JP2020106339A - 測定装置および測距装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】より正確な測距が可能な測定装置および測距装置を提供する。【解決手段】測定装置は、対象領域に含まれる複数の受光素子からなる受光素子群を有する受光部と、受光素子群に含まれる第1の受光素子群と第2の受光素子群と、をそれぞれ異なる期間に読み出すように制御する制御部と、第1の受光素子群および第2の受光素子群のうち少なくとも一方から読み出された信号に基づき信号処理を行う信号処理部と、を備える。第1の受光素子群および第2の受光素子群の和集合が複数の受光素子を全て含み、第1の受光素子群の少なくとも一部が第2の受光素子群に含まれない。【選択図】図8
Description
本発明は、測定装置および測距装置に関する。
光を用いて被測定物までの距離を測定する測距方式の一つとして、直接ToF(Time of Flight)方式と呼ばれる測距手法が知られている。直接ToF方式による測距処理では、光源から射出された光が被測定物により反射された反射光を受光素子により受光し、光が射出されてから反射光として受光されるまでの時間に基づき対象までの距離を計測する。また、直接ToF方式において、受光素子を2次元格子状に配列した画素アレイを用いて測距を行う構成が知られている。
画素アレイを用いた測距において、画素アレイに含まれる全ての受光素子について、同時に駆動、あるいは測距結果の出力を行う場合、消費電力、データの通信帯域、回路規模などの点で制限がある。そのため、画素アレイを複数の領域に分割し、分割した各領域を順次に駆動し測距結果出力を行う分割駆動方法が提案されている。
既存技術による分割駆動方法では、例えば画素アレイの下端の領域の測距処理から、上端の領域の測距処理までの時間差が大きく、画素アレイ全体における測距結果の同時性を確保することが難しくなるおそれがある。この場合、測距装置との間の距離が高速に変化する被測定物の測距が困難となってしまう。
本開示は、より正確な測距が可能な測定装置および測距装置を提供することを目的とする。
本開示に係る測距装置は、対象領域に含まれる複数の受光素子からなる受光素子群を有する受光部と、受光素子群に含まれる第1の受光素子群と第2の受光素子群と、をそれぞれ異なる期間に読み出すように制御する制御部と、第1の受光素子群および第2の受光素子群のうち少なくとも一方から読み出された信号に基づき信号処理を行う信号処理部と、を備え、第1の受光素子群および第2の受光素子群の和集合が複数の受光素子を全て含み、第1の受光素子群の少なくとも一部が第2の受光素子群に含まれない。
以下、本開示の第1の実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の各第1の実施形態において、同一の部位には同一の符号を付することにより、重複する説明を省略する。
(各実施形態に適用可能な技術)
本開示は、光を用いて測距を行う技術に関するものである。本開示の各実施形態の説明に先んじて、理解を容易とするために、各実施形態に適用可能な技術について説明する。各実施形態では、測距方式として、直接ToF(Time Of Flight)方式を適用する。直接ToF方式は、光源から射出された光が被測定物により反射した反射光を受光素子により受光し、光の射出タイミングと受光タイミングとの差分の時間に基づき測距を行う方式である。
本開示は、光を用いて測距を行う技術に関するものである。本開示の各実施形態の説明に先んじて、理解を容易とするために、各実施形態に適用可能な技術について説明する。各実施形態では、測距方式として、直接ToF(Time Of Flight)方式を適用する。直接ToF方式は、光源から射出された光が被測定物により反射した反射光を受光素子により受光し、光の射出タイミングと受光タイミングとの差分の時間に基づき測距を行う方式である。
図1および図2を用いて、直接ToF方式による測距について、概略的に説明する。図1は、各実施形態に適用可能な直接ToF方式による測距を模式的に示す図である。測距装置300は、光源部301と受光部302とを含む。光源部301は、例えばレーザダイオードであって、レーザ光をパルス状に発光するように駆動される。光源部301から射出された光は、被測定物303により反射され、反射光として受光部302に受光される。受光部302は、光電変換により光を電気信号に変換する受光素子を含み、受光した光に応じた信号を出力する。
ここで、光源部301が発光した時刻(発光タイミング)を時間t0、光源部301から射出された光が被測定物303により反射された反射光を受光部302が受光した時刻(受光タイミング)を時間t1とする。定数cを光速度(2.9979×108[m/sec])とすると、測距装置300と被測定物303との間の距離Dは、次式(1)により計算される。
D=(c/2)×(t1−t0) …(1)
D=(c/2)×(t1−t0) …(1)
測距装置300は、上述の処理を、複数回繰り返して実行する。受光部302が複数の受光素子を含み、各受光素子に反射光が受光された各受光タイミングに基づき距離Dをそれぞれ算出してもよい。測距装置300は、発光タイミングの時間t0から受光部302に光が受光された受光タイミングまでの時間tm(受光時間tmと呼ぶ)を階級(ビン(bins))に基づき分類し、ヒストグラムを生成する。
なお、受光部302が受光時間tmに受光した光は、光源部301が発光した光が被測定物により反射された反射光に限られない。例えば、測距装置300(受光部302)の周囲の環境光も、受光部302に受光される。
図2は、各実施形態に適用可能な、受光部302が受光した時刻に基づく一例のヒストグラムを示す図である。図2において、横軸はビン、縦軸は、ビン毎の頻度を示す。ビンは、受光時間tmを所定の単位時間d毎に分類したものである。具体的には、ビン#0が0≦tm<d、ビン#1がd≦tm<2×d、ビン#2が2×d≦tm<3×d、…、ビン#(N−2)が(N−2)×d≦tm<(N−1)×dとなる。受光部302の露光時間を時間tepとした場合、tep=N×dである。
測距装置300は、受光時間tmを取得した回数をビンに基づき計数してビン毎の頻度310を求め、ヒストグラムを生成する。ここで、受光部302は、光源部301から射出された光が反射された反射光以外の光も受光する。このような、対象となる反射光以外の光の例として、上述した環境光がある。ヒストグラムにおいて範囲311で示される部分は、環境光による環境光成分を含む。環境光は、受光部302にランダムに入射される光であって、対象となる反射光に対するノイズとなる。
一方、対象となる反射光は、特定の距離に応じて受光される光であって、ヒストグラムにおいてアクティブ光成分312として現れる。このアクティブ光成分312内のピークの頻度に対応するビンが、被測定物303の距離Dに対応するビンとなる。測距装置300は、そのビンの代表時間(例えばビンの中央の時間)を上述した時間t1として取得することで、上述した式(1)に従い、被測定物303までの距離Dを算出することができる。このように、複数の受光結果を用いることで、ランダムなノイズに対して適切な測距を実行可能となる。
図3は、各実施形態に係る測距装置を用いた電子機器の一例の構成を示すブロック図である。図3において、電子機器6は、測距装置1と、光源部2と、記憶部3と、制御部4と、光学系5と、を含む。
光源部2は、上述した光源部301に対応し、レーザダイオードであって、例えばレーザ光をパルス状に発光するように駆動される。光源部2は、面光源としてレーザ光を射出するVCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting LASER)を適用することができる。これに限らず、光源部2として、レーザダイオードをライン上に配列したアレイを用い、レーザダイオードアレイから射出されるレーザ光をラインに垂直の方向にスキャンする構成を適用してもよい。さらにまた、単光源としてのレーザダイオードを用い、レーザダイオードから射出されるレーザ光を水平および垂直方向にスキャンする構成を適用することもできる。
測距装置1は、上述した受光部302に対応して、複数の受光素子を含む。複数の受光素子は、例えば2次元格子状に配列されて受光面を形成する。光学系5は、外部から入射する光を、測距装置1が含む受光面に導く。
制御部4は、電子機器6の全体の動作を制御する。例えば、制御部4は、測距装置1に対して、光源部2を発光させるためのトリガである発光トリガを供給する。測距装置1は、この発光トリガに基づくタイミングで光源部2を発光させると共に、発光タイミングを示す時間t0を記憶する。また、制御部4は、例えば外部からの指示に応じて、測距装置1に対して、測距の際のパターンの設定を行う。
測距装置1は、受光面に光が受光されたタイミングを示す時間情報(受光時間tm)を取得した回数を所定の時間範囲内で計数し、ビン毎の頻度を求めて上述したヒストグラムを生成する。測距装置1は、さらに、生成したヒストグラムに基づき、被測定物までの距離Dを算出する。算出された距離Dを示す情報は、記憶部3に記憶される。
図4は、各実施形態に適用可能な測距装置1の一例の構成をより詳細に示すブロック図である。図4において、測距装置1は、画素アレイ部100と、測距処理部101と、画素制御部102と、全体制御部103と、クロック生成部104と、発光タイミング制御部105と、インタフェース(I/F)106と、を含む。これら画素アレイ部100、測距処理部101、画素制御部102、全体制御部103、クロック生成部104、発光タイミング制御部105およびインタフェース(I/F)106は、例えば1つの半導体チップ上に配置される。
図4において、全体制御部103は、例えば予め組み込まれるプログラムに従い、この測距装置1の全体の動作を制御する。また、全体制御部103は、外部から供給される外部制御信号に応じた制御を実行することもできる。クロック生成部104は、外部から供給される基準クロック信号に基づき、測距装置1内で用いられる1以上のクロック信号を生成する。発光タイミング制御部105は、外部から供給される発光トリガ信号に従い発光タイミングを示す発光制御信号を生成する。発光制御信号は、光源部2に供給されると共に、測距処理部101に供給される。
画素アレイ部100は、2次元格子状に配列される、それぞれ受光素子を含む複数の画素10、10、…を含む。各画素10の動作は、全体制御部103の指示に従った画素制御部102により制御される。例えば、画素制御部102は、各画素10からの画素信号の読み出しを、行方向にp画素、列方向にq画素の、(p×q)個の画素10を含むブロック毎に制御することができる。また、画素制御部102は、当該ブロックを単位として、各画素10を行方向にスキャンし、さらに列方向にスキャンして、各画素10から画素信号を読み出すことができる。これに限らず、画素制御部102は、各画素10をそれぞれ単独で制御することもできる。さらに、画素制御部102は、画素アレイ部100の所定領域を対象領域として、対象領域に含まれる画素10を、画素信号を読み出す対象の画素10とすることができる。さらにまた、画素制御部102は、複数行(複数ライン)を纏めてスキャンし、それを列方向にさらにスキャンして、各画素10から画素信号を読み出すこともできる。
各画素10から読み出された画素信号は、測距処理部101に供給される。測距処理部101は、変換部110と、生成部111と、信号処理部112と、を含む。
各画素10から読み出され、画素アレイ部100から出力された画素信号は、変換部110に供給される。ここで、画素信号は、各画素10から非同期で読み出され、変換部110に供給される。すなわち、画素信号は、各画素10において光が受光されたタイミングに応じて受光素子から読み出され、出力される。
変換部110は、画素アレイ部100から供給された画素信号を、デジタル情報に変換する。すなわち、画素アレイ部100から供給される画素信号は、当該画素信号が対応する画素10に含まれる受光素子に光が受光されたタイミングに対応して出力される。変換部110は、供給された画素信号を、当該タイミングを示す時間情報に変換する。
生成部111は、変換部110により画素信号が変換された時間情報に基づきヒストグラムを生成する。ここで、生成部111は、時間情報を、設定部113により設定された単位時間dに基づき計数し、ヒストグラムを生成する。生成部111によるヒストグラム生成処理の詳細については、後述する。
信号処理部112は、生成部111により生成されたヒストグラムのデータに基づき所定の演算処理を行い、例えば距離情報を算出する。信号処理部112は、例えば、生成部111により生成されたヒストグラムのデータに基づき、当該ヒストグラムの曲線近似を作成する。信号処理部112は、このヒストグラムが近似された曲線のピークを検出し、検出されたピークに基づき距離Dを求めることができる。
信号処理部112は、ヒストグラムの曲線近似を行う際に、ヒストグラムが近似された曲線に対してフィルタ処理を施すことができる。例えば、信号処理部112は、ヒストグラムが近似された曲線に対してローパスフィルタ処理を施すことで、ノイズ成分を抑制することが可能である。
信号処理部112で求められた距離情報は、インタフェース106に供給される。インタフェース106は、信号処理部112から供給された距離情報を、出力データとして外部に出力する。インタフェース106としては、例えばMIPI(Mobile Industry Processor Interface)を適用することができる。
なお、上述では、信号処理部112で求められた距離情報を、インタフェース106を介して外部に出力しているが、これはこの例に限定されない。すなわち、生成部111により生成されたヒストグラムのデータであるヒストグラムデータを、インタフェース106から外部に出力する構成としてもよい。この場合、設定部113が設定する測距条件情報は、フィルタ係数を示す情報を省略することができる。インタフェース106から出力されたヒストグラムデータは、例えば外部の情報処理装置に供給され、適宜、処理される。
図5は、各実施形態に係る測距装置1に適用可能なデバイスの構成の例を示す模式図である。図5において、測距装置1は、それぞれ半導体チップからなる受光チップ20と、ロジックチップ21とが積層されて構成される。なお、図5では、説明のため、受光チップ20とロジックチップ21とを分離した状態で示している。
受光チップ20は、画素アレイ部100の領域において、複数の画素10がそれぞれ含む受光素子1000が2次元格子状に配列される。ロジックチップ21は、受光素子1000によって取得された信号を処理する信号処理部を含むロジックアレイ部200が設けられる。ロジックチップ21に対して、さらに、当該ロジックアレイ部200と近接して、受光素子1000によって取得された信号の処理を行う信号処理回路部201と、測距装置1としての動作を制御する素子制御部203と、を設けることができる。
例えば、信号処理回路部201は、上述した測距処理部101を含むことができる。また、素子制御部203は、上述した画素制御部102、全体制御部103、クロック生成部104、発光タイミング制御部105およびインタフェース106を含むことができる。
なお、受光チップ20およびロジックチップ21上の構成は、この例に限定されない。また、素子制御部203は、ロジックアレイ部200の制御以外にも、例えば受光素子1000の近傍に、他の駆動や制御の目的で配置することができる。素子制御部203は、図5に示した配置以外にも、受光チップ20およびロジックチップ21の任意の領域に、任意の機能を有するように設けることができる。
図6は、各実施形態に適用可能な画素10の一例の構成を示す図である。図6において、画素10は、受光素子1000と、抵抗1101と、インバータ1102と、アンプ1103と、スイッチ1104と、を含む。
受光素子1000は、入射された光を光電変換により電気信号に変換して出力する。各実施形態においては、受光素子1000は、入射されたフォトン(光子)を光電変換により電気信号に変換し、フォトンの入射に応じたパルスを出力する。各実施形態では、受光素子1000として、単一光子アバランシェダイオードを用いる。以下、単一光子アバランシェダイオードを、SPAD(Single Photon Avalanche Diode)と呼ぶ。SPADは、カソードにアバランシ増倍が発生する大きな負電圧を加えておくと、1フォトンの入射に応じて発生した電子がアバランシ増倍を生じ、大電流が流れる特性を有する。SPADのこの特性を利用することで、1フォトンの入射を高感度で検知することができる。
図6において、SPADである受光素子1000は、カソードが抵抗1101を介して電源電位VDDの端子に接続され、アノードが電源電位VDDよりも電位が低い電位GND(1)の端子に接続される。電位GND(1)の端子は、例えば接地端子、あるいは、所定の負電圧の端子である。これにより、受光素子1000には、逆バイアスが印加される。また、光電流は、受光素子1000のカソードからアノードに向けた方向に流れる。
なお、受光素子1000は、SPADに限定されない。受光素子1000としてアバランシェフォトダイオード(APD)や、通常のフォトダイオードを適用することも可能である。
抵抗1101の一端が電源電位VDDに接続され、他端が受光素子1000のカソードに接続される。受光素子1000においてフォトンの入射が検出される毎に抵抗1101に光電流が流れ、受光素子1000のカソード電位が、電源電位VDDより低い初期状態の値に降下する(クエンチング動作)。
抵抗1101と受光素子1000のカソードとの接続点から取り出された信号が、インバータ1102に入力される。インバータ1102は、入力された、受光素子1000のカソード電位の信号を反転し、反転出力信号Vsigを、制御信号SH_ONによりオン、オフが制御されるスイッチ1104を介してアンプ1103に供給する。アンプ1103は、反転出力信号Vsigを整形して、パルスVplsとして出力する。また、インバータ1102およびアンプ1103が接続される接地側の電位GND(2)は、受光素子1000のアノードが接続される接地側の電位GND(1)と異なる。
なお、図6では、制御信号SH_ONにより反転出力信号Vsigの出力をオン、オフしているが、これはこの例に限定されない。すなわち、制御信号SH_ONは、画素10におけるパルスVplsの出力を停止できれば、他の機能を制御してもよい。例えば、制御信号SH_ONにより、画素10に供給される電源電位VDDの電源の供給のオン、オフを制御してもよい。
また、図6において、受光素子1000および抵抗1101は、受光チップ20上に形成される。また、インバータ1102、アンプ1103およびスイッチ1104は、ロジックチップ21上に形成される。結合部1105は、抵抗1101と受光素子1000のカソードとの接続点と、インバータ1102の入力端とが、例えばCCC(Copper-Copper Connection)などによる結合部1105を介して、受光チップ20とロジックチップ21との間で接続される。
(既存技術による画素アレイのスキャン方法の例)
次に、本開示の説明に先立って、既存技術による画素アレイ部100のスキャン方法について、概略的に説明する。図7Aおよび図7Bは、既存技術による画素アレイ部100のスキャン方法の例を示す図である。
次に、本開示の説明に先立って、既存技術による画素アレイ部100のスキャン方法について、概略的に説明する。図7Aおよび図7Bは、既存技術による画素アレイ部100のスキャン方法の例を示す図である。
例えば図7Aにおいて、画素アレイ部100は、X画素(例えば600画素)×Yライン(例えば200ライン)のサイズを有し、図7A上の水平方向および垂直方向にそれぞれX個およびYラインの、合計で(X×Y)個の画素10が2次元格子状に配列されて構成される。また、図7Aの例では、画素アレイ部100において、各画素10は、p画素×q画素(例えば5画素×4画素)のブロック400毎に測距が行われる。より具体的には、ブロック400毎に、ブロック400に含まれる各画素10において露光、フォトン検出、ヒストグラム生成、ピーク検出といった測距処理が実行される。すなわち、ブロック400は、ヒストグラム生成の際に受光時間tmの数を加算する加算単位である。
図7Aに示されるように、画素アレイ部100の全面の各ブロック400において、同時に測距処理が実行された場合、消費電力や、データの通信帯域、回路規模などの点での制約がある。そのため、画素アレイ部100を複数の領域に分割し、分割した領域に対して順次に測距処理を行うことが提案されている。
図7Bは、この画素アレイ部100を複数領域に分割した測距処理の実行を概略的に示す図である。図7Bに示されるように、画素アレイ部100を、垂直方向に、ブロック400の高さに応じた領域に分割し、分割した領域毎に測距処理を実行する。以下では、画素アレイ部100をブロック400の高さに応じて垂直方向に分割した各領域を、ブロック400の行、若しくは、単に「行」と呼ぶ。以下、特に記載の無い限り、「行」は、このブロック400の行を示すものとする。
図7Bにおいて、画素アレイ部100の下端の行における測距処理が終了すると(1回目)、その一つ上の行において、ブロック400毎に測距処理が実行される(2回目)。以降同様にして、画素アレイ部100をブロック400単位で水平方向にスキャンして測距処理を行い、この行単位のスキャンを、垂直方向に隣接する行に対して順次実行する。このように、画素アレイ部100の全体に対して、行単位のスキャンを垂直方向に順次実行する方法を、ローリングスキャンと呼ぶ。ローリングスキャンを実行することで、時間当りの消費電力やデータの通信帯域を抑制でき、回路規模を削減することが可能である。
しかしながら、既存技術では、画素アレイ部100の下端の行で測距処理を実行してから上端の行で測距処理を実行するまでの時間を要し、画素アレイ部100全体での測距の同時性が損なわれるおそれがあった。例えば、動体が被測定物の場合や、測距を行う装置そのものが移動体に搭載されているような場合に、高精度の測距情報を取得することが困難となる。
[第1の実施形態]
次に、本開示の第1の実施形態について説明する。本開示の第1の実施形態では、画素アレイ部100に含まれる各画素10に対して、インタレーススキャン方式を適用する。図8は、第1の実施形態に係る測距装置1におけるスキャン方法を説明するための図である。なお、図8は、上述した図7Aに対応するもので、画素アレイ部100は、X画素×Y画素のサイズを有し、図8上の水平方向および垂直方向にそれぞれX個およびY個の、合計で(X×Y)個の画素10が2次元格子状に配列されて構成される。また、図8の例では、画素アレイ部100において、各画素10は、p画素×q画素(例えば5画素×4画素)のブロック400毎に測距が行われる。ブロック400は、ヒストグラム生成の際に受光時間tmの数を加算する加算単位である。
次に、本開示の第1の実施形態について説明する。本開示の第1の実施形態では、画素アレイ部100に含まれる各画素10に対して、インタレーススキャン方式を適用する。図8は、第1の実施形態に係る測距装置1におけるスキャン方法を説明するための図である。なお、図8は、上述した図7Aに対応するもので、画素アレイ部100は、X画素×Y画素のサイズを有し、図8上の水平方向および垂直方向にそれぞれX個およびY個の、合計で(X×Y)個の画素10が2次元格子状に配列されて構成される。また、図8の例では、画素アレイ部100において、各画素10は、p画素×q画素(例えば5画素×4画素)のブロック400毎に測距が行われる。ブロック400は、ヒストグラム生成の際に受光時間tmの数を加算する加算単位である。
また、以下では、特に記載の無い限り、画素アレイ部100に含まれる全ての画素10が、画素信号を読み出す対象である対象領域を構成しているものとする。
第1の実施形態に係る測距装置1は、先ず、図8の左側を参照し、画素アレイ部100の例えば下端の1行(第1行目)をスキャン範囲としてスキャンしてブロック400毎の測距処理を行い、次に、画素アレイ部100の第2行目を飛び越して、第3行目をスキャン範囲としてスキャンしてブロック400毎の測距処理を行う。測距装置1は、以降、同様にして偶数行を飛び越して、奇数行のスキャンを行う。すなわち、測距装置1は、m=1,2,3,…とするとき、第(2m−1)行目のスキャンを順次実行する。この、奇数行のスキャンの開始から終了までの期間を、第1フレーム(Frame)期間とする。
第1フレーム期間における奇数行の測距処理が終了すると、画素アレイ部100の偶数行のスキャンが実行される。具体的には、測距装置1は、図8の右側を参照し、画素アレイ部100の例えば下端から2行目をスキャン範囲としてスキャンしてブロック400毎の測距を行い、次に、画素アレイ部100の第3行目を飛び越して、第4行目をスキャン範囲としてスキャンしてブロック400毎の測距処理を行う。測距装置1は、以降、同様にして奇数行を飛び越して、偶数行のスキャンを行う。すなわち、測距装置1は、m=1,2,3,…とするとき、第(2m)行目のスキャンを順次実行する。この、偶数行のスキャンの開始から終了までの期間を、第2フレーム期間とする。
第1の実施形態では、このように、第1フレーム期間と第2フレーム期間とで、スキャンを行う行が重複しない。これは、換言すれば、第1フレーム期間に読み出される画素10の集合である第1の受光素子群が、第2フレーム期間に読み出される画素10の集合である第2の受光素子群が含む画素10を含まず、且つ、第1の受光素子群と第2の受光素子群の和集合が、画素アレイ部100において測距対象となる対象領域に含まれる全ての画素10からなる受光素子群を含む、ということができる。
図9は、第1の実施形態に係る画素アレイ部100の第1の例の構成を、各画素10に対する配線に注目して示す図である。なお、図9では、説明のため、1行の高さを2画素分(2ライン分)とし、ブロック400を、6画素×2画素(2ライン)のサイズとしている。
図9において、値aを3以上の奇数値とし、下から第(a−2)行、第(a−1)行、第a行とする。この場合、例えば第a行および第(a−2)行が奇数行となり、第(a−1)行が偶数行となる。これらのうち、第a行に注目して、ブロック400に含まれる各画素101、102、103、104、105および106、ならびに、各画素1021、1022、1023、1024、1025および1026を例にとって説明を行う。
第a行におけるブロック400の上段のラインの各画素1011、1012、1013、1014、1015および1016から出力される各パルスVpls11、Vpls12、Vpls13、Vpls14、Vpls15およびVpls16は、各信号線41111、41112、41113、41114、41115および41116を介して、測距処理部101(図示しない)内の変換部110に供給される。
第a行におけるブロック400の下段のラインの各画素1021〜1026についても、上述の各画素1011〜1016と同様である。すなわち、各画素1021〜1026から出力される各パルスVpls21〜Vpls26は、それぞれ各信号線41121〜41126を介して変換部110に入力される。
変換部110は、各信号線41111〜41116、および、各信号線41121〜41126から各パルスVpls11〜Vpls16、および、各パルスVpls21〜Vpls26が供給された時間に対応する各デジタル値を出力する。
一方、各行に対して、垂直方向(列方向)に、制御線4101および4102が設けられる。制御線4101は、例えば奇数行(図9の例では第a行および第(a−2)行)のブロック400における各画素1011〜1016および各画素1021〜1026に接続される。また、制御線4102は、例えば偶数行(図9の例では第(a−1)行)のブロック400における各画素1011〜1016および各画素1021〜1026に接続される。
制御線4101および4102は、それぞれ、接続される各画素1011〜1016および各画素1021〜1026における計測動作を制御するための制御信号が伝送される。例えば、この制御信号として、スイッチ1104(図6参照)のオン、オフを制御するための制御信号SH_ONを用いることができる。図9の例では、制御信号SH_ON1が、制御線4101を介して、奇数行のブロック400における各画素1011〜1016および各画素1021〜1026に供給される。また、制御信号SH_ON2が、制御線4102を介して、偶数行のブロック400における各画素1011〜1016および各画素1021〜1026に供給される。
制御信号SH_ON1およびSH_ON2は、例えば全体制御部103の指示に応じて、画素制御部102により生成され、画素アレイ部100に供給される(図4参照)。画素制御部102は、スイッチ1104を第1期間でオン、第2期間でオフとする制御信号SH_ON1を制御線4101に対して出力する。また、画素制御部102は、スイッチ1104を当該第1期間でオフ、第2期間でオンとする制御信号SH_ON2を、制御線4102に対して出力する。これにより、当該第1期間および第2期間を、それぞれ図8を用いて説明した、第1フレーム期間および第2フレーム期間とした、インタレーススキャンが可能となる。
図10は、第1の実施形態に係る、第2の例による画素アレイ部100’の構成例を、各画素10に対する配線に注目して示す図である。なお、図10では、説明のため、上述した図9と同様に、1行の高さを2画素分とし、ブロック400を、6画素×2画素(2ライン)のサイズとしている。上述した図9の構成では、画素アレイ部100において、水平方向に整列する各画素10に対して信号線41111、41112、…を設けることになり、配線数が非常に多くなり、大きな配線面積が必要になる。
これに対して、図10に示される構成では、ライン上の所定数の画素10毎に、信号線41111〜41116、および、信号線41121〜41126を共有する。
具体的には、同じ行で隣接するブロック400、400、…において、画素1016、画素1016’、…からそれぞれ出力されるパルスVpls16、Vpls16’、…が、信号線41116を共有して変換部110に供給される。当該ブロック400、400、…において、画素1015、1015’、…からそれぞれ出力されるパルスVpls15、Vpls15’、…が、信号線41115を共有して変換部110に供給される。また、画素1014、1014’、…からそれぞれ出力されるパルスVpls14、Vpls14’、…が、信号線41114を共有して変換部110に供給される。信号線41113〜41111についても同様に、同じ行で隣接するブロック400、400、…において、それぞれ対応する画素10で共有する。
同様に、ブロック400、400、…において、画素1026、画素1026’、…からそれぞれ出力されるパルスVpls26、Vpls26’、…が、信号線41126を共有して変換部110に供給される。当該ブロック400、400、…において、画素1025、1025’、…からそれぞれ出力されるパルスVpls25、Vpls25’、…が、信号線41125を共有して変換部110に供給される。また、当該ブロック400、400、…において、画素1024、1024’、…からそれぞれ出力されるパルスVpls24、Vpls14’、…が、信号線41124を共有して変換部110に供給される。信号線41123〜41121についても同様に、同じ行で隣接するブロック400、400、…において、それぞれ対応する画素10で共有する。
このように、パルスVplsを伝送するための信号線を複数の画素10で共有することで、当該信号線のための配線数を削減し、配線面積を抑制することが可能である。
この第2の例において、パルスVplsを伝送するための信号線を共有する複数の画素10から同時にパルスVplsが出力された場合に、このパルスVplsが当該複数の画素10のうち何れの画素10から出力されたか、を判別することができない。一例として、図10を参照し、第(a−2)行において、信号線411Cから変換部110に対してパルスVplsが供給された場合、このパルスVplsが、当該信号線411Cを共有する画素10Aおよび10B(それぞれ斜線を付して示す)の何れから出力されたかを特定することは、極めて困難である。
これは、例えば、光源部2により発光された光を、水平方向にスキャンすることで、解決できる。図11は、第1の実施形態に適用可能な、光源部2の光の水平方向へのスキャンを説明するための図である。
図11の左側に、当該スキャンを行うための構成例を示す。例えばレーザダイオードである光源430が所定の発光タイミングで発光され、レーザ光が射出される。光源430から射出されたレーザ光は、集光レンズ431で集光され、偏光ビームスプリッタ432で反射されて、マイクロミラー433に照射される。マイクロミラー433は、例えばMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)を適用することができ、照射された光が反射する反射光の方向を、外部からの制御に従い所定の角度範囲で変更することができる。
マイクロミラー433から反射光として射出されたレーザ光の一部は、被測定物434により反射され、その反射光がマイクロミラー433に照射される。マイクロミラー433に照射された、被測定物434からの反射光は、マイクロミラー433により反射され、受光レンズ435を介して画素アレイ部100’に照射される。
ここで、光源430から照射され、マイクロミラー433で反射されたレーザ光を、例えば垂直方向にスリットが設けられたアパチャーなどを用いて、水平方向に狭く、垂直方向に長い形状とされた光として被測定物434に向けて照射する。さらに、マイクロミラー433を駆動して、当該光を水平方向にスキャンする。これにより、光源430から射出されたレーザ光が被測定物434により反射された反射光が、画素アレイ部100’において、水平方向に所定幅を持ち、垂直方向に長い領域436に限定して受光される。
図11の右側の例では、領域436に画素10Bが含まれ、画素10Aは、領域436外となっている。したがって、マイクロミラー433の水平方向スキャンのための駆動と、パルスVplsに対する測距処理部101における処理と、を同期させることで、信号線411Cを介して測距処理部101に供給されたパルスVplsが画素10Bから出力された信号であると特定することができる。
(第1の実施形態に係る画素アレイ部における各行のスキャンの具体例)
図12は、第1の実施形態に係る、画素アレイ部100における各行のスキャンをより具体的に説明するための図である。なお、図12において、説明のため、1行の高さを2画素分(2ライン分)としている。また、ここでは、図9を用いて説明した画素アレイ部100の構成を適用するものとする。
図12は、第1の実施形態に係る、画素アレイ部100における各行のスキャンをより具体的に説明するための図である。なお、図12において、説明のため、1行の高さを2画素分(2ライン分)としている。また、ここでは、図9を用いて説明した画素アレイ部100の構成を適用するものとする。
測距装置1において、例えば全体制御部103は、画素アレイ部100に対して、光の検出を行う対象の領域である対象領域441を設定する。図12の例では、対象領域441の幅は、画素アレイ部100の水平方向の幅に対応し、値nを所定の自然数とするとき、2nライン分(2n画素分)の高さを有するものとする。また、対象領域441の下端が、画素アレイ部100の下端に対して2画素分高い位置とされ、上端が、画素アレイ部100の上端に対して2画素分低い位置とされている。
測距装置1において、画素制御部102は、全体制御部103の指示に従い、図12の左側に示す第1フレーム期間において、第1行目のスキャンが対象領域441の下端から開始され、以降、1行毎に飛び越しながら、第3行目、第5行目、…と奇数行の各行をスキャンする。
より具体的な例として、画素制御部102は、全体制御部103の指示に従い、制御信号SH_ON1を、スイッチ1104(図6参照)をオンとする状態(オン状態)とし、制御信号SH_ON2を、スイッチ1104をオフとする状態(オフ状態)とする。さらに、変換部110は、全体制御部103の指示に従い、読み出し対象とされる行の信号線41111〜41116、41121〜41126を選択し、選択した各信号線41111〜41116、41121〜41126から供給されるパルスVpls11〜Vpls16、Vpls21〜Vpls26に対する処理を行う。
画素制御部102は、各行のスキャンにおいて、スキャンした行が対象領域441の上端を含む、あるいは、当該行が対象領域441の上端に掛かる、か否かを監視する。図12の例では、第1フレーム期間において、第(2n−1)行目をスキャンし、次に、1行分飛び越えた第(2n+1)行目のスキャンを実行した際に、当該第(2n+1)行が対象領域441の上端を含んでいる。この場合、画素制御部102は、第1フレーム期間におけるスキャンが終了したと判定し、処理を、第2フレーム期間のスキャンに移行する。
画素制御部102は、第1フレーム期間から第2フレーム期間に移行した場合に、第2フレーム期間におけるスキャンの開始位置に、1行の高さ分、すなわち2画素分のオフセット443を付加する。したがって、第2フレーム期間では、第1行目を飛び越して、第2行目からスキャンが開始される。以降、1行毎に飛び越しながら、第4行目、第6行目、…と偶数行の各行をスキャンする。
画素制御部102は、第1フレーム期間と同様に、各行のスキャンにおいて、スキャンした行が対象領域441の上端を含む、あるいは、当該行が対象領域441の上端に掛かる、か否かを監視する。図12の例では、画素制御部102は、第2n行目のスキャンを実行した際に、当該第2n行が対象領域441の上端に掛かったと判定し、第2フレーム期間におけるスキャンが終了したと判定する。画素制御部102は、第2フレーム期間におけるスキャンが終了したと判定すると、処理を第1フレーム期間のスキャンに移行する。画素制御部102は、第2フレーム期間から第1フレーム期間への以降の際には、スキャン開始位置に対するオフセットの付加を行わない。
測距装置1は、上述のようにして、第1フレーム期間における奇数行のスキャンと、第2フレーム期間における偶数行のスキャンとを繰り返して、測距を行う。ここで、第1フレーム期間および第2フレーム期間それぞれにおけるスキャンは、画素アレイ部100に含まれる画素10の全てを連続的にスキャンする場合に比べて、半分の時間で実行することが可能である。
(第1の実施形態に適用可能なデータ処理)
次に、上述した図8を参照しながら、第1の実施形態に係るデータ処理について説明する。画素アレイ部100において、第1フレーム期間において奇数行のスキャンを行い、第2フレーム期間において偶数行のスキャンを行うインタレーススキャンを適用することで、例えば以下に示す3種類のデータ処理を実現できる。
次に、上述した図8を参照しながら、第1の実施形態に係るデータ処理について説明する。画素アレイ部100において、第1フレーム期間において奇数行のスキャンを行い、第2フレーム期間において偶数行のスキャンを行うインタレーススキャンを適用することで、例えば以下に示す3種類のデータ処理を実現できる。
なお、以下では、上述した対象領域441が画素アレイ部100に含まれる全ての画素10を含むものとする。
第1の処理として、第1フレーム期間の測距結果と、第2フレーム期間の測距結果と、のうち、何れか一方の測距結果を用いる処理が可能である。例えば、先にスキャンが行われる第1フレーム期間の測距結果を用いることで、画素アレイ部100に含まれる全ての画素10の出力に基づく測距結果を用いる場合に比べて、高速(例えば半分の時間)で測距が可能となる。
この場合、測距に用いる画素10の数が、画素アレイ部100に含まれる全ての画素10の出力に基づく測距結果を用いる場合に比べて半分となるため、精度の点では不利である一方、全体の様子を高速に把握することが可能である。また、これにより、高速に移動する被測定物の測距も容易となる。
第2の処理として、第1フレーム期間の測距結果と、第2フレーム期間の測距結果との差分を求める処理が可能である。例えば、第1フレーム期間における各行の測距結果と、第2フレーム期間における各行の測距結果とにおいて、隣接する行の測距結果の差分を求める。差分は、例えば、それぞれのヒストグラムにおいて対応する各ビンにおける頻度の差分を適用できる。
図8の例では、例えば、第1フレーム期間における第1行目の測距結果と、第2フレーム期間における第2行目の測距結果との差分を求める。また、第2フレーム期間における第2行目の測距結果と、第1フレーム期間における第3行目の測距結果との差分を求める。さらに、第1フレーム期間における第3行目の測距結果と、第2フレーム期間における第4行目の測距結果との差分を求める。以下同様にして、第1フレーム期間と第2フレーム期間とで隣接する行の測距結果の差分を順次求めていく。
第1フレーム期間および第2フレーム期間は、それぞれ、画素アレイ部100に含まれる全ての画素10をスキャンする場合に比べて半分の時間となる。そのため、第2の処理によれば、より高速に移動する被測定物の測距が容易となる。
第3の処理として、第1フレーム期間の測距結果と第2フレーム期間の測距結果との和を求める処理が可能である。この場合、和は、第1フレーム期間の測距処理により得られた、奇数行に含まれる各画素10の出力に基づく距離情報と、第2フレームの測距処理により得られた、偶数行に含まれる各画素10の出力に基づく距離情報と、の和集合を求める処理となる。この和集合により、画素アレイ部100に含まれる全ての画素10に出力に基づく距離情報を取得することができる。したがって、上述した第1の処理における測距結果と比較してより高精度な測距結果を得ることが可能である。
さらに、以上の第1の処理、第2の処理および第3の処理は、画素アレイ部100における各行のスキャンに係る共通の制御で実行することができる。
(第1の実施形態の第1の変形例)
次に、第1の実施形態の第1の変形例について説明する。第1の実施形態の第1の変形例では、光源部2から射出されるレーザ光の照射範囲と、画素アレイ部100における行単位のスキャンの範囲とを同期させる例である。
次に、第1の実施形態の第1の変形例について説明する。第1の実施形態の第1の変形例では、光源部2から射出されるレーザ光の照射範囲と、画素アレイ部100における行単位のスキャンの範囲とを同期させる例である。
例えば、画素アレイ部100に含まれる全ての画素10を受光対象とした場合の、光源部2によるレーザ光の照射範囲を、全照射範囲とする。図8を参照し、画素アレイ部100において例えば第1フレーム期間における第1行目をスキャンする場合、光源部2のレーザ光の照射範囲を、全照射範囲における下端側の、当該第1行目に対応する範囲に絞る。同様に、画素アレイ部100において第3行目をスキャンする場合、光源部2のレーザ光の照射範囲を、全照射範囲における中央部分の、当該第3行目に対応する範囲に絞る。
光源部2がレーザ光の照射範囲を絞るための構成としては、図11を用いて説明した、マイクロミラー433を用いた構成を適用できる。図11では、水平方向に狭く、垂直方向に長い形状とされたレーザ光を照射する構成となっている。この図11により照射されるレーザ光の形状を、例えばアパチャーの向きを変えるなどにより90°回転させ、垂直方向に狭く、水平方向に長い形状とする。
このように、光源部2のレーザ光の照射範囲を、画素アレイ部100における行単位のスキャンに応じて絞ることで、被測定物に照射されるレーザ光の強度を上げることができる。
第1の実施形態の第1の変形例によれば、光源部2から射出されるレーザ光に対するアイセーフ(eye-safe)の効果が期待できる。図13Aおよび図13Bを用いて、第1の実施形態の第1の変形例に係るアイセーフの効果について説明する。
図13Aは、既存技術による、ローリングスキャンに対して、光源部2から射出されるレーザ光の照射範囲と、画素アレイ部100における行単位のスキャンの範囲とを同期させた場合の例を模式的に示す図である。ローリングスキャンの場合、画素アレイ部100において、それぞれ隣接する第1行目、第2行目、…が、順次にスキャンされる。この画素アレイ部100における第1行目、第2行目、…のスキャンと同期して、光源部2によるレーザ光の照射範囲を制御する。
ここで、顔が被測定物である場合について考える。図13Aにおいて、被測定物としての顔500を、画素アレイ部100に対応させて、模式的に示している。この例では、第1行目のスキャンにおいて顔500の下端が検出され、以降、第2行目、第3行目、…と、顔500の全体が検出される様子が示されている。実際の顔500には、これら第1行目、第2行目、…に対応する範囲で、光源部2から照射されたレーザ光が照射されることになる。
顔500において、眼501Rおよび501Lに対するレーザ光の照射は、できるだけ避けるべきである。しかしながら、図13Aの例では、眼501Rおよび501Lが第3行目および第4行目に跨っており、第3行目のスキャンと、第4行のスキャンと、において、光源部2からのレーザ光が眼501Rおよび501Lに照射されることになる。
図13Bは、本開示に係るインタレーススキャンに対して、光源部2から射出されるレーザ光の照射範囲と、画素アレイ部100における行単位のスキャンの範囲とを同期させた場合の例を模式的に示す図である。図13Bでは、奇数行のスキャンを行う第1フレーム期間の例が示されている。インタレーススキャンでは、1つのフレーム期間内においては、ある行のスキャンが終了すると、次のスキャンは、次の行を飛び越して実行される。
図13Bの例では、第3行目のスキャンの後、第4行目を飛び越して第5行目のスキャンが行われる。したがって、光源部2からのレーザ光は、第3行目のスキャン時に、当該第3行目に対応する範囲で眼501Rおよび501Lに照射されるが、第4行目に相当する範囲には照射されない。そのため、ローリングスキャンの場合と比べて、眼501Rおよび501Lにレーザ光が照射される時間が短縮され、眼501Rおよび501Lに対する負担が減り、アイセーフの効果が期待できる。
第1の実施形態の第1の変形例によれば、さらに、画素アレイ部100においてスキャンする行を切り替える際の、隣接行に入射される反射光の影響を抑制することが可能である。図14Aおよび図14Bを用いて、第1の実施形態の第1の変形例に係る、隣接行に入射される反射光の影響の抑制について説明する。
図14Aは、既存技術による、ローリングスキャンに対して、光源部2から射出されるレーザ光の照射範囲と、画素アレイ部100における行単位のスキャンの範囲とを同期させた場合の例を模式的に示す図である。ローリングスキャンの場合、画素アレイ部100において、それぞれ隣接する第1行目、第2行目、…が、順次にスキャンされる。この画素アレイ部100における第1行目、第2行目、…のスキャンと同期して、光源部2によるレーザ光の照射範囲を制御する。
ところで、ある行のスキャンにおける被測定物からの反射光が、隣接行に影響を与える場合がある。図14Aの例では、例えば第3行目のスキャンにおける、被測定物からの反射光が、隣接行である第2行目に影響を与える様子が模式的に示されている。第2行目に対するスキャンが終了し、スキャンを行う行が第2行目から第3行目に切り替わる。スキャン行の切り替えと共に、被測定物からの反射光の照射範囲が、第2行目に対応する範囲から、第3行目に対応する範囲に移動する。反射光は、第3行目の範囲に対してやや広めの範囲に照射されることになる。
この、第3行目の範囲に対してはみ出た反射光442aおよび442bのうち、第2行目に掛かる反射光442bが、第2行目の上端側の各画素10に入射される可能性がある。
例えば、この時点でスキャン対象ではない、第2行目の上端側の各画素10が、各画素10に供給される電源電圧VDDの電源を遮断するのではなく、例えば図6に示したように、画素10に含まれる受光素子1000の出力をマスクする構成になっているものとする。この場合、第2行目の上端側の各画素10において、各受光素子1000自体は稼働状態となっており、反射光442bが入射されると、第2行目に含まれる他の画素10(受光素子1000)に対して反応回数が増加し、熱が発生する可能性がある。
これとは逆に、スキャンが第2行目のスキャンから第3行目のスキャンに切り替わった後に、第2行目のスキャン時に照射されたレーザ光による、より遠方からの反射光のうち、第2行目の範囲からはみ出た光が、第3行目の下端側の各画素10に入射される場合も考えられる。この場合には、第3行目の測距処理の結果が第2行目の処理の際の反射光の影響を受け、正しい結果が得られない可能性がある。
図14Bは、本開示に係るインタレーススキャンに対して、光源部2から射出されるレーザ光の照射範囲と、画素アレイ部100における行単位のスキャンの範囲とを同期させた場合の例を模式的に示す図である。図14Bでは、奇数行のスキャンを行う第1フレーム期間の例が示されている。
インタレーススキャンでは、1つのフレーム期間内においては、ある行のスキャンが終了すると、次のスキャンは、次の行を飛び越して実行される。例えば、第1フレーム期間において、第3行目の前後の行(第2行目および第4行目)は、測距処理が実行されない。したがって、第3行目の範囲に対してはみ出た反射光442aおよび442bが、当該各行の各画素10に入射された場合であっても、測距結果への影響は現れない。
(第1の実施形態の第2の変形例)
次に、第1の実施形態の第2の変形例について説明する。第1の実施形態の第2の変形例は、スキャンを行う行の高さと、インタレーススキャンによる飛び越し量と、をそれぞれ可変とする例である。
次に、第1の実施形態の第2の変形例について説明する。第1の実施形態の第2の変形例は、スキャンを行う行の高さと、インタレーススキャンによる飛び越し量と、をそれぞれ可変とする例である。
図15Aは、第1の実施形態の第2の変形例に係る、スキャンを行う行の高さを可変とする例を模式的に示す図である。図8を参照し、変更前の行の高さを4画素分とし、図15Aの例では、第u行目の高さが、4画素分から6画素分に変更されている。ブロック400の幅が高さの変更前と変わらないとした場合、行の高さが高くなった分、ヒストグラム生成の際に受光時間tmの数が加算される画素10の数が多くなる。これにより、行の高さ変更後の第u行目の測距結果を、より高精度とすることができる。
図15Bは、第1の実施形態の第2の変形例に係る、インタレーススキャンによる飛び越し量を可変とする例を模試的に示す図である。図8を参照し、変更前の飛び越し量を4画素分とし、図15Bの例では、第v行目から第(v+2)行目に飛び越す際の飛び越し量が6画素分に変更されている。
第1の実施形態の第2の変形例に係る測距装置1は、上述したスキャンを行う行の高さと、インタレーススキャンによる飛び越し量と、をそれぞれ独立して設定可能とされる。一例として、列方向に整列する各画素10に対して、制御信号SH_ONを個別に供給し、画素制御部102は、全体制御部103の指示に従い、各制御信号SH_ONをそれぞれオン、オフの状態に制御する。画素制御部102は、スキャンを実行する行に含まれる画素10に対して、オンを指示する制御信号SH_ONを供給し、飛び越す行に含まれる画素10に対して、オフを指示する制御信号SH_ONを供給する。
このように、スキャンを行う行の高さと、インタレーススキャンによる飛び越し量と、をそれぞれ独立して設定可能とすることで、測距装置1における測距処理の速度や精度を調整することが可能となる。また、この速度や精度の調整を能動的に実行することが可能となる。例えば、測距処理の速度や精度を調整することを、測距結果に応じて変更することが考えられる。
(第1の実施形態の第3の変形例)
次に、第1の実施形態の第3の変形例について説明する。上述した第1の実施形態では、第1フレーム期間と第2フレーム期間とで、スキャンを実行する行を重複させない。これに対して、第1の実施形態の第3の変形例は、第1フレーム期間と第2フレーム期間とで、スキャンを実行する範囲を重複させる例である。
次に、第1の実施形態の第3の変形例について説明する。上述した第1の実施形態では、第1フレーム期間と第2フレーム期間とで、スキャンを実行する行を重複させない。これに対して、第1の実施形態の第3の変形例は、第1フレーム期間と第2フレーム期間とで、スキャンを実行する範囲を重複させる例である。
図16は、第1の実施形態の第3の変形例に係るスキャン方法を説明するための図である。第1の実施形態の第3の変形例では、同一フレーム期間において、スキャンを実行した行と、次にスキャンを実行する行とが隣接するように、スキャンを実行する行の高さと、インタレーススキャンによる飛び越し量と、を設定する。図16の例では、スキャンを実行する行の高さを8画素分とし、飛び越し量を0画素分としている。この場合、第1フレーム期間では、第1行目と第3行目とが隣接し、第2フレーム期間では、第2行目と第4行目とが隣接することになる。
また、第1フレーム期間と、第2フレーム期間とで、連続してスキャンを実行する2つの行のうち一方の行は、少なくとも一部が他方の行に含まれないように設定される。図16の例では、第2フレーム期間は、第1フレーム期間に対して4画素分のオフセットを付加されて、スキャンが開始される。
上述したように、各行の高さおよび飛び越し量と、第2フレーム期間に対するオフセット量とを設定することで、第2フレーム期間においてスキャンが実行される第2行目および第4行目と、第1フレーム期間においてスキャンが実行される第1行目および第3行目と、に重複部分447が発生する。
このとき、図16の例では、第1フレーム期間においては、第1行目の下半分が第2フレーム期間におけるスキャン範囲と重複せず、第2フレーム期間においては、第4行目の上半分が第1フレーム期間におけるスキャン範囲と重複しない。また、第1フレーム期間におけるスキャン範囲に含まれる各画素10と、第2フレーム期間におけるスキャン範囲に含まれる各画素10と、の和集合が、画素アレイ部100に含まれる全ての画素10を含むように、第1フレーム期間および第2フレーム期間における各行のスキャンが実行される。
これは、換言すれば、第1フレーム期間に読み出される画素10の集合である第1の受光素子群の一部が、第2フレーム期間に読み出される画素10の集合である第2の受光素子群が含む画素10を含まず、且つ、第1の受光素子群と第2の受光素子群の和集合が画素アレイ部100の対象領域に含まれる全ての画素10からなる受光素子群を含む、ということができる。
重複部分447は、第1フレーム期間と第2フレーム期間とでスキャン範囲が重複しない場合に比べて、ヒストグラム生成の際に受光時間tmの数が加算される画素10の数が多くなる。これにより、測距結果をより高精度とすることができる。また、受光時間tmの加算数が多くなることで、生成されたヒストグラムに対するノイズ除去や、第1フレーム期間と第2フレーム期間との間の時間差分の精度を向上させることが可能である。
一例として、この第1の実施形態の第3の変形例に係る測距装置1によるスキャンの制御は、図9を用いて説明した制御信号SH_ON1およびSH_ON2の制御により可能である。第1の実施形態の第3の変形例の場合、第1フレーム期間と第2フレーム期間とで重複する重複部分447に含まれる画素10に対して、例えば、制御信号SH_ON1およびSH_ON2をそれぞれ供給する。図6の例では、制御信号SH_ON1およびSH_ON2それぞれにより、スイッチ1104のオン、オフを制御する。
例えば、第1フレーム期間でのスキャンを行う場合には、制御信号SH_ON1をオン状態、制御信号SH_ON2をオフ状態とする。また、第2フレーム期間でのスキャンを行う場合には、制御信号SH_ON1をオフ状態、制御信号SH_ON2をオン状態とする。
(第1の実施形態の第4の変形例)
次に、第1の実施形態の第4の変形例について説明する。上述した第1の実施形態では、画素アレイ部100におけるスキャンを、奇数行に対するスキャンを行う第1フレーム期間と、偶数行に対するスキャンを行う第2フレーム期間と、に分けてインタレーススキャンを行っている。第1の実施形態では、このインタレーススキャンの際に、第1フレーム期間におけるスキャンを実行した後に、第2フレーム期間におけるスキャンを実行している。これはこの例に限定されず、第2フレーム期間におけるスキャンを実行した後に、第1フレーム期間におけるスキャンを実行してもよい。
次に、第1の実施形態の第4の変形例について説明する。上述した第1の実施形態では、画素アレイ部100におけるスキャンを、奇数行に対するスキャンを行う第1フレーム期間と、偶数行に対するスキャンを行う第2フレーム期間と、に分けてインタレーススキャンを行っている。第1の実施形態では、このインタレーススキャンの際に、第1フレーム期間におけるスキャンを実行した後に、第2フレーム期間におけるスキャンを実行している。これはこの例に限定されず、第2フレーム期間におけるスキャンを実行した後に、第1フレーム期間におけるスキャンを実行してもよい。
また、上述した第1の実施形態では、奇数行に対するスキャンを行う第1フレーム期間と、偶数行に対するスキャンを行う第2フレーム期間と、の2つの期間に分けてインタレーススキャンを行っているが、これはこの例に限定されない。例えば、m=1,2,3,…とするとき、(3m−2)行のスキャンを実行するフレーム期間と、(3m−1)行のスキャンを実行するフレーム期間と、3m行のスキャンを実行するフレーム期間と、の3つの期間に分けてインタレーススキャンを実行してもよい。さらに、4つ以上の期間に分けてインタレーススキャンを実行する事も考えられる。
[第2の実施形態]
次に、本開示の第2の実施形態として、本開示の第1の実施形態およびその各変形例の適用例について説明する。図17は、第2の実施形態による、上述の第1の実施形態およびその各変形例に係る測距装置1を使用する使用例を示す図である。
次に、本開示の第2の実施形態として、本開示の第1の実施形態およびその各変形例の適用例について説明する。図17は、第2の実施形態による、上述の第1の実施形態およびその各変形例に係る測距装置1を使用する使用例を示す図である。
上述した測距装置1は、例えば、以下のように、可視光や、赤外光、紫外光、X線等の光をセンシングする様々なケースに使用することができる。
・ディジタルカメラや、カメラ機能付きの携帯機器等の、鑑賞の用に供される画像を撮影する装置。
・自動停止等の安全運転や、運転者の状態の認識等のために、自動車の前方や後方、周囲、車内等を撮影する車載用センサ、走行車両や道路を監視する監視カメラ、車両間等の測距を行う測距センサ等の、交通の用に供される装置。
・ユーザのジェスチャを撮影して、そのジェスチャに従った機器操作を行うために、TVや、冷蔵庫、エアーコンディショナ等の家電に供される装置。
・内視鏡や、赤外光の受光による血管撮影を行う装置等の、医療やヘルスケアの用に供される装置。
・防犯用途の監視カメラや、人物認証用途のカメラ等の、セキュリティの用に供される装置。
・肌を撮影する肌測定器や、頭皮を撮影するマイクロスコープ等の、美容の用に供される装置。
・スポーツ用途等向けのアクションカメラやウェアラブルカメラ等の、スポーツの用に供される装置。
・畑や作物の状態を監視するためのカメラ等の、農業の用に供される装置。
・自動停止等の安全運転や、運転者の状態の認識等のために、自動車の前方や後方、周囲、車内等を撮影する車載用センサ、走行車両や道路を監視する監視カメラ、車両間等の測距を行う測距センサ等の、交通の用に供される装置。
・ユーザのジェスチャを撮影して、そのジェスチャに従った機器操作を行うために、TVや、冷蔵庫、エアーコンディショナ等の家電に供される装置。
・内視鏡や、赤外光の受光による血管撮影を行う装置等の、医療やヘルスケアの用に供される装置。
・防犯用途の監視カメラや、人物認証用途のカメラ等の、セキュリティの用に供される装置。
・肌を撮影する肌測定器や、頭皮を撮影するマイクロスコープ等の、美容の用に供される装置。
・スポーツ用途等向けのアクションカメラやウェアラブルカメラ等の、スポーツの用に供される装置。
・畑や作物の状態を監視するためのカメラ等の、農業の用に供される装置。
[本開示に係る技術のさらなる適用例]
(移動体への適用例)
本開示に係る技術は、さらに、自動車、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボットといった各種の移動体に搭載される装置に対して適用されてもよい。
(移動体への適用例)
本開示に係る技術は、さらに、自動車、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボットといった各種の移動体に搭載される装置に対して適用されてもよい。
図18は、本開示に係る技術が適用され得る移動体制御システムの一例である車両制御システムの概略的な構成例を示すブロック図である。
車両制御システム12000は、通信ネットワーク12001を介して接続された複数の電子制御ユニットを備える。図18に示した例では、車両制御システム12000は、駆動系制御ユニット12010、ボディ系制御ユニット12020、車外情報検出ユニット12030、車内情報検出ユニット12040、および統合制御ユニット12050を備える。また、統合制御ユニット12050の機能構成として、マイクロコンピュータ12051、音声画像出力部12052、および車載ネットワークI/F(インタフェース)12053が図示されている。
駆動系制御ユニット12010は、各種プログラムにしたがって車両の駆動系に関連する装置の動作を制御する。例えば、駆動系制御ユニット12010は、内燃機関又は駆動用モータ等の車両の駆動力を発生させるための駆動力発生装置、駆動力を車輪に伝達するための駆動力伝達機構、車両の舵角を調節するステアリング機構、および、車両の制動力を発生させる制動装置等の制御装置として機能する。
ボディ系制御ユニット12020は、各種プログラムにしたがって車体に装備された各種装置の動作を制御する。例えば、ボディ系制御ユニット12020は、キーレスエントリシステム、スマートキーシステム、パワーウィンドウ装置、あるいは、ヘッドランプ、バックランプ、ブレーキランプ、ウィンカー又はフォグランプ等の各種ランプの制御装置として機能する。この場合、ボディ系制御ユニット12020には、鍵を代替する携帯機から発信される電波又は各種スイッチの信号が入力され得る。ボディ系制御ユニット12020は、これらの電波又は信号の入力を受け付け、車両のドアロック装置、パワーウィンドウ装置、ランプ等を制御する。
車外情報検出ユニット12030は、車両制御システム12000を搭載した車両の外部の情報を検出する。例えば、車外情報検出ユニット12030には、撮像部12031が接続される。車外情報検出ユニット12030は、撮像部12031に車外の画像を撮像させるとともに、撮像された画像を受信する。車外情報検出ユニット12030は、受信した画像に基づいて、人、車、障害物、標識又は路面上の文字等の物体検出処理又は距離検出処理を行ってもよい。車外情報検出ユニット12030は、例えば、受信した画像に対して画像処理を施し、画像処理の結果に基づき物体検出処理や距離検出処理を行う。
撮像部12031は、光を受光し、その光の受光量に応じた電気信号を出力する光センサである。撮像部12031は、電気信号を画像として出力することもできるし、測距の情報として出力することもできる。また、撮像部12031が受光する光は、可視光であっても良いし、赤外線等の非可視光であっても良い。
車内情報検出ユニット12040は、車内の情報を検出する。車内情報検出ユニット12040には、例えば、運転者の状態を検出する運転者状態検出部12041が接続される。運転者状態検出部12041は、例えば運転者を撮像するカメラを含み、車内情報検出ユニット12040は、運転者状態検出部12041から入力される検出情報に基づいて、運転者の疲労度合い又は集中度合いを算出してもよいし、運転者が居眠りをしていないかを判別してもよい。
マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車内外の情報に基づいて、駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置の制御目標値を演算し、駆動系制御ユニット12010に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両の衝突回避あるいは衝撃緩和、車間距離に基づく追従走行、車速維持走行、車両の衝突警告、又は車両のレーン逸脱警告等を含むADAS(Advanced Driver Assistance System)の機能実現を目的とした協調制御を行うことができる。
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車両の周囲の情報に基づいて駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置等を制御することにより、運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で取得される車外の情報に基づいて、ボディ系制御ユニット12020に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で検知した先行車又は対向車の位置に応じてヘッドランプを制御し、ハイビームをロービームに切り替える等の防眩を図ることを目的とした協調制御を行うことができる。
音声画像出力部12052は、車両の搭乗者又は車外に対して、視覚的又は聴覚的に情報を通知することが可能な出力装置へ音声および画像のうちの少なくとも一方の出力信号を送信する。図18の例では、出力装置として、オーディオスピーカ12061、表示部12062およびインストルメントパネル12063が例示されている。表示部12062は、例えば、オンボードディスプレイおよびヘッドアップディスプレイの少なくとも一つを含んでいてもよい。
図19は、撮像部12031の設置位置の例を示す図である。図19では、車両12100は、撮像部12031として、撮像部12101、12102、12103、12104および12105を有する。
撮像部12101、12102、12103、12104および12105は、例えば、車両12100のフロントノーズ、サイドミラー、リアバンパ、バックドアおよび車室内のフロントガラスの上部等の位置に設けられる。フロントノーズに備えられる撮像部12101および車室内のフロントガラスの上部に備えられる撮像部12105は、主として車両12100の前方の画像を取得する。サイドミラーに備えられる撮像部12102、12103は、主として車両12100の側方の画像を取得する。リアバンパ又はバックドアに備えられる撮像部12104は、主として車両12100の後方の画像を取得する。撮像部12101および12105で取得される前方の画像は、主として先行車両又は、歩行者、障害物、信号機、交通標識又は車線等の検出に用いられる。
