JP2020164713A - Curable resin composition - Google Patents

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Abstract

To provide a thiol-ene curable composition having an excellent pot life even when containing an inorganic filler.SOLUTION: A curable composition contains (A) a compound having two or more unsaturated carbon bonds in the molecular structure, (B) a compound having two or more thiol groups in the molecular structure, (C) a Lewis basic compound, (D) an inorganic filler, and (E) a radical generator.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、チオール−エン硬化性組成物に関する。 The present invention relates to thiol-ene curable compositions.

チオール基と不飽和炭素結合のラジカル付加であるチオール・エン反応は、酸素による阻害を受けづらく、速硬化性に優れるという利点がある。そのため、チオール基を有する化合物と不飽和炭素結合を有する化合物とを含む組成物(チオール−エン硬化性組成物)は光学用部品や接着剤の用途等で有用な硬化性組成物として提案されている(特許文献1参照)。 The thiol-ene reaction, which is a radical addition of a thiol group and an unsaturated carbon bond, has an advantage that it is not easily inhibited by oxygen and has excellent quick curing property. Therefore, a composition containing a compound having a thiol group and a compound having an unsaturated carbon bond (thiol-ene curable composition) has been proposed as a curable composition useful for applications such as optical parts and adhesives. (See Patent Document 1).

特表2009−503143Special table 2009-503143

一方で、硬化性組成物においては高機能化の観点から、組成物中に無機フィラーを充填することで、無機フィラーが有する特性を硬化性組成物や硬化物に付与する方法が広く検討されている。このような場合には、硬化性組成物が無機フィラーを充填することで流動性が低下し、塗布性や成型性を阻害することが無いように調製することが重要となる。 On the other hand, in the curable composition, from the viewpoint of high functionality, a method of imparting the characteristics of the inorganic filler to the curable composition or the cured product by filling the composition with the inorganic filler has been widely studied. There is. In such a case, it is important to prepare the curable composition so that the curable composition is filled with the inorganic filler so as not to reduce the fluidity and impair the coatability and moldability.

しかしながら、チオール−エン硬化性組成物においては、硬化性に優れるが故に、組成物が増粘やゲル化、ないしは硬化してしまう場合があり、塗布や成型におけるハンドリング性や組成物の長期保存が難しく、ポットライフ(可使時間)が短いことが問題であった。特にシリカ等の無機フィラーを配合させると、組成物のポットライフは著しく悪化してしまう。 However, in the thiol-ene curable composition, since the composition is excellent in curability, the composition may thicken, gel, or harden, and the handling property in coating and molding and the long-term storage of the composition are not good. The problem was that it was difficult and the pot life (pot life) was short. In particular, when an inorganic filler such as silica is blended, the pot life of the composition is significantly deteriorated.

そこで本発明は、良好なポットライフを備えるチオール−エン硬化性組成物を提供することを課題とする。特に、無機フィラーを配合した場合でも、良好なポットライフを備えるチオール−エン硬化性組成物を提供することを課題とする。 Therefore, it is an object of the present invention to provide a thiol-ene curable composition having a good pot life. In particular, it is an object of the present invention to provide a thiol-ene curable composition having a good pot life even when an inorganic filler is blended.

本発明者らは、上記目的の実現に向け鋭意検討したところ、チオール−エン反応を過剰に促進してしまう要因が組成物の酸性度にあると推測し、ルイス塩基性である化合物を配合したところ、詳細なメカニズムは明らかではないが、チオール−エン反応が安定化し、さらに、シリカ等の無機フィラーを充填しても良好なポットライフが得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent studies toward the realization of the above object, the present inventors presumed that the factor that excessively promotes the thiol-ene reaction was the acidity of the composition, and added a compound that is Lewis-basic. However, although the detailed mechanism is not clear, it has been found that the thiol-ene reaction is stabilized and a good pot life can be obtained even if an inorganic filler such as silica is filled, and the present invention has been completed. ..

すなわち、本発明は、(A)分子構造内に2以上の不飽和炭素結合を有する化合物と、(B)分子構造内に2以上のチオール基を有する化合物と、(C)ルイス塩基性化合物と、(D)無機フィラーと、(E)ラジカル発生剤と、を含有する硬化性組成物を提供する。 That is, the present invention includes (A) a compound having two or more unsaturated carbon bonds in the molecular structure, (B) a compound having two or more thiol groups in the molecular structure, and (C) a Lewis basic compound. , (D) Inorganic filler and (E) Radical generator are provided.

(C)ルイス塩基性化合物の含有量は、(A)分子構造内に2以上の不飽和炭素結合を有する化合物と(B)分子構造内に2以上のチオール基を有する化合物の合計含有量100質量部に対して0.5〜3質量部でもよい。 The content of (C) Lewis basic compound is 100, which is the total content of (A) a compound having two or more unsaturated carbon bonds in the molecular structure and (B) a compound having two or more thiol groups in the molecular structure. It may be 0.5 to 3 parts by mass with respect to the mass part.

(C)ルイス塩基性化合物は、ホスフィン化合物でもよい。ホスフィン化合物は、アリール基および/またはアルキルアリール基を有するホスフィン化合物でもよく、特にトリフェニルホスフィンでもよい。 (C) The Lewis basic compound may be a phosphine compound. The phosphine compound may be a phosphine compound having an aryl group and / or an alkylaryl group, and may be particularly triphenylphosphine.

また本発明によれば、前記硬化性組成物を硬化して得られる硬化物が提供される。
また本発明によれば、前記硬化物を含む積層板が提供される。
また本発明によれば、前記硬化物を有する電子部品が提供される。
Further, according to the present invention, a cured product obtained by curing the curable composition is provided.
Further, according to the present invention, a laminated board containing the cured product is provided.
Further, according to the present invention, an electronic component having the cured product is provided.

本発明によれば、良好なポットライフを備えるチオール−エン硬化性組成物を提供することが可能となる。特に、無機フィラーを配合した場合でも、良好なポットライフを備える硬化性組成物を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a thiol-ene curable composition having a good pot life. In particular, even when an inorganic filler is blended, it becomes possible to provide a curable composition having a good pot life.

