JP2020106279A - 電子ビーム照射装置 - Google Patents

電子ビーム照射装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2020106279A
JP2020106279A JP2018242052A JP2018242052A JP2020106279A JP 2020106279 A JP2020106279 A JP 2020106279A JP 2018242052 A JP2018242052 A JP 2018242052A JP 2018242052 A JP2018242052 A JP 2018242052A JP 2020106279 A JP2020106279 A JP 2020106279A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
hydrogen gas
water
irradiation
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018242052A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6529059B1 (ja
Inventor
誠 安ヵ川
Makoto Akagawa
誠 安ヵ川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Senryou KK
Original Assignee
Senryou KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Senryou KK filed Critical Senryou KK
Priority to JP2018242052A priority Critical patent/JP6529059B1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6529059B1 publication Critical patent/JP6529059B1/ja
Priority to CN201911070879.6A priority patent/CN111383789A/zh
Priority to US16/675,353 priority patent/US20200211821A1/en
Publication of JP2020106279A publication Critical patent/JP2020106279A/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002Details
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices
    • G21K5/04Irradiation devices with beam-forming means
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21BFUSION REACTORS
    • G21B3/00Low temperature nuclear fusion reactors, e.g. alleged cold fusion reactors
    • G21B3/006Fusion by impact, e.g. cluster/beam interaction, ion beam collisions, impact on a target
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J33/00Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
    • H01J33/02Details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H9/00Linear accelerators
    • H05H9/04Standing-wave linear accelerators
    • H05H9/048Lepton LINACS
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/006Details of gas supplies, e.g. in an ion source, to a beam line, to a specimen or to a workpiece
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/04Means for controlling the discharge
    • H01J2237/047Changing particle velocity
    • H01J2237/0473Changing particle velocity accelerating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/10Nuclear fusion reactors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

【課題】水中の対象物に対しても電子ビームを照射可能な電子ビーム照射装置を提供する。【解決手段】加速管11が、電子銃12で生成された電子ビームを加速するよう設けられた加速空間21と、加速空間21で加速された電子ビームを外部に照射可能に設けられた照射口22とを有している。水素ガス32供給手段13が、加速空間21に、所定の圧力の水素ガス32を供給可能に設けられている。水素ガス32供給手段13から加速空間21に供給された水素ガス32を照射口22から放出すると共に、照射口22から照射される電子ビームが照射口22から放出される水素ガス32中を通過するよう構成されている。【選択図】図1

