JP2020141102A - 発光装置及び発光装置の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】信頼性の高い発光装置を提供する。【解決手段】発光装置は、透光性を有する第1絶縁体21と、第1絶縁体の表面に設けられる導体層23と、透光性を有し、導体層に対向して配置される第2絶縁体22と、第1絶縁体と前記第2絶縁体の間に配置され、導体層に接続される発光素子301〜8と、透光性を有し、第1絶縁体と第2絶縁体の間に配置される第3絶縁体24と、を備え、導体層と発光素子との間の接圧が、0.02N以上、6N以下である。【選択図】図3

Description

本発明の実施形態は、発光装置及び発光装置の製造方法に関する。
発光ダイオード(LED)などの発光素子を備える発光装置は、屋内用、屋外用、定置用、移動用等の表示装置、表示用ランプ、各種スイッチ類、信号装置、一般照明等の光学装置に幅広く利用されている。この種の発光装置としては、透光性を有する2枚の絶縁基板と、絶縁基板の間に配置される複数のLEDを備える発光装置が知られている。LEDを備える発光装置は、各種の文字列、幾何学的な図形や模様等を表示する表示装置や、表示用ランプ等に適している。
発光装置を構成する絶縁基板として、可撓性を有する樹脂製の基板等を用いることによって、自由に湾曲させたり、折り曲げたりすることが可能な発光装置を実現することができる。このような可撓性を有する発光装置を、表示装置や表示用ランプ等として用いることで、表示装置等の取り付け面に対する制約が軽減される。そのため、利便性や利用可能性が高い表示装置を提供することができる。
上述した発光装置は、室内で使用する際には充分な電気的信頼性、及び機械的信頼性を確保することが容易である。しかしながら、発光装置を、屋外の過酷な環境下や、自動車等の部品として使用する場合には、高温多湿の環境下で、長時間の使用に耐え得るような発光装置を提供する必要がある。このような発光装置を提供するためには、LEDの電極と導体層との接続信頼性を向上する必要がある。
特開2012−084855号 特願2018−164940号 特願2016−549955号 特願2018−164946号 特願2018−161656号
本発明は、上述の事情の下になされたもので、発光装置の信頼性を長期間にわたって確保することを課題とする。
上述の課題を達成するために、本実施形態に係る発光装置は、透光性を有する第1絶縁体と、第1絶縁体の表面に設けられる第1導体層と、透光性を有し、第1導体層に対向して配置される第2絶縁体と、第1絶縁体と第2絶縁体の間に配置され、第1導体層に接続される発光素子と、透光性を有し、第1絶縁体と第2絶縁体の間に配置される第3絶縁体と、を備え、導電回路層と発光素子との間の接圧が、0.02N以上、6N以下である。
発光装置の斜視図である。 発光装置の展開斜視図である。 発光モジュールの側面図である。 発光装置の平面図である。 導体層に接続される発光素子を示す図である。 発光素子の斜視図である。 フレキシブルケーブルの側面図である。 発光モジュールとフレキシブルケーブルの接続要領を説明するための図である。 発光モジュールの製造要領を説明するための図である。 発光モジュールの製造要領を説明するための図である。 発光モジュールの製造要領を説明するための図である。 発光素子近傍を模式的に示す図である。 発光素子の近傍の顕微鏡写真のスケッチを示す図である。 接圧の測定方法を説明するための図である。 接圧の測定結果を示す図である。 絶縁体の引張貯蔵弾性率の温度依存性を示す図である。 絶縁体の膨張率及びビカット軟化温度の測定結果を示す図である。 接圧の温度依存性を示す図である。 高温高湿試験の結果を示す図である。 温度サイクル試験の結果を示す図である。 発光素子の電流−電圧特性を示す図である。 発光モジュールの変形例を示す図である。 発光モジュールの変形例を示す図である。 発光モジュールの変形例を示す図である。 発光装置の使用例を示す図である。 発光装置の変形例を示す図である。 発光モジュールの変形例を示す図である。 発光モジュールの変形例を示す図である。 接圧の測定方法の変形例を説明するための図である。
以下、本発明の実施形態を、図面を用いて説明する。説明には、相互に直交するX軸、Y軸、Z軸からなるXYZ座標系を用いる。
図1は本実施形態に係る発光装置10の斜視図である。また、図2は発光装置10の展開斜視図である。図1及び図2を参照するとわかるように、発光装置10は、長手方向をX軸方向とする発光モジュール20と、発光モジュール20に接続されるフレキシブルケーブル40と、フレキシブルケーブル40に設けられるにコネクタ50及び補強板60を有している。
図3は、発光モジュール20の側面図である。図3に示されるように、発光モジュール20は、1組の絶縁体21,22、絶縁体21,22の間に形成された絶縁体24、絶縁体24の内部に配置された8個の発光素子30〜30を有している。絶縁体21,22は、長手方向をX軸方向とするフィルム状の部材である。絶縁体21,22は、厚さが50〜300μm程度であり、可視光に対して透光性を有する。絶縁体21、22の全光線透過率は、5〜95%程度であることが好ましい。なお、全光線透過率とは、日本工業規格JISK7375:2008に準拠して測定された全光透過率をいう。
絶縁体21,22は、可撓性を有し、その曲げ弾性率は、0kgf/mm以上、320kgf/mm以下である。なお、曲げ弾性率とは、ISO178(JIS K7171:2008)に準拠する方法で測定された値である。絶縁体21,22の素材としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンサクシネート(PES)、環状オレフィン樹脂(例えばJSR社製のアートン(商品名))、アクリル樹脂などを用いることが考えられる。
上記1組の絶縁体21,22のうち、絶縁体21の下面(図3における−Z側の面)には、厚さが0.05〜10μm程度の導体層23が形成されている。導体層23は、例えば、蒸着膜や、スパッタ膜である。また、導体層23は、金属膜を接着剤で貼り付けたものであってもよい。
導体層23が、蒸着膜やスパッタ膜である場合は、導体層23の厚さは0.05〜2μm程度である。導体層23が、接着された金属膜である場合は、導体層23の厚さは2〜10μm、或いは2〜7μm程度である。導体層23は、金や銀、銅等の不透明導電材料の微粒子を、絶縁体21に、メッシュ状に付着させたものであってもよい。例えば、絶縁体21に、ハロゲン化銀のような不透明導電材料の感光性化合物を塗布して薄膜を形成し、この薄膜に露光・現像処理を施してメッシュ状の導体層を形成してもよい。また、金や銅などの不透明導電材料微粒子を含むスラリーをスクリーン印刷等でメッシュ状に塗布することによって導体層23を形成してもよい。
また、導体層23は、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛(IZO)等の透明導電材料を用いることもできる。導体層23は、例えば、スパッタ法や電子ビーム蒸着法等によって絶縁体21に形成された薄膜を、レーザ加工やエッチング処理を用いてパターニングすることにより形成することができる。導体層23は、例えば平均粒子径が10〜300nmの透明導電材料の微粒子と透明樹脂バインダとの混合物を、絶縁体21にスクリーン印刷することによっても形成することができる。また、絶縁体21に、上記混合物からなる薄膜を形成し、この薄膜をレーザ加工やフォトリソグラフィにより、パターニングすることによっても形成することができる。
