JP2020168862A - Film molding apparatus - Google Patents

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Abstract

To provide a film molding apparatus capable of forming film rolls with a relatively fewer small-size bumps and dents.SOLUTION: The film molding apparatus includes: a die device which extrudes a molten resin in a tube-like form to mold a film; a measurement part which measures a thickness profile of the film in a circumferential direction; a plurality of adjustment parts for changing the thickness profile of the film; and a control device 7 which controls the plurality of adjustment parts so that the thickness profile becomes closer to a target thickness profile. The control device 7 changes the target thickness profile based on the measured thickness profile.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、フィルム成形装置に関する。 The present invention relates to a film molding apparatus.

ダイ装置の環状の吐出口からチューブ状に押し出された溶融樹脂を固化させてフィルムを成形するフィルム成形装置が知られている。従来では、環状の吐出口の径方向の幅を変化させることによりフィルム厚のばらつきを小さくするフィルム成形装置が提案されている(特許文献1)。 A film forming apparatus is known in which a molten resin extruded into a tube shape from an annular discharge port of a die apparatus is solidified to form a film. Conventionally, a film forming apparatus has been proposed in which the variation in film thickness is reduced by changing the radial width of the annular discharge port (Patent Document 1).

特開平6−99472号公報JP-A-6-99472

特許文献1に記載される従来のフィルム成形装置によれば、フィルム厚のばらつきをある程度小さくでき、フィルムとしての精度を満たすことができる。しかしながら、フィルム厚のばらつきは多少なりとも残るため、フィルムを巻き取ってフィルムロール体を形成するときにそのばらつきが積み上がると、大きなこぶや凹みとなりうる。 According to the conventional film molding apparatus described in Patent Document 1, the variation in film thickness can be reduced to some extent, and the accuracy as a film can be satisfied. However, since the variation in film thickness remains to some extent, if the variation accumulates when the film is wound to form a film roll body, a large hump or dent can occur.

本発明は、こうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、こぶや凹みが比較的少ないあるいは小さいフィルムロール体を形成できるフィルム成形装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of these circumstances, and an object of the present invention is to provide a film forming apparatus capable of forming a film roll body having relatively few humps and dents or a small dent.

上記課題を解決するために、本発明のある態様のフィルム成形装置は、チューブ状に溶融樹脂を押し出してフィルムを成形するダイ装置と、所定方向におけるフィルムの厚みプロファイルを測定する測定部と、フィルムの厚みプロファイルを変化させるための調節手段と、厚みプロファイルが目標厚みプロファイルに近づくよう調節手段を制御する制御装置と、を備える。制御装置は、測定された厚みプロファイルに基づいて、目標厚みプロファイルを変化させる。 In order to solve the above problems, the film forming apparatus of the present invention includes a die apparatus for extruding a molten resin into a tube shape to form a film, a measuring unit for measuring a film thickness profile in a predetermined direction, and a film. It is provided with an adjusting means for changing the thickness profile of the above, and a control device for controlling the adjusting means so that the thickness profile approaches the target thickness profile. The control device changes the target thickness profile based on the measured thickness profile.

本発明の別の態様もまた、フィルム成形装置である。この装置は、チューブ状に溶融樹脂を押し出してフィルムを成形するダイ装置と、所定方向の各位置におけるフィルム厚を測定する測定部と、各位置におけるフィルム厚を変化させるための調節手段と、各位置におけるフィルム厚が、基準フィルム厚に近づくよう調節手段を制御する制御装置と、を備える。制御装置は、基準フィルム厚よりも厚いフィルムの部分に対して、任意のタイミングで、一時的にフィルム厚が基準フィルム厚よりも薄くなるよう調節手段を制御し、基準フィルム厚よりも薄いフィルムの部分に対して、任意のタイミングで、一時的にフィルム厚が基準フィルム厚よりも厚くなるよう調節手段を制御する。 Another aspect of the present invention is also a film forming apparatus. This device includes a die device that extrudes molten resin into a tube to form a film, a measuring unit that measures the film thickness at each position in a predetermined direction, and an adjusting means for changing the film thickness at each position. A control device for controlling the adjusting means so that the film thickness at the position approaches the reference film thickness is provided. The control device controls the adjusting means so that the film thickness is temporarily thinner than the reference film thickness at an arbitrary timing with respect to the portion of the film thicker than the reference film thickness, and the control device controls the adjusting means of the film thinner than the reference film thickness. The adjusting means is controlled so that the film thickness temporarily becomes thicker than the reference film thickness with respect to the portion at an arbitrary timing.

なお、以上の構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。 It should be noted that any combination of the above components and those in which the components and expressions of the present invention are mutually replaced between methods, devices, systems and the like are also effective as aspects of the present invention.

本発明によれば、厚みのばらつきが小さく、かつ、物性が均一なフィルムを成形できる。 According to the present invention, it is possible to form a film having a small variation in thickness and uniform physical properties.

第1の実施の形態に係るフィルム成形装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows the schematic structure of the film forming apparatus which concerns on 1st Embodiment. 図1のダイ装置および冷却装置とその周辺を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the die apparatus and cooling apparatus of FIG. 1 and the periphery thereof. 図1のダイ装置を示す上面図である。It is a top view which shows the die apparatus of FIG. 図1の制御装置の機能および構成を模式的に示すブロック図である。It is a block diagram which shows typically the function and structure of the control device of FIG. 図5(a)は、プロファイル保持部に保持されるプロファイルの一例を模式的に示す図であり、図5(b)は、目標プロファイル保持部に保持される目標厚みプロファイルを模式的に示す図である。FIG. 5A is a diagram schematically showing an example of a profile held in the profile holding portion, and FIG. 5B is a diagram schematically showing a target thickness profile held in the target profile holding portion. Is. フィルム成形装置の処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of a film forming apparatus. 図7(a)は、第2の実施の形態に係るフィルム成形装置のプロファイル保持部に保持されるプロファイルの一例を模式的に示す図であり、図7(b)は、目標プロファイル保持部に保持される目標厚みプロファイルを模式的に示す図である。FIG. 7A is a diagram schematically showing an example of a profile held in the profile holding portion of the film forming apparatus according to the second embodiment, and FIG. 7B is a diagram schematically showing an example of the profile held in the profile holding portion of the film forming apparatus. It is a figure which shows typically the target thickness profile to be held.

