcycloheptyl group, dimethylcyclooctyl group, dimethylcyclononyl group, dimethylcyclodecyl group, dimethylcycloundecyl group, dimethylcyclododecyl group;
Ethylcyclohexyl group, ethylcycloheptyl group, ethylcyclooctyl group, ethylcyclononyl group, ethylcyclodecyl group, ethylcycloundecyl group, ethylcyclododecyl group;
Propylcyclohexyl group, propylcycloheptyl group, propylcyclooctyl group, propylcyclononyl group, propylcyclodecyl group, propylcycloundecyl group, propylcyclododecyl group;
Hexylcyclohexyl group, hexylcycloheptyl group, hexylcyclooctyl group, hexylcyclononyl group, hexylcyclodecyl group, hexylcycloundecyl group, hexylcyclododecyl group;
メチルシクロヘキシルメチル基、メチルシクロヘプチルメチル基、メチルシクロオクチルメチル基、メチルシクロノニルメチル基、メチルシクロデシルメチル基、メチルシクロウンデシルメチル基、メチルシクロドデシルメチル基;
メチルシクロヘキシルエチル基、メチルシクロヘプチルエチル基、メチルシクロオクチルエチル基、メチルシクロノニルエチル基、メチルシクロデシルエチル基、メチルシクロウンデシルエチル基、メチルシクロドデシルエチル基;
メチルシクロヘキシルプロピル基、メチルシクロヘプチルプロピル基、メチルシクロオクチルプロピル基、メチルシクロノニルプロピル基、メチルシクロデシルプロピル基、メチルシクロウンデシルプロピル基、メチルシクロドデシルプロピル基;
ジメチルシクロヘキシルメチル基、ジメチルシクロヘプチルメチル基、ジメチルシクロオクチルメチル基、ジメチルシクロノニルメチル基、ジメチルシクロデシルメチル基、ジメチルシクロウンデシルメチル基、ジメチルシクロドデシルメチル基;
ジメチルシクロヘキシルエチル基、ジメチルシクロヘプチルエチル基、ジメチルシクロオクチルエチル基、ジメチルシクロノニルエチル基、ジメチルシクロデシルエチル基、ジメチルシクロウンデシルエチル基、ジメチルシクロドデシルエチル基;
ジメチルシクロヘキシルプロピル基、ジメチルシクロヘプチルプロピル基、ジメチルシクロオクチルプロピル基、ジメチルシクロノニルプロピル基、ジメチルシクロデシルプロピル基、ジメチルシクロウンデシルプロピル基、ジメチルシクロドデシルプロピル基、シクロヘキシルシクロヘキシル基;
等が挙げられる。
Methylcyclohexylmethyl group, Methylcycloheptylmethyl group, Methylcyclooctylmethyl group, Methylcyclononylmethyl group, Methylcyclodecylmethyl group, Methylcycloundecylmethyl group, Methylcyclododecylmethyl group;
Methylcyclohexylethyl group, methylcycloheptylethyl group, methylcyclooctylethyl group, methylcyclononylethyl group, methylcyclodecylethyl group, methylcycloundecylethyl group, methylcyclododecylethyl group;
Methylcyclohexylpropyl group, methylcycloheptylpropyl group, methylcyclooctylpropyl group, methylcyclononylpropyl group, methylcyclodecylpropyl group, methylcycloundecylpropyl group, methylcyclododecylpropyl group;
Dimethylcyclohexylmethyl group, dimethylcycloheptylmethyl group, dimethylcyclooctylmethyl group, dimethylcyclononylmethyl group, dimethylcyclodecylmethyl group, dimethylcycloundecylmethyl group, dimethylcyclododecylmethyl group;
Dimethylcyclohexylethyl group, dimethylcycloheptylethyl group, dimethylcyclooctylethyl group, dimethylcyclononylethyl group, dimethylcyclodecylethyl group, dimethylcycloundecylethyl group, dimethylcyclododecylethyl group;
Dimethylcyclohexylpropyl group, dimethylcycloheptylpropyl group, dimethylcyclooctylpropyl group, dimethylcyclononylpropyl group, dimethylcyclodecylpropyl group, dimethylcycloundecylpropyl group, dimethylcyclododecylpropyl group, cyclohexylcyclohexyl group;
And so on.
これらのうち、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチルメチル基、シクロノニルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘプチルエチル基、シクロオクチルエチル基等の炭素数6〜10の環状アルキル基又は環状アルキル基を置換基として有するアルキル基が好ましく、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基がより好ましく、シクロヘキシル基が特に好ましい。 Of these, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, cyclohexylmethyl group, cycloheptylmethyl group, cyclooctylmethyl group, cyclononylmethyl group, cyclohexylethyl group, cycloheptylethyl group, cyclo A cyclic alkyl group having 6 to 10 carbon atoms such as an octylethyl group or an alkyl group having a cyclic alkyl group as a substituent is preferable, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group are more preferable, and a cyclohexyl group is particularly preferable.
なお、前記一部環状構造を有するアルキル基において、置換基の置換位置は任意である。 In the alkyl group having a partially cyclic structure, the substitution position of the substituent is arbitrary.
R1が炭素数1〜29の不飽和脂肪族炭化水素基である場合の具体例としては、前記直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、及び一部環状構造を有するアルキル基の構造中に1つ以上の炭素−炭素二重結合もしくは三重結合をもつ構造のものであれば特に制限はないが、具体例としては、エテニル基、エチニル基、プロペニル基、プロピニル基、ブチニル基、ブテニル基、ペンチニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、ヘプチニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基、ヘンイコセニル基、ドコセニル基、トリコセニル基、テトラコセニル基、4,8,12−トリメチルトリデシル基、ビシクロ[2,2,1]ヘプタ−5−エン−2−イル基等が挙げられる。 Specific examples of the case where R 1 is an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 29 carbon atoms include the linear alkyl group, the branched alkyl group, and the alkyl group having a partially cyclic structure in the structure. The structure is not particularly limited as long as it has a structure having one or more carbon-carbon double bonds or triple bonds, but specific examples thereof include an ethenyl group, an ethynyl group, a propenyl group, a propynyl group, a butynyl group, and a butenyl group. Pentynyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, heptynyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group, undecenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group, tetradecenyl group, pentadecenyl group, hexadecenyl group, heptadecenyl group, octadecenyl group, nodecenyl group. , Icosenyl group, henicosenyl group, docosenyl group, tricosenyl group, tetracosenyl group, 4,8,12-trimethyltridecyl group, bicyclo [2,2,1] hepta-5-en-2-yl group and the like.
これらのうち、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基などの炭素数18以下の不飽和脂肪族炭化水素基であることが好ましく、エテニル基がさらに好ましい。 Of these, ethenyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group, undecenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group, tetradecenyl group, pentadecenyl group, hexadecenyl group, heptadecenyl group It is preferably an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms such as a group and an octadecenyl group, and an ethenyl group is more preferable.
R1が炭素数1〜29の芳香族炭化水素基を含む炭化水素基である場合の具体例としては、フェニル基、4−メチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、1−ナフチル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、9−アントラセニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2,4,5−トリメチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、4−エチニルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−フェニルエテニルフェニル基、4−フェニルフェニル基、1−アズレニル基、1−メチル−2−(4−イソプロピルフェニル)エチル基、1−メチル−2−(4−tert−ブチルフェニル)エチル基、1−n−ヘキシル−2−フェニルエテニル基等が挙げられる。 Specific examples of the case where R 1 is a hydrocarbon group containing an aromatic hydrocarbon group having 1 to 29 carbon atoms include a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 3,5-dimethylphenyl group, and a 1-naphthyl group. 3-Methylphenyl group, 2-Methylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 9-anthrasenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 2 , 3-Dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2,4,5-trimethylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group , 4-Ethynylphenyl group, 4-n-butylphenyl group, 4-isobutylphenyl group, 4-phenylethenylphenyl group, 4-phenylphenyl group, 1-azurenyl group, 1-methyl-2- (4-isopropyl) Examples thereof include a phenyl) ethyl group, a 1-methyl-2- (4-tert-butylphenyl) ethyl group, and a 1-n-hexyl-2-phenylethenyl group.
これらのうち、フェニル基、4−メチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、1−ナフチル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、9−アントラセニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2,4,5−トリメチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、4−エチニルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−フェニルエテニルフェニル基、4−フェニルフェニル基などの置換基を有していても良い芳香族炭化水素基が好ましく、フェニル基、4−メチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2,4,5−トリメチルフェニル基、3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、4−エチニルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−フェニルエテニルフェニル基、4−フェニルフェニル基などの置換基を有していても良いフェニル基がより好ましく、フェニル基、4−メチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、2,4,5−トリメチルフェニル基等のフェニル基もしくはメチル基が置換したフェニル基がさらに好ましく、フェニル基が特に好ましい。 Of these, phenyl group, 4-methylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 1-naphthyl group, 3-methylphenyl group, 2-methylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 9-anthrasenyl group , 4-tert-butylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4 -Isopropylphenyl group, 2,4,5-trimethylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, 4-ethynylphenyl group, 4-n-butylphenyl group, 4-isobutylphenyl group, 4-phenyl An aromatic hydrocarbon group which may have a substituent such as an ethenylphenyl group or a 4-phenylphenyl group is preferable, and a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 3,5-dimethylphenyl group, or a 3-methylphenyl group is preferable. Group, 2-methylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2, 4,6-trimethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2,4,5-trimethylphenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, 4-ethynylphenyl group, 4- A phenyl group which may have a substituent such as n-butylphenyl group, 4-isobutylphenyl group, 4-phenylethenylphenyl group, 4-phenylphenyl group is more preferable, and a phenyl group and 4-methylphenyl group. , 3,5-dimethylphenyl group, 3-methylphenyl group, 2-methylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 2,3-dimethyl A phenyl group such as a phenyl group, a 2,4,6-trimethylphenyl group, a 2,4,5-trimethylphenyl group or a phenyl group substituted with a methyl group is more preferable, and a phenyl group is particularly preferable.
