JP2020143308A - Electrolytic gold plating solution and method of producing the same, and gold plating method and gold complex - Google Patents

Electrolytic gold plating solution and method of producing the same, and gold plating method and gold complex Download PDF

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Abstract

To provide an electrolytic gold plating solution excellent in oxidation stability without including a cyanide compound, and advantageous in electric current efficiency upon carrying out gold plating.SOLUTION: The electrolytic gold plating solution employs a gold complex as a source of gold and contains a chelating agent, an electroconductive salt and a buffer agent, the gold complex having a structure constituted of a monovalent gold ion and a hydantoin based compound represented by the following general formula (1) coordinated thereto (in the formula (1), R1 to R4 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, with either or both of R1 and R2 being a hydrogen atom, and either or both of R3 and R4 being a hydrogen atom, provided that a case of R1 being a methyl group and all of R2 to R4 being a hydrogen atom is excluded).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ウエハ、基板等への金めっきに用いられる電解金めっき液及びその製造方法、並びに金めっき方法、更には電解金めっき液の原料として適用可能な金錯体に関する。 The present invention relates to an electrolytic gold plating solution used for gold plating on wafers, substrates and the like, a method for producing the same, a gold plating method, and a gold complex applicable as a raw material for the electrolytic gold plating solution.

電解めっき、無電解めっき法で用いられるめっき液としては、金供給源として液中での酸化安定性に優れるシアン化金錯体を用いたシアン系金めっき液が従来から用いられている。しかし、シアン系金塩は毒性が強いことから作業安全、排水処理の観点から好ましくないという問題がある。また、シアン系金めっき液を使用した場合、余剰シアン化物が半導体部品のレジストパターンを剥離、損傷させることから微細な回路パターンを形成させにくいという問題もある。 As the plating solution used in the electrolytic plating and the electroless plating method, a cyanide gold plating solution using a gold cyanide complex having excellent oxidation stability in the solution as a gold supply source has been conventionally used. However, since cyan-based gold salts are highly toxic, there is a problem that they are not preferable from the viewpoint of work safety and wastewater treatment. Further, when a cyanide gold plating solution is used, there is also a problem that it is difficult to form a fine circuit pattern because the surplus cyanide peels off and damages the resist pattern of the semiconductor component.

このような問題から、シアンを含有しない金塩又は金錯体を適用しためっき液の適用が望ましいと考えられており、その例として、亜硫酸金塩(NaAu(SO)溶液といった非シアン系金めっき液がある。 From such a problem, it is considered desirable to apply a plating solution to which a gold salt or a gold complex containing no cyanide is applied. As an example, a non-gold salt (Na 3 Au (SO 3 ) 2 ) solution such as a gold sulfite solution is considered to be desirable. There is a cyanide gold plating solution.

しかし、これら非シアン系の金めっき液に含まれる金塩又は金錯体は、酸化安定性に乏しく、めっき操業中に分解するという問題がある。例えば、上記した亜硫酸金塩では、溶液中の亜硫酸イオンが、めっき液中の溶存酸素、及び撹拌や被めっき物の出し入れによる空気の巻き込みによって酸化分解しやすく、その濃度が減少するため、金錯体の酸化安定性が低下し、めっき液の分解が生じるということがある。そして、このような分解が生じた場合、めっき液槽又は配管にめっき液の金が析出、沈殿する金沈現象が生じ、めっき作業に支障をきたすこととなる。そのため、非シアン系の電解めっきに対しては、めっき液中に安定剤や錯化剤といった添加剤を添加してめっき液の分解を防止し、めっき処理を行うこととしているが、このような対策は、安定剤のコスト及びめっき液製造工程が複雑となるため、そのコストが上昇することとなる。 However, the gold salt or gold complex contained in these non-cyanide gold plating solutions has a problem of poor oxidative stability and decomposition during the plating operation. For example, in the above-mentioned gold sulfite, the sulfite ion in the solution is easily oxidatively decomposed by the dissolved oxygen in the plating solution and the entrainment of air by stirring or taking in and out the object to be plated, and the concentration thereof decreases. The oxidation stability of the plating solution may decrease and the plating solution may decompose. When such decomposition occurs, gold in the plating solution precipitates and precipitates in the plating solution tank or piping, which hinders the plating operation. Therefore, for non-cyan electrolytic plating, additives such as stabilizers and complexing agents are added to the plating solution to prevent the plating solution from decomposing, and the plating process is performed. As a countermeasure, the cost of the stabilizer and the plating solution manufacturing process become complicated, so that the cost increases.

また、酸化安定性の低い金塩又は金錯体を含有するめっき液はその保管の観点からも問題がある。上記した亜硫酸金塩の場合、保管時に金塩の分解による黒色沈殿が生じ易く、遮光状態での保管が必須でありその管理は容易ではない。 Further, a plating solution containing a gold salt or a gold complex having low oxidative stability has a problem from the viewpoint of its storage. In the case of the above-mentioned gold sulfite, black precipitate is likely to occur due to decomposition of the gold salt during storage, and storage in a light-shielded state is essential, and its management is not easy.

そこで、シアン化合物を含むことなく酸化安定性に優れた金錯体として、ヒダントイン系化合物を配位子として利用した、特許文献1や特許文献2に記載の金錯体が開示されている。特許文献1に記載の金錯体は、塩化金酸又は塩化金酸塩と、ヒダントイン系化合物を水溶液中で反応させ、金イオンにヒダントイン系化合物を配位させた錯体である。また、特許文献2に記載の金錯体は、水酸化金塩とヒダントイン系化合物を水溶液中で加熱して反応させ、金イオンにヒダントイン系化合物を配位させた錯体である。 Therefore, as a gold complex having excellent oxidative stability without containing a cyanide compound, the gold complex described in Patent Document 1 and Patent Document 2 using a hydantin compound as a ligand is disclosed. The gold complex described in Patent Document 1 is a complex in which a chloroauric acid or a chloroauric acid salt is reacted with a hydridein compound in an aqueous solution, and a hydridein compound is coordinated with gold ions. Further, the gold complex described in Patent Document 2 is a complex in which a gold hydroxide salt and a hydantoin-based compound are heated in an aqueous solution and reacted to coordinate gold ions with a hydantoin-based compound.

特開2005−256072号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-256072 特開2003−183258号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-183258

これら金錯体は、上記した亜硫酸塩等の従来の非シアン系の金塩又は金錯体と比較して格段の酸化安定性を備える。ここで、特許文献1及び特許文献2において、金イオンに配位させるヒダントイン系化合物としては、反応後の錯体の酸化安定性が特に優れることから、5,5−ジメチルヒダントインの適用が推奨されている。しかし、5,5−ジメチルヒダントインは、5位炭素に水素原子を持たないことから、自らは酸化しないため、金を3価から1価に還元する反応が起こらず、3価の金イオン錯体で安定化してしまう。この結果、この金イオン錯体を用いて製造された電解金めっき液を用いて金めっきする場合には、陰極電流密度を3価の金イオン錯体に合わせる必要があるため、電流効率の面で不利であった。 These gold complexes have remarkably oxidative stability as compared with conventional non-cyanide gold salts such as sulfites or gold complexes. Here, in Patent Document 1 and Patent Document 2, the application of 5,5-dimethylhydantoin is recommended as the hydantoin-based compound coordinated to gold ions because the oxidative stability of the complex after the reaction is particularly excellent. There is. However, since 5,5-dimethylhydantoin does not have a hydrogen atom at the 5-position carbon, it does not oxidize by itself, so that the reaction of reducing gold from trivalent to monovalent does not occur, and it is a trivalent gold ion complex. It stabilizes. As a result, when gold plating is performed using an electrolytic gold plating solution produced using this gold ion complex, it is necessary to match the cathode current density with the trivalent gold ion complex, which is disadvantageous in terms of current efficiency. Met.

本発明は、上述した状況に鑑みてなされたものであり、シアン化合物を含むことなく酸化安定性に優れており、金めっきする際の電流効率の面で有利な電解金めっき液を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-mentioned situation, and provides an electrolytic gold plating solution which is excellent in oxidative stability without containing a cyanide compound and is advantageous in terms of current efficiency during gold plating. With the goal.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、金源として用いられる金錯体として、1価の金イオンに、特定のヒダントイン系化合物が配位した構造を有するものを用いることで、上記課題を解決できることを見出した。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors use a gold complex used as a gold source having a structure in which a specific hydantoin compound is coordinated with a monovalent gold ion. By doing so, we found that the above problems could be solved.

すなわち、本発明に係る電解金めっき液は、下記[1]の構成からなる。
[1] 金源として金錯体を用い、キレート化剤、伝導塩、緩衝剤を含有する電解金めっき液であって、
前記金錯体は、1価の金イオンに、下記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有していることを特徴とする電解金めっき液。
That is, the electrolytic gold plating solution according to the present invention has the following configuration [1].
[1] An electrolytic gold plating solution containing a chelating agent, a conductive salt, and a buffer using a gold complex as a gold source.
The gold complex is an electrolytic gold plating solution having a structure in which a hydantoin compound represented by the following general formula (1) is coordinated with a monovalent gold ion.

Figure 2020143308
Figure 2020143308

式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。ただし、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。 In formula (1), R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 or R. Both or one of 4 is a hydrogen atom. However, this excludes the case where R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms.

本発明に係る電解金めっき液の好ましい実施形態は、下記[2]〜[4]の構成からなる。
[2] 前記電解金めっき液中の塩素濃度が1000ppm以下である、上記[1]に記載の電解金めっき液。
[3] 前記金錯体がアルカリ塩由来である、上記[1]又は[2]に記載の電解金めっき液。
[4] 前記キレート化剤は、ヒダントイン系化合物及びコハク酸イミドの少なくとも一方を含む、上記[1]〜[3]のいずれか1つに記載の電解金めっき液。
A preferred embodiment of the electrolytic gold plating solution according to the present invention has the following configurations [2] to [4].
[2] The electrolytic gold plating solution according to the above [1], wherein the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution is 1000 ppm or less.
[3] The electrolytic gold plating solution according to the above [1] or [2], wherein the gold complex is derived from an alkali salt.
[4] The electrolytic gold plating solution according to any one of [1] to [3] above, wherein the chelating agent contains at least one of a hydantoin compound and an imide succinimide.