以下、本発明のチオール−エン硬化性組成物について詳述する。なお、説明した化合物に異性体が存在する場合、特に断らない限り、存在し得る全ての異性体が本発明において使用可能である。 Hereinafter, the thiol-ene curable composition of the present invention will be described in detail. When isomers are present in the described compounds, all possible isomers can be used in the present invention unless otherwise specified.

<成分(A):不飽和炭素結合を有する化合物>
本発明の硬化性組成物は、成分(A)として、分子構造内に2以上の不飽和炭素結合を有する化合物を含む。本発明において「不飽和炭素結合」とは、特に断らない限り、エチレン性二重結合を意味する。
<Component (A): Compound having unsaturated carbon bond>
The curable composition of the present invention contains, as the component (A), a compound having two or more unsaturated carbon bonds in the molecular structure. In the present invention, the "unsaturated carbon bond" means an ethylenic double bond unless otherwise specified.

分子構造内に2以上の不飽和炭素結合を有する化合物としては、典型的には、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基から選択される1以上の官能基を合計2つ以上有する化合物が挙げられる。 The compound having two or more unsaturated carbon bonds in the molecular structure is typically a compound having a total of two or more functional groups of one or more selected from a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group. Can be mentioned.

このような化合物としては、例えば、ポリオールとアクリル酸とのエステル化合物、ポリオールとメタクリル酸とのエステル化合物、アリルアルコールとポリカルボン酸とのエステル化合物などが挙げられる。 Examples of such a compound include an ester compound of a polyol and acrylic acid, an ester compound of a polyol and methacrylic acid, and an ester compound of allyl alcohol and polycarboxylic acid.

ポリオールとアクリル酸とのエステル化合物としては、例えば、グリセリンジアクリレート、グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレートが挙げられる。 Examples of the ester compound of the polyol and acrylic acid include glycerin diacrylate, glycerin triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and tris. Examples thereof include (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate.

ポリオールとメタクリル酸とのエステル化合物としては、例えば、グリセリンジメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジメタクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリメタクリレートが挙げられる。 Examples of the ester compound of the polyol and methacrylic acid include glycerin dimethacrylate, glycerin trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane tetramethritol, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethritol, dipentaerythritol hexamethacrylate, and tris. Examples thereof include (2-hydroxyethyl) isocyanurate dimethacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate trimethacrylate.

アリルアルコールとポリカルボン酸とのエステル化合物としては、ジアリルオルソフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、シュウ酸ジアリル、コハク酸ジアリル、マレイン酸ジアリル、フマル酸ジアリルが挙げられる。 Examples of the ester compound of the allyl alcohol and the polycarboxylic acid include diallyl orthophthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, diallyl 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, diallyl 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, and diallyl 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid. , Diaryl oxalate, diallyl succinate, diallyl maleate, diallyl fumarate.

不飽和炭素結合を有する化合物としては、上述の化合物以外にも、ジアリルベンゼンやトリアリルシアヌレート、ブタジエン、ビニルエーテルなども含まれる。 Examples of the compound having an unsaturated carbon bond include diallylbenzene, triallyl cyanurate, butadiene, vinyl ether and the like in addition to the above-mentioned compounds.

これらの中でも、優れたポットライブが得られることからアリル基を有する化合物、具体的には、アリルアルコールとポリカルボン酸とのエステル化合物が好ましく、ジアリルフタレートがより好ましく、ジアリルオルソフタレートが特に好ましい。また、硬化物の耐熱性や強度を向上させる観点から、ジアリルフタレートとトリアリルシアヌレートを併用することが好ましい。 Among these, a compound having an allyl group, specifically, an ester compound of allyl alcohol and a polycarboxylic acid is preferable, diallyl phthalate is more preferable, and diallyl orthophthalate is particularly preferable, because excellent potlive can be obtained. Further, from the viewpoint of improving the heat resistance and strength of the cured product, it is preferable to use diallyl phthalate and triallyl cyanurate together.

<成分(B):チオール基を有する化合物>
本発明の硬化性組成物は、成分(B)として、分子構造内に2以上のチオール基を有する化合物を含む。
<Component (B): Compound having a thiol group>
The curable composition of the present invention contains, as the component (B), a compound having two or more thiol groups in the molecular structure.

このような化合物としては、例えば、ポリオールとメルカプト有機酸のエステル化合物(チオール基含有エステル化合物)が挙げられる。 Examples of such a compound include an ester compound of a polyol and a mercapto organic acid (thiol group-containing ester compound).

チオール基含有エステル化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリス(チオグリコレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレート)、エチレングリコールジチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス(β−チオプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(β−チオプロピオネート)、ジペンタエリスリトールポリ(β−チオプロピオネート)、1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチリルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン等が挙げられる。 Examples of the thiol group-containing ester compound include trimethylolpropanthris (thioglycolate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), ethylene glycol dithioglycolate, trimethylpropanthris (β-thiopropionate), and pentaerythritol. Tetrakis (β-thiopropionate), dipentaerythritol poly (β-thiopropionate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 1,3,5-tris (3-mercaptobuti) Lyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione and the like can be mentioned.

チオール基を有する化合物としては、例えば、1,4−ブタンジチオール、1,5−ペンタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,8−オクタンジチオール、1,9−ノナンジチオール、1,10−デカンジチオールなどのアルキルポリチオール化合物;末端チオール基を有するポリエーテル;末端チオール基を有するポリチオエーテル;エポキシ化合物と硫化水素との反応によって得られるチオール化合物;ポリチオール化合物とエポキシ化合物との反応によって得られる末端チオール基を有するチオール化合物;等が挙げられる。 Examples of the compound having a thiol group include 1,4-butanedithiol, 1,5-pentanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,8-octanedithiol, 1,9-nonandithiol, and 1,10-decane. Alkyl polythiol compounds such as dithiols; polyethers with terminal thiol groups; polythioethers with terminal thiol groups; thiol compounds obtained by the reaction of epoxy compounds with hydrogen sulfide; terminal thiols obtained by the reaction of polythiol compounds with epoxy compounds. Thiol compounds having a group; and the like.

これらの中でも、チオール基含有エステル化合物が好ましく、硬化物の強靭性が優れる観点から、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチリルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオンが特に好ましい。 Among these, a thiol group-containing ester compound is preferable, and from the viewpoint of excellent toughness of the cured product, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyryloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4 , 6 (1H, 3H, 5H) -trions are particularly preferred.