なお、図19には、撮像部12101〜12104の撮影範囲の一例が示されている。撮像範囲12111は、フロントノーズに設けられた撮像部12101の撮像範囲を示し、撮像範囲12112および12113は、それぞれサイドミラーに設けられた撮像部12102および12103の撮像範囲を示し、撮像範囲12114は、リアバンパ又はバックドアに設けられた撮像部12104の撮像範囲を示す。例えば、撮像部12101〜12104で撮像された画像データが重ね合わせられることにより、車両12100を上方から見た俯瞰画像が得られる。
撮像部12101〜12104の少なくとも1つは、距離情報を取得する機能を有していてもよい。例えば、撮像部12101〜12104の少なくとも1つは、複数の撮像素子からなるステレオカメラであってもよいし、位相差検出用の画素を有する撮像素子であってもよい。
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101〜12104から得られた距離情報を基に、撮像範囲12111〜12114内における各立体物までの距離と、この距離の時間的変化(車両12100に対する相対速度)を求めることにより、特に車両12100の進行路上にある最も近い立体物で、車両12100と略同じ方向に所定の速度(例えば、0km/h以上)で走行する立体物を先行車として抽出することができる。さらに、マイクロコンピュータ12051は、先行車の手前に予め確保すべき車間距離を設定し、自動ブレーキ制御(追従停止制御も含む)や自動加速制御(追従発進制御も含む)等を行うことができる。このように運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101〜12104から得られた距離情報を元に、立体物に関する立体物データを、2輪車、普通車両、大型車両、歩行者、電柱等その他の立体物に分類して抽出し、障害物の自動回避に用いることができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両12100の周辺の障害物を、車両12100のドライバが視認可能な障害物と視認困難な障害物とに識別する。そして、マイクロコンピュータ12051は、各障害物との衝突の危険度を示す衝突リスクを判断し、衝突リスクが設定値以上で衝突可能性がある状況であるときには、オーディオスピーカ12061や表示部12062を介してドライバに警報を出力することや、駆動系制御ユニット12010を介して強制減速や回避操舵を行うことで、衝突回避のための運転支援を行うことができる。
撮像部12101〜12104の少なくとも1つは、赤外線を検出する赤外線カメラであってもよい。例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101〜12104の撮像画像中に歩行者が存在するか否かを判定することで歩行者を認識することができる。かかる歩行者の認識は、例えば赤外線カメラとしての撮像部12101〜12104の撮像画像における特徴点を抽出する手順と、物体の輪郭を示す一連の特徴点にパターンマッチング処理を行って歩行者か否かを判別する手順によって行われる。マイクロコンピュータ12051が、撮像部12101〜12104の撮像画像中に歩行者が存在すると判定し、歩行者を認識すると、音声画像出力部12052は、当該認識された歩行者に強調のための方形輪郭線を重畳表示するように、表示部12062を制御する。また、音声画像出力部12052は、歩行者を示すアイコン等を所望の位置に表示するように表示部12062を制御してもよい。
以上、本開示に係る技術が適用され得る車両制御システムの一例について説明した。本開示に係る技術は、以上説明した構成のうち、例えば、撮像部12031に適用され得る。具体的には、上述した本開示の第1の実施形態およびその各変形例に係る測距装置1を撮像部12031に適用することができる。撮像部12031に本開示に係る技術を適用することにより、走行する車両からの測距をより高精度に実行することが可能となる。
なお、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものでは無く、また他の効果があってもよい。
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
(1)
対象領域に含まれる複数の受光素子からなる受光素子群を有する受光部と、
前記受光素子群に含まれる第1の受光素子群と第2の受光素子群と、をそれぞれ異なる期間に読み出すように制御する制御部と、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群のうち少なくとも一方から読み出された信号に基づき信号処理を行う信号処理部と、
を備え、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群の和集合が前記複数の受光素子を全て含み、前記第1の受光素子群の少なくとも一部が前記第2の受光素子群に含まれない
測定装置。
(2)
前記第1の受光素子群と前記第2の受光素子群とが同一の受光素子を含まない
前記(1)に記載の測定装置。
(3)
前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の差分に基づき前記信号処理を行う
前記(1)または(2)に記載の測定装置。
(4)
前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の和に基づき前記信号処理を行う
前記(1)または(2)に記載の測定装置。
(5)
前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、のうち何れか一方に対して前記信号処理を行う
前記(1)または(2)に記載の測定装置。
(6)
前記複数の受光素子は、2次元格子状に配列されて前記受光素子群を形成し、
前記制御部は、
前記第1の受光素子群が含む、前記2次元格子状の配列の列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第1のスキャン範囲を順次読み出し、
該複数の第1のスキャン範囲の読み出しの後に、
前記第2の受光素子群が含む、前記列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第2のスキャン範囲を順次読み出す
前記(1)乃至(5)の何れかに記載の測定装置。
(7)
前記制御部は、
前記複数の第1のスキャン範囲の間隔と、該複数の第1のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、前記複数の第2のスキャン範囲の間隔と、該複数の第2のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、をそれぞれ独立して設定する
前記(6)に記載の測定装置。
(8)
対象領域に含まれる複数の受光素子からなる受光素子群を有する受光部と、
前記受光素子群に含まれる第1の受光素子群と第2の受光素子群と、をそれぞれ異なる期間に読み出すように制御する制御部と、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群のうち少なくとも一方から読み出された信号に基づき、光源が発光した発光タイミングから前記複数の受光素子のうち該信号が読み出された受光素子が受光した受光タイミングまで、の時間をそれぞれ計測して各計測値を取得する時間計測部と、
前記時間計測部により取得された各計測値のヒストグラムを生成する生成部と、
前記ヒストグラムに基づき被測定物までの距離の演算を行う演算部と、
を備え、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群の和集合が前記複数の受光素子を全て含み、前記第1の受光素子群の少なくとも一部が前記第2の受光素子群に含まれない
測距装置。
(9)
前記第1の受光素子群と前記第2の受光素子群とが同一の受光素子を含まない
前記(8)に記載の測距装置。
(10)
前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の差分に基づき前記演算を行う
前記(8)または(9)に記載の測距装置。
(11)
前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の和に基づき前記演算を行う
前記(8)または(9)に記載の測距装置。
(12)
前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、のうち何れか一方に対して前記演算を行う
前記(8)または(9)に記載の測距装置。
(13)
前記複数の受光素子は、2次元格子状に配列されて前記受光素子群を形成し、
前記制御部は、
前記第1の受光素子群が含む、前記2次元格子状の配列の列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第1のスキャン範囲を順次読み出し、
該複数の第1のスキャン範囲の読み出しの後に、
前記第2の受光素子群が含む、前記列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第2のスキャン範囲を順次読み出す
前記(8)乃至(12)の何れかに記載の測距装置。
(14)
前記制御部は、
前記複数の第1のスキャン範囲の間隔と、該複数の第1のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、前記複数の第2のスキャン範囲の間隔と、該複数の第2のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、をそれぞれ独立して設定する
前記(13)に記載の測距装置。
(1)
対象領域に含まれる複数の受光素子からなる受光素子群を有する受光部と、
前記受光素子群に含まれる第1の受光素子群と第2の受光素子群と、をそれぞれ異なる期間に読み出すように制御する制御部と、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群のうち少なくとも一方から読み出された信号に基づき信号処理を行う信号処理部と、
を備え、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群の和集合が前記複数の受光素子を全て含み、前記第1の受光素子群の少なくとも一部が前記第2の受光素子群に含まれない
測定装置。
(2)
前記第1の受光素子群と前記第2の受光素子群とが同一の受光素子を含まない
前記(1)に記載の測定装置。
(3)
前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の差分に基づき前記信号処理を行う
前記(1)または(2)に記載の測定装置。
(4)
前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の和に基づき前記信号処理を行う
前記(1)または(2)に記載の測定装置。
(5)
前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、のうち何れか一方に対して前記信号処理を行う
前記(1)または(2)に記載の測定装置。
(6)
前記複数の受光素子は、2次元格子状に配列されて前記受光素子群を形成し、
前記制御部は、
前記第1の受光素子群が含む、前記2次元格子状の配列の列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第1のスキャン範囲を順次読み出し、
該複数の第1のスキャン範囲の読み出しの後に、
前記第2の受光素子群が含む、前記列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第2のスキャン範囲を順次読み出す
前記(1)乃至(5)の何れかに記載の測定装置。
(7)
前記制御部は、
前記複数の第1のスキャン範囲の間隔と、該複数の第1のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、前記複数の第2のスキャン範囲の間隔と、該複数の第2のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、をそれぞれ独立して設定する
前記(6)に記載の測定装置。
(8)
対象領域に含まれる複数の受光素子からなる受光素子群を有する受光部と、
前記受光素子群に含まれる第1の受光素子群と第2の受光素子群と、をそれぞれ異なる期間に読み出すように制御する制御部と、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群のうち少なくとも一方から読み出された信号に基づき、光源が発光した発光タイミングから前記複数の受光素子のうち該信号が読み出された受光素子が受光した受光タイミングまで、の時間をそれぞれ計測して各計測値を取得する時間計測部と、
前記時間計測部により取得された各計測値のヒストグラムを生成する生成部と、
前記ヒストグラムに基づき被測定物までの距離の演算を行う演算部と、
を備え、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群の和集合が前記複数の受光素子を全て含み、前記第1の受光素子群の少なくとも一部が前記第2の受光素子群に含まれない
測距装置。
(9)
前記第1の受光素子群と前記第2の受光素子群とが同一の受光素子を含まない
前記(8)に記載の測距装置。
(10)
前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の差分に基づき前記演算を行う
前記(8)または(9)に記載の測距装置。
(11)
前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の和に基づき前記演算を行う
前記(8)または(9)に記載の測距装置。
(12)
前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、のうち何れか一方に対して前記演算を行う
前記(8)または(9)に記載の測距装置。
(13)
前記複数の受光素子は、2次元格子状に配列されて前記受光素子群を形成し、
前記制御部は、
前記第1の受光素子群が含む、前記2次元格子状の配列の列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第1のスキャン範囲を順次読み出し、
該複数の第1のスキャン範囲の読み出しの後に、
前記第2の受光素子群が含む、前記列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第2のスキャン範囲を順次読み出す
前記(8)乃至(12)の何れかに記載の測距装置。
(14)
前記制御部は、
前記複数の第1のスキャン範囲の間隔と、該複数の第1のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、前記複数の第2のスキャン範囲の間隔と、該複数の第2のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、をそれぞれ独立して設定する
前記(13)に記載の測距装置。
1,300 測距装置
2,301 光源部
3 記憶部
4 制御部
10,1011,1012,1013,1014,1014’,1015,1015’,1016,1016’,1021,1022,1023,1024,1024’,1025,1025’,1026,1026’,10A,10B 画素
20 受光チップ
21 ロジックチップ
100,100’ 画素アレイ部
101 測距処理部
102 画素制御部
103 全体制御部
104 クロック生成部
105 発光タイミング制御部
106 インタフェース
111 生成部
112 信号処理部
400 ブロック
4101,4102 制御線
41111,41112,41113,41114,41115,41116,41121,41122,41123,41124,41125,41126,411C 信号線
441 対象領域
443 オフセット
2,301 光源部
3 記憶部
4 制御部
10,1011,1012,1013,1014,1014’,1015,1015’,1016,1016’,1021,1022,1023,1024,1024’,1025,1025’,1026,1026’,10A,10B 画素
20 受光チップ
21 ロジックチップ
100,100’ 画素アレイ部
101 測距処理部
102 画素制御部
103 全体制御部
104 クロック生成部
105 発光タイミング制御部
106 インタフェース
111 生成部
112 信号処理部
400 ブロック
4101,4102 制御線
41111,41112,41113,41114,41115,41116,41121,41122,41123,41124,41125,41126,411C 信号線
441 対象領域
443 オフセット
Claims (14)
- 対象領域に含まれる複数の受光素子からなる受光素子群を有する受光部と、
前記受光素子群に含まれる第1の受光素子群と第2の受光素子群と、をそれぞれ異なる期間に読み出すように制御する制御部と、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群のうち少なくとも一方から読み出された信号に基づき信号処理を行う信号処理部と、
を備え、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群の和集合が前記複数の受光素子を全て含み、前記第1の受光素子群の少なくとも一部が前記第2の受光素子群に含まれない
測定装置。 - 前記第1の受光素子群と前記第2の受光素子群とが同一の受光素子を含まない
請求項1に記載の測定装置。 - 前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の差分に基づき前記信号処理を行う
請求項1に記載の測定装置。 - 前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の和に基づき前記信号処理を行う
請求項1に記載の測定装置。 - 前記信号処理部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、のうち何れか一方に対して前記信号処理を行う
請求項1に記載の測定装置。 - 前記複数の受光素子は、2次元格子状に配列されて前記受光素子群を形成し、
前記制御部は、
前記第1の受光素子群が含む、前記2次元格子状の配列の列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第1のスキャン範囲を順次読み出し、
該複数の第1のスキャン範囲の読み出しの後に、
前記第2の受光素子群が含む、前記列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第2のスキャン範囲を順次読み出す
請求項1に記載の測定装置。 - 前記制御部は、
前記複数の第1のスキャン範囲の間隔と、該複数の第1のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、前記複数の第2のスキャン範囲の間隔と、該複数の第2のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、をそれぞれ独立して設定する
請求項6に記載の測定装置。 - 対象領域に含まれる複数の受光素子からなる受光素子群を有する受光部と、
前記受光素子群に含まれる第1の受光素子群と第2の受光素子群と、をそれぞれ異なる期間に読み出すように制御する制御部と、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群のうち少なくとも一方から読み出された信号に基づき、光源が発光した発光タイミングから前記複数の受光素子のうち該信号が読み出された受光素子が受光した受光タイミングまで、の時間をそれぞれ計測して各計測値を取得する時間計測部と、
前記時間計測部により取得された各計測値のヒストグラムを生成する生成部と、
前記ヒストグラムに基づき被測定物までの距離の演算を行う演算部と、
を備え、
前記第1の受光素子群および前記第2の受光素子群の和集合が前記複数の受光素子を全て含み、前記第1の受光素子群の少なくとも一部が前記第2の受光素子群に含まれない
測距装置。 - 前記第1の受光素子群と前記第2の受光素子群とが同一の受光素子を含まない
請求項8に記載の測距装置。 - 前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の差分に基づき前記演算を行う
請求項8に記載の測距装置。 - 前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、の和に基づき前記演算を行う
請求項8に記載の測距装置。 - 前記演算部は、
前記第1の受光素子群から読み出された信号と、前記第2の受光素子群から読み出された信号と、のうち何れか一方に対して前記演算を行う
請求項8に記載の測距装置。 - 前記複数の受光素子は、2次元格子状に配列されて前記受光素子群を形成し、
前記制御部は、
前記第1の受光素子群が含む、前記2次元格子状の配列の列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第1のスキャン範囲を順次読み出し、
該複数の第1のスキャン範囲の読み出しの後に、
前記第2の受光素子群が含む、前記列方向に連続して配置される複数のラインをそれぞれ含む複数の第2のスキャン範囲を順次読み出す
請求項8に記載の測距装置。 - 前記制御部は、
前記複数の第1のスキャン範囲の間隔と、該複数の第1のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、前記複数の第2のスキャン範囲の間隔と、該複数の第2のスキャン範囲それぞれが含むラインの数と、をそれぞれ独立して設定する
請求項13に記載の測距装置。
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