また、本発明に係る電解金めっき液は、下記[5]の構成からなる。
[5] 金源として金錯体を用い、キレート化剤、伝導塩、緩衝剤を含有する電解金めっき液であって、
前記金錯体は、1価の金イオンに、下記一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有しており、前記電解金めっき液中の塩素濃度が1000ppm以下であることを特徴とする電解金めっき液。
The electrolytic gold plating solution according to the present invention has the following configuration [5].
[5] An electrolytic gold plating solution containing a chelating agent, a conductive salt, and a buffer using a gold complex as a gold source.
The gold complex has a structure in which a hydantoin compound represented by the following general formula (2) is coordinated with monovalent gold ions, and the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution is 1000 ppm or less. An electrolytic gold plating solution characterized by.

Figure 2020143308
Figure 2020143308

式(2)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。 In formula (2), R 5 to R 8 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 5 and R 6 are hydrogen atoms, and R 7 or R. Both or one of 8 is a hydrogen atom.

本発明に係る電解金めっき液の好ましい実施形態は、下記[6]又は[7]の構成からなる。
[6] 前記金錯体がアルカリ塩由来である、上記[5]に記載の電解金めっき液。
[7] 前記キレート化剤は、ヒダントイン系化合物及びコハク酸イミドの少なくとも一方を含む、上記[5]又は[6]に記載の電解金めっき液。
A preferred embodiment of the electrolytic gold plating solution according to the present invention has the following configuration [6] or [7].
[6] The electrolytic gold plating solution according to [5] above, wherein the gold complex is derived from an alkali salt.
[7] The electrolytic gold plating solution according to the above [5] or [6], wherein the chelating agent contains at least one of a hydantoin compound and an succinimide.

また、本発明に係る電解金めっき液の製造方法は、下記[8]又は[9]の構成からなる。
[8] 上記[1]〜[4]のいずれか1つに記載の電解金めっき液の製造方法であって、
塩化金酸又は塩化金酸塩と、前記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物と、水酸化アルカリとを水溶液中で反応させて前記金錯体を形成させる工程と、
前記金錯体を含む水溶液を冷却して金錯体アルカリ塩を抽出する工程と、
前記金錯体アルカリ塩を用いて、前記電解金めっき液を製造する工程と、を有することを特徴とする電解金めっき液の製造方法。
[9] 上記[5]〜[7]のいずれか1つに記載の電解金めっき液の製造方法であって、
塩化金酸又は塩化金酸塩と、前記一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物と、水酸化アルカリとを水溶液中で反応させて前記金錯体を形成させる工程と、
前記金錯体を含む水溶液を冷却して金錯体アルカリ塩を抽出する工程と、
前記金錯体アルカリ塩を用いて、前記電解金めっき液を製造する工程と、を有することを特徴とする電解金めっき液の製造方法。
The method for producing the electrolytic gold plating solution according to the present invention comprises the following configuration [8] or [9].
[8] The method for producing an electrolytic gold plating solution according to any one of the above [1] to [4].
A step of reacting a chloroauric acid or a chloroauric acid salt, a hydridein compound represented by the general formula (1), and an alkali hydroxide in an aqueous solution to form the gold complex.
The step of cooling the aqueous solution containing the gold complex to extract the gold complex alkali salt, and
A method for producing an electrolytic gold plating solution, which comprises a step of producing the electrolytic gold plating solution using the gold complex alkaline salt.
[9] The method for producing an electrolytic gold plating solution according to any one of the above [5] to [7].
A step of reacting a chloroauric acid or a chloroauric acid salt, a hydridein compound represented by the general formula (2), and an alkali hydroxide in an aqueous solution to form the gold complex.
The step of cooling the aqueous solution containing the gold complex to extract the gold complex alkali salt, and
A method for producing an electrolytic gold plating solution, which comprises a step of producing the electrolytic gold plating solution using the gold complex alkaline salt.

また、本発明に係る金めっき方法は、下記[10]の構成からなる。
[10] 上記[1]〜[7]のいずれか1つに記載の電解金めっき液を用いてめっき処理する方法であって、
pH:5.0〜10.0、液温:20〜80℃、及び電流密度:0.1〜4.5A/dmの条件で電解めっきするものであることを特徴とする金めっき方法。
Further, the gold plating method according to the present invention has the configuration of the following [10].
[10] A method for plating using the electrolytic gold plating solution according to any one of the above [1] to [7].
A gold plating method characterized by electroplating under the conditions of pH: 5.0 to 10.0, liquid temperature: 20 to 80 ° C., and current density: 0.1 to 4.5 A / dm 2 .

また、本発明に係る金錯体は、下記[11]の構成からなる。
[11] 1価の金イオンに、下記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有していることを特徴とする金錯体。
Further, the gold complex according to the present invention has the following constitution [11].
[11] A gold complex characterized by having a structure in which a hydantoin-based compound represented by the following general formula (1) is coordinated with a monovalent gold ion.

Figure 2020143308
Figure 2020143308

式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。ただし、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。 In formula (1), R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 or R. Both or one of 4 is a hydrogen atom. However, this excludes the case where R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms.

本発明によれば、シアン化合物を含むことなく酸化安定性に優れており、金めっきする際の電流効率の面で有利な電解金めっき液を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an electrolytic gold plating solution which is excellent in oxidation stability without containing a cyanide and is advantageous in terms of current efficiency during gold plating.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変更して実施することができる。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail. The present invention is not limited to the embodiments described below, and can be arbitrarily modified and implemented without departing from the gist of the present invention.

<電解金めっき液>
本実施形態の電解金めっき液について説明する。本実施形態の電解金めっき液は、金源として金錯体を用い、少なくともキレート化剤、伝導塩及び緩衝剤を含有する。この金錯体は、1価の金イオンに、下記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有している。
<Electrolytic gold plating solution>
The electrolytic gold plating solution of the present embodiment will be described. The electrolytic gold plating solution of the present embodiment uses a gold complex as a gold source and contains at least a chelating agent, a conductive salt and a buffer. This gold complex has a structure in which a hydantoin-based compound represented by the following general formula (1) is coordinated with a monovalent gold ion.

Figure 2020143308
Figure 2020143308

式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。ただし、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。 In formula (1), R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 or R. Both or one of 4 is a hydrogen atom. However, this excludes the case where R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms.

本実施形態に係る金錯体は、電解金めっき液中において、金イオンの価数が1であることを特徴とする。金イオンの価数が1であることにより、電解金めっき液を用いて金めっきをする場合に、陰極電流密度を1価の金イオン錯体に合わせることができるため、陰極電流密度を3価の場合と比べて1/3にすることができ、3価の金イオン錯体を用いる場合よりも、電流効率の面で有利であるからである。また、これにより、陽極電流密度も3価の場合と比べて1/3にすることができるため、めっき液の陽極付近での酸化分解を低減することができ、めっき液の長寿命化を図ることができる。 The gold complex according to the present embodiment is characterized in that the valence of gold ions is 1 in the electrolytic gold plating solution. Since the valence of gold ions is 1, the cathode current density can be matched to the monovalent gold ion complex when gold plating is performed using an electrolytic gold plating solution, so that the cathode current density is trivalent. This is because it can be reduced to 1/3 as compared with the case, and is more advantageous in terms of current efficiency than the case where a trivalent gold ion complex is used. Further, as a result, the anode current density can be reduced to 1/3 as compared with the case of trivalent, so that oxidative decomposition of the plating solution in the vicinity of the anode can be reduced and the life of the plating solution can be extended. be able to.

そして、ヒダントイン系化合物を配位子として利用した金錯体において、金イオンの価数を1とするために、ヒダントイン系化合物のうち特定のものを用いる。具体的には、下記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物を配位子として用いることとする。なお、配位子の同定は、金錯体の溶液中で錯体平衡によって遊離した配位子を、簡易的には液体クロマトグラフなどの方法で、分離、定性分析することにより可能である。 Then, in a gold complex using a hydantoin compound as a ligand, a specific hydantoin compound is used in order to set the valence of the gold ion to 1. Specifically, a hydantoin-based compound represented by the following general formula (1) is used as a ligand. The ligand can be identified by separating and qualitatively analyzing the ligand released by the complex equilibrium in the solution of the gold complex by a method such as a liquid chromatograph.

Figure 2020143308
Figure 2020143308

式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。ただし、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。 In formula (1), R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 or R. Both or one of 4 is a hydrogen atom. However, this excludes the case where R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms.

これらのヒダントイン系化合物は、アルカリ性条件下において金を3価から1価に還元する反応が生じ、1価の金イオン錯体で安定化する。 These hydantoin compounds undergo a reaction of reducing gold from trivalent to monovalent under alkaline conditions and are stabilized by a monovalent gold ion complex.

なお、一般式(1)中、R〜Rで表わされる1価の有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基などの直鎖型とイソ型、第二級、第三級などの構造異性体を含むアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基などの直鎖型とイソ型、第二級、第三級などの構造異性体を含むアルケニル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、酢酸基、プロパン酸基などのカルボン酸、アセチル基、プロピオニル基などのアシル基、フェニル基、メチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ベンジル基などの芳香族炭化水素基、ヒドロキシル基などが挙げられる。また、上記有機基としては、水溶性と経済性の観点から、炭素数が1〜3であることが好ましく、1〜2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。 In the general formula (1), examples of the monovalent organic group represented by R 1 to R 4 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and a sec-butyl group. Linear and iso-types such as tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, dodecyl group and hexadecyl group, alkyl groups including structural isomers such as secondary and tertiary, hydroxyalkyl groups, vinyl groups and allyls. Linear and iso-type groups such as groups and isopropenyl groups, alkenyl groups containing structural isomers such as secondary and tertiary, alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups, and carboxylic groups such as acetate and propanoic acid groups. Examples thereof include an acyl group such as an acid, an acetyl group and a propionyl group, an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a methylphenyl group, a hydroxyphenyl group and a benzyl group, and a hydroxyl group. Further, the organic group preferably has 1 to 3 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and further preferably 1 carbon number from the viewpoint of water solubility and economy.

