JP2020172469A - Method for Producing Condensed Heterocyclic Compound - Google Patents
Method for Producing Condensed Heterocyclic Compound Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020172469A JP2020172469A JP2019075503A JP2019075503A JP2020172469A JP 2020172469 A JP2020172469 A JP 2020172469A JP 2019075503 A JP2019075503 A JP 2019075503A JP 2019075503 A JP2019075503 A JP 2019075503A JP 2020172469 A JP2020172469 A JP 2020172469A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound represented
- general formula
- reaction
- formula
- produced
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XQDTVYANTRYPMO-UXBLZVDNSA-N CCS/C(/C#N)=C/C1=COCCC1 Chemical compound CCS/C(/C#N)=C/C1=COCCC1 XQDTVYANTRYPMO-UXBLZVDNSA-N 0.000 description 2
- 0 CCSc1cc(CCC*)cnc1O Chemical compound CCSc1cc(CCC*)cnc1O 0.000 description 1
- NSJKGDOEGFLVRU-UHFFFAOYSA-N CCSc1cc(CCCCl)cnc1Cl Chemical compound CCSc1cc(CCCCl)cnc1Cl NSJKGDOEGFLVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJBUDCWCJQYIPF-UHFFFAOYSA-N CCSc1cc(CCCO)cnc1O Chemical compound CCSc1cc(CCCO)cnc1O SJBUDCWCJQYIPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBZIVQSGSXGRCO-UHFFFAOYSA-N CCSc1cc(CCC[Br-])cnc1Br Chemical compound CCSc1cc(CCC[Br-])cnc1Br HBZIVQSGSXGRCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
Description
本発明は、農薬として有用な縮合複素環化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a condensed heterocyclic compound useful as a pesticide.
本発明の縮合複素環化合物は、殺虫剤、特に農園芸用殺虫剤及び動物用外部寄生虫防除薬として有用である。その製造方法として、特許文献1において遷移金属触媒反応を含む製造方法が報告されている。
しかし、上記製造方法は高価な試薬等を使用するため、工業的に有利な方法ではない。
The condensed heterocyclic compound of the present invention is useful as an insecticide, particularly an insecticide for agriculture and horticulture and an ectoparasite control agent for animals. As the production method, a production method including a transition metal catalytic reaction is reported in Patent Document 1.
However, since the above-mentioned production method uses expensive reagents and the like, it is not an industrially advantageous method.
本発明の課題は、農薬として有用な縮合複素環化合物の新規で工業的に有利な製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a novel and industrially advantageous production method of a condensed heterocyclic compound useful as a pesticide.
本発明者は前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、5位にシクロプロピル基を有するピリジン誘導体の合成とそれに続く反応により、殺虫剤として有用な縮合複素環化合物の、高収率かつ安価な製造方法を見出し、本発明を完成させた。 As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventor has achieved a high yield and a high yield of a condensed heterocyclic compound useful as an insecticide by synthesizing a pyridine derivative having a cyclopropyl group at the 5-position and subsequent reaction. We have found an inexpensive manufacturing method and completed the present invention.
即ち本発明は、
[1]一般式(5)
で表される化合物をハロゲン化することにより生成する、
一般式(4)
で表される化合物を環化反応に付することにより生成する、
一般式(3)
で表される化合物を、遷移金属触媒存在下で一酸化炭素と反応させることにより、一般式(2)
で表される化合物を製造する工程を含むことを特徴とする、
一般式(1)
で表される化合物の製造方法、
[2]一般式(9)
で表される化合物と、一般式(8)
で表される化合物とを反応させることにより生成する、一般式(7)
を、N,N‐ジメチルホルムアミド ジアルキルアセタールと反応させることにより生成する、一般式(6)
を環化反応に付することにより、一般式(5)
で表される化合物を製造する工程を含む、前記[1]に記載の製造方法、
[3]式(15)
で表される化合物とを反応させることにより生成する、一般式(12)
で表される化合物を、環化反応に付することにより、一般式(5)
で表される化合物を製造する工程を含む、前記[1]に記載の製造方法、
[4]一般式(12)
で表される化合物を、環化反応に付することにより生成する、一般式(10)
で表される化合物をハロゲン化することにより、一般式(5)
で表される化合物を製造する工程を含む、前記[3]に記載の製造方法、
[5]一般式(12)
で表される化合物を、環化反応に付することにより生成する、一般式(11)
で表される化合物を、ハロゲン化することにより、一般式(5)
で表される化合物を製造する工程を含む、前記[3]に記載の製造方法、
に関する。
That is, the present invention
[1] General formula (5)
It is produced by halogenating the compound represented by.
General formula (4)
It is produced by subjecting the compound represented by to the cyclization reaction.
General formula (3)
By reacting the compound represented by with carbon monoxide in the presence of a transition metal catalyst, the general formula (2)
It is characterized by including a step of producing a compound represented by.
General formula (1)
Method for producing the compound represented by
[2] General formula (9)
Compound represented by and general formula (8)
General formula (7) produced by reacting with a compound represented by
Is produced by reacting with N, N-dimethylformamide dialkyl acetal, the general formula (6).
By subjecting to the cyclization reaction, the general formula (5)
The production method according to the above [1], which comprises a step of producing the compound represented by.
[3] Equation (15)
The general formula (12) produced by reacting with a compound represented by
By subjecting the compound represented by to the cyclization reaction, the general formula (5)
The production method according to the above [1], which comprises a step of producing the compound represented by.
[4] General formula (12)
The compound represented by (10) is produced by subjecting it to a cyclization reaction.
By halogenating the compound represented by, the general formula (5)
The production method according to the above [3], which comprises a step of producing the compound represented by.
[5] General formula (12)
The compound represented by (11) is produced by subjecting it to a cyclization reaction.
By halogenating the compound represented by, the general formula (5)
The production method according to the above [3], which comprises a step of producing the compound represented by.
Regarding.
本発明によれば、目的化合物を効率的且つ経済的有利に工業的規模で製造することができる。 According to the present invention, the target compound can be produced efficiently and economically advantageously on an industrial scale.
本明細書中に記載する各置換基を説明する。「ハロゲン原子」とは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はフッ素原子を示す。 Each substituent described herein will be described. The "halogen atom" refers to a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a fluorine atom.
「N,N‐ジメチルホルムアミド ジアルキルアセタール」とは、例えば、N,N‐ジメチルホルムアミド ジメチルアセタール、N,N‐ジメチルホルムアミド ジエチルアセタール、N,N‐ジメチルホルムアミド ジノルマルプロピルアセタール、N,N‐ジメチルホルムアミド ジイソプロピルアセタール、N,N‐ジメチルホルムアミド ジノルマルブチルアセタール、N,N‐ジメチルホルムアミド ジイソブチルアセタール、N,N‐ジメチルホルムアミド ジセカンダリーブチルアセタール又はN,N‐ジメチルホルムアミド ジターシャリーブチルアセタール等の、N,N‐ジメチルホルムアミドアセタールを示す。 The "N, N-dimethylformamide dialkyl acetal" means, for example, N, N-dimethylformamide dimethylacetal, N, N-dimethylformamide diethylacetal, N, N-dimethylformamide dinormal propylacetal, N, N-dimethylformamide. N, N, such as diisopropyl acetal, N, N-dimethylform amide dinormal butyl acetal, N, N-dimethylform amide diisobutyl acetal, N, N-dimethylform amide disecondary butyl acetal or N, N-dimethylformamide ditershari butyl acetal. -Shows dimethylformamide acetal.
本発明の製造方法に含まれる一般式(1)乃至(5)、(6)乃至(8)、(10)乃至(14)で表される化合物は、その構造式中に1つ又は複数個の不斉中心を有する場合があり、2種以上の光学異性体及びジアステレオマーが存在する場合もあり、本発明の製造方法は各々の光学異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含するものである。 The compounds represented by the general formulas (1) to (5), (6) to (8), (10) to (14) included in the production method of the present invention are one or more in the structural formula. In some cases, there may be two or more types of optical isomers and diastereomers, and the production method of the present invention comprises each optical isomer and a mixture containing them in an arbitrary ratio. Also includes all.
本発明に関与する反応は以下のように図示される。 The reactions involved in the present invention are illustrated as follows.
製造方法1
即ち、下記工程[a]乃至[h]の製造方法により、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
工程[a] 一般式(9)で表される化合物と、一般式(8)で表される化合物とから、一般式(7)で表される化合物を製造する工程。
工程[b] 一般式(7)で表される化合物から、一般式(6)で表される化合物を製造する工程。
工程[c] 一般式(6)で表される化合物から、一般式(5)で表される化合物を製造する工程。
工程[d] 一般式(5)で表される化合物から、一般式(4)で表される化合物を製造する工程。
工程[e] 一般式(4)で表される化合物から、一般式(3)で表される化合物を製造する工程。
工程[f]一般式(3)で表される化合物から、一般式(2)で表される化合物を製造する工程。
工程[g]一般式(2)で表される化合物から、一般式(16)で表される化合物を製造する工程。
工程[h]一般式(16)で表される化合物から、一般式(17)で表される化合物を製造する工程。
工程[i] 一般式(17)で表される化合物と、一般式(18)で表される化合物とから、一般式(19)で表される化合物を製造する工程。
工程[j] 一般式(19)で表される化合物から、一般式(1)で表される化合物を製造する工程
That is, the compound represented by the general formula (1) can be produced by the production methods of the following steps [a] to [h].
Step [a] A step of producing a compound represented by the general formula (7) from a compound represented by the general formula (9) and a compound represented by the general formula (8).
Step [b] A step of producing a compound represented by the general formula (6) from the compound represented by the general formula (7).
Step [c] A step of producing a compound represented by the general formula (5) from the compound represented by the general formula (6).
Step [d] A step of producing a compound represented by the general formula (4) from the compound represented by the general formula (5).
Step [e] A step of producing a compound represented by the general formula (3) from the compound represented by the general formula (4).
Step [f] A step of producing a compound represented by the general formula (2) from the compound represented by the general formula (3).
Step [g] A step of producing a compound represented by the general formula (16) from the compound represented by the general formula (2).
Step [h] A step of producing a compound represented by the general formula (17) from the compound represented by the general formula (16).
Step [i] A step of producing a compound represented by the general formula (19) from a compound represented by the general formula (17) and a compound represented by the general formula (18).
Step [j] A step of producing a compound represented by the general formula (1) from the compound represented by the general formula (19).
工程[a]
一般式(7)で表される化合物は、一般式(9)で表される化合物と、一般式(8)で表される化合物とを、塩基及び不活性溶媒存在下反応させることにより製造することができる。
Step [a]
The compound represented by the general formula (7) is produced by reacting the compound represented by the general formula (9) with the compound represented by the general formula (8) in the presence of a base and an inert solvent. be able to.
本反応で使用できる塩基としては、例えば、ピリジン、ピペリジン、ピコリン、ルチジン、4‐ジメチルアミノピリジン(DMAP)、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N‐ジシクロヘキシルメチルアミン、モルホリン、ピロリジン、ジエチルアミン等の有機塩基等が挙げられる。1種又は2種以上を使用してもよい。塩基の使用量としては、一般式(4)で表される化合物1モルに対して通常0.1倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the bases that can be used in this reaction include pyridine, piperidine, picoline, lutidine, 4-dimethylaminopyridine (DMAP), triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N, N-dicyclohexylmethylamine, morpholine, pyrrolidine, diethylamine and the like. Organic bases and the like. One kind or two or more kinds may be used. The amount of the base used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (4).
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、水等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(4)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction. For example, chain or cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, benzene, toluene, xylene and the like. Aromatic hydrocarbons, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, Polar solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid, water and the like can be mentioned, and these inert solvents are used alone. Or a mixture of two or more types can be used. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (4).
本反応は等モル反応であるので、各化合物を等モル使用すればよいが、いずれかの化合物を過剰に用いることもできる。反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。
工程[b]
一般式(6)で表される化合物は、一般式(7)で表される化合物と、N,N‐ジメチルホルムアミド ジメチルアセタールとを、不活性溶媒存在下又は無溶媒で反応させることにより製造することができる。また、添加剤としてカルボン酸無水物を添加してもよい。
Since this reaction is an equimolar reaction, each compound may be used in an equimolar amount, but any of the compounds may be used in excess. The reaction temperature may usually be in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but may be appropriately selected in the range of several minutes to 48 hours. Just do it. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary. It can also be used in the next reaction without isolation.
Step [b]
The compound represented by the general formula (6) is produced by reacting the compound represented by the general formula (7) with N, N-dimethylformamide dimethylacetal in the presence of an inert solvent or in the absence of a solvent. be able to. Moreover, you may add carboxylic acid anhydride as an additive.
本反応で使用できるカルボン酸無水物としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等が挙げられる。1種又は2種以上を使用してもよい。カルボン酸無水物の使用量としては、一般式(7)で表される化合物1モルに対して通常0.1倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the carboxylic acid anhydride that can be used in this reaction include acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride and the like. One kind or two or more kinds may be used. The amount of the carboxylic acid anhydride used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (7).
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(7)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction, and examples thereof include chain or cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, pentane, hexane and cyclohexane. Chained or cyclic saturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene. Classes, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, methanol, Examples thereof include alcohols such as ethanol and isopropanol, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (7).
本反応は等モル反応であるので、各化合物を等モル使用すればよいが、いずれかの化合物を過剰に用いることもできる。反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。
工程[c]
一般式(5)で表される化合物は、一般式(6)で表される化合物を、ハロゲン化水素及び不活性溶媒存在下反応させることにより製造することができる。
Since this reaction is an equimolar reaction, each compound may be used in an equimolar amount, but any of the compounds may be used in excess. The reaction temperature may usually be in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but may be appropriately selected in the range of several minutes to 48 hours. Just do it. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary. It can also be used in the next reaction without isolation.
Step [c]
The compound represented by the general formula (5) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (6) in the presence of hydrogen halide and an inert solvent.
本反応で使用できるハロゲン化水素としては、例えば、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等が挙げられ、1種又は2種以上を使用してもよい。ハロゲン化水素の使用量としては、一般式(6)で表される化合物1モルに対して通常1.0倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the hydrogen halide that can be used in this reaction include hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, and the like, and one or more of them may be used. The amount of hydrogen halide used may be appropriately selected from the range of usually 1.0 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (6).
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、ギ酸、酢酸等のカルボン酸類等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(6)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction, and examples thereof include chain or cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, pentane, hexane and cyclohexane. Chained or cyclic saturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene. Classes, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, methanol, Examples thereof include alcohols such as ethanol and isopropanol, and carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (6).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。
工程[d]
一般式(4)で表される化合物は、一般式(5)で表される化合物を、ハロゲン化剤、ラジカル開始剤及び不活性溶媒存在下反応させることにより製造することができる。
The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary. It can also be used in the next reaction without isolation.
Step [d]
The compound represented by the general formula (4) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (5) in the presence of a halogenating agent, a radical initiator and an inert solvent.
本反応で使用できるハロゲン化剤としては、例えば、N‐クロロスクシンイミド、N‐ブロモスクシンイミド、N‐ヨードスクシンイミド等が挙げられれ、1種又は2種以上を使用してもよい。ハロゲン化剤の使用量としては、一般式(5)で表される化合物1モルに対して通常1.0倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the halogenating agent that can be used in this reaction include N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, and the like, and one or more of them may be used. The amount of the halogenating agent used may be appropriately selected from the range of usually 1.0 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (5).
本反応で使用できるラジカル開始剤としては、例えば、2,2’‐アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)等のアゾ化合物、ジ‐ターシャリーブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル等の過酸化物、トリエチルボラン、ジエチルジンク等の有機金属化合物等を挙げることができる。ラジカル開始剤の使用量としては、一般式(5)で表される化合物1モルに対して通常0.01倍モル〜1.0倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the radical initiator that can be used in this reaction include azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN), peroxides such as di-terrific butylperoxide and benzoyl peroxide, and triethylborane. , An organic metal compound such as diethylzinc, and the like. The amount of the radical initiator used may be appropriately selected from the range of usually 0.01 times mol to 1.0 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (5).
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状飽和炭化水素類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(5)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction. For example, chain or cyclic saturated hydrocarbons such as pentane, hexane and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, etc. Nitrives such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, methanol, ethanol, Examples include alcohols such as isopropanol, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (5).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary. It can also be used in the next reaction without isolation.
工程[e]
一般式(3)で表される化合物は、一般式(4)で表される化合物を、金属試薬、金属ハロゲン化物及び不活性溶媒存在下で反応させることにより製造することができる。
Step [e]
The compound represented by the general formula (3) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (4) in the presence of a metal reagent, a metal halide and an inert solvent.
本反応で使用できる金属試薬としては、例えば、亜鉛‐銅合金、亜鉛粉末等を挙げることができ、その使用量としては、一般式(4)で表される化合物1モルに対して通常1.0倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すれば良い。 Examples of the metal reagent that can be used in this reaction include zinc-copper alloy, zinc powder, and the like, and the amount used is usually 1. per 1 mol of the compound represented by the general formula (4). It may be appropriately selected from the range of 0 times molar to 10 times molar.
本反応で使用できる金属ハロゲン化物としては、例えば、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、塩化セシウム、臭化セシウム、ヨウ化セシウム等をあげることができ、その使用量としては、一般式(4)で表される化合物1モルに対して通常1.0倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すれば良い。 Metal halides that can be used in this reaction include, for example, lithium chloride, lithium bromide, lithium iodide, sodium chloride, sodium bromide, sodium iodide, potassium chloride, potassium bromide, potassium iodide, cesium chloride, and odor. Cesium bromide, cesium iodide, etc. can be mentioned, and the amount to be used is usually selected from the range of 1.0 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (4). Just do it.
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(4)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction, and examples thereof include chain or cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, pentane, hexane and cyclohexane. Chain or cyclic saturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl Polar solvents such as sulfoxide and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol can be mentioned, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. You can also do it. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (4).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。
工程[f]
一般式(2)で表される化合物は、一般式(3)で表される化合物を、一酸化炭素、パラジウム触媒、配位子、塩基及びアルコール溶媒存在下で反応させることにより製造することができる。
The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary. It can also be used in the next reaction without isolation.
Step [f]
The compound represented by the general formula (2) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (3) in the presence of carbon monoxide, a palladium catalyst, a ligand, a base and an alcohol solvent. it can.
本反応で使用できるパラジウム触媒としては、例えば、塩化パラジウム、臭化パラジウム、沃化パラジウム、酢酸パラジウム等のパラジウム塩、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロ[1,4‐ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウム、ジクロロビスベンゾニトリルパラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム錯体を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。パラジウム触媒の使用量は一般式(3)で表される化合物1モルに対して、0.1倍モル〜0.00001倍モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.01倍モル〜0.00005倍モルの範囲から適宜選択すれば良い。 Examples of the palladium catalyst that can be used in this reaction include palladium salts such as palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, and palladium acetate, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, and dichloro [1,4-bis (diphenylphosphino)). Butane] Palladium complexes such as palladium, dichlorobisbenzonitrile palladium, and tetrakistriphenylphosphinepalladium can be mentioned, but are not limited thereto. The amount of the palladium catalyst used may be appropriately selected from the range of 0.1 times mol to 0.00001 times mol, preferably 0.01 times mol to 1 mol of the compound represented by the general formula (3). It may be appropriately selected from the range of 0.00005 times by mole.
本反応で使用できる配位子としては、例えば、トリt‐ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリo‐トリルホスフィン等の単座配位子、1,2‐ビスジフェニルホスフィノエタン、1,3‐ビスジフェニルホスフィノプロパン、1,4‐ビスジフェニルホスフィノブタン、ビス[2‐(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテル等の二座配位子等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。配位子の使用量は一般式(3)で表される化合物1モルに対して、0.3倍モル〜0.00001倍モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.1〜0.0001倍モルの範囲から適宜選択すれば良い。 Examples of the ligand that can be used in this reaction include monodentate ligands such as trit-butylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine, and trio-tolylphosphine, 1,2-bisdiphenylphosphinoetan, and 1, , 3-Bisdiphenylphosphinopropane, 1,4-bisdiphenylphosphinobtan, bidentate ligands such as bis [2- (diphenylphosphino) phenyl] ether, etc., but are limited to these. It's not something. The amount of the ligand used may be appropriately selected from the range of 0.3 times mol to 0.00001 times mol, preferably 0.1 to 0, with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (3). It may be appropriately selected from the range of .0001 times mol.
本反応で使用できる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の有機塩基類、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のカルボン酸塩等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。塩基はカルボニル化反応中に生成するハロゲン化水素を中和するために必要であり、塩基の最小量は反応の化学量論比に対応させる必要があるが、塩基は大量に使用し、また溶媒として使用しても良い。 Examples of the bases that can be used in this reaction include organic bases such as triethylamine and tributylamine, inorganic bases such as sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate and potassium carbonate, and carboxylates such as sodium acetate and potassium acetate. It can, but is not limited to these. Bases are needed to neutralize the hydrogen halides produced during the carbonylation reaction, and the minimum amount of bases needs to correspond to the stoichiometric ratio of the reaction, but large amounts of bases are used and the solvent. May be used as.
本反応で使用できるアルコール溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、2‐プロパノール等を挙げることができ、これらのアルコール溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(3)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すれば良い。 Examples of the alcohol solvent that can be used in this reaction include methanol, ethanol, propanol, butanol, 2-propanol, and the like, and these alcohol solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (3).
本反応の反応温度は通常50〜250℃の範囲で行なえば良く、好ましくは100〜200℃の範囲が良い。反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分〜48時間の範囲から適宜選択すれば良い。一酸化炭素の圧は1〜10MPaの範囲であれば良いが、好ましくは1.5〜4.0MPaの範囲が良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of 50 to 250 ° C., preferably in the range of 100 to 200 ° C. The reaction time is not constant depending on the reaction scale and the reaction temperature, but may be appropriately selected from the range of several minutes to 48 hours. The pressure of carbon monoxide may be in the range of 1 to 10 MPa, but preferably in the range of 1.5 to 4.0 MPa. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary.
工程[g]
一般式(16)で表される化合物は、一般式(2)で表される化合物を、有機化学で用いられる定法に従って、エステル基を加水分解することによって製造することができる。
Process [g]
The compound represented by the general formula (16) can be produced by hydrolyzing the ester group of the compound represented by the general formula (2) according to a conventional method used in organic chemistry.
工程[h]
一般式(17)で表される化合物は、一般式(16)で表される化合物を、有機化学で用いられる定法に従って、カルボキシル基をカルボン酸塩化物へと変換することにより製造することができる。
Step [h]
The compound represented by the general formula (17) can be produced by converting the compound represented by the general formula (16) into a carboxylated product according to a conventional method used in organic chemistry. ..
工程[i]
一般式(19)で表される化合物は、一般式(17)で表される化合物と、一般式(18)で表される化合物とを、有機化学ので用いられる定法に従って反応させることにより製造することができる。
Step [i]
The compound represented by the general formula (19) is produced by reacting the compound represented by the general formula (17) with the compound represented by the general formula (18) according to a conventional method used in organic chemistry. be able to.
工程[j]
一般式(1)で表される化合物は、一般式(19)で表される化合物を、酸及び不活性溶媒存在下で反応させることにより製造することができる。
Step [j]
The compound represented by the general formula (1) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (19) in the presence of an acid and an inert solvent.
本反応で使用できる酸としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸類、酢酸、プロピオン酸、酪酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸類、メシル酸、トシル酸、トリフルオロメチルスルホン酸等のスルホン酸類等が挙げられ、1種又は2種以上を使用してもよい。酸の使用量としては、一般式(19)で表される化合物1モルに対して通常0.1倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Acids that can be used in this reaction include, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, and trifluoroacetic acid, mesylic acid, tosylic acid, and trifluoromethylsulfonic acid. Such as sulfonic acids and the like, and one kind or two or more kinds may be used. The amount of the acid used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (19).
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(19)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction, and examples thereof include chain or cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, pentane, hexane and cyclohexane. Chained or cyclic saturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene. Classes, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, methanol, Examples thereof include alcohols such as ethanol and isopropanol, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (19).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary.
製造方法2
即ち、下記工程[k]乃至[n]及び上記製造方法1の工程[d]乃至[j]と同様の製造方法により、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
工程[k] 一般式(15)で表される化合物から、一般式(14)で表される化合物を製造する工程。
工程[l] 一般式(14)で表される化合物から、一般式(13)で表される化合物を製造する工程。
工程[m] 一般式(13)で表される化合物と、一般式(8)で表される化合物から、一般式(12)で表される化合物を製造する工程。
工程[n] 一般式(12)で表される化合物から、一般式(5)で表される化合物を製造する工程。
That is, the compound represented by the general formula (1) can be produced by the same production methods as those of the following steps [k] to [n] and the above production method 1 steps [d] to [j].
Step [k] A step of producing a compound represented by the general formula (14) from the compound represented by the general formula (15).
Step [l] A step of producing a compound represented by the general formula (13) from the compound represented by the general formula (14).
Step [m] A step of producing a compound represented by the general formula (12) from a compound represented by the general formula (13) and a compound represented by the general formula (8).
Step [n] A step of producing a compound represented by the general formula (5) from the compound represented by the general formula (12).
工程[k]
式(14)で表される化合物は、式(15)で表される化合物と、オルトギ酸トリメチルを、塩化鉄(III)及び不活性溶媒存在下若しくは無溶媒で反応させることにより、製造することができる。
Step [k]
The compound represented by the formula (14) is produced by reacting the compound represented by the formula (15) with trimethyl orthoformate in the presence of iron (III) chloride and an inert solvent or in the absence of a solvent. Can be done.
本反応で使用できるの塩化鉄(III)使用量としては、一般式(15)で表される化合物1モルに対して通常0.01倍モル〜1.0倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 The amount of iron (III) chloride that can be used in this reaction is usually selected from the range of 0.01-fold to 1.0-fold with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (15). Good.
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(19)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction, and examples thereof include chain or cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, pentane, hexane and cyclohexane. Chained or cyclic saturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene. Classes, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, methanol, Examples thereof include alcohols such as ethanol and isopropanol, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (19).
本反応は等モル反応であるので、各化合物を等モル使用すればよいが、いずれかの化合物を過剰に用いることもできる。反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。 Since this reaction is an equimolar reaction, each compound may be used in an equimolar amount, but any of the compounds may be used in excess. The reaction temperature may usually be in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but may be appropriately selected in the range of several minutes to 48 hours. Just do it. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary. It can also be used in the next reaction without isolation.
工程[l]
式(13)で表される化合物は、式(14)で表される化合物を、酸及び不活性溶媒存在下反応させることにより、製造することができる。
Step [l]
The compound represented by the formula (13) can be produced by reacting the compound represented by the formula (14) in the presence of an acid and an inert solvent.
本反応で使用できる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸類、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロメチル酢酸等のカルボン酸類、メチルスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロメチルスルホン酸等のスルホン酸類等が挙げられ、1種又は2種以上を使用してもよい。酸の使用量としては、一般式(14)で表される化合物1モルに対して通常1.0倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Acids that can be used in this reaction include, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitrate and phosphoric acid, carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid and trifluoromethylacetic acid, methylsulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and trifluoromethyl. Examples thereof include sulfonic acids such as sulfonic acids, and one or more of them may be used. The amount of the acid used may be appropriately selected from the range of usually 1.0 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (14).
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、水等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(14)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction, and examples thereof include chain or cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, pentane, hexane and cyclohexane. Chained or cyclic saturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene. Classes, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, methanol, Examples include alcohols such as ethanol and isopropanol, water, and the like, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (14).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary.
工程[m]
一般式(12)で表される化合物は、式(13)で表される化合物と、一般式(8)で表される化合物とを、塩基性触媒及び不活性溶媒存在下反応させることにより、製造することができる。
Process [m]
The compound represented by the general formula (12) is prepared by reacting the compound represented by the formula (13) with the compound represented by the general formula (8) in the presence of a basic catalyst and an inert solvent. Can be manufactured.
本反応で使用できる塩基性触媒としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、2,6‐ルチジン、4‐ジメチルアミノピリジン、ピペリジン、ピロリジン、モルホリン、ジエチルアミン、アンモニア、酢酸アンモニウム等をあげられ、1種又は2種以上を使用してもよい。塩基性触媒の使用量としては、一般式(13)で表される化合物1モルに対して通常0.1倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。
等が挙げられ、1種又は2種以上を使用してもよい。塩基性触媒の使用量としては、一般式(13)で表される化合物1モルに対して通常0.01倍モル〜1.0倍モルの範囲から適宜選択すればよい。
Examples of the basic catalyst that can be used in this reaction include pyridine, pyrimidine, 2,6-lutidine, 4-dimethylaminopyridine, piperidine, pyrrolidine, morpholine, diethylamine, ammonia, ammonium acetate and the like. More than a seed may be used. The amount of the basic catalyst used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (13).
Etc., and one kind or two or more kinds may be used. The amount of the basic catalyst to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.01 times mol to 1.0 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (13).
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン等の鎖状又は環状エーテル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の鎖状又は環状飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、N,N‐ジメチルホルムアミド、N,N‐ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することもできる。その使用量としては、一般式(13)で表される化合物1モルに対して通常0.1〜100Lの範囲から適宜選択すればよい。 The inert solvent that can be used in this reaction may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction, and examples thereof include chain or cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane, pentane, hexane and cyclohexane. Chain or cyclic saturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene. Classes, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazole. Polar solvents such as lydinone, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol can be mentioned, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.1 to 100 L with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (13).
本反応は等モル反応であるので、各化合物を等モル使用すればよいが、いずれかの化合物を過剰に用いることもできる。反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。また単離せずに次の反応に用いることもできる。 Since this reaction is an equimolar reaction, each compound may be used in an equimolar amount, but any of the compounds may be used in excess. The reaction temperature may usually be in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but may be appropriately selected in the range of several minutes to 48 hours. Just do it. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary. It can also be used in the next reaction without isolation.
式工程[n]
一般式(5)で表される化合物は、一般(12)で表される化合物を、酸存在下反応させることにより、製造することができる。
Formula process [n]
The compound represented by the general formula (5) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (12) in the presence of an acid.
本反応で使用できる酸としては、例えば、塩化水素酢酸溶液、臭化水素酢酸溶液、ヨウ化水素酢酸溶液等が挙げられ、1種又は2種以上を使用してもよい。酸の使用量としては、一般式(12)で表される化合物1モルに対して通常1.0倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the acid that can be used in this reaction include a hydrogen chloride acetic acid solution, a hydrogen bromide acetic acid solution, a hydrogen iodide acetic acid solution, and the like, and one kind or two or more kinds may be used. The amount of the acid used may be appropriately selected from the range of usually 1.0 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (12).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary.
製造方法3
即ち、下記工程[o]及び[p]並びに上記製造方法1の工程[d]乃至[j]と同様の製造方法により、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
工程[o]
一般式(10)で表される化合物は、一般式(12)で表される化合物を、酸存在下反応させることにより、製造することができる。
That is, the compound represented by the general formula (1) can be produced by the following production methods [o] and [p] and the same production methods as those of the above production method 1 steps [d] to [j].
Step [o]
The compound represented by the general formula (10) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (12) in the presence of an acid.
本反応で使用できる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等が挙げられ、1種又は2種以上を使用してもよい。酸の使用量としては、一般式(12)で表される化合物1モルに対して通常1.0倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the acid that can be used in this reaction include hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid and the like, and one or more of them may be used. The amount of the acid used may be appropriately selected from the range of usually 1.0 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (12).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary.
工程[p]
一般式(5)で表される化合物は、一般式(10)で表される化合物と、ハロゲン化剤とを、不活性溶媒存在下若しくは無溶媒で反応させることにより、製造することができる。
Step [p]
The compound represented by the general formula (5) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (10) with a halogenating agent in the presence of an inert solvent or in the absence of a solvent.
本反応で使用できるハロゲン化剤としては、例えば、オキシ塩化リン、塩化スルフリル、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、塩化オキサリル、三臭化リン、五臭化リン、臭化水素、ヨウ化水素等が挙げられ、それらの使用量としては、一般式(10)で表される化合物1モルに対して通常0.5倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the halogenating agent that can be used in this reaction include phosphorus oxychloride, sulfryl chloride, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, oxalyl chloride, phosphorus tribromide, phosphorus pentabromide, hydrogen bromide, and iodide. Examples thereof include hydrogen, and the amount thereof to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.5 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (10).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary.
製造方法4
即ち、下記工程[q]及び[r]並びに上記製造方法1の工程[d]乃至[j]と同様の製造方法により、一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
工程[q]
一般式(11)で表される化合物は、一般式(12)で表される化合物を、酸存在下反応させることにより、製造することができる。
That is, the compound represented by the general formula (1) can be produced by the following production methods [q] and [r] and the same production methods as those of the above production method 1 steps [d] to [j].
Step [q]
The compound represented by the general formula (11) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (12) in the presence of an acid.
本反応で使用できる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等が挙げられ、1種又は2種以上を使用してもよい。酸の使用量としては、一般式(12)で表される化合物1モルに対して通常1.0倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the acid that can be used in this reaction include hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid and the like, and one or more of them may be used. The amount of the acid used may be appropriately selected from the range of usually 1.0 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (12).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary.
工程[r]
一般式(5)で表される化合物は、一般式(11)で表される化合物と、ハロゲン化剤とを、不活性溶媒存在下若しくは無溶媒で反応させることにより、製造することができる。
Step [r]
The compound represented by the general formula (5) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (11) with a halogenating agent in the presence of an inert solvent or in the absence of a solvent.
本反応で使用できるハロゲン化剤としては、例えば、オキシ塩化リン、塩化スルフリル、塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、塩化オキサリル、三臭化リン、五臭化リン、臭化水素、ヨウ化水素等が挙げられ、それらの使用量としては、一般式(10)で表される化合物1モルに対して通常0.5倍モル〜10倍モルの範囲から適宜選択すればよい。 Examples of the halogenating agent that can be used in this reaction include phosphorus oxychloride, sulfryl chloride, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, oxalyl chloride, phosphorus tribromide, phosphorus pentabromide, hydrogen bromide, and iodide. Examples thereof include hydrogen, and the amount thereof to be used may be appropriately selected from the range of usually 0.5 times mol to 10 times mol with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (10).
本反応の反応温度は通常約0℃から不活性溶媒の還流温度の範囲で行えば良く、反応時間は反応規模、反応温度等により変化し、一定ではないが、数分〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から目的物を常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。 The reaction temperature of this reaction is usually in the range of about 0 ° C. to the reflux temperature of the inert solvent, and the reaction time varies depending on the reaction scale, reaction temperature, etc., and is not constant, but ranges from several minutes to 48 hours. It may be selected as appropriate. After completion of the reaction, the target product may be isolated from the reaction system containing the target product by a conventional method, and the target product can be produced by purification by recrystallization, column chromatography or the like, if necessary.
以下に本発明の代表的な実施例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Representative examples of the present invention will be illustrated below, but the present invention is not limited thereto.
実施例1.
7‐クロロ‐2‐(エチルスルホニル)ヘプタ‐2‐エンニトリルの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3)1.40(3H,t),
1.74‐1.91(4H,m),2.65(2H,dt),
3.23(2H,q),3.58(2H,t),7.55(1H,t)
Example 1.
Production of 7-Chloro-2- (ethylsulfonyl) hepta-2-enenitrile
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 1.40 (3H, t),
1.74-1.91 (4H, m), 2.65 (2H, dt),
3.23 (2H, q), 3.58 (2H, t), 7.55 (1H, t)
実施例2.
4‐(3‐クロロプロピル)‐5‐(ジメチルアミノ)‐2‐(エチルスルホニル)ペンタ‐2,4‐ジエンニトリルの製造
物性値
融点 110.5‐111.5℃
1H‐NMR(δ,CDCl3)1.33(3H,t),
1.97‐2.07(2H,m),2.79‐2.88(2H,m),
3.17(2H,q),3.26(6H,s),3.71(2H,t),
6.85(1H,s),7.27(1H,s)
Example 2.
Production of 4- (3-chloropropyl) -5- (dimethylamino) -2- (ethylsulfonyl) penta-2,4-dienenitrile
Physical property value Melting point 110.5-11.5 ° C
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 1.33 (3H, t),
1.97-2.07 (2H, m), 2.79-2.88 (2H, m),
3.17 (2H, q), 3.26 (6H, s), 3.71 (2H, t),
6.85 (1H, s), 7.27 (1H, s)
実施例3.
2‐クロロ‐5‐(3‐クロロプロピル)‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
融点 60‐61℃
1H‐NMR(δ,CDCl3)1.31(3H,t),
2.10‐2.17(2H,m),2.90‐2.94(2H,m),
3.50(2H,q),3.56(2H,t),8.28(1H,d), 8.49(1H,d)
Example 3.
Preparation of 2-chloro-5- (3-chloropropyl) -3- (ethylsulfonyl) pyridine
Physical property melting point 60-61 ° C
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 1.31 (3H, t),
2.10-2.17 (2H, m), 2.90-2.94 (2H, m),
3.50 (2H, q), 3.56 (2H, t), 8.28 (1H, d), 8.49 (1H, d)
実施例4.
2‐ブロモ‐5‐(3‐クロロプロピル)‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
融点 52‐53℃
1H‐NMR(δ,CDCl3)1.31(3H,t),
2.10‐2.17(2H,m),2.88‐2.92(2H,m),
3.52‐3.58(4H,m),8.27(1H,d),
8.45(1H,d)
Example 4.
Production of 2-bromo-5- (3-chloropropyl) -3- (ethylsulfonyl) pyridine
Physical property melting point 52-53 ° C
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 1.31 (3H, t),
2.10-2.17 (2H, m), 2.88-2.92 (2H, m),
3.52-3.58 (4H, m), 8.27 (1H, d),
8.45 (1H, d)
実施例5.
5‐(1‐ブロモ‐3‐クロロプロピル)‐2‐クロロ‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3)8.66(1H,d),8.47(1H,d),5.28(1H,dd),3.83‐3.77(1H,m),
3.68‐3.63(1H,m),3.52(2H,q),
2.76‐2.67(1H,m),2.49‐2.40(1H,m),
1.34(3H,t)
Example 5.
Production of 5- (1-Bromo-3-chloropropyl) -2-chloro-3- (ethylsulfonyl) pyridine
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.66 (1H, d), 8.47 (1H, d), 5.28 (1H, dd), 3.83-3.77 (1H, m),
3.68-3.63 (1H, m), 3.52 (2H, q),
2.76-2.67 (1H, m), 2.49-2.40 (1H, m),
1.34 (3H, t)
実施例6.
2‐ブロモ‐5‐(1‐ブロモ‐3‐クロロプロピル)‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.62(1H,d),
8.46(1H,d),5.27(1H,dd),
3.83‐3.77(1H,m),3.68‐3.63(1H,m),
3.57(2H,q),2.75‐2.67(1H,m),
2.49‐2.42(1H,m),1.34(3H,t)
Example 6.
Preparation of 2-bromo-5- (1-bromo-3-chloropropyl) -3- (ethylsulfonyl) pyridine
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.62 (1H, d),
8.46 (1H, d), 5.27 (1H, dd),
3.83-3.77 (1H, m), 3.68-3.63 (1H, m),
3.57 (2H, q), 2.75-2.67 (1H, m),
2.49-2.42 (1H, m), 1.34 (3H, t)
実施例7.
2‐ブロモ‐5‐(1,3‐ジブロモプロピル)‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.63(1H,d),
8.46(1H,d),5.25(1H,dd),
3.66‐3.60(1H,m),3.57(2H,q),
3.51‐3.46(1H,m),2.83‐2.75(1H,m),
2.56‐2.47(1H,m),1.34(3H,t)
Example 7.
Production of 2-bromo-5- (1,3-dibromopropyl) -3- (ethylsulfonyl) pyridine
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.63 (1H, d),
8.46 (1H, d), 5.25 (1H, dd),
3.66-3.60 (1H, m), 3.57 (2H, q),
3.51-3.46 (1H, m), 2.83-2.75 (1H, m),
2.56-2.47 (1H, m), 1.34 (3H, t)
実施例8.
2‐クロロ‐5‐シクロプロピル‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.40(1H,d),
8.01(1H,d),3.49(2H,q),
2.02‐1.96(1H,m),1.30(3H,t),
1.19‐1.14(2H,m),0.84‐0.80(2H,m)
Example 8.
Production of 2-Chloro-5-Cyclopropyl-3- (Ethylsulfonyl) Pyridine
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.40 (1H, d),
8.01 (1H, d), 3.49 (2H, q),
2.02-1.96 (1H, m), 1.30 (3H, t),
1.19-1.14 (2H, m), 0.84-0.80 (2H, m)
実施例9.
2‐ブロモ‐5‐シクロプロピル‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.36(1H,d),8.00(1H,d),3.53(2H,q),2.01‐1.94(1H,m),1.30(3H,t),1.20‐1.15(2H,m),
0.85‐0.80(2H,m)
Example 9.
Production of 2-bromo-5-cyclopropyl-3- (ethylsulfonyl) pyridine
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.36 (1H, d), 8.00 (1H, d), 3.53 (2H, q), 2.01-1.94 (1H, m), 1.30 (3H, t), 1.20-1.15 (2H, m),
0.85-0.80 (2H, m)
実施例10.
2‐ブロモ‐5‐シクロプロピル‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.36(1H,d),
8.00(1H,d),3.53(2H,q),
2.01‐1.94(1H,m),1.30(3H,t),
1.20‐1.15(2H,m),0.85‐0.80(2H,m)
Example 10.
Production of 2-bromo-5-cyclopropyl-3- (ethylsulfonyl) pyridine
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.36 (1H, d),
8.00 (1H, d), 3.53 (2H, q),
2.01-1.94 (1H, m), 1.30 (3H, t),
1.20-1.15 (2H, m), 0.85-0.80 (2H, m)
実施例11.
5‐シクロプロピル‐3‐(エチルスルホニル)ピコリン酸メチルの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.61(1H,d),
7.92(1H,d),4.02(3H,s),3.57(2H,q),
2.08‐2.02(1H,m),1.34(3H,t),
1.24‐1.19(2H,m),0.90‐0.86(2H,m)
Example 11.
Production of Methyl 5-Cyclopropyl-3- (Ethylsulfonyl) Picolinate
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.61 (1H, d),
7.92 (1H, d), 4.02 (3H, s), 3.57 (2H, q),
2.08-2.02 (1H, m), 1.34 (3H, t),
1.24-1.19 (2H, m), 0.90-0.86 (2H, m)
実施例12.
5‐シクロプロピル‐3‐(エチルスルホニル)ピコリン酸メチルの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.60(1H,d),
7.92(1H,d),4.02(3H,s),3.56(2H,q),
2.08‐2.01(1H,m),1.34(3H,t),
1.24‐1.19(2H,m),0.90‐0.86(2H,m)
Example 12.
Production of Methyl 5-Cyclopropyl-3- (Ethylsulfonyl) Picolinate
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.60 (1H, d),
7.92 (1H, d), 4.02 (3H, s), 3.56 (2H, q),
2.08-2.01 (1H, m), 1.34 (3H, t),
1.24-1.19 (2H, m), 0.90-0.86 (2H, m)
実施例13.
3‐(ジメトキシメチル)‐2‐メトキシテトラヒドロ‐2H‐ピランの製造
Production of 3- (dimethoxymethyl) -2-methoxytetrahydro-2H-pyran
実施例14.
3,4‐ジヒドロ‐2H‐ピラン‐5‐カルボアルデヒドの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 1.86‐1.93(2H,m),
2.26(2H,t),4.19(2H,t),7.31(1H,s), 9.23(1H,s)
Example 14.
Production of 3,4-dihydro-2H-pyran-5-carbaldehyde
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 1.86-1.93 (2H, m),
2.26 (2H, t), 4.19 (2H, t), 7.31 (1H, s), 9.23 (1H, s)
実施例15.
3‐(3,4‐ジヒドロ‐2H‐ピラン‐5‐イル)‐2‐(エチルスルホニル)アクリロニトリルの製造
物性値
融点 106.5‐108.5℃
1H‐NMR(δ,CDCl3)1.38(3H,t),
1.99‐2.05(2H,m),2.69(2H,t),
3.22(2H,q),4.24(2H,t),7.29(1H,s),
7.45(1H,s)
Example 15.
Production of 3- (3,4-dihydro-2H-pyran-5-yl) -2- (ethylsulfonyl) acrylonitrile
Physical property Melting point 106.5-108.5 ° C
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 1.38 (3H, t),
1.99-2.05 (2H, m), 2.69 (2H, t),
3.22 (2H, q), 4.24 (2H, t), 7.29 (1H, s),
7.45 (1H, s)
実施例16.
2‐ブロモ‐5‐(3‐ブロモプロピル)‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
融点 62‐63℃
1H‐NMR(δ,CDCl3) 1.31(3H,t),
2.17‐2.25(2H,m),2.88‐2.92(2H,m),
3.41(2H,t),3.55(2H,q),8.27(1H,d),
8.46(1H,d)
Example 16.
Production of 2-Bromo-5- (3-Bromopropyl) -3- (Ethylsulfonyl) Pyridine
Physical property melting point 62-63 ° C
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 1.31 (3H, t),
2.17-2.25 (2H, m), 2.88-2.92 (2H, m),
3.41 (2H, t), 3.55 (2H, q), 8.27 (1H, d),
8.46 (1H, d)
実施例17.
5-(3-ブロモプロピル)-3-(エチルスルホニル)ピリジン-2-オールの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 13.07(1H,s),
8.21(1H,d),7.67(1H,d),3.52(2H,q),
3.41(2H,t),2.69(2H,t),
2.16−2.09(2H,m),1.31(3H,t)
Example 17.
Production of 5- (3-Bromopropyl) -3- (Ethylsulfonyl) Pyridine-2-ol
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 13.07 (1H, s),
8.21 (1H, d), 7.67 (1H, d), 3.52 (2H, q),
3.41 (2H, t), 2.69 (2H, t),
2.16-2.09 (2H, m), 1.31 (3H, t)
実施例18.
5-(3-クロロプロピル)-3-(エチルスルホニル)ピリジン-2-オールの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 13.08(1H,s),
8.21(1H,d),7.66(1H,s)
,3.57−3.49(4H,m),2.69(2H,t),
2.08−2.01(2H,m),1.31(3H,t)
Example 18.
Production of 5- (3-chloropropyl) -3- (ethylsulfonyl) pyridine-2-ol
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 13.08 (1H, s),
8.21 (1H, d), 7.66 (1H, s)
, 3.57-3.49 (4H, m), 2.69 (2H, t),
2.08-2.01 (2H, m), 1.31 (3H, t)
実施例19.
3-(エチルスルホニル)-5-(3-ヒドロキシプロピル)ピリジン-2-オールの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 12.90(1H,s),
8.21(1H,s),7.67(1H,s),3.67(2H,t),
3.52(2H,q),2.62(2H,t),
1.86−1.80(2H,m),1.30(3H,t)
Example 19.
Production of 3- (Ethylsulfonyl) -5- (3-Hydroxypropyl) Pyridine-2-ol
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 12.90 (1H, s),
8.21 (1H, s), 7.67 (1H, s), 3.67 (2H, t),
3.52 (2H, q), 2.62 (2H, t),
1.86-1.80 (2H, m), 1.30 (3H, t)
実施例20.
2-クロロ-5-(3-クロロプロピル)-3-(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.49(1H,d),
8.28(1H,d),3.57(2H,t),3.51(2H,q),
2.92(2H,t),2.17−2.10(2H,m)
,1.31(3H,t)
Example 20.
Production of 2-chloro-5- (3-chloropropyl) -3- (ethylsulfonyl) pyridine
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.49 (1H, d),
8.28 (1H, d), 3.57 (2H, t), 3.51 (2H, q),
2.92 (2H, t), 2.17-2.10 (2H, m)
, 1.31 (3H, t)
実施例21.
2‐ブロモ‐5‐(3‐ブロモプロピル)‐3‐(エチルスルホニル)ピリジンの製造
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 8.46(1H,d),
8.27(1H,d),3.55(2H,q),3.42(2H,t),
2.90(2H,t),2.24−2.17(2H,m),
1.31(3H,t)
Example 21.
Production of 2-Bromo-5- (3-Bromopropyl) -3- (Ethylsulfonyl) Pyridine
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.46 (1H, d),
8.27 (1H, d), 3.55 (2H, q), 3.42 (2H, t),
2.90 (2H, t), 2.24-2.17 (2H, m),
1.31 (3H, t)
参考例1.
3‐エチルスルホニル‐5‐シクロプロピル‐2‐ピリジンカルボン酸の製造方法
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3)8.58(s,1H),8.21(d,1H),
3.82(q,2H),2.11(m,1H),1.33(t,3H),
1.27(m,2H),0.97(m,2H).
Reference example 1.
Method for Producing 3-Ethylsulfonyl-5-Cyclopropyl-2-pyridinecarboxylic Acid
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.58 (s, 1H), 8.21 (d, 1H),
3.82 (q, 2H), 2.11 (m, 1H), 1.33 (t, 3H),
1.27 (m, 2H), 0.97 (m, 2H).
参考例2.
3‐エチルスルホニル‐5‐シクロプロピル‐N‐[2‐ヒドロキシ‐5‐(トリフルオロメチルスルフィニル)フェニル]ピコリンアミドの製造方法
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3)9.94(br,1H),
8.55(d,1H),8.17(d,1H),8.08(d,1H),
7.45(dd,1H),7.14(d,1H),3.93(q,2H),
2.10(m,1H),1.39(t,3H),1.30(m,2H),
0.96(m,2H).
Reference example 2.
Method for Producing 3-Ethylsulfonyl-5-Cyclopropyl-N- [2-Hydroxy-5- (Trifluoromethylsulfinyl) Phenyl] Picoline Amide
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 9.94 (br, 1H),
8.55 (d, 1H), 8.17 (d, 1H), 8.08 (d, 1H),
7.45 (dd, 1H), 7.14 (d, 1H), 3.93 (q, 2H),
2.10 (m, 1H), 1.39 (t, 3H), 1.30 (m, 2H),
0.96 (m, 2H).
参考例3.
5-シクロプロピル-3-(エチルスルホニル)‐N‐(2-ヒドロキシ-5-((トリフルオロメチル)スルホニル)フェニル)ピコリンアミドの製造方法
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3) 9.89(1H,s),
9.59(1H,br),8.56(1H,d),
8.18−8.17(2H,m),7.70(1H,dd),
7.15(1H,d),3.92(2H,q),
2.15−2.08(1H,m),1.38(3H,t),
1.32−1.29(2H,m),0.99−0.95(2H,m)
Reference example 3.
Method for Producing 5-Cyclopropyl-3- (Ethylsulfonyl) -N- (2-Hydroxy-5-((Trifluoromethyl) Sulfonyl) Phenyl) Picoline Amide
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 9.89 (1H, s),
9.59 (1H, br), 8.56 (1H, d),
8.18-8.17 (2H, m), 7.70 (1H, dd),
7.15 (1H, d), 3.92 (2H, q),
2.15-2.08 (1H, m), 1.38 (3H, t),
1.32-1.29 (2H, m), 0.99-0.95 (2H, m)
参考例4.
2‐(3‐エチルスルホニル‐5‐シクロプロピルピリジン‐2‐イル)‐5‐(トリフルオロメチルスルフィニル)ベンズオキサゾールの製造方法
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3)8.77(d,1H),8.33(s,1H),8.13(d,1H),7.91(dd,1H),7.86(dd,1H),4.01(q,2H),2.14(m,1H),1.43(t,3H),
1.31(m,2H),0.98(m,2H).
Reference example 4.
Method for Producing 2- (3-Ethylsulfonyl-5-Cyclopropylpyridine-2-yl) -5- (Trifluoromethylsulfinyl) benzoxazole
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.77 (d, 1H), 8.33 (s, 1H), 8.13 (d, 1H), 7.91 (dd, 1H), 7.86 ( dd, 1H), 4.01 (q, 2H), 2.14 (m, 1H), 1.43 (t, 3H),
1.31 (m, 2H), 0.98 (m, 2H).
参考例5.
3−エチルスルホニル−5−シクロプロピル−2−ピリジンカルボン酸ナトリウムの製造方法
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3)8.24(br,1H),
7.64(br,1H),3.69(br,2H),1.81(br,1H),1.02(br,5H),0.67(br,2H).
Reference example 5.
Method for producing sodium 3-ethylsulfonyl-5-cyclopropyl-2-pyridinecarboxylate
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 8.24 (br, 1H),
7.64 (br, 1H), 3.69 (br, 2H), 1.81 (br, 1H), 1.02 (br, 5H), 0.67 (br, 2H).
参考例6.
3−エチルスルホニル−5−シクロプロピル−N−[2−ヒドロキシ−5−(トリフルオロメチルスルフィニル)フェニル]ピコリンアミドの製造方法
物性値
1H‐NMR(δ,CDCl3)9.93(br,1H),
8.55(d,1H),8.17(d,1H),8.05(d,1H),
7.46(dd,1H),7.15(d,1H),3.93(q,2H),
2.10(m,1H),1.39(t,3H),1.28(m,2H),
0.96(m,2H).
Reference example 6.
Method for producing 3-ethylsulfonyl-5-cyclopropyl-N- [2-hydroxy-5- (trifluoromethylsulfinyl) phenyl] picoline amide
Physical property value
1 1 H-NMR (δ, CDCl 3 ) 9.93 (br, 1H),
8.55 (d, 1H), 8.17 (d, 1H), 8.05 (d, 1H),
7.46 (dd, 1H), 7.15 (d, 1H), 3.93 (q, 2H),
2.10 (m, 1H), 1.39 (t, 3H), 1.28 (m, 2H),
0.96 (m, 2H).
Claims (5)
で表される化合物をハロゲン化することにより生成する、
一般式(4)
で表される化合物を環化反応に付することにより生成する、
一般式(3)
で表される化合物を、遷移金属触媒存在下で一酸化炭素と反応させることにより、一般式(2)
で表される化合物を製造する工程を含むことを特徴とする、
一般式(1)
で表される化合物の製造方法。 General formula (5)
It is produced by halogenating the compound represented by.
General formula (4)
It is produced by subjecting the compound represented by to the cyclization reaction.
General formula (3)
By reacting the compound represented by with carbon monoxide in the presence of a transition metal catalyst, the general formula (2)
It is characterized by including a step of producing a compound represented by.
General formula (1)
A method for producing a compound represented by.
で表される化合物と、一般式(8)
で表される化合物とを反応させることにより生成する、一般式(7)
を、N,N‐ジメチルホルムアミド ジアルキルアセタールと反応させることにより生成する、一般式(6)
を環化反応に付することにより、一般式(5)
で表される化合物を製造する工程を含む、請求項1に記載の製造方法。 General formula (9)
Compound represented by and general formula (8)
General formula (7) produced by reacting with a compound represented by
Is produced by reacting with N, N-dimethylformamide dialkyl acetal, the general formula (6).
By subjecting to the cyclization reaction, the general formula (5)
The production method according to claim 1, which comprises the step of producing the compound represented by.
で表される化合物とを反応させることにより生成する、一般式(12)
で表される化合物を、環化反応に付することにより、一般式(5)
で表される化合物を製造する工程を含む、請求項1に記載の製造方法。 Equation (15)
The general formula (12) produced by reacting with a compound represented by
By subjecting the compound represented by to the cyclization reaction, the general formula (5)
The production method according to claim 1, which comprises the step of producing the compound represented by.
で表される化合物を、環化反応に付することにより生成する、一般式(10)
で表される化合物をハロゲン化することにより、一般式(5)
で表される化合物を製造する工程を含む、請求項3に記載の製造方法。 General formula (12)
The compound represented by (10) is produced by subjecting it to a cyclization reaction.
By halogenating the compound represented by, the general formula (5)
The production method according to claim 3, further comprising a step of producing the compound represented by.
で表される化合物を、環化反応に付することにより生成する、一般式(11)
で表される化合物を、ハロゲン化することにより、一般式(5)
で表される化合物を製造する工程を含む、請求項3に記載の製造方法。 General formula (12)
The compound represented by (11) is produced by subjecting it to a cyclization reaction.
By halogenating the compound represented by, the general formula (5)
The production method according to claim 3, further comprising a step of producing the compound represented by.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019075503A JP2020172469A (en) | 2019-04-11 | 2019-04-11 | Method for Producing Condensed Heterocyclic Compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019075503A JP2020172469A (en) | 2019-04-11 | 2019-04-11 | Method for Producing Condensed Heterocyclic Compound |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020172469A true JP2020172469A (en) | 2020-10-22 |
Family
ID=72829976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019075503A Pending JP2020172469A (en) | 2019-04-11 | 2019-04-11 | Method for Producing Condensed Heterocyclic Compound |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020172469A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024085224A1 (en) * | 2022-10-20 | 2024-04-25 | 住友化学株式会社 | Crystal of 2-(5-cyclopropyl-3-(ethylsulfonyl)pyridin-2-yl)-5-((trifluoromethyl)sulfonyl)benzo[d]oxazole |
WO2024085225A1 (en) * | 2022-10-20 | 2024-04-25 | 住友化学株式会社 | Crystal of 2-(5-cyclopropyl-3-(ethylsulfonyl)pyridin-2-yl)-5-((trifluoromethyl)sulfinyl)benzo[d]oxazole |
-
2019
- 2019-04-11 JP JP2019075503A patent/JP2020172469A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024085224A1 (en) * | 2022-10-20 | 2024-04-25 | 住友化学株式会社 | Crystal of 2-(5-cyclopropyl-3-(ethylsulfonyl)pyridin-2-yl)-5-((trifluoromethyl)sulfonyl)benzo[d]oxazole |
WO2024085225A1 (en) * | 2022-10-20 | 2024-04-25 | 住友化学株式会社 | Crystal of 2-(5-cyclopropyl-3-(ethylsulfonyl)pyridin-2-yl)-5-((trifluoromethyl)sulfinyl)benzo[d]oxazole |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101116686B1 (en) | Method for producing 2-dihaloacyl-3-amino-acrylic acid esters and 3-dihalomethylpyrazole-4-carboxylic acid esters | |
EP3204373B1 (en) | Stereoselective process to obtain (z)-5-cyclyloxy-2-[(e)-methoxyimino]-3-methyl-pent-3-enic acid methyl amides using e,z-isomer mixture of and intermediates thereof | |
JP5993860B2 (en) | Method for producing 4,4-difluoro-3,4-dihydroisoquinoline derivative | |
JP6771475B2 (en) | Method for producing 3-chloro-2-vinylphenyl sulfonates | |
JP2012508729A (en) | Process for producing substituted 3-pyridylmethylammonium bromides | |
JP2020172469A (en) | Method for Producing Condensed Heterocyclic Compound | |
JP5077969B2 (en) | Process for the preparation of 2-substituted 5- (1-alkylthio) alkylpyridines | |
JP6944519B2 (en) | Method for Producing Cyclopropyl Substituted Acetophenones | |
WO2010122794A1 (en) | Process for production of pyrazinecarboxylic acid derivative, and intermediate for the production | |
JP4066630B2 (en) | Preparation of 2-substituted thiopyrimidine-4-carboxylic acid esters | |
JP4251508B2 (en) | Method for producing acid chloride compound | |
CN107406394B (en) | Process for the preparation of substituted phenylisoxazoline derivatives | |
JP2018087142A (en) | Method for producing 3-haloalkyl pyrazole derivative | |
JP4561635B2 (en) | Process for producing 4-alkoxycarbonyltetrahydropyran or tetrahydropyranyl-4-carboxylic acid | |
JP5406581B2 (en) | Method for producing anthranilamido compound | |
JP5631741B2 (en) | Process for producing pyrazine derivatives and intermediates thereof | |
BR112020019277A2 (en) | PROCESS FOR THE PRODUCTION OF 2,6-DIALKYLPHENYL ACETIC ACIDS | |
JP4828740B2 (en) | Process for producing 1,2,5-thiadiazoylmethanone derivative and dioxime derivative | |
JP5064125B2 (en) | Method for synthesizing pyrazoles | |
JP2013035854A (en) | Method for producing tetrahydropyran compound | |
WO2010122793A1 (en) | Process for production of pyrazine derivative, and intermediate for the production | |
JPH02117630A (en) | Production of halogenated ethylbenzene | |
JP2006137711A (en) | Method for producing pyridine derivative | |
JPWO2002076962A1 (en) | Method for producing 3-oxo-2- (2-thiazolyl) propanenitrile and intermediate |