導体層23は、発光モジュール20全体として、JIS K7375で規定される全光線透過率が1%以上となるような透光性を有していることが好ましい。発光モジュール1全体としての全光線透過率が1%未満であると、発光点が輝点として認識されなくなる。導体層23自体の透光性は、その構成によっても異なるが、全光線透過率が10〜85%の範囲であることが好ましい。
図4は、発光装置10の平面図である。図4を参照するとわかるように、導体層23は、絶縁体21の+Y側の外縁に沿って形成されるL字状の導電回路23aと、絶縁体21の−Y側の外縁に沿って配列される長方形の導電回路23b〜23iからなる。発光装置10では、導電回路23a〜23i同士の距離Dは、1000μm以下、より好ましくは200μm以下、さらに好ましくは100μm以下である。
図5は、導電回路23a,23bの一部を拡大して示す図である。図5に示されるように、導電回路23a〜23iは、線幅が約5μmのラインパターンからなるメッシュパターンである。X軸に平行なラインパターンは、Y軸に沿って約150μm間隔で形成されている。また、Y軸に平行なラインパターンは、X軸に沿って約150μm間隔で形成されている。各導電回路23a〜23iには、発光素子30〜30の電極が接続されるパッド23Pが形成されている。
発光装置10では、絶縁体22の方が、絶縁体21よりもX軸方向の長さが短い。このため、図3及び図4を参照するとわかるように、導体層23を構成する導電回路23aと導電回路23iの+X側端が露出した状態になっている。
図3に示されるように、絶縁体24は、絶縁体21と絶縁体22の間に形成された絶縁体である。絶縁体24は、例えば、エポキシ系の熱硬化性樹脂からなる。絶縁体24は、例えば、硬化前の最低溶融粘度VC1が80〜160℃の範囲で10〜10000Pa・sであることが好ましい。また、硬化前の最低溶融粘度VC1における温度T1(最軟化温度)に到達するまでの溶融粘度変化率VRが1/1000以下(1000分の1以下)であることが好ましい。さらに、絶縁体24は、加熱されることにより最低溶融粘度に到達した後、すなわち、硬化した後のビカット軟化温度T2が0〜160℃の範囲であり、0℃から100℃の範囲での引張貯蔵弾性率EMが0.01〜1000GPaであることが好ましい。
溶融粘度は、JIS K7233に記載の方法に従って、測定対象物の温度を50℃〜180℃まで変化させて求められる値である。ビカット軟化温度は、JIS K7206(ISO 306:2004)に記載のA50に従って、試験荷重10N、昇温速度50℃/時間の条件で求められる値である。ガラス転移温度と融解温度は、JIS K7121(ISO 3146)に準拠した方法に従って、示差走査熱量測定により求められる値である。引張貯蔵弾性率、損失正接は、JlS K7244−1(ISO 6721)に準拠した方法に従って求められる値である。
引張貯蔵弾性率の測定は、発光モジュール20の両面を、少しずつ注意深く研磨して、絶縁体21、22を除去して取り出した絶縁体24を試験片として行った。この絶縁体24の引張貯蔵弾性率は、JlS K7244−1(ISO 6721)に準拠した方法に従って求められる値である。具体的には、−100℃から200℃まで1分間に1℃ずつ等速昇温される測定対象物を、動的粘弾性自動測定器を用いて周波数10Hzでサンプリングすることにより得られる値である。
絶縁体24の厚さT2は、導体層23とバンプ37,38とが良好に接触するように、発光素子30〜30の高さT1より小さくなっている。絶縁体24と密着している絶縁体21,22は、発光素子30〜30が配置されている部分が外側に突出し、発光素子30〜30同士の間の部分が窪むように湾曲した形状を有している。このように絶縁体21,22が湾曲することで、絶縁体21,22によって、導体層23がバンプ37,38に押し付けられた状態になっている。
絶縁体24の厚さT1は、100〜200μであり、厚さT2は、50〜150μm程度である。また、絶縁体24の厚さT1は、130〜170μmであることが好ましく、厚さT2は、100〜140μmであることが好ましい。なお、厚さT1は、発光素子30の厚さに起因した大きさになる。厚さT1は、概ね発光素子30の厚さと、導体層23の厚さの和にほぼ等しい。絶縁体24の厚さは、概ね40〜1100μm程度の範囲になる。
また、絶縁体24は、発光素子30〜30の上面と導体層23との間の微小空間に、電極35,36やバンプ37,38に密着した状態で隙間なく充填されている。
したがって、導体層23とバンプ37,38との電気的な接続性やその信頼性を高めることが可能になる。なお、絶縁体24は、JIS K7375で規定される全光線透過率が0.1%以上となる透光性もしくは遮光性材料からなる。
樹脂シート241は、熱硬化性を有する樹脂を主成分とし、以下に述べる適切な加工をすることで絶縁体24となる。その際、絶縁体24の原料は、必要に応じて他の樹脂成分等を含んでいてもよい。熱硬化性を有する樹脂原料としては、エポキシ系樹脂、熱硬化性アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂、熱硬化性ポリイミド等を用いることができる。また、樹脂シート241は、熱可塑性樹脂を主成分もしくは副成分原料として用いることもできる。熱可塑性を有する樹脂原料としては、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、テフロン(登録商標)樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリロニトルブダジエンスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等が用いられる。
これらのうち、エポキシ系樹脂は、透光性、電気絶縁性、可撓性等に加えて、軟化時の流動性、硬化後の接着性、耐候性等に優れることから、絶縁体24の構成材料として最適な原料である。しかしながら、絶縁体24は、エポキシ系樹脂以外の他の樹脂から構成されていてもよい。
発光素子30は、LEDチップである。図6に示されるように、発光素子30は、ベース基板31、N型半導体層32、活性層33、P型半導体層34からなる4層構造のLEDチップである。発光素子30の定格電流は約50mAである。
ベース基板31は、GaAsやSiやGaPやサファイア等からなる半導体基板である。ベース基板31として光学的に透過性を有するものを用いることにより、光は発光素子30の上下両面および横方向からも放射されうる。ベース基板31の上面には、当該ベース基板31と同形状のN型半導体層32が形成されている。そして、N型半導体層32の上面には、順に、活性層33、P型半導体層34が積層されている。
活性層33は、例えばInGaNからなる。また、P型半導体層は、例えばp−GaNからなる。なお、発光素子30は、ダブルヘテロ(DH)構造、あるいは多重量子井戸(MQW)構造を有するものであってもよい。N型半導体層32に積層される活性層33、及びP型半導体層34は、−Y側かつ−X側のコーナー部分に切欠きが形成され、N型半導体層32の表面が露出している。
N型半導体層32の、活性層33とP型半導体層34から露出する部分には、N型半導体層32と電気的に接続される電極36が形成されている。また、P型半導体層34の+X側かつ+Y側のコーナー部分には、P型半導体層34と電気的に接続される電極35が形成されている。
電極35,36は、銅(Cu)、金(Au)からなり、上面には、バンプ37,38が形成さている。バンプ37,38は、半田からなり、半球状に整形されている。田バンプのかわりに金(Au)や金合金などの金属バンプを用いてもよい。発光素子30では、バンプ37が、カソード電極として機能し、バンプ38が、アノード電極として機能する。
なお、発光素子30の電極35,36のいずれか片方のみ、もしくは電極35,36の両方ともバンプ37もしくはバンプ38を介して、導電回路5と電気的に接続されていてもよいし、バンプ37、38を介することなく、電極35、36が直接、導体層23に接続されていてもよい。
また、発光モジュール20には、1対の電極35,36が発光素子の上下の面に別々に設けられている発光素子が用いられていてもよい。その際は絶縁体22の表面にも導体層23が設けられる。この場合には、絶縁体21に接続される電極にバンプが形成されていてもよい。
上述のように構成される発光素子30は、図5に示されるように、導電回路23a,23bの間に配置され、バンプ37が導電回路23aのパッド23Pに接続され、バンプ38が導電回路23bのパッド23Pに接続される。
他の発光素子30〜30も、発光素子30と同等の構成を有している。そして、発光素子30が、導電回路23b,23cの間に配置され、バンプ37,38が導電回路23b,23cにそれぞれ接続される。
以下同様に、発光素子30は、導電回路23c,23dにわたって配置される。発光素子30は、導電回路23d,23eにわたって配置される。発光素子30は、導電回路23e,23fにわたって配置される。発光素子30は、導電回路23f,23gにわたって配置される。発光素子30は、導電回路23g,23hにわたって配置される。発光素子30は、導電回路23h,23iにわたって配置される。これにより、導電回路23a〜23i、及び発光素子30〜30が直列に接続される。発光モジュール20では、発光素子30〜30が、約10mm間隔で配置される。
図7は、フレキシブルケーブル40の側面図である。図7に示されるように、フレキシブルケーブル40は、基材41、導体層43、カバーレイ42から構成されている。
基材41は、長手方向をX軸方向とする長方形の部材である。この基材41は、例えばポリイミドからなり、上面に導体層43が形成されている。導体層43は、ポリイミドの上面に張り付けられた銅箔をパターニングすることにより形成される。本実施形態では、導体層43は、図4に示されるように、2つの導電回路43a,43bからなる。
図7に戻り、基材41の上面に形成された導体層43は、真空熱圧着されたカバーレイ42によって被覆されている。このカバーレイ42は、基材41よりもX軸方向の長さが短い。このため、導体層43を構成する導電回路43a,43bの−X側端部は、露出した状態になっている。また、カバーレイ42には、開口部42aが設けられ、この開口部42aからは、導電回路43a,43bの+X側端部が露出している。
図4及び図8を参照するとわかるように、上述のように構成されたフレキシブルケーブル40は、カバーレイ42から露出する導電回路43a,43bが、発光モジュール20の導電回路23a,23iの+X側端部に接触した状態で、発光モジュール20に接着される。
図2に示されるように、コネクタ50は、直方体状の部品で、直流電源から引き回されるケーブルが接続される。コネクタ50は、フレキシブルケーブル40の+X側端部上面に実装される。コネクタ50がフレキシブルケーブル40に実装されると、図8に示されるように、コネクタ50の一対の端子50aそれぞれが、カバーレイ42に設けられた開口部42aを介して、フレキシブルケーブル40の導体層43を構成する導電回路43a,43bに接続される。
図2に示されるように、補強板60は、長手方向をX軸方向とする長方形板状の部材である。補強板60は、例えばエポキシ樹脂やアクリルからなる。この補強板60は、図8に示されるように、フレキシブルケーブル40の下面に張り付けられる。このため、フレキシブルケーブル40は、補強板60の−X側端と発光モジュール20の+X側端の間で屈曲させることができる。
次に、上述した発光装置10を構成する発光モジュール20の製造方法について説明する。まず、図9に示されるように、PETからなる絶縁体21を用意する。そして、絶縁体21の表面に、導電回路23a〜23iからなる導体層23を形成する。導電回路23a〜23iの形成方法としては、例えばサブトラクト法又はアディティブ法等を用いることができる。
次に、図10に示されるように、導電回路23a〜23iが形成された絶縁体21の表面に樹脂シート241を設ける。この樹脂シート241の厚みは、発光素子30の厚み、もしくは発光素子30にバンプ37,38を加えた厚さとほぼ同等である。樹脂シート241は、例えば、熱硬化性を有する樹脂からなる。樹脂シート241には、必要に応じて他の樹脂成分等が含まれていてもよい。熱硬化性樹脂を用いる利点は高温多湿下での信頼性に優れている点である。
熱硬化性を有する樹脂としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂、熱硬化性ポリイミド等を用いることができる。
また、樹脂シート241として、熱可塑性樹脂を主成分とする材料を用いることもできる。熱可塑性樹脂を用いる利点は、機械的な衝撃に強く、高温多湿下や紫外線照射による変色が少なく、比較的安価である点である。
熱可塑性を有する材料としては、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、テフロン(登録商標)樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリロニトルブダジエンスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等を用いることができる。
したがって、用途や環境条件に応じて適切な樹脂シートを選択することになる。これらのうち、エポキシ系樹脂は、透光性、電気絶縁性、可撓性等に加えて、軟化時の流動性、硬化後の接着性、耐候性等に優れることから、樹脂シート241の構成材料として好適な原料であるが、もちろん、樹脂シート241は、エポキシ系樹脂以外の他の樹脂から構成されていてもよい。
次に、発光素子30〜30を、樹脂シート241の上に配置する。このとき発光素子30のバンプ37,38の直下に、導電回路23a〜23iのパッド23Pが位置するように、発光素子30〜30が位置決めされる。
次に、図11に示されるように、絶縁体22を、絶縁体21の上面側に配置する。
次に、絶縁体21,22それぞれを、真空雰囲気下で加熱し圧着させる。これにより、まず、発光素子30に形成されたバンプ37,38が、樹脂シート241を突き抜けて、導体層23に達し、各導電回路23a〜23iに電気的に接続される。そして、加熱されることで柔らかくなった樹脂シート241が、発光素子30の周囲に隙間なく充填され、絶縁体24になる。これにより、発光モジュール20が完成する。
上述のように製造された発光モジュール20に、図8に示されるように、補強板60が張り付けられたフレキシブルケーブル40を接続し、このフレキシブルケーブル40に、コネクタ50を実装することで、図1に示される発光装置10が完成する。発光装置10では、コネクタ50を介して、図4に示される導電回路43a,43bに直流電圧が印加されると、発光モジュール20を構成する発光素子30〜30が発光する。
