JP2020128336A - Composite molding - Google Patents

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Abstract

To provide a composite molding composed of an oxide-based non-magnetic ceramic molding having a roughened structure thereon and a molding of other material.SOLUTION: A composite molding is composed of an oxide-based non-magnetic ceramic molding having a roughened structure thereon and a molding of other material, in which the roughened structure has unevenness, a cross-sectional shape in a thickness direction of the unevenness has a curved surface, surface roughness (Ra) of the unevenness is in a range of 1-30 μm, a difference (Rz) in height between the projection and the recess of the unevenness is 10-200 μm, the molding of the other material is a molding selected from a thermoplastic resin molding, a thermosetting resin molding, a thermoplastic elastomer molding, a rubber molding, a metal molding and a UV curable resin molding, and the composite molding is integrated by bringing the portion having the roughened structure thereon and the molding of the other material into contact with each other.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は、その1つの態様において、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体とその製造方法に関する。 The present invention, in one of its aspects, relates to a non-magnetic ceramic compact having a surface-roughened structure and a method for producing the same.

非磁性セラミックスは、食器、カップ、花びんなどの日用品、エンジニアリングセラミックスとして各種成形品に汎用されており、適用する用途に応じて、表面に凹凸を形成する処理をすることが知られている。 Non-magnetic ceramics are commonly used in various molded articles such as tableware, cups, vase and other daily necessities, and engineering ceramics, and it is known to perform a treatment for forming irregularities on the surface according to the application.

特許文献1(特開2002−308683号公報)には、酸性エッチング液により凹凸構造が形成されたセラミックス部材が開示されている。特許文献2(特許第6032903号公報)には、特定の凹凸構造を有する焼成用セッターの発明が記載されており(特許請求の範囲)、前記焼成用セッターの材料として、ジルコニア、アルミナ、マグネシア、スピネル、コーディライトなどが例示されている(段落番号0013)。 Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-308683) discloses a ceramic member having an uneven structure formed by an acidic etching solution. Patent Document 2 (Japanese Patent No. 6032903) describes an invention of a firing setter having a specific concavo-convex structure (claims), and as a material of the firing setter, zirconia, alumina, magnesia, Examples include spinel and cordierite (paragraph number 0013).

特許文献3(WO2011/121808 A1)には、金属製またはセラミックス製の基材と、前記基材の摺動側の表面部に凹部を形成することによって設けられた含浸層と、前記含浸層に含浸し、前記基材の摺動側の表面を被覆している樹脂層と、を備える摺動部材であり、前記凹部は機械加工によって形成されている発明が開示されている(特許請求の範囲)。凹部は複数の直線状の溝であり、前記溝の最大深さは200〜2,000μmであることが記載されている(段落番号0026)。 Patent Document 3 (WO2011/121808 A1) discloses that a base material made of metal or ceramics, an impregnation layer provided by forming a recess in the surface portion of the base material on the sliding side, and the impregnation layer Disclosed is an invention in which a resin layer that is impregnated and covers the surface of the base material on the sliding side is provided, and the concave portion is formed by machining (Claims). ). It is described that the recess is a plurality of linear grooves, and the maximum depth of the grooves is 200 to 2,000 μm (paragraph number 0026).

前記機械加工としては、レーザ加工、ワイヤーカット加工などが例示されているが(段落番号0014)、具体的な加工条件についての記載はなく、実施例では鋼をワイヤーカット加工したことが記載されているだけであり、セラミックスについての具体的な記載はない。 Examples of the mechanical processing include laser processing and wire cutting processing (paragraph number 0014), but there is no description of specific processing conditions, and it is described that the steel was wire cut processing in the examples. There is no specific description about ceramics.

特許文献4(特開2015−109966号公報)には、正方晶ジルコニアを含有する医療機器材料の特定部位にリン酸カルシウムをコーティングする、医療機器材料の製造方法であって、前記特定部位に超短パルスレーザーを照射して表面に凹凸を形成する第一工程と、前記特定部位に前記凹凸の周期に比べて小さいリン酸カルシウム微粒子を蒸着または析出させる第二工程とを含むことを特徴とする医療機器材料の製造方法が開示されている(特許請求の範囲)。 Patent Document 4 (JP-A-2015-109966) discloses a method for producing a medical device material, which comprises coating calcium phosphate on a specific site of a tetragonal zirconia-containing medical device material, wherein an ultrashort pulse is applied to the specific site. A first step of forming irregularities on the surface by irradiating a laser, and a second step of vapor depositing or precipitating calcium phosphate fine particles smaller than the period of the irregularities on the specific site, in a medical device material characterized by the following: A manufacturing method is disclosed (Claims).

特許文献5(特許第6111102号公報)には、AlNまたはAl23を主成分とするセラミックス基板の少なくとも一方の面の回路パターンと略同一の平面形状の部分に波長300〜1500nmのレーザー光を照射して、そのセラミックス基板の少なくとも一方の面の回路パターンと略同一の平面形状の部分にアルミニウム膜を形成し、このアルミニウム膜上に銅板を配置してアルミニウムと銅の共晶点以上で且つ650℃以下の温度で加熱することにより、アルミニウム膜を介して銅板をセラミックス基板に接合することを特徴とする、金属−セラミックス接合基板の製造方法が開示されている。 In Patent Document 5 (Japanese Patent No. 6111102), a laser beam having a wavelength of 300 to 1500 nm is applied to a portion of a planar shape that is substantially the same as the circuit pattern on at least one surface of a ceramic substrate containing AlN or Al 2 O 3 as a main component. To form an aluminum film on a portion of the same planar shape as the circuit pattern on at least one surface of the ceramics substrate, and a copper plate is placed on the aluminum film to form a eutectic point of aluminum and copper or more. A method for manufacturing a metal/ceramic bonding substrate is disclosed in which a copper plate is bonded to a ceramic substrate via an aluminum film by heating at a temperature of 650° C. or lower.

特許文献6(特開2003−171190号公報)には、純度95%以上の緻密質セラミックスからなる基材の表面が表面粗さRa3〜40μmの丸みを帯びた第1の凹凸に形成され、かつ、この第1の凹凸の表面が表面粗さRa0.1〜2.9μmの丸みを帯びた第2の凹凸に形成されているセラミックス部材が開示されている。第2の凹凸は第1の凹凸の全面を覆っていることが図示されている。 In Patent Document 6 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-171190), the surface of a base material made of dense ceramics having a purity of 95% or more is formed into rounded first irregularities having a surface roughness Ra of 3 to 40 μm, and , A ceramic member in which the surface of the first unevenness is formed into a second unevenness having a roundness with a surface roughness Ra of 0.1 to 2.9 μm. It is shown that the second unevenness covers the entire surface of the first unevenness.

特許文献7(特開2003−137677号公報)および特許文献8(特開2004−66299号公報)には、セラミックス体の表面にレーザー加工して凹凸を形成する技術が開示されている。 Patent Document 7 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-137677) and Patent Document 8 (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-66299) disclose a technique for forming irregularities by laser processing on the surface of a ceramic body.

特許文献9(特許第5774246号公報)および特許文献10(特許第5701414号公報)には、連続波レーザーを使用して、2,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射して金属成形体の表面を粗面化する発明、金属成形体と樹脂成形体との複合成形体の製造方法の発明が開示されているが、セラミックスについての記載はない。 In Patent Document 9 (Japanese Patent No. 5774246) and Patent Document 10 (Japanese Patent No. 5701414), a continuous wave laser is used to continuously irradiate a laser beam at an irradiation speed of 2,000 mm/sec or more to obtain a metal. Although an invention for roughening the surface of a molded body and an invention for a method for producing a composite molded body of a metal molded body and a resin molded body are disclosed, there is no description about ceramics.

特開2002−308683号公報JP, 2002-308683, A 特許第6032903号公報Japanese Patent No. 6032903 WO2011/121808 A1WO2011/121808 A1 特開2015−109966号公報JP, 2005-109966, A 特許第6111102号公報Japanese Patent No. 6111102 特開2003−171190号公報JP, 2003-171190, A 特開2003−137677号公報JP, 2003-137677, A 特開2004−66299号公報JP, 2004-66299, A 特許第5774246号公報Patent No. 5774246 特許第5701414号公報Japanese Patent No. 5701414

本発明は、その1つの側面において、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体とその製造方法を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide, in one aspect thereof, a non-magnetic ceramic compact having a roughened surface structure and a method for producing the same.

本発明は、その1つの側面において、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体とその製造方法を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide, in one aspect thereof, a non-magnetic ceramic compact having a roughened surface structure and a method for producing the same.

本発明の1つの実施態様による表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体は、他の材料との複合成形体を製造する中間体として使用することができる。したがって本発明は別の側面において、そのような複合成形体の製造方法、および複合成形体にも向けられている。 The non-magnetic ceramic compact having a surface-roughened structure according to one embodiment of the present invention can be used as an intermediate for producing a composite compact with another material. Therefore, in another aspect, the present invention is also directed to a method for producing such a composite molded body and a composite molded body.

本発明の1つの実施態様による製造方法によれば、割れにより2以上に分離することなく、本来的に硬く脆い酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面を粗面化することができる。 According to the manufacturing method of one embodiment of the present invention, the surface of the inherently hard and brittle oxide-based nonmagnetic ceramic compact can be roughened without being separated into two or more by cracking.

(a)および(b)は、本発明の1つの例による非磁性セラミックス成形体表面の凹凸の凹部の幾つかの異なる実施形態を示す平面図。(A) And (b) is a top view which shows several different embodiment of the recessed part of the unevenness|corrugation of the non-magnetic ceramics compact surface by one example of this invention. (a)および(b)は、本発明の別の例による非磁性セラミックス成形体表面の凹凸の凹部の幾つかの異なる実施形態を示す平面図。(A) And (b) is a top view which shows several different embodiment of the recessed part of the unevenness|corrugation on the surface of the nonmagnetic ceramic molded body by another example of this invention. (a)〜(d)は、本発明のさらに別の例による非磁性セラミックス成形体表面の凹凸の凹部の幾つかの異なる実施形態を示す平面図。(A)-(d) is a top view which shows several different embodiment of the recessed part of the unevenness|corrugation of the surface of a nonmagnetic ceramics compact by another example of this invention. (a)〜(e)は、本発明のさらに別の例による非磁性セラミックス成形体表面の凹凸の凹部の幾つかの異なる実施形態を示す平面図。(A)-(e) is a top view which shows several different embodiment of the recessed part of the unevenness|corrugation on the surface of the nonmagnetic ceramic molded body by another example of this invention. 本発明の1つの例による第2の製造方法を実施するときの一実施形態のレーザー光の照射状態を示す図。The figure which shows the irradiation state of the laser beam of one Embodiment when implementing the 2nd manufacturing method by one example of this invention. 本発明の1つの例による第2の製造方法を実施するときのレーザー光の照射パターンを示す図であり、(a)は同方向の照射パターン、(b)は双方向の照射パターン。It is a figure which shows the irradiation pattern of a laser beam when implementing the 2nd manufacturing method by one example of this invention, (a) is an irradiation pattern of the same direction, (b) is a bidirectional irradiation pattern. (a)は実施例1のジルコニア成形体の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is a SEM photograph of a plan view of the roughened structure portion of the zirconia molded body of Example 1, and (b) is a SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a). 実施例2のアルミナ成形体(純度92%)の粗面化構造部分(平面図)のSEM写真である。3 is an SEM photograph of a roughened structure portion (plan view) of an alumina molded body (purity: 92%) of Example 2. 実施例3のアルミナ成形体(純度92%)の粗面化構造部分(平面図)のSEM写真である。6 is a SEM photograph of a roughened structure portion (plan view) of an alumina molded body (purity: 92%) of Example 3. (a)は実施例4のアルミナ成形体(純度99.5%)の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is a SEM photograph of a plan view of a roughened structure portion of an alumina molded body (purity: 99.5%) of Example 4, and (b) is a SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a). (a)は、実施例5のアルミナ成形体(純度99.5%)の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は、(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is a SEM photograph of a plan view of a roughened structure portion of an alumina molded body (purity 99.5%) of Example 5, and (b) is a SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a). .. 比較例2のアルミナ成形体(純度99.5%)の粗面化構造部分(平面図)のSEM写真である。5 is an SEM photograph of a roughened structure portion (plan view) of an alumina molded body (Comparative Example 9) having a purity of 99.5%. (a)は実施例6のステアタイト成形体の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is a SEM photograph of a plan view of the roughened structure portion of the steatite molded body of Example 6, and (b) is a SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a). (a)は実施例7のコージライト成形体の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is a SEM photograph of a plan view of a roughened structure portion of the cordierite molded body of Example 7, and (b) is a SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a). 実施例で製造したアルミナ成形体の斜視図と、アルミナ成形体と樹脂成形体との複合成形体を使用した接合強度の試験を説明するための斜視図。1 is a perspective view of an alumina molded body manufactured in an example, and a perspective view for explaining a bonding strength test using a composite molded body of an alumina molded body and a resin molded body. (a)は実施例8のステアタイト成形体の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is a SEM photograph of a plan view of the roughened structure portion of the steatite molded body of Example 8, and (b) is a SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a).

本発明の1つの実施態様によれば、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体は、酸化物系の非磁性セラミックスからなるものである。前記酸化物系の非磁性セラミックス成形体は、本発明の好ましい一態様ではアルミナ、ジルコニア、マグネシア、シリカ、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ウラン、β−アルミナ、ムライト、YAG、フォルステライト(2MgO・SiO2)、チタン酸バリウム(BaTiO3)、ステアタイト(MgO・SiO2)、コージライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2)、またはチタン酸ジルコン酸鉛などの酸化物系セラミックスを含む成形体であり、これらの中でも本発明の別の好ましい一態様はアルミナまたはジルコニアを含むものである。 According to one embodiment of the present invention, the non-magnetic ceramic compact having a roughened surface structure is made of oxide-based non-magnetic ceramics. In a preferred embodiment of the present invention, the oxide-based nonmagnetic ceramic compact is alumina, zirconia, magnesia, silica, titanium oxide, cerium oxide, zinc oxide, tin oxide, uranium oxide, β-alumina, mullite, YAG, A compact containing oxide ceramics such as forsterite (2MgO·SiO2), barium titanate (BaTiO3), steatite (MgO·SiO2), cordierite (2MgO·2Al2O3·5SiO2), or lead zirconate titanate. Of these, another preferred embodiment of the present invention is one containing alumina or zirconia.

アルミナは、アルミナのみからなるもののほか、所定の熱衝撃温度を満たす範囲内であれば、アルミナと、他の非磁性セラミックス、金属との複合体からなるものでもよい。所定の熱衝撃温度(JIS R1648:2002)は、本発明の好ましい一態様では150〜700℃の範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では180〜680℃の範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では200〜650℃の範囲である。 Alumina may be made of only alumina, or may be made of a composite of alumina and other non-magnetic ceramics or metal as long as it is within a range satisfying a predetermined thermal shock temperature. The predetermined thermal shock temperature (JIS R1648:2002) is in the range of 150 to 700° C. in a preferred embodiment of the present invention, and in the range of 180 to 680° C. in another preferred embodiment of the present invention. In still another preferred embodiment, the temperature is in the range of 200 to 650°C.