以下、各図面に示される同一または同等の構成要素、部材には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、各図面における部材の寸法は、理解を容易にするために適宜拡大、縮小して示される。また、各図面において実施の形態を説明する上で重要ではない部材の一部は省略して表示する。 Hereinafter, the same or equivalent components and members shown in the drawings shall be designated by the same reference numerals, and redundant description will be omitted as appropriate. In addition, the dimensions of the members in each drawing are shown enlarged or reduced as appropriate for easy understanding. In addition, some of the members that are not important for explaining the embodiment in each drawing are omitted and displayed.

実施の形態に係るフィルム成形装置を得るに至った経緯を説明する。
フィルム成形装置により成形されるフィルムには、通常、多少なりともフィルム厚のばらつきが生じる。このばらつきがフィルムとしての精度を満たすものであっても、巻取機でフィルムを巻き取ってフィルムロール体を形成するときに、そのばらつきが積み重なると、より詳しくは、フィルム厚の厚い部分同士がまたは薄い部分同士が積み重なると、フィルムロール体にこぶや凹みができる。フィルムロール体のこぶや凹みは、フィルムのひずみの原因となる。
The process leading to obtaining the film molding apparatus according to the embodiment will be described.
The film formed by the film forming apparatus usually has some variation in film thickness. Even if this variation satisfies the accuracy of the film, when the film is wound by a winder to form a film roll, if the variation is accumulated, more specifically, the thick portions of the film are formed. Alternatively, when thin parts are stacked on top of each other, humps and dents are formed on the film roll body. The humps and dents on the film roll cause distortion of the film.

従来では、ダイ装置から押し出される溶融樹脂の周方向の位置と、フィルムを巻き取るときに積み重なるフィルムの位置とを相対的に徐々にずらすことで、言い換えると、フィルムを捩ることで、フィルムロール体にこぶや凹みができるのを抑止していた。具体には、以下の1〜4の方法によりフィルムを捩り、フィルムロール体にこぶや凹みができるのを抑止していた。
1.巻取機のピンチ部を回転させてフィルムを捩る
2.巻取機のピンチ部と巻取機自体とを回転テーブルに載せて回転させることでフィルムを捩る
3.ダイ装置を回転させてフィルムを捩る
4.ダイ装置と押出機とを回転テーブルに載せて回転させることでフィルムを捩る
Conventionally, the position of the molten resin extruded from the die device in the circumferential direction and the position of the films to be stacked when the film is wound are relatively gradually shifted, in other words, the film is twisted to form a film roll. It prevented the formation of humps and dents. Specifically, the film was twisted by the following methods 1 to 4 to prevent humps and dents from being formed on the film roll body.
1. 1. Twist the film by rotating the pinch of the winder. 2. Twist the film by placing the pinch of the winder and the winder itself on a rotary table and rotating them. 4. Rotate the die device to twist the film. Twist the film by placing the die device and extruder on a rotary table and rotating them.

しかしながら、上記1、2の方法では、フィルムに傷がついたり、フィルムの折幅が変動したり、フィルムにしわやたるみが生じたりするトラブルが発生しうる。上記3の方法では、押出機からダイ装置へ供給される溶融樹脂の連結部を摺動させる必要があるため、溶融樹脂が漏れたり、耐久性が低下する問題がある。また、上記3の方法では、ダイ装置を中心軸に対して回転させるため、連結部も中心軸に沿って設置しなければならず、単層押出にしか適用できない。上記1〜4の方法では、回転設備が必要となり、コストが高くなる。また、装置の設置スペースが大きくなる。特に上記4の方法では、押出機およびダイ装置を回転させるため、回転設備が大がかりとなる。 However, in the above methods 1 and 2, troubles such as scratches on the film, fluctuations in the folding width of the film, and wrinkles and sagging of the film may occur. In the above method 3, since it is necessary to slide the connecting portion of the molten resin supplied from the extruder to the die device, there is a problem that the molten resin leaks or the durability is lowered. Further, in the above method 3, since the die device is rotated with respect to the central axis, the connecting portion must also be installed along the central axis, and is applicable only to single-layer extrusion. In the above methods 1 to 4, a rotating facility is required and the cost is high. In addition, the installation space of the device becomes large. In particular, in the above method 4, since the extruder and the die device are rotated, the rotating equipment becomes large-scale.

以上の知見から、本発明者は本実施の形態に係るフィルム成形装置を得るに至った。以下、具体的に説明する。 From the above findings, the present inventor has come to obtain the film molding apparatus according to the present embodiment. Hereinafter, a specific description will be given.

(第1の実施の形態)
図1は、第1の実施の形態に係るフィルム成形装置1の概略構成を示す。フィルム成形装置1は、チューブ状のフィルムを成形する。フィルム成形装置1は、ダイ装置2と、冷却装置3と、一対の安定板4と、一対のピンチロール5と、厚みセンサ6と、制御装置7と、巻取機20と、を備える。
(First Embodiment)
FIG. 1 shows a schematic configuration of the film molding apparatus 1 according to the first embodiment. The film forming apparatus 1 forms a tubular film. The film forming apparatus 1 includes a die apparatus 2, a cooling apparatus 3, a pair of stabilizers 4, a pair of pinch rolls 5, a thickness sensor 6, a control device 7, and a winder 20.

ダイ装置2は、押出機(不図示)より供給された溶融樹脂をチューブ状に成形する。ダイ装置2は特に、リング状のスリット18(図2で後述)から溶融樹脂を押し出すことにより、溶融樹脂をチューブ状に成形する。冷却装置3は、ダイ装置2の上方に配置される。冷却装置3は、ダイ装置2から押し出された溶融樹脂に対して外側から冷却風を吹き付ける。溶融樹脂は冷却され、フィルムが成形される。 The die device 2 forms a molten resin supplied from an extruder (not shown) into a tube shape. The die device 2 particularly forms the molten resin into a tube shape by extruding the molten resin from a ring-shaped slit 18 (described later in FIG. 2). The cooling device 3 is arranged above the die device 2. The cooling device 3 blows cooling air from the outside onto the molten resin extruded from the die device 2. The molten resin is cooled and a film is formed.

一対の安定板4は、冷却装置3の上方に配置され、成形されたフィルムを一対のピンチロール5の間に案内する。ピンチロール5は、安定板4の上方に配置され、案内されたフィルムを引っ張り上げながら扁平に折りたたむ。巻取機20は、折りたたまれたフィルムを巻き取り、フィルムロール体11を形成する。 The pair of stabilizers 4 are arranged above the cooling device 3 and guide the molded film between the pair of pinch rolls 5. The pinch roll 5 is arranged above the stabilizer 4 and folds flat while pulling up the guided film. The winder 20 winds the folded film to form the film roll body 11.

