JP2020152097A - Resin film manufacturing apparatus and resin film manufacturing method - Google Patents

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Abstract

To provide an excellent manufacturing apparatus of a resin film.SOLUTION: One embodiment of a resin film manufacturing apparatus of the present invention determines, for each heat bolt 23, based on a control deviation calculated from a thickness distribution of a resin film 83 gained from a thickness sensor 60, a present state st and a reward rw for a previously selected action ac. Then, a control condition which is a combination of the state st and the action ac is renewed based on the reward rw, and an optimal action ac corresponding to the present state st is selected from the renewed control condition. Then, a heater 24 is controlled based on the optimal action ac.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は樹脂フィルム製造装置及び樹脂フィルム製造方法に関する。 The present invention relates to a resin film manufacturing apparatus and a resin film manufacturing method.

押出機に連結されたダイのリップの隙間からフィルム状の溶融樹脂を押し出す樹脂フィルム製造装置が知られている。このような樹脂フィルム製造装置では、樹脂フィルムの幅方向において、厚みを均一にすることが求められている。 A resin film manufacturing apparatus is known that extrudes a film-like molten resin from a gap between lips of a die connected to an extruder. In such a resin film manufacturing apparatus, it is required to make the thickness uniform in the width direction of the resin film.

そのため、特許文献1〜3に開示されたダイには、リップの長手方向(樹脂フィルムの幅方向)に沿って並んだ複数のヒートボルトが設けられている。各ヒートボルトのヒータによる熱膨張量を個別に制御し、ダイのリップ間隔を局所的に調整することができる。
また、特許文献4には、製造中に樹脂フィルムの厚みを測定し、ダイのリップ間隔をフィードバック制御可能な樹脂フィルム製造装置が開示されている。
Therefore, the dies disclosed in Patent Documents 1 to 3 are provided with a plurality of heat bolts arranged along the longitudinal direction of the lip (the width direction of the resin film). The amount of thermal expansion of each heat bolt by the heater can be individually controlled, and the die lip spacing can be adjusted locally.
Further, Patent Document 4 discloses a resin film manufacturing apparatus capable of measuring the thickness of a resin film during manufacturing and feedback-controlling the lip interval of a die.

特開2010−167584号公報JP-A-2010-167584 特開2012−240332号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-240332 特開2013−052574号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-052574 特開2013−039677号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-039677

発明者は、複数のヒートボルトを有するダイを備え、リップ間隔をフィードバック制御可能な樹脂フィルム製造装置の開発に際し、様々な課題を見出した。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
The inventor has found various problems in developing a resin film manufacturing apparatus having a die having a plurality of heat bolts and capable of feedback control of lip spacing.
Other issues and novel features will become apparent from the description and accompanying drawings herein.

一実施の形態に係る樹脂フィルム製造装置では、ヒートボルト毎に、厚みセンサから取得した樹脂フィルムの厚み分布から算出した制御偏差に基づいて、現在の状態と以前に選択した行動に対する報酬とを決定する。そして、状態と行動との組み合わせである制御条件を報酬に基づいて更新すると共に、更新された制御条件から現在の状態に対応した最適な行動を選択する。そして、最適な行動に基づいてヒータを制御する。 In the resin film manufacturing apparatus according to one embodiment, the current state and the reward for the previously selected action are determined for each heat bolt based on the control deviation calculated from the thickness distribution of the resin film acquired from the thickness sensor. To do. Then, the control condition, which is a combination of the state and the action, is updated based on the reward, and the optimum action corresponding to the current state is selected from the updated control condition. Then, the heater is controlled based on the optimum behavior.

前記一実施の形態によれば、優れた樹脂フィルムの製造装置を提供することができる。 According to the above-described embodiment, it is possible to provide an excellent resin film manufacturing apparatus.

実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置及び樹脂フィルム製造方法の全体構成を示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the whole structure of the resin film manufacturing apparatus and the resin film manufacturing method which concerns on Embodiment 1. FIG. Tダイ20の断面図である。It is sectional drawing of T die 20. Tダイ20の下側(リップ側)の部分斜視図である。It is a partial perspective view of the lower side (lip side) of the T die 20. 実施の形態1に係る制御部70の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control part 70 which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係る樹脂フィルム製造方法におけるリップ間隔の制御方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the control method of the lip interval in the resin film manufacturing method which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態2に係る制御部70の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control part 70 which concerns on Embodiment 2. FIG.

以下、具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。但し、以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜簡略化されている。 Hereinafter, specific embodiments will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments. Moreover, in order to clarify the explanation, the following description and drawings are simplified as appropriate.

(実施の形態1)
<樹脂フィルム製造装置の全体構成>
まず、図1を参照して、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置及び樹脂フィルム製造方法の全体構成について説明する。図1は、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置及び樹脂フィルム製造方法の全体構成を示す模式的断面図である。
(Embodiment 1)
<Overall configuration of resin film manufacturing equipment>
First, with reference to FIG. 1, the overall configuration of the resin film manufacturing apparatus and the resin film manufacturing method according to the first embodiment will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the overall configuration of the resin film manufacturing apparatus and the resin film manufacturing method according to the first embodiment.

なお、当然のことながら、図1及びその他の図面に示した右手系xyz直交座標は、構成要素の位置関係を説明するための便宜的なものである。通常、z軸正向きが鉛直上向き、xy平面が水平面であり、図面間で共通である。
また、本明細書において、樹脂フィルムは樹脂シートを含む。
As a matter of course, the right-handed xyz orthogonal coordinates shown in FIG. 1 and other drawings are for convenience to explain the positional relationship of the components. Usually, the z-axis positive direction is vertically upward, and the xy plane is a horizontal plane, which is common between drawings.
Further, in the present specification, the resin film includes a resin sheet.

図1に示すように、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置は、押出機10、Tダイ20、冷却ロール30、搬送ロール群40、巻取機50、厚みセンサ60、制御部70を備えている。実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置は、押出機10に連結されたTダイ20のリップ間の隙間からフィルム状の溶融樹脂82aを押し出す押出成形タイプの樹脂フィルム製造装置である。 As shown in FIG. 1, the resin film manufacturing apparatus according to the first embodiment includes an extruder 10, a T die 20, a cooling roll 30, a transport roll group 40, a winder 50, a thickness sensor 60, and a control unit 70. ing. The resin film manufacturing apparatus according to the first embodiment is an extrusion-molded type resin film manufacturing apparatus that extrudes a film-like molten resin 82a from a gap between lips of a T-die 20 connected to an extruder 10.

押出機10は、例えばスクリュー式押出機である。図1に例示した押出機10では、x軸方向に延設されたシリンダ11の内部にx軸方向に延設されたスクリュー12が収容されている。シリンダ11のx軸負方向側端部の上側に、樹脂フィルム83の原料である樹脂ペレット81を投入するためのホッパ13が設けられている。 The extruder 10 is, for example, a screw type extruder. In the extruder 10 illustrated in FIG. 1, a screw 12 extending in the x-axis direction is housed inside a cylinder 11 extending in the x-axis direction. A hopper 13 for charging the resin pellet 81, which is the raw material of the resin film 83, is provided on the upper side of the x-axis negative side end of the cylinder 11.

ホッパ13から供給された樹脂ペレット81は、回転するスクリュー12の根元から先端に向かって、すなわちx軸正方向に押し出される。樹脂ペレット81は、シリンダ11の内部において回転するスクリュー12によって圧縮され、溶融樹脂82に変化する。
なお、図示しないが、スクリュー12には、例えば、減速機を介してモータが駆動源として連結される。
The resin pellet 81 supplied from the hopper 13 is extruded from the root to the tip of the rotating screw 12, that is, in the positive x-axis direction. The resin pellet 81 is compressed by the screw 12 that rotates inside the cylinder 11 and changes into the molten resin 82.
Although not shown, a motor is connected to the screw 12 as a drive source, for example, via a speed reducer.

図1に示すように、Tダイ20は、押出機10の先端部(x軸正方向側端部)の下側に連結されている。Tダイ20の下端に位置するリップの隙間からフィルム状の溶融樹脂82aが下向き(z軸負方向)に押し出される。ここで、Tダイ20のリップ間隔は調整可能である。詳細には後述するように、製造される樹脂フィルム83の幅方向(y軸方向)における厚みが均一になるように、リップの長手方向(y軸方向)に沿った複数箇所において、Tダイ20のリップ間隔が調整可能である。 As shown in FIG. 1, the T-die 20 is connected to the lower side of the tip end portion (x-axis positive direction side end portion) of the extruder 10. The film-shaped molten resin 82a is extruded downward (negative direction on the z-axis) from the gap between the lips located at the lower end of the T-die 20. Here, the lip spacing of the T-die 20 is adjustable. As will be described in detail later, the T-die 20 is formed at a plurality of locations along the longitudinal direction (y-axis direction) of the lip so that the thickness of the manufactured resin film 83 in the width direction (y-axis direction) becomes uniform. The lip spacing is adjustable.

冷却ロール30は、Tダイ20から押し出されたフィルム状の溶融樹脂82aを冷却しつつ、フィルム状の溶融樹脂82aが固化した樹脂フィルム83を搬出する。冷却ロール30から搬出された樹脂フィルム83は、搬送ロール群40を介して搬送され、巻取機50によって巻き取られる。図1の例では、搬送ロール群40は、8個の搬送ロール41〜48を備えている。搬送ロールの個数、配置は適宜決定される。 The cooling roll 30 cools the film-shaped molten resin 82a extruded from the T-die 20 and carries out the resin film 83 in which the film-shaped molten resin 82a is solidified. The resin film 83 carried out from the cooling roll 30 is conveyed via the conveying roll group 40 and is taken up by the winding machine 50. In the example of FIG. 1, the transport roll group 40 includes eight transport rolls 41 to 48. The number and arrangement of transport rolls are appropriately determined.

厚みセンサ60は、例えば非接触式の厚みセンサであって、冷却ロール30から搬出された搬送中の樹脂フィルム83の幅方向の厚み分布を測定する。図1の例では、厚みセンサ60は、搬送ロール44、45の間において水平に搬送される樹脂フィルム83を上下から挟むように配置されている。厚みセンサ60は、非接触式であるため、樹脂フィルム83の幅方向(y軸方向)に走査させることができる。そのため、コンパクトな厚みセンサ60によって、樹脂フィルム83の幅方向の厚み分布を測定することができる。また、樹脂フィルム83が水平に搬送されているため、厚みセンサ60を走査させても精度良く厚み分布を測定することができる。 The thickness sensor 60 is, for example, a non-contact type thickness sensor, and measures the thickness distribution in the width direction of the resin film 83 being carried out from the cooling roll 30. In the example of FIG. 1, the thickness sensor 60 is arranged so as to sandwich the resin film 83 horizontally transported between the transport rolls 44 and 45 from above and below. Since the thickness sensor 60 is a non-contact type, it can be scanned in the width direction (y-axis direction) of the resin film 83. Therefore, the thickness distribution of the resin film 83 in the width direction can be measured by the compact thickness sensor 60. Further, since the resin film 83 is horizontally conveyed, the thickness distribution can be measured accurately even if the thickness sensor 60 is scanned.

制御部70は、厚みセンサ60から取得した樹脂フィルム83の厚み分布に基づいて、Tダイ20のリップ間隔をフィードバック制御する。より具体的には、制御部70は、樹脂フィルム83の幅方向において厚みが均一になるように、Tダイ20のリップ間隔を制御する。制御部70のより詳細な構成及び動作については、後述する。 The control unit 70 feedback-controls the lip interval of the T-die 20 based on the thickness distribution of the resin film 83 acquired from the thickness sensor 60. More specifically, the control unit 70 controls the lip spacing of the T-die 20 so that the thickness becomes uniform in the width direction of the resin film 83. A more detailed configuration and operation of the control unit 70 will be described later.

<Tダイ20の構成>
ここで、図2、図3を参照して、Tダイ20の構成についてより詳細に説明する。図2は、Tダイ20の断面図である。また、図3は、Tダイ20の下側(リップ側)の部分斜視図である。
<Structure of T-die 20>
Here, the configuration of the T-die 20 will be described in more detail with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is a cross-sectional view of the T-die 20. Further, FIG. 3 is a partial perspective view of the lower side (lip side) of the T-die 20.

図2、図3に示すように、Tダイ20は、突き合わせられた一対のダイブロック21、22からなる。突き合わせられた一対のダイブロック21、22は、いずれも外側面から内側面(突き合わせ面)に向かって下方向に傾斜したテーパー部が設けられている。すなわち、ダイブロック21、22の突き合わせ面の下端部には、薄肉のリップ21a、22aが設けられている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the T-die 20 is composed of a pair of abutted die blocks 21 and 22. Each of the pair of abutted die blocks 21 and 22 is provided with a tapered portion that is inclined downward from the outer surface toward the inner side surface (butting surface). That is, thin lips 21a and 22a are provided at the lower ends of the abutting surfaces of the die blocks 21 and 22.

一対のダイブロック21、22の突き合わせ面には、導入口20a、マニホールド20b、及びスリット20cが形成されている。導入口20aは、Tダイ20の上面から下方向(z軸負方向)に延設されている。マニホールド20bは、導入口20aの下端からy軸正方向及びy軸負方向に延設されている。このように、Tダイ20では、導入口20aとマニホールド20bとがT字状に形成されている。 An introduction port 20a, a manifold 20b, and a slit 20c are formed on the abutting surfaces of the pair of die blocks 21 and 22. The introduction port 20a extends downward (z-axis negative direction) from the upper surface of the T-die 20. The manifold 20b extends from the lower end of the introduction port 20a in the positive direction on the y-axis and the negative direction on the y-axis. As described above, in the T die 20, the introduction port 20a and the manifold 20b are formed in a T shape.

さらに、マニホールド20bの底面からTダイ20の下面に至るスリット20cがy軸方向に延設されている。溶融樹脂82は、導入口20a及びマニホールド20bを介してスリット20c(すなわちリップ21a、22aの隙間)から下方向に押し出される。 Further, a slit 20c extending from the bottom surface of the manifold 20b to the bottom surface of the T die 20 extends in the y-axis direction. The molten resin 82 is pushed downward from the slit 20c (that is, the gap between the lips 21a and 22a) through the introduction port 20a and the manifold 20b.

ここで、リップ21aは動かない固定リップであるのに対し、リップ22aはヒートボルト23に連結された可動リップである。リップ22aには、外側面から突き合わせ面に向かって斜め上方向に切り欠き溝22bが形成されている。リップ22aは、ヒートボルト23によって押し引きされ、切り欠き溝22bの底部を支点として動くことができる。このように、リップ22aのみが可動リップであるため、簡易な構成によって容易にリップ間隔を調整することができる。 Here, the lip 21a is a fixed lip that does not move, while the lip 22a is a movable lip connected to the heat bolt 23. The lip 22a is formed with a notch groove 22b diagonally upward from the outer surface toward the abutting surface. The lip 22a is pushed and pulled by the heat bolt 23 and can move with the bottom of the notch groove 22b as a fulcrum. As described above, since only the lip 22a is a movable lip, the lip spacing can be easily adjusted by a simple configuration.

ヒートボルト23は、ダイブロック22のテーパー部に沿って、斜め上方向に延設されている。ヒートボルト23は、ダイブロック22に固定されたホルダー25a、25bによって支持されている。より詳細には、ヒートボルト23は、ホルダー25aに形成されたねじ穴にねじ止めされている。ヒートボルト23の締め込み量は適宜調整することができる。他方、ヒートボルト23は、ホルダー25bに形成された貫通孔に挿通されているが、ホルダー25bには固定されてない。なお、ホルダー25a、25bは、ダイブロック22と別体でなく、一体に形成されていてもよい。 The heat bolt 23 extends obliquely upward along the tapered portion of the die block 22. The heat bolt 23 is supported by holders 25a and 25b fixed to the die block 22. More specifically, the heat bolt 23 is screwed into a screw hole formed in the holder 25a. The tightening amount of the heat bolt 23 can be adjusted as appropriate. On the other hand, the heat bolt 23 is inserted into the through hole formed in the holder 25b, but is not fixed to the holder 25b. The holders 25a and 25b may be formed integrally with the die block 22 instead of being separate from the die block 22.

ここで、図3に示すように、複数のヒートボルト23が、リップ21a、22aの長手方向(y軸方向)に沿って並べられている。リップ21a、22aの長手方向は、樹脂フィルムの幅方向に対応する。図3の例では、模式的に3本のヒートボルト23が設けられているが、通常はより多くのヒートボルト23が設けられている。 Here, as shown in FIG. 3, a plurality of heat bolts 23 are arranged along the longitudinal direction (y-axis direction) of the lips 21a and 22a. The longitudinal direction of the lips 21a and 22a corresponds to the width direction of the resin film. In the example of FIG. 3, three heat bolts 23 are schematically provided, but usually more heat bolts 23 are provided.

ヒータ24は、ヒートボルト23を加熱するためにヒートボルト23毎に設けられている。図2、図3に示した例では、ホルダー25a、25bの間において、各ヒートボルト23の外周面を覆うように、ヒータ24が設けられている。ヒートボルト23を締め込むことによって、ヒートボルト23の下端面によってリップ22aを押すことができる。さらに、ヒートボルト23の下端部は、リップ22aに固定された断面U字状の連結部材26によってリップ22aに連結されている。そのため、ヒートボルト23を緩めることによって、連結部材26を介してリップ22aを引くこともできる。 A heater 24 is provided for each heat bolt 23 to heat the heat bolt 23. In the example shown in FIGS. 2 and 3, a heater 24 is provided between the holders 25a and 25b so as to cover the outer peripheral surface of each heat bolt 23. By tightening the heat bolt 23, the lip 22a can be pushed by the lower end surface of the heat bolt 23. Further, the lower end portion of the heat bolt 23 is connected to the lip 22a by a connecting member 26 having a U-shaped cross section fixed to the lip 22a. Therefore, by loosening the heat bolt 23, the lip 22a can be pulled via the connecting member 26.

ヒートボルト23の締め込み量によってリップ21a、22aの間隔を調整することができる。具体的には、ヒートボルト23の締め込み量を増加させると、ヒートボルト23がリップ22aを押し、リップ21a、22aの間隔が狭くなる。反対に、ヒートボルト23の締め込み量を減少させると、リップ21a、22aの間隔が広くなる。ヒートボルト23の締め込み量は、例えば手動により調整される。 The distance between the lips 21a and 22a can be adjusted by the tightening amount of the heat bolt 23. Specifically, when the tightening amount of the heat bolt 23 is increased, the heat bolt 23 pushes the lip 22a, and the distance between the lips 21a and 22a becomes narrower. On the contrary, when the tightening amount of the heat bolt 23 is reduced, the distance between the lips 21a and 22a becomes wider. The tightening amount of the heat bolt 23 is adjusted manually, for example.

さらに、ヒータ24によるヒートボルト23の熱膨張量によって、リップ21a、22aの間隔を微調整することができる。具体的には、ヒータ24の加熱温度を上昇させると、ヒートボルト23の熱膨張量が増加するため、ヒートボルト23がリップ22aを押し、リップ21a、22aの間隔が狭くなる。反対に、ヒータ24の加熱温度を低下させると、ヒートボルト23の熱膨張量が減少するため、リップ21a、22aの間隔が広くなる。各ヒートボルト23の熱膨張量すなわち各ヒータ24の加熱は、制御部70によって制御される。 Further, the distance between the lips 21a and 22a can be finely adjusted by the amount of thermal expansion of the heat bolt 23 by the heater 24. Specifically, when the heating temperature of the heater 24 is raised, the amount of thermal expansion of the heat bolt 23 increases, so that the heat bolt 23 pushes the lip 22a and the distance between the lips 21a and 22a becomes narrower. On the contrary, when the heating temperature of the heater 24 is lowered, the amount of thermal expansion of the heat bolt 23 is reduced, so that the distance between the lips 21a and 22a is widened. The amount of thermal expansion of each heat bolt 23, that is, the heating of each heater 24 is controlled by the control unit 70.

<比較例に係る制御部70の構成>
比較例に係る樹脂フィルム製造装置は、図1に示した実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置と同様の全体構成を有している。比較例では、制御部70が、PID制御を用いて、厚みセンサ60から取得した樹脂フィルム83の厚み分布に基づいて、各ヒートボルト23のヒータ24をフィードバック制御する。PID制御の場合、プロセス条件を変更する度に、パラメータを調整する必要がある。通常、作業者が試行錯誤してパラメータを調整するため、パラメータ調整に多大な時間及び樹脂材料を要するという問題があった。
<Structure of control unit 70 according to comparative example>
The resin film manufacturing apparatus according to the comparative example has the same overall configuration as the resin film manufacturing apparatus according to the first embodiment shown in FIG. In the comparative example, the control unit 70 uses PID control to feedback-control the heater 24 of each heat bolt 23 based on the thickness distribution of the resin film 83 acquired from the thickness sensor 60. In the case of PID control, it is necessary to adjust the parameters every time the process conditions are changed. Usually, since the operator adjusts the parameters by trial and error, there is a problem that a large amount of time and a resin material are required for the parameter adjustment.

<実施の形態1に係る制御部70の構成>
次に、図4を参照して、実施の形態1に係る制御部70の構成についてより詳細に説明する。図4は、実施の形態1に係る制御部70の構成を示すブロック図である。図4に示すように、実施の形態1に係る制御部70は、状態観測部71、制御条件学習部72、記憶部73、制御信号出力部74を備えている。
<Structure of Control Unit 70 According to Embodiment 1>
Next, the configuration of the control unit 70 according to the first embodiment will be described in more detail with reference to FIG. FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of the control unit 70 according to the first embodiment. As shown in FIG. 4, the control unit 70 according to the first embodiment includes a state observation unit 71, a control condition learning unit 72, a storage unit 73, and a control signal output unit 74.

なお、制御部70を構成する各機能ブロックは、ハードウェア的には、CPU(Central Processing Unit)、メモリ、その他の回路で構成することができ、ソフトウェア的には、メモリにロードされたプログラムなどによって実現することができる。従って、各機能ブロックは、コンピュータのハードウェアやソフトウェアやそれらの組み合わせによって色々な形態で実現できる。 Each functional block constituting the control unit 70 can be composed of a CPU (Central Processing Unit), a memory, and other circuits in terms of hardware, and a program loaded in the memory in terms of software. Can be realized by. Therefore, each functional block can be realized in various forms by computer hardware and software or a combination thereof.

状態観測部71は、厚みセンサ60から取得した樹脂フィルム83の厚み分布の測定値pvから、ヒートボルト23毎の制御偏差を算出する。制御偏差は、目標値と測定値pvとの差分である。ここで、目標値は、全ヒートボルト23において、厚みセンサ60によって測定された樹脂フィルム83の厚み分布の測定値pvの平均値である。
なお、測定値pvの平均値を求める際、製品として利用しない樹脂フィルム83の両端部の測定値については除外してもよい。
The state observation unit 71 calculates the control deviation for each heat bolt 23 from the measured value pv of the thickness distribution of the resin film 83 acquired from the thickness sensor 60. The control deviation is the difference between the target value and the measured value pv. Here, the target value is the average value of the measured values pv of the thickness distribution of the resin film 83 measured by the thickness sensor 60 in all the heat bolts 23.
When calculating the average value of the measured values pv, the measured values at both ends of the resin film 83 that is not used as a product may be excluded.

他方、各ヒートボルト23の測定値pvは、各ヒートボルト23に割り当てられた測定点における厚み測定値pvから定まる。例えば、各ヒートボルト23の測定値pvは、各ヒートボルト23に割り当てられた測定点における厚み測定値pvの平均値である。あるいは、各ヒートボルト23に割り当てられた測定点において、目標値との差分が最大の厚み測定値pvを各ヒートボルト23の測定値pvとしてもよい。 On the other hand, the measured value pv of each heat bolt 23 is determined from the thickness measured value pv at the measurement point assigned to each heat bolt 23. For example, the measured value pv of each heat bolt 23 is an average value of the thickness measured values pv at the measurement points assigned to each heat bolt 23. Alternatively, at the measurement points assigned to each heat bolt 23, the thickness measurement value pv having the maximum difference from the target value may be set as the measurement value pv of each heat bolt 23.

そして、状態観測部71は、各ヒートボルト23について、算出した制御偏差に基づいて、現在の状態stと以前(例えば前回)に選択した行動acに対する報酬rwとを決定する。
状態stは、無限に取り得る制御偏差の値を有限個に区分するために予め設定されている。説明のための簡易な例としては、制御偏差errとした場合、−0.9μm≦err<−0.6μmを状態st1、−0.6μm≦err<−0.3μmを状態st2、−0.3μm≦err<0.3μmを状態st3、0.3μm≦err<0.6μmを状態st4、0.6μm≦err≦0.9μmを状態st5などと設定される。実際には、より細分化された多数の状態stが設定される場合が多い。
Then, the state observation unit 71 determines, for each heat bolt 23, the current state st and the reward rw for the previously selected action ac (for example, the previous time) based on the calculated control deviation.
The state st is preset to divide the infinitely possible control deviation values into a finite number. As a simple example for explanation, when the control deviation is err, -0.9 μm ≤ err <-0.6 μm is the state st1, and -0.6 μm ≤ err <-0.3 μm is the state st2, −0. 3 μm ≦ err <0.3 μm is set as state st3, 0.3 μm ≦ err <0.6 μm is set as state st4, 0.6 μm ≦ err ≦ 0.9 μm is set as state st5, and the like. In reality, a large number of more subdivided states st are often set.

報酬rwは、以前の状態stにおいて選択した行動acを評価するための指標である。
具体的には、算出した現在の制御偏差の絶対値が、以前の制御偏差の絶対値よりも小さくなっていれば、状態観測部71は、以前に選択した行動acが適切であると判断し、例えば報酬rwを正の値とする。換言すると、以前と同じ状態stにおいて前回選択した行動acが再度選択され易くなるように、報酬rwが決定される。
The reward rw is an index for evaluating the action ac selected in the previous state st.
Specifically, if the calculated absolute value of the current control deviation is smaller than the absolute value of the previous control deviation, the state observation unit 71 determines that the previously selected action ac is appropriate. For example, let the reward rw be a positive value. In other words, the reward rw is determined so that the previously selected action ac can be easily selected again in the same state st as before.

反対に、算出した現在の制御偏差の絶対値が、以前の制御偏差の絶対値よりも大きくなっていれば、状態観測部71は、以前に選択した行動acが不適切であると判断し、例えば報酬rwを負の値とする。換言すると、以前と同じ状態stにおいて前回選択した行動acが再度選択され難くなるように、報酬rwが決定される。
なお、報酬rwの具体例については後述する。また、報酬rwの値は適宜決定することができる。例えば、報酬rwの値が常に正の値であってもよく、報酬rwの値が常に負の値であってもよい。
On the contrary, if the calculated absolute value of the current control deviation is larger than the absolute value of the previous control deviation, the state observation unit 71 determines that the previously selected action ac is inappropriate. For example, the reward rw is a negative value. In other words, the reward rw is determined so that the previously selected action ac is less likely to be selected again in the same state st as before.
A specific example of the reward rw will be described later. Further, the value of the reward rw can be appropriately determined. For example, the value of the reward rn may always be a positive value, and the value of the reward rn may always be a negative value.

制御条件学習部72は、各ヒートボルト23について、強化学習を行う。具体的には、制御条件学習部72は、制御条件(学習結果)を報酬rwに基づいて更新すると共に、更新された制御条件から現在の状態stに対応した最適な行動acを選択する。制御条件は、状態stと行動acとの組み合わせである。上述の状態st1〜st5に対応した簡易な制御条件(学習結果)を表1に示す。図4の例では、制御条件学習部72は、更新した制御条件ccを例えばメモリである記憶部73に格納すると共に、記憶部73から制御条件ccを読み出して更新する。 The control condition learning unit 72 performs reinforcement learning for each heat bolt 23. Specifically, the control condition learning unit 72 updates the control condition (learning result) based on the reward rw, and selects the optimum action ac corresponding to the current state st from the updated control condition. The control condition is a combination of the state st and the action ac. Table 1 shows simple control conditions (learning results) corresponding to the above-mentioned states st1 to st5. In the example of FIG. 4, the control condition learning unit 72 stores the updated control condition cc in, for example, a storage unit 73 which is a memory, and reads and updates the control condition cc from the storage unit 73.

Figure 2020152097
Figure 2020152097

表1は、強化学習の一例であるQ学習による制御条件(学習結果)を示している。表1の最上行には上述の5つの状態st1〜st5が示されている。すなわち、2〜6列目の各列が5つの状態st1〜st5を示している。他方、表1の最左列には4つの行動ac1〜ac4が示されている。すなわち、2〜5列目の各行が、4つの行動ac1〜ac4を示している。 Table 1 shows the control conditions (learning results) by Q-learning, which is an example of reinforcement learning. The top row of Table 1 shows the above-mentioned five states st1 to st5. That is, each of the 2nd to 6th columns shows five states st1 to st5. On the other hand, four actions ac1 to ac4 are shown in the leftmost column of Table 1. That is, each row in the 2nd to 5th columns shows four actions ac1 to ac4.

ここで、表1の例では、ヒータ24への出力(例えば電圧)を1%減らす行動を行動ac1(出力変化:−1%)と設定している。ヒータ24への出力を維持する行動を行動ac2(出力変化:0%)と設定している。ヒータ24への出力を1%増やす行動を行動ac3(出力変化:+1%)と設定している。ヒータ24への出力を1.5%増やす行動を行動ac4(出力変化:+1.5%)と設定している。表1の例は、あくまでも説明のための簡易な例であって、実際には、より細分化された多数の行動acが設定される場合が多い。 Here, in the example of Table 1, the action of reducing the output (for example, voltage) to the heater 24 by 1% is set as the action ac1 (output change: -1%). The action of maintaining the output to the heater 24 is set as action ac2 (output change: 0%). The action of increasing the output to the heater 24 by 1% is set as action ac3 (output change: + 1%). The action of increasing the output to the heater 24 by 1.5% is set as action ac4 (output change: + 1.5%). The example in Table 1 is just a simple example for explanation, and in reality, a large number of more subdivided action acs are often set.

表1において状態stと行動acとの組み合わせから定まる値は、価値Q(st、ac)と呼ばれる。価値Qは、初期値が与えられた後、公知の更新式を利用して報酬rwに基づいて順次更新される。価値Qの初期値は、例えば図4に示す学習条件に含まれる。学習条件は、例えば作業者によって入力される。価値Qの初期値は記憶部73に格納されていてもよく、例えば過去の学習結果を初期値として用いてもよい。また、図4に示す学習条件には、例えば表1に示した状態st1〜st5及び行動ac1〜ac4も含まれる。 In Table 1, the value determined from the combination of the state st and the action ac is called the value Q (st, ac). After the initial value is given, the value Q is sequentially updated based on the reward rn using a known update formula. The initial value of the value Q is included in the learning conditions shown in FIG. 4, for example. The learning conditions are input by, for example, an operator. The initial value of the value Q may be stored in the storage unit 73, and for example, the past learning result may be used as the initial value. Further, the learning conditions shown in FIG. 4 include, for example, the states st1 to st5 and the actions ac1 to ac4 shown in Table 1.

表1における状態st4を例に、価値Qについて説明する。状態st4では、制御偏差が0.3μm以上0.6μm未満であるため、対象ヒートボルト23におけるリップ間隔が広過ぎる。そのため、対象ヒートボルト23を加熱するヒータ24への出力を増やし、対象ヒートボルト23の熱膨張量を増加させる必要がある。従って、制御条件学習部72による学習の結果、ヒータ24への出力を増加させる行動ac3、ac4の価値Qが大きくなっている。一方、ヒータ24への出力を維持する行動ac2及びヒータ24への出力を減少させる行動ac4の価値Qは小さくなっている。 The value Q will be described by taking the state st4 in Table 1 as an example. In the state st4, since the control deviation is 0.3 μm or more and less than 0.6 μm, the lip interval in the target heat bolt 23 is too wide. Therefore, it is necessary to increase the output to the heater 24 that heats the target heat bolt 23 and increase the amount of thermal expansion of the target heat bolt 23. Therefore, as a result of learning by the control condition learning unit 72, the value Q of the actions ac3 and ac4 that increase the output to the heater 24 is increased. On the other hand, the value Q of the action ac2 that maintains the output to the heater 24 and the action ac4 that reduces the output to the heater 24 is small.

表1の例において、例えば制御偏差が0.4μmである場合、状態stは状態st4である。そのため、制御条件学習部72は、状態st4において価値Qが最大であって最適な行動ac4を選択し、制御信号出力部74へ出力する。
制御信号出力部74は、入力された行動ac4に基づいて、ヒータ24へ出力する制御信号ctrを1.5%増やす。制御信号ctrは例えば電圧信号である。
In the example of Table 1, for example, when the control deviation is 0.4 μm, the state st is the state st4. Therefore, the control condition learning unit 72 selects the optimum action ac4 having the maximum value Q in the state st4 and outputs it to the control signal output unit 74.
The control signal output unit 74 increases the control signal ctr output to the heater 24 by 1.5% based on the input action ac4. The control signal ctr is, for example, a voltage signal.

そして、次回の制御偏差の絶対値が今回の制御偏差の絶対値0.4μmよりも小さければ、状態観測部71は、今回の状態st4における行動ac4の選択が適切であると判断し、正の値の報酬rwを出力する。そのため、制御条件学習部72は、状態st4における行動ac4の価値+5.6を報酬rwに応じて増やすように制御条件を更新する。その結果、状態st4の場合、制御条件学習部72は、引き続き行動ac4を選択する。 Then, if the absolute value of the next control deviation is smaller than the absolute value of the current control deviation of 0.4 μm, the state observation unit 71 determines that the selection of the action ac4 in the current state st4 is appropriate, and is positive. Output the value reward rw. Therefore, the control condition learning unit 72 updates the control condition so as to increase the value + 5.6 of the action ac4 in the state st4 according to the reward rw. As a result, in the case of the state st4, the control condition learning unit 72 continues to select the action ac4.

一方、次回の制御偏差の絶対値が今回の制御偏差の絶対値0.4μmよりも大きければ、状態観測部71は、今回の状態st4における行動ac4の選択が不適切であると判断し、負の値の報酬rwを出力する。そのため、制御条件学習部72は、状態st4における行動ac4の価値+5.6を報酬rwに応じて減らすように制御条件を更新する。その結果、状態st4における行動ac4の価値が行動ac3の価値+5.4よりも小さくなると、状態st4の場合、制御条件学習部72は、行動ac4に代えて行動ac3を選択する。 On the other hand, if the absolute value of the next control deviation is larger than the absolute value of the current control deviation of 0.4 μm, the state observation unit 71 determines that the selection of the action ac4 in the current state st4 is inappropriate and is negative. The reward rw of the value of is output. Therefore, the control condition learning unit 72 updates the control condition so as to reduce the value +5.6 of the action ac4 in the state st4 according to the reward rw. As a result, when the value of the action ac4 in the state st4 becomes smaller than the value of the action ac3 + 5.4, in the case of the state st4, the control condition learning unit 72 selects the action ac3 instead of the action ac4.

なお、制御条件を更新するタイミングは、次回に限らず、タイムラグなどを考慮して適宜決定すればよい。また、学習初期段階では、学習を促進するために、ランダムに行動acを選択してもよい。さらに、表1では、簡易なQ学習による強化学習について説明したが、学習アルゴリズムについては、Q学習、AC(Actor-Critic)法、TD学習、モンテカルロ法など様々あるが、何ら限定されるものではない。例えば、状態st及び行動acの数が増えて組み合わせ爆発が発生する場合は、AC法などを用いるなど状況によって選定すればよい。 The timing of updating the control conditions is not limited to the next time, and may be appropriately determined in consideration of a time lag and the like. Further, in the initial stage of learning, the action ac may be randomly selected in order to promote learning. Furthermore, in Table 1, reinforcement learning by simple Q-learning was explained, but there are various learning algorithms such as Q-learning, AC (Actor-Critic) method, TD learning, and Monte Carlo method, but they are not limited in any way. Absent. For example, when the number of state st and action ac increases and a combinatorial explosion occurs, it may be selected depending on the situation such as using the AC method.

また、AC法では、方策関数として確率分布関数を用いる場合が多い。その確率分布関数は、正規分布関数に限らず、例えば、簡単化を目的としてシグモイド関数、ソフトマックス関数などを用いてもよい。シグモイド関数は、ニューラルネットワークで最も使用される関数である。強化学習は、ニューラルネットワークと同じ機械学習の1つであるため、シグモイド関数を採用できる。また、シグモイド関数は、関数自体も簡単であり、扱い易いという利点もある。
以上の通り、学習アルゴリズムや用いる関数は様々であるが、プロセスに対して最適なものを適宜選定すればよい。
Further, in the AC method, a probability distribution function is often used as a policy function. The probability distribution function is not limited to the normal distribution function, and for example, a sigmoid function, a softmax function, or the like may be used for the purpose of simplification. The sigmoid function is the most used function in neural networks. Reinforcement learning is one of the same machine learning as neural networks, so a sigmoid function can be adopted. In addition, the sigmoid function has the advantage that the function itself is simple and easy to handle.
As described above, there are various learning algorithms and functions to be used, but the most suitable one for the process may be appropriately selected.

以上に説明した通り、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置では、PID制御を用いていないため、そもそもプロセス条件の変更に伴うパラメータ調整が不要である。また、制御部70が、強化学習によって、制御条件(学習結果)を報酬rwに基づいて更新すると共に、更新された制御条件から現在の状態stに対応した最適な行動acを選択する。そのため、プロセス条件を変更した場合でも、比較例に比べ、調整に要する時間及び樹脂材料を抑制することができる。 As described above, since the resin film manufacturing apparatus according to the first embodiment does not use PID control, it is not necessary to adjust the parameters due to the change of the process conditions in the first place. Further, the control unit 70 updates the control condition (learning result) based on the reward rw by reinforcement learning, and selects the optimum action ac corresponding to the current state st from the updated control condition. Therefore, even when the process conditions are changed, the time required for adjustment and the resin material can be suppressed as compared with the comparative example.

<樹脂フィルム製造方法>
次に、図1、図5を参照して、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造方法の詳細について説明する。図5は、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造方法におけるリップ間隔の制御方法を示すフローチャートである。
<Resin film manufacturing method>
Next, the details of the resin film manufacturing method according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 5. FIG. 5 is a flowchart showing a method of controlling the lip interval in the resin film manufacturing method according to the first embodiment.

図1に示すように、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造方法では、Tダイ20の一対のリップ21a、22aの隙間からフィルム状の溶融樹脂82aを押し出す。
次に、フィルム状の溶融樹脂82aが固化した樹脂フィルム83を搬送しつつ、厚みセンサ60によって樹脂フィルム83の幅方向の厚み分布を測定する。
そして、制御部70は、厚みセンサ60によって測定された厚み分布に基づいて、リップ間隔をフィードバック制御する。
As shown in FIG. 1, in the resin film manufacturing method according to the first embodiment, the film-like molten resin 82a is extruded from the gap between the pair of lips 21a and 22a of the T-die 20.
Next, the thickness distribution of the resin film 83 in the width direction is measured by the thickness sensor 60 while transporting the resin film 83 in which the film-shaped molten resin 82a is solidified.
Then, the control unit 70 feedback-controls the lip interval based on the thickness distribution measured by the thickness sensor 60.

次に、図5を参照して、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造方法におけるリップ間隔の制御方法について説明する。図5の説明においては、図4も適宜参照する。
まず、図5に示すように、図4に示した制御部70の状態観測部71は、ヒートボルト23毎に、樹脂フィルム83の厚み分布から制御偏差を算出する。そして、算出した制御偏差に基づいて、現在の状態stと以前に選択した行動acに対する報酬rwとを決定する(ステップS1)。なお、初回には、以前(例えば前回)に選択した行動acが存在せず、報酬rwを決定することができないため、現在の状態stのみを決定する。
Next, with reference to FIG. 5, a method of controlling the lip interval in the resin film manufacturing method according to the first embodiment will be described. In the description of FIG. 5, FIG. 4 is also referred to as appropriate.
First, as shown in FIG. 5, the state observation unit 71 of the control unit 70 shown in FIG. 4 calculates the control deviation from the thickness distribution of the resin film 83 for each heat bolt 23. Then, based on the calculated control deviation, the current state st and the reward rn for the previously selected action ac are determined (step S1). At the first time, since the action ac selected before (for example, the previous time) does not exist and the reward rw cannot be determined, only the current state st is determined.

次に、制御部70の制御条件学習部72は、状態stと行動acとの組み合わせである制御条件を報酬rwに基づいて更新する。そして、更新された制御条件から現在の状態stに対応した最適な行動acを選択する(ステップS2)。
そして、制御部70の制御信号出力部74は、制御条件学習部72が選択した最適な行動acに基づいて、ヒータ24に制御信号ctrを出力する(ステップS3)。
Next, the control condition learning unit 72 of the control unit 70 updates the control condition, which is a combination of the state st and the action ac, based on the reward rw. Then, the optimum action ac corresponding to the current state st is selected from the updated control conditions (step S2).
Then, the control signal output unit 74 of the control unit 70 outputs the control signal ctr to the heater 24 based on the optimum action ac selected by the control condition learning unit 72 (step S3).

樹脂フィルム83の製造が終了していなければ(ステップS4NO)、ステップS1に戻って制御を継続する。一方、樹脂フィルム83の製造が終了したら(ステップS4YES)、制御を終了する。すなわち、樹脂フィルム83の製造が終了するまで、ステップS1〜S3を繰り返す。 If the production of the resin film 83 is not completed (step S4NO), the process returns to step S1 to continue the control. On the other hand, when the production of the resin film 83 is completed (step S4YES), the control is terminated. That is, steps S1 to S3 are repeated until the production of the resin film 83 is completed.

以上に説明した通り、実施の形態1に係る樹脂フィルム製造方法では、PID制御を用いていないため、そもそもプロセス条件の変更に伴うパラメータ調整が不要である。また、コンピュータを用いた強化学習によって、制御条件(学習結果)を報酬rwに基づいて更新すると共に、更新された制御条件から現在の状態stに対応した最適な行動acを選択する。そのため、プロセス条件を変更した場合でも、比較例に比べ、調整に要する時間及び樹脂材料を抑制することができる。 As described above, since the resin film manufacturing method according to the first embodiment does not use PID control, it is not necessary to adjust the parameters due to the change of the process conditions in the first place. In addition, the control condition (learning result) is updated based on the reward rw by reinforcement learning using a computer, and the optimum action ac corresponding to the current state st is selected from the updated control condition. Therefore, even when the process conditions are changed, the time required for adjustment and the resin material can be suppressed as compared with the comparative example.

(実施の形態2)
次に、実施の形態2に係る樹脂フィルム製造装置について説明する。実施の形態2に係る樹脂フィルム製造装置の全体構成は、図1〜図3に示した実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置の全体構成と同様であるため、説明を省略する。実施の形態2に係る樹脂フィルム製造装置は、制御部70の構成が実施の形態1に係る樹脂フィルム製造装置と異なる。
(Embodiment 2)
Next, the resin film manufacturing apparatus according to the second embodiment will be described. Since the overall configuration of the resin film manufacturing apparatus according to the second embodiment is the same as the overall configuration of the resin film manufacturing apparatus according to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the description thereof will be omitted. The structure of the control unit 70 of the resin film manufacturing apparatus according to the second embodiment is different from that of the resin film manufacturing apparatus according to the first embodiment.

図6は、実施の形態2に係る制御部70の構成を示すブロック図である。図6に示すように、実施の形態2に係る制御部70は、状態観測部71、制御条件学習部72、記憶部73、PIDコントローラ74aを備えている。すなわち、実施の形態2に係る制御部70は、図4に示した実施の形態1に係る制御部70における制御信号出力部74として、PIDコントローラ74aを備えている。PIDコントローラ74aも制御信号出力部の一形態である。 FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of the control unit 70 according to the second embodiment. As shown in FIG. 6, the control unit 70 according to the second embodiment includes a state observation unit 71, a control condition learning unit 72, a storage unit 73, and a PID controller 74a. That is, the control unit 70 according to the second embodiment includes the PID controller 74a as the control signal output unit 74 in the control unit 70 according to the first embodiment shown in FIG. The PID controller 74a is also a form of the control signal output unit.

状態観測部71は、実施の形態1と同様に、各ヒートボルト23について、算出した制御偏差errに基づいて、現在の状態stと以前に選択した行動acに対する報酬rwとを決定する。そして、状態観測部71は、現在の状態stと報酬rwとを制御条件学習部72に出力する。さらに、実施の形態2に係る状態観測部71は、算出した制御偏差errをPIDコントローラ74aに出力する。 Similar to the first embodiment, the state observation unit 71 determines the current state st and the reward rn for the previously selected action ac based on the calculated control deviation err for each heat bolt 23. Then, the state observation unit 71 outputs the current state st and the reward rw to the control condition learning unit 72. Further, the state observation unit 71 according to the second embodiment outputs the calculated control deviation err to the PID controller 74a.

制御条件学習部72も、実施の形態1と同様に、各ヒートボルト23について、強化学習を行う。具体的には、制御条件学習部72は、制御条件(学習結果)を報酬rwに基づいて更新すると共に、更新された制御条件から現在の状態stに対応した最適な行動acを選択する。ここで、実施の形態1では、制御条件学習部72が選択する行動acの内容が、ヒータ24への出力を直接変更することである。これに対し、実施の形態2では、制御条件学習部72が選択する行動acの内容が、PIDコントローラ74aのパラメータを変更することである。 The control condition learning unit 72 also performs reinforcement learning for each heat bolt 23 as in the first embodiment. Specifically, the control condition learning unit 72 updates the control condition (learning result) based on the reward rw, and selects the optimum action ac corresponding to the current state st from the updated control condition. Here, in the first embodiment, the content of the action ac selected by the control condition learning unit 72 directly changes the output to the heater 24. On the other hand, in the second embodiment, the content of the action ac selected by the control condition learning unit 72 changes the parameter of the PID controller 74a.

図6に示すように、制御条件学習部72から出力された行動acに基づいて、PIDコントローラ74aのパラメータが逐次変更される。他方、PIDコントローラ74aは、入力された制御偏差errに基づいて、ヒータ24へ制御信号ctrを出力する。制御信号ctrは例えば電圧信号である。
その他の構成は、実施の形態1と同様であるから説明を省略する。
As shown in FIG. 6, the parameters of the PID controller 74a are sequentially changed based on the action ac output from the control condition learning unit 72. On the other hand, the PID controller 74a outputs a control signal ctr to the heater 24 based on the input control deviation err. The control signal ctr is, for example, a voltage signal.
Since other configurations are the same as those in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

以上に説明した通り、実施の形態2に係る樹脂フィルム製造装置では、PID制御を用いているため、プロセス条件の変更に伴うパラメータ調整が必要である。実施の形態2に係る樹脂フィルム製造装置では、制御部70が、強化学習によって、制御条件(学習結果)を報酬rwに基づいて更新すると共に、更新された制御条件から現在の状態stに対応した最適な行動acを選択する。ここで、強化学習における行動acが、PIDコントローラ74aのパラメータの変更である。そのため、プロセス条件を変更した場合でも、比較例に比べ、パラメータ調整に要する時間及び樹脂材料を抑制することができる。 As described above, since the resin film manufacturing apparatus according to the second embodiment uses PID control, it is necessary to adjust the parameters according to the change of the process conditions. In the resin film manufacturing apparatus according to the second embodiment, the control unit 70 updates the control condition (learning result) based on the reward rw by reinforcement learning, and corresponds to the current state st from the updated control condition. Select the best action ac. Here, the action ac in reinforcement learning is a change of the parameter of the PID controller 74a. Therefore, even when the process conditions are changed, the time required for parameter adjustment and the resin material can be suppressed as compared with the comparative example.

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は既に述べた実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることはいうまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments already described, and various changes can be made without departing from the gist thereof. It goes without saying that it is possible.

10 押出機
11 シリンダ
12 スクリュー
13 ホッパ
20 Tダイ
20a 導入口
20b マニホールド
20c スリット
21、22 ダイブロック
21a、22a リップ
22b 切り欠き溝
23 ヒートボルト
24 ヒータ
25a、25b ホルダー
26 連結部材
30 冷却ロール
40 搬送ロール群
41〜48 搬送ロール
50 巻取機
60 厚みセンサ
70 制御部
71 状態観測部
72 制御条件学習部
73 記憶部
74 制御信号出力部
74a PIDコントローラ
81 樹脂ペレット
82 溶融樹脂
82a フィルム状の溶融樹脂
83 樹脂フィルム
ac 行動
cc 制御条件
ctr 制御信号
err 制御偏差
pv 測定値
rw 報酬
st 状態
10 Extruder 11 Cylinder 12 Screw 13 Hopper 20 T Die 20a Introductory port 20b Manifold 20c Slit 21, 22 Die block 21a, 22a Lip 22b Notch groove 23 Heat bolt 24 Heater 25a, 25b Holder 26 Connecting member 30 Cooling roll 40 Conveying roll Group 41-48 Conveyance roll 50 Winder 60 Thickness sensor 70 Control unit 71 State observation unit 72 Control condition learning unit 73 Storage unit 74 Control signal output unit 74a PID controller 81 Resin pellet 82 Molten resin 82a Film-shaped molten resin 83 resin Film ac Action cc Control condition ctr Control signal err Control deviation pv Measured value rn Reward st State

Claims (14)

一対のリップの長手方向に沿って並べられたヒートボルトと、当該ヒートボルトを加熱するヒータとを複数対有し、前記ヒートボルト毎にリップ間隔を調整可能なダイと、
前記一対のリップの隙間から押し出されたフィルム状の溶融樹脂を冷却しつつ、前記溶融樹脂が固化した樹脂フィルムを搬出する冷却ロールと、
前記冷却ロールから搬出された前記樹脂フィルムの幅方向の厚み分布を測定する厚みセンサと、
前記厚みセンサから取得した前記厚み分布に基づいて、前記リップ間隔をフィードバック制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記ヒートボルト毎に、
前記厚み分布から算出した制御偏差に基づいて、現在の状態と以前に選択した行動に対する報酬とを決定し、
状態と行動との組み合わせである制御条件を前記報酬に基づいて更新すると共に、更新された制御条件から前記現在の状態に対応した最適な行動を選択し、
前記最適な行動に基づいて前記ヒータを制御する、
樹脂フィルム製造装置。
A die having a plurality of pairs of heat bolts arranged along the longitudinal direction of the pair of lips and heaters for heating the heat bolts, and the lip spacing can be adjusted for each heat bolt.
A cooling roll that carries out a resin film in which the molten resin is solidified while cooling the film-like molten resin extruded from the gap between the pair of lips.
A thickness sensor that measures the thickness distribution in the width direction of the resin film carried out from the cooling roll, and
A control unit that feedback-controls the lip interval based on the thickness distribution acquired from the thickness sensor is provided.
The control unit is used for each heat bolt.
Based on the control deviation calculated from the thickness distribution, the current state and the reward for the previously selected action are determined.
The control condition, which is a combination of the state and the action, is updated based on the reward, and the optimum action corresponding to the current state is selected from the updated control condition.
Control the heater based on the optimal behavior,
Resin film manufacturing equipment.
前記行動が、前記ヒータの出力の変更である、
請求項1に記載の樹脂フィルム製造装置。
The action is a change in the output of the heater.
The resin film manufacturing apparatus according to claim 1.
前記行動が、前記ヒータの出力を制御するPIDコントローラのパラメータの変更である、
請求項1に記載の樹脂フィルム製造装置。
The action is a change in the parameters of the PID controller that controls the output of the heater.
The resin film manufacturing apparatus according to claim 1.
前記厚みセンサは、非接触式である、
請求項1に記載の樹脂フィルム製造装置。
The thickness sensor is a non-contact type.
The resin film manufacturing apparatus according to claim 1.
前記厚みセンサは、前記樹脂フィルムの幅方向に走査されつつ、前記樹脂フィルムの幅方向の厚み分布を測定する、
請求項4に記載の樹脂フィルム製造装置。
The thickness sensor measures the thickness distribution in the width direction of the resin film while scanning in the width direction of the resin film.
The resin film manufacturing apparatus according to claim 4.
前記厚みセンサは、水平に搬送されている前記樹脂フィルムの幅方向の厚み分布を測定する、
請求項5に記載の樹脂フィルム製造装置。
The thickness sensor measures the thickness distribution of the horizontally conveyed resin film in the width direction.
The resin film manufacturing apparatus according to claim 5.
前記一対のリップの一方のみが、前記ヒートボルトに連結されている、
請求項1に記載の樹脂フィルム製造装置。
Only one of the pair of lips is connected to the heat bolt.
The resin film manufacturing apparatus according to claim 1.
(a)ダイの一対のリップの隙間からフィルム状の溶融樹脂を押し出す工程、
(b)前記溶融樹脂が固化した樹脂フィルムを搬送しつつ、前記樹脂フィルムの幅方向の厚み分布を測定する工程、
(c)測定された前記厚み分布に基づいて、リップ間隔をフィードバック制御する工程、を備え、
前記ダイは、前記一対のリップの長手方向に沿って並べられたヒートボルトと、当該ヒートボルトを加熱するヒータとを複数対有し、前記ヒートボルト毎に前記リップ間隔を調整可能であって、
前記工程(c)において、コンピュータが、前記ヒートボルト毎に、
(c1)前記厚み分布から算出した制御偏差に基づいて、現在の状態と以前に選択した行動に対する報酬とを決定し、
(c2)状態と行動との組み合わせである制御条件を前記報酬に基づいて更新すると共に、更新された制御条件から前記現在の状態に対応した最適な行動を選択し、
(c3)前記最適な行動に基づいて前記ヒータを制御する、
樹脂フィルム製造方法。
(A) A step of extruding a film-like molten resin from a gap between a pair of lips of a die.
(B) A step of measuring the thickness distribution in the width direction of the resin film while transporting the resin film in which the molten resin is solidified.
(C) A step of feedback-controlling the lip spacing based on the measured thickness distribution is provided.
The die has a plurality of pairs of heat bolts arranged along the longitudinal direction of the pair of lips and heaters for heating the heat bolts, and the lip spacing can be adjusted for each heat bolt.
In the step (c), the computer performs each of the heat bolts.
(C1) Based on the control deviation calculated from the thickness distribution, the current state and the reward for the previously selected action are determined.
(C2) The control condition, which is a combination of the state and the action, is updated based on the reward, and the optimum action corresponding to the current state is selected from the updated control condition.
(C3) The heater is controlled based on the optimum behavior.
Resin film manufacturing method.
前記工程(c2)において決定する前記行動が、前記ヒータの出力の変更である、
請求項8に記載の樹脂フィルム製造方法。
The action determined in the step (c2) is a change in the output of the heater.
The resin film manufacturing method according to claim 8.
前記工程(c2)において決定する前記行動が、前記ヒータの出力を制御するPIDコントローラのパラメータの変更である、
請求項8に記載の樹脂フィルム製造方法。
The action determined in the step (c2) is a change in the parameters of the PID controller that controls the output of the heater.
The resin film manufacturing method according to claim 8.
前記工程(b)において、非接触式の厚みセンサによって、前記樹脂フィルムの幅方向の厚み分布を測定する、
請求項8に記載の樹脂フィルム製造方法。
In the step (b), the thickness distribution in the width direction of the resin film is measured by a non-contact thickness sensor.
The resin film manufacturing method according to claim 8.
前記厚みセンサを前記樹脂フィルムの幅方向に走査させつつ、前記樹脂フィルムの幅方向の厚み分布を測定する、
請求項11に記載の樹脂フィルム製造方法。
While scanning the thickness sensor in the width direction of the resin film, the thickness distribution in the width direction of the resin film is measured.
The resin film manufacturing method according to claim 11.
前記厚みセンサによって、水平に搬送されている前記樹脂フィルムの幅方向の厚み分布を測定する、
請求項12に記載の樹脂フィルム製造方法。
The thickness sensor measures the thickness distribution in the width direction of the horizontally conveyed resin film.
The resin film manufacturing method according to claim 12.
前記一対のリップの一方のみが、前記ヒートボルトに連結されている、
請求項8に記載の樹脂フィルム製造方法。
Only one of the pair of lips is connected to the heat bolt.
The resin film manufacturing method according to claim 8.
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