アルミナを含む非磁性セラミックス成形体は、レーザー光の照射による加工時において割れることを防止するため、本発明の好ましい一態様では厚さが0.5mm以上のものであり、本発明の別の好ましい一態様では厚さが1.0mm以上であるものである。なお、本発明における「割れ」は、成形体の一部が割れて2以上に分割されることをいい、「ひび割れ」は含まれない。またレーザー光の照射による加工時には割れないが、著しく強度が低下して、その後の移動時および加工時に2以上に分割されるような場合も「割れ」に含まれる。 The non-magnetic ceramic compact containing alumina has a thickness of 0.5 mm or more in a preferred embodiment of the present invention in order to prevent cracking during processing by irradiation with laser light, and another preferred embodiment of the present invention. In one aspect, the thickness is 1.0 mm or more. The "crack" in the present invention means that a part of the molded body is cracked and divided into two or more, and "crack" is not included. A "crack" also includes a case where it does not break during processing by laser light irradiation, but its strength is significantly reduced, and it is divided into two or more during subsequent movement and processing.

ジルコニアは、ジルコニアのみからなるもののほか、所定の熱衝撃温度を満たす範囲内であれば、ジルコニアと、他の非磁性セラミックス、金属との複合体からなるものでもよい。所定の熱衝撃温度(JIS R1648:2002)は、本発明の好ましい一態様では1〜10℃の範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では3〜8℃である。ジルコニアを含む非磁性セラミックス成形体は、レーザー光の照射時においてクラックが発生したり、割れたりすることを防止するため、本発明の好ましい一態様では厚さが3mm以上のものであり、本発明の別の好ましい一態様では厚さが3.5mm以上のものである。 The zirconia may be composed of only zirconia, or may be composed of a composite of zirconia and other non-magnetic ceramics or metal as long as it is within the range of satisfying a predetermined thermal shock temperature. The predetermined thermal shock temperature (JIS R1648:2002) is in the range of 1 to 10°C in one preferred embodiment of the present invention, and is 3 to 8°C in another preferred embodiment of the present invention. The non-magnetic ceramic compact containing zirconia has a thickness of 3 mm or more in one preferred embodiment of the present invention in order to prevent cracks from occurring or cracking during irradiation with laser light. In another preferred embodiment, the thickness is 3.5 mm or more.

本発明の1つの実施態様によれば、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体は、前記粗面化構造が凹凸を有しており、前記凹凸の厚さ方向の断面形状が曲面を有しているものである。前記凹凸の厚さ方向の断面形状は、部分円形状または部分楕円形状を含んでいるものであってよい。部分円形状は、半円形状、1/3円形状などの円の一部を含む形状である。部分楕円形状は、半楕円形状、1/3楕円形状などの楕円の一部を含む形状である。 According to one embodiment of the present invention, in the non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface, the roughened structure has irregularities, and the sectional shape in the thickness direction of the irregularities is a curved surface. It has The cross-sectional shape of the unevenness in the thickness direction may include a partial circular shape or a partial elliptical shape. The partial circular shape is a shape including a part of a circle, such as a semicircular shape and a 1/3 circular shape. The partial elliptical shape is a shape including a part of an ellipse such as a semi-elliptical shape and a 1/3 elliptical shape.

前記凹凸の表面粗さ(Ra)は、本発明の好ましい一態様では1〜30μmの範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では3〜25μmの範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では4〜23μmの範囲である。前記凹凸の凸部と凹部の高低差(Rz)は、本発明の好ましい一態様では10〜200μmの範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では15〜180μmの範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では20〜150μmの範囲である。 The surface roughness (Ra) of the irregularities is in the range of 1 to 30 μm in one preferred embodiment of the present invention, and in the range of 3 to 25 μm in another preferred embodiment of the present invention, and yet another preferred embodiment of the present invention. In one aspect, it is in the range of 4 to 23 μm. The height difference (Rz) between the convex portion and the concave portion of the unevenness is in the range of 10 to 200 μm in one preferred embodiment of the present invention, and in the range of 15 to 180 μm in another preferred embodiment of the present invention. In yet another preferred embodiment, it is in the range of 20 to 150 μm.

さらに前記粗面化構造部分(凹凸部分)のSa(算術平均高さ)、Sz(最大高さ)、Sdr(界面の展開面積比)、Sdq(二乗平均平方根傾斜)は、以下の範囲であってよい。Sa(算術平均高さ)は、本発明の好ましい一態様では1〜50μmであり、本発明の別の好ましい一態様では3〜40μmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では5〜30μmである。 Furthermore, Sa (arithmetic mean height), Sz (maximum height), Sdr (expanded area ratio of the interface) and Sdq (root mean square slope) of the roughened structure portion (uneven portion) are in the following ranges. You may Sa (arithmetic mean height) is 1 to 50 μm in one preferred embodiment of the present invention, 3 to 40 μm in another preferred embodiment of the present invention, and 5 to 30 μm in yet another preferred embodiment of the present invention. Is.

Sz(最大高さ)は、本発明の好ましい一態様では30〜280μmであり、本発明の別の好ましい一態様では40〜250μmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では50〜230μmである。 Sz (maximum height) is 30 to 280 μm in one preferred embodiment of the present invention, 40 to 250 μm in another preferred embodiment of the present invention, and 50 to 230 μm in yet another preferred embodiment of the present invention. is there.

Sdr(界面の展開面積比)は、本発明の好ましい一態様では0.05〜2.00であり、本発明の別の好ましい一態様では0.1〜1.50であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.10〜1.00である。 Sdr (developed area ratio of the interface) is 0.05 to 2.00 in a preferred embodiment of the present invention, and 0.1 to 1.50 in another preferred embodiment of the present invention. In another preferred embodiment, it is 0.10 to 1.00.

Sdq(二乗平均平方根傾斜)は、本発明の好ましい一態様では0.3〜3.0であり、本発明の別の好ましい一態様では0.4〜2.0であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.5〜2.0である。 Sdq (root mean square slope) is 0.3 to 3.0 in a preferred embodiment of the present invention, and 0.4 to 2.0 in another preferred embodiment of the present invention. In a preferred embodiment of, it is 0.5 to 2.0.

前記凹凸の凹部の深さ方向の断面形状は、表面側の開口部幅が広く(最大内径部分)、深さ方向(底部方向)に幅が少しずつ狭くなっているくさび形状、表面側の開口部の幅が狭く、開口部から底部に至るまでの間に最大内径部分が存在しているような壺形状のものを含んでいてよい。最大内径部分は、本発明の好ましい一態様では1〜500μmであり、本発明の別の好ましい一態様では2〜300μmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では10〜100μmである。 The cross-sectional shape of the concave-convex concave portion in the depth direction is a wedge shape in which the opening width on the surface side is wide (maximum inner diameter portion) and the width is gradually narrowed in the depth direction (bottom direction), the opening on the surface side. It may include a pot-shaped portion having a narrow width and having a maximum inner diameter portion between the opening and the bottom. The maximum inner diameter portion is 1 to 500 μm in one preferred embodiment of the present invention, 2 to 300 μm in another preferred embodiment of the present invention, and 10 to 100 μm in yet another preferred embodiment of the present invention.

本発明の1つの実施態様によれば、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体は、前記凹凸が間隔をおいて線状に連続的に形成されているとき、前記凹部の平面形状が楕円形またはそれに類似する形状を含んでいるものであってよい。前記凹凸が間隔をおいて線状に連続的に形成されているとは、線状の凸部と線状凹部が一定方向に交互に形成されている形態である。 According to one embodiment of the present invention, the non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface has a planar shape of the recess when the irregularities are continuously formed linearly at intervals. May include an elliptical shape or a shape similar thereto. The term “the concavities and convexities are continuously formed linearly at intervals” means that the linear convex portions and the linear concave portions are alternately formed in a certain direction.

前記凹部の平面形状が楕円形に類似する形状であるときは、例えば、長軸側の対向する二辺は曲線(円弧)1aであるが、短軸側の対向する二辺は直線2のみからなる形状のもの(図1(a)および(b))、長軸側の対向する二辺は曲線(円弧)1aであるが、短軸側の対向する二辺は直線2と曲線1bからなる形状のもの(図2(a)および(b))、長軸側の対向する二辺は曲線(円弧)1aであるが、短軸側の対向する二辺の直線2または曲線1bが部分的に曲がっているもの(図3(a)〜(d))が含まれる。 When the planar shape of the recess is similar to an ellipse, for example, the two opposing sides on the major axis side are curves (arcs) 1a, but the two opposing sides on the minor axis side are only straight lines 2. (FIGS. 1(a) and 1(b)), the two major sides facing each other are curved lines (arcs) 1a, while the two major sides facing each other are straight lines 2 and curved lines 1b. Shaped (FIGS. 2A and 2B), the two opposing sides on the major axis side are curves (arcs) 1a, but the straight lines 2 or the curved line 1b on the two opposing sides on the minor axis side are partially The curved parts (FIGS. 3A to 3D) are included.

本発明の1つの実施態様によれば、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体は、前記凹凸が分散してランダムに形成されているとき、前記凹部の平面形状が円形、楕円形またはそれらに類似する形状を含んでいるものであってよい。このときの凹部は、前記粗面化構造の平面形状において島状に分散して形成されており、凹部を除いた部分が凸部である。前記凹凸は、凹部が等間隔で島状に分散して形成されていてもよいし、凹部同士が異なる間隔で島状に分散して形成されていてもよい。 According to one embodiment of the present invention, in the non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface, when the irregularities are dispersed and formed randomly, the planar shape of the recess is circular or elliptical. Alternatively, it may include a shape similar to them. At this time, the concave portions are formed dispersed in island shapes in the planar shape of the roughened structure, and the portions excluding the concave portions are convex portions. The concavities and convexities may be formed so that the concave portions are dispersed in an island shape at equal intervals, or the concave portions are dispersed in an island shape at different intervals.

前記凹部の平面形状が円形に類似する形状であるときは、例えば、円周の一部が円形の中心から遠ざかるように突き出されている部分(突出部)5を有している形状(図4(a)および(b))、円周の一部が円形の中心方向に窪んでいる部分(窪み部)6を有している形状(図4(c)および(d))、およびそれらが混在している形状のものである(図4(e))。突出部5と窪み部6は、それぞれ複数箇所あってもよい。 When the plane shape of the recess is similar to a circle, for example, a shape having a portion (projection) 5 protruding so that part of the circumference is away from the center of the circle (FIG. 4). (A) and (b)), a shape in which a part of the circumference has a recessed portion (recessed portion) 6 in the circular center direction (FIGS. 4C and 4D), and The shapes are mixed (FIG. 4(e)). There may be a plurality of protrusions 5 and recesses 6, respectively.

前記凹部の平面形状が楕円形に類似する形状であるときは、例えば、図1〜図3に示すとおり、長軸側の対向する二辺は曲線(円弧)であるが、短軸側の対向する二辺は直線のみからなる形状のもの、直線と曲線からなる形状のもの、短軸側の対向する二辺の直線または曲線が部分的に曲がっているものが含まれる。 When the planar shape of the recess is similar to an ellipse, for example, as shown in FIGS. 1 to 3, the two major sides facing each other are curves (arcs), but the minor axis facing each other. The two sides include a shape formed only of straight lines, a shape formed of straight lines and curves, and a shape in which the straight lines or curves of the two sides facing each other on the minor axis side are partially curved.

本発明の1つの実施態様によれば、非磁性セラミックス成形体は、粗面化構造部分に液体、粉体などを保持できる担体などとして使用することができるほか、他の材料(非磁性セラミックスを除いた材料)からなる成形体との複合成形体を製造するための製造中間体としても使用することができる。 According to one embodiment of the present invention, the non-magnetic ceramic molded body can be used as a carrier or the like that can hold liquid, powder, etc. in the roughened structure portion, and other materials (non-magnetic ceramics can be used). It can also be used as a production intermediate for producing a composite molded body with a molded body made of the removed material).

<表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の第1の製造方法>
次に本発明の1つの実施態様による、表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の第1の製造方法を説明する。本発明の1つの実施態様による非磁性セラミックス成形体は、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用して5,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射して製造することができる。
<First Method for Producing Oxide-Based Non-Magnetic Ceramics Compact Having Roughened Structure on Surface>
Next, a first method for producing an oxide-based nonmagnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface according to an embodiment of the present invention will be described. The non-magnetic ceramic compact according to one embodiment of the present invention uses a continuous wave laser to irradiate the surface of the oxide-based non-magnetic ceramic compact with laser light at an irradiation speed of 5,000 mm/sec or more. It can be manufactured by continuous irradiation.

本発明の1つの実施態様による製造方法で使用する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の形状、大きさ、厚みなどは特に制限されるものではなく、用途に応じて選択され、必要に応じて調整されるものである。例えば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体として、平板、丸棒、角棒(断面が多角形の棒)、管、カップ形状のもの、立方体、直方体、球または部分球(半球など)、楕円球または部分楕円球(半楕円球など)、不定形などの成形体のほか、既存の非磁性体セラミックス製品も使用することができる。前記既存の酸化物系の非磁性セラミックス製品は、酸化物系の非磁性セラミックスのみからなるもののほか、酸化物系の非磁性セラミックスと他の材料(金属、樹脂、ゴム、ガラス、木材など)の複合体からなるものでもよい。 The shape, size, thickness, etc. of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body used in the manufacturing method according to one embodiment of the present invention are not particularly limited and are selected according to the application, and if necessary. It is adjusted. For example, oxide-based non-magnetic ceramic compacts such as flat plates, round rods, square rods (polygonal rods in cross section), tubes, cup-shaped ones, cubes, cuboids, spheres or partial spheres (hemispheres), ellipses, etc. In addition to spheres or partially elliptical spheres (semi-ellipsoidal spheres, etc.) and irregular shaped bodies, existing non-magnetic ceramic products can also be used. The existing oxide-based non-magnetic ceramic products are made of only oxide-based non-magnetic ceramics, as well as oxide-based non-magnetic ceramics and other materials (metal, resin, rubber, glass, wood, etc.). It may consist of a complex.

1つの実施態様によれば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用して5,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射するとき、同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射することができる。 According to one embodiment, when the surface of the oxide-based non-magnetic ceramic compact is continuously irradiated with laser light at a irradiation speed of 5,000 mm/sec or more using a continuous wave laser, the same direction is applied. Alternatively, the laser light can be continuously irradiated so that a plurality of lines including straight lines, curved lines, and combinations thereof are formed in different directions.

また別の実施態様によれば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用して5,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射するとき、同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射し、レーザー光を複数回連続照射して1本の直線または1本の曲線を形成することができる。 According to another embodiment, when the surface of the oxide-based non-magnetic ceramic compact is continuously irradiated with laser light at a irradiation speed of 5,000 mm/sec or more using a continuous wave laser, the same result is obtained. Laser light is continuously irradiated so that a plurality of lines consisting of straight lines, curved lines and combinations thereof are formed in different directions or different directions, and the laser beam is continuously irradiated multiple times to form one straight line or one curved line. Can be formed.

さらに別の実施態様によれば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用して5,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射するとき、同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射し、前記複数本の直線または前記複数本の曲線が、等間隔または異なる間隔をおいて形成されるようにレーザー光を連続照射することができる。 According to another embodiment, when the surface of the oxide-based nonmagnetic ceramic compact is continuously irradiated with laser light at a irradiation speed of 5,000 mm/sec or more using a continuous wave laser, the same result is obtained. Continuously irradiating laser light so that a plurality of lines consisting of straight lines, curved lines and combinations thereof are formed in different directions or different directions, and the plurality of straight lines or the plurality of curved lines have equal intervals or different intervals. Laser light can be continuously irradiated so as to be formed in advance.

