JP2020092675A - Plant cultivation apparatus - Google Patents

Plant cultivation apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2020092675A
JP2020092675A JP2018234094A JP2018234094A JP2020092675A JP 2020092675 A JP2020092675 A JP 2020092675A JP 2018234094 A JP2018234094 A JP 2018234094A JP 2018234094 A JP2018234094 A JP 2018234094A JP 2020092675 A JP2020092675 A JP 2020092675A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cultivation
waste liquid
lighting device
liquid tank
plant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018234094A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7212928B2 (en
Inventor
久和 内山
Hisakazu Uchiyama
久和 内山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP2018234094A priority Critical patent/JP7212928B2/en
Publication of JP2020092675A publication Critical patent/JP2020092675A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7212928B2 publication Critical patent/JP7212928B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P60/00—Technologies relating to agriculture, livestock or agroalimentary industries
    • Y02P60/20—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions in agriculture, e.g. CO2
    • Y02P60/21—Dinitrogen oxide [N2O], e.g. using aquaponics, hydroponics or efficiency measures

Landscapes

  • Cultivation Of Plants (AREA)
  • Hydroponics (AREA)

Abstract

To provide a plant cultivation apparatus that has small influence on cultivation spaces, and is capable of securely cooling illumination devices.SOLUTION: A plant cultivation apparatus 10 has: a frame 11; a plurality of cultivation spaces 12 which are vertically partitioned in the frame 11; cultivation vessels 13 which are installed under cultivation spaces 12; and illumination devices 14 which are installed above the cultivation spaces 12. The plant cultivation apparatus 10 cools down the illumination devices 14 in the lower cultivation spaces 12 by waste liquid discharged from the cultivation vessels 13 of the upper cultivation spaces 12.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、植物栽培装置に関する。 The present invention relates to a plant cultivation device.

植物栽培装置は、天気等に左右されることなく安定して野菜等の植物を生産できるものとして多くの研究がなされてきた。
本出願人も、棚フレームと、その棚板に支持される栽培容器と、棚板の下面に配置された多数の発光ダイオードを備えた照明器具とを有し、栽培容器内の培養液によって棚板を介して照明器具を冷却する栽培棚を提案している（特許文献１）。
また本出願人は、断熱作用を奏する遮温壁からなる箱体と、その箱体の上部に配置される発光パネルと、その箱体の天井と発光パネルとの間の上循環路と、その箱体の底面と発光パネルとの間の下循環路と、上循環路内に発光パネルを冷却する空気を供給する冷却装置とを有し、上循環路と下循環路とは一端で連通し、冷却装置の冷却空気が上循環路の他端から供給される植物栽培装置も提案している（特許文献２）。 A lot of researches have been conducted on plant cultivating devices as those capable of stably producing plants such as vegetables without being influenced by the weather and the like.
The present applicant also has a shelf frame, a cultivation container supported by the shelf plate, and a lighting device provided with a large number of light-emitting diodes arranged on the lower surface of the shelf plate, and shelves with a culture solution in the cultivation container. A cultivation shelf has been proposed in which a lighting fixture is cooled via a plate (Patent Document 1).
In addition, the applicant of the present invention, the box made of a heat shield wall that performs a heat insulating function, a light-emitting panel disposed on the upper part of the box, an upper circulation path between the ceiling of the box and the light-emitting panel, It has a lower circulation path between the bottom surface of the box body and the light emitting panel, and a cooling device for supplying air for cooling the light emitting panel into the upper circulation path, and the upper circulation path and the lower circulation path communicate with each other at one end. Also proposed is a plant cultivation device in which the cooling air of the cooling device is supplied from the other end of the upper circulation path (Patent Document 2).

特許第３９５２２２０号公報Japanese Patent No. 3952220 特許第５３５７８６３号公報Japanese Patent No. 5357863

しかし、特許文献１のように、栽培容器内の培養液によって照明器具を冷却する場合、逆に培養液が温められることになるため、特に、栽培空間の温度等の環境制御を精密に行うことが求められる場合、好ましくない。また培養液の循環経路によっては培養液の一部で熱がこもってしまったりするおそれがある。
一方、特許文献２のように冷却空気で発光パネルを冷却する場合、冷却空気では十分に照明器具を冷却できない場合がある。
本発明は、栽培空間への影響が小さく、照明装置を確実に冷却することが可能な植物栽培装置を提供することを目的としている。 However, as in Patent Document 1, when the lighting device is cooled by the culture solution in the cultivation container, the culture solution is heated on the contrary, so that the environment such as the temperature of the cultivation space is precisely controlled. Is not desirable when is required. Further, depending on the circulation route of the culture solution, heat may be trapped in a part of the culture solution.
On the other hand, when the light emitting panel is cooled with cooling air as in Patent Document 2, there are cases where the lighting fixture cannot be sufficiently cooled with cooling air.
An object of the present invention is to provide a plant cultivation device that has a small effect on a cultivation space and can reliably cool a lighting device.

本発明の植物栽培装置の第１の態様は、栽培空間と、前記栽培空間の下方に設置される栽培容器と、前記栽培空間の上方に設置される照明装置とを有しており、前記照明装置は、前記栽培容器から排出される廃液によって冷却されることを特徴としている。
本発明において、「廃液」とは、栽培容器から排出された培養液、あるいは、培養液が循環されている場合は、栽培容器に対して下流側にある培養液をいう。
本発明は、廃液によって照明装置を冷却するため、栽培環境への影響を極力小さくでき、栽培条件の制御を正確に行うことができる。 1st aspect of the plant cultivation apparatus of this invention has a cultivation space, the cultivation container installed below the said cultivation space, and the illuminating device installed above the said cultivation space, and the said lighting The device is characterized by being cooled by the waste liquid discharged from the cultivation container.
In the present invention, the “waste liquid” refers to the culture liquid discharged from the cultivation container, or, when the culture liquid is circulated, the culture liquid on the downstream side of the cultivation container.
In the present invention, since the lighting device is cooled by the waste liquid, the influence on the cultivation environment can be minimized and the cultivation conditions can be accurately controlled.

本発明の植物栽培装置の第２の態様は、フレームと、前記フレーム内において上下に区切られた複数の栽培空間と、前記栽培空間の下方に設置される栽培容器と、前記栽培空間の上方に設置される照明装置とを有しており、前記照明装置は、当該栽培空間より上の栽培空間の栽培容器から排出される廃液によって冷却されることを特徴としている。
この植物栽培装置も廃液によって照明装置を冷却するため、第１の態様と同様の効果を得ることができる。さらに、廃液を照明装置より上方にある栽培容器から供給するため、ポンプ等の設備を用いることなく簡易な設備で、廃液で照明装置を冷却することができる。 A second aspect of the plant cultivation device of the present invention is a frame, a plurality of cultivation spaces that are vertically divided in the frame, a cultivation container installed below the cultivation space, and above the cultivation space. The lighting device is installed, and the lighting device is cooled by the waste liquid discharged from the cultivation container in the cultivation space above the cultivation space.
Since this plant cultivation device also cools the lighting device with the waste liquid, it is possible to obtain the same effect as that of the first aspect. Further, since the waste liquid is supplied from the cultivation container above the lighting device, the lighting device can be cooled with the waste liquid with simple equipment without using equipment such as a pump.

本発明の植物栽培装置の第２の態様であって、前記栽培空間が密閉されているものが好ましく、特に、密封されているものが好ましい。ここで「密閉」とは、通常の状態において固形の異物が侵入することを防ぐ状態をいい、「密封」とは、通常の状態において水分や気体が侵入することを防ぐ状態をいう。栽培空間が密閉されている場合、各栽培空間における植物の種類または生長状態に応じて環境を独立して制御することができる。特に、各栽培空間が密封されている場合、各栽培空間の環境を厳密に制御することができる。 In the second aspect of the plant cultivating device of the present invention, it is preferable that the cultivating space is hermetically sealed, and in particular, hermetically sealed one is preferable. Here, "sealing" refers to a state in which solid foreign matter is prevented from entering in a normal state, and "sealing" refers to a state in which moisture or gas is prevented from entering in a normal state. When the cultivation space is sealed, the environment can be independently controlled according to the type or growth state of the plant in each cultivation space. In particular, when each cultivation space is sealed, the environment of each cultivation space can be strictly controlled.

本発明の植物栽培装置であって、前記排液を流す廃液路または前記廃液を貯留して排出する廃液槽を有しており、前記廃液路または前記廃液槽と、照明装置とが熱交換できるように構成されているものが好ましい。
このように廃液を通す廃液路または廃液槽と、照明装置とが熱交換できるように構成されている場合、簡易な設備で照明装置を冷却できる。 The plant cultivating apparatus of the present invention, which has a waste liquid passage for flowing the waste liquid or a waste liquid tank for storing and discharging the waste liquid, and the heat exchange between the waste liquid passage or the waste liquid tank and the lighting device is possible. Those configured as above are preferable.
In this way, when the waste liquid passage or the waste liquid tank through which the waste liquid is passed and the lighting device can be heat-exchanged, the lighting device can be cooled with simple equipment.

第２の態様の植物栽培装置であって、前記栽培空間は棚板によって区切られており、前記棚板の下方に照明装置および前記廃液路または廃液槽が設けられ、前記棚板の上方に栽培容器が設けられているものが好ましい。この場合、前記廃液路または前記廃液槽が、前記照明装置と棚板との間に設けられているものがさらに好ましい。あるいは、前記廃液路または前記廃液槽は、前記照明装置の横側に設けられているものがさらに好ましい。 The plant cultivation apparatus according to the second aspect, wherein the cultivation space is divided by a shelf plate, a lighting device and the waste liquid passage or a waste liquid tank are provided below the shelf plate, and the cultivation space is provided above the shelf plate. A container is preferably provided. In this case, it is more preferable that the waste liquid passage or the waste liquid tank is provided between the lighting device and the shelf plate. Alternatively, it is more preferable that the waste liquid passage or the waste liquid tank is provided on the side of the lighting device.