(A)不飽和炭素結合を有する化合物および(B)チオール基を有する化合物の含有割合は、ポットライフの観点からチオール基を有する化合物に対して不飽和炭素結合を有する化合物が当量比で0.5以上19.0以下の割合であることが好ましく、硬化物の耐熱性や強度を向上する観点から3.0以上10.0以下の割合であることがより好ましい。 The content ratio of the compound having an unsaturated carbon bond (A) and the compound having an unsaturated carbon bond (B) is 0 in an equivalent ratio of the compound having an unsaturated carbon bond to the compound having a thiol group from the viewpoint of pot life. The ratio is preferably 5 or more and 19.0 or less, and more preferably 3.0 or more and 10.0 or less from the viewpoint of improving the heat resistance and strength of the cured product.

ここでいう「当量比」とは、(A)不飽和炭素結合を有する化合物の当量とチオール基含有化合物の当量の比のことである。1当量のチオール基を有する化合物の質量は、チオール基を有する化合物の分子量を1分子中のチオール基の数で割った数である。1当量の不飽和炭素結合を有する化合物の質量は、不飽和炭素結合を有する化合物の分子量を1分子中の不飽和炭素結合の数で割った数である。つまり、チオール基を有する化合物に対して、不飽和炭素結合を有する化合物が当量比で0.5〜2.0というのは、チオール基の数が1に対して不飽和炭素結合の数が0.5〜2.0という意味である。 The "equivalent ratio" as used herein is the ratio of (A) the equivalent of a compound having an unsaturated carbon bond to the equivalent of a thiol group-containing compound. The mass of a compound having one equivalent of a thiol group is the number obtained by dividing the molecular weight of the compound having a thiol group by the number of thiol groups in one molecule. The mass of a compound having one equivalent of unsaturated carbon bonds is the number obtained by dividing the molecular weight of the compound having unsaturated carbon bonds by the number of unsaturated carbon bonds in one molecule. That is, a compound having an unsaturated carbon bond is 0.5 to 2.0 in an equivalent ratio to a compound having a thiol group, that is, the number of thiol groups is 1 and the number of unsaturated carbon bonds is 0. It means .5-2.0.

本願において、成分(A)および(B)を併せて樹脂成分と呼称する場合がある。 In the present application, the components (A) and (B) may be collectively referred to as a resin component.

<成分(C):ルイス塩基性化合物>
本発明の硬化性組成物は、成分(C)として、ルイス塩基性化合物を含む。ルイス塩基性化合物とは非共有電子対を有する化合物のことである。このような化合物を使用することで、無機フィラーを含む組成物において、組成物のチオール−エン反応が安定化させることが可能となった。シリカ等の無機フィラーをチオール−エン反応系に配合すると硬化反応が促進されてしまう(即ち、ポットライフが短くなる)。そのためチオール−エン硬化性組成物にシリカ等の無機フィラーを配合することは従来できなかった。
<Component (C): Lewis basic compound>
The curable composition of the present invention contains a Lewis basic compound as the component (C). A Lewis basic compound is a compound having an unshared electron pair. By using such a compound, it has become possible to stabilize the thiol-ene reaction of the composition in the composition containing the inorganic filler. When an inorganic filler such as silica is added to the thiol-ene reaction system, the curing reaction is promoted (that is, the pot life is shortened). Therefore, it has not been possible to add an inorganic filler such as silica to the thiol-ene curable composition.

(C)ルイス塩基性化合物としては、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレートなど分子内にエーテル結合を有する化合物、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコールアクリル酸多量体エステルなどのオキソラン環含有化合物;トリメチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、1,2−ビスジフェニルフォスフィノベンゼン、ビスジフェニルホスフィノメタン、トリ(p―トリル)ホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(3−メトキシフェニル)ホスフィンなどのホスフィン化合物や、トリフェニルホスファイト、トリ―p−トリルホスファイトなどのホスファイト化合物を含むリン化合物;が挙げられる。ホスフィン化合物は酸素と反応しても安定なホスフィンオキシド化合物を形成し、副反応を起こすリスクが小さい。次に、ホスフィン化合物について詳述する。 (C) Lewis basic compounds include compounds having an ether bond in the molecule such as tripropylene glycol diacrylate and diethylene glycol diacrylate, tetrahydrofuran, tetrahydrofurfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, and tetrahydrofurfuryl alcohol acrylic acid multimer ester. Oxolan ring-containing compounds such as: trimethylphosphine, methyldiphenylphosphine, ethyldiphenylphosphine, isopropyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, 1,2-bisdiphenylphosphinebenzene, bisdiphenylphosphinomethane, tri (p-tolyl) phosphine, Hosphine compounds such as tri (o-tolyl) phosphine, 1,2-bis (diphenylphosphine) ethane, tris (4-methoxyphenyl) phosphine, tris (3-methoxyphenyl) phosphine, triphenylphosphine, tri- Phosphite compounds such as p-triphenylphosphine; phosphorus compounds; The phosphine compound forms a stable phosphine oxide compound even when it reacts with oxygen, and the risk of causing a side reaction is small. Next, the phosphine compound will be described in detail.

ホスフィン化合物としては、典型的には、一般式(A)で表されるモノホスフィン化合物、一般式(B)で表されるジホスフィン化合物が挙げられる。 Typical examples of the phosphine compound include a monophosphine compound represented by the general formula (A) and a diphosphane compound represented by the general formula (B).

Figure 2020164713
Figure 2020164713

Figure 2020164713
Figure 2020164713

ここで一般式(1)および一般式(2)におけるPはリン原子を表す。一般式(1)および一般式(2)におけるRは、それぞれ個別に、水素原子または炭素数1〜15の炭化水素基を示す。Rのうち少なくとも1つは炭化水素基であることが好ましく、全てのRが炭化水素基であることが好ましい。一般式(2)におけるXは単結合または炭素数1〜12の2価の炭化水素基を示す。 Here, P in the general formula (1) and the general formula (2) represents a phosphorus atom. R in the general formula (1) and the general formula (2) individually represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. It is preferable that at least one of R is a hydrocarbon group, and it is preferable that all R are hydrocarbon groups. X in the general formula (2) represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.

炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐鎖状、環状いずれの構造であってもよい。炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基などが挙げられる。アルキルシクロアルキル基、アルキルアリール基やアリールアルキル基などそれぞれを置換基として有してもよい。炭化水素基のなかでもアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基が好ましく、アリール基またはアルキルアリール基がより好ましく、フェニル基が特に好ましい。 The hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, and may have a linear, branched, or cyclic structure. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. It may have each of an alkylcycloalkyl group, an alkylaryl group, an arylalkyl group and the like as a substituent. Among the hydrocarbon groups, an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group and an alkylaryl group are preferable, an aryl group or an alkylaryl group is more preferable, and a phenyl group is particularly preferable.

一般式(1)で表されるモノホスフィン化合物としては、例えば、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ−n−プロピルホスフィン、トリ−iso−プロピルホスフィン、t−ブチルホスフィン、t−ブチルジメチルホスフィン、ジ−t−ブチルジメチルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリ−n−オクチルホスフィン、ジシクロヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシルヘキシルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルベンジルホスフィンが挙げられる。 Examples of the monophosphine compound represented by the general formula (1) include trimethylphosphine, triethylphosphine, tri-n-propylphosphine, tri-iso-propylphosphine, t-butylphosphine, t-butyldimethylphosphine, and di-. t-butyldimethylphosphine, tri-n-butylphosphine, tri-n-octylphosphine, dicyclohexylphosphine, dicyclohexylhexylphosphine, diethylphenylphosphine, dicyclohexylphenylphosphine, triphenylphosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, diphenylbenzyl Phosphine can be mentioned.

一般式(2)で表されるジホスフィン化合物としては、例えば、ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)メタン、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)ベンゼンが挙げられる。 Examples of the diphosphin compound represented by the general formula (2) include bis (dicyclohexylphosphino) methane, bis (diphenylphosphino) methane, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, and 1,3-bis ( Examples thereof include diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, and 1,2-bis (diphenylphosphino) benzene.

(C)ルイス塩基性化合物としては、酸化されて形成されるホスフィンオキシド化合物の安定性がより高いことから、アリール基および/またはアルキルアリール基を有するホスフィン化合物(具体的には、式中のRがアリール基および/またはアルキルアリール基であるモノホスフィン化合物)がより好ましく、トリフェニルホスフィン(TPP)が最も好ましい。 As the Lewis basic compound, since the phosphine oxide compound formed by oxidation has higher stability, the phosphine compound having an aryl group and / or an alkylaryl group (specifically, R in the formula). A monophosphine compound in which is an aryl group and / or an alkylaryl group) is more preferable, and triphenylphosphine (TPP) is most preferable.

(C)ルイス塩基性化合物の含有量は、樹脂成分の合計含有量100質量部に対して、0.01〜5質量部が好ましく、0.1〜4質量部がより好ましく、0.5〜3質量部が更に好ましく、0.5〜1.0質量部が特に好ましい。 The content of the Lewis basic compound (C) is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 4 parts by mass, and 0.5 to 4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total content of the resin components. 3 parts by mass is more preferable, and 0.5 to 1.0 parts by mass is particularly preferable.

<成分(D):無機フィラー>
本発明の硬化性組成物は、成分(D)として、無機フィラーを含む。
<Component (D): Inorganic filler>
The curable composition of the present invention contains an inorganic filler as the component (D).

無機フィラーは、本発明の効果が阻害されない限りにおいて限定されない。無機フィラーとしては、例えば、シリカ(非結晶性シリカ、結晶性シリカ)、ノイブルグ珪土、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化チタン、ジルコニア、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、ガラス粉末、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、天然マイカ、合成マイカ、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化鉄、非繊維状ガラス、ハイドロタルサイト、ミネラルウール、アルミニウムシリケート、カルシウムシリケート、ジルコン酸カルシウム、亜鉛華等の無機フィラーを用いることができる。
そして、本発明の硬化性組成物は、組成物中で酸性を示すシリカ、ジルコニア、酸化チタン、活性アルミナ等の酸化金属類、タルク、クレー(カオリン)等のケイ酸塩鉱物を含んでも優れたポットライブが得られる。
Inorganic fillers are not limited as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the inorganic filler include silica (non-crystalline silica, crystalline silica), Neuburg silica soil, aluminum oxide (alumina), titanium oxide, zirconia, boron nitride, aluminum nitride, glass powder, talc, clay, magnesium carbonate, and the like. Inorganic such as calcium carbonate, natural mica, synthetic mica, aluminum hydroxide, barium sulfate, barium titanate, iron oxide, non-fibrous glass, hydrotalcite, mineral wool, aluminum silicate, calcium silicate, calcium zirconate, zinc flower, etc. Fillers can be used.
The curable composition of the present invention is also excellent even if it contains metals such as silica, zirconia, titanium oxide and activated alumina which are acidic in the composition, and silicate minerals such as talc and clay (kaolin). You can get a pot live.

無機フィラーは付与する特性に応じて選択され、熱寸法安定性(低熱膨張性)、低誘電損失、高強度化の観点からシリカ、熱伝導性の観点から酸化アルミニウムや窒化ホウ素、白色化や光反射用途の観点からから酸化チタンが好ましい。また、無機フィラーの形状としては、充填性や硬化物の機械的強度の観点から球状であることがより好ましい。 Inorganic fillers are selected according to the properties to be imparted, silica from the viewpoint of thermal dimensional stability (low thermal expansion), low dielectric loss, and high strength, aluminum oxide and boron nitride from the viewpoint of thermal conductivity, whitening and light. Titanium oxide is preferable from the viewpoint of reflective use. Further, the shape of the inorganic filler is more preferably spherical from the viewpoint of filling property and mechanical strength of the cured product.

無機フィラーの平均粒径は、好ましくは0.02〜10μm、より好ましくは0.02〜3μmである。ここで平均粒径は、市販のレーザー回折・散乱式粒度分布測定装置を用いて、レーザー回折・散乱法による粒度分布の測定値から、累積分布によるメディアン径(d50、体積基準)として求めることができる。 The average particle size of the inorganic filler is preferably 0.02 to 10 μm, more preferably 0.02 to 3 μm. Here, the average particle size can be obtained as the median diameter (d50, volume standard) based on the cumulative distribution from the measured value of the particle size distribution by the laser diffraction / scattering method using a commercially available laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device. it can.

異なる平均粒径の無機フィラーを併用することも可能である。無機フィラーの高充填化を図る観点から、例えば平均粒径1μm以上の無機フィラーとともに、平均粒径1μm未満のナノオーダーの微小の無機フィラーを併用してもよい。 It is also possible to use inorganic fillers having different average particle sizes in combination. From the viewpoint of increasing the filling of the inorganic filler, for example, a nano-order fine inorganic filler having an average particle size of less than 1 μm may be used in combination with the inorganic filler having an average particle size of 1 μm or more.

無機フィラーはカップリング剤により表面処理が施されていることが好ましい。表面をシランカップリング剤で処理することで、組成物の他の成分との親和性/相溶性を向上させることができ、また組成物のポットライフを向上させることができる。 The inorganic filler is preferably surface-treated with a coupling agent. By treating the surface with a silane coupling agent, the affinity / compatibility with other components of the composition can be improved, and the pot life of the composition can be improved.

シランカップリング剤としては、例えば、エポキシシランカップリング剤、メルカプトシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤、フェニルシランカップリング剤、アミノシランカップリング剤などを用いることができる。エポキシシランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランなどを用いることができる。メルカプトシランカップリング剤としては、例えば、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどを用いることができる。ビニルシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリエトキシシランなどを用いることができる。中でも、ポットライフを向上させることから、ビニルシランカップリング剤、フェニルシランカップリング剤、アミノシランカップリング剤が好ましい。 As the silane coupling agent, for example, an epoxysilane coupling agent, a mercaptosilane coupling agent, a vinylsilane coupling agent, a phenylsilane coupling agent, an aminosilane coupling agent and the like can be used. As the epoxysilane coupling agent, for example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane and the like can be used. As the mercaptosilane coupling agent, for example, γ-mercaptopropyltriethoxysilane or the like can be used. As the vinylsilane coupling agent, for example, vinyltriethoxysilane or the like can be used. Of these, vinylsilane coupling agents, phenylsilane coupling agents, and aminosilane coupling agents are preferable because they improve pot life.

シランカップリング剤の使用量は、例えば、無機フィラー100質量部に対して0.1〜5質量部、0.5〜3質量部としてもよい。 The amount of the silane coupling agent used may be, for example, 0.1 to 5 parts by mass or 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler.

樹脂成分と(D)無機フィラーとの質量含有割合は、樹脂成分:無機フィラーが50:50〜70:30の範囲内であることが好ましい。このような無機フィラーとの質量含有割合であれば、ポットライフに優れた硬化性樹脂組成物が得られる。 The mass content ratio of the resin component and the (D) inorganic filler is preferably in the range of 50:50 to 70:30 for the resin component: inorganic filler. With such a mass content ratio with the inorganic filler, a curable resin composition having excellent pot life can be obtained.

<成分(E):ラジカル発生剤>
本発明の硬化性組成物は、成分(E)として、ラジカル発生剤を含む。ラジカル発生剤としては、熱ラジカル発生剤、光ラジカル発生剤が挙げられる。
<Component (E): Radical generator>
The curable composition of the present invention contains a radical generator as the component (E). Examples of the radical generator include a thermal radical generator and a photoradical generator.

熱ラジカル発生剤としては、例えば、アゾ系、過酸化物系、レドックス系が挙げられる。 Examples of the thermal radical generator include azo-based, peroxide-based, and redox-based agents.

アゾ系熱ラジカル発生剤としては、例えば、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル、2,2´−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、2,2´−アゾビス(2−メチルプロピオン酸)ジメチル、4,4´−アゾビス−4−シアノバレリアン酸、アゾビスイソバレロニトリル、2,2´−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、2,2´−アゾビス[2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロライド、2,2´−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二硫酸塩、2,2´−アゾビス(N,N´−ジメチレンイソブチルアミジン)ジヒドロクロライド等が挙げられる。 Examples of the azo-based thermal radical generator include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, and 2,2'-azobis (2-methylpropionic acid). Dimethyl, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, azobisisobutaleronitrile, 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (5-methyl-) 2-Imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis (2-methylpropionamidine) disulfate, 2,2'-azobis (N, N'-dimethyleneisobutyramidine) dihydrochloride, etc. Can be mentioned.

過酸化物系熱ラジカル発生剤としては、例えば、ジベンゾイルペルオキシド、t−ブチルペルマレエート、過酸化ラウロイル、1,1−ビス(3,3−ジメチルブチルペルオキシ)シクロヘキサン等が挙げられる。 Examples of the peroxide-based thermal radical generator include dibenzoyl peroxide, t-butyl permalate, lauroyl peroxide, and 1,1-bis (3,3-dimethylbutylperoxy) cyclohexane.

光ラジカル発生剤としては、例えば、ベンゾインエーテル系、アセトフェノン系、α−ケトール系、芳香族スルホニルクロリド系、光活性オキシム系、ベンゾイン系、ベンジル系、ベンゾフェノン系、ケタール系、チオキサントン系、アシルフォスフィンオキシド系等が挙げられる。 Examples of the photoradical generator include benzoin ether type, acetophenone type, α-ketol type, aromatic sulfonyl chloride type, photoactive oxime type, benzoin type, benzyl type, benzophenone type, ketal type, thioxanthone type and acylphosphine. Oxime type and the like can be mentioned.

ベンゾインエーテル系光ラジカル発生剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン[商品名:イルガキュア651、BASF社製]、アニソイン等が挙げられる。 Examples of the benzoin ether-based photoradical generator include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one [commodity]. Name: Irgacure 651, manufactured by BASF], anisoin and the like.

アセトフェノン系光ラジカル発生剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン[商品名:イルガキュア184、BASF社製]、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン[商品名:イルガキュア2959、BASF社製]、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン[商品名:ダロキュア1173、BASF社製]、メトキシアセトフェノン等が挙げられる。 Examples of the acetophenone-based photoradical generator include 1-hydroxycyclohexylphenylketone [trade name: Irgacure 184, manufactured by BASF], 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 1- [4-( 2-Hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one [trade name: Irgacure 2959, manufactured by BASF], 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- 1-on [trade name: DaroCure 1173, manufactured by BASF], methoxyacetophenone and the like can be mentioned.

α−ケトール系光ラジカル発生剤としては、例えば、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン、1−[4−(2−ヒドロキシエチル)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン等が挙げられる。 Examples of the α-ketol photoradical generator include 2-methyl-2-hydroxypropiophenone and 1- [4- (2-hydroxyethyl) -phenyl] -2-hydroxy-2-methylpropane-1-. On, etc. can be mentioned.

芳香族スルホニルクロリド系光ラジカル発生剤としては、例えば、2−ナフタレンスルホニルクロライド等が挙げられる。光活性オキシム系光重合開始剤としては、例えば、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(O−エトキシカルボニル)−オキシム等が挙げられる。 Examples of the aromatic sulfonyl chloride-based photoradical generator include 2-naphthalene sulfonyl chloride and the like. Examples of the photoactive oxime-based photopolymerization initiator include 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (O-ethoxycarbonyl) -oxime and the like.

ベンゾイン系光ラジカル発生剤としては、例えば、ベンゾイン等が挙げられる。 Examples of the benzoin-based photoradical generator include benzoin and the like.

ベンジル系光ラジカル発生剤としては、例えば、ベンジル等が挙げられる。 Examples of the benzyl-based photoradical generator include benzyl and the like.

ベンゾフェノン光ラジカル発生剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3´−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。 Examples of the benzophenone photoradical generator include benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, polyvinylbenzophenone, α-hydroxycyclohexylphenylketone and the like.

ケタール系光ラジカル発生剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。 Examples of the ketal-based photoradical generator include benzyldimethyl ketal and the like.

チオキサントン系光ラジカル発生剤としては、例えば、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントン等が挙げられる。 Examples of the thioxanthone-based photoradical generator include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, and isopropylthioxanthone. Examples thereof include 2,4-diisopropylthioxanthone and dodecylthioxanthone.

アシルフォスフィンオキシド系光ラジカル発生剤としては、例えば、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)(2,4,4−トリメチルペンチル)ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−n−ブチルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−(2−メチルプロパン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−(1−メチルプロパン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−t−ブチルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)シクロヘキシルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)オクチルホスフィンオキシド、ビス(2−メトキシベンゾイル)(2−メチルプロパン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2−メトキシベンゾイル)(1−メチルプロパン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジエトキシベンゾイル)(2−メチルプロパン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジエトキシベンゾイル)(1−メチルプロパン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジブトキシベンゾイル)(2−メチルプロパン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2,4−ジメトキシベンゾイル)(2−メチルプロパン−1−イル)ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)(2,4−ジペントキシフェニル)ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)ベンジルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2−フェニルプロピルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2−フェニルエチルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)ベンジルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2−フェニルプロピルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2−フェニルエチルホスフィンオキシド、2,6−ジメトキシベンゾイルベンジルブチルホスフィンオキシド、2,6−ジメトキシベンゾイルベンジルオクチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2−メチルフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−メチルフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジエチルフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,3,5,6−テトラメチルフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジ−n−ブトキシフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)イソブチルホスフィンオキシド、2,6−ジメチトキシベンゾイル−2,4,6−トリメチルベンゾイル−n−ブチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジブトキシフェニルホスフィンオキシド、1,10−ビス[ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド]デカン、トリ(2−メチルベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。 Examples of the acylphosphine oxide-based photoradical generator include bis (2,6-dimethoxybenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) (2,4,4-trimethylpentyl) phosphine oxide, and bis. (2,6-dimethoxybenzoyl) -n-butylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)-(2-methylpropan-1-yl) phosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)-(1 -Methylpropan-1-yl) phosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -t-butylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) cyclohexylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) octyl Phosphine oxide, bis (2-methoxybenzoyl) (2-methylpropan-1-yl) phosphine oxide, bis (2-methoxybenzoyl) (1-methylpropan-1-yl) phosphin oxide, bis (2,6-di) Ethoxybenzoyl) (2-methylpropan-1-yl) phosphine oxide, bis (2,6-diethoxybenzoyl) (1-methylpropan-1-yl) phosphine oxide, bis (2,6-dibutoxybenzoyl) ( 2-Methylpropan-1-yl) phosphine oxide, bis (2,4-dimethoxybenzoyl) (2-methylpropan-1-yl) phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) (2,4- Dipentoxyphenyl) phosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) benzyl phosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2-phenylpropylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2- Phenylethylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) benzylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2-phenylpropylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2-phenylethylphosphine Oxide, 2,6-dimethoxybenzoylbenzylbutylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoylbenzyloctylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -2,5-diisopropylphenylphosphine oxide, bis (2,4) , 6-trimethylbenzoyl) -2-methylphenylphosphino Xido, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -4-methylphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -2,5-diethylphenylphosphine oxide, bis (2,4,6- Trimethylbenzoyl) -2,3,5,6-tetramethylphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -2,4-di-n-butoxyphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethyl Benzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) isobutylphosphine oxide, 2,6-dimethyloxybenzoyl-2 , 4,6-trimethylbenzoyl-n-butylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -2,4-dibutoxyphenylphosphine oxide , 1,10-Bis [bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide] decane, tri (2-methylbenzoyl) phosphine oxide and the like.

(E)ラジカル発生剤の含有量は、樹脂成分の合計含有量100質量部に対して、0.01〜5質量部が好ましく、0.1〜4質量部がより好ましく、0.5〜3質量部が特に好ましい。 The content of the radical generator (E) is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 4 parts by mass, and 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total content of the resin components. Parts by mass are particularly preferred.

本発明の組成物は、さらに、必要に応じて、シランカップリング剤、イオントラップ剤、レベリング剤、消泡剤、搖変剤、粘度調整剤、難燃剤、界面活性剤などの添加剤を含有してもよい。 The composition of the present invention further contains additives such as a silane coupling agent, an ion trapping agent, a leveling agent, a defoaming agent, a stiffening agent, a viscosity modifier, a flame retardant, and a surfactant, if necessary. You may.

<硬化物>
硬化物は、上述した硬化性組成物を硬化することで得られる。
<Cured product>
The cured product is obtained by curing the curable composition described above.

硬化性組成物から硬化物を得るための方法は、特に限定されるものではなく、硬化性組成物の組成に応じて適宜変更可能である。一例として、プリント配線板等の基材上に硬化性組成物の塗工(例えば、アプリケーター等による塗工)を行う工程を実施した後、必要に応じて硬化性組成物を乾燥させる乾燥工程を実施し、成分として熱ラジカル発生剤を含有していれば加熱(例えば、イナートガスオーブン、ホットプレート、真空オーブン、真空プレス機等による加熱)、光ラジカル発生剤を含有していれば露光(光源として、高圧水銀灯ランプやメタルハライドランプ等を搭載した光照射装置による露光)によりラジカル種を発生させ、チオール−エン反応を起こす硬化工程を実施すればよい。なお、各工程における実施の条件(例えば、塗工厚、乾燥温度および時間、加熱温度および時間等)は、硬化性組成物の組成や用途等に応じて適宜変更すればよい。 The method for obtaining the cured product from the curable composition is not particularly limited, and can be appropriately changed depending on the composition of the curable composition. As an example, after performing a step of applying a curable composition on a base material such as a printed wiring board (for example, coating with an applicator or the like), a drying step of drying the curable composition as necessary is performed. If it contains a thermal radical generator as a component, it is heated (for example, heated by an inert gas oven, a hot plate, a vacuum oven, a vacuum press, etc.), and if it contains a photoradical generator, it is exposed (as a light source). , Exposure by a light irradiation device equipped with a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like) to generate radical species and carry out a curing step that causes a thiol-oven reaction. The conditions for implementation in each step (for example, coating thickness, drying temperature and time, heating temperature and time, etc.) may be appropriately changed according to the composition, application, and the like of the curable composition.

<封止材・アンダーフィル材>
本発明の硬化性組成物は、速硬化性を備え、硬化収縮が小さいことから、電子部品の封止材やアンダーフィル材に用いることができる。
<Encapsulant / underfill material>
Since the curable composition of the present invention has fast curing properties and has a small curing shrinkage, it can be used as a sealing material or an underfill material for electronic parts.

詳しく説明すると、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、リジッド及びフレキシブル配線板、ガラス、シリコーンウエハ等の支持基材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、抵抗アレイ、コイル、スイッチ等の受動素子などの素子を搭載し、支持基材と素子の間や素子を覆うように本発明の硬化性組成物をディスペンス方式、注型方式、印刷方式等により注入、被覆し、硬化させる。特にリジッド及びフレキシブル配線板やガラス上に形成した配線に半導体素子をバンプ接続によるフリップチップボンディングした実装方法に好適である。 More specifically, support substrates such as lead frames, pre-wired tape carriers, rigid and flexible wiring boards, glass, and silicone wafers, active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, and thyristors, capacitors, resistors, and resistance arrays , A device such as a passive element such as a coil or a switch is mounted, and the curable composition of the present invention is injected and coated by a diode method, a casting method, a printing method, etc. so as to cover the element or between the supporting base material and the element. And cure. In particular, it is suitable for a mounting method in which a semiconductor element is flip-chip bonded by bump connection to a rigid or flexible wiring board or wiring formed on glass.

<電子部品>
本発明の硬化性組成物からなる硬化物は、硬化収縮が小さく、含有する無機フィラーによって強度、熱伝導性、光反射性を付与することができるため、多種多用な電子部品に使用可能である。
<Electronic components>
The cured product made of the curable composition of the present invention has a small curing shrinkage, and can be used for a wide variety of electronic components because it can impart strength, thermal conductivity, and light reflectivity by the inorganic filler contained therein. ..

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

以下、実施例および比較例に用いた原料を列記する。 The raw materials used in Examples and Comparative Examples are listed below.

A−1:ジアリルオルソフタレート(東京化成工業社製)
A−2:ジアリルイソフタレート(東京化成工業社製)
A−3:トリアリルシアヌレート(東京化成工業社製)
B−1:1,3,5−トリス(3−メルカプトブチリルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン(昭和電工株式会社製)
C−1:トリフェニルホスフィン(富士フィルム枠純薬株式会社製)
D−1:表面修飾されていないシリカ(アドマテックス社製「SQC6(粒径500nm)」)
D−2:ビニル修飾されたシリカ(アドマテックス社製「SV−C10(粒径500nm)」)
D−3:フェニル修飾されたシリカ(アドマテックス製「5SP−E1(粒径600nm)」)
E−1:1,1−ビス(3,3−ジメチルブチルペルオキシ)シクロヘキサン
A-1: Dialyl orthophthalate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
A-2: Dialyl Isophthalate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
A-3: Triallyl cyanurate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
B-1: 1,3,5-Tris (3-mercaptobutyryloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -Trione (manufactured by Showa Denko KK)
C-1: Triphenylphosphine (manufactured by Fuji Film Frame Junyaku Co., Ltd.)
D-1: Silica without surface modification ("SQC6 (particle size 500 nm)" manufactured by Admatex)
D-2: Vinyl-modified silica (“SV-C10 (particle size 500 nm)” manufactured by Admatex)
D-3: Phenyl-modified silica ("5SP-E1 (particle size 600 nm)" manufactured by Admatex)
E-1: 1,1-bis (3,3-dimethylbutylperoxy) cyclohexane

表1に記載した組成にて実施例および比較例の硬化性組成物を調製した。これら組成物について下記の試験によって評価した。評価結果は表1に併記した。 The curable compositions of Examples and Comparative Examples were prepared with the compositions shown in Table 1. These compositions were evaluated by the following tests. The evaluation results are also shown in Table 1.

(粘度)
組成物の粘度[mPa・s]を25℃、50rpmの条件にてコーンプレート型粘度計(東機産業社製TVH−33H)で測定した。調製直後および調製から6時間経過後の2度のタイミングにおいて測定した。
(viscosity)
The viscosity [mPa · s] of the composition was measured with a cone plate type viscometer (TVH-33H manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) under the conditions of 25 ° C. and 50 rpm. Measurements were taken immediately after preparation and at two timings 6 hours after preparation.

なお、表中の『粘度(0h)』は調製直後の組成物の粘度を意味し、『粘度(6h)』は調製から6時間経過後の組成物の粘度を意味する。 In the table, "viscosity (0h)" means the viscosity of the composition immediately after preparation, and "viscosity (6h)" means the viscosity of the composition 6 hours after the preparation.

(ポットライフ)
ポットライフは、6時間経過による組成物の増粘比率(粘度(6h)/粘度(0h))によって評価した。増粘比率が1.2未満のものを「◎」、1.2以上1.5未満のものを「〇」、1.5以上2.0未満のものを「△」、2.0以上のものを「×」と評価した。
(Pot life)
The pot life was evaluated by the thickening ratio (viscosity (6h) / viscosity (0h)) of the composition after 6 hours. Thickening ratio less than 1.2 is "◎", 1.2 or more and less than 1.5 is "○", 1.5 or more and less than 2.0 is "△", 2.0 or more The thing was evaluated as "x".

(弾性率)
ガラス板にポリテトラフルオロエチレンテープ(PTFEテープ:ガラスクロス入り,表面が粗面)を貼って、その上から同じサイズの表面が平滑なPTFEテープを重ね貼りする。そのテープ付きガラス板を二枚用意する。そしてその片方のガラス板のテープの両端から1cmのところにもう二枚テープを重ね貼りしてスペーサーとする。スペーサー付きのガラス板のテープ上にサンプルを充填させもう一枚のガラス板で挟み込み両端をクリップで固定した。そのサンプルが充填されたガラス板を110℃で熱した熱風循環式乾燥炉で1時間硬化させ硬化膜を得た。この硬化膜を幅 5mm、長さ70mmにカットし、引張試験を下記条件にて行い、試験応力が0.5MPaから1.0MPaにかけての応力-歪み曲線の傾きからN=5の平均弾性率を求めた。
[測定条件]
試験機:引張試験機EZ−SX(株式会社島津製作所製)
チャック間距離:50mm
試験速度:3mm/min
伸び計算:(引張移動量/チャック間距離)×100
(Elastic modulus)
Polytetrafluoroethylene tape (PTFE tape: with glass cloth, rough surface) is attached to the glass plate, and PTFE tape of the same size with a smooth surface is overlaid on top of it. Prepare two glass plates with the tape. Then, two more tapes are laminated 1 cm from both ends of the tape on one of the glass plates to form a spacer. The sample was filled on a tape of a glass plate with a spacer, sandwiched between another glass plate, and both ends were fixed with clips. The glass plate filled with the sample was cured in a hot air circulation type drying oven heated at 110 ° C. for 1 hour to obtain a cured film. This cured film is cut to a width of 5 mm and a length of 70 mm, and a tensile test is performed under the following conditions. The average elastic modulus of N = 5 is obtained from the slope of the stress-strain curve when the test stress is from 0.5 MPa to 1.0 MPa. I asked.
[Measurement condition]
Testing machine: Tensile testing machine EZ-SX (manufactured by Shimadzu Corporation)
Distance between chucks: 50 mm
Test speed: 3 mm / min
Elongation calculation: (tensile movement amount / distance between chucks) x 100

(ガラス転移温度)
弾性率の評価と同様に作製した硬化膜を幅5mm、長さ30mmにカットし、動的粘弾性試験(DMA)を下記条件にて行い、ガラス転移温度を測定した。
[測定条件]
試験機:G2 RSA (ティー・エイ・インスツルメント社製)
測定モード:引張モード
チャック間距離:10mm
温度条件:窒素雰囲気下、−30℃〜150℃まで5℃/分で昇温させた後、150〜−30℃まで5℃/分で降温し、降温過程でのガラス転移温度を測定
(Glass-transition temperature)
The cured film prepared in the same manner as the evaluation of the elastic modulus was cut into a width of 5 mm and a length of 30 mm, and a dynamic viscoelasticity test (DMA) was performed under the following conditions to measure the glass transition temperature.
[Measurement condition]
Testing machine: G2 RSA (manufactured by TA Instruments)
Measurement mode: Tensile mode Chuck distance: 10 mm
Temperature conditions: Under a nitrogen atmosphere, the temperature is raised from -30 ° C to 150 ° C at 5 ° C / min, then lowered to 150 to -30 ° C at 5 ° C / min, and the glass transition temperature during the temperature lowering process is measured.

Figure 2020164713
Figure 2020164713

Claims (8)

(A)分子構造内に2以上の不飽和炭素結合を有する化合物と、(B)分子構造内に2以上のチオール基を有する化合物と、(C)ルイス塩基性化合物と、(D)無機フィラーと、(E)ラジカル発生剤と、を含有する硬化性組成物。 (A) A compound having two or more unsaturated carbon bonds in the molecular structure, (B) a compound having two or more thiol groups in the molecular structure, (C) a Lewis basic compound, and (D) an inorganic filler. A curable composition containing (E) a radical generator. (C)ルイス塩基性化合物の含有量が、(A)分子構造内に2以上の不飽和炭素結合を有する化合物と(B)分子構造内に2以上のチオール基を有する化合物の合計含有量100質量部に対して0.5〜3質量部であることを特徴とする請求項1に記載の硬化性組成物。 The total content of (C) Lewis basic compound is 100: (A) a compound having two or more unsaturated carbon bonds in the molecular structure and (B) a compound having two or more thiol groups in the molecular structure. The curable composition according to claim 1, wherein the amount is 0.5 to 3 parts by mass with respect to parts by mass. (C)ルイス塩基性化合物が、ホスフィン化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の硬化性組成物。 (C) The curable composition according to claim 1 or 2, wherein the Lewis basic compound is a phosphine compound. ホスフィン化合物が、アリール基および/またはアルキルアリール基を有するホスフィン化合物であることを特徴とする請求項3に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 3, wherein the phosphine compound is a phosphine compound having an aryl group and / or an alkylaryl group. アリール基および/またはアルキルアリール基を有するホスフィン化合物が、トリフェニルホスフィンであることを特徴とする請求項4に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 4, wherein the phosphine compound having an aryl group and / or an alkylaryl group is triphenylphosphine. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性組成物を硬化して得られることを特徴とする硬化物。 A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of claims 1 to 5. 請求項6に記載の硬化物を含むことを特徴とする積層板。 A laminated board comprising the cured product according to claim 6. 請求項6に記載の硬化物を有することを特徴とする電子部品。

An electronic component having the cured product according to claim 6.

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