JP2020151769A - Laser processing device - Google Patents

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Abstract

To provide a laser processing device allowing observation of distribution of a laser beam induced by a liquid jet.SOLUTION: A laser processing device (10) to irradiate a workpiece with a laser beam induced by a liquid jet comprises laser beam distribution control means which changes distribution of a laser beam induced by a liquid jet by changing the incidence position and incidence angle of the laser beam relative to the liquid jet.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、レーザ加工装置、レーザ加工方法、レーザ光分布観察装置、及びレーザ光分布観察方法に関し、特に、液体ジェットに誘導されるレーザ光の分布を観察する技術に関する。 The present invention relates to a laser processing apparatus, a laser processing method, a laser light distribution observation apparatus, and a laser light distribution observation method, and more particularly to a technique for observing the distribution of laser light guided by a liquid jet.

近年、IC、LSI等のデバイスの高集積化、小型化に伴い、シリコン等の半導体基板の表面に、SiOF、BSG(SiOB)等の無機物系の膜やポリイミド系、パリレン系等のポリマー膜である有機物系の膜からなる低誘電率絶縁体被膜(Low−k膜)と回路を形成する機能膜が積層された積層体からなるデバイス層が形成されたウェーハが実用化されている。 In recent years, with the increasing integration and miniaturization of devices such as ICs and LSIs, inorganic films such as SiOF and BSG (SiOB) and polymer films such as polyimide and parylene have been applied to the surface of semiconductor substrates such as silicon. A wafer in which a device layer made of a laminated body in which a low dielectric constant insulator film (Low-k film) made of a certain organic film and a functional film forming a circuit are laminated has been put into practical use.

しかし、このようなデバイス層のあるウェーハのダイシングは、膜剥がれやバリ等が発生しやすく、ダイシング工程における大きな問題となっている。特に、デバイス層にLow−k膜が含まれる場合、Low−k膜は非常に脆いことから、ダイシングブレードによる切断が行われると、Low−k膜に剥離が生じやすい問題がある。すなわち、ダイシングブレードによって切断すると、Low−k膜が破壊され、この破壊された領域がデバイス形成領域(チップ形成領域)に広がると、チップは不良品となり、製造される半導体装置の歩留りを低下させてしまう要因となる。 However, dicing of a wafer having such a device layer tends to cause film peeling, burrs, and the like, which is a big problem in the dicing process. In particular, when the Low-k film is contained in the device layer, the Low-k film is very brittle, so that there is a problem that the Low-k film is likely to be peeled off when the dicing blade is used for cutting. That is, when cut by a dicing blade, the Low-k film is destroyed, and when this destroyed region expands to the device forming region (chip forming region), the chip becomes a defective product and the yield of the manufactured semiconductor device is lowered. It becomes a factor to end up.

上記問題を解消するために、ダイシングブレードによる切断に先立って、ストリートと称される分割予定ラインに沿ってレーザ加工溝を形成してデバイス層を分断した後に、ダイシングブレードによって切断を行う技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。 In order to solve the above problem, a technique for forming a laser processing groove along a planned division line called a street to divide a device layer and then cutting with a dicing blade prior to cutting with a dicing blade is disclosed. (See, for example, Patent Document 1).

しかしながら、特許文献1に開示された技術では、ダイシング装置のほかにレーザ加工装置(レーザスクライバ)が必要である。また、レーザ照射工程では、ダイシングブレードの幅より広いレーザ加工溝を形成するために、レーザ光の照射を1つのストリートに沿って往復移動して行わなければならない。このため、生産性が悪く、コストアップを招く問題がある。 However, the technique disclosed in Patent Document 1 requires a laser processing device (laser scriber) in addition to the dicing device. Further, in the laser irradiation step, in order to form a laser processing groove wider than the width of the dicing blade, the laser irradiation must be reciprocated along one street. Therefore, there is a problem that productivity is poor and cost is increased.

一方、特許文献2は、加圧液体を液体ジェットにて噴射し、それを光導波路としてレーザ光を被加工物へ照射するレーザ加工装置が開示されている。このレーザ加工装置では、被加工物に向けて液体ジェットが噴射されるので加工時の熱ダメージやコンタミネーションによる影響を防ぎつつ、レーザ光が液体ジェットにより拡散することなく被加工物に向けて誘導されるので高精度な加工を行うことが可能となる。また、ダイシングブレードによるダイシングやレーザダイシング等のダイシング工程が不要となる。 On the other hand, Patent Document 2 discloses a laser processing apparatus that injects a pressurized liquid with a liquid jet and irradiates a work piece with laser light using the liquid jet as an optical waveguide. In this laser processing device, since the liquid jet is ejected toward the workpiece, the laser beam is guided toward the workpiece without being diffused by the liquid jet while preventing the effects of heat damage and contamination during machining. Therefore, it is possible to perform high-precision processing. In addition, a dicing step such as dicing with a dicing blade or laser dicing becomes unnecessary.

また、特許文献2には、液体ジェットにより誘導されるレーザ光の出力を観察する観察装置が開示されている。この観察装置は、液体ジェットを遮蔽しかつレーザ光を透過し得る遮蔽材と、遮蔽材の背後に計測手段とを有し、レーザ光を遮蔽材越しに計測手段に入射させてレーザ光の出力を計測するようにしている。これによれば、液体ジェットに導光されたレーザ光の出力を直接計測でき、レーザ光出力の問題点を事前に察知することが可能となる。 Further, Patent Document 2 discloses an observation device for observing the output of a laser beam induced by a liquid jet. This observation device has a shielding material that can shield the liquid jet and transmit the laser light, and a measuring means behind the shielding material, and causes the laser light to enter the measuring means through the shielding material to output the laser light. I try to measure. According to this, the output of the laser beam guided by the liquid jet can be directly measured, and the problem of the laser beam output can be detected in advance.

特開2006−140311号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-140311 特許第5072691号公報Japanese Patent No. 5072691

しかしながら、特許文献2に開示される従来の観察装置は、主にレーザ光の出力測定の用途で作られており、そのため液体ジェットと被加工物の接面でのレーザ光の分布を観察することはできない。 However, the conventional observation device disclosed in Patent Document 2 is mainly used for measuring the output of a laser beam, and therefore, observing the distribution of the laser beam at the contact surface between the liquid jet and the workpiece. Can't.

また、液体ジェットにより誘導されるレーザ光により被加工物を加工する場合、加工条件(例えば、液体ジェット長さなど)がわずかに異なる場合でも加工痕形状が変化してしまう問題がある。そのため、任意の加工痕形状で被加工物を加工するためには予備的な加工が必要となり、生産性の低下やコストアップを招く要因となる。 Further, when the workpiece is processed by the laser beam induced by the liquid jet, there is a problem that the shape of the processing mark changes even if the processing conditions (for example, the length of the liquid jet) are slightly different. Therefore, in order to process the workpiece with an arbitrary processing mark shape, preliminary processing is required, which causes a decrease in productivity and an increase in cost.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、液体ジェットにより誘導されるレーザ光の分布を観察することができるレーザ加工装置、レーザ加工方法、レーザ光分布観察装置、及びレーザ光分布観察方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and is a laser processing apparatus capable of observing the distribution of laser light induced by a liquid jet, a laser processing method, a laser light distribution observing apparatus, and a laser beam distribution. The purpose is to provide an observation method.

上記目的を達成するために、本発明の第1態様に係るレーザ加工装置は、被加工物を保持するワークテーブルと、レーザ光を出力するレーザ発振器と、レーザ発振器から出力されたレーザ光を集光する集光レンズと、液体ジェットを被加工物に向けて噴射する液体ジェット噴射ノズルを有し、集光レンズにより集光されるレーザ光を液体ジェットの中に導光することにより液体ジェットに誘導されるレーザ光を被加工物に向けて照射する加工ヘッドと、液体ジェットにより誘導されるレーザ光の分布を観察するレーザ光分布観察装置と、を備え、レーザ光分布観察装置は、加工ヘッドに対して被加工物と相対的に同一の高さに配置され、液体ジェットを遮蔽しかつ液体ジェットに誘導されるレーザ光を透過する遮蔽板と、遮蔽板を透過したレーザ光を結像する結像レンズと、結像レンズに対して遮蔽板と共役な位置関係に配置され、結像レンズにより結像されたレーザ光を受光する光検出器と、光検出器から出力された出力信号に基づき、液体ジェットと遮蔽板との接面におけるレーザ光の分布を示すレーザ光分布画像データを取得する画像データ取得手段と、画像データ取得手段により取得されたレーザ光分布画像データを表示する表示手段と、を有する。 In order to achieve the above object, the laser processing apparatus according to the first aspect of the present invention collects a work table for holding a work piece, a laser oscillator that outputs a laser beam, and a laser beam output from the laser oscillator. It has a shining condensing lens and a liquid jet injection nozzle that injects a liquid jet toward the work piece, and guides the laser light focused by the condensing lens into the liquid jet to make it a liquid jet. The processing head is provided with a processing head that irradiates the induced laser light toward the workpiece and a laser light distribution observation device that observes the distribution of the laser light induced by the liquid jet. The laser light distribution observation device is a processing head. A shielding plate that shields the liquid jet and transmits the laser beam guided by the liquid jet, which is arranged at the same height as the workpiece, and the laser beam transmitted through the shielding plate are imaged. The imaging lens, the optical detector that is arranged in a positional relationship conjugate with the shielding plate with respect to the imaging lens and receives the laser beam imaged by the imaging lens, and the output signal output from the optical detector. Based on this, an image data acquisition means for acquiring laser light distribution image data showing the distribution of laser light on the contact surface between the liquid jet and the shielding plate, and a display means for displaying the laser light distribution image data acquired by the image data acquisition means. And have.

なお、「加工ヘッドに対して被加工物と相対的に同一の高さ」とは、加工ヘッドと遮蔽板との間の距離が加工ヘッドと被加工物との間の距離と等しいことを意味する。すなわち、加工ヘッドから被加工物に液体ジェットが噴射されるときの液体ジェットの長さと、加工ヘッドから遮蔽板に液体ジェットが噴射されるときの液体ジェットの長さとが互いに等しいことを意味しており、被加工物と遮蔽板とが絶対座標的に同一高さであることは必ずしも必要ではない。例えば、被加工物と遮蔽板とが絶対座標的に異なる高さである場合でも、加工ヘッドに対する相対的な高さが互いに同一であればよい。 Note that "the height relative to the workpiece relative to the machining head" means that the distance between the machining head and the shielding plate is equal to the distance between the machining head and the workpiece. To do. That is, it means that the length of the liquid jet when the liquid jet is ejected from the machining head to the workpiece and the length of the liquid jet when the liquid jet is jetted from the machining head to the shielding plate are equal to each other. Therefore, it is not always necessary that the workpiece and the shielding plate have the same height in absolute coordinates. For example, even when the work piece and the shielding plate have different heights in absolute coordinates, the heights relative to the processing head may be the same.

本発明の第2態様に係るレーザ加工装置は、第1態様において、液体ジェットと遮蔽板との接面におけるレーザ光の分布を変更するレーザ光分布制御手段を備える。 The laser processing apparatus according to the second aspect of the present invention includes, in the first aspect, a laser beam distribution control means for changing the distribution of the laser beam on the contact surface between the liquid jet and the shielding plate.

本発明の第3態様に係るレーザ加工装置は、第2態様において、レーザ光分布制御手段は、液体ジェットの長さを変化させることによりレーザ光の分布を変更する。 In the second aspect of the laser processing apparatus according to the third aspect of the present invention, the laser light distribution control means changes the distribution of the laser light by changing the length of the liquid jet.

本発明の第4態様に係るレーザ加工装置は、第2態様又は第3態様において、レーザ発振器と集光レンズとの間に配置され、レーザ光を偏向するレーザ光偏向手段を備え、レーザ光分布制御手段は、液体ジェットに対するレーザ光の入射位置及び入射角度が変化するようにレーザ光偏向手段を制御することによりレーザ光の分布を変更する。 In the second or third aspect, the laser processing apparatus according to the fourth aspect of the present invention includes a laser beam deflecting means that is arranged between the laser oscillator and the condenser lens and deflects the laser beam, and has a laser beam distribution. The control means changes the distribution of the laser beam by controlling the laser beam deflecting means so that the incident position and the incident angle of the laser beam with respect to the liquid jet change.

本発明の第5態様に係るレーザ加工装置は、第2態様〜第4態様のいずれか1つの態様において、レーザ発振器と集光レンズとの間に配置され、レーザ光を整形するビーム形状整形手段を備え、レーザ光分布制御手段は、レーザ光の形状、サイズ、又は強度分布が変化するようにビーム形状整形手段を制御することによりレーザ光の分布を変更する。 The laser processing apparatus according to the fifth aspect of the present invention is a beam shape shaping means that is arranged between the laser oscillator and the condensing lens in any one of the second to fourth aspects and shapes the laser beam. The laser beam distribution control means changes the distribution of the laser beam by controlling the beam shape shaping means so that the shape, size, or intensity distribution of the laser beam changes.

本発明の第6態様に係るレーザ加工装置は、第2態様〜第5態様のいずれか1つの態様において、加工ヘッドに対して加圧液体を供給する加圧液体供給手段を備え、レーザ光分布制御手段は、加圧液体供給手段により供給される加圧液体の圧力を制御することによりレーザ光の分布を変更する。 The laser processing apparatus according to the sixth aspect of the present invention includes a pressurized liquid supply means for supplying a pressurized liquid to the processing head in any one of the second to fifth aspects, and has a laser beam distribution. The control means changes the distribution of the laser beam by controlling the pressure of the pressurized liquid supplied by the pressurized liquid supply means.

本発明の第7態様に係るレーザ加工装置は、第2態様〜第6態様のいずれか1つの態様において、レーザ光分布制御手段は、液体ジェット噴射ノズルのノズル径を制御することによりレーザ光の分布を変更する。 In the laser processing apparatus according to the seventh aspect of the present invention, in any one of the second to sixth aspects, the laser light distribution control means controls the nozzle diameter of the liquid jet injection nozzle to obtain the laser light. Change the distribution.

本発明の第8態様に係るレーザ加工方法は、レーザ発振器から出力されたレーザ光を集光する集光工程と、液体ジェットを被加工物に向けて噴射するとともに、集光工程により集光されるレーザ光を液体ジェットの中に導光することにより液体ジェットに誘導されるレーザ光を被加工物に向けて照射する液体ジェット噴射工程と、液体ジェットにより誘導されるレーザ光の分布を観察するレーザ光分布観察工程と、を備え、レーザ光分布観察工程は、液体ジェットを遮蔽板で遮蔽しかつ液体ジェットに誘導されるレーザ光が遮蔽板を透過するレーザ光透過工程と、遮蔽板を透過したレーザ光を結像レンズにより結像する結像工程と、結像レンズにより結像されたレーザ光を、結像レンズに対して遮蔽板と共役な位置関係に配置される光検出器で受光する受光工程と、光検出器から出力された出力信号に基づき、液体ジェットと遮蔽板との接面におけるレーザ光の分布を示すレーザ光分布画像データを取得する取得工程と、レーザ光分布画像データを表示する表示工程と、を有する。 The laser processing method according to the eighth aspect of the present invention is a condensing step of condensing the laser beam output from the laser oscillator, a liquid jet is ejected toward the work piece, and is condensed by the condensing step. Observe the liquid jet injection step of irradiating the workpiece with the laser beam guided by the liquid jet by guiding the laser beam into the liquid jet, and the distribution of the laser beam guided by the liquid jet. The laser beam distribution observation step includes a laser beam distribution observation step, in which the liquid jet is shielded by a shielding plate and the laser beam guided by the liquid jet passes through the shielding plate and the shielding plate is transmitted. An imaging process in which the formed laser beam is imaged by an imaging lens, and the laser beam imaged by the imaging lens is received by an optical detector arranged in a positional relationship conjugate with the shielding plate with respect to the imaging lens. The light receiving step, the acquisition step of acquiring the laser beam distribution image data showing the distribution of the laser beam on the contact surface between the liquid jet and the shielding plate, and the laser beam distribution image data based on the output signal output from the light detector. It has a display step of displaying.

本発明の第9態様に係るレーザ加工方法は、第8態様において、液体ジェットと遮蔽板との接面におけるレーザ光の分布を変更するレーザ光分布制御工程を備える。 In the eighth aspect, the laser processing method according to the ninth aspect of the present invention includes a laser light distribution control step for changing the distribution of the laser light on the contact surface between the liquid jet and the shielding plate.

本発明の第10態様に係るレーザ光分布観察装置は、液体ジェットを遮蔽しかつ液体ジェットに誘導されるレーザ光を透過する遮蔽板と、遮蔽板を透過したレーザ光を結像する結像レンズと、結像レンズに対して遮蔽板と共役な位置関係に配置され、結像レンズにより結像されたレーザ光を受光する光検出器と、光検出器から出力された出力信号に基づき、液体ジェットと遮蔽板との接面におけるレーザ光の分布を示すレーザ光分布画像データを取得する画像データ取得手段と、画像データ取得手段により取得されたレーザ光分布画像データを表示する表示手段と、を備える。 The laser beam distribution observation device according to the tenth aspect of the present invention is a shielding plate that shields a liquid jet and transmits a laser beam guided by the liquid jet, and an imaging lens that forms an image of a laser beam transmitted through the shielding plate. A liquid that is arranged in a positional relationship conjugate with the shielding plate with respect to the imaging lens and receives the laser beam imaged by the imaging lens, and an output signal output from the optical detector. An image data acquisition means for acquiring laser light distribution image data showing the distribution of laser light on the contact surface between the jet and the shielding plate, and a display means for displaying the laser light distribution image data acquired by the image data acquisition means. Be prepared.

本発明の第11態様に係るレーザ光分布観察方法は、液体ジェットを遮蔽板で遮蔽しかつ液体ジェットに誘導されるレーザ光が遮蔽板を透過するレーザ光透過工程と、遮蔽板を透過したレーザ光を結像レンズにより結像する結像工程と、結像レンズにより結像されたレーザ光を、結像レンズに対して遮蔽板と共役な位置関係に配置される光検出器で受光する受光工程と、光検出器から出力された出力信号に基づき、液体ジェットと遮蔽板との接面におけるレーザ光の分布を示すレーザ光分布画像データを取得する取得工程と、レーザ光分布画像データを表示する表示工程と、を備える。 The laser beam distribution observation method according to the eleventh aspect of the present invention includes a laser beam transmission step in which a liquid jet is shielded by a shielding plate and the laser beam guided by the liquid jet passes through the shielding plate, and a laser transmitted through the shielding plate. The imaging process in which light is imaged by an imaging lens, and the light reception in which the laser beam imaged by the imaging lens is received by an optical detector arranged in a positional relationship conjugate with the shielding plate with respect to the imaging lens. Based on the process and the output signal output from the light detector, the acquisition process for acquiring the laser beam distribution image data showing the distribution of the laser beam on the contact surface between the liquid jet and the shielding plate, and the laser beam distribution image data are displayed. The display process is provided.

本発明によれば、遮蔽板と光検出器とが結像レンズに対して互いに共役な位置関係に配置されるので、液体ジェットと遮蔽板との接面におけるレーザ光の分布を光検出器の受光面に忠実に再現することができる。これにより、液体ジェットに誘導されるレーザ光の分布を観察することが可能となるので、予備的な加工を行うことなく、加工痕形状を容易に予測することが可能となる。その結果、全体のスループットが向上し、コストダウンを図ることができる。 According to the present invention, since the shielding plate and the photodetector are arranged in a positional relationship conjugate with each other with respect to the imaging lens, the distribution of the laser beam on the contact surface between the liquid jet and the shielding plate can be measured by the photodetector. It can be faithfully reproduced on the light receiving surface. This makes it possible to observe the distribution of the laser beam guided by the liquid jet, so that the shape of the processing mark can be easily predicted without performing preliminary processing. As a result, the overall throughput is improved and the cost can be reduced.

本実施の形態に係るレーザ加工装置の構成を示す概略図Schematic diagram showing the configuration of the laser processing apparatus according to the present embodiment 液体ジェット内のレーザ光経路を示した簡略図Simplified diagram showing the laser beam path in a liquid jet 図2のaに示した位置でレーザ光の分布を観察した結果を示した図The figure which showed the result of observing the distribution of the laser beam at the position shown by a of FIG. 図2のbに示した位置でレーザ光の分布を観察した結果を示した図The figure which showed the result of observing the distribution of the laser beam at the position shown by b of FIG. 図3と同じ条件でワークに直線状の加工溝を形成したときの加工溝の深さプロファイルを示した図The figure which showed the depth profile of the machined groove when the linear machined groove was formed in the work under the same conditions as FIG. 図4と同じ条件でワークに直線状の加工溝を形成したときの加工溝の深さプロファイルを示した図The figure which showed the depth profile of the machined groove when the linear machined groove was formed in the work under the same conditions as FIG. 本実施の形態に係るレーザ加工装置を用いたレーザ加工方法の一例を示すフローチャートA flowchart showing an example of a laser processing method using the laser processing apparatus according to the present embodiment. レーザ光が液体ジェットの中心軸ではなく周辺部に入射するようにした場合のレーザ光経路を示した簡略図Simplified diagram showing the laser beam path when the laser beam is incident on the peripheral part of the liquid jet instead of the central axis. レーザ光が液体ジェットの中心軸ではなく周辺部に入射するようにした場合にレーザ光の分布を実際に観察した結果を示した図The figure which showed the result of actually observing the distribution of the laser beam when the laser beam was made to enter the peripheral part instead of the central axis of the liquid jet. 図9と同じ条件でワークに直線状の加工溝を形成したときの加工溝の深さプロファイルを示した図The figure which showed the depth profile of the machined groove when the linear machined groove was formed in the work under the same conditions as FIG. ビーム形状整形手段による溝形状の形成例を示した図The figure which showed the formation example of the groove shape by the beam shape shaping means

以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施形態について説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1は、本実施の形態に係るレーザ加工装置の構成を示す概略図である。 FIG. 1 is a schematic view showing a configuration of a laser processing apparatus according to the present embodiment.

図1に示すように、本実施の形態に係るレーザ加工装置10は、レーザ電源12と、レーザ発振器14と、ワークテーブル16と、ワークテーブル移動部18と、液体供給手段20と、ヘッドユニット22と、レーザ光分布観察装置26と、制御部30とを備えている。 As shown in FIG. 1, the laser processing apparatus 10 according to the present embodiment includes a laser power supply 12, a laser oscillator 14, a work table 16, a work table moving unit 18, a liquid supply means 20, and a head unit 22. The laser beam distribution observation device 26 and the control unit 30 are provided.

レーザ電源12は、信号ケーブルを介してレーザ発振器14に接続され、レーザ発振器14に電力を供給する。 The laser power supply 12 is connected to the laser oscillator 14 via a signal cable to supply electric power to the laser oscillator 14.

レーザ発振器14は、レーザ電源12から供給される電力を用いてレーザ光Lを出力する。レーザ光Lとしては、水に吸収されにくい波長域のレーザ光が用いられる。 The laser oscillator 14 outputs the laser beam L using the electric power supplied from the laser power supply 12. As the laser beam L, a laser beam in a wavelength range that is difficult to be absorbed by water is used.

ワークテーブル16は、ワークW(被加工物)を吸着して保持する保持面16aを有する。この保持面16aには、ワークWを吸着保持するための吸着穴が複数設けられ、吸着穴は不図示の真空吸着源に接続されている。 The work table 16 has a holding surface 16a that attracts and holds the work W (workpiece). A plurality of suction holes for sucking and holding the work W are provided on the holding surface 16a, and the suction holes are connected to a vacuum suction source (not shown).

ワークテーブル移動部18は、Xテーブル32と、θ回転テーブル34とを備えている。Xテーブル32は、水平に設置されており、図示しないX駆動機構によってX方向に移動可能に構成される。θ回転テーブル34は、Xテーブル32上に配設され、図示しないθ駆動機構によってθ方向(Z方向の軸を中心とした回転方向)に移動可能に構成される。そして、θ回転テーブル34上にはワークテーブル16が載置固定される。したがって、ワークテーブル16は、X方向及びθ方向にそれぞれ移動可能に構成される。 The work table moving unit 18 includes an X table 32 and a θ rotation table 34. The X table 32 is installed horizontally and is configured to be movable in the X direction by an X drive mechanism (not shown). The θ rotary table 34 is arranged on the X table 32 and is configured to be movable in the θ direction (rotation direction centered on the axis in the Z direction) by a θ drive mechanism (not shown). Then, the work table 16 is placed and fixed on the θ rotation table 34. Therefore, the work table 16 is configured to be movable in the X direction and the θ direction, respectively.

液体供給手段20は、液体供給路を介してヘッドユニット22の加工ヘッド40に接続され、加工ヘッド40に加圧液体(例えば、加圧水)を供給する。 The liquid supply means 20 is connected to the processing head 40 of the head unit 22 via a liquid supply path, and supplies a pressurized liquid (for example, pressurized water) to the processing head 40.

ヘッドユニット22は、偏向部36と、ビーム形状整形手段38と、加工ヘッド40とを備えている。このヘッドユニット22は、図示しないZ駆動機構によってZ方向に移動可能に構成されるZテーブルに配設される。Zテーブルは、図示しないY駆動機構によってY方向に移動可能に構成されるYテーブルに配設される。したがって、ヘッドユニット22は、Y方向及びZ方向に移動可能に構成される。 The head unit 22 includes a deflection portion 36, a beam shape shaping means 38, and a processing head 40. The head unit 22 is arranged on a Z table configured to be movable in the Z direction by a Z drive mechanism (not shown). The Z table is arranged in a Y table configured to be movable in the Y direction by a Y drive mechanism (not shown). Therefore, the head unit 22 is configured to be movable in the Y direction and the Z direction.

偏向部36は、レーザ光Lの光路上に設けられており、レーザ発振器14から出力されたレーザ光Lを加工ヘッド40に向けて反射する。この偏向部36は、相互に直交する軸線回りに揺動可能な2つのガルバノミラー(不図示)を対向させて構成されており、2つのガルバノミラーを揺動させてレーザ光Lを偏向することで、加工ヘッド40(液体ジェット噴射ノズル48)から噴射される液体ジェットJに対する入射角度及び入射位置を変化させることができるようになっている。偏向部36は、レーザ光偏向手段の一例である。 The deflection unit 36 is provided on the optical path of the laser beam L, and reflects the laser beam L output from the laser oscillator 14 toward the processing head 40. The deflection unit 36 is configured by facing two galvano mirrors (not shown) that can swing around axes orthogonal to each other, and swings the two galvano mirrors to deflect the laser beam L. Therefore, the incident angle and the incident position with respect to the liquid jet J ejected from the processing head 40 (liquid jet injection nozzle 48) can be changed. The deflection unit 36 is an example of the laser beam deflection means.

ビーム形状整形手段38は、偏向部36と加工ヘッド40との間に配置され、レーザ発振器14から偏向部36を介して入力されたレーザ光Lを整形する。このビーム形状整形手段38は、例えば、可変アパーチャー(矩形、円形)やアキシコンレンズ、ビームホモジナイザ、及びこれらをレーザ光Lと直交する方向へ微小移動する機構などで構成されており、加工ヘッド40に入射する前のレーザ光Lを所定の形状、サイズ、強度分布に整形する。また、AOD(音響光学素子)、SLM(空間変調素子)、DMD(Digital Mirror Device)、回折素子ならびに方解石などを用いて、レーザ光Lの分岐を含め、静的もしくは動的にレーザ光Lを整形することも可能である。 The beam shape shaping means 38 is arranged between the deflection unit 36 and the processing head 40, and shapes the laser beam L input from the laser oscillator 14 via the deflection unit 36. The beam shape shaping means 38 is composed of, for example, a variable aperture (rectangular or circular), an axicon lens, a beam homogenizer, and a mechanism for minutely moving these in a direction orthogonal to the laser beam L. The laser beam L before being incident on the lens is shaped into a predetermined shape, size, and intensity distribution. In addition, AOD (acoustic optical element), SLM (spatial modulation element), DMD (Digital Mirror Device), diffraction element, calcite, etc. are used to statically or dynamically generate the laser light L, including the branching of the laser light L. It is also possible to shape it.

加工ヘッド40は、液体供給手段20から供給された加圧液体を液体ジェットJにてワークWに向けて噴射するとともに、液体ジェットJの中にレーザ光Lを導光することにより、液体ジェットJにより誘導されたレーザ光LをワークWに照射する。加工ヘッド40の具体的な構成は、以下のとおりである。 The processing head 40 injects the pressurized liquid supplied from the liquid supply means 20 toward the work W by the liquid jet J, and guides the laser beam L into the liquid jet J to guide the liquid jet J. The work W is irradiated with the laser beam L guided by the above. The specific configuration of the processing head 40 is as follows.

加工ヘッド40は、集光レンズ42と、ヘッド本体44とを備えている。 The processing head 40 includes a condensing lens 42 and a head body 44.

集光レンズ42は、ヘッド本体44の前段(上方)に配置され、レーザ発振器14から偏向部36及びビーム形状整形手段38を介して入射したレーザ光Lをヘッド本体44の内部に向けて集光する。 The condensing lens 42 is arranged in the front stage (upper side) of the head body 44, and condenses the laser beam L incident from the laser oscillator 14 via the deflection portion 36 and the beam shape shaping means 38 toward the inside of the head body 44. To do.

ヘッド本体44の内部には、液体チャンバ46が区画形成されている。液体チャンバ46は、液体供給手段20から供給された高圧液体を収容する。また、ヘッド本体44の下部には、液体ジェット噴射ノズル48が設けられており、液体ジェット噴射ノズル48は液体チャンバ46に連通している。したがって、液体供給手段20から加工ヘッド40に対して高圧液体が供給されると、その加圧液体は液体チャンバ46に収容され、さらに液体ジェット噴射ノズル48からワークW(又は後述するレーザ光分布観察装置26の遮蔽板52)に向けて液体ジェットJが噴射される。 A liquid chamber 46 is partitioned inside the head body 44. The liquid chamber 46 accommodates the high pressure liquid supplied from the liquid supply means 20. A liquid jet injection nozzle 48 is provided in the lower part of the head body 44, and the liquid jet injection nozzle 48 communicates with the liquid chamber 46. Therefore, when the high-pressure liquid is supplied from the liquid supply means 20 to the processing head 40, the pressurized liquid is housed in the liquid chamber 46, and the work W (or laser beam distribution observation described later) is further observed from the liquid jet injection nozzle 48. The liquid jet J is injected toward the shielding plate 52) of the device 26.

ヘッド本体44の上部には、窓部50が設けられている。窓部50は、レーザ光Lに対
して光学的に透明な光透過性部材(例えば、石英ガラス)により構成されており、液体チャンバ46を密閉しかつレーザ光Lを透過する。したがって、集光レンズ42から出射したレーザ光Lは、窓部50を透過してヘッド本体44の内部(液体チャンバ46)に入射し、液体ジェット噴射ノズル48へ集光する。
A window portion 50 is provided on the upper portion of the head main body 44. The window portion 50 is composed of a light transmitting member (for example, quartz glass) that is optically transparent to the laser light L, seals the liquid chamber 46, and transmits the laser light L. Therefore, the laser beam L emitted from the condensing lens 42 passes through the window portion 50, enters the inside of the head body 44 (liquid chamber 46), and condenses on the liquid jet injection nozzle 48.

なお、本実施の形態では、一例として、ワークテーブル16がX方向及びθ方向に移動可能に構成され、ヘッドユニット22がY方向及びZ方向に移動可能に構成される態様を示したが、ワークテーブル16とヘッドユニット22とがX方向、Y方向、Z方向、及びθ方向に相対的に移動可能に構成されていればよく、本実施の形態とは異なる他の態様を適宜採用することができる。 In the present embodiment, as an example, the work table 16 is configured to be movable in the X direction and the θ direction, and the head unit 22 is configured to be movable in the Y direction and the Z direction. The table 16 and the head unit 22 need only be configured to be relatively movable in the X direction, the Y direction, the Z direction, and the θ direction, and another embodiment different from the present embodiment may be appropriately adopted. it can.

レーザ光分布観察装置26は、液体ジェットJにより誘導されるレーザ光Lの分布を観察する際に、ワークテーブル16に代えて、加工ヘッド40に対向する位置に配置される。 The laser beam distribution observing device 26 is arranged at a position facing the processing head 40 instead of the work table 16 when observing the distribution of the laser beam L guided by the liquid jet J.

レーザ光分布観察装置26は、図示しない観察装置駆動機構を備えており、X方向、Y方向、及びZ方向に移動可能に構成される。これにより、レーザ光分布観察装置26は、加工ヘッド40に対向する観察位置と、その観察位置から離間した退避位置との間で移動することができる。 The laser beam distribution observation device 26 includes an observation device drive mechanism (not shown), and is configured to be movable in the X direction, the Y direction, and the Z direction. As a result, the laser beam distribution observation device 26 can move between the observation position facing the processing head 40 and the retracted position separated from the observation position.

レーザ光分布観察装置26は、遮蔽板52と、液体除去手段54と、結像レンズ56と、光検出器58と、信号処理部62と、モニタ64とを備えている。 The laser beam distribution observation device 26 includes a shielding plate 52, a liquid removing means 54, an imaging lens 56, a photodetector 58, a signal processing unit 62, and a monitor 64.

遮蔽板52は、レーザ光分布観察装置26の上面(加工ヘッド40に対向する面)に設けられる。遮蔽板52は、レーザ光Lに対して光学的に透明な光透過部材(例えば、石英ガラス)により構成されており、液体ジェットJを遮蔽しかつレーザ光Lを透過する。したがって、加工ヘッド40の液体ジェット噴射ノズル48から噴射された液体ジェットJの液体は遮蔽板52により遮蔽される一方で、液体ジェットJに誘導されるレーザ光Lは遮蔽板52を透過し、レーザ光分布観察装置26を構成する本体部60の内部に入射する。 The shielding plate 52 is provided on the upper surface (the surface facing the processing head 40) of the laser beam distribution observation device 26. The shielding plate 52 is composed of a light transmitting member (for example, quartz glass) that is optically transparent to the laser light L, shields the liquid jet J, and transmits the laser light L. Therefore, the liquid of the liquid jet J ejected from the liquid jet injection nozzle 48 of the processing head 40 is shielded by the shielding plate 52, while the laser beam L guided by the liquid jet J passes through the shielding plate 52 and the laser. It is incident inside the main body 60 that constitutes the light distribution observation device 26.

遮蔽板52は、加工ヘッド40に対してワークテーブル16に保持されるワークWと相対的に同一の高さに配置される。なお、本実施の形態では、加工ヘッド40と遮蔽板52との間の距離が加工ヘッド40とワークWとの間の距離と等しければよい。すなわち、加工ヘッド40からワークWに液体ジェットJが噴射されるときの液体ジェットJの長さと、加工ヘッド40から遮蔽板52に液体ジェットJが噴射されるときの液体ジェットJの長さとが互いに等しければよく、ワークWと遮蔽板52とが絶対座標的に同一高さであることは必ずしも必要ではない。例えば、ワークWと遮蔽板52とが絶対座標的に異なる高さである場合でも、加工ヘッド40に対する相対的な高さが互いに同一であればよい。加工ヘッド40と遮蔽板52との間の距離は、ヘッドユニット22(加工ヘッド40)又はレーザ光分布観察装置26のZ方向の移動により、加工ヘッド40とワークWとの間の距離と等しくなるように調整される。 The shielding plate 52 is arranged at the same height as the work W held on the work table 16 with respect to the processing head 40. In the present embodiment, the distance between the processing head 40 and the shielding plate 52 may be equal to the distance between the processing head 40 and the work W. That is, the length of the liquid jet J when the liquid jet J is ejected from the machining head 40 to the work W and the length of the liquid jet J when the liquid jet J is jetted from the machining head 40 to the shielding plate 52 are mutually exclusive. It suffices if they are equal, and it is not always necessary that the work W and the shielding plate 52 have the same height in absolute coordinates. For example, even when the work W and the shielding plate 52 have different heights in absolute coordinates, the heights relative to the processing head 40 may be the same. The distance between the processing head 40 and the shielding plate 52 becomes equal to the distance between the processing head 40 and the work W due to the movement of the head unit 22 (processing head 40) or the laser beam distribution observation device 26 in the Z direction. Is adjusted so that.

液体除去手段54は、遮蔽板52により遮蔽された液体ジェットJの液体(残留液体)を除去する。液体除去手段54としては、例えば、残留液体を吸収により除去する液体吸収手段、残留液体を吸引により除去する液体吸引手段、残留液体を送風により除去する液体送風手段、あるいはこれらを組み合わせたものを適宜採用することができる。なお、液体吸収手段としては、布などの繊維質の帯状部材を遮蔽板52の表面に当接させることにより、毛細管現象を利用して残留液体を帯状部材に吸収させる構成を好ましく採用することができる。 The liquid removing means 54 removes the liquid (residual liquid) of the liquid jet J shielded by the shielding plate 52. As the liquid removing means 54, for example, a liquid absorbing means for removing residual liquid by absorption, a liquid suction means for removing residual liquid by suction, a liquid blowing means for removing residual liquid by blowing air, or a combination thereof is appropriately used. Can be adopted. As the liquid absorbing means, it is preferable to adopt a configuration in which a fibrous strip-shaped member such as a cloth is brought into contact with the surface of the shielding plate 52 to absorb the residual liquid into the strip-shaped member by utilizing the capillary phenomenon. it can.

結像レンズ56は、本体部60の内部において遮蔽板52と光検出器58との間に配置される。結像レンズ56は、複数枚のレンズから構成されており、液体ジェットJにより誘導されるレーザ光Lの分布を光検出器58の受光面に投影する。すなわち、遮蔽板52と光検出器58とは結像レンズ56に対して互いに共役な位置関係に配置されており、液体ジェットJと遮蔽板52との接面におけるレーザ光Lの分布が結像レンズ56により光検出器58の受光面に忠実に再現される。 The imaging lens 56 is arranged between the shielding plate 52 and the photodetector 58 inside the main body 60. The imaging lens 56 is composed of a plurality of lenses, and projects the distribution of the laser beam L guided by the liquid jet J onto the light receiving surface of the photodetector 58. That is, the shielding plate 52 and the photodetector 58 are arranged in a positional relationship conjugate with each other with respect to the imaging lens 56, and the distribution of the laser beam L on the contact surface between the liquid jet J and the shielding plate 52 is imaged. The lens 56 faithfully reproduces the light receiving surface of the photodetector 58.

光検出器58は、結像レンズ56により結像されたレーザ光Lの分布を示す投影像を受光する。光検出器58は、2次元的に配置された複数の受光素子を有し、各受光素子は受光した光量に応じた出力信号(電気信号)を出力する。光検出器58としては、例えば、CCDイメージセンサ(Charge Coupled Device Image Sensor)やCMOSイメージセンサ(Complementary Metal Oxide Semiconductor Image Sensor)などの固体撮像素子が好適に用いられる。光検出器58の各受光素子から出力される出力信号は信号処理部62に入力される。 The photodetector 58 receives a projected image showing the distribution of the laser beam L imaged by the imaging lens 56. The photodetector 58 has a plurality of light receiving elements arranged two-dimensionally, and each light receiving element outputs an output signal (electric signal) according to the amount of received light. As the photodetector 58, for example, a solid-state image sensor such as a CCD image sensor (Charge Coupled Device Image Sensor) or a CMOS image sensor (Complementary Metal Oxide Semiconductor Image Sensor) is preferably used. The output signal output from each light receiving element of the photodetector 58 is input to the signal processing unit 62.

信号処理部62は、光検出器58に接続されており、光検出器58から出力された出力信号に基づいてレーザ光Lの分布を示す画像データ(レーザ光分布画像データ)を取得し、取得したレーザ光分布画像データをモニタ64に表示する。なお、信号処理部62は、画像データ取得手段の一例である。また、モニタ64は、表示手段の一例である。 The signal processing unit 62 is connected to the photodetector 58, and acquires and acquires image data (laser beam distribution image data) indicating the distribution of the laser beam L based on the output signal output from the photodetector 58. The laser beam distribution image data is displayed on the monitor 64. The signal processing unit 62 is an example of the image data acquisition means. The monitor 64 is an example of display means.

信号処理部62は、判定部66を備えている。判定部66は、レーザ光分布画像データが適正なレーザ光分布を示すものであるか否かを判定し、その判定結果をモニタ64に表示する。 The signal processing unit 62 includes a determination unit 66. The determination unit 66 determines whether or not the laser beam distribution image data shows an appropriate laser beam distribution, and displays the determination result on the monitor 64.

本実施の形態では、一例として、レーザ光分布観察装置26は、適正なレーザ光分布を示す1又は複数の基準画像データを記憶するメモリ部(不図示)を備えている。判定部66は、パターンマッチング等の公知の画像比較方法を用いて、レーザ光分布画像データとメモリ部に記憶される基準画像データとが一致しているか否かを判定する。 In the present embodiment, as an example, the laser beam distribution observation device 26 includes a memory unit (not shown) that stores one or a plurality of reference image data showing an appropriate laser beam distribution. The determination unit 66 determines whether or not the laser beam distribution image data and the reference image data stored in the memory unit match by using a known image comparison method such as pattern matching.

制御部30は、CPU、メモリ、入出力回路部、及び各種制御回路部等からなり、レーザ加工装置10の各部の動作を制御する。 The control unit 30 includes a CPU, a memory, an input / output circuit unit, various control circuit units, and the like, and controls the operation of each unit of the laser processing apparatus 10.

図2は、液体ジェットJの中心軸と同軸にレーザ光Lが入射する場合の液体ジェットJ内のレーザ光経路を示した簡略図である。なお、液体ジェットJは、いわばSI型マルチモード光ファイバと同様の機能を有するため、実際には液体ジェットJへの進入角度ごとに液体ジェットJの中心軸方向(長手方向)の移動速度が変わり、それらが干渉し、さらに液体ジェットJの円柱状の外周面(円柱表面)の微小凹凸により発生するスペックルノイズにより複雑化していると考えられるが、ここでは説明を簡単にするために簡略図を用いて説明する。 FIG. 2 is a simplified diagram showing a laser beam path in the liquid jet J when the laser beam L is incident coaxially with the central axis of the liquid jet J. Since the liquid jet J has the same function as the SI type multimode optical fiber, the moving speed of the liquid jet J in the central axis direction (longitudinal direction) actually changes depending on the approach angle to the liquid jet J. , They interfere with each other, and it is considered that the liquid jet J is complicated by speckle noise generated by the minute unevenness of the cylindrical outer peripheral surface (cylindrical surface) of the liquid jet J, but here is a simplified diagram for the sake of simplicity. Will be described using.

図2に示すように、集光レンズ42により集光されたレーザ光Lが液体ジェットJの中心軸と同軸に入射する場合、レーザ光Lは液体ジェットJの中で全反射により拡縮を繰り返しながら中心軸方向に沿って誘導される。例えば、図2のaで示した位置ではレーザ光経路の腹部分(レーザ光Lが拡大した部分)にあたるため、その位置におけるレーザ光Lの断面形状(液体ジェットJの中心軸に垂直な断面形状)は液体ジェット径全体に一様に広がっている。一方、図2のbで示した位置ではレーザ光経路の節部分(レーザ光Lが縮小した部分)にあたるため、液体ジェットJの中心の狭い範囲のみにレーザ光Lが集まった状態となる。 As shown in FIG. 2, when the laser beam L condensed by the condensing lens 42 is incident on the central axis of the liquid jet J, the laser beam L repeats expansion and contraction by total reflection in the liquid jet J. It is guided along the central axis direction. For example, since the position shown by a in FIG. 2 corresponds to the antinode portion of the laser beam path (the portion where the laser beam L is enlarged), the cross-sectional shape of the laser beam L at that position (the cross-sectional shape perpendicular to the central axis of the liquid jet J). ) Spreads uniformly over the entire liquid jet diameter. On the other hand, since the position shown by b in FIG. 2 corresponds to the node portion of the laser beam path (the portion where the laser beam L is reduced), the laser beam L is gathered only in a narrow range at the center of the liquid jet J.

図3は図2のaに示した位置、図4は図2のbに示した位置にそれぞれ相当する位置でレーザ光Lの分布を実際に観察した結果を示した図である。また、図5は図3と同じ条件で、図6は図4と同じ条件でそれぞれワークWに直線状の加工溝を形成したときの加工溝の深さプロファイルを示した図である。 FIG. 3 is a diagram showing the results of actually observing the distribution of the laser beam L at the positions shown in a of FIG. 2 and FIG. 4 at the positions corresponding to the positions shown in b of FIG. Further, FIG. 5 is a diagram showing the depth profile of the machined groove when a linear machined groove is formed on the work W under the same conditions as in FIG. 4, respectively.

これらの図から分かるように、液体ジェットJによって誘導されるレーザ光Lの分布は、液体ジェットJの中心軸方向の位置、すなわち、液体ジェットJの長さによって変化し、さらにレーザ光Lの分布の変化に応じて加工痕の形状も変化する。 As can be seen from these figures, the distribution of the laser beam L guided by the liquid jet J changes depending on the position in the central axis direction of the liquid jet J, that is, the length of the liquid jet J, and further, the distribution of the laser beam L. The shape of the machined mark also changes according to the change in.

したがって、レーザ光Lの分布を変化させる制御を行うことによって、複数のレーザ光Lの分布の中から任意のレーザ光Lの分布を選択することにより加工痕形状を所望なものに制御することができる。 Therefore, by controlling to change the distribution of the laser beam L, it is possible to control the shape of the processing mark to a desired shape by selecting an arbitrary distribution of the laser beam L from the distribution of the plurality of laser beams L. it can.

次に、本実施の形態に係るレーザ加工装置10を用いたレーザ加工方法について図7を参照して説明する。図7は、本実施の形態に係るレーザ加工装置10を用いたレーザ加工方法の一例を示すフローチャートである。なお、特に断らない限り、各処理は制御部30の制御により実行される。 Next, a laser processing method using the laser processing apparatus 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a flowchart showing an example of a laser processing method using the laser processing apparatus 10 according to the present embodiment. Unless otherwise specified, each process is executed under the control of the control unit 30.

(ステップS10:レーザ光分布取得工程)
レーザ光分布取得工程は、ワークWのレーザ加工に先立って行われる。
(Step S10: Laser beam distribution acquisition step)
The laser beam distribution acquisition step is performed prior to the laser processing of the work W.

まず始めに、レーザ光分布観察装置26は、図示しない観察装置駆動機構により観察位置(加工ヘッド40に対向する位置)に移動する。なお、遮蔽板52は、加工ヘッド40に対してワークテーブル16に保持されるワークWと相対的に同一の高さに配置される。 First, the laser beam distribution observation device 26 moves to an observation position (a position facing the processing head 40) by an observation device drive mechanism (not shown). The shielding plate 52 is arranged at the same height as the work W held on the work table 16 with respect to the processing head 40.

次に、液体供給手段20から加工ヘッド40に加圧液体を供給する。加工ヘッド40に供給された加圧液体は液体チャンバ46に収容され、さらに液体ジェット噴射ノズル48から遮蔽板52に向けて液体ジェットJが噴射される。 Next, the pressurized liquid is supplied from the liquid supply means 20 to the processing head 40. The pressurized liquid supplied to the processing head 40 is housed in the liquid chamber 46, and the liquid jet J is further injected from the liquid jet injection nozzle 48 toward the shielding plate 52.

また、レーザ発振器14から出力されたレーザ光Lは、偏向部36により加工ヘッド40に向けて偏向され、ビーム形状整形手段38により所定の形状、サイズ、強度分布に整形され、集光レンズ42に入射する。さらに、レーザ光Lは、集光レンズ42により窓部50を介して液体ジェット噴射ノズル48へ集光される。これにより、レーザ光Lは、液体ジェットJに導光され、液体ジェットJにより誘導されて遮蔽板52に向けて照射される。 Further, the laser beam L output from the laser oscillator 14 is deflected toward the processing head 40 by the deflection unit 36, shaped into a predetermined shape, size, and intensity distribution by the beam shape shaping means 38, and becomes the condensing lens 42. Incident. Further, the laser beam L is condensed by the condenser lens 42 to the liquid jet injection nozzle 48 through the window portion 50. As a result, the laser beam L is guided by the liquid jet J, guided by the liquid jet J, and irradiated toward the shielding plate 52.

一方、液体ジェット噴射ノズル48から噴射された液体ジェットJは遮蔽板52で遮蔽されるとともに、液体ジェットJにより誘導されたレーザ光Lは、遮蔽板52を透過して、結像レンズ56により光検出器58の受光面に結像される。その際、遮蔽板52と光検出器58とは結像レンズ56に対して互いに光学的に共役な位置関係に配置されるので、液体ジェットJと遮蔽板52との接面におけるレーザ光Lの分布が結像レンズ56により光検出器58の受光面に忠実に再現される。 On the other hand, the liquid jet J ejected from the liquid jet injection nozzle 48 is shielded by the shielding plate 52, and the laser beam L guided by the liquid jet J passes through the shielding plate 52 and is emitted by the imaging lens 56. An image is formed on the light receiving surface of the detector 58. At that time, since the shielding plate 52 and the photodetector 58 are arranged in a positional relationship optically conjugate with each other with respect to the imaging lens 56, the laser beam L at the contact surface between the liquid jet J and the shielding plate 52 The distribution is faithfully reproduced on the light receiving surface of the photodetector 58 by the imaging lens 56.

このようにして光検出器58の受光面にレーザ光Lの分布を示す投影像が結像されると、光検出器58の各受光素子はそれぞれ受光量に応じた出力信号を信号処理部62に対して出力する。 When a projected image showing the distribution of the laser beam L is formed on the light receiving surface of the photodetector 58 in this way, each light receiving element of the photodetector 58 outputs an output signal according to the amount of light received to the signal processing unit 62. Output to.

信号処理部62は、光検出器58の各受光素子から出力される出力信号に基づきレーザ光Lの分布を示す画像データ(レーザ光分布画像データ)を取得し、取得したレーザ光分布画像データをモニタ64に表示する。 The signal processing unit 62 acquires image data (laser light distribution image data) showing the distribution of the laser light L based on the output signals output from each light receiving element of the photodetector 58, and obtains the acquired laser light distribution image data. Displayed on the monitor 64.

したがって、ユーザは、液体ジェットJと遮蔽板52との接面におけるレーザ光Lの分布(液体ジェットJとワークWとの接面におけるレーザ光Lの分布に相当)を観察することが可能となる。これにより、予備的な加工を行うことなく、加工ヘッド40によりワークWを加工するときの加工痕形状を容易に予測することが可能となる。 Therefore, the user can observe the distribution of the laser beam L on the contact surface between the liquid jet J and the shielding plate 52 (corresponding to the distribution of the laser beam L on the contact surface between the liquid jet J and the work W). .. As a result, it is possible to easily predict the shape of the machining mark when the work W is machined by the machining head 40 without performing preliminary machining.

また、遮蔽板52により遮蔽された液体ジェットJの液体(残留液体)は液体除去手段54により除去される。そのため、遮蔽板52上の残留液体によるレーザ光Lの散乱の影響を受けることなく、レーザ光Lの分布を安定して精度よく観察することが可能となる。 Further, the liquid (residual liquid) of the liquid jet J shielded by the shielding plate 52 is removed by the liquid removing means 54. Therefore, the distribution of the laser beam L can be observed stably and accurately without being affected by the scattering of the laser beam L by the residual liquid on the shielding plate 52.

(ステップS12:レーザ光分布判定工程)
次に、信号処理部62における判定部66は、レーザ光分布観察工程(ステップS10)で取得したレーザ光分布画像データが適正なレーザ光分布を示すものであるか否かを判定する。本実施の形態では、一例として、判定部66は、パターンマッチング等の公知の画像比較方法を用いて、レーザ光分布画像データとメモリ部(不図示)に記憶されている基準画像データとが一致しているか否かを判定する。レーザ光分布画像データが適正でない場合(Noの場合)にはステップS14に進み、レーザ光分布画像データが適正である場合(Yesの場合)にはステップS16に進む。
(Step S12: Laser beam distribution determination step)
Next, the determination unit 66 in the signal processing unit 62 determines whether or not the laser light distribution image data acquired in the laser light distribution observation step (step S10) shows an appropriate laser light distribution. In the present embodiment, as an example, the determination unit 66 uses a known image comparison method such as pattern matching to combine the laser beam distribution image data and the reference image data stored in the memory unit (not shown). Determine if you are doing it. If the laser beam distribution image data is not appropriate (No), the process proceeds to step S14, and if the laser beam distribution image data is appropriate (Yes), the process proceeds to step S16.

(ステップS14:レーザ光分布変更工程)
レーザ光分布判定工程(ステップS12)においてレーザ光分布画像データが適正でないと判定された場合、制御部30は、レーザ光Lの分布を変更する制御を行う。制御部30がレーザ光Lの分布を変更する態様としてはいくつかの態様が考えられる。なお、制御部30は、レーザ光分布制御手段の一例である。
(Step S14: Laser beam distribution changing step)
When it is determined in the laser beam distribution determination step (step S12) that the laser beam distribution image data is not appropriate, the control unit 30 controls to change the distribution of the laser beam L. There are several possible modes in which the control unit 30 changes the distribution of the laser beam L. The control unit 30 is an example of the laser beam distribution control means.

<第1の態様>
第1の態様として、制御部30は、ヘッドユニット22をZ方向に予め設定された移動量だけ移動させることにより、ヘッドユニット22の加工ヘッド40と遮蔽板52(ワークW)との間の距離、すなわち、液体ジェットJの長さを変化させる制御を行う。これにより、図3や図4に示したように、液体ジェットJと遮蔽板52(ワークW)との接面におけるレーザ光Lの分布を、液体ジェット径全体に一様に広がった状態(図3、図5参照)や、液体ジェットJの中心の狭い範囲のみに集まった状態(図4、図6参照)とすることができる。例えば、液体ジェット幅でU字状の加工痕形状を得たい場合には図3に示したようなレーザ光分布を選択し、液体ジェット幅よりも細い加工痕形状を得たい場合には図4に示したようなレーザ光分布を選択すればよい。これにより、所望の加工痕形状を得ることが可能となる。
<First aspect>
In the first aspect, the control unit 30 moves the head unit 22 in the Z direction by a preset amount of movement, whereby the distance between the processing head 40 of the head unit 22 and the shielding plate 52 (work W). That is, control is performed to change the length of the liquid jet J. As a result, as shown in FIGS. 3 and 4, the distribution of the laser beam L on the contact surface between the liquid jet J and the shielding plate 52 (work W) is uniformly spread over the entire liquid jet diameter (FIG. 3). (3, see FIG. 5) or a state in which the liquid jet J is gathered only in a narrow range at the center (see FIGS. 4 and 6). For example, when it is desired to obtain a U-shaped machining mark shape with the liquid jet width, the laser beam distribution as shown in FIG. 3 is selected, and when it is desired to obtain a machining mark shape thinner than the liquid jet width, FIG. The laser beam distribution as shown in the above may be selected. This makes it possible to obtain a desired processing mark shape.

<第2の態様>
第2の態様として、制御部30は、偏向部36に配置される2つのガルバノミラーの向きを制御することにより、液体ジェットJに対するレーザ光Lの入射角度及び入射位置を変化させる制御を行う。これにより、レーザ光Lをドーナツ状の分布に設定することができる。
<Second aspect>
As a second aspect, the control unit 30 controls the incident angle and the incident position of the laser beam L with respect to the liquid jet J by controlling the directions of the two galvanometer mirrors arranged in the deflection unit 36. As a result, the laser beam L can be set to a donut-shaped distribution.

図8は、液体ジェットJの中心軸と同軸ではなく斜めに傾けた状態で周辺部にレーザ光Lを入射した場合のレーザ光経路を示した簡略図であり、液体ジェットJを上流側(液体ジェット噴射ノズル48側)から下流側(ワークW側)に観察しているときに相当する図である。この場合、レーザ光経路が液体ジェットJの円柱状の外周面(円柱表面)に沿って液体ジェットJの中を螺旋状に回転しながら中心軸方向に進行していくため、レーザ光経路には、図2のa、bの位置にそれぞれ形成される腹部分や節部分は形成されず、液体ジェットJの長さが変化してもレーザ光Lの分布及び加工痕形状は大きく変化しない。 FIG. 8 is a simplified diagram showing a laser beam path when the laser beam L is incident on the peripheral portion in a state of being tilted diagonally rather than coaxially with the central axis of the liquid jet J, and the liquid jet J is on the upstream side (liquid). It is a figure corresponding to the case of observing from the jet injection nozzle 48 side) to the downstream side (work W side). In this case, the laser beam path travels in the central axis direction while spirally rotating in the liquid jet J along the cylindrical outer peripheral surface (cylindrical surface) of the liquid jet J. , The abdominal portion and the node portion formed at the positions a and b in FIG. 2 are not formed, and the distribution of the laser beam L and the shape of the processing mark do not change significantly even if the length of the liquid jet J changes.

図9は、図8に示すようにレーザ光Lを液体ジェットJに入射した場合にレーザ光Lの分布を実際に観察した結果を示した図である。また、図10は、図9と同じ条件でワークWに直線状の加工溝を形成したときの加工溝の深さプロファイルを示した図である。図9及び図10から分かるように、液体ジェットJの中心軸と同軸ではなく斜めに傾けた状態で周辺部にレーザ光Lを入射した場合には、レーザ光Lはドーナツ状の分布となり(図9参照)、このときに形成される加工痕形状は、図5や図6に示した場合に比べて加工溝の底面が平坦化されたものとなる。 FIG. 9 is a diagram showing the results of actually observing the distribution of the laser beam L when the laser beam L is incident on the liquid jet J as shown in FIG. Further, FIG. 10 is a diagram showing a depth profile of the machined groove when a linear machined groove is formed in the work W under the same conditions as in FIG. As can be seen from FIGS. 9 and 10, when the laser beam L is incident on the peripheral portion in a state of being tilted diagonally rather than coaxially with the central axis of the liquid jet J, the laser beam L has a donut-shaped distribution (FIG. 9). 9), the shape of the machined mark formed at this time is a flattened bottom surface of the machined groove as compared with the case shown in FIGS. 5 and 6.

このように第2の態様は、加工溝の底面を平坦にしたい場合に好適な態様である。また、液体ジェットJの長さが変化してもレーザ光Lの分布及び加工痕形状が大きく変化しないので、液体ジェットJの微小長さの変化に対する加工安定性を向上させることができる。 As described above, the second aspect is a suitable aspect when it is desired to flatten the bottom surface of the machined groove. Further, since the distribution of the laser beam L and the shape of the processing mark do not change significantly even if the length of the liquid jet J changes, the processing stability against a change in the minute length of the liquid jet J can be improved.

<第3の態様>
第3の態様として、制御部30は、ビーム形状整形手段38を制御することにより、集光レンズ42に入射する前のレーザ光Lの形状、サイズ、又は強度分布を変化させる。例えば、ビーム形状整形手段38によりレーザ光Lのビーム径を変化させると、集光レンズ42により集光されるレーザ光Lの開口数が変化する。これにより、液体ジェットJ内のレーザ光経路が変化するので、第1の態様のように加工ヘッド40と遮蔽板52(ワークW)との間の距離(すなわち、液体ジェットJの長さ)を変化させなくても、レーザ光Lの分布及び加工痕形状を変化させることができ、液体ジェット幅でU字状の加工痕形状や液体ジェット幅よりも細い加工痕形状を得ることが可能となる。
<Third aspect>
As a third aspect, the control unit 30 changes the shape, size, or intensity distribution of the laser beam L before it is incident on the condensing lens 42 by controlling the beam shape shaping means 38. For example, when the beam diameter of the laser beam L is changed by the beam shape shaping means 38, the numerical aperture of the laser beam L condensed by the condensing lens 42 changes. As a result, the laser beam path in the liquid jet J changes, so that the distance between the processing head 40 and the shielding plate 52 (work W) (that is, the length of the liquid jet J) is set as in the first aspect. The distribution of the laser beam L and the shape of the processing mark can be changed without changing the laser beam L, and it is possible to obtain a U-shaped processing mark shape with a liquid jet width or a processing mark shape thinner than the liquid jet width. ..

また、液体ジェット幅よりも細い加工痕形状を得たい場合には、ビーム形状整形手段38によりレーザ光Lをスリット状に整形すればよい。この場合、回折効果によりスリットで遮られた方向にレーザ光Lの分布が伸びるので、液体ジェット幅よりも細い加工痕形状を得ることができる。 Further, when it is desired to obtain a processing mark shape smaller than the liquid jet width, the laser beam L may be shaped into a slit shape by the beam shape shaping means 38. In this case, since the distribution of the laser beam L extends in the direction blocked by the slit due to the diffraction effect, it is possible to obtain a processing mark shape thinner than the liquid jet width.

なお、ビーム形状整形手段38としては、例えば、可変アパ-チャ(矩形、円形)やアキシコンレンズ、ビームホモジナイザ、及びこれらをレーザ光Lと直交する方向へ微小移動する機構などで構成することが可能である。また、また、AOD(音響光学素子)、SLM(空間変調素子)、DMD(Digital Mirror Device)を用いることでレーザ光Lの分布を静的もしくは動的に制御したり、回折素子や方解石等によりレーザ光Lを分岐することで整形することにより加工痕形状を制御することも可能である。例えば、レーザ光Lの分布をビーム形状整形手段38で偏在させることにより、図11に示す様な溝形状を形成することも可能となる。 The beam shape shaping means 38 may be composed of, for example, a variable aperture (rectangular or circular), an axicon lens, a beam homogenizer, and a mechanism for minutely moving these in a direction orthogonal to the laser beam L. It is possible. In addition, the distribution of the laser beam L can be controlled statically or dynamically by using AOD (acoustic optical element), SLM (spatial modulation element), DMD (Digital Mirror Device), or by using a diffraction element or a grating. It is also possible to control the shape of the machining mark by shaping the laser beam L by branching it. For example, by unevenly distributing the distribution of the laser beam L by the beam shape shaping means 38, it is possible to form a groove shape as shown in FIG.

<第4の態様>
第4の態様として、制御部30は、液体供給手段20の加圧液体の圧力を変化させる制御を行う。例えば、加圧液体の圧力を上げるほど液体ジェットJの外壁がわずかに乱れるため、液体ジェットJの圧力分布がまばらになる。この場合、レーザ光Lの分布は全体に一様な分布となり、液体ジェット幅でU字状の加工痕形状を得ることができる。
<Fourth aspect>
As a fourth aspect, the control unit 30 controls to change the pressure of the pressurized liquid of the liquid supply means 20. For example, as the pressure of the pressurized liquid is increased, the outer wall of the liquid jet J is slightly disturbed, so that the pressure distribution of the liquid jet J becomes sparse. In this case, the distribution of the laser beam L becomes a uniform distribution as a whole, and a U-shaped processing mark shape can be obtained with the liquid jet width.

<第5の態様>
第5の態様として、制御部30は、液体ジェット噴射ノズル48のノズル径(直径)を変化させる制御を行う。この場合、液体ジェット噴射ノズル48のノズル径は、制御部30による制御によって可変できるように構成されている。なお、他の態様として、液体ジェット噴射ノズル48のノズル径が互いに異なる複数の加工ヘッド40の中から、制御部30の制御(あるいはユーザの指示)に従って、任意の加工ヘッド40を選択できるように構成されていてもよい。
<Fifth aspect>
As a fifth aspect, the control unit 30 controls to change the nozzle diameter (diameter) of the liquid jet injection nozzle 48. In this case, the nozzle diameter of the liquid jet injection nozzle 48 is configured to be variable by control by the control unit 30. As another aspect, an arbitrary machining head 40 can be selected from a plurality of machining heads 40 having different nozzle diameters of the liquid jet injection nozzle 48 according to the control of the control unit 30 (or a user's instruction). It may be configured.

第5の態様によれば、液体ジェット噴射ノズル48のノズル径を変化させることにより、液体ジェット径が変化する。これにより、液体ジェットJにより誘導されるレーザ光Lの分布が変化し、その変化に応じて加工痕形状も変化させることができる。 According to the fifth aspect, the liquid jet diameter is changed by changing the nozzle diameter of the liquid jet injection nozzle 48. As a result, the distribution of the laser beam L induced by the liquid jet J changes, and the shape of the processing mark can be changed according to the change.

なお、制御部30は、上述した第1〜第5の態様のうち複数の態様を適宜組み合わせて、レーザ光Lの分布を変更する制御を行ってもよい。 The control unit 30 may perform control to change the distribution of the laser beam L by appropriately combining a plurality of the above-mentioned first to fifth aspects.

以上のようにして、レーザ光分布変更工程が行われた後、ステップS10に戻り、信号処理部62はレーザ光分布画像データを再取得し、判定部66によりレーザ光分布画像データが適正なものと判定されるまで同様の処理が繰り返し行われる。 After the laser beam distribution changing step is performed as described above, the process returns to step S10, the signal processing unit 62 reacquires the laser beam distribution image data, and the determination unit 66 determines that the laser beam distribution image data is appropriate. The same process is repeated until it is determined.

(ステップS16:レーザ加工工程)
レーザ光分布判定工程(ステップS12)においてレーザ光分布画像データが適正なものと判定された場合、レーザ加工工程が行われる。なお、レーザ加工工程が行われる場合には、レーザ光分布観察装置26は退避位置に移動する。
(Step S16: Laser processing step)
When the laser beam distribution image data is determined to be appropriate in the laser beam distribution determination step (step S12), the laser processing step is performed. When the laser processing step is performed, the laser light distribution observation device 26 moves to the retracted position.

まず、ワークテーブル16の保持面16aに吸着保持されたワークWは、図示しないアライメント手段によってθ方向のアライメントとXY方向の位置決めがなされる。なお、ワークWの表面(デバイス層が形成された側の面)を上向きにした状態でワークWはワークテーブル16上に載置される。 First, the work W sucked and held on the holding surface 16a of the work table 16 is aligned in the θ direction and positioned in the XY direction by an alignment means (not shown). The work W is placed on the work table 16 with the surface of the work W (the surface on which the device layer is formed) facing upward.

アライメントが終了すると、Xテーブル32をX方向に移動しながら、加工ヘッド40の液体ジェット噴射ノズル48からワークWに向かって液体ジェットJが噴射されるとともに、液体ジェットJにより誘導されたレーザ光LがワークWに照射される。これにより、膜剥がれやバリ等が発生することなく、ワークWには所定深さの加工溝が分割予定ラインに沿って形成される。 When the alignment is completed, the liquid jet J is ejected from the liquid jet injection nozzle 48 of the processing head 40 toward the work W while moving in the X direction on the X table 32, and the laser beam L guided by the liquid jet J is ejected. Is irradiated to the work W. As a result, a processing groove having a predetermined depth is formed in the work W along the planned division line without causing film peeling or burrs.

1ラインの加工溝の形成が終了すると、ヘッドユニット22が取り付けられたYテーブルがY方向にインデックス送りされ、次のラインも同様に加工溝が形成される。 When the formation of the machined groove of one line is completed, the Y table to which the head unit 22 is attached is indexed in the Y direction, and the machined groove is formed in the same manner on the next line.

全てのX方向と平行な切断予定ラインに沿って加工溝が形成されると、θ回転テーブル34が90°回転され、先程のラインと直交するラインも同様にして全て加工溝が形成される。 When the machined grooves are formed along all the planned cutting lines parallel to the X direction, the θ rotary table 34 is rotated by 90 °, and all the machined grooves are formed in the same manner for the lines orthogonal to the previous line.

以上のとおり、本実施の形態によれば、レーザ光分布観察装置26では、遮蔽板52と光検出器58とが結像レンズ56に対して互いに共役な位置関係に配置されるので、液体ジェットJと遮蔽板52との接面におけるレーザ光Lの分布(液体ジェットJとワークWとの接面におけるレーザ光Lの分布に相当)を光検出器58の受光面に忠実に再現することができる。これにより、液体ジェットJに誘導されるレーザ光Lの分布を観察することが可能となるので、予備的な加工を行うことなく、加工痕形状を容易に予測することが可能となる。その結果、全体のスループットが向上し、コストダウンを図ることができる。 As described above, according to the present embodiment, in the laser beam distribution observation device 26, the shielding plate 52 and the photodetector 58 are arranged in a positional relationship conjugate with each other with respect to the imaging lens 56, so that the liquid jet The distribution of the laser beam L at the contact surface between J and the shielding plate 52 (corresponding to the distribution of the laser beam L at the contact surface between the liquid jet J and the work W) can be faithfully reproduced on the light receiving surface of the photodetector 58. it can. As a result, the distribution of the laser beam L guided by the liquid jet J can be observed, so that the shape of the machining mark can be easily predicted without performing preliminary machining. As a result, the overall throughput is improved and the cost can be reduced.

また、本実施の形態によれば、制御部30によりレーザ光Lの分布を変化させる制御が行われるので、複数のレーザ光Lの分布の中から任意のレーザ光Lの分布を選択することにより加工痕形状を所望なものに制御することができる。 Further, according to the present embodiment, the control unit 30 controls to change the distribution of the laser beam L. Therefore, by selecting an arbitrary distribution of the laser beam L from the distribution of the plurality of laser beams L. The shape of the machined mark can be controlled to a desired one.

なお、本実施の形態では、一例として、信号処理部62に具備される判定部66によってレーザ光分布画像データが適正なレーザ光分布を示すものであるか否かが自動的に判定される態様を示したが、これに限らず、例えば、ユーザが、モニタ64に表示されたレーザ光分布画像データを確認することにより所望のレーザ光Lの分布であるか否かを判定するようにしてもよい。この場合、信号処理部62には判定部66が不要となる。 In the present embodiment, as an example, the determination unit 66 provided in the signal processing unit 62 automatically determines whether or not the laser beam distribution image data shows an appropriate laser beam distribution. However, the present invention is not limited to this, and for example, the user may determine whether or not the laser beam L distribution is desired by checking the laser beam distribution image data displayed on the monitor 64. Good. In this case, the signal processing unit 62 does not need the determination unit 66.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行ってもよいのはもちろんである。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above examples, and it goes without saying that various improvements and modifications may be made without departing from the gist of the present invention. ..

10…レーザ加工装置、12…レーザ電源、14…レーザ発振器、16…ワークテーブル、16a…保持面、18…ワークテーブル移動部、20…液体供給手段、22…ヘッドユニット、26…レーザ光分布観察装置、30…制御部、32…Xテーブル、34…θ回転テーブル、36…偏向部、38…ビーム形状整形手段、40…加工ヘッド、42…集光レンズ、44…ヘッド本体、46…液体チャンバ、48…液体ジェット噴射ノズル、50…窓部、52…遮蔽板、54…液体除去手段、56…結像レンズ、58…光検出器、60…本体部、62…信号処理部、64…モニタ、66…判定部、L…レーザ光、J…液体ジェット 10 ... Laser processing device, 12 ... Laser power supply, 14 ... Laser oscillator, 16 ... Work table, 16a ... Holding surface, 18 ... Work table moving part, 20 ... Liquid supply means, 22 ... Head unit, 26 ... Laser light distribution observation Device, 30 ... Control unit, 32 ... X table, 34 ... θ rotation table, 36 ... Deflection unit, 38 ... Beam shape shaping means, 40 ... Machining head, 42 ... Condensing lens, 44 ... Head body, 46 ... Liquid chamber , 48 ... Liquid jet injection nozzle, 50 ... Window, 52 ... Shielding plate, 54 ... Liquid removing means, 56 ... Imaging lens, 58 ... Optical detector, 60 ... Main body, 62 ... Signal processing unit, 64 ... Monitor , 66 ... Judgment unit, L ... Laser beam, J ... Liquid jet

Claims (5)

液体ジェットにより誘導されるレーザ光を被加工物に照射するレーザ加工装置であって、
前記液体ジェットに対する前記レーザ光の入射位置及び入射角度を変化させることにより、前記液体ジェットにより誘導される前記レーザ光の分布を変化させるレーザ光分布制御手段を備える、
レーザ加工装置。
A laser processing device that irradiates a work piece with a laser beam induced by a liquid jet.
The laser beam distribution control means for changing the distribution of the laser beam guided by the liquid jet by changing the incident position and the incident angle of the laser beam with respect to the liquid jet is provided.
Laser processing equipment.
前記レーザ光分布制御手段は、前記液体ジェットの噴射圧力を変化させることにより、前記液体ジェットにより誘導される前記レーザ光の分布を変化させる、
請求項1に記載のレーザ加工装置。
The laser beam distribution control means changes the distribution of the laser beam guided by the liquid jet by changing the injection pressure of the liquid jet.
The laser processing apparatus according to claim 1.
液体ジェットにより誘導されるレーザ光を被加工物に照射するレーザ加工装置であって、
前記液体ジェットの噴射圧力を変化させることにより、前記液体ジェットにより誘導される前記レーザ光の分布を変化させるレーザ光分布制御手段を備える、
レーザ加工装置。
A laser processing device that irradiates a work piece with a laser beam induced by a liquid jet.
The laser beam distribution control means for changing the distribution of the laser beam guided by the liquid jet by changing the injection pressure of the liquid jet is provided.
Laser processing equipment.
前記レーザ光分布制御手段は、前記液体ジェットの径を変化させることにより、前記液体ジェットにより誘導される前記レーザ光の分布を変化させる、
請求項1から3のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
The laser beam distribution control means changes the distribution of the laser beam guided by the liquid jet by changing the diameter of the liquid jet.
The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 3.
液体ジェットにより誘導されるレーザ光を被加工物に照射するレーザ加工装置であって、
前記液体ジェットの径を変化させることにより、前記液体ジェットにより誘導される前記レーザ光の分布を変化させるレーザ光分布制御手段を備える、
レーザ加工装置。
A laser processing device that irradiates a work piece with a laser beam induced by a liquid jet.
The laser beam distribution control means for changing the distribution of the laser beam guided by the liquid jet by changing the diameter of the liquid jet is provided.
Laser processing equipment.
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