JP2020132601A - 除草方法 - Google Patents

Abstract

【課題】土壌処理による新規なイネ科雑草の防除方法の提供。【解決手段】４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質と光化学系II阻害型除草活性物質とを、４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の使用量に対する光化学系II阻害型除草活性物質の使用量の質量比が０．１〜１００で、４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の使用量が０．１〜３００ｇ／ｈａで、且つ光化学系II阻害型除草活性物質の使用量が１００〜２０００ｇ／ｈａで用いた土壌処理を行うことを含むイネ科雑草の防除方法。【選択図】なし

Description

本発明は、除草方法に関する。

２種の除草剤を併用することによって、相乗効果が齎されることがある。
例えば、特許文献１は、式(I-2)、(I-6)、(I-20)などで表されるピラゾール化合物と、アトラジン、イソプロツロンなどの光合成阻害剤とを含有する除草剤組成物を開示している。そして、特許文献１は、式(I-2)、(I-6)または(I-20)で表されるピラゾール化合物とアトラジン、シアナジン、クロロトルロンまたはイソプロツロンとの組み合わせからなる除草剤組成物においてイネ科のトウモロコシや小麦を枯らすことなく、アメリカアサガオ（ヒルガオ科）などに対して相乗的な除草効果があったことを示している。

また、特許文献２は、Ｎｏ．８９〜１００にて、除草活性物質として、トプラメゾンとメトリブジンとの組み合わせを含む、ダイズ（マメ科）の耐性作物においてイネ科雑草、広葉雑草に対して使用することができる作物保護製品を開示している。
特許文献３は、ＨＰＰＤ阻害除草剤の一種であるメソトリオンとトリアジン除草剤の一種であるアトラジンを併用した除草剤組成物を用いて雑草を制御する方法を開示している。
特許文献４は、表６８において、Ｉａ．３３で表わされる化合物とアトラジンとの組み合わせによって野生モロコシ(Sorghum bicolor)に対して効果（発芽後処理）があったことを開示している。

ＷＯ９８／２８９８１Ａ 特表２０１６−５００７０２号公報 ＷＯ２０１２／００７９０８Ａ ＷＯ９９／０６５３１４Ａ

本発明の課題は、土壌処理による新規なイネ科雑草に対する除草方法を提供することである。

本発明は以下の形態を包含する。
〔１〕４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質と光化学系II阻害型除草活性物質とを用いた土壌処理を行うことを含む、イネ科雑草の防除方法。

〔２〕４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の使用量の使用量に対する光化学系II阻害型除草活性物質の質量比が０．１〜１００である、〔１〕に記載の防除方法。
〔３〕イネ科雑草がイヌビエ、ナルコビエ、アキノエノコログサ、およびメヒシバからなる群より選ばれる少なくとも一つである、〔１〕または〔２〕に記載の防除方法。
〔４〕４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の使用量が０．１〜３００ｇ／ｈａであり、且つ光化学系II阻害型除草活性物質の使用量が１００〜２０００ｇ／ｈａである、〔１〕〜〔３〕のいずれかひとつに記載の防除方法。
〔５〕４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質がトプラメゾンである、〔１〕〜〔４〕のいずれかひとつに記載の防除方法。
〔６〕光化学系II阻害型除草活性物質がアトラジンである、〔１〕〜〔５〕のいずれかひとつに記載の防除方法。

先行特許文献等は、トプラメゾンとアトラジンとを組合せて用いた土壌処理を行うことについて何も開示していない。ところが、本発明の除草方法によると、イネ科雑草を良好に除草できる。

本発明のイネ科雑草の防除方法は、４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質と光化学系II阻害型除草活性物質とを用いた土壌処理を行うことを含む。

本発明に用いられる４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質は、ＨＲＡＣ（Herbicide Resistance Action Committee）においてＦ２に分類される物質である。なお、４−ＨＰＰＤ（４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ）は、多くの植物がもつ酵素であり、光合成の電子伝達系における電子担体の一つであるプラストキノンの生合成に関与している。

４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質としては、トプラメゾン、イソキサクロルトール、イソキサフルトール、スルコトリオン、ピラゾレート、ベンゾビシクロン、ベンゾフェナップ、メソトリオン、ピラゾキシフェン、テンボトリオン、トルピラレートなどを挙げることができる。これらのうちトプラメゾンが好ましい。

トプラメゾンは、式(2)で表される公知物質である。

４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質は、製剤化して用いることができる。４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の製剤は、固体剤および液体剤のいずれであってもよい。剤形としては、フロアブル剤、乳剤、水和剤、液剤、水溶剤、粉剤、および粒剤などを挙げることができる。４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の製剤には、界面活性剤、増粘剤、消泡剤、凍結防止剤、有機溶剤、防腐剤、酸化防止剤、結晶析出防止剤、着色剤などの農園芸用薬剤において一般に用いられる添加剤が含まれていてもよい。

トプラメゾンを含有する製剤としては、茎葉処理除草剤である日本曹達社製アルファード液剤が知られている。アルファード液剤は、一年生イネ科雑草や一年生広葉雑草の幅広い草種に効果があることが知られている。しかし、トプラメゾンは、茎葉散布と同じ量で土壌処理を行っても効果を発揮できず、幅広い草種に十分な除草効果を得るには茎葉散布の場合よりも多量必要であるため、土壌処理には不向きである。

本発明に用いられる光化学系II阻害型除草活性物質は、ＨＲＡＣ（Herbicide Resistance Action Committee）においてＣ１、Ｃ２およびＣ３に分類される物質である。なお、光化学系IIは、酸素発生型光合成に関与する光化学系の１種であり、水の分解を可能にする強い酸化力を形成することを特徴としている。

光化学系II阻害型除草活性物質としては、ジウロン、アトラジン、シアナジン、ジメタメトリン、シメトリン、ターバシル、ブロマシル、ベンタゾン、リニュロン、レナシル、イソウロン、シマジン、アイオキシニル、デスメディファム、テブチウロン、フェンメディファム、プロメトリン、ヘキサジノン、メタミトロン、メトリブジン、アミカルバゾン、アメトリン、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、クロルブロムロン、クロリダゾン、クロロトルロン、クロロクスロン、デスメトリン、ジメフロン、エチジムロン、フェニュロン、フルオメツロン、イソプロツロン、メタベンズチアズロン、メトブロムロン、メトキスロン、モノリニュロン、ネブロン、ペンタノクロール、プロメトン、プロパニル、プロパジン、ピリダフォル、ピリデート、シデュロン、テルブメトン、テルブチラジン、テルブトリン、トリエタジンなどを挙げることができる。これらのうちアトラジンが好ましい。

アトラジンは、式(3)で表される公知物質である。

光化学系II阻害型除草活性物質は、製剤化して用いることができる。光化学系II阻害型除草活性物質の製剤は、固体剤および液体剤のいずれであってもよい。剤形としては、フロアブル剤、乳剤、水和剤、液剤、水溶剤、粉剤、および粒剤などを挙げることができる。光化学系II阻害型除草活性物質の製剤には、界面活性剤、増粘剤、消泡剤、凍結防止剤、有機溶剤、防腐剤、酸化防止剤、結晶析出防止剤、着色剤などの農園芸用薬剤において一般に用いられる添加剤が含まれていてもよい。

アトラジンを含有する製剤としては、シンジェンタジャパン社製のゲザプリムフロアブルやゲザノンフロアブル等が知られている。ゲザプリムフロアブルは全面土壌散布及び雑草茎葉散布にて使用される。

本発明のイネ科雑草の防除方法においては、４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質と光化学系II阻害型除草活性物質とを混合して土壌処理に用いてもよいし、それぞれを別々に、同時または順次、土壌処理に用いてもよい。

４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の使用量は、好ましくは０．１〜３００ｇ／ｈａ、より好ましくは１〜１００ｇ／ｈａ、さらに好ましくは１０〜７０ｇ／ｈａである。
光化学系II阻害型除草活性物質の使用量は、好ましくは１００〜２０００ｇ／ｈａ、より好ましくは１００〜１５００ｇ／ｈａ、さらに好ましくは２００〜１０００ｇ／ｈａである。

４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の使用量に対する光化学系II阻害型除草活性物質の使用量の質量比は、好ましくは０．１〜１００、より好ましくは１〜５０、さらに好ましくは４〜３０である。

土壌処理は、４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質と光化学系II阻害型除草活性物質とを除草効果が発揮されるように土壌に含ませることができる方法であれば、その方法において、特に制限されない。例えば、４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質またはそれの製剤は、そのまま、または水で所定濃度に希釈して用いることができる。光化学系II阻害型除草活性物質またはそれの製剤は、そのまま、または水で所定濃度に希釈して用いることができる。

４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質と光化学系II阻害型除草活性物質とを土壌に含ませるために、散布、混和、又は潅注を行うことができる。
散布は、例えば、固体剤をばら撒くことによって、液体剤若しくは希釈液を噴霧することによって、行うことができる。
混和は、固体剤または液体剤、若しくは希釈液を土壌に接触させた後、耕運機等で耕すことによって、行うことができる。
潅注は、液体剤または希釈液を土壌に注入することによって、行うことができる。

土壌処理を行う時期は、特に制限されないが、雑草が発芽もしくは生育する前に行うことが好ましい。この時期の土壌処理は発芽抑制または生育抑制の効果が高い。

本発明の除草方法の対象は、イネ科雑草である。イネ科に分類される雑草であれば、一年生雑草、多年生雑草、越年生雑草のいずれでもよい。
イネ科一年生雑草としては、タイヌビエ、イヌビエ、カヤツリグサ、メヒシバ、オヒシバ、アキメヒシバ、ヒメイヌビエ、エノコログサ、ナルコビエ、アキノエノコログサなどを挙げることができる。イネ科多年生雑草としては、キシュウスズメノヒエ、サヤヌカグサ、エゾノサヤヌカグサ、チカラシバ、シバムギ、チガヤ、ススキ、セイバンモロコシなどを挙げることができる。イネ科越年生雑草としては、カズノコグサ、カゼクサ、カモガヤ、ススキ、スズメノヒエ、チガヤ、スズメノカタビラ、スズメノテッポウなどを挙げることができる。本発明の除草方法は、従来の除草方法に比べて、イヌエビ、ナルコビエ、アキノエノコログサ、またはメヒシバに対する防除効果に優れている。なお、イヌビエ（Echinochloa crus-galli）は、イネ科ヒエ属の一年生雑草である。ナルコビエ（Eriochloa villosa）は、イネ科ナルコビエ属の一年生雑草である。アキノエノコログサ(Setaria faberi)は、イネ科ノエノコログサ属の一年生雑草である。メヒシバ(Digitaria ciliaris)は、イネ科メヒシバ属の一年生雑草である。

以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

〔雑草防除試験〕
面積５０ｃｍ²のプラスチックポットに褐色火山性壌土を充填した。これに表２〜１１に示す所定の雑草の種子を播種し、覆土し、次いで灌水した。
通常、茎葉散布で用いる量と同じ量やその半量を用いて、表２〜１１に示す所定の薬剤の希釈液を合計１０００Ｌ／ｈａの炭酸ガス加圧式農薬散布機（TeeJet8002VSノズル使用）を用いた散布による土壌処理を行ったもの（処理区）と該土壌処理を行っていないもの（無処理区）との６週間の雑草生育状況（雑草地上部生重量）の比較から、次式にて殺草率を算出した。その殺草率から表１に基づき殺草指数に換算した。これを３反復した。殺草指数の平均値を表２〜１１に示す。

殺草率（％）＝（Ａ−Ｂ）／Ａ ×１００

Ａ＝無処理区の雑草地上部生重量
Ｂ＝処理区の雑草地上部生重量

薬剤：
アルファード液剤（有効成分トプラメゾン３．６％）
ゲザプリムフロアブル（有効成分アトラジン４５％）

イヌビエ（Echinochloa crus-galli、イネ科ヒエ属の一年生雑草）の防除効果

イヌビエ（Echinochloa crus-galli、イネ科ヒエ属の一年生雑草）の防除効果

イヌホオズキ（Solanum nigrum、ナス科ナス属の一年生雑草、広葉）の防除効果

ナルコビエ（Eriochloa villosa、イネ科ナルコビエ属の一年生雑草）の防除効果

アキノエノコログサ（Setaria faberi、イネ科エノコログサ属の一年生雑草）の防除効果

アキノエノコログサ（Setaria faberi、イネ科エノコログサ属の一年生雑草）の防除効果

メヒシバ（Digitaria ciliaris、イネ科メヒシバ属の一年生雑草）の防除効果

イチビ（Abutilon theophrasti、アオイ科イチビ属の一年生雑草、広葉）の防除効果

シロザ（Chenopodium album、ヒユ科アカザ属の一年生雑草、広葉）の防除効果

スベリヒユ（Portulaca oleracea、スベリヒユ科スベリヒユ属の一年生雑草、広葉）の防除効果

Claims (6)

1. ４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質と光化学系II阻害型除草活性物質とを用いた土壌処理を行うことを含むイネ科雑草の防除方法。
2. ４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の使用量に対する光化学系II阻害型除草活性物質の使用量の質量比が０．１〜１００である、請求項１に記載の防除方法。
3. イネ科雑草がイヌビエ、ナルコビエ、アキノエノコログサ、およびメヒシバからなる群より選ばれる少なくとも一つである、請求項１または２に記載の防除方法。
4. ４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質の使用量が０．１〜３００ｇ／ｈａであり、且つ光化学系II阻害型除草活性物質の使用量が１００〜２０００ｇ／ｈａである、請求項１〜３のいずれかひとつに記載の防除方法。
5. ４−ＨＰＰＤ阻害型除草活性物質がトプラメゾンである、請求項１〜４のいずれかひとつに記載の防除方法。
6. 光化学系II阻害型除草活性物質がアトラジンである、請求項１〜５のいずれかひとつに記載の防除方法。