一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物の具体例としては、例えば、ヒダントイン(R〜Rのすべてが水素原子である場合)、3−メチルヒダントイン(Rがメチル基、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)、5−メチルヒダントイン(Rがメチル基、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)、5−ヒダントイン酢酸(Rが酢酸、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)が挙げられる。この中でも、材料として最も安価で経済的な観点から、ヒダントインを用いることが好ましい。 Specific examples of the hydantoin compound represented by the general formula (1) include hydantoin (when all of R 1 to R 4 are hydrogen atoms) and 3-methyl hydantoin (where R 2 is a methyl group and R). 1 , R 3 and R 4 are all hydrogen atoms), 5-Methyl hydantoin (when R 3 is a methyl group and all of R 1 , R 2 and R 4 are hydrogen atoms), 5- Hydantoin acetic acid (when R 3 is acetic acid and all of R 1 , R 2 and R 4 are hydrogen atoms) can be mentioned. Among these, it is preferable to use hydantoin from the viewpoint of the cheapest and most economical material.

なお、上記式(1)において、「Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。」というのは、ヒダントイン系化合物のうち、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合である、「1−メチルヒダントイン」を除くという趣旨である。 In the above formula (1), "except when R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms" means that among hydantoin compounds, R 1 is a methyl group. and all R 2 to R 4 is a case where the hydrogen atom, an effect that excluding "1-methyl hydantoin."

その一方で、これら以外のヒダントイン系化合物、すなわち、例えば、5,5−ジメチルヒダントインや1,5,5−トリメチルヒダントインにおいては、5位炭素(上記一般式(1)を参照)に水素を持たないことから、アルカリ性条件下でも自らが酸化しないため、金を3価から1価に還元する反応が起こらず、3価の金イオン錯体で安定化してしまう。また、ヒダントイン酸においては、ヒダントイン環の構造を持たないことから、アルカリ性条件下でも自らが酸化しないため、上記と同様、金を3価から1価に還元する反応が起こらず、3価の金イオン錯体で安定化してしまう。 On the other hand, other hydantoin compounds, that is, for example, 5,5-dimethylhydantoin and 1,5,5-trimethylhydantoin, have hydrogen at the 5-position carbon (see the above general formula (1)). Since it does not oxidize itself even under alkaline conditions, the reaction of reducing gold from trivalent to monovalent does not occur, and it is stabilized by a trivalent gold ion complex. Further, since hydantoin acid does not have a hydantoin ring structure, it does not oxidize itself even under alkaline conditions, so that the reaction of reducing gold from trivalent to monovalent does not occur as described above, and trivalent gold does not occur. It is stabilized by an ion complex.

さらに、金とヒダントイン系化合物は、1位又は3位窒素上の水素がはずれ、1位又は3位窒素と金が結合して錯体を形成することから(上記一般式(1)を参照)、1位と3位窒素の両方にアルキル基が結合している1,3−ジメチルヒダントインにおいては、そもそも金錯体を形成することができない。 Further, in the gold and the hydantoin compound, the hydrogen on the 1-position or 3-position nitrogen is released, and the 1-position or 3-position nitrogen and gold are bonded to form a complex (see the above general formula (1)). In the case of 1,3-dimethylhydantoin in which an alkyl group is bonded to both the 1-position and 3-position nitrogens, a gold complex cannot be formed in the first place.

また、本実施形態の他の電解金めっき液も、金源として金錯体を用い、キレート化剤、伝導塩、緩衝剤を含有する。この金錯体は、1価の金イオンに、下記一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有しており、電解金めっき液中の塩素濃度が1000ppm以下である。 Further, the other electrolytic gold plating solution of the present embodiment also uses a gold complex as a gold source and contains a chelating agent, a conductive salt, and a buffering agent. This gold complex has a structure in which a hydantoin compound represented by the following general formula (2) is coordinated with monovalent gold ions, and the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution is 1000 ppm or less.

Figure 2020143308
Figure 2020143308

式(2)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。 In formula (2), R 5 to R 8 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 5 and R 6 are hydrogen atoms, and R 7 or R. Both or one of 8 is a hydrogen atom.

これらのヒダントイン系化合物も、アルカリ性条件下において金を3価から1価に還元する反応が生じ、1価の金イオン錯体で安定化する。 These hydantoin compounds also undergo a reaction of reducing gold from trivalent to monovalent under alkaline conditions and are stabilized by a monovalent gold ion complex.

なお、一般式(2)中、R〜Rで表わされる1価の有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基などの直鎖型とイソ型、第二級、第三級などの構造異性体を含むアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基などの直鎖型とイソ型、第二級、第三級などの構造異性体を含むアルケニル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、酢酸基、プロパン酸基などのカルボン酸、アセチル基、プロピオニル基などのアシル基、フェニル基、メチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ベンジル基などの芳香族炭化水素基、ヒドロキシル基などが挙げられる。また、上記有機基としては、水溶性と経済性の観点から、炭素数が1〜3であることが好ましく、1〜2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。 In the general formula (2), examples of the monovalent organic group represented by R 5 to R 8 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and a sec-butyl group. Linear and iso-types such as tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, dodecyl group and hexadecyl group, alkyl groups including structural isomers such as secondary and tertiary, hydroxyalkyl groups, vinyl groups and allyls. Linear and iso-type groups such as groups and isopropenyl groups, alkenyl groups containing structural isomers such as secondary and tertiary, alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups, and carboxylic groups such as acetate and propanoic acid groups. Examples thereof include an acyl group such as an acid, an acetyl group and a propionyl group, an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a methylphenyl group, a hydroxyphenyl group and a benzyl group, and a hydroxyl group. Further, the organic group preferably has 1 to 3 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and further preferably 1 carbon number from the viewpoint of water solubility and economy.

一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物の具体例としては、例えば、ヒダントイン(R〜Rのすべてが水素原子である場合)、1−メチルヒダントイン(Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合)、3−メチルヒダントイン(Rがメチル基、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)、5−メチルヒダントイン(Rがメチル基、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)、5−ヒダントイン酢酸(Rが酢酸、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)が挙げられる。この中でも、材料として最も安価で経済的な観点から、ヒダントインを用いることが好ましい。 Specific examples of the hydantin compound represented by the general formula (2) include hydantin (when all of R 5 to R 8 are hydrogen atoms) and 1-methyl hydantoin (where R 5 is a methyl group and R). If all 6 to R 8 is a hydrogen atom), 3-methyl-hydantoin (R 6 is a methyl group and, when all of R 5, R 7 and R 8 are hydrogen atoms), 5-methyl hydantoin ( When R 7 is a methyl group and all of R 5 , R 6 and R 8 are hydrogen atoms), 5-Hidantine acetic acid (when R 3 is acetic acid and all of R 5 , R 6 and R 8 are hydrogen) (If it is an atom). Among these, it is preferable to use hydantoin from the viewpoint of the cheapest and most economical material.

そして、本実施形態に係る電解金めっき液は、電解金めっき液中の塩素濃度が1000ppm以下であることが好ましい。電解金めっき液中の塩素濃度が1000ppm以下、すなわち、電解金めっき液中の塩素が実質的に含まれないことにより、塩素を嫌う被めっき物への適用が可能となる。 The electrolytic gold plating solution according to this embodiment preferably has a chlorine concentration of 1000 ppm or less in the electrolytic gold plating solution. Since the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution is 1000 ppm or less, that is, chlorine in the electrolytic gold plating solution is substantially not contained, it can be applied to an object to be plated which dislikes chlorine.

ここで、特許文献1のような、塩化金酸又は塩化金酸塩と、ヒダントイン系化合物を反応させて得られる金錯体を用いて製造される電解金めっき液においては、塩化金酸又は塩化金酸塩由来の塩素イオンが電解金めっき液中に多量に含まれるため、塩素を嫌う被めっき物への適用が困難である。 Here, in the electrolytic gold plating solution produced by using a gold complex obtained by reacting a gold chloride acid or a gold chloride salt with a hydantoin-based compound as in Patent Document 1, the gold chloride acid or gold chloride is used. Since a large amount of chloride-derived chlorine ions are contained in the electrolytic gold plating solution, it is difficult to apply it to an object to be plated that dislikes chlorine.

本実施形態において、電解金めっき液中に塩素が実質的に含まれないための指標として、電解金めっき液中の塩素濃度を1000ppm以下としているが、電解金めっき液中の塩素が嫌われる理由として、金被膜の表面に塩素が残留することにより、下地やボンディングとの密着性が低下したり、被膜の腐食の原因となる、金被膜の結晶粒界に存在して硬度調整がしにくい、などの考察がなされており、塩素を嫌う被めっき物への適用を問題なく発揮させるためには、電解金めっき液中の塩素濃度は、500ppm以下であることが好ましく、300ppm以下であることがより好ましく、200ppm以下であることが更に好ましい。 In the present embodiment, the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution is set to 1000 ppm or less as an index for substantially not containing chlorine in the electrolytic gold plating solution, but the reason why chlorine in the electrolytic gold plating solution is disliked. As a result, chlorine remains on the surface of the gold film, which reduces the adhesion to the substrate and bonding, and causes corrosion of the film. It exists in the crystal grain boundaries of the gold film and it is difficult to adjust the hardness. In order to exert the application to the object to be plated, which dislikes chlorine, without any problem, the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution is preferably 500 ppm or less, and preferably 300 ppm or less. More preferably, it is 200 ppm or less.

