JP2020143936A - Infrared sensor device, signal processor, and signal processing method - Google Patents

Infrared sensor device, signal processor, and signal processing method Download PDF

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Abstract

To provide an infrared sensor device, a signal processor and a signal processing method capable of increasing the speed of the frame rate.SOLUTION: An infrared sensor device 300 includes an infrared sensor 100, a signal processing unit 201, and a selection part 202. The infrared sensor 100 has multiple detection units 2 which are arranged in a two-dimensional array. The signal processing unit 201 performs a signal processing of output signals of infrared sensor 100 to continuously generating static heat image data. The selection part 202 detects a detection unit 2 to which an output signal should be output to the signal processing unit 201 out of the multiple detection units 2. The selection part 202 has a mode for detecting desired detection units 2 corresponding to one static heat image data out of the multiple detection units 2 depending on specific conditions.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、一般に赤外線センサ装置、信号処理装置及び信号処理方法に関し、より詳細には、赤外線センサの出力信号を信号処理する信号処理部を備える赤外線センサ装置、信号処理装置及び信号処理方法に関する。 The present disclosure relates to an infrared sensor device, a signal processing device and a signal processing method in general, and more particularly to an infrared sensor device, a signal processing device and a signal processing method including a signal processing unit for signal processing the output signal of the infrared sensor.

従来、赤外線センサ装置として、赤外線センサと、サーミスタと、IC素子(信号処理装置)と、を備える温度センサが知られている(特許文献1)。 Conventionally, as an infrared sensor device, a temperature sensor including an infrared sensor, a thermistor, and an IC element (signal processing device) is known (Patent Document 1).

赤外線センサでは、熱型赤外線検出部とMOSトランジスタとを具備する複数の画素部(検出部)が、半導体基板の一表面側において2次元アレイ状に配置されている。 In the infrared sensor, a plurality of pixel units (detection units) including a thermal infrared detection unit and a MOS transistor are arranged in a two-dimensional array on one surface side of the semiconductor substrate.

IC素子は、第1の増幅回路と、第2の増幅回路と、マルチプレクサと、A/D変換回路と、演算部と、メモリと、制御回路と、を備えている。 The IC element includes a first amplifier circuit, a second amplifier circuit, a multiplexer, an A / D conversion circuit, a calculation unit, a memory, and a control circuit.

特開2012−13517号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-13517

特許文献1に記載された赤外線センサ及び赤外線センサ装置においては、フレームレートの更なる高速化が望まれることがあった。 In the infrared sensor and the infrared sensor device described in Patent Document 1, it may be desired to further increase the frame rate.

本開示の目的は、フレームレートの高速化を図ることが可能な赤外線センサ装置、信号処理装置及び信号処理方法を提供することにある。 An object of the present disclosure is to provide an infrared sensor device, a signal processing device, and a signal processing method capable of increasing the frame rate.

本開示の一態様に係る赤外線センサ装置は、赤外線センサと、信号処理部と、選択部と、を備える。前記赤外線センサは、2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部を有する。前記信号処理部は、前記赤外線センサの出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する。前記選択部は、前記複数の検出部のうち前記信号処理部へ前記出力信号を出力させる検出部を選択する。前記選択部は、特定の条件に応じて前記複数の検出部のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部を選択するモードを有する。 The infrared sensor device according to one aspect of the present disclosure includes an infrared sensor, a signal processing unit, and a selection unit. The infrared sensor has a plurality of detection units arranged in a two-dimensional array. The signal processing unit processes the output signal of the infrared sensor to continuously generate static thermal image data. The selection unit selects a detection unit that outputs the output signal to the signal processing unit among the plurality of detection units. The selection unit has a mode of selecting an arbitrary detection unit corresponding to one static thermal image data among the plurality of detection units according to a specific condition.

本開示の一態様に係る信号処理装置は、信号処理部と、選択部と、を備える。前記信号処理部は、2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部を有する赤外線センサの出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する。前記選択部は、前記複数の検出部のうち前記信号処理部へ前記出力信号を出力させる検出部を選択する。前記選択部は、特定の条件に応じて前記複数の検出部のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部を選択するモードを有する。 The signal processing device according to one aspect of the present disclosure includes a signal processing unit and a selection unit. The signal processing unit processes the output signal of an infrared sensor having a plurality of detection units arranged in a two-dimensional array to continuously generate static thermal image data. The selection unit selects a detection unit that outputs the output signal to the signal processing unit among the plurality of detection units. The selection unit has a mode of selecting an arbitrary detection unit corresponding to one static thermal image data among the plurality of detection units according to a specific condition.

本開示の一態様に係る信号処理方法は、2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部を有する赤外線センサの出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する生成ステップと、前記複数の検出部のうち前記生成ステップで信号処理する出力信号を出力させる検出部を選択する選択ステップと、を備える。前記選択ステップは、特定の条件に応じて前記複数の検出部のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部を選択する。 The signal processing method according to one aspect of the present disclosure includes a generation step of continuously generating static thermal image data by signal processing the output signals of an infrared sensor having a plurality of detection units arranged in a two-dimensional array. It includes a selection step of selecting a detection unit for outputting an output signal for signal processing in the generation step among the plurality of detection units. In the selection step, an arbitrary detection unit corresponding to the static thermal image data of one of the plurality of detection units is selected according to a specific condition.

本開示の一態様に係る赤外線センサ装置、信号処理装置及び信号処理方法は、フレームレートの高速化を図ることが可能となる。 The infrared sensor device, the signal processing device, and the signal processing method according to one aspect of the present disclosure can increase the frame rate.

図1は、実施形態1に係る赤外線センサ装置の回路ブロック図である。FIG. 1 is a circuit block diagram of the infrared sensor device according to the first embodiment. 図2は、同上の赤外線センサ装置における赤外線センサの複数の検出部のレイアウト図である。FIG. 2 is a layout diagram of a plurality of detection units of the infrared sensor in the infrared sensor device of the same. 図3Aは、同上の赤外線センサ装置における赤外線センサの検出部の一部破断した平面図である。図3Bは、図3AのA−A断面図である。FIG. 3A is a partially cutaway plan view of the detection unit of the infrared sensor in the infrared sensor device of the same. FIG. 3B is a sectional view taken along the line AA of FIG. 3A. 図4は、同上の赤外線センサ装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the infrared sensor device of the same. 図5は、同上の赤外線センサ装置の動作説明図である。FIG. 5 is an operation explanatory view of the same infrared sensor device. 図6は、同上の赤外線センサ装置の動作説明図である。FIG. 6 is an operation explanatory view of the same infrared sensor device. 図7は、実施形態2に係る赤外線センサ装置の回路ブロック図である。FIG. 7 is a circuit block diagram of the infrared sensor device according to the second embodiment.

下記の実施形態において説明する各図は、模式的な図であり、図中の各構成要素の大きさや厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。 Each figure described in the following embodiment is a schematic view, and the ratio of the size and the thickness of each component in the figure does not necessarily reflect the actual dimensional ratio.

(実施形態1)
以下では、実施形態1に係る赤外線センサ装置300について、図1、2、3A及び3Bに基づいて説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the infrared sensor device 300 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1, 2, 3A and 3B.

(1)赤外線線センサ装置の構成要素
赤外線センサ装置300は、赤外線センサ100と、信号処理装置200と、を備える。赤外線センサ100は、2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部(画素部)2を有する。信号処理装置200は、信号処理部201と、選択部202と、を有する。また、赤外線センサ装置300は、サーミスタ110を更に備える。また、赤外線センサ装置300は、パッケージ260を更に備える。
(1) Components of Infrared Ray Sensor Device The infrared sensor device 300 includes an infrared sensor 100 and a signal processing device 200. The infrared sensor 100 has a plurality of detection units (pixel units) 2 arranged in a two-dimensional array. The signal processing device 200 has a signal processing unit 201 and a selection unit 202. Further, the infrared sensor device 300 further includes a thermistor 110. In addition, the infrared sensor device 300 further includes a package 260.

(2)赤外線センサ装置の詳細
(2.1)赤外線センサ
赤外線センサ100は、第1主面11及び第2主面を有する基板1と、基板1の第1主面11側に形成されている複数(例えば、64個)の検出部2と、を備えている。第2主面は、基板1の厚さ方向D1において第1主面11の反対側に位置している。基板1は、シリコン基板である。
(2) Details of the infrared sensor device (2.1) Infrared sensor The infrared sensor 100 is formed on a substrate 1 having a first main surface 11 and a second main surface and on the first main surface 11 side of the substrate 1. A plurality of (for example, 64) detection units 2 are provided. The second main surface is located on the opposite side of the first main surface 11 in the thickness direction D1 of the substrate 1. The substrate 1 is a silicon substrate.

赤外線センサ100の厚さ方向D1からの平面視における赤外線センサ100の外周形状は、例えば、正方形状である。赤外線センサ100の外周形状は、正方形状に限らず、例えば、長方形状等でもよい。 The outer peripheral shape of the infrared sensor 100 in a plan view from the thickness direction D1 of the infrared sensor 100 is, for example, a square shape. The outer peripheral shape of the infrared sensor 100 is not limited to a square shape, but may be, for example, a rectangular shape.