図12は、発光素子近傍を模式的に示す図である。上述した加熱圧着工程により、樹脂シート241が熱収縮や硬化収縮する。このため、発光モジュール20を構成する発光素子30の近傍では、図12の矢印a1に示される圧縮残留応力と、矢印a2に示される引張残留応力とが、絶縁体24に作用する。これらの残留応力により、導体層23と発光素子30の間に圧縮力が働き、発光素子30と導体層23との電気的接続が強固になる。本発明はこの圧縮応力を接圧という形で実測して、接圧と発光モジュールの信頼性の関係を新たに定量的に見出したことを最大の特徴としている。
常温、常湿の環境下での接圧測定により、実際の過酷な環境下で長期間の信頼性試験を行わなくとも、発光素子と導電回路層の間の電気的接続の信頼性を予測できることを、発明者は新たに見出し、この発明の工業的意義は非常に大きいと考え、特許として公開することを決断するに至ったものである。
図13は、発光素子30の近傍の顕微鏡写真のスケッチを示す図である。図13に示されるように、発光素子30のバンプ37,38は、発光モジュール20の製造工程において、導体層23に食い込んだ状態になり、導体層23はバンプ37、38に沿って湾曲するように変形する。このような状態で、絶縁体24に圧縮残留応力と引張残留応力とが作用することで、導体層23とバンプ37との電気的な接続が維持される。
発光装置10の発光モジュール20は、PET等からなる絶縁体21,22が、絶縁体24によって接着される構造になっている。発光装置10を、屋外や高温多湿になるような過酷な環境下で使用すると、温度や湿度の影響で経年劣化が比較的早く進行する。そのため、高温で多湿な環境に耐性を有する原料を用い適切な加熱加圧工程を経て、絶縁体24を構成する必要がある。
温度や湿度の変化が激しい場所などでは、温度の変化に応じて絶縁体24の粘弾性が変化する。発光装置10では、発光素子30〜30のバンプ37,38と、導電回路23a〜23iのパッド23Pとの間で、数十μm以下オーダーの微小領域で電気的接合が得られているだけである。そのため、絶縁体24の粘弾性が変化すると、絶縁体24に保持される発光素子30〜30のバンプ37,38と、導電回路23a〜23iのパッド23Pとの間で電気的接触が失われ、発光素子30〜30が消灯してしまうことがある。そこで、絶縁体24を構成する樹脂として、最適な樹脂を選定する必要がある。
発光装置10の発光モジュール20では、発光素子30〜30の周囲が樹脂で固められることにより、発光素子30〜30のバンプ37,38と導電回路23a〜23iのパッド23Pとが、数十μm以下のオーダーの微小領域で電気的に接合している。発光装置10を構成する絶縁体24が、湿度の影響を受けて吸湿して膨張すると、絶縁体24に保持される発光素子30〜30のバンプ37,38と、導電回路23a〜23iのパッド23Pとが離間して電気的接触が失われる。その結果、導体層23とバンプ37,38の接触不良が生じる。
したがって、発光装置10の信頼性を向上するためには、絶縁体24の吸湿による膨張を所定の値以下とする必要がある。具体的には、湿度が85%の環境下で吸水率が0%より大きく2.5%以下であることが望ましい。なお、樹脂の膨張率は、JIS K 7197に準拠し、ネッチ・ジャパン社の湿度制御型熱機械分析装置(TMA)によって計測された値である。
温度が85℃で、湿度が40%以上85%以下の環境下における膨張率が21.3%未満となる樹脂を絶縁体24として用いることで、信頼性の高い発光装置10を提供することが可能となる。なお、樹脂の膨張率は、JIS K 7197に準拠し、ネッチ・ジャパン社の湿度制御型熱機械分析装置(TMA)によって計測された値である。
また、発光素子30〜30の厚さは、30〜1000μm程度であることが考えられるが、発光素子30〜30の厚さが90〜300μmである場合には、絶縁体24は、厚さが90〜350μmであることが好ましい。絶縁体24の線膨張率は40ppm/℃以上80ppm/℃以下であることが好ましい。絶縁体24がポリエチレンやポリスチレンを素材とするときは、ヤング率が0.3〜10GPaであり、絶縁体24が、エポキシを素材とするときは、ヤング率が2.4GPa程度であることが好ましい。絶縁体24の弾性率は、1900〜4900MPaであることが好ましい。絶縁体24のヘイズは、15%以下であることが好ましい。また、絶縁体24のb*は、5未満であることが好ましい。絶縁体24の光線透過率は、30%以上であることが好ましい。
高温(85℃)環境下に置かれた発光装置10に、発光装置10を湾曲させるような応力が作用した場合、絶縁体24の曲げ応力値が高いと、発光素子を保持するための接続安定性が担保される。一方、発光装置10に過剰な応力が作用すると、絶縁体24が塑性変形して接続安定性が失われる。また、絶縁体24の曲げ応力値が低いと、絶縁体が応力によりすぐに塑性変形してしまい、接続安定性が失われる。
発光装置10へ直接応力が作用する場合だけでなく、例えば、温度が低い室内から温度が高い屋外へ発光装置10を持ち出した場合など、発光装置10へサーマルショックが加わるような場合にも、低温環境下での曲げ応力と高温環境下での曲げ応力の変化率の絶対値が大きいと、接続安定性が低下する。逆に、低温環境下での曲げ応力と高温環境下での曲げ応力の変化率の絶対値が小さいと、接続安定性が高くなる。
絶縁体21,22の厚さは、30μm以上300μm以下であることが好ましい。また、絶縁体21,22の耐熱温度は、100℃以上であることが好ましい。弾性率は、2000MPa以上4100MPa以下であることが好ましい。光線透過率は、90%以上であることが好ましい。熱伝導率は、0.1〜0.4W/m・kであることが好ましい。ヘイズは、2%以下であることが好ましい。また、b*は、2以下であることが好ましい。
発光素子30〜30としては、厚みが30μm以上1000μm以下であり、発光素子30〜30の一辺の長さは30μm以上3000μm以下であることが好ましい。
発光素子30〜30のバンプ37,38の高さは、発光装置10の製造過程における熱圧着工程前においては、30μm以上100μm以下である。熱圧着工程後においては、バンプ37,38の高さは、10μm以上90μm以下である。バンプ37,38は、高さ及び幅が30μ以上100μm以下であることが好ましい。
導体層23が厚すぎると、発光装置10の湾曲時に、導体層23にクラックが生じることがある。一方、導体層23が薄すぎると、導体層23の電気抵抗が高くなる。そのため、導体層23については、厚みが10μm以下であることが好ましい。
導体層23を構成するメッシュパターンは、線幅が広いと透過性が失われる。そのため、メッシュパターンは、線幅が20μm以下であることが好ましい。また、光線透過率は、50%以上であることが好ましい。一方、メッシュパターンは、線幅が狭いと電気抵抗が高くなり、断線しやすくなる。そのため、導体層23のシート抵抗値は、300Ω/□以下であることが好ましい。
また、上述した発光装置10を構成する絶縁体24の材料として、最適な樹脂の条件を求めるために、発光装置10の実施例としてのサンプルを準備して種々の計測を行った。以下、発光装置10の実施例について説明する。
《絶縁体の物性測定方法》
絶縁体24の物性を計測するためには、まず、発光モジュール20の両面を、注意深く研磨することで、絶縁体21、22を除去して絶縁体24を取り出す。そして、引張貯蔵弾性率を測定するために、取り出した絶縁体24を、10mm×50mmの大きさにカットして試験片生成する。そして、試験片を−75℃から200℃まで1分間に5℃ずつ等速昇温させ、周波数10Hzでサンプリングすることにより、引張貯蔵弾性率を測定する。引張貯蔵弾性率の測定には、日立ハイテクサイエンス社製DMA7100型動的粘弾性自動測定器を用いる。
同様にして、絶縁体24を取り出し、膨張率を測定するために、取り出した絶縁体24を、10mm×50mmの大きさにカットして試験片生成する。そして、JIS K 7197に準拠した方法で線膨張を測定する。具体的には、試験片に、49.0Nの荷重をかける引張りモードで、温度が85℃の環境下で、湿度を40%から85%まで上昇させたときの線膨張を測定する。昇湿速度は1分あたり5%とする。また、線膨張の測定には、ネッチ・ジャパン社の湿度制御型熱機械分析装置を用いる。
同様に、絶縁体24を取り出し、ビカット軟化温度を測定するために、取り出した絶縁体24を、10mm×50mmの大きさにカットして試験片生成する。そして、JIS K7206(ISO 306:2004)に記載のA50に従って、ビカット軟化温度を測定する。ビカット軟化温度は、試験荷重を10N、昇温速度を50℃/時間とする条件で求める。ビカット軟化温度の測定には、東洋精機製作所社製HDT試験装置を用いる。
発光モジュール20では、各発光素子30の発光面と垂直な方向に、絶縁体24の特性に起因する圧縮応力が作用している。発光装置10は、絶縁体24の圧縮応力により、曲げ応力が作用した状態で高温多湿環境下や、温度や湿度が変化する環境に置かれたときに、電気的・機械的信頼性が確保されることが必要である。そのための指標として、接圧という新規な特性値とその測定方法を開発した。
また、接圧がどの範囲にあればどのような環境条件下で発光装置を使用することができるかという観点から、発光装置が使用される環境条件と接圧との関係を見出した。これにより、発光装置が使用される環境に応じて、少なくとも最低限度の信頼性を有する発光モジュールを提供することが可能になった。
上述の接圧とは、発光素子30に、当該発光素子30の発光面と垂直な方向に引っ張り応力を加えながら、導体層23と発光素子30との間の接触抵抗を測定し、発光素子30と導体層23の電気的接触が不十分になる引っ張り応力の最小値を指す。後述する実施例では、7つの発光装置に関する「引っ張り応力」と「接触抵抗値」のデータから、発光素子30と導体層23の電気的接触の信頼性が損なわれるときの接触抵抗を閾値として見出した。この閾値としての接触抵抗はおおよそ10mΩであった(図15参照)。
接圧の測定は、図14に示されるように、絶縁体21を定盤210の平面に固定し、絶縁体22に引っ張り応力を加える。そして、発光モジュール20の抵抗値が10mΩに達するときの引っ張り応力を接圧と定義した。
《接圧の試験方法》
接圧の測定法を図14に従って説明する。まず、発光モジュール20の絶縁体21を、定盤210の上面に、接着剤を用いて接着する。定盤210は、4cmあたりの変形量が0.5μmで、上面の平坦度が0.3μm以内の剛体平板である。絶縁体21が上下方向に0.1μm以上変位しないように、接着剤としてエポキシ樹脂を用いる。
次に、大きさが発光モジュール20とほぼ同じで、厚さが10mm程度の樹脂平板220を、接着剤を用いて発光モジュール20の絶縁体22に接着する。
次に、図14の破線に示されるように、接圧の測定対象となる発光素子30と、それに近接する発光素子との距離dの1/2以内の適切なところで、絶縁体22,24を樹脂平板220とともに切断する。これによって、例えば図5の仮想線に沿って、絶縁体22,24が切断され、仮想線の内側の絶縁体22,24が、周囲の絶縁体22,24から分離した状態になる。なお、絶縁体22,24,及び樹脂平板220の切断は、発光素子30を中心とする円に沿って行ってもよい。この場合は、円の半径を1000μm程度にすることが考えられる。
図14に示されるように、切断された樹脂平板220に、内径0.3mm、深さ8mmの穴を開ける。そして、この穴に、外径0.5mm、ピッチ0.15mm、長さ20mmのマイクロねじ221を螺合する。マイクロねじ221は、樹脂平板220の上面に対して、90±0.3度になるように螺合する。次に、螺合したマイクロねじ221を接着剤で樹脂平板220に接着する。
次に、アイコーエンジニアリング社製RZ−1型デジタルフォースゲージを用いて、マイクロねじ221を、クロスヘッドスピード0.7μm/秒で上方へ引っ張る。並行して、発光素子30に6mAの電流を供給しながら、導体層23と発光素子30の間の抵抗値を測定する。
図15は、上記測定を7つの発光装置10に対して実施した結果を示す。図15に示される結果から、発光装置10に対しての応力が0.4N以上になると、接触抵抗の増加がみられると判断した。応力が0.4Nのときの発光素子30と導体層23の間の接触抵抗値は10mΩである。そこで、接触抵抗が10mΩまで増加したときの応力を接圧と定義した。
この事実は、以下に述べる実施例を含む、数々の実験の結果から導かれた。すなわち、周囲温度25℃、湿度40%の環境下で測定した接圧は0.02N以上、かつ6N以下であることが好ましく、接圧が0.02N以上かつ6N以下であれば、周囲温度25℃、湿度40%の環境下での、発光素子と導電回路層の間の電気的接続は概ね100時間以上の信頼性が得られる。
周囲温度25℃、湿度40%の環境下で測定した接圧のより好ましい値は0.1N以上かつ6N以下であり、接圧が0.1N以上かつ6N以下であれば、周囲温度25℃、湿度40%の環境下での、発光素子と導電回路層の間の電気的接続は、概ね1000時間程度の信頼性が得られる。
周囲温度25℃、湿度40%の環境下で測定した接圧のさらに好ましい値は0.5以上かつ5N以下であり、周囲温度25℃、湿度40%の環境下で測定した接圧が0.5N以上かつ5N以下であれば、周囲温度85℃、湿度85%の環境下での、発光素子と導電回路層の間の電気的接続は概ね500時間以上の信頼性が得られる。
周囲温度25℃、湿度40%の環境下で測定した接圧のさらに好ましい値は1.2N以上かつ4N以下であり、周囲温度25℃、湿度40%の環境下で測定した接圧が1.2N以上かつ4N以下であれば、周囲温度85℃、湿度85%の環境下において1000時間以上の信頼性が得られる。
《実施例》
本実施例では、サンプルとしての発光装置10A〜10Dを準備して、各種試験を行った。発光装置10Aを構成する絶縁体24としては、熱硬化温度が比較的高い、エポキシ系熱硬化性樹脂Aからなる樹脂シート241を用いた。発光装置10Bを構成する絶縁体24としては、エポキシ系熱硬化樹脂Bからなる樹脂シート241を用いた。発光装置10Cを構成する絶縁体24としては、エポキシ系熱硬化樹脂Cからなる樹脂シート241を用いた。発光装置10Dを構成する絶縁体24としては、ポリプロピレン(PP)系熱硬化樹脂Dからなる樹脂シート241を用いた。
また、比較例としての発光装置10Eを構成する絶縁体24としては、アクリル系熱可塑樹脂Eからなる樹脂シート241を用いた
上記発光装置10A〜10Eを構成する絶縁体21,22の加熱加圧処理では、図11に示される積層体が配置された作業空間を真空度が5kPaの真空空間として、積層体を加熱しながら加圧した。積層体を真空雰囲気中で熱圧着することによって、絶縁体21と絶縁体22との間の空間に軟化した絶縁体24が隙間なく充填された。なお、熱圧着時の真空雰囲気は5kPa以下とすることが好ましい。
また、発光装置10Aの絶縁体21,22の厚さは100μmである。導体層23は、銅からなり厚さは2μmである。導電回路23a〜23iは、線幅5μmで配列ピッチが300μmのラインパターンからなるメッシュパターンである。樹脂シート241の厚さは120μmである。
本実施例では、発光装置10A〜10Eの5種類の発光装置を複数個ずつ準備した。そして、複数の発光装置からランダムに1つの発光装置を選んで、絶縁体24の一部を取り出し、引張貯蔵弾性率の温度依存性、膨張率、ビカット軟化温度、接圧を測定した。
《引張貯蔵弾性率》
具体的には、発光装置10A〜10Eを構成する発光モジュール20の両面を、注意深く研磨することで、絶縁体21、22を除去して絶縁体24を取り出した。次に、取り出した絶縁体24を10mm×50mmの大きさにカットして、発光装置10A〜10Eそれぞれの試験片を作成した。そして、日立ハイテクサイエンス社製DMA7100型動的粘弾性自動測定器を用いて、試験片の引張貯蔵弾性率を測定した。
測定は、試験片を−75℃から200℃まで1分間に5℃ずつ等速昇温させながら、周波数1Hzでサンプリングすることにより行った。図16は、引張貯蔵弾性率の温度依存性を示す図である。図16に示される曲線A1〜E1は、発光装置10A〜10Eに用いられる絶縁体24A〜24Eの引張貯蔵弾性率の温度依存性を示す。
《膨張率》
同様に、複数の発光装置からランダムに1つの発光装置を選んで、絶縁体24を取り出した。次に、取り出した絶縁体24を2mm×20mmの大きさにカットして、発光装置10A〜10Eそれぞれの試験片を作成した。そして、ネッチ・ジャパン社の湿度制御型熱機械分析装置(TMA)を用いて、温度が85℃の環境下で、湿度を40%から85%まで上昇させたときの試験片の膨張率を測定した。
《ビカット軟化温度》
同様に、複数の発光装置からランダムに1つの発光装置を選んで、絶縁体24を取り出した。次に、取り出した絶縁体24を10mm×50mmの大きさにカットして、発光装置10A〜10Eそれぞれの試験片を作成した。そして、東洋精機製作所社製HDT試験装置を用いて、試験片のビカット軟化温度を測定した。ビカット軟化温度はJIS K7206(ISO 306:2004)に記載のA50に従って、試験荷重10N、昇温速度50℃/時間の条件で求めた。
図17には、絶縁体24A〜24Eの膨張率及びビカット軟化温度を表す表が示されている。
《接圧測定》
次に、複数個の発光装置10Aの中から7個の発光装置をランダムに選択して、上述した要領で導体層と発光素子の間の接圧を測定した。図15は、接圧測定時における各発光装置10Aの抵抗値の推移を示す図である。図15によれば、引張応力が0.4N近傍になると、接触抵抗値の低下がみられると判断できた。上述したように、引張応力の増加にともなって接触抵抗値が0mΩ近傍から10mΩになったときの引張応力を接圧として測定した。
図18は、発光装置10A〜10Eにおける接圧の温度依存性を示す。発光装置10Aの接圧は●で示されている。発光装置10Bの接圧は○で示されている。発光装置10Cの接圧は◆で示されている。発光装置10Dの接圧は◇で示されている。発光装置10Eの接圧は△で示されている。
《高温高湿試験》
次に発光装置の高温高湿試験を行った。高温高湿試験では、24個の発光装置10Aを準備し、それらの発光装置10Aを6つの発光装置からなる4つグループに区分した。そして、各グループの発光装置10Aのジャンクション温度Tjをそれぞれ100℃,110℃,120℃,130℃に設定した。次に、それぞれの発光装置10Aを温度が85℃で湿度が85%の環境下に置いて、1000時間点灯させた。発光装置10Aを点灯させるときには、発光装置10Aを、絶縁体22が外側に位置し、曲率半径が20mmになるように湾曲させた。
同様に、発光装置10B〜10Eについても、24個ずつ選択し、それらの発光装置10B〜10Eを6つの発光装置からなる4つグループに区分した。そして、各グループの発光装置10B〜10Eのジャンクション温度Tjをそれぞれ100℃,110℃,120℃,130℃に設定した。次に、それぞれの発光装置10Aを温度が85℃で湿度が85%の環境下に置いて、1000時間点灯させた。発光装置10B〜10Eを点灯させるときには、発光装置10B〜10Eそれぞれを、絶縁体22が外側に位置し、曲率半径が20mmになるように湾曲させた。
上述のように24個ずつの発光装置10A〜10Eを1000時間点灯させる高温高湿試験を行って、異常なく点灯を継続した発光装置10A〜10Eの個数を調べた。図19には、各発光装置10A〜10Eの高温高湿試験の結果が示されている。図19の表では、分母が試験対象となった発光装置10A〜10Eの数を示し、分子が良品(点灯した発光装置)の数を示す。また、便宜上、温度が85℃で湿度が85%の環境を試験環境ともいう。
《温度サイクル試験》
また、発光装置10A〜10Eを6個ずつ選択して、温度サイクル試験を行った。温度サイクル試験では、6個ずつの発光装置10A〜10Eを点灯していない状態で、温度が25℃の環境下での1分間の暴露と、温度が−40℃の環境下での5分間の暴露と、温度が25℃の環境下での1分間の暴露と、温度が110℃の環境下での5分間の暴露とを1サイクルとする温度サイクル試験を行った。そして、予め決められたサイクルが終了するごとに、各発光装置の点灯を確認した。図20は、温度サイクル試験の結果を表す表を示す図である。図20の表では、分母が試験対象となった発光装置10A〜10Eの数を示し、分子が良品(点灯した発光装置)の数を示す。
また、温度サイクル試験の際には、サイクルごとに点灯状態の確認をするだけでなく、発光装置10の電流−電圧特性の測定も行った。電圧の測定は、温度が25℃の環境下での1分間の暴露と並行して実施した。図21は、1004サイクルを経た温度サイクル試験における発光装置10A〜10Cの電流−電圧特性を示す図である。
なお、上記試験では、発光装置10A〜10Eそれぞれを、曲率半径が20mmになるように湾曲させた場合について述べたが、発光装置10A〜10Eそれぞれを、曲率半径が50mmに湾曲させた場合も同様な結果が得られた。
《測定結果の検証》
高温高湿試験結果を示す図19を参照するとわかるように、発光装置10A〜10Cでは、ジャンクション温度Tが130℃であっても、全部の発光装置10A〜10Cが故障することなく1000時間駆動した。それに対して、発光装置10Dでは、ジャンクション温度Tが130℃のときには、故障した固体が1つ見られた。発光装置10Dを故障なく1000時間駆動させるためには、発光素子の温度を120℃以下にする必要がある。
また、発光装置10Eでは、ジャンクション温度Tが110℃のときには、半数以上の故障した固体が見られた。発光装置10Dを故障なく1000時間駆動させるためには、発光素子の温度を100℃以下にする必要がある。
図18に示されるように、温度が130℃のときの発光装置10A〜10Cの接圧は0.02Nであり、発光装置10Dの接圧は0.02N未満である。このため、発光素子30と導体層23の間の接圧が0.02N未満であると、発光素子30と導体層23の接続の信頼性は確保できないと考えられる。一方、発光素子30と導体層23の間の接圧が0.02N以上で6.0N以下であると、高温高湿環境下において発光装置10の信頼性をある程度確保することができる。しかしながら、発光装置の輝度などを考慮すると、発光素子へ供給することが可能な電流には制限があることが判明した。
図20に示されるように、発光装置10A〜10Dは、温度サイクル試験において1000回のサイクルを経た後も故障することなく、全サンプルが点灯を継続した。また、図21に示されるように、発光装置10A〜10Cについては、温度サイクル試験で1000サイクルを経た後にも、電流−電圧特性を示す正常な曲線が観察された。
一方、発光装置10Dでは、温度サイクル試験で1000サイクルを経た後の電流−電圧特性を示す正常な曲線を観察することができなかった。発光装置10Dでは、発光素子30と導体層23との電気的接続が不安定であることが推測される。
また、発光装置10Eでは、温度サイクル試験で40サイクルを経た後に故障することなく正常に点灯したサンプルは6個のうちの2つだけであり、80サイクルを経た後では、すべてのサンプルが故障し点灯しなくなった。
以上の結果から、発光装置10では、発光装置10A〜10Cの接圧と同等の接圧を確保する必要があり、接圧が0.02未満であると、高温高湿環境下での発光装置の信頼性を確保することができず、結果的に温度サイクル試験もクリアできないことが考えられる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態によって限定されるものではない。例えば、上記各実施形態では、8個の発光素子30を備える発光装置10について説明した。これに限らず、発光装置10は、9個以上或いは7個以下の発光素子を備えていてもよい。また、発光素子30は、相互に異なる色で発光するものなど、規格が異なるものを混在して用いることができる。
上記実施形態では、発光モジュール20は、1組の絶縁体21,22、絶縁体21,22の間に形成された絶縁体24、絶縁体24の内部に配置された8個の発光素子30〜30を有していることとした。これに限らず、例えば図22に示されるように、発光モジュール20は、複数の絶縁体21,22や、ビアホールに形成されたビア230によって接続された絶縁体21,22それぞれの表面に形成された導体層23からなる多層回路と、多層回路に電気的に接続される発光素子30から構成されていてもよい。この場合において、発光素子30として、上面と下面に電極を有する発光素子を用いることで、回路の多層化が容易になる。
また、上面と下面に電極を有する発光素子は、図1に示される発光装置10のように、導体回路が単層の発光装置に用いることもできる。この場合には、絶縁体22の表面に第2の導体層23を形成する。
上記実施形態では、導体層23が金属からなる場合について説明した。これに限らず、導体層23は、ITOなどの透明導電材料から構成されていてもよい。
上記実施形態では、絶縁体21,22の間に隙間なく絶縁体24が形成されている場合について説明した。これに限らず、絶縁体24は、絶縁体21,22の間に部分的に形成されていてもよい。例えば、発光素子の周囲にのみ形成されていてもよい。また、例えば図23に示されるように、絶縁体24は、発光素子30を包囲するスペーサを構成するように形成されていてもよい。
上記実施形態では、発光装置10の発光モジュール20が、絶縁体21,22と、絶縁体24を備えている場合について説明した。これに限らず、図24に示されるように、発光モジュール20は、絶縁体21と発光素子30を保持する絶縁体24のみから構成されていてもよい。
上記実施形態では、発光装置10が、導体層23が形成された絶縁体21と、上面に一対の電極35,36が片面に形成された発光素子30を備えていることとした。これに限らず、発光装置10は、相互に対向する面にそれぞれ導体層が形成された絶縁体と、上面及び下面の両面にそれぞれ電極が形成された発光素子を備えていてもよい。
本実施形態に係る発光装置10は、自動車のテールランプに用いることができる。透光性及び可撓性を有する発光モジュール20を光源として用いることで、種々の視覚的な効果を実現することができる。図25は、自動車のテールランプ600について、水平面での樹脂筐体の断面と内部構造を模式的に示す図である。発光装置10をテールランプ600の樹脂筐体の内面に沿って配置するとともに、発光装置10の背面にミラーMを配置することで、発光装置10からミラーへ射出された光は、ミラーMで反射された後に発光モジュール20を透過して、外部へ射出される。これにより、あたかもテールランプ600の奥方向に発光装置10とは別の光源があるようなユニットを形成することができる。
上記実施形態に係る発光装置10は、図4に示されるように、発光素子30が直線上に配置されていることとした。これに限らず、例えば、図26に示されるように、発光素子30が二次元平面上にマトリクス状に配置されていてもよい。
上記実施形態に係る発光装置10の発光モジュール20では、図4に示されるように、発光素子30が相互に離間して配置されていることとした。これに限らず、例えば、図27に示されるように、赤色に光る発光素子30Rと、緑色に光る発光素子30Gと、青色に光る発光素子30Bを近接して配置することにより発光素子群Gを形成し、当該発光素子群Gを単一の輝点として認識されるように、相互に離間して配置することとしてもよい。
発光素子が発光群を形成する場合には、例えば図28に実線で示される円に沿って、絶縁体22,24を切断することで、発光素子群の接圧を計測することができる。円の半径は、測定対象となる発光素子30R,30G,30Bが形成する発光素子群と、それに近接する発光素子群との距離の1/2以内の適切な大きさである。この場合は、3つの発光素子の接圧が同時に計測されるため、計測された応力を発光素子の個数で除した値が接圧になると考えることができる。
上記実施形態では、図14に示されるように、樹脂平板220を、発光モジュール20の絶縁体22に接着することとした。これに限らず、絶縁体22を持たない発光モジュール20の接圧を測定する場合や、絶縁体22と発光素子30との接着性の影響を受けないように、発光モジュール20から絶縁体22を除去して接圧を測定するような場合には、図29に示されるように、発光素子30に、樹脂平板220を直接接着して、接圧を測定することとしてもよい。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本実施形態に係る絶縁体24の厚みについては、米国特許出願公開号明細書US2016/0155913(WO2014156159)にも詳細に開示されている。発光素子30に設けられるバンプ37,38については、米国特許出願公開明細書US2016/0276561(WO/2015/083365)にも詳細に開示されている。導体層23とフレキシブルケーブル40と接続要領については、米国特許出願公開明細書US2016/0276321(WO/2015/083364)に詳細に開示されている。導体層23を構成するメッシュパターンについては、米国特許出願公開明細書US2016/0276322(WO/2015/083366)に詳細に開示されている。発光モジュール20の製造法については、米国特許出願公開明細書US2017/0250330(WO/2016/047134)に詳細に開示されている。図23に示されるように、発光素子がマトリクス状に配置される発光装置については、日本国特許出願2018-164963に詳細に開示されている。発光装置におけるバンプ37,38と導体層23と電気的な接続については、日本国特許出願2018-16165に詳細に開示されている。発光モジュール20の絶縁体24の機械的損失正接などの物性については、日本国特許出願2018-164946に詳細に開示されている。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施しうるものであり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10 発光装置
20 発光モジュール
21,22,24 絶縁体