なお、塩素が実質的に含まれない電解金めっき液を得るための方法については、後述する。 A method for obtaining an electrolytic gold plating solution that does not substantially contain chlorine will be described later.

続いて、本実施形態の電解金めっき液を構成する、キレート化剤、伝導塩及び緩衝剤についてそれぞれ説明する。 Subsequently, the chelating agent, the conductive salt, and the buffering agent that constitute the electrolytic gold plating solution of the present embodiment will be described.

キレート化剤としては、金錯体の配位子とは別に添加するものとし、ヒダントイン、1−メチルヒダントイン、5−メチルヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン及びコハク酸イミドが好適に用いられる。その中で、めっき液中での金錯体の酸化安定性や析出均一性のためには、キレート化剤として、5,5−ジメチルヒダントイン及びコハク酸イミドの少なくとも一方を含むことがより好ましい。電解金めっき液にキレート化剤を用いることにより、極めて安定な金めっき液となる。すなわち、めっき処理において金の沈殿が発生しにくくなる。それは、これらのキレート化剤が、金錯体の配位子と平衡を保ち、亜硫酸のような還元性のものではなく、酸化分解を起こしにくい性質を有しているためである。 As the chelating agent, hydantoin, 1-methylhydantoin, 5-methylhydantoin, 5,5-dimethylhydantoin and succinimide are preferably added separately from the ligand of the gold complex. Among them, it is more preferable to contain at least one of 5,5-dimethylhydantoin and succinimide as a chelating agent for the oxidative stability and precipitation uniformity of the gold complex in the plating solution. By using a chelating agent in the electrolytic gold plating solution, an extremely stable gold plating solution can be obtained. That is, gold precipitation is less likely to occur in the plating process. This is because these chelating agents maintain equilibrium with the ligand of the gold complex, are not reducing substances such as sulfurous acid, and have the property of being less prone to oxidative decomposition.

なお、キレート化剤と、金錯体の配位子との平衡の状態や混合濃度は、イオンクロマト分析や液体クロマト分析などにより見分けることができる。 The state of equilibrium between the chelating agent and the ligand of the gold complex and the mixed concentration can be distinguished by ion chromatography analysis, liquid chromatography analysis, or the like.

キレート化剤の量は、pH5〜7の場合、金に対し0倍モル超、4倍モル以下であることが好ましい。使用量が多く、金錯体の補充が頻繁である場合には、金錯体の配位子が遊離するため、初期にキレート化剤を含ませなくても良く、4倍モルを超える場合には、焼けたような外観になる。 In the case of pH 5 to 7, the amount of the chelating agent is preferably more than 0 times mol and 4 times mol or less with respect to gold. When the amount used is large and the gold complex is frequently replenished, the ligand of the gold complex is liberated. Therefore, it is not necessary to add a chelating agent at the initial stage. It has a burnt appearance.

また、pH8〜10の場合、金に対し4倍モル以上、10倍モル以下であることが好ましい。4倍モルより少ないと、焼けたような外観や、キレート化剤が金錯体の配位子と平衡を保つよりも、金錯体の配位子がアルカリ性によって酸化分解する反応が優先して、金沈現象が見られることがある。また、10倍モルを超える場合には、外観や酸化安定性に変化が見られなくなり、キレート化剤の増加効果があまり期待できない。 Further, in the case of pH 8 to 10, it is preferably 4 times or more and 10 times by mole or less with respect to gold. If it is less than 4 times the molar amount, the reaction in which the ligand of the gold complex is oxidatively decomposed by alkalinity is prioritized over the appearance of burning and the chelating agent maintaining equilibrium with the ligand of the gold complex. A sinking phenomenon may be seen. On the other hand, when the molar amount exceeds 10 times, no change is observed in the appearance and the oxidative stability, and the effect of increasing the chelating agent cannot be expected so much.

伝導塩としては、塩酸、硫酸、亜硫酸、スルファミン酸、硝酸、リン酸、若しくはこれらの塩類のいずれか1種又は2種以上を用いることが好ましい。これらのものを単独又は組み合わせて伝導塩として使用すれば、本実施形態に係る電解金めっき液の溶液安定性が極めて優れたものとなる。 As the conductive salt, it is preferable to use any one or more of hydrochloric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, sulfamic acid, nitric acid, phosphoric acid, and salts thereof. When these substances are used alone or in combination as a conductive salt, the solution stability of the electrolytic gold plating solution according to the present embodiment becomes extremely excellent.

上記した伝導塩を、本実施形態に係る電解金めっき液中に含有させる場合、伝導塩濃度が0.05〜1.95mol/Lの濃度範囲にすることが好ましい。伝導塩濃度が0.05mol/L未満であると、伝導性が低下するため電流効率が低下し、めっきの外観不良も生じやすくなる。また、1.95mol/Lを超えると、電気伝導性や外観に変化が見られなくなり、pHによっては塩析を生じやすくなる。 When the above-mentioned conductive salt is contained in the electrolytic gold plating solution according to the present embodiment, the conductive salt concentration is preferably in the concentration range of 0.05 to 1.95 mol / L. If the concentration of the conductive salt is less than 0.05 mol / L, the conductivity is lowered, the current efficiency is lowered, and the appearance of the plating is likely to be poor. On the other hand, if it exceeds 1.95 mol / L, the electrical conductivity and the appearance are not changed, and salting out is likely to occur depending on the pH.

緩衝剤としては、ホウ酸、コハク酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸、リン酸若しくはこれらの塩類のいずれか1種又は2種以上を用いることが好ましい。これらのものを単独又は組み合わせて緩衝剤として使用すれば、本実施形態に係る電解金めっき液のpHが、大きく変動することがなく、pH的には弱酸性から弱アルカリ性(pH約5.0〜10.0)の中性近傍のめっき液に維持することが容易になる。 As the buffering agent, it is preferable to use any one or more of boric acid, succinic acid, phthalic acid, tartaric acid, citric acid, phosphoric acid or salts thereof. When these substances are used alone or in combination as a buffer, the pH of the electrolytic gold plating solution according to the present embodiment does not fluctuate significantly, and the pH is weakly acidic to weakly alkaline (pH about 5.0). ~ 10.0) It becomes easy to maintain the plating solution in the vicinity of neutrality.

上記した緩衝剤を、本実施形態に係る電解金めっき液中に含有させる場合、緩衝剤濃度が0.05〜1.95mol/Lの濃度範囲にすることが好ましい。緩衝剤濃度が0.05mol/L未満であると、pHを安定化させる効果がなくなる。また、1.95mol/Lを超えると、pHの安定性に変化が見られなくなり、pHによっては塩析を生じやすくなる。 When the above-mentioned buffering agent is contained in the electrolytic gold plating solution according to the present embodiment, the buffering agent concentration is preferably in the concentration range of 0.05 to 1.95 mol / L. If the buffer concentration is less than 0.05 mol / L, the effect of stabilizing the pH is lost. On the other hand, if it exceeds 1.95 mol / L, the pH stability does not change, and salting out tends to occur depending on the pH.

また、伝導塩と緩衝剤との総濃度は、0.1〜2.0mol/Lの濃度範囲にすることが好ましい。伝導塩と緩衝剤との総濃度が0.1〜2.0mol/Lであれば、本実施形態に係る金めっき液が、実操業的に最もトータルバランス的に優れたものとなる。すなわち、溶液安定性に優れ、電流効率も高く、めっき液pHも大きく変動することがなくなる。
なお、冬季における塩析を防止するための観点からは、伝導塩と緩衝剤との総濃度は、0.1〜1.0mol/Lの濃度範囲にすることがより好ましい。
The total concentration of the conductive salt and the buffer is preferably in the concentration range of 0.1 to 2.0 mol / L. When the total concentration of the conductive salt and the buffer is 0.1 to 2.0 mol / L, the gold plating solution according to the present embodiment has the best total balance in actual operation. That is, the solution stability is excellent, the current efficiency is high, and the pH of the plating solution does not fluctuate significantly.
From the viewpoint of preventing salting out in winter, the total concentration of the conductive salt and the buffer is more preferably in the concentration range of 0.1 to 1.0 mol / L.

本実施形態に係る電解金めっき液中の金濃度は、キレート化剤濃度との割合にもよるが、0.5〜15g/Lの濃度範囲であることが好ましい。0.5g/L未満であると、3V以上の電圧をかけないと金の電析が生じず、15g/Lを超えると、被めっき物によってめっき槽外への持ち出しにより、経済的に不便であることや、冬季に塩析しやすくなることが考えられる。 The gold concentration in the electrolytic gold plating solution according to the present embodiment is preferably in the concentration range of 0.5 to 15 g / L, although it depends on the ratio with the chelating agent concentration. If it is less than 0.5 g / L, gold electrodeposition does not occur unless a voltage of 3 V or more is applied, and if it exceeds 15 g / L, it is economically inconvenient because it is taken out of the plating tank by the object to be plated. It is possible that there is something that is likely to be salted out in winter.

さらに、上記金濃度は、4〜8g/Lの濃度範囲であることが好ましい。この濃度範囲では、様々な被めっき物に対応する制御が可能であり、金の消費による濃度変動に対する管理も行いやすい。 Further, the gold concentration is preferably in the concentration range of 4 to 8 g / L. In this concentration range, it is possible to control various objects to be plated, and it is easy to control the concentration fluctuation due to the consumption of gold.

なお、本実施形態に係る電解金めっき液は、金錯体がアルカリ塩由来であることが好ましい。後述するように、本実施形態で用いられる特定のヒダントイン系化合物は、アルカリ性条件下において、1価の金イオン錯体で安定化し、その後抽出された金錯体アルカリ塩は、塩素を実質的に含まないものとなる。この金錯体アルカリ塩を用いて電解金めっき液を製造することで、塩素を嫌う被めっき物への適用が可能な電解金めっき液とすることができる。 In the electrolytic gold plating solution according to the present embodiment, it is preferable that the gold complex is derived from an alkali salt. As will be described later, the specific hydantin compound used in the present embodiment is stabilized with a monovalent gold ion complex under alkaline conditions, and the gold complex alkali salt extracted thereafter is substantially free of chlorine. It becomes a thing. By producing an electrolytic gold plating solution using this gold complex alkaline salt, it is possible to obtain an electrolytic gold plating solution that can be applied to an object to be plated that dislikes chlorine.

上記アルカリ塩としては、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、セシウム塩が例として挙げられるが、中でもナトリウム塩やカリウム塩が好ましい。これらは、従来の金化合物であるシアン化金カリウムや亜硫酸金ナトリウムなどと共通して、経済的に優れたアルカリ金属を用いた塩であるからである。 Examples of the alkali salt include lithium salt, sodium salt, potassium salt, rubidium salt, and cesium salt, and among them, sodium salt and potassium salt are preferable. This is because these are salts using an economically excellent alkali metal in common with conventional gold compounds such as potassium gold cyanide and sodium gold sulfite.

<電解金めっき液の製造方法>
本実施形態に係る電解金めっき液の製造方法について説明する。本実施形態の電解金めっき液の製造方法は、塩化金酸又は塩化金酸塩と、上記一般式(1)又は上記一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物と、水酸化アルカリとを水溶液中で反応させて金錯体アルカリ塩を形成し、金錯体アルカリ塩を抽出する工程と、金錯体アルカリ塩を用いて、電解金めっき液を製造する工程と、を有する。
<Manufacturing method of electrolytic gold plating solution>
A method for producing the electrolytic gold plating solution according to the present embodiment will be described. In the method for producing the electrolytic gold plating solution of the present embodiment, an aqueous solution of gold chloride acid or gold chloride salt, a hydridein compound represented by the general formula (1) or the general formula (2), and an alkali hydroxide is used. It has a step of reacting in the inside to form a gold complex alkali salt and extracting the gold complex alkali salt, and a step of producing an electrolytic gold plating solution using the gold complex alkali salt.

上述したように、本実施形態に係る電解金めっき液は、塩素が実質的に含まれないことを特徴としている。このため、特許文献2に記載のような水酸化金塩を原料として、ヒダントイン系化合物を配位子とする金錯体を形成することも可能であるが、通常、水酸化金塩はその収率はせいぜい60%程度と高くはないことから、電解金めっき液として使用する金のコストが高くなり、経済的ではない。 As described above, the electrolytic gold plating solution according to the present embodiment is characterized in that chlorine is substantially not contained. Therefore, it is possible to form a gold complex using a gold hydroxide salt as described in Patent Document 2 as a raw material and using a hydantin compound as a ligand, but usually, the yield of the gold hydroxide salt is high. Since it is not as high as about 60% at most, the cost of gold used as an electrolytic gold plating solution is high, which is not economical.

そこで、本実施形態では、使用する金のコストを抑制しつつも、塩素を嫌う被めっき物への適用が可能な電解金めっき液を得るため、以下の製造方法により電解金めっき液を得ることを特徴とする。 Therefore, in the present embodiment, in order to obtain an electrolytic gold plating solution that can be applied to an object to be plated that dislikes chlorine while suppressing the cost of gold used, an electrolytic gold plating solution is obtained by the following manufacturing method. It is characterized by.

まず、金錯体を得るための原料として、従来技術と同様、塩化金酸又は塩化金酸塩を準備する。また、金イオンに配位させるための、上記一般式(1)又は上記一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物と、更には、水酸化リチウム(LiOH)、水酸化ナトリウム(NaOH)、水酸化カリウム(KOH)、水酸化ルビジウム(RbOH)、水酸化セシウム(CsOH)、などの水酸化アルカリを準備する。 First, as a raw material for obtaining a gold complex, chloroauric acid or chloroauric acid salt is prepared as in the prior art. Further, a hydantin-based compound represented by the above general formula (1) or the above general formula (2) for coordination with gold ions, and further, lithium hydroxide (LiOH), sodium hydroxide (NaOH), and water. Prepare an alkali hydroxide such as potassium oxide (KOH), rubidium hydroxide (RbOH), cesium hydroxide (CsOH), and the like.

そして、塩化金酸又は塩化金酸塩と、上記のヒダントイン系化合物と、水酸化アルカリとを水溶液中で反応させることで、1価の金イオンに、上記一般式(1)又は上記一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有する金錯体を得る。 Then, by reacting chloroauric acid or chloroauric acid salt, the above-mentioned hydridein compound, and alkali hydroxide in an aqueous solution, monovalent gold ions are converted into the above-mentioned general formula (1) or the above-mentioned general formula ( A gold complex having a structure in which the chloroauric acid compound represented by 2) is coordinated is obtained.

ここで、本実施形態において塩化金酸又は塩化金酸塩とヒダントイン系化合物との反応条件としては、温度40〜80℃、反応時間30〜360分間とするのが好ましい。そして、反応温度については60〜75℃とするのが特に好ましく、反応時間としては180分以上とするのが特に好ましい。 Here, in the present embodiment, the reaction conditions between the chloroauric acid or the chloroauric acid salt and the hydantoin compound are preferably a temperature of 40 to 80 ° C. and a reaction time of 30 to 360 minutes. The reaction temperature is particularly preferably 60 to 75 ° C., and the reaction time is particularly preferably 180 minutes or more.

なお、塩化金酸又は塩化金酸塩と、ヒダントイン系化合物とを単に混合しても液中のヒダントイン化合物はいわゆるキレート化剤としての機能は有するが、金は塩化金錯体の状態のままであって錯体の形成は生じない。そして、このような液で金めっきはできるものの、金は3価のままであるため、その析出量は1/3となり、その析出機構は本実施形態に係る金錯体の場合とは異なるものとなる。 Even if gold chloride acid or gold chloride salt and a hydridein-based compound are simply mixed, the hydridein compound in the liquid has a function as a so-called chelating agent, but gold remains in the state of a gold chloride complex. No complex formation occurs. Although gold plating can be performed with such a liquid, since gold remains trivalent, the amount of precipitation is reduced to 1/3, and the precipitation mechanism is different from that of the gold complex according to the present embodiment. Become.

ここで、本実施形態に係る金錯体の原料は、塩化金酸又は塩化金酸塩であるが、塩化金酸塩としては、塩化金酸とアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム)又はアルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム)との塩が好ましく、塩化金酸ナトリウム若しくは塩化金酸カリウムが特に好ましい。 Here, the raw material of the gold complex according to the present embodiment is chloroauric acid or chloroauric acid salt, and the chloroauric acid salt is chloroauric acid and an alkali metal (lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium). Alternatively, a salt with an alkaline earth metal (magnesium, calcium, strontium, barium) is preferable, and sodium chloroauric acid or potassium chloroauric acid is particularly preferable.

続いて、上記で得られた金錯体を含む溶液を室温(25℃)以下に冷却すると、構造上塩素を含まない金錯体アルカリ塩の結晶が析出するので、固液分離を行い、上記溶液から金錯体アルカリ塩として抽出する。このような処理により、塩素は溶液中に残存した状態となり、抽出された金錯体アルカリ塩には、当然、塩素が実質的に含まれないものとなる。なお、この操作方法によれば、水酸化金塩を用いることなく、非常に高い収率で、上記溶液から金錯体アルカリ塩を得ることができる。 Subsequently, when the solution containing the gold complex obtained above is cooled to room temperature (25 ° C.) or lower, crystals of the gold complex alkali salt which does not contain chlorine due to its structure are precipitated. Therefore, solid-liquid separation is performed and the solution is separated from the above solution. Extracted as a gold complex alkali salt. By such a treatment, chlorine remains in the solution, and the extracted gold complex alkali salt naturally contains substantially no chlorine. According to this operation method, a gold complex alkali salt can be obtained from the above solution in a very high yield without using a gold hydroxide salt.

その後、溶液より抽出された金錯体アルカリ塩を原料として、電解金めっき液を製造すれば、塩素が実質的に含まれない電解金めっき液を得ることができる。 After that, if an electrolytic gold plating solution is produced using the gold complex alkaline salt extracted from the solution as a raw material, an electrolytic gold plating solution containing substantially no chlorine can be obtained.

なお、参考までに、上記特許文献1の段落0017及び上記特許文献2の段落0013において、「水溶液中において金錯体の生成反応を生じさせているが、この錯体をめっき液等への利用に供する場合、この反応後の溶液はそのままめっき液の原料として使用することができ、」とあるが、例えば、塩化金酸又は塩化金酸塩を原料として金錯体を生成する場合の、反応後の溶液をそのままめっき液の原料として使用した場合には、反応後の溶液中に多量の塩素イオンが含まれることで、電解金めっき液中にも多量の塩素イオンが含まれる状態となるため、塩素を嫌う被めっき物への適用は困難である。 For reference, in paragraph 0017 of Patent Document 1 and paragraph 0013 of Patent Document 2, "a gold complex formation reaction is caused in an aqueous solution, and this complex is used as a plating solution or the like. In this case, the solution after the reaction can be used as it is as a raw material for the plating solution. ”However, for example, when a gold complex is formed from gold chloride acid or gold chloride salt as a raw material, the solution after the reaction. When is used as it is as a raw material for the plating solution, a large amount of chlorine ions are contained in the solution after the reaction, so that the electrolytic gold plating solution also contains a large amount of chlorine ions. It is difficult to apply to the object to be plated, which is disliked.

<金めっき方法>
本実施形態に係る金めっき方法について説明する。本実施形態の金めっき方法は、上述の電解金めっき液を用いてめっき処理する方法であって、pH:5.0〜10.0、液温:20〜80℃、及び電流密度:0.1〜4.5A/dmの条件で電解めっきするものである。
<Gold plating method>
The gold plating method according to this embodiment will be described. The gold plating method of the present embodiment is a method of plating using the above-mentioned electrolytic gold plating solution, and has pH: 5.0 to 10.0, liquid temperature: 20 to 80 ° C., and current density: 0. Electroplating is performed under the conditions of 1 to 4.5 A / dm 2 .

金めっき液のpH値は、緩衝剤と伝導塩の濃度によって、pH5.0〜10.0の範囲となり、この範囲であれば、析出する金めっきの外観に異常が発生しない。pHが5.0未満になると、めっき外観にムラが生じ、10.0を超えると、被めっき物にフォトレジスト(以下、PRという)が被覆されている場合に、PRを溶解してしまう傾向となる。 The pH value of the gold plating solution is in the range of pH 5.0 to 10.0 depending on the concentration of the buffer and the conductive salt, and within this range, no abnormality occurs in the appearance of the precipitated gold plating. When the pH is less than 5.0, the appearance of the plating becomes uneven, and when it exceeds 10.0, the PR tends to be dissolved when the photoresist (hereinafter referred to as PR) is coated on the object to be plated. It becomes.

金めっき液の液温を20〜80℃の条件としたのは、20℃未満では実質上めっき処理のばらつきが大きすぎるため操業に適さず、80℃を越えると析出する金めっきの光沢に影響を与えるとともに、溶液寿命が急激に低下するためである。 The condition that the temperature of the gold plating solution was set to 20 to 80 ° C. is not suitable for operation because the variation of the plating process is practically too large below 20 ° C., and if it exceeds 80 ° C., it affects the gloss of gold plating This is because the life of the solution is sharply reduced.

電解時の電流密度を0.1〜4.5A/dmとしたのは、上述のめっき液のpH値、液温、金濃度を考慮して、析出する金めっきの性状が非常に良好な状態となることを確認して決定したものである。この場合のめっき性状とは、外観、密着性、レベリング、硬度等の総合的なものを含むものである。 The current density during electrolysis was set to 0.1 to 4.5 A / dm 2 , because the properties of the precipitated gold plating are very good in consideration of the pH value, liquid temperature, and gold concentration of the above-mentioned plating solution. It was decided after confirming that it would be in a state. The plating properties in this case include comprehensive ones such as appearance, adhesion, leveling, and hardness.

<金錯体>
本実施形態に係る金錯体について説明する。本実施形態の金錯体は、1価の金イオンに、下記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有している。
<Gold complex>
The gold complex according to this embodiment will be described. The gold complex of the present embodiment has a structure in which a hydantoin-based compound represented by the following general formula (1) is coordinated with a monovalent gold ion.

Figure 2020143308
Figure 2020143308

式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。ただし、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。 In formula (1), R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 or R. Both or one of 4 is a hydrogen atom. However, this excludes the case where R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms.

これらのヒダントイン系化合物は、アルカリ性条件下において金を3価から1価に還元する反応が生じ、1価の金イオン錯体で安定化する。 These hydantoin compounds undergo a reaction of reducing gold from trivalent to monovalent under alkaline conditions and are stabilized by a monovalent gold ion complex.

なお、一般式(1)中、R〜Rで表わされる1価の有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基などの直鎖型とイソ型、第二級、第三級などの構造異性体を含むアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基などの直鎖型とイソ型、第二級、第三級などの構造異性体を含むアルケニル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、酢酸基、プロパン酸基などのカルボン酸、アセチル基、プロピオニル基などのアシル基、フェニル基、メチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ベンジル基などの芳香族炭化水素基、ヒドロキシル基などが挙げられる。また、上記有機基としては、水溶性と経済性の観点から、炭素数が1〜3であることが好ましく、1〜2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。 In the general formula (1), examples of the monovalent organic group represented by R 1 to R 4 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and a sec-butyl group. Linear and iso-types such as tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, dodecyl group and hexadecyl group, alkyl groups including structural isomers such as secondary and tertiary, hydroxyalkyl groups, vinyl groups and allyls. Linear and iso-type groups such as groups and isopropenyl groups, alkenyl groups containing structural isomers such as secondary and tertiary, alkoxy groups such as methoxy and ethoxy groups, and carboxylic groups such as acetate and propanoic acid groups. Examples thereof include an acyl group such as an acid, an acetyl group and a propionyl group, an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a methylphenyl group, a hydroxyphenyl group and a benzyl group, and a hydroxyl group. Further, the organic group preferably has 1 to 3 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and further preferably 1 carbon number from the viewpoint of water solubility and economy.

一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物の具体例としては、例えば、ヒダントイン(R〜Rのすべてが水素原子である場合)、3−メチルヒダントイン(Rがメチル基、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)、5−メチルヒダントイン(Rがメチル基、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)、5−ヒダントイン酢酸(Rが酢酸、かつ、R、R及びRのすべてが水素原子である場合)が挙げられる。この中でも、材料として最も安価で経済的な観点から、ヒダントインを用いることが好ましい。 Specific examples of the hydantoin compound represented by the general formula (1) include hydantoin (when all of R 1 to R 4 are hydrogen atoms) and 3-methyl hydantoin (where R 2 is a methyl group and R). 1 , R 3 and R 4 are all hydrogen atoms), 5-Methyl hydantoin (when R 3 is a methyl group and all of R 1 , R 2 and R 4 are hydrogen atoms), 5- Hydantoin acetic acid (when R 3 is acetic acid and all of R 1 , R 2 and R 4 are hydrogen atoms) can be mentioned. Among these, it is preferable to use hydantoin from the viewpoint of the cheapest and most economical material.

なお、上記式(1)において、「Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。」というのは、ヒダントイン系化合物のうち、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合である、「1−メチルヒダントイン」を除くという趣旨である。 In the above formula (1), "except when R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms" means that among hydantoin compounds, R 1 is a methyl group. and all R 2 to R 4 is a case where the hydrogen atom, an effect that excluding "1-methyl hydantoin."

この金錯体を得るための方法としては、上記の<電解金めっき液の製造方法>で説明した通りである。この金錯体を金供給源として、電解金めっき液を得ることにより、上述した種々の効果を得ることができる。 The method for obtaining this gold complex is as described in <Method for producing electrolytic gold plating solution> above. By using this gold complex as a gold supply source to obtain an electrolytic gold plating solution, the above-mentioned various effects can be obtained.

なお、先行技術文献となる論文「Nouman A.Malik、“X−Ray Crystal Structure of Sodium Bis(N−methylhydantoinato)gold(I) Tetrahydrate;a Linear Planar Complex of Pharmacological Interest Stabilised by Two Nitrogen Ligands”、J.C.S.CHEM.COMM.,1978、p.711−712」において、1価の金イオンに1−メチルヒダントインが配位した構造を有する金錯体が開示されている。ただし、当該論文は、リューマチ性関節炎の治療用1価Au錯体の研究に関するものであり、本実施形態のような電解金めっき液への用途としての記載はない。 Incidentally, the prior art documents become paper "Nouman A.Malik," X-Ray Crystal Structure of Sodium Bis (N-methylhydantoinato) gold (I) Tetrahydrate; a Linear Planar Complex of Pharmacological Interest Stabilised by Two Nitrogen Ligands ", J. CS CHEM. COMM., 1978, p.711-712 "discloses a gold complex having a structure in which 1-methylhydrantine is coordinated to a monovalent gold ion. However, this paper relates to the study of a monovalent Au complex for the treatment of rheumatoid arthritis, and there is no description as an application to an electrolytic gold plating solution as in this embodiment.

以下に、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<金錯体アルカリ塩の抽出>
[ヒダントイン金錯体ナトリウム塩の抽出]
ヒダントイン50gを水250mLに溶解させたヒダントイン水溶液を、水酸化ナトリウムでpH11.5〜12.5に調整し、金換算で25gの塩化金酸(HAuCl)を添加し、65℃で180分間加温攪拌して反応させて、ヒダントイン金錯体を得た。
続いて、得られた金錯体を有する水溶液に対し、更に水酸化ナトリウムを添加してpH9.0とした後、当該水溶液を室温(25℃)以下に冷却することで、ヒダントイン金錯体ナトリウム塩の結晶を析出させた。その後、ろ別(固液分離)により、金錯体アルカリ塩であるヒダントイン金錯体ナトリウム塩を水溶液より抽出した。
<Extraction of gold complex alkali salt>
[Extraction of hydantoin gold complex sodium salt]
An aqueous solution of hydantoin in which 50 g of hydantoin is dissolved in 250 mL of water is adjusted to pH 11.5-12.5 with sodium hydroxide, 25 g of chloroauric acid (HAuCl 4 ) in gold equivalent is added, and the mixture is added at 65 ° C. for 180 minutes. The reaction was carried out with warm stirring to obtain a hydantoin gold complex.
Subsequently, sodium hydroxide was further added to the obtained aqueous solution having the gold complex to adjust the pH to 9.0, and then the aqueous solution was cooled to room temperature (25 ° C.) or lower to obtain a sodium salt of the hydantin gold complex. Crystals were precipitated. Then, the hydantoin gold complex sodium salt, which is a gold complex alkali salt, was extracted from the aqueous solution by filtration (solid-liquid separation).

[ヒダントイン金錯体カリウム塩の抽出]
水酸化ナトリウムの代わりに水酸化カリウムを使用したこと以外は、[ヒダントイン金錯体ナトリウム塩の抽出]の操作と同様にして、ヒダントイン金錯体カリウム塩を抽出した。
[Extraction of hydantoin gold complex potassium salt]
The hydridein gold complex potassium salt was extracted in the same manner as in the operation of [Extraction of hydrantin gold complex sodium salt] except that potassium hydroxide was used instead of sodium hydroxide.