R1が炭素数1〜29のヘテロ原子を含む基である場合の具体例としては、2−シアノフェニル基、3−シアノフェニル基、4−シアノフェニル基などのシアノ基を含む基;
トリブロモメチル基、2−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−トリフルオロメチルフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、2−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2,3−ジクロロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,5−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、4−ヨードフェニル基などのハロゲン原子を含む基;
Specific examples of the case where R 1 is a group containing a hetero atom having 1 to 29 carbon atoms include a group containing a cyano group such as a 2-cyanophenyl group, a 3-cyanophenyl group, and a 4-cyanophenyl group;
Tribromomethyl group, 2-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2-trifluoromethylphenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, 2-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2,3-dichlorophenyl group, Contains halogen atoms such as 2,4-dichlorophenyl group, 2,5-dichlorophenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 4-iodophenyl group. Group;
2−ヒドロキシフェニル基、3−ヒドロキシフェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、2,4−ジヒドロキシフェニル基、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル基、2−ヒドロキシナフチル基、3,4−ジヒドロキシフェニル基等、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル基などの水酸基を含む基;
3−(メチルチオ)プロピル基、2−(メチルチオ)ブチル基、2−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−n−ブトキシフェニル基、4−tert−ブトキシフェニル基、4−ヘキシルオキシフェニル基、3−フェノキシフェニル基、4−フェノキシフェニル基、2,3−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメトキシフェニル基、2,6−ジメトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基、3,4,5−トリメトキシフェニル基、4−メチルチオフェニル基、3−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、2−メトキシナフチル基、4−メトキシナフチル基、3,4−メチレンジオキシフェニル基、4−オクタデシルオキシフェニル基などのエーテルもしくはチオエーテル構造を含む基;
2-Hydroxyphenyl group, 3-hydroxyphenyl group, 4-hydroxyphenyl group, 2,4-dihydroxyphenyl group, 4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl group, 2-hydroxynaphthyl group, 3,4-dihydroxyphenyl Groups containing hydroxyl groups such as 4-hydroxy-3,5-di-tert-butylphenyl group, 4- (2-hydroxyethyl) phenyl group;
3- (Methylthio) propyl group, 2- (Methylthio) butyl group, 2-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-n-butoxyphenyl group, 4-tert-butoxyphenyl group, 4-hexyloxyphenyl group , 3-Phenyloxyphenyl group, 4-Phenyloxyphenyl group, 2,3-Dimethoxyphenyl group, 2,5-Dimethoxyphenyl group, 2,6-dimethoxyphenyl group, 3,4-Dimethoxyphenyl group, 3,5-Dimethoxy Phenyl group, 3,4,5-trimethoxyphenyl group, 4-methylthiophenyl group, 3-ethoxyphenyl group, 4-ethoxyphenyl group, 2-methoxynaphthyl group, 4-methoxynaphthyl group, 3,4-methylenedi A group containing an ether or thioether structure such as an oxyphenyl group or a 4-octadecyloxyphenyl group;
2−ジメチルアミノ−1−メチルエテニル基、4−ジメチルアミノフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基などのアミノ基を含む基;
2−ヒドロキシカルボニルフェニル基、4−ヒドロキシカルボニルフェニル基、3−ヒドロキシカルボニル−4−ヒドロキシフェニル基などのカルボキシ基を含む基;
1−(エトキシカルボニル)エチル基、8−メトキシカルボニルオクチル基、4−アセトキシ−3−メトキシフェニル基、3,4−ジアセトキシフェニル基、3−メトキシカルボニルフェニル基、4−メトキシカルボニルフェニル基、3−アセチルフェニル基、3−メトキシ−4−ヒドロキシフェニル基、4−tert−ブトキシカルボニルフェニル基などのカルボニルもしくはエステル構造を含む基;
A group containing an amino group such as 2-dimethylamino-1-methylethenyl group, 4-dimethylaminophenyl group, 4-diethylaminophenyl group;
A group containing a carboxy group such as a 2-hydroxycarbonylphenyl group, a 4-hydroxycarbonylphenyl group, and a 3-hydroxycarbonyl-4-hydroxyphenyl group;
1- (ethoxycarbonyl) ethyl group, 8-methoxycarbonyloctyl group, 4-acetoxy-3-methoxyphenyl group, 3,4-diacetoxyphenyl group, 3-methoxycarbonylphenyl group, 4-methoxycarbonylphenyl group, 3 A group containing a carbonyl or ester structure such as a −acetylphenyl group, 3-methoxy-4-hydroxyphenyl group, 4-tert-butoxycarbonylphenyl group;
4−アセトアミドフェニル基、4−メトキシカルボニルアミノフェニル基、フタルイミドメチル基などのアミド構造を含む基;
2−(ジフェニルホスフィノ)フェニル基などのリン原子を含む基;
3−ニトロイソブチル基、2−ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−ニトロフェニル基、2−ヒドロキシ−4−ニトロフェニル基、4−クロロ−2−ニトロフェニル基などのニトロ基を含む基;
トリメチルシリルエチニル基などのケイ素原子を含む基;
2−フリル基、5−メチル−2−フリル基、3−ピラゾリル基、2−イミダゾリル基、4−イミダゾリル基、2−チオフェニル基、3−メチル−2−チオフェニル基、2−チアゾリル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−キノリル基、5−ニトロ−2−フリル基、2−(5−メチル−2−フリル)エチル基、N−エチル−3−カルバゾリル基、(5−チオフェニル)−2−チオフェニル基などのヘテロ環を含む基;
等が挙げられる。
Groups containing amide structures such as 4-acetamidophenyl group, 4-methoxycarbonylaminophenyl group, phthalimidemethyl group;
2- (Diphenylphosphino) A group containing a phosphorus atom such as a phenyl group;
Groups containing nitro groups such as 3-nitroisobutyl group, 2-nitrophenyl group, 3-nitrophenyl group, 4-nitrophenyl group, 2-hydroxy-4-nitrophenyl group, 4-chloro-2-nitrophenyl group ;
Groups containing silicon atoms such as trimethylsilylethynyl groups;
2-Frill Group, 5-Methyl-2-Frill Group, 3-Pyrazolyl Group, 2-Imidazolyl Group, 4-Imidazolyl Group, 2-Thiophenyl Group, 3-Methyl-2-thiophenyl Group, 2-Thiazolyl Group, 2- Pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-quinolyl group, 5-nitro-2-furyl group, 2- (5-methyl-2-furyl) ethyl group, N-ethyl-3-carbazolyl group, A group containing a heterocycle such as (5-thiophenyl) -2-thiophenyl group;
And so on.
これらのうち、2−フリル基、5−メチル−2−フリル基、3−ピラゾリル基、2−イミダゾリル基、4−イミダゾリル基、2−チオフェニル基、3−メチル−2−チオフェニル基、2−チアゾリル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−キノリル基、5−ニトロ−2−フリル基、2−(5−メチル−2−フリル)エチル基、N−エチル−3−カルバゾリル基、(5−チオフェニル)−2−チオフェニル基などのヘテロ環を含む基が好ましく、2−フリル基、5−メチル−2−フリル基、2−チオフェニル基、3−メチル−2−チオフェニル基、2−チアゾリル基、(5−メチル−2−フリル)エチル基、N−エチル−3−カルバゾリル基、(5−チオフェニル)−2−チオフェニル基などの5員環を含む基であることがさらに好ましく、2−フリル基、もしくは2−チオフェニル基であることが特に好ましい。 Of these, 2-furyl group, 5-methyl-2-furyl group, 3-pyrazolyl group, 2-imidazolyl group, 4-imidazolyl group, 2-thiophenyl group, 3-methyl-2-thiophenyl group, 2-thiazolyl Group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-quinolyl group, 5-nitro-2-furyl group, 2- (5-methyl-2-furyl) ethyl group, N-ethyl-3 Groups containing heterocycles such as −carbazolyl group, (5-thiophenyl) -2-thiophenyl group are preferable, 2-furyl group, 5-methyl-2-furyl group, 2-thiophenyl group, 3-methyl-2-thiophenyl. A group containing a 5-membered ring such as a group, a 2-thiazolyl group, a (5-methyl-2-furyl) ethyl group, an N-ethyl-3-carbazolyl group, and a (5-thiophenyl) -2-thiophenyl group. More preferably, it is a 2-furyl group or a 2-thiophenyl group.
