JP2020090676A - Compound, and colored curable resin composition including compound - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、化合物及び該化合物を含む着色剤、着色硬化性樹脂組成物等に関する。 The present invention relates to a compound, a colorant containing the compound, a colored curable resin composition, and the like.
染料は、例えば、繊維材料、液晶表示装置、インクジェット等の分野で反射光または透過光を利用して色表示するために使用されている。かかる染料として、下記式で表されるクマリン6が知られている。 Dyes are used for color display using reflected light or transmitted light in the fields of, for example, fiber materials, liquid crystal display devices, and inkjets. As such a dye, coumarin 6 represented by the following formula is known.
式(d0)で表される化合物を含む着色硬化性樹脂組成物からカラーフィルタを形成する工程で、着色剤が昇華する点が問題であった。 In the step of forming a color filter from the colored curable resin composition containing the compound represented by the formula (d0), there is a problem that the colorant sublimes.
本発明は、以下の発明を含む。
[1]式(Z)で表される化合物。
The present invention includes the following inventions.
[1] A compound represented by the formula (Z).
[式(Z)中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基、アリール基、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基を表す。
R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基を表す。
ただし、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10のうち、少なくとも1つはアクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基である。]
[2]ケイ素原子を含む基が、式(Z1)で表される基である[1]に記載の化合物。
[In the formula (Z), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a group containing an acryloyl group, or a group containing a methacryloyl group. Alternatively, it represents a group containing a silicon atom.
R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, a nitro group, or a carbon number of 1 to 20. Represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a group containing an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group or a group containing a silicon atom.
Provided that at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 contains an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group, or A group containing a silicon atom. ]
[2] The compound according to [1], wherein the group containing a silicon atom is a group represented by formula (Z1).
[式中、R11Aは、単結合または炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、−NR10−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−または−NHCO−で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、水酸基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。
R10は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基を表す。
R12A、R13A及びR14Aは、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表す。
*は窒素原子又は炭素原子との結合手を表す。]
[3]アクリロイル基を含む基又はメタクリロイル基を含む基が、式(Z2)で表される基である[1]または[2]に記載の化合物。
[In the formula, R 11A represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the alkanediyl group is —O—, —CO—, —NR 10 —, —. OCO-, -COO-, -OCONH-, -CONH- or -NHCO- may be substituted, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group has 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxyl group. It may be substituted with an alkyl group.
R 10 represents a hydrogen atom or a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
R 12A , R 13A and R 14A each independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
* Represents a bond with a nitrogen atom or a carbon atom. ]
[3] The compound according to [1] or [2], wherein the group containing an acryloyl group or the group containing a methacryloyl group is a group represented by formula (Z2).
[式中、R15Aは、炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、−NR11−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−または−NHCO−で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、水酸基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。
R11は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基を表す。
R16Aは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。
*は窒素原子又は炭素原子との結合手を表す。]
[4][1]〜[3]のいずれかに記載の化合物を含む着色剤。
[5]さらに緑色顔料を含む[4]に記載の着色剤。
[6]緑色顔料が、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料及びハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料からなる群から選ばれる少なくとも一種である[5]に記載の着色剤。
[7]緑色顔料が、塩素化銅フタロシアニン顔料、臭素化銅フタロシアニン顔料及び臭素化亜鉛フタロシアニン顔料からなる群から選ばれる少なくとも一種である[5]又は[6]に記載の着色剤。
[8]緑色顔料が、C.I.ピグメントグリーン36およびC.I.ピグメントグリーン58からなる群から選ばれる少なくとも一種である[5]〜[7]のいずれかに記載の着色剤。
[9][4]〜[8]のいずれかに記載の着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含む着色硬化性樹脂組成物。
[10][9]に記載の着色硬化性樹脂組成物から形成されるカラーフィルタ。
[11][10]に記載のカラーフィルタを含む液晶表示装置。
[In the formula, R 15A represents an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the alkanediyl group is —O—, —CO—, —NR 11 —, —OCO—, -COO-, -OCONH-, -CONH- or -NHCO- may be substituted, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and optionally having a hydroxyl group. May be replaced with.
R 11 represents a hydrogen atom or a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
R 16A represents an acryloyl group or a methacryloyl group.
* Represents a bond with a nitrogen atom or a carbon atom. ]
[4] A colorant containing the compound according to any one of [1] to [3].
[5] The colorant according to [4], which further contains a green pigment.
[6] The colorant according to [5], wherein the green pigment is at least one selected from the group consisting of halogenated copper phthalocyanine pigments and halogenated zinc phthalocyanine pigments.
[7] The colorant according to [5] or [6], wherein the green pigment is at least one selected from the group consisting of chlorinated copper phthalocyanine pigments, brominated copper phthalocyanine pigments and brominated zinc phthalocyanine pigments.
[8] The green pigment is C.I. I. Pigment Green 36 and C.I. I. Pigment Green 58, the coloring agent according to any one of [5] to [7], which is at least one selected from the group consisting of Pigment Green 58.