厚みセンサ6は、冷却装置3と安定板4との間に配置される。厚みセンサ6は、チューブ状のフィルムの周りを周りながら、周方向の各位置におけるフィルム厚を継続的に測定する。すなわち、厚みセンサ6は、周方向におけるフィルムの厚みプロファイルを継続的に測定する。厚みセンサ6は、測定した厚みプロファイルを制御装置7に送る。なお、厚みセンサ6は、2周以上の測定結果を平均した厚みプロファイルを制御装置7に送ってもよい。制御装置7は、厚みセンサ6から受け付けた厚みプロファイルに応じた制御指令をダイ装置2に送る。ダイ装置2は、この制御指令を受けて、厚みのばらつきが小さくなるようスリット18(特にその吐出口)の幅を調節する。 The thickness sensor 6 is arranged between the cooling device 3 and the stabilizer 4. The thickness sensor 6 continuously measures the film thickness at each position in the circumferential direction while rotating around the tubular film. That is, the thickness sensor 6 continuously measures the thickness profile of the film in the circumferential direction. The thickness sensor 6 sends the measured thickness profile to the control device 7. The thickness sensor 6 may send a thickness profile obtained by averaging the measurement results of two or more turns to the control device 7. The control device 7 sends a control command according to the thickness profile received from the thickness sensor 6 to the die device 2. In response to this control command, the die device 2 adjusts the width of the slit 18 (particularly its discharge port) so that the variation in thickness becomes small.

図2は、ダイ装置2および冷却装置3とその周辺を示す断面図である。図3は、ダイ装置2の上面図である。図3では、冷却装置3の表示を省略している FIG. 2 is a cross-sectional view showing the die device 2 and the cooling device 3 and their surroundings. FIG. 3 is a top view of the die device 2. In FIG. 3, the display of the cooling device 3 is omitted.

冷却装置3は、エアーリング8と、環状の整流部材9と、を備える。エアーリング8は、内周部が下方に凹んだリング状の筐体である。エアーリング8の内周部には、上側に開口したリング状の吹出口8aが形成されている。吹出口8aは特に、中心軸Aを中心とするリング状のスリット18と同心となるよう形成される。 The cooling device 3 includes an air ring 8 and an annular rectifying member 9. The air ring 8 is a ring-shaped housing having an inner peripheral portion recessed downward. A ring-shaped outlet 8a opened on the upper side is formed on the inner peripheral portion of the air ring 8. The outlet 8a is formed so as to be concentric with the ring-shaped slit 18 centered on the central axis A.

なお、以降では、中心軸Aと平行な方向を軸方向とし、中心軸Aに垂直な平面上で中心軸Aを通る任意の方向を径方向とし、径方向において中心軸Aに近い側を内周側、中心軸Aから遠い方を外周側とし、中心軸Aに垂直な平面上において中心軸Aを中心とする円の円周に沿った方向を周方向として説明する。 In the following, the direction parallel to the central axis A will be the axial direction, the arbitrary direction passing through the central axis A on the plane perpendicular to the central axis A will be the radial direction, and the side close to the central axis A in the radial direction will be inside. The circumferential side and the side far from the central axis A will be the outer peripheral side, and the direction along the circumference of the circle centered on the central axis A on the plane perpendicular to the central axis A will be described as the circumferential direction.

エアーリング8の外周部には、複数のホース口8bが周方向に等間隔で形成されている。複数のホース口8bのそれぞれにはホース(不図示)が接続され、このホースを介してブロワー(不図示)からエアーリング8内に冷却風が送り込まれる。エアーリング8内送り込まれた冷却風は、吹出口8aから吹き出て溶融樹脂に吹き付けられる。 A plurality of hose ports 8b are formed on the outer peripheral portion of the air ring 8 at equal intervals in the circumferential direction. A hose (not shown) is connected to each of the plurality of hose ports 8b, and cooling air is sent into the air ring 8 from a blower (not shown) through the hose. The cooling air sent into the air ring 8 is blown out from the air outlet 8a and blown onto the molten resin.

整流部材9は、吹出口8aを取り囲むようエアーリング8内に配置される。整流部材9は、エアーリング8内に送り込まれた冷却風を整流する。これにより、冷却風は、周方向において均一な流量、風速で、吹出口8aから吹き出る。 The rectifying member 9 is arranged in the air ring 8 so as to surround the air outlet 8a. The rectifying member 9 rectifies the cooling air sent into the air ring 8. As a result, the cooling air is blown out from the outlet 8a at a uniform flow rate and wind speed in the circumferential direction.

ダイ装置2は、ダイ本体10と、内周部材12と、外周部材14と、複数(ここでは32個)の調節部16と、を備える。内周部材12は、ダイ本体10の上面に載置される略円柱状の部材である。外周部材14は、環状の部材であり、内周部材12を環囲する。内周部材12と外周部材14との間には、リング状に上下方向に延びるスリット18が形成される。このスリット18を溶融樹脂が上側に向かって流れ、スリット18の吐出口(すなわち上端開口)18aから溶融樹脂が押し出され、冷却装置3に冷却され、吐出口18aの幅に応じた厚さのフィルムが形成される。 The die device 2 includes a die main body 10, an inner peripheral member 12, an outer peripheral member 14, and a plurality of (32 in this case) adjusting portions 16. The inner peripheral member 12 is a substantially columnar member mounted on the upper surface of the die body 10. The outer peripheral member 14 is an annular member and surrounds the inner peripheral member 12. A slit 18 extending in the vertical direction in a ring shape is formed between the inner peripheral member 12 and the outer peripheral member 14. The molten resin flows upward through the slit 18, the molten resin is extruded from the discharge port (that is, the upper end opening) 18a of the slit 18, cooled by the cooling device 3, and a film having a thickness corresponding to the width of the discharge port 18a. Is formed.