[R2およびR3]
式(1)中のR2およびR3はそれぞれ独立に、ハロゲン原子および炭素数1〜29の一価の有機基を表す。ここで、ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、炭素数1〜29の一価の有機基の具体例としては、R1で表される炭素数1〜29の一価の有機基として挙げられた具体例が挙げられる。これらのうち、炭素数1〜29の炭化水素基であることが本発明のビスフェノール化合物の取り扱い性を向上させやすい点で好ましく、炭素数1〜15の炭化水素基であることがさらに好ましく、炭素数1〜6の炭化水素基であることがより好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、アリル基などの炭素数1〜3の置換基であることがその中でも好ましく、メチル基が最も好ましい。
[R 2 and R 3 ]
R 2 and R 3 in the formula (1) independently represent a halogen atom and a monovalent organic group having 1 to 29 carbon atoms. Wherein the carbon Examples of the halogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, an iodine atom, and specific examples of the monovalent organic group of 1 to 29 carbon atoms, represented by R 1 Specific examples mentioned as monovalent organic groups of Nos. 1-29 can be mentioned. Of these, a hydrocarbon group having 1 to 29 carbon atoms is preferable because it is easy to improve the handleability of the bisphenol compound of the present invention, and a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms is more preferable. It is more preferably a hydrocarbon group having a number of 1 to 6, and more preferably a substituent having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group and an allyl group. Groups are most preferred.
なお、R2およびR3は同一であることが本発明のビスフェノール化合物を容易に製造しやすい点で好ましい。
また、式(1)におけるR2およびR3の結合位置は特に規定されないが、ヒドロキシル基に対してオルト位に結合していることが本発明のビスフェノール化合物をより効率的に生成させやすい点で好ましい。
It is preferable that R 2 and R 3 are the same because the bisphenol compound of the present invention can be easily produced.
The bond positions of R 2 and R 3 in the formula (1) are not particularly specified, but the fact that they are bonded to the ortho position with respect to the hydroxyl group makes it easier to generate the bisphenol compound of the present invention more efficiently. preferable.
[aおよびb]
a及びbはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。aまたはbが2以上の場合、同一のベンゼン環上にある2以上のR2又はR3は互いに結合して当該ベンゼン環に縮合する環を形成していてもよい。
ここで、aまたはbが2以上の場合、2以上のR2またはR3はそれぞれ同一であってもよく、異なるものであってもよい。また、2以上のR2またはR3のうち2つ以上が互いに結合して、当該ベンゼン環に縮合する環を形成してもよい。なお、aおよびbは同一であることが本発明のビスフェノール化合物を効率的に製造しやすい点で好ましく、本発明のビスフェノール化合物の取り扱い性を向上させやすい点で0または1であることが好ましく、0であることが特に好ましい。
[A and b]
a and b each independently represent an integer of 0 to 4. When a or b is 2 or more, two or more R 2 or R 3 on the same benzene ring may be bonded to each other to form a ring condensed with the benzene ring.
Here, when a or b is 2 or more, the 2 or more R 2 or R 3 may be the same or different. Further, two or more of two or more R 2 or R 3 may be bonded to each other to form a ring that condenses with the benzene ring. It is preferable that a and b are the same because the bisphenol compound of the present invention can be easily produced efficiently, and 0 or 1 is preferable because the handleability of the bisphenol compound of the present invention can be easily improved. It is particularly preferably 0.
[ビスフェノール化合物の例示]
本発明のビスフェノール化合物の具体例を以下に例示する。なお、本発明のビスフェノール化合物は以下の具体例に何ら限定されるものではない。
[Example of bisphenol compound]
Specific examples of the bisphenol compound of the present invention are illustrated below. The bisphenol compound of the present invention is not limited to the following specific examples.
なかでも、本発明のビスフェノール化合物としては、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン(化合物(p−1))
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(化合物(p−2))
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(化合物(p−3))
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン(化合物(p−4))
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルブタン(化合物(p−19))
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,2−ジメチルプロパン(化合物(p−21))
ビス(4−ヒドロキシフェニル)メチルシクロヘキサン(化合物(p−29))
1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン(化合物(p−96))
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン(化合物(p−119))
1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(化合物(p−120))
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン(化合物(p−124))
1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(化合物(p−125))
1,1−ビス(5−イソプロピル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)エタン(化合物(p−134))
がさらに好ましく、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン(化合物(p−1))
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(化合物(p−2))
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン(化合物(p−119))
1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(化合物(p−120))
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン(化合物(p−124))
1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(化合物(p−125))
1,1−ビス(5−イソプロピル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)エタン(化合物(p−134))
が特に好ましい。このようなビスフェノール化合物は、樹脂原料や顕色剤の原料として特に好適に用いることができる。
Among them, the bisphenol compound of the present invention is
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) methane (Compound (p-1))
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane (Compound (p-2))
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) propane (Compound (p-3))
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) butane (Compound (p-4))
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-methylbutane (Compound (p-19))
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2,2-dimethylpropane (Compound (p-21))
Bis (4-hydroxyphenyl) methylcyclohexane (Compound (p-29))
1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) butane (Compound (p-96))
Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane (Compound (p-119))
1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane (Compound (p-120))
Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane (Compound (p-124))
1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ethane (Compound (p-125))
1,1-bis (5-isopropyl-4-hydroxy-2-methylphenyl) ethane (Compound (p-134))
Is even more preferable
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) methane (Compound (p-1))
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane (Compound (p-2))
Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane (Compound (p-119))
1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane (Compound (p-120))
Bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane (Compound (p-124))
1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ethane (Compound (p-125))
1,1-bis (5-isopropyl-4-hydroxy-2-methylphenyl) ethane (Compound (p-134))
Is particularly preferable. Such a bisphenol compound can be particularly preferably used as a raw material for a resin or a color developer.
[トリオキサン化合物]
本発明のビスフェノール化合物は、後述のフェノール類と、以下の式(2)で表されるトリオキサン化合物を原料として製造されることを特徴とする。
[Trioxane compound]
The bisphenol compound of the present invention is characterized by being produced using the phenols described below and the trioxane compound represented by the following formula (2) as raw materials.
式(2)中、R1は前記式(1)におけると同義であり、その具体例および好ましい例は前記式(1)におけるR1の具体例および好ましい例として挙げられたものが挙げられる。 In the formula (2), R 1 has the same meaning as in the formula (1), and specific examples and preferred examples thereof include those listed as specific examples and preferred examples of R 1 in the formula (1).
トリオキサン化合物としては、具体的には、1,3,5−トリオキサン、パラアルデヒド(2,4,6−トリメチル−1,3,5−トリオキサン)、2,4,6−トリエチル−1,3,5−トリオキサン、2,4,6−トリ−n−プロピル−1,3,5−トリオキサン、2,4,6−トリイソプロピル−1,3,5−トリオキサン、2,4,6−トリ−n−ブチル−1,3,5−トリオキサン、2,4,6−トリフェニル−1,3,5−トリオキサンなどが挙げられるが、何らこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the trioxane compound include 1,3,5-trioxane, paraldehyde (2,4,6-trimethyl-1,3,5-trioxane), and 2,4,6-triethyl-1,3. 5-trioxane, 2,4,6-tri-n-propyl-1,3,5-trioxane, 2,4,6-triisopropyl-1,3,5-trioxane, 2,4,6-tri-n -Butyl-1,3,5-trioxane, 2,4,6-triphenyl-1,3,5-trioxane and the like can be mentioned, but the present invention is not limited thereto.
これらのトリオキサン化合物は、単独で用いても、二種以上を混合して用いても良い。 These trioxane compounds may be used alone or in combination of two or more.
[フェノール類]
本発明のビスフェノール化合物の製造方法では、原料フェノール類として、好ましくは、下記式(3)及び(3’)で表されるモノフェノール化合物(以下、「本発明のモノフェノール化合物」と呼称することがある。)を用いる。式(3)及び(3’)のモノフェノール化合物は同一でも異なっていてもよいが、同一であることが本発明のビスフェノール化合物を容易に製造できる点で好ましい。
[Phenols]
In the method for producing a bisphenol compound of the present invention, the raw material phenols are preferably monophenol compounds represented by the following formulas (3) and (3') (hereinafter, referred to as "monophenol compounds of the present invention". There is.) Is used. The monophenol compounds of the formulas (3) and (3') may be the same or different, but it is preferable that they are the same because the bisphenol compound of the present invention can be easily produced.