[9] A colored curable resin composition containing the colorant according to any one of [4] to [8], a resin, a polymerizable compound and a polymerization initiator.
[10] A color filter formed from the colored curable resin composition according to [9].
[11] A liquid crystal display device including the color filter according to [10].
本発明の化合物を含む着色硬化性樹脂組成物からカラーフィルタを形成する場合、着色剤の昇華を抑えることができる。 When forming a color filter from a colored curable resin composition containing the compound of the present invention, sublimation of the colorant can be suppressed.
<式(Z)で表される化合物(以下、化合物(Z)という場合がある。)> <Compound represented by Formula (Z) (hereinafter, sometimes referred to as Compound (Z))>
[式(Z)中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基、アリール基、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基を表す。
R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基を表す。
ただし、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10のうち、少なくとも1つはアクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基である。]
[In the formula (Z), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a group containing an acryloyl group, or a group containing a methacryloyl group. Alternatively, it represents a group containing a silicon atom.
R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, a nitro group, or a carbon number of 1 to 20. Represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a group containing an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group or a group containing a silicon atom.
Provided that at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 contains an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group, or A group containing a silicon atom. ]
R1及びR2で表される炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ヘキサデシル基、及びイコシル基等の炭素数1〜20の直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基及び2−エチルヘキシル基等の炭素数3〜20の分岐鎖状アルキル基;等の炭素数1〜20のアルキル基;
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基及びトリシクロデシル基等の炭素数3〜20の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。
R1及びR2で表されるアリール基としては、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基等のアルキル基などが置換していてもよいフェニル基が挙げられ、好ましくはトリル基またはジメチルフェニル基である。
Examples of the monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. , N-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-hexadecyl group, icosyl group, and other linear alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms; isopropyl group , An isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a 2-ethylhexyl group and the like, a branched chain alkyl group having 3 to 20 carbon atoms;
Examples thereof include alicyclic saturated hydrocarbon groups having 3 to 20 carbon atoms such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group and tricyclodecyl group.
Examples of the aryl group represented by R 1 and R 2 include phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2, Alkyl such as 5-dimethylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 3-ethylphenyl group and 4-ethylphenyl group Examples thereof include a phenyl group which may be substituted with a group and the like, and a tolyl group or a dimethylphenyl group is preferable.
R1及びR2としては、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基または炭素数5〜10の分岐鎖状アルキル基がより好ましく、エチル基または2−エチルヘキシル基がより好ましく、エチル基が更に好ましい。 R 1 and R 2 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkyl group having 5 to 10 carbon atoms, An ethyl group or a 2-ethylhexyl group is more preferable, and an ethyl group is even more preferable.
*−NR1R2は(*は炭素原子との結合手を表す)、下記式で表される基が好ましい。 *-NR 1 R 2 (* represents a bond with a carbon atom) is preferably a group represented by the following formula.
R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10で表される炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びメチルシクロヘキシル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group and isopropyl. Group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and methylcyclohexyl group Is mentioned.
R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10で表される炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基が挙げられる。 Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, Examples include a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group and an octyloxy group.
R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。 Examples of the halogen atom represented by R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
ただし、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10のうち少なくとも1つは、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基である。 However, at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 is a group containing an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group, or A group containing a silicon atom.
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10で表されるアクリロイル基を含む基又はメタクリロイル基を含む基とは、基の構成単位として、アクリロイル基又はメタクリロイル基を少なくとも1つ有している基を意味する。
アクリロイル基を含む基の炭素数は、通常、3〜16であり、好ましくは3〜12であり、より好ましくは3〜8である。
メタクリロイル基を含む基の炭素数は、通常、4〜17であり、好ましくは4〜13であり、より好ましくは4〜9である。
アクリロイル基を含む基は、アクリロイルオキシ基を含む基であることが好ましい。
メタクリロイル基を含む基は、メタクリロイルオキシ基を含む基であることが好ましい。
アクリロイル基を含む基又はメタアクリロイル基を含む基としては、式(Z2)で表される基が好ましい。
The group containing an acryloyl group or the group containing a methacryloyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 is a group structure. The unit means a group having at least one acryloyl group or methacryloyl group.
The group containing an acryloyl group usually has 3 to 16 carbon atoms, preferably 3 to 12 carbon atoms, and more preferably 3 to 8 carbon atoms.
The carbon number of the group containing a methacryloyl group is usually 4 to 17, preferably 4 to 13, and more preferably 4 to 9.
The group containing an acryloyl group is preferably a group containing an acryloyloxy group.
The group containing a methacryloyl group is preferably a group containing a methacryloyloxy group.
As the group containing an acryloyl group or the group containing a methacryloyl group, a group represented by the formula (Z2) is preferable.