23 導体層
23P パッド
23a〜23i 導電回路
30 発光素子
31 ベース基板
32 N型半導体層
33 活性層
34 P型半導体層
35,36 電極
37,38 バンプ
40 フレキシブルケーブル
41 基材
42 カバーレイ
42a 開口部
43 導体層
43a,43b 導電回路
50 コネクタ
50a 端子
60 補強板
210 定盤
220 樹脂平板
221 マイクロねじ
230 ビア
241 樹脂シート
600 テールランプ
M ミラー

Claims (24)

  1. 透光性を有する第1絶縁体と、
    前記第1絶縁体の表面に設けられる第1導体層と、
    透光性を有し、前記第1導体層に対向して配置される第2絶縁体と、
    前記第1絶縁体と前記第2絶縁体の間に配置され、前記第1導体層に接続される発光素子と、
    透光性を有し、前記第1絶縁体と前記第2絶縁体の間に配置される第3絶縁体と、
    を備え、
    前記導電回路層と前記発光素子との間の接圧が、0.02N以上、6N以下である発光装置。
  2. 温度25℃で湿度が40%のときに、前記導電回路層と前記発光素子との間の接圧は0.1N以上、6N以下である請求項1に記載の発光装置。
  3. 温度25℃で湿度が40%のときに、前記導電回路層と前記発光素子との間の接圧は0.5N以上、5N以下である請求項1に記載の発光装置。
  4. 温度25℃で湿度が40%のときに、前記導電回路層と前記発光素子との間の接圧は1.2N以上、4N以下である請求項1に記載の発光装置。
  5. 透光性を有する第1絶縁体と、
    前記第1絶縁体の表面に設けられる第1導体層と、
    透光性を有し、前記第1導体層に対向して配置される第2絶縁体と、
    前記第1絶縁体と前記第2絶縁体の間に配置され、前記第1導体層に接続される発光素子と、
    透光性を有し、前記第1絶縁体と前記第2絶縁体の間に配置される第3絶縁体と、
    を備え、
    周囲温度が85℃のときに、前記発光素子に定格電流Iを流したときの前記発光素子のジャンクションの温度がTjf℃であるとき、測定環境温度をTjf℃にして測定した、前記導電回路層と前記発光素子との間の接圧が、0.02N以上、6N以下である発光装置。
  6. 周囲温度が85℃のときに、発光素子に定格電流Iの1/2の電流を流した際の前記発光素子のジャンクションの温度がTjf℃であるとき、測定環境温度をTjf℃にして測定した、前記導電回路層と前記発光素子との間の接圧が、0.02N以上、6N以下である請求項5に記載の発光装置。
  7. 前記接圧は測定環境温度が105℃の環境下での接圧である請求項5又は6に記載の発光装置。
  8. 前記接圧は測定環境温度が60℃の環境下での接圧である請求項5又は6に記載の発光装置。
  9. 前記接圧は測定環境温度が40℃の環境下での接圧である請求項5又は6に記載の発光装置。
  10. 前記接圧は測定環境温度が25℃の環境下での接圧である請求項5又は6に記載の発光装置。
  11. 透光性を有する第1絶縁体と、
    前記第1絶縁体の表面に設けられる第1導体層と、
    透光性を有し、前記第1導体層に対向して配置される第2絶縁体と、
    前記第1絶縁体と前記第2絶縁体の間に配置され、前記第1導体層に接続される発光素子と、
    透光性を有し、前記第1絶縁体と前記第2絶縁体の間に配置される第3絶縁体と、
    を備え、
    前記発光素子を点灯しない状態で、温度が25℃の環境下での1分間の暴露と、温度が−40℃の環境下での5分間の暴露と、温度が25℃の環境下での1分間の暴露と、温度が110℃の環境下での暴露とを5分ごとに実施する温度サイクル試験を100回行った後に、前記発光素子の点灯が可能な発光装置。
  12. 前記発光装置の前記発光素子を点灯しない状態で、温度が25℃の環境下での1分間の暴露と、温度が−40℃の環境下での5分間の暴露と、温度が25℃の環境下での1分間の暴露と、温度が110℃の環境下での暴露とを5分ごとに実施する温度サイクル試験を1000回行った後に、前記発光素子の点灯が可能な請求項1乃至11のいずれか一項に記載の発光装置。
  13. 前記第1絶縁体と前記第2絶縁体の間には、複数の前記発光素子が配置される請求項1乃至12のいずれか一項に記載の発光装置。
  14. 複数の前記発光素子は、相互に規格が異なる第1発光素子及び第2発光素子を含む請求項13に記載の発光装置。
  15. 前記第1発光素子及び前記第2発光素子を含む複数の発光素子群が形成され、
    前記発光素子群を構成する前記発光素子は、単一の輝点として認識されるように配置される請求項14に記載の発光装置。
  16. 前記第2絶縁体の表面に設けられる第2導体層を備え、
    前記発光素子は、前記第1導体層及び前記第2導体層に接続される請求項1乃至15のいずれか一項に記載の発光装置。
  17. 前記発光素子は、電極と、前記電極上に形成された導電性バンプを有する請求項1乃至16のいずれか一項に記載の発光装置。
  18. 前記第3の絶縁体のビカット軟化温度が80℃以上160℃以下である請求項1乃至17のいずれか一項に記載の発光装置。
  19. 前記第3の絶縁体は、
    −40℃から20℃の第1温度範囲の引張貯蔵弾性率が、1×10N以上1×1010N以下であり、前記第1温度範囲で1桁以上変化せず、かつ、
    160℃から200℃の第2温度範囲の引張貯蔵弾性率が、1×10N以上1×10N以下であり、前記第2温度範囲で1桁以上変化しない請求項1乃至18に記載の発光装置。
  20. 温度が85℃で湿度が85%の環境下において、半径が50mmの円に沿って湾曲させた状態で、100時間以上前記発光素子が点灯を継続する請求項1乃至19のいずれか一項に記載の発光装置。
  21. 温度が85℃で湿度が85%の環境下において、半径が50mmの円に沿って湾曲させた状態で、500時間以上前記発光素子が点灯を継続する請求項1乃至20のいずれか一項に記載の発光装置。
  22. 温度が85℃で湿度が85%の環境下において、半径が20mmの円に沿って湾曲させた状態で、1000時間以上前記発光素子が点灯を継続する請求項1乃至21のいずれか一項に記載の発光装置。
  23. 透光性を有する絶縁体と、
    前記第1絶縁体の表面に設けられる導体層と、
    前記第1導体層に接続される発光素子と、
    透光性を有し、前記第1絶縁体に対して前記発光素子を保持する樹脂と、
    を備え、
    周囲温度が85℃のときに前記発光素子に定格電流Iを流したときの前記発光素子のジャンクションの温度がTjf℃であるとき、測定環境温度をTjf℃にして測定した、前記導電回路層と前記発光素子との間の接圧が、0.02N以上、6N以下である発光装置。
  24. 透光性を有する第1絶縁体の一側に導体層を形成する工程と、
    前記第1絶縁体及び前記導体層の一側に絶縁性を有するシートを配置する工程と、
    前記導体層のパッドに、発光素子の電極を位置決めして、前記発光素子を、前記シート上にマウントする工程と、
    前記発光素子の一側に透光性を有する第2絶縁体を配置する工程と、
    前記導体層と前記発光素子との間の接圧が0.02N以上、6N以下となるように、前記第1絶縁体、前記第2絶縁体、前記シート、前記発光素子の複合体を、真空下で加熱及び加圧する工程と、を含む発光装置の製造方法。
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