[式(3),(3’)中、R2、R3、aおよびbは式(1)におけると同義である。] [Equation (3), (3 ') in, R 2, R 3, a and b have the same meanings as in the formula (1). ]
前記式(3),(3’)で表されるモノフェノール化合物の具体例としては、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、2,3−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、2−エチルフェノール、2−エチル−6−メチルフェノール、2−アリルフェノール、2−イソプロピルフェノール、2−プロピルフェノール、2,3,6−トリメチルフェノール、5,6,7,8−テトラヒドロ−1−ナフトール、2−sec−ブチルフェノール、2−tert−ブチルフェノール、カルバクロール、チモール、2−tert−アミルフェノール、6−tert−ブチル−o−クレゾール、2−フェニルフェノール、2−シクロヘキシルフェノール、2−アミル−5−メチルフェノール、2,6−ジイソプロピルフェノール、2−ベンジルフェノール、2−シクロヘキシル−5−メチルフェノール、2−アリルフェノール、1−ナフトール、3−ペンタデシルフェノール、カルダノール、グアヤコール、2−クロロフェノール、2−ブロモフェノール、3−メトキシフェノール、2−フルオロフェノール、3−エトキシフェノール、2−ヒドロキシメチルフェノール、2−アセチルフェノール、3−ヒドロキシカルボニルフェノール、2−ニトロフェノール、3−ニトロフェノール、2−アミノカルボニルフェノール、2,6−ジメトキシフェノール、3−アセトキシフェノール、2−メトキシカルボニルフェノール、3−メトキシカルボニルフェノール、5−ニトログアヤコール、3−ヒドロキシアセトアニリド、2,2−ジメチル−7−ヒドロキシクマラン、サリチル酸ベンジル、サリチル酸フェニル、サリチル酸ブチル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸(2−ヒドロキシエチル)、サリチル酸(2−エチルヘキシル)等が挙げられるが、なかでもフェノール、o−クレゾール、2,3−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、2−エチルフェノール、2−エチル−6−メチルフェノール、2−イソプロピルフェノール、2−プロピルフェノール、2−アリルフェノール、2,3,6−トリメチルフェノール、チモール等の炭素数3以下の炭化水素基を有するモノフェノール化合物が好ましく、フェノール、o−クレゾール、チモールがより好ましく、o−クレゾールまたはチモールが特に好ましい。
なお、これらモノフェノール化合物は、単独で用いても、二種以上を混合して用いても良い。
Specific examples of the monophenol compound represented by the formulas (3) and (3') include phenol, o-cresol, m-cresol, 2,3-dimethylphenol, 2,5-dimethylphenol, and 2,6. -Dimethylphenol, 2-ethylphenol, 2-ethyl-6-methylphenol, 2-allylphenol, 2-isopropylphenol, 2-propylphenol, 2,3,6-trimethylphenol, 5,6,7,8- Tetrahydro-1-naphthol, 2-sec-butylphenol, 2-tert-butylphenol, carbachlor, timol, 2-tert-amylphenol, 6-tert-butyl-o-cresol, 2-phenylphenol, 2-cyclohexylphenol, 2-Amil-5-methylphenol, 2,6-diisopropylphenol, 2-benzylphenol, 2-cyclohexyl-5-methylphenol, 2-allylphenol, 1-naphthol, 3-pentadecylphenol, cardanol, guayacol, 2 -Chlorophenol, 2-bromophenol, 3-methoxyphenol, 2-fluorophenol, 3-ethoxyphenol, 2-hydroxymethylphenol, 2-acetylphenol, 3-hydroxycarbonylphenol, 2-nitrophenol, 3-nitrophenol , 2-Aminocarbonylphenol, 2,6-dimethoxyphenol, 3-acetoxyphenol, 2-methoxycarbonylphenol, 3-methoxycarbonylphenol, 5-nitroguayacol, 3-hydroxyacetanilide, 2,2-dimethyl-7-hydroxy Examples thereof include kumaran, benzyl salicylate, phenyl salicylate, butyl salicylate, isoamyl salicylate, salicylic acid (2-hydroxyethyl) and salicylic acid (2-ethylhexyl), among which phenol, o-cresol, 2,3-dimethylphenol, etc. 2,5-dimethylphenol, 2,6-dimethylphenol, 2-ethylphenol, 2-ethyl-6-methylphenol, 2-isopropylphenol, 2-propylphenol, 2-allylphenol, 2,3,6-trimethyl Monophenol compounds having a hydrocarbon group having 3 or less carbon atoms such as phenol and timol are preferable, phenol, o-cresol and timol are more preferable, and o-cresol or timol is particularly preferable.
These monophenol compounds may be used alone or in combination of two or more.
[トリオキサン化合物とフェノール類の使用割合]
本発明のビスフェノール化合物製造時におけるトリオキサン化合物とフェノール類である上記モノフェノール化合物の比は、本発明のビスフェノール化合物が効率良く生成する条件であれば特に規定されないが、トリオキサン化合物1モルに対するモノフェノール化合物の使用量が、通常3モル倍以上であり、6モル倍以上であることが好ましく、9モル倍以上であることが特に好ましい。フェノール化合物の量が上記下限値以上であることで、本発明のビスフェノール化合物を効率良く製造できる傾向にあり、好ましい。一方、トリオキサン化合物1モルに対するモノフェノール化合物の使用量は通常60モル倍以下であり、45モル倍以下であることが好ましく、30モル倍以下であることが特に好ましい。モノフェノール化合物の使用量が上記上限値以下であることで、本発明のビスフェノール化合物製造の際に、未反応のモノフェノール化合物を分離する工程の負荷が低減する傾向にあり、好ましい。
[Ratio of trioxane compounds and phenols used]
The ratio of the trioxane compound to the monophenol compound which is a phenol during the production of the bisphenol compound of the present invention is not particularly specified as long as the bisphenol compound of the present invention is efficiently produced, but the monophenol compound with respect to 1 mol of the trioxane compound. The amount of the compound used is usually 3 mol times or more, preferably 6 mol times or more, and particularly preferably 9 mol times or more. When the amount of the phenol compound is at least the above lower limit value, the bisphenol compound of the present invention tends to be efficiently produced, which is preferable. On the other hand, the amount of the monophenol compound used with respect to 1 mol of the trioxane compound is usually 60 mol times or less, preferably 45 mol times or less, and particularly preferably 30 mol times or less. When the amount of the monophenol compound used is not more than the above upper limit value, the load in the step of separating the unreacted monophenol compound tends to be reduced in the production of the bisphenol compound of the present invention, which is preferable.
本発明のビスフェノール化合物を製造する際、前記トリオキサン化合物とフェノール化合物は全量を混合した状態から製造しても良いし、いずれか片方もしくは両方を連続的もしくは間歇的に添加しながら製造しても良い。特に、トリオキサン化合物を連続的もしくは間歇的に添加しながら製造することが、本発明のビスフェノール化合物をより効率良く製造しやすい点で好ましい。 When producing the bisphenol compound of the present invention, the trioxane compound and the phenol compound may be produced in a state where all the amounts are mixed, or either one or both may be continuously or intermittently added. .. In particular, it is preferable to produce the trioxane compound while continuously or intermittently adding it, because the bisphenol compound of the present invention can be produced more efficiently and easily.
[ヘテロポリ酸]
本発明の製造方法は、酸触媒として、ヘテロポリ酸を共存させた状態で本発明のビスフェノール化合物を生成させることを特徴とする。
[Heteropoly acid]
The production method of the present invention is characterized in that the bisphenol compound of the present invention is produced in the presence of a heteropolyacid as an acid catalyst.
ヘテロポリ酸の具体例としては、リンタングステン酸、リンモリブデン酸、リンモリブドタングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、リンタングストバナジン酸、リンモリブドニオブ酸、ケイタングステン酸、ケイモリブデン酸、ケイモリブドタングステン酸、ケイモリブドタングストバナジン酸、ゲルマニウムタングステン酸、ヒ素モリブデン酸、ヒ素タングステン酸などが挙げられる。これらのうち、タングステンを構成原子として含むことが製造工程において本発明のビスフェノール化合物を生成させる効果をより発揮しやすい点で好ましく、リンタングステン酸もしくはケイタングステン酸であることがさらに好ましく、ケイタングステン酸であることが特に好ましい。 Specific examples of heteropolyacids include phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, phosphoribdate tungstic acid, phosphotungstic acid, phosphoribdate tungstic acid, phosphotungstic acid, phosphotungstic acid, silicotungstic acid, Examples thereof include heteromolybdic acid, molybdate tungstic acid, molybdate tongue tungstic acid, germanium tungstic acid, arsenic molybdic acid, and arsenic tungstic acid. Of these, it is preferable to include tungsten as a constituent atom in that the effect of producing the bisphenol compound of the present invention is more easily exhibited in the manufacturing process, and phosphotungstic acid or silicate-tungstic acid is more preferable, and silicate-tungstic acid is more preferable. Is particularly preferable.
ヘテロポリ酸は、他の塩基と混合して塩の状態で用いても良い。その具体例としては、リチウム塩、ナトリウム塩、セシウム塩などのアルカリ金属塩;
マグネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩などのアルカリ土類金属塩;
パラジウム塩などの遷移金属塩;
アンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラフェニルアンモニウム塩などの15族原子の塩;
等が挙げられる。これらの塩は、反応液への溶解のしやすさ、本発明のビスフェノール化合物を効率良く生成させる効果、精製工程における分離の容易さ等に応じて種々選択される。
Heteropolyacids may be mixed with other bases and used in the form of salts. Specific examples thereof include alkali metal salts such as lithium salts, sodium salts, and cesium salts;
Alkaline earth metal salts such as magnesium salt, calcium salt, barium salt;
Transition metal salts such as palladium salts;
Salts of Group 15 atoms such as ammonium salts, tetramethylammonium salts, tetraethylammonium salts, tetraphenylammonium salts;
And so on. These salts are variously selected depending on the ease of dissolution in the reaction solution, the effect of efficiently producing the bisphenol compound of the present invention, the ease of separation in the purification step, and the like.
これらヘテロポリ酸およびその塩は、単独でも、二種以上を混合して用いても良い。 These heteropolyacids and salts thereof may be used alone or in combination of two or more.
本発明のビスフェノール化合物を製造する際に用いるヘテロポリ酸触媒の量は、本発明のビスフェノール化合物を効率良く製造できれば特に規定されないが、本発明で使用するトリオキサン化合物に対してヘテロポリ酸触媒の総量が、通常0.001モル%以上であり、好ましくは0.005モル%以上であり、さらに好ましくは0.01モル%以上であり、特に好ましくは0.05モル%以上である。この量が上記下限値以上であることで、本発明のビスフェノール化合物を効率良く製造できる傾向にあり、好ましい。また、トリオキサン化合物に対するヘテロポリ酸触媒の総量は、通常10モル%以下であり、好ましくは3モル%以下であり、さらに好ましくは1.5モル%以下であり、特に好ましくは0.5モル%以下である。この量が上記上限値以下であることで、本発明のビスフェノール化合物製造の際、精製工程における酸触媒を分離する負荷が低減する傾向にあり、好ましい。 The amount of the heteropolyacid catalyst used in producing the bisphenol compound of the present invention is not particularly specified as long as the bisphenol compound of the present invention can be efficiently produced, but the total amount of the heteropolyacid catalyst with respect to the trioxane compound used in the present invention is It is usually 0.001 mol% or more, preferably 0.005 mol% or more, more preferably 0.01 mol% or more, and particularly preferably 0.05 mol% or more. When this amount is at least the above lower limit value, the bisphenol compound of the present invention tends to be efficiently produced, which is preferable. The total amount of the heteropolyacid catalyst with respect to the trioxane compound is usually 10 mol% or less, preferably 3 mol% or less, more preferably 1.5 mol% or less, and particularly preferably 0.5 mol% or less. Is. When this amount is not more than the above upper limit value, the load of separating the acid catalyst in the purification step tends to be reduced in the production of the bisphenol compound of the present invention, which is preferable.
[他の酸触媒]
本発明の製造方法は、本発明のビスフェノール化合物をより効率良く生成させる目的で、他の酸を第二酸触媒として併用しても良い。その具体例としては、リン酸、シュウ酸、塩酸、硫酸などの無機酸触媒;酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などの有機酸触媒;固体酸、カチオン交換樹脂などの不均一系酸触媒などが挙げられる。
これらの第二酸触媒の種類および量は、反応液への溶解のしやすさ、本発明のビスフェノール化合物を効率良く生成させる効果、精製工程における分離の容易さ等に応じて種々選択される。
なお、これら第二酸触媒は、単独でも、二種以上を混合して用いても良い。
[Other acid catalysts]
In the production method of the present invention, another acid may be used in combination as a diacid catalyst for the purpose of more efficiently producing the bisphenol compound of the present invention. Specific examples thereof include inorganic acid catalysts such as phosphoric acid, oxalic acid, hydrochloric acid, and sulfuric acid; acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, toluenesulfonic acid, hydroxybenzenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and the like. Organic acid catalysts; examples include heterogeneous acid catalysts such as solid acids and cation exchange resins.
The type and amount of these diacid catalysts are variously selected depending on the ease of dissolution in the reaction solution, the effect of efficiently producing the bisphenol compound of the present invention, the ease of separation in the purification step, and the like.
These diacid catalysts may be used alone or in combination of two or more.
[メルカプト化合物]
本発明のビスフェノール化合物の製造方法では、更にメルカプト化合物を助触媒として共存させた状態で本発明のビスフェノール化合物を生成させることが好ましい。
[Mercapt compound]
In the method for producing a bisphenol compound of the present invention, it is preferable to further produce the bisphenol compound of the present invention in a state where the mercapto compound coexists as a co-catalyst.
メルカプト化合物の具体例としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、n−プロピルメルカプタン、2−プロパンチオール、n−ブチルメルカプタン、sec−ブチルメルカプタン、t−ブチルメルカプタン、n−ペンチルメルカプタン、3−メチル−2−ブタンチオール、イソアミルメルカプタン、n−ヘキシルメルカプタン、シクロヘキサンチオール、n−ヘプチルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、2−エチル−1−ヘキサンチオール、n−ノニルメルカプタン、n−デシルメルカプタン、n−ウンデシルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、n−テトラデシルメルカプタン、tert−テトラデカンチオール、n−ヘキサデシルメルカプタン、n−オクタデシルメルカプタン、n−ドコシルメルカプタン、1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチオール、2,3−ブタンジチオール、1,5−ペンタンジチオール、1,10−デカンジチオール、3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジチオール、チオグリコール酸メチル、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸ブチル、チオグリコール酸オクチル、チオグリコール酸2−エチルヘキシル、2−メルカプトプロピオン酸メチル、3−メルカプトプロピオン酸メチル、3−メルカプトプロピオン酸エチル、3−メルカプトプロピオン酸オクタデシル、チオ乳酸エチル、ペンタエリスリトールテトラキス(メルカプト酢酸)、1,4−ブタンジオールビス(チオグリコール酸)、2−エチルヘキシル(チオグリコール酸)、メルカプト酢酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸ナトリウム、チオリンゴ酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸ナトリウム、2−メルカプトエタノール、1−チオグリセロール、2−アミノエタンチオール、L−システイン、N−アセチル−L−システイン、チオ酢酸、チオ酪酸、チオ安息香酸、ベンゼンチオール、フルフリルメルカプタン、2−メルカプトチアゾリン、4−6−ジメチル−2−メルカプトピリミジン、2−チオバルビツール酸、チオシアヌル酸等が挙げられる。 Specific examples of the mercapto compound include methyl mercaptan, ethyl mercaptan, n-propyl mercaptan, 2-propanethiol, n-butyl mercaptan, sec-butyl mercaptan, t-butyl mercaptan, n-pentyl mercaptan, 3-methyl-2-. Butan thiol, isoamyl mercaptan, n-hexyl mercaptan, cyclohexanethiol, n-heptyl mercaptan, n-octyl mercaptan, 2-ethyl-1-hexanethiol, n-nonyl mercaptan, n-decyl mercaptan, n-undecyl mercaptan, n -Dodecyl mercaptan, n-tetradecyl mercaptan, tert-tetradecanethiol, n-hexadecyl mercaptan, n-octadecyl mercaptan, n-docosyl mercaptan, 1,2-ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3- Propanedithiol, 1,4-butanedithiol, 2,3-butanedithiol, 1,5-pentanedithiol, 1,10-decandithiol, 3,6-dioxa-1,8-octanedithiol, methyl thioglycolate, thio Ethyl glycolate, butyl thioglycolate, octyl thioglycolate, 2-ethylhexyl thioglycolate, methyl 2-mercaptopropionate, methyl 3-mercaptopropionate, ethyl 3-mercaptopropionate, octadecyl 3-mercaptopropionate, thio Ethyl lactate, pentaerythritol tetrakis (mercaptoacetic acid), 1,4-butanediolbis (thioglycolic acid), 2-ethylhexyl (thioglycolic acid), mercaptoacetic acid, 3-mercaptopropionic acid, sodium 3-mercaptopropionate, thioapple Acid, 3-mercaptopropane sulfonate sodium, 2-mercaptoethanol, 1-thioglycerol, 2-aminoethanethiol, L-cysteine, N-acetyl-L-cysteine, thioacetic acid, thiobutyric acid, thiobenzoic acid, benzenethiol , Furfuryl mercaptan, 2-mercaptothiazolin, 4-6-dimethyl-2-mercaptopyrimidine, 2-thiobarbituric acid, thiocianuric acid and the like.
特に本発明では、本発明のヘテロポリ酸との併用による相乗効果に優れることから、下記式(4)で表されるメルカプト化合物を用いることが好ましく、このメルカプト化合物の併用で、目的とする4,4’−置換体の選択率をより一層高めることができる。
R4−(SH)n (4)
[式(4)中、R4は、炭素数1〜30のn価の脂肪族炭化水素基を表し、nは1〜6の整数を表す。なお、R4の炭素−炭素結合はエステル構造で1〜6回中断されていても良い。]
In particular, in the present invention, since the synergistic effect of the combined use with the heteropolyacid of the present invention is excellent, it is preferable to use the mercapto compound represented by the following formula (4), and the combined use of this mercapto compound is aimed at 4, The selectivity of the 4'-substituted product can be further increased.
R 4 - (SH) n ( 4)
[In the formula (4), R 4 represents an n-valent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 6. Incidentally, the carbon of R 4 - carbon bond may be interrupted 1-6 times with ester structure. ]
式(4)で表されるメルカプト化合物の具体例としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、n−プロピルメルカプタン、2−プロパンチオール、n−ブチルメルカプタン、sec−ブチルメルカプタン、t−ブチルメルカプタン、n−ペンチルメルカプタン、3−メチル−2−ブタンチオール、イソアミルメルカプタン、n−ヘキシルメルカプタン、シクロヘキサンチオール、n−ヘプチルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、2−エチル−1−ヘキサンチオール、n−ノニルメルカプタン、n−デシルメルカプタン、n−ウンデシルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、n−テトラデシルメルカプタン、tert−テトラデカンチオール、n−ヘキサデシルメルカプタン、n−オクタデシルメルカプタン、n−ドコシルメルカプタンなどの炭化水素基および1つのメルカプト基からなる化合物; Specific examples of the mercapto compound represented by the formula (4) include methyl mercaptan, ethyl mercaptan, n-propyl mercaptan, 2-propanethiol, n-butyl mercaptan, sec-butyl mercaptan, t-butyl mercaptan, and n-pentyl. Mercaptan, 3-methyl-2-butane thiol, isoamyl mercaptan, n-hexyl mercaptan, cyclohexanethiol, n-heptyl mercaptan, n-octyl mercaptan, 2-ethyl-1-hexanethiol, n-nonyl mercaptan, n-decyl mercaptan From hydrocarbon groups such as n-undecyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, n-tetradecyl mercaptan, tert-tetradecanethiol, n-hexadecyl mercaptan, n-octadecyl mercaptan, n-docosyl mercaptan and one mercapto group. Compound;
1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチオール、1,3−プロパンジチオール、2,3−ブタンジチオール、1,5−ペンタンジチオール、1,10−デカンジチオールなどの炭化水素基および2つ以上のメルカプト基からなる化合物;
チオグリコール酸メチル、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸ブチル、チオグリコール酸オクチル、チオグリコール酸2−エチルヘキシル、2−メルカプトプロピオン酸メチル、3−メルカプトプロピオン酸メチル、3−メルカプトプロピオン酸エチル、3−メルカプトプロピオン酸オクタデシルなどのエステル構造で中断された炭化水素基および1つのメルカプト基からなる化合物;
Hydrocarbon groups such as 1,2-ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 2,3-butanedithiol, 1,5-pentanedithiol, 1,10-decandithiol and two or more Compound consisting of mercapto groups;
Methyl thioglycolate, ethyl thioglycolate, butyl thioglycolate, octyl thioglycolate, 2-ethylhexyl thioglycolate, methyl 2-mercaptopropionate, methyl 3-mercaptopropionate, ethyl 3-mercaptopropionate, 3- A compound consisting of a hydrocarbon group interrupted by an ester structure such as octadecyl mercaptopropionate and a single mercapto group;
エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオナート)、ペンタエリトリトールテトラ(3−メルカプトプロピオナート)、ジペンタエリトリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオナート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオナート)などのエステル構造で中断された炭化水素基および2つ以上のメルカプト基からなる化合物;
等が挙げられる。
Ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetra (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), trimethylpropanthris (3-mercaptopropionate) A compound consisting of a hydrocarbon group interrupted by an ester structure such as and two or more mercapto groups;
And so on.
これらのうち、精製工程における除去が容易である点で、nが1であるメルカプト化合物を用いることが好ましく、製造工程において本発明のビスフェノール化合物を生成させる効果をより発揮しやすい点でR4は炭素数1〜30のエステル構造で中断されないアルキル基であることがさらに好ましい。中でも、揮発性や臭気性が少なく製造工程に適用しやすいという点では、炭素数6〜16であることが好ましく、炭素数8〜14であることがさらに好ましく、炭素数10〜12であることが特に好ましい。一方、後述の濃縮工程において溶媒とともに容易に除去できるという点では、炭素数1〜5であることが好ましく、炭素数1〜4であることがさらに好ましく、炭素数1〜2であることが特に好ましい。 Of these, from the viewpoint removed in the purification process it is easy, it is preferable to use an n-mercapto compound is 1, R 4 bisphenol compound of the present invention in that easily secure the effect of producing in the manufacturing process It is more preferable that the alkyl group is an ester structure having 1 to 30 carbon atoms and is not interrupted. Among them, the number of carbon atoms is preferably 6 to 16, more preferably 8 to 14, and the number of carbon atoms is 10 to 12 in terms of low volatility and odor and easy application to the manufacturing process. Is particularly preferable. On the other hand, from the viewpoint that it can be easily removed together with the solvent in the concentration step described later, the number of carbon atoms is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms. preferable.
本発明のビスフェノール化合物を製造する際に用いるメルカプト化合物の量は、本発明のビスフェノール化合物を効率良く製造できれば特に規定されないが、前述のヘテロポリ酸触媒に対してメルカプト化合物の量が、通常0.1モル倍以上であり、好ましくは1モル倍以上であり、特に好ましくは10モル倍以上である。また、通常2000モル倍以下であり、好ましくは1000モル倍以下であり、さらに好ましくは400モル倍以下である。
また、トリオキサン化合物の総量に対してメルカプト化合物の総量が、通常0.001モル%以上であり、好ましくは0.005モル%以上であり、さらに好ましくは0.1モル%以上であり、特に好ましくは1モル%以上である。また、通常150モル%以下であり、好ましくは100モル%以下であり、さらに好ましくは50モル%以下であり、特に好ましくは30モル%以下である。
メルカプト化合物の量が上記下限値以上であることで、本発明のビスフェノール化合物を効率良く、高選択性にて製造できる傾向にあり、好ましい。一方、メルカプト化合物の量が上記上限値以下であることで、本発明のビスフェノール化合物製造の際、使用後のメルカプト化合物を分離する負荷が低減する傾向にあり、好ましい。
なお、上記メルカプト化合物は、単独で用いても、二種以上を混合して用いても良い。
The amount of the mercapto compound used in producing the bisphenol compound of the present invention is not particularly specified as long as the bisphenol compound of the present invention can be efficiently produced, but the amount of the mercapto compound is usually 0.1 with respect to the above-mentioned heteropolyacid catalyst. It is mol times or more, preferably 1 mol times or more, and particularly preferably 10 mol times or more. Further, it is usually 2000 mol times or less, preferably 1000 mol times or less, and more preferably 400 mol times or less.
The total amount of the mercapto compound is usually 0.001 mol% or more, preferably 0.005 mol% or more, still more preferably 0.1 mol% or more, and particularly preferably 0.1 mol% or more, based on the total amount of the trioxane compound. Is 1 mol% or more. Further, it is usually 150 mol% or less, preferably 100 mol% or less, further preferably 50 mol% or less, and particularly preferably 30 mol% or less.
When the amount of the mercapto compound is at least the above lower limit value, the bisphenol compound of the present invention tends to be produced efficiently and with high selectivity, which is preferable. On the other hand, when the amount of the mercapto compound is not more than the above upper limit value, the load of separating the mercapto compound after use tends to be reduced in the production of the bisphenol compound of the present invention, which is preferable.
The mercapto compound may be used alone or in combination of two or more.
[溶媒]
本発明のビスフェノール化合物を製造する際は、溶媒を用いて反応しても良い。溶媒の具体例としては、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、石油エーテルなどの炭素数5〜18の直鎖状炭化水素溶媒;イソオクタンなどの炭素数5〜18の分岐鎖状炭化水素溶媒;シクロヘキサン、シクロオクタン、メチルシクロヘキサンなどの炭素数5〜18の環状炭化水素溶媒;水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール溶媒;アセトニトリルなどのニトリル溶媒;ジブチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル溶媒;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどの含窒素溶媒;ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含硫黄溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンなどの含塩素溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒などが挙げられる。なお、なお、これらの溶媒を用いることが、反応時における原料の固化抑止や内部発熱による予期せぬ副反応を抑止するなど、反応の操作性を向上できる点で好ましい。一方これらの溶媒を用いないことが、本発明のビスフェノール化合物と溶媒との分離が不要となり精製工程を簡略化できる点で好ましい。
[solvent]
When producing the bisphenol compound of the present invention, a solvent may be used for the reaction. Specific examples of the solvent include linear hydrocarbon solvents having 5 to 18 carbon atoms such as n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane and petroleum ether; and branches having 5 to 18 carbon atoms such as isooctane. Chain hydrocarbon solvent; cyclic hydrocarbon solvent having 5 to 18 carbon atoms such as cyclohexane, cyclooctane and methylcyclohexane; water; alcohol solvent such as methanol, ethanol, isopropanol and butanol; nitrile solvent such as acetonitrile; dibutyl ether and dimethoxy Ether solvent such as ethane; Ketone solvent such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Ester solvent such as ethyl acetate and butyl acetate; Nitrogen-containing solvent such as dimethylformamide and dimethylacetamide; Sulfur-containing solvent such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Methylene chloride, Chlorine-containing solvents such as chloroform and dichloroethane; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene can be mentioned. It should be noted that it is preferable to use these solvents because the operability of the reaction can be improved, such as suppressing the solidification of the raw material during the reaction and suppressing an unexpected side reaction due to internal heat generation. On the other hand, it is preferable not to use these solvents because the separation between the bisphenol compound of the present invention and the solvent becomes unnecessary and the purification step can be simplified.
本発明のビスフェノール化合物を製造する際に用いる溶媒の量は、ビスフェノール化合物を効率良く製造できれば特に規定されないが、トリオキサン化合物に対する溶媒の量が、通常0.1質量倍以上であり、好ましくは0.2質量倍以上であり、特に好ましくは0.5質量倍以上である。溶媒の量が上記下限値以上であることで、ビスフェノール化合物製造時に溶媒の効果をより効率的に発揮できる傾向にあり、好ましい。また、トリオキサン化合物に対する溶媒の量は通常30質量倍以下であり、好ましくは20質量倍以下であり、特に好ましくは10質量倍以下である。該溶媒の量が上記上限値以下であることで、ビスフェノール化合物を効率良く製造できる傾向にあり、好ましい。 The amount of the solvent used in producing the bisphenol compound of the present invention is not particularly specified as long as the bisphenol compound can be efficiently produced, but the amount of the solvent with respect to the trioxane compound is usually 0.1% by mass or more, preferably 0. It is 2 mass times or more, and particularly preferably 0.5 mass times or more. When the amount of the solvent is at least the above lower limit value, the effect of the solvent tends to be exhibited more efficiently during the production of the bisphenol compound, which is preferable. The amount of the solvent with respect to the trioxane compound is usually 30 times by mass or less, preferably 20 times by mass or less, and particularly preferably 10 times by mass or less. When the amount of the solvent is not more than the above upper limit value, the bisphenol compound tends to be efficiently produced, which is preferable.
[反応温度]
本発明のビスフェノール化合物を製造する際の反応温度は通常0℃以上であり、好ましくは15℃以上であり、特に好ましくは30℃以上である。反応温度が上記下限値以上であることで反応混合物の固化を防止しやすくなる傾向にあり、好ましい。一方、通常150℃以下、好ましくは120℃以下、特に好ましくは90℃以下である。反応温度が上記上限値以下であることで本発明のビスフェノール化合物を効率的に製造できる傾向にあり、好ましい。
[Reaction temperature]
The reaction temperature at the time of producing the bisphenol compound of the present invention is usually 0 ° C. or higher, preferably 15 ° C. or higher, and particularly preferably 30 ° C. or higher. When the reaction temperature is at least the above lower limit value, it tends to be easy to prevent the reaction mixture from solidifying, which is preferable. On the other hand, it is usually 150 ° C. or lower, preferably 120 ° C. or lower, and particularly preferably 90 ° C. or lower. When the reaction temperature is not more than the above upper limit value, the bisphenol compound of the present invention tends to be efficiently produced, which is preferable.