[式中、R15Aは、炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、−NR11−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−または−NHCO−で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、水酸基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。
R11は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基を表す。
R16Aは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。
*は窒素原子又は炭素原子との結合手を表す。]
[In the formula, R 15A represents an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the alkanediyl group is —O—, —CO—, —NR 11 —, —OCO—, -COO-, -OCONH-, -CONH- or -NHCO- may be substituted, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and optionally having a hydroxyl group. May be replaced with.
R 11 represents a hydrogen atom or a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
R 16A represents an acryloyl group or a methacryloyl group.
* Represents a bond with a nitrogen atom or a carbon atom. ]
R15Aで表される炭素数1〜10のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基、2−メチルトリメチレン基、イソペンチレン基、イソヘキシレン基、イソオクチレン基及び2−エチルへキシレン基が挙げられ、炭素数1〜6のアルカンジイル基が好ましく、炭素数1〜4のアルカンジイル基がより好ましい。
R15Aで表される炭素数1〜10のアルカンジイル基としては、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−が−O−で置換されている基が好ましい。R15A中の−O−の数は1〜3が好ましく、より好ましくは1または2、更に好ましくは1である。前記−O−の少なくとも一つは、R16Aと結合していてもよい。なお−CH2−のうち窒素原子又は炭素原子の結合手となる*−CH2−は、−O−、−CO−、−NR11−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−及び−NHCO−で置換されていないことが好ましい。
水酸基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基及びtert−ブチル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基が好ましく、より好ましくはエチル基である。
Examples of the alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 15A include methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, isopropylene group, isobutylene group and 2-methyltrimethyl group. Examples thereof include a methylene group, an isopentylene group, an isohexylene group, an isooctylene group and a 2-ethylhexylene group, an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
The C 1-10 alkanediyl group represented by R 15A is preferably a group in which —CH 2 — contained in the alkanediyl group is substituted with —O—. The number of —O— in R 15A is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and further preferably 1. At least one of the -O- may be bonded to R 16A . Note -CH 2 - a nitrogen atom or a bond carbon atoms * -CH 2 of the - is, -O -, - CO -, - NR 11 -, - OCO -, - COO -, - OCONH -, - It is preferably not substituted by CONH- and -NHCO-.
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group and a tert-butyl group. A methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group is preferable, and an ethyl group is more preferable.
R11で表される炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、イコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基及び2−エチルヘキシル基等の炭素数1〜20のアルキル基;
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基及びトリシクロデシル基等の炭素数3〜20の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。
R11は、炭素数1〜4のアルキル基又は水素原子であることが好ましく、メチル基又は水素原子であることがより好ましい。
Examples of the monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 11 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group and decyl group. Groups, dodecyl groups, hexadecyl groups, icosyl groups, isopropyl groups, isobutyl groups, sec-butyl groups, tert-butyl groups, isopentyl groups, neopentyl groups, 2-ethylhexyl groups, and other alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms;
Examples thereof include alicyclic saturated hydrocarbon groups having 3 to 20 carbon atoms such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group and tricyclodecyl group.
R 11 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom, and more preferably a methyl group or a hydrogen atom.
アクリロイル基又はメタアクリロイル基を含む基としては、(ii−1)で表される基〜(ii−42)で表される基が挙げられ、好ましくは(ii−1)で表される基〜(ii−8)で表される基及び(ii−13)で表される基〜(ii−22)で表される基であり、より好ましくは(ii−1)で表される基〜(ii−8)で表される基であり、更に好ましくは(ii−1)で表される基または(ii−5)で表される基である。式中、*は結合手を表す。 Examples of the group containing an acryloyl group or a methacryloyl group include the group represented by (ii-1) to the group represented by (ii-42), and preferably the group represented by (ii-1) The group represented by (ii-8) and the group represented by (ii-13) to the group represented by (ii-22), and more preferably the group represented by (ii-1) to ( A group represented by ii-8), more preferably a group represented by (ii-1) or a group represented by (ii-5). In the formula, * represents a bond.
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10で表されるケイ素原子を含む基とは、基の構成要素としてケイ素原子を含む基を意味する。
ケイ素原子を含む基の炭素数は、通常、1〜30であり、好ましくは1〜20であり、より好ましくは1〜10である。
ケイ素原子を含む基としては、式(Z1)で表される基が好ましい。
The group containing a silicon atom represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 includes a silicon atom as a constituent of the group. Means a group.
The silicon atom-containing group usually has 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 10 carbon atoms.
As the group containing a silicon atom, a group represented by the formula (Z1) is preferable.
[式中、R11Aは、単結合または炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、−NR10−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−または−NHCO−で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、水酸基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。
R10は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基を表す。
R12A、R13A及びR14Aは、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表す。
*は窒素原子又は炭素原子との結合手を表す。]
[In the formula, R 11A represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the alkanediyl group is —O—, —CO—, —NR 10 —, —. OCO-, -COO-, -OCONH-, -CONH- or -NHCO- may be substituted, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group has 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxyl group. It may be substituted with an alkyl group.
R 10 represents a hydrogen atom or a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
R 12A , R 13A and R 14A each independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
* Represents a bond with a nitrogen atom or a carbon atom. ]
R11Aで表される炭素数1〜10のアルカンジイル基としては、R15Aで表される炭素数1〜10のアルカンジイル基と同じものが挙げられる。R11Aは、好ましくは炭素数1〜6のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数1〜4のアルカンジイル基である。
R11Aのアルカンジイル基の水素原子を置換してもよい炭素数1〜4のアルキル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基及びtert−ブトキシ基が挙げられる。
Examples of the alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 11A include the same ones as the alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 15A . R 11A is preferably an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may substitute the hydrogen atom of the alkanediyl group of R 11A include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group and tert. And a butoxy group.
R10で表される炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基としては、R11で表される炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。 Examples of the monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 10 include the same as the monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 11 .
R12A、R13A及びR14Aで表される炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロプロピル基及びシクロブチル基が挙げられる。
R12A、R13A及びR14Aで表される炭素数1〜4のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基及びtert−ブトキシ基が挙げられる。
R12A、R13A及びR14Aは、すべて同じ基であることが好ましい。
R12A、R13A及びR14Aは、それぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数1〜2のアルキル基または炭素数1〜2のアルコキシ基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 12A , R 13A and R 14A include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group and a tert-butyl group. Groups, cyclopropyl groups and cyclobutyl groups.
Examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 12A , R 13A and R 14A include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group and a tert-butoxy group. Is mentioned.
It is preferred that R 12A , R 13A and R 14A are all the same group.
R 12A , R 13A and R 14A are each independently preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms or 1 carbon atom The alkoxy group of ˜2 is more preferable, and the methyl group is still more preferable.
ケイ素原子を含む基としては、下記に記載の基が挙げられる。R11Aが、単結合又はR11Aに含まれる−CH2−が置換されていない基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 Examples of the group containing a silicon atom include the groups described below. Examples of the group in which R 11A is a single bond or is not substituted with —CH 2 — contained in R 11A include groups represented by the following (* represents a bond).
R11Aに含まれる−CH2−が−O−で置換された基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 Examples of the group in which —CH 2 — included in R 11A is substituted with —O— include groups represented by the following (* represents a bond).
R11Aに含まれる−CH2−が−CO−で置換された基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 Examples of the group in which —CH 2 — contained in R 11A is replaced by —CO— include groups represented by the following (* represents a bond).
R11Aに含まれる−CH2−が−NR10−で置換された基としては、−NH−、−NCH3−、−NC2H5−が好ましく、好ましい基としては下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 The group in which —CH 2 — contained in R 11A is replaced by —NR 10 — is preferably —NH—, —NCH 3 —, or —NC 2 H 5 —, and a preferable group is a group represented by the following. (* represents a bond).
R11Aに含まれる−CH2−が−OCO−で置換された基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 Examples of the group in which —CH 2 — contained in R 11A is substituted with —OCO— include groups represented by the following (* represents a bond).
R11Aに含まれる−CH2−が−COO−で置換された基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 Examples of the group in which —CH 2 — contained in R 11A is replaced with —COO— include groups represented by the following (* represents a bond).
R11Aに含まれる−CH2−が−OCONH−で置換された基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 Examples of the group in which —CH 2 — contained in R 11A is substituted with —OCONH— include the groups shown below (* represents a bond).
R11Aに含まれる−CH2−が−CONH−で置換された基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 Examples of the group in which —CH 2 — contained in R 11A is replaced with —CONH— include the groups shown below (* represents a bond).
R11Aに含まれる−CH2−が−NHCO−で置換された基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 Examples of the group in which —CH 2 — contained in R 11A is replaced with —NHCO— include the groups shown below (* represents a bond).
R11Aに含まれる該アルカンジイル基に含まれる水素原子が、水酸基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい基としては、下記で表される基が挙げられる(*は結合手を表す)。 The hydrogen atom contained in the alkanediyl group contained in R 11A may be substituted by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxyl group, (* represents a bond).
ケイ素原子を含む基としては、R11Aで表されるアルカンジイル基に含まれる−CH2−が、−OCO−、−COO−または−OCONH−で置換されている式(Z1)で表される基がより好ましく、R11Aで表されるアルカンジイル基に含まれる−CH2−が−COO−で置換されている式(Z1)で表される基が更に好ましい。ケイ素原子を含む基は、下記に表される基が好ましい。 The group containing a silicon atom is represented by formula (Z1) in which —CH 2 — contained in the alkanediyl group represented by R 11A is substituted with —OCO—, —COO— or —OCONH—. A group is more preferable, and a group represented by formula (Z1) in which —CH 2 — contained in the alkanediyl group represented by R 11A is substituted with —COO— is further preferable. The group containing a silicon atom is preferably a group shown below.
R3、R4、R5及びR6は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基であることがより好ましく、水素原子またはメチル基であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又はカルボキシル基であることが好ましく、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又はカルボキシル基であることがより好ましく、水素原子又はカルボキシル基であることがさらに好ましい。
R7、R8、R9及びR10のうち少なくとも1つが、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基であることが好ましく、R7、R8、R9及びR10のいずれか1つが、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基であることが好ましい。
またR8及びR9のうち少なくとも1つは、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基であることが好ましく、R7及びR10が水素原子であり、R8及びR9のうち少なくとも1つ、より好ましくはR8またはR9のいずれか一方が、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基であることが好ましい。
R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. A hydrogen atom or a methyl group is more preferable, and a hydrogen atom is particularly preferable.
R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are preferably each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a carboxyl group, and a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a carboxyl group. A group is more preferable, and a hydrogen atom or a carboxyl group is further preferable.
R 7, at least one of R 8, R 9 and R 10, a group containing an acryloyl group is preferably a group containing a group or a silicon atom containing methacryloyl group, R 7, R 8, R 9 and R It is preferable that any one of 10 is a group containing an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group or a group containing a silicon atom.
Further, at least one of R 8 and R 9 is preferably a group containing an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group or a group containing a silicon atom, and R 7 and R 10 are hydrogen atoms, and R 8 and At least one of R 9 and, more preferably, either R 8 or R 9 is preferably a group containing an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group or a group containing a silicon atom.
化合物(Z)の具体例としては、式(Z−1)で表される化合物〜式(Z−56)で表される化合物が挙げられる。 Specific examples of the compound (Z) include compounds represented by the formula (Z-1) to compounds represented by the formula (Z-56).
化合物(Z)は、例えば、Dyes and Pigments(2008),77,556−558.に記載された方法に準じて製造することができる。
具体的には、R5=水素原子である式(Z)で表される化合物は、式(2−A)で表される化合物、式(2−B)で表される化合物及びシアノ酢酸エチルを、安息香酸及び溶媒存在下、環化反応させることにより製造することができる。
反応温度は、0℃〜200℃が好ましく、100℃〜150℃がより好ましい。反応時間は、1時間〜24時間が好ましく、8時間〜16時間がより好ましい。前記溶媒としては、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−オクタノール又はN−メチルピロリドン等が挙げられ、1−ペンタノールが好ましい。
The compound (Z) can be prepared according to, for example, Dyes and Pigments (2008), 77,556-558. It can be manufactured according to the method described in.
Specifically, the compound represented by the formula (Z) in which R 5 =hydrogen atom is a compound represented by the formula (2-A), a compound represented by the formula (2-B) and ethyl cyanoacetate. Can be produced by a cyclization reaction in the presence of benzoic acid and a solvent.
The reaction temperature is preferably 0°C to 200°C, more preferably 100°C to 150°C. The reaction time is preferably 1 to 24 hours, more preferably 8 to 16 hours. Examples of the solvent include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-octanol, and N-methylpyrrolidone, and 1-pentanol is preferable.
[式(2−A)及び式(2−B)中、R1〜R4及びR6〜R10は、それぞれ前記と同じ意味を表す。] [In the formula (2-A) and the formula (2-B), R 1 to R 4 and R 6 to R 10 each have the same meaning as described above. ]
式(2−A)で表される化合物の使用量は、式(2−B)で表される化合物1モルに対して、好ましくは1モル〜10モルであり、より好ましくは1〜5モルであり、更に好ましくは1モルである。
シアノ酢酸エチルの使用量は、式(2−B)で表される化合物1モルに対して、好ましくは1モル〜10モルであり、より好ましくは1〜5モルであり、更に好ましくは1モルである。
安息香酸の使用量は、式(2−B)で表される化合物1モルに対して、好ましくは0.1モル〜3モルであり、より好ましくは0.3〜0.4モルである。
R5=水素原子である式(Z)で表される化合物を得た後、公知の方法を用いて、R5に任意の置換基を導入してもよい。
The amount of the compound represented by the formula (2-A) used is preferably 1 mol to 10 mol, and more preferably 1 to 5 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the formula (2-B). And more preferably 1 mol.
The amount of ethyl cyanoacetate used is preferably 1 mol to 10 mol, more preferably 1 to 5 mol, and further preferably 1 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the formula (2-B). Is.
The amount of benzoic acid used is preferably 0.1 mol to 3 mol, and more preferably 0.3 to 0.4 mol, per 1 mol of the compound represented by formula (2-B).
After obtaining the compound represented by the formula (Z) in which R 5 =hydrogen atom, an arbitrary substituent may be introduced into R 5 by a known method.
反応混合物から目的化合物である式(Z)で表される化合物を取得する方法としては、例えば、反応混合物の温度を適宜調整して結晶を析出させ、該結晶を濾取する方法が挙げられる。濾取した結晶は、水、アセトニトリル、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−オクタノール、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン又はこれらの混合液等の溶媒で洗浄し、次いで乾燥することが好ましい。また必要に応じて、カラムクロマトグラフィー又は再結晶等の公知の手法によってさらに精製してもよい。 Examples of the method of obtaining the compound represented by the formula (Z), which is the target compound, from the reaction mixture include a method of appropriately adjusting the temperature of the reaction mixture to precipitate crystals, and collecting the crystals by filtration. The crystals collected by filtration are water, acetonitrile, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-octanol, tetrahydrofuran, acetone, acetic acid, ethyl acetate, hexane, toluene, N,N-dimethylformamide. It is preferable to wash with a solvent such as N, N-methylpyrrolidone or a mixed solution thereof, and then dry. If necessary, it may be further purified by a known method such as column chromatography or recrystallization.
また、例えば、R9がケイ素原子を含む基である化合物(Z)は、式(z5a)で表される化合物と式(z6)で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。式(z5a)で表される化合物は、式(2−A)で表される化合物と、式(z4a)で表される化合物とを、ジアゾカップリングすることにより製造することができる。
同様に、R8がケイ素原子を含む基である化合物(Z)は、式(z5b)で表される化合物と式(z6)で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。式(z5b)で表される化合物は、式(2−A)で表される化合物と、式(z4b)で表される化合物とを、ジアゾカップリングすることにより製造することができる。
なお本明細書では、式(z5a)で表される化合物と式(z5b)で表される化合物を総称して式(z5)で表される化合物と説明する場合がある。
Further, for example, the compound (Z) in which R 9 is a group containing a silicon atom can be obtained by reacting the compound represented by the formula (z5a) with the compound represented by the formula (z6). The compound represented by the formula (z5a) can be produced by diazo coupling the compound represented by the formula (2-A) and the compound represented by the formula (z4a).
Similarly, the compound (Z) in which R 8 is a group containing a silicon atom can be obtained by reacting the compound represented by the formula (z5b) with the compound represented by the formula (z6). The compound represented by the formula (z5b) can be produced by diazo coupling the compound represented by the formula (2-A) and the compound represented by the formula (z4b).
In this specification, the compound represented by the formula (z5a) and the compound represented by the formula (z5b) may be collectively referred to as the compound represented by the formula (z5).
[式中、R113は、2価の連結基を表す。
R114及びR115は、それぞれ独立して、親水性基を表す。
R116は、ケイ素原子を含む基を表す。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、上記と同じ意味を表す。]
[In the formula, R 113 represents a divalent linking group.
R 114 and R 115 each independently represent a hydrophilic group.
R 116 represents a group containing a silicon atom.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meanings as described above. ]
R113で表される2価の連結基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基、2−メチルトリメチレン基、イソペンチレン基、イソヘキシレン基、イソオクチレン基及び2−エチルへキシレン基等の炭素数1〜10のアルカンジイル基が挙げられる。該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、−NR10−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−または−NHCO−で置換されていてもよい。R10は、上記と同じ意味を表す。
R114及びR115で表される親水性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基等が挙げられる。ただし、R114とR115とが同じ基を表すことはなく、R114がカルボキシル基でありR115がヒドロキシル基であることが好ましい。
R116で表されるケイ素原子を含む基としては、基の構成要素としてケイ素原子を含む基を表し、好ましくは式(Z1)で表される基である。
Examples of the divalent linking group represented by R 113 include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, an isopropylene group, an isobutylene group, a 2-methyltrimethylene group, and an isopentylene group. Group, an isohexylene group, an isooctylene group, an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a 2-ethylhexylene group. It is, -O - - -CH 2 contained in the alkanediyl group, - CO -, - NR 10 -, - OCO -, - COO -, - OCONH -, - CONH- or -NHCO- with substituted Good. R 10 has the same meaning as described above.
Examples of the hydrophilic group represented by R 114 and R 115 include a hydroxy group and a carboxy group. However, it is preferable that R 114 and R 115 do not represent the same group, and that R 114 is a carboxyl group and R 115 is a hydroxyl group.
The group containing a silicon atom represented by R 116 represents a group containing a silicon atom as a constituent element of the group, and is preferably a group represented by the formula (Z1).
[式中、R11A、R12A、R13A及びR14Aは、上記と同じ意味を表す。
*はR115との結合手を表す。]
*−R113−R116(*は、炭素原子との結合手を表す)で表される基が、化合物(Z)におけるR8及びR9に相当する。
IN FORMULA , R < 11A >, R < 12A >, R <13A > AND R <14A > REPRESENT A SAID MEANING .
* Represents a bond with R 115 . ]
* -R 113 -R 116 (* represents a bond to the carbon atom) is a group represented by the equivalent to R 8 and R 9 in the compound (Z).
式(z5)で表される化合物と式(z6)で表される化合物との反応は、クロロホルム等のハロゲン化溶媒の存在下で行われることが好ましい。反応温度は、−10℃〜100℃が好ましく、0℃〜50℃がより好ましい。反応時間は、1時間〜12時間が好ましく、1時間〜4時間がより好ましい。 The reaction between the compound represented by formula (z5) and the compound represented by formula (z6) is preferably carried out in the presence of a halogenated solvent such as chloroform. The reaction temperature is preferably -10°C to 100°C, more preferably 0°C to 50°C. The reaction time is preferably 1 to 12 hours, more preferably 1 to 4 hours.
式(z6)で表される化合物の使用量は、式(z5)で表される化合物1モルに対して、通常1モル以上8モル以下であり、好ましくは1モル以上4モル以下である。
反応の際、反応をスムーズに進行させるために、酸性触媒を加えるとさらに好ましい。
酸性触媒としては、硫酸、塩酸等の鉱酸等が挙げられる。
これらの触媒の使用量は任意であるが、好ましくは式(z6)で表される化合物1モルに対して、0.01〜4モル、さらに好ましくは、0.8〜2モルである。
The amount of the compound represented by the formula (z6) used is usually 1 mol or more and 8 mol or less, preferably 1 mol or more and 4 mol or less, relative to 1 mol of the compound represented by the formula (z5).
During the reaction, it is more preferable to add an acidic catalyst so that the reaction proceeds smoothly.
Examples of the acidic catalyst include mineral acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid.
The amount of these catalysts used is arbitrary, but is preferably 0.01 to 4 mol, and more preferably 0.8 to 2 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the formula (z6).
反応混合物から目的化合物である本発明の化合物を取得する方法としては、例えば、反応混合物を酸(例えば、酢酸等)及び水と共に混合し、析出した結晶を濾取する方法が挙げられる。前記酸は、予め酸の水溶液を調製してから、反応混合物を前記水溶液に添加することが好ましい。反応混合物を添加するときの温度は、通常10℃以上50℃以下、好ましくは20℃以上50℃以下、より好ましくは20℃以上30℃以下である。また反応混合物を酸の水溶液に添加後は、同温度で0.5〜2時間程度攪拌することが好ましい。濾取した結晶は、水等で洗浄し、次いで乾燥することが好ましい。また必要に応じて、再結晶等の公知の手法によってさらに精製してもよい。 Examples of the method for obtaining the compound of the present invention, which is a target compound, from the reaction mixture include a method in which the reaction mixture is mixed with an acid (eg, acetic acid) and water and the precipitated crystals are collected by filtration. The acid is preferably prepared by preparing an aqueous solution of the acid in advance and then adding the reaction mixture to the aqueous solution. The temperature at which the reaction mixture is added is usually 10°C or higher and 50°C or lower, preferably 20°C or higher and 50°C or lower, and more preferably 20°C or higher and 30°C or lower. After the reaction mixture is added to the acid aqueous solution, it is preferable to stir at the same temperature for about 0.5 to 2 hours. The crystals collected by filtration are preferably washed with water or the like and then dried. If necessary, it may be further purified by a known method such as recrystallization.
また、例えば、R9がアクリロイル基を含む基又はメタクリロイル基を含む基である化合物(Z)は、式(z8a)で表される化合物と式(z9)で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。式(z8a)で表される化合物は、式(2−A)で表される化合物と、式(z7a)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
R9がアクリロイル基を含む基又はメタクリロイル基を含む基である化合物(Z)は、式(z8b)で表される化合物と式(z9)で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。式(z8b)で表される化合物は、式(2−A)で表される化合物と、式(z7b)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
なお本明細書では、式(z8a)で表される化合物と式(z8b)で表される化合物を総称して式(z8)で表される化合物と説明する場合がある。
Further, for example, the compound (Z) in which R 9 is a group containing an acryloyl group or a group containing a methacryloyl group is obtained by reacting a compound represented by the formula (z8a) with a compound represented by the formula (z9). Can be obtained by The compound represented by formula (z8a) can be produced by reacting the compound represented by formula (2-A) with the compound represented by formula (z7a).
The compound (Z) in which R 9 is a group containing an acryloyl group or a group containing a methacryloyl group can be obtained by reacting a compound represented by the formula (z8b) with a compound represented by the formula (z9). it can. The compound represented by formula (z8b) can be produced by reacting the compound represented by formula (2-A) with the compound represented by formula (z7b).
In this specification, the compound represented by the formula (z8a) and the compound represented by the formula (z8b) may be collectively referred to as the compound represented by the formula (z8).
[式中、R111は、2価の連結基を表す。
R110は、アクリロイル基を含む基又はメタクリロイル基を含む基を表す。
R112は、ハロゲン原子を表す。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、上記と同じ意味を表す。]
[In the formula, R 111 represents a divalent linking group.
R 110 represents a group containing an acryloyl group or a group containing a methacryloyl group.
R 112 represents a halogen atom.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 have the same meanings as described above. ]
R111で表される2価の連結基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基、2−メチルトリメチレン基、イソペンチレン基、イソヘキシレン基、イソオクチレン基及び2−エチルへキシレン基等の炭素数1〜10のアルカンジイル基が挙げられる。該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、−NR11−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−または−NHCO−で置換されていてもよい。R11は、上記と同じ意味を表す。
R112で表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
R110で表されるアクリロイル基を含む基又はメタクリロイル基を含む基としては、基の構成単位として、アクリロイル基又はメタクリロイル基を少なくとも1つ有している基が挙げられる。
*−R111−R110(*は、炭素原子との結合手を表す。)で表される基が、化合物(Z)におけるR8及びR9に相当する。
Examples of the divalent linking group represented by R 111 include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, an isopropylene group, an isobutylene group, a 2-methyltrimethylene group and an isopentylene group. Group, an isohexylene group, an isooctylene group, an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a 2-ethylhexylene group. It is, -O - - -CH 2 contained in the alkanediyl group, - CO -, - NR 11 -, - OCO -, - COO -, - OCONH -, - CONH- or -NHCO- with substituted Good. R 11 has the same meaning as described above.
Examples of the halogen atom represented by R 112 include a chlorine atom and a bromine atom.
Examples of the group containing an acryloyl group or the group containing a methacryloyl group represented by R 110 include a group having at least one acryloyl group or methacryloyl group as a constitutional unit of the group.
* -R 111 -R 110 (* represents. A bond to the carbon atom) is a group represented by the equivalent to R 8 and R 9 in the compound (Z).
式(z8)で表される化合物と式(z9)で表される化合物との反応は、クロロホルム等のハロゲン化溶媒の存在下で行われることが好ましい。反応温度は、−10℃〜100℃が好ましく、0℃〜50℃がより好ましい。反応時間は、1時間〜12時間が好ましく、1時間〜4時間がより好ましい。 The reaction between the compound represented by formula (z8) and the compound represented by formula (z9) is preferably carried out in the presence of a halogenated solvent such as chloroform. The reaction temperature is preferably -10°C to 100°C, more preferably 0°C to 50°C. The reaction time is preferably 1 to 12 hours, more preferably 1 to 4 hours.
式(z9)で表される化合物の使用量は、式(z8)で表される化合物1モルに対して、通常1モル以上8モル以下であり、好ましくは1モル以上4モル以下である。
反応の際、反応をスムーズに進行させるために、酸性触媒を加えるとさらに好ましい。酸性触媒としては、硫酸、塩酸等の鉱酸等が挙げられる。
これらの触媒の使用量は任意であるが、好ましくは式(z9)で表される化合物1モルに対して、0.01〜4モル、さらに好ましくは、0.8〜2モルである。
The amount of the compound represented by the formula (z9) used is usually 1 mol or more and 8 mol or less, preferably 1 mol or more and 4 mol or less, relative to 1 mol of the compound represented by the formula (z8).
During the reaction, it is more preferable to add an acidic catalyst so that the reaction proceeds smoothly. Examples of the acidic catalyst include mineral acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid.
The amount of these catalysts used is arbitrary, but is preferably 0.01 to 4 mol, and more preferably 0.8 to 2 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the formula (z9).
反応混合物から目的化合物である本発明の化合物を取得する方法としては、R8またはR9がケイ素原子を含む基である化合物(Z)を取得する方法と同様の方法が挙げられる。 Examples of the method for obtaining the compound of the present invention, which is a target compound, from the reaction mixture include the same method as the method for obtaining the compound (Z) in which R 8 or R 9 is a group containing a silicon atom.
本発明の化合物(Z)は、染料として用いることができる。 The compound (Z) of the present invention can be used as a dye.
本発明の着色硬化性樹脂組成物は、化合物(Z)を含む着色剤(A)、樹脂(B)、重合性化合物(C)及び重合開始剤(D)を含む。
着色剤(A)は、化合物(Z)を2種以上用いてもよい。また、着色剤(A)は、化合物(Z)以外の染料又は緑色顔料(P)を用いてもよい。
本発明の着色硬化性樹脂組成物は、さらに溶剤(E)及びレベリング剤(F)からなる群から選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。
本発明の着色硬化性樹脂組成物は、さらに重合開始助剤(D1)を含んでもよい。
本明細書において、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は複数種を組合せて使用することができる。
The colored curable resin composition of the present invention contains a colorant (A) containing a compound (Z), a resin (B), a polymerizable compound (C) and a polymerization initiator (D).
As the colorant (A), two or more kinds of the compound (Z) may be used. As the colorant (A), a dye other than the compound (Z) or a green pigment (P) may be used.
The colored curable resin composition of the present invention preferably further contains at least one selected from the group consisting of a solvent (E) and a leveling agent (F).
The colored curable resin composition of the present invention may further contain a polymerization initiation aid (D1).
In the present specification, the compounds exemplified as each component can be used alone or in combination of two or more kinds unless otherwise specified.
化合物(Z)以外の染料としては、黄色染料または赤色染料が好ましく、黄色染料が特に好ましい。黄色染料としては、例えば、ピリドン骨格を有する染料が挙げられる。 As the dye other than the compound (Z), a yellow dye or a red dye is preferable, and a yellow dye is particularly preferable. