JP2020095193A - Head-up display gate cover - Google Patents

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JP2020095193A JP2018234037A JP2018234037A JP2020095193A JP 2020095193 A JP2020095193 A JP 2020095193A JP 2018234037 A JP2018234037 A JP 2018234037A JP 2018234037 A JP2018234037 A JP 2018234037A JP 2020095193 A JP2020095193 A JP 2020095193A
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丈範 熊谷
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Abstract

To provide a head-up display gate cover which features low retardation and higher durability and transparency, and offers improvement in terms of heat resistance of a liquid crystal display device, visibility of a displayed image, and durability of an entire head-up display system.SOLUTION: A head-up display gate cover 3 of the present invention comprises an infrared absorption layer and an infrared reflection layer provided on a resin substrate that exhibits an in-plane retardation value of 0 nm or greater and less than 100 nm when 550-nm light is incident at an incident angle of 0°, the infrared absorption layer containing an infrared absorber-1 and infrared absorber-2 having specific structures. The head-up display gate cover has an average transmittance of 80% or greater in a visible light wavelength range of 380-740 nm, and an average reflectance of 15% or greater in a near-infrared wavelength range of 750-1500 nm.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、新規のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーに関し、更に詳しくは、低い位相差値を有し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、ヘッドアップディスプレイが内蔵する液晶表示装置の耐熱性の向上と、表示画像の視認性及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel gate cover for a head-up display, and more specifically, it has a low phase difference value, high durability and high transparency of the gate cover, and heat resistance of a liquid crystal display device incorporated in the head-up display. And a gate cover for a head-up display capable of improving the visibility of a displayed image and the durability of the entire head-up display system.

近年、車両のインストルメントパネルに設置するヘッドアップディスプレイ(以下、単に「HUD」ともいう。)が普及しつつある。HUDは、液晶表示装置(以下、「LCD」(Liquid Crystal Display)ともいう。)等から出射した画像を、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー(以下、単に「ゲートカバー」ともいう。)を通してフロントガラスに向けて投影して、運転手の視界内に様々な情報を表示する装置であり、専用のディスプレイに表示するタイプのものや、フロントウィンドウに走行情報を映すタイプのものなどが開発されている。HUDにより車の安全性が向上するため、これまでは一部の高級車に適用されてきたが、徐々に搭載車種も増え始めている。 In recent years, a head-up display (hereinafter, also simply referred to as “HUD”) installed on an instrument panel of a vehicle is becoming popular. The HUD transmits an image emitted from a liquid crystal display device (hereinafter, also referred to as “LCD” (Liquid Crystal Display)) or the like to a windshield through a gate cover for a head-up display (hereinafter, also simply referred to as “gate cover”). A device that projects various types of information to display various information within the driver's field of view, such as a type that displays it on a dedicated display or a type that displays driving information on the front window has been developed. Since HUD improves the safety of vehicles, it has been applied to some luxury vehicles until now, but the number of vehicles equipped with it is gradually increasing.

現在、HUDとしては、種々の機構に基づく様々な形態のものが開発されている。例えば、表示ユニットがフロントガラス表面ではなく、コントロールユニットから送信される走行情報等をインストルメントパネルの表示ユニットからフロントガラスに反射させることにより表示し、運転者が視線を下げることなく、運転者の通常の視野内(すなわち、フロントガラスと同じ視野内)で視認させる形態のものがある。このような形態のものでは、LCDなどの画像表示装置からフロントガラスへ画像光が出射される一方で、画像表示装置にはフロントガラスからの太陽光が集光されるため、LCD素子などの画像表示装置の構成材料が高温になり、過熱による劣化を起こしやすいといった問題がある。そのため、HUDにおいては、画像表示装置に対する遮熱手段の付与が求められている。 Currently, various forms of HUD are being developed based on various mechanisms. For example, the display unit does not display the windshield surface, but displays the traveling information and the like transmitted from the control unit by reflecting it on the windshield from the display unit of the instrument panel, so that the driver does not lower his line of sight and There is a form in which it is visually recognized within a normal visual field (that is, within the same visual field as the windshield). In such a configuration, image light is emitted from the image display device such as an LCD to the windshield, while sunlight from the windshield is condensed on the image display device, so that an image such as an LCD element is displayed. There is a problem that the constituent material of the display device becomes high in temperature and easily deteriorates due to overheating. Therefore, in the HUD, it is required to provide a heat shield means to the image display device.

特に、近年では、HUDの表示情報量を多くするために投影表示画像部を大型化すること、及び表示画像の鮮明化による更なる車の安全性向上の検討がなされている。しかしながら、投影画像を大型化すると、HUDユニットのゲートカバー面積も大型化するため、太陽光が従来よりも多く入光することにより、液晶表示装置であるTFT−LCDの熱による劣化を抑制のため、ゲートカバーに対し高い遮熱性能が要望されてきている。 In particular, in recent years, studies have been made to increase the size of the projected display image portion in order to increase the display information amount of the HUD and to further improve the safety of the vehicle by making the display image clear. However, as the size of the projected image becomes larger, the area of the gate cover of the HUD unit also becomes larger, so more sunlight is incident than in the conventional case, and the deterioration of the TFT-LCD, which is a liquid crystal display device, due to heat is suppressed. , High heat shield performance has been demanded for gate covers.

ところで、遮熱対象となる太陽光のエネルギーの波長分布は、可視光波長領域(380〜740nm)と赤外領域(750〜2500nm)に分けられる。可視光エネルギーは偏光板で遮蔽し、赤外領域はコールドミラー(紫外光を反射し、赤外光を透過)とホットミラー(赤外光を反射)を用い、TFT−LCDの発熱を抑制している。しかしながら、コールドミラーは価格が高いことや曲率をつけにくいため、投影画像大型化が難しいといわれている。また、コールドミラーを用いる場合、赤外光はTFT−LCDに集光しなくても、ユニット内部に入るため、ユニット内の温度が上昇し、結果的にTFT−LCDが劣化するといわれている。 By the way, the wavelength distribution of the energy of the sunlight which is a heat shield target is divided into a visible light wavelength region (380 to 740 nm) and an infrared region (750 to 2500 nm). Visible light energy is shielded by a polarizing plate, and a cold mirror (reflects ultraviolet light and transmits infrared light) and a hot mirror (reflects infrared light) are used in the infrared region to suppress heat generation of the TFT-LCD. ing. However, it is said that it is difficult to increase the size of the projected image because the cold mirror is expensive and it is difficult to add curvature. Further, when a cold mirror is used, it is said that the infrared light enters the unit even if it is not focused on the TFT-LCD, so that the temperature inside the unit rises and, as a result, the TFT-LCD deteriorates.

上記問題に対し、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層と偏光フィルムを積層して構成する光学積層体を具備したヘッドアップディスプレイが開示されている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1に記載の方法によれば、開示されている光学積層体は、太陽光などの自然光の偏光成分を偏光フィルムで遮蔽し、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層で赤外光を遮蔽できるため、可視光から赤外領域までの広い波長範囲で遮蔽性に優れた効果を発揮するとされている。
しかしながら、特許文献1で提案されている方法では、以下の問題を抱えている。
With respect to the above problem, a head-up display including an optical laminated body formed by laminating an infrared absorbing layer having infrared absorbing performance and a polarizing film is disclosed (for example, refer to Patent Document 1). According to the method described in Patent Document 1, the disclosed optical layered body can shield the polarization component of natural light such as sunlight with a polarizing film, and can shield infrared light with an infrared absorption layer having infrared absorption performance. Therefore, it is said that it exerts an excellent shielding property in a wide wavelength range from visible light to infrared region.
However, the method proposed in Patent Document 1 has the following problems.

第1の問題は、ゲートカバーで赤外線を吸収するため、それによりゲートカバーに発熱を生じ、粘着層等の剥離や偏光板の性能低下を引き起こす。第2の問題は、赤外線吸収層を構成する赤外線吸収剤の添加量に比例して、可視光波長領域の光透過率が低下する。第3の問題は、上記第2の問題に対し、可視光透過率を確保するために赤外線吸収剤の添加量を低減させた場合、750〜1500nmの領域の透過率を抑え込むことができず、コールドミラーと比較して、赤外線のカット能が不足する。 The first problem is that since the gate cover absorbs infrared rays, heat is generated in the gate cover, causing peeling of the adhesive layer or the like and deterioration of performance of the polarizing plate. The second problem is that the light transmittance in the visible light wavelength region is reduced in proportion to the amount of the infrared absorbing agent that constitutes the infrared absorbing layer. The third problem is that in the second problem, when the amount of the infrared absorber added is reduced to secure the visible light transmittance, the transmittance in the region of 750 to 1500 nm cannot be suppressed, Compared to cold mirrors, it lacks the ability to cut infrared rays.

一方、赤外線反射層は赤外線吸収層と異なり、ゲートカバーで熱籠りしないため、ゲートカバー全体の発熱が抑制され、上記のような粘着層の剥離や偏光板の機能低下を抑えることができる。 On the other hand, unlike the infrared absorbing layer, the infrared reflecting layer does not trap heat in the gate cover, so that heat generation of the entire gate cover is suppressed, and the peeling of the adhesive layer and the functional deterioration of the polarizing plate as described above can be suppressed.

例えば、赤外線反射フィルムの波長700〜1400nmの領域において、連続して反射率が70%以上となる反射帯域を200nm以上備えていることを特徴とするヘッドアップディスプレイが開示されている(例えば、特許文献2参照。)。この方法によれば、連続的に太陽光に照射され続ける環境下においても、動作不良を起こすことがなく使用可能なヘッドアップディスプレイを提供することができるとされている。 For example, a head-up display is disclosed, which has a reflection band of 200 nm or more in which the reflectance is continuously 70% or more in a region of a wavelength of 700 to 1400 nm of an infrared reflective film (for example, a patent. Reference 2.). According to this method, it is said that it is possible to provide a head-up display that can be used without causing a malfunction even in an environment in which sunlight is continuously irradiated.

しかしながら、特許文献2で開示されている方法では、ヘッドアップディスプレイに適用する積層フィルムの作製には、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂を使用しているため、リターデーション値の調整が難しいという問題を抱えている。また、特許文献2においては、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収層と、赤外線反射層とを組み合わせるという技術思想についての開示はなされていない。 However, the method disclosed in Patent Document 2 has a problem that it is difficult to adjust the retardation value because a polyester resin is used as the thermoplastic resin in the production of the laminated film applied to the head-up display. ing. Further, Patent Document 2 does not disclose the technical idea of combining an infrared absorbing layer containing an infrared absorbing agent and an infrared reflecting layer.

また、特許文献3においては、異なる光学的性質を有する2種以上の熱可塑性樹脂が交互に50層以上積層されて構成される多層積層フィルムを有し、リターデーション値が100〜210nmの範囲内である赤外線反射フィルムが開示されているが、この方法では、波長900〜1200nmの波長域における平均反射率が70%以上であり、太陽光エネルギーの750〜1500nmの赤外線を遮断することが達成されていない。 Further, in Patent Document 3, a multilayer laminated film configured by alternately laminating 50 or more layers of two or more kinds of thermoplastic resins having different optical properties is used, and the retardation value is within a range of 100 to 210 nm. In this method, the average reflectance in the wavelength range of 900 to 1200 nm is 70% or more, and it is possible to block the infrared rays of 750 to 1500 nm of solar energy. Not not.

また、特許文献4においては、赤外線吸収剤及び樹脂を含有する赤外線吸収層と、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層した誘電体多層膜を有する遮熱性の積層体フィルムが開示されている。しかしながら、特許文献4で開示されている方法でも、樹脂基材としてはポリエステル樹脂を使用しており、リターデーション値の調整ができないため、ヘッドアップディスプレイ用途には不適である。 Further, Patent Document 4 discloses a heat-shielding laminate film having an infrared absorbing layer containing an infrared absorbing agent and a resin, and a dielectric multilayer film in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are alternately laminated. Has been done. However, even in the method disclosed in Patent Document 4, the polyester resin is used as the resin base material, and the retardation value cannot be adjusted. Therefore, it is not suitable for head-up display applications.

国際公開第2016/152843号International Publication No. 2016/152843 特開2017−129861号公報JP, 2017-129861, A 特許第6291830号公報Japanese Patent No. 6291830 国際公開第2016/010049号International Publication No. 2016/010049

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性の向上、表示画像の視認性及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and its problem to be solved is to realize a low phase difference, high durability and high transparency of a gate cover, improvement of heat resistance of a liquid crystal display device, and a display image. It is an object of the present invention to provide a gate cover for a head-up display, which can improve the visibility and the durability of the entire head-up display system.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、ヘッドアップディスプレイ内部での発熱の原因となる近赤外線光、特に750〜1500nm領域の近赤外線を遮光するため、ゲートカバーに特定の2種の赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収層を設け、さらに、赤外線反射層を設けることにより、ゲートカバーの高い耐久性を実現できることを見いだし本発明に至った。さらに、このゲートカバーを具備したヘッドアップディスプレイは、ヘッドアップディスプレイ内部での発熱を大幅に抑制することができるため耐久性に優れている。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
In order to solve the above problems, the present inventor shields near-infrared light that causes heat generation inside the head-up display, particularly near-infrared light in the 750 to 1500 nm region in the process of examining the causes of the above problems. It was found that high durability of the gate cover can be realized by providing the gate cover with an infrared absorbing layer containing two specific infrared absorbing agents and further providing an infrared reflecting layer. Furthermore, the head-up display provided with this gate cover is excellent in durability because it can significantly suppress heat generation inside the head-up display.
That is, the above-mentioned subject concerning the present invention is solved by the following means.

1.樹脂基材上に、赤外線吸収層及び赤外線反射層が設けられたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーであって、
前記樹脂基材の面内リターデーション値が、入射角度0°、波長550nmの光線を入射させたときに、0nm以上、100nm未満の範囲内であり、
前記赤外線吸収層が、下記赤外線吸収剤−1と赤外線吸収剤−2とを含有し、
380〜740nmの可視光波長領域における平均透過率が80%以上であり、750〜1500nmの近赤外線波長領域における平均反射率が15%以上であることを特徴とするヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
(赤外線吸収剤)
赤外線吸収剤−1:750〜1200nmの近赤外線波長領域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物
赤外線吸収剤−2:金属酸化物系赤外線吸収剤
1. A gate cover for a head-up display in which an infrared absorption layer and an infrared reflection layer are provided on a resin substrate,
The in-plane retardation value of the resin base material is in the range of 0 nm or more and less than 100 nm when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident.
The infrared absorbing layer contains the following infrared absorbent-1 and infrared absorbent-2,
A gate cover for a head-up display, which has an average transmittance of 80% or more in a visible light wavelength region of 380 to 740 nm and an average reflectance of 15% or more in a near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm.
(Infrared absorber)
Infrared absorbing agent-1: Near infrared absorbing organic compound infrared absorbing agent having a maximum absorption peak in the near infrared wavelength region of 750 to 1200 nm-2: Metal oxide infrared absorbing agent

2.前記近赤外線吸収剤−1が、金属錯体系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、及びポリメチン系色素から選ばれることを特徴とする第1項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 2. The gate cover for a head-up display according to item 1, wherein the near-infrared absorber-1 is selected from metal complex dyes, immonium dyes, diimmonium dyes, and polymethine dyes.

3.前記赤外線吸収剤−2が、スズドープ酸化インジウム(ITO)、セシウムドープ酸化タングステン(CWO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)及びアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)から選ばれることを特徴とする第1項又は第2項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 3. The infrared absorber-2 is selected from tin-doped indium oxide (ITO), cesium-doped tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO), gallium-doped zinc oxide (GZO) and aluminum-doped zinc oxide (AZO). A gate cover for a head-up display according to claim 1 or 2.

4.前記赤外線吸収剤−1に対する前記赤外線吸収剤−2の質量比の値が、1.0〜6.0の範囲内であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 4. The value of the mass ratio of the infrared absorbing agent-2 to the infrared absorbing agent-1 is within a range of 1.0 to 6.0. Gate cover for head-up display described in.

5.さらに、偏光層を有し、380〜740nmの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が、80%以上であることを特徴とする第1項から第4項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 5. Furthermore, it has a polarizing layer, and the average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more. Gate cover for the head-up display described.

6.前記赤外線反射層が、誘電体多層膜構造を有することを特徴とする第1項から第5項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 6. The gate cover for a head-up display according to any one of items 1 to 5, wherein the infrared reflective layer has a dielectric multilayer film structure.

7.前記赤外線反射層が、無機微粒子を含有していることを特徴とする第1項から第6項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 7. 7. The head-up display gate cover according to any one of items 1 to 6, wherein the infrared reflective layer contains inorganic fine particles.

8.前記樹脂基材上に、前記赤外線吸収剤−2層を含有する層、前記赤外線反射層、前記赤外線吸収剤−1を含有する層がこの順で配置されていることを特徴とする第1項から第7項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 8. A layer containing the infrared absorbent-2 layer, the infrared reflective layer, and a layer containing the infrared absorbent-1 are arranged in this order on the resin substrate. The gate cover for a head-up display according to any one of items 1 to 7.

9.自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイに具備されることを特徴とする第1項から第8項までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 9. The head-up display gate cover according to any one of items 1 to 8, which is provided in a head-up display mounted on an automobile, a train, an aircraft, or a ship.

本発明の上記手段により、低い位相差を実現し、ゲートカバーの高耐久化及び高透明化と、液晶表示装置の耐熱性の向上、表示画像の視認性及びヘッドアップディスプレイシステム全体の耐久性を向上させることができるヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
By the above means of the present invention, a low phase difference is realized, the gate cover is made highly durable and highly transparent, the heat resistance of the liquid crystal display device is improved, the visibility of the displayed image and the durability of the entire head-up display system are improved. A gate cover for a head-up display that can be improved can be provided.
Although the mechanism of action or mechanism of action of the present invention has not been clarified, it is presumed as follows.

ヘッドアップディスプレイにおいては、太陽光が装置内に入射し、液晶表示装置に太陽光が集光し、発熱により液晶表示装置が劣化すると考えられている。従来、太陽光成分の内、赤外光はゲートカバー上の反射層及び装置内部のコールドミラー、可視光はゲートカバーに取り付けられた偏光層でカットすることで、太陽光による液晶表示装置の熱劣化を抑えている。本発明においては、特に750〜1500nm領域の近赤外線を遮光するために、赤外線反射層を設けることで、ゲートカバーの発熱を抑え、かつ、特定の2種の赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収層をゲートカバーに設けることにより、ヘッドアップディスプレイ内に入射する赤外光を減少させ、発熱を抑制できるためであると推察される。 In a head-up display, it is considered that sunlight is incident on the device, the sunlight is condensed on the liquid crystal display device, and the liquid crystal display device is deteriorated due to heat generation. Conventionally, of the sunlight components, infrared light is cut by the reflective layer on the gate cover and the cold mirror inside the device, and visible light is cut by the polarizing layer attached to the gate cover, so that the heat of the liquid crystal display device by sunlight It suppresses deterioration. In the present invention, in particular, in order to shield near infrared rays in the 750 to 1500 nm region, an infrared reflecting layer is provided to suppress heat generation of the gate cover, and an infrared absorbing layer containing two specific infrared absorbing agents. It is presumed that this is because by providing the gate cover to the gate cover, infrared light entering the head-up display can be reduced and heat generation can be suppressed.

課題を達成することができた理由としては、以下の4項目であると推測している。
第1の効果は、面内リターデーション値が、0nm以上、100nm未満という位相差の低い樹脂基材を採用することにより、投影画像の虹ムラを抑制することができた。
It is assumed that the following four items are the reasons why the task could be achieved.
The first effect is that the rainbow unevenness of the projected image can be suppressed by adopting a resin base material having a low retardation value of an in-plane retardation value of 0 nm or more and less than 100 nm.

第2の効果は、赤外線反射層自身は、赤外線吸収層とは異なり、光反射により熱を発しない特性を有しており、赤外線吸収層とともに赤外線反射層を設けることにより、ゲートカバー全体の発熱が抑制され、粘着層の剥がれや偏光層の機能低下を抑えることができた。加えて、適用している赤外線吸収層を構成している赤外線吸収剤の耐久性を向上させることができた。 The second effect is that, unlike the infrared absorption layer, the infrared reflection layer itself has a characteristic that it does not generate heat due to light reflection. By providing the infrared reflection layer together with the infrared absorption layer, heat generation of the entire gate cover is achieved. Was suppressed, and peeling of the adhesive layer and deterioration of the function of the polarizing layer could be suppressed. In addition, it was possible to improve the durability of the infrared absorbing agent forming the infrared absorbing layer applied.

第3の効果は、赤外線の中でも750〜1500nmの波長領域の光が特に熱籠りに悪影響を及ぼすため、この波長領域の赤外線を効率的に反射させることにより、TFT−LCDに対する熱の影響を低減でき、耐久性を向上させることができた。 The third effect is that light in the wavelength range of 750 to 1500 nm among infrared rays has a bad influence on the heat trap. Therefore, by effectively reflecting the infrared rays in this wavelength range, the influence of heat on the TFT-LCD is reduced. It was possible to improve the durability.

第4の効果は、赤外線反射層及び赤外線吸収層を併用して設けることにより、赤外線吸収剤の使用量を低減させることができ、その結果、可視光波長領域における光透過率を向上させることができたと推測している。 The fourth effect is that by providing the infrared reflecting layer and the infrared absorbing layer in combination, the amount of the infrared absorbing agent used can be reduced, and as a result, the light transmittance in the visible light wavelength region can be improved. I'm guessing it was done.

さらに、熱遮蔽効果を大きくすることができるため、ゲートカバーの偏光子や、ヘッドアップディスプレイ内のコールドミラーを含む構成を必ずしも必要とせず、設計の自由度を向上させることができ、様々な機能のヘッドアップディスプレイを形成することができるものと考えられる。 Furthermore, since the heat shield effect can be increased, the configuration including the polarizer of the gate cover and the cold mirror in the head-up display is not necessarily required, and the degree of freedom in design can be improved and various functions can be provided. It is believed that the above head-up display can be formed.

ヘッドアップディスプレイの基本構造と太陽光の入射経路を示す模式図Schematic diagram showing the basic structure of the head-up display and the incident path of sunlight ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの基本構成の一例を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example of the basic configuration of a gate cover for a head-up display 本発明のケートカバーに適用可能な偏光板の構成の一例を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example of the configuration of a polarizing plate applicable to the kate cover of the present invention. 実施例で作製したヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例1を示す概略断面図(実施形態1)Schematic cross-sectional view showing a configuration example 1 of a gate cover for a head-up display manufactured in an example (Embodiment 1) 実施例で作製したヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例2を示す概略断面図(実施形態2)Schematic cross-sectional view showing a configuration example 2 of the gate cover for a head-up display produced in the example (Embodiment 2) 液晶表示装置(LCD)の基本的な構成の一例を示す模式図Schematic diagram showing an example of the basic configuration of a liquid crystal display device (LCD)

本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、樹脂基材上に、赤外線吸収層及び赤外線反射層が設けられたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーであって、前記樹脂基材の面内リターデーション値が、入射角度0°、波長550nmの光線を入射させたときに、0nm以上、100nm未満の範囲内であり、前記赤外線吸収層が、前記赤外線吸収剤−1と赤外線吸収剤−2とを含有し、380〜740nmの可視光波長領域における平均透過率が80%以上であり、750〜1500nmの近赤外線波長領域における平均反射率が15%以上であることを特徴とする。この特徴は、下記各実施態様(形態)に共通する又は対応する技術的特徴である。 The head-up display gate cover of the present invention is a head-up display gate cover in which an infrared absorbing layer and an infrared reflecting layer are provided on a resin substrate, and the in-plane retardation value of the resin substrate is When the light having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident, it is in the range of 0 nm or more and less than 100 nm, and the infrared absorbing layer contains the infrared absorbing agent-1 and the infrared absorbing agent-2, The average transmittance in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more, and the average reflectance in the near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm is 15% or more. This feature is a technical feature common to or corresponding to each of the following embodiments (forms).

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記近赤外線吸収剤−1が、金属錯体系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、及びポリメチン系色素から選ばれることが好ましい。
さらに、本発明においては、前記赤外線吸収剤−2が、スズドープ酸化インジウム(ITO)、セシウムドープ酸化タングステン(CWO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)及びアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)から選ばれることが好ましい。
As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of exhibiting the effect of the present invention, the near-infrared absorber-1 is preferably selected from a metal complex dye, an immonium dye, a diimmonium dye, and a polymethine dye. ..
Further, in the present invention, the infrared absorbent-2 is tin-doped indium oxide (ITO), cesium-doped tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO), gallium-doped zinc oxide (GZO) and aluminum-doped zinc oxide. It is preferably selected from (AZO).

また、ゲートカバーの赤外遮蔽効果を高くし、かつ、可視光波長領域の透過率を高くする観点から、前記赤外線吸収剤−1に対する前記赤外線吸収剤−2の質量比の値が、1.0〜6.0の範囲内であることが好ましい。
本発明においては、さらに、偏光層を有し、380〜740nmの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が、80%以上であることが好ましい。これにより、ヘッドアップディスプレイから出射される光量を大きく減らすことなくヘッドアップディスプレイ内への可視光波長領域における太陽光からの入射光を減らすことができる。
さらに、本発明においては、前記赤外線反射層が、誘電体多層膜構造を有することが好ましい。
From the viewpoint of increasing the infrared shielding effect of the gate cover and increasing the transmittance in the visible light wavelength region, the value of the mass ratio of the infrared absorbent-2 to the infrared absorbent-1 is 1. It is preferably in the range of 0 to 6.0.
In the present invention, it is preferable that the polarizing plate further has a polarizing layer, and the average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more. Thereby, it is possible to reduce the incident light from the sunlight in the visible light wavelength region into the head-up display without significantly reducing the amount of light emitted from the head-up display.
Furthermore, in the present invention, it is preferable that the infrared reflective layer has a dielectric multilayer film structure.

また、本発明においては、前記赤外線反射層が、無機微粒子を含有していることが好ましい。
さらに、本発明においては、前記赤外線吸収剤−2を含有する層、前記赤外線反射層及び前記赤外線吸収剤−1を含有する層が、この順で配置されていることが好ましい。
本発明のゲートカバーは、自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイに好適に具備され得る。
Further, in the present invention, it is preferable that the infrared reflective layer contains inorganic fine particles.
Further, in the present invention, the layer containing the infrared absorbent-2, the infrared reflective layer, and the layer containing the infrared absorbent-1 are preferably arranged in this order.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The gate cover of the present invention can be suitably installed in a head-up display mounted on an automobile, a train, an aircraft or a ship.

以下、本発明とその構成成分、及び本発明を実施するための形態・態様について、図を交えて、詳細な説明をする。なお、以下の説明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。また、以下の説明において、各構成成分のあとの括弧内に記載の数字は、各図に記載した各構成成分の符号を表す。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, "-" shown in the following description is used to mean that the numerical values described before and after the "-" are included as the lower limit value and the upper limit value. Further, in the following description, the numbers in parentheses after each component represent the reference numerals of each component shown in each drawing.

《ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの概要》
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、樹脂基材上に、赤外線吸収層及び赤外線反射層が設けられたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーであって、前記樹脂基材の面内リターデーション値が、入射角度0°、波長550nmの光線を入射させたときに、0nm以上、100nm未満の範囲内であり、前記赤外線吸収層が、前記赤外線吸収剤−1と赤外線吸収剤−2とを含有し、380〜740nmの可視光波長領域における平均透過率が80%以上であり、750〜1500nmの近赤外線波長領域における平均反射率が15%以上であることを特徴とする。
<<Overview of gate cover for head-up display>>
The head-up display gate cover of the present invention is a head-up display gate cover in which an infrared absorbing layer and an infrared reflecting layer are provided on a resin substrate, and the in-plane retardation value of the resin substrate is When the light having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident, it is in the range of 0 nm or more and less than 100 nm, and the infrared absorbing layer contains the infrared absorbing agent-1 and the infrared absorbing agent-2, The average transmittance in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more, and the average reflectance in the near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm is 15% or more.

はじめに、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーを装着するヘッドアップディスプレイの概要について説明する。 First, an outline of a head-up display equipped with the head-up display gate cover of the present invention will be described.

図1は、ヘッドアップディスプレイの基本構造と太陽光の入射経路を示す模式図である。
図1で示すように、自動車等の運転席前方に設置されたヘッドアップディスプレイ1は、フロントガラス2より入射した太陽光Lが、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー3を通過し、凹面である拡大鏡4により集光され、コールドミラー5及びホットミラー6により近赤外又は赤外線が一部カットされ、液晶表示装置7に入射される。なお、以下の説明において、液晶表示装置7を、単に「光源」と称する場合もある。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a basic structure of a head-up display and an incident path of sunlight.
As shown in FIG. 1, in a head-up display 1 installed in front of a driver's seat of an automobile or the like, sunlight L incident from a windshield 2 passes through a head-up display gate cover 3 of the present invention and has a concave surface. The light is condensed by a certain magnifying glass 4, near infrared rays or infrared rays are partially cut by a cold mirror 5 and a hot mirror 6, and the light is incident on a liquid crystal display device 7. In addition, in the following description, the liquid crystal display device 7 may be simply referred to as a “light source”.

従来のヘッドアップディスプレイでは、前記コールドミラー5及びホットミラー6により熱線カットを行ってきたが、投影情報の増加に伴うゲートカバーの開口面積の大型化に伴う熱線の入射量増加への対応としては不足するため、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー3により、高い可視光透過率を実現するとともに、近赤外波長領域における優れた平均反射率を得ることができ、その結果、装置内での熱籠り等を抑制でき、液晶表示装置7の耐久性を向上させることができる。 In the conventional head-up display, the heat ray is cut by the cold mirror 5 and the hot mirror 6, but as a measure against the increase in the incident amount of heat ray accompanying the increase in the opening area of the gate cover accompanying the increase in projection information, Due to the shortage, the gate cover 3 for a head-up display of the present invention can realize a high visible light transmittance and can also obtain an excellent average reflectance in the near infrared wavelength region, and as a result, in the device. It is possible to suppress heat buildup and the like, and improve the durability of the liquid crystal display device 7.

《ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの基本構成》
本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーは、少なくとも、樹脂基材上に、赤外線吸収層、及び赤外線反射層を有する構成である。赤外線吸収層は赤外線吸収層A(IR吸収層A)及び赤外線吸収層B(IR吸収層B)の2層を設けることができる。好ましくは、ヘッドアップディスプレイ内蔵するLCD(光源ともういう)側から、赤外線吸収層B、赤外線反射層及び赤外線吸収層Aが、この順で配置されている構成である。赤外線吸収層Aには、赤外線吸収剤−1を、及び赤外線吸収層Bには、赤外線吸収剤−2を含有させることが好ましい。
<Basic configuration of gate cover for head-up display>
The gate cover for a head-up display of the present invention has at least an infrared absorption layer and an infrared reflection layer on a resin substrate. As the infrared absorbing layer, two layers of an infrared absorbing layer A (IR absorbing layer A) and an infrared absorbing layer B (IR absorbing layer B) can be provided. Preferably, the infrared absorption layer B, the infrared reflection layer, and the infrared absorption layer A are arranged in this order from the LCD (also referred to as a light source) side having the built-in head-up display. It is preferable that the infrared absorbing layer A contains an infrared absorbing agent-1 and the infrared absorbing layer B contains an infrared absorbing agent-2.

図2は、本発明のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの基本構成の一例を示す概略断面図である。図2に示す構成は、図1におけるHUD7とHUD用ゲートカバー3の相対関係を模式的に示す模式図である。図2に示す構成は一例であり、これに限定さるものではない。
図2においては、紙面の上面側が太陽光の入射側であり、下面側にはヘッドアップディスプレイの光源7が配置され、その光源側より、樹脂基材11、12で表される赤外線吸収層B、赤外線反射層及び18で表される赤外線吸収層Aがこの順に配置されてヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー3を構成している。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the basic configuration of the head-up display gate cover of the present invention. The configuration shown in FIG. 2 is a schematic diagram schematically showing the relative relationship between the HUD 7 and the HUD gate cover 3 in FIG. The configuration shown in FIG. 2 is an example, and the present invention is not limited to this.
In FIG. 2, the upper surface side of the paper surface is the incident side of sunlight, and the light source 7 of the head-up display is arranged on the lower surface side. From the light source side, the infrared absorption layer B represented by the resin base materials 11 and 12 The infrared reflecting layer and the infrared absorbing layer A represented by 18 are arranged in this order to form the head-up display gate cover 3.

本発明でいうゲートカバーとは、ヘッドアップディスプレイに含まれ、当該装置から画像情報を出射する出口部分をいい、通常透明樹脂成形体である。当該透明樹脂成形体は、外部からの埃や塵の装置内への侵入を防止する機能を併せて有する。 The gate cover as referred to in the present invention is an exit portion that is included in a head-up display and emits image information from the device, and is usually a transparent resin molding. The transparent resin molded body also has a function of preventing dust and dirt from entering the device.

本発明でいう「樹脂基材」とは、本発明に係る赤外線吸収層、赤外線反射層及び偏光層を支持できる程度に剛性を有する樹脂部材をいう。
また、「赤外線反射層」とは、誘電体多層膜で構成される近赤外から赤外領域の波長光(例えば、少なくとも光波長750〜1500nmの範囲)を反射する機能を有し、750〜1500nmの近赤外線波長領域における平均反射率が15%以上となる層をいう。
The “resin base material” in the present invention refers to a resin member having rigidity to the extent that it can support the infrared absorbing layer, the infrared reflecting layer and the polarizing layer according to the present invention.
The “infrared reflecting layer” has a function of reflecting light having a wavelength range from near infrared to infrared region (for example, at least a light wavelength range of 750 to 1500 nm) composed of a dielectric multilayer film, and has a thickness of 750 to 750. A layer having an average reflectance of 15% or more in the near infrared wavelength region of 1500 nm.

また、「赤外線吸収層」とは、具体的には、前記赤外線吸収剤−1(750〜1200nmの近赤外線波長領域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物)及び近赤外線吸収剤−2(金属酸化物系赤外線吸収剤)の2種を含有し、近赤外から赤外領域の波長光(例えば、少なくとも光波長750〜1500nmの範囲)を吸収する機能層をいう。赤外線吸収層は、上記のように複数の層で構成されていてもよい。 The "infrared absorbing layer" specifically includes the infrared absorbing agent-1 (near infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the near infrared wavelength region of 750 to 1200 nm) and near infrared absorbing agent-2. A functional layer that contains two kinds of (metal oxide infrared absorber) and absorbs light having a wavelength in the near infrared to infrared region (for example, at least a light wavelength range of 750 to 1500 nm). The infrared absorption layer may be composed of a plurality of layers as described above.

《ゲートカバーの構成要素》
次いで、本発明のゲートカバーを構成する、樹脂基材、赤外線吸収層、赤外線反射層及びその他の構成要素の詳細について説明する。
<<Gate cover components>>
Next, details of the resin base material, the infrared absorption layer, the infrared reflection layer, and other constituent elements that constitute the gate cover of the present invention will be described.

[1:樹脂基材]
本発明のゲートカバーに適用する樹脂基材は、面内リターデーション値Rが、入射角度0°、波長550nmの光線を入射させたときに、0nm以上、100nm未満であることを特徴とする。特にその他の制限はないが、透明樹脂基材であることが好ましい。
[1: resin base material]
The resin base material applied to the gate cover of the present invention is characterized in that the in-plane retardation value R O is 0 nm or more and less than 100 nm when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident. .. Although not particularly limited, a transparent resin base material is preferable.

本発明に適用可能な樹脂基材を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(略称:TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(略称:CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート(略称:PC)、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(略称:PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂及びポリアリレート樹脂、アートン(商品名、JSR社製)及びアペル(商品名、三井化学社製)等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。 Examples of the resin material constituting the resin base material applicable to the present invention include polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (abbreviation: TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (abbreviation: CAP), cellulose acetate phthalate, cellulose esters such as cellulose nitrate and derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate (abbreviation: PC), norbornene resin, polymethylpentene, Polyetherketone, polyimide, polyethersulfone (abbreviation: PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyetherimide, polyetherketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic resin and polyarylate resin, Arton ( Examples thereof include cycloolefin-based resins such as trade name, manufactured by JSR) and Apel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.).

これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分として有する樹脂基材が、所望の面内リターデーション値Rを得ることができる点で好ましい。 Among these resin base materials, a resin base material having a triacetyl cellulose (TAC), a cycloolefin resin, a polycarbonate (PC) resin, an acrylic resin and a polyarylate as a resin component has a desired in-plane retardation value R. It is preferable in that O can be obtained.

本発明に適用する樹脂基材に含まれる樹脂は、1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせたものであってもよく、また、ゲートカバーを形成する際の樹脂基材は、1種類の樹脂基材を複数用いても、あるいは異なる種類の樹脂基材を複数用いてもよい。 The resin contained in the resin base material applied to the present invention may be one kind or a combination of two or more kinds, and the resin base material for forming the gate cover is A plurality of one type of resin base material may be used, or a plurality of different types of resin base material may be used.

(樹脂基材の面内リターデーション値R
本発明に用いられる樹脂基材では、位相差フィルムとしての機能を持たせるため、入射角度0°、波長550nmの光線を入射させたときの面内リターデーション値Rが、0nm以上、100nm未満であることを特徴の一つとする。
(In-plane retardation value R O of resin substrate)
In the resin base material used in the present invention, in order to have a function as a retardation film, the in-plane retardation value R O when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident is 0 nm or more and less than 100 nm. Is one of the features.

本発明に係る樹脂基材の面内リターデーション値Roは、下記式(1)で定義される。
式(1):Ro=(n−n)×d
上記式(1)において、nはフィルムの面内方向において屈折率が最大となる方向x(面内遅相軸方向)における屈折率であり、nはフィルムの面内方向において前記方向x(面内遅相軸方向)と直交する方向yにおける屈折率であり、dはフィルムの膜厚(nm)である。
The in-plane retardation value Ro of the resin substrate according to the present invention is defined by the following formula (1).
Equation (1): Ro = (n x -n y) × d
In the formula (1), n x is the refractive index in the direction x (in-plane slow axis direction) where the refractive index is maximum in the in-plane direction of the film, and n y is the above-mentioned direction x in the in-plane direction of the film. It is the refractive index in the direction y orthogonal to the (in-plane slow axis direction), and d is the film thickness (nm) of the film.

本発明に係る樹脂基材の面内リターデーション値Roの測定は、以下の方法で行うことができる。
1)樹脂基材を23℃、55%RHの環境下で24時間調湿する。
2)調湿後の樹脂基材の、入射角度0°、測定波長550nmにおける面内リターデーション値Roを、自動複屈折率計 Axometorics社製「Axoscan」を用いて、23℃、55%RHの環境下で測定する。
The in-plane retardation value Ro of the resin substrate according to the present invention can be measured by the following method.
1) The resin base material is conditioned at 23° C. and 55% RH for 24 hours.
2) The in-plane retardation value Ro of the resin substrate after humidity adjustment at an incident angle of 0° and a measurement wavelength of 550 nm was measured at 23° C. and 55% RH by using an automatic birefringence meter “Axoscan” manufactured by Axometrics. Measure under the environment.

樹脂基材の面内リターデーション値Roは、主として樹脂基材を構成する熱可塑性樹脂の種類の選択、添加剤として用いられる糖のアルキレンオキサイド付加物の種類及び含有量の選択、並びにフィルム製膜時の延伸倍率の設定等によって、所望の面内リターデーション値Roに調整することができる。樹脂基材の面内リターデーション値Roを、0nm以上、100nm未満という低い条件に設定するための具体例としては、例えば、熱可塑性樹脂としてセルロースアシレートとアクリル系樹脂の混合物を選択したり、糖のアルキレンオキサイド付加物におけるアルキレンオキサイドの付加モル数を少なくしたり、アルキレンオキサイドの種類を炭素数の少ないアルキレンオキサイドとしたり、アルキレンオキサイドのヒドロキシ基末端を未封止としたり、延伸倍率を低くしたりする手段を適宜選択、又は組み合わせることにより、所望の面内リターデーション値Roとすることができる。 The in-plane retardation value Ro of the resin base material is mainly selected from the type of thermoplastic resin constituting the resin base material, the type and content of the alkylene oxide adduct of sugar used as an additive, and film formation. The in-plane retardation value Ro can be adjusted to a desired value by setting the stretching ratio at that time. As a specific example for setting the in-plane retardation value Ro of the resin substrate to a low condition of 0 nm or more and less than 100 nm, for example, a mixture of cellulose acylate and an acrylic resin is selected as the thermoplastic resin, Reduce the number of moles of alkylene oxide added to the alkylene oxide adduct of sugar, change the type of alkylene oxide to an alkylene oxide with a small number of carbon atoms, unblock the hydroxy group end of alkylene oxide, and lower the draw ratio. A desired in-plane retardation value Ro can be obtained by appropriately selecting or combining means for adjusting the values.

次いで、樹脂基材を構成する熱可塑性樹脂の代表例として、セルロースアシレート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂について、その詳細を説明する。 Next, details of cellulose acylate, acrylic resin, cycloolefin resin, and polycarbonate resin will be described as typical examples of the thermoplastic resin constituting the resin substrate.

〈セルロースアシレート〉
セルロースアシレートは、セルロースのヒドロキシ基の一部又は全部が、カルボン酸とのエステル化反応により得られる樹脂である。セルロースアシレートに含まれるアシル基は、1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせたものであってもよい。
<Cellulose acylate>
Cellulose acylate is a resin in which some or all of the hydroxy groups of cellulose are obtained by an esterification reaction with a carboxylic acid. The acyl group contained in the cellulose acylate may be one kind or a combination of two or more kinds.

セルロースアシレートに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であってもよいし、芳香族アシル基であってもよい。中でも、位相差の調整が容易である点から、セルロースアシレートに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であることが好ましい。 The acyl group contained in the cellulose acylate may be an aliphatic acyl group or an aromatic acyl group. Among them, the acyl group contained in the cellulose acylate is preferably an aliphatic acyl group because the retardation can be easily adjusted.

脂肪族アシル基の炭素原子数は、2〜7の範囲内であることが好ましく、2〜4の範囲内であることがより好ましい。脂肪族アシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the aliphatic acyl group is preferably in the range of 2-7, more preferably 2-4. Examples of the aliphatic acyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butanoyl group.

中でも、セルロースアシレートのアシル基としては、耐熱性を高めやすい点から、アセチル基を含むことが好ましく、必要に応じて炭素原子数3以上のアシル基をさらに含んでもよい。炭素原子数3以上のアシル基は、セルロースアシレートに疎水性を付与することができる。 Among them, the acyl group of cellulose acylate preferably contains an acetyl group from the viewpoint of easily increasing heat resistance, and may further contain an acyl group having 3 or more carbon atoms, if necessary. The acyl group having 3 or more carbon atoms can impart hydrophobicity to the cellulose acylate.

セルロースアシレートの例には、セルロースアセテート(セルロースジアセテート(略称:DAC)、セルローストリアセテート(略称:TAC)等)、セルロースアセテートプロピオネート(略称:CAP)及びセルロースアセテートブチレート等が挙げられ、位相差を発現しにくく、良好な耐熱性を有することから、セルロースアセテート及びセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。 Examples of cellulose acylate include cellulose acetate (cellulose diacetate (abbreviation: DAC), cellulose triacetate (abbreviation: TAC), etc.), cellulose acetate propionate (abbreviation: CAP), cellulose acetate butyrate, and the like. Cellulose acetate and cellulose acetate propionate are preferable because they hardly cause retardation and have good heat resistance.

セルロースアシレートのアシル基の総置換度は、2.0〜3.0の範囲内であることが好ましく、2.6〜3.0の範囲内であることがより好ましい。アシル基の総置換度を高めることにより、延伸による位相差発現性を低くすることができる。アシル基の置換度は、ASTM−D817−96に準じて測定することができる。 The total degree of substitution of acyl groups in cellulose acylate is preferably in the range of 2.0 to 3.0, more preferably in the range of 2.6 to 3.0. By increasing the total degree of substitution of the acyl groups, the retardation developability by stretching can be lowered. The substitution degree of the acyl group can be measured according to ASTM-D817-96.

具体的には、以下の式(1)〜(3)を満たすセルローストリアセテート又はセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基の置換度を表す。 Specifically, cellulose triacetate or cellulose acetate propionate satisfying the following formulas (1) to (3) is preferable. In the formula, X represents the substitution degree of the acetyl group, and Y represents the substitution degree of the propionyl group.

式(1)1.0≦X≦3.0
式(2) 0≦Y≦1.5
式(3)2.0≦X+Y≦3.0
セルロースアシレートの数平均分子量Mnは、30000〜150000の範囲内であることが好ましい。セルロースアシレートの数平均分子量Mnが30000以上であると、樹脂基材の機械的強度が得られやすく、150000以下であると、成形性が損なわれにくい。セルロースアシレートの重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比(Mw/Mn)は、1.4〜3.0程度であり得る。
Formula (1) 1.0≦X≦3.0
Formula (2) 0≦Y≦1.5
Formula (3) 2.0≦X+Y≦3.0
The number average molecular weight Mn of cellulose acylate is preferably in the range of 30,000 to 150,000. When the number average molecular weight Mn of the cellulose acylate is 30,000 or more, the mechanical strength of the resin substrate is easily obtained, and when it is 150,000 or less, the moldability is not easily impaired. The ratio (Mw/Mn) of the weight average molecular weight Mw and the number average molecular weight Mn of cellulose acylate may be about 1.4 to 3.0.

〈アクリル系樹脂〉
アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体;又は(メタ)アクリル酸エステルとそれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体であり得る。なお、(メタ)アクリル酸エステルには、アクリル酸エステルと、メタクリル酸エステルの両方が含まれる。
(メタ)アクリル酸エステルは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルであることが好ましく、メタクリル酸メチルであることがより好ましい。
<Acrylic resin>
The acrylic resin may be a homopolymer of (meth)acrylic acid ester; or a copolymer of (meth)acrylic acid ester and another monomer copolymerizable therewith. The (meth)acrylic acid ester includes both acrylic acid ester and methacrylic acid ester.
The (meth)acrylic acid ester is preferably a (meth)acrylic acid alkyl ester, and more preferably methyl methacrylate.

(メタ)クリル酸メチルと共重合可能な他のモノマーの例には、アルキル部分の炭素原子数が2〜18のメタクリル酸アルキルエステル;アルキル部分の炭素原子数が1〜18のアクリル酸アルキルエステル;アクリル酸、メタクリル酸等のα,β−不飽和酸;マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸;スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα,β−不飽和ニトリル;無水マレイン酸、グルタル酸無水物等の酸無水物;マレイミド、N−置換マレイミド等が含まれる。これらの他のモノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the other monomer copolymerizable with methyl (meth)acrylate include a methacrylic acid alkyl ester having an alkyl portion having 2 to 18 carbon atoms; an acrylic acid alkyl ester having an alkyl portion having 1 to 18 carbon atoms. Α,β-unsaturated acids such as acrylic acid and methacrylic acid; unsaturated group-containing divalent carboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid; aromatic vinyl such as styrene, α-methylstyrene, and nucleus-substituted styrene Compounds; α,β-unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; acid anhydrides such as maleic anhydride and glutaric anhydride; maleimides, N-substituted maleimides and the like. These other monomers may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル酸エステルとそれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体におけるメタクリル酸メチル由来の構造単位の含有割合は、該共重合体を構成する全構成単位の合計に対して30モル%以上であることが好ましく、50モル%以上であることがより好ましい。
アクリル系樹脂の例には、ポリメチルメタクリレート等が含まれる。
The content ratio of the structural unit derived from methyl methacrylate in the copolymer of the (meth)acrylic acid ester and the other monomer copolymerizable therewith is 30 mol based on the total of all the structural units constituting the copolymer. % Or more, and more preferably 50 mol% or more.
Examples of acrylic resins include polymethylmethacrylate and the like.

アクリル系樹脂の重量平均分子量Mwは、80000〜1000000の範囲内であることが好ましい。アクリル系樹脂の重量平均分子量Mwが80000以上であると、樹脂基材の機械的強度が得られやすく、1000000以下であると、成形性が損なわれにくい。アクリル系樹脂の重量平均分子量Mwは、前述と同様の方法で測定できる。 The weight average molecular weight Mw of the acrylic resin is preferably in the range of 80,000 to 1,000,000. When the weight average molecular weight Mw of the acrylic resin is 80,000 or more, the mechanical strength of the resin base material is easily obtained, and when it is 1,000,000 or less, the moldability is not easily impaired. The weight average molecular weight Mw of the acrylic resin can be measured by the same method as described above.

〈シクロオレフィン系樹脂〉
シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体である。
シクロオレフィン単量体は、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体である。位相差値RoやRt(厚さ方向の位相差値)が低い樹脂基材を得る観点から、非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体を含むことが好ましい。非対称な構造を有するシクロオレフィン単量体の例には、下記一般式(A−1)で表されるシクロオレフィン単量体が含まれる。
<Cycloolefin resin>
The cycloolefin-based resin is a polymer of cycloolefin monomers or a copolymer of cycloolefin monomers and other copolymerizable monomers.
The cycloolefin monomer is a cycloolefin monomer having a norbornene skeleton. From the viewpoint of obtaining a resin base material having a low retardation value Ro or Rt (retardation value in the thickness direction), it is preferable to include a cycloolefin monomer having an asymmetric structure. Examples of the cycloolefin monomer having an asymmetric structure include the cycloolefin monomer represented by the following general formula (A-1).

Figure 2020095193
Figure 2020095193

一般式(A−1)におけるRは、水素原子、炭素数1〜5の炭化水素基、又は炭素数1〜5のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。中でも、炭素数1〜5の炭化水素基が好ましく、炭素数1〜3の炭化水素基がより好ましい。 R 1 in the general formula (A-1) represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkylsilyl group having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Especially, a C1-C5 hydrocarbon group is preferable and a C1-C3 hydrocarbon group is more preferable.

一般式(A−1)におけるRは、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子)を表す。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。 R 2 in the general formula (A-1) represents a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, a cyano group, or a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or iodine). Atom). Of these, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group are preferable, and an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group are more preferable from the viewpoint of ensuring the solubility during solution film formation.

一般式(A−1)におけるpは0〜2の整数を表し、1又は2であることが好ましい。
一般式(A−1)で表されるシクロオレフィン単量体は、非対称な構造を有する。即ち、一般式(A−1)で表されるシクロオレフィン単量体の置換基R及びRが、それぞれ分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低い。そのような非対称構造を有するシクロオレフィン単量体は、主鎖がx方向に並んでも、側鎖がxy面内だけでなく、それ以外の種々の方向を向くため、Roのみが発現しやすく、Rtが大きくなりにくいと考えられる。
P in the general formula (A-1) represents an integer of 0 to 2, and is preferably 1 or 2.
The cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) has an asymmetric structure. That is, since the substituents R 1 and R 2 of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) are each substituted only on the ring-constituting carbon atom on one side with respect to the symmetry axis of the molecule, The symmetry of the molecule is low. In the cycloolefin monomer having such an asymmetric structure, even if the main chains are arranged in the x direction, the side chains are oriented not only in the xy plane but also in various other directions, so that only Ro is easily expressed, It is considered that Rt does not easily increase.

一般式(A−1)で表されるシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系重合体を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して、例えば、50モル%以上、好ましくは60モル%以上、より好ましくは80モル%以上とし得る。一般式(A−1)で表される単量体を一定以上含むシクロオレフィン系重合体は、樹脂基材のRtを低くしやすい。 The content ratio of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) is, for example, 50 mol% or more, preferably 50 mol% or more, based on the total of all cycloolefin monomers constituting the cycloolefin polymer. It may be 60 mol% or more, more preferably 80 mol% or more. The cycloolefin polymer containing a certain amount or more of the monomer represented by formula (A-1) easily lowers the Rt of the resin base material.

シクロオレフィン単量体は、必要に応じて一般式(A−1)で表されるシクロオレフィン単量体以外の他のシクロオレフィン単量体をさらに含んでもよい。他のシクロオレフィン単量体の例には、下記一般式(A−2)で表されるシクロオレフィン単量体が含まれる。 The cycloolefin monomer may further include another cycloolefin monomer other than the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1), if necessary. Examples of other cycloolefin monomers include cycloolefin monomers represented by the following general formula (A-2).

Figure 2020095193
Figure 2020095193

一般式(A−2)におけるR〜Rは、独立して水素原子、炭素原子数1〜30の炭化水素基、又は極性基を表す。ただし、R〜Rの全てが同時に水素原子を表すことはなく、RとRが同時に水素原子を表すことはなく、RとRが同時に水素原子を表すことはないものとする。 R 3 to R 6 in formula (A-2) independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, or a polar group. However, all of R 3 to R 6 do not represent hydrogen atoms at the same time, R 3 and R 4 do not represent hydrogen atoms at the same time, and R 5 and R 6 do not represent hydrogen atoms at the same time. To do.

炭素原子数1〜30の炭化水素基は、炭素原子数1〜10の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数1〜5の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数1〜30の炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基をさらに有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の2価の極性基が含まれる。炭素原子数1〜30の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が含まれる。 The hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms is preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. The hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms may further have a connecting group containing a halogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom. Examples of such a connecting group include a carbonyl group, an imino group, a divalent polar group such as an ether bond, a silyl ether bond and a thioether bond. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group and the like.

極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。
一般式(A−2)におけるpは、0〜2の整数を表し、1又は2であることが好ましい。
Examples of the polar group include a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an amino group, an amide group and a cyano group. Among them, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group are preferable, and an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group are preferable from the viewpoint of ensuring the solubility during solution film formation.
P in the general formula (A-2) represents an integer of 0 to 2, and is preferably 1 or 2.

一般式(A−1)及び一般式(A−2)で表されるシクロオレフィン単量体の具体例としては、例えば、特開2018−072503号公報の段落(0028)、特開2018−080211号公報の段落(0063)に記載されている例示化合物1〜34を挙げることができる。
他のシクロオレフィン単量体の例には、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン等も含まれる。
Specific examples of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) and the general formula (A-2) include, for example, paragraph (0028) of JP2018-072503A and JP2018-080211A. Exemplary compounds 1 to 34 described in paragraph (0063) of the publication can be mentioned.
Examples of other cycloolefin monomers also include dicyclopentadiene, dihydrodicyclopentadiene and the like.

シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、シクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体が含まれる。 Examples of copolymerizable monomer that can be copolymerized with cycloolefin monomer include copolymerizable monomer that can be ring-opening copolymerized with cycloolefin monomer, and addition copolymerizable with cycloolefin monomer. Such copolymerizable monomers are included.

開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン及びシクロオクタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。 Examples of the ring-opening copolymerizable copolymerizable monomer include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclohexene, cyclooctene, cyclopentadiene, cyclohexadiene, cycloheptadiene and cyclooctadiene.

付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体、(メタ)アクリレートが含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数2〜12(好ましくは2〜8)のオレフィン系化合物であり、その例には、エチレン、プロピレン、ブテンが含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、4−ビニルシクロペンテン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。(メタ)アクリレートの例には、メチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の炭素原子数1〜20のアルキル(メタ)アクリレートが含まれる。 Examples of copolymerizable monomers capable of addition copolymerization include unsaturated double bond-containing compounds, vinyl cyclic hydrocarbon monomers, and (meth)acrylates. An example of the unsaturated double bond-containing compound is an olefin compound having 2 to 12 carbon atoms (preferably 2 to 8), and examples thereof include ethylene, propylene and butene. Examples of vinyl-based cyclic hydrocarbon monomers include vinyl-cyclopentene-based monomers such as 4-vinylcyclopentene and 2-methyl-4-isopropenylcyclopentene. Examples of the (meth)acrylate include alkyl(meth)acrylates having 1 to 20 carbon atoms such as methyl(meth)acrylate, 2-ethylhexyl(meth)acrylate and cyclohexyl(meth)acrylate.

シクロオレフィン系樹脂におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系樹脂を構成する全単量体の合計に対して、例えば、50〜100モル%の範囲内、好ましくは60〜100モル%の範囲内とすることができる。 The content ratio of the cycloolefin-based resin in the cycloolefin-based resin is, for example, in the range of 50 to 100 mol%, preferably 60 to 100 mol% with respect to the total of all the monomers constituting the cycloolefin-based resin. Can be within the range.

シクロオレフィン系重合体の数平均分子量Mnは、8000〜100000の範囲内であることが好ましく、10000〜80000の範囲内であることがより好ましく、12000〜50000の範囲内であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系重合体の重量平均分子量Mwは、20000〜300000の範囲内であることが好ましく、30000〜250000の範囲内であることがより好ましく、40000〜200000の範囲内であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系重合体の数平均分子量Mn、重量平均分子量Mwは、前述と同様の方法で測定できる。 The number average molecular weight Mn of the cycloolefin polymer is preferably in the range of 8,000 to 100,000, more preferably in the range of 10,000 to 80,000, and further preferably in the range of 12,000 to 50,000. The weight average molecular weight Mw of the cycloolefin polymer is preferably in the range of 20,000 to 300,000, more preferably in the range of 30,000 to 250,000, and even more preferably in the range of 40,000 to 200,000. The number average molecular weight Mn and the weight average molecular weight Mw of the cycloolefin polymer can be measured by the same method as described above.

〈ポリカーボネート系樹脂〉
本発明に係る樹脂基材として、種々の公知のポリカーボネート系樹脂も使用することができる。本発明においては、特に芳香族ポリカーボネートを用いることが好ましい。当該芳香族ポリカーボネートについて特に制約はなく、所望する樹脂基材の諸特性が得られる芳香族ポリカーボネートであれば特に制約はない。
<Polycarbonate resin>
Various known polycarbonate-based resins can also be used as the resin base material according to the present invention. In the present invention, it is particularly preferable to use aromatic polycarbonate. There are no particular restrictions on the aromatic polycarbonate, and there is no particular restriction as long as it is an aromatic polycarbonate that provides the desired properties of the resin substrate.

一般に、ポリカーボネートと総称される高分子材料は、公知の重縮合反応を用い、主鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称するが、これらの内でも、一般に、フェノール誘導体と、ホスゲン、ジフェニルカーボネートらから重縮合で得られるものを意味する。通常、ビスフェノール−Aと呼称されている2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンをビスフェノール成分とする繰り返し単位で表される芳香族ポリカーボネートが好ましく選ばれるが、適宜各種ビスフェノール誘導体を選択することで、芳香族ポリカーボネート共重合体を構成することができる。 Generally, polymer materials generally referred to as polycarbonates are those in which the main chain is bound by a carbonic acid bond using a known polycondensation reaction. Among these, generally, a phenol derivative, phosgene and diphenyl are used. It means a product obtained by polycondensation from carbonates or the like. Usually, an aromatic polycarbonate represented by a repeating unit having a bisphenol component of 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, which is called bisphenol-A, is preferably selected, but various bisphenol derivatives should be appropriately selected. Then, an aromatic polycarbonate copolymer can be constituted.

かかる共重合成分としてこのビスフェノール−A以外に、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフロロプロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)サルファイド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等を挙げることができる。 As such a copolymerization component, in addition to bisphenol-A, bis(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene, 1,1 -Bis(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)propane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-2-phenyl Ethane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis(4-hydroxyphenyl)diphenylmethane, bis(4-hydroxyphenyl)sulfide, bis( 4-hydroxyphenyl) sulfone, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexane and the like can be mentioned.

また、一部にテレフタル酸又はイソフタル酸成分を含む芳香族ポリエステルカーボネートを使用することも可能である。このような構成単位を、ビスフェノール−Aからなる芳香族ポリカーボネートの構成成分の一部に使用することにより、芳香族ポリカーボネートの性質、例えば、耐熱性、溶解性を改良することができるが、このような共重合体についても本発明は有効である。 It is also possible to use an aromatic polyester carbonate partially containing a terephthalic acid or isophthalic acid component. By using such a structural unit as a part of the constituent components of the aromatic polycarbonate composed of bisphenol-A, the properties of the aromatic polycarbonate, such as heat resistance and solubility, can be improved. The present invention is also effective for various copolymers.

ここで用いられる芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量は、10000〜200000の範囲内であることが好ましく、20000〜120000の範囲内であることが特に好ましい。粘度平均分子量が10000未満の樹脂を使用すると、得られる樹脂基材の機械的強度が不足する場合があり、また200000を超える高分子量になると、製膜時のドープの粘度が高くなり過ぎ、取扱い上問題を生じるので好ましくない。粘度平均分子量は市販の高速液体クロマトグラフィ等で測定することができる。 The viscosity average molecular weight of the aromatic polycarbonate used here is preferably in the range of 10,000 to 200,000, and particularly preferably in the range of 20,000 to 120,000. When a resin having a viscosity average molecular weight of less than 10,000 is used, the mechanical strength of the obtained resin base material may be insufficient, and when the polymer has a high molecular weight of more than 200,000, the viscosity of the dope during film formation becomes too high. This is not preferable because it causes problems. The viscosity average molecular weight can be measured by a commercially available high performance liquid chromatography or the like.

本発明に用いられる芳香族ポリカーボネートのガラス転移温度は200℃以上であることが高耐熱性のフィルムを得る上で好ましく、より好ましくは230℃以上である。これらは、上記共重合成分を適宜選択して得ることができる。ガラス転移温度は、DSC装置(示差走査熱量分析装置)にて測定することができ、例えばセイコーインスツル株式会社製:RDC220にて、10℃/分の昇温条件によって求められる、ベースラインが低温側から変化し始める温度である。 The glass transition temperature of the aromatic polycarbonate used in the present invention is preferably 200° C. or higher in order to obtain a highly heat resistant film, and more preferably 230° C. or higher. These can be obtained by appropriately selecting the copolymerization component. The glass transition temperature can be measured by a DSC device (differential scanning calorimeter), for example, RDC220 manufactured by Seiko Instruments Inc., which is obtained by a temperature rising condition of 10° C./min. It is the temperature that begins to change from the side.

樹脂基材の作製に適用する熱可塑性樹脂は、偏光板に加工する際の適性から、セルロースアシレートが好ましい。位相差を低減しやすく、耐湿性や耐熱性をバランスさせやすい点では、セルロースアシレートとアクリル系樹脂の併用も好ましい。耐湿性を高めやすい点では、アクリル系樹脂やシクロオレフィン系樹脂が好ましい。さらに透明度や強度の観点からは、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。
樹脂基材における熱可塑性樹脂の含有量は、樹脂基材の全質量に対して50質量%以上、好ましくは70質量%以上とし得る。
The thermoplastic resin applied to the production of the resin base material is preferably cellulose acylate from the viewpoint of suitability for processing into a polarizing plate. A combination of cellulose acylate and an acrylic resin is also preferable from the viewpoint of easily reducing the phase difference and easily balancing the moisture resistance and the heat resistance. Acrylic resins and cycloolefin resins are preferable from the viewpoint of easily increasing the moisture resistance. Further, from the viewpoint of transparency and strength, polycarbonate resin is preferable.
The content of the thermoplastic resin in the resin substrate may be 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, based on the total mass of the resin substrate.

(樹脂基材のその他の添加剤)
本発明に係る樹脂基材には、必要に応じて、上記以外の他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、紫外線吸収剤、可塑剤、酸化防止剤及びマット剤等が挙げられる。
(Other additives of resin base material)
The resin base material according to the present invention may further contain components other than those described above, if necessary. Examples of other components include ultraviolet absorbers, plasticizers, antioxidants and matting agents.

(紫外線吸収剤)
紫外線吸収剤は、樹脂基材の耐候性を向上させる目的で添加され得る。そのような紫外線吸収剤の例には、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、及びトリアジン系紫外線吸収剤が含まれる。
(UV absorber)
The ultraviolet absorber may be added for the purpose of improving the weather resistance of the resin base material. Examples of such UV absorbers include benzotriazole-based UV absorbers, benzophenone-based UV absorbers, salicylate-based UV absorbers, cyanoacrylate-based UV absorbers, and triazine-based UV absorbers.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例には、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノールが含まれる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品の例には、TINUVIN109、TINUVIN171、TINUVIN234、TINUVIN326、TINUVIN327、TINUVIN328、TINUVIN928等のTINUVINシリーズがあり、これらはいずれもBASF社製の市販品である。 Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include 5-chloro-2-(3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl)-2H-benzotriazole and (2-2H-benzotriazol-2-yl). )-6-(Straight and side chain dodecyl)-4-methylphenol. Examples of commercially available benzotriazole-based UV absorbers include TINUVIN series such as TINUVIN109, TINUVIN171, TINUVIN234, TINUVIN326, TINUVIN327, TINUVIN328, and TINUVIN928, all of which are commercial products manufactured by BASF.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例には、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)等が含まれる。 Examples of the benzophenone-based UV absorber include 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-. Sulfobenzophenone, bis(2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane) and the like are included.

サリチル酸エステル系紫外線吸収剤の例には、フェニルサリシレート、p−tert−ブチルサリシレート等が含まれる。 Examples of salicylic acid ester-based UV absorbers include phenyl salicylate, p-tert-butyl salicylate, and the like.

シアノアクリレート系紫外線吸収剤の例には、2′−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3−(3′,4′−メチレンジオキシフェニル)−アクリレート等が含まれる。 Examples of the cyanoacrylate-based ultraviolet absorber are 2'-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, ethyl-2-cyano-3-(3',4'-methylenedioxyphenyl)-acrylate, and the like. Is included.

トリアジン系紫外線吸収剤の例には、2−(2′−ヒドロキシ−4′−ヘキシルオキシフェニル)−4,6−ジフェニルトリアジン等が含まれる。トリアジン系紫外線吸収剤の市販品の例には、TINUVIN477(BASF社製)が含まれる。 Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2-(2'-hydroxy-4'-hexyloxyphenyl)-4,6-diphenyltriazine and the like. Examples of commercially available triazine-based UV absorbers include TINUVIN 477 (manufactured by BASF).

これらの中でも、良好な紫外線吸収能を有する点では、トリアジン系の紫外線吸収剤が好ましいが、延伸によって位相差を発現しやすい傾向がある。したがって、延伸により位相差を発現しにくく、かつ良好な紫外線吸収性能を有する点では、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤がより好ましい。 Among these, the triazine-based UV absorbers are preferable in that they have a good UV-absorbing ability, but they tend to exhibit a retardation by stretching. Therefore, the benzotriazole-based UV absorber and the benzophenone-based UV absorber are preferable, and the benzotriazole-based UV absorber is more preferable, in that the retardation hardly occurs due to stretching and the UV absorbing performance is good.

紫外線吸収剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して0.1〜10質量%の範囲内であることが好ましい。紫外線吸収剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して0.1質量%以上であれば、樹脂基材の耐候性を十分に高めうる。紫外線吸収剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して10質量%以下であれば、得られる樹脂基材の透明性が損なわれ難い。紫外線吸収剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して0.5〜10質量%であることがより好ましく、1.5〜5質量%であることがさらに好ましい。 The content of the ultraviolet absorber is preferably within the range of 0.1 to 10 mass% with respect to the total mass of the thermoplastic resin. When the content of the ultraviolet absorber is 0.1% by mass or more based on the total mass of the thermoplastic resin, the weather resistance of the resin base material can be sufficiently enhanced. When the content of the ultraviolet absorber is 10% by mass or less based on the total mass of the thermoplastic resin, the transparency of the obtained resin base material is hard to be impaired. The content of the ultraviolet absorber is more preferably 0.5 to 10% by mass, further preferably 1.5 to 5% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin.

(可塑剤)
可塑剤の例には、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤(フタル酸エステル系可塑剤を含む)、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤(脂肪酸エステル系可塑剤を含む)、及びアクリル系可塑剤等が含まれる。保護フィルムに含まれる可塑剤は、1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。中でも、熱可塑性樹脂と相溶しやすく、良好な可塑性が得られやすい点から、ポリエステル系可塑剤が好ましい。
ポリエステル系可塑剤は、下記式(I)で表されるであることが好ましい。下記式(I)におけるnは、1以上の整数を表す。
(Plasticizer)
Examples of plasticizers include polyester plasticizers, polyhydric alcohol ester plasticizers, polycarboxylic acid ester plasticizers (including phthalic acid ester plasticizers), glycolate plasticizers, ester plasticizers ( Fatty acid ester-based plasticizers), acrylic plasticizers, and the like. The plasticizer contained in the protective film may be one kind or a combination of two or more kinds. Among them, polyester-based plasticizers are preferable because they are easily compatible with the thermoplastic resin and good plasticity is easily obtained.
The polyester plasticizer is preferably represented by the following formula (I). N in the following formula (I) represents an integer of 1 or more.

式(I):B−(G−A)−G−B
式(I)におけるAは、炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸から誘導される基、アルケニレンジカルボン酸から誘導される基、又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸から誘導される基を表す。
Formula (I): B-(GA) n -GB
A in the formula (I) represents a group derived from an alkylenedicarboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms, a group derived from an alkenylene dicarboxylic acid, or a group derived from an aryl dicarboxylic acid having 6 to 12 carbon atoms.

アルキレンジカルボン酸から誘導される基の例には、1,2−エタンジカルボン酸(コハク酸)、1,3−プロパンジカルボン酸(グルタル酸)、1,4−ブタンジカルボン酸(アジピン酸)、1,5−ペンタンジカルボン酸(ピメリン酸)、1,8−オクタンジカルボン酸(セバシン酸)等が含まれる。アルケニレンジカルボン酸から誘導される基の例には、マレイン酸、フマル酸等から誘導される基が含まれる。アリールジカルボン酸から誘導される基の例には、1,2−ベンゼンジカルボン酸(フタル酸)、1,3−ベンゼンジカルボン酸、1,4−ベンゼンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸等から誘導される基が含まれる。 Examples of groups derived from alkylenedicarboxylic acid include 1,2-ethanedicarboxylic acid (succinic acid), 1,3-propanedicarboxylic acid (glutaric acid), 1,4-butanedicarboxylic acid (adipic acid), 1 , 5-pentanedicarboxylic acid (pimelic acid), 1,8-octanedicarboxylic acid (sebacic acid) and the like are included. Examples of the group derived from alkenylene dicarboxylic acid include groups derived from maleic acid, fumaric acid and the like. Examples of the group derived from the aryldicarboxylic acid include 1,2-benzenedicarboxylic acid (phthalic acid), 1,3-benzenedicarboxylic acid, 1,4-benzenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid and the like. Induced groups are included.

式(I)におけるGは、炭素数2〜12のアルキレングリコールから誘導される基、炭素数6〜12のアリールグリコールから誘導される基、又は炭素数4〜12のオキシアルキレングリコールから誘導される基を表す。 G in the formula (I) is derived from an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms, a group derived from an aryl glycol having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol having 4 to 12 carbon atoms. Represents a group.

炭素数2〜12のアルキレングリコールから誘導される基の例には、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、及び1,12−オクタデカンジオール等から誘導される基が含まれる。 Examples of the group derived from an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1 ,2-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2 ,2-diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl -1,5-Pentanediol, 1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2-methyl-1,8-octane Included are groups derived from diols, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-octadecanediol and the like.

炭素数6〜12のアリールグリコールから誘導される基の例には、1,2−ジヒドロキシベンゼン(カテコール)、1,3−ジヒドロキシベンゼン(レゾルシノール)、1,4−ジヒドロキシベンゼン(ヒドロキノン)などから誘導される基が含まれる。炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコールから誘導される基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等から誘導される基が含まれる。 Examples of the group derived from an aryl glycol having 6 to 12 carbon atoms include 1,2-dihydroxybenzene (catechol), 1,3-dihydroxybenzene (resorcinol), and 1,4-dihydroxybenzene (hydroquinone). Included groups. Examples of the group derived from oxyalkylene glycol having 4 to 12 carbon atoms include groups derived from diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like.

Gは、1種類であっても、2種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Gは、炭素原子数2〜12のアルキレングリコールから誘導される基であることが好ましい。
式(I)におけるBは、芳香環含有モノカルボン酸又は脂肪族モノカルボン酸から誘導される基である。
The G may be one type or a combination of two or more types. Among them, G is preferably a group derived from alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms.
B in the formula (I) is a group derived from an aromatic ring-containing monocarboxylic acid or an aliphatic monocarboxylic acid.

芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基等を介してカルボキシ基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、3−フェニルプロピオン酸等から誘導される基が含まれる。 Aromatic ring-containing monocarboxylic acid is a carboxylic acid containing an aromatic ring in the molecule, not only those in which the aromatic ring is directly bonded to the carboxy group, but those in which the aromatic ring is bonded to the carboxy group via an alkylene group, etc. Including. Examples of groups derived from aromatic ring-containing monocarboxylic acids include benzoic acid, paratertiarybutylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, paratoluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, normal propylbenzoic acid, aminobenzoic acid. Groups derived from acids, acetoxybenzoic acid, phenylacetic acid, 3-phenylpropionic acid and the like are included.

脂肪族モノカルボン酸から誘導される基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される基が含まれる。中でも、アルキル部分の炭素数が1〜3であるアルキルモノカルボン酸から誘導される基が好ましく、アセチル基がより好ましい。 Examples of groups derived from an aliphatic monocarboxylic acid include groups derived from acetic acid, propionic acid, butanoic acid, caprylic acid, caproic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, stearic acid, oleic acid and the like. Of these, a group derived from an alkyl monocarboxylic acid having an alkyl moiety having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and an acetyl group is more preferable.

式(I)で表されるポリエステル系可塑剤の具体例としては、例えば、特開2017−219767号公報の段落(0090)に記載の例示化合物I−1〜I−19を挙げることができる。 Specific examples of the polyester-based plasticizer represented by the formula (I) include Exemplified Compounds I-1 to I-19 described in paragraph (0090) of JP-A-2017-219767.

ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量は、500〜3000の範囲内であることが好ましい。ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量が500以上であると、製膜時に揮発しにくく、3000以下であると成形性や熱可塑性樹脂との相溶性が損なわれにくい。ポリエステル系可塑剤の重量平均分子量は、600〜2000の範囲内であることがより好ましい。重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によって測定することができる。 The weight average molecular weight of the polyester plasticizer is preferably in the range of 500 to 3000. When the weight average molecular weight of the polyester plasticizer is 500 or more, it is difficult to volatilize during film formation, and when it is 3000 or less, moldability and compatibility with the thermoplastic resin are not easily impaired. The weight average molecular weight of the polyester plasticizer is more preferably in the range of 600 to 2000. The weight average molecular weight can be measured, for example, by gel permeation chromatography (GPC).

可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して1〜40質量%の範囲内であることが好ましい。可塑剤の含有量が熱可塑性樹脂の全質量に対して1質量%以上であると、樹脂基材を膜状物としたとき、十分に可塑化しやすく、40質量%以下であると、樹脂基材の延伸時や保存時のブリードアウトを十分に抑制しやすい。可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して1〜20質量%の範囲内であることがより好ましく、1〜3質量%の範囲内であることがさらに好ましい。 The content of the plasticizer is preferably in the range of 1 to 40 mass% with respect to the total mass of the thermoplastic resin. When the content of the plasticizer is 1% by mass or more with respect to the total mass of the thermoplastic resin, the resin substrate is easily plasticized sufficiently when it is made into a film, and when it is 40% by mass or less, the resin group Bleed out during stretching and storage of the material can be easily suppressed. The content of the plasticizer is more preferably in the range of 1 to 20% by mass and further preferably in the range of 1 to 3% by mass with respect to the total mass of the thermoplastic resin.

(酸化防止剤)
酸化防止剤は、高湿高温下に置かれた樹脂基材の劣化を抑制する目的、具体的には、樹脂基材中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等による樹脂成分の分解を遅らせたり、抑制したりする目的で添加され得る。
(Antioxidant)
The antioxidant is for the purpose of suppressing deterioration of the resin base material placed under high humidity and high temperature, and specifically, the resin due to halogen of the residual solvent amount in the resin base material or phosphoric acid of the phosphoric acid plasticizer. It may be added for the purpose of delaying or suppressing the decomposition of components.

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、その例には、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト等が含まれる。中でも、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。 As the antioxidant, a hindered phenol compound is preferably used, and examples thereof include 2,6-di-t-butyl-p-cresol and pentaerythrityl-tetrakis[3-(3,5-di). -T-Butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], triethylene glycol-bis[3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 1,6-hexanediol-bis[3 -(3,5-Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 2,4-bis-(n-octylthio)-6-(4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)- 1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], octadecyl-3-(3,5-di-t -Butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, N,N'-hexamethylenebis(3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3,5-trimethyl-2,4 , 6-tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, tris-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)-isocyanurate and the like. Among them, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], triethylene glycol-bis[3 -(3-t-Butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)propionate] is preferred.

酸化防止剤の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して1質量ppm〜1.0質量%の範囲内であることが好ましく、10〜1000質量ppmの範囲内であることがより好ましい。 The content of the antioxidant is preferably in the range of 1 mass ppm to 1.0 mass% with respect to the total mass of the thermoplastic resin, and more preferably in the range of 10 to 1000 mass ppm.

(マット剤)
マット剤(以下、微粒子ともいう。)は、樹脂基材の表面の滑り性を高める目的で添加され得る。微粒子は、無機微粒子又は有機微粒子である。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素(シリカ)、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等の微粒子が含まれる。有機微粒子の例には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、(メタ)アクリル系樹脂等の微粒子が含まれる。中でも、ヘイズを生じ難く、着色も少ないことから、二酸化ケイ素(シリカ)粒子が好ましい。
(Matting agent)
The matting agent (hereinafter, also referred to as fine particles) may be added for the purpose of enhancing the slipperiness of the surface of the resin base material. The fine particles are inorganic fine particles or organic fine particles. Examples of the inorganic fine particles include silicon dioxide (silica), titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, Fine particles such as magnesium silicate and calcium phosphate are included. Examples of organic fine particles include fine particles of silicone resin, fluororesin, (meth)acrylic resin, and the like. Among them, silicon dioxide (silica) particles are preferable because they hardly cause haze and are less colored.

二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600、NAX50(以上、日本アエロジル(株)製)、シーホスターKE−P10、KE−P30、KE−P50、KE−P100(以上、日本触媒(株)製)等が含まれる。中でも、得られるフィルムの濁度(ヘイズともいう。)を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させやすいことから、アエロジルR972V、NAX50及びシーホスターKE−P30が好ましい。 Examples of fine particles of silicon dioxide include Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600, NAX50 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Seahoster KE-P10, KE-P30. , KE-P50, KE-P100 (above, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and the like. Among them, Aerosil R972V, NAX50 and Seahoster KE-P30 are preferable because they can easily reduce the friction coefficient while keeping the turbidity (also referred to as haze) of the obtained film low.

微粒子の一次粒径は、5〜50nmの範囲内であることが好ましく、7〜20nmの範囲内であることがより好ましい。一次粒径が大きいほうが、得られるフィルムの滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒径0.05〜0.3μmの二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子又はその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率50〜200万倍で一次粒子又は二次凝集体を観察し、一次粒子又は二次凝集体100個の粒径の平均値として求めることができる。
微粒子の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対して0.05〜1.0質量%の範囲内であることが好ましく、0.1〜0.8質量%であることがより好ましい。
The primary particle size of the fine particles is preferably in the range of 5 to 50 nm, and more preferably in the range of 7 to 20 nm. The larger the primary particle size, the greater the effect of increasing the slipperiness of the obtained film, but the transparency tends to decrease. Therefore, the fine particles may be contained as a secondary aggregate having a particle diameter of 0.05 to 0.3 μm. The size of the primary particles of the fine particles or the secondary aggregate thereof is 100 particles of the primary particles or the secondary aggregates when the primary particles or the secondary aggregates are observed with a transmission electron microscope at a magnification of 50 to 2,000,000 times. It can be obtained as an average value of diameters.
The content of the fine particles is preferably in the range of 0.05 to 1.0 mass% and more preferably 0.1 to 0.8 mass% with respect to the total mass of the thermoplastic resin.

(樹脂基材の製造方法)
本発明に用いられる樹脂基材は、任意の方法で製造することができ、その製造工程は、例えば、(1)少なくとも前記説明した熱可塑性樹脂と溶媒とを含むドープを得る工程と、(2)得られたドープを金属支持体上に流延し、乾燥及び剥離して、フィルム状物を得る工程と、(3)得られたフィルム状物を延伸する工程等により構成されている。
(Method of manufacturing resin base material)
The resin base material used in the present invention can be produced by any method, and the production process includes, for example, (1) a step of obtaining a dope containing at least the above-described thermoplastic resin and a solvent, and (2) ) A step of casting the obtained dope on a metal support, drying and peeling the dope to obtain a film-like material, and (3) a step of stretching the obtained film-like material.

本発明に用いられる樹脂基材の製造に適用可能な製造方法としては、従来公知のフィルム製膜方法を適用することができ、例えば、特開2013−120278号公報、特開2015−049331号公報、特開2015−132661号公報、特開2017-111264号公報、特開2017−122936号公報、国際公開第2015/141340号、国際公開第2017/110400号等に具体的に記載されている方法を適用することができる。 As a production method applicable to the production of the resin base material used in the present invention, a conventionally known film forming method can be applied, for example, JP2013-120278A and JP2015-049331A. , JP-A-2015-132661, JP-A-2017-111264, JP-A-2017-122936, International Publication No. 2015/141340, International Publication No. 2017/110400, and the like. Can be applied.

[2:赤外線吸収層]
本発明のゲートカバーは、赤外線吸収層が、750〜1200nmの近赤外線波長領域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物である赤外線吸収剤−1と、金属酸化物系赤外線吸収剤である赤外線吸収剤−2の2種を含有することを特徴とする。
[2: Infrared absorbing layer]
In the gate cover of the present invention, the infrared absorbing layer is an infrared absorbing agent-1 which is a near infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the near infrared wavelength region of 750 to 1200 nm, and a metal oxide infrared absorbing agent. It is characterized by containing two kinds of infrared absorbing agents-2.

このように2種有することにより赤外線の広範囲の波長領域にわたり、効率よく赤外線を吸収することができるため、本発明のゲートカバーの赤外遮蔽効果を高くすることができる。
ゲートカバーの赤外遮蔽効果を高くし、かつ、可視光波長領域の透過率を高くする観点から、赤外線吸収剤−1に対する前記赤外線吸収剤−2の質量比の値は、1.0〜6.0の範囲内であることが好ましい。
Since the infrared rays can be efficiently absorbed over a wide wavelength range of infrared rays by having two kinds as described above, the infrared shielding effect of the gate cover of the present invention can be enhanced.
From the viewpoint of increasing the infrared shielding effect of the gate cover and increasing the transmittance in the visible light wavelength region, the value of the mass ratio of the infrared absorbent-2 to the infrared absorbent-1 is 1.0 to 6 It is preferably in the range of 0.0.

また、赤外線吸収剤−1と赤外線吸収剤−2は、一つの赤外線吸収層に同時に含有されていても良いし、複数の赤外線吸収層に含有されていても良い。ゲートカバーが赤外線吸収層を複数有する場合、樹脂基材上に、赤外線吸収剤−2を含有する層、赤外線反射層及び赤外線吸収剤−1を含有する層が、この順で配置されていることが好ましい。樹脂基材側をヘッドアップディスプレイ内の光源側に設置することが好ましい。 Further, the infrared absorbing agent-1 and the infrared absorbing agent-2 may be contained in one infrared absorbing layer at the same time, or may be contained in a plurality of infrared absorbing layers. When the gate cover has a plurality of infrared absorbing layers, the layer containing the infrared absorbing agent-2, the infrared reflecting layer and the layer containing the infrared absorbing agent-1 are arranged in this order on the resin substrate. Is preferred. It is preferable to install the resin substrate side on the light source side in the head-up display.

本発明において、赤外線吸収層は、750〜2500nmの近赤外領域の光の吸収能を有する層である。また、赤外線吸収層は、他の機能を付与するため、あるいは各種特性を向上させるために、その他の添加剤を含んでいてもよい。
さらに、後述する機能層に赤外線吸収剤を含有させ、機能層に赤外線吸収層の機能を付与することができる。例えば、接着剤を含有する粘着層に赤外線吸収剤も含有させることにより、赤外線吸収層の機能を付与することができる。さらにハードコート層に赤外線吸収剤も含有させることにより、ハードコート層に赤外線吸収層の機能を付与することができる。
In the present invention, the infrared absorbing layer is a layer having the ability to absorb light in the near infrared region of 750 to 2500 nm. Further, the infrared absorption layer may contain other additives in order to impart other functions or improve various characteristics.
Further, an infrared absorbing agent may be contained in the functional layer described later to give the function layer the function of the infrared absorbing layer. For example, the function of the infrared absorbing layer can be imparted by including the infrared absorbing agent in the adhesive layer containing the adhesive. Further, by including an infrared absorbing agent in the hard coat layer, the function of the infrared absorbing layer can be imparted to the hard coat layer.

(赤外線吸収剤−1)
本発明に係る赤外線吸収剤−1は、750〜1200nmの範囲内に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物である。このようなものとして以下の化合物を挙げることができる。
(Infrared absorber-1)
The infrared absorbent-1 according to the present invention is a near infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the range of 750 to 1200 nm. The following compounds can be mentioned as such a thing.

本発明に適用可能な近赤外線吸収性有機化合物としては、例えば、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、ポリメチン系色素(シアニン系、オキソノール系、クロコニウム系、スクアリリウム系、ピリリウム系、アズレヌウム系)、ジチオール錯塩系化合物、金属錯体系色素(銅錯体、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物)、トリアリルメタン系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、などが挙げられる。 Examples of the near infrared absorbing organic compound applicable to the present invention include nitroso compounds and metal complex salts thereof, polymethine dyes (cyanine type, oxonol type, croconium type, squarylium type, pyrylium type, azrenium type), dithiol complex salt type Compounds, metal complex dyes (copper complexes, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds), triallylmethane dyes, immonium dyes, diimmonium dyes, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, amino compounds, aminium salt compounds, etc. Is mentioned.

この中でも、金属錯体系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、ポリメチン系色素、又はトリアリルメタン系色素が好ましく、より好ましくは、金属錯体系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、アミニウム塩系化合物、ポリメチン系色素、又はトリアリルメタン系色素であり、さらに好ましくは、金属錯体系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、又はポリメチン系色素であり、特に、ジインモニウム系色素又はポリメチン系色素が好ましい。ポリメチン系色素の中ではクロコニウム系、スクアリリウム系、ピリリウム系のポリメチン色素が好ましい。 Among these, metal complex dyes, immonium dyes, diimmonium dyes, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, amino compounds, aminium salt compounds, polymethine dyes, or triallylmethane dyes are preferred, more preferably, Metal complex dyes, immonium dyes, diimmonium dyes, aminium salt compounds, polymethine dyes, or triallylmethane dyes, more preferably metal complex dyes, immonium dyes, diimmonium dyes, Alternatively, it is a polymethine dye, and a diimmonium dye or a polymethine dye is particularly preferable. Among the polymethine dyes, croconium dyes, squarylium dyes and pyrylium dyes are preferred.

ジインモニウム塩系化合物は、市販品を用いることができる。例えば、Kayasorb IRG−022、IRG−023、IRG−024(以上、日本化薬社製)、CIR−1080、CIR−1081、CIR−1083、CIR−1085(以上、日本カーリット社製)などが好適である。 A commercially available product can be used as the diimmonium salt compound. For example, Kayasorb IRG-022, IRG-023, IRG-024 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), CIR-1080, CIR-1081, CIR-1083, CIR-1085 (above, Nippon Carlit Co., Ltd.) etc. are suitable. Is.

好適に使用できる近赤外線吸収色素の具体例としては、例えば、特開2004−93767号、特開2004−69759号、特開2002−286931号、特開2002−122729号、特開2001−115050号、特開2001−115050号、特開2000−162431号、特開平11−109126号、特開2006−139311号の各公報に記載のものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されることは無い。 Specific examples of the near-infrared absorbing dye that can be preferably used include, for example, JP-A 2004-93767, JP-A 2004-69759, JP-A 2002-286931, JP-A 2002-122729, and JP-A 2001-115050. , JP-A-2001-115050, JP-A-2000-162431, JP-A-11-109126, and JP-A-2006-13311, but the present invention is not limited thereto. There is no such thing.

(極大吸収ピークの測定)
本発明に係る近赤外線吸収性有機化合物の極大吸収ピークは、例えば、分光光度計U−4100(日立ハイテクノロジーズ社製)等の赤外分光吸収の測定が可能な機器を用いて測定することができる。測定溶媒は、例えば、メタノール、ジメチルスルホオキシド、ジアセトンアルコール、1,2−ジクロロエタン、トルエン、メチルエチルケトン等を用いることができる。
(Measurement of maximum absorption peak)
The maximum absorption peak of the near-infrared absorbing organic compound according to the present invention can be measured using a device capable of measuring infrared spectral absorption such as a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). it can. As the measurement solvent, for example, methanol, dimethyl sulfoxide, diacetone alcohol, 1,2-dichloroethane, toluene, methyl ethyl ketone, or the like can be used.

(赤外線吸収剤−2)
本発明に係る赤外線吸収剤−2は、金属酸化物系赤外線吸収剤である。
本発明に適用可能な金属酸化物系赤外線吸収剤としては、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム(ITO)、セシウムドープ酸化タングステン(CWO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)及びアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、六ホウ素化ランタン(LaB)、酸化亜鉛、インジウムドープト酸化亜鉛(IZO)、ニッケル錯体系化合物等が挙げられるが、特に、スズドープ酸化インジウム(ITO)、セシウムドープ酸化タングステン(CWO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)及びアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
(Infrared absorber-2)
The infrared absorbent-2 according to the present invention is a metal oxide infrared absorbent.
Examples of the metal oxide infrared absorber applicable to the present invention include tin oxide, tin-doped indium oxide (ITO), cesium-doped tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO), gallium-doped zinc oxide (GZO) and Examples thereof include aluminum-doped zinc oxide (AZO), lanthanum hexaboride (LaB 6 ), zinc oxide, indium-doped zinc oxide (IZO), and nickel complex compounds, but in particular, tin-doped indium oxide (ITO) and cesium-doped. At least one selected from tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO), gallium-doped zinc oxide (GZO), and aluminum-doped zinc oxide (AZO) is preferable.

また、これらの金属酸化物系赤外線吸収剤は、市販品として入手することもでき、例えば、酸化亜鉛系としては、セルナックスシリーズ(日産化学工業社製)、パゼットシリーズ(ハクスイテック社製);酸化スズ系としては、ATO分散液(SR35M Advanced Nano Products社製)、ITO分散液(三菱マテリアル電子化成社製)、KHシリーズ(住友金属鉱山社製);セシウムドープト酸化タングステン系としては、CWO分散液(YMF−02A 住友金属鉱山社製);六ホウ素化ランタン系としては、LaB分散液(KHF−7AH 住友金属鉱山社製)等が挙げられる。なお、無機赤外線吸収剤としては、赤外線吸収層中の鉄、銅及びクロムの濃度(含有量)を容易に制御するため、これらの特定の金属を含まないものが好ましい。 In addition, these metal oxide infrared absorbers can also be obtained as commercial products. For example, as zinc oxide, Cellunax series (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Pazette series (manufactured by Hakusui Tech); As the tin oxide type, ATO dispersion liquid (manufactured by SR35M Advanced Nano Products Co., Ltd.), ITO dispersion liquid (manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Co., Ltd.), KH series (Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.); as cesium-doped tungsten oxide system, CWO Dispersion (YMF-02A manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.); Examples of the lanthanum hexaboride include LaB 6 dispersion (KHF-7AH manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.). The inorganic infrared absorbing agent preferably does not contain any of these specific metals in order to easily control the concentrations (contents) of iron, copper and chromium in the infrared absorbing layer.

さらに、無機赤外線吸収剤として、Cd/Se、GaN、Y、Au、Agなどからなるものも用いることができる。 Further, as the inorganic infrared absorber, those made of Cd/Se, GaN, Y 2 O 3 , Au, Ag and the like can also be used.

金属酸化物系赤外線吸収剤の平均粒径としては、5〜150nmの範囲内であることが好ましく、10〜120nmの範囲内であることがより好ましい。平均粒径が5nm以上であれば、赤外線吸収層を形成するのに用いるバインダー樹脂中での分散性や、赤外線吸収性を良好に保持することができ、150nm以下とすることにより、可視光線透過率の低下を抑制することができる。なお、平均粒径の測定は、透過型電子顕微鏡により撮像し、無作為に、例えば50個の粒子を抽出して該粒径を測定し、これを平均したものである。また、粒子の形状が球形でない場合には、同一面積の円相当に換算した際の直径を測定して算出するものと定義する。 The average particle size of the metal oxide infrared absorber is preferably in the range of 5 to 150 nm, more preferably 10 to 120 nm. When the average particle size is 5 nm or more, the dispersibility in the binder resin used for forming the infrared absorbing layer and the infrared absorbing property can be favorably maintained. The decrease in the rate can be suppressed. The average particle size is measured by imaging with a transmission electron microscope, randomly extracting, for example, 50 particles, measuring the particle size, and averaging the measured values. Further, when the shape of the particles is not spherical, it is defined to be calculated by measuring the diameter when converted into a circle equivalent of the same area.

(赤外線吸収層形成用バインダー樹脂)
本発明において、赤外線吸収層は、上記説明した赤外線吸収剤と共に、バインダー樹脂を含有することが好ましい。本発明に係る赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収層は、ゲートカバーを構成する場合、隣接層間における粘着層としての機能を付与する観点から、当該バインダー樹脂としては、粘着性のバインダー樹脂も用いることができる。
(Binder resin for forming infrared absorption layer)
In the present invention, the infrared absorbing layer preferably contains a binder resin together with the infrared absorbing agent described above. When the infrared absorbing layer containing the infrared absorbing agent according to the present invention constitutes a gate cover, from the viewpoint of imparting a function as an adhesive layer between adjacent layers, an adhesive binder resin may also be used as the binder resin. You can

バインダー樹脂としては、環境負荷・工程負荷を低減するという観点からは、水溶性の粘着性樹脂であることが好ましい。水溶性の粘着性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、及び反応性官能基を有するポリマーが挙げられる。なお、本発明でいう「水溶性」とは、物質が最も溶解する温度で、0.5質量%の濃度となるように水に溶解させた際、G2グラスフィルタ(最大細孔40〜50μm)で濾過した場合に、濾別される不溶物の質量が、加えた高分子の50質量%以内であることを意味する。 The binder resin is preferably a water-soluble adhesive resin from the viewpoint of reducing environmental load and process load. The water-soluble adhesive resin is not particularly limited, and examples thereof include polyvinyl alcohol resins, gelatin, celluloses, thickening polysaccharides, and polymers having a reactive functional group. The term "water-soluble" as used in the present invention means that the G2 glass filter (maximum pore size is 40 to 50 µm) when dissolved in water at a temperature at which the substance is most dissolved to have a concentration of 0.5% by mass. It means that the mass of the insoluble matter separated by filtration is within 50 mass% of the added polymer.

更に、ゲートカバーの湿度変動の影響が小さくなるという観点からは、有機溶媒溶解性の粘着性樹脂を含有することが好ましい。有機溶媒溶解性の粘着性樹脂としては、特に制限されないが、アクリル樹脂、ウレタン変性アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリ酢酸ビニル、酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリブチラール、ポリアミド(ナイロン)樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ABS樹脂、ニトリルゴム、ポリフッ化ビニリデン等が挙げられる。 Further, from the viewpoint of reducing the influence of humidity fluctuation of the gate cover, it is preferable to contain an organic solvent-soluble adhesive resin. The organic solvent-soluble adhesive resin is not particularly limited, but acrylic resin, urethane-modified acrylic resin, polyurethane resin, polyester resin, melamine resin, polyvinyl acetate, cellulose acetate, polycarbonate, polyacetal, polybutyral, polyamide (nylon) ) Resin, polystyrene resin, polyimide resin, ABS resin, nitrile rubber, polyvinylidene fluoride and the like.

(赤外線吸収層形成用塗布液の溶媒)
本発明おいて、赤外線吸収層の形成において、赤外線吸収層形成用塗布液の調製に用いる溶媒としては、バインダー樹脂成分や赤外線吸収剤を十分に分散や溶解することができるものであれば、特に限定されず、種々の有機溶媒や水系溶媒を用いることができる。
(Solvent of coating solution for forming infrared absorbing layer)
In the present invention, in the formation of the infrared absorbing layer, the solvent used for preparing the coating liquid for forming the infrared absorbing layer is preferably a solvent that can sufficiently disperse or dissolve the binder resin component and the infrared absorbing agent. It is not limited, and various organic solvents and aqueous solvents can be used.

本発明に適用可能な有機溶媒としては、特に制限されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも又は2種以上混合して用いてもよい。上記有機溶媒の中でも、樹脂や赤外線吸収剤の分散性を考慮すると、エステル類、エーテル類、ケトン類を用いると好ましく、ケトン類を用いるとさらに好ましい。 The organic solvent applicable to the present invention is not particularly limited, but examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol and i-propanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate, Examples thereof include ethers such as diethyl ether and propylene glycol monomethyl ether, amides such as dimethylformamide, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Among the above organic solvents, considering the dispersibility of the resin and the infrared absorber, it is preferable to use esters, ethers and ketones, and more preferable to use ketones.

(赤外線吸収剤のその他の添加剤)
本発明に係る赤外線吸収層には、上記説明した以外の添加剤としては、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等が挙げられる。また、特開昭57−74193号公報、特開昭57−87988号公報、特開昭62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤;特開昭57−74192号、特開昭57−87989号公報、特開昭60−72785号公報、特開昭61−146591号公報、特開平1−95091号公報、特開平3−13376号公報等に記載の退色防止剤;特開昭59−42993号公報、特開昭59−52689号公報、特開昭62−280069号公報、特開昭61−242871号公報、特開平4−219266号公報等に記載の蛍光増白剤;硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤;消泡剤;ジエチレングリコール等の潤滑剤;防腐剤;防黴剤;帯電防止剤;マット剤;熱安定剤;酸化防止剤;難燃剤;結晶核剤;無機粒子;有機粒子;減粘剤;滑剤等の公知の各種添加剤等が、本発明の目的効果を損なわない範囲で使用されてもよい。
(Other additives of infrared absorber)
Examples of additives other than those described above for the infrared absorbing layer according to the present invention include amino acids, emulsion resins and lithium compounds. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988 and JP-A-62-261476; JP-A-57-74192 and JP-A-57-87989. Anti-fading agents described in JP-A-60-72785, JP-A-61-146591, JP-A-1-95091, JP-A-3-13376, etc.; JP-A-59-42993. Fluorescent brighteners described in JP-A-59-52689, JP-A-62-280069, JP-A-61-242871, JP-A-4-219266, etc.; sulfuric acid, phosphoric acid, PH adjusting agents such as acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide and potassium carbonate; antifoaming agents; lubricants such as diethylene glycol; preservatives; antifungal agents; antistatic agents; matting agents; heat stabilizers; oxidation. Various known additives such as an inhibitor, a flame retardant, a crystal nucleating agent, an inorganic particle, an organic particle, a viscosity reducing agent, a lubricant, etc. may be used within a range that does not impair the intended effects of the present invention.

(赤外線吸収層の形成)
本発明に係る赤外線吸収層の形成方法としては、特に制限はないが、湿式塗布法により形成することが好ましく、例えば、ロールコート法、フローコート法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、インクジェット・プリント法、グラビア印刷法等が挙げられる。
(Formation of infrared absorption layer)
The method for forming the infrared absorbing layer according to the present invention is not particularly limited, but it is preferably formed by a wet coating method, for example, a roll coating method, a flow coating method, a spray coating method, a printing method, a dip coating method, A bar coating method, a casting film forming method, an inkjet printing method, a gravure printing method and the like can be mentioned.

[3:赤外線反射層]
本発明のゲートカバーにおいて、上記説明した赤外線吸収層とともに、赤外線反射層を有する。
また、赤外線反射層が、誘電体多層膜であること、さらには、誘電体多層膜が無機微粒子を含有していることが好ましい形態である。
以下、本発明に係る赤外線反射層の好ましい態様である誘電体多層膜の詳細について説明する。
[3: Infrared reflective layer]
The gate cover of the present invention has an infrared reflection layer in addition to the infrared absorption layer described above.
In addition, it is a preferable mode that the infrared reflective layer is a dielectric multilayer film, and further that the dielectric multilayer film contains inorganic fine particles.
Hereinafter, details of the dielectric multilayer film which is a preferred embodiment of the infrared reflective layer according to the present invention will be described.

〔誘電体多層膜〕
本発明のゲートカバーにおいては、赤外線反射層として、特定の波長を有する赤外光が入射した場合に、少なくともこの赤外光の一部を反射して、遮熱効果を発揮するため、低屈折率層と高屈折率層とが交互に多層積層されて構成の誘電体多層膜を有することが好ましい。
[Dielectric multilayer film]
In the gate cover of the present invention, as the infrared reflective layer, when infrared light having a specific wavelength is incident, at least a part of the infrared light is reflected to exert a heat shielding effect, and thus, has a low refractive index. It is preferable to have a dielectric multilayer film in which a refractive index layer and a high refractive index layer are alternately laminated in multiple layers.

本発明に係る誘電体多層膜において、誘電体多層膜を構成する屈折率層が、低屈折率層であるか高屈折率層であるかは、隣接する屈折率層間での屈折率の対比によって判断される。具体的には、ある屈折率層を基準層としたとき、当該基準層に隣接する屈折率層が基準層より屈折率が低ければ、基準層は高屈折率層であり、隣接層は低屈折率層となる。一方、基準層より隣接層の屈折率が高ければ、基準層は低屈折率層であり、隣接層が高屈折率層となる。したがって、屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接層が有する屈折率との関係で定まる相対的なものであり、ある屈折率層は、隣接層との関係によって高屈折率層にも低屈折率層にもなりうる。 In the dielectric multilayer film according to the present invention, whether the refractive index layer forming the dielectric multilayer film is a low refractive index layer or a high refractive index layer depends on the comparison of the refractive index between the adjacent refractive index layers. To be judged. Specifically, when a refractive index layer is used as a reference layer and the refractive index layer adjacent to the reference layer has a lower refractive index than the reference layer, the reference layer is a high refractive index layer and the adjacent layer has a low refractive index. Become a stratum. On the other hand, when the refractive index of the adjacent layer is higher than that of the reference layer, the reference layer is the low refractive index layer and the adjacent layer is the high refractive index layer. Therefore, whether the refractive index layer is a high refractive index layer or a low refractive index layer is a relative one determined by the relationship with the refractive index of the adjacent layer, and a certain refractive index layer is different from the adjacent layer. Depending on the relationship, it can be a high refractive index layer or a low refractive index layer.

屈折率層としては、特に制限はないが、好ましくは当該技術分野において用いられる公知の屈折率層を用いることが好ましい。公知の屈折率層としては、例えば、乾式製膜法を用いて形成する屈折率層と、樹脂の押出成形によって形成される屈折率層と、湿式製膜法を用いて形成する屈折率層とが挙げられる。なかでも、製造効率の観点から、屈折率層の形成方法としては、湿式製膜法を適用することが好ましい。 The refractive index layer is not particularly limited, but it is preferable to use a known refractive index layer used in the art. As the known refractive index layer, for example, a refractive index layer formed by a dry film forming method, a refractive index layer formed by extrusion molding of a resin, and a refractive index layer formed by a wet film forming method. Is mentioned. Among them, from the viewpoint of manufacturing efficiency, it is preferable to apply the wet film forming method as the method of forming the refractive index layer.

以下、湿式製膜法で形成することができる屈折率層のうち、代表的な高屈折率層及び低屈折率層の構成について説明する。 Hereinafter, of the refractive index layers that can be formed by the wet film formation method, typical configurations of the high refractive index layer and the low refractive index layer will be described.

(湿式製膜法を用いた屈折率層積層体の形成)
湿式成膜法では、塗布液を単層ずつ順次塗布・乾燥して、積層体を形成する方法、又は、複数種の塗布液を用い、同時重層塗布・乾燥により、積層体を形成する方法等により、複数の屈折率層が積層された屈折率積層体を形成することができる。本発明に係る誘電体多層膜は、この湿式製膜法によって、低屈折率層及び高屈折率層を積層して形成する方法が好ましい。
(Formation of refractive index layer laminate using wet film formation method)
In the wet film forming method, a single layer of coating liquid is sequentially applied and dried to form a laminated body, or a method of forming a laminated body by simultaneous multi-layer coating and drying using a plurality of types of coating liquids. Thereby, a refractive index laminate in which a plurality of refractive index layers are laminated can be formed. The dielectric multilayer film according to the present invention is preferably formed by laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer by this wet film forming method.

(高屈折率層)
高屈折率層は、屈折率の制御が容易になるという観点から、好ましくは金属酸化物粒子を含み、その他必要に応じて、水溶性樹脂、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでもよい。なお、高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子及び水溶性樹脂を、便宜上、以下では「第1の金属酸化物粒子」及び「第1の水溶性樹脂」とそれぞれ称する。
(High refractive index layer)
From the viewpoint of easy control of the refractive index, the high refractive index layer preferably contains metal oxide particles, and optionally contains a water-soluble resin, a curing agent, a surfactant, and other additives. But it's okay. The metal oxide particles and the water-soluble resin contained in the high refractive index layer are hereinafter referred to as “first metal oxide particles” and “first water-soluble resin”, respectively, for convenience.

(1)第1の金属酸化物粒子
第1の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、屈折率が2.0〜3.0の範囲内にある金属酸化物粒子であることが好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。これらのうち、第1の金属酸化物粒子としては、透明で屈折率の高い高屈折率層を形成することができる観点から、酸化チタン、酸化ジルコニウムであることが好ましく、また、耐候性向上の観点からルチル型(正方晶形)酸化チタンであることがより好ましい。
(1) First Metal Oxide Particles The first metal oxide particles are not particularly limited, but are preferably metal oxide particles having a refractive index in the range of 2.0 to 3.0. Specifically, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, water. Examples thereof include magnesium oxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon and tin oxide. Among these, the first metal oxide particles are preferably titanium oxide or zirconium oxide, from the viewpoint of being able to form a transparent high refractive index layer having a high refractive index, and also for improving weather resistance. From the viewpoint, rutile type (tetragonal type) titanium oxide is more preferable.

また、酸化チタンは、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコア・シェル粒子の形態であってもよい。当該コア・シェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。
上述の第1の金属酸化物粒子は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
Further, the titanium oxide may be in the form of core/shell particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. The core-shell particles have a structure in which the surface of titanium oxide particles is coated with a shell made of hydrated oxide of silicon-containing titanium oxide serving as a core.
The above-mentioned first metal oxide particles may be used alone or in combination of two or more.

第1の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層との屈折率差が大きくなる観点から、高屈折率層の固形分100質量%に対して、15〜85質量%の範囲内であることが好ましく、20〜80質量%の範囲内であることがより好ましく、30〜77質量%の範囲内であることが特に好ましい。 The content of the first metal oxide particles is within the range of 15 to 85 mass% with respect to 100 mass% of the solid content of the high refractive index layer, from the viewpoint that the refractive index difference with the low refractive index layer becomes large. It is preferable that it is in the range of 20 to 80% by mass, and it is particularly preferable that it is in the range of 30 to 77% by mass.

また、第1の金属酸化物粒子は、体積平均粒径が1〜100nmの範囲内であることが好ましく、3〜50nmの範囲内であることがさらに好ましい。体積平均粒径が1nm以上であれば安定して微粒子を形成することができ、100nm以下であると、ヘイズが少なく可視光透過性に優れることから好ましい。なお、本発明において、「体積平均粒径」の値は、以下の方法によって測定した値を採用するものとする。具体的には、屈折率層の断面や表面に現れた任意の1000個の金属酸化物粒子を電子顕微鏡で観察して粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n・・・ni・・・nk個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。 The volume average particle diameter of the first metal oxide particles is preferably within the range of 1 to 100 nm, more preferably within the range of 3 to 50 nm. When the volume average particle size is 1 nm or more, fine particles can be stably formed, and when the volume average particle size is 100 nm or less, haze is small and visible light transmittance is excellent, which is preferable. In the present invention, the value of “volume average particle diameter” shall be the value measured by the following method. Specifically, the particle diameters of 1000 arbitrary metal oxide particles appearing on the cross section and surface of the refractive index layer are observed by an electron microscope to measure the particle diameters of d1, d2...di...dk, respectively. In a group of metal oxide particles having n1, n... Ni... nk particles each having a particle size, when the volume per particle is vi, the volume average particle size mv={Σ A volume-weighted average particle size represented by (vi·di)}/{Σ(vi)} is calculated.

(2)第1の水溶性樹脂
第1の水溶性樹脂としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類、及び反応性官能基を有するポリマーが用いられうる。これらのうち、ポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。
(2) First Water-Soluble Resin The first water-soluble resin is not particularly limited, but polyvinyl alcohol resins, gelatin, celluloses, thickening polysaccharides, and polymers having a reactive functional group can be used. .. Of these, it is preferable to use a polyvinyl alcohol-based resin.

〈ポリビニルアルコール系樹脂〉
前記ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール(未変性ポリビニルアルコール)、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。なお、変性ポリビニルアルコールにより、膜の密着性、耐水性、柔軟性が改良される場合がある。
<Polyvinyl alcohol resin>
Examples of the polyvinyl alcohol-based resin include ordinary polyvinyl alcohol (unmodified polyvinyl alcohol) obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate, cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonion-modified polyvinyl alcohol, vinyl alcohol-based polymer and the like. Modified polyvinyl alcohol is mentioned. The modified polyvinyl alcohol may improve the adhesion, water resistance and flexibility of the film.

〈ゼラチン〉
ゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができる。例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチン、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン、分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基を有し、それと反応し得る基を持った試薬で処理し改質したゼラチン誘導体等が挙げられる。
なお、ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチン用硬化剤を添加することもできる。
<gelatin>
As the gelatin, various gelatins that have been widely used in the field of silver halide photographic light-sensitive materials can be applied. For example, acid-processed gelatin, alkali-processed gelatin, enzyme-processed gelatin that is enzymatically processed in the production process of gelatin, a group having an amino group, an imino group, a hydroxy group or a carboxy group as a functional group in a molecule and capable of reacting with it. Examples include gelatin derivatives that have been modified by treatment with a reagent having
When gelatin is used, a hardening agent for gelatin may be added if necessary.

〈セルロース類〉
セルロース類としては、水溶性のセルロース誘導体を好ましく用いることができる。例えば、カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体;カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、カルボキシエチルセルロース等のカルボン酸基含有セルロース類;ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体が挙げられる。
<Cellulose>
As the cellulose, a water-soluble cellulose derivative can be preferably used. For example, water-soluble cellulose derivatives such as carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether), methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose; carboxy group-containing celluloses such as carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether) and carboxyethyl cellulose; nitro Examples of the cellulose derivative include cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate, and cellulose sulfate ester.

〈増粘多糖類〉
増粘多糖類は、糖類の重合体であり、分子内に水素結合基を多数有するものである。当該増粘多糖類は、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きいという特性を有する。また、増粘多糖類に金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こす。その粘度上昇幅は、15℃における粘度が、通常、1.0mPa・s以上であり、好ましくは5.0mPa・s以上であり、よりに好ましくは10.0mPa・s以上である。
<Thickening polysaccharide>
The thickening polysaccharide is a polymer of saccharides and has a large number of hydrogen bonding groups in the molecule. The thickening polysaccharide has a property that a difference in viscosity at low temperature and a difference in viscosity at high temperature are large due to a difference in hydrogen bonding force between molecules depending on temperature. Further, when the metal oxide fine particles are added to the thickening polysaccharide, the viscosity is thought to increase due to hydrogen bonding with the metal oxide fine particles at low temperature. Regarding the range of increase in viscosity, the viscosity at 15° C. is usually 1.0 mPa·s or more, preferably 5.0 mPa·s or more, and more preferably 10.0 mPa·s or more.

適用可能な増粘多糖類としては、特に制限はなく、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類、合成複合多糖類が挙げられる。これら多糖類の詳細については、「生化学事典(第2版),東京化学同人出版」、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。 The applicable thickening polysaccharide is not particularly limited, and includes generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides, and synthetic complex polysaccharides. For details of these polysaccharides, refer to "Biochemical Encyclopedia (2nd Edition), Tokyo Kagaku Dojin Shuppan", "Food Industry", Vol. 31, (1988), page 21, and the like.

〈反応性官能基を有するポリマー〉
反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂;スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂;スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体;及びこれらの塩が挙げられる。これらのうち、ポリビニルピロリドン類及びこれを含有する共重合体を用いることが好ましい。
上述の水溶性樹脂は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
<Polymer having reactive functional group>
Examples of the polymer having a reactive functional group include polyvinylpyrrolidones, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic acid ester copolymer, acrylic acid- Acrylic resin such as acrylic acid ester copolymer; styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic acid copolymer Polymers, styrene-acrylic acid resins such as styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymers; styrene-sodium styrenesulfonate copolymers, styrene-2-hydroxyethyl acrylate copolymers, styrene-2 -Hydroxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic acid copolymer, vinyl naphthalene-maleic acid copolymer, vinyl acetate -Vinyl acetate-based copolymers such as maleic acid ester copolymers, vinyl acetate-crotonic acid copolymers, vinyl acetate-acrylic acid copolymers; and salts thereof. Of these, it is preferable to use polyvinylpyrrolidones and copolymers containing them.
The above water-soluble resins may be used alone or in combination of two or more.

第1の水溶性樹脂の重量平均分子量は、1000〜200000の範囲内であることが好ましく、3000〜40000の範囲内であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によって測定した値を採用するものとする。
第1の水溶性樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、5〜50質量%の範囲内であることが好ましく、10〜40質量%の範囲内であることがより好ましい。
The weight average molecular weight of the first water-soluble resin is preferably in the range of 1,000 to 200,000, more preferably in the range of 3,000 to 40,000. In addition, in this specification, the value of "weight average molecular weight" shall employ the value measured by gel permeation chromatography (GPC).
The content of the first water-soluble resin is preferably within the range of 5 to 50% by mass, and within the range of 10 to 40% by mass, based on 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. Is more preferable.

(3)硬化剤
硬化剤は、高屈折率層に含有される第1の水溶性樹脂(好ましくは、ポリビニルアルコール系樹脂)と反応して、水素結合のネットワークを形成する機能を有する。
(3) Hardener The hardener has a function of reacting with the first water-soluble resin (preferably polyvinyl alcohol resin) contained in the high refractive index layer to form a hydrogen bond network.

硬化剤としては、第1の水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、一般的には、水溶性樹脂と反応しうる基を有する化合物又は水溶性樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が挙げられる。 The curing agent is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the first water-soluble resin, but generally, a compound having a group capable of reacting with the water-soluble resin or a different group contained in the water-soluble resin Examples thereof include compounds that promote the reaction between them.

具体例として、第1の水溶性樹脂としてポリビニルアルコールを用いる場合には、硬化剤としてホウ酸及びその塩を用いることが好ましい。また、ホウ酸及びその塩以外の公知の硬化剤を使用してもよい。 As a specific example, when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble resin, boric acid and its salt are preferably used as the curing agent. Further, known curing agents other than boric acid and its salts may be used.

なお、ホウ酸及びその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸及びその塩のことを意味する。具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、八ホウ酸、及びこれらの塩が挙げられる。 In addition, boric acid and its salt mean the oxyacid and its salt which have a boron atom as a central atom. Specific examples include orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, octaboric acid, and salts thereof.

硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、1〜10質量%であることが好ましく、2〜6質量%であることがより好ましい。
特に、第1の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール1g当たり1〜600mgであることが好ましく、ポリビニルアルコール1g当たり100〜600mgであることがより好ましい。
The content of the curing agent is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 2 to 6% by mass, based on 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.
In particular, the total amount of the curing agent used when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble binder resin is preferably 1 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol, and more preferably 100 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol. preferable.

(4)界面活性剤
高屈折率層に適用可能な界面活性剤としては、特に制限されることはなく、従来公知の各種界面活性剤を適宜選択して用いることができる。
(4) Surfactant The surfactant applicable to the high refractive index layer is not particularly limited, and various conventionally known surfactants can be appropriately selected and used.

(5)その他の添加剤
高屈折率層に適用が可能なその他の添加剤としては、例えば、アミノ酸、エマルジョン樹脂、リチウム化合物等や、特開昭57−74193号公報、特開昭57−87988号公報、特開昭62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤;特開昭57−74192号、特開昭57−87989号公報、特開昭60−72785号公報、特開昭61−146591号公報、特開平1−95091号公報、特開平3−13376号公報等に記載の退色防止剤;特開昭59−42993号公報、特開昭59−52689号公報、特開昭62−280069号公報、特開昭61−242871号公報、特開平4−219266号公報等に記載の蛍光増白剤;硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤;消泡剤;ジエチレングリコール等の潤滑剤;防腐剤;防黴剤;帯電防止剤;マット剤;熱安定剤;酸化防止剤;難燃剤;結晶核剤;無機粒子;有機粒子;減粘剤;滑剤;赤外線吸収剤;色素;顔料等の公知の各種添加剤等がその他の添加剤として使用されてもよい。
(5) Other additives As other additives that can be applied to the high refractive index layer, for example, amino acids, emulsion resins, lithium compounds and the like, JP-A-57-74193, JP-A-57-87988. UV absorbers described in JP-A-62-261476; JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, JP-A-60-72785, and JP-A-61-146591. Anti-fading agents described in JP-A No. 1-95091, JP-A No. 3-13376, etc.; JP-A-59-42993, JP-A-59-52689, and JP-A-62-280069. JP-A-61-242871, JP-A-4-219266 and the like; fluorescent whitening agents; sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate and the like. pH adjusting agent; antifoaming agent; lubricant such as diethylene glycol; antiseptic agent; antifungal agent; antistatic agent; matting agent; heat stabilizer; antioxidant; flame retardant; crystal nucleating agent; inorganic particles; organic particles; reducing agent Various known additives such as viscous agents, lubricants, infrared absorbers, dyes, pigments, etc. may be used as other additives.

(低屈折率層)
低屈折率層もまた、屈折率の制御が容易になるという観点から、好ましくは金属酸化物粒子を含む。その他必要に応じて、水溶性樹脂、硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤を含んでいてもよい。なお、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子及び水溶性樹脂を、便宜上、以下では「第2の金属酸化物粒子」及び「第2の水溶性樹脂」とそれぞれ称する。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer also preferably contains metal oxide particles from the viewpoint of facilitating control of the refractive index. In addition, a water-soluble resin, a curing agent, a surfactant, and other additives may be included as necessary. The metal oxide particles and the water-soluble resin contained in the low refractive index layer are hereinafter referred to as “second metal oxide particles” and “second water-soluble resin”, respectively, for convenience.

(1)第2の水溶性樹脂
第2の水溶性樹脂としては、第1の水溶性樹脂と同様のものが用いられうる。
この際、高屈折率層及び低屈折率層が、第1の水溶性樹脂及び第2の水溶性樹脂として、ともにポリビニルアルコール系樹脂を使用する場合には、それぞれケン化度の異なるポリビニルアルコール系樹脂を用いることが好ましい。これにより、界面の混合が抑制され、赤外反射率(赤外遮蔽率)がより良好となり、ヘイズが低くなる。なお、本発明でいう「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基(原料の酢酸ビニル由来のもの)とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合を意味する。
(1) Second Water-Soluble Resin As the second water-soluble resin, the same one as the first water-soluble resin can be used.
In this case, when the high refractive index layer and the low refractive index layer both use a polyvinyl alcohol-based resin as the first water-soluble resin and the second water-soluble resin, polyvinyl alcohol-based resins having different saponification degrees are used. It is preferable to use a resin. As a result, the mixing of the interface is suppressed, the infrared reflectance (infrared shielding rate) becomes better, and the haze becomes lower. The “saponification degree” in the present invention means the ratio of hydroxy groups to the total number of acetyloxy groups (derived from vinyl acetate as a raw material) and hydroxy groups in polyvinyl alcohol.

(2)第2の金属酸化物粒子
第2の金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等のシリカ(二酸化ケイ素)を用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましい。また、屈折率をより低減させる観点から、第2の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ(二酸化ケイ素)の中空微粒子を用いることが好ましい。
(2) Second Metal Oxide Particles The second metal oxide particles are not particularly limited, but it is preferable to use silica (silicon dioxide) such as synthetic amorphous silica or colloidal silica, and an acidic colloidal silica sol. Is more preferably used. From the viewpoint of further reducing the refractive index, hollow fine particles having pores inside the particles can be used as the second metal oxide particles, and it is particularly preferable to use hollow fine particles of silica (silicon dioxide). ..

コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Al、Ca、Mg又はBa等で処理されたものであってもよい。
また、第2の金属酸化物粒子は、表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。
The colloidal silica may have its surface cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.
Moreover, the second metal oxide particles may be surface-coated with a surface-coating component.

本発明の低屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子(好ましくは、二酸化ケイ素)は、その平均粒径(個数平均;直径)が3〜100nmの範囲内であることが好ましく、3〜50nmの範囲内であることがより好ましい。なお、本発明でいう金属酸化物微粒子の「平均粒径(個数平均;直径)」は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径とは、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。 The average particle diameter (number average; diameter) of the second metal oxide particles (preferably silicon dioxide) contained in the low refractive index layer of the present invention is preferably within the range of 3 to 100 nm. More preferably, it is within the range of 50 nm. The "average particle diameter (number average; diameter)" of the metal oxide fine particles as used in the present invention refers to the particles themselves or particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer observed by an electron microscope, and the number of 1000 The particle size of the particles is measured, and it is determined as a simple average value (number average). Here, the particle size of each particle is represented by the diameter assuming a circle equal to the projected area.

低屈折率層における第2の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の全固形分100質量%に対して、0.1〜85質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがより好ましく、45〜75質量%であることがさらに好ましい。
上述の第2の金属酸化物は、屈折率を調整する等の観点から、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The content of the second metal oxide particles in the low refractive index layer is preferably 0.1 to 85% by mass, and 30 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the low refractive index layer. Is more preferable, and it is further preferable that it is 45 to 75 mass %.
From the viewpoint of adjusting the refractive index, the above-mentioned second metal oxide may be used alone or in combination of two or more kinds.

(3)硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤
硬化剤、界面活性剤、その他の添加剤としては、高屈折率層と同様のものが用いることができ、ここでの説明は省略する。
(3) Curing Agent, Surfactant, Other Additives As the curing agent, surfactant, and other additives, those similar to the high refractive index layer can be used, and the description thereof is omitted here.

以上のような構成を有する高屈折率層及び低屈折率層が交互に積層されてなる誘電体多層膜においては、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることが好ましく、高屈折率層及び低屈折率層の両方が、湿式製膜法を用いて形成された屈折率層であることがより好ましい。さらに、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方が、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。すなわち、本発明に係る赤外線反射層では、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる誘電体多層膜をさらに含み、低屈折率層又は高屈折率層が、金属酸化物粒子を含んでいる構成が好ましい。さらには、高屈折率層及び低屈折率層の両方が金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。 In the dielectric multilayer film in which the high-refractive index layers and the low-refractive index layers having the above structures are alternately laminated, at least one of the high-refractive index layers and the low-refractive index layers uses a wet film-forming method. It is preferable that the high refractive index layer and the low refractive index layer are both formed by a wet film forming method. Furthermore, it is preferable that at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains metal oxide particles. That is, the infrared reflective layer according to the present invention further includes a dielectric multilayer film in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated, and the low refractive index layer or the high refractive index layer is a metal oxide. Configurations that include particles are preferred. Furthermore, it is more preferable that both the high refractive index layer and the low refractive index layer contain metal oxide particles.

本発明に係る誘電体多層膜は、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態では、低屈折率層及び高屈折率層から構成される誘電体多層膜の少なくとも1つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が0.1以上であることが好ましく、0.3以上であることがより好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の積層体を複数有する場合には、全ての積層体における高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、この場合でも誘電多層膜の最上層や最下層を構成する屈折率層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。 In the dielectric multilayer film according to the present invention, it is preferable to design a large difference in refractive index between the low refractive index layer and the high refractive index layer from the viewpoint that the infrared reflectance can be increased with a small number of layers. .. In this embodiment, in at least one of the dielectric multilayer films composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer, the refractive index difference between the adjacent low refractive index layer and high refractive index layer is 0.1 or more. Preferably, it is more preferably 0.3 or more. When a plurality of laminates of the high refractive index layer and the low refractive index layer are provided, it is preferable that the difference in the refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer in all the laminated bodies be within the above-mentioned suitable range. However, even in this case, the refractive index layers constituting the uppermost layer and the lowermost layer of the dielectric multilayer film may have a configuration outside the above-mentioned preferable range.

本発明のケートカバーの光学特性として、JIS R3106−1998で示される380〜740nmの可視光波長領域の透過率が80%以上であり、波長750〜1500nmの領域における平均反射率が15%以上であることを特徴とする。 As the optical characteristics of the kate cover of the present invention, the transmittance in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm shown in JIS R3106-1998 is 80% or more, and the average reflectance in the region of wavelength 750 to 1500 nm is 15% or more. It is characterized by being.

誘電体多層膜の屈折率層の層数(高屈折率層及び低屈折率層の総層数)としては、上記の光学特性を満たす観点からは、6〜50層であることが好ましく、8〜40層であることがより好ましく、11〜31層であることがさらに好ましく、9〜30層であることが特に好ましい。誘電体多層膜の屈折率層の層数が上記範囲にあると、優れた遮熱性能及び透明性、膜剥がれやひび割れの抑制等が実現させることができる点で好ましい。なお、誘電体多層膜が、複数の高屈折率層及び低屈折率層を有する場合には、各高屈折率層及び各低屈折率層はそれぞれ同じものであっても、異なるものであってもよい。 From the viewpoint of satisfying the above optical characteristics, the number of refractive index layers of the dielectric multilayer film (total number of high refractive index layers and low refractive index layers) is preferably 6 to 50, and 8 ˜40 layers are more preferred, 11 to 31 layers are still more preferred, and 9 to 30 layers are particularly preferred. When the number of refractive index layers of the dielectric multilayer film is in the above range, excellent heat shielding performance and transparency, suppression of film peeling and cracking, and the like can be realized, which is preferable. When the dielectric multilayer film has a plurality of high refractive index layers and low refractive index layers, each high refractive index layer and each low refractive index layer may be the same or different. Good.

高屈折率層の1層当たりの厚さは、20〜800nmの範囲内であることが好ましく、50〜500nmの範囲内であることがより好ましい。また、低屈折率層の1層当たりの厚さは、20〜800nmの範囲内であることが好ましく、50〜500nmの範囲内であることがより好ましい。 The thickness of each high refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, more preferably in the range of 50 to 500 nm. Further, the thickness of each low refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, and more preferably in the range of 50 to 500 nm.

ここで、1層あたりの厚さを測定する場合、高屈折率層及び低屈折率層の境界において明確な界面を持たず、連続的に組成が変化する場合がある。このような組成が連続的に変化するような界面領域においては、最大屈折率−最小屈折率=Δnとした場合、2層間の最小屈折率+Δn/2の地点を層界面とみなすものとする。 Here, when measuring the thickness per layer, the composition may change continuously without having a clear interface at the boundary between the high refractive index layer and the low refractive index layer. In the interface region where the composition changes continuously, when the maximum refractive index−the minimum refractive index=Δn, the point of the minimum refractive index+Δn/2 between the two layers is regarded as the layer interface.

なお、高屈折率層及び低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合には、当該金属酸化物粒子の濃度プロファイルにより上記組成を観察することができる。当該金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで見ることができる。また、積層膜を切断して、切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することで確認してもよい。 When the high refractive index layer and the low refractive index layer contain metal oxide particles, the above composition can be observed from the concentration profile of the metal oxide particles. The metal oxide concentration profile was obtained by performing etching from the surface to the depth direction using a sputtering method, and using an XPS surface analyzer, setting the outermost surface to 0 nm and performing sputtering at a rate of 0.5 nm/min to obtain an atomic composition. It can be seen by measuring the ratio. Alternatively, the laminated film may be cut and the cut surface may be confirmed by measuring the atomic composition ratio with an XPS surface analyzer.

XPS表面分析装置は、特に制限されず、いかなる機種も使用することができる。当該XPS表面分析装置としては、例えば、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−200Rを用いることができる。X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測定する。 The XPS surface analyzer is not particularly limited, and any model can be used. As the XPS surface analyzer, for example, ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific Co., Ltd. can be used. Mg is used for the X-ray anode, and the output is measured at 600 W (accelerating voltage 15 kV, emission current 40 mA).

[4:その他の構成層]
本発明のゲートカバーにおいては、上記説明した、樹脂基材、赤外線吸収層、赤外線反射層の他に、各種機能層を適宜選択して設けることができる。以下に、代表的な機能層として、粘着層及びハードコート層について説明する。
[4: Other constituent layers]
In the gate cover of the present invention, various functional layers can be appropriately selected and provided in addition to the resin base material, the infrared absorbing layer, and the infrared reflecting layer described above. Hereinafter, the adhesive layer and the hard coat layer will be described as typical functional layers.

[偏光層及び偏光板]
本発明のゲートカバーにおいては、偏光層(以下、偏光子ともいう。)を有することができる。偏光層を有することにより、本発明のゲートカバーの可視光波長領域(380〜740nm)における直線偏光光の平均透過率が、80%以上となることが好ましい。これにより、ヘッドアップディスプレイから出射される光量を大きく減らすことなくヘッドアップディスプレイ内への可視光波長領域における太陽光からの入射光を減らすことができる。
[Polarizing layer and polarizing plate]
The gate cover of the present invention can have a polarizing layer (hereinafter, also referred to as a polarizer). By having the polarizing layer, it is preferable that the average transmittance of the linearly polarized light in the visible light wavelength region (380 to 740 nm) of the gate cover of the present invention is 80% or more. Thereby, it is possible to reduce the incident light from the sunlight in the visible light wavelength region into the head-up display without significantly reducing the amount of light emitted from the head-up display.

本発明においては、偏光子の少なくとも一方の面側に偏光板用フィルムを設けて偏光板を構成することが好ましく、より好ましくは、偏光子を本発明に係る赤外線反射層に隣接して設ける構成であり、さらに好ましくは、偏光子のもう一方の面側にも、別の偏光板用フィルムを設ける構成である。 In the present invention, a polarizing plate film is preferably provided on at least one surface side of the polarizer to form a polarizing plate, and more preferably, the polarizer is provided adjacent to the infrared reflective layer according to the present invention. More preferably, another polarizing plate film is provided on the other surface side of the polarizer.

図3は、本発明のケートカバーに適用可能な偏光板の構成の一例を示す概略断面図である。
図3に示す偏光板21においては、一方の17で表される偏光板用フィルムA(例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム)上に偏光層である偏光子14を有し、偏光子14に隣接して、16で表される偏光板用フィルムB(例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム)上に、本発明に係る赤外線反射層13が設けられている。16で表される偏光板用フィルムBは、赤外線反射層13、例えば、誘電体多層膜を形成する際の樹脂基材(支持体ともいう。)として機能する。前記偏光板に適用する偏光板用フィルムの少なくとも一つは位相差フィルムとしての機能も有する。
本発明のゲートカバーに具備する偏光板21は薄膜であることが好ましく、厚さとしては40〜100μmの範囲内であることが好ましく、49〜99μmの範囲内であることがより好ましい。
以下、偏光板を構成する偏光子及び偏光板用フィルムの順に説明をする。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of a polarizing plate applicable to the kate cover of the present invention.
In the polarizing plate 21 shown in FIG. 3, a polarizing plate film A (for example, a triacetyl cellulose (TAC) film) represented by 17 is provided with a polarizing layer 14 as a polarizing layer. Adjacent to each other, the infrared reflective layer 13 according to the present invention is provided on the polarizing plate film B (for example, a triacetyl cellulose (TAC) film) represented by 16. The polarizing plate film B represented by 16 functions as a resin base material (also referred to as a support) when forming the infrared reflective layer 13, for example, a dielectric multilayer film. At least one of the polarizing plate films applied to the polarizing plate also has a function as a retardation film.
The polarizing plate 21 included in the gate cover of the present invention is preferably a thin film, and the thickness thereof is preferably in the range of 40 to 100 μm, more preferably in the range of 49 to 99 μm.
Hereinafter, the polarizer and the film for polarizing plate which constitute the polarizing plate will be described in this order.

(偏光子)
偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムに、ヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
(Polarizer)
A polarizer is an element that allows only light having a plane of polarization in a certain direction to pass therethrough, and a typical polarizer known at present is a polyvinyl alcohol-based polarizing film. The polyvinyl alcohol-based polarizing film includes a polyvinyl alcohol-based film dyed with iodine and a polyvinyl alcohol-based film dyed with a dichroic dye.

ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム(好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム)であってもよいし;ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム(好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム)であってもよい。偏光子の吸収軸は、通常、最大延伸方向と平行である。 The polyvinyl alcohol-based polarizing film may be a film obtained by uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based film and then dyeing it with iodine or a dichroic dye (preferably a film further subjected to durability treatment with a boron compound); A film obtained by dying an alcohol-based film with iodine or a dichroic dye and then uniaxially stretching (preferably a film further subjected to a durability treatment with a boron compound) may be used. The absorption axis of the polarizer is usually parallel to the maximum stretching direction.

例えば、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%の範囲内、重合度2000〜4000の範囲内、ケン化度99.0〜99.99モル%の範囲内のエチレン変性ポリビニルアルコールが用いられる。中でも、熱水切断温度が66〜73℃の範囲内であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。
偏光子の厚さは、5〜30μmの範囲内であることが好ましく、偏光板を薄型化するため等から、5〜25μmの範囲内であることがより好ましい。
For example, as described in JP-A-2003-248123 and JP-A-2003-342322, the ethylene unit content is in the range of 1 to 4 mol %, the polymerization degree is in the range of 2000 to 4000, and the saponification degree is 99.0. Ethylene-modified polyvinyl alcohol in the range of ˜99.99 mol% is used. Above all, an ethylene-modified polyvinyl alcohol film having a hot water cutting temperature in the range of 66 to 73° C. is preferably used.
The thickness of the polarizer is preferably in the range of 5 to 30 μm, and more preferably in the range of 5 to 25 μm in order to make the polarizing plate thin.

(偏光板用フィルム)
偏光板の作製に適用する偏光板用フィルムは、前記「1:樹脂基材」にて説明したのと同様の樹脂基材を適宜選択して適用することができる。
本発明のゲートカバーにおいては、偏光板を構成する偏光板用フィルムに関しても、前述した樹脂基材11と同様に、優れた視認性を得る観点から、面内リターデーション値Rが、0nm以上、100nm未満であることが、最も好ましい形態である。
(Polarizing film)
As the polarizing plate film applied to the production of the polarizing plate, the same resin base material as described in the above “1: Resin base material” can be appropriately selected and applied.
In the gate cover of the present invention, also with respect to the polarizing plate film constituting the polarizing plate, the in-plane retardation value R O is 0 nm or more from the viewpoint of obtaining excellent visibility, as in the resin substrate 11 described above. , 100 nm is the most preferable form.

本発明に係る偏光板に適用可能な偏光板用フィルムを構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(略称:TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(略称:CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート(略称:PC)、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(略称:PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン(商品名、JSR社製)及びアペル(商品名、三井化学社製)等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分と有する樹脂基材が好ましく用いられる。 Examples of the resin material constituting the polarizing plate film applicable to the polarizing plate according to the present invention include polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (abbreviation: TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate Pionate (abbreviation: CAP), cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate and other cellulose esters and their derivatives, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate (abbreviation: PC), norbornene resin , Polymethylpentene, polyetherketone, polyimide, polyethersulfone (abbreviation: PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyetherimide, polyetherketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic and polyarylate And cycloolefin resins such as Arton (trade name, manufactured by JSR) and Apel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). Among these resin base materials, a resin base material having a resin component of triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin resin, polycarbonate (PC) resin, acrylic resin and polyarylates is preferably used.

偏光板用フィルムの厚さは、特に限定はないが、10〜100μmの範囲内であることが好ましく、10〜60μmの範囲内であることがより好ましく、20〜60μmの範囲内であることが特に好ましい。 The thickness of the polarizing plate film is not particularly limited, but is preferably within the range of 10 to 100 μm, more preferably within the range of 10 to 60 μm, and further preferably within the range of 20 to 60 μm. Particularly preferred.

(偏光板の作製方法)
本発明に係る偏光板の作製方法としては、例えば、図3に示した偏光板21の場合、基本的には、上記のように、17で表される偏光板用フィルムAを偏光子14の片面に貼合すればよい。ただし、当該17で表される偏光板用フィルムAの偏光子14側の面に対し、易接着処理(表面活性化処理)を施すことが好ましい。
(Method for producing polarizing plate)
As a method of manufacturing the polarizing plate according to the present invention, for example, in the case of the polarizing plate 21 shown in FIG. 3, basically, as described above, the polarizing plate film A represented by 17 is used as a polarizing film. It can be attached to one side. However, it is preferable to subject the surface of the polarizing plate film A represented by 17 to the polarizer 14 side to an easy adhesion treatment (surface activation treatment).

下記のような工程(1〜5)を含む方法で偏光板21を作製することができる。
工程1:ポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸する。これをヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に浸漬し、次いでヨウ化カリウム及びホウ酸を含有する水溶液に浸漬する。その後、これを水洗・乾燥して偏光子を得る。
The polarizing plate 21 can be manufactured by a method including the following steps (1 to 5).
Step 1: A polyvinyl alcohol film is uniaxially stretched. This is immersed in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide, and then immersed in an aqueous solution containing potassium iodide and boric acid. Then, this is washed with water and dried to obtain a polarizer.

工程2:あらかじめ表面に易接着処理を施した17で表される偏光板用フィルムA(例えば、TAC)の当該表面上に上記工程1で得た偏光子14を載せる。 Step 2: The polarizer 14 obtained in the above step 1 is placed on the surface of the polarizing plate film A (for example, TAC) represented by 17 whose surface has been subjected to easy adhesion treatment in advance.

工程3:前記17で表される偏光板用フィルムA上に載せられた偏光子14の反対側の面上にポリビニルアルコール接着剤(完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液)を塗布する。 Step 3: A polyvinyl alcohol adhesive (completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution) is applied to the opposite surface of the polarizer 14 placed on the polarizing plate film A represented by 17 above.

工程4:別途、16で表される偏光板用フィルムB(例えば、TAC)上に、常法に従って、低屈折率層及び高屈折率層を交互に積層し、誘電体多層膜を形成して、赤外線反射層13を形成する。 Step 4: Separately, a low refractive index layer and a high refractive index layer are alternately laminated on a polarizing plate film B (for example, TAC) represented by 16 according to a conventional method to form a dielectric multilayer film. The infrared reflection layer 13 is formed.

工程5:工程3で得たポリビニルアルコール接着剤が塗布された偏光子の面上に、工程4で作製した赤外線反射層13を、当該偏光子14に対向するように載せて積層体を形成する。 Step 5: The infrared reflection layer 13 produced in Step 4 is placed on the surface of the polarizer coated with the polyvinyl alcohol adhesive obtained in Step 3 so as to face the polarizer 14 to form a laminate. ..

工程6:工程5で得た積層体に圧力を加え貼合する。 Step 6: A pressure is applied to the laminate obtained in Step 5 to bond them together.

工程7:工程6で得た積層体を乾燥し、偏光板21を作製する。 Step 7: The laminated body obtained in Step 6 is dried to prepare the polarizing plate 21.

上記工程2において、偏光子14に、17で表される偏光板用フィルムAを貼合する場合、例えば、市販のセルロースアシレート系保護フィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC8UX−RHA、KC8UXW−RHA−C、KC8UXW−RHA−NC、KC4UXW−RHA−NC、以上コニカミノルタ株式会社製)も好ましく用いられる。このような保護フィルムを偏光板用フィルムとして適用する場合は、あらかじめケン化処理等の表面活性化処理を行う必要がある。 In the above step 2, when the polarizing plate film A represented by 17 is attached to the polarizer 14, for example, a commercially available cellulose acylate-based protective film (for example, Konica Minolta Tack KC8UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, (Konica Minolta Co., Ltd.) is also preferably used. When such a protective film is applied as a polarizing plate film, it is necessary to perform surface activation treatment such as saponification treatment in advance.

易接着処理としては、コロナ(放電)処理、プラズマ処理、フレーム処理、イトロ処理、グロー処理、オゾン処理、プライマー塗布処理等があるが、このうち少なくとも1種が実施されれば良い。これらの易接着処理のうち、生産性の観点からは、コロナ処理、プラズマ処理が易接着処理として好ましい。 Examples of the easy adhesion treatment include corona (discharge) treatment, plasma treatment, flame treatment, itro treatment, glow treatment, ozone treatment, primer coating treatment, and the like, and at least one of them may be performed. Among these easy adhesion treatments, from the viewpoint of productivity, corona treatment and plasma treatment are preferable as the easy adhesion treatment.

なお、接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン樹脂を主成分として含む水系接着剤や、エポキシ系樹脂等の光硬化性樹脂を主成分として含む活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることができる。例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン及びポリエーテル等をベースポリマーとして含む接着剤等を用いることもできる。 As the adhesive, a water-based adhesive containing a polyvinyl alcohol-based resin or a urethane resin as a main component, or an active energy ray-curable adhesive containing a photo-curable resin such as an epoxy resin as a main component can be used. .. For example, an adhesive containing an acrylic polymer, a silicone polymer, polyester, polyurethane, polyether or the like as a base polymer may be used.

〔粘着層〕
本発明のゲートカバーでは、さらに粘着層を有していてもよい。この粘着層により、後述する偏光板ユニットU1の両側に、U2で表される赤外線吸収層ユニットBとU3で表される赤外線吸収層ユニットAを粘着させることができる。粘着層には公知の剥離紙(セパレータ)が設けられていてもよい。また、接着剤を含有する粘着層に赤外線吸収剤も含有させることにより、赤外線吸収層の機能を付与することができる。
[Adhesive layer]
The gate cover of the present invention may further have an adhesive layer. With this adhesive layer, the infrared absorbing layer unit B represented by U2 and the infrared absorbing layer unit A represented by U3 can be adhered to both sides of the polarizing plate unit U1 described later. A known release paper (separator) may be provided on the adhesive layer. Further, the function of the infrared absorbing layer can be imparted by including the infrared absorbing agent in the adhesive layer containing the adhesive.

粘着層の構成としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。また、上記説明した赤外線吸収層から、近赤外線吸収性有機化合物や金属酸化物系赤外線吸収剤を除いた粘着性を有する層であってもよい。 The constitution of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of dry laminating agent, wet laminating agent, pressure-sensitive adhesive, heat seal agent, hot melt agent and the like can be used. As the adhesive, for example, polyester resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber or the like is used. Further, it may be a layer having an adhesive property obtained by removing the near infrared absorbing organic compound or the metal oxide infrared absorbing agent from the infrared absorbing layer described above.

粘着層の層厚は、1〜100μmの範囲内が好ましく、3〜50μmの範囲内がより好ましい。層厚が1μm以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に100μm以下であればゲートカバーとしての透明性が向上する点で好ましい。 The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 1 to 100 μm, more preferably in the range of 3 to 50 μm. When the layer thickness is 1 μm or more, the tackiness tends to be improved and sufficient tackiness can be obtained. On the contrary, when it is 100 μm or less, the transparency of the gate cover is improved, which is preferable.

粘着層の他の形成方法としては、例えば、保護フィルム19上に、剥離紙(セパレータ)上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を貼合した後、剥離紙をはがし、偏光板21を貼り合わせる方法も挙げることができる。 As another method of forming the adhesive layer, for example, after coating the adhesive layer coating liquid on the release paper (separator) on the protective film 19 and drying to bond the adhesive layer, peel the release paper, A method of attaching the plates 21 can also be mentioned.

〔保護フィルム〕
ゲートカバーの表面側に設けられる保護フィルムとしては、前記「1:樹脂基材」にて説明したのと同様の樹脂基材を適宜選択して適用することができる。
すなわち、本発明のゲートカバーにおいては、保護フィルムに関しても、前述した樹脂基材11と同様に、優れた視認性を得る観点から、面内リターデーション値Rが、0nm以上、100nm未満であることが、最も好ましい形態である。
〔Protective film〕
As the protective film provided on the front surface side of the gate cover, the same resin base material as described in “1: Resin base material” can be appropriately selected and applied.
That is, in the gate cover of the present invention, the in-plane retardation value R O is also 0 nm or more and less than 100 nm from the viewpoint of obtaining excellent visibility in the protective film as in the case of the resin base material 11 described above. Is the most preferred form.

本発明のゲートカバーを構成する保護フィルムの樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(略称:TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(略称:CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート(略称:PC)、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(略称:PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン(商品名、JSR社製)及びアペル(商品名、三井化学社製)等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂基材の中でも、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、アクリル樹脂及びポリアリレート類を樹脂成分と有する樹脂基材が好ましく用いられる。 Examples of the resin material of the protective film constituting the gate cover of the present invention include polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (abbreviation: TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (abbreviation: CAP). ), cellulose acetate phthalate, cellulose esters such as cellulose nitrate and their derivatives, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate (abbreviation: PC), norbornene resin, polymethylpentene, poly Ether ketone, polyimide, polyether sulfone (abbreviation: PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyetherimide, polyetherketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic and polyarylate, Arton (trade name) , Manufactured by JSR) and Apel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) and the like. Among these resin base materials, a resin base material having a resin component of triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin resin, polycarbonate (PC) resin, acrylic resin and polyarylates is preferably used.

〔ハードコート層〕
本発明のゲートカバーでは、耐擦過性を高めるための表面保護層として、樹脂基材を有する面とは反対側の最上層に、熱や紫外線などで硬化する樹脂を含むハードコート層(HC層)を積層してもよい。
[Hard coat layer]
In the gate cover of the present invention, as a surface protective layer for enhancing scratch resistance, a hard coat layer (HC layer) containing a resin curable by heat, ultraviolet rays or the like is formed on the uppermost layer opposite to the surface having the resin base material. ) May be laminated.

ハードコート層で使用される硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂が挙げられるが、塗膜形成が容易な点から、紫外線硬化型樹脂が好ましく、その中でも鉛筆硬度が少なくとも2Hのものがより好ましい。硬化型樹脂は、単独でも又は2種以上組み合わせて用いてもよい。 Examples of the curable resin used in the hard coat layer include a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin, but an ultraviolet curable resin is preferable from the viewpoint of easy coating film formation, and among them, a pencil hardness of at least 2H. Are more preferred. The curable resins may be used alone or in combination of two or more.

なお、このような紫外線硬化型樹脂としては、(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が挙げられ、これらは無溶剤型の樹脂組成物としても使用できる。 Examples of such an ultraviolet curable resin include (meth)acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, epoxy resin, and oxetane resin, which can also be used as a solventless resin composition.

上記紫外線硬化型樹脂を用いる場合、硬化促進のために、光重合開始剤を添加することが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。
When the above ultraviolet curable resin is used, it is preferable to add a photopolymerization initiator to accelerate curing.
As the photopolymerization initiator, acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, thiuram compounds, fluoroamine compounds Etc. are used.

ハードコート層の厚さは、ハードコート性の向上と、ゲートカバーの透明性の向上という観点から、0.1〜50μmが好ましく、1〜20μmがより好ましい。
ハードコート層の形成方法は、特に制限されず、例えば、上記各成分を含むハードコート層用塗布液を調製した後、塗布液を湿式塗布方式、例えば、ワイヤーバー等により塗布し、熱エネルギー又は活性エネルギー線の照射により、形成したハードコート層塗膜を硬化させ、ハードコート層を形成する方法などが挙げられる。
The thickness of the hard coat layer is preferably 0.1 to 50 μm, and more preferably 1 to 20 μm from the viewpoint of improving the hard coat property and improving the transparency of the gate cover.
The method for forming the hard coat layer is not particularly limited, for example, after preparing a hard coat layer coating liquid containing the above components, the coating liquid is applied by a wet coating method, for example, a wire bar or the like, and heat energy or Examples include a method of curing the formed hard coat layer coating film by irradiation with active energy rays to form a hard coat layer.

〔その他の機能層〕
本発明のゲートカバーは、上述した層以外に、その他の機能層を有していてもよい。例えば、その他の機能層として、中間層を設けることができる。ここで「中間層」とは、樹脂基材と赤外線吸収層との間の層や、赤外線反射層と赤外線吸収層との間の層を意味する。
[Other functional layers]
The gate cover of the present invention may have other functional layers in addition to the layers described above. For example, an intermediate layer can be provided as the other functional layer. Here, the "intermediate layer" means a layer between the resin base material and the infrared absorbing layer, or a layer between the infrared reflecting layer and the infrared absorbing layer.

中間層の構成材料としては、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられ、添加剤の相溶性、Tgが低い物質ものが好ましく用いられる。 Examples of the constituent material of the intermediate layer include a polyester resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetate resin, a polyvinyl acetal resin, an acrylic resin, and a urethane resin, and a material having a low additive compatibility and a low Tg is preferably used.

〔ゲートカバーの分光特性〕
本発明のゲートカバーにおいては、380〜740nmの可視光波長領域における平均透過率が80%以上であることを特徴とし、好ましくは80%以上、95%以下である。また、750〜1500nmの近赤外線波長領域における平均反射率は15%以上であることを特徴とし、好ましくは、15%以上、50%以下であり、更に好ましくは、20%以上、45%以下である。
さらに本発明のゲートカバーにおいては、380〜740nmの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が80%以上であることが好ましい。
[Spectral characteristics of gate cover]
In the gate cover of the present invention, the average transmittance in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more, preferably 80% or more and 95% or less. Further, the average reflectance in the near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm is 15% or more, preferably 15% or more and 50% or less, and more preferably 20% or more and 45% or less. is there.
Furthermore, in the gate cover of the present invention, it is preferable that the average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more.

380〜740nmの可視光波長領域における平均透過率、380〜740nmの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率は、分光光度計V−570(日本分光社製)を用いて、波長380〜740nmの範囲を2nmおきに測定して平均透過率を求めることができる。直線偏光光の平均透過率を測定するときは、ゲートカバーに対し、直線偏光光を偏光面がゲートカバーの偏光子の透過軸と平行となるように入射させて平均透過率を求める。 The average transmittance in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm and the average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm are measured using a spectrophotometer V-570 (manufactured by JASCO Corporation) at wavelengths of 380 to 380. The average transmittance can be obtained by measuring the range of 740 nm every 2 nm. When measuring the average transmittance of linearly polarized light, the linearly polarized light is incident on the gate cover so that the plane of polarization is parallel to the transmission axis of the polarizer of the gate cover, and the average transmittance is obtained.

また、750〜1500nmの近赤外線波長領域における平均反射率は、分光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製 U−4000)を用いて、作製したゲートカバーの反射率(DS)を、JIS K 5602:2008(塗膜の日射反射率の求め方)に準拠して、波長750〜1500nmの範囲を2nmおきに測定して平均反射率を求める。 Moreover, the average reflectance in the near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm is the reflectance (DS) of the manufactured gate cover by using a spectrophotometer (U-4000 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) according to JIS K 5602:2008. Based on (How to obtain the solar radiation reflectance of the coating film), the average reflectance is obtained by measuring the wavelength range of 750 to 1500 nm at intervals of 2 nm.

《ゲートカバーの代表的な構成と製造例》
上記説明した各要素より構成されるゲートカバーの具体的な構成例を、図を交えて説明する。
<<Typical configuration and manufacturing example of gate cover>>
A specific configuration example of the gate cover including the above-described elements will be described with reference to the drawings.

(実施形態1:構成例1)
図4は、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例1を示す概略断面図(実施形態1)であり、紙面における下面側に液晶表示装置の光源が配置されている。
(Embodiment 1: Configuration example 1)
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view (Embodiment 1) showing a first configuration example of the head-up display gate cover, in which the light source of the liquid crystal display device is arranged on the lower surface side of the drawing.

図4で示すゲートカバー3は、下面側から、樹脂基材11(例えば、ポリカーボネートフィルム(PC))/12で表される赤外線吸収層B/16で表される偏光板用フィルムB(例えば、TAC)/赤外線反射層13/偏光層14/17で表される偏光板用フィルムA(例えば、TAC)/18で表される赤外線吸収層A/保護フィルム19(例えば、PC)/ハードコート層20により構成されている。 The gate cover 3 shown in FIG. 4 includes a polarizing plate film B (for example, a infrared ray absorbing layer B/16 represented by a resin substrate 11 (for example, a polycarbonate film (PC))/12 from the lower surface side (for example, TAC)/infrared reflecting layer 13/polarizing layer 14/17 film for polarizing plate A (eg TAC)/18 infrared absorbing layer A represented by 18/protective film 19 (eg PC)/hard coat layer It is composed of 20.

図4に示す構成の本発明のゲートカバー3においては、樹脂基材11の面内リターデーション値Rが、0nm以上、100nm未満であることを特徴とするが、更には、16で表される偏光板用フィルムB、17で表される偏光板用フィルムA及び保護フィルム19の全てが、樹脂基材11で規定する面内リターデーション値Rが、0nm以上、100nm未満であることが、最も好ましい形態である。 In the gate cover 3 of the present invention having the configuration shown in FIG. 4, the in-plane retardation value R O of the resin base material 11 is characterized by being 0 nm or more and less than 100 nm, and further represented by 16. All of the polarizing plate film A and the protective film 19 represented by the polarizing plate films B and 17 have an in-plane retardation value R O defined by the resin substrate 11 of 0 nm or more and less than 100 nm. , The most preferred form.

図4に示す構成のゲートカバー3の製造方法は、以下のとおりである。
〈ステップ1:偏光板ユニットの作製〉
上記偏光板の作製方法に記載した工程1〜工程7に従って、偏光板ユニット(U1)を 作製する。
The method of manufacturing the gate cover 3 having the configuration shown in FIG. 4 is as follows.
<Step 1: Fabrication of polarizing plate unit>
A polarizing plate unit (U1) is produced according to steps 1 to 7 described in the method for producing a polarizing plate.

〈ステップ2:赤外線吸収層ユニットBの作製〉
樹脂基板15上に、粘着性樹脂を含む12で表される赤外線吸収層Bを形成して、赤外U2で表される赤外線吸収層ユニットBを作製する。
<Step 2: Preparation of infrared absorbing layer unit B>
An infrared absorbing layer B represented by 12 containing an adhesive resin is formed on the resin substrate 15 to prepare an infrared absorbing layer unit B represented by infrared U2.

〈ステップ3:赤外線吸収層ユニットAの作製〉
保護フィルム上に、粘着性樹脂を含む18で表される赤外線吸収層Aを形成する。
<Step 3: Preparation of infrared absorbing layer unit A>
An infrared absorbing layer A represented by 18 containing an adhesive resin is formed on the protective film.

〈ステップ4:偏光板ユニットと赤外線吸収層ユニットAとの貼合〉
はじめに、偏光板ユニットU1の17で表される偏光板用フィルムA面と、U3で表される赤外線吸収層ユニットAの粘着性樹脂を含む18で表される赤外線吸収層A面を対向する位置に配置し、貼合ローラーで貼り合せる。
<Step 4: Bonding of Polarizing Plate Unit and Infrared Absorption Layer Unit A>
First, a position where the polarizing plate film A surface represented by 17 of the polarizing plate unit U1 and the infrared absorbing layer A surface represented by 18 including the adhesive resin of the infrared absorbing layer unit A represented by U3 face each other. Place it on and stick it with a bonding roller.

〈ステップ5:偏光板ユニットと赤外線吸収層ユニットBとの貼合〉
次いで、U2で表される赤外線吸収層ユニットBの12で表される赤外線吸収層B面と、偏光板ユニットU1の16で表される偏光板用フィルムB面とを対向する位置に配置し、貼合ローラーで貼り合せる。
<Step 5: Bonding of Polarizing Plate Unit and Infrared Absorption Layer Unit B>
Next, the infrared absorbing layer B surface represented by 12 of the infrared absorbing layer unit B represented by U2 and the polarizing plate film B surface represented by 16 of the polarizing plate unit U1 are arranged at positions facing each other, Laminate with a laminating roller.

〈ステップ6:ハードコート層の形成〉
最後に、保護フィルム19上に、ハードコート層20を形成して、ゲートカバー3を作製する。
<Step 6: Formation of hard coat layer>
Finally, the hard coat layer 20 is formed on the protective film 19, and the gate cover 3 is produced.

(実施形態2:構成例2)
図5は、ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーの構成例2を示す概略断面図(実施形態2)であり、紙面における下面側に液晶表示装置の光源が配置されている。
(Embodiment 2: Configuration example 2)
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view (Embodiment 2) showing a second configuration example of the head-up display gate cover, in which the light source of the liquid crystal display device is arranged on the lower surface side of the drawing.

図5で示すゲートカバー3は、下面側から、樹脂基材11(例えば、ポリカーボネートフィルム(PC))/12で表される赤外線吸収層B/赤外線反射層13/16で表される偏光板用フィルムB(例えば、TAC)/偏光層14/17で表される偏光板用フィルムA(例えば、TAC)/18で表される赤外線吸収層A/保護フィルム19(例えば、PC)/ハードコート層20の順に構成されている。 The gate cover 3 shown in FIG. 5 is for a polarizing plate represented by a resin substrate 11 (for example, a polycarbonate film (PC))/12 infrared absorption layer B/infrared reflection layer 13/16 from the lower surface side. Film B (for example, TAC)/polarizing film 14/17 for polarizing plate A (for example, TAC)/infrared absorption layer A represented by 18/protective film 19 (for example, PC)/hard coat layer It is configured in the order of 20.

図5に示す構成の本発明のゲートカバー3においても、樹脂基材11の面内リターデーション値Rが、0nm以上、100nm未満であることを特徴とするが、更には、16で表される偏光板用フィルムB、17で表される偏光板用フィルムA及び保護フィルム19の全てが、樹脂基材11で規定する面内リターデーション値Rが、0nm以上、100nm未満であることが、最も好ましい形態である。 Also in the gate cover 3 of the present invention configured as shown in FIG. 5, the in-plane retardation value R O of the resin base material 11 is characterized by being 0 nm or more and less than 100 nm, and further represented by 16. All of the polarizing plate film A and the protective film 19 represented by the polarizing plate films B and 17 have an in-plane retardation value R O defined by the resin substrate 11 of 0 nm or more and less than 100 nm. , The most preferred form.

図5に示す構成のゲートカバー3の製造方法は、上記説明した図4で示す構成例1と、一部構成層の配置順は異なるが、同様の方法で作製することができる。 The method of manufacturing the gate cover 3 having the structure shown in FIG. 5 is different from the above-described structure example 1 shown in FIG. 4 in the arrangement order of some constituent layers, but can be manufactured by the same method.

《液晶表示装置》
本発明に係るヘッドアップディスプレイに用いられる好ましい表示装置として、液晶表示装置を例にして説明する。
《Liquid crystal display device》
A liquid crystal display device will be described as an example of a preferable display device used for the head-up display according to the present invention.

図6は、液晶表示装置30の基本的な構成の一例を示す模式図である。図6に示されているように、液晶表示装置30は、基本的には、液晶セル32と、それを挟持する第1の偏光板31及び第2の偏光板33と、バックライト34とで構成される。 FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of the basic configuration of the liquid crystal display device 30. As shown in FIG. 6, the liquid crystal display device 30 basically includes a liquid crystal cell 32, a first polarizing plate 31 and a second polarizing plate 33 that sandwich the liquid crystal cell 32, and a backlight 34. Composed.

液晶セル32の表示モードは、特に制限されず、例えばTN(Twisted Nematic)、VA(Vistical Alignment)、及びIPS(In Plane Switching)等のいずれであってよい。モバイル機器向けの液晶セルは、例えばIPSモードのものが好ましく、中・大型用途の液晶セルは、例えばVAモードのものが好ましい。 The display mode of the liquid crystal cell 32 is not particularly limited, and may be, for example, TN (Twisted Nematic), VA (Vital Alignment), IPS (In Plane Switching), or the like. A liquid crystal cell for mobile devices is preferably, for example, an IPS mode liquid crystal cell, and a medium or large-sized liquid crystal cell is preferably for example, a VA mode liquid crystal cell.

第1の偏光板31は、液晶セル32の視認側の面に配置されており、第1の偏光子31aと、第1の偏光子31aの液晶セル32とは反対側の面に配置された第1の保護フィルム31bと、第1の偏光子31aの液晶セル32側の面に配置された第2の保護フィルム31cとを含む。 The first polarizing plate 31 is arranged on the surface of the liquid crystal cell 32 on the viewing side, and is arranged on the surface of the first polarizer 31a opposite to the liquid crystal cell 32 of the first polarizer 31a. It includes a first protective film 31b and a second protective film 31c arranged on the surface of the first polarizer 31a on the liquid crystal cell 32 side.

また、第2の偏光板33は、液晶セル32のバックライト34側の面に配置されており、第2の偏光子33aと、第2の偏光子33aの液晶セル側の面に配置された保護フィルム33bと、第2の偏光子33aの液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルム33cを含む。第2の偏光子33aの吸収軸は、第1の偏光子31aの吸収軸と直交していることが好ましい。 The second polarizing plate 33 is arranged on the surface of the liquid crystal cell 32 on the backlight 34 side, and is arranged on the surface of the second polarizer 33a and the second polarizer 33a on the liquid crystal cell side. The protective film 33b and the protective film 33c arranged on the surface of the second polarizer 33a opposite to the liquid crystal cell are included. The absorption axis of the second polarizer 33a is preferably orthogonal to the absorption axis of the first polarizer 31a.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量%」を表す。
《ゲートカバーの作製》
〔ゲートカバー1の作製〕
下記の方法に従って、図4で示す構成のゲートカバー1を作製した。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, "%" is used, but "% by mass" is used unless otherwise specified.
<<Fabrication of gate cover>>
[Production of gate cover 1]
The gate cover 1 having the structure shown in FIG. 4 was manufactured according to the following method.

(赤外線反射層ユニットの作製)
(1)低屈折率層形成用塗布液1の調製
撹拌容器にカチオンポリマーとしてメチルジアリルアミン塩酸塩重合体(3級アミン塩を含む。)(PAS−M−1、重量平均分子量20000、50質量%水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製)4.0g、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体(4級アンモニウム基を含む。)(PAS−H−5L、重量平均分子量30000、28質量%水溶液、ニットーボーメディカル株式会社製)5.0g、ゆすぎ水31g、及びホウ酸(3質量%水溶液)31.9gを混合した。ここに、10質量%の酸性コロイダルシリカの水溶液(ST−OXS、濃度10%、平均一次粒径:4〜6nm、日産化学工業株式会社製)を489.9g加えた。これを撹拌しながら40℃まで加温した。ここに、親水性ポリマー(バインダー)としてポリビニルアルコールの8質量%水溶液(JP−45、重合度4500、ケン化度88mol%、日本酢ビ・ポバール株式会社製)を反射層内のバインダー比率として70質量%になるように添加し、さらにエマルジョン樹脂(スーパーフレックス650、第一工業製薬株式会社)30.5g、及び5質量%の界面活性剤の溶液(ソフタゾリンLMEB−R、川研ファインケミカル株式会社)6.3g、及び純水15gの混合液を加え、40℃で撹拌、混合し、低屈折率層形成用塗布液1を得た。
低屈折率層形成用塗布液1を用いて作製した単層の光波長589.3nmにおける屈折率を常法に従って測定した結果、1.50であった。
(Production of infrared reflective layer unit)
(1) Preparation of coating liquid 1 for forming a low refractive index layer A methyldiallylamine hydrochloride polymer (including a tertiary amine salt) as a cationic polymer in a stirring container (PAS-M-1, weight average molecular weight 20000, 50% by mass). Aqueous solution, Nitto Bo Medical Co., Ltd.) 4.0 g, diallyldimethylammonium chloride polymer (including quaternary ammonium group) (PAS-H-5L, weight average molecular weight 30,000, 28 mass% aqueous solution, Nitbo Bo Medical Co., Ltd.) 5.0 g, rinse water 31 g, and boric acid (3 mass% aqueous solution) 31.9 g were mixed. To this, 489.9 g of an aqueous solution of 10 mass% acidic colloidal silica (ST-OXS, concentration 10%, average primary particle size: 4 to 6 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added. This was heated to 40° C. with stirring. Here, an 8% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (JP-45, degree of polymerization 4500, degree of saponification 88 mol%, manufactured by Nihon Bibi Poval Co., Ltd.) as a hydrophilic polymer (binder) was used as a binder ratio in the reflective layer of 70. 30.5 g of emulsion resin (Superflex 650, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) and 5% by mass of a surfactant solution (Softofazoline LMEB-R, Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.). A mixed liquid of 6.3 g and pure water 15 g was added, and the mixture was stirred and mixed at 40° C. to obtain a coating liquid 1 for forming a low refractive index layer.
The refractive index at a light wavelength of 589.3 nm of the single layer prepared using the coating liquid 1 for forming a low refractive index layer was 1.50 as a result of measurement by a conventional method.

(2)高屈折率層形成用塗布液1の調製
30質量%の酸化ジルコニウム粒子の分散液(SZR−W、ジルコニアゾル、粒度分布:D50 3〜5nm、堺化学工業株式会社製)384.8gに対してクエン酸水溶液(1.9質量%)を175.4g加えた。これに界面活性剤(ソフタゾリンLMEB−R、川研ファインケミカル株式会社製)の5質量%水溶液を1.94g添加し、これを40℃まで加温した。次いで、エチレン変性ポリビニルアルコールの8質量%水溶液(株式会社クラレ製、エクセバールRS2117、ケン化度:97.5〜99mol%)を120.4g加え、更に純水9.9gを加えた。これを10分撹拌後、親水性ポリマーとしてポリビニルアルコールの6質量%水溶液(JC−40、ケン化度:99mol%以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製)を反射層内のバインダー比率として70質量%になるように添加し、さらに純水66.7gを加えた。この後、40℃で180分間撹拌し、高屈折率層形成用塗布液1を得た。
高屈折率層形成用塗布液1を用いて作製した単層の屈折率は、1.73であった。
(2) Preparation of coating liquid 1 for forming high refractive index layer Dispersion liquid of 30 mass% zirconium oxide particles (SZR-W, zirconia sol, particle size distribution: D50 3-5 nm, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 384.8 g 175.4 g of an aqueous citric acid solution (1.9% by mass) was added. 1.94 g of a 5 mass% aqueous solution of a surfactant (Softofazoline LMEB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) was added to this, and this was heated to 40°C. Next, 120.4 g of an 8 mass% aqueous solution of ethylene-modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Exceal RS2117, saponification degree: 97.5 to 99 mol%) was added, and further 9.9 g of pure water was added. After stirring this for 10 minutes, a 6 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (JC-40, saponification degree: 99 mol% or more, manufactured by Nihon Bibi Povar Co., Ltd.) as a hydrophilic polymer was used as a binder ratio in the reflective layer of 70 mass. % So that 66.7 g of pure water was further added. Then, it stirred at 40 degreeC for 180 minutes, and obtained the coating liquid 1 for high refractive index layer formation.
The refractive index of the single layer produced using the coating liquid 1 for forming a high refractive index layer was 1.73.

(3)赤外線反射層の形成
22層同時塗布が可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用い、上記調製した低屈折率層形成用塗布液1及び高屈折率層形成用塗布液1を45℃に保温しながら、16で表される偏光板用フィルムBとして、1モル/LのNaOH水溶液に1分間浸漬してケン化処理を施したトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタ社製TACフィルム、KC6UA)上に、21層同時重層塗布(低屈折率層及び高屈折率層を交互に合計21層積層)を行った。この際、最下層(樹脂基材側)及び最上層は低屈折率層(乾燥後の厚さ:85nm)とし、それ以外は低屈折率層(乾燥後の厚さ:92nm)及び高屈折率層(乾燥後の厚さ:79nm)がそれぞれ交互に積層されるようにして、16で表される偏光板用フィルムB上に、21層から構成される赤外線反射層I(表IではR1と略記した。)を作製した。
上記作製した赤外線反射層Iの750〜1500nmにおける平均反射率(%)を下記の方法で測定した結果、18%であった。
(3) Formation of infrared reflective layer Using a slide hopper type coating apparatus capable of simultaneous coating of 22 layers, the coating liquid 1 for forming a low refractive index layer and the coating liquid 1 for forming a high refractive index layer prepared above were heated to 45°C. As a polarizing plate film B represented by 16, while keeping warm, a triacetyl cellulose (TAC) film (TAC film manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) saponified by immersing in a 1 mol/L NaOH aqueous solution for 1 minute. KC6UA) was subjected to simultaneous 21-layer multilayer coating (a total of 21 layers of low refractive index layers and high refractive index layers were alternately laminated). At this time, the lowermost layer (resin base material side) and the uppermost layer are low refractive index layers (thickness after drying: 85 nm), and other than that, the low refractive index layer (thickness after drying: 92 nm) and high refractive index. Infrared reflective layer I (in Table I, R1 and R1 in Table I) composed of 21 layers on polarizing plate film B represented by 16 such that layers (thickness after drying: 79 nm) were alternately laminated. Abbreviated) was prepared.
The average reflectance (%) at 750 to 1500 nm of the infrared reflective layer I produced above was 18% as a result of measurement by the following method.

〈750〜1500nmにおける平均反射率(%)の測定〉
分光光度計として、日立ハイテクノロジーズ社製 U−4100を用いて測定した。赤外線反射層ユニットについて、反射率(DS)を、JIS K 5602:2008(塗膜の日射反射率の求め方)に準拠して、波長750〜1500nmの範囲を2nmおきに測定して、その平均反射率を求めた。
<Measurement of average reflectance (%) at 750 to 1500 nm>
As a spectrophotometer, U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation was used for measurement. Regarding the infrared reflective layer unit, the reflectance (DS) was measured in the range of wavelength 750 to 1500 nm at intervals of 2 nm according to JIS K 5602:2008 (method of determining solar reflectance of coating film), and the average thereof was obtained. The reflectance was calculated.

(偏光板ユニットの作製)
以下の工程により偏光子及び偏光板ユニットU1を作製した
工程1:ポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗・乾燥して、最終的に5μm厚の偏光子14を得た。
工程2:17で表される偏光板用フィルムAとして、あらかじめ表面にコロナ放電処理を施したトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタ社製TACフィルム、KC6UA)の表面上に、上記工程1で得た偏光子14を載せた。なお、コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度2.0kW、ライン速度18m/分とした。
工程3:前記17で表される偏光板用フィルムA上に載せられた偏光子14の反対側の面上に固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤(完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液)を厚さ2μmで塗布した。
工程4:工程3で得たポリビニルアルコール接着剤が塗布された偏光子の面上に、上記作製した赤外線反射層ユニットの、赤外線反射層13面と偏光子14の粘着層面とを貼合して、偏光板ユニットU1である図3及び図4に記載の構成からなる偏光板21を作製した。
(Production of polarizing plate unit)
A polarizer and a polarizing plate unit U1 were produced by the following steps Step 1: The polyvinyl alcohol film was uniaxially stretched (temperature 110° C., stretching ratio 5 times). This was immersed in an aqueous solution containing 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water at 68°C. This was washed with water and dried to finally obtain a polarizer 14 having a thickness of 5 μm.
As a polarizing plate film A represented by step 2:17, on the surface of a triacetyl cellulose (TAC) film (TAC film manufactured by Konica Minolta Co., Ltd., KC6UA) which has been subjected to corona discharge treatment on the surface in advance, the above step 1 The obtained polarizer 14 was mounted. The conditions for the corona discharge treatment were a corona output intensity of 2.0 kW and a line speed of 18 m/min.
Step 3: A polyvinyl alcohol adhesive having a solid content of 2% by mass (completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution) is thickly formed on the opposite surface of the polarizer 14 placed on the polarizing plate film A represented by 17 above. 2 μm in thickness.
Step 4: On the surface of the polarizer coated with the polyvinyl alcohol adhesive obtained in Step 3, the infrared reflective layer 13 surface of the infrared reflective layer unit prepared above and the adhesive layer surface of the polarizer 14 are bonded together. A polarizing plate 21 having the configuration shown in FIGS. 3 and 4 which is the polarizing plate unit U1 was produced.

(赤外線吸収層ユニットBの作製)
アクリル系粘着剤としてSKダイン2094(綜研化学社製)に対し、ITO分散液(三菱マテリアル電子化成社製 T−1 分散媒:メチルイソブチルケトン)を、SKダイン2094の全樹脂量に対し、ITO分散液の固形分量が40質量%になるように添加して、赤外線吸収層形成用塗布液b1を調製した。
次いで、樹脂基材11として、ポリカーボネートフィルムF1(帝人社製、PURE−ACE C110、厚さ100μm)を用い、湿式塗布法により乾燥膜厚10μmになるように上記調製した赤外線吸収層形成用塗布液b1を塗布した後、80℃で1分間乾燥して、樹脂基材11上に、12で表される赤外線(IR)吸収層Bを有する、U2で表される赤外線吸収層ユニットBを作製した。
(Preparation of infrared absorbing layer unit B)
As an acrylic adhesive, SK Dyne 2094 (manufactured by Soken Chemical Industry Co., Ltd.) was mixed with ITO dispersion liquid (T-1 dispersion medium: methyl isobutyl ketone manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Co., Ltd.) for the total amount of SK Dyne 2094 resin. The dispersion liquid was added so that the solid content was 40% by mass to prepare an infrared absorbing layer forming coating liquid b1.
Next, as the resin substrate 11, a polycarbonate film F1 (PURE-ACE C110, manufactured by Teijin Ltd., thickness 100 μm) was used, and the coating liquid for forming an infrared absorbing layer was prepared by the wet coating method so as to have a dry film thickness of 10 μm. After applying b1, it was dried at 80° C. for 1 minute to prepare an infrared absorbing layer unit B represented by U2 having an infrared (IR) absorbing layer B represented by 12 on the resin substrate 11. ..

(偏光板ユニットと赤外線吸収層ユニットBの貼合)
次いで、上記作製した偏光板ユニット(U1、偏光板21)を構成する16で表される偏光板用フィルムB面と、上記作製したU2で表される赤外線吸収層ユニットBの赤外線吸収層12面とを対向させ、貼合ローラーで加圧して貼合した。
(Laminating the polarizing plate unit and infrared absorbing layer unit B)
Next, the polarizing plate film B surface represented by 16 constituting the above-prepared polarizing plate unit (U1, polarizing plate 21), and the infrared absorbing layer 12 surface of the infrared absorbing layer unit B represented by U2 prepared above. Were opposed to each other, and pressure was applied by a bonding roller to bond them.

(赤外線吸収層ユニットAの作製)
上記U2で表される赤外線吸収層ユニットBを形成する赤外線吸収層形成用塗布液として、赤外線吸収層形成用塗布液b1に代えて、下記の方法で調製した赤外線吸収層形成用塗布液a1を用いた以外は同様にして、U3で表される赤外線吸収層ユニットAを作製した。
(Preparation of infrared absorbing layer unit A)
As an infrared absorbing layer forming coating solution for forming the infrared absorbing layer unit B represented by U2, instead of the infrared absorbing layer forming coating solution b1, an infrared absorbing layer forming coating solution a1 prepared by the following method is used. An infrared absorbing layer unit A represented by U3 was produced in the same manner except that it was used.

(赤外線吸収層形成用塗布液a1の調製)
アクリル系粘着剤としてSKダイン2094(綜研化学社製)に対し、750〜1200nmの近赤外波長域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物として、山本化成社製のYKR−2090(λmax:830nm 染料1と称す。)をメチルイソブチルケトンに溶解して染料液を調製し、SKダイン2094の全樹脂量に対し、染料1の固形分量が14質量%になるように添加して、赤外線吸収層形成用塗布液a1を調製した。
(Preparation of coating liquid a1 for forming infrared absorbing layer)
As an acrylic pressure-sensitive adhesive, SK Dyne 2094 (manufactured by Soken Chemical Industry Co., Ltd.) was used as a near-infrared absorbing organic compound having a maximum absorption peak in the near-infrared wavelength region of 750 to 1200 nm, and YKR-2090 (λmax manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.). :830 nm Dye 1) is dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a dye solution, and the solid content of Dye 1 is added to the total resin amount of SK Dyne 2094 to be 14% by mass, and infrared rays are added. A coating liquid a1 for forming an absorption layer was prepared.

次いで、保護フィルム19として、ポリカーボネートフィルムF1(帝人社製、PURE−ACE C110、厚さ100μm)を用い、湿式塗布法により乾燥膜厚10μmになるように上記調製した粘着層形成用塗布液1を塗布した後、80℃で1分間乾燥して、保護フィルム19上に、18で表される赤外線吸収層Aを有するU3で表される赤外線吸収層ユニットAを作製した。 Next, as a protective film 19, a polycarbonate film F1 (manufactured by Teijin Ltd., PURE-ACE C110, thickness 100 μm) was used, and the adhesive layer-forming coating liquid 1 prepared above by a wet coating method so as to have a dry film thickness of 10 μm. After coating, it was dried at 80° C. for 1 minute to prepare an infrared absorbing layer unit A represented by U3 having an infrared absorbing layer A represented by 18 on the protective film 19.

(偏光板ユニット/赤外線吸収層ユニットBと、赤外線吸収層ユニットAとの貼合)
次いで、上記作製した偏光板ユニットU1とU2で表される赤外線吸収層ユニットBとを貼合した、17で表される偏光板用フィルムA面と、上記作製したU3で表される赤外線吸収層ユニットAの18で表される赤外線吸収層A面とを対向させ、貼合ローラーで加圧して貼合した。
(Lamination of Polarizing Plate Unit/Infrared Absorption Layer Unit B and Infrared Absorption Layer Unit A)
Then, the polarizing plate film A surface represented by 17 and the infrared absorption layer represented by U3, which are obtained by laminating the above-prepared polarizing plate units U1 and U2 represented by the infrared absorption layer unit B. The infrared absorption layer A surface represented by 18 of the unit A was made to face and pressure was applied by a bonding roller to bond.

(ハードコート層20の形成)
最後に、上記作製した積層体の保護フィルム19上に、オプスターKZ6445A(荒川化学社製、シリカハイブリッド紫外線硬化性材料)を乾燥膜厚が3μmになるように塗布し、UV硬化装置(FUSION社製)にて、出力70%、搬送速度20mの条件で硬化し、HC層を形成し、図4に記載の構成からなるゲートカバー1を作製した。
(Formation of hard coat layer 20)
Finally, OPSTAR KZ6445A (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., silica hybrid UV curable material) was applied onto the protective film 19 of the above-prepared laminate so that the dry film thickness was 3 μm, and a UV curing device (manufactured by FUSION) ), the composition was cured under the conditions of an output of 70% and a conveying speed of 20 m to form an HC layer, and a gate cover 1 having the configuration shown in FIG. 4 was produced.

〔ゲートカバー2の作製〕
上記ゲートカバー1の作製において、赤外線(IR)吸収層Bに含有される金属酸化物系赤外線吸収剤と近赤外線吸収性有機化合物の濃度(質量%)を表Iとなるように変えてゲートカバー1と同様にしてゲートカバー2を作製した。
[Production of gate cover 2]
In the production of the gate cover 1, the concentration (mass %) of the metal oxide infrared absorbing agent and the near infrared absorbing organic compound contained in the infrared (IR) absorbing layer B was changed as shown in Table I to obtain the gate cover. A gate cover 2 was produced in the same manner as 1.

〔ゲートカバー3の作製〕
上記ゲートカバー2の作製において、赤外線反射層I(R1)に代えて、下記の方法で形成した赤外線反射層II(R2)を用いた以外は同様にして、ゲートカバー2を作製した。
[Production of gate cover 3]
A gate cover 2 was prepared in the same manner as in the preparation of the gate cover 2 except that an infrared reflective layer II (R2) formed by the following method was used instead of the infrared reflective layer I (R1).

(赤外線反射層IIの形成)
前記赤外線反射層ユニット1の作製において、ゲートカバー2の作製に用いたのと同様の低屈折率層形成用塗布液1及び高屈折率層形成用塗布液1を用い、下記に示す乾燥後の厚さとなるように塗布条件を変更し、21層同時重層塗布を行い、赤外線反射層II(R2)を形成した。
この際、最下層(樹脂基材側)及び最上層は低屈折率層の乾燥後の厚さは108nm、それ以外の低屈折率層の乾燥後の厚さは117nm及び高屈折率層の乾燥後の厚さは101nmとし、それぞれ交互に積層されるようにして、16で表される偏光板用フィルムB上に、21層から構成される赤外線反射層II(R2)を形成した。赤外線反射層IIの750〜1500nmにおける平均反射率(%)を前記の方法で測定した結果、23%であった。
(Formation of infrared reflective layer II)
In the preparation of the infrared reflective layer unit 1, the same low-refractive index layer-forming coating solution 1 and high-refractive index layer-forming coating solution 1 as those used in the preparation of the gate cover 2 were used, and after drying as shown below. The coating conditions were changed so as to obtain a thickness, and 21 layers were simultaneously coated in layers to form an infrared reflective layer II (R2).
At this time, the lowermost layer (resin substrate side) and the uppermost layer have a low-refractive index layer having a thickness of 108 nm after drying, and the other low-refractive index layers have a thickness after drying of 117 nm and a high-refractive index layer. The subsequent thickness was set to 101 nm, and the infrared reflective layer II (R2) composed of 21 layers was formed on the polarizing plate film B represented by 16 such that they were alternately laminated. The average reflectance (%) at 750 to 1500 nm of the infrared reflective layer II was 23% as a result of measuring by the above method.

〔ゲートカバー4、5、9〜12及び15〜20の作製〕
上記ゲートカバー3の作製において、赤外線吸収層中に含有される金属酸化物系赤外線吸収剤と近赤外線吸収性有機化合物の種類と濃度(質量%)を表Iとなるように変えてゲートカバー3と同様にしてゲートカバー4、5、9〜12及び15〜20を作製した。
ただし、ゲートカバー11の作製においては、ゲートカバーの層構成を、図4に示す構成から、図5に示す12で表される赤外線吸収層Bと赤外線反射層13が隣接する構成に変更した。
また、ゲートカバー17〜20の作製においては、上記ゲートカバー1の作製において、偏光板ユニットの構成から偏光子を除いた構成(図4改1と称す。)に変更した。
[Fabrication of Gate Covers 4, 5, 9-12 and 15-20]
In the production of the gate cover 3, the type and concentration (mass %) of the metal oxide infrared absorbing agent and the near infrared absorbing organic compound contained in the infrared absorbing layer are changed so as to be in Table I, and the gate cover 3 Gate covers 4, 5, 9 to 12 and 15 to 20 were produced in the same manner as in.
However, in the manufacture of the gate cover 11, the layer structure of the gate cover was changed from the structure shown in FIG. 4 to the structure in which the infrared absorption layer B and the infrared reflection layer 13 shown by 12 shown in FIG. 5 were adjacent to each other.
Further, in the production of the gate covers 17 to 20, the configuration (referred to as FIG. 4, modified 1) in which the polarizer was removed from the configuration of the polarizing plate unit in the production of the gate cover 1 was changed.

〔ゲートカバー6〜8の作製〕
上記ゲートカバー5の作製において、赤外線吸収層Bに用いたCWO分散液の添加層を、表Iに示した濃度でハードコート(HC)層に含有させた以外は同様にして、ゲートカバー6〜8を作製した。HC層に赤外線吸収層の機能も持たせた。
[Production of gate covers 6 to 8]
In the production of the gate cover 5, the gate cover 6 to the same as the gate cover 6 except that the addition layer of the CWO dispersion used for the infrared absorbing layer B was contained in the hard coat (HC) layer at the concentration shown in Table I. 8 was produced. The HC layer also has the function of an infrared absorption layer.

〔ゲートカバー13の作製〕
上記ゲートカバー12の作製において、赤外線反射層ユニット1の作製に用いた赤外線反射層II(R2)に代えて、下記の方法で形成した赤外線反射層III(R3)を用いた以外は同様にして、ゲートカバー13を作製した。
[Production of gate cover 13]
In the production of the above-mentioned gate cover 12, the infrared reflection layer III (R3) formed by the following method was used in place of the infrared reflection layer II (R2) used in the production of the infrared reflection layer unit 1 in the same manner. The gate cover 13 was produced.

(赤外線反射層IIIの形成)
16で表される偏光板用フィルムBであるTACフィルム上に、特開2017−122025号公報の実施例に記載の遮熱フィルムJQ2の形成方法に従って、スパッタリング法を用いて、下層部からITO(膜厚:37nm)/Ag(膜厚:4nm)/ITO(膜厚:60nm)/Ag(膜厚:4nm)/ITO(膜厚:68nm)/Ag(膜厚:4nm)/ITO(膜厚:34nm)の構成からなる金属膜を順次積層して、赤外線反射層III(R3)を形成した。
(Formation of infrared reflective layer III)
On the TAC film, which is the polarizing plate film B represented by 16, according to the method for forming the heat shield film JQ2 described in the example of JP-A-2017-122025, the ITO ( Film thickness: 37 nm)/Ag (film thickness: 4 nm)/ITO (film thickness: 60 nm)/Ag (film thickness: 4 nm)/ITO (film thickness: 68 nm)/Ag (film thickness: 4 nm)/ITO (film thickness : 34 nm), and the infrared reflective layer III (R3) was formed by sequentially laminating a metal film having a constitution.

〔ゲートカバー14の作製〕
上記ゲートカバー12の作製において、金属酸化物系赤外線吸収剤であるITO分散液の添加層を赤外線吸収層Bから赤外線吸収層Aに変えて、近赤外線吸収性有機化合物と赤外線吸収層Bとを含有する赤外線反射層Aを用いた以外は同様にして、ゲートカバー14を作製した。
[Production of gate cover 14]
In the production of the gate cover 12, the near infrared absorbing organic compound and the infrared absorbing layer B are changed by changing the addition layer of the ITO dispersion liquid which is a metal oxide infrared absorbing agent from the infrared absorbing layer B to the infrared absorbing layer A. A gate cover 14 was produced in the same manner except that the contained infrared reflective layer A was used.

〔ゲートカバー21の作製〕
上記ゲートカバー3の作製において、樹脂基材11を、ポリカーボネートフィルムF1(面内リターデーション値Ro:32nm)から、ポリカーボネートフィルムF2(帝人社製、PURE−ACE RM、厚さ70μm、面内リターデーション値Ro:125nm)に変更し、さらに赤外線吸収層中に含有されるITOと染料1の濃度(質量%)を表Iのように変えた以外は同様にして、ゲートカバー21を作製した。
[Production of gate cover 21]
In the production of the gate cover 3, the resin base material 11 is changed from the polycarbonate film F1 (in-plane retardation value Ro: 32 nm) to the polycarbonate film F2 (manufactured by Teijin Limited, PURE-ACE RM, thickness 70 μm, in-plane retardation). The value of Ro: 125 nm) was changed, and the concentration (mass%) of ITO and dye 1 contained in the infrared absorption layer was changed as shown in Table I, and the gate cover 21 was prepared in the same manner.

〔ゲートカバー22の作製〕
上記ゲートカバー21の作製において、樹脂基材をポリカーボネートフィルムF2からポリカーボネートフィルムF1に変えて、さらに赤外線反射層を除いた構成(図4改2と称する。)とする以外は同様にして、ゲートカバー22を作製した。
[Production of gate cover 22]
The gate cover 21 is manufactured in the same manner except that the resin base material is changed from the polycarbonate film F2 to the polycarbonate film F1 and the infrared reflective layer is removed (referred to as FIG. 4, modified 2) in the production of the gate cover 21. 22 was produced.

〔ゲートカバー23〜25の作製〕
上記ゲートカバー1の作製において、赤外線吸収層A中の染料1を除いた以外は同様にして、ゲートカバー23を作製した。また、上記ゲートカバー1の作製において、赤外線吸収層B中のITOを除いた以外は同様にして、ゲートカバー24を作製した。更に上記ゲートカバー1の作製において、赤外線吸収層A中の染料1と、赤外線吸収層B中のITOを除いた以外は同様にして、ゲートカバー25を作製した。
[Production of gate covers 23 to 25]
A gate cover 23 was produced in the same manner as in the production of the gate cover 1 except that the dye 1 in the infrared absorbing layer A was removed. A gate cover 24 was produced in the same manner as in the production of the gate cover 1 except that the ITO in the infrared absorption layer B was removed. Further, a gate cover 25 was produced in the same manner as in the production of the gate cover 1 except that the dye 1 in the infrared absorbing layer A and the ITO in the infrared absorbing layer B were removed.

〔ゲートカバー26の作製〕
上記ゲートカバー11の作製において、樹脂基材11を、PETフィルム(帝人デュポンフィルム社製 厚さ:100μm)に変更し、近赤外線吸収性有機化合物の濃度を表Iに示したように変更し、さらに赤外線反射層R2に代えて下記の構成からなるPET/PET積層体に変更した以外は同様にして、ゲートカバー26を作製した。
樹脂基材として用いたPETフィルムは表I中、F3として示した。
[Production of gate cover 26]
In the production of the gate cover 11, the resin base material 11 was changed to a PET film (manufactured by Teijin DuPont Films, thickness: 100 μm), and the concentration of the near infrared absorbing organic compound was changed as shown in Table I, Further, the gate cover 26 was produced in the same manner except that the infrared reflective layer R2 was replaced with a PET/PET laminated body having the following structure.
The PET film used as the resin substrate is shown as F3 in Table I.

(PET/PET積層体)
住友3M社製のPET積層遮熱フィルムである「NANO90S」を用いた。NANO90Sは、PETフィルムの積層体で、膜厚が50μm、PET積層数が200層である。
(PET/PET laminate)
“NANO90S”, which is a PET laminated thermal barrier film manufactured by Sumitomo 3M, was used. NANO90S is a PET film laminate having a film thickness of 50 μm and a PET laminate number of 200 layers.

上記ゲートカバーの作製に用いた赤外線吸収剤を以下に示す。
金属酸化物系赤外線吸収剤(赤外線吸収剤−1)
ITO:ITO分散液(三菱マテリアル電子化成社製 T−1 分散媒:メチルイソブチルケトン)
CWO:CWO分散液(住友金属鉱山社製 YMF−02A)
ATO:ATO分散液(Keeling&Walker社製 CP5C)
AZO:AZO分散液(三井金属社製)
The infrared absorbers used for producing the gate cover are shown below.
Metal oxide infrared absorber (infrared absorber-1)
ITO: ITO dispersion liquid (Mitsubishi Materials Denshi Kasei Co., Ltd. T-1 dispersion medium: methyl isobutyl ketone)
CWO: CWO dispersion (YMF-02A manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.)
ATO: ATO dispersion (CP5C manufactured by Keeling & Walker)
AZO: AZO dispersion (manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd.)

近赤外線吸収性有機化合物(赤外線吸収剤−2)
染料1:山本化成社製のYKR−2090(λmax:830nm)
染料2:下記構造の赤外線吸収染料2(スペクトラムインフォ社製:λmax:995nm)
Near infrared absorbing organic compound (infrared absorber-2)
Dye 1: YKR-2090 manufactured by Yamamoto Kasei (λmax: 830 nm)
Dye 2: Infrared absorbing dye 2 having the following structure (Spectrum Info: λmax: 995 nm)

Figure 2020095193
Figure 2020095193

染料3:山本化成社製のYKR−2900(λmax:897nm)
染料4:山本化成社製のYKR−2200(λmax:1007nm)
染料5:750〜1200nmの近赤外線波長領域に極大吸収ピークを有する染料5は以下のように調製して用いた。
Dye 3: YKR-2900 manufactured by Yamamoto Kasei (λmax: 897 nm)
Dye 4: YKR-2200 manufactured by Yamamoto Kasei (λmax: 1007 nm)
Dye 5: Dye 5 having a maximum absorption peak in the near infrared wavelength region of 750 to 1200 nm was prepared and used as follows.

(染料5の調製)
特開2011−099038号公報の段落(0112)〜(0113)に記載の方法により、染料5を調製した。具体的には、まず、酢酸銅1水和物0.149g(7.46×10−4mol)を、ジメチルホルムアミド(DMF)25gに溶解させた溶液(a)、及び酢酸銅1水和物に対して等モルのエチルホスホン酸(0.0821g)及びリン酸エステル化合物であるDDP−6(日光ケミカルズ社製)0.13g(1.67×10−4mol)を、DMF25gに溶解させた溶液(b)をそれぞれ準備した。
(Preparation of Dye 5)
Dye 5 was prepared by the method described in paragraphs (0112) to (0113) of JP-A-2011-099038. Specifically, first, a solution (a) prepared by dissolving 0.149 g (7.46×10 −4 mol) of copper acetate monohydrate in 25 g of dimethylformamide (DMF), and copper acetate monohydrate. On the other hand, an equimolar amount of ethylphosphonic acid (0.0821 g) and 0.13 g (1.67×10 −4 mol) of DDP-6 (manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.), which is a phosphoric acid ester compound, were dissolved in 25 g of DMF. Solutions (b) were prepared respectively.

次いで、上記で得られた溶液(a)と溶液(b)とを混合し、室温下で2時間攪拌して反応させた。反応後、得られた反応混合物から副生成物及び溶媒を、減圧下、60℃で留去した。そして、この溶液にトルエンを5g添加し超音波照射して再分散処理を行い、赤外線吸収剤である染料5を得た。
上記作製した各ゲートカバーの構成を、表Iに示す。
Then, the solution (a) and the solution (b) obtained above were mixed and reacted at room temperature for 2 hours with stirring. After the reaction, the by-products and the solvent were distilled off from the obtained reaction mixture at 60° C. under reduced pressure. Then, 5 g of toluene was added to this solution and ultrasonic wave irradiation was carried out to carry out redispersion treatment to obtain dye 5 which is an infrared absorber.
Table I shows the configuration of each of the gate covers produced above.

Figure 2020095193
Figure 2020095193

《ゲートカバーの特性値の測定》
〔面内リターデーションRo値の測定〕
各ゲートカバーの作製に用いた樹脂基材について、入射角度0°、測定波長550nmにおける面内リターデーション値Roを、自動複屈折率計 Axometorics社製Axoscanを用いて、23℃、55%RHの環境下で測定した。
<<Measurement of gate cover characteristic values>>
[Measurement of in-plane retardation Ro value]
With respect to the resin base material used for the production of each gate cover, the in-plane retardation value Ro at an incident angle of 0° and a measurement wavelength of 550 nm was measured at 23° C. and 55% RH using an automatic birefringence meter Axoscan. It was measured under the environment.

〔380〜740nmにおける平均透過率の測定〕
上記作製した各ヘッドカバーについて、分光光度計(V−570、日本分光社製)を用い、380〜740nmの可視光波長領域における平均透過率を測定した。
[Measurement of average transmittance at 380 to 740 nm]
The average transmittance in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm was measured for each of the above prepared head covers using a spectrophotometer (V-570, manufactured by JASCO Corporation).

〔380〜740nmにおける直線偏光光の平均透過率の測定〕
上記作製した各ヘッドカバーについて、分光光度計(V−570、日本分光社製)を用い、ハロゲン光源に偏光板を重ねて直線偏光とし、光源の偏光方向をゲートカバーの透過軸方向に平行にして、380〜740nmの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率を測定した。
[Measurement of average transmittance of linearly polarized light at 380 to 740 nm]
For each of the head covers prepared above, a spectrophotometer (V-570, manufactured by JASCO Corporation) was used, and a polarizing plate was placed on the halogen light source to make linearly polarized light, and the polarization direction of the light source was made parallel to the transmission axis direction of the gate cover. The average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm was measured.

〔750〜1500nmにおける平均反射率の測定〕
分光光度計として、日立ハイテクノロジーズ社製 U−4100を用いて測定した。赤外線反射層ユニットについて、日射反射率(DS)を、JIS K 5602:2008(塗膜の日射反射率の求め方)に準拠して、波長750〜1500nmの範囲を2nmおきに測定して、その平均反射率を求めた。
[Measurement of average reflectance at 750 to 1500 nm]
As a spectrophotometer, U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation was used for measurement. Regarding the infrared reflective layer unit, the solar reflectance (DS) was measured in accordance with JIS K 5602:2008 (how to determine the solar reflectance of the coating film) in the wavelength range of 750 to 1500 nm every 2 nm, and The average reflectance was calculated.

《ヘッドアップディスプレイの評価》
〔遮熱性の評価〕
(評価用のHUD装置の作製)
トヨタ自動車製のレクサスLSに搭載されているヘッドアップディスプレイ(24インチ)に対し、具備している既存のゲートカバーを外し、上記作製した各ゲートカバー(図1の3の位置)を張り付け、上記作製した各ゲートカバーを具備した評価用のHUD装置1〜26を作製した。
<<Evaluation of head-up display>>
[Evaluation of heat shielding property]
(Preparation of HUD device for evaluation)
To the head-up display (24 inches) mounted on the Toyota Lexus LS, remove the existing gate cover provided and attach the above-mentioned gate covers (position 3 in FIG. 1) to the above. HUD devices 1 to 26 for evaluation equipped with the respective manufactured gate covers were manufactured.

(評価1:太陽光線照射時の液晶表示装置表面温度の測定)
模擬太陽光としてパナソニック社製の「RF100V200W−W/D」レフ電球を用い、評価用のHUD装置のゲートカバー面から10cmの上部に配置した。
次いで、25℃、60%RHの環境下で、100時間照射した後の液晶表示装置(LCD)の表面温度を、表面温度計(株式会社キーエンス製、超小型・小スポット赤外放射温度計IT2−50)を用いて測定した。
(Evaluation 1: Measurement of liquid crystal display device surface temperature during irradiation of sunlight)
A "RF100V200W-W/D" reflex bulb manufactured by Panasonic Corporation was used as the simulated sunlight, and it was placed 10 cm above the gate cover surface of the HUD device for evaluation.
Then, the surface temperature of the liquid crystal display (LCD) after being irradiated for 100 hours in an environment of 25° C. and 60% RH is measured by a surface thermometer (manufactured by Keyence Co., Ltd., an ultra-small/small-spot infrared radiation thermometer IT2). -50).

(評価2:太陽光線照射後のゲートカバーの外観観察)
フロントガラスの上面側より、模擬太陽光としてパナソニック社製の「RF100V200W−W/D」レフ電球を用い、評価用のHUD装置のゲートカバー面から10cmの上部に配置した。
次いで、25℃、60%RHの環境下で、200時間照射した後のゲートカバーの外観形状を目視観察し、下記の基準に従って耐久性の評価を行った。
◎:ゲートカバーに、変形や膨れの発生が全く認められない
○:ゲートカバーに、ほぼ変形や膨れの発生が認められない
△:ゲートカバーの一部で弱い変形が認められるが、実用上許容される品質である
×:ゲートカバーに明らかな変形や膨れが認められ、実用上問題となる品質である
(Evaluation 2: Observation of appearance of gate cover after irradiation of sunlight)
A "RF100V200W-W/D" reflex bulb manufactured by Panasonic Corporation was used as simulated sunlight from the upper surface side of the windshield, and was placed 10 cm above the gate cover surface of the HUD device for evaluation.
Then, the external appearance of the gate cover after irradiation for 200 hours under the environment of 25° C. and 60% RH was visually observed, and the durability was evaluated according to the following criteria.
⊚: No deformation or swelling was observed in the gate cover ◯: Almost no deformation or swelling was observed in the gate cover Δ: Weak deformation was observed in part of the gate cover, but practically acceptable X: The gate cover has obvious deformation and swelling, which is a problem in practical use.

〔表示画像の視認性の評価〕
各HUD装置の投影画面上に、速度情報及び文字情報を投影し、表示された画像の虹ムラの発生の有無及び画像鮮鋭度を目視観察し、下記の基準に従って、表示画像の視認性の評価を行った。
○:表示画像に、虹ムラの発生がなく、高鮮鋭な表示画像である
△:表示画像に、弱い虹ムラの発生が認められるが、表示画像の鮮鋭性は良好である
×:表示画像に、明らかな虹ムラが発生し、表示画像の鮮鋭性もやや低い
××:表示画像に、強い虹ムラが発生し、表示画像の鮮鋭性も低い
以上により得られた結果を、表IIに示す。
[Evaluation of visibility of display image]
The speed information and the character information are projected on the projection screen of each HUD device, the presence or absence of rainbow unevenness in the displayed image and the image sharpness are visually observed, and the visibility of the displayed image is evaluated according to the following criteria. I went.
◯: The display image is a highly sharp display image with no rainbow unevenness. Δ: A slight rainbow unevenness is observed in the display image, but the sharpness of the display image is good. , Clear rainbow unevenness is generated and the sharpness of the display image is slightly low XX: Strong rainbow unevenness occurs in the display image and the sharpness of the display image is low. The results obtained as described above are shown in Table II. ..

Figure 2020095193
Figure 2020095193

表IIに記載の結果より明らかなように、本発明で規定する構成からなるゲートカバーは、低い位相差特性を有し、可視光波長領域での透過率、赤外線領域での反射率に優れた特性を備え、HUD装置に組み入れた際に、太陽光の照射を受けた際の液晶表示装置(LCD)の高温化を防止し、ゲートカバーへの熱エネルギーによるダメージを防止することができることが分かる。 As is clear from the results shown in Table II, the gate cover having the configuration defined in the present invention has a low phase difference characteristic, and has excellent transmittance in the visible light wavelength region and excellent reflectance in the infrared region. It can be seen that the liquid crystal display device (LCD) has characteristics and can prevent the temperature of the liquid crystal display device (LCD) from rising when it is exposed to sunlight and prevent damage to the gate cover due to thermal energy when incorporated into a HUD device. ..

1 ヘッドアップディスプレイ(HUD装置)
2 フロントガラス
3 ヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー
4 拡大鏡
5 コールドミラー
6 ホットミラー
7 液晶表示装置(LCD)
11 樹脂基材
12 赤外線吸収層B
13 赤外線反射層
14 偏光層(偏光子)
16 偏光板用フィルムB
17 偏光板用フィルムA
18 赤外線吸収層A
19 保護フィルム
20 ハードコート層
21 偏光板
30 液晶表示装置
31 第1の偏光板
31a 第1の偏光子
32 液晶セル
33 第2の偏光板
33a 第2の偏光子
L 太陽光
U1 偏光板ユニット
U2 赤外線吸収層ユニットB
U3 赤外線吸収層ユニットA
1 Head-up display (HUD device)
2 Windshield 3 Gate-up display gate cover 4 Magnifying glass 5 Cold mirror 6 Hot mirror 7 Liquid crystal display (LCD)
11 Resin Base Material 12 Infrared Absorption Layer B
13 Infrared reflective layer 14 Polarizing layer (polarizer)
16 Film for polarizing plate B
17 Film A for polarizing plate
18 Infrared absorbing layer A
19 Protective Film 20 Hard Coat Layer 21 Polarizing Plate 30 Liquid Crystal Display Device 31 First Polarizing Plate 31a First Polarizer 32 Liquid Crystal Cell 33 Second Polarizing Plate 33a Second Polarizer L Sunlight U1 Polarizing Unit U2 Infrared Absorption layer unit B
U3 Infrared absorption layer unit A

Claims (9)

樹脂基材上に、赤外線吸収層及び赤外線反射層が設けられたヘッドアップディスプレイ用ゲートカバーであって、
前記樹脂基材の面内リターデーション値が、入射角度0°、波長550nmの光線を入射させたときに、0nm以上、100nm未満の範囲内であり、
前記赤外線吸収層が、下記赤外線吸収剤−1と赤外線吸収剤−2とを含有し、
380〜740nmの可視光波長領域における平均透過率が80%以上であり、750〜1500nmの近赤外線波長領域における平均反射率が15%以上であることを特徴とするヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。
(赤外線吸収剤)
赤外線吸収剤−1:750〜1200nmの近赤外線波長領域に極大吸収ピークを有する近赤外線吸収性有機化合物
赤外線吸収剤−2:金属酸化物系赤外線吸収剤
A gate cover for a head-up display in which an infrared absorption layer and an infrared reflection layer are provided on a resin substrate,
The in-plane retardation value of the resin base material is in the range of 0 nm or more and less than 100 nm when a light beam having an incident angle of 0° and a wavelength of 550 nm is incident.
The infrared absorbing layer contains the following infrared absorbent-1 and infrared absorbent-2,
A gate cover for a head-up display, which has an average transmittance of 80% or more in a visible light wavelength region of 380 to 740 nm and an average reflectance of 15% or more in a near infrared wavelength region of 750 to 1500 nm.
(Infrared absorber)
Infrared absorbing agent-1: Near infrared absorbing organic compound infrared absorbing agent having a maximum absorption peak in the near infrared wavelength region of 750 to 1200 nm-2: Metal oxide infrared absorbing agent
前記近赤外線吸収剤−1が、金属錯体系色素、インモニウム系色素、ジインモニウム系色素、及びポリメチン系色素から選ばれることを特徴とする請求項1に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 The gate cover for a head-up display according to claim 1, wherein the near-infrared absorber-1 is selected from metal complex dyes, immonium dyes, diimmonium dyes, and polymethine dyes. 前記赤外線吸収剤−2が、スズドープ酸化インジウム(ITO)、セシウムドープ酸化タングステン(CWO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)及びアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)から選ばれることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 The infrared absorber-2 is selected from tin-doped indium oxide (ITO), cesium-doped tungsten oxide (CWO), antimony-doped tin oxide (ATO), gallium-doped zinc oxide (GZO) and aluminum-doped zinc oxide (AZO). A gate cover for a head-up display according to claim 1 or 2. 前記赤外線吸収剤−1に対する前記赤外線吸収剤−2の質量比の値が、1.0〜6.0の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 The value of the mass ratio of the infrared absorbing agent-2 to the infrared absorbing agent-1 is within the range of 1.0 to 6.0. Gate cover for head-up display described in. さらに、偏光層を有し、380〜740nmの可視光波長領域における直線偏光光の平均透過率が、80%以上であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 Furthermore, it has a polarizing layer and the average transmittance of linearly polarized light in the visible light wavelength region of 380 to 740 nm is 80% or more, and any one of claims 1 to 4 is characterized. Gate cover for the head-up display described. 前記赤外線反射層が、誘電体多層膜構造を有することを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 The gate cover for a head-up display according to any one of claims 1 to 5, wherein the infrared reflective layer has a dielectric multilayer film structure. 前記赤外線反射層が、無機微粒子を含有していることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 The gate cover for a head-up display according to any one of claims 1 to 6, wherein the infrared reflective layer contains inorganic fine particles. 前記樹脂基材上に、前記赤外線吸収剤−2を含有する層、前記赤外線反射層及び前記赤外線吸収剤−1を含有する層が、この順で配置されていることを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 The layer containing the infrared absorbent-2, the infrared reflective layer, and the layer containing the infrared absorbent-1 are arranged in this order on the resin base material. The gate cover for a head-up display according to any one of claims 1 to 7. 自動車、電車、航空機又は船舶に搭載されるヘッドアップディスプレイに具備されることを特徴とする請求項1から請求項8までのいずれか一項に記載のヘッドアップディスプレイ用ゲートカバー。 The gate cover for a head-up display according to any one of claims 1 to 8, which is provided in a head-up display mounted on an automobile, a train, an aircraft or a ship.
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