[反応圧力]
本発明のビスフェノール化合物を製造する際の反応圧力は、ビスフェノール化合物を効率よく生成できる条件であれば特に規定されないが、その中でも常圧であることが、ビスフェノール化合物を製造する際に原料を間歇的に添加することが容易となり、結果として反応熱により予期せぬ反応暴走を招く危険性を抑止できる点で好ましい。
[Reaction pressure]
The reaction pressure at the time of producing the bisphenol compound of the present invention is not particularly specified as long as the conditions can efficiently produce the bisphenol compound, but the normal pressure among them is that the raw material is intermittent when the bisphenol compound is produced. It is preferable because it can be easily added to the compound, and as a result, the risk of causing an unexpected reaction runaway due to the heat of reaction can be suppressed.
[反応時間]
本発明のビスフェノール化合物を製造する際の反応時間は、ビスフェノール化合物を効率よく生成できる条件であれば特に規定されないが、通常30分以上であり、1時間以上であることが好ましく、2時間以上であることがさらに好ましい。反応時間が上記下限値以上であることで、ビスフェノール化合物を効率良く製造できる傾向にあり、好ましい。
一方、本発明のビスフェノール化合物を製造する際の反応時間は、通常24時間以下であり、20時間以下であることが好ましく、16時間以下であることが特に好ましい。反応時間が上記上限値以下であることで、ビスフェノール化合物を製造する際のプロセス負荷が低減する傾向にあり、好ましい。
[Reaction time]
The reaction time for producing the bisphenol compound of the present invention is not particularly specified as long as the conditions can efficiently produce the bisphenol compound, but it is usually 30 minutes or more, preferably 1 hour or more, preferably 2 hours or more. It is more preferable to have. When the reaction time is at least the above lower limit value, the bisphenol compound tends to be efficiently produced, which is preferable.
On the other hand, the reaction time for producing the bisphenol compound of the present invention is usually 24 hours or less, preferably 20 hours or less, and particularly preferably 16 hours or less. When the reaction time is not more than the above upper limit value, the process load in producing the bisphenol compound tends to be reduced, which is preferable.
[用途]
本発明のビスフェノール化合物は、光学材料、記録材料、絶縁材料、透明材料、電子材料、接着材料、耐熱材料など種々の用途に用いられるポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂など種々の熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ポリベンゾオキサジン樹脂、シアネート樹脂など種々の熱硬化性樹脂などの構成成分、硬化剤、添加剤もしくはそれらの前駆体などとして用いることができる。また、感熱記録材料等の顕色剤や退色防止剤、殺菌剤、防菌防カビ剤等の添加剤としても有用である。
これらのうち、良好な機械物性を付与できることより、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の原料(モノマー)として用いることが好ましく、ポリカーボネート樹脂もしくはエポキシ樹脂の原料として用いることがさらに好ましい。また、顕色剤として用いることも好ましく、特にロイコ染料、変色温度調整剤と組み合わせて用いることがより好ましい。
[Use]
The bisphenol compound of the present invention is a polyether resin, polyester resin, polyarylate resin, polycarbonate resin, polyurethane resin used for various purposes such as optical materials, recording materials, insulating materials, transparent materials, electronic materials, adhesive materials, and heat-resistant materials. , Acrylic resin and other thermoplastic resins, epoxy resin, unsaturated polyester resin, phenolic resin, polybenzoxazine resin, cyanate resin and other thermosetting resins, curing agents, additives or precursors thereof It can be used as a body or the like. It is also useful as an additive for a color developer such as a heat-sensitive recording material, a fading inhibitor, a bactericidal agent, and an antibacterial and antifungal agent.
Of these, it is preferable to use it as a raw material (monomer) for a thermoplastic resin or a thermosetting resin, and it is more preferable to use it as a raw material for a polycarbonate resin or an epoxy resin, because it can impart good mechanical properties. It is also preferable to use it as a color developer, and it is more preferable to use it in combination with a leuco dye and a discoloration temperature adjusting agent.
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下において各試薬は以下のものを用いた。
・パラアルデヒド、2,6−キシレノール、チモール、メチルイソブチルケトン:東京化成工業(株)製
・フェノール:ナカライテスク(株)製
・o−クレゾール:純正化学(株)製
・ケイタングステン酸:日本無機化学工業(株)製H4(SiW12O40)・24水和物
・リンタングステン酸:日本無機化学工業(株)製H3(PW12O40)・30水和物
・85%リン酸水溶液、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、ナトリウムメトキシド:富士フイルム和光純薬工業(株)製
Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
In the following, the following reagents were used.
・ Paraaldehyde, 2,6-xylenol, timol, methylisobutylketone: manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. ・ Phenol: manufactured by Nakaraitesk Co., Ltd. ・ o-cresol: manufactured by Genuine Chemical Co., Ltd. Chemical Industry Co., Ltd. H 4 (SiW 12 O 40 ), 24 hydrate, phosphotungstic acid: Nippon Inorganic Chemical Industry Co., Ltd. H 3 (PW 12 O 40 ), 30 hydrate, 85% phosphoric acid Aqueous solution, n-octyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, sodium methoxyd: manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
また、以下の実施例及び比較例における各種分析方法は以下の通りである。 In addition, various analysis methods in the following examples and comparative examples are as follows.
<高速液体クロマトグラフ(HPLC)分析>
サンプル20mgを100mlのアセトニトリルに溶解させた後、うち5μlに対して、アセトニトリル/0.1質量%酢酸アンモニウム水溶液の混合液を溶離液として用い、下記の条件にて測定および解析した。反応生成率、および単離収率は、標品を用いて予め作成した検量線による絶対検量線法にて求め、原料トリオキサン化合物が100%4,4’−置換体に添加した場合の選択率を100%とした場合のモル%として得た。
<High Performance Liquid Chromatography (HPLC) Analysis>
After dissolving 20 mg of the sample in 100 ml of acetonitrile, a mixed solution of acetonitrile / 0.1% by mass ammonium acetate aqueous solution was used as an eluent for 5 μl of the sample, and measurement and analysis were performed under the following conditions. The reaction formation rate and the isolation yield were determined by the absolute calibration curve method using a calibration curve prepared in advance using the standard, and the selectivity when the raw material trioxane compound was added to the 100% 4,4'-substituted product. Was obtained as mol% when 100%.
(測定条件)
コントローラ:島津製作所社製SCL−10AVP
カラム:ジーエルサイエンス社製inertsil ODS3V(4.6×150mm、5μm)
カラムオーブン:島津製作所社製CTO−10AVP、40℃
ポンプ:島津製作所社製LC−10ADVP、流速1.0ml/分
溶離条件:K1−アセトニトリル、K2−0.1質量%酢酸アンモニウム水溶液
K1/K2=60/40(0−5分)
K1/K2=60/40→95/5(線形に濃度変化、5−30分)
K1/K2=95/5(30−80分)
(比率は体積比)
検出器:島津製作所社製SPD−10AVP UV254nm
(Measurement condition)
Controller: SCL-10AVP manufactured by Shimadzu Corporation
Column: GL Sciences inertsil ODS3V (4.6 x 150 mm, 5 μm)
Column oven: CTO-10AVP manufactured by Shimadzu Corporation, 40 ° C.
Pump: LC-10ADVP manufactured by Shimadzu Corporation, flow rate 1.0 ml / min Elution condition: K1-acetonitrile, K2-0.1 mass% ammonium acetate aqueous solution K1 / K2 = 60/40 (0-5 minutes)
K1 / K2 = 60/40 → 95/5 (linear concentration change, 5-30 minutes)
K1 / K2 = 95/5 (30-80 minutes)
(Ratio is volume ratio)
Detector: SPD-10AVP UV254nm manufactured by Shimadzu Corporation
(解析条件)
ソフトウェア:島津製作所社製LC−solution ver.1.22SP1
設定:Width=5、Slope=200、Drift=0、T.DBL=1000、Min.Area=500
(Analysis conditions)
Software: LC-solution ver. Made by Shimadzu Corporation. 1.22SP1
Settings: Slope = 5, Slope = 200, Drift = 0, T.I. DBL = 1000, Min. Area = 500
<GC分析>
サンプル20mgおよび内標としてn−ウンデカン(関東化学社製)10mgを100mlのアセトニトリルに溶解させた後、うち0.1μlを、下記の条件にて測定および解析した。トリオキサン(パラアルデヒド)転化率は、n−ウンデカンを内標とする相対検量線法にてトリオキサン化合物の残存率を定量した後、原料トリオキサン化合物に対するモル%として得た。
<GC analysis>
After dissolving 20 mg of the sample and 10 mg of n-undecane (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) as an internal standard in 100 ml of acetonitrile, 0.1 μl of the sample was measured and analyzed under the following conditions. The trioxane (paraldehyde) conversion rate was obtained as mol% with respect to the raw material trioxane compound after quantifying the residual rate of the trioxane compound by a relative calibration curve method using n-undecane as an internal standard.
(測定条件)
機器:島津製作所社製GC−2010
カラム:Agilent DB−1(無極性)
昇温条件:50〜250℃、10℃/min昇温、250℃で7minホールド
(Measurement condition)
Equipment: GC-2010 manufactured by Shimadzu Corporation
Column: Agilent DB-1 (non-polar)
Temperature rise conditions: 50-250 ° C, 10 ° C / min temperature rise, 7 min hold at 250 ° C
(解析条件)
ソフトウェア:島津製作所社製GCsolution ver.2.43
(Analysis conditions)
Software: GCsolution ver. Made by Shimadzu Corporation. 2.43
<実施例1> 1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(p−120)の合成
o−クレゾール(10.8g、100mmol)を40℃に加温して融解させた後ケイタングステン酸(33.1mg、0.0100mmol)、n−ドデシルメルカプタン(0.202g、1.00mmol)を加えた。その後、内温を50℃に保ちながら、パラアルデヒド(0.880g、6.67mmol)を4時間かけて滴下した。滴下後、2時間加熱攪拌し熟成させた。得られた反応液を一部取りLCおよびGC分析に供した。パラアルデヒド転化率は100%、4,4’−置換体選択率は92%であった。
<Example 1> Synthesis of 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane (p-120) After o-cresol (10.8 g, 100 mmol) was heated to 40 ° C. and melted. Tungstic acid (33.1 mg, 0.0100 mmol) and n-dodecyl mercaptan (0.202 g, 1.00 mmol) were added. Then, paraldehyde (0.880 g, 6.67 mmol) was added dropwise over 4 hours while maintaining the internal temperature at 50 ° C. After the dropping, the mixture was heated and stirred for 2 hours for aging. A part of the obtained reaction solution was taken and subjected to LC and GC analysis. The paraldehyde conversion was 100% and the 4,4'-substituent selectivity was 92%.
<実施例2> 1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(p−120)の合成
実施例1におけるn−ドデシルメルカプタンを用いない以外は、実施例1と同様の操作を行った。滴下後2時間におけるパラアルデヒド転化率は100%、4,4’−置換体選択率は78%であった。
<Example 2> Synthesis of 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane (p-120) The same operation as in Example 1 was performed except that the n-dodecyl mercaptan in Example 1 was not used. went. The paraldehyde conversion rate was 100% and the 4,4'-substituted product selectivity was 78% 2 hours after the dropping.
<実施例3> 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(p−2)の合成
実施例1におけるo−クレゾールをフェノール(9.40g、100mmol)に変更する以外は、実施例1と同様の操作を行った。滴下後2時間におけるパラアルデヒド転化率は100%、4,4’−置換体選択率は77%であった。
<Example 3> Synthesis of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane (p-2) Except for changing the o-cresol in Example 1 to phenol (9.40 g, 100 mmol), the same as in Example 1. The same operation was performed. The paraldehyde conversion rate was 100% and the 4,4'-substituted product selectivity was 77% 2 hours after the dropping.
<実施例4> 1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(p−125)の合成
実施例2におけるo−クレゾールを2,6−キシレノール(6.10g、50.0mmol)に変更する以外は、実施例2と同様の操作を行った。滴下後2時間におけるパラアルデヒド転化率は100%、4,4’−置換体選択率は99%であった。
<Example 4> Synthesis of 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ethane (p-125) The o-cresol in Example 2 was divided into 2,6-xylenol (6.10 g, 50. The same operation as in Example 2 was performed except that the value was changed to 0 mmol). The paraldehyde conversion rate was 100% and the 4,4'-substituted product selectivity was 99% 2 hours after the dropping.
<実施例5> 1,1−ビス(5−イソプロピル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)エタン(化合物(p−134))の合成
チモール(204g、1.36mol)とメチルイソブチルケトン(150ml)の混合物を40℃に加温して融解させた後、リンタングステン酸(1.47g、0.453mmol)、n−オクチルメルカプタン(2.94g、22.6mmol)を加えた。その後、内温80℃に保ちながら、パラアルデヒド(20.0g、151mmol)を1時間かけて滴下した。滴下後、2時間加熱攪拌し熟成させた。得られた反応液を一部取りLCおよびGC分析に供した。熟成後のパラアルデヒド転化率は99%、4,4’−置換体選択率は94%であった。
<Example 5> Synthesis of 1,1-bis (5-isopropyl-4-hydroxy-2-methylphenyl) ethane (compound (p-134)) Timol (204 g, 1.36 mol) and methyl isobutyl ketone (150 ml) The mixture was heated to 40 ° C. to thaw, and then phosphotungstic acid (1.47 g, 0.453 mmol) and n-octyl mercaptan (2.94 g, 22.6 mmol) were added. Then, paraldehyde (20.0 g, 151 mmol) was added dropwise over 1 hour while maintaining the internal temperature at 80 ° C. After the dropping, the mixture was heated and stirred for 2 hours for aging. A part of the obtained reaction solution was taken and subjected to LC and GC analysis. The paraldehyde conversion rate after aging was 99%, and the 4,4'-substituent selectivity was 94%.
<比較例1> 1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(p−120)の合成
o−クレゾール(10.8g、100mmol)を40℃に加温して融解させた後、ナトリウムメトキシド(0.40g、7.4mmol)、パラアルデヒド(2.64g、20.0mmol)およびトルエン(30.0g)を加え、110℃で6時間熟成させた。熟成後のパラアルデヒド転化率は100%、4,4’−置換体選択率は23%であった。
<Comparative Example 1> Synthesis of 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane (p-120) After o-cresol (10.8 g, 100 mmol) was heated to 40 ° C. and melted. , Sodium methoxide (0.40 g, 7.4 mmol), paraldehyde (2.64 g, 20.0 mmol) and toluene (30.0 g) were added and aged at 110 ° C. for 6 hours. The paraldehyde conversion rate after aging was 100%, and the 4,4'-substituent selectivity was 23%.
<比較例2> 1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(p−120)の合成
o−クレゾール(10.8g、100mmol)を40℃に加温して融解させた後85%リン酸(2.83g、24.6mmol)およびパラアルデヒド(0.880g、6.67mmol)を加え、50℃で6時間熟成させた。熟成後のパラアルデヒド転化率は100%、4,4’−置換体選択率は78%であった。
<Comparative Example 2> Synthesis of 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane (p-120) After o-cresol (10.8 g, 100 mmol) was heated to 40 ° C. and melted. 85% phosphoric acid (2.83 g, 24.6 mmol) and paraldehyde (0.880 g, 6.67 mmol) were added and aged at 50 ° C. for 6 hours. The paraldehyde conversion rate after aging was 100%, and the 4,4'-substituted product selectivity was 78%.
<比較例3> 1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)エタン(p−120)の合成
o−クレゾール(10.8g、100mmol)を40℃に加温して融解させた後85%リン酸(0.540g、4.69mmol)およびパラアルデヒド(0.880g、6.67mmol)を加え、50℃で6時間熟成させた。熟成後のパラアルデヒド転化率は72%、4,4’−置換体選択率は54%であった。
<Comparative Example 3> Synthesis of 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ethane (p-120) After o-cresol (10.8 g, 100 mmol) was heated to 40 ° C. and melted. 85% phosphoric acid (0.540 g, 4.69 mmol) and paraldehyde (0.880 g, 6.67 mmol) were added and aged at 50 ° C. for 6 hours. The paraldehyde conversion rate after aging was 72%, and the 4,4'-substituted product selectivity was 54%.
上記実施例1〜5と比較例1〜3の結果を以下の表1にまとめる。
実施例1〜5より、本発明によれば、使用する原料に関わらず、ごく微量の触媒の使用であっても、短時間かつ高選択的に4,4’−置換体が得られることが明らかである。
比較例1のような塩基性条件では十分な4,4’−置換体選択率が得られない。
比較例2のような反応条件では高い4,4’−置換体選択率が得られるものの、トリオキサン化合物に対して3モル倍以上の酸量を用いており精製時の触媒除去に対する負荷が大きい。
比較例3のように酸触媒量を1モル倍以下に低減すると、反応速度、および4,4’−置換体選択率がいずれも低下傾向にあり、好ましくない。
以上の結果より、本発明のヘテロポリ酸触媒を用いたビスフェノールの製造方法が、工業的に優れた方法であることは明らかである。
The results of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 are summarized in Table 1 below.
From Examples 1 to 5, according to the present invention, 4,4'-substituted products can be obtained in a short time and with high selectivity, regardless of the raw materials used, even if a very small amount of catalyst is used. it is obvious.
Under basic conditions such as Comparative Example 1, a sufficient 4,4'-substituent selectivity cannot be obtained.
Although a high 4,4'-substituted product selectivity can be obtained under the reaction conditions as in Comparative Example 2, the amount of acid used is 3 mol times or more that of the trioxane compound, and the load on catalyst removal during purification is large.
When the amount of the acid catalyst is reduced to 1 mol times or less as in Comparative Example 3, the reaction rate and the 4,4'-substituent selectivity tend to decrease, which is not preferable.
From the above results, it is clear that the method for producing bisphenol using the heteropolyacid catalyst of the present invention is an industrially excellent method.
Claims (4)
少なくともフェノール類、ヘテロポリ酸、および下記式(2)で表されるトリオキサン化合物を共存させた状態から、下記式(1)で表されるビスフェノール化合物を生成させる工程を含むことを特徴とする、ビスフェノール化合物の製造方法。
A bisphenol comprising a step of producing a bisphenol compound represented by the following formula (1) from a state in which at least phenols, a heteropolyacid, and a trioxane compound represented by the following formula (2) coexist. Method for producing compound.
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