第２の態様の植物栽培装置であって、前記フレームに支持されて上下に配列される複数の栽培ベッドを有しており、前記栽培空間は、前記栽培ベッドによって区切られており、前記栽培ベッドは、栽培容器と、その下方に設けられた照明装置と、前記廃液路または前記廃液槽とを備えているものが好ましい。この場合、前記廃液路または前記廃液槽は、前記栽培容器の横側に設けられており、前記廃液路または前記廃液槽の底部は、照明装置の横側または上側に設けられているものがさらに好ましい。あるいは、前記廃液路または前記廃液槽が、栽培容器と照明装置との間に設けられているものがさらに好ましい。 It is a plant cultivation apparatus of the 2nd mode, and has a plurality of cultivation beds supported by the above-mentioned frame and arranged up and down, the above-mentioned cultivation space is divided by the above-mentioned cultivation bed, and the above-mentioned cultivation bed. Is preferably provided with a cultivation container, a lighting device provided below the cultivation container, and the waste liquid passage or the waste liquid tank. In this case, the waste liquid passage or the waste liquid tank is provided on the lateral side of the cultivation container, and the bottom portion of the waste liquid passage or the waste liquid tank is further provided on the lateral side or the upper side of the lighting device. preferable. Alternatively, it is more preferable that the waste liquid passage or the waste liquid tank is provided between the cultivation container and the lighting device.

本発明の植物栽培装置であって、前記廃液路または前記廃液槽が、前記照明装置と隣接しているものが好ましい。 In the plant cultivation device of the present invention, it is preferable that the waste liquid passage or the waste liquid tank is adjacent to the lighting device.

本発明の植物栽培装置の第１の実施形態の概略をを示す側面断面図である。It is a side sectional view showing the outline of the 1st embodiment of the plant cultivation device of the present invention. 図２ａは図１のＸ−Ｘ線断面図であり、図２ｂは図１の植物栽培装置の栽培容器の一例を示す一部側面断面図であり、図２ｃは図１の植物栽培装置の照明装置を示す平面図である。2a is a sectional view taken along line X-X of FIG. 1, FIG. 2b is a partial side sectional view showing an example of a cultivation container of the plant cultivation apparatus of FIG. 1, and FIG. 2c is illumination of the plant cultivation apparatus of FIG. It is a top view which shows an apparatus. 図３ａは図１のＹ−Ｙ線断面図であり、図３ｂは廃液槽のオーバーフロー排出機構を示す概略図であり、図３ｃは廃液槽の断面図であり、図３ｄは廃液層の他の例を示す断面図であり、図３ｅは図１のＺ−Ｚ線断面図である。3a is a sectional view taken along the line YY of FIG. 1, FIG. 3b is a schematic view showing an overflow discharge mechanism of the waste liquid tank, FIG. 3c is a sectional view of the waste liquid tank, and FIG. It is sectional drawing which shows an example, and FIG. 3e is a ZZ sectional view taken on the line of FIG. 図４ａは廃液槽の他の例を示す断面図であり、図４ｂは栽培容器および廃液槽の他の例の概略を示す一部側面断面図であり、図４ｃは図４ｂのＺ１−Ｚ１線断面図であり、図４ｄは本発明の植物栽培装置の第２の実施形態の概略を示す側面断面図である。FIG. 4a is a sectional view showing another example of the waste liquid tank, FIG. 4b is a partial side sectional view showing the outline of another example of the cultivation container and the waste liquid tank, and FIG. 4c is a Z1-Z1 line of FIG. 4b. It is sectional drawing, FIG. 4d is a side sectional view which shows the outline of 2nd Embodiment of the plant cultivation apparatus of this invention. 図５ａは本発明の植物栽培装置の第２の実施形態の概略を示す側面断面図であり、図５ｂ、図５ｃはそれぞれＸ１−Ｘ１線断面図、Ｙ１−Ｙ１線断面図である。FIG. 5a is a side sectional view schematically showing a second embodiment of the plant cultivation apparatus of the present invention, and FIGS. 5b and 5c are sectional views taken along the line X1-X1 and line Y1-Y1 respectively. 図６ａは本発明の植物栽培装置の第３の実施形態の概略を示す側面断面図であり、図６ｂ、図６ｃはそれぞれＸ１−Ｘ１線断面図、Ｙ２−Ｙ２線断面図である。FIG. 6a is a side sectional view schematically showing a third embodiment of the plant cultivation apparatus of the present invention, and FIGS. 6b and 6c are sectional views taken along the line X1-X1 and line Y2-Y2, respectively. 図７ａは栽培ベッドの他の例を示す一部側面断面図であり、図７ｂは図７ａのＸ３−Ｘ３線断面図である。FIG. 7a is a partial side sectional view showing another example of the cultivation bed, and FIG. 7b is a sectional view taken along line X3-X3 of FIG. 7a.

図１の植物栽培装置１０は、フレーム１１と、そのフレーム１１内において上下に区切られた複数の栽培空間１２と、栽培空間１２の下方に設置される栽培容器１３と、栽培空間１２の上方に設置される照明装置１４とを有している。植物栽培装置１０の栽培空間１２は、フレーム１１の棚板２１によって区切られている。そして、上側の栽培空間１２の栽培容器１３から排出される廃液によって、下側の栽培空間１２の照明装置１４を冷却するものである。 The plant cultivation device 10 of FIG. 1 includes a frame 11, a plurality of cultivation spaces 12 vertically divided in the frame 11, a cultivation container 13 installed below the cultivation space 12, and a cultivation space 12 above the cultivation space 12. The lighting device 14 is installed. The cultivation space 12 of the plant cultivation device 10 is divided by a shelf plate 21 of the frame 11. Then, the lighting device 14 in the lower cultivation space 12 is cooled by the waste liquid discharged from the cultivation container 13 in the upper cultivation space 12.

フレーム１１は、長方形状に四方に配設される柱２０と、その柱２０に上下方向一定間隔で固定される棚板２１とを備えている。また四方の柱２０を覆うように、前後（図１の左右）および左右（図１の表裏）に壁（図示せず）が設けられている。そして一番上の栽培空間１２は、天井２２によって閉じられている。なお、前後壁は各段に応じて開閉または取り外し可能としており、栽培空間１２から栽培容器１３の取り出しを行う。しかし、左右壁を開閉または取り外し可能としてもよく、前後左右壁いずれも開閉または取り外し可能な構造とすることが好ましい。
栽培空間１２は、対応する前後左右の壁および上下の棚板２１によって密閉されている。つまり、各栽培空間１２は独立している。このように密閉することにより、各栽培空間の温度、湿度を独立して制御することができる。密閉されていれば、後述するようにダクト１６を介して所定の温度の空気を循環させており、制御タンク３２を介して所定の温度の培養液を循環させているため、密閉状態で十分に栽培空間の温度を制御することができる。しかし、各栽培空間１２を密封するのが好ましい。例えば、開閉自在の前後壁の周縁にシール材等を設け、水分または気体の浸入を防ぐようにしてもよい。このように密封することにより、栽培空間の環境を厳密に制御することができる。密閉するか、密封するかは、栽培する植物に応じて適宜決定することができる。 The frame 11 includes columns 20 arranged in four sides in a rectangular shape, and shelf plates 21 fixed to the columns 20 at regular intervals in the vertical direction. Walls (not shown) are provided in front and back (left and right in FIG. 1) and left and right (front and back in FIG. 1) so as to cover the four columns 20. The uppermost cultivation space 12 is closed by a ceiling 22. The front and rear walls can be opened and closed or removed according to each step, and the cultivation container 13 is taken out from the cultivation space 12. However, the left and right walls may be opened and closed or removable, and it is preferable that both the front, rear, left and right walls be opened and closed or removable.
The cultivation space 12 is sealed by corresponding front, rear, left and right walls and upper and lower shelves 21. That is, each cultivation space 12 is independent. By sealing in this way, the temperature and humidity of each cultivation space can be controlled independently. If it is sealed, air at a predetermined temperature is circulated through the duct 16 and the culture solution at a predetermined temperature is circulated through the control tank 32, as will be described later. The temperature of the cultivation space can be controlled. However, it is preferable to seal each cultivation space 12. For example, a sealing material or the like may be provided on the peripheral edges of the openable and closable front and rear walls to prevent ingress of moisture or gas. By sealing in this way, the environment of the cultivation space can be strictly controlled. Whether to be hermetically sealed or hermetically sealed can be appropriately determined depending on the plant to be cultivated.

フレーム１１は、全体として直方体状を呈する。そして、上下に区切られる栽培空間１２も直方体状を呈しており、縦長（図１の左右方向）に延びている。また棚板２１も長方形状の板からなる。
図１では、栽培空間１２を３段設けている。しかし、その段数は特に限定されず、２段であっても、４段以上であってもよい。
このようにフレーム１１の構造は、棚板２１を上下に一定の間隔で支持できれば、特に限定されるものではない。例えば、フレーム１１の強度を上げるべく、柱２０同士を梁で連結してもよい。その場合、梁で棚板２１を支持させてもよい。さらに、棚板２１は、例えば、複数のパイプを並べて長方形状に成形したものでもよい。この場合、後述する栽培容器のオーバーフロー排水機構の排水筒をパイプの間に通すだけでよい。さらに、フレーム１１および栽培空間１２も直方体とするのが好ましいが、正方体であってもよい。 The frame 11 has a rectangular parallelepiped shape as a whole. The cultivation space 12 divided into upper and lower parts also has a rectangular parallelepiped shape and extends vertically (in the left-right direction in FIG. 1). The shelf plate 21 is also a rectangular plate.
In FIG. 1, the cultivation space 12 is provided in three stages. However, the number of stages is not particularly limited, and may be two stages or four or more stages.
As described above, the structure of the frame 11 is not particularly limited as long as the shelf plate 21 can be vertically supported at a constant interval. For example, in order to increase the strength of the frame 11, the columns 20 may be connected by beams. In that case, the shelves 21 may be supported by beams. Furthermore, the shelf board 21 may be formed by arranging a plurality of pipes into a rectangular shape. In this case, it suffices to pass the drain pipe of the overflow drainage mechanism of the cultivation container described later between the pipes. Further, the frame 11 and the cultivation space 12 are also preferably rectangular parallelepipeds, but may be rectangular parallelepipeds.

栽培容器１３は、棚板２１上に載置されるものであり、上側に開口し、棚板２１の長手方向に延びている。栽培容器１３は、棚板２１が上下に区分けする栽培空間１２の上側の栽培空間の下方に位置する。
栽培容器１３の一端（図１の左側）には、培養液を供給する供給部１３ａが設けられている。栽培容器１３の他端（図１の右側）には、オーバーフロー排水機構１３ｂが設けられている。詳しくは、図２ａに示すように、栽培容器１３の底面に設けられた排水孔１３ｂ１と、その排水孔１３ｂ１に挿入される排水筒１３ｂ２とからなる。排水筒１３ｂ２は、棚板２１に設けられる孔２１ａにも挿入され、後述する廃液槽１５に廃液を送る。排水筒１３ｂ２の上端は、栽培容器の水面Ｓに合わせられている。これにより水面Ｓより培養液が高くなると、培養液は排水筒１３ｂ２から流れ、廃液となる。なお、オーバーフロー排水機構として図２ａのような構造を挙げたが、一定の水面以上となったとき、その増加分だけ排水するものであれば、その構造は特に限定するものではない。このようにオーバーフロー排水機構とすることにより、常時、培養液を循環させながら、栽培容器１３に一定量の培養液を保持させる。よって、植物には一定量の培養液を与え続けることができる。
また栽培容器１３の上面には、図２ｂに示すように、栽培する植物Ｐを一つ一つ区切る区切板１３ｄを、栽培容器１３の開口部を閉じるように設けている。これにより、栽培する植物同士がからまることを防ぐ。しかし、このような区切りを設けなくてもよい。 The cultivation container 13 is placed on the shelf board 21, has an opening on the upper side, and extends in the longitudinal direction of the shelf board 21. The cultivation container 13 is located below the cultivation space on the upper side of the cultivation space 12 where the shelf plate 21 is divided into upper and lower parts.
At one end of the cultivation container 13 (on the left side in FIG. 1), a supply unit 13a for supplying a culture solution is provided. An overflow drainage mechanism 13b is provided at the other end (right side in FIG. 1) of the cultivation container 13. Specifically, as shown in FIG. 2a, it comprises a drain hole 13b1 provided on the bottom surface of the cultivation container 13 and a drain tube 13b2 inserted into the drain hole 13b1. The drain cylinder 13b2 is also inserted into the hole 21a provided in the shelf board 21 and sends the waste liquid to the waste liquid tank 15 described later. The upper end of the drain 13b2 is aligned with the water surface S of the cultivation container. As a result, when the culture liquid becomes higher than the water surface S, the culture liquid flows from the drain 13b2 and becomes waste liquid. Although the structure as shown in FIG. 2a has been described as the overflow drainage mechanism, the structure is not particularly limited as long as it drains only the increased amount when the water surface is above a certain level. By using the overflow drainage mechanism in this manner, a constant amount of the culture solution is held in the cultivation container 13 while constantly circulating the culture solution. Therefore, a constant amount of culture solution can be continuously given to the plant.
Further, as shown in FIG. 2B, a partition plate 13d for partitioning each plant P to be cultivated is provided on the upper surface of the cultivation container 13 so as to close the opening of the cultivation container 13. This prevents the plants to be cultivated from being entangled with each other. However, such a division may not be provided.

照明装置１４は、図１に示すように、棚板２１の下方に設置されるものであり、棚板２１の長手方向に延びている。つまり、棚板２１の下方に、棚板２１に沿って設けられている。この照明装置１４は、当該棚板２１が上下に区分けする栽培空間１２の下側の栽培空間の上方に位置し、下側の栽培空間の栽培容器１３に向かって光を照射する。
照明装置１４は、図２ａ、図２ｃに示すように、長方形状の枠体１４ａと、その枠体１４ａの開口１４ａ１に固定される導光板１４ｂと、導光板１４ｂの側部に沿って設けられ、導光板１４ｂに光を照射するように、枠体１４ａの両側縁１４ａ２の内部に挿入される光源１４ｃとを有する。照明装置１４は、パネル状のものであり、パネルに対して垂直方向に光を照射するように構成されている。光源１４ｃは、縦長の基板（図示せず）と、基板の長手方向に均等に並べられた複数の発光ダイオード（図示せず）とを備えている。この照明装置１４では、光源１４ｃが発熱する。照明装置１４は、棚板２１の長手方向において、両外側（図２ａ、図２ｂにおける左右側）に光源１４ｃが配置するように設置される。棚板２１に取り付けられる照明装置１４は一枚のパネルからなっても、複数枚のパネルを連結させて構成してもよい。
照明装置１４の枠体１４ａを熱伝導率の高い素材、例えば、アルミニウム等の金属、または、熱伝導率の高いセラミックス等から形成される。しかし、光源１４ｃと廃液槽１５との間で熱交換ができるようになっていれば、熱伝導率の高い素材の使用を一部としてもよい。 As shown in FIG. 1, the lighting device 14 is installed below the shelf board 21 and extends in the longitudinal direction of the shelf board 21. That is, it is provided below the shelf board 21 along the shelf board 21. The lighting device 14 is located above the lower cultivation space of the cultivation space 12 in which the shelf 21 is divided into upper and lower parts, and emits light toward the cultivation container 13 of the lower cultivation space.
As shown in FIGS. 2a and 2c, the lighting device 14 is provided along a rectangular frame body 14a, a light guide plate 14b fixed to an opening 14a1 of the frame body 14a, and a side portion of the light guide plate 14b. The light source 14c is inserted into both side edges 14a2 of the frame 14a so as to irradiate the light guide plate 14b with light. The illuminating device 14 has a panel shape, and is configured to emit light in a vertical direction to the panel. The light source 14c includes a vertically long substrate (not shown) and a plurality of light emitting diodes (not shown) evenly arranged in the longitudinal direction of the substrate. In this lighting device 14, the light source 14c generates heat. The illumination device 14 is installed so that the light sources 14c are arranged on both outer sides (left and right sides in FIGS. 2a and 2b) in the longitudinal direction of the shelf plate 21. The lighting device 14 attached to the shelf 21 may be composed of one panel or may be configured by connecting a plurality of panels.
The frame 14a of the lighting device 14 is formed of a material having a high thermal conductivity, such as a metal such as aluminum, or a ceramic having a high thermal conductivity. However, as long as heat can be exchanged between the light source 14c and the waste liquid tank 15, the use of a material having a high thermal conductivity may be part.

廃液槽１５は、図２ａに示すように、棚板２１の下方であって、棚板２１の両側縁に固定されるものであり、上側に開口している。そして、棚板２１がその開口を閉じている。つまり、棚板２１の下方であって、照明装置１４の両側に設けられている。また廃液槽１５は、上述の栽培容器１３の排水筒１３ｂ２の下方に位置する。そのため、廃液槽１５の他端（図１の右側）から排水筒１３ｂ２を介して廃液が供給される。廃液槽１５の一端（図１の左側）には、図３ａ、図３ｂに示すように、オーバーフロー排水機構１５ａが設けられている。詳しくは、廃液槽１５の他方端１５ｃの壁に設けられた排水孔１５ａ１と、その排水孔１５ａ１に挿入されるＬ字形の排水筒１５ａ２とからなる。なお、廃液槽１５のオーバーフロー排水機構も、一定の水面以上となったとき、その増加分だけ排水するものであればよく、特に限定するものではない。このようにオーバーフロー排水機構とすることにより廃液槽１５の廃液を循環させつつ、一定量貯留させることができる。 As shown in FIG. 2A, the waste liquid tank 15 is fixed to both side edges of the shelf plate 21 below the shelf plate 21 and has an opening on the upper side. Then, the shelf 21 closes the opening. That is, it is provided below the shelf plate 21 and on both sides of the lighting device 14. The waste liquid tank 15 is located below the drain 13b2 of the cultivation container 13 described above. Therefore, the waste liquid is supplied from the other end (right side in FIG. 1) of the waste liquid tank 15 via the drain 13b2. As shown in FIGS. 3a and 3b, an overflow drainage mechanism 15a is provided at one end (left side of FIG. 1) of the waste liquid tank 15. More specifically, the waste liquid tank 15 includes a drain hole 15a1 provided on the wall at the other end 15c and an L-shaped drain tube 15a2 inserted into the drain hole 15a1. It should be noted that the overflow drainage mechanism of the waste liquid tank 15 is not particularly limited as long as it drains only the increased amount when the water level exceeds a certain level. By using the overflow drainage mechanism in this way, it is possible to circulate the waste liquid in the waste liquid tank 15 and store a fixed amount.

廃液槽１５の底部には、照明装置１４を保持する保持部１５ｂが形成されている。詳しくは、保持部１５ｂは、図３ｃに示すように、上側面１５ｂ１と、下側面１５ｂ２と、それぞれを繋ぐ縦面１５ｂ３とを有し、側面が開口した断面コ字状を呈している。上側面１５ｂ１は、廃液槽１５の底部を兼ねている。保持部１５ｂは、それぞれの廃液槽１５の底部に設けられており、それぞれの開口が相対するように設置されている。そして、それぞれの保持部１５ｂは、図３ａに示すように、照明装置１４の各側縁１４ａ２、特に照明装置１４の光源１４ｃの外側を保持する。そのため、両廃液槽１５の保持部１５ｂによって、照明装置１４が固定される。つまり、廃液槽１５および後述するダクト１６は、照明装置１４と棚板２１との間に設けられている。さらに、詳しくは、廃液槽１５は、照明装置１４の光源１４ｃに隣接しており、かつ、照明装置１４を支持している。なお、廃液槽１５は、フレーム１１の柱２０や棚板２１等に固定される。
廃液槽１５は、上述した熱伝導率の高い素材で形成されている。しかし、この場合も照明装置１４の光源１４ｃと廃液槽１５との間で熱交換ができるようになっていれば、熱伝導率の高い素材の使用を一部としてもよい。 At the bottom of the waste liquid tank 15, a holding portion 15b that holds the lighting device 14 is formed. Specifically, as shown in FIG. 3c, the holding portion 15b has an upper side surface 15b1, a lower side surface 15b2, and a vertical surface 15b3 that connects them, and has a U-shaped cross-section with an open side surface. The upper side surface 15b1 also serves as the bottom portion of the waste liquid tank 15. The holding portion 15b is provided at the bottom of each waste liquid tank 15, and is installed so that the openings thereof face each other. And each holding part 15b hold|maintains each side edge 14a2 of the illuminating device 14, especially the outer side of the light source 14c of the illuminating device 14, as shown in FIG. 3a. Therefore, the illuminating device 14 is fixed by the holding portions 15b of both the waste liquid tanks 15. That is, the waste liquid tank 15 and the duct 16 described later are provided between the lighting device 14 and the shelf plate 21. More specifically, the waste liquid tank 15 is adjacent to the light source 14c of the lighting device 14 and supports the lighting device 14. The waste liquid tank 15 is fixed to the column 20 of the frame 11, the shelf plate 21 or the like.
The waste liquid tank 15 is formed of the above-mentioned material having high thermal conductivity. However, also in this case, if heat exchange can be performed between the light source 14c of the illuminating device 14 and the waste liquid tank 15, the use of a material having a high thermal conductivity may be part.

このように廃液槽１５は、照明装置１４の光源１４ｃと棚板２１との間に設けられているため、廃液槽１５と光源１４ｃとの間に熱交換ができ、光源１４ｃを冷却することができる。特に、廃液槽１５と光源１４ｃとは隣接しているため、効率よく熱交換できる。
しかし、照明装置１４の光源１４ｃと廃液槽１５との間で熱交換ができるようになっていれば、その構造も特に限定されるものではない。例えば、図３ｄのように、廃液槽１５を照明装置１４の横側に設けてもよい。特に、廃液槽１５と照明装置１４の横側に隣接させてもよい。 As described above, since the waste liquid tank 15 is provided between the light source 14c of the lighting device 14 and the shelf plate 21, heat can be exchanged between the waste liquid tank 15 and the light source 14c, and the light source 14c can be cooled. it can. In particular, since the waste liquid tank 15 and the light source 14c are adjacent to each other, heat can be efficiently exchanged.
However, the structure is not particularly limited as long as heat can be exchanged between the light source 14c of the lighting device 14 and the waste liquid tank 15. For example, as shown in FIG. 3D, the waste liquid tank 15 may be provided on the side of the lighting device 14. In particular, the waste liquid tank 15 may be adjacent to the lateral side of the lighting device 14.

図１に戻って、ダクト１６は、照明装置１４と棚板２１との間に設けられた長手方向に延びる空間である。このダクト１６には、冷却された空気が流される。これにより、照明装置１４を冷却するものである。またこのダクト１６を通した空気を栽培空間１２に循環させることによって、栽培空間１２の環境温度も制御する。冷却された空気を直接植物に当てると、冷害の原因となるため、一度、ダクト１６を通した空気で環境温度を制御することにより、健康な植物を栽培することができる。なお、ダクト１６に冷却した空気を通さなくてもよい。その場合でも、照明装置１４と栽培容器１３との間に空気の層を形成することになるため、照明装置１４による発熱の影響を最小限に抑えることができる。 Returning to FIG. 1, the duct 16 is a space provided between the lighting device 14 and the shelf plate 21 and extending in the longitudinal direction. Cooled air is passed through the duct 16. Thereby, the lighting device 14 is cooled. In addition, the environmental temperature of the cultivation space 12 is also controlled by circulating the air passing through the duct 16 into the cultivation space 12. When the cooled air is directly applied to the plants, it causes a cold damage. Therefore, once the environmental temperature is controlled by the air passing through the duct 16, healthy plants can be cultivated. The cooled air may not be passed through the duct 16. Even in that case, since an air layer is formed between the lighting device 14 and the cultivation container 13, the influence of heat generation by the lighting device 14 can be minimized.

なお、フレーム１１の天井２２には、照明装置１４が設けられている。この照明装置１４は、図３ｅに示すように、２本の冷却槽２５によって保持されており、２本の冷却槽２５によって冷却されている。つまり、冷却槽２５の下端には、保持部２５ｂが形成されている。この冷却槽２５にもオーバーフロー排水機構２５ａが設けられている。このように植物栽培装置１０の一番上の照明装置は、別途冷却機構を必要とするが、その冷却手段は特に限定されない。例えば、当該栽培空間（一番上の栽培空間）１２の栽培容器１３の廃液を冷却槽２５までポンプ等で流しても良い。
図１に戻って、植物栽培装置１０は、それぞれの廃液槽１５から排出される廃液を、制御タンク３２を介することで新たな培養液として供給部１３ａに供給している。つまり、培養液を循環させている。この植物栽培装置１０では、天井２２の冷却槽２５の廃液、および一番下の栽培空間１２の栽培容器１３の廃液も、制御タンクに戻している。制御タンク３２内では、フィルター等によって廃液のゴミを除去し、ヒートポンプ３３等によって設定された温度とする。また培養液の成分が一定となるように制御してもよい。 The lighting device 14 is provided on the ceiling 22 of the frame 11. The lighting device 14 is held by two cooling tanks 25 and cooled by the two cooling tanks 25, as shown in FIG. 3e. That is, the holding portion 25b is formed at the lower end of the cooling tank 25. This cooling tank 25 is also provided with an overflow drainage mechanism 25a. As described above, the uppermost lighting device of the plant cultivation device 10 requires a separate cooling mechanism, but the cooling means is not particularly limited. For example, the waste liquid in the cultivation container 13 in the cultivation space (top cultivation space) 12 may be pumped to the cooling tank 25.
Returning to FIG. 1, the plant cultivation apparatus 10 supplies the waste liquid discharged from each waste liquid tank 15 to the supply unit 13a as a new culture liquid via the control tank 32. That is, the culture solution is circulated. In this plant cultivation device 10, the waste liquid of the cooling tank 25 of the ceiling 22 and the waste liquid of the cultivation container 13 of the bottom cultivation space 12 are also returned to the control tank. In the control tank 32, the waste liquid dust is removed by a filter or the like, and the temperature is set by the heat pump 33 or the like. Further, the components of the culture solution may be controlled to be constant.

このように構成された植物栽培装置１０は、供給部１３ａから供給された培養液は栽培容器１３の一端から他端に流れる。次いで、栽培容器１３の他端から排水された廃液槽１５に供給される。そして、廃液は、廃液槽１５の他端から一端に流れて排出される。ここで廃液槽１５には、一定の深さの廃液が貯留されるようになっており、かつ、廃液槽１５と照明装置１４とは熱交換できるように構成されている。そのため、廃液槽１５において、照明装置１４を確実に冷却できる。このように植物栽培装置１０は、栽培容器１３から排出された廃液によって照明装置１４を冷却するため、栽培条件等への影響がなく、栽培条件の制御を正確に行うことができる。 In the plant cultivation device 10 thus configured, the culture solution supplied from the supply unit 13a flows from one end of the cultivation container 13 to the other end. Then, the water is supplied from the other end of the cultivation container 13 to the waste liquid tank 15. Then, the waste liquid flows from the other end of the waste liquid tank 15 to one end and is discharged. Here, the waste liquid tank 15 is configured to store a certain depth of waste liquid, and the waste liquid tank 15 and the lighting device 14 can be heat-exchanged. Therefore, the lighting device 14 can be reliably cooled in the waste liquid tank 15. As described above, since the plant cultivation device 10 cools the lighting device 14 with the waste liquid discharged from the cultivation container 13, there is no influence on the cultivation conditions and the like, and the cultivation conditions can be accurately controlled.

図１の植物栽培装置１０では、廃液槽１５を棚板２１の両側に設けているが、図４ａに示すように、片側のみに設けてもよい。この場合、照明装置１４の光源１４ｃを導光板１４ｂの側縁であって、廃液槽１５と対応する側縁に設け、廃液槽１５と光源１４ｃとを隣接させるのが好ましい。
また図１の植物栽培装置１０では、栽培空間１２を密閉しているが、外部と開放させてもよい。そのような解放型の植物栽培装置は、例えば、内部の温度が制御されている工場内において、使用することができる。この場合、密閉型より制御は緩くなるが、廃液によって照明装置を冷却しているため、栽培空間内の環境を制御することができる。また栽培容器内において培養液の一部の熱がこもったりすることが防止できる。その場合、ダクト１６には、冷却された空気を通さなくても良いが、通す方が栽培空間内の空気を循環でき、環境をより平均化しやすい。 In the plant cultivating apparatus 10 of FIG. 1, the waste liquid tanks 15 are provided on both sides of the shelf plate 21, but they may be provided on only one side as shown in FIG. 4a. In this case, it is preferable that the light source 14c of the illuminating device 14 is provided on the side edge of the light guide plate 14b at the side edge corresponding to the waste liquid tank 15, and the waste liquid tank 15 and the light source 14c are adjacent to each other.
Further, in the plant cultivation device 10 of FIG. 1, the cultivation space 12 is sealed, but it may be opened to the outside. Such an open type plant cultivation device can be used, for example, in a factory where the internal temperature is controlled. In this case, although the control is looser than that of the closed type, since the lighting device is cooled by the waste liquid, the environment in the cultivation space can be controlled. Further, it is possible to prevent a part of heat of the culture solution from being accumulated in the cultivation container. In that case, although it is not necessary to pass the cooled air through the duct 16, it is easier to circulate the air in the cultivation space and it is easier to average the environment.

また図１の植物栽培装置１０では、図２ｂに示すように、区切板等で植物を区切り、栽培容器１３において植物を直接栽培することを前提としている。しかし、図４ｂ、図４ｃに示すように、植物を栽培する直方体状の樋状の栽培容器２６を植物栽培装置１０の栽培容器１３（第１廃液槽２７）の幅方向に係止させ、栽培容器２６を栽培容器の長手方向に複数並べてもよい。ここでは栽培容器２６のフランジ部２６ａを第１廃液槽２７の縁部に係止させている。そして、各栽培容器２６には、供給部１３ａと、オーバーフロー排水機構１３ｂとが設けられている。また、この場合、図１の植物栽培装置１０の栽培容器１３が第１廃液槽２７として作用し、図１の植物栽培装置１０の廃液槽１５が第２廃液槽として作用する。他の構成は、図１の植物栽培装置１０と実質的に同じである。
このように構成することにより、培養液は、供給部１３ａから栽培容器２６に供給され、オーバーフロー排水機構１３ｂから第１廃液槽２７に排水される。排水された廃液は、第１廃液槽２７（図１の植物栽培装置の栽培容器１３）の排水孔２７ａから第２廃液槽（図１の植物栽培装置の廃液槽１５）に供給される。この場合も、第２廃液槽において、照明装置１４を冷却できるため、同様の効果が得られる。なお、排水孔２７ａの代わりにオーバーフロー排水機構を設けてもよい。
このような樋状の栽培容器２６を用いた栽培方法の一例として、第１廃液槽の一端において、苗などの栽培初期の植物を栽培し、成長と共に他端の方に移動させ、第１廃液槽の他端において、収穫直前の植物が栽培する。このように栽培容器２６を第１廃液槽において植物の生長状態に応じて移動させることにより、栽培スペースを効率よく用いた栽培を行うことができる。 Moreover, in the plant cultivation apparatus 10 of FIG. 1, as shown in FIG. 2b, it is premised that the plants are directly cultivated in the cultivation container 13 by separating the plants with a partition plate or the like. However, as shown in FIGS. 4b and 4c, a rectangular parallelepiped gutter-shaped cultivation container 26 for cultivating a plant is locked in the width direction of the cultivation container 13 (first waste liquid tank 27) of the plant cultivation device 10 to perform cultivation. A plurality of containers 26 may be arranged in the longitudinal direction of the cultivation container. Here, the flange portion 26a of the cultivation container 26 is locked to the edge portion of the first waste liquid tank 27. And each cultivation container 26 is provided with the supply part 13a and the overflow drainage mechanism 13b. Moreover, in this case, the cultivation container 13 of the plant cultivation apparatus 10 of FIG. 1 acts as the first waste liquid tank 27, and the waste liquid tank 15 of the plant cultivation apparatus 10 of FIG. 1 acts as the second waste liquid tank. Other configurations are substantially the same as those of the plant cultivation device 10 of FIG.
With this configuration, the culture solution is supplied from the supply unit 13a to the cultivation container 26 and drained from the overflow drainage mechanism 13b to the first waste liquid tank 27. The drained waste liquid is supplied to the second waste liquid tank (waste liquid tank 15 of the plant cultivating apparatus of FIG. 1) from the drain hole 27a of the first waste liquid tank 27 (cultivating container 13 of the plant cultivating apparatus of FIG. 1). Also in this case, since the lighting device 14 can be cooled in the second waste liquid tank, the same effect can be obtained. An overflow drainage mechanism may be provided instead of the drainage hole 27a.
As an example of a cultivation method using such a trough-shaped cultivation container 26, a plant in the early stage of cultivation such as a seedling is cultivated at one end of the first waste liquid tank, and is moved to the other end as it grows to produce the first waste liquid. At the other end of the tank, the plant just before harvest is grown. In this way, by moving the cultivation container 26 in the first waste liquid tank according to the growing state of the plant, cultivation can be efficiently performed using the cultivation space.

図４ｄの植物栽培装置４０は、一段のみからなる。つまり、栽培空間４１と、その下方に設置される栽培容器４２と、その上方に設置される照明装置４３とを有している。また照明装置４３に沿って、廃液槽４４が上方に隣接されている。なお、栽培容器４２から排出される廃液は、ポンプ４５によって、廃液槽４４に送られている。廃液槽４４から排出された廃液は、例えば、上述した制御タンク３２を介して栽培容器４２に循環される。なお、廃液槽４４には、上述した植物栽培装置１０と同様の一定量の廃液を貯留するオーバーフロー排水機構（図示せず）が設けられている。
この植物栽培装置４０のように一段からなっても、ポンプ４５で廃液を廃液槽４４に送ることにより、廃液によって照明装置を冷却させることができる。この植物栽培装置４０において、栽培空間４１は、密閉されている。しかし、開放させてもよい。 The plant cultivation device 40 of FIG. 4d has only one stage. That is, it has the cultivation space 41, the cultivation container 42 installed below it, and the illuminating device 43 installed above it. A waste liquid tank 44 is adjacent to the upper side along the lighting device 43. The waste liquid discharged from the cultivation container 42 is sent to the waste liquid tank 44 by the pump 45. The waste liquid discharged from the waste liquid tank 44 is circulated to the cultivation container 42 via the control tank 32 described above, for example. The waste liquid tank 44 is provided with an overflow drainage mechanism (not shown) that stores a fixed amount of waste liquid similar to that of the plant cultivation device 10 described above.
Even if the plant cultivating apparatus 40 has a single stage, the waste liquid can be cooled by the waste liquid by sending the waste liquid to the waste liquid tank 44 by the pump 45. In this plant cultivation device 40, the cultivation space 41 is hermetically sealed. However, it may be opened.

図５の植物栽培装置５０は、植物栽培装置１０のダクト１６を備えていないものである。フレーム１１、栽培空間１２、照明装置１４は、図１の植物栽培装置１０と実質的に同じものである。また栽培容器１３は、廃液槽５１が栽培容器１３の下方に位置しているため、図５に示すように、オーバーフロー排水機構１３ｂが一つであること以外は、図１の植物栽培装置１０の栽培容器１３と実質的に同じである。
廃液槽５１は、棚板２１の下方に固定されるものであり、上側に開口している。廃液槽５１は、実質的に棚板２１の下方全体に設けられている。そのため、廃液槽５１の他端（図６の右側）から排水筒１３ｂ２を介して廃液が供給される。一方、廃液槽５１の一端（図５の左側）には、図１の植物栽培装置１０の廃液槽１５と実質的に同じオーバーフロー排水機構１５ａが設けられており、廃液槽５１の一端から廃液が排出される。
また廃液槽５１の下面には、照明装置１４を保持する保持部５１ａが形成されており、廃液槽５１の下面と当接するように照明装置１４が設けられている。つまり、廃液槽５１と照明装置１４とが熱交換できるように構成されている。 The plant cultivation device 50 of FIG. 5 does not include the duct 16 of the plant cultivation device 10. The frame 11, the cultivation space 12, and the lighting device 14 are substantially the same as the plant cultivation device 10 of FIG. Further, since the waste liquid tank 51 of the cultivation container 13 is located below the cultivation container 13, as shown in FIG. 5, except that the overflow drainage mechanism 13b is one, the plant cultivation device 10 of FIG. It is substantially the same as the cultivation container 13.
The waste liquid tank 51 is fixed below the shelf plate 21 and has an upper opening. The waste liquid tank 51 is provided substantially below the shelf plate 21. Therefore, the waste liquid is supplied from the other end (right side in FIG. 6) of the waste liquid tank 51 via the drain 13b2. On the other hand, one end (left side of FIG. 5) of the waste liquid tank 51 is provided with an overflow drainage mechanism 15a which is substantially the same as the waste liquid tank 15 of the plant cultivation apparatus 10 of FIG. 1, and the waste liquid is discharged from one end of the waste liquid tank 51. Is discharged.
A holding portion 51 a for holding the lighting device 14 is formed on the lower surface of the waste liquid tank 51, and the lighting device 14 is provided so as to come into contact with the lower surface of the waste liquid tank 51. That is, the waste liquid tank 51 and the lighting device 14 are configured to exchange heat.

このように構成された植物栽培装置５０も、図１の植物栽培装置１０と同様に、廃液槽５１に一定の深さの廃液が貯留されるようになっており、かつ、廃液槽５１と照明装置１４とは熱交換できるように構成されているため、廃液によって照明装置１４を確実に冷却することができる。また植物栽培装置５０は、照明装置１４の裏面全体と、廃液槽５１とが隣接している。そのため、ここでは照明装置１４を用いているが、例えば、パネル全体に発光ダイオードが装着されたような照明装置のように、全体で発熱する照明装置を冷却するのに好ましい。
なお、植物栽培装置５０は、栽培空間１２は密閉されていなくてもよい。上述したように、例えば、工場内において、工場内の温度が制御されていれば、廃液によって照明装置を冷却しているため、栽培空間１２の環境を制御することができる。さらに、栽培容器内において培養液の一部の熱がこもったりすることが防止できる。 The plant cultivating apparatus 50 configured in this manner is also configured such that, like the plant cultivating apparatus 10 of FIG. 1, the waste liquid tank 51 stores the waste liquid with a certain depth, and the waste liquid tank 51 and the illumination. Since it is configured to exchange heat with the device 14, the lighting device 14 can be reliably cooled by the waste liquid. In the plant cultivation device 50, the entire back surface of the lighting device 14 and the waste liquid tank 51 are adjacent to each other. Therefore, although the lighting device 14 is used here, it is preferable to cool the lighting device that generates heat as a whole, such as a lighting device in which light emitting diodes are mounted on the entire panel.
In the plant cultivation device 50, the cultivation space 12 does not need to be sealed. As described above, for example, if the temperature in the factory is controlled in the factory, the lighting device is cooled by the waste liquid, so that the environment of the cultivation space 12 can be controlled. Further, it is possible to prevent a part of the heat of the culture solution from staying in the cultivation container.

図６ａの植物栽培装置６０は、フレーム６１と、そのフレーム６１内において上下に区切られた複数の栽培空間６２と、フレーム６１に支持されて上下に配列される複数の栽培ベッド６３とを有している。栽培空間６２は、栽培ベッド６３によって区切られている。そして、栽培ベッド６３は、栽培ベッド６３によって区切った上側の栽培空間の対象植物を栽培させる栽培容器６６と、下側の栽培空間の栽培容器６６を照射する照明装置６７とを備えている。そして、上側の栽培空間６２の栽培容器６６から排出される廃液によって、下側の栽培空間６２の照明装置６７を冷却するものである。 The plant cultivation apparatus 60 of FIG. 6a has a frame 61, a plurality of cultivation spaces 62 that are vertically divided in the frame 61, and a plurality of cultivation beds 63 that are supported by the frame 61 and are arranged vertically. ing. The cultivation space 62 is divided by a cultivation bed 63. The cultivation bed 63 includes a cultivation container 66 for cultivating the target plant in the upper cultivation space divided by the cultivation bed 63, and a lighting device 67 for irradiating the cultivation container 66 in the lower cultivation space. Then, the lighting device 67 in the lower cultivation space 62 is cooled by the waste liquid discharged from the cultivation container 66 in the upper cultivation space 62.

フレーム６１は、長方形状に四方に配設される柱６１ａと、その柱６１ａに一定間隔で設けられた複数の固定ツメ６１ｂとを備えている。このフレーム６１にも、図１のフレーム１１と同様に前後（図６ａの左右）および左右（図６ａの裏面）に壁（図示せず）が設けられており、各段に応じて開閉または取り外し可能となっている。そして、栽培空間６２は密閉、好ましくは密封されている。またフレーム６１に、栽培ベッド６３を上下させる昇降装置（図示せず）を設けるのが好ましい。これにより栽培方法に応じて自由に栽培ベッドを移動させることができる。フレーム６１は、全体として直方体状を呈する。そして、上下に区切られる栽培空間６２も直方体状を呈しており、縦長に延びている。植物栽培装置６０は、栽培空間６２を３段設けているが、その段数は特に限定されず、２段であっても、４段以上であってもよい。
固定ツメ６１ｂは、栽培ベッド６３を支持する。なお、フレーム６１の強度を上げるべく、柱６１ａ同士を梁で連結してもよい。その場合、固定ツメ６１ｂを省略し、梁で栽培ベッド６３を支持するようにしてもよい。また固定ツメ６１ｂは柱ではなく、梁に設けられてもよい。さらに固定ツメ６１ｂは、折り畳み可能としたり、柱または梁内に収納可能としたりしてもよい。これは上述のように昇降装置で栽培ベッドを移動させるとき、固定ツメを折り畳み可能としておくと、効率よく栽培ベッドの移動ができる。しかし、フレーム６１の構造は、栽培ベッド６３を上下に配列するように支持することができれば、特に限定されるものではない。また栽培空間６２も直方体状の縦長とするのが好ましいが、正方体であってもよい。 The frame 61 includes columns 61a arranged in four sides in a rectangular shape, and a plurality of fixed tabs 61b provided on the columns 61a at regular intervals. Similar to the frame 11 of FIG. 1, the frame 61 is also provided with walls (not shown) in the front and rear (left and right in FIG. 6a) and left and right (back side in FIG. 6a), and is opened or closed according to each step. It is possible. The cultivation space 62 is hermetically sealed, preferably hermetically sealed. Further, it is preferable to provide the frame 61 with an elevating device (not shown) for moving the cultivation bed 63 up and down. Thereby, the cultivation bed can be freely moved according to the cultivation method. The frame 61 has a rectangular parallelepiped shape as a whole. The cultivation space 62 divided into upper and lower parts also has a rectangular parallelepiped shape and extends vertically. The plant cultivation device 60 has three cultivation spaces 62, but the number of the cultivation spaces 62 is not particularly limited, and may be two, or four or more.
The fixed claw 61b supports the cultivation bed 63. The columns 61a may be connected by beams to increase the strength of the frame 61. In that case, the fixed claw 61b may be omitted and the cultivation bed 63 may be supported by a beam. Further, the fixed claw 61b may be provided on the beam instead of the pillar. Further, the fixed claw 61b may be foldable or may be housed in a pillar or a beam. This is because when the cultivation bed is moved by the elevating device as described above, if the fixed claw is foldable, the cultivation bed can be moved efficiently. However, the structure of the frame 61 is not particularly limited as long as it can support the cultivation beds 63 so as to be arranged vertically. Further, the cultivation space 62 is also preferably a rectangular parallelepiped, but may be a rectangular parallelepiped.

栽培ベッド６３は、フレーム６１の長方形状の平面の長手方向と平行に設置させる縦長のものである。栽培ベッド６３は、図６ｂ及び図６ｃに示すように、上側に開口した栽培容器６６と、その栽培容器６６の下方であって下側に向いた照明装置６７と、栽培容器６６に沿って、栽培容器６６の両側に設けられる廃液槽６８とを備えている。また栽培容器６６の下面と照明装置６７との間にはダクト６９が設けられている。照明装置６７、ダクト６９は、図１の植物栽培装置１０の照明装置１４、ダクト１６と実質的に同じものである。
このような栽培ベッド６３は、アルミニウムなどの熱伝導率の高い素材で一体に成形することができる。 The cultivation bed 63 is a vertically long one that is installed parallel to the longitudinal direction of the rectangular flat surface of the frame 61. As shown in FIGS. 6b and 6c, the cultivating bed 63 includes a cultivating container 66 that is open to the upper side, a lighting device 67 that is below the cultivating container 66 and faces downward, and along the cultivating container 66. It is provided with a waste liquid tank 68 provided on both sides of the cultivation container 66. A duct 69 is provided between the lower surface of the cultivation container 66 and the lighting device 67. The lighting device 67 and the duct 69 are substantially the same as the lighting device 14 and the duct 16 of the plant cultivation device 10 of FIG. 1.
Such a cultivation bed 63 can be integrally formed of a material having a high thermal conductivity such as aluminum.

栽培容器６６は、上側に開口し、長手方向に延びている。つまり、栽培容器６６は、当該栽培ベッド６３が上下に区分けする栽培空間６２の上側の栽培空間の下方に位置する。その他は、図１の植物栽培装置１０の栽培容器１３と実質的に同じものであり、培養液を供給する供給部６６ａ（図７の左側）およびオーバーフロー排水機構６６ｂが設けられている。詳しくは、図６ｂに示すように、栽培容器６６の側面に設けられた排水孔６６ｂ１と、その排水孔６６ｂ１に挿入されるＬ字形の排水筒６６ｂ２とからなる。これにより水面Ｓ以上に培養液が供給されると、培養液はオーバーフロー排水機構か排水筒６６ｂ２から廃液槽６８へと排出され、廃液となる。なお、オーバーフロー排水機構として一例を挙げたが、一定の水面以上となったとき、その増加分だけ排水するものであれば、特に限定するものではない。これにより安定して栽培を行うことができる。
この場合もまた栽培容器６６の上面には、栽培する植物を一つ一つ区切る区切板（図示せず）を浮かべたり、樋状の栽培容器２６を用いたりしてもよい。 The cultivation container 66 is open on the upper side and extends in the longitudinal direction. That is, the cultivation container 66 is located below the cultivation space above the cultivation space 62 in which the cultivation bed 63 is divided vertically. Others are substantially the same as the cultivation container 13 of the plant cultivation apparatus 10 of FIG. 1, and are provided with a supply unit 66a (left side of FIG. 7) for supplying a culture solution and an overflow drainage mechanism 66b. More specifically, as shown in FIG. 6b, it comprises a drainage hole 66b1 provided on the side surface of the cultivation container 66 and an L-shaped drainage pipe 66b2 inserted into the drainage hole 66b1. When the culture solution is supplied above the water surface S by this, the culture solution is discharged from the overflow drainage mechanism or the drainage pipe 66b2 to the waste liquid tank 68 to become a waste liquid. Although an example is given as the overflow drainage mechanism, it is not particularly limited as long as it drains only the increased amount when the water level exceeds a certain level. This enables stable cultivation.
Also in this case, a partition plate (not shown) for partitioning plants to be cultivated one by one may be floated on the upper surface of the cultivation container 66, or a gutter-shaped cultivation container 26 may be used.

この植物栽培装置６０は、この栽培ベッド６３において、廃液槽６８が栽培容器６６の横側に設けられており、廃液槽６８の底部が照明装置６７の上側に設けられている。さらに、廃液槽６８の底部が照明装置６７と当接している。そのため、図１の植物栽培装置１０と同様に、廃液で照明装置１４を冷却することができる。なお、栽培ベッド６３のようにアルミニウム等の熱伝導率の高い素材で一体成形としている場合でも、照明装置１４と栽培容器６６との間にダクト６９を設けており、かつ、熱源となる照明装置１４から栽培容器６６へと到達するまでの間に廃液槽６５を設けているため、照明装置１４の熱源の栽培環境への影響を最小限にすることができる。
なお、この植物栽培装置６０も、栽培空間６２を密閉しているが、図１の植物栽培装置１０と同様に、環境を制御できる範囲で外部と開放させてもよい。 In this plant cultivation device 60, a waste liquid tank 68 is provided on the lateral side of the cultivation container 66 in the cultivation bed 63, and a bottom portion of the waste liquid tank 68 is provided above the lighting device 67. Further, the bottom portion of the waste liquid tank 68 is in contact with the lighting device 67. Therefore, the illumination device 14 can be cooled with the waste liquid as in the plant cultivation device 10 of FIG. 1. Even when the material such as the cultivation bed 63 is integrally formed of a material having a high heat conductivity, such as aluminum, the duct 69 is provided between the lighting device 14 and the cultivation container 66, and the lighting device serves as a heat source. Since the waste liquid tank 65 is provided from 14 to the cultivation container 66, the influence of the heat source of the lighting device 14 on the cultivation environment can be minimized.
Although the plant cultivation device 60 also seals the cultivation space 62, the plant cultivation device 60 may be opened to the outside as long as the environment can be controlled, as in the plant cultivation device 10 of FIG. 1.

図６の植物栽培装置６０において、栽培ベッド６３を図７ａ、ｂの栽培ベッド７１としてもよい。栽培ベッド７１は、栽培ベッド７１によって区切った上側の栽培空間の対象植物を栽培させる樋状の栽培容器７２と、下側の栽培空間の栽培容器を照射する照明装置７３と、栽培容器７２と照明装置７３との間に設けられた廃液槽７４とを備えている。栽培容器７２は、当該栽培ベッド７１が上下に区分けする上側の栽培空間の下方に位置し、照明装置７３は、当該栽培ベッド７１が上下に区分けする下側の栽培空間の上方に位置する。そして、上側の栽培空間の栽培容器７２から排出される廃液によって、下側の栽培空間の照明装置７３を冷却するものである。照明装置７３は、図１の植物栽培装置１０の照明装置１４と実質的に同じものである。 In the plant cultivation device 60 of FIG. 6, the cultivation bed 63 may be the cultivation bed 71 of FIGS. 7a and 7b. The cultivation bed 71 is a trough-shaped cultivation container 72 for cultivating a target plant in the upper cultivation space divided by the cultivation bed 71, a lighting device 73 for irradiating the cultivation container in the lower cultivation space, a cultivation container 72 and lighting. A waste liquid tank 74 provided between the apparatus 73 and the apparatus 73. The cultivation container 72 is located below the upper cultivation space where the cultivation bed 71 is divided vertically, and the lighting device 73 is located above the lower cultivation space where the cultivation bed 71 is divided vertically. Then, the lighting device 73 in the lower cultivation space is cooled by the waste liquid discharged from the cultivation container 72 in the upper cultivation space. The lighting device 73 is substantially the same as the lighting device 14 of the plant cultivation device 10 in FIG. 1.

栽培ベッド７１は、フレーム６１の長方形状の平面の長手方向と平行に設置させる縦長のものであり、長手方向に延びる上側に開口した廃液槽７４と、その廃液槽７４の幅方向に設けられた複数の樋状の栽培容器７２と、廃液槽７４の下面に設けられた照明装置７３とを備えている。栽培容器７２は、長手方向に並べられている。 The cultivating bed 71 is a vertically long one that is installed parallel to the longitudinal direction of the rectangular flat surface of the frame 61, and is provided in the waste liquid tank 74 that is open to the upper side and extends in the width direction of the waste liquid tank 74. A plurality of gutter-shaped cultivation containers 72 and a lighting device 73 provided on the lower surface of the waste liquid tank 74 are provided. The cultivation containers 72 are arranged in the longitudinal direction.

栽培容器７２は、前後端（栽培ベッド７１の幅方向）にフランジ部７２ａを設けられた上側が開口した直方体である。フランジ部７２ａを廃液槽７４の縁部に係止させて、栽培容器７２は固定される。栽培容器７２の一端には、培養液を供給する供給部（図示せず）が設けられ、他端には、オーバーフロー排水機構７２ｂが設けられている。なお、オーバーフロー排水機構としては、上述したように既知ものものが用いられる。樋状の栽培容器７２は、樋状の栽培容器２６と同様に、栽培している植物の生長状態に応じて移動させることにより、栽培スペースを効率よく用いた栽培を行うことができる。 The cultivating container 72 is a rectangular parallelepiped having a flange portion 72a provided at the front and rear ends (the width direction of the cultivating bed 71) and having an open upper side. The cultivation container 72 is fixed by engaging the flange portion 72a with the edge portion of the waste liquid tank 74. A supply unit (not shown) for supplying the culture solution is provided at one end of the cultivation container 72, and an overflow drainage mechanism 72b is provided at the other end. As the overflow drainage mechanism, a known one is used as described above. Similarly to the gutter-shaped cultivation container 26, the gutter-shaped cultivation container 72 can be moved according to the growing state of the plant being cultivated, so that cultivation using the cultivation space can be efficiently performed.

廃液槽７４は、栽培ベッド７１の上部に設けられた上方に開口した容器である。
廃液槽７４の任意に箇所にオーバーフロー排水機構が設けられている。これにより廃液槽７４にも一定量の廃液が貯留（水面Ｓ１）することができる。 The waste liquid tank 74 is a container provided on the upper part of the cultivation bed 71 and opened upward.
An overflow drainage mechanism is provided at an arbitrary position of the waste liquid tank 74. As a result, a certain amount of waste liquid can be stored in the waste liquid tank 74 (water surface S1).

この栽培ベッド７１を用いた場合でも、図１の植物栽培装置１０と同様に、廃液によって照明装置を冷却することができ、同様の効果を奏することができる。またこの栽培ベッド７１は、照明装置７３の裏面全体と、廃液槽７４とが隣接している。そのため、照明装置７３のように部分的に発熱するものではなく、例えば、パネル全体に発光ダイオードが装着されたような照明装置のように、全体で発熱する照明装置を冷却するのに好ましい。 Even when this cultivation bed 71 is used, the lighting device can be cooled by the waste liquid and the same effect can be obtained as in the plant cultivation device 10 of FIG. 1. Further, in the cultivation bed 71, the entire back surface of the lighting device 73 and the waste liquid tank 74 are adjacent to each other. Therefore, it is preferable to cool a lighting device that does not generate heat partially like the lighting device 73 and that generates heat as a whole, such as a lighting device in which light emitting diodes are mounted on the entire panel.

これまで挙げた植物栽培装置の実施形態では、照明装置の光源として発光ダイオードを挙げたが、光源は特に限定されない。例えば、電球や、蛍光灯等も発熱するため、同様の効果を奏する。
またこれまで挙げた実施形態において、廃液槽を廃液が流れる廃液路としてもよい。この場合、培養液の循環をコントロールすることにより、常時、廃液路に廃液が流れるようにするのが好ましい。しかし、少なくとも廃液が流れるときには、照明装置は冷却されるため、そのような培養液の循環を制御しなくてもよい。
さらに栽培容器（栽培槽）についても、培養液の供給量と排水量とを同じに制御することができれば、オーバーフロー排水機構を設けなくてもよい。 In the above-described embodiments of the plant cultivation device, the light emitting diode is used as the light source of the lighting device, but the light source is not particularly limited. For example, since a light bulb, a fluorescent lamp, and the like also generate heat, the same effect is obtained.
Further, in the embodiments described so far, the waste liquid tank may be a waste liquid passage through which the waste liquid flows. In this case, it is preferable that the waste liquid always flows through the waste liquid passage by controlling the circulation of the culture liquid. However, since the lighting device is cooled at least when the waste liquid flows, it is not necessary to control such circulation of the culture liquid.
Further, as for the cultivation container (cultivation tank), if the supply amount of the culture solution and the drainage amount can be controlled to be the same, the overflow drainage mechanism may not be provided.

１０ 植物栽培装置
１１ フレーム
１２ 栽培空間
１３ 栽培容器
１３ａ 供給部
１３ｂ オーバーフロー排水機構
１３ｂ１ 排水孔
１３ｂ２ 排水筒
１３ｄ 区切板
１４ 照明装置
１４ａ 枠体
１４ａ１ 開口
１４ａ２ 側縁
１４ｂ 導光板
１４ｃ 光源
１５ 廃液槽
１５ａ オーバーフロー排水機構
１５ａ１ 排水孔
１５ａ２ 排水筒
１５ｂ 保持部
１５ｂ１ 上側面
１５ｂ２ 下側面
１５ｂ３ 縦面
１５ｃ 他方端
１６ ダクト
２０ 柱
２１ 棚板
２１ａ 孔
２２ 天井
２５ 冷却槽
２５ａ オーバーフロー排水機構
２５ｂ 保持部
２６ 栽培容器
２６ａ フランジ部
２７ 第１廃液槽
２７ａ 排出孔
３２ 制御タンク
３３ ヒートポンプ
４０ 植物栽培装置
４１ 栽培空間
４２ 栽培容器
４３ 照明装置
４４ 廃液槽
４５ ポンプ
５０ 植物栽培装置
５１ 廃液槽
５１ａ 保持部
６０ 植物栽培装置
６１ フレーム
６１ａ 柱
６１ｂ 固定ツメ
６２ 栽培空間
６３ 栽培ベッド
６５ 廃液槽
６６ 栽培容器
６６ａ 供給部
６６ｂ オーバーフロー排水機構
６６ｂ１ 排水孔
６６ｂ２ 排水筒
６７ 照明装置
６８ 廃液槽
６９ ダクト
７１ 栽培ベッド
７２ 栽培容器
７２ａ フランジ部
７２ｂ オーバーフロー排水機構
７３ 照明装置
７４ 廃液槽
Ｓ 水面
Ｓ１ 水面 10 Plant Cultivation Device 11 Frame 12 Cultivation Space 13 Cultivation Container 13a Supply Unit 13b Overflow Drainage Mechanism 13b1 Drainage Hole 13b2 Drainage Tube 13d Partition Plate 14 Lighting Device 14a Frame 14a1 Opening 14a2 Side Edge 14b Light Guide Plate 14c Light Source 15 Waste Liquid Tank 15a Overflow Drainage Mechanism 15a1 Drainage hole 15a2 Drainage tube 15b Holding part 15b1 Upper side surface 15b2 Lower side surface 15b3 Vertical surface 15c Other end 16 Duct 20 Pillar 21 Shelf plate 21a hole 22 Ceiling 25 Cooling tank 25a Overflow drainage mechanism 25b Holding part 26 Cultivation container 26a Flange part 27 1st waste liquid tank 27a discharge hole 32 control tank 33 heat pump 40 plant cultivation device 41 cultivation space 42 cultivation container 43 lighting device 44 waste liquid tank 45 pump 50 plant cultivation device 51 waste liquid tank 51a holding part 60 plant cultivation device 61 frame 61a pillar 61b fixed Claw 62 Cultivation space 63 Cultivation bed 65 Waste liquid tank 66 Cultivation container 66a Supply part 66b Overflow drainage mechanism 66b1 Drain hole 66b2 Drain tube 67 Lighting device 68 Waste liquid tank 69 Duct 71 Cultivation bed 72 Cultivation container 72a Flange portion 72b Overflow drainage mechanism 73 Lighting device 74 Waste liquid tank S Water surface S1 Water surface

Claims (11)

栽培空間と、
前記栽培空間の下方に設置される栽培容器と、
前記栽培空間の上方に設置される照明装置とを有しており、
前記照明装置は、前記栽培容器から排出される廃液によって冷却される、
植物栽培装置。 Cultivation space,
A cultivation container installed below the cultivation space,
Having a lighting device installed above the cultivation space,
The lighting device is cooled by the waste liquid discharged from the cultivation container,
Plant cultivation equipment. フレームと、
前記フレーム内において上下に区切られた複数の栽培空間と、
前記栽培空間の下方に設置される栽培容器と、
前記栽培空間の上方に設置される照明装置とを有しており、
前記照明装置は、当該栽培空間より上の栽培空間の栽培容器から排出される廃液によって冷却される、
植物栽培装置。 Frame and
A plurality of cultivation spaces that are vertically separated in the frame,
A cultivation container installed below the cultivation space,
Having a lighting device installed above the cultivation space,
The lighting device is cooled by the waste liquid discharged from the cultivation container in the cultivation space above the cultivation space,
Plant cultivation equipment. 前記栽培空間が密閉されている、
請求項２記載の植物栽培装置。 The cultivation space is sealed,
The plant cultivation device according to claim 2. 前記排液を流す廃液路または前記廃液を貯留する廃液槽を有しており、
前記廃液路または前記廃液槽と、照明装置とが熱交換できるように構成されている、
請求項１から３いずれか記載の植物栽培装置。 It has a waste liquid passage for flowing the waste liquid or a waste liquid tank for storing the waste liquid,
The waste liquid passage or the waste liquid tank and the lighting device are configured to be capable of heat exchange,
The plant cultivation device according to claim 1. 前記栽培空間は、棚板によって区切られており、
前記棚板の下方に照明装置および前記廃液路または廃液槽が設けられ、前記棚板の上方に栽培容器が設けられている、
請求項４記載の植物栽培装置。 The cultivation space is separated by a shelf board,
The lighting device and the waste liquid passage or the waste liquid tank are provided below the shelf plate, and the cultivation container is provided above the shelf plate,
The plant cultivation device according to claim 4. 前記廃液路または前記廃液槽は、前記照明装置と棚板との間に設けられている、
請求項５記載の植物栽培装置。 The waste liquid passage or the waste liquid tank is provided between the lighting device and the shelf plate,
The plant cultivation device according to claim 5. 前記廃液路または前記廃液槽は、前記照明装置の横側に設けられている、
請求項５記載の植物栽培装置。 The waste liquid passage or the waste liquid tank is provided on the side of the lighting device,
The plant cultivation device according to claim 5. 前記フレームに支持されて上下に配列される複数の栽培ベッドを有しており、
前記栽培空間は、前記栽培ベッドによって区切られており、
前記栽培ベッドは、栽培容器と、その下方に設けられた照明装置と、前記廃液路または前記廃液槽とを備えている、
請求項４記載の植物栽培装置。 It has a plurality of cultivation beds that are supported by the frame and arranged vertically.
The cultivation space is separated by the cultivation bed,
The cultivation bed includes a cultivation container, a lighting device provided below the cultivation container, and the waste liquid passage or the waste liquid tank,
The plant cultivation device according to claim 4. 前記廃液路または前記廃液槽は、前記栽培容器の横側に設けられており、
前記廃液路または前記廃液槽の底部は、照明装置の横側または上側に設けられている、
請求項８記載の植物栽培装置。 The waste liquid passage or the waste liquid tank is provided on the side of the cultivation container,
The bottom of the waste passage or the waste tank is provided on the side or the upper side of the lighting device,
The plant cultivation device according to claim 8. 前記廃液路または前記廃液槽が、栽培容器と照明装置との間に設けられている、
請求項８記載の植物栽培装置。 The waste liquid passage or the waste liquid tank is provided between the cultivation container and the lighting device,
The plant cultivation device according to claim 8. 前記廃液路または前記廃液槽が、前記照明装置と隣接している、
請求項４から１０いずれか記載の植物栽培装置。 The waste liquid passage or the waste liquid tank is adjacent to the lighting device,
The plant cultivation device according to claim 4.
JP2018234094A 2018-12-14 2018-12-14 plant cultivation equipment Active JP7212928B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018234094A JP7212928B2 (en) 2018-12-14 2018-12-14 plant cultivation equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018234094A JP7212928B2 (en) 2018-12-14 2018-12-14 plant cultivation equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020092675A true JP2020092675A (en) 2020-06-18
JP7212928B2 JP7212928B2 (en) 2023-01-26

Family

ID=71083899

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018234094A Active JP7212928B2 (en) 2018-12-14 2018-12-14 plant cultivation equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7212928B2 (en)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000106757A (en) * 1998-08-03 2000-04-18 Cosmo Plant Kk Plant cultivating apparatus
JP2009291185A (en) * 2008-06-06 2009-12-17 Intemu:Kk Lighting system for plant cultivation
JP2012034686A (en) * 2010-08-06 2012-02-23 Green Plus Co Ltd Unattended plant cultivation device using lighting system
JP2012115172A (en) * 2010-11-30 2012-06-21 Showa Denko Aluminum Trading Kk Led lighting system
JP2013081422A (en) * 2011-10-07 2013-05-09 Hisakazu Uchiyama Plant cultivation apparatus
JP2013172698A (en) * 2012-02-27 2013-09-05 Ntt Facilities Inc Plant cultivation system, plant cultivation method, and program
WO2014181417A1 (en) * 2013-05-08 2014-11-13 Uchiyama Hisakazu Plant cultivation device, cultivation bed raising/lowering device, and plant cultivation factory
WO2015001763A1 (en) * 2013-07-01 2015-01-08 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 Plant cultivation device, box, end section unit
JP2015057965A (en) * 2013-09-18 2015-03-30 いちごカンパニー株式会社 Stand for strawberry cultivation
JP2017042055A (en) * 2015-08-24 2017-03-02 三菱樹脂アグリドリーム株式会社 Cultivation apparatus and cultivation method

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000106757A (en) * 1998-08-03 2000-04-18 Cosmo Plant Kk Plant cultivating apparatus
JP2009291185A (en) * 2008-06-06 2009-12-17 Intemu:Kk Lighting system for plant cultivation
JP2012034686A (en) * 2010-08-06 2012-02-23 Green Plus Co Ltd Unattended plant cultivation device using lighting system
JP2012115172A (en) * 2010-11-30 2012-06-21 Showa Denko Aluminum Trading Kk Led lighting system
JP2013081422A (en) * 2011-10-07 2013-05-09 Hisakazu Uchiyama Plant cultivation apparatus
JP2013172698A (en) * 2012-02-27 2013-09-05 Ntt Facilities Inc Plant cultivation system, plant cultivation method, and program
WO2014181417A1 (en) * 2013-05-08 2014-11-13 Uchiyama Hisakazu Plant cultivation device, cultivation bed raising/lowering device, and plant cultivation factory
WO2015001763A1 (en) * 2013-07-01 2015-01-08 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 Plant cultivation device, box, end section unit
JP2015057965A (en) * 2013-09-18 2015-03-30 いちごカンパニー株式会社 Stand for strawberry cultivation
JP2017042055A (en) * 2015-08-24 2017-03-02 三菱樹脂アグリドリーム株式会社 Cultivation apparatus and cultivation method

Also Published As

Publication number Publication date
JP7212928B2 (en) 2023-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110012750B (en) Multilayer partition plate type plant cultivation device and plant cultivation system
US7278237B2 (en) Transplant production system
JP5357863B2 (en) Cultivation equipment
CN108024510B (en) Cultivation device and cultivation method
JP5378662B2 (en) Hydroponics equipment
JP6467872B2 (en) Hydroponics system
JP5229502B2 (en) Mobile rack equipment for plant cultivation
WO2006098139A1 (en) Lighting device and plant growing device equipped with the lighting device
JP3105482B2 (en) Seedling raising equipment
AU2017274915A1 (en) Cultivation system and cultivation method for Solanaceae seedlings
JP2008245554A (en) Three-dimensional multistage type plant-cultivating device
JP4858239B2 (en) Air conditioning method for multi-stage plant cultivation equipment
JP7212928B2 (en) plant cultivation equipment
JP4704241B2 (en) Plant growing device
KR20140053610A (en) A water culture apparatus
JP2022124073A (en) Plant cultivation apparatus
JP2017063712A (en) Plant culture apparatus
JP2016185081A (en) Plant cultivation device
WO2024038581A1 (en) Plant cultivation device
WO2024202623A1 (en) Plant growth device and plant growth method
JP2023083060A (en) plant cultivation system
JP2013106600A (en) Plant cultivation device, and plant cultivation system
WO2024202410A1 (en) Plant cultivation device and plant cultivation method
JP2024145043A (en) Plant growing device and plant growing method
JP2023123259A (en) plant cultivation system

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20200207

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20200508

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20200508

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211214

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20211214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20211214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220831

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220907

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221107

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221221

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230106

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7212928

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150