Description

本発明は、電子ビーム照射装置に関する。
従来、一般的な電子ビーム照射装置は、電子ビームを生成する電子銃などの電子線源と、生成された電子ビームを加速するための加速管とを有している(例えば、特許文献1参照)。また、ドライエッチングなどに使用するために、電子ビームを用いてプラズマを生成する装置が開発されている(例えば、非特許文献1または2参照)。
2005−331418号公報
原 民夫、「電子ビームによるプラズマ生成」、プラズマ・核融合学会誌、1993年6月、第69巻、第6号、p.647-655 原 民夫、「電子ビーム励起プラズマエッチング装置の開発」、理研ニュース、July 1992、No.132、p.1-5
電子ビーム(電子線)は、水をほとんど透過できないため、特許文献1、非特許文献1および2のような、従来の電子ビーム照射装置では、水中の対象物に対して電子ビームを照射することはできないという課題があった。
本発明は、このような課題に着目してなされたもので、水中の対象物に対しても電子ビームを照射可能な電子ビーム照射装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る電子ビーム照射装置は、電子ビームを生成する電子銃と、前記電子銃で生成された前記電子ビームを加速するよう設けられた加速空間と、前記加速空間で加速された前記電子ビームを外部に照射可能に設けられた照射口とを有する加速管と、前記加速空間に、所定の圧力の水素ガスを供給可能に設けられた水素ガス供給手段とを有し、前記水素ガス供給手段から前記加速空間に供給された前記水素ガスを前記照射口から放出すると共に、前記照射口から照射される前記電子ビームが前記照射口から放出される前記水素ガス中を通過するよう構成されていることを特徴とする。
本発明に係る電子ビーム照射装置は、電子銃で生成され、加速管の加速空間で加速された電子ビームにより、水素ガス供給手段から加速空間に供給された水素ガスのうち、電子ビームが通過する部分の水素ガスを次々に電離して、プラズマ化することができる。発生したプラズマに継続して電子ビームを照射することにより、プラズマを加熱することができるため、同じ圧力の下では、プラズマを膨張させて密度を低下させることができる。これにより、密度に反比例する電子ビーム透過距離を長くすることができる。
また、本発明に係る電子ビーム照射装置は、加速空間の外部でも同様に、電子ビームが照射口から外部に放出される水素ガス中を通過するため、通過する部分の水素ガスを電離してプラズマ化することができる。このため、電子ビームを継続して照射することにより、プラズマを高温にして膨張させ、電子ビームの透過を容易にすることができる。こうして、本発明に係る電子ビーム照射装置は、照射口の外部の対象物に向かって、電子ビームを照射することができる。
本発明に係る電子ビーム照射装置では、水素ガスのプラズマ化により二次電子が発生するが、その二次電子も電子ビームとともに加速することができる。電子ビームの前方には常に水素ガスが流入するため、二次電子の雪崩現象が発生し、大電流で電子ビームを照射することができる。なお、水素ガスのプラズマ化により発生した陽子は、加速空間の内壁などに接触して電子を受け取り、水素ガスに戻る。
本発明に係る電子ビーム照射装置は、前記照射口を水中に配置したとき、水中の所定の位置に配置された対象物に向かって、前記水素ガスを放出し、前記電子ビームを照射可能に設けられていることが好ましい。この場合、水中に配置された対象物に、電子ビームを照射することができる。すなわち、本発明に係る電子ビーム照射装置は、水素ガス供給手段で加速空間に供給する水素ガスの圧力を、照射口の外部の水圧と同程度以上にすることにより、水素ガスを照射口から水中に放出することができる。このため、水中に配置された対象物に向かって水素ガスを放出することにより、その水素ガス中を通過する電子ビームを対象物に照射することができる。
また、この場合、水流を発生可能に設けられた水流発生手段を有し、前記対象物は液体、気体またはプラズマから成り、前記水流発生手段で発生した水流により、前記対象物を水中の前記所定の位置に留めるよう構成されていてもよい。これにより、対象物が液体、気体またはプラズマから成っていても、その対象物を水中に拡散させることなく、電子ビームを照射することができる。
本発明によれば、水中の対象物に対しても電子ビームを照射可能な電子ビーム照射装置を提供することができる。
本発明の実施の形態の電子ビーム照射装置を示す縦断面図である。 図1に示す電子ビーム照射装置の、水中で使用するときの変形例を示す縦断面図である。 図2に示す電子ビーム照射装置の、核融合発電に利用したときの使用状態を示す縦断面図である。
以下、図面に基づき、本発明の実施の形態について説明する。
図1乃至図3は、本発明の実施の形態の電子ビーム照射装置を示している。
図1に示すように、電子ビーム照射装置10は、加速管11と電子銃12と水素ガス供給手段13とを有している。
加速管11は、筒状を成し、内部が加速空間21を成している。加速管11は、一方の端面11aが塞がれており、他方の端面11bの中央部に照射口22を有している。加速管11は、長さ方向に沿ってほぼ等間隔に、側壁11cを貫通して外側面から加速空間21に突出するよう設けられた複数の電極23と、各電極23に接続された高圧電源24とを有している。各電極23は、中心に穴23aを有する円環状を成し、中心軸と加速空間21の中心線とが一致するよう取り付けられている。高圧電源24は、加速管11の一方の端面11a側の電極23から他方の端面11b側の電極23に向かって電位が高くなるよう、隣り合う電極23間に電圧を印加可能に設けられている。また、加速管11は、一方の端面11a側の側面に、ガス供給口25を有している。なお、図1に示す具体的な一例では、電極23は5つから成っている。
電子銃12は、加速管11の一方の端面11aの加速空間21側の中心部に配置され、加速空間21に向かって電子ビームを生成可能に設けられている。電子ビーム照射装置10は、高圧電源24で各電極23に電圧を加えることにより、電子銃12で生成された電子ビーム31を、加速空間21で加速するよう構成されている。すなわち、電子ビーム照射装置10は、電子ビーム31を、各電極23間の電位差で加速しながら、各電極23の中心の穴23aを通って、他方の端面11bの照射口22に向かって加速するようになっている。また、電子ビーム照射装置10は、加速空間21で加速された電子ビーム31を、照射口22から外部に照射可能になっている。
水素ガス供給手段13は、加速管11のガス供給口25に接続され、加速空間21に所定の圧力の水素ガスを供給可能に設けられている。なお、水素ガスは、気体の中でも密度が小さく、電離に必要なエネルギーも、一原子当たり13.6eVと小さい。
電子ビーム照射装置10は、水素ガス供給手段13から加速空間21に所定の圧力の水素ガスを供給することにより、供給された水素ガスを照射口22から放出可能になっている。これにより、電子ビーム照射装置10は、照射口22から照射される電子ビーム31が照射口22から放出される水素ガス32の中を通過するよう構成されている。
次に、作用について説明する。
電子ビーム照射装置10は、電子銃12で生成され、加速管11の加速空間21で加速された電子ビーム31により、水素ガス供給手段13から加速空間21に供給された水素ガスのうち、電子ビーム31が通過する部分の水素ガスを次々に電離して、プラズマ化することができる。このとき、水素ガスの電離により電子ビーム31の運動エネルギーが吸収されるが、各電極23間に電圧が印加されているため、電子ビーム31は加速され続ける。発生したプラズマ33に継続して電子ビーム31を照射することにより、プラズマ33を加熱することができるため、同じ圧力の下では、プラズマ33を膨張させて密度を低下させることができる。これにより、電子ビーム31の運動エネルギーの吸収を小さくすることができ、電子ビーム透過距離を長くすることができる。
また、電子ビーム照射装置10は、加速空間21の外部でも同様に、電子ビーム31が照射口22から外部に放出される水素ガス32の中を通過するため、通過する部分の水素ガス32を電離してプラズマ化することができる。このため、電子ビーム31を継続して照射することにより、プラズマ33を高温にして膨張させ、電子ビーム31の透過を容易にすることができる。こうして、電子ビーム照射装置10は、照射口22の外部の対象物1に向かって、電子ビーム31を照射することができる。
電子ビーム照射装置10では、水素ガスのプラズマ化により二次電子が発生するが、その二次電子も電子ビーム31とともに加速することができる。電子ビーム31の前方には常に水素ガスが流入するため、二次電子の雪崩現象が発生し、大電流で電子ビーム31を照射することができる。なお、水素ガスのプラズマ化により発生した陽子は、加速空間21内の各電極23や内壁などに接触して電子を受け取り、水素ガスに戻る。