複数の調節部16は、外周部材14の上端側を囲むように周方向にほぼ隙間なく配置される。調節部16は特に、片持ち状に外周部材14に取り付けられる。複数の調節部16の上方には冷却装置3が固定される。複数の調節部16はそれぞれ、外周部材14に径方向内向きの押圧荷重または径方向外向きの引張荷重を付与できるよう構成される。外周部材14は、押圧荷重または引張荷重が付与されることによって弾性変形する。したがって、複数の調節部16を調節することによって、吐出口18aの幅を周方向で部分的に調整でき、フィルムの厚さを周方向で部分的に制御できる。フィルムに厚みのばらつきが生じている場合、例えば、肉厚が薄い部分に対応する(例えば肉厚が薄い部分の下方に位置する)調節部16から外周部材14に引張荷重を付与させ、肉厚が薄い部分の下方の吐出口18aの間隙を大きくする。これにより、フィルム厚みのばらつきが小さくなる。 The plurality of adjusting portions 16 are arranged so as to surround the upper end side of the outer peripheral member 14 with almost no gap in the circumferential direction. The adjusting portion 16 is particularly cantileverly attached to the outer peripheral member 14. A cooling device 3 is fixed above the plurality of adjusting portions 16. Each of the plurality of adjusting portions 16 is configured to be able to apply a radial inward pressing load or a radial outward tensile load to the outer peripheral member 14. The outer peripheral member 14 is elastically deformed by applying a pressing load or a tensile load. Therefore, by adjusting the plurality of adjusting portions 16, the width of the discharge port 18a can be partially adjusted in the circumferential direction, and the thickness of the film can be partially controlled in the circumferential direction. When the thickness of the film varies, for example, a tensile load is applied to the outer peripheral member 14 from the adjusting portion 16 corresponding to the thin portion (for example, located below the thin portion) to apply the tensile load to the thin portion. The gap of the discharge port 18a below the thin portion is increased. As a result, the variation in film thickness is reduced.

調節部16は、一例としては図2に示すように、回動軸32を支点として支持され、アクチュエータ24の回転力を受けるレバー34と、ダイ装置2により軸線方向に変位可能に支持され、レバー34の作用点に支持された作動ロッド36と、含む。そして、レバー34の回転力が作動ロッド36の軸線方向の力に変換され、その軸線方向の力が内周部材12または外周部材14に対する荷重となり、レバー34がレバー34の作用点において作動ロッド36に直接力を付与する。 As an example, as shown in FIG. 2, the adjusting unit 16 is supported by a rotating shaft 32 as a fulcrum, and is supported by a lever 34 that receives the rotational force of the actuator 24 and a die device 2 that is displaceable in the axial direction. Includes an actuating rod 36 supported at 34 points of action. Then, the rotational force of the lever 34 is converted into a force in the axial direction of the operating rod 36, and the force in the axial direction becomes a load on the inner peripheral member 12 or the outer peripheral member 14, and the lever 34 becomes the operating rod 36 at the point of action of the lever 34. Gives power directly to.

図4は、制御装置7の機能および構成を模式的に示すブロック図である。ここに示す各ブロックは、ハードウェア的には、コンピュータのCPUをはじめとする素子や機械装置で実現でき、ソフトウェア的にはコンピュータプログラム等によって実現されるが、ここでは、それらの連携によって実現される機能ブロックを描いている。したがって、これらの機能ブロックはハードウェア、ソフトウェアの組合せによっていろいろなかたちで実現できることは、当業者には理解されるところである。 FIG. 4 is a block diagram schematically showing the functions and configurations of the control device 7. Each block shown here can be realized by elements such as the CPU of a computer or a mechanical device in terms of hardware, and can be realized by a computer program or the like in terms of software, but here, it is realized by their cooperation. The functional block is drawn. Therefore, it is understood by those skilled in the art that these functional blocks can be realized in various forms by combining hardware and software.

制御装置7は、取得部80と、プロファイル保持部81と、目標プロファイル生成部82と、目標プロファイル保持部83と、調節部制御部84と、を含む。取得部80は、厚みセンサ6による測定結果、すなわち周方向におけるフィルムの厚みプロファイルを取得する。 The control device 7 includes an acquisition unit 80, a profile holding unit 81, a target profile generation unit 82, a target profile holding unit 83, and an adjusting unit control unit 84. The acquisition unit 80 acquires the measurement result by the thickness sensor 6, that is, the thickness profile of the film in the circumferential direction.

プロファイル保持部81は、取得部80により取得された厚みプロファイルを保持する。目標プロファイル保持部83は、後述するように目標プロファイル生成部82により生成される目標厚みプロファイルを保持する。 The profile holding unit 81 holds the thickness profile acquired by the acquisition unit 80. The target profile holding unit 83 holds the target thickness profile generated by the target profile generating unit 82 as described later.

図5(a)は、プロファイル保持部81に保持されるプロファイルの一例を模式的に示す図であり、図5(b)は、目標プロファイル保持部83に保持される目標厚みプロファイルを模式的に示す図である。図5(a)、(b)において、横軸は周方向の角度位置を示し、縦軸はフィルム厚を示す。一点鎖線のライン90は、ユーザによって設定された理想的なフィルム厚である基準フィルム厚を示す。二点鎖線のライン92は、基準フィルム厚に基づいて定まる許容厚さ範囲を示す。 FIG. 5A is a diagram schematically showing an example of a profile held by the profile holding unit 81, and FIG. 5B is a diagram schematically showing a target thickness profile held by the target profile holding unit 83. It is a figure which shows. In FIGS. 5A and 5B, the horizontal axis represents the angular position in the circumferential direction, and the vertical axis represents the film thickness. The alternate long and short dash line 90 indicates a reference film thickness, which is an ideal film thickness set by the user. Line 92 of the alternate long and short dash line indicates an allowable thickness range determined based on the reference film thickness.

目標プロファイル生成部82は、目標厚みプロファイルを生成する。後述するように、厚みプロファイルが許容厚さ範囲内に収まるまでは、基準フィルム厚がフィルム厚の目標である目標厚みプロファイルとされ、目標厚みプロファイルとして基準フィルム厚に近づくようダイ装置2が制御される。厚みプロファイルが許容厚さ範囲内に収まってからは、目標プロファイル生成部82によって生成された目標厚みプロファイルに近づくようダイ装置2が制御される。ここで、厚みプロファイルが許容厚さ範囲内に収まってからも基準フィルム厚に近づくようダイ装置2を制御すれば、フィルム厚を許容厚さ範囲内に維持できる。しかしながら、フィルムには、多少なりともフィルム厚のばらつきが含まれる。そのため、フィルム厚が許容厚さ範囲内に維持されても、フィルムロール体11にこぶや凹みができうる。そこで本実施の形態では、目標プロファイル生成部82は、厚みプロファイルが許容厚さ範囲内に収まってからは、フィルムロール体11にこぶや凹みができないように、すなわちフィルムロール体11の厚みが幅方向で均一になるように、目標厚みプロファイルを変化させる。 The target profile generation unit 82 generates a target thickness profile. As will be described later, until the thickness profile falls within the allowable thickness range, the reference film thickness is set as the target thickness profile which is the target of the film thickness, and the die device 2 is controlled so as to approach the reference film thickness as the target thickness profile. To. After the thickness profile falls within the allowable thickness range, the die device 2 is controlled so as to approach the target thickness profile generated by the target profile generation unit 82. Here, if the die device 2 is controlled so that the thickness profile approaches the reference film thickness even after the thickness profile falls within the allowable thickness range, the film thickness can be maintained within the allowable thickness range. However, the film contains some variation in film thickness. Therefore, even if the film thickness is maintained within the allowable thickness range, humps and dents can be formed in the film roll body 11. Therefore, in the present embodiment, the target profile generation unit 82 prevents the film roll body 11 from having humps or dents after the thickness profile is within the allowable thickness range, that is, the thickness of the film roll body 11 is wide. Change the target thickness profile so that it is uniform in the direction.

詳しくは、目標プロファイル生成部82は、フィルム厚が基準フィルム厚よりも厚い位置については基準フィルム厚よりもフィルム厚を薄くし、フィルム厚が基準フィルム厚よりも薄い位置については基準フィルム厚よりもフィルム厚を厚くしたプロファイルを目標厚みプロファイルとして設定する(図5(a)、(b)参照)。目標プロファイル生成部82は、本実施の形態では、測定された厚みプロファイル(プロファイル保持部81に保持される厚みプロファイル)を基準フィルム厚に対して反転させたプロファイルを目標厚みプロファイルとして生成する。 Specifically, the target profile generation unit 82 makes the film thickness thinner than the reference film thickness at the position where the film thickness is thicker than the reference film thickness, and is smaller than the reference film thickness at the position where the film thickness is thinner than the reference film thickness. A profile with a thicker film is set as a target thickness profile (see FIGS. 5A and 5B). In the present embodiment, the target profile generation unit 82 generates a profile obtained by reversing the measured thickness profile (thickness profile held by the profile holding unit 81) with respect to the reference film thickness as the target thickness profile.

図4に戻り、調節部制御部84は、基準フィルム厚と、目標プロファイル保持部83に保持される目標厚みプロファイルとに基づいて複数の調節部16を制御する。調節部制御部84は、まず、目標厚みプロファイルとしての基準フィルム厚に基づいて複数の調節部16を制御し、フィルム厚が許容厚さ範囲内に収まると、測定された厚みプロファイルに基づいて生成された目標厚みプロファイル、すなわち目標プロファイル保持部83に保持される目標厚みプロファイルに基づいて複数の調節部16を制御する。 Returning to FIG. 4, the adjusting unit control unit 84 controls a plurality of adjusting units 16 based on the reference film thickness and the target thickness profile held by the target profile holding unit 83. The adjusting unit control unit 84 first controls a plurality of adjusting units 16 based on the reference film thickness as the target thickness profile, and when the film thickness falls within the allowable thickness range, it is generated based on the measured thickness profile. The plurality of adjusting units 16 are controlled based on the target thickness profile, that is, the target thickness profile held by the target profile holding unit 83.

詳しくは、調節部制御部84は、目標厚みプロファイル(すなわち基準フィルム厚または目標プロファイル保持部83に保持される目標厚みプロファイル)を参照して、測定されたフィルム厚が目標厚みプロファイルを上回っている(すなわち肉厚が厚い)周方向の部分に対応する調節部16には、目標厚みプロファイルとの差異に応じた押圧荷重を外周部材14に付与するよう制御指令を送信する。これにより、対応する吐出口18aの部分の径方向の隙間が狭くなり、対応する部分のフィルム厚が薄くなり、目標厚みプロファイルに近づく。また、調節部制御部84は、フィルム厚が目標厚みプロファイルを下回っている(すなわち肉厚が薄い)周方向の部分に対応する調節部16には、目標厚みプロファイルとの差異に応じた引張荷重を外周部材14に付与するよう制御指令を送信する。これにより、対応する吐出口18aの部分の径方向の隙間が広くなり、対応する部分のフィルム厚が厚くなり、目標厚みプロファイルに近づく。 Specifically, the adjusting unit control unit 84 refers to the target thickness profile (that is, the reference film thickness or the target thickness profile held by the target profile holding unit 83), and the measured film thickness exceeds the target thickness profile. A control command is transmitted to the adjusting unit 16 corresponding to the portion in the circumferential direction (that is, the wall thickness is thick) so as to apply a pressing load corresponding to the difference from the target thickness profile to the outer peripheral member 14. As a result, the radial gap of the corresponding discharge port 18a is narrowed, the film thickness of the corresponding portion is thinned, and the target thickness profile is approached. Further, in the adjusting unit control unit 84, the adjusting unit 16 corresponding to the portion in the circumferential direction in which the film thickness is less than the target thickness profile (that is, the wall thickness is thin) is subjected to a tensile load according to the difference from the target thickness profile. Is transmitted to the outer peripheral member 14. As a result, the radial gap of the corresponding discharge port 18a becomes wider, the film thickness of the corresponding portion becomes thicker, and the target thickness profile is approached.

以上のように構成されたフィルム成形装置1の動作を説明する。
図6は、フィルム成形装置1の処理を示すフローチャートである。図6に示す処理は、一定間隔ごとに繰り返し実行されるループ処理である。例えば、厚みセンサ6が5周分の測定結果を平均した厚みプロファイルを測定する場合、厚みセンサ6がフィルムの周りを5周するのに要する時間ごとに繰り返し実行すればよい。
The operation of the film forming apparatus 1 configured as described above will be described.
FIG. 6 is a flowchart showing the processing of the film forming apparatus 1. The process shown in FIG. 6 is a loop process that is repeatedly executed at regular intervals. For example, when the thickness sensor 6 measures the thickness profile obtained by averaging the measurement results for five laps, the thickness sensor 6 may be repeatedly executed every time required for the thickness sensor 6 to make five laps around the film.

厚みセンサ6は、周方向におけるフィルムの厚みプロファイルを測定する(S10)。フィルム厚が基準フィルム厚に基づく許容厚さ範囲に収まっていない場合(S12のN)、制御装置7は、フィルム厚が目標厚みプロファイルとしての基準フィルム厚に近づくよう基準フィルム厚に基づいてダイ装置2を制御する(S14)。フィルム厚が許容厚さ範囲に収まると(S12のY)、制御装置7は、測定された厚みプロファイルに基づいて生成された目標厚みプロファイル、すなわち測定された厚みプロファイルを基準フィルム厚に対して反転させた目標厚みプロファイルを生成し(S16)、フィルム厚が生成された目標厚みプロファイルに近づくよう生成された目標厚みプロファイルに基づいてダイ装置2を制御する(S18)。 The thickness sensor 6 measures the thickness profile of the film in the circumferential direction (S10). If the film thickness is not within the permissible thickness range based on the reference film thickness (N in S12), the control device 7 is a die device based on the reference film thickness so that the film thickness approaches the reference film thickness as the target thickness profile. 2 is controlled (S14). When the film thickness falls within the allowable thickness range (Y in S12), the control device 7 inverts the target thickness profile generated based on the measured thickness profile, that is, the measured thickness profile with respect to the reference film thickness. A generated target thickness profile is generated (S16), and the die device 2 is controlled based on the generated target thickness profile so that the film thickness approaches the generated target thickness profile (S18).

以上、説明した本実施の形態に係るフィルム成形装置1によると、所定のタイミングごとに、フィルムの厚みプロファイルが基準フィルム厚に対して反転する。これにより、フィルムロール体11を形成するときに、基準フィルム厚よりも厚い部分と基準フィルム厚よりも薄い部分とが積み重なって平均化されるため、フィルムロール体11の厚みは幅方向で均一となる。したがって、従来のようにフィルムを捩らずとも、フィルムロール体11のこぶや凹みが少なくあるいは小さくできる。 According to the film forming apparatus 1 according to the present embodiment described above, the thickness profile of the film is inverted with respect to the reference film thickness at predetermined timing intervals. As a result, when the film roll body 11 is formed, the portion thicker than the reference film thickness and the portion thinner than the reference film thickness are stacked and averaged, so that the thickness of the film roll body 11 is uniform in the width direction. Become. Therefore, the humps and dents of the film roll body 11 can be reduced or reduced without twisting the film as in the conventional case.

(第2の実施の形態)
第2の実施の形態に係るフィルム成形装置と第1の実施の形態に係るフィルム成形装置1との主な違いは、目標厚みプロファイルの生成方法である。
(Second Embodiment)
The main difference between the film forming apparatus according to the second embodiment and the film forming apparatus 1 according to the first embodiment is the method of generating the target thickness profile.

本実施の形態では、目標プロファイル生成部82は、測定された厚みプロファイル(プロファイル保持部81に保持される厚みプロファイル)を複数の区間プロファイルに分割し、分割された複数の区間プロファイルのそれぞれを他の区間の目標厚みプロファイルとして設定する。 In the present embodiment, the target profile generation unit 82 divides the measured thickness profile (thickness profile held by the profile holding unit 81) into a plurality of section profiles, and each of the divided plurality of section profiles is different from the other. Set as the target thickness profile for the section of.

図7(a)は、プロファイル保持部81に保持されるプロファイルの一例を模式的に示す図であり、図7(b)は、目標プロファイル保持部83に保持される目標厚みプロファイルを模式的に示す図である。 FIG. 7A is a diagram schematically showing an example of a profile held by the profile holding unit 81, and FIG. 7B is a diagram schematically showing a target thickness profile held by the target profile holding unit 83. It is a figure which shows.

この例では、厚みプロファイルを0°〜90°、90°〜180°、180°〜270°、270°〜360°の4つの区間プロファイルに分割し、0°〜90°の区間プロファイルを90°〜180°の目標厚みプロファイルとし、90°〜180°の区間プロファイルを180°〜270°の目標厚みプロファイルとし、180°〜270°の区間プロファイルを270°〜360°の目標厚みプロファイルとし、270°〜360°の区間プロファイルを0°〜90°の目標厚みプロファイルとする。つまり、測定された厚みプロファイルの位相を90°ずらしたものが目標厚みプロファイルとなる。この場合、目標プロファイル生成部82は、図6に示す処理が繰り返し実行されるたびに、厚みプロファイルの位相を90°ずつずらして目標厚みプロファイルを生成する。 In this example, the thickness profile is divided into four section profiles of 0 ° to 90 °, 90 ° to 180 °, 180 ° to 270 °, 270 ° to 360 °, and the section profile of 0 ° to 90 ° is 90 °. A target thickness profile of ~ 180 °, a section profile of 90 ° to 180 ° is a target thickness profile of 180 ° to 270 °, and a section profile of 180 ° to 270 ° is a target thickness profile of 270 ° to 360 °. Let the section profile of ° to 360 ° be the target thickness profile of 0 ° to 90 °. That is, the target thickness profile is obtained by shifting the phase of the measured thickness profile by 90 °. In this case, the target profile generation unit 82 generates the target thickness profile by shifting the phase of the thickness profile by 90 ° each time the process shown in FIG. 6 is repeatedly executed.

本実施の形態に係るフィルム成形装置によると、第1の実施の形態に係るフィルム成形装置1によって奏される作用効果と同様の作用効果が奏される。 According to the film molding apparatus according to the present embodiment, the same effects as those exerted by the film molding apparatus 1 according to the first embodiment are exhibited.

(第3の実施の形態)
第3の実施の形態に係るフィルム成形装置と第1の実施の形態に係るフィルム成形装置との主な違いは、調節部制御部は、フィルム厚が許容厚さ範囲内に収まっているときも、基本的には基準フィルムに基づいて複数の調節部16を制御することである。
(Third Embodiment)
The main difference between the film forming apparatus according to the third embodiment and the film forming apparatus according to the first embodiment is that the control unit of the adjusting unit controls the film thickness even when the film thickness is within the allowable thickness range. Basically, the plurality of adjusting units 16 are controlled based on the reference film.

本実施の形態では、目標プロファイル生成部82は、第1の実施の形態と同様に、測定されたフィルム厚が基準フィルム厚よりも厚い位置については基準フィルム厚よりもフィルム厚を薄くし、測定されたフィルム厚が基準フィルム厚よりも薄い位置については基準フィルム厚よりもフィルム厚を厚くしたプロファイルを目標プロファイルとして設定する(図5(a)、(b)参照)。 In the present embodiment, the target profile generation unit 82 measures by making the film thickness thinner than the reference film thickness at the position where the measured film thickness is thicker than the reference film thickness, as in the first embodiment. For the position where the film thickness is thinner than the reference film thickness, a profile having a film thickness thicker than the reference film thickness is set as a target profile (see FIGS. 5A and 5B).

調節部制御部84は、第1の実施の形態とは異なり、基本的には基準フィルム厚に基づいて複数の調節部16を制御する。すなわち、調節部制御部84は、まず、目標厚みプロファイルとしての基準フィルム厚に基づいて複数の調節部16を制御し、フィルム厚が許容厚さ範囲内に収まってからも、基準フィルム厚に基づいて複数の調節部16を制御する。ただし、調節部制御部84は、フィルム厚が許容厚さ範囲内に収まると、任意のタイミングで、一時的に、目標プロファイル生成部82により生成された目標厚みプロファイルに基づいて調節部16を制御する。 Unlike the first embodiment, the adjusting unit control unit 84 basically controls a plurality of adjusting units 16 based on the reference film thickness. That is, the adjusting unit control unit 84 first controls a plurality of adjusting units 16 based on the reference film thickness as the target thickness profile, and even after the film thickness falls within the allowable thickness range, it is based on the reference film thickness. Controls a plurality of adjusting units 16. However, when the film thickness falls within the allowable thickness range, the adjustment unit control unit 84 temporarily controls the adjustment unit 16 based on the target thickness profile generated by the target profile generation unit 82 at an arbitrary timing. To do.

つまり、本実施の形態では、基本的にはフィルム厚が基準フィルム厚に近づくよう複数の調節部16を制御する。ただし、基準フィルム厚よりも厚いフィルムの部分に対して、任意のタイミングで一時的にフィルム厚が基準フィルム厚よりも薄くなるよう複数の調節部16を制御する。また、基準フィルム厚よりも薄いフィルムの部分に対して、任意のタイミングで一時的にフィルム厚が基準フィルム厚よりも厚くなるよう複数の調節部16を制御する。 That is, in the present embodiment, the plurality of adjusting units 16 are basically controlled so that the film thickness approaches the reference film thickness. However, with respect to the portion of the film thicker than the reference film thickness, the plurality of adjusting units 16 are controlled so that the film thickness is temporarily thinner than the reference film thickness at an arbitrary timing. Further, with respect to a portion of the film thinner than the reference film thickness, a plurality of adjusting units 16 are controlled so that the film thickness is temporarily thicker than the reference film thickness at an arbitrary timing.

本実施の形態に係るフィルム成形装置によると、第1の実施の形態に係るフィルム成形装置1によって奏される作用効果と同様の作用効果が奏される。 According to the film molding apparatus according to the present embodiment, the same effects as those exerted by the film molding apparatus 1 according to the first embodiment are exhibited.

なお、フィルム厚が許容厚さ範囲内に収まってからも基準フィルム厚に基づいて複数の調節部16をしつつも、任意のタイミングで、一時的に、周方向の各位置における目標のフィルム厚をそれぞれ所定の範囲内の任意の厚みに変更してもよい。この場合、目標プロファイル生成部82による目標プロファイルの生成は不要となる。 Even after the film thickness falls within the permissible thickness range, the target film thickness at each position in the circumferential direction is temporarily performed at an arbitrary timing while performing the plurality of adjusting portions 16 based on the reference film thickness. May be changed to any thickness within a predetermined range. In this case, it is not necessary for the target profile generation unit 82 to generate the target profile.

以上、実施の形態に係るフィルム成形装置の構成と動作ついて説明した。これらの実施の形態は例示であり、それらの各構成要素の組み合わせにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。 The configuration and operation of the film molding apparatus according to the embodiment have been described above. It will be appreciated by those skilled in the art that these embodiments are exemplary and that various modifications are possible in the combination of their respective components, and that such modifications are also within the scope of the present invention.

(変形例1)
第2の実施の形態では、目標プロファイル生成部82が厚みプロファイルを90°位相をずらして目標厚みプロファイルを生成する場合について説明したが、これに限られない。目標プロファイル生成部82は、たとえば、30°ずつ、45°ずつ、60°ずつ、120°ずつ、またはその他の所定の角度ずつ位相をずらして目標厚みプロファイルを生成してもよい。
(Modification example 1)
In the second embodiment, the case where the target profile generation unit 82 generates the target thickness profile by shifting the phase of the thickness profile by 90 ° has been described, but the present invention is not limited to this. The target profile generation unit 82 may generate the target thickness profile by shifting the phase by, for example, 30 °, 45 °, 60 °, 120 °, or other predetermined angle.

また、第2の実施の形態では、目標プロファイル生成部82が厚みプロファイルを90°位相をずらす、すなわち4つに分割した区間プロファイルのそれぞれをスライドさせて隣接する区間の目標厚みプロファイルとする場合について説明したが、これに限られない。分割した区間プロファイルは、任意の区間の目標厚みプロファイルに設定できる。また、厚みプロファイルを、2つ、3つ、または5つ以上の区間プロファイルに分割してもよい。 Further, in the second embodiment, the target profile generation unit 82 shifts the thickness profile by 90 ° in phase, that is, slides each of the section profiles divided into four to obtain the target thickness profile of the adjacent section. I explained, but it is not limited to this. The divided section profile can be set as the target thickness profile of any section. Further, the thickness profile may be divided into two, three, or five or more section profiles.

(変形例2)
第1〜3の実施の形態では、調節部16によりスリット18の吐出口18aの径方向の隙間を広くしたり狭くしたりすることにより、フィルム厚を周方向で部分的に変更させてフィルムの厚みプロファイルを変化させる場合について説明したが、これに限られない。冷却装置3から吹き出る冷却風の風量および風温の少なくとも一方を周方向で部分的に変化させることにより、フィルム厚を周方向で部分的に変化させてフィルムの厚みプロファイルを変化させてもよい。この場合、冷却装置3は、エアーリング8内に、風量を調節するための複数のバルブや、複数のヒータを備えてもよい。
(Modification 2)
In the first to third embodiments, the film thickness is partially changed in the circumferential direction by widening or narrowing the radial gap of the discharge port 18a of the slit 18 by the adjusting portion 16. The case where the thickness profile is changed has been described, but the present invention is not limited to this. The film thickness may be partially changed in the circumferential direction to change the thickness profile of the film by partially changing at least one of the air volume and the air temperature of the cooling air blown out from the cooling device 3 in the circumferential direction. In this case, the cooling device 3 may include a plurality of valves for adjusting the air volume and a plurality of heaters in the air ring 8.

(変形例3)
第1〜3の実施の形態では、ダイ装置2が吐出口18aが環状であるいわゆる丸ダイである場合について説明したが、これに限られない。実施の形態の技術思想は、吐出口が直線状であるいわゆるTダイにも適用できる。
(Modification 3)
In the first to third embodiments, the case where the die device 2 is a so-called round die in which the discharge port 18a is annular has been described, but the present invention is not limited to this. The technical idea of the embodiment can also be applied to a so-called T-die having a linear discharge port.

上述した実施の形態および変形例の任意の組み合わせもまた本発明の実施の形態として有用である。組み合わせによって生じる新たな実施の形態は、組み合わされる実施の形態および変形例それぞれの効果をあわせもつ。 Any combination of the embodiments and modifications described above is also useful as an embodiment of the present invention. The new embodiments resulting from the combination have the effects of the combined embodiments and variants.

1 フィルム成形装置、 2 ダイ装置、 3 冷却装置、 6 厚みセンサ、 7 制御装置、 16 調節部、 82 目標プロファイル生成部、 84 調節部制御部。 1 film forming device, 2 die device, 3 cooling device, 6 thickness sensor, 7 control device, 16 adjustment unit, 82 target profile generator, 84 adjustment unit control unit.

Claims (5)

チューブ状に溶融樹脂を押し出してフィルムを成形するダイ装置と、
所定方向におけるフィルムの厚みプロファイルを測定する測定部と、
フィルムの厚みプロファイルを変化させるための調節手段と、
厚みプロファイルが目標厚みプロファイルに近づくよう前記調節手段を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、測定された厚みプロファイルに基づいて、目標厚みプロファイルを変化させることを特徴とするフィルム成形装置。
A die device that extrudes molten resin into a tube to form a film,
A measuring unit that measures the thickness profile of the film in a predetermined direction,
Adjustment means for changing the thickness profile of the film,
A control device for controlling the adjusting means so that the thickness profile approaches the target thickness profile is provided.
The control device is a film forming device that changes a target thickness profile based on a measured thickness profile.
前記制御装置は、測定されたフィルム厚が所定の基準フィルム厚よりも厚い位置については基準フィルム厚よりもフィルム厚を薄くし、測定されたフィルム厚が基準フィルム厚よりも薄い位置については基準フィルム厚よりもフィルム厚を厚くしたプロファイルを目標プロファイルとして設定することを特徴とする請求項1に記載のフィルム成形装置。 The control device makes the film thickness thinner than the reference film thickness at the position where the measured film thickness is thicker than the predetermined reference film thickness, and the reference film at the position where the measured film thickness is thinner than the reference film thickness. The film forming apparatus according to claim 1, wherein a profile having a film thickness thicker than the thickness is set as a target profile. 前記制御装置は、測定された厚みプロファイルを基準フィルム厚に対して反転させたプロファイルを目標厚みプロファイルとして設定することを特徴とする請求項2に記載のフィルム成形装置。 The film forming apparatus according to claim 2, wherein the control device sets a profile obtained by reversing the measured thickness profile with respect to the reference film thickness as a target thickness profile. 前記制御装置は、測定された厚みプロファイルを複数の区間プロファイルに分割し、分割された複数の区間プロファイルのうちの一の区間プロファイルに基づいて、他の区間の目標厚みプロファイルを変化させることを特徴とする請求項1に記載のフィルム成形装置。 The control device is characterized in that the measured thickness profile is divided into a plurality of section profiles, and the target thickness profile of the other section is changed based on the section profile of one of the divided section profiles. The film forming apparatus according to claim 1. チューブ状に溶融樹脂を押し出してフィルムを成形するダイ装置と、
所定方向の各位置におけるフィルム厚を測定する測定部と、
各位置におけるフィルム厚を変化させるための調節手段と、
各位置におけるフィルム厚が、基準フィルム厚に近づくよう前記調節手段を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、基準フィルム厚よりも厚いフィルムの部分に対して、任意のタイミングで、一時的にフィルム厚が基準フィルム厚よりも薄くなるよう前記調節手段を制御し、基準フィルム厚よりも薄いフィルムの部分に対して、任意のタイミングで、一時的にフィルム厚が基準フィルム厚よりも厚くなるよう前記調節手段を制御することを特徴とするフィルム成形装置。
A die device that extrudes molten resin into a tube to form a film,
A measuring unit that measures the film thickness at each position in a predetermined direction,
Adjusting means for changing the film thickness at each position,
A control device for controlling the adjusting means so that the film thickness at each position approaches the reference film thickness is provided.
The control device controls the adjusting means so that the film thickness is temporarily thinner than the reference film thickness at an arbitrary timing with respect to the portion of the film thicker than the reference film thickness, and is thinner than the reference film thickness. A film forming apparatus characterized in that the adjusting means is controlled so that the film thickness temporarily becomes thicker than the reference film thickness with respect to a film portion at an arbitrary timing.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08276491A (en) * 1995-04-07 1996-10-22 Toshiba Mach Co Ltd Automatic film profile control method not generating winding protuberance
JPH09225995A (en) * 1996-02-23 1997-09-02 Tomy Kikai Kogyo Kk Uneventhickness-adjusting method for resin film in extrusion molding and resin film-molding device
JP2001313072A (en) * 2000-04-28 2001-11-09 Ube Ind Ltd Electrolyte for lithium secondary cell and lithium secondary cell using it
JP2005186377A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Sun A Kaken Co Ltd Film thickness controlling method
JP2013240897A (en) * 2012-05-18 2013-12-05 Sumitomo Chemical Co Ltd Method of manufacturing film roll

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08276491A (en) * 1995-04-07 1996-10-22 Toshiba Mach Co Ltd Automatic film profile control method not generating winding protuberance
JPH09225995A (en) * 1996-02-23 1997-09-02 Tomy Kikai Kogyo Kk Uneventhickness-adjusting method for resin film in extrusion molding and resin film-molding device
JP2001313072A (en) * 2000-04-28 2001-11-09 Ube Ind Ltd Electrolyte for lithium secondary cell and lithium secondary cell using it
JP2005186377A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Sun A Kaken Co Ltd Film thickness controlling method
JP2013240897A (en) * 2012-05-18 2013-12-05 Sumitomo Chemical Co Ltd Method of manufacturing film roll

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