レーザー光の照射速度は、酸化物系の非磁性セラミックス成形体を粗面化するため、5,000mm/sec以上であってよく、本発明の好ましい一態様では5,000〜20,000mm/secであり、本発明の別の好ましい一態様では5,000〜10,000mm/secである。レーザー光の照射速度が5,000mm/sec未満であると、非磁性セラミックス成形体の表面に粗面化構造を形成することが難しい。 The irradiation speed of the laser light may be 5,000 mm/sec or more in order to roughen the oxide-based non-magnetic ceramic compact, and in a preferred embodiment of the present invention, 5,000 to 20,000 mm/sec. And another preferred embodiment of the present invention is 5,000 to 10,000 mm/sec. If the irradiation speed of the laser light is less than 5,000 mm/sec, it is difficult to form a roughened structure on the surface of the non-magnetic ceramic compact.

レーザーの出力は、本発明の好ましい一態様では100〜4,000Wであり、本発明の別の好ましい一態様では200〜2,000Wであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では300〜1,000Wである。レーザー光の出力は、レーザー光の照射速度が上記した範囲内で遅いときは小さくして、レーザー光の照射速度が上記した範囲内で速いときは大きくすることで粗面化状態を調整することができる。例えば、レーザー光の出力が100Wであるときは、本発明の好ましい一態様ではレーザー光の照射速度は5,000〜7,500mm/secであり、レーザー光の出力が500Wであるときは、本発明の好ましい一態様ではレーザー光の照射速度は7,500〜10,000mm/secである。 The laser output is 100 to 4,000 W in a preferred embodiment of the present invention, 200 to 2,000 W in another preferred embodiment of the present invention, and 300 to 1 in yet another preferred embodiment of the present invention. It is 1,000 W. Adjust the roughening condition by decreasing the laser light output when the laser light irradiation speed is slow within the above range and increasing it when the laser light irradiation speed is high within the above range. You can For example, when the output of the laser light is 100 W, the irradiation speed of the laser light is 5,000 to 7,500 mm/sec in a preferred embodiment of the present invention, and when the output of the laser light is 500 W, the In a preferred embodiment of the invention, the irradiation speed of laser light is 7,500 to 10,000 mm/sec.

レーザー光のスポット径は、本発明の好ましい一態様では10〜100μmであり、本発明の別の好ましい一態様では10〜75μmである。 The spot diameter of the laser beam is 10 to 100 μm in a preferred embodiment of the present invention, and 10 to 75 μm in another preferred embodiment of the present invention.

レーザー光照射時のエネルギー密度は、本発明の好ましい一態様では3〜1,500MW/cmであり、本発明の別の好ましい一態様では5〜700MW/cmである。レーザー光照射時のエネルギー密度は、レーザー光の出力(W)と、レーザー光(スポット面積(cm)(π・〔スポット径/2〕)から次式:レーザー光の出力/スポット面積により求められる。 Energy density during the laser beam irradiation, in a preferred embodiment of the present invention are 3~1,500MW / cm 2, in another preferred embodiment of the present invention is a 5~700MW / cm 2. The energy density at the time of laser light irradiation is calculated by the following formula: laser light output (W) and laser light (spot area (cm 2 )(π·[spot diameter/2] 2 ): laser light output/spot area) Desired.

レーザー光照射時の繰り返し回数(パス回数)は、本発明の好ましい一態様では1〜50回、本発明の別の好ましい一態様では3〜40回、本発明のさらに別の好ましい一態様では5〜30回である。レーザー光照射時の繰り返し回数は、レーザー光を線状に照射するとき、1本のライン(溝)を形成するために照射する合計回数である。 The number of repetitions (passing number) during laser light irradiation is 1 to 50 times in a preferred embodiment of the present invention, 3 to 40 times in another preferred embodiment of the present invention, and 5 in still another preferred embodiment of the present invention. ~ 30 times. The number of repetitions of the laser light irradiation is the total number of times the laser light is irradiated to form one line (groove) when the laser light is linearly irradiated.

1本のラインに繰り返し照射するときは、双方向照射と一方向照射を選択することができる。双方向放射は、1本のライン(溝)を形成するとき、ライン(溝)の第1端部から第2端部に連続波レーザーを照射した後、第2端部から第1端部に連続波レーザーを照射して、その後は、第1端部から第2端部、第2端部から第1端部というように繰り返し連続波レーザーを照射する方法である。一方向照射は、第1端部から第2端部への一方向の連続波レーザー照射を繰り返す方法である。双方向放射または一方向照射したときは、粗面化構造部分の凹部の平面形状は、例えば図1〜図3に示すような形状になる。 When repeatedly irradiating one line, bidirectional irradiation or unidirectional irradiation can be selected. When forming one line (groove), bidirectional radiation is from the second end to the first end after irradiating a continuous wave laser from the first end to the second end of the line (groove). This is a method of irradiating with a continuous wave laser, and thereafter repeatedly irradiating with a continuous wave laser from the first end to the second end and from the second end to the first end. Unidirectional irradiation is a method of repeating unidirectional continuous wave laser irradiation from the first end to the second end. When bidirectional radiation or unidirectional irradiation is performed, the planar shape of the concave portion of the roughened structure portion becomes a shape as shown in FIGS. 1 to 3, for example.

レーザー光を直線状に照射するとき、隣接する照射ライン(隣接する照射により形成された溝)の幅の中間位置同士の間隔(ライン間隔またはピッチ間隔)は、本発明の好ましい一態様では0.03〜1.0mmであり、本発明の別の好ましい一態様では0.03〜0.2mmである。ライン間隔は同一でもよいし、異なっていてもよい。 When the laser light is linearly irradiated, the interval (line interval or pitch interval) between the intermediate positions of the widths of the adjacent irradiation lines (grooves formed by the adjacent irradiation) is 0 in a preferred embodiment of the present invention. It is 03 to 1.0 mm, and in another preferred embodiment of the present invention, it is 0.03 to 0.2 mm. The line intervals may be the same or different.

レーザー光を照射するとき、上記したライン間隔をおいて双方向照射または一方向照射して複数本の溝を形成した後、さらに前記複数本の溝に直交または斜交する方向から、上記したライン間隔をおいて双方向照射または一方向照射するクロス照射を実施することもできる。クロス照射したときは、粗面化構造部分の凹部の平面形状は、例えば図4に示すような形状になる。 When irradiating with laser light, after bidirectional irradiation or unidirectional irradiation at a line interval described above to form a plurality of grooves, and further from the direction orthogonal or oblique to the plurality of grooves, the above line It is also possible to carry out bi-directional irradiation or cross-irradiation with one direction irradiation at intervals. When cross irradiation is performed, the planar shape of the concave portion of the roughened structure portion becomes a shape as shown in FIG. 4, for example.

レーザー光の波長は、本発明の好ましい一態様では300〜1200nmであり、本発明の別の好ましい一態様では500〜1200nmである。レーザー光を照射するときの焦点はずし距離は、本発明の好ましい一態様では−5〜+5mmであり、本発明の別の好ましい一態様では−1〜+1mmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では−0.5〜+0.1mmである。焦点はずし距離は、設定値を一定にしてレーザー照射しても良いし、焦点はずし距離を変化させながらレーザー照射しても良い。例えば、レーザー照射時に、焦点はずし距離を徐々に小さくしたり、周期的に大きくしたり小さくしたりしてもよい。 The wavelength of the laser light is 300 to 1200 nm in a preferred embodiment of the present invention, and 500 to 1200 nm in another preferred embodiment of the present invention. The defocusing distance when irradiating with laser light is -5 to +5 mm in a preferred embodiment of the present invention, -1 to +1 mm in another preferred embodiment of the present invention, and yet another preferred embodiment of the present invention. In the embodiment, it is -0.5 to +0.1 mm. For the defocusing distance, laser irradiation may be performed with a set value being constant, or laser irradiation may be performed while changing the defocusing distance. For example, at the time of laser irradiation, the defocusing distance may be gradually decreased, or periodically increased or decreased.

連続波レーザーは公知のものを使用することができ、例えば、YVO4レーザー、ファイバーレーザー(好ましくはシングルモードファイバーレーザー)、エキシマレーザー、炭酸ガスレーザー、紫外線レーザー、YAGレーザー、半導体レーザー、ガラスレーザー、ルビーレーザー、He−Neレーザー、窒素レーザー、キレートレーザー、色素レーザーを使用することができる。これらの中でもエネルギー密度が高められることから、ファイバーレーザーが好ましく、特にシングルモードファイバーレーザーが好ましい。 As the continuous wave laser, known ones can be used, for example, YVO4 laser, fiber laser (preferably single mode fiber laser), excimer laser, carbon dioxide gas laser, ultraviolet laser, YAG laser, semiconductor laser, glass laser, ruby. Lasers, He-Ne lasers, nitrogen lasers, chelate lasers, dye lasers can be used. Among these, a fiber laser is preferable, and a single mode fiber laser is particularly preferable, because the energy density is increased.

<表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の第2の製造方法>
本発明の1つの実施態様による、表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の第2の製造方法は、上記した第1の製造方法とは、レーザー光の照射形態が異なるほかは、同じ方法である。
<Second Method for Producing Oxide-Based Non-Magnetic Ceramics Compact Having Roughened Structure on Surface>
According to one embodiment of the present invention, a second method for producing an oxide-based non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface is different from the above-mentioned first method in that the irradiation form of laser light is different. Except for the difference, it is the same method.

第2の製造方法は、第1の製造方法と同様にして酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用して5,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射する工程において、粗面化対象となる酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対してレーザー光を照射するとき、レーザー光の照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射する工程を有している。 The second manufacturing method is similar to the first manufacturing method in that the surface of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body is irradiated with laser light at a irradiation speed of 5,000 mm/sec or more using a continuous wave laser. In the process of continuously irradiating the surface of the oxide-based non-magnetic ceramics compact, the surface of the oxide-based non-magnetic ceramics is irradiated with laser light so that the laser light irradiation part and the non-irradiation part are alternately generated. Has a step of

第2の製造方法では、直線、曲線または直線と曲線の組み合わせになるようにレーザー光を照射するとき、レーザー光の照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射する。レーザー光の照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射するとは、図5に示すように照射する実施形態を含んでいる。図5は、長さL1のレーザー光の照射部分11と隣接する長さL1のレーザー光の照射部分11の間にある長さL2のレーザー光の非照射部分12が交互に生じて、全体として点線状に形成されるように照射した状態を示している。前記点線には、一点鎖線、二点鎖線などの鎖線も含まれる。 In the second manufacturing method, when the laser light is irradiated so as to form a straight line, a curved line, or a combination of a straight line and a curved line, irradiation is performed so that the laser light irradiation portion and the non-irradiation portion occur alternately. Irradiating so that the irradiated portion and the non-irradiated portion of the laser light are alternately generated includes an embodiment in which the irradiation is performed as shown in FIG. In FIG. 5, laser light non-irradiated portions 12 of length L2 between the laser light irradiated portions 11 of length L1 and adjacent laser light irradiated portions 11 of length L1 are alternately generated, and as a whole. It shows a state in which irradiation is performed so as to form a dotted line. The dotted line includes chain lines such as a one-dot chain line and a two-dot chain line.

複数回照射するときは、レーザー光の照射部分を同じにしてもよいし、レーザー光の照射部分を異ならせる(レーザー光の照射部分をずらす)ことで、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の全体が粗面化されるようにしてもよい。レーザー光の照射部分を同じにして複数回照射したときは点線状に照射されるが、レーザー光の照射部分をずらして、即ち、最初はレーザー光の非照射部分であった部分にレーザー光の照射部分が重なるようにずらして照射することを繰り返すと、点線状に照射した場合であっても、最終的には実線状態に照射されることになる。繰り返し回数は、1〜20回にすることができる。 When irradiating a plurality of times, the irradiation part of the laser light may be the same, or the irradiation part of the laser light may be different (the irradiation part of the laser light may be shifted) so that the oxide-based non-magnetic ceramic molded body The entire surface may be roughened. When the same portion of the laser light is irradiated and the laser light is irradiated multiple times, the laser light is irradiated in a dotted line, but the laser light irradiation portion is shifted, that is, the portion of the laser light that was originally not irradiated is When the irradiation is repeated by shifting the irradiation parts so that they overlap each other, even if the irradiation is performed in a dotted line, the irradiation is finally performed in a solid line state. The number of repetitions can be 1 to 20 times.

酸化物系の非磁性セラミックス成形体に対して連続的にレーザー光を照射すると、厚さの小さい成形体では割れなどの変形が生じるおそれもある。しかし、図5に示すように点線状にレーザー照射すると、レーザー光の照射部分11とレーザー光の非照射部分12が交互に生じることになるため、レーザー光の照射を継続した場合、厚さの小さい成形体でも割れなどの変形が生じ難くなる。このとき、上記のようにレーザー光の照射部分を異ならせた(レーザー光の照射部分をずらせた)場合でも同様の効果が得られる。 When the oxide-based nonmagnetic ceramic compact is continuously irradiated with laser light, the compact having a small thickness may be deformed such as cracked. However, when the laser irradiation is performed in a dotted line as shown in FIG. 5, the laser light irradiation portion 11 and the laser light non-irradiation portion 12 are alternately generated. Therefore, when the laser light irradiation is continued, Even a small molded body is less likely to be deformed such as cracked. At this time, the same effect can be obtained even when the laser light irradiation portion is different (the laser light irradiation portion is shifted) as described above.

レーザー光の照射方法は、例えば金属成形体20の表面に対して、図6(a)に示すように一方向に照射する方法、または図6(b)に示す点線のように双方向から照射する方法を使用することができる。その他、レーザー光の点線照射部分が交差するように照射する方法でもよい。照射後の各点線の間隔b1は、金属成形体の照射対象面積などに応じて調整することができるものであるが、第1の製造方法のライン間隔と同じ範囲にすることができる。 The irradiation method of the laser light is, for example, a method of irradiating the surface of the metal molded body 20 in one direction as shown in FIG. 6A or bidirectional irradiation as shown by a dotted line in FIG. 6B. Can be used. Alternatively, a method of irradiating the laser beam so that the dotted line irradiation portions intersect may be used. The distance b1 between the dotted lines after irradiation can be adjusted according to the irradiation target area of the metal molded body, but can be set in the same range as the line distance in the first manufacturing method.

図5に示すレーザー光の照射部分11の長さ(L1)とレーザー光の非照射部分12の長さ(L2)は、L1/L2=1/9〜9/1の範囲になるように調整することができる。レーザー光の照射部分11の長さ(L1)は、複雑な多孔構造に粗面化するためには、本発明の好ましい一態様では0.05mm以上であり、本発明の別の好ましい一態様では0.1〜10mmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.3〜7mmである。 The length (L1) of the laser light irradiation part 11 and the length (L2) of the laser light non-irradiation part 12 shown in FIG. 5 are adjusted to be in the range of L1/L2=1/9 to 9/1. can do. In order to roughen a complicated porous structure, the length (L1) of the laser light irradiation portion 11 is 0.05 mm or more in a preferred embodiment of the present invention, and in another preferred embodiment of the present invention. It is 0.1 to 10 mm, and in yet another preferred embodiment of the present invention, it is 0.3 to 7 mm.

本発明の第2の製造方法の1つの例示的な実施形態では、上記したレーザー光の照射工程は、レーザーの駆動電流を直接変換する直接変調方式の変調装置をレーザー電源に接続したファイバーレーザー装置を使用し、デューティ比(duty ratio)を調整してレーザー照射する。 In one exemplary embodiment of the second manufacturing method of the present invention, the above-mentioned laser light irradiation step includes a fiber laser device in which a direct modulation type modulation device for directly converting a driving current of a laser is connected to a laser power source. Is used to adjust the duty ratio and perform laser irradiation.

レーザーの励起には、パルス励起と連続励起の2種類があり、パルス励起によるパルス波レーザーは一般にノーマルパルスと呼ばれる。連続励起であってもパルス波レーザーを作り出すことが可能であり、ノーマルパルスよりパルス幅(パルスON時間)を短くして、その分ピークパワーの高いレーザーを発振させるQスイッチパルス発振方法、AOMやLN光強度変調機により時間的に光を切り出すことでパルス波レーザーを生成させる外部変調方式、機械的にチョッピングしてパルス化する方法、ガルバノミラーを操作してパルス化する方法、レーザーの駆動電流を直接変調してパルス波レーザーを生成する直接変調方式によりパルス波レーザーを作り出すことができる。ガルバノミラーを操作してパルス化する方法は、ガルバノミラーとガルバノコントローラーの組み合わせによって、ガルバノミラーを介してレーザー発振機から発振されたレーザー光を照射する方法であり、具体的には次のように実施することができる。 There are two types of laser excitation, pulse excitation and continuous excitation, and a pulse wave laser by pulse excitation is generally called a normal pulse. A pulse wave laser can be produced even with continuous excitation, and a pulse width (pulse ON time) is made shorter than a normal pulse to oscillate a laser with high peak power by that amount. External modulation method of generating pulse wave laser by temporally cutting out light by LN light intensity modulator, method of mechanically chopping to make pulse, method of operating galvano mirror to make pulse, laser drive current A pulse wave laser can be produced by a direct modulation method in which is directly modulated to generate a pulse wave laser. The method of pulsing the galvano mirror by operating it is the method of irradiating the laser light oscillated from the laser oscillator through the galvano mirror by the combination of the galvano mirror and the galvano controller. It can be carried out.

ガルバノコントローラーから周期的にGate信号をON/OFF出力し、そのON/OFF信号でレーザー発振機により発振したレーザー光をON/OFFすることで、レーザー光のエネルギー密度を変化させることなくパルス化することができる。それによって、図5に示すようにレーザー光の照射部分11と隣接するレーザー光の照射部分11の間にあるレーザー光の非照射部分12が交互に生じて、全体として点線状に形成されるようにレーザー光を照射することができる。ガルバノミラーを操作してパルス化する方法は、レーザー光の発振状態自体は替えることなく、デューティ比を調整することができるため、操作が簡単である。 The Gate signal is periodically output from the Galvano controller ON/OFF, and the laser light oscillated by the laser oscillator is turned ON/OFF by the ON/OFF signal to pulse the laser light without changing its energy density. be able to. As a result, as shown in FIG. 5, the laser light non-irradiated portions 11 between the laser light irradiated portions 11 and the adjacent laser light irradiated portions 11 are alternately formed so that they are formed in a dotted line shape as a whole. Can be irradiated with laser light. The method of operating the galvanometer mirror to generate pulses is simple in operation because the duty ratio can be adjusted without changing the laser light oscillation state itself.

これらの方法の中でも、連続波レーザーのエネルギー密度を変更することなく、パルス化(照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射する)ことが容易にできる方法であることから、機械的にチョッピングしてパルス化する方法、ガルバノミラーを操作してパルス化する方法、レーザーの駆動電流を直接変調してパルス波レーザーを生成する直接変調方式が使用されてよい。上記したような例示的な実施形態では、レーザーの駆動電流を直接変換する直接変調方式の変調装置をレーザー電源に接続したファイバーレーザー装置を使用することで、レーザーを連続励起させてパルス波レーザーを作り出してよい。 Among these methods, it is a method that can be easily pulsed (irradiated so that irradiated portions and non-irradiated portions alternate) without changing the energy density of the continuous wave laser. A method of chopping and pulsing, a method of operating a galvano-mirror for pulsing, and a direct modulation method of directly modulating a driving current of a laser to generate a pulse wave laser may be used. In the exemplary embodiment as described above, a fiber laser device in which a direct modulation type modulator for directly converting a laser drive current is connected to a laser power source is used to continuously excite the laser to generate a pulse wave laser. May be created.

デューティ比は、レーザー光の出力のON時間とOFF時間から次式により求められる比である。
デューティ比(%)=ON時間/(ON時間+OFF時間)×100
デューティ比は、図5に示すL1とL2(すなわち、L1/[L1+L2])に対応するものであるから、例えば10〜90%の範囲から選択することができる。デューティ比を調整してレーザー光を照射することで、図5に示すような点線状に照射することができる。
The duty ratio is a ratio obtained from the ON time and the OFF time of the output of the laser light by the following formula.
Duty ratio (%)=ON time/(ON time+OFF time)×100
Since the duty ratio corresponds to L1 and L2 (that is, L1/[L1+L2]) shown in FIG. 5, it can be selected from the range of 10 to 90%, for example. By adjusting the duty ratio and irradiating the laser light, it is possible to irradiate in a dotted line as shown in FIG.

<表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の第3の製造方法>
本発明の1つの実施態様による、第3の製造方法は、第1の製造方法と第2の製造方法とは異なり、パルス波レーザーを使用する方法である。
<Third production method of oxide-based non-magnetic ceramic compact having roughened surface>
The third manufacturing method according to one embodiment of the present invention is a method using a pulse wave laser unlike the first manufacturing method and the second manufacturing method.

前記パルス波レーザー光を照射するとき、下記の要件(i)〜(v)を調整することで、表面に粗面化構造を形成することができる。パルス波レーザー光を照射する方法は、通常のパルス波レーザー光を照射する方法のほか、例えば特許第5848104号公報、特許第5788836号公報、特許第5798534号公報、特許第5798535号公報、特開2016−203643号公報、特許第5889775号公報、特許第5932700号、または特許第6055529号公報に記載のパルス波レーザー光の照射方法と同様にして実施することができる。 A roughened structure can be formed on the surface by adjusting the following requirements (i) to (v) when the pulse wave laser light is irradiated. The method of irradiating the pulse wave laser light is not limited to the method of irradiating the ordinary pulse wave laser light, and, for example, Japanese Patent No. 5848104, Japanese Patent No. 578836, Japanese Patent No. 5798534, Japanese Patent No. 5798535, It can be carried out in the same manner as the irradiation method of the pulsed laser light described in 2016-203643, JP 5889775, JP 5932700, or JP 6055529.

<要件(i)酸化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するときの照射角度>
酸化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して本発明の好ましい一態様では15度〜90度の角度、本発明の別の好ましい一態様では45〜90度の角度でレーザー光を照射する。
<Requirement (i) Irradiation angle when irradiating a laser beam on an oxide-based non-magnetic ceramic compact>
The surface of the oxide-based non-magnetic ceramic compact is irradiated with laser light at an angle of 15 to 90 degrees in a preferred embodiment of the present invention, and at an angle of 45 to 90 degrees in another preferred embodiment of the present invention. ..

<要件(ii)酸化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するときの照射速度>
レーザー光の照射速度は本発明の好ましい一態様では10〜1,000mm/secであり、本発明の別の好ましい一態様では10〜500mm/secであり、本発明の別の好ましい一態様では10〜100mm/secであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では10〜80mm/secである。
<Requirement (ii) Irradiation speed when irradiating a laser beam on an oxide-based nonmagnetic ceramic compact>
The irradiation speed of the laser light is 10 to 1,000 mm/sec in one preferred embodiment of the present invention, 10 to 500 mm/sec in another preferred embodiment of the present invention, and 10 in another preferred embodiment of the present invention. -100 mm/sec, and in yet another preferred embodiment of the present invention, 10-80 mm/sec.

<(iii)前記酸化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するときのエネルギー密度>
レーザー光の照射時のエネルギー密度は、レーザー光の1パルスのエネルギー出力(W)と、レーザー光(スポット面積(cm)(π・〔スポット径/2〕)から求められる。レーザー光の照射時のエネルギー密度は本発明の好ましい一態様では0.1〜50GW/cmであり、本発明の別の好ましい一態様では0.1〜20GW/cmであり、本発明の別の好ましい一態様では0.5〜10GW/cmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.5〜5GW/cmである。エネルギー密度が大きくなるほど、孔は深くかつ大きくなる。
<(iii) Energy Density when Irradiating Laser Light on the Oxide-based Nonmagnetic Ceramic Molding>
The energy density at the time of laser light irradiation is obtained from the energy output (W) of one pulse of laser light and the laser light (spot area (cm 2 ) (π·[spot diameter/2] 2 ). The energy density during irradiation is 0.1 to 50 GW/cm 2 in a preferred embodiment of the present invention, and 0.1 to 20 GW/cm 2 in another preferred embodiment of the present invention, and another preferred embodiment of the present invention. In one aspect, 0.5-10 GW/cm 2 , and in yet another preferred aspect of the present invention, 0.5-5 GW/cm 2. The higher the energy density, the deeper and larger the pores.

レーザー光の1パルスのエネルギー出力(W)は、次式から求められるものである。
レーザー光の1パルスのエネルギー出力(W)=(レーザー光の平均出力/周波数)/パルス幅
レーザー光の平均出力は、本発明の好ましい一態様では4〜400Wであり、本発明の別の好ましい一態様では5〜100Wであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では10〜100Wである。他のレーザー光の照射条件が同一であれば、出力が大きいほど孔は深くかつ大きくなり、出力が小さいほど孔は浅くかつ小さくなる。周波数(KHz)は、本発明の好ましい一態様では0.001〜1000kHzであり、本発明の別の好ましい一態様では0.01〜500kHzであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.1〜100kHzである。パルス幅(nsec)は、本発明の好ましい一態様では1〜10,000nsecであり、本発明の別の好ましい一態様では1〜1,000nsecであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では1〜100nsecである。
The energy output (W) of one pulse of laser light is obtained from the following equation.
Energy output of one pulse of laser light (W)=(average output of laser light/frequency)/pulse width The average output of laser light is 4 to 400 W in a preferred embodiment of the present invention, and another preferred embodiment of the present invention. It is 5 to 100 W in one aspect, and 10 to 100 W in yet another preferable aspect of the present invention. If the other laser light irradiation conditions are the same, the larger the output, the deeper and larger the hole, and the smaller the output, the shallower and smaller the hole. The frequency (KHz) is 0.001 to 1000 kHz in a preferred embodiment of the present invention, 0.01 to 500 kHz in another preferred embodiment of the present invention, and is 0.0 in another preferred embodiment of the present invention. 1 to 100 kHz. The pulse width (nsec) is 1 to 10,000 nsec in one preferred embodiment of the present invention, 1 to 1,000 nsec in another preferred embodiment of the present invention, and 1 in still another preferred embodiment of the present invention. ~100 nsec.

レーザー光のスポット径(μm)は、本発明の好ましい一態様では1〜300μm、本発明の別の好ましい一態様では10〜300μm、本発明のさらに別の好ましい一態様では20〜150μm、本発明のさらに別の好ましい一態様では20〜80μmである。 The spot diameter (μm) of the laser beam is 1 to 300 μm in a preferred embodiment of the present invention, 10 to 300 μm in another preferred embodiment of the present invention, and 20 to 150 μm in yet another preferred embodiment of the present invention. In yet another preferred embodiment of the above, it is 20 to 80 μm.

<(iv)レーザー光を照射するときの繰り返し回数>
繰り返し回数(一つの孔を形成するための合計のレーザー光の照射回数)は本発明の好ましい一態様では1〜80回であり、本発明の別の好ましい一態様では3〜50回であり、本発明の別の好ましい一態様では5〜30回である。同一のレーザー照射条件であれば、繰り返し回数が多いほど孔が深くかつ大きくなり、繰り返し回数が少ないほど孔が浅くかつ小さくなる。
<(iv) Number of repetitions when irradiating laser light>
The number of repetitions (total number of irradiations of laser light for forming one hole) is 1 to 80 times in a preferred embodiment of the present invention, and 3 to 50 times in another preferred embodiment of the present invention, In another preferred aspect of the present invention, the number is 5 to 30 times. Under the same laser irradiation conditions, the larger the number of repetitions, the deeper and larger the holes, and the smaller the number of repetitions, the shallower and smaller the holes.

<(v)酸化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するときのライン間隔>
前記酸化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光をライン状に照射するとき、隣接するライン同士の間隔を広くしたり、狭くしたりすることで、孔の大きさ、孔の形状、孔の深さを調整することができる。なお、パルス波レーザー光は、点を照射して、前記点を複数繋いでラインを形成するものである。
<(v) Line spacing when irradiating a laser beam on an oxide-based nonmagnetic ceramic compact>
When irradiating the oxide-based non-magnetic ceramic molded body with a laser beam in a line shape, by widening or narrowing the interval between adjacent lines, the size of the hole, the shape of the hole, The depth of the holes can be adjusted. The pulsed laser light irradiates a point and connects the points to form a line.

ライン間隔は本発明の好ましい一態様では0.01〜1mmの範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では0.01〜0.5mmの範囲、本発明の別の好ましい一態様では0.03〜0.3mm、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.05〜0.1mmである。ライン間隔が狭いと、隣接するラインにも熱的影響が及ぶため、孔は大きくなり、孔の形状は複雑になり、孔の深さは深くなる傾向にあるが、熱的影響が大きくなり過ぎると複雑で深い形状の孔が形成され難くなることもある。ライン間隔が広いと、孔は小さくなり、孔の形状は複雑にはならず、孔はあまり深くならない傾向にあるが、処理速度を高めることはできる。 The line interval is in the range of 0.01 to 1 mm in a preferred embodiment of the present invention, in the range of 0.01 to 0.5 mm in another preferred embodiment of the present invention, and in the preferred embodiment of the present invention is 0. It is 03 to 0.3 mm, and in yet another preferred embodiment of the present invention, it is 0.05 to 0.1 mm. If the line spacing is narrow, the adjacent lines also have a thermal effect, so the holes tend to be large, the shape of the holes becomes complicated, and the depth of the holes tends to be deep, but the thermal effect becomes too large. Therefore, it may be difficult to form a complicated deep hole. If the line spacing is wide, the holes are small, the shape of the holes is not complicated, and the holes do not tend to be too deep, but the processing speed can be increased.

その他の照射条件として、前記酸化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するとき、前記成形体から放熱させながら照射する照射形態も含めることができる。例えば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体と、前記酸化物系の非磁性セラミックス成形体よりも熱伝導率の大きい金属成形体を接触させた状態でレーザー光を照射する方法、前記成形体を中空に保持した状態でレーザー光を照射する方法が挙げられる。その他、パルス波レーザー光の波長は500〜11,000nmであってよい。 Other irradiation conditions may include an irradiation mode in which the oxide-based non-magnetic ceramic compact is irradiated with laser light while radiating heat from the compact. For example, a method of irradiating a laser beam in a state where an oxide-based nonmagnetic ceramics compact and a metal compact having a higher thermal conductivity than the oxide-based nonmagnetic ceramics compact are in contact with each other, A method of irradiating with laser light in a state of being kept hollow can be mentioned. In addition, the wavelength of the pulse wave laser light may be 500 to 11,000 nm.

本発明の1つの実施態様による表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体を、他の材料(非磁性セラミックスを除いた材料)からなる成形体との複合成形体を製造するための製造中間体として使用したときの、複合成形体の製造方法の幾つかの例について説明する。これらの複合成形体の製造方法および製造された複合成形体も本発明の範囲内に含まれる。 Manufacture for producing a composite molded body of a non-magnetic ceramic molded body having a roughened surface structure according to one embodiment of the present invention and a molded body made of another material (a material excluding the non-magnetic ceramics) Some examples of the method for producing a composite molded body when used as an intermediate will be described. The manufacturing method of these composite molded bodies and the manufactured composite molded bodies are also included in the scope of the present invention.

(1)粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と樹脂成形体との複合成形体の製造方法
第1工程では、上記した第1の製造方法、第2の製造方法または第3はの製造方法により表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体を製造する。
(1) Method for manufacturing composite molded body of oxide-based non-magnetic ceramic molded body having roughened structure and resin molded body In the first step, the above-mentioned first manufacturing method, second manufacturing method or 3 produces a non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on its surface.

第2工程では、第1工程において得た表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分を金型内に配置して、前記樹脂成形体となる樹脂を射出成形するか、または第2工程では、第1工程においてレーザー光が照射された非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分を金型内に配置して、少なくとも前記粗面化構造を含む部分と前記樹脂成形体となる樹脂を接触させた状態で圧縮成形する。 In the second step, a portion including the roughened structure of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface obtained in the first step is placed in a mold to form the resin molded body. Injection molding of the resin, or, in the second step, disposing at least a portion including the roughened structure of the non-magnetic ceramic molded body irradiated with the laser beam in the first step in the mold, Compression molding is performed in a state where the portion including the chemical structure and the resin forming the resin molded body are in contact with each other.

第2工程で使用する樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のほか、熱可塑性エラストマーも含まれる。熱可塑性樹脂は、用途に応じて公知の熱可塑性樹脂から適宜選択することができる。例えば、ポリアミド系樹脂(PA6、PA66等の脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド)、ポリスチレン、ABS樹脂、AS樹脂などのスチレン単位を含む共重合体、ポリエチレン、エチレン単位を含む共重合体、ポリプロピレン、プロピレン単位を含む共重合体、その他のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、およびポリフェニレンスルフィド系樹脂を挙げることができる。 The resin used in the second step includes a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic elastomer. The thermoplastic resin can be appropriately selected from known thermoplastic resins depending on the application. For example, polyamide resins (aliphatic polyamides such as PA6 and PA66, aromatic polyamides), polystyrenes, ABS resins, copolymers containing styrene units such as AS resins, polyethylene, copolymers containing ethylene units, polypropylene, propylene. Examples thereof include copolymers containing units, other polyolefins, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate resins, acrylic resins, methacrylic resins, polyester resins, polyacetal resins, and polyphenylene sulfide resins.

熱硬化性樹脂は、用途に応じて公知の熱硬化性樹脂から適宜選択することができる。例えば、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、レソルシノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、およびビニルウレタンを挙げることができる。熱硬化性樹脂を使用するときは、プレポリマー形態のものを使用し、後工程において加熱硬化処理をすることができる。 The thermosetting resin can be appropriately selected from known thermosetting resins according to the application. Examples thereof include urea resin, melamine resin, phenol resin, resorcinol resin, epoxy resin, polyurethane, and vinyl urethane. When the thermosetting resin is used, it is possible to use a prepolymer form and to perform a heat curing treatment in a subsequent step.

熱可塑性エラストマーは、用途に応じて公知の熱可塑性エラストマーから適宜選択することができる。例えば、スチレン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ニトリル系エラストマー、およびポリアミド系エラストマーを挙げることができる。 The thermoplastic elastomer can be appropriately selected from known thermoplastic elastomers depending on the application. Examples thereof include styrene elastomer, vinyl chloride elastomer, olefin elastomer, urethane elastomer, polyester elastomer, nitrile elastomer, and polyamide elastomer.

これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、および熱可塑性エラストマーには、公知の繊維状充填材を配合することができる。公知の繊維状充填材としては、炭素繊維、無機繊維、金属繊維、有機繊維等を挙げることができる。 A publicly known fibrous filler can be blended with these thermoplastic resins, thermosetting resins, and thermoplastic elastomers. Known fibrous fillers include carbon fibers, inorganic fibers, metal fibers, organic fibers and the like.

炭素繊維は周知のものであり、PAN系、ピッチ系、レーヨン系、リグニン系等のものを用いることができる。無機繊維としては、ガラス繊維、玄武岩繊維、シリカ繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化ケイ素繊維等を挙げることができる。金属繊維としては、ステンレス、アルミニウム、銅等からなる繊維を挙げることができる。有機繊維としては、ポリアミド繊維(全芳香族ポリアミド繊維、ジアミンとジカルボン酸のいずれか一方が芳香族化合物である半芳香族ポリアミド繊維、脂肪族ポリアミド繊維)、ポリビニルアルコール繊維、アクリル繊維、ポリオレフィン繊維、ポリオキシメチレン繊維、ポリテトラフルオロエチレン繊維、ポリエステル繊維(全芳香族ポリエステル繊維を含む)、ポリフェニレンスルフィド繊維、ポリイミド繊維、液晶ポリエステル繊維などの合成繊維や天然繊維(セルロース系繊維など)や再生セルロース(レーヨン)繊維などを用いることができる。 Carbon fibers are well known, and PAN type, pitch type, rayon type, lignin type and the like can be used. Examples of the inorganic fiber include glass fiber, basalt fiber, silica fiber, silica-alumina fiber, zirconia fiber, boron nitride fiber, silicon nitride fiber and the like. Examples of the metal fibers include fibers made of stainless steel, aluminum, copper and the like. As the organic fibers, polyamide fibers (wholly aromatic polyamide fibers, semi-aromatic polyamide fibers in which one of diamine and dicarboxylic acid is an aromatic compound, aliphatic polyamide fibers), polyvinyl alcohol fibers, acrylic fibers, polyolefin fibers, Synthetic fibers such as polyoxymethylene fibers, polytetrafluoroethylene fibers, polyester fibers (including wholly aromatic polyester fibers), polyphenylene sulfide fibers, polyimide fibers, liquid crystal polyester fibers, natural fibers (cellulosic fibers, etc.) and regenerated cellulose ( Rayon) fiber or the like can be used.

これらの繊維状充填材は、繊維径が3〜60μmの範囲のものを使用することができるが、これらの中でも、例えば金属成形体10の接合面12が粗面化されて形成される開放孔30などの開口径より小さな繊維径のものを使用することができる。繊維径は、本発明の好ましい一態様では5〜30μm、本発明の別の好ましい一態様では7〜20μmである。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、または熱可塑性エラストマー100質量部に対する繊維状充填材の配合量は、本発明の好ましい一態様では5〜250質量部である。本発明の別の好ましい一態様では25〜200質量部、本発明のさらに別の好ましい一態様では45〜150質量部である。 As these fibrous fillers, those having a fiber diameter in the range of 3 to 60 μm can be used, and among them, for example, open holes formed by roughening the joint surface 12 of the metal molded body 10. Fiber diameters smaller than the opening diameter, such as 30, can be used. The fiber diameter is 5 to 30 μm in one preferred embodiment of the present invention, and 7 to 20 μm in another preferred embodiment of the present invention. The blending amount of the fibrous filler with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin, the thermosetting resin, or the thermoplastic elastomer is 5 to 250 parts by mass in a preferred embodiment of the present invention. In another preferred embodiment of the present invention, the amount is 25 to 200 parts by mass, and in yet another preferred embodiment of the present invention, 45 to 150 parts by mass.

(2−1)粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体との複合成形体の製造方法
第1工程では、第1の製造方法、第2の製造方法または第3の製造方法により表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体を製造する。第2工程では、第1工程において得た酸化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体をプレス成形やトランスファー成形などの公知の成形方法を適用して一体化させる。
(2-1) Method for manufacturing composite molded body of oxide-based non-magnetic ceramic molded body having roughened structure and rubber molded body In the first step, the first manufacturing method, the second manufacturing method or the According to the manufacturing method of No. 3, a nonmagnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface is manufactured. In the second step, the oxide-based nonmagnetic ceramics molded body obtained in the first step and the rubber molded body are integrated by applying a known molding method such as press molding or transfer molding.

プレス成形法を適用するときは、例えば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分を金型内に配置して、前記粗面化構造を含む部分に対して、加熱および加圧した状態で前記ゴム成形体となる未硬化ゴムをプレスした後、冷却後に取り出す。トランスファー成形法を適用するときは、例えば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分を金型内に配置して、未硬化ゴムを金型内に射出成形し、その後、加熱および加圧して、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分とゴム成形体を一体化させ、冷却後に取り出す。 When applying the press molding method, for example, a portion including a roughened structure of an oxide-based non-magnetic ceramics molded body is placed in a mold, and a portion including the roughened structure is heated. After pressing the uncured rubber to be the rubber molded body under pressure, it is taken out after cooling. When the transfer molding method is applied, for example, a portion including a roughened structure of an oxide-based non-magnetic ceramics molded body is placed in a mold, and uncured rubber is injection molded into the mold, and then, Then, by heating and pressurizing, the portion containing the roughened structure of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body and the rubber molded body are integrated, and taken out after cooling.

なお、使用するゴムの種類によっては、主として残留モノマーを除去するため、金型から取り出した後、オーブンなどでさらに二次加熱(二次硬化)する工程を付加することができる。 In addition, depending on the type of rubber used, mainly to remove residual monomers, a step of further secondary heating (secondary curing) in an oven or the like after removing from the mold can be added.

この工程で使用するゴム成形体のゴムは特に制限されるものではなく、公知のゴムを使用することができるが、熱可塑性エラストマーは含まれない。公知のゴムとしては、エチレン‐プロピレンコポリマー(EPM)、エチレン‐プロピレン‐ジエンターポリマー(EPDM)、エチレン‐オクテンコポリマー(EOM)、エチレン‐ブテンコポリマー(EBM)、エチレン‐オクテンターポリマー(EODM)、エチレン‐ブテンターポリマー(EBDM)などのエチレン‐α‐オレフィンゴム;エチレン/アクリル酸ゴム(EAM)、ポリクロロプレンゴム(CR)、アクリロニトリル‐ブタジエンゴム(NBR)、水添NBR(HNBR)、スチレン‐ブタジエンゴム(SBR)、アルキル化クロロスルホン化ポリエチレン(ACSM)、エピクロルヒドリン(ECO)、ポリブタジエンゴム(BR)、天然ゴム(合成ポリイソプレンを含む)(NR)、塩素化ポリエチレン(CPE)、ブロム化ポリメチルスチレン‐ブテンコポリマー、スチレン‐ブタジエン‐スチレンおよびスチレン‐エチレン‐ブタジエン‐スチレンブロックコポリマー、アクリルゴム(ACM)、エチレン‐酢酸ビニルエラストマー(EVM)、およびシリコーンゴムなどを使用することができる。 The rubber of the rubber molded body used in this step is not particularly limited, and a known rubber can be used, but a thermoplastic elastomer is not included. Known rubbers include ethylene-propylene copolymer (EPM), ethylene-propylene-diene terpolymer (EPDM), ethylene-octene copolymer (EOM), ethylene-butene copolymer (EBM), ethylene-octene terpolymer (EODM), Ethylene-α-olefin rubbers such as ethylene-butene terpolymer (EBDM); ethylene/acrylic rubber (EAM), polychloroprene rubber (CR), acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), hydrogenated NBR (HNBR), styrene- Butadiene rubber (SBR), alkylated chlorosulfonated polyethylene (ACSM), epichlorohydrin (ECO), polybutadiene rubber (BR), natural rubber (including synthetic polyisoprene) (NR), chlorinated polyethylene (CPE), brominated poly Methyl styrene-butene copolymers, styrene-butadiene-styrene and styrene-ethylene-butadiene-styrene block copolymers, acrylic rubber (ACM), ethylene-vinyl acetate elastomer (EVM), silicone rubber and the like can be used.

ゴムには、必要によりゴムの種類に応じた硬化剤を含有させてよいが、その他、公知の各種ゴム用添加剤を配合することができる。ゴム用添加剤としては、硬化促進剤、老化防止剤、シランカップリング剤、補強剤、難燃剤、オゾン劣化防止剤、充填剤、プロセスオイル、可塑剤、粘着付与剤、および加工助剤などを使用することができる。 The rubber may optionally contain a curing agent depending on the type of rubber, but various known additives for rubber may be added. Examples of rubber additives include curing accelerators, antioxidants, silane coupling agents, reinforcing agents, flame retardants, antiozonants, fillers, process oils, plasticizers, tackifiers, and processing aids. Can be used.

(2−2)粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体との複合成形体(接着剤層を含む)の製造方法
1つの実施態様によれば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体との複合成形体の製造方法では、酸化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体の接合面に接着剤層を介在させることができる。
(2-2) Method for producing composite molded body (including adhesive layer) of oxide-based non-magnetic ceramic molded body having roughened structure and rubber molded body According to one embodiment, an oxide-based system In the method for producing a composite molded body of the non-magnetic ceramic molded body and the rubber molded body, the adhesive layer can be interposed on the joint surface between the oxide-based non-magnetic ceramic molded body and the rubber molded body.

第1工程にて、上記した方法と同様に連続波レーザーまたはパルス波レーザーを使用して第1、第2または第3の製造方法により、酸化物系の非磁性セラミックス成形体を粗面化する。第2工程にて、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造面に接着剤(接着剤溶液)を塗布して接着剤層を形成する。このとき、接着剤を圧入するようにしてもよい。接着剤を塗布することで、非磁性セラミックスの粗面化構造面と内部の孔に接着剤を存在させることができる。 In the first step, the oxide-based non-magnetic ceramic compact is roughened by the first, second or third manufacturing method using a continuous wave laser or a pulse wave laser as in the above method. .. In the second step, an adhesive (adhesive solution) is applied to the surface of the roughened structure of the oxide-based non-magnetic ceramic compact to form an adhesive layer. At this time, the adhesive may be press-fitted. By applying the adhesive, the adhesive can be present on the roughened structure surface of the non-magnetic ceramic and the internal holes.

接着剤は、特に制限されるものではなく、公知の熱可塑性接着剤、熱硬化性接着剤、ゴム系接着剤などを使用することができる。熱可塑性接着剤の例としては、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、アクリル系接着剤、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、アイオノマー、塩素化ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、プラスチゾル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ナイロン、飽和無定形ポリエステル、およびセルロース誘導体を挙げることができる。 The adhesive is not particularly limited, and a known thermoplastic adhesive, thermosetting adhesive, rubber adhesive or the like can be used. Examples of the thermoplastic adhesive include polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, acrylic adhesive, polyethylene, chlorinated polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene. -Ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ionomer, chlorinated polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, plastisol, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl ether, polyvinylpyrrolidone, polyamide, nylon, saturated no Mention may be made of regular polyesters and cellulose derivatives.

熱硬化性接着剤の例としては、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、レソルシノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、およびビニルウレタンを挙げることができる。ゴム系接着剤の例としては、天然ゴム、合成ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン−ビニルピリジン三元共重合体、ポリイソブチレン−ブチルゴム、ポリスルフィドゴム、シリコーンRTV、塩化ゴム、臭化ゴム、クラフトゴム、ブロック共重合体、および液状ゴムを挙げることができる。 Examples of thermosetting adhesives include urea resins, melamine resins, phenolic resins, resorcinol resins, epoxy resins, polyurethanes, and vinyl urethanes. Examples of rubber adhesives include natural rubber, synthetic polyisoprene, polychloroprene, nitrile rubber, styrene-butadiene rubber, styrene-butadiene-vinylpyridine terpolymer, polyisobutylene-butyl rubber, polysulfide rubber, silicone RTV, Mention may be made of chlorinated rubber, brominated rubber, kraft rubber, block copolymers, and liquid rubber.

この製造方法の例では第3工程にて、前工程において接着剤層を形成した酸化物系の非磁性セラミックス成形体の面に対して別途成形したゴム成形体を接着する工程、または前工程において接着剤層を形成した酸化物系の非磁性セラミックス成形体の面を含む部分を金型内に配置して、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の面とゴム成形体となる未硬化ゴムを接触させた状態で加熱および加圧して一体化させる工程を実施する。この工程の場合には、主として残留モノマーを除去するため、金型から取り出した後、オーブンなどでさらに二次加熱(二次硬化)する工程を付加することができる。 In the example of this manufacturing method, in the third step, in the step of adhering the separately molded rubber molded body to the surface of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body having the adhesive layer formed in the previous step, or in the previous step The part including the surface of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body on which the adhesive layer is formed is placed in the mold, and the surface of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body and the uncured rubber to be the rubber molded body are separated. The step of heating and pressurizing in the contacted state to integrate them is carried out. In the case of this step, in order to mainly remove the residual monomer, it is possible to add a step of further secondary heating (secondary curing) in an oven or the like after taking out from the mold.

(3−1)粗面化構造を有する酸化物系のセラミックス成形体と金属成形体との複合成形体の製造方法
第1工程では、第1の製造方法、第2の製造方法または第3の製造方法により粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体を製造する。第2工程では、金型内に粗面化した酸化物系の非磁性セラミックス成形体の多孔構造部を含む面が上になるように配置する。その後、例えば周知のダイカスト法を適用して、溶融状態の金属を金型内に流し込んだ後、冷却する。
(3-1) Method for manufacturing composite molded body of oxide-based ceramic molded body and metal molded body having roughened structure In the first step, the first manufacturing method, the second manufacturing method, or the third manufacturing method is performed. An oxide-based nonmagnetic ceramic compact having a roughened structure is manufactured by the manufacturing method. In the second step, the surface of the roughened oxide-based nonmagnetic ceramic compact is placed in the mold so that the surface including the porous structure portion faces upward. After that, for example, a well-known die casting method is applied to cast the molten metal into the mold, and then cooled.

使用する金属は、酸化物系の非磁性セラミックス成形体を構成する酸化物系の非磁性セラミックスの融点よりも低い融点のものであれば制限されない。例えば、鉄、アルミニウム、アルミニウム合金、金、銀、プラチナ、銅、マグネシウム、チタンまたはそれらの合金、ステンレスなどの複合成形体の用途に応じた金属を選択することができる。 The metal used is not limited as long as it has a melting point lower than that of the oxide-based nonmagnetic ceramics forming the oxide-based nonmagnetic ceramics compact. For example, iron, aluminum, aluminum alloy, gold, silver, platinum, copper, magnesium, titanium or their alloys, stainless steel, and other metals can be selected according to the application of the composite molded body.

(3−2)粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と金属成形体との複合成形体(接着剤層あり)の製造方法
第1工程と第2工程は、上記した「(2−2)粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体との複合成形体(接着剤層を含む)の製造方法」と同様に実施して、接着剤層を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体を製造する。
(3-2) Method for manufacturing composite molded body (having adhesive layer) of oxide-based non-magnetic ceramic molded body and metal molded body having roughened structure The first step and the second step are the same as those described above. (2-2) Manufacturing method of composite molded body (including adhesive layer) of oxide-based nonmagnetic ceramics molded body having roughened structure and rubber molded body”, and the adhesive layer To produce an oxide-based non-magnetic ceramic compact having

第3工程では、接着剤層を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の接着剤層に金属成形体を押しつけて接着・一体化する。接着剤層が熱可塑性樹脂系接着剤からなるものであるときは、必要に応じて加熱して接着剤層を軟らかくした状態で、非金属成形体の接着面と接着させることができる。また接着剤層が熱硬化性樹脂系接着剤のプレポリマーからなるものであるときは、接着後に加熱雰囲気に放置してプレポリマーを加熱硬化させる。 In the third step, the metal molded body is pressed against and adhered to the adhesive layer of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body having the adhesive layer. When the adhesive layer is made of a thermoplastic resin-based adhesive, it can be bonded to the adhesive surface of the non-metal molded body in a state where the adhesive layer is softened by heating as necessary. When the adhesive layer is composed of a prepolymer of a thermosetting resin adhesive, the prepolymer is heated and cured by leaving it in a heating atmosphere after bonding.

(4)粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体とUV硬化性樹脂成形体との複合成形体の製造方法
第1工程では、上記した第1の製造方法、第2の製造方法または第3の製造方法により表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体を製造する。
(4) Method for manufacturing composite molded body of oxide-based non-magnetic ceramic molded body having surface-roughened structure and UV curable resin molded body In the first step, the above-described first manufacturing method and second manufacturing method are used. By the method or the third manufacturing method, an oxide-based nonmagnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface is manufactured.

次の工程にて、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を含めた部分に対して、UV硬化性樹脂層を形成するモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を接触させる(モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程)。モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程としては、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を含めた部分に対してモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を塗布する工程を実施することができる。モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を塗布する工程は、刷毛塗り、ドクターブレードを使用した塗布、ローラー塗布、流延、ポッティングなどを単独で使用したり、組み合わせて使用したりすることができる。 In the next step, the UV curable resin layer-forming monomer, oligomer or mixture thereof is brought into contact with the portion including the roughened portion of the oxide-based non-magnetic ceramic compact (monomer, oligomer. Or contacting the mixture thereof). As the step of contacting the monomer, oligomer or mixture thereof, a step of applying the monomer, oligomer or mixture thereof to a portion including a roughened portion of the oxide-based non-magnetic ceramics molding may be performed. it can. In the step of applying the monomer, oligomer or a mixture thereof, brush application, application using a doctor blade, roller application, casting, potting and the like can be used alone or in combination.

モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程は、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を含めた部分を型枠で包囲して、前記型枠内にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を注入する工程を実施することができる。またモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程は、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を上にした状態で型内部に入れた後、前記型内部にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を注入する工程を実施することができる。 In the step of contacting the monomer, oligomer or mixture thereof, a portion including the roughened portion of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body is surrounded by a mold, and the monomer, oligomer or mixture thereof is placed in the mold. Can be performed. In addition, in the step of contacting the monomer, oligomer or mixture thereof, the oxide-based non-magnetic ceramic molded body is put into the mold with the roughened portion facing upward, and then the monomer, oligomer or their mixture is placed inside the mold. The step of injecting the mixture can be carried out.

このモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程によって、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分の多孔にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込む。多孔にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込む形態は、例えば、本発明の好ましい一態様では孔全体の50%以上、本発明の別の好ましい一態様では70%以上、本発明のさらに別の好ましい一態様では80%以上、本発明のさらに別の好ましい一態様では90%以上の孔にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込む形態のほか、孔の底までモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込んだ形態、孔深さの途中の深さまでモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込んだ形態、孔の入口付近にのみモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込んだ形態が混在している形態が含まれる。 By the step of contacting the monomer, oligomer or mixture thereof, the monomer, oligomer or mixture thereof enters into the pores of the roughened portion of the oxide-based non-magnetic ceramic compact. The form in which the monomer, oligomer or mixture thereof enters the pores is, for example, 50% or more of all the pores in one preferred embodiment of the present invention, 70% or more in another preferred embodiment of the present invention, and yet another preferred embodiment of the present invention. In one aspect, 80% or more, and in yet another preferable aspect of the present invention, 90% or more of the pores are filled with the monomer, oligomer, or mixture thereof, and the bottom of the pore is filled with the monomer, oligomer, or mixture thereof. The morphology, a morphology in which a monomer, an oligomer, or a mixture thereof enters to a depth in the middle of the pore depth, and a morphology in which a morphology in which a monomer, an oligomer, or a mixture thereof enters only near the entrance of a pore are mixed is included.

モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物は、常温で液体のもの(低粘度のゲルも含む)や溶剤に溶解された溶液形態のものはそのまま塗布または注入することができ、固体(粉末)のものは加熱溶融させたり、溶剤に溶解させたりした後で塗布または注入することができる。 Monomers, oligomers or their mixtures can be applied or injected directly as liquids (including low-viscosity gels) or solution forms dissolved in solvents at room temperature, and solids (powder) can be heated. It can be applied or poured after being melted or dissolved in a solvent.

モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程で使用するモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物は、ラジカル重合性モノマーおよびラジカル重合性モノマーのオリゴマーから選ばれるものであるか、カチオン重合性モノマーおよび前記モノマーのカチオン重合性モノマーオリゴマー、またはそれらから選択される2種以上の混合物から選ばれるものであってよい。 The monomer, oligomer or mixture thereof used in the step of contacting the monomer, oligomer or mixture thereof is selected from radical polymerizable monomer and oligomer of radical polymerizable monomer, or cationic polymerizable monomer and cation of said monomer. It may be selected from a polymerizable monomer oligomer or a mixture of two or more selected from them.

(ラジカル重合性モノマー)
ラジカル重合性化合物としては、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリロイルアミノ基、ビニルエーテル基、ビニルアリール基、およびビニルオキシカルボニル基などのラジカル重合性基を一分子内に1つ以上有する化合物などが挙げられる。
(Radical polymerizable monomer)
As the radically polymerizable compound, a radically polymerizable group such as a (meth)acryloyl group, a (meth)acryloyloxy group, a (meth)acryloylamino group, a vinyl ether group, a vinylaryl group, and a vinyloxycarbonyl group is contained in one molecule. Examples thereof include compounds having one or more.

(メタ)アクリロイル基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、1−ブテン−3−オン、1−ペンテン−3−オン、1−ヘキセン−3−オン、4−フェニル−1−ブテン−3−オン、5−フェニル−1−ペンテン−3−オンなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Examples of the compound having one or more (meth)acryloyl groups in one molecule include 1-buten-3-one, 1-penten-3-one, 1-hexen-3-one and 4-phenyl-1-butene-. 3-one, 5-phenyl-1-penten-3-one and the like, and derivatives thereof and the like can be mentioned.

(メタ)アクリロイルオキシ基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、n−ラウリル(メタ)アクリレート、n−ステアリル(メタ)アクリレート、n−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2―ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、デカンジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1−ビス(アクリロイルオキシ)エチルイソシアネート、2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシランなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Examples of the compound having one or more (meth)acryloyloxy groups in one molecule include methyl(meth)acrylate, ethyl(meth)acrylate, n-butyl(meth)acrylate, isobutyl(meth)acrylate, t-butyl(meth). ) Acrylate, n-hexyl(meth)acrylate, 2-ethylhexyl(meth)acrylate, isodecyl(meth)acrylate, n-lauryl(meth)acrylate, n-stearyl(meth)acrylate, n-butoxyethyl(meth)acrylate, Butoxydiethylene glycol (meth)acrylate, methoxytriethylene glycol (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate , Isobornyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, diethylaminoethyl (meth)acrylate, acrylic Acid, methacrylic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl-2-hydroxypropylphthalate, glycidyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl acid phosphate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, neopentyl Glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol di(meth)acrylate, decandi(meth)acrylate, glycerin Di(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-(meth)acryloyloxypropyl(meth)acrylate, dimethyloltricyclodecanedi(meth)acrylate, trifluoroethyl(meth)acrylate, perfluorooctylethyl(meth)acrylate , Isoamyl (meth)acrylate, isomyristyl (meth)acrylate, γ-( (Meth)acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 2-(meth)acryloyloxyethyl isocyanate, 1,1-bis(acryloyloxy)ethyl isocyanate, 2-(2-(meth)acryloyloxyethyloxy)ethyl isocyanate, 3-( (Meth)acryloyloxypropyltriethoxysilane and the like, and derivatives thereof.

(メタ)アクリロイルアミノ基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、4−(メタ)アクリロイルモルホリン、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−オクチル(メタ)アクリルアミドなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Examples of the compound having one or more (meth)acryloylamino groups in one molecule include 4-(meth)acryloylmorpholine, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, N-methyl. (Meth)acrylamide, N-ethyl(meth)acrylamide, N-propyl(meth)acrylamide, N-isopropyl(meth)acrylamide, N-butyl(meth)acrylamide, Nn-butoxymethyl(meth)acrylamide, N- Hexyl (meth)acrylamide, N-octyl (meth)acrylamide and the like, and derivatives thereof and the like can be mentioned.

ビニルエーテル基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテルなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Examples of the compound having one or more vinyl ether groups in one molecule include 3,3-bis(vinyloxymethyl)oxetane, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, and 2-hydroxy. Isopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutyl vinyl ether, 2-hydroxyisobutyl vinyl ether, 1-methyl-3-hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxy Propyl vinyl ether, 1-hydroxymethyl propyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexane Dimethanol monovinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene Glycol monovinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, etc., and derivatives thereof Is mentioned.

ビニルアリール基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、スチレン、ジビニルベンゼン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、ヒドロキシスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、酢酸4−ビニルフェニル、(4−ビニルフェニル)ジヒドロキシボラン、N−(4−ビニルフェニル)マレイミドなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Examples of the compound having one or more vinylaryl groups in one molecule include styrene, divinylbenzene, methoxystyrene, ethoxystyrene, hydroxystyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, 4-vinylphenyl acetate, (4-vinylphenyl)dihydroxyborane. , N-(4-vinylphenyl)maleimide and the like, and derivatives thereof and the like.

ビニルオキシカルボニル基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、ギ酸イソプロペニル、酢酸イソプロペニル、プロピオン酸イソプロペニル、酪酸イソプロペニル、イソ酪酸イソプロペニル、カプロン酸イソプロペニル、吉草酸イソプロペニル、イソ吉草酸イソプロペニル、乳酸イソプロペニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、オクチル酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、アジピン酸ジビニル、アクリル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニルなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Examples of the compound having one or more vinyloxycarbonyl groups in one molecule include isopropenyl formate, isopropenyl acetate, isopropenyl propionate, isopropenyl butyrate, isopropenyl isobutyrate, isopropenyl caproate, isopropenyl valerate and iso Isopropenyl valerate, isopropenyl lactate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl caproate, vinyl caprylate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, pivalic acid. Examples thereof include vinyl, vinyl octylate, vinyl monochloroacetate, divinyl adipate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl sorbate, vinyl benzoate, vinyl cinnamate, and the like, and derivatives thereof.

(カチオン重合性モノマー)
カチオン重合性モノマーとしては、エポキシ環(オキシラニル基)、ビニルエーテル基、ビニルアリール基などのオキセタニル基等の以外のカチオン重合性基を一分子内に1つ以上有する化合物などが挙げられる。
(Cationically polymerizable monomer)
Examples of the cationically polymerizable monomer include compounds having at least one cationically polymerizable group other than oxetanyl group such as epoxy ring (oxiranyl group), vinyl ether group and vinylaryl group in one molecule.

エポキシ環を一分子内に一つ以上有する化合物としては、グリシジルメチルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、ブチルフェノール又はこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類;および高級脂肪酸のグリシジルエステル類などが挙げられる。 Examples of compounds having one or more epoxy rings in one molecule include glycidyl methyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, and brominated bisphenol F diester. Glycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, epoxy novolac resin, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4 -Epoxy)cyclohexanecarboxylate, 2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane-meta-dioxane, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate, bis(3 ,4-Epoxy-6-methylcyclohexylmethyl)adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3',4'-epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate, methylenebis(3,4-epoxycyclohexane), Dicyclopentadiene diepoxide, di(3,4-epoxycyclohexylmethyl)ether of ethylene glycol, ethylenebis(3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), dioctyl epoxyhexahydrophthalate, di-2-epoxyhexahydrophthalate Ethylhexyl, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers; ethylene glycol, Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as propylene glycol and glycerin; diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids; fats Examples include monoglycidyl ethers of group higher alcohols; phenol, cresol, butylphenol or monoglycidyl ethers of polyether alcohols obtained by adding alkylene oxides to these; and glycidyl esters of higher fatty acids.

ビニルエーテル基を一分子内に1つ以上有する化合物、ビニルアリール基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、ラジカル重合性化合物として例示した化合物と同様の化合物が挙げられる。 Examples of the compound having one or more vinyl ether groups in one molecule and the compound having one or more vinyl aryl groups in one molecule include the same compounds as those exemplified as the radical polymerizable compound.

オキセタニル基を一分子内に一つ以上有する化合物としては、としては、トリメチレンオキシド、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、および3−エチル−3{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}オキセタンなどが挙げられる。 Examples of the compound having one or more oxetanyl groups in one molecule include trimethylene oxide, 3,3-bis(vinyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (2-Ethylhexyloxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-(hydroxymethyl)oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy)methyl]oxetane, 3-ethyl-3-(hexyloxymethyl)oxetane, 3- Ethyl-3-(chloromethyl)oxetane, 3,3-bis(chloromethyl)oxetane, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, bis{[1-ethyl(3- Oxetanyl)]methyl} ether, 4,4′-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]bicyclohexyl, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]cyclohexane, and 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetane-3-yl)methoxy]methyl}oxetane and the like can be mentioned.

ラジカル重合性モノマーとカチオン重合性モノマーのオリゴマーは、単官能または多官能(メタ)アクリル系オリゴマーが挙げられ。1種または2種以上を組み合わせて使用できる。単官能または多官能(メタ)アクリル系オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマー、およびポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーなどが挙げられる。 Examples of the oligomer of the radical polymerizable monomer and the cationic polymerizable monomer include monofunctional or polyfunctional (meth)acrylic oligomers. One type or a combination of two or more types can be used. Examples of monofunctional or polyfunctional (meth)acrylic oligomers include urethane (meth)acrylate oligomers, epoxy (meth)acrylate oligomers, polyether (meth)acrylate oligomers, and polyester (meth)acrylate oligomers.

ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、ポリカーボネート系ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル系ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル系ウレタン(メタ)アクリレート、およびカプロラクトン系ウレタン(メタ)アクリレートなどが挙げられる。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、ポリオールとジイソシアネートとを反応させて得られるイソシアネート化合物と、水酸基を有する(メタ)アクリレートモノマーとの反応により得ることができる。前記ポリオールとしては、ポリカーボネートジオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、およびポリカプロラクトンポリオールが挙げられる。 Examples of urethane (meth)acrylate oligomers include polycarbonate-based urethane (meth)acrylate, polyester-based urethane (meth)acrylate, polyether-based urethane (meth)acrylate, and caprolactone-based urethane (meth)acrylate. The urethane (meth)acrylate oligomer can be obtained by reacting an isocyanate compound obtained by reacting a polyol with a diisocyanate, and a (meth)acrylate monomer having a hydroxyl group. Examples of the polyol include polycarbonate diol, polyester polyol, polyether polyol, and polycaprolactone polyol.

エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラックエポキシ樹脂のオキシラン環とアクリル酸とのエステル化反応により得られる。ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマーは、ポリオールの脱水縮合反応によって両末端に水酸基を有するポリエーテルオリゴマーを得、次いで、その両末端の水酸基をアクリル酸でエステル化することにより得られる。ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ポリカルボン酸とポリオールの縮合によって両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーを得、次いで、その両末端の水酸基をアクリル酸でエステル化することにより得られる。 The epoxy (meth)acrylate oligomer can be obtained by, for example, an esterification reaction of an oxirane ring of a low molecular weight bisphenol type epoxy resin or a novolac epoxy resin with acrylic acid. The polyether (meth)acrylate oligomer is obtained by a dehydration condensation reaction of a polyol to obtain a polyether oligomer having hydroxyl groups at both ends, and then esterifying the hydroxyl groups at both ends with acrylic acid. The polyester (meth)acrylate oligomer is obtained by, for example, obtaining a polyester oligomer having hydroxyl groups at both ends by condensation of a polycarboxylic acid and a polyol, and then esterifying the hydroxyl groups at both ends with acrylic acid.

単官能または多官能(メタ)アクリル系オリゴマーの重量平均分子量は、本発明の好ましい一態様では100,000以下であり、本発明の別の好ましい一態様では500〜50,000である。 The weight average molecular weight of the monofunctional or polyfunctional (meth)acrylic oligomer is 100,000 or less in a preferred embodiment of the present invention, and 500 to 50,000 in another preferred embodiment of the present invention.

上記したモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を使用するときは、前記モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物100質量部に対して0.01〜10質量部の光重合開始剤を使用することができる。 When the above-mentioned monomer, oligomer or mixture thereof is used, 0.01 to 10 parts by mass of a photopolymerization initiator may be used per 100 parts by mass of the monomer, oligomer or mixture thereof.

次の工程にて、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を含む部分と接触されたモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物に対してUVを照射して硬化させ、硬化性樹脂層を有する複合成形体を得ることができる。 In the next step, the monomer, oligomer, or mixture thereof contacted with the portion including the roughened portion of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body is irradiated with UV to be cured to form a curable resin layer. It is possible to obtain a composite molded article having the above.

(5)粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体同士の複合成形体、または粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と、異なる種類の非磁性セラミックス成形体の複合成形体の製造方法
粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体同士の複合成形体は、例えば、異なる形状の粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の複数を使用し、それらの接合面に形成させた接着剤層を介して接合一体化させることで製造することができる。前記接着剤層は、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分に接着剤を塗布するなどして形成することができる。接着剤としては、上記した他の複合成形体の製造で使用したものと同じものを使用することができる。
(5) Oxide-based nonmagnetic ceramics compact having a roughened structure, or a composite non-magnetic ceramics compact having a roughened structure, and a different type of nonmagnetic ceramics compact The method for producing a composite molded body of, for example, the composite molded body of the oxide-based non-magnetic ceramics molded body having a roughened structure, for example, of the oxide-based non-magnetic ceramics molded body having a roughened structure of different shape It can be manufactured by using a plurality of members and integrating them through an adhesive layer formed on their bonding surfaces. The adhesive layer can be formed by applying an adhesive to the roughened structure portion of the oxide-based non-magnetic ceramic compact. As the adhesive, the same one as used in the production of the other composite molded body described above can be used.

さらに酸化物系の非磁性セラミックス成形体と異なる種類の非磁性セラミックス成形体からなる複合成形体も同様にして製造することができる。 Furthermore, a composite molded body composed of a non-magnetic ceramic molded body of a different type from the oxide-based non-magnetic ceramic molded body can be manufactured in the same manner.

この実施形態では、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分に接着剤層を形成して、異なる種類の非磁性セラミックス成形体と接合一体化させる方法のほか、異なる種類の非磁性セラミックス成形体の表面も粗面化構造にして接着剤層を形成した後、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の接着剤層を有する面と異なる種類の非磁性セラミックス成形体の接着剤層を有する面を接合一体化させて複合成形体を製造することができる。 In this embodiment, in addition to a method of forming an adhesive layer on a roughened structure portion of an oxide-based non-magnetic ceramic molded body to bond and integrate it with a non-magnetic ceramic molded body of a different type, a non-magnetic ceramic molded body of a different type. The surface of the magnetic ceramic compact is also roughened to form the adhesive layer, and then the adhesive layer of the non-magnetic ceramic compact of a different type from the surface having the adhesive layer of the oxide-based nonmagnetic ceramic compact It is possible to manufacture a composite molded body by integrally joining the surfaces having the above.

異なる種類の非磁性セラミックスは、炭化物系、窒化物系、硼化物系、および珪化物系などである。異なる種類の非磁性セラミックス成形体の表面を粗面化する方法としては、非磁性セラミックスの種類により方法や条件が異なるが、例えば、本願発明と同様にレーザー光を照射する方法、やすり加工、ブラスト加工、エッチング加工などで粗面化する方法を適用することができる。 Different types of non-magnetic ceramics include carbide-based, nitride-based, boride-based, and silicide-based. As a method for roughening the surface of different types of non-magnetic ceramic molded bodies, the method and conditions differ depending on the type of non-magnetic ceramic, but for example, a method of irradiating laser light, file processing, blasting as in the present invention A method of roughening the surface by processing, etching, etc. can be applied.

各実施形態における各構成およびそれらの組み合わせなどは一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲で、適宜構成の付加、省略、置換およびその他の変更が可能である。本発明は、実施形態によって限定されることはなく、特許請求の範囲によってのみ限定される。 The configurations and the combinations thereof in each embodiment are examples, and addition, omission, substitution, and other changes of the configurations can be appropriately made without departing from the spirit of the present invention. The invention is not limited by the embodiments, but only by the claims.

<熱衝撃温度(JIS R1648:2002)>
熱衝撃温度は、加熱された酸化物系の非磁性セラミックス成形体の試験片(4×35×厚さ3mm)を30℃の水中に浸漬したときに破壊された温度である。急激に冷却されたときに内部と表面で生じる温度差により発生する内部応力が試験片の強度を超えたときに破壊される。
<Thermal shock temperature (JIS R1648:2002)>
The thermal shock temperature is the temperature at which a test piece (4×35×thickness 3 mm) of a heated oxide-based nonmagnetic ceramic compact was destroyed when immersed in water at 30° C. It is destroyed when the internal stress generated by the temperature difference between the inside and the surface when it is rapidly cooled exceeds the strength of the test piece.

Ra(算術平均粗さ):酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分の面に1.5mm長さの線を11本引いて、それらのRaをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Ra (arithmetic mean roughness): 11 lines with a length of 1.5 mm are drawn on the surface of the roughened structure portion of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body, and the Ra is measured by a one-shot 3D shape measuring machine ( Keyence).

Rz(最大高さ):酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分の面に1.5mm長さの線を11本引いて、それらのRzをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Rz (maximum height): 11 lines with a length of 1.5 mm are drawn on the surface of the roughened structure portion of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body, and those Rz are measured by a one-shot 3D shape measuring machine (Keyence). Manufactured).

Sa(算術平均高さ):酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分の面の9×1.8mmの範囲のSaをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Sa (arithmetic mean height): Sa within a range of 9×1.8 mm on the surface of the roughened structure portion of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body was measured by a one-shot 3D shape measuring machine (manufactured by KEYENCE).

Sz(最大高さ):酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分の面の9×1.8mmの範囲のSzをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Sz (maximum height): Sz in the range of 9×1.8 mm on the surface of the roughened structure portion of the oxide-based non-magnetic ceramic molded body was measured by a one-shot 3D shape measuring machine (manufactured by KEYENCE).

Sdr(界面の展開面積比):定義領域の展開面積(表面積)が、定義領域の面積に対してどれだけ増大しているかを表し、完全に平坦な面のSdrは0となる。Sdrをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Sdr (ratio of developed area of interface): Indicates how much the developed area (surface area) of the defined region is increased with respect to the area of the defined region, and Sdr of a completely flat surface is 0. Sdr was measured with a one-shot 3D shape measuring machine (manufactured by KEYENCE).

Sdq(二乗平均平方根傾斜):定義領域のすべての点における傾斜の二乗平均平方根により算出されるパラメータであり、完全に平坦な面のSdqは0となる。表面に傾斜があるとSdqは大きくなり、例えば45°の傾斜成分からなる平面では、Sdqは1になる。ワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Sdq (root mean square slope): This is a parameter calculated by the root mean square of the slope at all points in the defined area, and Sdq of a perfectly flat surface is zero. If the surface has an inclination, Sdq becomes large. For example, Sdq becomes 1 on a plane having an inclination component of 45°. It was measured by a one-shot 3D shape measuring machine (manufactured by KEYENCE).

実施例1〜7、比較例1〜2
表1に示す種類の非磁性セラミックス成形体(10×50×厚さ2mmの平板)の表面に対して、下記の連続波レーザー装置を使用して、表1に示す条件でレーザー光を連続照射して粗面化した。表1中、アルミナ92は純度92%であること、アルミナ99は純度99.5%であることを示している。
(レーザー装置)
発振器:IPG−Ybファイバー;YLR−300−SM
ガルバノミラー SQUIREEL(ARGES社製)
集光系:fc=80mm/fθ=100mm
Examples 1-7, Comparative Examples 1-2
The surface of a non-magnetic ceramics compact (10×50×2 mm thick flat plate) of the type shown in Table 1 is continuously irradiated with laser light under the conditions shown in Table 1 using the following continuous wave laser device. And roughened. In Table 1, alumina 92 has a purity of 92%, and alumina 99 has a purity of 99.5%.
(Laser device)
Oscillator: IPG-Yb fiber; YLR-300-SM
Galvano Mirror SQUIREEL (made by ARGES)
Focusing system: fc=80mm/fθ=100mm

なお、クロス照射と双方向照射は、以下のとおりに実施した。
クロス(クロス照射):0.05mmの間隔をおいて10本の溝(第1群の溝)が形成されるように連続波レーザー光を照射した後、第1群の溝と直交する方向に0.05mmの間隔をおいて10本の溝(第2群の溝)が形成されるように連続波レーザー光を照射した。
The cross irradiation and the bidirectional irradiation were performed as follows.
Cross (cross irradiation): After irradiating continuous wave laser light so that ten grooves (grooves of the first group) are formed at intervals of 0.05 mm, then in a direction orthogonal to the grooves of the first group. Irradiation with continuous wave laser light was performed so that 10 grooves (grooves of the second group) were formed at intervals of 0.05 mm.

双方向照射:一方向に1本の溝が形成されるように連続波レーザー光を直線状に照射した後、0.05mmの間隔をおいて反対方向に同様にして連続波レーザー光を直線状に照射することを繰り返した。 Bi-directional irradiation: Continuous wave laser light is linearly irradiated so that one groove is formed in one direction, and then continuous wave laser light is also linearly irradiated in the opposite direction with an interval of 0.05 mm. The irradiation was repeated.

クロス照射と双方向照射の0.05mmの間隔は、隣接する溝(ライン)同士の幅の中間位置の間の距離である。 The interval of 0.05 mm between the cross irradiation and the bidirectional irradiation is the distance between the intermediate positions of the widths of the adjacent grooves (lines).

実施例1〜7、比較例2の酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を有する部分のSEM写真を図7〜図14に示す。SEM写真の倍率は200倍で撮影したが、200倍に限定されず、粗面化構造が観察し易い倍率に調整すればよく、例えば200〜400倍で撮影することができる。 7 to 14 show SEM photographs of portions of the oxide-based nonmagnetic ceramic compacts of Examples 1 to 7 and Comparative Example 2 having a roughened structure. The SEM photograph was taken at a magnification of 200 times, but is not limited to 200 times, and may be adjusted to a magnification at which the roughened structure can be easily observed. For example, the SEM photograph can be taken at a magnification of 200 to 400 times.

実施例1〜7、比較例1〜2で得られた粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体を使用して、樹脂成形体(ガラス繊維を30質量%含有するポリアミド6の成形体)との複合成形体(図15)を製造した。 Using the oxide-based non-magnetic ceramic molded bodies having the roughened structure obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 2, resin molded bodies (of polyamide 6 containing 30% by mass of glass fiber) were used. A composite molded body (FIG. 15) with the molded body was manufactured.

得られた各複合成形体を使用して、非磁性セラミックス成形体と樹脂成形体の接合強度を測定した。 Using each of the obtained composite molded bodies, the bonding strength between the non-magnetic ceramic molded body and the resin molded body was measured.

〔引張試験〕
図15に示す複合成形体(ISO19095−2:2015に準拠した試験片)を用い、下記の条件で引張試験を行ってせん断接合強度(S1)を評価した。結果を表1に示す。引張試験は、ISO19095に準拠し、酸化物系の非磁性セラミックス成形体30側の端部を固定した状態で、酸化物系の非磁性セラミックス成形体30と樹脂成形体31が破断するまで図13に示すX方向に引っ張った場合の接合面が破壊されるまでの最大荷重を測定した。結果を表1に示す。
[Tensile test]
Using the composite molded body (test piece conforming to ISO19095-2:2015) shown in FIG. 15, a tensile test was performed under the following conditions to evaluate the shear bond strength (S1). The results are shown in Table 1. The tensile test is based on ISO19095, and the end of the oxide-based nonmagnetic ceramic molded body 30 side is fixed until the oxide-based nonmagnetic ceramic molded body 30 and the resin molded body 31 are broken. The maximum load until the joint surface was broken when pulled in the X direction shown in was measured. The results are shown in Table 1.

<引張試験条件>
試験機:島津製作所製AUTOGRAPH AG−X plus(50kN)
引張速度:10mm/min
つかみ具間距離:50mm
<Tensile test conditions>
Testing machine: Shimadzu AUTOGRAPH AG-X plus (50kN)
Tensile speed: 10mm/min
Distance between grips: 50 mm

実施例1〜7のジルコニア成形体、アルミナ成形体、ステアタイト成形体、コージライト成形体における粗面化構造の凹凸は、図7〜図11、図13、および図14のSEM写真(平面写真または断面写真)から、凹凸部の厚さ方向の断面形状が曲面(部分円)形状を含むものであることが明らかであった。 The unevenness of the roughened structure in the zirconia molded body, the alumina molded body, the steatite molded body, and the cordierite molded body of Examples 1 to 7 was SEM photographs (planar photographs) of FIGS. 7 to 11, FIG. 13, and FIG. It was clear from the cross-sectional photograph) that the cross-sectional shape of the uneven portion in the thickness direction includes a curved surface (partial circle) shape.

実施例1(図7)、実施例2(図8)、実施例4(図10)、実施例6(図13)の凹部の平面形状は、図1〜図3に示すような形状であった。実施例3(図9)、および実施例5(図11)の凹部の平面形状は、図4(a)〜(e)に示すような形状のものと、それらと図1〜図3に示すような形状が組み合わされたものであった。実施例7(図14)の凹部の平面形状は、図4(a)〜(e)に示すような形状のものであった。 The planar shapes of the recesses of Example 1 (FIG. 7), Example 2 (FIG. 8), Example 4 (FIG. 10), and Example 6 (FIG. 13) are as shown in FIGS. 1 to 3. It was The planar shapes of the recesses of Example 3 (FIG. 9) and Example 5 (FIG. 11) are those shown in FIGS. 4A to 4E, and those and FIGS. 1 to 3. It was a combination of such shapes. The planar shape of the recess of Example 7 (FIG. 14) was the shape shown in FIGS. 4(a) to 4(e).

レーザー光の照射速度の遅い比較例1は、成形体の一部に割れが発生して2以上に分割され、比較例2は、穴は開かず、表面がしわ状に変形していた。 In Comparative Example 1 in which the irradiation speed of the laser light was slow, a crack was generated in a part of the molded body and was divided into two or more. In Comparative Example 2, the hole was not opened and the surface was deformed in a wrinkle shape.

実施例1〜7のジルコニア成形体、アルミナ成形体、ステアタイト成形体、コージライト成形体と樹脂成形体との複合成形体は、高い接合強度を有していたことから、他の材料(熱硬化性樹脂、ゴム、エラストマー、金属、UV硬化性樹脂)との複合成形体を製造した場合であっても、高い接合強度の複合成形体が得られるものと考えられる。 Since the zirconia molded body, the alumina molded body, the steatite molded body, and the composite molded body of the cordierite molded body and the resin molded body of Examples 1 to 7 had high bonding strength, other materials (heat It is considered that even when a composite molded body with a curable resin, rubber, elastomer, metal, or UV curable resin) is manufactured, a composite molded body with high bonding strength can be obtained.

実施例8
表2に示す種類の非磁性セラミックス成形体(10×50×厚さ2mmの平板)の表面に対して、表2に示す条件でパルス波レーザー光を照射して粗面化した。図16に粗面化後のSEM写真を示す。
Example 8
The surface of a non-magnetic ceramic compact (10×50×a flat plate having a thickness of 2 mm) of the type shown in Table 2 was irradiated with pulse wave laser light under the conditions shown in Table 2 to roughen the surface. FIG. 16 shows an SEM photograph after roughening.

図16(実施例8)と図7(実施例1)、図10(実施例4)、図13(実施例6)のSEM写真の対比から明らかなとおり、実施例8の非磁性セラミックス成形体の粗面化後の構造は、前記他の実施例と同様なものであった。 As is clear from the comparison of the SEM photographs of FIG. 16 (Example 8), FIG. 7 (Example 1), FIG. 10 (Example 4), and FIG. 13 (Example 6), the nonmagnetic ceramic molded body of Example 8 The structure after roughening was similar to that of the other examples.

本発明の表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体は、酸化物系の非磁性セラミックス成形体と樹脂、ゴム、エラストマー、金属との複合成形体の中間体として利用することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The oxide-based non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface of the present invention is used as an intermediate for a composite molded body of an oxide-based non-magnetic ceramic molded body and a resin, rubber, elastomer or metal. be able to.

1a:曲線(円弧)
1b:曲線
2:直線
5:突出部
6:窪み部
1a: Curve (arc)
1b: curved line 2: straight line 5: protruding part 6: recessed part

Claims (13)

表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料の成形体からなる複合成形体であって、
表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造が凹凸を有しており、前記凹凸の厚さ方向の断面形状が曲面を有しているものであり、
前記凹凸の表面粗さ(Ra)が1〜30μmの範囲であり、前記凹凸の凸部と凹部の高低差(Rz)が10〜200μmの範囲であり、
前記他の材料の成形体が、熱可塑性樹脂成形体、熱硬化性樹脂成形体、熱可塑性エラストマー成形体、ゴム成形体、金属成形体、UV硬化性樹脂成形体から選ばれる成形体であり、
前記複合成形体が、表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を有する部分と他の材料の成形体が接触され一体化されているものである、複合成形体。
A composite compact comprising an oxide-based non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface and a compact of another material,
The surface-roughened structure of the oxide-based non-magnetic ceramics molded body having a surface-roughened structure has unevenness, and the cross-sectional shape in the thickness direction of the unevenness has a curved surface,
The surface roughness (Ra) of the irregularities is in the range of 1 to 30 μm, and the height difference (Rz) between the convex and concave portions of the irregularities is in the range of 10 to 200 μm.
The molded body of the other material is a molded body selected from a thermoplastic resin molded body, a thermosetting resin molded body, a thermoplastic elastomer molded body, a rubber molded body, a metal molded body, and a UV curable resin molded body,
The composite molded body is one in which a portion having a roughened structure of an oxide-based non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface and a molded body of another material are contacted and integrated. Composite molded body.
表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料の成形体からなる複合成形体であって、
表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造が凹凸を有しており、前記凹凸の厚さ方向の断面形状が曲面を有しているものであり、
前記凹凸の表面粗さ(Ra)が1〜30μmの範囲であり、前記凹凸の凸部と凹部の高低差(Rz)が10〜200μmの範囲であり、
前記他の材料の成形体が、ゴム成形体、金属成形体、炭化物系の非磁性セラミックス成形体、および炭化物系の非磁性セラミックスと異なる種類の非磁性セラミックス成形体から選ばれる成形体であり、
前記複合成形体が、表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を有する部分と他の材料の成形体が接着剤層を介して一体化されているものである、複合成形体。
A composite compact comprising an oxide-based non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface and a compact of another material,
The surface-roughened structure of the oxide-based non-magnetic ceramics molded body having a surface-roughened structure has unevenness, and the cross-sectional shape in the thickness direction of the unevenness has a curved surface,
The surface roughness (Ra) of the irregularities is in the range of 1 to 30 μm, and the height difference (Rz) between the convex and concave portions of the irregularities is in the range of 10 to 200 μm.
The molded body of the other material is a molded body selected from a rubber molded body, a metal molded body, a carbide-based nonmagnetic ceramics molded body, and a nonmagnetic ceramics molded body of a different type from the carbide-based nonmagnetic ceramics,
In the composite molded body, a portion having a roughened structure of an oxide-based non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface and a molded body of another material are integrated via an adhesive layer. It is a composite molded article.
表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料の成形体からなる複合成形体であって、
表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造が凹凸を有しており、前記凹凸の厚さ方向の断面形状が曲面を有しているものであり、
前記凹凸の表面粗さ(Ra)が1〜30μmの範囲であり、前記凹凸の凸部と凹部の高低差(Rz)が10〜200μmの範囲であり、
前記他の材料の成形体が、熱可塑性樹脂成形体、熱硬化性樹脂成形体、熱可塑性エラストマー成形体、ゴム成形体、金属成形体、UV硬化性樹脂成形体から選ばれる成形体であり、
前記複合成形体が、表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を有する部分と他の材料の成形体が接触され一体化されているものである、複合成形体。
A composite compact comprising an oxide-based non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface and a compact of another material,
The surface-roughened structure of the oxide-based non-magnetic ceramics molded body having a surface-roughened structure has unevenness, and the cross-sectional shape in the thickness direction of the unevenness has a curved surface,
The surface roughness (Ra) of the irregularities is in the range of 1 to 30 μm, and the height difference (Rz) between the convex and concave portions of the irregularities is in the range of 10 to 200 μm.
The molded body of the other material is a molded body selected from a thermoplastic resin molded body, a thermosetting resin molded body, a thermoplastic elastomer molded body, a rubber molded body, a metal molded body, and a UV curable resin molded body,
The composite molded body is one in which a portion having a roughened structure of an oxide-based non-magnetic ceramics molded body having a roughened structure on the surface and a molded body of another material are contacted and integrated. Composite molded body.
表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体と他の材料の成形体からなる複合成形体であって、
表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造が凹凸を有しており、前記凹凸の厚さ方向の断面形状が曲面を有しているものであり、
前記凹凸の表面粗さ(Ra)が1〜30μmの範囲であり、前記凹凸の凸部と凹部の高低差(Rz)が10〜200μmの範囲であり、
前記他の材料の成形体が、ゴム成形体、金属成形体、酸化物系の非磁性セラミックス成形体、および炭化物系の非磁性セラミックスと異なる種類の非磁性セラミックス成形体から選ばれる成形体であり、
前記複合成形体が、表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を有する部分と他の材料の成形体が接着剤層を介して一体化されているものである、複合成形体。
A composite compact comprising an oxide-based non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface and a compact of another material,
The surface-roughened structure of the oxide-based non-magnetic ceramics molded body having a surface-roughened structure has unevenness, and the cross-sectional shape in the thickness direction of the unevenness has a curved surface,
The surface roughness (Ra) of the irregularities is in the range of 1 to 30 μm, and the height difference (Rz) between the convex and concave portions of the irregularities is in the range of 10 to 200 μm.
The molded body of the other material is a molded body selected from a rubber molded body, a metal molded body, an oxide-based non-magnetic ceramic molded body, and a non-magnetic ceramic molded body of a type different from the carbide-based non-magnetic ceramic molded body. ,
In the composite molded body, a portion having a roughened structure of an oxide-based non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface and a molded body of another material are integrated via an adhesive layer. It is a composite molded article.
前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体が、厚さが0.5mm以上のもので、熱衝撃温度(JIS R1648:2002)が150〜700℃の範囲のものである、請求項1〜4のずれか1項記載の複合成形体。 The oxide-based non-magnetic ceramic compact having a roughened structure on the surface has a thickness of 0.5 mm or more and a thermal shock temperature (JIS R1648:2002) in the range of 150 to 700° C. The composite molded body according to any one of claims 1 to 4. 前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体がアルミナを含む、請求項5記載の複合成形体。 The composite molded body according to claim 5, wherein the oxide-based nonmagnetic ceramic molded body having a roughened structure on its surface contains alumina. 前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体が、厚さが0.5mm以上のもので、熱衝撃温度(JIS R1648:2002)が1〜10℃の範囲のものである、請求項1〜4のずれか1項記載の複合成形体。 The oxide-based non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface has a thickness of 0.5 mm or more and a thermal shock temperature (JIS R1648:2002) in the range of 1 to 10° C. The composite molded body according to any one of claims 1 to 4. 前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックスがジルコニアを含む、請求項7記載の複合成形体。 The composite molded body according to claim 7, wherein the oxide-based non-magnetic ceramic having a roughened structure on the surface contains zirconia. 前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックスの凹凸の厚さ方向の断面形状が、部分円形状または部分楕円形状である、請求項1〜8のいずれか1項記載の複合成形体。 9. The composite according to claim 1, wherein a cross-sectional shape of the unevenness of the oxide-based non-magnetic ceramic having a roughened structure on the surface in the thickness direction is a partial circular shape or a partial elliptical shape. Molded body. 前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックスの凹凸の算術平均高さ(Sa)が1〜50μmの範囲であり、前記凹凸の凸部の最大高さ(Sz)が30〜280μmの範囲であり、前記凹凸の界面の展開面積比(Sdr)が0.05〜2.00の範囲である、請求項1〜9のいずれか1項記載の複合成形体。 The arithmetic mean height (Sa) of the irregularities of the oxide-based non-magnetic ceramic having a roughened structure on the surface is in the range of 1 to 50 μm, and the maximum height (Sz) of the convex portions of the irregularities is 30 to The composite molded body according to any one of claims 1 to 9, which has a range of 280 µm and a developed area ratio (Sdr) of the interface of the irregularities of 0.05 to 2.00. 前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックスの凹凸の二乗平均平方根傾斜(Sdq)が0.3〜3.0の範囲である、請求項1〜9のいずれか1項記載の複合成形体。 10. The root mean square slope (Sdq) of the irregularities of the oxide-based non-magnetic ceramic having a roughened structure on the surface is in the range of 0.3 to 3.0. Composite molded body. 前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックスの凹凸が間隔をおいて線状に連続的に形成されているとき、前記凹部の平面形状が楕円形またはそれに類似する形状を含んでいる、請求項1〜11のいずれか1項記載の複合成形体。 When the irregularities of the oxide-based non-magnetic ceramics having a roughened structure are continuously formed linearly at intervals, the concave shape may include an elliptical shape or a shape similar thereto. The composite molded body according to any one of claims 1 to 11, wherein 前記表面に粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックスの凹凸が分散してランダムに形成されているとき、前記凹部の平面形状が円形、楕円形またはそれらに類似する形状を含んでいる、請求項1〜11のいずれか1項記載の複合成形体。 When irregularities of oxide-based non-magnetic ceramics having a roughened structure are dispersed and formed randomly on the surface, the planar shape of the concave portion includes a circular shape, an elliptical shape, or a shape similar thereto. The composite molded article according to any one of claims 1 to 11.
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