複数(例えば、64個)の検出部2は、基板1の第1主面11側において、図2に例示するように、1つの基板1の第1主面11側において、m行n列(m,nは自然数)の2次元アレイ状に配列されている。図2に示した例では、m=8、n=8である。 A plurality of (for example, 64) detection units 2 are arranged in m rows and n columns on the first main surface 11 side of the substrate 1 and on the first main surface 11 side of one substrate 1 as illustrated in FIG. m and n are natural numbers) and are arranged in a two-dimensional array. In the example shown in FIG. 2, m = 8 and n = 8.

赤外線センサ100は、複数の検出部2それぞれの一部を構成する膜構造体3を備えている。膜構造体3は、基板1の第1主面11側において基板1に支持されている。ここにおいて、膜構造体3は、複数の検出部2に一対一に対応する複数の熱型赤外線検出部4を含んでいる。したがって、複数の熱型赤外線検出部4は、1つの基板1の第1主面11側において2次元アレイ状に配列されている。より詳細には、複数の熱型赤外線検出部4は、1つの基板1の第1主面11側において、8行8列の2次元アレイ状に配列されている。 The infrared sensor 100 includes a film structure 3 that forms a part of each of the plurality of detection units 2. The film structure 3 is supported by the substrate 1 on the first main surface 11 side of the substrate 1. Here, the film structure 3 includes a plurality of thermal infrared detection units 4 having a one-to-one correspondence with the plurality of detection units 2. Therefore, the plurality of thermal infrared detection units 4 are arranged in a two-dimensional array on the first main surface 11 side of one substrate 1. More specifically, the plurality of thermal infrared detection units 4 are arranged in a two-dimensional array of 8 rows and 8 columns on the first main surface 11 side of one substrate 1.

膜構造体3は、シリコン酸化膜31と、シリコン窒化膜32と、層間絶縁膜33と、パッシベーション膜34と、を含んでいる。膜構造体3では、基板1側からシリコン酸化膜31、シリコン窒化膜32、層間絶縁膜33及びパッシベーション膜34が、この順に並んでいる。ここにおいて、シリコン酸化膜31は、基板1に直接的に支持されている。膜構造体3における複数の熱型赤外線検出部4は、シリコン窒化膜32上に形成されている熱電変換部5を含んでいる。層間絶縁膜33は、シリコン窒化膜32の表面側で熱電変換部5を覆っている。層間絶縁膜33は、例えば、BPSG(Boron Phosphorus Silicon Glass)膜である。パッシベーション膜34は、例えば、PSG(Phospho-Silicate Glass)膜とPSG膜上に形成されたNSG(Nondoped Silicate Glass)膜との積層膜である。なお、膜構造体3では、層間絶縁膜33とパッシベーション膜34との積層膜において熱型赤外線検出部4に形成された部分が赤外線吸収膜70を兼ねている。 The film structure 3 includes a silicon oxide film 31, a silicon nitride film 32, an interlayer insulating film 33, and a passivation film 34. In the film structure 3, the silicon oxide film 31, the silicon nitride film 32, the interlayer insulating film 33, and the passivation film 34 are arranged in this order from the substrate 1 side. Here, the silicon oxide film 31 is directly supported by the substrate 1. The plurality of thermal infrared detection units 4 in the film structure 3 include a thermoelectric conversion unit 5 formed on the silicon nitride film 32. The interlayer insulating film 33 covers the thermoelectric conversion section 5 on the surface side of the silicon nitride film 32. The interlayer insulating film 33 is, for example, a BPSG (Boron Phosphorus Silicon Glass) film. The passivation film 34 is, for example, a laminated film of a PSG (Phospho-Silicate Glass) film and an NSG (Non doped Silicate Glass) film formed on the PSG film. In the film structure 3, the portion formed in the thermal infrared detection unit 4 in the laminated film of the interlayer insulating film 33 and the passivation film 34 also serves as the infrared absorbing film 70.

複数の熱型赤外線検出部4の各々は、熱電変換部5を含んでいる。熱電変換部5は、複数(例えば、6個)のサーモパイル6を含んでいる。熱電変換部5では、複数のサーモパイル6が直列接続されている。 Each of the plurality of thermal infrared detection units 4 includes a thermoelectric conversion unit 5. The thermoelectric conversion unit 5 includes a plurality of (for example, 6) thermopile 6. In the thermoelectric conversion unit 5, a plurality of thermopile 6s are connected in series.

複数の検出部2の各々は、熱型赤外線検出部4と、MOSトランジスタ7と、を含んでいる。複数のMOSトランジスタ7の各々は、画素部選択用のスイッチング素子である。言い換えれば、複数のMOSトランジスタ7の各々は、熱電変換部5の出力電圧を取り出すためのスイッチング素子である。複数のMOSトランジスタ7の各々は、ウェル領域71、ドレイン領域73、ソース領域74、チャネルストッパ領域72、ゲート絶縁膜75、ゲート電極76、ドレイン電極77、ソース電極78及びグラウンド用電極79を有する。 Each of the plurality of detection units 2 includes a thermal infrared detection unit 4 and a MOS transistor 7. Each of the plurality of MOS transistors 7 is a switching element for selecting a pixel portion. In other words, each of the plurality of MOS transistors 7 is a switching element for extracting the output voltage of the thermoelectric conversion unit 5. Each of the plurality of MOS transistors 7 has a well region 71, a drain region 73, a source region 74, a channel stopper region 72, a gate insulating film 75, a gate electrode 76, a drain electrode 77, a source electrode 78, and a ground electrode 79.

赤外線センサ100は、各列の複数(8つ)の検出部2の熱電変換部5の第1端がMOSトランジスタ7を介して各列に共通接続された複数の第1配線(垂直読み出し線)と、各行の複数(8つ)の検出部2のMOSトランジスタ7のゲート電極76が各行ごとに共通接続された複数の第2配線(水平信号線)と、を備えている。また、赤外線センサ100は、各列の検出部2のMOSトランジスタ7のウェル領域71が各列に共通接続された複数の第3配線(グラウンド線)と、各グラウンド線が共通接続された共通グラウンド線(第4配線)と、を備えている。さらに、赤外線センサ100は、各列の複数の検出部2の熱電変換部5の第2端が各列に共通接続された複数の基準バイアス線(第5配線)を備えている。ここで、MOSトランジスタ7のゲート電極76は、複数の第2配線のうち対応する第2配線と接続されている。また、MOSトランジスタ7のソース電極78は、熱電変換部5を介して、複数の第5配線のうち対応する第5配線と接続されている。また、MOSトランジスタ7のドレイン電極77は、複数の第1配線のうち対応する第1配線と接続されている。よって、赤外線センサ100では、複数の検出部2の出力電圧を順次読み出すことができる。赤外線センサ100は、複数の第1配線が一対一に接続された出力用の複数(8つ)の第1パッド101と、複数の第2配線が一対一に接続された複数(8つ)の第2パッド102と、複数の第3配線が共通接続された第3パッドと、第4配線が共通接続された基準バイアス用の第4パッドと、を備えている。 In the infrared sensor 100, a plurality of first wirings (vertical read lines) in which the first end of the thermoelectric conversion unit 5 of the plurality (8) detection units 2 in each row is commonly connected to each row via the MOS transistor 7 A plurality of second wirings (horizontal signal lines) in which the gate electrodes 76 of the MOS transistors 7 of the plurality of (eight) detection units 2 in each row are commonly connected to each row are provided. Further, the infrared sensor 100 has a plurality of third wirings (ground lines) in which the well regions 71 of the MOS transistors 7 of the detection units 2 in each row are commonly connected to each row, and a common ground in which each ground line is commonly connected. It is equipped with a wire (fourth wiring). Further, the infrared sensor 100 includes a plurality of reference bias lines (fifth wiring) in which the second ends of the thermoelectric conversion units 5 of the plurality of detection units 2 in each row are commonly connected to each row. Here, the gate electrode 76 of the MOS transistor 7 is connected to the corresponding second wiring among the plurality of second wirings. Further, the source electrode 78 of the MOS transistor 7 is connected to the corresponding fifth wiring among the plurality of fifth wirings via the thermoelectric conversion unit 5. Further, the drain electrode 77 of the MOS transistor 7 is connected to the corresponding first wiring among the plurality of first wirings. Therefore, the infrared sensor 100 can sequentially read out the output voltages of the plurality of detection units 2. The infrared sensor 100 includes a plurality of (eight) first pads 101 for output in which a plurality of first wires are connected one-to-one, and a plurality (eight) in which a plurality of second wires are connected one-to-one. A second pad 102, a third pad to which a plurality of third wires are commonly connected, and a fourth pad for reference bias to which the fourth wiring is commonly connected are provided.

また、基板1は、第1主面11側に、複数の熱型赤外線検出部4に一対一に対応する複数のキャビティ13を有している。基板1の第1主面11におけるキャビティ13の開口形状は、矩形状である。基板1における複数のキャビティ13の各々は、複数の熱型赤外線検出部4のうち対応する熱型赤外線検出部4の一部の直下に形成されている。これにより、複数の熱型赤外線検出部4の各々の一部は、基板1の厚さ方向D1において基板1から離れている。熱型赤外線検出部4のうち基板1の厚さ方向D1の平面視においてキャビティ13の開口縁よりも内側に位置している部分には、厚さ方向D1に貫通してキャビティ13につながる(連通する)複数のスリット44が形成されている。 Further, the substrate 1 has a plurality of cavities 13 having a one-to-one correspondence with the plurality of thermal infrared detection units 4 on the first main surface 11 side. The opening shape of the cavity 13 on the first main surface 11 of the substrate 1 is rectangular. Each of the plurality of cavities 13 in the substrate 1 is formed directly below a part of the corresponding thermal infrared ray detection unit 4 among the plurality of thermal infrared ray detection units 4. As a result, each part of the plurality of thermal infrared detection units 4 is separated from the substrate 1 in the thickness direction D1 of the substrate 1. The portion of the thermal infrared detection unit 4 located inside the opening edge of the cavity 13 in the plan view of the thickness direction D1 of the substrate 1 penetrates the thickness direction D1 and is connected to the cavity 13 (communication). A plurality of slits 44 are formed.

複数の熱型赤外線検出部4では、複数のスリット44が形成されていることにより、厚さ方向D1においてキャビティ13に重なっている部分が6つの領域に区画されており、6つの領域の各々が、1つのサーモパイル6を含んでいる。 In the plurality of thermal infrared detection units 4, since the plurality of slits 44 are formed, the portion overlapping the cavity 13 in the thickness direction D1 is divided into six regions, and each of the six regions is divided into six regions. Includes one thermopile 6.

サーモパイル6は、複数(9個)の熱電対60を有している。複数の熱電対60の各々は、n形ポリシリコン配線61と、p形ポリシリコン配線62と、n形ポリシリコン配線61とp形ポリシリコン配線62との第1端同士を電気的に接続している第1接続部63と、を含んでいる。n形ポリシリコン配線61及びp形ポリシリコン配線62は、シリコン窒化膜32上に形成されている。第1接続部63の材料は、例えば、Al−Si合金である。サーモパイル6は、複数の熱電対60のうち隣り合う熱電対60のn形ポリシリコン配線61とp形ポリシリコン配線62との第2端同士を電気的に接続している第2接続部64を含んでいる。第2接続部64の材料は、例えば、Al−Si合金である。 The thermopile 6 has a plurality of (9) thermocouples 60. Each of the plurality of thermocouples 60 electrically connects the first ends of the n-type polysilicon wiring 61, the p-type polysilicon wiring 62, and the n-type polysilicon wiring 61 and the p-type polysilicon wiring 62. The first connection portion 63 and the like are included. The n-type polysilicon wiring 61 and the p-type polysilicon wiring 62 are formed on the silicon nitride film 32. The material of the first connecting portion 63 is, for example, an Al—Si alloy. The thermopile 6 has a second connecting portion 64 that electrically connects the second ends of the n-type polysilicon wiring 61 and the p-type polysilicon wiring 62 of the adjacent thermocouples 60 among the plurality of thermocouples 60. Includes. The material of the second connecting portion 64 is, for example, an Al—Si alloy.

ここで、サーモパイル6では、複数の熱電対60の各々におけるn形ポリシリコン配線61の第1端とp形ポリシリコン配線62の第1端と第1接続部63とで1つの温接点T1を構成している。したがって、サーモパイル6は、複数(9つ)の温接点T1を含んでいる。また、サーモパイル6では、隣り合う2つの熱電対60のn形ポリシリコン配線61の第2端とp形ポリシリコン配線62の第2端と第2接続部64とで1つの冷接点T2を構成している。したがって、サーモパイル6では、複数(8つ)の冷接点T2を含んでいる。 Here, in the thermopile 6, one warm contact T1 is formed between the first end of the n-type polysilicon wiring 61, the first end of the p-type polysilicon wiring 62, and the first connection portion 63 in each of the plurality of thermocouples 60. It is configured. Therefore, the thermopile 6 includes a plurality (nine) hot contacts T1. Further, in the thermopile 6, one cold contact T2 is formed by the second end of the n-type polysilicon wiring 61 of two adjacent thermocouples 60, the second end of the p-type polysilicon wiring 62, and the second connection portion 64. are doing. Therefore, the thermopile 6 includes a plurality (8) cold contacts T2.

サーモパイル6の各温接点T1は、基板1の厚さ方向D1においてキャビティ13に重なるように配置されており、各冷接点T2は、基板1の厚さ方向D1においてキャビティ13に重ならないように配置されている。つまり、温接点T1は、熱型赤外線検出部4においてキャビティ13に重なる第1部分41に含まれており、冷接点T2は、熱型赤外線検出部4においてキャビティ13に重ならない第2部分42に含まれている。 Each hot contact T1 of the thermopile 6 is arranged so as to overlap the cavity 13 in the thickness direction D1 of the substrate 1, and each cold contact T2 is arranged so as not to overlap the cavity 13 in the thickness direction D1 of the substrate 1. Has been done. That is, the hot contact T1 is included in the first portion 41 that overlaps the cavity 13 in the thermal infrared detection unit 4, and the cold contact T2 is included in the second portion 42 that does not overlap the cavity 13 in the thermal infrared detection unit 4. include.

(2.2)サーミスタ
サーミスタ110は、絶対温度を測定する。サーミスタ110は、チップ型サーミスタである。
(2.2) Thermistor Thermistor 110 measures the absolute temperature. The thermistor 110 is a chip type thermistor.

サーミスタ110は、赤外線センサ100の冷接点T2の温度を検知するために赤外線センサ100の近くに配置されている。 The thermistor 110 is arranged near the infrared sensor 100 in order to detect the temperature of the cold contact T2 of the infrared sensor 100.

(2.3)パッケージ
パッケージ260は、赤外線センサ100、サーミスタ110及び信号処理装置200を収納している。信号処理装置200は、ICチップである。
(2.3) Package Package 260 houses an infrared sensor 100, a thermistor 110, and a signal processing device 200. The signal processing device 200 is an IC chip.

パッケージ260は、パッケージ本体261と、パッケージ蓋262と、を有する。 The package 260 has a package body 261 and a package lid 262.

パッケージ本体261は、赤外線センサ100と信号処理装置200とサーミスタ110とが実装されている。パッケージ本体261は、セラミック基板であり、配線用の導体部等が設けられている。赤外線センサ100と信号処理装置200とサーミスタ110とは、パッケージ本体261に実装されている。サーミスタ110は、赤外線センサ100と横並びで、パッケージ本体261に実装されている。 The package body 261 is equipped with an infrared sensor 100, a signal processing device 200, and a thermistor 110. The package body 261 is a ceramic substrate, and is provided with a conductor portion for wiring and the like. The infrared sensor 100, the signal processing device 200, and the thermistor 110 are mounted on the package body 261. The thermistor 110 is mounted on the package body 261 side by side with the infrared sensor 100.

パッケージ蓋262は、パッケージ本体261側の一面が開放された箱状に形成されている。パッケージ蓋262は、キャップ263と、レンズ264と、を含んでいる。キャップ263の材料は、例えば、金属である。キャップ263は、パッケージ本体261に接合されている。キャップ263は、赤外線センサ100の基板1の厚さ方向D1において赤外線センサ100に重なる領域に形成された貫通孔263aを有している。レンズ264は、キャップ263の貫通孔263aを塞いでいる。レンズ264は、例えば、非球面レンズである。 The package lid 262 is formed in a box shape with one side open on the package body 261 side. The package lid 262 includes a cap 263 and a lens 264. The material of the cap 263 is, for example, metal. The cap 263 is joined to the package body 261. The cap 263 has a through hole 263a formed in a region overlapping the infrared sensor 100 in the thickness direction D1 of the substrate 1 of the infrared sensor 100. The lens 264 closes the through hole 263a of the cap 263. The lens 264 is, for example, an aspherical lens.

実施形態1に係る赤外線センサ装置300では、パッケージ260の内部空間の雰囲気は、例えば、ドライ窒素雰囲気である。 In the infrared sensor device 300 according to the first embodiment, the atmosphere of the internal space of the package 260 is, for example, a dry nitrogen atmosphere.

(3)信号処理装置
信号処理装置200は、信号処理部201と、選択部202と、を有する。信号処理部201は、赤外線センサ100の出力信号を信号処理する。ここにおいて、信号処理部201は、赤外線センサ100の出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する。信号処理部201は、サーミスタ110の出力信号も信号処理する。
(3) Signal processing device The signal processing device 200 has a signal processing unit 201 and a selection unit 202. The signal processing unit 201 processes the output signal of the infrared sensor 100. Here, the signal processing unit 201 processes the output signal of the infrared sensor 100 to continuously generate static thermal image data. The signal processing unit 201 also processes the output signal of the thermistor 110.

信号処理部201は、第1の増幅回路と、第2の増幅回路と、マルチプレクサと、A/D変換回路と、演算部と、記憶部と、を有する。第1の増幅回路は、赤外線センサ100の出力電圧(出力信号)を増幅する。第2の増幅回路は、サーミスタ110の出力電圧(出力信号)を増幅する。マルチプレクサは、赤外線センサ100の複数の検出部2の熱電変換部5の出力電圧を択一的に第1の増幅回路に入力させる。また、A/D変換回路は、第1の増幅回路にて増幅された赤外線センサ100の出力電圧、及び第2の増幅回路にて増幅されたサーミスタ110の出力電圧をディジタル値に変換する。演算部は、赤外線センサ100とサーミスタ110との各出力電圧に対応してA/D変換回路から出力されるディジタル値を用いて赤外線センサ装置300の検知エリア内の温度分布を求める。ここにおいて、演算部は、赤外線センサ100の複数の検出部2の各々の出力信号とサーミスタ110の出力信号とを利用して検知エリア内の物体の温度を演算する。赤外線センサ装置300の検知エリアは、赤外線センサ100の受光面側に配置されているレンズ264の形状等によって決まる。メモリは、演算部での演算に利用するデータ等を記憶している。選択部202は、赤外線センサ100の複数のMOSトランジスタ7を制御する制御回路を含む。信号処理装置200では、赤外線センサ100の全ての検出部2の出力を時系列的に読み出すことができる。信号処理装置200は、選択部202によって赤外線センサ100の複数の第1パッド101それぞれの電位と複数の第2パッド102それぞれの電位とを適宜制御することにより、複数の検出部2それぞれの出力電圧を順次読み出すことができる。 The signal processing unit 201 includes a first amplifier circuit, a second amplifier circuit, a multiplexer, an A / D conversion circuit, a calculation unit, and a storage unit. The first amplifier circuit amplifies the output voltage (output signal) of the infrared sensor 100. The second amplifier circuit amplifies the output voltage (output signal) of the thermistor 110. The multiplexer alternately inputs the output voltage of the thermoelectric conversion unit 5 of the plurality of detection units 2 of the infrared sensor 100 to the first amplifier circuit. Further, the A / D conversion circuit converts the output voltage of the infrared sensor 100 amplified by the first amplifier circuit and the output voltage of the thermistor 110 amplified by the second amplifier circuit into digital values. The calculation unit obtains the temperature distribution in the detection area of the infrared sensor device 300 by using the digital values output from the A / D conversion circuit corresponding to the output voltages of the infrared sensor 100 and the thermistor 110. Here, the calculation unit calculates the temperature of an object in the detection area by using the output signals of each of the plurality of detection units 2 of the infrared sensor 100 and the output signals of the thermistor 110. The detection area of the infrared sensor device 300 is determined by the shape of the lens 264 arranged on the light receiving surface side of the infrared sensor 100 and the like. The memory stores data and the like used for calculation in the calculation unit. The selection unit 202 includes a control circuit that controls a plurality of MOS transistors 7 of the infrared sensor 100. In the signal processing device 200, the outputs of all the detection units 2 of the infrared sensor 100 can be read out in time series. The signal processing device 200 appropriately controls the potential of each of the plurality of first pads 101 of the infrared sensor 100 and the potential of each of the plurality of second pads 102 by the selection unit 202, thereby appropriately controlling the output voltage of each of the plurality of detection units 2. Can be read out in sequence.

信号処理部201は、赤外線センサ100の出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する。静止熱画像データは、検知エリア内の温度分布のデータであり、検知エリアの温度分布を示す熱画像の生成に利用することができる。信号処理装置200は、信号処理部201にて生成された静止熱画像データを順次出力することができる。信号処理装置200から出力される静止熱画像データを利用する表示装置においては、例えば、信号処理装置200から順次出力される静止熱画像データに応じた熱画像(静止熱画像P1)を順次表示させる。ここにおいて、信号処理装置200は、静止熱画像データ等を外部と通信するための通信インタフェース205を備えている。静止熱画像P1における複数の画素の画素値の各々は、温度である。 The signal processing unit 201 processes the output signal of the infrared sensor 100 to continuously generate static thermal image data. The static thermal image data is data of the temperature distribution in the detection area, and can be used to generate a thermal image showing the temperature distribution in the detection area. The signal processing device 200 can sequentially output the static thermal image data generated by the signal processing unit 201. In a display device that uses static thermal image data output from the signal processing device 200, for example, thermal images (static thermal image P1) corresponding to the static thermal image data sequentially output from the signal processing device 200 are sequentially displayed. .. Here, the signal processing device 200 includes a communication interface 205 for communicating static thermal image data and the like with the outside. Each of the pixel values of the plurality of pixels in the static thermal image P1 is a temperature.

選択部202は、複数の検出部2のうち信号処理部201へ出力信号を出力させる検出部2を選択する。 The selection unit 202 selects the detection unit 2 that outputs an output signal to the signal processing unit 201 among the plurality of detection units 2.

また、選択部202は、動作モードとして、第1モードと、第2モードと、を有する。第1モードは、複数の検出部2の全部を選択するモードである。第2モードは、特定の条件に応じて複数の検出部2のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部2を選択するモードである。ここにおいて、選択部202は、動作モードとして、第1モードと第2モードとのうち少なくとも第2モードを有していればよく、第1モードは必須のモードではない。第2モードにおいて選択する任意の検出部2は、例えば、複数の検出部2の全数よりも少なくとも1つ少ない一群の検出部2である。図1では、第2モードにおいて選択する一群の検出部2の一例を破線で囲んである。 Further, the selection unit 202 has a first mode and a second mode as operation modes. The first mode is a mode in which all of the plurality of detection units 2 are selected. The second mode is a mode in which an arbitrary detection unit 2 corresponding to one static thermal image data among the plurality of detection units 2 is selected according to a specific condition. Here, the selection unit 202 may have at least a second mode of the first mode and the second mode as the operation mode, and the first mode is not an indispensable mode. The arbitrary detection unit 2 selected in the second mode is, for example, a group of detection units 2 which is at least one less than the total number of the plurality of detection units 2. In FIG. 1, an example of a group of detection units 2 selected in the second mode is surrounded by a broken line.

信号処理装置200は、領域検出部203を更に備える。領域検出部203は、信号処理部201で生成された静止熱画像データに対応する静止熱画像P1(図5参照)上での対象物に対応する対象物領域E1(図5参照)を検出する。対象物領域E1は、例えば、閾値(例えば、30℃)以上の画素値を有する画素の集まりである。図5では、閾値未満の画素値を有する画素にはドットを付さずに、閾値以上の画素値を有する画素にドットを付してあり、画素値が大きいほどドットの密度を高くしてある。ここにおいて、領域検出部203は、静止熱画像データに基づいて、画素値が閾値(例えば、30℃)以上である画素データの集まりを検出したときに、複数の検出部2のうち対象物領域E1の画素の群に対応する検出部2の群を特定する。赤外線センサ装置300の検知エリアは、例えば、自動車の車内において1つの座席(運転席又は助手席等)を含む空間である。この場合、対象物は、座席に着座している人である。上述の特定の条件は、例えば、領域検出部203により対象物領域E1が検出されたという条件である。 The signal processing device 200 further includes a region detection unit 203. The area detection unit 203 detects the object area E1 (see FIG. 5) corresponding to the object on the static heat image P1 (see FIG. 5) corresponding to the static heat image data generated by the signal processing unit 201. .. The object region E1 is, for example, a collection of pixels having a pixel value equal to or higher than a threshold value (for example, 30 ° C.). In FIG. 5, dots are not attached to pixels having a pixel value less than the threshold value, but dots are attached to pixels having a pixel value equal to or higher than the threshold value, and the larger the pixel value, the higher the dot density. .. Here, when the region detection unit 203 detects a collection of pixel data whose pixel value is equal to or higher than a threshold value (for example, 30 ° C.) based on the static thermal image data, the region detection unit 203 has an object region among the plurality of detection units 2. The group of the detection unit 2 corresponding to the group of pixels of E1 is specified. The detection area of the infrared sensor device 300 is, for example, a space including one seat (driver's seat, passenger's seat, etc.) in the vehicle interior of the automobile. In this case, the object is a person sitting in a seat. The specific condition described above is, for example, a condition that the object region E1 is detected by the region detection unit 203.

選択部202は、特定の条件に応じて、複数の検出部2のうち対象物領域E1の画素の群に対応する検出部2の群を選択する。 The selection unit 202 selects a group of detection units 2 corresponding to a group of pixels in the object region E1 among the plurality of detection units 2 according to a specific condition.

また、赤外線センサ装置300は、推定部204を更に備える。推定部204は、人の温冷感を推定する。温冷感とは、人が感じる暑さ及び寒さに関する感覚である。具体的には、温冷感は、予想平均温冷感申告(PMV:Predicated Mean Vote)等の指標で表現することができる。PMVは、例えば、気温、湿度、気流、熱放射、代謝量及び着衣量を考慮して定められる。推定部204は、例えば、静止熱画像P1(に対応する静止熱画像データ)に基づいて、人の着衣から露出した部分の皮膚温度を検出することで、その人の温冷感を推定する。人体の部位によっては、当該部位の皮膚温度が温冷感と高い相関を持っていることが知られている。温冷感との相関が高い部位としては、例えば鼻が挙げられる。また、額の皮膚温度から鼻の皮膚温度を減算した値も、温冷感と高い相関を示している。推定部204は、温冷感を推定するために必要な部位の皮膚温度を、静止熱画像P1から求め、その結果から温冷感を推定する。なお、温冷感の推定の手法は上述の方法に限定されない。例えば、推定部204は、静止熱画像P1から人と周囲との温度差を算出して、人の放熱量を算出し、放熱量とPMVとの相関関係に基づいて、PMVを推定してもよい。 Further, the infrared sensor device 300 further includes an estimation unit 204. The estimation unit 204 estimates the feeling of warmth and coldness of a person. The feeling of warmth and coldness is the feeling of heat and cold that a person feels. Specifically, the feeling of warmth and coldness can be expressed by an index such as a predicted average feeling of warmth and coldness (PMV: Predicated Mean Vote). PMV is determined in consideration of, for example, temperature, humidity, air flow, heat radiation, metabolic rate and clothing amount. The estimation unit 204 estimates the feeling of warmth and coldness of a person by detecting the skin temperature of the portion exposed from the clothes of the person based on, for example, the static heat image P1 (corresponding to the static heat image data). It is known that, depending on the part of the human body, the skin temperature of the part has a high correlation with the feeling of warmth and coldness. An example of a site having a high correlation with warmth and coldness is the nose. The value obtained by subtracting the skin temperature of the nose from the skin temperature of the forehead also shows a high correlation with the feeling of warmth and coldness. The estimation unit 204 obtains the skin temperature of the portion required for estimating the warm / cold sensation from the static heat image P1 and estimates the warm / cold sensation from the result. The method for estimating the feeling of warmth and coldness is not limited to the above method. For example, the estimation unit 204 may calculate the temperature difference between the person and the surroundings from the static heat image P1, calculate the heat dissipation amount of the person, and estimate the PMV based on the correlation between the heat dissipation amount and the PMV. Good.

選択部202は、複数の検出部2のうち画素の集まりに対応する検出部2を選択するときに、対象物領域E1のうち人の顔に対応する領域の重心C1を含む画素又は重心C1に最も近い1つの画素を中心画素として中心画素から外側の画素へ順番に、対応する検出部2を選択する。図6は、熱画像の一例を模式的に示した図であり、中心画素から外側の画素への順序を矢印で示してある。図6に示した例では、人の顔に対応する領域について、その重心C1に最も近い1つの画素から右回りの螺旋にそって並んでいる一群の画素に対応する一群の検出部2を選択しているが、これに限らず、例えば、左回りの螺旋にそって並んでいる画素に対応する一群の検出部2を選択してもよい。これにより、静止熱画像P1において中心画素を含む中央部(人の顔の中心部)に対応する検出部2の熱応答性を周辺部に対応する検出部2の熱応答性よりも高くすることができ、中央部に対応する画素の画素値(温度)の精度を向上させることが可能となる。 When the selection unit 202 selects the detection unit 2 corresponding to the collection of pixels among the plurality of detection units 2, the selection unit 202 sets the pixel or the center of gravity C1 including the center of gravity C1 of the area corresponding to the human face in the object area E1. The corresponding detection unit 2 is selected in order from the center pixel to the outer pixel, with one closest pixel as the center pixel. FIG. 6 is a diagram schematically showing an example of a thermal image, and the order from the center pixel to the outer pixel is indicated by an arrow. In the example shown in FIG. 6, for the region corresponding to the human face, a group of detection units 2 corresponding to a group of pixels arranged along a clockwise spiral from one pixel closest to the center of gravity C1 is selected. However, the present invention is not limited to this, and for example, a group of detection units 2 corresponding to pixels arranged along a counterclockwise spiral may be selected. As a result, in the static thermal image P1, the thermal responsiveness of the detection unit 2 corresponding to the central portion (central portion of the human face) including the central pixel is made higher than the thermal responsiveness of the detection unit 2 corresponding to the peripheral portion. It is possible to improve the accuracy of the pixel value (temperature) of the pixel corresponding to the central portion.

信号処理装置200の実行主体は、コンピュータシステムを含んでいる。コンピュータシステムは、1又は複数のコンピュータを有している。コンピュータシステムは、ハードウェアとしてのプロセッサ及びメモリを主構成とする。コンピュータシステムのメモリに記録されたプログラムをプロセッサが実行することによって、本開示における信号処理装置200の実行主体としての機能が実現される。プログラムは、コンピュータシステムのメモリに予め記録されていてもよいが、電気通信回線を通じて提供されてもよいし、コンピュータシステムで読み取り可能なメモリカード、光学ディスク、ハードディスクドライブ(磁気ディスク)等の非一時的記録媒体に記録されて提供されてもよい。コンピュータシステムのプロセッサは、半導体集積回路(IC)又は大規模集積回路(LSI)を含む1乃至複数の電子回路で構成される。複数の電子回路は、1つのチップに集約されていてもよいし、複数のチップに分散して設けられていてもよい。複数のチップは、1つの装置に集約されていてもよいし、複数の装置に分散して設けられていてもよい。 The executing subject of the signal processing device 200 includes a computer system. The computer system has one or more computers. The main configuration of a computer system is a processor and memory as hardware. When the processor executes the program recorded in the memory of the computer system, the function as the execution subject of the signal processing device 200 in the present disclosure is realized. The program may be pre-recorded in the memory of the computer system, may be provided through a telecommunications line, or may be non-temporary, such as a memory card, optical disk, hard disk drive (magnetic disk) readable by the computer system. It may be recorded and provided on a target recording medium. A processor in a computer system is composed of one or more electronic circuits including a semiconductor integrated circuit (IC) or a large scale integrated circuit (LSI). A plurality of electronic circuits may be integrated on one chip, or may be distributed on a plurality of chips. The plurality of chips may be integrated in one device, or may be distributed in a plurality of devices.

信号処理装置200は、一例として、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)であるが、これに限らない。例えば、信号処理装置200は、信号処理部201と選択部202とを含むASICと、ASICとは別に設けられた領域検出部203及び推定部204と、を備えた構成であってもよい。 The signal processing device 200 is, for example, an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), but is not limited to this. For example, the signal processing device 200 may have a configuration including an ASIC including a signal processing unit 201 and a selection unit 202, and a region detection unit 203 and an estimation unit 204 provided separately from the ASIC.

(4)信号処理方法
信号処理装置200は、以下の信号処理方法を採用している。
(4) Signal Processing Method The signal processing device 200 employs the following signal processing method.

信号処理方法は、生成ステップと、選択ステップと、を備える。生成ステップでは、2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部2を有する赤外線センサ100の出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する。選択ステップでは、複数の検出部2のうち生成ステップで信号処理する出力信号を出力させる検出部2を選択する。選択ステップは、特定の条件に応じて複数の検出部2のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部2を選択する。 The signal processing method includes a generation step and a selection step. In the generation step, the output signals of the infrared sensors 100 having a plurality of detection units 2 arranged in a two-dimensional array are signal-processed to continuously generate static thermal image data. In the selection step, the detection unit 2 that outputs the output signal to be signal-processed in the generation step is selected from the plurality of detection units 2. The selection step selects an arbitrary detection unit 2 that corresponds to the static thermal image data of one of the plurality of detection units 2 according to a specific condition.

(5)効果
実施形態1に係る赤外線センサ装置300及び信号処理装置200では、選択部202は、特定の条件に応じて複数の検出部2のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部2を選択するモードを有するので、フレームレートの高速化を図ることが可能となる。
(5) Effect In the infrared sensor device 300 and the signal processing device 200 according to the first embodiment, the selection unit 202 is an arbitrary detection that corresponds to the static thermal image data of one of the plurality of detection units 2 according to a specific condition. Since it has a mode for selecting the unit 2, it is possible to increase the frame rate.

また、赤外線センサ装置300では、A/D変換回路を複数備えていてもよい。ここにおいて、赤外線センサ装置300では、1つの静止熱画像P1に対応させる任意の検出部2を選択できるので、A/D変換回路の数を少なくでき、大型化を抑制しつつフレームレートの高速化を図ることが可能となる。 Further, the infrared sensor device 300 may include a plurality of A / D conversion circuits. Here, in the infrared sensor device 300, since any detection unit 2 corresponding to one static thermal image P1 can be selected, the number of A / D conversion circuits can be reduced, and the frame rate can be increased while suppressing the increase in size. It becomes possible to plan.

(実施形態2)
以下、実施形態2に係る赤外線センサ装置300Aについて、図7を参照して説明する。実施形態2に係る赤外線センサ装置300Aに関し、実施形態1に係る赤外線センサ装置300と同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
(Embodiment 2)
Hereinafter, the infrared sensor device 300A according to the second embodiment will be described with reference to FIG. 7. Regarding the infrared sensor device 300A according to the second embodiment, the same components as the infrared sensor device 300 according to the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

実施形態2に係る赤外線センサ装置300Aにおける信号処理装置200Aは、実施形態1に係る赤外線センサ装置300における信号処理装置200の領域検出部203及び推定部204を備えていない。 The signal processing device 200A in the infrared sensor device 300A according to the second embodiment does not include the area detection unit 203 and the estimation unit 204 of the signal processing device 200 in the infrared sensor device 300 according to the first embodiment.

実施形態2に係る赤外線センサ装置300Aでは、選択部202は、複数の検出部2を選択するときに、特定の条件として、複数(例えば、64個)の検出部2を1つの静止熱画像データに対応させる任意の複数(例えば、4つ)のグループG1に分けて、複数のグループG1を順番に選択する。 In the infrared sensor device 300A according to the second embodiment, when the selection unit 202 selects a plurality of detection units 2, the selection unit 202 uses a plurality of (for example, 64) detection units 2 as one static thermal image data as a specific condition. The plurality of groups G1 are divided into arbitrary plurality (for example, four) groups G1 corresponding to the above, and the plurality of groups G1 are selected in order.

図7の例では、複数のグループG1のうち左上のグループG1を第1グループG11、右上のグループG1を第2グループG12、左下のグループG1を第3グループG13、右下のグループG1を第4グループG14としてある。 In the example of FIG. 7, the upper left group G1 is the first group G11, the upper right group G1 is the second group G12, the lower left group G1 is the third group G13, and the lower right group G1 is the fourth of the plurality of groups G1. It is in group G14.

実施形態2に係る赤外線センサ装置300Aでは、第1処理と第2処理と第3処理と第4処理とを、第1処理、第2処理、第3処理及び第4処理の順でサイクリックに繰り返す。第1処理は、第1グループG11の一群の検出部2の出力信号に基づく静止熱画像データを生成する処理である。第2処理は、第2グループG12の一群の検出部2の出力信号に基づく静止熱画像データを生成する処理である。第3処理は、第3グループG13の一群の検出部2の出力信号に基づく静止熱画像データを生成する処理である。第4処理は、第4グループG14の一群の検出部2の出力信号に基づく静止熱画像データを生成する処理である。 In the infrared sensor device 300A according to the second embodiment, the first process, the second process, the third process, and the fourth process are cyclically performed in the order of the first process, the second process, the third process, and the fourth process. repeat. The first process is a process of generating static thermal image data based on the output signal of the detection unit 2 of the group of the first group G11. The second process is a process of generating static thermal image data based on the output signal of the detection unit 2 of the group of the second group G12. The third process is a process of generating static thermal image data based on the output signal of the detection unit 2 of the group of the third group G13. The fourth process is a process of generating static thermal image data based on the output signal of the detection unit 2 of the group of the fourth group G14.

選択部202は、複数のグループG1の各々に対応する領域の重心C11を含む画素又は重心C11に最も近い1つの画素を中心画素として中心画素から外側の画素へ順番に、対応する検出部2を選択する。これにより、静止熱画像P1において中心画素を含む中央部に対応する検出部2の熱応答性を周辺部に対応する検出部2の熱応答性よりも高くすることができ、中央部に対応する画素の画素値(温度)の精度を向上させることが可能となる。 The selection unit 202 sets the corresponding detection unit 2 in order from the center pixel to the outer pixel, with the pixel including the center of gravity C11 of the region corresponding to each of the plurality of groups G1 or the one pixel closest to the center of gravity C11 as the center pixel. select. As a result, in the static thermal image P1, the thermal responsiveness of the detection unit 2 corresponding to the central portion including the central pixel can be made higher than the thermal responsiveness of the detection unit 2 corresponding to the peripheral portion, and corresponds to the central portion. It is possible to improve the accuracy of the pixel value (temperature) of the pixel.

実施形態2に係る赤外線センサ装置300A及び信号処理装置200Aでは、選択部202は、特定の条件に応じて複数の検出部2のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部2を選択するモードを有するので、フレームレートの高速化を図ることが可能となる。 In the infrared sensor device 300A and the signal processing device 200A according to the second embodiment, the selection unit 202 selects an arbitrary detection unit 2 corresponding to the static thermal image data of one of the plurality of detection units 2 according to a specific condition. Since it has a mode to perform, it is possible to increase the frame rate.

(変形例)
上記の実施形態は、本開示の様々な実施形態の一つに過ぎない。上記の実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。
(Modification example)
The above embodiment is only one of the various embodiments of the present disclosure. The above-described embodiment can be changed in various ways depending on the design and the like as long as the object of the present disclosure can be achieved.

例えば、熱電変換部5における複数のサーモパイル6の接続関係は、上記の例に限らない。すなわち、熱電変換部5は、複数のサーモパイル6の全てが直列接続されている構成に限らず、複数のサーモパイル6が並列接続されててる構成でもよいし、複数のサーモパイル6が直並列接続されている構成であってもよい。また、熱電変換部5におけるサーモパイル6の数は複数に限らず、例えば、1つでもよい。 For example, the connection relationship between the plurality of thermopile 6s in the thermoelectric conversion unit 5 is not limited to the above example. That is, the thermoelectric conversion unit 5 is not limited to a configuration in which all of the plurality of thermopile 6s are connected in series, but may be configured in which a plurality of thermopile 6s are connected in parallel, or a plurality of thermopile 6s are connected in series and parallel. It may be configured to be present. Further, the number of thermopile 6 in the thermoelectric conversion unit 5 is not limited to a plurality, and may be one, for example.

また、熱電変換部5は、複数のサーモパイル6に限らず、例えば、抵抗ボロメータ、焦電素子等であってもよい。また、赤外線センサ装置300において、サーミスタ110は、必須の構成要素ではない。 Further, the thermoelectric conversion unit 5 is not limited to the plurality of thermopile 6, and may be, for example, a resistance bolometer, a pyroelectric element, or the like. Further, in the infrared sensor device 300, the thermistor 110 is not an essential component.

また、赤外線センサ100では、複数の検出部2の各々がMOSトランジスタ7を含んでいるが、赤外線センサ100の変形例では、MOSトランジスタ7は、検出部2以外に設けられていてもよい。また、赤外線センサ100の別の変形例では、各MOSトランジスタ7は、赤外線センサ100に必須の構成要素ではない。 Further, in the infrared sensor 100, each of the plurality of detection units 2 includes the MOS transistor 7, but in the modified example of the infrared sensor 100, the MOS transistor 7 may be provided in addition to the detection unit 2. Further, in another modification of the infrared sensor 100, each MOS transistor 7 is not an essential component of the infrared sensor 100.

対象物は、対象物の存在している空間における背景(周囲)との温度の異なる物体であればよく、人に限らず、生体以外の物体(例えば、テレビ受像機等)でもよい。この場合、対象物領域E1は、閾値未満の画素値を有する画素の集まりであってもよい。 The object may be an object having a temperature different from that of the background (surroundings) in the space where the object exists, and may be an object other than a living body (for example, a television receiver) as well as a human being. In this case, the object region E1 may be a group of pixels having a pixel value less than the threshold value.

(態様)
第1の態様に係る赤外線センサ装置(300;300A)は、赤外線センサ(100)と、信号処理部(201)と、選択部(202)と、を備える。赤外線センサ(100)は、2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部(2)を有する。信号処理部(201)は、赤外線センサ(100)の出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する。選択部(202)は、複数の検出部(2)のうち信号処理部(201)へ出力信号を出力させる検出部(2)を選択する。選択部(202)は、特定の条件に応じて複数の検出部(2)のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部(2)を選択するモードを有する。
(Aspect)
The infrared sensor device (300; 300A) according to the first aspect includes an infrared sensor (100), a signal processing unit (201), and a selection unit (202). The infrared sensor (100) has a plurality of detection units (2) arranged in a two-dimensional array. The signal processing unit (201) signals the output signal of the infrared sensor (100) to continuously generate static thermal image data. The selection unit (202) selects the detection unit (2) for outputting the output signal to the signal processing unit (201) among the plurality of detection units (2). The selection unit (202) has a mode for selecting an arbitrary detection unit (2) corresponding to one static thermal image data among the plurality of detection units (2) according to a specific condition.

第1の態様に係る赤外線センサ装置(300;300A)では、フレームレートの高速化を図ることが可能となる。 In the infrared sensor device (300; 300A) according to the first aspect, it is possible to increase the frame rate.

第2の態様に係る赤外線センサ装置(300;300A)では、第1の態様において、選択部(202)は、複数の検出部(2)の全部を選択するモードを更に有する。 In the infrared sensor device (300; 300A) according to the second aspect, in the first aspect, the selection unit (202) further has a mode for selecting all of the plurality of detection units (2).

第2の態様に係る赤外線センサ装置(300;300A)では、複数の検出部(2)の出力信号に基づいて1つの静止熱画像データを生成することができる。 In the infrared sensor device (300; 300A) according to the second aspect, one static thermal image data can be generated based on the output signals of the plurality of detection units (2).

第3の態様に係る赤外線センサ装置(300)は、第1又は2の態様において、領域検出部(203)を更に備える。領域検出部(203)は、信号処理部(201)で生成された静止熱画像データに対応する静止熱画像(P1)上において対象物に対応する対象物領域(E1)を検出する。特定の条件は、領域検出部(203)により対象物領域(E1)が検出されたという条件である。選択部(202)は、複数の検出部(2)のうち対象物領域(E1)の画素の群に対応する検出部(2)の群を選択する。 The infrared sensor device (300) according to the third aspect further includes a region detection unit (203) in the first or second aspect. The region detection unit (203) detects the object region (E1) corresponding to the object on the static thermal image (P1) corresponding to the static thermal image data generated by the signal processing unit (201). The specific condition is that the object region (E1) is detected by the region detection unit (203). The selection unit (202) selects the group of the detection unit (2) corresponding to the group of pixels in the object region (E1) from the plurality of detection units (2).

第3の態様に係る赤外線センサ装置(300)では、フレームレートの高速化を図ることが可能となる。 In the infrared sensor device (300) according to the third aspect, it is possible to increase the frame rate.

第4の態様に係る赤外線センサ装置(300)では、第3の態様において、対象物は、人である。 In the infrared sensor device (300) according to the fourth aspect, in the third aspect, the object is a person.

第5の態様に係る赤外線センサ装置(300)では、第4の態様において、静止熱画像(P1)における複数の画素の画素値の各々が温度である。第5の態様に係る赤外線センサ装置(300)は、推定部(204)を更に備える。推定部(204)は、人の温冷感を推定する。 In the infrared sensor device (300) according to the fifth aspect, in the fourth aspect, each of the pixel values of the plurality of pixels in the static thermal image (P1) is the temperature. The infrared sensor device (300) according to the fifth aspect further includes an estimation unit (204). The estimation unit (204) estimates the feeling of warmth and coldness of a person.

第5の態様に係る赤外線センサ装置(300)では、領域検出部(203)により検出された対象物領域(E1)に対応する人だけの温冷感を推定することが可能となる。 In the infrared sensor device (300) according to the fifth aspect, it is possible to estimate the feeling of warmth and coldness only for a person corresponding to the object region (E1) detected by the region detection unit (203).

第6の態様に係る赤外線センサ装置(300)では、第4又は5の態様において、選択部(202)は、複数の検出部(2)のうち画素の集まりに対応する検出部(2)を選択するときに、対象物領域(E1)のうち人の顔に対応する領域の重心(C1)を含む画素又は重心(C1)に最も近い1つの画素を中心画素として中心画素から外側の画素へ順番に、対応する検出部(2)を選択する。 In the infrared sensor device (300) according to the sixth aspect, in the fourth or fifth aspect, the selection unit (202) is a detection unit (2) corresponding to a collection of pixels among the plurality of detection units (2). When selecting, the pixel including the center of gravity (C1) of the area corresponding to the human face in the object area (E1) or one pixel closest to the center of gravity (C1) is set as the center pixel from the center pixel to the outer pixel. In turn, the corresponding detector (2) is selected.

第7の態様に係る赤外線センサ装置(300A)では、第2の態様において、選択部(202)は、特定の条件に応じて複数の検出部(2)のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部(2)を選択するときに、複数の検出部(2)を任意の複数のグループ(G1)に分けて、複数のグループ(G1)を順番に選択する。 In the infrared sensor device (300A) according to the seventh aspect, in the second aspect, the selection unit (202) corresponds to the static thermal image data of one of the plurality of detection units (2) according to a specific condition. When selecting an arbitrary detection unit (2) to be to be performed, the plurality of detection units (2) are divided into an arbitrary plurality of groups (G1), and the plurality of groups (G1) are selected in order.

第7の態様に係る赤外線センサ装置(300A)では、フレームレートの高速化を図ることが可能となる。 In the infrared sensor device (300A) according to the seventh aspect, it is possible to increase the frame rate.

第8の態様に係る赤外線センサ装置(300A)では、第7の態様において、選択部(202)は、複数のグループ(G1)の各々に対応する領域の重心(C11)を含む画素又は重心(C11)に最も近い1つの画素を中心画素として中心画素から外側の画素へ順番に、対応する検出部(2)を選択する。 In the infrared sensor device (300A) according to the eighth aspect, in the seventh aspect, the selection unit (202) is a pixel or a center of gravity (C11) including the center of gravity (C11) of the region corresponding to each of the plurality of groups (G1). The corresponding detection unit (2) is selected in order from the center pixel to the outer pixel, with one pixel closest to C11) as the center pixel.

第9の態様に係る赤外線センサ装置(300;300A)では、第1〜8の態様のいずれか一つにおいて、赤外線センサ(100)は、基板(1)と、膜構造体(3)と、を有する。基板(1)は、第1主面(11)と厚さ方向(D1)において第1主面(11)の反対側に位置する第2主面とを有する。膜構造体(3)は、基板(1)の第1主面(11)側において基板(1)に支持されている。膜構造体(3)は、複数の検出部(2)を含んでいる。基板(1)は、第1主面(11)側に、複数の検出部(2)に一対一に対応する複数のキャビティ(13)を有する。 In the infrared sensor device (300; 300A) according to the ninth aspect, in any one of the first to eighth aspects, the infrared sensor (100) includes a substrate (1), a film structure (3), and the like. Has. The substrate (1) has a first main surface (11) and a second main surface located on the opposite side of the first main surface (11) in the thickness direction (D1). The film structure (3) is supported by the substrate (1) on the first main surface (11) side of the substrate (1). The membrane structure (3) includes a plurality of detection units (2). The substrate (1) has a plurality of cavities (13) having a one-to-one correspondence with the plurality of detection units (2) on the first main surface (11) side.

第10の態様に係る赤外線センサ装置(300;300A)では、第1〜9の態様のいずれか一つにおいて、複数の検出部(2)の各々は、複数の温接点(T1)と複数の冷接点(T2)とを有するサーモパイル(6)を含んでいる。複数の検出部(2)の各々では、複数のキャビティ(13)のうち対応するキャビティ(13)に複数の温接点(T1)が重なるように複数の温接点(T1)が配置されている。複数の検出部(2)の各々では、複数のキャビティ(13)のうち対応するキャビティ(13)に複数の冷接点(T2)が重ならないように複数の冷接点(T2)が配置されている。 In the infrared sensor device (300; 300A) according to the tenth aspect, in any one of the first to ninth aspects, each of the plurality of detection units (2) has a plurality of warm contacts (T1) and a plurality of hot contacts (T1). It contains a thermopile (6) with a cold contact (T2). In each of the plurality of detection units (2), a plurality of warm contacts (T1) are arranged so that the plurality of warm contacts (T1) overlap the corresponding cavities (13) among the plurality of cavities (13). In each of the plurality of detection units (2), a plurality of cold contacts (T2) are arranged so that the plurality of cold contacts (T2) do not overlap the corresponding cavities (13) among the plurality of cavities (13). ..

第10の態様に係る赤外線センサ装置(300;300A)では、赤外線センサ(100)の感度の向上を図ることが可能となる。 In the infrared sensor device (300; 300A) according to the tenth aspect, it is possible to improve the sensitivity of the infrared sensor (100).

第11の態様に係る信号処理装置(200;200A)は、信号処理部(201)と、選択部(202)と、を備える。信号処理部(201)は、2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部(2)を有する赤外線センサ(100)の出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する。選択部(202)は、複数の検出部(2)のうち信号処理部(201)へ出力信号を出力させる検出部(2)を選択する。選択部(202)は、特定の条件に応じて複数の検出部(2)のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部(2)を選択するモードを有する。 The signal processing device (200; 200A) according to the eleventh aspect includes a signal processing unit (201) and a selection unit (202). The signal processing unit (201) signals the output signal of the infrared sensor (100) having a plurality of detection units (2) arranged in a two-dimensional array to continuously generate static thermal image data. The selection unit (202) selects the detection unit (2) for outputting the output signal to the signal processing unit (201) among the plurality of detection units (2). The selection unit (202) has a mode of selecting an arbitrary detection unit (2) corresponding to one static thermal image data among the plurality of detection units (2) according to a specific condition.

第11の態様に係る信号処理装置(200;200A)では、フレームレートの高速化を図ることが可能となる。 In the signal processing device (200; 200A) according to the eleventh aspect, it is possible to increase the frame rate.

第12の態様に係る信号処理方法は、生成ステップと、選択ステップと、を備える。生成ステップでは、2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部(2)を有する赤外線センサ(100)の出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する。選択ステップでは、複数の検出部(2)のうち生成ステップで信号処理する出力信号を出力させる検出部(2)を選択する。選択ステップは、特定の条件に応じて複数の検出部(2)のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部(2)を選択する。 The signal processing method according to the twelfth aspect includes a generation step and a selection step. In the generation step, the output signal of the infrared sensor (100) having a plurality of detection units (2) arranged in a two-dimensional array is signal-processed to continuously generate still thermal image data. In the selection step, the detection unit (2) for outputting the output signal to be signal-processed in the generation step is selected from the plurality of detection units (2). The selection step selects an arbitrary detection unit (2) corresponding to one static thermal image data among the plurality of detection units (2) according to a specific condition.

第12の態様に係る信号処理方法では、フレームレートの高速化を図ることが可能となる。 In the signal processing method according to the twelfth aspect, it is possible to increase the frame rate.

第2〜10の態様に係る構成については、赤外線センサ装置(300;300A)に必須の構成ではなく、適宜省略可能である。 The configuration according to the second to tenth aspects is not an essential configuration for the infrared sensor device (300; 300A) and can be omitted as appropriate.

1 基板
2 検出部
11 第1主面
13 キャビティ
3 膜構造体
4 熱型赤外線検出部
6 サーモパイル
100 赤外線センサ
200、200A 信号処理装置
201 信号処理部
202 選択部
203 領域検出部
204 推定部
300、300A 赤外線センサ装置
C1 重心
C11 重心
E1 対象物領域
D1 厚さ方向
G1 グループ
P1 静止熱画像
T1 温接点
T2 冷接点
1 Substrate 2 Detection unit 11 1st main surface 13 Cavity 3 Membrane structure 4 Thermal infrared detection unit 6 Thermopile 100 Infrared sensor 200, 200A Signal processing device 201 Signal processing unit 202 Selection unit 203 Area detection unit 204 Estimating unit 300, 300A Infrared sensor device C1 Center of gravity C11 Center of gravity E1 Object area D1 Thickness direction G1 Group P1 Static thermal image T1 Warm contact T2 Cold contact

Claims (12)

2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部を有する赤外線センサと、
前記赤外線センサの出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する信号処理部と、
前記複数の検出部のうち前記信号処理部へ前記出力信号を出力させる検出部を選択する選択部と、を備え
前記選択部は、特定の条件に応じて前記複数の検出部のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部を選択するモードを有する、
赤外線センサ装置。
An infrared sensor with multiple detectors arranged in a two-dimensional array,
A signal processing unit that continuously generates static thermal image data by processing the output signal of the infrared sensor.
The selection unit includes a selection unit that selects a detection unit that outputs the output signal to the signal processing unit among the plurality of detection units, and the selection unit is one of the plurality of detection units stationary according to a specific condition. It has a mode for selecting an arbitrary detection unit corresponding to thermal image data.
Infrared sensor device.
前記選択部は、前記複数の検出部の全部を選択するモードを更に有する、
請求項1に記載の赤外線センサ装置。
The selection unit further has a mode for selecting all of the plurality of detection units.
The infrared sensor device according to claim 1.
前記信号処理部で生成された静止熱画像データに対応する静止熱画像上において対象物に対応する対象物領域を検出する領域検出部を更に備え、
前記特定の条件は、前記領域検出部により前記対象物領域が検出されたという条件であり、
前記選択部は、前記複数の検出部のうち前記対象物領域の画素の群に対応する検出部の群を選択する、
請求項1又は2に記載の赤外線センサ装置。
Further, a region detection unit for detecting an object region corresponding to the object on the static thermal image corresponding to the static thermal image data generated by the signal processing unit is provided.
The specific condition is a condition that the object region is detected by the region detection unit.
The selection unit selects a group of detection units corresponding to a group of pixels in the object region from the plurality of detection units.
The infrared sensor device according to claim 1 or 2.
前記対象物は、人である、
請求項3に記載の赤外線センサ装置。
The object is a person,
The infrared sensor device according to claim 3.
前記静止熱画像における複数の画素の画素値の各々が温度であり、
前記人の温冷感を推定する推定部を更に備える、
請求項4に記載の赤外線センサ装置。
Each of the pixel values of the plurality of pixels in the static thermal image is a temperature.
Further provided with an estimation unit for estimating the feeling of warmth and coldness of the person.
The infrared sensor device according to claim 4.
前記選択部は、前記複数の検出部のうち前記画素の集まりに対応する検出部を選択するときに、前記対象物領域のうち前記人の顔に対応する領域の重心を含む画素又は前記重心に最も近い1つの画素を中心画素として前記中心画素から外側の画素へ順番に、対応する検出部を選択する、
請求項4又は5に記載の赤外線センサ装置。
When the selection unit selects the detection unit corresponding to the group of pixels among the plurality of detection units, the selection unit is set to the pixel including the center of gravity of the region corresponding to the human face in the object region or the center of gravity. The corresponding detection unit is selected in order from the central pixel to the outer pixel, with one closest pixel as the central pixel.
The infrared sensor device according to claim 4 or 5.
前記選択部は、前記特定の条件に応じて前記複数の検出部のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部を選択するときに、前記複数の検出部を任意の複数のグループに分けて、前記複数のグループを順番に選択する、
請求項2に記載の赤外線センサ装置。
When selecting an arbitrary detection unit corresponding to one static thermal image data among the plurality of detection units according to the specific condition, the selection unit groups the plurality of detection units into arbitrary plurality of groups. Divide and select the plurality of groups in order,
The infrared sensor device according to claim 2.
前記選択部は、前記複数のグループの各々に対応する領域の重心を含む画素又は前記重心に最も近い1つの画素を中心画素として前記中心画素から外側の画素へ順番に、対応する検出部を選択する、
請求項7に記載の赤外線センサ装置。
The selection unit selects the corresponding detection unit in order from the center pixel to the outer pixel, with the pixel including the center of gravity of the region corresponding to each of the plurality of groups or one pixel closest to the center of gravity as the center pixel. To do,
The infrared sensor device according to claim 7.
前記赤外線センサは、
第1主面と厚さ方向において前記第1主面の反対側に位置する第2主面とを有する基板と、
前記基板の前記第1主面側において前記基板に支持されている膜構造体と、を有し、
前記膜構造体は、前記複数の検出部を含んでおり、
前記基板は、前記第1主面側に、前記複数の検出部に一対一に対応する複数のキャビティを有する、
請求項1〜8のいずれか一項に記載の赤外線センサ装置。
The infrared sensor
A substrate having a first main surface and a second main surface located on the opposite side of the first main surface in the thickness direction.
It has a film structure supported by the substrate on the first main surface side of the substrate.
The membrane structure includes the plurality of detection units, and includes the plurality of detection units.
The substrate has a plurality of cavities having a one-to-one correspondence with the plurality of detection units on the first main surface side.
The infrared sensor device according to any one of claims 1 to 8.
前記複数の検出部の各々は、複数の温接点と複数の冷接点とを有するサーモパイルを含んでおり、
前記複数の検出部の各々では、前記複数のキャビティのうち対応するキャビティに前記複数の温接点が重なるように前記複数の温接点が配置されており、
前記複数の検出部の各々では、前記複数のキャビティのうち対応するキャビティに前記複数の冷接点が重ならないように前記複数の冷接点が配置されている、
請求項1〜9のいずれか一項に記載の赤外線センサ装置。
Each of the plurality of detectors includes a thermopile having a plurality of hot contacts and a plurality of cold contacts.
In each of the plurality of detection units, the plurality of warm contacts are arranged so that the plurality of warm contacts overlap the corresponding cavities among the plurality of cavities.
In each of the plurality of detection units, the plurality of cold contacts are arranged so that the plurality of cold contacts do not overlap the corresponding cavities among the plurality of cavities.
The infrared sensor device according to any one of claims 1 to 9.
2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部を有する赤外線センサの出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する信号処理部と、
前記複数の検出部のうち前記信号処理部へ前記出力信号を出力させる検出部を選択する選択部と、を備え
前記選択部は、特定の条件に応じて前記複数の検出部のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部を選択するモードを有する、
信号処理装置。
A signal processing unit that continuously generates static thermal image data by processing the output signal of an infrared sensor having a plurality of detection units arranged in a two-dimensional array.
The selection unit includes a selection unit that selects a detection unit that outputs the output signal to the signal processing unit among the plurality of detection units, and the selection unit is one of the plurality of detection units stationary according to a specific condition. It has a mode for selecting an arbitrary detection unit corresponding to thermal image data.
Signal processing device.
2次元アレイ状に並んでいる複数の検出部を有する赤外線センサの出力信号を信号処理して静止熱画像データを連続的に生成する生成ステップと、
前記複数の検出部のうち前記生成ステップで信号処理する出力信号を出力させる検出部を選択する選択ステップと、を備え
前記選択ステップは、特定の条件に応じて前記複数の検出部のうち1つの静止熱画像データに対応させる任意の検出部を選択する、
信号処理方法。
A generation step of continuously generating static thermal image data by processing the output signal of an infrared sensor having a plurality of detection units arranged in a two-dimensional array.
A selection step for selecting a detection unit for outputting an output signal for signal processing in the generation step among the plurality of detection units is provided, and the selection step is one of the plurality of detection units according to a specific condition. Select any detector that corresponds to the static thermal image data,
Signal processing method.
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