なお、電子ビーム照射装置10は、照射口22から照射される電子ビーム31の絞り込み、拡散、および/または、方向転換を可能に設けられた磁場印加手段を有していてもよい。この場合、照射口22から照射される電子ビーム31を制御することができ、対象物1に効率的に電子ビーム31を照射することができる。
電子ビーム照射装置10は、水中に配置された対象物1であっても、電子ビーム31を照射することができる。すなわち、電子ビーム照射装置10は、照射口22を水中に配置したとき、水素ガス供給手段13で加速空間21に供給する水素ガスの圧力を、照射口22の外部の水圧と同程度以上にすることにより、水素ガスを照射口22から水中に放出することができる。このため、水中に配置された対象物1に向かって水素ガス32を放出することにより、その水素ガス32の中を通過する電子ビーム31を対象物1に照射することができる。対象物1が固体であれば加工や溶接を行うことができ、対象物1が液体や気体、プラズマであれば電離や加熱を行うことができる。
例えば、水圧が100気圧のとき、水素ガスの圧力も100気圧とすると、水素ガスの密度は1気圧のときの100倍の高密度になるが、電子ビーム31で水素ガスを常温(約300K)から3万Kまで加熱することにより、水素ガスの体積Vは100倍になり、密度を100分の1に下げることができる。これにより、高圧の水素ガス中であっても、電子ビーム31の透過を容易にすることができる。
なお、図2に示すように、電子ビーム照射装置10は、水中に配置された対象物1が液体、気体またはプラズマから成るとき、水流を発生可能に設けられた水流発生手段14を有し、水流発生手段14で発生した水流により、対象物1を水中の所定の位置に留めるよう構成されていてもよい。これにより、対象物1が液体、気体またはプラズマから成っていても、その対象物1を水中に拡散させることなく、電子ビーム31を照射することができる。
図2に示す具体的な一例では、水流発生手段14は、回転する水流を発生させるスクリューから成り、モータ14aで回転させることにより、照射口22の外側で、加速空間21の中心線を中心とした渦を発生可能になっている。この場合、渦の中心部の水圧が周囲より低くなるため、対象物1を渦内に閉じ込めることができる。なお、電子ビーム31を照射する際、水素ガス32も対象物1に当たり、渦に取り込まれるが、電子ビーム31の照射後にスクリューを停止させることにより、浮力で水素ガスを上昇させて回収することができる。
また、図2に示すように、電子ビーム照射装置10は、水中の所定の位置に向かって対象物1を注入可能、かつ、その所定の位置から電子ビーム31の照射後の対象物1を回収可能に設けられた供給回収管15を有していてもよい。
また、電子ビーム照射装置10は、超臨界水を利用した核融合発電に利用することができる。すなわち、図3に示すように、220気圧以上、500℃程度の超臨界水51を満たした高圧容器52の内部で、重水素と三重水素とから成る水素ガス32を噴射するとともに、その水素ガス32を通して超臨界水51を対象物1として電子ビーム31を照射する。電子ビーム31の照射を続けることにより、水分子、それに混入した重水素、三重水素が分解され、最終的に裸の酸素原子核と陽子、重陽子、三重陽子、電子になる。これらの荷電粒子は、高速でも殆ど水を透過できないが、近傍の超臨界水51を電離しプラズマ化する。その結果、周囲に生じた裸の酸素原子核に衝突した陽子、重陽子、三重陽子は、殆どその運動エネルギーを失うことなく跳ね返る。また、衝突された裸の酸素原子核は、跳ね返されることなく周囲にとどまり、陽子、重陽子などの跳ね返りに寄与することになる。
超臨界水51は、熱伝導率が例えば0.1W/mK程度と小さいため、十分な量の超臨界水51を用い、熱拡散量を上回る発熱が得られるよう、大出力の電子ビーム31の照射を続けることにより、極めて高密度の水素、重水素、三重水素から成るプラズマ33を、高温の状態に長時間維持することができる。プラズマ温度を3000万K程度まで上昇させれば、ローソン図から、自己点火条件を達成することができ、D−T反応核融合を起こすことができる。このとき、水流発生手段14のスクリューによる下降流や渦流により、高温のプラズマ33および噴射された水素ガス32を所定の位置に留めるとともに、核融合により発生した熱エネルギーを熱交換器53に運ぶことができる。熱交換器53で熱エネルギーを回収し、タービン54を回転させることにより、発電を行うことができる。
1 対象物
10 電子ビーム照射装置
11 加速管
11a 一方の端面
11b 他方の端面
11c 側壁
21 加速空間
22 照射口
23 電極
23a 穴
24 高圧電源
25 ガス供給口
12 電子銃
13 水素ガス供給手段

14 水流発生手段
14a モータ
15 供給回収管

31 電子ビーム
32 (照射口から放出された)水素ガス
33 プラズマ

51 超臨界水
52 高圧容器
53 熱交換器
54 タービン

Claims (3)

  1. 電子ビームを生成する電子銃と、
    前記電子銃で生成された前記電子ビームを加速するよう設けられた加速空間と、前記加速空間で加速された前記電子ビームを外部に照射可能に設けられた照射口とを有する加速管と、
    前記加速空間に、所定の圧力の水素ガスを供給可能に設けられた水素ガス供給手段とを有し、
    前記水素ガス供給手段から前記加速空間に供給された前記水素ガスを前記照射口から放出すると共に、前記照射口から照射される前記電子ビームが前記照射口から放出される前記水素ガス中を通過するよう構成されていることを
    特徴とする電子ビーム照射装置。
  2. 前記照射口を水中に配置したとき、水中の所定の位置に配置された対象物に向かって、前記水素ガスを放出し、前記電子ビームを照射可能に設けられていることを特徴とする請求項1記載の電子ビーム照射装置。
  3. 水流を発生可能に設けられた水流発生手段を有し、
    前記対象物は液体、気体またはプラズマから成り、
    前記水流発生手段で発生した水流により、前記対象物を水中の前記所定の位置に留めるよう構成されていることを
    特徴とする請求項2記載の電子ビーム照射装置。
JP2018242052A 2018-12-26 2018-12-26 電子ビーム照射装置 Expired - Fee Related JP6529059B1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018242052A JP6529059B1 (ja) 2018-12-26 2018-12-26 電子ビーム照射装置
CN201911070879.6A CN111383789A (zh) 2018-12-26 2019-11-05 电子束照射装置
US16/675,353 US20200211821A1 (en) 2018-12-26 2019-11-06 Electron beam irradiation device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018242052A JP6529059B1 (ja) 2018-12-26 2018-12-26 電子ビーム照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6529059B1 JP6529059B1 (ja) 2019-06-12
JP2020106279A true JP2020106279A (ja) 2020-07-09

Family

ID=66821527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018242052A Expired - Fee Related JP6529059B1 (ja) 2018-12-26 2018-12-26 電子ビーム照射装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20200211821A1 (ja)
JP (1) JP6529059B1 (ja)
CN (1) CN111383789A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017117472B4 (de) 2016-08-04 2022-03-17 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Fahrzeugsteuervorrichtung

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7005069B1 (ja) * 2021-08-19 2022-02-14 株式会社センリョウ プラズマ加熱装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017117472B4 (de) 2016-08-04 2022-03-17 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Fahrzeugsteuervorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
CN111383789A (zh) 2020-07-07
US20200211821A1 (en) 2020-07-02
JP6529059B1 (ja) 2019-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11495362B2 (en) Methods, devices and systems for fusion reactions
Bacal et al. Negative hydrogen ion production mechanisms
Winterberg The possibility of producing a dense thermonuclear plasma by an intense field emission discharge
US3071525A (en) Method and apparatus for producing thermonuclear reactions
JP6023876B2 (ja) 核融合パワーロケットエンジンから高比推力および適度な推力を発生する方法
US20080187086A1 (en) Method and apparatus for controlling charged particles
JP7327881B2 (ja) 核融合反応方法、機器、及びシステム
EA034282B1 (ru) Способ генерирования и поддержания магнитного поля с помощью конфигурации обращенного поля (коп)
US20020150193A1 (en) Compact high flux neutron generator
Deichuli et al. Low energy, high power hydrogen neutral beam for plasma heating
Honrubia et al. On intense proton beam generation and transport in hollow cones
Ryzhkov Current state, problems, and prospects of thermonuclear facilities based on the magneto-inertial confinement of hot plasma
Tuck Plasma jet piercing of magnetic fields and entropy trapping into a conservative system
KR20110038705A (ko) 중성입자 생성기
WO2008039505A2 (en) Method and apparatus for controlling charged particles
JP6529059B1 (ja) 電子ビーム照射装置
US20120281798A1 (en) Solid-state pulsed power plasma jet injector
Soldatkina et al. Axial plasma confinement in gas dynamic trap
KR20230058654A (ko) 오비탈 구속 융합 디바이스
EP0422057A1 (en) PROCESS FOR COLD FUSION IN PLASMA OF DENSE BOSONS.
Golden et al. The Generation and Application of Intense Pulsed Ion Beams: Ion beams are now being used to excite high-power gas lasers and to form field-reversed ion rings, and power levels may soon be high enough for applications in thermonuclear fusion programs
RU2776324C1 (ru) Прямоточный релятивистский двигатель
US4199402A (en) Plasma energy production
Kondo et al. Researches on a reactor core in heavy ion inertial fusion
TWI644325B (zh) 融合反應器

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20181227

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190109

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20190109

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20190110

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20190219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20190313

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190508

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6529059

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees