JP2020168145A - X-ray diagnostic apparatus - Google Patents

X-ray diagnostic apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2020168145A
JP2020168145A JP2019070829A JP2019070829A JP2020168145A JP 2020168145 A JP2020168145 A JP 2020168145A JP 2019070829 A JP2019070829 A JP 2019070829A JP 2019070829 A JP2019070829 A JP 2019070829A JP 2020168145 A JP2020168145 A JP 2020168145A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
size
filter
fluoroscopy
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019070829A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7374604B2 (en
Inventor
拓也 相田
Takuya Aida
拓也 相田
白石 邦夫
Kunio Shiraishi
邦夫 白石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Medical Systems Corp
Original Assignee
Canon Medical Systems Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Medical Systems Corp filed Critical Canon Medical Systems Corp
Priority to JP2019070829A priority Critical patent/JP7374604B2/en
Priority to US16/836,988 priority patent/US11357457B2/en
Priority to EP20167574.1A priority patent/EP3718480A1/en
Publication of JP2020168145A publication Critical patent/JP2020168145A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7374604B2 publication Critical patent/JP7374604B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)

Abstract

To select an appropriate additional filter according to a target dose.SOLUTION: An X-ray diagnostic apparatus includes: an X-ray tube: an X-ray detector: a plurality of filters for attenuating an X-ray emitted from the X-ray tube; a filter drive unit for inserting at least one of the plurality of filters in a route from an X-ray focal point in the X-ray tube to the X-ray detector; and a filter selection unit for selecting a filter to be inserted into the route of the plurality of filters based on at least one of the size of a pixel in the X-ray detector, the size of a pixel in an X-ray image based on the output by the X-ray detector, and the size of an X-ray irradiation region, and information on the body thickness of a subject.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明の実施形態は、X線診断装置に関する。 Embodiments of the present invention relate to an X-ray diagnostic apparatus.

X線診断装置は、X線発生部に設けられ、X線照射領域の大きさ(以下、視野サイズと呼ぶ)を調整するX線絞りを有する。X線絞りは、厚みの異なる複数のフィルタ(以下、付加フィルタと呼ぶ)を有する。付加フィルタは、線質フィルタまたはビームスペクトグラムフィルタとも呼ばれる。付加フィルタのうち少なくとも1つが、X線管の焦点からX線検出器までの経路に挿入され、X線発生部におけるX線放射窓の前面に配置される。経路に挿入された付加フィルタは、付加フィルタを通過するX線の軟線を削減することにより、X線の線質を調整する。経路に挿入される付加フィルタは、X線管によるX線の照射の条件(以下、X線条件と呼ぶ)等により推定された被検体の厚み(以下、体厚と呼ぶ)、及び、線源受像面間距離(Source Image Distance:以下、SIDと呼ぶ)に基づいて、自動的に選択される。 The X-ray diagnostic apparatus is provided in the X-ray generating unit, and has an X-ray diaphragm that adjusts the size of the X-ray irradiation region (hereinafter, referred to as the visual field size). The X-ray diaphragm has a plurality of filters having different thicknesses (hereinafter, referred to as additional filters). The additional filter is also called a quality filter or a beam spectrogram filter. At least one of the additional filters is inserted in the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector and placed in front of the X-ray emission window at the X-ray generator. The additional filter inserted in the path adjusts the quality of the X-rays by reducing the soft lines of X-rays that pass through the additional filter. The additional filter inserted in the path includes the thickness of the subject (hereinafter referred to as body thickness) estimated by the conditions of X-ray irradiation by the X-ray tube (hereinafter referred to as X-ray conditions) and the like, and the radiation source. It is automatically selected based on the distance between image receiving surfaces (Source Image Distance: hereinafter referred to as SID).

一方、X線検出器に設けられるFPD(Flat Panel Detector)の検出素子の各々の大きさ(以下、FPD素子サイズと呼ぶ)、又は、視野サイズが変化すると、X線画像の画質を確保するために必要なX線の線量(以下、目標線量と呼ぶ)が変化する。目標線量の変化を考慮せずに付加フィルタを選択した場合、適切な付加フィルタが選択されない可能性がある。 On the other hand, when the size of each detection element of the FPD (Flat Panel Detector) provided in the X-ray detector (hereinafter referred to as the FPD element size) or the field size changes, the image quality of the X-ray image is ensured. The X-ray dose required for this (hereinafter referred to as the target dose) changes. If the additional filter is selected without considering the change in the target dose, the appropriate additional filter may not be selected.

特開2013−116184号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-116184

本発明が解決しようとする課題は、目標線量に応じて適切な付加フィルタを選択することである。 The problem to be solved by the present invention is to select an appropriate additional filter according to the target dose.

実施形態に係るX線診断装置は、X線を発生させるX線管と、前記X線管から発せられたX線を検出するX線検出器と、前記X線管から発せられたX線を減衰させるための複数のフィルタと、前記X線管におけるX線の焦点から前記X線検出器へのX線の経路に対して、前記複数のフィルタのうちの少なくとも1つを挿入するフィルタ駆動部と、前記X線検出器における画素の大きさ、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさ及びX線照射領域の大きさのうちの少なくとも一つと、被検体の体厚に関する情報と、に基づいて、前記複数のフィルタのうち前記経路に挿入されるフィルタを選択するフィルタ選択部と、を備える。 The X-ray diagnostic apparatus according to the embodiment includes an X-ray tube that generates X-rays, an X-ray detector that detects X-rays emitted from the X-ray tube, and X-rays emitted from the X-ray tube. A filter drive unit that inserts at least one of the plurality of filters into the plurality of filters for damping and the path of the X-ray from the focus of the X-ray in the X-ray tube to the X-ray detector. And at least one of the size of the pixel in the X-ray detector, the size of the pixel in the X-ray image based on the output by the X-ray detector, and the size of the X-ray irradiation region, and the body thickness of the subject. A filter selection unit for selecting a filter to be inserted into the path from the plurality of filters based on the information regarding the above.

図1は、第1の実施形態に係るX線診断装置の構成を例示する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the configuration of the X-ray diagnostic apparatus according to the first embodiment. 図2は、第1の実施形態に係るX線診断装置による透視実行処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart illustrating a processing procedure of fluoroscopic execution processing by the X-ray diagnostic apparatus according to the first embodiment. 図3は、第1の実施形態に係るX線診断装置による撮像条件設定処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart illustrating a processing procedure of imaging condition setting processing by the X-ray diagnostic apparatus according to the first embodiment. 図4は、第1の実施形態に係るX線診断装置によるフィルタ選択処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating a processing procedure of a filter selection process by the X-ray diagnostic apparatus according to the first embodiment. 図5は、第1の実施形態に係るX線診断装置によるフィルタ選択処理に用いられる、最大電力、被曝限度、SID、及び体厚と、使用される付加フィルタとの関係を示す対応表の一例を示す図である。FIG. 5 is an example of a correspondence table showing the relationship between the maximum power, the exposure limit, the SID, and the body thickness used in the filter selection process by the X-ray diagnostic apparatus according to the first embodiment and the additional filter used. It is a figure which shows. 図6は、第1の実施形態に係るX線診断装置によるフィルタ選択処理に用いられる、最大電力、被曝限度、SID、及び体厚と、使用される付加フィルタとの関係を示す対応表の一例を示す図である。FIG. 6 is an example of a correspondence table showing the relationship between the maximum power, the exposure limit, the SID, and the body thickness used in the filter selection process by the X-ray diagnostic apparatus according to the first embodiment and the additional filter used. It is a figure which shows. 図7は、第2の実施形態に係るX線診断装置によるフィルタ選択処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 7 is a flowchart illustrating the processing procedure of the filter selection process by the X-ray diagnostic apparatus according to the second embodiment. 図8は、第3の実施形態に係るX線診断装置によるフィルタ選択処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 8 is a flowchart illustrating the processing procedure of the filter selection process by the X-ray diagnostic apparatus according to the third embodiment. 図9は、第4の実施形態に係るX線診断装置によるフィルタ選択処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 9 is a flowchart illustrating the processing procedure of the filter selection process by the X-ray diagnostic apparatus according to the fourth embodiment. 図10は、第5の実施形態に係るX線診断装置によるフィルタ選択処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 10 is a flowchart illustrating a processing procedure of a filter selection process by the X-ray diagnostic apparatus according to the fifth embodiment. 図11は、第6の実施形態に係るX線診断装置によるフィルタ選択処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 11 is a flowchart illustrating the processing procedure of the filter selection process by the X-ray diagnostic apparatus according to the sixth embodiment. 図12は、第7の実施形態に係るX線診断装置による撮像条件設定処理の処理手順を例示するフローチャートである。FIG. 12 is a flowchart illustrating a processing procedure of imaging condition setting processing by the X-ray diagnostic apparatus according to the seventh embodiment.

以下、図面を参照しながら、X線診断装置の実施形態について詳細に説明する。以下の説明において、略同一の機能及び構成を有する構成要素については、同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行う。なお、以下の実施形態に係るX線診断装置は、例えば、単一モダリティ装置であってもよく、アンギオCT装置等の複合モダリティ装置であってもよい。 Hereinafter, embodiments of the X-ray diagnostic apparatus will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, components having substantially the same function and configuration are designated by the same reference numerals, and duplicate explanations will be given only when necessary. The X-ray diagnostic apparatus according to the following embodiment may be, for example, a single modality apparatus or a composite modality apparatus such as an angio CT apparatus.

(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係るX線診断装置1の構成例を示す図である。図1に示すように、X線診断装置1は、撮影装置10、寝台装置30及びコンソール装置40を備えている。撮影装置10は、高電圧発生装置11、X線発生部12、X線検出器13、Cアーム14、及びCアーム駆動装置142を備えている。
(First Embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the X-ray diagnostic apparatus 1 includes an imaging apparatus 10, a sleeper apparatus 30, and a console apparatus 40. The photographing device 10 includes a high voltage generator 11, an X-ray generator 12, an X-ray detector 13, a C-arm 14, and a C-arm drive device 142.

高電圧発生装置11は、X線管の陰極から発生する熱電子を加速するために、陽極と陰極の間に印加する高電圧を発生させてX線管へ出力する。 The high voltage generator 11 generates a high voltage applied between the anode and the cathode in order to accelerate thermions generated from the cathode of the X-ray tube and outputs the high voltage to the X-ray tube.

X線発生部12は、被検体Pに対してX線を照射するX線管、照射X線量を減衰或いは低減させる機能を有する複数のフィルタ(以下、付加フィルタと呼ぶ)、及び、X線絞りを備えている。 The X-ray generator 12 includes an X-ray tube that irradiates the subject P with X-rays, a plurality of filters having a function of attenuating or reducing the irradiation X-ray dose (hereinafter referred to as an additional filter), and an X-ray diaphragm. Is equipped with.

X線管は、X線を発生させる真空管である。X線管は、管球と、管球に設けられたフィラメント(陰極)と、タングステン陽極とを備える。X線管は、フィラメントより放出された熱電子を高電圧によって加速させる。X線管は、この加速電子をタングステン陽極に衝突させることでX線を発生させる。 The X-ray tube is a vacuum tube that generates X-rays. The X-ray tube includes a tube, a filament (cathode) provided on the tube, and a tungsten anode. The X-ray tube accelerates thermions emitted from the filament by a high voltage. The X-ray tube generates X-rays by colliding the accelerating electrons with the tungsten anode.

本実施形態では、発生するX線の焦点(実効焦点)の大きさ(以下、焦点サイズと呼ぶ)が異なる2つの種類のフィラメントが設けられている。後述する入力インターフェース43での操作者による入力、又は、後述する処理回路44による設定に応じて、2つのフィラメントの中から使用されるフィラメントが選択され、図示しない駆動装置の駆動により使用されるフィラメントが切り替えられる。そして、使用されるフィラメントが切り替えられることにより、小焦点と中焦点との間で焦点サイズが切り替えられる。中焦点は、小焦点よりも焦点サイズが大きい。小焦点は、例えば、0.2〜0.4mmの範囲内の値である。中焦点は、例えば、0.5〜0.7mmの範囲内の値である。小焦点は、第1の焦点サイズの一例である。中焦点は、第2の焦点サイズの一例である。 In the present embodiment, two types of filaments having different sizes of the generated X-ray focal points (effective focal points) (hereinafter, referred to as focal points) are provided. A filament to be used is selected from the two filaments according to the input by the operator on the input interface 43 described later or the setting by the processing circuit 44 described later, and the filament used by driving a drive device (not shown). Is switched. Then, by switching the filament used, the focal size is switched between the small focus and the medium focus. The medium focus has a larger focal size than the small focus. The small focus is, for example, a value in the range of 0.2 to 0.4 mm. The midfocus is, for example, a value in the range of 0.5 to 0.7 mm. The small focus is an example of the first focus size. The midfocal is an example of a second focal size.

なお、本実施形態では、小焦点と中焦点との2種類の焦点サイズが焦点サイズの設定として設定可能であるが、3つ以上の焦点サイズが設定可能でもよい。この場合、設定可能な焦点サイズの数に対応する数のフィラメントが設けられる。 In the present embodiment, two types of focal sizes, a small focus and a medium focus, can be set as the focus size settings, but three or more focal sizes may be set. In this case, a number of filaments is provided corresponding to the number of focal sizes that can be set.

付加フィルタは、銅やアルミニウム等の金属板で構成される。付加フィルタは、X線管とX線絞りの間に挿入されることにより、X線発生部12で発生された連続スペクトルX線の長波長成分(軟X線)を、付加フィルタの厚みに応じて除去する。付加フィルタの厚みは、例えば、0.1〜5mmの範囲内の値である。付加フィルタは、X線フィルタ、濾過板、ビームフィルタ、線質フィルタ、またはビームスペクトグラムフィルタとも呼ばれる。付加フィルタは、厚みに応じた長波長成分の除去により、X線発生部12で発生されたX線の線質を硬化させる。また、付加フィルタは、X線診断にとって不必要なX線のエネルギー成分を除去することも可能である。これにより、付加フィルタは、X線発生部12で発生されたX線の線質を調整する。 The additional filter is composed of a metal plate such as copper or aluminum. By inserting the additional filter between the X-ray tube and the X-ray diaphragm, the long wavelength component (soft X-ray) of the continuous spectrum X-ray generated by the X-ray generating unit 12 is adjusted according to the thickness of the additional filter. To remove. The thickness of the additional filter is, for example, a value in the range of 0.1 to 5 mm. The additional filter is also called an X-ray filter, a filter plate, a beam filter, a quality filter, or a beam spectrum filter. The additional filter cures the quality of the X-rays generated by the X-ray generator 12 by removing the long wavelength component according to the thickness. The additional filter can also remove X-ray energy components that are unnecessary for X-ray diagnosis. As a result, the additional filter adjusts the quality of the X-rays generated by the X-ray generating unit 12.

本実施形態では、4つの付加フィルタ(フィルタA〜フィルタD)が設けられている。フィルタA〜フィルタDは、それぞれ異なる厚みを有する。このため、フィルタA〜フィルタDは、軟X線の除去率(以下、X線低減率と呼ぶ)が異なる。厚い付加フィルタ(厚みの大きい付加フィルタ)は、薄い付加フィルタ(厚みの小さい付加フィルタ)に比べて、X線の低減率が大きい。フィルタAの厚みはフィルタBの厚みよりも大きく、フィルタBの厚みはフィルタCの厚みよりも大きく、フィルタCの厚みは、フィルタDの厚みよりも大きい。このため、フィルタAのX線低減率はフィルタBのX線低減率よりも大きく、フィルタBのX線低減率はフィルタCのX線低減率よりも大きく、フィルタCのX線低減率はフィルタDのX線低減率よりも大きい。 In this embodiment, four additional filters (filter A to filter D) are provided. The filters A to D have different thicknesses. Therefore, the filters A to D have different soft X-ray removal rates (hereinafter referred to as X-ray reduction rates). A thick additional filter (a thick additional filter) has a larger X-ray reduction rate than a thin additional filter (a thin additional filter). The thickness of the filter A is larger than the thickness of the filter B, the thickness of the filter B is larger than the thickness of the filter C, and the thickness of the filter C is larger than the thickness of the filter D. Therefore, the X-ray reduction rate of the filter A is larger than the X-ray reduction rate of the filter B, the X-ray reduction rate of the filter B is larger than the X-ray reduction rate of the filter C, and the X-ray reduction rate of the filter C is the filter. It is larger than the X-ray reduction rate of D.

駆動装置は、後述する入力インターフェース43での操作者による入力、又は、後述する処理回路44による設定に応じて、複数の付加フィルタの中から選択された付加フィルタをX線管とX線絞りの間に挿入する。また、X線管とX線絞りの間に挿入される付加フィルタが切り替えられることにより、付加フィルタの厚みが調整される。すなわち、駆動装置は、複数の付加フィルタのうちの少なくとも1つを、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する。駆動装置は、フィルタ駆動部の一例である。 The drive device selects an additional filter selected from a plurality of additional filters according to the input by the operator at the input interface 43 described later or the setting by the processing circuit 44 described later, of the X-ray tube and the X-ray diaphragm. Insert in between. Further, the thickness of the additional filter is adjusted by switching the additional filter inserted between the X-ray tube and the X-ray diaphragm. That is, the drive device inserts at least one of the plurality of additional filters into the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13. The drive device is an example of a filter drive unit.

X線絞りは、X線管とX線検出器13の間に位置し、金属板としての鉛板で構成される。X線絞りは、開口領域外のX線を遮蔽することにより、X線管が発生したX線を、被検体Pの関心領域にのみ照射されるように絞り込むことにより、X線照射領域(X線照射野)の大きさ(以下、視野サイズと呼ぶ)を調整する。例えば、X線絞りは4枚の絞り羽根を有し、これらの絞り羽根をスライドさせることで、X線の遮蔽される領域を任意のサイズに調節することにより、視野サイズを調整する。X線絞りの絞り羽根は、操作者が入力インターフェース43から入力した関心領域に応じて、図示しない駆動装置により駆動される。 The X-ray diaphragm is located between the X-ray tube and the X-ray detector 13, and is composed of a lead plate as a metal plate. The X-ray diaphragm blocks the X-rays outside the opening region, thereby narrowing the X-rays generated by the X-ray tube so that only the region of interest of the subject P is irradiated, thereby irradiating the X-ray irradiation region (X). Adjust the size of the X-ray irradiation field (hereinafter referred to as the field size). For example, an X-ray diaphragm has four diaphragm blades, and by sliding these diaphragm blades, the area where X-rays are shielded can be adjusted to an arbitrary size, thereby adjusting the visual field size. The diaphragm blades of the X-ray diaphragm are driven by a drive device (not shown) according to the region of interest input by the operator from the input interface 43.

X線検出器13は、X線管から発せられ被検体Pを透過したX線を検出する。このようなX線検出器13としては、X線を直接電荷に変換するものと、光に変換した後、電荷に変換するものとが使用可能であり、ここでは前者を例に説明するが後者であっても構わない。すなわち、X線検出器13は、例えば、被検体Pを透過したX線を電荷に変換して蓄積する平面状のFPD(Flat Panel Detector)と、このFPDに蓄積された電荷を読み出すための駆動パルスを生成するゲートドライバとを備えている。FPDの大きさは、例えば8〜16インチの範囲内の値である。FPDは微小な検出素子を列方向及びライン方向に2次元的に配列して構成される。各々の検出素子はX線を感知し、入射X線量に応じて電荷を生成する光電膜と、この光電膜に発生した電荷を蓄積する電荷蓄積コンデンサと、電荷蓄積コンデンサに蓄積された電荷を所定のタイミングで出力するTFT(薄膜トランジスタ)を備えている。蓄積された電荷はゲートドライバが供給する駆動パルスによって順次読み出される。FPDの各々の検出素子(以下、FPD検出素子と呼ぶ)の大きさ(以下、FPD素子サイズと呼ぶ)は、例えば、130〜200μmの範囲内の値である。但し、FPD素子サイズは、この例に限らず、例えば、76μm角の如き、微小サイズとしてもよい。 The X-ray detector 13 detects X-rays emitted from an X-ray tube and transmitted through the subject P. As such an X-ray detector 13, one that directly converts X-rays into electric charges and one that converts X-rays into light and then converts them into electric charges can be used. Here, the former will be described as an example, but the latter. It doesn't matter. That is, the X-ray detector 13 is, for example, a flat FPD (Flat Panel Detector) that converts X-rays transmitted through the subject P into electric charges and stores them, and a drive for reading out the electric charges accumulated in the FPD. It is equipped with a gate driver that generates pulses. The size of the FPD is, for example, a value in the range of 8 to 16 inches. The FPD is configured by arranging minute detection elements two-dimensionally in the column direction and the line direction. Each detection element determines a photoelectric film that senses X-rays and generates an electric charge according to the incident X-ray dose, a charge storage capacitor that stores the electric charge generated in the photoelectric film, and a charge accumulated in the charge storage capacitor. It is equipped with a TFT (thin film) that outputs at the timing of. The accumulated charges are sequentially read out by the drive pulse supplied by the gate driver. The size (hereinafter, referred to as FPD element size) of each detection element of the FPD (hereinafter, referred to as an FPD detection element) is, for example, a value in the range of 130 to 200 μm. However, the FPD element size is not limited to this example, and may be a minute size such as 76 μm square.

本実施形態では、X線検出器13には、2種類のFPD(FPD1〜FPD2)が設けられている。FPD1及びFPD2は、検出素子の数(以下、FPD素子数と呼ぶ)、FPD素子サイズ、解像度、X線画像の画質を確保するために必要なX線の線量(以下、目標線量と呼ぶ)、及び対応する撮像モード等が異なる。本実施形態では、FPD素子サイズは、FPDの1画素の大きさ(以下、FPD画素サイズと呼ぶ)に相当する。FPD画素サイズは、X線検出器13における画素の大きさの一例である。後述する入力インターフェース43での操作者による入力、又は、後述する処理回路44による撮像モードの設定に応じて、2つのFPDの中から使用されるFPDが選択され、図示しない駆動装置の駆動により、使用されるFPDが切り替えられる。使用されるFPDが切り替えられることにより、FPD素子数、FPD素子サイズ、FPD画素サイズ、解像度、及び目標線量が切り替えられる。なお、FPD1の大きさとFPD2の大きさは、異なっていてもよく、同じであってもよい。また、FPD1及びFPD2は、1つのシンチレータを共有していてもよい。 In the present embodiment, the X-ray detector 13 is provided with two types of FPDs (FPD1 to FPD2). FPD1 and FPD2 include the number of detection elements (hereinafter referred to as the number of FPD elements), the size of the FPD element, the resolution, and the X-ray dose required to ensure the image quality of the X-ray image (hereinafter referred to as the target dose). And the corresponding imaging modes are different. In the present embodiment, the FPD element size corresponds to the size of one pixel of the FPD (hereinafter, referred to as the FPD pixel size). The FPD pixel size is an example of the pixel size in the X-ray detector 13. The FPD to be used is selected from the two FPDs according to the input by the operator on the input interface 43 described later or the setting of the imaging mode by the processing circuit 44 described later, and by driving a drive device (not shown). The FPD used is switched. By switching the FPD used, the number of FPD elements, the FPD element size, the FPD pixel size, the resolution, and the target dose can be switched. The size of FPD1 and the size of FPD2 may be different or the same. Further, FPD1 and FPD2 may share one scintillator.

FPD1は、通常モードの撮像モードに対応する。FPD2は、通常モードよりも解像度の高い高精細モードの撮像モードに対応する。FPD2は、FPD1に比べて、FPD素子数が大きく、FPD画素サイズ、FPD素子サイズが小さい。このため、FPD2は、FPD1に比べて、目標線量が大きい。通常モードは、第1の撮像モードの一例である。高精細モードは、第2の撮像モードの一例である。FPD1のFPD画素サイズは、FPD画素サイズの第1の大きさの一例である。FPD2のFPD画素サイズは、FPD画素サイズの第2の大きさの一例である。FPD1のFPD素子サイズは、FPD素子サイズの第1の大きさの一例である。FPD2のFPD素子サイズは、FPD素子サイズの第2の大きさの一例である。 FPD1 corresponds to the imaging mode of the normal mode. The FPD2 corresponds to an imaging mode in a high-definition mode having a higher resolution than the normal mode. The FPD2 has a larger number of FPD elements and a smaller FPD pixel size and FPD element size than the FPD1. Therefore, FPD2 has a larger target dose than FPD1. The normal mode is an example of the first imaging mode. The high-definition mode is an example of the second imaging mode. The FPD pixel size of the FPD1 is an example of the first size of the FPD pixel size. The FPD pixel size of the FPD2 is an example of a second size of the FPD pixel size. The FPD element size of the FPD1 is an example of the first size of the FPD element size. The FPD element size of the FPD2 is an example of a second size of the FPD element size.

Cアーム14は、X線発生部12とX線検出器13とを被検体P及び天板33を挟んで対向するように保持することで、天板33上の被検体PのX線撮影を行うことができる構成を有する。Cアーム14は、スライド可能、かつ、複数の回転軸のそれぞれを中心に回転可能に支持される。Cアーム14は、スライド及び回転に係る動作を実現するための複数の動力源が該当する適当な箇所に備えられている。これらの動力源はCアーム駆動装置142を構成する。Cアーム駆動装置142は、駆動制御機能444からの駆動信号を読み込んでCアーム14をスライド運動、回転運動、直線運動させる。 The C-arm 14 holds the X-ray generator 12 and the X-ray detector 13 so as to face each other with the subject P and the top plate 33 interposed therebetween, so that X-ray imaging of the subject P on the top plate 33 can be performed. It has a configuration that can be performed. The C-arm 14 is slidable and rotatably supported around each of the plurality of rotation axes. The C-arm 14 is provided with a plurality of power sources for realizing operations related to sliding and rotation at appropriate locations. These power sources constitute a C-arm drive device 142. The C-arm drive device 142 reads a drive signal from the drive control function 444 and causes the C-arm 14 to slide, rotate, and linearly move.

寝台装置30は、被検体Pを載置、移動させる装置であり、基台31と、寝台駆動装置32と、天板33と、支持フレーム34とを備えている。 The sleeper device 30 is a device on which the subject P is placed and moved, and includes a base 31, a sleeper drive device 32, a top plate 33, and a support frame 34.

基台31は、床面に設置され、支持フレーム34を鉛直方向(Z方向)に移動可能に支持する筐体である。 The base 31 is a housing that is installed on the floor and supports the support frame 34 so as to be movable in the vertical direction (Z direction).

寝台駆動装置32は、寝台装置30の筐体内に収容され、被検体Pが載置された天板33を天板33の長手方向(Y方向)に移動するモータあるいはアクチュエータである。寝台駆動装置32は、駆動制御機能444からの駆動信号を読み込んで、天板33を床面に対して水平方向や垂直方向に移動させる。Cアーム14または天板33が移動することにより、被検体Pに対する撮影軸の位置関係が変化する。なお、寝台駆動装置32は、天板33に加え、支持フレーム34を天板33の長手方向に移動してもよい。 The sleeper drive device 32 is a motor or actuator that is housed in the housing of the sleeper device 30 and moves the top plate 33 on which the subject P is placed in the longitudinal direction (Y direction) of the top plate 33. The bed drive device 32 reads the drive signal from the drive control function 444 and moves the top plate 33 in the horizontal direction or the vertical direction with respect to the floor surface. When the C arm 14 or the top plate 33 moves, the positional relationship of the imaging axis with respect to the subject P changes. In addition to the top plate 33, the sleeper drive device 32 may move the support frame 34 in the longitudinal direction of the top plate 33.

天板33は、支持フレーム34の上面に設けられ、被検体Pが載置される板である。 The top plate 33 is provided on the upper surface of the support frame 34, and is a plate on which the subject P is placed.

支持フレーム34は、基台31の上部に設けられ、天板33をその長手方向に沿ってスライド可能に支持する。 The support frame 34 is provided on the upper part of the base 31, and slidably supports the top plate 33 along the longitudinal direction thereof.

なお、寝台装置30は、天板33が支持フレーム34に対して移動可能であってもよいし、天板33と支持フレーム34とが一緒に、基台31に対して移動可能であってもよい。 In the sleeper device 30, the top plate 33 may be movable with respect to the support frame 34, or the top plate 33 and the support frame 34 may be movable with respect to the base 31. Good.

コンソール装置40は、メモリ41、ディスプレイ42、入力インターフェース43及び処理回路44を備えている。なお、コンソール装置40は撮影装置10とは別体として説明するが、撮影装置10にコンソール装置40又はコンソール装置40の各構成要素の一部が含まれてもよい。コンソール装置40は、例えば、医用画像処理装置に相当する。 The console device 40 includes a memory 41, a display 42, an input interface 43, and a processing circuit 44. Although the console device 40 will be described as a separate body from the photographing device 10, the photographing device 10 may include a part of each component of the console device 40 or the console device 40. The console device 40 corresponds to, for example, a medical image processing device.

なお、以下、コンソール装置40は、単一のコンソールにて複数の機能を実行するものとして説明するが、複数の機能を別々のコンソールが実行することにしても構わない。例えば、後述の画像生成機能446等の処理回路44の機能は、異なるコンソール装置に分散して搭載されても構わない。 Hereinafter, the console device 40 will be described as executing a plurality of functions on a single console, but a plurality of functions may be executed by different consoles. For example, the functions of the processing circuit 44, such as the image generation function 446 described later, may be distributed and mounted in different console devices.

メモリ41は、種々の情報を記憶するHDD(Hard Disk Drive)やSSD(Solid State Drive)、集積回路等の記憶装置である。また、メモリ41は、HDDやSSD等以外にも、CD(Compact Disc)、DVD(Digital Versatile Disc)、フラッシュメモリ等の可搬性記憶媒体であってもよい。なお、メモリ41は、フラッシュメモリ、RAM(Random Access Memory)等の半導体メモリ素子等との間で種々の情報を読み書きする駆動装置であってもよい。また、メモリ41の保存領域は、X線診断装置1内にあってもよいし、ネットワークで接続された外部記憶装置内にあってもよい。 The memory 41 is a storage device such as an HDD (Hard Disk Drive), an SSD (Solid State Drive), or an integrated circuit that stores various information. In addition to the HDD and SSD, the memory 41 may be a portable storage medium such as a CD (Compact Disc), a DVD (Digital Versaille Disc), or a flash memory. The memory 41 may be a drive device that reads and writes various information to and from a semiconductor memory element such as a flash memory or a RAM (Random Access Memory). Further, the storage area of the memory 41 may be in the X-ray diagnostic apparatus 1 or in an external storage device connected by a network.

メモリ41は、例えば、X線画像、処理回路44によって実行されるプログラム、及び処理回路44の処理に用いられる各種データ等を記憶する。メモリ41は、記憶部の一例である。 The memory 41 stores, for example, an X-ray image, a program executed by the processing circuit 44, various data used for processing the processing circuit 44, and the like. The memory 41 is an example of a storage unit.

ディスプレイ42は、各種の情報を表示する。例えば、ディスプレイ42は、処理回路44によって生成された医用画像(X線画像)や、操作者からの各種操作を受け付けるためのGUI(Graphical User Interface)等を出力する。例えば、ディスプレイ42は、液晶ディスプレイやCRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイである。また、ディスプレイ42は、表示部の一例である。また、ディスプレイ42は、撮影装置10に設けられてもよい。また、ディスプレイ42は、デスクトップ型でもよいし、コンソール装置40本体と無線通信可能なタブレット端末等で構成されることにしても構わない。 The display 42 displays various information. For example, the display 42 outputs a medical image (X-ray image) generated by the processing circuit 44, a GUI (Graphical User Interface) for receiving various operations from the operator, and the like. For example, the display 42 is a liquid crystal display or a CRT (Cathode Ray Tube) display. The display 42 is an example of a display unit. Further, the display 42 may be provided in the photographing device 10. Further, the display 42 may be a desktop type, or may be composed of a tablet terminal or the like capable of wireless communication with the console device 40 main body.

入力インターフェース43は、操作者からの各種の入力操作を受け付け、受け付けた入力操作を電気信号に変換して処理回路44に出力する。例えば、入力インターフェース43は、被検体情報、撮像条件、各種コマンド信号の入力等を操作者から受け付ける。例えば、入力インターフェース43は、Cアーム14の移動指示、関心領域(ROI)の設定、及び透視の実行等を行うためのトラックボール、マウスやキーボード、トラックボール、スイッチ、ボタン、ジョイスティック、操作面へ触れることで入力操作を行うタッチパッド、表示画面とタッチパッドとが一体化されたタッチパネルディスプレイ、及びフットスイッチ等により実現される。また、入力インターフェース43は、入力部及び操作部の一例である。また、入力インターフェース43は、撮影装置10に設けられてもよい。また、入力インターフェース43は、コンソール装置40本体と無線通信可能なタブレット端末等で構成されることにしても構わない。なお、入力インターフェース43はマウス、キーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、装置とは別体に設けられた外部の入力機器から入力操作に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を処理回路44へ出力する電気信号の処理回路も入力インターフェース43の例に含まれる。入力インターフェース43は、X線管とX線検出器13とを用いた動画の撮像を指示するための操作部の一例である。 The input interface 43 receives various input operations from the operator, converts the received input operations into electric signals, and outputs the received input operations to the processing circuit 44. For example, the input interface 43 receives subject information, imaging conditions, input of various command signals, and the like from the operator. For example, the input interface 43 can be used to move the C-arm 14 to a trackball, a mouse or keyboard, a trackball, a switch, a button, a joystick, or an operation surface for setting a region of interest (ROI), performing fluoroscopy, and the like. It is realized by a touch pad that performs input operations by touching, a touch panel display in which a display screen and a touch pad are integrated, a foot switch, and the like. Further, the input interface 43 is an example of an input unit and an operation unit. Further, the input interface 43 may be provided in the photographing device 10. Further, the input interface 43 may be composed of a tablet terminal or the like capable of wireless communication with the console device 40 main body. The input interface 43 is not limited to the one provided with physical operating parts such as a mouse and a keyboard. For example, an example of the input interface 43 includes an electric signal processing circuit that receives an electric signal corresponding to an input operation from an external input device provided separately from the device and outputs the electric signal to the processing circuit 44. .. The input interface 43 is an example of an operation unit for instructing imaging of a moving image using an X-ray tube and an X-ray detector 13.

処理回路44は、X線診断装置1全体の動作を制御する。処理回路44は、メモリ41内のプログラムを呼び出し実行することにより、システム制御機能441、撮像条件設定機能442、フィルタ選択機能443、駆動制御機能444、X線制御機能445、画像生成機能446及び表示制御機能447を実行するプロセッサである。 The processing circuit 44 controls the operation of the entire X-ray diagnostic apparatus 1. The processing circuit 44 calls and executes a program in the memory 41 to call and execute a system control function 441, an imaging condition setting function 442, a filter selection function 443, a drive control function 444, an X-ray control function 445, an image generation function 446, and a display. It is a processor that executes the control function 447.

なお、図1においては、単一の処理回路44にてシステム制御機能441、撮像条件設定機能442、フィルタ選択機能443、駆動制御機能444、X線制御機能445、画像生成機能446及び表示制御機能447が実現されるものとして説明したが、複数の独立したプロセッサを組み合わせて処理回路を構成し、各プロセッサがプログラムを実行することにより各機能を実現するものとしても構わない。また、システム制御機能441、撮像条件設定機能442、フィルタ選択機能443、駆動制御機能444、X線制御機能445、画像生成機能446及び表示制御機能447は、それぞれシステム制御回路、撮像条件設定回路、フィルタ選択回路、駆動制御回路、X線制御回路、画像処理回路及び表示制御回路と呼んでもよく、個別のハードウェア回路として実装してもよい。 In FIG. 1, a single processing circuit 44 uses a system control function 441, an imaging condition setting function 442, a filter selection function 443, a drive control function 444, an X-ray control function 445, an image generation function 446, and a display control function. Although 447 has been described as being realized, a processing circuit may be formed by combining a plurality of independent processors, and each function may be realized by executing a program by each processor. Further, the system control function 441, the image pickup condition setting function 442, the filter selection function 443, the drive control function 444, the X-ray control function 445, the image generation function 446, and the display control function 447 are the system control circuit, the image pickup condition setting circuit, respectively. It may be called a filter selection circuit, a drive control circuit, an X-ray control circuit, an image processing circuit, and a display control circuit, or may be implemented as individual hardware circuits.

上記説明において用いた「プロセッサ」という文言は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、或いは、ASIC、プログラマブル論理デバイス(例えば、単純プログラマブル論理デバイス(Simple Programmable Logic Device:SPLD)、複合プログラマブル論理デバイス(Complex Programmable Logic Device:CPLD)、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ(Field Programmable Gate Array:FPGA)等の回路を意味する。プロセッサは記憶回路に保存されたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、記憶回路にプログラムを保存する代わりに、プロセッサの回路内にプログラムを直接組み込むよう構成しても構わない。この場合、プロセッサは回路内に組み込まれたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて1つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図1における複数の構成要素を1つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。 The word "processor" used in the above description is, for example, a CPU (Central Processing Unit), a GPU (Graphics Processing Unit), or an ASIC, a programmable logic device (for example, a Simple Programmable Logic Device (SPLD)). , Complex Programmable Logic Device (CPLD), and Field Programmable Gate Array (FPGA), etc. The processor functions by reading and executing the program stored in the storage circuit. In addition, instead of storing the program in the storage circuit, the program may be configured to be directly embedded in the circuit of the processor. In this case, the processor reads and executes the program incorporated in the circuit. Each processor of the present embodiment is not limited to the case where each processor is configured as a single circuit, and a plurality of independent circuits are combined to form one processor, and the function is realized. Further, a plurality of components in FIG. 1 may be integrated into one processor to realize the function.

処理回路44は、システム制御機能441により、入力インターフェース43を介して操作者から受け付けた入力操作に基づいて、X線診断装置1における複数の構成要素各々を制御する。例えば、処理回路44は、撮像条件に従って、撮影装置10における各種構成要素を制御する。システム制御機能441を実現する処理回路44は、システム制御部の一例である。 The processing circuit 44 controls each of the plurality of components in the X-ray diagnostic apparatus 1 based on the input operation received from the operator via the input interface 43 by the system control function 441. For example, the processing circuit 44 controls various components in the photographing apparatus 10 according to the imaging conditions. The processing circuit 44 that realizes the system control function 441 is an example of the system control unit.

処理回路44は、撮像条件設定機能442により、撮像の条件(以下、撮像条件と呼ぶ)を設定する。透視は、動画撮像の一例である。撮像条件設定機能442を実現する処理回路44は、撮像条件設定部の一例である。 The processing circuit 44 sets imaging conditions (hereinafter referred to as imaging conditions) by the imaging condition setting function 442. Clairvoyance is an example of moving image imaging. The processing circuit 44 that realizes the imaging condition setting function 442 is an example of the imaging condition setting unit.

撮像条件は、X線管によるX線の照射の条件(以下、X線条件と呼ぶ)、AGC(Auto Gain Control)の倍率(以下、AGC倍率と呼ぶ)、使用される付加フィルタに関する情報(以下、フィルタ特定情報と呼ぶ)、検出器空間分解能、解像度、X線画像における1画素(1ピクセル)の大きさ(以下、画素サイズと呼ぶ)、FPD画素サイズ、FPD素子サイズ、FPD素子数、複数のFPD検出素子をFPDの1つの画素として扱う制御方法(以下、ビニング制御と呼ぶ)におけるFPDの1画素に対応するFPD検出素子の数(以下、ビニング数と呼ぶ)、及び撮像モードのうち少なくとも1つを含む。フィルタ特定情報は、使用される付加フィルタの種類、及び使用される付加フィルタの厚み等のうち少なくとも1つを含む。撮像条件は、透視条件と称されてもよい。撮像条件設定機能442は、X線条件を決定するX線条件決定部の一例である。 The imaging conditions include the conditions for X-ray irradiation by an X-ray tube (hereinafter referred to as X-ray conditions), the magnification of AGC (Auto Gain Control) (hereinafter referred to as AGC magnification), and information on the additional filter used (hereinafter referred to as "AGC magnification"). , Filter specific information), detector spatial resolution, resolution, size of 1 pixel (1 pixel) in X-ray image (hereinafter referred to as pixel size), FPD pixel size, FPD element size, number of FPD elements, multiple The number of FPD detection elements (hereinafter referred to as the number of binning) corresponding to one pixel of the FPD in the control method (hereinafter referred to as binning control) for treating the FPD detection element of the above as one pixel of the FPD, and at least one of the imaging modes. Includes one. The filter specific information includes at least one of the type of additional filter used, the thickness of the additional filter used, and the like. The imaging condition may be referred to as a fluoroscopic condition. The imaging condition setting function 442 is an example of an X-ray condition determining unit that determines an X-ray condition.

X線条件は、例えば、管電流、管電圧、焦点サイズ、パルス幅、パルスレート(単位時間当たりのパルス数)、視野サイズ、線源受像面間距離(Source Image Distance):以下、SIDと呼ぶ)、及びX線曝射継続時間等のうち少なくとも1つを含む。 The X-ray conditions are, for example, tube current, tube voltage, focal size, pulse width, pulse rate (number of pulses per unit time), field size, distance between radiation source image receiving surfaces (Source Image Distance): hereinafter referred to as SID. ), And at least one of the duration of X-ray exposure and the like.

処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズと、X線管の管球の定格等により規定されるX線の最大の出力(以下、最大電力と呼ぶ)と、単位時間あたりの被写体へのX線の入射線量の上限値(以下、被曝限度と呼ぶ)と、被検体の厚み(以下、体厚と呼ぶ)とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択する。最大電力は、X線管の出力上限と称されてもよい。体厚は、被検体情報の一例である。フィルタ選択機能443は、フィルタ選択部の一例である。 The processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to determine the maximum output of X-rays (hereinafter referred to as the maximum power) defined by the FPD element size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N and the rating of the tube of the X-ray tube. , X of a plurality of additional filters based on the upper limit of the X-ray incident dose to the subject per unit time (hereinafter referred to as the exposure limit) and the thickness of the subject (hereinafter referred to as the body thickness). Select an additional filter to insert in the path from the focal point of the tube to the X-ray detector 13. The maximum power may be referred to as the output upper limit of the X-ray tube. Body thickness is an example of subject information. The filter selection function 443 is an example of a filter selection unit.

処理回路44は、駆動制御機能444により、例えば、入力インターフェース43から入力されたCアーム14や天板33の駆動に関する情報に基づいて、Cアーム駆動装置142及び寝台駆動装置32の制御を行う。駆動制御機能444を実現する処理回路44は、駆動制御部の一例である。 The processing circuit 44 controls the C-arm drive device 142 and the sleeper drive device 32 by the drive control function 444, for example, based on the information regarding the drive of the C-arm 14 and the top plate 33 input from the input interface 43. The processing circuit 44 that realizes the drive control function 444 is an example of the drive control unit.

処理回路44は、X線制御機能445により、例えば、システム制御機能441からの情報を読み込んで、高電圧発生装置11における管電流、管電圧、焦点サイズ、照射時間、パルス幅等のX線条件の制御を行う。なお、X線制御機能445は、撮像条件設定機能442により決定されたX線の焦点の大きさに基づいて、X線管の管球に設けられた複数のフィラメントから使用するフィラメントを選択する機能を含んでもよい。X線制御機能445を実現する処理回路44は、X線制御部の一例である。 The processing circuit 44 reads information from, for example, the system control function 441 by the X-ray control function 445, and X-ray conditions such as tube current, tube voltage, focus size, irradiation time, and pulse width in the high voltage generator 11. To control. The X-ray control function 445 is a function of selecting a filament to be used from a plurality of filaments provided in the tube of the X-ray tube based on the size of the X-ray focal point determined by the imaging condition setting function 442. May include. The processing circuit 44 that realizes the X-ray control function 445 is an example of the X-ray control unit.

処理回路44は、画像生成機能446により、例えば、X線検出器13から出力されたデータに基づいてX線画像を生成する。このとき、処理回路44は、AGCを行う。AGCは、生成されたX線画像の明るさを一定に保つため、生成されたX線画像の明るさを調整する制御である。補足すると、AGCは、被曝限度(Dose Limit)や管球出力の制限により検出器入射線量が確保できなかった場合に、X線画像の明るさを確保するために画像全体に掛けるデジタルゲインである。AGC倍率は、AGCによる調整前のX線画像に対する調整後のX線画像の明るさの割合である。なお、処理回路44は、生成されたX線画像に対して各種合成処理や減算(サブトラクション)処理等を行なってもよい。X線画像は、医用データの一例である。画像生成機能446を実現する処理回路44は、画像生成部の一例である。 The processing circuit 44 generates an X-ray image based on, for example, the data output from the X-ray detector 13 by the image generation function 446. At this time, the processing circuit 44 performs AGC. AGC is a control for adjusting the brightness of the generated X-ray image in order to keep the brightness of the generated X-ray image constant. Supplementally, AGC is a digital gain applied to the entire image in order to secure the brightness of the X-ray image when the radiation dose to the detector cannot be secured due to the exposure limit (Dose Limit) or the limit of the tube output. .. The AGC magnification is the ratio of the brightness of the adjusted X-ray image to the X-ray image before adjustment by AGC. The processing circuit 44 may perform various composition processing, subtraction processing, and the like on the generated X-ray image. The X-ray image is an example of medical data. The processing circuit 44 that realizes the image generation function 446 is an example of the image generation unit.

また、処理回路44は、X線制御機能445及び画像生成機能446により、選択された撮像モードに応じて、使用するFPDを切り替える。使用するFPDが切り替えられることにより、FPD画素サイズ及びFPD素子サイズが変化する。例えば、撮像モードとして通常モードが選択された場合、処理回路44は、使用するFPDをFPD1に切り替えるとともに、通常モードに対応するX線条件の制御及びX線画像の生成を行う。例えば、撮像モードとして高精細モードが選択された場合、処理回路44は、使用するFPDをFPD2に切り替えるとともに、高精細モードに対応するX線条件の制御及びX線画像の生成を行う。 Further, the processing circuit 44 switches the FPD to be used according to the selected imaging mode by the X-ray control function 445 and the image generation function 446. By switching the FPD to be used, the FPD pixel size and the FPD element size change. For example, when the normal mode is selected as the imaging mode, the processing circuit 44 switches the FPD to be used to the FPD 1, controls the X-ray conditions corresponding to the normal mode, and generates an X-ray image. For example, when the high-definition mode is selected as the imaging mode, the processing circuit 44 switches the FPD to be used to the FPD2, controls the X-ray conditions corresponding to the high-definition mode, and generates an X-ray image.

処理回路44は、表示制御機能447により、例えば、システム制御機能441からの信号を読み込んで、メモリ41から所望のX線画像を取得してディスプレイ42に表示する。表示制御機能447を実現する処理回路44は、表示制御部の一例である。 The processing circuit 44 reads, for example, a signal from the system control function 441 by the display control function 447, acquires a desired X-ray image from the memory 41, and displays it on the display 42. The processing circuit 44 that realizes the display control function 447 is an example of the display control unit.

次に、X線診断装置1により実行される透視実行処理の動作について説明する。透視実行処理とは、検査において、入力インターフェース43での操作に応じて被検体の透視を実行する処理である。 Next, the operation of the fluoroscopic execution process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. The fluoroscopy execution process is a process of performing fluoroscopy of a subject in response to an operation on the input interface 43 in an examination.

なお、以下で説明する透視実行処理における処理手順は一例に過ぎず、各処理は可能な限り適宜変更可能である。また、以下で説明する処理手順について、実施の形態に応じて、適宜、ステップの省略、置換、及び追加が可能である。 The processing procedure in the fluoroscopic execution processing described below is only an example, and each processing can be changed as appropriate as possible. Further, with respect to the processing procedure described below, steps can be omitted, replaced, and added as appropriate according to the embodiment.

図2は、本実施形態に係る透視実行処理の手順の一例を示すフローチャートである。処理回路44は、例えば、入力インターフェース43において検査を開始させる指示が入力されたことに基づいて、透視実行処理を開始する。 FIG. 2 is a flowchart showing an example of the procedure of the fluoroscopic execution process according to the present embodiment. The processing circuit 44 starts the fluoroscopic execution process based on, for example, an instruction to start the inspection being input in the input interface 43.

(透視実行処理)
(ステップS101)
処理回路44は、撮像条件設定機能442を実行する。処理回路44は、撮像条件設定機能442により、次に実行される透視における撮像条件を設定する処理(以下、撮像条件設定処理と呼ぶ)を行う。撮像条件設定処理の詳細については、後述する。
(Perspective execution processing)
(Step S101)
The processing circuit 44 executes the imaging condition setting function 442. The processing circuit 44 uses the imaging condition setting function 442 to perform processing for setting imaging conditions in fluoroscopy to be executed next (hereinafter, referred to as imaging condition setting processing). Details of the imaging condition setting process will be described later.

(ステップS102)
処理回路44は、被検体の検査を終了させることを示す指示が入力されたか否かを判断する。このとき、処理回路44は、例えば、入力インターフェース43において被検体の検査を終了させる指示の入力を検出することにより、検査を終了させる指示が入力されたか否かを判断する。検査を終了させる指示が入力された場合(ステップS102−Yes)、処理回路44は、当該透視実行処理を終了する。
(Step S102)
The processing circuit 44 determines whether or not an instruction indicating that the inspection of the subject is to be completed has been input. At this time, the processing circuit 44 determines whether or not the instruction to end the test has been input by detecting, for example, the input of the instruction to end the test of the subject in the input interface 43. When the instruction to end the inspection is input (step S102-Yes), the processing circuit 44 ends the fluoroscopic execution process.

検査を終了させる指示が入力されない場合(ステップS102−No)、処理はステップS103に進む。 If no instruction to end the inspection is input (step S102-No), the process proceeds to step S103.

(ステップS103)
処理回路44は、操作者による入力インターフェース43の操作に応じて、透視を実行させる指示が入力されたか否かを判断する。このとき、処理回路44は、例えば、フットスイッチにおいて操作が行われているか否かを検出することにより、透視を実行させる指示が入力されたか否かを判断する。透視を実行(開始)させる指示が入力された場合(ステップS103−Yes)、処理はステップS104に進む。透視を実行(開始)させる指示が入力されない場合(ステップS103−No)、処理はステップS102に戻り、処理回路44は、検査を終了させる指示が入力されるか、又は、透視を実行(開始)させる指示が入力されるまで、待機する。
(Step S103)
The processing circuit 44 determines whether or not an instruction for executing fluoroscopy has been input in response to the operation of the input interface 43 by the operator. At this time, the processing circuit 44 determines whether or not an instruction for executing fluoroscopy has been input by detecting, for example, whether or not an operation is being performed on the foot switch. When an instruction to execute (start) fluoroscopy is input (step S103-Yes), the process proceeds to step S104. If no instruction to execute (start) fluoroscopy is input (step S103-No), the process returns to step S102, and the processing circuit 44 inputs an instruction to end the inspection or executes (starts) fluoroscopy. Wait until the instruction to be entered is entered.

(ステップS104)
処理回路44は、システム制御機能441と、駆動制御機能444と、X線制御機能445と、画像生成機能446とを実行することにより、撮影装置10を用いて透視を実行する。
(Step S104)
The processing circuit 44 executes fluoroscopy using the photographing device 10 by executing the system control function 441, the drive control function 444, the X-ray control function 445, and the image generation function 446.

1回の透視の実行中において、処理回路44は、画像生成機能446により、時系列に沿ったフレームである複数のX線画像を生成し、画像生成機能446により、生成されたX線画像をメモリ41に記憶する。そして、処理回路44は、表示制御機能447により、生成された複数のX線画像によって生成されるX線動画をディスプレイ42に表示させる。このとき、処理回路44は、画像生成機能446により、AGCを実行する。 During the execution of one fluoroscopy, the processing circuit 44 generates a plurality of X-ray images that are frames in chronological order by the image generation function 446, and the X-ray image generated by the image generation function 446 is generated. Store in memory 41. Then, the processing circuit 44 causes the display 42 to display the X-ray moving image generated by the plurality of X-ray images generated by the display control function 447. At this time, the processing circuit 44 executes the AGC by the image generation function 446.

また、処理回路44は、システム制御機能441及びX線制御機能445により、透視の実行中において、前のフレームにおけるX線検出器13の出力に基づいて後のフレームにおけるX線条件を設定する制御を行う。すなわち、処理回路44は、1回の透視の実行中において、被写体条件の変化に基づいてX線条件等を変更するフィードバック制御を行う。例えば、フィードバック制御では、処理回路44は、1回の透視の実行中において被検体が載置された天板33を移動させる操作により体厚又は被検体の内部組織の構造等が変化した際に、前のフレームにおいて生成されたX線画像の明るさ、コントラスト等を検出し、後のフレームにおいて表示されるX線画像の明るさ、コントラスト等が所定の条件を満たすように、管電圧、管電流、パルス幅、及びAGC倍率のうち少なくとも一つを制御する。フィードバック制御により、1回の透視の実行中に被写体条件が変化しても、適切な管電圧、管電流、パルス幅、及びAGC倍率が選択される。したがって、透視の終了時には、管電圧、管電流、パルス幅、及びAGC倍率のうち少なくとも一つが、被写体条件の変化に応じて適切に制御された状態となる。また、1回の透視において最後に生成されるX線画像は、明るさ、コントラスト等が所定の条件を満たすように調整された状態となる。 Further, the processing circuit 44 is controlled by the system control function 441 and the X-ray control function 445 to set the X-ray condition in the subsequent frame based on the output of the X-ray detector 13 in the previous frame during execution of fluoroscopy. I do. That is, the processing circuit 44 performs feedback control for changing the X-ray condition and the like based on the change in the subject condition during the execution of one fluoroscopy. For example, in the feedback control, when the processing circuit 44 changes the body thickness or the structure of the internal tissue of the subject by the operation of moving the top plate 33 on which the subject is placed during the execution of one fluoroscopy. , The tube voltage, tube so that the brightness, contrast, etc. of the X-ray image generated in the previous frame are detected and the brightness, contrast, etc. of the X-ray image displayed in the subsequent frame satisfy the predetermined conditions. Control at least one of current, pulse width, and AGC magnification. With feedback control, the appropriate tube voltage, tube current, pulse width, and AGC magnification are selected even if the subject conditions change during one fluoroscopy. Therefore, at the end of fluoroscopy, at least one of the tube voltage, tube current, pulse width, and AGC magnification is in a state of being appropriately controlled in response to changes in subject conditions. In addition, the X-ray image finally generated in one fluoroscopy is in a state in which brightness, contrast, and the like are adjusted so as to satisfy predetermined conditions.

(ステップS105)
処理回路44は、透視を終了させる指示が入力されたか否かを判断する。このとき、処理回路44は、例えば、フットスイッチにおいて操作者による操作が行われているか否かを検出することにより、透視を終了させる指示が入力されたか否かを判断する。透視を終了させる指示が入力された場合(ステップS105−Yes)、処理はステップS106に進む。処理回路44は、透視を終了させる指示が入力されるまで、ステップS104の処理による透視の実行を継続する。
(Step S105)
The processing circuit 44 determines whether or not an instruction to end fluoroscopy has been input. At this time, the processing circuit 44 determines whether or not an instruction to end fluoroscopy has been input by detecting, for example, whether or not an operation is being performed by the operator on the foot switch. When an instruction to end fluoroscopy is input (step S105-Yes), the process proceeds to step S106. The processing circuit 44 continues the execution of fluoroscopy by the process of step S104 until an instruction to end fluoroscopy is input.

(ステップS106)
処理回路44は、システム制御機能441と、駆動制御機能444と、X線制御機能445と、画像生成機能446とを実行することにより、X線撮影による透視を終了する。
X線撮影による透視が終了すると、処理はステップS101に戻る。
(Step S106)
The processing circuit 44 terminates fluoroscopy by X-ray imaging by executing the system control function 441, the drive control function 444, the X-ray control function 445, and the image generation function 446.
When the fluoroscopy by X-ray photography is completed, the process returns to step S101.

処理回路44は、X線撮影による透視が終了したことに基づいて、撮像条件設定処理を実行することにより、次に実行される透視における撮像条件を設定する。具体的には、処理回路44は、第1の動画撮像が終了したことに基づいて、第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定し、第2の動画撮像が終了したことに基づいて、第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。また、処理回路44は、S101の処理により次に実行される透視における撮像条件を設定した後、ステップS102の処理により検査を終了させることを示す指示が入力されたか否かを判断する。したがって、検査が終了されることにより、次の透視が実行されない場合であっても、次の透視における撮像条件が設定される。 The processing circuit 44 sets the imaging conditions for the next fluoroscopy by executing the imaging condition setting process based on the completion of fluoroscopy by X-ray imaging. Specifically, the processing circuit 44 determines the size of the X-ray focal point in the second moving image imaging based on the completion of the first moving image imaging, and the second moving image imaging is completed. Based on this, the magnitude of the X-ray focus in the third moving image imaging is determined. Further, the processing circuit 44 determines whether or not an instruction indicating that the inspection is terminated by the processing of step S102 is input after setting the imaging conditions for fluoroscopy to be executed next by the processing of S101. Therefore, by completing the examination, the imaging conditions for the next fluoroscopy are set even if the next fluoroscopy is not executed.

上述したように、透視実行処理において、処理回路44は、入力インターフェース43において透視を実行させる指示が入力されると、透視を開始する。処理回路44は、入力インターフェース43において透視を実行させる指示が解除されると、透視を終了する。そして、処理回路44は、入力インターフェース43において、透視を実行させる指示が再び入力されると、次の透視を実行する。1回の透視の実行中において、処理回路44は、被写体条件の変化に基づいて、X線画像の画質が適切に確保されるように撮像条件を制御する。 As described above, in the fluoroscopy execution process, the processing circuit 44 starts fluoroscopy when an instruction to execute fluoroscopy is input in the input interface 43. The processing circuit 44 ends fluoroscopy when the instruction to execute fluoroscopy at the input interface 43 is released. Then, when the instruction to execute fluoroscopy is input again in the input interface 43, the processing circuit 44 executes the next fluoroscopy. During the execution of one fluoroscopy, the processing circuit 44 controls the imaging conditions so that the image quality of the X-ray image is appropriately ensured based on the change in the subject conditions.

(撮像条件設定処理)
次に、X線診断装置1により実行される撮像条件設定処理の動作について説明する。なお、以下で説明する撮像条件設定処理における処理手順は一例に過ぎず、各処理は可能な限り適宜変更可能である。また、以下で説明する処理手順について、実施の形態に応じて、適宜、ステップの省略、置換、及び追加が可能である。図3は、本実施形態に係る撮像条件設定処理の手順の一例を示すフローチャートであり、図2に示したステップS101の撮像条件設定処理に対応している。
(Imaging condition setting process)
Next, the operation of the imaging condition setting process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. The processing procedure in the imaging condition setting process described below is only an example, and each process can be changed as appropriate as possible. Further, with respect to the processing procedure described below, steps can be omitted, replaced, and added as appropriate according to the embodiment. FIG. 3 is a flowchart showing an example of the procedure of the imaging condition setting process according to the present embodiment, and corresponds to the imaging condition setting process of step S101 shown in FIG.

(ステップS111)
処理回路44は、次に実行される透視について、検査開始後の何回目の透視であるかを示す数(以下、透視回数と呼ぶ)を取得する。処理回路44は、例えば、検査におけるこれまでの透視の実行回数を取得することにより、次の透視の透視回数を決定する。例えば、検査開始後においてこれまでに透視が行われていない場合、処理回路44は、次の透視が検査開始後の初めての透視であると判断し、透視回数を1に決定する。また、検査開始後においてこれまでに1回の透視が行われている場合、処理回路44は、次の透視が検査開始後の2回目の透視であると判断し、透視回数を2に決定する。以下、一例として、透視回数がNの場合の処理について説明する。
(Step S111)
The processing circuit 44 acquires a number (hereinafter, referred to as the number of fluoroscopy) indicating the number of fluoroscopy after the start of the inspection for the next fluoroscopy to be executed. The processing circuit 44 determines, for example, the number of times of fluoroscopy of the next fluoroscopy by acquiring the number of times of fluoroscopy performed so far in the inspection. For example, if fluoroscopy has not been performed so far after the start of the examination, the processing circuit 44 determines that the next fluoroscopy is the first fluoroscopy after the start of the examination, and determines the number of fluoroscopy to 1. Further, if one fluoroscopy has been performed after the start of the examination, the processing circuit 44 determines that the next fluoroscopy is the second fluoroscopy after the start of the examination, and determines the number of fluoroscopy to 2. .. Hereinafter, as an example, processing when the number of times of fluoroscopy is N will be described.

(ステップS112)
処理回路44は、次の透視の透視回数Nが1であるか否かを判断する。処理回路44は、次の透視の透視回数Nが1であるか否かを判断することにより、次に実行される透視が検査開始後に初めて実行される透視であるか、あるいは、検査開始後の2回目以降の透視であるかを判断する。透視回数Nが1である場合(ステップS112−Yes)、次に実行される透視が検査開始後の初めての透視であると判断され、処理はステップS113に進む。透視回数Nが1でない場合(ステップS112−Yes)、すなわち、透視回数Nが2以上である場合、次に実行される透視が検査開始後の2回目以降の透視であると判断され、処理はステップS114に進む。
(Step S112)
The processing circuit 44 determines whether or not the number of fluoroscopy N of the next fluoroscopy is 1. By determining whether or not the number of fluoroscopy N of the next fluoroscopy is 1, the processing circuit 44 determines whether the fluoroscopy to be executed next is the fluoroscopy performed for the first time after the start of the examination, or after the start of the examination. Judge whether it is fluoroscopy after the second time. When the number of fluoroscopy N is 1 (step S112-Yes), it is determined that the fluoroscopy to be executed next is the first fluoroscopy after the start of the examination, and the process proceeds to step S113. When the number of fluoroscopy N is not 1 (step S112-Yes), that is, when the number of fluoroscopy N is 2 or more, it is determined that the next fluoroscopy to be performed is the second or subsequent fluoroscopy after the start of the examination, and the process is performed. The process proceeds to step S114.

(ステップS113)
処理回路44は、撮像条件設定機能442及びフィルタ選択機能443により、透視回数1の透視における撮像条件を既定の条件に設定する。このとき、処理回路44は、例えば、撮像条件設定機能442により、焦点サイズを小焦点に設定し、フィルタ選択機能443により、使用される付加フィルタをフィルタDに決定する。そして、処理回路44は、撮像条件設定機能442により、小焦点及びフィルタDに対応する既定の撮像条件をメモリ41から取得し、取得した撮像条件を、透視回数Nの透視における撮像条件、すなわち、次に実行される透視における撮像条件として設定する。そして、処理回路44は、撮像条件設定処理を終了し、処理はステップS103に進む。
(Step S113)
The processing circuit 44 uses the imaging condition setting function 442 and the filter selection function 443 to set the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy 1 as default conditions. At this time, the processing circuit 44 sets the focal size to a small focus by, for example, the imaging condition setting function 442, and determines the additional filter to be used in the filter D by the filter selection function 443. Then, the processing circuit 44 acquires the default imaging conditions corresponding to the small focus and the filter D from the memory 41 by the imaging condition setting function 442, and obtains the acquired imaging conditions as the imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, that is, It is set as an imaging condition in the next fluoroscopy. Then, the processing circuit 44 ends the imaging condition setting process, and the process proceeds to step S103.

(ステップS114)
処理回路44は、透視回数Nが2以上である場合に、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタを選択する処理(以下、フィルタ選択処理と呼ぶ)を実行する。
(Step S114)
When the number of fluoroscopy N is 2 or more, the processing circuit 44 executes a process of selecting an additional filter to be used in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N (hereinafter, referred to as a filter selection process) by the filter selection function 443.

(ステップS115)
処理回路44は、ステップS114の処理により決定された付加フィルタに対応する撮像条件をメモリ41から取得し、取得した撮像条件を、透視回数Nの透視における撮像条件、すなわち、次に実行される透視における撮像条件として設定する。そして、処理回路44は、撮像条件設定処理を終了し、処理はステップS103に進む。
(Step S115)
The processing circuit 44 acquires the imaging conditions corresponding to the additional filter determined by the processing of step S114 from the memory 41, and obtains the acquired imaging conditions as the imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, that is, the fluoroscopy to be executed next. It is set as the imaging condition in. Then, the processing circuit 44 ends the imaging condition setting process, and the process proceeds to step S103.

(フィルタ選択処理)
以下、X線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の動作について説明する。なお、以下で説明するフィルタ選択処理における処理手順は一例に過ぎず、各処理は可能な限り適宜変更可能である。また、以下で説明する処理手順について、実施の形態に応じて、適宜、ステップの省略、置換、及び追加が可能である。図4は、本実施形態に係るフィルタ選択処理の手順の一例を示すフローチャートであり、図3に示したステップS114のフィルタ選択処理に対応している。
(Filter selection process)
Hereinafter, the operation of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. The processing procedure in the filter selection process described below is only an example, and each process can be changed as appropriate as possible. Further, with respect to the processing procedure described below, steps can be omitted, replaced, and added as appropriate according to the embodiment. FIG. 4 is a flowchart showing an example of the procedure of the filter selection process according to the present embodiment, and corresponds to the filter selection process of step S114 shown in FIG.

(ステップS121)
処理回路44は、透視回数N−1の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、例えば、メモリ41に記憶されている透視回数N−1の透視における撮像条件を読み出すことにより、透視回数N−1の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数N−1の透視における撮像条件を取得することにより、検査開始後に実行された透視のうち、直前に実行された透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数N−1の透視における撮像条件として、例えば、焦点サイズ、フィルタ特定情報、管電圧、管電流、パルス幅及びAGC倍率を取得する。前述のように、透視の実行中には、被写体条件の変化に基づいてX線条件等を変更するフィードバック制御が行われ、透視の終了時には、管電圧、管電流、パルス幅、及びAGC倍率のうちの少なくとも一つが被写体条件の変化に応じて適切に制御された状態となる。したがって、直前に実行された透視における撮像条件を取得することにより、被写体条件の変化に応じて適切に制御された撮像条件を取得することができる。なお、直前に実行された透視において生成されたX線画像に基づく演算処理により、被写体条件の変化に応じてさらに適切に制御された撮像条件を算出し、算出した撮像条件を、直前に実行された透視における撮像条件として取得してもよい。
(Step S121)
The processing circuit 44 acquires the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. The processing circuit 44 acquires, for example, the imaging conditions for fluoroscopy having the number of fluoroscopy N-1 stored in the memory 41 by reading out the imaging conditions for fluoroscopy. The processing circuit 44 acquires the imaging conditions for fluoroscopy performed immediately before the start of the examination by acquiring the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. The processing circuit 44 acquires, for example, the focal size, filter specific information, tube voltage, tube current, pulse width, and AGC magnification as imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. As described above, during fluoroscopy, feedback control is performed to change the X-ray conditions and the like based on changes in subject conditions, and at the end of fluoroscopy, the tube voltage, tube current, pulse width, and AGC magnification are measured. At least one of them is in a state of being appropriately controlled according to a change in subject conditions. Therefore, by acquiring the imaging conditions in fluoroscopy executed immediately before, it is possible to acquire the imaging conditions appropriately controlled according to the change in the subject conditions. It should be noted that the arithmetic processing based on the X-ray image generated in the fluoroscopy executed immediately before is used to calculate the imaging conditions that are more appropriately controlled according to the change in the subject conditions, and the calculated imaging conditions are executed immediately before. It may be acquired as an imaging condition in fluoroscopy.

(ステップS122)
処理回路44は、透視回数N−1の透視における撮像条件に基づいて、透視回数N−1の透視における体厚を決定する。具体的には、処理回路44は、透視回数N−1の透視の終了時におけるフィルタ特定情報、管電圧、管電流、パルス幅及びAGC倍率に基づいて、メモリ41に予め記憶された対応表、又は既知の計算方法により、透視回数N−1の透視における体厚の推定値を算出する。透視回数N−1の透視の終了時における体厚は、透視回数Nの透視の開始時における体厚と同じであるとする。透視回数N−1の透視の終了時における体厚は、前述のフィードバック制御により被写体条件の変化に応じて適切に調整されたX線条件に基づいて算出された、被検体の体厚の推定値である。なお、処理回路44は、例えば、入力インターフェース43において体厚を入力する操作入力を検出することにより、体厚を取得してもよい。フィードバック制御により調整されたX線条件に基づいて算出された被検体の体厚の推定値は、体厚に関する情報の一例である。
(Step S122)
The processing circuit 44 determines the body thickness in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1 based on the imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. Specifically, the processing circuit 44 has a correspondence table stored in advance in the memory 41 based on the filter specific information, the tube voltage, the tube current, the pulse width, and the AGC magnification at the end of the fluoroscopy of the number of fluoroscopy N-1. Alternatively, an estimated value of body thickness in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1 is calculated by a known calculation method. It is assumed that the body thickness at the end of fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1 is the same as the body thickness at the start of fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. The body thickness at the end of fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1 is an estimated value of the body thickness of the subject calculated based on the X-ray condition appropriately adjusted according to the change in the subject condition by the feedback control described above. Is. The processing circuit 44 may acquire the body thickness by, for example, detecting an operation input for inputting the body thickness at the input interface 43. The estimated body thickness of the subject calculated based on the X-ray conditions adjusted by the feedback control is an example of information on the body thickness.

(ステップS123)
処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像モード、最大電力、被曝限度、体厚、及びSIDを取得する。この際、処理回路44は、例えば、メモリ41から、透視回数Nの透視における撮像モード、最大電力、被曝限度、体厚、及びSIDを読み出す。
(Step S123)
The processing circuit 44 acquires the imaging mode, maximum power, exposure limit, body thickness, and SID in fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N. At this time, the processing circuit 44 reads, for example, the imaging mode, the maximum power, the exposure limit, the body thickness, and the SID in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N from the memory 41.

また、処理回路44は、例えば、入力インターフェース43として使用されるディスプレイ42での操作入力を検出することにより、透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズを取得する。例えば、撮像モードが通常モードである場合、処理回路44は、透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズとして、FPD1の検出素子の素子サイズを取得する。また、撮像モードが高精細モードである場合、処理回路44は、透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズとして、FPD2の検出素子の素子サイズを取得する。 Further, the processing circuit 44 acquires the FPD element size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, for example, by detecting the operation input on the display 42 used as the input interface 43. For example, when the imaging mode is the normal mode, the processing circuit 44 acquires the element size of the detection element of the FPD1 as the FPD element size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. When the imaging mode is the high-definition mode, the processing circuit 44 acquires the element size of the detection element of the FPD2 as the FPD element size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N.

(ステップS124)
処理回路44は、ステップS123の処理において取得した透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズに基づいて、メモリ41に記憶された複数の対応表(テーブル)から対応する対応表を読み出す。
(Step S124)
The processing circuit 44 reads out the corresponding correspondence table from the plurality of correspondence tables (tables) stored in the memory 41 based on the FPD element size in the fluoroscopy of the fluoroscopic number N acquired in the process of step S123.

図5及び図6は、ステップS124において付加フィルタを決定する処理に用いられる対応表(テーブル)の一例を示す図である。図5は、撮像モードが通常モードの場合に用いられる対応表の一例である。図6は、撮像モードが高精細モードの場合に用いられる対応表の一例である。図5及び図6のそれぞれは、最大電力、被曝限度、SID、及び体厚と、使用される付加フィルタとの関係を示している。例えば図5は、同一の最大電力において、被曝限度、SID及び体厚が大きいほど、薄い付加フィルタが使用される関係を示している(但し、付加フィルタ厚:A>B>C>D)。この関係は、体厚が25cmを超えた場合に、顕著に出現する。図6も同様の関係を示している。処理回路44は、撮像モードが通常モードの場合、すなわち、透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズがFPD1の検出素子の素子サイズである場合、図5の対応表を読み出す。処理回路44は、撮像モードが高解像モードの場合、すなわち、透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズがFPD2の検出素子の素子サイズである場合、図6の対応表を読み出す。 5 and 6 are diagrams showing an example of a correspondence table (table) used in the process of determining the additional filter in step S124. FIG. 5 is an example of a correspondence table used when the imaging mode is the normal mode. FIG. 6 is an example of a correspondence table used when the imaging mode is the high-definition mode. Each of FIGS. 5 and 6 shows the relationship between the maximum power, the exposure limit, the SID, and the body thickness and the additional filter used. For example, FIG. 5 shows a relationship in which a thinner additional filter is used as the exposure limit, SID, and body thickness are larger at the same maximum power (however, additional filter thickness: A> B> C> D). This relationship is noticeable when the body thickness exceeds 25 cm. FIG. 6 shows a similar relationship. The processing circuit 44 reads out the correspondence table of FIG. 5 when the imaging mode is the normal mode, that is, when the FPD element size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is the element size of the detection element of FPD1. The processing circuit 44 reads out the correspondence table of FIG. 6 when the imaging mode is the high resolution mode, that is, when the FPD element size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is the element size of the detection element of FPD2.

(ステップS125)
処理回路44は、ステップS124の処理において読み出した対応表と、透視回数Nの透視における最大電力、被曝限度、SID、及び体厚とに基づいて、フィルタA〜フィルタDの中から、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタを決定する。処理回路44は、決定した付加フィルタに関するフィルタ特定情報を、メモリ41に記憶する。
(Step S125)
The processing circuit 44 selects the number of fluoroscopy N from the filters A to D based on the correspondence table read in the process of step S124 and the maximum power, exposure limit, SID, and body thickness in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N. Determine the additional filter used for fluoroscopy. The processing circuit 44 stores the filter specific information regarding the determined additional filter in the memory 41.

ステップS124及びステップS125の処理では、処理回路44は、FPD素子サイズが大きい場合、FPD素子サイズが小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。例えば、処理回路44は、FPD素子サイズが第1の大きさである場合、第1の厚みを有する第1のフィルタを選択し、FPD素子サイズが第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、第1の厚みよりも大きい第2の厚みを有する第2のフィルタを選択する。補足すると、この例では、FPD素子サイズが大きいか否かは、FPD素子サイズが第1の大きさ及び第2の大きさのうち、第2の大きさであるか否かに対応する。言い換えると、この例では、FPD素子サイズが大きい場合とは、FPD素子サイズが第1の大きさ及び第2の大きさのうちの第2の大きさであるときに対応する。但し、これに限らず、第1の大きさと第2の大きさとの間の大きさの基準値を用い、FPD素子サイズが基準値以上であるか否かに応じて、FPD素子サイズが大きいか否かを判定してもよい。FPD画素サイズが大きいか否かについても同様である。また、FPD素子サイズ(FPD画素サイズ)が小さい場合は、同様に、FPD素子サイズが第1の大きさ及び第2の大きさのうち、第1の大きさであるときに対応する。これに限らず、基準値との大小関係を用いてFPD素子サイズ(FPD画素サイズ)が小さい場合を定めてもよいことも同様である。 In the processing of steps S124 and S125, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the FPD element size is large and the FPD element size is small. For example, when the FPD element size is the first size, the processing circuit 44 selects the first filter having the first thickness, and the FPD element size is larger than the first size. If, a second filter having a second thickness greater than the first thickness is selected. Supplementally, in this example, whether or not the FPD element size is large corresponds to whether or not the FPD element size is the second size of the first size and the second size. In other words, in this example, the case where the FPD element size is large corresponds to the case where the FPD element size is the second size of the first size and the second size. However, not limited to this, the FPD element size is large depending on whether or not the FPD element size is equal to or larger than the reference value by using the reference value of the size between the first size and the second size. It may be determined whether or not. The same applies to whether or not the FPD pixel size is large. Further, when the FPD element size (FPD pixel size) is small, similarly, it corresponds to the case where the FPD element size is the first size among the first size and the second size. Not limited to this, the case where the FPD element size (FPD pixel size) is small may be determined by using the magnitude relationship with the reference value.

また、処理回路44は、FPD素子サイズに基づいて、FPD画素サイズを取得してもよい。この場合、処理回路44は、FPD画素サイズが大きい場合、FPD画素サイズが小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。例えば、処理回路44は、FPD画素サイズが第1の大きさである場合、第1の厚みを有する第1のフィルタを選択し、FPD画素サイズが第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、第1の厚みよりも大きい第2の厚みを有する第2のフィルタを選択する。 Further, the processing circuit 44 may acquire the FPD pixel size based on the FPD element size. In this case, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the FPD pixel size is large and the FPD pixel size is small. For example, when the FPD pixel size is the first size, the processing circuit 44 selects the first filter having the first thickness, and the FPD pixel size is larger than the first size. If, a second filter having a second thickness greater than the first thickness is selected.

また、処理回路44は、撮像モードが通常モードである場合、撮像モードが高精細モードである場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。また、処理回路44は、最大電力が大きい場合、最大電力が小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。また、処理回路44は、被曝限度が小さい場合、被曝限度が大きい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。また、処理回路44は、SIDが小さい場合、SIDが大きい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。また、処理回路44は、体厚が小さい場合、体厚が大きい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。 Further, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the image pickup mode is the high-definition mode when the image pickup mode is the normal mode. Further, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the maximum power is large and the maximum power is small. Further, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the exposure limit is small or when the exposure limit is large. Further, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the SID is small or the SID is large. Further, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the body thickness is small or when the body thickness is large.

以下、本実施形態に係るX線診断装置1の効果について説明する。 Hereinafter, the effect of the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment will be described.

本実施形態のX線診断装置1は、X線検出器13における画素の大きさと、被検体の体厚に関する情報と、に基づいて、複数のフィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタを選択する。 The X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment is an X-ray detector from the focal point of an X-ray tube among a plurality of filters based on the pixel size in the X-ray detector 13 and information on the body thickness of the subject. Select the filter to be inserted in the X-ray path to 13.

詳しくは、本実施形態のX線診断装置1は、次の透視におけるFPD素子サイズと、体厚とに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを複数の付加フィルタの中から選択する。また、本実施形態のX線診断装置1は、次の透視におけるFPD画素サイズと、体厚とに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを複数の付加フィルタの中から選択する。 Specifically, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment provides an additional filter to be inserted into the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the FPD element size and the body thickness in the next fluoroscopy. Select from multiple additional filters. Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment includes a plurality of additional filters to be inserted into the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the FPD pixel size and the body thickness in the next fluoroscopy. Select from the additional filters of.

また、本実施形態のX線診断装置1は、検出素子の大きさに基づいて、X線検出器13における画素の大きさを取得し、X線検出器13における画素の大きさと被検体の体厚に関する情報とに基づいて、X線検出器13における画素の大きさが大きい場合に、X線検出器13における画素の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、X線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタとして選択する。 Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment acquires the size of the pixels in the X-ray detector 13 based on the size of the detection element, and the size of the pixels in the X-ray detector 13 and the body of the subject. A filter having a thickness greater than or equal to the thickness of the filter selected when the size of the pixels in the X-ray detector 13 is large and the size of the pixels in the X-ray detector 13 is small, based on the information on the thickness. , Select as a filter to be inserted in the X-ray path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、FPD素子サイズが大きい場合に、FPD素子サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタを選択する。また、本実施形態のX線診断装置1は、FPD画素サイズが大きい場合に、FPD画素サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタを選択する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment selects an additional filter having a larger thickness when the FPD element size is large than when the FPD element size is small. Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment selects an additional filter having a larger thickness when the FPD pixel size is large than when the FPD pixel size is small.

すなわち、上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、体厚に加えて、FPD素子サイズを考慮することにより、目標線量の変化を考慮して、適切な付加フィルタを選択することができる。 That is, with the above configuration and operation, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, an appropriate additional filter is taken into consideration by considering the change in the target dose by considering the FPD element size in addition to the body thickness. Can be selected.

例えば、FPD素子サイズが大きい場合、FPD素子サイズが小さい場合に比べて、FPD画素サイズが大きくなり、目標線量が小さくなる。このため、FPD素子サイズが大きい場合、厚みの大きい付加フィルタを使用した場合でも、目標線量を確保しやすい。本実施形態のX線診断装置1によれば、FPD素子サイズが大きい場合、FPD素子サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しやすい場合において、X線の低減率が大きい付加フィルタが選択されることにより、X線画像の画質を確保し、かつ、被検体の被曝線量を低減することができる。 For example, when the FPD element size is large, the FPD pixel size is large and the target dose is small as compared with the case where the FPD element size is small. Therefore, when the FPD element size is large, it is easy to secure the target dose even when a thick additional filter is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the FPD element size is large, an additional filter having a larger thickness is selected than when the FPD element size is small. Therefore, when it is easy to secure the target dose, by selecting an additional filter having a large X-ray reduction rate, it is possible to secure the image quality of the X-ray image and reduce the exposure dose of the subject. ..

また、例えば、FPD素子サイズが小さい場合、FPD素子サイズが大きい場合に比べて、FPD画素サイズが小さくなり、目標線量が大きくなる。このため、FPD素子サイズが小さい場合、厚みの小さい付加フィルタを使用した場合には、目標線量を確保しにくい。本実施形態のX線診断装置1によれば、FPD素子サイズが小さい場合、FPD画素サイズが大きい場合に比べて、厚みの小さい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しにくい場合において、X線の低減率が小さい付加フィルタが選択されることにより、目標線量に応じた適切な付加フィルタを選択することができる。 Further, for example, when the FPD element size is small, the FPD pixel size is small and the target dose is large as compared with the case where the FPD element size is large. Therefore, when the FPD element size is small, it is difficult to secure the target dose when an additional filter having a small thickness is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the FPD element size is small, an additional filter having a smaller thickness is selected than when the FPD pixel size is large. Therefore, when it is difficult to secure the target dose, an additional filter having a small X-ray reduction rate can be selected, so that an appropriate additional filter according to the target dose can be selected.

また、本実施形態のX線診断装置1は、X線検出器13における画素の大きさと、被検体の体厚に関する情報と、X線管の最大の出力、単位時間あたりの被写体へのX線の入射線量の上限値、及び線源受像面間距離のうち少なくとも1つと、に基づいて、複数のフィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタを選択する。 Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment includes information on the pixel size in the X-ray detector 13, the body thickness of the subject, the maximum output of the X-ray tube, and X-rays to the subject per unit time. Is inserted into the X-ray path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 of the plurality of filters based on the upper limit of the incident dose and at least one of the distances between the source image receiving surfaces. Select a filter.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、FPD画素サイズと体厚に加えて、最大電力、被曝限度、及びSIDのうち少なくとも1つに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを複数の付加フィルタの中から選択することにより、より適切な付加フィルタを選択することができる。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment detects X-rays from the focal point of an X-ray tube based on at least one of maximum power, exposure limit, and SID in addition to FPD pixel size and body thickness. By selecting the additional filter to be inserted in the path to the vessel 13 from the plurality of additional filters, a more appropriate additional filter can be selected.

(第2の実施形態)
第2の実施形態について説明する。本実施形態は、第1の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本実施形態では、処理回路44は、FPD素子サイズの代わりに、ビニング数に基づいて、次の透視において使用する付加フィルタを決定する。ビニング数は、複数のFPD検出素子をFPDの1画素として扱う制御方法(ビニング制御)における、FPDの1画素に対応するFPD検出素子の数である。第1の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。
(Second Embodiment)
A second embodiment will be described. This embodiment is a modification of the configuration of the first embodiment as follows. In this embodiment, the processing circuit 44 determines an additional filter to be used in the next fluoroscopy based on the number of binnings instead of the FPD element size. The number of binnings is the number of FPD detection elements corresponding to one pixel of the FPD in the control method (binning control) in which a plurality of FPD detection elements are treated as one pixel of the FPD. The same configuration, operation, and effect as in the first embodiment will not be described.

X線検出器13には、1種類のFPDが設けられている。 The X-ray detector 13 is provided with one type of FPD.

処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視におけるビニング数と、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択する。ここで、FPD画素サイズは、ビニング数の変化に応じて変化する。すなわち、処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視におけるFPD画素サイズと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択する。 The processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to perform X-rays from the focal point of the X-ray tube among the plurality of additional filters based on the number of binnings in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness. Select an additional filter to be inserted in the path to the detector 13. Here, the FPD pixel size changes according to the change in the number of binning. That is, the processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to focus the X-ray tube among the plurality of additional filters based on the FPD pixel size, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness in the fluoroscopy with the number of times of fluoroscopy N. Select an additional filter to be inserted in the path from to to the X-ray detector 13.

処理回路44は、X線制御機能445及び画像生成機能446により、ビニング数を制御することにより、選択された撮像モードに応じてFPD画素サイズを切り替える。例えば、撮像モードとして通常モードが選択された場合、処理回路44は、ビニング数を4に制御し、FPD画素サイズをFPDの検出素子の4つ分に制御する。この場合、処理回路44は、4つのFPDの検出素子をFPDの1画素とし、4つの検出素子からの出力を1つに束ねて、FPDの1画素に対応する出力として読み出す。また、例えば、撮像モードとして高精細モードが選択された場合、処理回路44は、ビニング数を1に制御し、FPD画素サイズをFPDの検出素子の1つ分に制御する。この場合、処理回路44は、1つのFPDの検出素子をFPDの1画素とし、FPDの検出素子のそれぞれの出力を、FPDにおける1画素に対応する出力として読み出す。 The processing circuit 44 switches the FPD pixel size according to the selected imaging mode by controlling the number of binnings by the X-ray control function 445 and the image generation function 446. For example, when the normal mode is selected as the imaging mode, the processing circuit 44 controls the number of binning to 4 and the FPD pixel size to 4 of the FPD detection elements. In this case, the processing circuit 44 sets the detection elements of the four FPDs as one pixel of the FPD, bundles the outputs from the four detection elements into one, and reads them out as the output corresponding to one pixel of the FPD. Further, for example, when the high-definition mode is selected as the imaging mode, the processing circuit 44 controls the number of binning to 1, and controls the FPD pixel size to one of the detection elements of the FPD. In this case, the processing circuit 44 sets one FPD detection element as one pixel of the FPD, and reads out the output of each of the FPD detection elements as an output corresponding to one pixel in the FPD.

他の構成は、第1の実施形態と同じである。 Other configurations are the same as in the first embodiment.

以下、X線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の動作について説明する。図7は、本実施形態に係るX線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の手順の一例を示すフローチャートであり、図3に示したステップS114のフィルタ選択処理に対応している。図7におけるステップS131〜ステップS132の処理は、それぞれ、第1の実施形態におけるステップS121〜ステップS122の処理と同様のため、説明を省略する。 Hereinafter, the operation of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. FIG. 7 is a flowchart showing an example of the procedure of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment, and corresponds to the filter selection process of step S114 shown in FIG. Since the processes of steps S131 to S132 in FIG. 7 are the same as the processes of steps S121 to S122 in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

(フィルタ選択処理)
(ステップS133)
処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、例えば、メモリ41から透視回数Nの透視における撮像条件を読み出す。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得することにより、次の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件として、例えば、ビニング数、最大電力、被曝限度、体厚、及びSIDを取得する。
(Filter selection process)
(Step S133)
The processing circuit 44 acquires the imaging condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N. The processing circuit 44 reads, for example, the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N from the memory 41. The processing circuit 44 acquires the imaging condition in the next fluoroscopy by acquiring the imaging condition in the fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. The processing circuit 44 acquires, for example, the number of binnings, the maximum power, the exposure limit, the body thickness, and the SID as imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N.

(ステップS134)
処理回路44は、ステップS133の処理において取得した透視回数Nの透視におけるビニング数に基づいて、メモリ41に記憶された複数の対応表(テーブル)から対応する対応表を読み出す。例えば、ビニング数が4である場合、図5の対応表が選択される。また、例えば、ビニング数が1である場合、図6の対応表が選択される。
(Step S134)
The processing circuit 44 reads out the corresponding correspondence table from the plurality of correspondence tables (tables) stored in the memory 41 based on the binning number in the fluoroscopy of the fluoroscopic number N acquired in the process of step S133. For example, when the number of binning is 4, the correspondence table of FIG. 5 is selected. Further, for example, when the number of binning is 1, the correspondence table of FIG. 6 is selected.

(ステップS135)
処理回路44は、ステップS134の処理において読み出した対応表と、透視回数Nの透視における最大電力、被曝限度、SID、及び体厚とに基づいて、フィルタA〜フィルタDの中から、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタを決定する。
(Step S135)
The processing circuit 44 selects the number of fluoroscopy N from the filters A to D based on the correspondence table read in the process of step S134 and the maximum power, exposure limit, SID, and body thickness in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N. Determine the additional filter used for fluoroscopy.

ステップS134及びステップS135の処理では、処理回路44は、ビニング数が大きい場合、ビニング数が小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。すなわち、処理回路44は、FPD画素サイズが大きい場合、FPD画素サイズが小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。例えば、処理回路44は、ビニング数が第1の大きさである場合、第1の厚みを有する第1のフィルタを選択し、ビニング数が第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、第1の厚みよりも大きい第2の厚みを有する第2のフィルタを選択する。また、処理回路44は、ビニング数に基づいて、FPD画素サイズを取得してもよい。この場合、処理回路44は、FPD画素サイズが大きい場合、FPD画素サイズが小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。例えば、処理回路44は、FPD画素サイズが第1の大きさである場合、第1の厚みを有する第1のフィルタを選択し、FPD画素サイズが第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、第1の厚みよりも大きい第2の厚みを有する第2のフィルタを選択する。その他の処理は、第1の実施形態のステップS124及びステップS125の処理と同じであるため、説明を省略する。 In the processing of steps S134 and S135, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the number of binning is large and the number of binning is small. That is, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the FPD pixel size is large and the FPD pixel size is small. For example, when the binning number is the first magnitude, the processing circuit 44 selects the first filter having the first thickness, and the binning number is the second magnitude larger than the first magnitude. In the case, a second filter having a second thickness larger than the first thickness is selected. Further, the processing circuit 44 may acquire the FPD pixel size based on the number of binnings. In this case, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the FPD pixel size is large and the FPD pixel size is small. For example, when the FPD pixel size is the first size, the processing circuit 44 selects the first filter having the first thickness, and the FPD pixel size is larger than the first size. If, a second filter having a second thickness greater than the first thickness is selected. Since the other processes are the same as the processes of steps S124 and S125 of the first embodiment, the description thereof will be omitted.

以下、本実施形態に係るX線診断装置1の効果について説明する。 Hereinafter, the effect of the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment will be described.

本実施形態のX線診断装置1は、X線検出器13の1画素に対応する検出素子の数に基づいて、X線検出器13における画素の大きさを取得し、X線検出器13における画素の大きさと被検体の体厚に関する情報とに基づいて、X線検出器13における画素の大きさが大きい場合に、X線検出器13における画素の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、X線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタとして選択する。 The X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment acquires the size of the pixels in the X-ray detector 13 based on the number of detection elements corresponding to one pixel of the X-ray detector 13, and the X-ray detector 13 Based on information about the pixel size and the body thickness of the subject, the filter selected when the pixel size in the X-ray detector 13 is large and the pixel size in the X-ray detector 13 is small. A filter having a thickness greater than or equal to the thickness is selected as a filter to be inserted into the X-ray path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、ビニング数と、体厚とに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを複数の付加フィルタの中から選択する。また、本実施形態のX線診断装置1は、ビニング数が大きい場合に、ビニング数が小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタを選択する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment inserts an additional filter that is inserted into the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the number of binnings and the body thickness. Select from. Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment selects an additional filter having a larger thickness when the number of binning is large than when the number of binning is small.

ビニング数が異なる場合、FPD画素サイズが異なるため、目標線量が異なり、適切な付加フィルタが異なる。上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、体厚に加えて、ビニング数を考慮することにより、目標線量の変化を考慮して、適切な付加フィルタを選択することができる。 When the number of binnings is different, the FPD pixel size is different, so that the target dose is different and the appropriate additional filter is different. With the above configuration and operation, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, an appropriate additional filter is selected in consideration of the change in the target dose by considering the number of binnings in addition to the body thickness. be able to.

例えば、ビニング数が大きい場合、ビニング数が小さい場合に比べて、FPD画素サイズが大きくなり、目標線量が小さくなる。このため、ビニング数が大きい場合、厚みの大きい付加フィルタを使用した場合でも、目標線量を確保しやすい。本実施形態のX線診断装置1によれば、ビニング数が大きい場合、ビニング数が小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しやすい場合において、X線の低減率が大きい付加フィルタが選択されることにより、X線画像の画質を確保し、かつ、被検体の被曝線量を低減することができる。 For example, when the number of binning is large, the FPD pixel size is large and the target dose is small as compared with the case where the number of binning is small. Therefore, when the number of binnings is large, it is easy to secure the target dose even when a thick additional filter is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the number of binning is large, an additional filter having a larger thickness is selected than when the number of binning is small. Therefore, when it is easy to secure the target dose, by selecting an additional filter having a large X-ray reduction rate, it is possible to secure the image quality of the X-ray image and reduce the exposure dose of the subject. ..

また、例えば、ビニング数が小さい場合、ビニング数が大きい場合に比べて、FPD画素サイズが小さくなり、目標線量が大きくなる。このため、ビニング数が小さい場合、厚みの小さい付加フィルタを使用した場合には、目標線量を確保しにくい。本実施形態のX線診断装置1によれば、FPD画素サイズが小さい場合、FPD画素サイズが大きい場合に比べて、厚みの小さい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しにくい場合において、X線の低減率が小さい付加フィルタが選択されることにより、目標線量に応じた適切な付加フィルタを選択することができる。 Further, for example, when the number of binning is small, the FPD pixel size is small and the target dose is large as compared with the case where the number of binning is large. Therefore, when the number of binning is small, it is difficult to secure the target dose when an additional filter having a small thickness is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the FPD pixel size is small, an additional filter having a smaller thickness is selected than when the FPD pixel size is large. Therefore, when it is difficult to secure the target dose, an additional filter having a small X-ray reduction rate can be selected, so that an appropriate additional filter according to the target dose can be selected.

(第3の実施形態)
第3の実施形態について説明する。本実施形態は、第1の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本実施形態では、処理回路44は、FPD素子サイズの代わりに、X線検出器13による出力に基づくX線画像における画素サイズに基づいて、次の透視において使用する付加フィルタを決定する。第1の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。
(Third Embodiment)
A third embodiment will be described. This embodiment is a modification of the configuration of the first embodiment as follows. In this embodiment, the processing circuit 44 determines the additional filter to be used in the next fluoroscopy based on the pixel size in the X-ray image based on the output by the X-ray detector 13 instead of the FPD element size. The same configuration, operation, and effect as in the first embodiment will not be described.

X線検出器13には、1種類のFPDが設けられている。 The X-ray detector 13 is provided with one type of FPD.

処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視における画素サイズと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択する。 The processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to X-ray from the focal point of the X-ray tube among the plurality of additional filters based on the pixel size, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness in the fluoroscopy with the number of times of see-through N. Select an additional filter to be inserted in the path to the detector 13.

処理回路44は、X線制御機能445及び画像生成機能446により、選択された撮像モードに応じて、画素サイズを切り替える。例えば、撮像モードとして通常モードが選択された場合、処理回路44は、画素サイズをFPDの画素の4つ分に制御する。この場合、処理回路44は、4つのFPDの画素からの出力を1つに束ねて、X線画像の1画素に対応する出力として読み出す。また、例えば、撮像モードとして高精細モードが選択された場合、処理回路44は、画素サイズをFPDの画素の1つ分に制御する。この場合、処理回路44は、FPDの画素のそれぞれの出力を、X線画像における1画素に対応する出力として読み出す。FPDの画素の1つ分の画素サイズは、画素サイズの第1の大きさの一例である。FPDの画素の4つ分の画素サイズは、画素サイズの第2の大きさの一例である。 The processing circuit 44 switches the pixel size according to the selected imaging mode by the X-ray control function 445 and the image generation function 446. For example, when the normal mode is selected as the imaging mode, the processing circuit 44 controls the pixel size to four pixels of the FPD. In this case, the processing circuit 44 bundles the outputs from the pixels of the four FPDs into one and reads them out as the output corresponding to one pixel of the X-ray image. Further, for example, when the high-definition mode is selected as the imaging mode, the processing circuit 44 controls the pixel size to one pixel of the FPD. In this case, the processing circuit 44 reads out the output of each pixel of the FPD as an output corresponding to one pixel in the X-ray image. The pixel size of one pixel of the FPD is an example of the first size of the pixel size. The pixel size of four pixels of the FPD is an example of the second size of the pixel size.

他の構成は、第1の実施形態と同じである。 Other configurations are the same as in the first embodiment.

以下、X線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の動作について説明する。図8は、本実施形態に係るX線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の手順の一例を示すフローチャートであり、図3に示したステップS114のフィルタ選択処理に対応している。図8におけるステップS141〜ステップS142の処理は、それぞれ、第1の実施形態におけるステップS121〜ステップS122の処理と同様のため、説明を省略する。 Hereinafter, the operation of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. FIG. 8 is a flowchart showing an example of the procedure of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment, and corresponds to the filter selection process of step S114 shown in FIG. Since the processes of steps S141 to S142 in FIG. 8 are the same as the processes of steps S121 to S122 in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

(フィルタ選択処理)
(ステップS143)
処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、例えば、メモリ41から透視回数Nの透視における撮像条件を読み出す。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得することにより、次の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件として、例えば、画素サイズ、最大電力、被曝限度、体厚、及びSIDを取得する。
(Filter selection process)
(Step S143)
The processing circuit 44 acquires the imaging condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N. The processing circuit 44 reads, for example, the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N from the memory 41. The processing circuit 44 acquires the imaging condition in the next fluoroscopy by acquiring the imaging condition in the fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. The processing circuit 44 acquires, for example, pixel size, maximum power, exposure limit, body thickness, and SID as imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N.

(ステップS144)
処理回路44は、ステップS143の処理において取得した透視回数Nの透視における画素サイズに基づいて、メモリ41に記憶された複数の対応表(テーブル)から対応する対応表を読み出す。例えば、画素サイズがFPDの画素の4つ分である場合、図5の対応表が選択される。また、例えば、画素サイズがFPDの画素の1つ分である場合、図6の対応表が選択される。
(Step S144)
The processing circuit 44 reads out the corresponding correspondence table from the plurality of correspondence tables (tables) stored in the memory 41 based on the pixel size in the fluoroscopy of the fluoroscopic number N acquired in the process of step S143. For example, when the pixel size is four pixels of the FPD, the correspondence table of FIG. 5 is selected. Further, for example, when the pixel size is one of the pixels of the FPD, the correspondence table of FIG. 6 is selected.

(ステップS145)
処理回路44は、ステップS144の処理において読み出した対応表と、透視回数Nの透視における最大電力、被曝限度、SID、及び体厚とに基づいて、フィルタA〜フィルタDの中から、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタを決定する。
(Step S145)
The processing circuit 44 selects the number of fluoroscopy N from the filters A to D based on the correspondence table read in the process of step S144 and the maximum power, the exposure limit, the SID, and the body thickness in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N. Determine the additional filter used for fluoroscopy.

ステップS144及びステップS145の処理では、処理回路44は、画素サイズが大きい場合、画素サイズが小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。例えば、処理回路44は、画素サイズが第1の大きさである場合、第1の厚みを有する第1のフィルタを選択し、画素サイズが第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、第1の厚みよりも大きい第2の厚みを有する第2のフィルタを選択する。その他の処理は、第1の実施形態のステップS124及びステップS125の処理と同じであるため、説明を省略する。 In the processing of steps S144 and S145, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the pixel size is large or the pixel size is small. For example, when the pixel size is the first size, the processing circuit 44 selects the first filter having the first thickness, and the pixel size is the second size larger than the first size. In the case, a second filter having a second thickness larger than the first thickness is selected. Since the other processes are the same as the processes of steps S124 and S125 of the first embodiment, the description thereof will be omitted.

以下、本実施形態に係るX線診断装置1の効果について説明する。 Hereinafter, the effect of the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment will be described.

本実施形態のX線診断装置1は、X線検出器13による出力に基づくX線画像における画素の大きさと被検体の体厚に関する情報とに基づいて、X線検出器13による出力に基づくX線画像における画素の大きさが大きい場合に、X線検出器13による出力に基づくX線画像における画素の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、X線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタとして選択する。 The X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment X based on the output by the X-ray detector 13 based on the information on the pixel size and the body thickness of the subject in the X-ray image based on the output by the X-ray detector 13. An X-ray tube is a filter having a thickness greater than or equal to the thickness of the filter selected when the pixel size in the X-ray image based on the output by the X-ray detector 13 is small when the pixel size in the line image is large. Select as a filter to be inserted into the X-ray path from the focus of the X-ray detector 13.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、画素サイズと、体厚とに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを複数の付加フィルタの中から選択し、画素サイズが大きい場合に、画素サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタを選択する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment has a plurality of additional filters that insert an additional filter into the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the pixel size and the body thickness. Select from among, and when the pixel size is large, select an additional filter having a larger thickness than when the pixel size is small.

