JP2020164357A - Method and apparatus for treating polymer - Google Patents
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Description
本発明は、四塩化ケイ素をトリクロロシランに転化する転化工程において回収されるクロロシラン類のポリマーの処理方法及び処理装置に関する。 The present invention relates to a method and a treatment apparatus for treating a polymer of chlorosilanes recovered in the conversion step of converting silicon tetrachloride to trichlorosilane.
半導体材料に用いられる高純度の多結晶シリコンは、四塩化珪素(SiCl4:STC)を水素と反応させる転化反応等により製造される高純度のトリクロロシラン(SiHCl3:TCS)を原料として、そのトリクロロシランの水素還元反応及び熱分解反応により主に製造されている。 High-purity polycrystalline silicon used as a semiconductor material is made from high-purity trichlorosilane (SiHCl 3 : TCS) produced by a conversion reaction in which silicon tetrachloride (SiCl 4 : STC) is reacted with hydrogen. It is mainly produced by hydrogen reduction reaction and thermal decomposition reaction of trichlorosilane.
このような転化反応によりトリクロロシランを製造する装置として、例えば特許文献1には、四塩化ケイ素と水素とを反応室に導入して600℃〜1200℃の温度で転化反応させることによって、トリクロロシランと塩化水素とを含む反応生成ガスを得ることが開示されている。そして、トリクロロシラン製造装置として、反応室から導出された反応生成ガスを、例えば1秒以内に300℃以下にまで達するような冷却速度で急冷する冷却手段を備えたものが提案されている。 As an apparatus for producing trichlorosilane by such a conversion reaction, for example, Patent Document 1 describes trichlorosilane by introducing silicon tetrachloride and hydrogen into a reaction chamber and causing a conversion reaction at a temperature of 600 ° C. to 1200 ° C. It is disclosed to obtain a reaction product gas containing hydrogen chloride and hydrogen chloride. Then, as a trichlorosilane production apparatus, an apparatus provided with a cooling means for rapidly cooling the reaction-producing gas derived from the reaction chamber at a cooling rate such as reaching 300 ° C. or lower within 1 second has been proposed.
このような極端に短い時間で反応生成ガスを急冷した場合には、反応生成ガス中のトリクロロシランが塩化水素と反応して四塩化ケイ素と水素に分解する逆反応を抑制することができ、トリクロロシランの転換率を高めることができる。しかし、一方で冷却過程において、反応生成ガス中に含まれるジクロロシリレン(SiCl2)が四塩化ケイ素(SiCl4)と反応して、ヘキサクロロジシラン(六塩化二珪素:Si2Cl6)などのシリコン2原子以上を含む高次クロロシラン類(ポリマー)が副生されることが知られている。 When the reaction product gas is rapidly cooled in such an extremely short time, the reverse reaction in which trichlorosilane in the reaction product gas reacts with hydrogen chloride and decomposes into silicon tetrachloride and hydrogen can be suppressed. The conversion rate of chlorosilane can be increased. However, on the other hand, in the cooling process, dichlorosilylene (SiCl 2 ) contained in the reaction production gas reacts with silicon tetrachloride (SiCl 4 ) to form silicon such as hexachlorodisilane (disilicon hexachloride: Si 2 Cl 6 ). It is known that higher-order chlorosilanes (polymers) containing two or more atoms are by-produced.
このような転化工程において副生されたポリマーは、トリクロロシラン等の有用物から分離され、加水分解処理して廃棄されていた。また、特許文献2には、ポリマーを分解して有用なトリクロロシランに転換する方法が提案されている。特許文献2では、ポリマーと塩化水素とを混合した原料ガスを450℃以上の加熱下で反応させることにより、ポリマーをトリクロロシランに転換することが開示されている。
The polymer produced as a by-product in such a conversion step was separated from useful substances such as trichlorosilane, hydrolyzed and discarded. Further,
特許文献2に記載されるように、ポリマーの分解炉を設けてトリクロロシランを回収することで、ポリマーを加水分解して廃棄処分する負担を大幅に低減することができる。また、回収したトリクロロシランを再利用することによって原料の使用効率を高め、製造コストを低減することが可能である。
しかし、多結晶シリコン製造プロセスにおいては、さらなる製造コストの低減が求められている。分解炉では、ポリマーと塩化水素とを反応させるために450℃以上の高温で加熱する必要があり、エネルギー消費が大きいという問題がある。
As described in
However, in the polycrystalline silicon manufacturing process, further reduction of manufacturing cost is required. In the decomposition furnace, it is necessary to heat at a high temperature of 450 ° C. or higher in order to react the polymer with hydrogen chloride, and there is a problem that energy consumption is large.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、転化反応によって生成した反応生成ガスを冷却する工程において生成されるポリマーを円滑に処理して、エネルギー消費の少ない操業を行わせることができるとともに、ポリマー廃棄作業の負担を少なくして原料の使用効率を高めることができるポリマー処理方法及び処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and it is possible to smoothly process the polymer produced in the step of cooling the reaction-generated gas generated by the conversion reaction to perform an operation with low energy consumption. It is an object of the present invention to provide a polymer treatment method and a treatment apparatus capable of reducing the burden of polymer disposal work and increasing the efficiency of use of raw materials.
本発明のポリマー処理方法は、四塩化ケイ素と水素とを含む原料ガスを転化反応させた反応生成ガスを冷却することにより生じたポリマーを回収し、前記ポリマーを水素化触媒に接触させて反応させることにより、ポリマー中のヘキサクロロジシランからトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランを生成することを特徴とする。 In the polymer treatment method of the present invention, the polymer produced by cooling the reaction product gas obtained by converting the raw material gas containing silicon tetrachloride and hydrogen into a reaction product is recovered, and the polymer is brought into contact with a hydrogenation catalyst to react. This is characterized in that trichlorodisilane or tetrachlorodisilane is produced from hexachlorodisilane in the polymer.
転化炉で生成される反応生成ガス中には、ジクロロシリレン(SiCl2)が多く含まれている。ジクロロシリレンは、転化反応において高温下で多く生成され、特に1200℃を超える温度下で顕著に生成される。
そのため、冷却過程において、ジクロロシリレンが四塩化ケイ素と反応して、凝縮液中にはヘキサクロロジシラン(Si2Cl6)を主としたポリマーが生成される。そして、このポリマーを水素化触媒に接触させることで、ポリマー中のヘキサクロロジシランが水素化されてトリクロロジシラン(Si2H3Cl3)又はテトラクロロジシラン(Si2H2Cl4)を生成することができる。
The reaction product gas produced in the conversion furnace contains a large amount of dichlorosilylene (SiCl 2 ). Dichloromethane is abundantly produced in the conversion reaction at a high temperature, and is particularly remarkably produced at a temperature exceeding 1200 ° C.
Therefore, in the cooling process, dichlorosilylene reacts with silicon tetrachloride to produce a polymer mainly composed of hexachlorodisilane (Si 2 Cl 6 ) in the condensate. Then, by contacting the polymer in the hydrogenation catalyst, the hexachlorodisilane in the polymer to produce a hydrogenated with trichlorodisilane (Si 2 H 3 Cl 3), or tetrachlorodisilane (Si 2 H 2 Cl 4) Can be done.
トリクロロジシラン及びテトラクロロジシランは、三塩化ホウ素などのホウ素化合物と反応しやすく、ホウ素化合物と反応することにより沸点の高い錯体を形成する。
例えば、本出願人は、特許文献3により、塩化炉内で反応によって生成されるガス中に含まれるトリクロロシランを精製する方法において、トリクロロシランを含む混合流体に塩化シラン系ポリマーを接触させることで、三塩化ホウ素(BCl3、沸点12.4℃)などのホウ素化合物と反応させて、沸点の高い錯体を形成した後に、蒸留分離することを提案している。
蒸留工程を経てトリクロロシランを生成する場合、不純物のうちホウ素は、主として三塩化ホウ素として存在し、トリクロロシランと沸点が近いため、蒸留により分離することが難しいが、トリクロロジシラン又はテトラクロロジシランを含む凝縮液を添加することにより、沸点の高い錯体を形成でき、トリクロロシランと容易に分離することが可能となる。
Trichlorodisilane and tetrachlorodisilane easily react with a boron compound such as boron trichloride, and react with the boron compound to form a complex having a high boiling point.
For example, according to Patent Document 3, in a method of purifying trichlorosilane contained in a gas produced by a reaction in a chlorination furnace, the applicant has brought a silane chloride polymer into contact with a mixed fluid containing trichlorosilane. , Boron trichloride (BCl 3 , boiling point 12.4 ° C.) and other boron compounds are reacted to form a complex with a high boiling point, and then distillation separation is proposed.
When trichlorosilane is produced through the distillation step, among the impurities, boron mainly exists as boron trichloride and has a boiling point close to that of trichlorosilane, so that it is difficult to separate by distillation, but it contains trichlorodisilane or tetrachlorodisilane. By adding the condensate, a complex having a high boiling point can be formed, and it can be easily separated from trichlorosilane.
したがって、ポリマーを水素化触媒の作用でトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランとする本発明の方法は、特許文献2に記載されるように、ポリマーと塩化水素とを反応させるために高温で加熱するような分解炉を設ける必要がなく、ポリマーをトリクロロシランの蒸留のために有益なトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランに変換することができ、エネルギー消費の少ない操業を行わせることができる。
Therefore, the method of the present invention in which the polymer is converted to trichlorodisilane or tetrachlorodisilane by the action of a hydrogenation catalyst is such that the polymer is heated at a high temperature in order to react with hydrogen chloride, as described in
本発明のポリマー処理方法において、前記水素化触媒にはニッケルを用いることができる。
ニッケルは、ポリマーに含まれるヘキサクロロジシランの水素化触媒として有効に作用するので、良好に反応させることができ、トリクロロジシラン又はテトラクロロジシランを好適に生成することができる。
In the polymer treatment method of the present invention, nickel can be used as the hydrogenation catalyst.
Since nickel acts effectively as a hydrogenation catalyst for hexachlorodisilane contained in the polymer, it can react well and trichlorodisilane or tetrachlorodisilane can be preferably produced.
本発明のポリマー処理装置は、四塩化ケイ素と水素とを含む原料ガスを転化反応によって生成した反応生成ガスを冷却する工程において生成されるポリマーを処理する装置であって、前記ポリマーに含まれる固形分を除去するフィルタを備え、該フィルタは、少なくとも表面が水素化触媒で形成されていることを特徴とする。 The polymer processing apparatus of the present invention is an apparatus for processing a polymer produced in a step of cooling a reaction-generated gas generated by a conversion reaction of a raw material gas containing silicon tetrachloride and hydrogen, and is a solid contained in the polymer. It comprises a filter for removing fractions, which is characterized in that at least the surface is formed of a hydrogenation catalyst.
フィルタの表面を水素化触媒で形成しておくことにより、ポリマー中に含まれるシリコン粉末等の固形分を除去するとともに、そのポリマー(ヘキサクロロジシラン)を、三塩化ホウ素などのホウ素化合物と反応しやすいトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランを生成することができる。 By forming the surface of the filter with a hydrogenation catalyst, solids such as silicon powder contained in the polymer are removed, and the polymer (hexachlorodisilane) easily reacts with a boron compound such as boron trichloride. Trichlorodisilane or tetrachlorodisilane can be produced.
本発明によれば、転化反応によって生成した反応生成ガスを冷却する工程において生成されるポリマーを円滑に処理して、トリクロロシランの蒸留に有益なトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランを生成することにより、エネルギー消費の少ない操業を行わせることができるとともに、ポリマー廃棄作業の負担を少なくして原料の使用効率を高めることができる。 According to the present invention, energy is produced by smoothly processing the polymer produced in the step of cooling the reaction-producing gas generated by the conversion reaction to produce trichlorodisilane or tetrachlorodisilane which is beneficial for distillation of trichlorosilane. It is possible to carry out operations with low consumption, reduce the burden of polymer disposal work, and improve the efficiency of using raw materials.
以下、本発明に係るポリマー処理方法及び、ポリマー処理方法を適用したトリクロロシラン製造装置の実施形態について説明する。図1は、トリクロロシラン製造装置100の全体の概略構成を示しており、図中、トリクロロシランはTCS、四塩化ケイ素はSTC、水素はH2、塩化水素はHClとして表記している。
Hereinafter, a polymer treatment method according to the present invention and an embodiment of a trichlorosilane production apparatus to which the polymer treatment method is applied will be described. Figure 1 shows a schematic overall configuration of the apparatus for producing
トリクロロシラン製造装置100は、四塩化ケイ素と水素とを含む原料ガスを転化反応させて反応生成ガスを生成する転化炉1と、転化炉1から反応生成ガスを供給され、この反応生成ガスを冷却してトリクロロシランを含む凝縮液を回収する冷却器2と、この凝縮液中に含まれるポリマーを水素化触媒に接触させて反応させることにより、トリクロロジシラン又はテトラクロロジシランを生成するポリマー処理装置8とを備えている。
The
転化炉1は、原料ガスを炉内に供給するための原料ガス供給管11と、炉内で生成された反応生成ガスを冷却器2に供給するための反応生成ガス供給管12とが接続されている。この転化炉1では、原料ガス供給管11を通じて供給された原料ガスが加熱されることにより四塩化ケイ素が転化し、トリクロロシランを含む反応生成ガスが得られる(転化工程)。反応生成ガスは、反応生成ガス供給管12を通じて冷却器2に供給される。
In the conversion furnace 1, the raw material
冷却器2では、反応生成ガス供給管12を通じて供給された反応生成ガスが凝縮され、反応生成物として、主にトリクロロシランを含むクロロシラン類が回収される(冷却工程)。この冷却器2においては、器内の凝縮液(液体)を回収する液回収部3と、器内のガスを回収するガス回収部4と、器内に冷却液を噴霧する第1ノズル5A及び第2ノズル5Bとが設けられている。
液回収部3は、冷却器2の下部に接続された接続管31と、この接続管31に接続されたタンク32とを備え、冷却器2内の凝縮液を回収してタンク32に貯留する。タンク32に貯留された凝縮液は、凝縮された反応生成物(トリクロロシラン等)及び冷却液を含み、ポンプ7とバルブ9とによって制御された流量で、一部の凝縮液が第1ノズル5A及び第2ノズル5Bに供給されながら、凝縮液タンク6に送出される。また、タンク32には、回収した凝縮液の組成を分析する組成分析部33が備えられており、組成分析部33でタンク32内の凝縮液の組成を分析することにより、凝縮された反応生成物に含まれるポリマーやトリクロロシランの量を測定することができる。
In the
The liquid recovery unit 3 includes a
ガス回収部4は、冷却器2の上部に接続された接続管41と、この接続管41に接続された凝縮器42とを備え、冷却器2から回収されたガスを凝縮器42で凝縮して液分とガス分とに分けて回収する。冷却器2から回収されたガスは、冷却器2で凝縮されなかった反応生成物(トリクロロシラン等)及び未反応ガスを含み、凝縮器42で冷却・凝縮されることにより液化した液分は凝縮液タンク6へ送出され、凝縮器42でも液化されなかった水素及び塩化水素を含むガス分は塩化水素回収系(図示略)へと送出されて、水素と塩化水素とに分離され、それぞれ利用される。
The
第1ノズル5A及び第2ノズル5Bは、冷却器2内の上部に備えられ、それぞれ熱交換器51A,51Bを通じて供給された冷却液を噴霧する。冷却液は、ポンプ7によってタンク32から供給される四塩化ケイ素及びトリクロロシランを主成分とする凝縮液である。
さらに、このトリクロロシラン製造装置100には、組成分析部33の測定分析結果に基づき、第1ノズル5A及び第2ノズル5Bから噴霧される冷却液の温度及び噴霧量を個別に制御する制御部34が備えられている。また、図1に示す符号35はストレーナーであり、凝縮液中に含まれる固形分を除去するものである。
The
Further, the
ポリマー処理装置8は、図1に示すように、凝縮液タンク6の下流に設けられており、凝縮液タンク6から抜き取ったポリマーを処理する。そして、このポリマー処理装置8を経由した後の処理液が、蒸留系(図示略)に導かれるようになっている。
ポリマー処理装置8は、図2に示すように、ポリマー中に含まれるシリコン粉末等の固形分を除去するフィルタ81と、フィルタ81を経由したポリマーを水素化触媒に接触させて反応させる触媒反応塔88とを備える。
As shown in FIG. 1, the
As shown in FIG. 2, the
フィルタ81は、例えば図3に示すように、ワイヤメッシュ板86を複数枚積層した構成とされている。各ワイヤメッシュ板86は、図4に示すように複数本のワイヤ87を編み込んで、その表面に凹凸を付けるように若干の波板状に形成されたものである。
触媒反応塔88は、凝縮液中に含まれるヘキサクロロジシランの水素化触媒として有効に作用するニッケル触媒を備えており、例えば、スポンジメタル状のニッケル(例えば、日興リカ社製のスポンジニッケルR‐100,R‐200)を充填したカラムにより構成される。
As shown in FIG. 3, for example, the
The
図示例では、ポリマー処理装置8には、フィルタ81が2台設置されており、各フィルタ81A,81Bは、凝縮液タンク6からの供給管82が2本に分岐されて設けられた各分岐管82A,82Bの途中にそれぞれ設けられている。そして、分岐管82A,82Bは、各フィルタ81A,81Bを経由した後に再度1本の配管に連結され、触媒反応塔88に接続された状態とされる。また、各フィルタ81A,81Bの前後には、各分岐管82A,82Bを開閉可能なバルブ83a,84a,83b,84bが配設されており、それぞれのバルブ83a,84a,83b,84bの開閉により、フィルタ81をいずれか一方に選択して使用でき、その使用中に他方のフィルタ81を整備することができる。
In the illustrated example, two
例えば、フィルタ81Bを切り離してフィルタ81Aを選択する場合は、バルブ83a,84aを開き、バルブ83b,84bを閉じた状態にする。この状態では、凝縮液タンク6から送られるポリマーが分岐管82Aを通じてフィルタ81Aに流れる。続いて、フィルタ81Aを経由したポリマーは、触媒反応塔88を通過して蒸留系に導かれる。
この際、一方のフィルタ81Aの使用中に行う他方のフィルタ81Bの整備は、バルブ85aを開栓することにより、ポリマー処理後の処理液を使用して行うことができる。
For example, when the
At this time, the maintenance of the
トリクロロシランは、以上のように構成されたトリクロロシラン製造装置100を用いて、次のように製造することができる。
<転化工程>
まず、原料ガス供給管11を通じて、四塩化ケイ素及び水素を含む原料ガスが転化炉1内に供給される。転化炉1内で原料ガスが1000℃〜1900℃に加熱されることにより、式(1)の転化反応(水素化)が起こり、反応生成ガスが生成される。
SiCl4+H2→SiHCl3+HCl …(1)
この反応生成ガスは、反応生成ガス供給管12を通じて冷却器2に供給される。
Trichlorosilane can be produced as follows using the
<Conversion process>
First, the raw material gas containing silicon tetrachloride and hydrogen is supplied into the conversion furnace 1 through the raw material
SiCl 4 + H 2 → SiHCl 3 + HCl… (1)
This reaction-producing gas is supplied to the
<冷却工程>
反応生成ガスは冷却器2内で第1ノズル5A及び第2ノズル5Bから噴霧される冷却液によって冷却されることにより、反応生成物が得られる。この際、転化工程で生成される高温の反応生成ガスを、冷却液を噴霧することによって急冷することができ、トリクロロシランの分解が抑えられる冷却速度で、反応生成ガスが冷却される。
具体的には、反応生成ガスが0.01秒〜1秒の間に600℃〜950℃まで冷却された後、600℃〜950℃に0.01秒〜5秒間程度維持し、最終的に600℃未満にまで冷却されるように、冷却速度が調整される。
<Cooling process>
The reaction product is obtained by cooling the reaction product gas in the cooler 2 with the coolant sprayed from the
Specifically, the reaction product gas is cooled to 600 ° C. to 950 ° C. within 0.01 seconds to 1 second, then maintained at 600 ° C. to 950 ° C. for about 0.01 seconds to 5 seconds, and finally. The cooling rate is adjusted so that it cools to less than 600 ° C.
冷却され液化した反応生成物の凝縮液は、冷却液とともに液回収部3に回収され、接続管31を通じてタンク32に貯留される。また、冷却器2内の気体は、ガス回収部4によって回収され、接続管41を通じて凝縮器42へ送られる。気体には主にトリクロロシラン及び四塩化ケイ素、塩化水素、水素が含まれており、凝縮器42では塩化水素ガス及び水素ガスが回収されるとともに、凝縮され液化したトリクロロシランが回収される。液回収部3によって回収された凝縮液は、一部が冷却液として第1ノズル5A及び第2ノズル5Bへと送られ、残りの凝縮液は、ガス回収部4によって回収されたトリクロロシランとともに回収される。
The cooled and liquefied condensate of the reaction product is collected in the liquid recovery unit 3 together with the cooling liquid, and is stored in the
凝縮液タンク6に貯留されたトリクロロシランを主成分とする凝縮液は、蒸留系(図示略)へと送出される。また、凝縮液中に含まれるポリマーは、ポリマー処理装置8に送られ、フィルタ81を経由して触媒反応塔88に供給される。
転化炉1で生成される反応生成ガス中には、ジクロロシリレンが多く含まれており、冷却工程において、ジクロロシリレンが四塩化ケイ素と反応してヘキサクロロジシランが生成されることにより、凝縮液中にはヘキサクロロジシランを主としたポリマーが多く存在している。そして、このポリマーが、ヘキサクロロジシランの水素化触媒として有効に作用するニッケル触媒に接触することにより、ヘキサクロロジシランが水素化されてトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランが生成される。
ポリマー処理装置8を通過したトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランを含む処理液は、蒸留系(図示略)へと送出されてトリクロロシラン等の分離に利用される。
The condensate containing trichlorosilane as a main component stored in the
The reaction production gas generated in the conversion furnace 1 contains a large amount of dichlorosilylene, and in the cooling step, dichlorosilylene reacts with silicon tetrachloride to generate hexachlorodisilane, so that the condensed solution contains hexachlorodisilane. There are many polymers mainly composed of hexachlorodisilane. Then, when this polymer comes into contact with a nickel catalyst that effectively acts as a hydrogenation catalyst for hexachlorodisilane, hexachlorodisilane is hydrogenated to produce trichlorodisilane or tetrachlorodisilane.
The treatment liquid containing trichlorodisilane or tetrachlorodisilane that has passed through the
このように、ポリマーを水素化触媒の作用でトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランとする本発明の方法は、ポリマーと塩化水素とを反応させるために高温で加熱するような分解炉を設ける必要がなく、ポリマーをトリクロロシランの蒸留のために有益なトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランに変換することができ、エネルギー消費の少ない操業を行わせることができる。そして、蒸留工程で回収したトリクロロシランを再利用することによって原料の使用効率を高めることができ、ポリマー廃棄量を低減することが可能であり、ポリマー廃棄作業の負担を少なくすることができる。 As described above, the method of the present invention in which the polymer is converted to trichlorodisilane or tetrachlorodisilane by the action of a hydrogenation catalyst does not require a decomposition furnace to be heated at a high temperature in order to react the polymer with hydrogen chloride. The polymer can be converted to trichlorodisilane or tetrachlorodisilane, which are beneficial for distillation of trichlorosilane, allowing operations with low energy consumption. Then, by reusing the trichlorosilane recovered in the distillation step, the efficiency of using the raw material can be improved, the amount of polymer waste can be reduced, and the burden of polymer waste work can be reduced.
ところで、上記実施形態では、ポリマー処理装置8のフィルタ81と触媒反応塔88とを別々に設置していたが、例えば、図3及び図4に示すワイヤメッシュ板86の表面を、ニッケルで被覆するなどして形成することにより、フィルタ81に水素化触媒の機能を備えた構成とすることができる。この場合、図5に示すポリマー処理装置80のように、触媒反応塔を省略して構成することができる。
図5に示すポリマー処理装置80においては、ポリマーを各フィルタ81A,81Bに通過させることにより、ポリマー中に含まれるシリコン粉末等の固形分を除去するとともに、ポリマーから三塩化ホウ素などのホウ素化合物と反応しやすいトリクロロジシラン又はテトラクロロジシランを生成することができる。
その他の構成は、ポリマー処理装置8と同じであり、共通部分に同一符号を付して説明を省略する。
By the way, in the above embodiment, the
In the
Other configurations are the same as those of the
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、フィルタとして、ワイヤメッシュ板以外の構成を用いることが可能である。また、ポリマー処理装置8,80では、2台のフィルタ81を切り替えて使用する構成としたが、その台数は限定されるものではない。
また、水素化触媒としては、活性炭又は活性炭に担持されたニッケル、ルテニウム、パラジウム、白金を使用してもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, it is possible to use a configuration other than the wire mesh plate as the filter. Further, in the
Further, as the hydrogenation catalyst, activated carbon or nickel, ruthenium, palladium, or platinum supported on the activated carbon may be used.
1 転化炉
2 冷却器
3 液回収部
4 ガス回収部
5A 第1ノズル
5B 第2ノズル
6 凝縮液タンク
7 ポンプ
8,80 ポリマー処理装置
9 バルブ
11 原料ガス供給管
12 反応生成ガス供給管
31 接続管
32 タンク
33 組成分析部
34 制御部
41 接続管
42 凝縮器
51A,51B 熱交換器
81,81A,81B フィルタ
82 供給管
82A,82B :分岐管
83a〜85a,83b〜85b バルブ
86 ワイヤメッシュ板
87 ワイヤ
88 触媒反応塔
100 トリクロロシラン製造装置
1
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