[5−メチルヒダントイン金錯体ナトリウム塩の抽出]
ヒダントイン50gの代わりに5−メチルヒダントイン63gを使用したこと以外は、[ヒダントイン金錯体ナトリウム塩の抽出]の操作と同様にして、5−メチルヒダントイン金錯体ナトリウム塩を抽出した。
[Extraction of 5-methylhydantoin gold complex sodium salt]
The 5-methylhydantoin gold complex sodium salt was extracted in the same manner as in the operation of [Extraction of hydantoin gold complex sodium salt] except that 63 g of 5-methylhydantoin was used instead of 50 g of hydantoin.

なお、上記で得られたヒダントイン金錯体ナトリウム塩、ヒダントイン金錯体カリウム塩及び5−メチルヒダントイン金錯体ナトリウム塩は、金めっきにおける析出効率(詳細は後述)により、1価の金イオンを有することが確認された。 The hydridein gold complex sodium salt, hydrantin gold complex potassium salt and 5-methylhydrantin gold complex sodium salt obtained above may have monovalent gold ions due to the precipitation efficiency in gold plating (details will be described later). confirmed.

<電解金めっき液の製造、及び金めっき処理>
[実験No.1〜12]
上記で得られたヒダントイン金錯体ナトリウム塩、ヒダントイン金錯体カリウム塩及び5−メチルヒダントイン金錯体ナトリウム塩のいずれかを金錯体塩として用い、表1に示すような各仕様の電解金めっき液を製造した(実験No.1〜12)。なお、実験No.1においては、キレート化剤の添加を行わなかった。
<Manufacturing of electrolytic gold plating solution and gold plating treatment>
[Experiment No. 1-12]
Using any of the hydrantin gold complex sodium salt, hydrantin gold complex potassium salt, and 5-methylhydrantin gold complex sodium salt obtained above as the gold complex salt, an electrolytic gold plating solution having each specification as shown in Table 1 is produced. (Experiments Nos. 1 to 12). In addition, Experiment No. In No. 1, no chelating agent was added.

[実験No.13]
5,5−ジメチルヒダントイン64gを水250mLに溶解させた5,5−ジメチルヒダントイン水溶液を、水酸化ナトリウムでpH11.5〜12.5に調整し、金換算で25gの塩化金酸(HAuCl)を添加し、65℃で180分間加温攪拌して反応させて、5,5−ジメチルヒダントイン金錯体を得た。
[Experiment No. 13]
An aqueous solution of 5,5-dimethylhydranthin in which 64 g of 5,5-dimethylhydranthin was dissolved in 250 mL of water was adjusted to pH 11.5-12.5 with sodium hydroxide, and 25 g of gold chloride (HAuCl 4 ) was converted into gold. Was added, and the mixture was heated and stirred at 65 ° C. for 180 minutes to react to obtain a 5,5-dimethylhydantin gold complex.

得られた金錯体を有する水溶液に対し、更に水酸化ナトリウムを添加してpH9.0とした後、当該水溶液を室温(25℃)以下に冷却したが、5,5−ジメチルヒダントイン金錯体ナトリウム塩の結晶を析出させることができなかった。その後、当該水溶液をそのままめっき液の原料(表1の実験No.13における、5,5−ジメチルヒダントイン金溶液)として使用し、表1に示すような仕様の電解金めっき液を製造した(実験No.13)。 Sodium hydroxide was further added to the obtained aqueous solution having a gold complex to adjust the pH to 9.0, and then the aqueous solution was cooled to room temperature (25 ° C.) or lower, but the 5,5-dimethylhydantoin gold complex sodium salt was cooled. Could not precipitate the crystals of. Then, the aqueous solution was used as it was as a raw material for the plating solution (5,5-dimethylhydantoin gold solution in Experiment No. 13 in Table 1) to produce an electrolytic gold plating solution having specifications as shown in Table 1 (experiment). No. 13).

[実験No.14]
ヒダントイン50gを水250mLに溶解させたヒダントイン水溶液に、金換算で25gの塩化金酸ナトリウム(NaAuCl)を添加し、65℃で180分間加温攪拌して反応させて、ヒダントイン金錯体を得た。
[Experiment No. 14]
To an aqueous hydantoin solution in which 50 g of hydantoin was dissolved in 250 mL of water, 25 g of sodium chloroauric acid (NaAuCl 4 ) in terms of gold was added, and the mixture was heated and stirred at 65 ° C. for 180 minutes to react to obtain a hydantoin gold complex. ..

得られた金錯体を有する水溶液に対し、更に水酸化ナトリウムを添加してpH9.0とした後、当該水溶液を室温(25℃)以下に冷却したが、ヒダントイン金錯体ナトリウム塩の結晶を析出させることができなかった。その後、当該水溶液をそのままめっき液の原料(表1の実験No.14における、ヒダントイン金溶液)として使用し、表1に示すような仕様の電解金めっき液を製造した(実験No.14)。 Sodium hydroxide was further added to the obtained aqueous solution having the gold complex to adjust the pH to 9.0, and then the aqueous solution was cooled to room temperature (25 ° C.) or lower to precipitate crystals of the sodium salt of the hidden gold complex. I couldn't. Then, the aqueous solution was used as it was as a raw material for the plating solution (hydantoin gold solution in Experiment No. 14 in Table 1) to produce an electrolytic gold plating solution having specifications as shown in Table 1 (Experiment No. 14).

続いて、金錯体アルカリ塩を電解金めっき液の原料とした、実験No.1〜12の各電解金めっき液に対し、イオンクロマト分析(Thermo SCIENTIFIC社製、装置名:Dionex ICS−2100、分離カラム:Dionex IonPacTM AS12A(4x200mm))を行った所、金濃度が8g/Lでは、電解金めっき液中の塩素濃度が550ppm、金濃度が4g/Lでは、電解金めっき液中の塩素濃度が300ppmであることを確認した(表1の「塩素濃度(ppm)」を参照)。 Subsequently, Experiment No. 1 in which a gold complex alkali salt was used as a raw material for the electrolytic gold plating solution. Ion chromatographic analysis (manufactured by Thermo SCIENTIFIC, device name: Dionex ICS-2100, separation column: Dionex IonPacTM AS12A (4x200 mm)) was performed on each of the electrolytic gold plating solutions 1 to 12, and the gold concentration was 8 g / L. Then, it was confirmed that when the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution was 550 ppm and the gold concentration was 4 g / L, the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution was 300 ppm (see “Chlorine concentration (ppm)” in Table 1). ).

一方、金錯体を生成した水溶液をそのままめっき液の原料とした、実験No.13及び14の各電解金めっき液に対し、上記と同様にイオンクロマト分析を行った所、実験No.13については塩素濃度が5800ppm、実験No.14については塩素濃度が5700ppmと、いずれも非常に高い塩素濃度であった(表1の試験結果における「塩素濃度(ppm)」を参照)。 On the other hand, the aqueous solution in which the gold complex was formed was used as it was as a raw material for the plating solution. Ion chromatographic analysis was performed on each of the electrolytic gold plating solutions 13 and 14 in the same manner as described above. For No. 13, the chlorine concentration was 5800 ppm, and Experiment No. For No. 14, the chlorine concentration was 5700 ppm, which was a very high chlorine concentration (see “Chlorine concentration (ppm)” in the test results in Table 1).

また、実験No.1〜14の各電解金めっき液を用い、共通条件として、めっき液温度を60℃とし、真ちゅう製であり、Ni:5μm及びAuストライクめっきを施したテストピースに、電流密度0.5A/dmでめっき処理を行った。得られた各金めっき膜の外観結果も表1に合わせて示す。ここで、表1の「外観」における「○」は、明るいレモンイエローの色調を呈していたことを示し、「×」は、暗く茶色の焼けた色調を呈していたことを示し、「−」は、以下の析出効率の結果より金イオンが3価のままであったことから、外観の評価を行わなかったことを示す。なお、実験No.12については、キレート化剤の添加量が、pH8〜10の場合において金に対し4倍モル未満であったため、焼けたような外観に加え、金錯体の配位子がアルカリ性によって酸化分解する反応が生じ、微量であるが金が沈殿する金沈現象が生じたため、表1の「外観」の欄を「×、金沈現象」と表記した。 In addition, Experiment No. Using each of the electrolytic gold plating solutions 1 to 14, as a common condition, the plating solution temperature was set to 60 ° C., and a test piece made of brass and subjected to Ni: 5 μm and Au strike plating had a current density of 0.5 A / dm. The plating process was performed in step 2 . The appearance results of each of the obtained gold-plated films are also shown in Table 1. Here, "○" in the "appearance" of Table 1 indicates that the color tone was bright lemon yellow, and "x" indicates that the color tone was dark brown and burnt, and "-". Indicates that the appearance was not evaluated because the gold ions remained trivalent from the results of the following precipitation efficiencies. In addition, Experiment No. Regarding No. 12, since the amount of the chelating agent added was less than 4 times the molar amount of gold when the pH was 8 to 10, in addition to the burnt appearance, the reaction in which the ligand of the gold complex was oxidatively decomposed by alkalinity. However, a small amount of gold settling occurred, so the column of "appearance" in Table 1 was described as "x, gold settling phenomenon".

さらに、実験No.1〜14の各電解金めっき液を用いためっき処理における析出効率を算出した。表1に、析出効率の結果を示す。表1の結果より、実験No.1〜12における析出効率(mg/A・min)は、金錯体が1価の金イオンを有する場合の理論値である122.5mg/A・minの95%以上(すなわち、約116.3mg/A・min以上)の値を示しており、当該電解金めっき液は、1価の金イオンを有することが確認された。 Furthermore, Experiment No. The precipitation efficiency in the plating treatment using each of the electrolytic gold plating solutions 1 to 14 was calculated. Table 1 shows the results of precipitation efficiency. From the results in Table 1, Experiment No. The precipitation efficiency (mg / A · min) in 1 to 12 is 95% or more (that is, about 116.3 mg / min) of 122.5 mg / A · min, which is a theoretical value when the gold complex has monovalent gold ions. It showed a value of A · min or more), and it was confirmed that the electrolytic gold plating solution had monovalent gold ions.

一方、実験No.13及び14における析出効率(mg/A・min)は、金錯体が3価の金イオンを有する場合の理論値である40.8mg/A・min程度の値を示しており、これら電解金めっき液は、3価の金イオンを有することが確認された。 On the other hand, Experiment No. The precipitation efficiency (mg / A · min) at 13 and 14 shows a value of about 40.8 mg / A · min, which is a theoretical value when the gold complex has trivalent gold ions, and these electrolytic gold plating It was confirmed that the liquid had trivalent gold ions.

以上の実験結果より、実験No.1〜12の電解金めっき液における金錯体は、1価の金イオンを有することが確認され、金めっきする際の電流効率の面で有利になることが示された。また、上記で示した金錯体アルカリ塩を金供源として製造された電解金めっき液(実験No.1〜12)は、実質的に塩素を含まないことが確認され、塩素を嫌う被めっき物への適用が可能であることが示された。 From the above experimental results, Experiment No. It was confirmed that the gold complexes in the electrolytic gold plating solutions 1 to 12 had monovalent gold ions, and it was shown to be advantageous in terms of current efficiency during gold plating. Further, it was confirmed that the electrolytic gold plating solution (Experiments Nos. 1 to 12) produced by using the gold complex alkali salt shown above as a gold source was substantially free of chlorine, and the object to be plated dislikes chlorine. It was shown that it can be applied to.

Figure 2020143308
Figure 2020143308

<金錯体の酸化安定性の確認>
上記で得られたヒダントイン金錯体ナトリウム塩を金として5g/L含む溶液を、pH7.0に調整して、5本に分配した。それぞれに3.45%過酸化水素水(H)を、Au当量比で0、0.5、1.0、2.0、3.0、5.0となるように添加した。室温で保管したところ、95時間後も外観の変化は起こらなかった。なお、pHは最大で0.4低下した。
<Confirmation of oxidative stability of gold complex>
The solution containing 5 g / L of the hydantoin gold complex sodium salt obtained above as gold was adjusted to pH 7.0 and partitioned into 5 bottles. 3.45% hydrogen peroxide solution (H 2 O 2 ) was added to each of them so as to have an Au equivalent ratio of 0, 0.5, 1.0, 2.0, 3.0 and 5.0. When stored at room temperature, the appearance did not change even after 95 hours. The pH decreased by 0.4 at the maximum.

また、亜硫酸金ナトリウム(NaAu(SO)を金として5g/L含む溶液を、pH9.8であることを確認して、6本に分配した。それぞれに3.45%過酸化水素水(H)を、Au当量比で0、0.5、1.1、1.4、1.7、2.0、5.4となるように添加した。室温で保管したところ、数時間後から過酸化水素の添加量が多いものから金と思われる沈殿が見られ、68時間後には1.1当量以上の添加量の場合で多くの沈殿が見られた。なお、pHは1.1当量以上の添加量の場合で大きく低下した。 Further, a solution containing 5 g / L of gold sodium sulfite (Na 3 Au (SO 3 ) 2 ) as gold was confirmed to have a pH of 9.8 and distributed to 6 bottles. Add 3.45% hydrogen peroxide solution (H 2 O 2 ) to each of them so that the Au equivalent ratio is 0, 0.5, 1.1, 1.4, 1.7, 2.0, 5.4. Was added to. When stored at room temperature, a precipitation that seems to be gold was observed from a large amount of hydrogen peroxide added after several hours, and a large amount of precipitation was observed after 68 hours when the amount of hydrogen peroxide added was 1.1 equivalents or more. It was. The pH was significantly reduced when the amount added was 1.1 equivalents or more.

以上の比較実験より、上記で得られたヒダントイン金錯体は、非シアン系の金源として用いられる亜硫酸金塩と比べて、金錯体の酸化安定性が優れていることが確認された。 From the above comparative experiments, it was confirmed that the hydantoin gold complex obtained above is superior in oxidative stability of the gold complex to the gold sulfite used as a non-cyanide gold source.

Claims (11)

金源として金錯体を用い、キレート化剤、伝導塩、緩衝剤を含有する電解金めっき液であって、
前記金錯体は、1価の金イオンに、下記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有していることを特徴とする電解金めっき液。
Figure 2020143308

(式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。ただし、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。)
An electrolytic gold plating solution that uses a gold complex as a gold source and contains a chelating agent, a conductive salt, and a buffer.
The gold complex is an electrolytic gold plating solution having a structure in which a hydantoin compound represented by the following general formula (1) is coordinated with a monovalent gold ion.
Figure 2020143308

(In the formula (1), R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 or R 3 or Both or one of R 4 is a hydrogen atom, except when R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms.)
前記電解金めっき液中の塩素濃度が1000ppm以下である、請求項1に記載の電解金めっき液。 The electrolytic gold plating solution according to claim 1, wherein the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution is 1000 ppm or less. 前記金錯体がアルカリ塩由来である、請求項1又は2に記載の電解金めっき液。 The electrolytic gold plating solution according to claim 1 or 2, wherein the gold complex is derived from an alkali salt. 前記キレート化剤は、ヒダントイン系化合物及びコハク酸イミドの少なくとも一方を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電解金めっき液。 The electrolytic gold plating solution according to any one of claims 1 to 3, wherein the chelating agent contains at least one of a hydantoin compound and an imide succinimide. 金源として金錯体を用い、キレート化剤、伝導塩、緩衝剤を含有する電解金めっき液であって、
前記金錯体は、1価の金イオンに、下記一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有しており、前記電解金めっき液中の塩素濃度が1000ppm以下であることを特徴とする電解金めっき液。
Figure 2020143308

(式(2)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。)
An electrolytic gold plating solution that uses a gold complex as a gold source and contains a chelating agent, a conductive salt, and a buffer.
The gold complex has a structure in which a hydantoin compound represented by the following general formula (2) is coordinated with monovalent gold ions, and the chlorine concentration in the electrolytic gold plating solution is 1000 ppm or less. An electrolytic gold plating solution characterized by.
Figure 2020143308

(In the formula (2), R 5 to R 8 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 5 and R 6 are hydrogen atoms and R 7 or R 7 or one of them. Both or one of R 8 is a hydrogen atom.)
前記金錯体がアルカリ塩由来である、請求項5に記載の電解金めっき液。 The electrolytic gold plating solution according to claim 5, wherein the gold complex is derived from an alkali salt. 前記キレート化剤は、ヒダントイン系化合物及びコハク酸イミドの少なくとも一方を含む、請求項5又は6に記載の電解金めっき液。 The electrolytic gold plating solution according to claim 5 or 6, wherein the chelating agent contains at least one of a hydantoin compound and an imide succinimide. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の電解金めっき液の製造方法であって、
塩化金酸又は塩化金酸塩と、前記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物と、水酸化アルカリとを水溶液中で反応させて前記金錯体を形成させる工程と、
前記金錯体を含む水溶液を冷却して金錯体アルカリ塩を抽出する工程と、
前記金錯体アルカリ塩を用いて、前記電解金めっき液を製造する工程と、を有することを特徴とする電解金めっき液の製造方法。
The method for producing an electrolytic gold plating solution according to any one of claims 1 to 4.
A step of reacting a chloroauric acid or a chloroauric acid salt, a hydridein compound represented by the general formula (1), and an alkali hydroxide in an aqueous solution to form the gold complex.
The step of cooling the aqueous solution containing the gold complex to extract the gold complex alkali salt, and
A method for producing an electrolytic gold plating solution, which comprises a step of producing the electrolytic gold plating solution using the gold complex alkaline salt.
請求項5〜7のいずれか1項に記載の電解金めっき液の製造方法であって、
塩化金酸又は塩化金酸塩と、前記一般式(2)で表わされるヒダントイン系化合物と、水酸化アルカリとを水溶液中で反応させて前記金錯体を形成させる工程と、
前記金錯体を含む水溶液を冷却して金錯体アルカリ塩を抽出する工程と、
前記金錯体アルカリ塩を用いて、前記電解金めっき液を製造する工程と、を有することを特徴とする電解金めっき液の製造方法。
The method for producing an electrolytic gold plating solution according to any one of claims 5 to 7.
A step of reacting a chloroauric acid or a chloroauric acid salt, a hydridein compound represented by the general formula (2), and an alkali hydroxide in an aqueous solution to form the gold complex.
The step of cooling the aqueous solution containing the gold complex to extract the gold complex alkali salt, and
A method for producing an electrolytic gold plating solution, which comprises a step of producing the electrolytic gold plating solution using the gold complex alkaline salt.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の電解金めっき液を用いてめっき処理する方法であって、
pH:5.0〜10.0、液温:20〜80℃、及び電流密度:0.1〜4.5A/dmの条件で電解めっきするものであることを特徴とする金めっき方法。
A method for plating using the electrolytic gold plating solution according to any one of claims 1 to 7.
A gold plating method characterized by electroplating under the conditions of pH: 5.0 to 10.0, liquid temperature: 20 to 80 ° C., and current density: 0.1 to 4.5 A / dm 2 .
1価の金イオンに、下記一般式(1)で表わされるヒダントイン系化合物が配位した構造を有していることを特徴とする金錯体。
Figure 2020143308

(式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子、かつ、R又はRの両方又はいずれか一方が水素原子である。ただし、Rがメチル基、かつ、R〜Rのすべてが水素原子である場合を除く。)
A gold complex characterized by having a structure in which a hydantoin-based compound represented by the following general formula (1) is coordinated to a monovalent gold ion.
Figure 2020143308

(In the formula (1), R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and either or both of R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 or R 3 or Both or one of R 4 is a hydrogen atom, except when R 1 is a methyl group and all of R 2 to R 4 are hydrogen atoms.)
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