すなわち、上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、体厚に加えて、画素サイズを考慮することにより、目標線量の変化を考慮して、適切な付加フィルタを選択することができる。 That is, with the above configuration and operation, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, by considering the pixel size in addition to the body thickness, an appropriate additional filter can be provided in consideration of the change in the target dose. You can choose.

例えば、画素サイズが大きい場合、画素サイズが小さい場合に比べて、目標線量が小さくなるため、厚みの大きい付加フィルタを使用した場合でも、目標線量を確保しやすい。本実施形態のX線診断装置1によれば、画素サイズが大きい場合、画素サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しやすい場合において、X線の低減率が大きい付加フィルタが選択されることにより、X線画像の画質を確保し、かつ、被検体の被曝線量を低減することができる。 For example, when the pixel size is large, the target dose is smaller than when the pixel size is small, so that it is easy to secure the target dose even when a thick additional filter is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the pixel size is large, an additional filter having a larger thickness is selected than when the pixel size is small. Therefore, when it is easy to secure the target dose, by selecting an additional filter having a large X-ray reduction rate, it is possible to secure the image quality of the X-ray image and reduce the exposure dose of the subject. ..

また、例えば、画素サイズが小さい場合、画素サイズが大きい場合に比べて、目標線量が大きくなるため、厚みの小さい付加フィルタを使用した場合には、目標線量を確保しにくい。本実施形態のX線診断装置1によれば、画素サイズが小さい場合、画素サイズが大きい場合に比べて、厚みの小さい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しにくい場合において、X線の低減率が小さい付加フィルタが選択されることにより、目標線量に応じた適切な付加フィルタを選択することができる。 Further, for example, when the pixel size is small, the target dose is larger than when the pixel size is large, so that it is difficult to secure the target dose when an additional filter having a small thickness is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the pixel size is small, an additional filter having a smaller thickness is selected than when the pixel size is large. Therefore, when it is difficult to secure the target dose, an additional filter having a small X-ray reduction rate can be selected, so that an appropriate additional filter according to the target dose can be selected.

(第4の実施形態)
第4の実施形態について説明する。本実施形態は、第1の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本実施形態では、処理回路44は、FPD素子サイズの代わりに、視野サイズに基づいて、次の透視において使用する付加フィルタを決定する。第1の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。
(Fourth Embodiment)
A fourth embodiment will be described. This embodiment is a modification of the configuration of the first embodiment as follows. In this embodiment, the processing circuit 44 determines an additional filter to be used in the next fluoroscopy based on the field size instead of the FPD element size. The same configuration, operation, and effect as in the first embodiment will not be described.

処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視における視野サイズと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択する。 The processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to perform X-rays from the focal point of the X-ray tube among the plurality of additional filters based on the visual field size, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness in the fluoroscopy with the number of times of fluoroscopy N. Select an additional filter to be inserted in the path to the detector 13.

他の構成は、第1の実施形態と同じである。 Other configurations are the same as in the first embodiment.

以下、X線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の動作について説明する。図9は、本実施形態に係るX線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の手順の一例を示すフローチャートであり、図3に示したステップS114のフィルタ選択処理に対応している。図9におけるステップS151〜ステップS152の処理は、それぞれ、第1の実施形態におけるステップS121〜ステップS122の処理と同様のため、説明を省略する。 Hereinafter, the operation of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. FIG. 9 is a flowchart showing an example of the procedure of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment, and corresponds to the filter selection process of step S114 shown in FIG. Since the processes of steps S151 to S152 in FIG. 9 are the same as the processes of steps S121 to S122 in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

(フィルタ選択処理)
(ステップS153)
処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、例えば、メモリ41から透視回数Nの透視における撮像条件を読み出す。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得することにより、次の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件として、例えば、視野サイズ、最大電力、被曝限度、体厚、及びSIDを取得する。
(Filter selection process)
(Step S153)
The processing circuit 44 acquires the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N. The processing circuit 44 reads, for example, the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N from the memory 41. The processing circuit 44 acquires the imaging condition in the next fluoroscopy by acquiring the imaging condition in the fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. The processing circuit 44 acquires, for example, the visual field size, the maximum power, the exposure limit, the body thickness, and the SID as imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N.

(ステップS154)
処理回路44は、ステップS153の処理において取得した透視回数Nの透視における視野サイズに基づいて、メモリ41に記憶された複数の対応表(テーブル)から対応する対応表を読み出す。例えば、視野サイズが第1の大きさである場合、図6の対応表が選択される。また、例えば、視野サイズが第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、図5の対応表が選択される。
(Step S154)
The processing circuit 44 reads out the corresponding correspondence table from the plurality of correspondence tables (tables) stored in the memory 41 based on the visual field size in the fluoroscopy of the fluoroscopic number N acquired in the process of step S153. For example, when the visual field size is the first size, the correspondence table of FIG. 6 is selected. Further, for example, when the visual field size is a second size larger than the first size, the correspondence table of FIG. 5 is selected.

(ステップS155)
処理回路44は、ステップS154の処理において読み出した対応表と、透視回数Nの透視における最大電力、被曝限度、SID、及び体厚とに基づいて、フィルタA〜フィルタDの中から、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタを決定する。
(Step S155)
The processing circuit 44 selects the number of fluoroscopy N from the filters A to D based on the correspondence table read in the process of step S154 and the maximum power, the exposure limit, the SID, and the body thickness in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N. Determine the additional filter used for fluoroscopy.

ステップS154及びステップS155の処理では、処理回路44は、視野サイズが大きい場合、視野サイズが小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。例えば、処理回路44は、視野サイズが第1の大きさである場合、第1の厚みを有する第1のフィルタを選択し、視野サイズが第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、第1の厚みよりも大きい第2の厚みを有する第2のフィルタを選択する。その他の処理は、第1の実施形態のステップS124及びステップS125の処理と同じであるため、説明を省略する。 In the processing of steps S154 and S155, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the visual field size is large and the visual field size is small. For example, when the field of view size is the first size, the processing circuit 44 selects the first filter having the first thickness, and the field of view size is a second size larger than the first size. In the case, a second filter having a second thickness larger than the first thickness is selected. Since the other processes are the same as the processes of steps S124 and S125 of the first embodiment, the description thereof will be omitted.

以下、本実施形態に係るX線診断装置1の効果について説明する。 Hereinafter, the effect of the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment will be described.

本実施形態のX線診断装置1は、X線照射領域の大きさと被検体の体厚に関する情報とに基づいて、X線照射領域の大きさが大きい場合に、X線照射領域の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、X線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタとして選択する。 In the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the size of the X-ray irradiation area is large, the size of the X-ray irradiation area is increased based on the size of the X-ray irradiation area and the information on the body thickness of the subject. A filter having a thickness greater than or equal to the thickness of the filter selected when it is small is selected as a filter to be inserted into the X-ray path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、視野サイズと、体厚とに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを複数の付加フィルタの中から選択し、視野サイズが大きい場合に、視野サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタを選択する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment inserts an additional filter into the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the visual field size and the body thickness. Select from among, and select an additional filter with a larger thickness when the field size is large than when the field size is small.

異なる視野サイズで透視を行う場合、散乱線の影響や目標線量が異なるため、適切な付加フィルタが異なる。上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、体厚に加えて、視野サイズを考慮することにより、散乱線の影響及び目標線量の変化を考慮して、適切な付加フィルタを選択することができる。 When fluoroscopy is performed with different field sizes, the effect of scattered radiation and the target dose are different, so the appropriate additional filter is different. With the above configuration and operation, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, it is appropriate to consider the influence of scattered radiation and the change in the target dose by considering the visual field size in addition to the body thickness. Additional filters can be selected.

例えば、視野サイズが大きい場合、視野サイズが小さい場合に比べて、X線が照射される領域が大きくなるため、散乱線が増加する。散乱線が増加すると、X線検出器13に入射するX線の線量が増加するため、厚みの大きい付加フィルタを使用した場合でも、目標線量を確保しやすい。本実施形態のX線診断装置1によれば、視野サイズが大きい場合、視野サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しやすい場合において、X線の低減率が大きい付加フィルタが選択されることにより、X線画像の画質を確保し、かつ、被検体の被曝線量を低減することができる。 For example, when the visual field size is large, the area irradiated with X-rays is larger than when the visual field size is small, so that the scattered rays increase. As the scattered radiation increases, the dose of X-rays incident on the X-ray detector 13 increases, so that it is easy to secure the target dose even when a thick additional filter is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the visual field size is large, an additional filter having a larger thickness is selected than when the visual field size is small. Therefore, when it is easy to secure the target dose, by selecting an additional filter having a large X-ray reduction rate, it is possible to secure the image quality of the X-ray image and reduce the exposure dose of the subject. ..

また、例えば、視野サイズが小さい場合、視野サイズが大きい場合に比べて、X線が照射される領域が小さくなるため、散乱線が減少する。散乱線が減少すると、X線検出器13に入射するX線の線量が減少するため、厚みの小さい付加フィルタを使用した場合には、目標線量を確保しにくい。本実施形態のX線診断装置1によれば、視野サイズが小さい場合、視野サイズが大きい場合に比べて、厚みの小さい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しにくい場合において、X線の低減率が小さい付加フィルタが選択されることにより、目標線量に応じた適切な付加フィルタを選択することができる。 Further, for example, when the visual field size is small, the area irradiated with X-rays is smaller than when the visual field size is large, so that the scattered rays are reduced. When the scattered radiation decreases, the dose of X-rays incident on the X-ray detector 13 decreases, so that it is difficult to secure the target dose when an additional filter having a small thickness is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the visual field size is small, an additional filter having a smaller thickness is selected than when the visual field size is large. Therefore, when it is difficult to secure the target dose, an additional filter having a small X-ray reduction rate can be selected, so that an appropriate additional filter according to the target dose can be selected.

(第5の実施形態)
第5の実施形態について説明する。本実施形態は、第1の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本実施形態では、処理回路44は、FPD素子サイズの代わりに、焦点サイズに基づいて、次の透視において使用する付加フィルタを決定する。第1の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。
(Fifth Embodiment)
A fifth embodiment will be described. This embodiment is a modification of the configuration of the first embodiment as follows. In this embodiment, the processing circuit 44 determines the additional filter to be used in the next fluoroscopy based on the focal size instead of the FPD element size. The same configuration, operation, and effect as in the first embodiment will not be described.

処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視における焦点サイズと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択する。 The processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to perform X-rays from the focal point of the X-ray tube among the plurality of additional filters based on the focal size, maximum power, exposure limit, and body thickness in fluoroscopy with the number of times of fluoroscopy N. Select an additional filter to be inserted in the path to the detector 13.

他の構成は、第1の実施形態と同じである。 Other configurations are the same as in the first embodiment.

以下、X線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の動作について説明する。図10は、本実施形態に係るX線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の手順の一例を示すフローチャートであり、図3に示したステップS114のフィルタ選択処理に対応している。図10におけるステップS161〜ステップS162の処理は、それぞれ、第1の実施形態におけるステップS121〜ステップS122の処理と同様のため、説明を省略する。 Hereinafter, the operation of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. FIG. 10 is a flowchart showing an example of the procedure of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment, and corresponds to the filter selection process of step S114 shown in FIG. Since the processes of steps S161 to S162 in FIG. 10 are the same as the processes of steps S121 to S122 in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

(フィルタ選択処理)
(ステップS163)
処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、例えば、メモリ41から透視回数Nの透視における撮像条件を読み出す。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得することにより、次の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件として、例えば、焦点サイズ、最大電力、被曝限度、体厚、及びSIDを取得する。
(Filter selection process)
(Step S163)
The processing circuit 44 acquires the imaging condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N. The processing circuit 44 reads, for example, the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N from the memory 41. The processing circuit 44 acquires the imaging condition in the next fluoroscopy by acquiring the imaging condition in the fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. The processing circuit 44 acquires, for example, the focal size, the maximum power, the exposure limit, the body thickness, and the SID as imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N.

(ステップS164)
処理回路44は、ステップS163の処理において取得した透視回数Nの透視における焦点サイズに基づいて、メモリ41に記憶された複数の対応表(テーブル)から対応する対応表を読み出す。例えば、焦点サイズが中焦点である場合、図5の対応表が選択される。また、例えば、焦点サイズが小焦点である場合、図6の対応表が選択される。
(Step S164)
The processing circuit 44 reads out the corresponding correspondence table from the plurality of correspondence tables (tables) stored in the memory 41 based on the focal size in the fluoroscopy of the fluoroscopic number N acquired in the process of step S163. For example, when the focal size is medium focus, the correspondence table of FIG. 5 is selected. Further, for example, when the focal size is a small focal point, the correspondence table of FIG. 6 is selected.

(ステップS165)
処理回路44は、ステップS164の処理において読み出した対応表と、透視回数Nの透視における最大電力、被曝限度、SID、及び体厚とに基づいて、フィルタA〜フィルタDの中から、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタを決定する。
(Step S165)
The processing circuit 44 has a fluoroscopy count N from among the filters A to D based on the correspondence table read in the process of step S164 and the maximum power, exposure limit, SID, and body thickness in fluoroscopy of the fluoroscopic count N. Determine the additional filter used for fluoroscopy.

ステップS164及びステップS165の処理では、処理回路44は、焦点サイズが大きい場合、焦点サイズが小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。例えば、処理回路44は、小焦点の焦点サイズである場合、第1の厚みを有する第1のフィルタを選択し、中焦点の焦点サイズである場合、第1の厚みよりも大きい第2の厚みを有する第2のフィルタを選択する。その他の処理は、第1の実施形態のステップS124及びステップS125の処理と同じであるため、説明を省略する。 In the processing of steps S164 and S165, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the focal size is large and the focal size is small. For example, the processing circuit 44 selects a first filter having a first thickness when the focus size is small, and a second thickness which is larger than the first thickness when the focus size is medium focus. Select a second filter with. Since the other processes are the same as the processes of steps S124 and S125 of the first embodiment, the description thereof will be omitted.

以下、本実施形態に係るX線診断装置1の効果について説明する。 Hereinafter, the effect of the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment will be described.

本実施形態のX線診断装置1は、被検体の体厚に関する情報と、X線管の管球の焦点の大きさとに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタを選択する。また、焦点の大きさが大きい場合に、焦点の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、X線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタとして選択する。 The X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment X-rays from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the information on the body thickness of the subject and the size of the focal point of the tube of the X-ray tube. Select the filter to be inserted in the path of. Further, when the focus size is large, a filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the filter selected when the focus size is small is used as an X-ray path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13. Select as the filter to be inserted into.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、焦点サイズと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを複数の付加フィルタの中から選択する。また、本実施形態のX線診断装置1は、焦点サイズが大きい場合に、焦点サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタを選択する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment inserts into the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the focal size, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness. Select an additional filter from multiple additional filters. Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment selects an additional filter having a larger thickness when the focal size is large than when the focal size is small.

異なる焦点サイズで透視を行う場合、管球の最大電力が異なるため、適切な付加フィルタが異なる。上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、体厚に加えて、焦点サイズを考慮することにより、最大電力の変化を考慮して、適切な付加フィルタを選択することができる。 When fluoroscopy is performed at different focal sizes, the maximum power of the tube is different, so the appropriate additional filter is different. With the above configuration and operation, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, an appropriate additional filter is selected in consideration of the change in maximum power by considering the focal size in addition to the body thickness. be able to.

例えば、焦点サイズが大きい場合、焦点サイズが小さい場合に比べて、管球の最大電力が大きく、管球の出力を大きくしやすい。このため、厚みの大きい付加フィルタを使用した場合でも、目標線量を確保しやすい。本実施形態のX線診断装置1によれば、焦点サイズが大きい場合、焦点サイズが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しやすい場合において、X線の低減率が大きい付加フィルタが選択されることにより、X線画像の画質を確保し、かつ、被検体の被曝線量を低減することができる。 For example, when the focal size is large, the maximum power of the tube is large and the output of the tube is likely to be large as compared with the case where the focal size is small. Therefore, it is easy to secure the target dose even when a thick additional filter is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the focal size is large, an additional filter having a larger thickness is selected than when the focal size is small. Therefore, when it is easy to secure the target dose, by selecting an additional filter having a large X-ray reduction rate, it is possible to secure the image quality of the X-ray image and reduce the exposure dose of the subject. ..

また、例えば、焦点サイズが小さい場合、焦点サイズが大きい場合に比べて、管球の最大電力が小さく、管球の出力を大きくしにくい。このため、厚みの小さい付加フィルタを使用した場合には、目標線量を確保しにくい。本実施形態のX線診断装置1によれば、焦点サイズが小さい場合、焦点サイズが大きい場合に比べて、厚みの小さい付加フィルタが選択される。このため、目標線量を確保しにくい場合において、X線の低減率が小さい付加フィルタが選択されることにより、目標線量に応じた適切な付加フィルタを選択することができる。 Further, for example, when the focal size is small, the maximum power of the tube is small as compared with the case where the focal size is large, and it is difficult to increase the output of the tube. Therefore, it is difficult to secure the target dose when an additional filter having a small thickness is used. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the focal size is small, an additional filter having a smaller thickness is selected than when the focal size is large. Therefore, when it is difficult to secure the target dose, an additional filter having a small X-ray reduction rate can be selected, so that an appropriate additional filter according to the target dose can be selected.

(第6の実施形態)
第6の実施形態について説明する。本実施形態は、第1の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本実施形態では、処理回路44は、FPD素子サイズの代わりに、パルスレートに基づいて、次の透視において使用する付加フィルタを決定する。第1の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。
(Sixth Embodiment)
A sixth embodiment will be described. This embodiment is a modification of the configuration of the first embodiment as follows. In this embodiment, the processing circuit 44 determines the additional filter to be used in the next fluoroscopy based on the pulse rate instead of the FPD element size. The same configuration, operation, and effect as in the first embodiment will not be described.

処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視におけるパルスレートと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択する。 The processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to X-ray from the focal point of the X-ray tube among the plurality of additional filters based on the pulse rate, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness in the fluoroscopy of the number of times of fluoroscopy N. Select an additional filter to be inserted in the path to the detector 13.

他の構成は、第1の実施形態と同じである。 Other configurations are the same as in the first embodiment.

以下、X線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の動作について説明する。図11は、本実施形態に係るX線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の手順の一例を示すフローチャートであり、図3に示したステップS114のフィルタ選択処理に対応している。図11におけるステップS171〜ステップS172の処理は、それぞれ、第1の実施形態におけるステップS121〜ステップS122の処理と同様のため、説明を省略する。 Hereinafter, the operation of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. FIG. 11 is a flowchart showing an example of the procedure of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment, and corresponds to the filter selection process of step S114 shown in FIG. Since the processes of steps S171 to S172 in FIG. 11 are the same as the processes of steps S121 to S122 in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

(フィルタ選択処理)
(ステップS173)
処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、例えば、メモリ41から透視回数Nの透視における撮像条件を読み出す。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を取得することにより、次の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件として、例えば、パルスレート、最大電力、被曝限度、体厚、及びSIDを取得する。
(Filter selection process)
(Step S173)
The processing circuit 44 acquires the imaging condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N. The processing circuit 44 reads, for example, the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N from the memory 41. The processing circuit 44 acquires the imaging condition in the next fluoroscopy by acquiring the imaging condition in the fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. The processing circuit 44 acquires, for example, a pulse rate, a maximum power, an exposure limit, a body thickness, and a SID as imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy times N.

(ステップS174)
処理回路44は、ステップS173の処理において取得した透視回数Nの透視におけるパルスレートに基づいて、メモリ41に記憶された複数の対応表(テーブル)から対応する対応表を読み出す。例えば、パルスレートが第1の大きさである場合、図6の対応表が選択される。また、例えば、パルスレートが第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、図5の対応表が選択される。
(Step S174)
The processing circuit 44 reads out the corresponding correspondence table from the plurality of correspondence tables (tables) stored in the memory 41 based on the pulse rate in the fluoroscopy of the fluoroscopic number N acquired in the process of step S173. For example, when the pulse rate is the first magnitude, the correspondence table of FIG. 6 is selected. Further, for example, when the pulse rate is a second magnitude larger than the first magnitude, the correspondence table of FIG. 5 is selected.

(ステップS175)
処理回路44は、ステップS174の処理において読み出した対応表と、透視回数Nの透視における最大電力、被曝限度、SID、及び体厚とに基づいて、フィルタA〜フィルタDの中から、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタを決定する。
(Step S175)
The processing circuit 44 selects the number of fluoroscopy N from the filters A to D based on the correspondence table read in the process of step S174 and the maximum power, exposure limit, SID, and body thickness in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N. Determine the additional filter used for fluoroscopy.

ステップS174及びステップS175の処理では、処理回路44は、パルスレートが大きい場合、パルスレートが小さい場合に選択される付加フィルタの厚み以上の厚みを有する付加フィルタを選択する。例えば、処理回路44は、パルスレートが第1の大きさである場合、第1の厚みを有する第1のフィルタを選択し、パルスレートが第1の大きさよりも大きい第2の大きさである場合、第1の厚みよりも大きい第2の厚みを有する第2のフィルタを選択する。その他の処理は、第1の実施形態のステップS124及びステップS125の処理と同じであるため、説明を省略する。 In the processing of steps S174 and S175, the processing circuit 44 selects an additional filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the additional filter selected when the pulse rate is large or the pulse rate is small. For example, when the pulse rate is the first magnitude, the processing circuit 44 selects the first filter having the first thickness, and the pulse rate is the second magnitude larger than the first magnitude. In the case, a second filter having a second thickness larger than the first thickness is selected. Since the other processes are the same as the processes of steps S124 and S125 of the first embodiment, the description thereof will be omitted.

以下、本実施形態に係るX線診断装置1の効果について説明する。 Hereinafter, the effect of the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment will be described.

本実施形態のX線診断装置1は、被検体の体厚に関する情報と、X線管から発せられたX線のパルスレートと、に基づいて、X線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタを選択する。また、パルスレートが大きい場合に、パルスレートが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、X線管の焦点からX線検出器13へのX線の経路に挿入されるフィルタとして選択する。 The X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment moves from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the information on the body thickness of the subject and the pulse rate of the X-ray emitted from the X-ray tube. Select the filter to be inserted in the X-ray path of. Further, when the pulse rate is large, a filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the filter selected when the pulse rate is small is inserted into the X-ray path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13. Select as a filter.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、パルスレートと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、X線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを複数の付加フィルタの中から選択する。また、本実施形態のX線診断装置1は、パルスレートが大きい場合に、パルスレートが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタを選択する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment inserts into the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 based on the pulse rate, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness. Select an additional filter from multiple additional filters. Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment selects an additional filter having a larger thickness when the pulse rate is large than when the pulse rate is small.

異なるパルスレートで透視を行う場合、透視において被検体に入射するX線の線量が異なるため、被曝限度に対する被検体に入射するX線の線量の関係が変化する。このため、異なるパルスレートで透視を行う場合、適切な付加フィルタが異なる。上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、体厚に加えて、パルスレートを考慮することにより、被曝限度に対する被検体に入射するX線の線量の関係を考慮して、適切な付加フィルタを選択することができる。 When fluoroscopy is performed at different pulse rates, the relationship between the dose of X-rays incident on the subject and the exposure limit changes because the dose of X-rays incident on the subject in fluoroscopy is different. Therefore, when fluoroscopy is performed at different pulse rates, the appropriate additional filter is different. With the above configuration and operation, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, the relationship of the dose of X-rays incident on the subject with respect to the exposure limit is considered by considering the pulse rate in addition to the body thickness. Then, an appropriate additional filter can be selected.

例えば、パルスレートが大きい場合、パルスレートが小さい場合に比べて、被検体に入射するX線の線量が大きく、被曝限度に到達しやすい。本実施形態のX線診断装置1によれば、パルスレートが大きい場合、パルスレートが小さい場合に比べて、厚みの大きい付加フィルタが選択される。このため、被曝上限に到達しやすい場合において、X線の低減率が大きい付加フィルタが選択されることにより、被検体に入射するX線の線量が被曝限度を超えることを抑制することができる。 For example, when the pulse rate is large, the dose of X-rays incident on the subject is large and the exposure limit is easily reached as compared with the case where the pulse rate is small. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the pulse rate is large, an additional filter having a larger thickness is selected than when the pulse rate is small. Therefore, when it is easy to reach the upper limit of exposure, by selecting an additional filter having a large reduction rate of X-rays, it is possible to prevent the dose of X-rays incident on the subject from exceeding the upper limit of exposure.

また、例えば、パルスレートが小さい場合、パルスレートが大きい場合に比べて、被検体に入射するX線の線量が小さく、被曝限度に到達しにくい。本実施形態のX線診断装置1によれば、パルスレートが小さい場合、パルスレートが大きい場合に比べて、厚みの小さい付加フィルタが選択される。このため、被曝限度に到達しにくい場合において、X線の低減率が小さい付加フィルタが選択されることにより、被曝限度に対する被検体に入射するX線の線量の関係に応じた適切な付加フィルタを選択することができる。 Further, for example, when the pulse rate is small, the dose of X-rays incident on the subject is small as compared with the case where the pulse rate is large, and it is difficult to reach the exposure limit. According to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the pulse rate is small, an additional filter having a smaller thickness is selected than when the pulse rate is large. Therefore, when it is difficult to reach the exposure limit, an additional filter with a small X-ray reduction rate is selected, so that an appropriate additional filter according to the relationship of the dose of X-rays incident on the subject with respect to the exposure limit can be obtained. You can choose.

(第7の実施形態)
第7の実施形態について説明する。本実施形態は、第1の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。第1の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。
(7th Embodiment)
A seventh embodiment will be described. This embodiment is a modification of the configuration of the first embodiment as follows. The same configuration, operation, and effect as in the first embodiment will not be described.

処理回路44は、撮像条件設定機能442により、複数回の透視の実行を含む検査において、直前に実行された透視におけるX線検出器13の出力に基づいて、次に実行される透視におけるX線の焦点の大きさを決定する。また、処理回路44は、決定した結果に応じて、X線の焦点サイズを設定する。ここで、「焦点の大きさ」と「焦点サイズ」とは、一対一に対応してもよく、多対一に対応してもよい。一対一に対応する場合、「焦点の大きさ」及び「焦点サイズ」の両者は、「小焦点」又は「中焦点」として決定及び設定してもよい。あるいは、一対一に対応する場合でも、制御グリッド電極を用いるときには、「焦点の大きさ」及び「焦点サイズ」の両者は、例えば、0.2〜0.7mmの範囲内の値として決定及び設定してもよい。これに対し、多対一に対応する場合、「焦点の大きさ」を、例えば、0.2〜0.4mmの範囲内の値として決定し、「焦点サイズ」を小焦点として設定するようにしてもよい。あるいは、「焦点の大きさ」を、例えば、0.5〜0.7mmの範囲内の値として決定し、「焦点サイズ」は中焦点として設定するようにしてもよい。 The processing circuit 44 uses the imaging condition setting function 442 to perform an inspection including a plurality of fluoroscopy executions, based on the output of the X-ray detector 13 in the fluoroscopy executed immediately before, and X-rays in the fluoroscopy executed next. Determine the size of the focal point of. Further, the processing circuit 44 sets the focal size of the X-ray according to the determined result. Here, the "focus size" and the "focus size" may have a one-to-one correspondence or a many-to-one correspondence. In the case of a one-to-one correspondence, both the "focus size" and the "focus size" may be determined and set as "small focus" or "medium focus". Alternatively, even in the case of a one-to-one correspondence, when the control grid electrode is used, both the "focus size" and the "focus size" are determined and set as values in the range of 0.2 to 0.7 mm, for example. You may. On the other hand, in the case of many-to-one correspondence, the "focus size" is determined as a value in the range of 0.2 to 0.4 mm, for example, and the "focal size" is set as a small focus. You may. Alternatively, the "focus size" may be determined as a value within the range of, for example, 0.5 to 0.7 mm, and the "focus size" may be set as the medium focus.

具体的には、処理回路44は、撮像条件設定機能442により、入力インターフェース43への操作に応じて実行される第1の透視におけるX線検出器13の出力に基づいて、第1の透視の後に入力インターフェース43への操作に応じて実行される第2の透視における焦点サイズを決定し、第2の透視におけるX線検出器13の出力に基づいて、第2の透視の後に入力インターフェース43への操作に応じて実行される第3の透視における焦点サイズを決定する。補足すると、処理回路44は、例えば、第1の動画撮像及び第2の動画撮像において、前のフレームにおけるX線検出器13の出力に基づいて、後のフレームにおけるX線の照射の条件及びX線画像にかけるゲインのうち少なくとも一方を設定する制御を行う。また、処理回路44は、第1の動画撮像におけるX線の照射の条件を介することにより、第1の動画撮像におけるX線検出器13の出力に基づいて第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。さらに、処理回路44は、第2の動画撮像におけるX線の照射の条件を介することにより、第2の動画撮像におけるX線検出器13の出力に基づいて第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。 Specifically, the processing circuit 44 determines the first fluoroscopy based on the output of the X-ray detector 13 in the first fluoroscopy executed in response to the operation to the input interface 43 by the imaging condition setting function 442. The focal size in the second fluoroscopy, which is later performed in response to an operation on the input interface 43, is determined, and based on the output of the X-ray detector 13 in the second fluoroscopy, to the input interface 43 after the second fluoroscopy. Determine the focal size in the third fluoroscopy performed in response to the operation of. Supplementally, the processing circuit 44, for example, in the first moving image imaging and the second moving image imaging, based on the output of the X-ray detector 13 in the previous frame, the conditions of X-ray irradiation in the subsequent frame and X Control is performed to set at least one of the gains applied to the line image. Further, the processing circuit 44 focuses on the X-rays in the second moving image imaging based on the output of the X-ray detector 13 in the first moving image imaging through the conditions of the X-ray irradiation in the first moving image imaging. Determine the size of. Further, the processing circuit 44 focuses the X-rays in the third moving image imaging based on the output of the X-ray detector 13 in the second moving image imaging through the conditions of the X-ray irradiation in the second moving image imaging. Determine the size of.

また、処理回路44は、例えば、第1の透視においてX線検出器13の出力によって生成されるX線画像に基づいて、第1の透視におけるX線条件を取得し、第1の透視におけるX線条件に基づいて、第2の透視における焦点サイズを決定するようにしてもよい。第1の透視は第1の動画撮像の一例であり、第2の透視は第2の動画撮像の一例であり、第3の透視は第3の動画撮像の一例である。 Further, the processing circuit 44 acquires the X-ray condition in the first fluoroscopy based on the X-ray image generated by the output of the X-ray detector 13 in the first fluoroscopy, and X in the first fluoroscopy. The focal size in the second fluoroscopy may be determined based on the line condition. The first perspective is an example of the first moving image imaging, the second perspective is an example of the second moving image imaging, and the third perspective is an example of the third moving image imaging.

他の構成は、第1の実施形態と同じである。 Other configurations are the same as in the first embodiment.

以下、X線診断装置1により実行されるフィルタ選択処理の動作について説明する。図12は、本実施形態に係るX線診断装置1により実行される撮像条件設定処理の手順の一例を示すフローチャートであり、図2に示したステップS101の撮像条件設定処理に対応している。図12におけるステップS211〜ステップS212、ステップS214の処理は、それぞれ、第1の実施形態におけるステップS111〜ステップS112、ステップS114の処理と同様のため、説明を省略する。 Hereinafter, the operation of the filter selection process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 will be described. FIG. 12 is a flowchart showing an example of the procedure of the imaging condition setting process executed by the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment, and corresponds to the imaging condition setting process of step S101 shown in FIG. Since the processes of steps S211 to S212 and step S214 in FIG. 12 are the same as the processes of steps S111 to S112 and step S114 in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

(撮像条件設定処理)
(ステップS213)
処理回路44は、検査開始後の初めての透視における既定の撮像条件をメモリ41から読み出し、読み出した既定の撮像条件を、次に実行される透視における撮像条件として設定する。このとき、処理回路44は、次に実行される透視における焦点サイズとして、小焦点を設定する。
(Imaging condition setting process)
(Step S213)
The processing circuit 44 reads the default imaging condition for the first fluoroscopy after the start of the examination from the memory 41, and sets the read default imaging condition as the imaging condition for the next fluoroscopy to be executed. At this time, the processing circuit 44 sets a small focus as the focal size in the next fluoroscopy.

(ステップS215)
処理回路44は、透視回数Nの透視において、小焦点の焦点サイズで透視を行う場合と中焦点の焦点サイズで透視を行う場合とのそれぞれについて、X線発生部12においてX線検出器入射線量を目標線量に出来る限り近づけた場合の撮像条件(以下、撮像条件推定値と呼ぶ)を算出する。撮像条件推定値は、管球の短時間定格及び連続定格等に関する条件を満たし、かつ、X線検出器入射線量を目標線量に出来る限り近づけた場合の撮像条件である。具体的には例えば、透視回数N=2の場合、処理回路44は、第1の動画撮像におけるX線検出器13の出力に基づいて取得されたX線の焦点サイズ、管電圧、管電流及びパルス幅、AGC倍率、及びフィルタ特定情報に基づいて、第2の動画撮像における撮像条件推定値を算出してもよい。ここで、透視回数N=2の場合に、第1の動画撮像及び第2の動画撮像は、それぞれ第(N−1)の動画撮像及び第Nの動画撮像に対応する。また、透視回数N=3の場合、処理回路44は、第2の動画撮像におけるX線検出器13の出力に基づいて取得されたX線の焦点サイズ、管電圧、管電流及びパルス幅、AGC倍率、及びフィルタ特定情報に基づいて、第3の動画撮像における撮像条件推定値を算出してもよい。同様に、透視回数N=3の場合に、第2の動画撮像及び第3の動画撮像は、それぞれ第(N−1)の動画撮像及び第Nの動画撮像に対応する。
(Step S215)
In the fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, the processing circuit 44 has an X-ray detector incident dose at the X-ray generator 12 for each of the case of performing fluoroscopy at the focal size of the small focus and the case of performing fluoroscopy at the focal size of the medium focus. Is calculated as close as possible to the target dose (hereinafter referred to as an estimated imaging condition). The estimated imaging condition is an imaging condition when the conditions relating to the short-time rating and the continuous rating of the tube are satisfied and the X-ray detector incident dose is as close as possible to the target dose. Specifically, for example, when the number of times of fluoroscopy is N = 2, the processing circuit 44 has the focal size, tube voltage, tube current, and X-ray focus size of X-rays acquired based on the output of the X-ray detector 13 in the first moving image imaging. The imaging condition estimation value in the second moving image imaging may be calculated based on the pulse width, the AGC magnification, and the filter specific information. Here, when the number of fluoroscopy N = 2, the first moving image imaging and the second moving image imaging correspond to the first (N-1) moving image imaging and the Nth moving image imaging, respectively. Further, when the number of times of see-through N = 3, the processing circuit 44 has the X-ray focal size, tube voltage, tube current and pulse width, and AGC acquired based on the output of the X-ray detector 13 in the second moving image imaging. The imaging condition estimation value in the third moving image imaging may be calculated based on the magnification and the filter specific information. Similarly, when the number of fluoroscopy N = 3, the second moving image imaging and the third moving image imaging correspond to the first (N-1) moving image imaging and the Nth moving image imaging, respectively.

撮像条件推定値は、X線発生部12においてX線検出器入射線量を目標線量に出来る限り近づけた場合のX線条件(以下、X線条件推定値と呼ぶ)と、X線発生部12においてX線検出器入射線量を目標線量に出来る限り近づけた場合にAGCにより適用されることが予測されるAGC倍率(以下、AGC倍率推定値)と、を含む。X線条件推定値は、X線発生部12においてX線検出器入射線量を目標線量に出来る限り近づけた場合の管電圧(以下、管電圧推定値と呼ぶ)と、X線発生部12においてX線検出器入射線量を目標線量に出来る限り近づけた場合の管電流(以下、管電流推定値と呼ぶ)と、X線発生部12においてX線検出器入射線量を目標線量に出来る限り近づけた場合のパルス幅(以下、パルス幅推定値と呼ぶ)とを含む。なお、撮像条件推定値は、X線画像の画質を確保するために必要なX線管の出力(以下、目標出力と呼ぶ)に関する条件を満たす管電圧推定値、当該条件を満たす管電流推定値、目標出力に関する当該条件を満たすパルス幅推定値、及び、目標出力に関する当該条件を満たすAGC倍率推定値のうち少なくとも1つを含む、ものとしてもよい。 The imaging condition estimated values are the X-ray conditions (hereinafter referred to as X-ray condition estimated values) when the X-ray detector incident dose is as close as possible to the target dose in the X-ray generator 12, and the X-ray generator 12 Includes AGC magnification (hereinafter referred to as AGC magnification estimation value) that is predicted to be applied by AGC when the X-ray detector incident dose is as close as possible to the target dose. The X-ray condition estimated values are the tube voltage (hereinafter referred to as the tube voltage estimated value) when the X-ray detector incident dose is as close as possible to the target dose in the X-ray generator 12, and the X in the X-ray generator 12. When the X-ray detector incident dose is as close as possible to the target dose (hereinafter referred to as the tube current estimated value) and when the X-ray detector incident dose is as close as possible to the target dose in the X-ray generator 12. (Hereinafter, referred to as a pulse width estimated value) and the pulse width of. The imaging condition estimated value is a tube voltage estimated value that satisfies the conditions related to the output of the X-ray tube (hereinafter referred to as a target output) necessary for ensuring the image quality of the X-ray image, and a tube current estimated value that satisfies the condition. , At least one of a pulse width estimated value that satisfies the condition regarding the target output and an AGC magnification estimated value that satisfies the condition regarding the target output may be included.

撮像条件推定値を算出する処理としては、例えば、今回の透視のX線条件をX{kV,mA,msec,AGC}とし、前回又は今回の条件の関数をh(Focus,BF,BF直前,kV直前,mA直前,msec直前,AGC直前)としたとき、次式に基づく処理を実行する。 As a process for calculating the estimated imaging condition, for example, the X-ray condition for fluoroscopy this time is set to X {kV, mA, msec, AGC}, and the function of the previous or current condition is h (Focus, BF, immediately before BF, kV just before mA just before msec immediately before, when the AGC immediately before), and executes processing based on the following equation.

X{kV,mA,msec,AGC}=h(Focus,BF,BF直前,kV直前,mA直前,msec直前,AGC直前
但し、上式中、kV:管電圧、mA:管電流、msec:パルス幅、AGC:AGC倍率、Focus:焦点サイズ、BF:フィルタ特定情報、添え字「直前」:直前の透視における条件、添え字なし:今回の透視における条件とする。
X {kV, mA, msec, AGC} = h (Focus, BF, BF immediately before, kV just before, mA just before, msec shortly before, AGC immediately before)
However, in the above equation, kV: tube voltage, mA: tube current, msec: pulse width, AGC: AGC magnification, Focus: focus size, BF: filter specific information, subscript "immediately before": condition in the previous fluoroscopy, appendix No characters: This is the condition for this fluoroscopy.

撮像条件推定値を算出する処理において、処理回路44は、まず、透視回数N−1の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、例えば、メモリ41に記憶されている透視回数N−1の透視における撮像条件を読み出すことにより、透視回数N−1の透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数N−1の透視における撮像条件を取得することにより、検査開始後に実行された透視のうち、直前に実行された透視における撮像条件を取得する。処理回路44は、透視回数N−1の透視における撮像条件として、例えば、焦点サイズ、フィルタ特定情報、管電圧、管電流、パルス幅及びAGC倍率を取得する。前述のように、透視の実行中には、被写体条件の変化に基づいてX線条件等を変更するフィードバック制御が行われ、透視の終了時には、管電圧、管電流、パルス幅、及びAGC倍率のうちの少なくとも一つが被写体条件の変化に応じて適切に制御された状態となる。したがって、直前に実行された透視における撮像条件を取得することにより、被写体条件の変化に応じて適切に制御された撮像条件を取得することができる。なお、直前に実行された透視において生成されたX線画像に基づく演算処理により、被写体条件の変化に応じてさらに適切に制御された撮像条件を算出し、算出した撮像条件を、直前に実行された透視における撮像条件として取得してもよい。 In the process of calculating the imaging condition estimated value, the processing circuit 44 first acquires the imaging condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. The processing circuit 44 acquires, for example, the imaging conditions for fluoroscopy having the number of fluoroscopy N-1 stored in the memory 41 by reading out the imaging conditions for fluoroscopy. The processing circuit 44 acquires the imaging conditions for fluoroscopy performed immediately before the start of the examination by acquiring the imaging conditions for fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. The processing circuit 44 acquires, for example, the focal size, filter specific information, tube voltage, tube current, pulse width, and AGC magnification as imaging conditions in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. As described above, during fluoroscopy, feedback control is performed to change the X-ray conditions and the like based on changes in subject conditions, and at the end of fluoroscopy, the tube voltage, tube current, pulse width, and AGC magnification are measured. At least one of them is in a state of being appropriately controlled according to changes in subject conditions. Therefore, by acquiring the imaging conditions in fluoroscopy executed immediately before, it is possible to acquire the imaging conditions appropriately controlled according to the change in the subject conditions. It should be noted that the arithmetic processing based on the X-ray image generated in the fluoroscopy executed immediately before is used to calculate the imaging conditions that are more appropriately controlled according to the change in the subject conditions, and the calculated imaging conditions are executed immediately before. It may be acquired as an imaging condition in fluoroscopy.

次に、処理回路44は、透視回数N−1の透視における焦点サイズ、フィルタ特定情報、管電圧、管電流、パルス幅、及びAGC倍率に基づいて、目標出力を算出する。処理回路44は、目標出力と透視回数Nの透視におけるフィルタ特定情報とに基づいて、小焦点の焦点サイズで透視を行う場合における管電圧推定値Vp1、管電流推定値Ip1、パルス幅推定値Wp1、及び、AGC倍率推定値Mp1と、中焦点の焦点サイズで透視を行う場合における管電圧推定値Vp2、管電流推定値Ip2、パルス幅推定値Wp2、及び、AGC倍率推定値Mp2とを、それぞれ算出する。なお、小焦点と中焦点との各々の焦点サイズのうち、直前の焦点サイズと同じ焦点サイズの場合には、直前の撮像条件と略同一の撮像条件を表す撮像条件推定値が算出される。補足すると、例えば、透視回数N=2の場合、処理回路44は、X線の焦点の大きさが異なる複数の焦点サイズのそれぞれについて、第2の動画撮像における撮像条件推定値を算出し、X線の焦点の大きさとして決定された焦点サイズに対応する撮像条件推定値を第2の動画撮像における撮像条件として決定する。また同様に、例えば、透視回数N=3の場合、処理回路44は、X線の焦点の大きさが異なる複数の焦点サイズのそれぞれについて、第3の動画撮像における撮像条件推定値を算出し、X線の焦点の大きさとして決定された焦点サイズに対応する撮像条件推定値を第3の動画撮像における撮像条件として決定する。 Next, the processing circuit 44 calculates the target output based on the focal size, filter specific information, tube voltage, tube current, pulse width, and AGC magnification in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. The processing circuit 44 has a tube voltage estimated value Vp1, a tube current estimated value Ip1, and a pulse width estimated value Wp1 in the case of performing fluoroscopy at a focal size of a small focus based on the target output and the filter specific information in the see-through count N. , And the AGC magnification estimated value Mp1, the tube voltage estimated value Vp2, the tube current estimated value Ip2, the pulse width estimated value Wp2, and the AGC magnification estimated value Mp2 in the case of performing fluoroscopy at the focal size of the central focus, respectively. calculate. When the focal size of each of the small focus and the medium focus is the same as the immediately preceding focal size, an imaging condition estimated value representing substantially the same imaging condition as the immediately preceding imaging condition is calculated. Supplementally, for example, when the number of fluoroscopy N = 2, the processing circuit 44 calculates the imaging condition estimated value in the second moving image imaging for each of the plurality of focal sizes having different X-ray focal sizes, and X. The imaging condition estimated value corresponding to the focal size determined as the focal size of the line is determined as the imaging condition in the second moving image imaging. Similarly, for example, when the number of fluoroscopy N = 3, the processing circuit 44 calculates the imaging condition estimated value in the third moving image imaging for each of the plurality of focal sizes having different X-ray focal sizes. The imaging condition estimated value corresponding to the focal size determined as the focal size of the X-ray is determined as the imaging condition in the third moving image imaging.

(ステップS216)
処理回路44は、ステップS215で取得した透視回数N−1の透視における撮像条件に基づいて、透視回数N−1の透視の焦点サイズが小焦点であるか否かを判断する。透視回数N−1の透視の焦点サイズが小焦点である場合(ステップS216−Yes)、処理はステップS217に進む。透視回数N−1の透視の焦点サイズが小焦点でない場合(ステップS216−No)、処理回路44は、透視回数N−1の透視の焦点サイズが中焦点であると判断し、処理はステップS221に進む。
(Step S216)
The processing circuit 44 determines whether or not the focal size of the fluoroscopy of the fluoroscopy number N-1 is a small focal point based on the imaging conditions in the fluoroscopy of the fluoroscopy number N-1 acquired in step S215. When the focal size of the fluoroscopy of the number of fluoroscopy N-1 is a small focal point (step S216-Yes), the process proceeds to step S217. When the fluoroscopic focus size of the fluoroscopic number N-1 is not a small focus (step S216-No), the processing circuit 44 determines that the fluoroscopic focal size of the fluoroscopic number N-1 is a medium focal point, and the process is performed in step S221. Proceed to.

(ステップS217)
処理回路44は、管電圧推定値Vp1が閾値Vth1以下であるか否かを判断する。閾値Vth1は、生成されるX線画像のコントラストが所定の条件を満たすか否かを判断するための値である。閾値Vth1は、例えば、20〜150kVの範囲から定めた値である。閾値Vth1は、所定の値が設定されていてもよく、検査ごとに操作者によって入力されてもよい。閾値Vth1は、判定値の一例である。また、閾値Vth1は、第1の値の一例である。管電圧推定値Vp1が閾値Vth1以下である場合(ステップS217−Yes)、処理はステップS218に進む。管電圧推定値Vp1が閾値Vth1以下でない場合(ステップS217−No)、すなわち、管電圧推定値Vp1が閾値Vth1より大きい場合、処理は、ステップS219に進む。
(Step S217)
The processing circuit 44 determines whether or not the tube voltage estimated value Vp1 is equal to or less than the threshold value Vth1. The threshold value Vth1 is a value for determining whether or not the contrast of the generated X-ray image satisfies a predetermined condition. The threshold value Vth1 is, for example, a value determined from the range of 20 to 150 kV. A predetermined value may be set for the threshold value Vth1, and the threshold value Vth1 may be input by the operator for each inspection. The threshold value Vth1 is an example of a determination value. The threshold value Vth1 is an example of the first value. When the tube voltage estimated value Vp1 is equal to or less than the threshold value Vth1 (step S217-Yes), the process proceeds to step S218. When the tube voltage estimated value Vp1 is not equal to or less than the threshold value Vth1 (step S217-No), that is, when the tube voltage estimated value Vp1 is larger than the threshold value Vth1, the process proceeds to step S219.

(ステップS218)
処理回路44は、被曝限度到達指数Rが閾値β以下であるか否かを判断する。ここで、被曝限度到達指数R(=G/L ×100[%])は、被曝限度Lに対する被曝線量推定値Gの割合である。被曝限度(Dose Limit)Lは、単位時間あたりに被検体に入射するX線の線量(入射線量率)に関する上限値である。すなわち、被曝限度Lは、被曝線量の上限値である。被曝限度Lは、例えば、使用される国等に応じて予め設定される。被曝限度Lは、例えば、50mGr/minや87mGr/minなどの値である。被曝線量推定値Gは、中焦点の焦点サイズで透視を行う場合の撮像条件推定値を撮像条件として、透視回数Nの透視を行う場合に、被検体に入射することが予測されるX線の線量である。閾値βは、被曝限度Lに対する被曝線量推定値Gの余裕が十分あるか否かを判定するための値である。閾値βは、線量判定値の一例である。閾値βは、例えば、90〜99%の範囲から定めた値である。閾値βは、所定の値が設定されていてもよく、透視ごとに、操作者によって入力されてもよい。
(Step S218)
The processing circuit 44 determines whether or not the exposure limit arrival index R is equal to or less than the threshold value β. Here, the exposure limit arrival index R (= G / L × 100 [%]) is the ratio of the exposure dose estimated value G to the exposure limit L. The exposure limit (Dose Limit) L is an upper limit value relating to the dose of X-rays (incident dose rate) incident on the subject per unit time. That is, the exposure limit L is the upper limit of the exposure dose. The exposure limit L is set in advance according to, for example, the country of use. The exposure limit L is, for example, a value such as 50 mGr / min or 87 mGr / min. The radiation dose estimated value G is an X-ray that is predicted to be incident on the subject when fluoroscopy is performed with the number of fluoroscopy N, using the imaging condition estimated value when fluoroscopy is performed at the focal size of the middle focus as the imaging condition. The dose. The threshold value β is a value for determining whether or not there is a sufficient margin of the exposure dose estimated value G with respect to the exposure limit L. The threshold value β is an example of the dose determination value. The threshold value β is, for example, a value defined from the range of 90 to 99%. A predetermined value may be set for the threshold value β, and the threshold value β may be input by the operator for each fluoroscopy.

ステップS218の処理では、処理回路44は、まず、管電圧推定値Vp2、管電流推定値Ip2、パルス幅推定値Wp2、AGC倍率推定値Mp2、及び、N回目の透視におけるフィルタ特定情報に基づいて、被曝線量推定値Gを算出する。そして、被曝線量推定値Gと被曝限度Lとに基づいて、被曝限度到達指数Rを算出する。被曝限度到達指数Rが閾値β以下である場合(ステップS218−Yes)、処理回路44は、中焦点に対応する撮像条件推定値を撮像条件として透視回数Nの透視を行う場合に、被曝限度Lに対する入射線量率の余裕が十分あると判断し、処理はステップS220に進む。被曝限度到達指数Rが閾値βより大きい場合(ステップS218−No)、処理回路44は、中焦点に対応する撮像条件推定値を撮像条件として透視回数Nの透視を行う場合に、被曝限度Lに対する入射線量率の余裕が十分ないと判断し、処理はステップS219に進む。 In the process of step S218, the processing circuit 44 first bases the tube voltage estimated value Vp2, the tube current estimated value Ip2, the pulse width estimated value Wp2, the AGC magnification estimated value Mp2, and the filter specific information in the Nth fluoroscopy. , Calculate the exposure dose estimate G. Then, the exposure limit arrival index R is calculated based on the exposure dose estimated value G and the exposure limit L. When the exposure limit arrival index R is equal to or less than the threshold value β (step S218-Yes), the processing circuit 44 performs fluoroscopy with the number of fluoroscopy N using the imaging condition estimated value corresponding to the middle focus as the imaging condition, and the exposure limit L It is determined that there is a sufficient margin of the incident dose rate with respect to the above, and the process proceeds to step S220. When the exposure limit arrival index R is larger than the threshold value β (step S218-No), the processing circuit 44 refers to the exposure limit L when performing fluoroscopy for the number of fluoroscopy N using the imaging condition estimated value corresponding to the middle focus as the imaging condition. It is determined that there is not enough margin for the incident dose rate, and the process proceeds to step S219.

(ステップS219)
処理回路44は、透視回数Nの透視における焦点サイズを、小焦点に設定する。また、処理回路44は、小焦点に対応する撮像条件推定値を、透視回数Nの透視における撮像条件として設定する。このとき、処理回路44は、管電圧推定値Vp1を透視回数Nの透視における管電圧として設定し、管電流推定値Ip1を透視回数Nの透視における管電流とし、パルス幅推定値Wp1を透視回数Nの透視におけるパルス幅として設定し、AGC倍率推定値Mp1を透視回数Nの透視におけるAGC倍率として設定する。そして、処理回路44は、撮像条件設定処理を終了し、処理はステップS103に進む。
(Step S219)
The processing circuit 44 sets the focal size in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N to a small focal point. Further, the processing circuit 44 sets an image pickup condition estimated value corresponding to the small focus as an image pickup condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. At this time, the processing circuit 44 sets the tube voltage estimated value Vp1 as the tube voltage in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, the tube current estimated value Ip1 as the tube current in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, and the pulse width estimated value Wp1 as the number of fluoroscopy. It is set as the pulse width in fluoroscopy of N, and the AGC magnification estimated value Mp1 is set as the AGC magnification in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N. Then, the processing circuit 44 ends the imaging condition setting process, and the process proceeds to step S103.

(ステップS220)
処理回路44は、透視回数Nの透視における焦点サイズを、中焦点に設定する。また、処理回路44は、中焦点に対応する撮像条件推定値を、透視回数Nの透視における撮像条件として設定する。このとき、処理回路44は、管電圧推定値Vp2を透視回数Nの透視における管電圧として設定し、管電流推定値Ip2を透視回数Nの透視における管電流とし、パルス幅推定値Wp2を透視回数Nの透視におけるパルス幅として設定し、AGC倍率推定値Mp2を透視回数Nの透視におけるAGC倍率として設定する。そして、処理回路44は、撮像条件設定処理を終了し、処理はステップS103に進む。
(Step S220)
The processing circuit 44 sets the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N to be the middle focus. Further, the processing circuit 44 sets the estimated image condition corresponding to the middle focus as the imaging condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. At this time, the processing circuit 44 sets the tube voltage estimated value Vp2 as the tube voltage in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, the tube current estimated value Ip2 as the tube current in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N, and the pulse width estimated value Wp2 as the fluoroscopy count. It is set as the pulse width in fluoroscopy of N, and the AGC magnification estimated value Mp2 is set as the AGC magnification in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N. Then, the processing circuit 44 ends the imaging condition setting process, and the process proceeds to step S103.

(ステップS221)
処理回路44は、管電圧推定値Vp1が閾値Vth2以下であるか否かを判断する。閾値Vth2は、閾値Vth1よりも設定値α1だけ小さい。すなわち、Vth2=Vth1−αとなる。設定値α1は、中焦点から小焦点への切り替えを判定するための管電圧の余裕分を表す値であり、例えば、1〜10kVの範囲から定めた値である。設定値α1は、所定の値が設定されていてもよく、検査ごとに操作者によって入力されてもよい。閾値Vth2は、判定値の一例である。また、閾値Vth2は、第2の値の一例である。管電圧推定値Vp1が閾値Vth2以下である場合(ステップS221−Yes)、処理はステップS222に進む。管電圧推定値Vp1が閾値Vth2以下でない場合(ステップS221−No)、すなわち、管電圧推定値Vp1が閾値Vth2より大きい場合、処理は、ステップS223に進む。
(Step S221)
The processing circuit 44 determines whether or not the tube voltage estimated value Vp1 is equal to or less than the threshold value Vth2. The threshold value Vth2 is smaller than the threshold value Vth1 by the set value α1. That is, Vth2 = Vth1-α. The set value α1 is a value representing a margin of the tube voltage for determining the switching from the middle focus to the small focus, and is, for example, a value determined from the range of 1 to 10 kV. The set value α1 may be set to a predetermined value, or may be input by the operator for each inspection. The threshold value Vth2 is an example of the determination value. The threshold value Vth2 is an example of the second value. When the tube voltage estimated value Vp1 is equal to or less than the threshold value Vth2 (step S221-Yes), the process proceeds to step S222. When the tube voltage estimated value Vp1 is not equal to or less than the threshold value Vth2 (step S221-No), that is, when the tube voltage estimated value Vp1 is larger than the threshold value Vth2, the process proceeds to step S223.

(ステップS222)
ステップS222の処理は、ステップS219の処理と同じである。すなわち、処理回路44は、透視回数Nの透視における焦点サイズを、小焦点に設定する。そして、処理回路44は、撮像条件設定処理を終了し、処理はステップS103に進む。
(Step S222)
The process of step S222 is the same as the process of step S219. That is, the processing circuit 44 sets the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N to be a small focal point. Then, the processing circuit 44 ends the imaging condition setting process, and the process proceeds to step S103.

(ステップS223)
ステップS223の処理は、ステップS220の処理と同じである。すなわち、処理回路44は、透視回数Nの透視における焦点サイズを、中焦点に設定する。そして、処理回路44は、撮像条件設定処理を終了し、処理はステップS103に進む。
(Step S223)
The process of step S223 is the same as the process of step S220. That is, the processing circuit 44 sets the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N to be the middle focus. Then, the processing circuit 44 ends the imaging condition setting process, and the process proceeds to step S103.

撮像条件設定処理が終了すると、処理回路44は、撮像条件設定処理において設定された撮像条件に基づいて、透視回数Nの透視を実行する。そして、透視回数Nの透視の終了後、次の透視が実行される場合、処理回路44は、再びステップS101の撮像条件設定処理を実行する。このとき、処理回路44は、透視回数Nの透視における撮像条件を設定する処理と同様にして、透視回数Nの透視におけるX線条件に基づいて、透視回数N+1の透視における焦点サイズを含む、撮像条件を決定する。 When the imaging condition setting process is completed, the processing circuit 44 executes fluoroscopy with the number of fluoroscopy N based on the imaging conditions set in the imaging condition setting process. Then, when the next fluoroscopy is executed after the fluoroscopy of the number of fluoroscopy times N is completed, the processing circuit 44 again executes the imaging condition setting process in step S101. At this time, the processing circuit 44 performs imaging including the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N + 1 based on the X-ray condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N in the same manner as the process for setting the imaging condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N + 1. Determine the conditions.

以下、本実施形態に係るX線診断装置1の効果について説明する。 Hereinafter, the effect of the X-ray diagnostic apparatus 1 according to the present embodiment will be described.

本実施形態のX線診断装置1は、操作部への操作に応じて実行される第1の動画撮像におけるX線検出器13の出力に基づいて、第1の動画撮像の後に操作部への操作に応じて実行される第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。また、第2の動画撮像におけるX線検出器13の出力に基づいて、第2の動画撮像の後に操作部への操作に応じて実行される第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。 The X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment transfers to the operation unit after the first moving image imaging based on the output of the X-ray detector 13 in the first moving image imaging executed in response to the operation to the operation unit. The magnitude of the X-ray focus in the second moving image imaging performed in response to the operation is determined. Further, based on the output of the X-ray detector 13 in the second moving image imaging, the magnitude of the X-ray focus in the third moving image imaging executed in response to the operation to the operation unit after the second moving image imaging. To determine.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、入力インターフェース43への操作に応じて直前に実行された透視におけるX線検出器13の出力に基づいて、入力インターフェース43への操作に応じて次に実行される透視における焦点サイズを決定する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment responds to the operation to the input interface 43 based on the output of the X-ray detector 13 in the fluoroscopy executed immediately before the operation to the input interface 43. Determine the focal size in the next fluoroscopy performed.

例えば、本実施形態のX線診断装置1は、入力インターフェース43への操作に応じて実行される透視回数N−1の透視におけるX線条件に基づいて、透視回数N−1の透視の後に入力インターフェース43への操作に応じて実行される透視回数Nの透視における焦点サイズを決定し、透視回数Nの透視におけるX線条件に基づいて、透視回数Nの透視の後に入力インターフェース43への操作に応じて実行される透視回数N+1の透視における焦点サイズを決定する。 For example, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment inputs after the fluoroscopy of the fluoroscopy count N-1 based on the X-ray condition in the fluoroscopy of the fluoroscopy count N-1 executed in response to the operation to the input interface 43. The focal size in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N to be executed in response to the operation to the interface 43 is determined, and the operation to the input interface 43 is performed after fluoroscopy of the number of fluoroscopy N based on the X-ray condition in the fluoroscopy of the number of fluoroscopy N. The focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N + 1 performed accordingly is determined.

また、本実施形態のX線診断装置1は、第1の動画撮像の終了時におけるX線検出器13の出力に基づいて、第2の動画撮像の開始時におけるX線の焦点の大きさを決定し、第2の動画撮像の終了時におけるX線検出器13の出力に基づいて、第3の動画撮像の開始時におけるX線の焦点の大きさを決定する。 Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment determines the magnitude of the X-ray focus at the start of the second moving image imaging based on the output of the X-ray detector 13 at the end of the first moving image imaging. The size of the X-ray focus at the start of the third moving image imaging is determined based on the output of the X-ray detector 13 at the end of the second moving image imaging.

例えば、本実施形態のX線診断装置1は、透視回数N−1の透視の終了時におけるX線条件に基づいて、透視回数Nの開始時におけるX線の焦点の大きさを決定し、透視回数Nの透視の終了時におけるX線条件の出力に基づいて、透視回数N+1の透視の開始時におけるX線の焦点の大きさを決定する。 For example, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment determines the size of the focal point of the X-ray at the start of the fluoroscopy count N based on the X-ray condition at the end of the fluoroscopy count N-1 and performs fluoroscopy. Based on the output of the X-ray condition at the end of fluoroscopy with the number of times N, the magnitude of the X-ray focus at the start of fluoroscopy with the number of fluoroscopy N + 1 is determined.

また、本実施形態のX線診断装置1は、第1の動画撮像におけるX線検出器13の出力に基づいて、第2の動画撮像について、特定のX線の焦点の大きさを用いた場合における目標出力に関する条件を満たす撮像条件推定値を算出し、第2の動画撮像における撮像条件推定値に基づいて第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。また、第2の動画撮像におけるX線検出器13の出力に基づいて、第3の動画撮像について撮像条件推定値を算出し、第3の動画撮像における撮像条件推定値に基づいて第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。 Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment uses a specific X-ray focal size for the second moving image imaging based on the output of the X-ray detector 13 in the first moving image imaging. The estimated value of the imaging condition satisfying the target output in the above is calculated, and the size of the X-ray focus in the second moving image imaging is determined based on the estimated value of the imaging condition in the second moving image imaging. Further, an imaging condition estimated value for the third moving image imaging is calculated based on the output of the X-ray detector 13 in the second moving image imaging, and a third moving image is calculated based on the imaging condition estimated value in the third moving image imaging. Determines the magnitude of the X-ray focus in imaging.

例えば、本実施形態のX線診断装置1は、透視回数N−1の透視におけるX線条件に基づいて透視回数Nの透視における管電圧推定値Vp1を算出し、管電圧推定値Vp1に基づいて透視回数Nの透視における焦点サイズを決定し、透視回数Nの透視におけるX線条件に基づいて透視回数N+1の透視における管電圧推定値Vp1を算出し、管電圧推定値Vp1に基づいて透視回数N+1の透視における焦点サイズを決定する。 For example, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment calculates the tube voltage estimated value Vp1 in fluoroscopy of the fluoroscopy count N based on the X-ray condition in fluoroscopy of the fluoroscopy count N-1, and is based on the tube voltage estimated value Vp1. The focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is determined, the tube voltage estimated value Vp1 in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N + 1 is calculated based on the X-ray condition in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N + 1, and the number of fluoroscopy N + 1 is calculated based on the tube voltage estimated value Vp1. Determines the focal size in fluoroscopy.

すなわち、上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、直前の透視におけるX線検出器13の出力に基づいて、フットスイッチを踏みなおすことにより実行される次の透視における焦点サイズを決定することができる。このため、次の透視において、直前の透視におけるX線条件に応じた焦点サイズを設定することができる。したがって、直前の透視の実行中に被検体の厚みが変化することにより、コントラストが所定の条件を満たすX線画像を生成するために適切な焦点サイズが変化した場合であっても、フィードバック制御により被検体の厚みに応じて適切な値に制御されたX線条件に基づいて、次の透視における適切な焦点サイズを自動的に設定することができる。これにより、次の透視において生成されるX線画像の画質の向上を図ることができる。例えば、被写体厚が薄く管球出力に余裕がある場合には小焦点を設定することでシャープな画像を生成することができる。一方、被写体厚が厚く、小焦点で管電圧が高くなる場合には高出力の中焦点に切り替えることで、コントラストの強い画像やノイズの少ない画像を生成することができる。 That is, with the above configuration and operation, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, the next fluoroscopy executed by re-depressing the foot switch based on the output of the X-ray detector 13 in the immediately preceding fluoroscopy. The focal size in can be determined. Therefore, in the next fluoroscopy, the focal size can be set according to the X-ray condition in the immediately preceding fluoroscopy. Therefore, even if the thickness of the subject changes during the previous fluoroscopy and the appropriate focal size is changed to generate an X-ray image with contrast satisfying a predetermined condition, feedback control is used. The appropriate focal size for the next fluoroscopy can be automatically set based on the X-ray conditions controlled to the appropriate values according to the thickness of the subject. This makes it possible to improve the image quality of the X-ray image generated in the next fluoroscopy. For example, when the subject thickness is thin and the tube output has a margin, a sharp image can be generated by setting a small focus. On the other hand, when the subject is thick and the tube voltage is high at a small focus, it is possible to generate an image with strong contrast or an image with less noise by switching to a high output medium focus.

また、本実施形態のX線診断装置1は、第2の動画撮像における撮像条件推定値が判定値以下である場合、第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさとして第1の焦点サイズを設定し、第2の動画撮像における撮像条件推定値が判定値よりも大きい場合、第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさとして第1の焦点サイズよりも大きい第2の焦点サイズを決定する。また、第3の動画撮像における撮像条件推定値が判定値以下である場合、第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさとして第1の焦点サイズを設定し、第3の動画撮像における撮像条件推定値が判定値よりも大きい場合、第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさとして第2の焦点サイズを決定する。 Further, in the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the image pickup condition estimated value in the second moving image imaging is equal to or less than the determination value, the first focal size is used as the size of the X-ray focus in the second moving image imaging. Is set, and when the estimated imaging condition in the second moving image imaging is larger than the determination value, the second focal size larger than the first focal size is set as the X-ray focal size in the second moving image imaging. decide. When the estimated imaging condition in the third moving image imaging is equal to or less than the determination value, the first focal size is set as the size of the X-ray focal point in the third moving image imaging, and the imaging in the third moving image imaging is performed. When the condition estimated value is larger than the determination value, the second focal size is determined as the size of the X-ray focal point in the third moving image imaging.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、例えば、ステップS221の処理において、透視回数Nの透視における管電圧推定値Vp1が閾値Vth2以下である場合、透視回数Nの透視における焦点サイズを小焦点に決定し、透視回数Nの透視における管電圧推定値Vp1が閾値Vth2よりも大きい場合、透視回数Nの透視における焦点サイズを中焦点に決定する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, for example, in the process of step S221, when the tube voltage estimated value Vp1 in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is equal to or less than the threshold Vth2, the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is determined. When the small focus is determined and the tube voltage estimated value Vp1 in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is larger than the threshold value Vth2, the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is determined to be the middle focus.

例えば、中焦点の焦点サイズを使用した直前の透視の実行中において被検体の厚みが小さくなった場合、所定の明るさ以上のX線画像を生成するために必要なX線管の出力が小さくなる。このような場合、本実施形態のX線診断装置1によれば、小焦点における管電圧推定値Vp1が閾値Vth2以下になり、次の透視における焦点サイズが小焦点に設定される。これにより、X線管の出力に余裕がある場合には、すなわち、出力が小さい小焦点を用いた場合でも所定のコントラスト以上のX線画像を生成することができる場合には、次の透視における焦点サイズが小焦点に設定されることにより、焦点サイズが中焦点に設定される場合に比べて、解像度の高いX線画像を生成することができる。 For example, if the thickness of the subject is reduced during the previous fluoroscopy using the focal size of the midfocus, the output of the X-ray tube required to generate an X-ray image with a predetermined brightness or higher is small. Become. In such a case, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, the tube voltage estimated value Vp1 at the small focal point becomes the threshold value Vth2 or less, and the focal size in the next fluoroscopy is set to the small focal point. As a result, when there is a margin in the output of the X-ray tube, that is, when an X-ray image having a predetermined contrast or higher can be generated even when a small focus with a small output is used, the next fluoroscopy is performed. By setting the focal size to the small focus, it is possible to generate an X-ray image having a higher resolution than when the focal size is set to the medium focus.

また、例えば、小焦点の焦点サイズを使用した直前の透視の実行中において、被検体の厚みが大きくなった場合、所定の明るさ以上のX線画像を生成するために必要なX線管の出力が大きくなり、生成されるX線画像のコントラストが低下する。このような場合、本実施形態のX線診断装置1によれば、小焦点における管電圧推定値Vp1が閾値Vth2より大きくなり、次の透視における焦点サイズが中焦点に設定される。このため、次の透視において、小焦点に比べてX線管の出力を高くすることができる中焦点に焦点サイズが切り替えられることにより、必要な線量を確保し、かつ、管電圧を抑制することができる。したがって、小焦点の焦点サイズを継続して用いる場合に比べて、X線画像のコントラストを確保し、かつ、ノイズが少ないX線画像を生成することができる。 In addition, for example, when the thickness of the subject becomes large during the execution of the fluoroscopy immediately before using the focal size of the small focus, the X-ray tube required to generate an X-ray image having a predetermined brightness or more. The output is high and the contrast of the generated X-ray image is low. In such a case, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, the tube voltage estimated value Vp1 at the small focal point becomes larger than the threshold value Vth2, and the focal size in the next fluoroscopy is set to the medium focal point. Therefore, in the next fluoroscopy, the required dose can be secured and the tube voltage can be suppressed by switching the focus size to the middle focus, which can increase the output of the X-ray tube compared to the small focus. Can be done. Therefore, it is possible to secure the contrast of the X-ray image and generate an X-ray image with less noise as compared with the case where the focal size of the small focus is continuously used.

また、本実施形態のX線診断装置1は、第1の動画撮像におけるX線の焦点の大きさが第1の焦点サイズである場合、第1の値を判定値として、第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定し、第1の動画撮像におけるX線の焦点の大きさが第2の焦点サイズである場合、第1の値とは異なる第2の値を判定値として、第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。また、第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさが第1の焦点サイズである場合、第1の値を判定値として、第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定し、第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさが第2の焦点サイズである場合、第2の値を判定値として、第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。例えば、上記第2の値は、第1の値よりも小さい。 Further, in the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the size of the X-ray focus in the first moving image imaging is the first focal size, the second moving image imaging is performed using the first value as a determination value. When the size of the X-ray focus in the first moving image is determined and the size of the X-ray focus in the first moving image is the second focus size, a second value different from the first value is used as a determination value. , Determine the magnitude of the X-ray focus in the second moving image imaging. When the size of the X-ray focus in the second moving image imaging is the first focal size, the size of the X-ray focus in the third moving image imaging is determined using the first value as a determination value. When the size of the X-ray focus in the second moving image imaging is the second focal size, the size of the X-ray focus in the third moving image imaging is determined using the second value as a determination value. For example, the second value is smaller than the first value.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、例えば、透視回数N−1の透視における焦点サイズが小焦点である場合、透視回数Nの透視における管電圧推定値Vp1と閾値Vth1に基づいて、透視回数Nの透視における焦点サイズを決定し、透視回数N−1の透視における焦点サイズが中焦点である場合、透視回数Nの透視における管電圧推定値Vp1と閾値Vth2に基づいて、透視回数Nの透視における焦点サイズを決定する。ここで、閾値Vth2は、閾値Vth1よりも小さい。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment is based on, for example, a tube voltage estimated value Vp1 and a threshold Vth1 in fluoroscopy of fluoroscopy count N when the focal size in fluoroscopy of fluoroscopy count N-1 is a small focal point. , The focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is determined, and when the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1 is the middle focus, the number of fluoroscopy is based on the tube voltage estimated value Vp1 and the threshold Vth2 in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1. Determines the focal size in fluoroscopy of N. Here, the threshold value Vth2 is smaller than the threshold value Vth1.

すなわち、上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、次の透視における焦点サイズを中焦点から小焦点に切り替えるか否かを判断する閾値と、小焦点から中焦点に焦点サイズを切り替える閾値とが異なる。このため、例えば、直前の透視から次の透視に切り替わるごとに、閾値Vthよりも小さい範囲と閾値Vthよりも大きい範囲との間で管電圧推定値Vp1が切り替わる場合であっても、中焦点から小焦点への焦点サイズの切り替えを判断する閾値と小焦点から中焦点への焦点サイズの切り替えを判断する閾値とが異なるため、透視を実行するたびに焦点サイズが切り替えられることが防止される。 That is, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment based on the above configuration and operation, a threshold value for determining whether or not to switch the focal size in the next fluoroscopy from the medium focus to the small focus, and a small focus to the medium focus The threshold for switching the focus size is different. Therefore, for example, even when the tube voltage estimated value Vp1 is switched between a range smaller than the threshold value Vth and a range larger than the threshold value Vth each time the previous perspective is switched to the next perspective, the center focus is used. Since the threshold value for determining the switching of the focus size to the small focus and the threshold value for determining the switching of the focal size from the small focus to the medium focus are different, it is possible to prevent the focus size from being switched each time the fluoroscopy is performed.

また、本実施形態のX線診断装置1は、第2の動画撮像における撮像条件推定値を第2の動画撮像における撮像条件として用いた場合における被曝線量の上限値に対する被曝線量推定値の割合と、第3の動画撮像における撮像条件推定値を第3の動画撮像における撮像条件として用いた場合における被曝線量の上限値に対する被曝線量推定値の割合とをさらに算出する。また、第1の動画撮像におけるX線の焦点の大きさが第1の焦点サイズで、かつ、第2の動画撮像における撮像条件推定値が判定値より大きく、かつ、第2の動画撮像における割合が線量判定値よりも大きい場合、第1の焦点サイズを第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさとして決定する。また、第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさが第1の焦点サイズで、かつ、第3の動画撮像における撮像条件推定値が判定値より大きく、かつ、第3の動画撮像における割合が線量判定値よりも大きい場合、第1の焦点サイズを第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさとして決定する。 Further, in the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, the ratio of the estimated radiation dose to the upper limit of the radiation dose when the estimated imaging condition in the second moving image imaging is used as the imaging condition in the second moving image imaging. , The ratio of the estimated exposure dose to the upper limit of the exposure dose when the estimated imaging condition in the third moving image imaging is used as the imaging condition in the third moving image imaging is further calculated. Further, the size of the X-ray focus in the first moving image imaging is the first focal size, the imaging condition estimated value in the second moving image imaging is larger than the determination value, and the ratio in the second moving image imaging. Is larger than the dose determination value, the first focal size is determined as the magnitude of the X-ray focal point in the second moving image imaging. Further, the size of the X-ray focus in the second moving image imaging is the first focal size, the imaging condition estimated value in the third moving image imaging is larger than the determination value, and the ratio in the third moving image imaging. Is larger than the dose determination value, the first focal size is determined as the magnitude of the X-ray focal point in the third moving image imaging.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、例えば、透視回数N−1の透視における焦点サイズが小焦点で、透視回数Nの透視における管電圧推定値Vp1が閾値Vth1よりも大きく、かつ、被曝限度到達指数Rが閾値β以下である場合、透視回数Nの透視における焦点サイズを中焦点に決定し、透視回数N−1の透視における焦点サイズが小焦点で、透視回数Nの透視における管電圧推定値Vp1が閾値Vth1よりも大きく、かつ、被曝限度到達指数Rが閾値βより大きい場合、透視回数Nの透視における焦点サイズを小焦点に決定する。 In summary, in the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, for example, the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1 is small, and the tube voltage estimated value Vp1 in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is larger than the threshold Vth1. When the exposure limit arrival index R is equal to or less than the threshold β, the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is determined to be the middle focus, the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1 is the small focal point, and in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N. When the tube voltage estimated value Vp1 is larger than the threshold Vth1 and the exposure limit arrival index R is larger than the threshold β, the focal size in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N is determined to be a small focal point.

したがって、本実施形態のX線診断装置1は、直前の透視において小焦点が使用されていた場合、次の透視において生成されるX線画像のコントラストが低くなり、かつ、焦点サイズとして中焦点を用いた場合における被曝限度に対する予測被曝線量の余裕が十分確保された場合にのみ、次の焦点サイズを中焦点に切り替える。一方、本実施形態のX線診断装置1は、次の透視において生成されるX線画像のコントラストが低くなる場合であっても、被曝限度に対する予測被曝線量の余裕が十分確保されない場合には、次の焦点サイズを中焦点に切り替えない。 Therefore, in the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, when the small focus is used in the immediately preceding fluoroscopy, the contrast of the X-ray image generated in the next fluoroscopy is low, and the medium focus is used as the focal size. The next focal size is switched to the medium focus only when a sufficient margin of the predicted exposure dose for the exposure limit when used is secured. On the other hand, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment has a case where the contrast of the X-ray image generated in the next fluoroscopy is low, but the margin of the predicted exposure dose with respect to the exposure limit is not sufficiently secured. Do not switch the next focus size to medium focus.

すなわち、上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、被曝線量の余裕が一定以上確保される場合においてのみ、被検体の被曝線量が大きくなる中焦点に焦点サイズを切り替える。これにより、次の透視において被検体への被曝線量が被曝限度を超えることを確実に防止することができる。 That is, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment by the above configuration and operation, the focus size is set to the central focus where the exposure dose of the subject becomes large only when the exposure dose margin is secured above a certain level. Switch. As a result, it is possible to reliably prevent the exposure dose to the subject from exceeding the exposure limit in the next fluoroscopy.

また、本実施形態のX線診断装置1は、操作部への操作に応じて実行される第1の動画撮像におけるX線検出器13の出力と、フィルタ選択部により選択されたフィルタに関する情報とに基づいて、第1の動画撮像の後に操作部への操作に応じて実行される第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定し、第2の動画撮像におけるX線検出器13の出力と、フィルタ選択部により選択されたフィルタに関する情報とに基づいて、第2の動画撮像の後に操作部への操作に応じて実行される第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する。 Further, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment includes the output of the X-ray detector 13 in the first moving image imaging executed in response to the operation to the operation unit, and information on the filter selected by the filter selection unit. Based on the above, the size of the X-ray focus in the second moving image imaging, which is executed in response to the operation to the operation unit after the first moving image imaging, is determined, and the X-ray detector 13 in the second moving image imaging. X-ray focus magnitude in the third moving image imaging, which is performed in response to an operation on the operating section after the second moving image imaging, based on the output of and the information about the filter selected by the filter selection unit. To determine.

要約すると、本実施形態のX線診断装置1は、体厚に加えて、FPD素子サイズを考慮することにより、目標線量の変化を考慮して、次の透視における適切な付加フィルタを選択する。そして、次の透視において適切に選択された付加フィルタを用いた場合の撮像条件推定値に基づいて、次の透視における適切な焦点サイズを決定する。 In summary, the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment considers the change in the target dose by considering the FPD element size in addition to the body thickness, and selects an appropriate additional filter in the next fluoroscopy. Then, an appropriate focal size in the next fluoroscopy is determined based on the imaging condition estimated value when an additional filter appropriately selected in the next fluoroscopy is used.

すなわち、上記の構成及び動作により、本実施形態のX線診断装置1によれば、直前の透視においてフィードバック制御により被検体の厚みに応じて適切な値に制御されたX線条件と、目標線量の変化を考慮して適切に選択された付加フィルタに基づいて、次の透視における適切な焦点サイズを設定することができる。これにより、次の透視において生成されるX線画像の画質がさらに向上する。 That is, with the above configuration and operation, according to the X-ray diagnostic apparatus 1 of the present embodiment, the X-ray condition controlled to an appropriate value according to the thickness of the subject by feedback control in the previous fluoroscopy, and the target dose. The appropriate focal size for the next fluoroscopy can be set based on an additional filter that is appropriately selected taking into account changes in. As a result, the image quality of the X-ray image generated in the next fluoroscopy is further improved.

以上説明した少なくとも1つの実施形態によれば、目標線量に応じて適切な付加フィルタを決定することができるX線診断装置を提供することができる。 According to at least one embodiment described above, it is possible to provide an X-ray diagnostic apparatus capable of determining an appropriate additional filter according to a target dose.

(第1の実施形態乃至第7の実施形態の変形例)
なお、処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタとして、フィルタA〜フィルタDのうちの複数の付加フィルタを選択してもよい。また、処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視において使用する付加フィルタの選択結果として、フィルタA〜フィルタDのうちいずれの付加フィルタも使用しないことを決定してもよい。
(Modified Examples of First Embodiment to Seventh Embodiment)
The processing circuit 44 may use the filter selection function 443 to select a plurality of additional filters from the filters A to D as additional filters to be used in the fluoroscopy of the number of times of fluoroscopy N. Further, the processing circuit 44 may determine by the filter selection function 443 that none of the additional filters A to D is used as the selection result of the additional filter used in the fluoroscopy of the number of fluoroscopy N.

なお、X線発生部12に設けられる付加フィルタは1つでもよい。この場合、X線管とX線絞りの間に挿入される部位に応じて厚みが異なる付加フィルタが用いられ、フィルタ選択処理では、最大電力、被曝限度、SID、及び体厚と、付加フィルタの厚みとの関係を示す対応表が用いられる。処理回路44は、フィルタ選択機能443により、対応表、透視回数Nの透視における最大電力、被曝限度、SID、及び体厚に基づいて、X線管とX線絞りの間に挿入される部位における付加フィルタの厚みを決定する。そして、処理回路44は、駆動制御機能444により、決定された付加フィルタの厚みに基づいて、付加フィルタにおけるX線管とX線絞りの間に挿入される部位を調整する。この場合、フィルタ選択機能443を実現する処理回路44は、厚み決定部の一例である。 The number of additional filters provided in the X-ray generating unit 12 may be one. In this case, an additional filter having a different thickness is used depending on the part inserted between the X-ray tube and the X-ray filter. In the filter selection process, the maximum power, the exposure limit, the SID, and the body thickness and the additional filter are used. A correspondence table showing the relationship with the thickness is used. The processing circuit 44 is inserted between the X-ray tube and the X-ray diaphragm by the filter selection function 443 based on the correspondence table, the maximum power in fluoroscopy of the number of fluoroscopy N, the exposure limit, the SID, and the body thickness. Determine the thickness of the additional filter. Then, the processing circuit 44 adjusts the portion to be inserted between the X-ray tube and the X-ray diaphragm in the additional filter based on the thickness of the additional filter determined by the drive control function 444. In this case, the processing circuit 44 that realizes the filter selection function 443 is an example of the thickness determining unit.

なお、第1の実施形態乃至第6の実施形態の構成うち複数の構成が組み合わされてもよい。例えば、処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズと、焦点サイズと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択してもよく、透視回数Nの透視におけるFPD素子サイズと、FPD画素サイズと、画素サイズと、焦点サイズと、パルスレートと、最大電力と、被曝限度と、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択してもよい。また、例えば、処理回路44は、フィルタ選択機能443により、透視回数Nの透視におけるFPD画素サイズと、画素サイズと、視野サイズと、焦点サイズと、最大電力と、被曝限度とのうちのいずれか一つと、体厚とに基づいて、複数の付加フィルタのうちX線管の焦点からX線検出器13までの経路に挿入する付加フィルタを選択してもよい。 In addition, a plurality of configurations of the configurations of the first embodiment to the sixth embodiment may be combined. For example, the processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to X out of a plurality of additional filters based on the FPD element size, the focal size, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness in the fluoroscopy count N. An additional filter to be inserted in the path from the focal point of the line tube to the X-ray detector 13 may be selected, and the FPD element size, the FPD pixel size, the pixel size, the focal size, and the pulse in the fluoroscopy with the number of fluoroscopy N may be selected. Of the plurality of additional filters, an additional filter to be inserted in the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 may be selected based on the rate, the maximum power, the exposure limit, and the body thickness. Further, for example, the processing circuit 44 uses the filter selection function 443 to obtain any one of the FPD pixel size, the pixel size, the field size, the focal point size, the maximum power, and the exposure limit in the fluoroscopy with the number of times of see-through N. Of the plurality of additional filters, an additional filter to be inserted in the path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector 13 may be selected based on one and the body thickness.

なお、処理回路44は、フィルタ選択処理において、被検体の体厚に関する情報として、体厚の代わりに、透視回数N−1の透視において前述のフィードバック制御により被写体条件の変化に応じて適切に調整されたX線条件を用いてもよい。透視回数N−1の透視において前述のフィードバック制御により被写体条件の変化に応じて適切に調整されたX線条件は、例えば、透視回数N−1の透視の終了時におけるフィルタ特定情報、管電圧、管電流、パルス幅及びAGC倍率等である。 In the filter selection process, the processing circuit 44 appropriately adjusts the information regarding the body thickness of the subject according to the change in the subject condition by the feedback control described above in fluoroscopy with the number of fluoroscopy N-1 instead of the body thickness. The X-ray conditions given may be used. The X-ray conditions appropriately adjusted according to the change in the subject condition by the feedback control described above in the fluoroscopy of the fluoroscopy count N-1 include, for example, the filter specific information at the end of the fluoroscopy of the fluoroscopic number N-1 and the tube voltage. Tube current, pulse width, AGC magnification, etc.

以上説明した少なくとも1つの実施形態によれば、目標線量に応じて適切な付加フィルタを決定することができる。 According to at least one embodiment described above, an appropriate additional filter can be determined according to the target dose.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 Although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention as well as the invention described in the claims and the equivalent scope thereof.

1…X線診断装置
10…撮影装置
11…高電圧発生装置
12…X線発生部
13…X線検出器
14…Cアーム
142…Cアーム駆動装置
15…X線発生部
30…寝台装置
31…基台
32…寝台駆動装置
33…天板
34…支持フレーム
40…コンソール装置
41…メモリ
42…ディスプレイ
43…入力インターフェース
44…処理回路
441…システム制御機能
442…撮像条件設定機能
443…フィルタ選択機能
444…駆動制御機能
445…X線制御機能
446…画像生成機能
447…表示制御機能
Vp1…管電圧推定値
Vp2…管電圧推定値
Ip1…管電流推定値
Ip2…管電流推定値
Mp1…AGC倍率推定値
Mp2…AGC倍率推定値
Wp1…パルス幅推定値
Wp2…パルス幅推定値
Vth1,Vth2,β…閾値
α1…設定値
R…被曝限度到達指数
1 ... X-ray diagnostic device 10 ... Imaging device 11 ... High voltage generator 12 ... X-ray generator 13 ... X-ray detector 14 ... C-arm 142 ... C-arm drive device 15 ... X-ray generator 30 ... Sleeper device 31 ... Base 32 ... Sleeper drive device 33 ... Top plate 34 ... Support frame 40 ... Console device 41 ... Memory 42 ... Display 43 ... Input interface 44 ... Processing circuit 441 ... System control function 442 ... Imaging condition setting function 443 ... Filter selection function 444 ... Drive control function 445 ... X-ray control function 446 ... Image generation function 447 ... Display control function Vp1 ... Tube voltage estimated value Vp2 ... Tube voltage estimated value Ip1 ... Tube current estimated value Ip2 ... Tube current estimated value Mp1 ... AGC magnification estimated value Mp2 ... AGC magnification estimated value Wp1 ... Pulse width estimated value Wp2 ... Pulse width estimated value Vth1, Vth2, β ... Threshold α1 ... Set value R ... Exposure limit arrival index

Claims (14)

X線を発生させるX線管と、
前記X線管から発せられたX線を検出するX線検出器と、
前記X線管から発せられたX線を減衰させるための複数のフィルタと、
前記X線管におけるX線の焦点から前記X線検出器へのX線の経路に対して、前記複数のフィルタのうちの少なくとも1つを挿入するフィルタ駆動部と、
前記X線検出器における画素の大きさ、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさ及びX線照射領域の大きさのうちの少なくとも一つと、被検体の体厚に関する情報と、に基づいて、前記複数のフィルタのうち前記経路に挿入されるフィルタを選択するフィルタ選択部と、
を備えるX線診断装置。
An X-ray tube that generates X-rays and
An X-ray detector that detects X-rays emitted from the X-ray tube,
A plurality of filters for attenuating X-rays emitted from the X-ray tube, and
A filter drive unit that inserts at least one of the plurality of filters with respect to the X-ray path from the X-ray focal point in the X-ray tube to the X-ray detector.
Information on the size of the pixels in the X-ray detector, at least one of the size of the pixels in the X-ray image based on the output by the X-ray detector, the size of the X-ray irradiation region, and the body thickness of the subject. A filter selection unit that selects a filter to be inserted into the path from the plurality of filters based on
An X-ray diagnostic device comprising.
前記フィルタ選択部は、前記X線検出器における画素の大きさと前記被検体の体厚に関する情報とに基づいて、前記X線検出器における画素の大きさが大きい場合に、前記X線検出器における画素の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、前記経路に挿入されるフィルタとして選択する、
請求項1に記載のX線診断装置。
The filter selection unit is the X-ray detector when the pixel size in the X-ray detector is large based on the pixel size in the X-ray detector and information on the body thickness of the subject. A filter having a thickness equal to or greater than the thickness of the filter selected when the pixel size is small is selected as the filter to be inserted into the path.
The X-ray diagnostic apparatus according to claim 1.
前記X線検出器は、複数の検出素子を備え、
前記フィルタ選択部は、前記検出素子の大きさに基づいて、前記X線検出器における画素の大きさを取得する、
請求項2に記載のX線診断装置。
The X-ray detector includes a plurality of detection elements and has a plurality of detection elements.
The filter selection unit acquires the size of pixels in the X-ray detector based on the size of the detection element.
The X-ray diagnostic apparatus according to claim 2.
前記X線検出器は、複数の検出素子を備え、
前記フィルタ選択部は、前記X線検出器の1画素に対応する前記検出素子の数に基づいて、前記X線検出器における画素の大きさを取得する、請求項2に記載のX線診断装置。
The X-ray detector includes a plurality of detection elements and has a plurality of detection elements.
The X-ray diagnostic apparatus according to claim 2, wherein the filter selection unit acquires the size of pixels in the X-ray detector based on the number of detection elements corresponding to one pixel of the X-ray detector. ..
前記フィルタ選択部は、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさと前記被検体の体厚に関する情報とに基づいて、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさが大きい場合に、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、前記経路に挿入されるフィルタとして選択する、
請求項1に記載のX線診断装置。
The filter selection unit is based on the size of the pixels in the X-ray image based on the output by the X-ray detector and the information on the body thickness of the subject, and the pixels in the X-ray image based on the output by the X-ray detector. A filter having a thickness greater than or equal to the thickness of the filter selected when the size of the pixels in the X-ray image based on the output by the X-ray detector is small when the size of the filter is large, is inserted into the path. Select as,
The X-ray diagnostic apparatus according to claim 1.
前記フィルタ選択部は、前記X線照射領域の大きさと前記被検体の体厚に関する情報とに基づいて、前記X線照射領域の大きさが大きい場合に、前記X線照射領域の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、前記経路に挿入されるフィルタとして選択する、
請求項1に記載のX線診断装置。
Based on the size of the X-ray irradiation region and the information regarding the body thickness of the subject, the filter selection unit has a small size of the X-ray irradiation region when the size of the X-ray irradiation region is large. A filter having a thickness greater than or equal to the thickness of the filter selected in the case is selected as the filter to be inserted into the path.
The X-ray diagnostic apparatus according to claim 1.
前記フィルタ選択部は、前記X線検出器における画素の大きさ、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさ又は前記X線照射領域の大きさと、前記被検体の体厚に関する情報と、前記X線の焦点の大きさとに基づいて、前記経路に挿入されるフィルタを選択する、請求項1乃至6のうちいずれか一項に記載のX線診断装置。 The filter selection unit includes the size of pixels in the X-ray detector, the size of pixels in an X-ray image based on the output of the X-ray detector, the size of the X-ray irradiation region, and the body thickness of the subject. The X-ray diagnostic apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein a filter to be inserted into the path is selected based on the information regarding the X-ray and the magnitude of the X-ray focal point. 前記フィルタ選択部は、
前記焦点の大きさが大きい場合に、前記焦点の大きさが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、前記経路に挿入されるフィルタとして選択する、
請求項7に記載のX線診断装置。
The filter selection unit
When the size of the focal point is large, a filter having a thickness equal to or larger than the thickness of the filter selected when the size of the focal point is small is selected as the filter to be inserted into the path.
The X-ray diagnostic apparatus according to claim 7.
前記フィルタ選択部は、前記X線検出器における画素の大きさ、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさ又は前記X線照射領域の大きさと、前記被検体の体厚に関する情報と、前記X線管から発せられたX線のパルスレートと、に基づいて、前記経路に挿入されるフィルタを選択する、請求項1乃至8のうちいずれか一項に記載のX線診断装置。 The filter selection unit includes the size of pixels in the X-ray detector, the size of pixels in an X-ray image based on the output of the X-ray detector, the size of the X-ray irradiation region, and the body thickness of the subject. The X-ray according to any one of claims 1 to 8, wherein a filter to be inserted into the path is selected based on the information regarding the X-ray tube and the pulse rate of the X-ray emitted from the X-ray tube. Diagnostic device. 前記フィルタ選択部は、前記パルスレートが大きい場合に、前記パルスレートが小さい場合に選択されるフィルタの厚み以上の厚みを有するフィルタを、前記経路に挿入されるフィルタとして選択する、
請求項9に記載のX線診断装置。
When the pulse rate is large, the filter selection unit selects a filter having a thickness equal to or greater than the thickness of the filter selected when the pulse rate is small as a filter to be inserted into the path.
The X-ray diagnostic apparatus according to claim 9.
前記フィルタ選択部は、前記X線検出器における画素の大きさ、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさ又は前記X線照射領域の大きさと、前記被検体の体厚に関する情報と、X線管の最大の出力、単位時間あたりの被写体へのX線の入射線量の上限値、及び線源受像面間距離のうち少なくとも1つと、に基づいて、前記経路に挿入されるフィルタを選択する、請求項1乃至10のうちいずれか一項に記載のX線診断装置。 The filter selection unit includes the size of pixels in the X-ray detector, the size of pixels in an X-ray image based on the output of the X-ray detector, the size of the X-ray irradiation region, and the body thickness of the subject. Inserted into the path based on information about, the maximum output of the X-ray tube, the upper limit of the X-ray incident dose to the subject per unit time, and at least one of the distance between the source receiving planes. The X-ray diagnostic apparatus according to any one of claims 1 to 10, which selects a filter. 前記X線管と前記X線検出器とを用いた動画の撮像を指示するための操作部と、
前記X線管によるX線の照射の条件を決定するX線条件決定部と、
をさらに備え、
前記X線条件決定部は、
前記操作部への操作に応じて実行される第1の動画撮像における前記X線検出器の出力と、前記フィルタ選択部により選択された前記経路に挿入されるフィルタに関する情報とに基づいて、前記第1の動画撮像の後に前記操作部への操作に応じて実行される第2の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定し、
前記第2の動画撮像における前記X線検出器の出力と、前記フィルタ選択部により選択された前記経路に挿入されるフィルタに関する情報とに基づいて、前記第2の動画撮像の後に前記操作部への操作に応じて実行される第3の動画撮像におけるX線の焦点の大きさを決定する、
請求項1乃至11のうちいずれか一項に記載のX線診断装置。
An operation unit for instructing the imaging of a moving image using the X-ray tube and the X-ray detector, and
An X-ray condition determination unit that determines the conditions for X-ray irradiation by the X-ray tube,
With more
The X-ray condition determination unit
Based on the output of the X-ray detector in the first moving image imaging executed in response to the operation to the operation unit and the information about the filter inserted into the path selected by the filter selection unit, the above. After the first moving image imaging, the size of the X-ray focus in the second moving image imaging executed in response to the operation to the operation unit is determined.
Based on the output of the X-ray detector in the second moving image imaging and the information about the filter inserted into the path selected by the filter selection unit, the operation unit is reached after the second moving image imaging. Determines the magnitude of the X-ray focus in the third video capture performed in response to the operation of
The X-ray diagnostic apparatus according to any one of claims 1 to 11.
前記被検体の体厚に関する情報は、フィードバック制御により調整されたX線条件、又は、フィードバック制御により調整されたX線条件に基づいて算出された被検体の体厚の推定値である、請求項1乃至12のうちいずれか一項に記載のX線診断装置。 The information regarding the body thickness of the subject is an estimated value of the body thickness of the subject calculated based on the X-ray condition adjusted by the feedback control or the X-ray condition adjusted by the feedback control. The X-ray diagnostic apparatus according to any one of 1 to 12. X線を発生させるX線管と、
前記X線管から発せられたX線を検出するX線検出器と、
前記X線管の焦点から前記X線検出器へのX線の経路に挿入される部位に応じて厚みが異なり、前記X線管から発せられたX線を減衰させるためのフィルタと、
前記フィルタにおける前記経路に挿入される部位を調整するフィルタ駆動部と、
前記X線検出器における画素の大きさ、前記X線検出器による出力に基づくX線画像における画素の大きさ又はX線照射領域の大きさのうちの少なくとも一つと、被検体の体厚に関する情報と、に基づいて、前記経路に挿入する部位における前記フィルタの厚みを決定する厚み決定部と、
を備えるX線診断装置。
An X-ray tube that generates X-rays and
An X-ray detector that detects X-rays emitted from the X-ray tube,
A filter for attenuating X-rays emitted from the X-ray tube, which have different thicknesses depending on the portion inserted into the X-ray path from the focal point of the X-ray tube to the X-ray detector.
A filter drive unit that adjusts a portion of the filter that is inserted into the path,
Information on the size of the pixels in the X-ray detector, at least one of the size of the pixels in the X-ray image based on the output by the X-ray detector, or the size of the X-ray irradiation region, and the body thickness of the subject. And, based on, a thickness determining part that determines the thickness of the filter at the site to be inserted into the path, and
An X-ray diagnostic device comprising.
JP2019070829A 2019-04-02 2019-04-02 X-ray diagnostic equipment Active JP7374604B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019070829A JP7374604B2 (en) 2019-04-02 2019-04-02 X-ray diagnostic equipment
US16/836,988 US11357457B2 (en) 2019-04-02 2020-04-01 X-ray diagnosis apparatus
EP20167574.1A EP3718480A1 (en) 2019-04-02 2020-04-01 X-ray diagnosis apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019070829A JP7374604B2 (en) 2019-04-02 2019-04-02 X-ray diagnostic equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020168145A true JP2020168145A (en) 2020-10-15
JP7374604B2 JP7374604B2 (en) 2023-11-07

Family

ID=72747173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019070829A Active JP7374604B2 (en) 2019-04-02 2019-04-02 X-ray diagnostic equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7374604B2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10112399A (en) * 1996-10-08 1998-04-28 Hitachi Medical Corp X-ray apparatus
JP2004105746A (en) * 2003-10-14 2004-04-08 Toshiba Medical System Co Ltd Mammography apparatus
JP2010068929A (en) * 2008-09-17 2010-04-02 Fujifilm Corp Mamma x-ray transmission plane image and tomographic image radiographing apparatus
JP2013116184A (en) * 2011-12-02 2013-06-13 Toshiba Corp X-ray diagnostic apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10112399A (en) * 1996-10-08 1998-04-28 Hitachi Medical Corp X-ray apparatus
JP2004105746A (en) * 2003-10-14 2004-04-08 Toshiba Medical System Co Ltd Mammography apparatus
JP2010068929A (en) * 2008-09-17 2010-04-02 Fujifilm Corp Mamma x-ray transmission plane image and tomographic image radiographing apparatus
JP2013116184A (en) * 2011-12-02 2013-06-13 Toshiba Corp X-ray diagnostic apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP7374604B2 (en) 2023-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5460106B2 (en) X-ray imaging apparatus, control method therefor, and computer program
JP6266284B2 (en) X-ray diagnostic equipment
JP2006141906A (en) Radiographic apparatus
US11357457B2 (en) X-ray diagnosis apparatus
JP7374604B2 (en) X-ray diagnostic equipment
JP7179479B2 (en) X-ray CT device
JP7225006B2 (en) X-ray diagnostic equipment
US10159457B2 (en) X-ray diagnostic apparatus
JP7242191B2 (en) X-ray diagnostic equipment
JP7170469B2 (en) X-ray CT device
JP2022015134A (en) X-ray computer tomography apparatus and x-ray diagnostic device
EP4254018A1 (en) X-ray diagnostic apparatus and storage medium
JP2020022579A (en) X-ray computed tomography apparatus
JP7223517B2 (en) Medical diagnostic imaging equipment
JP7370802B2 (en) Medical image processing equipment and X-ray CT equipment
JP2019187814A (en) Medical image processing apparatus, x-ray diagnostic apparatus and medical image processing program
JP7258473B2 (en) X-ray CT device and imaging condition management device
JP7362270B2 (en) Radiation detector and radiation diagnostic equipment
JP7140566B2 (en) X-ray CT device and imaging planning device
JP7269823B2 (en) X-ray CT device
JP6878114B2 (en) X-ray diagnostic equipment
JP2008119381A (en) Radiographic equipment
JP2023079011A (en) Structure and x-ray diagnostic device and method
JP2024057817A (en) X-ray computed tomography apparatus, medical image correction method, and medical image correction program
JP2024001425A (en) Photon counting x-ray computed tomography apparatus, reconstruction processing apparatus, photon counting data acquisition method, reconstruction processing method, photon counting data acquisition program, and reconstruction processing program

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221213

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221214

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20230106

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230516

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230714

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230926

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231025

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7374604

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150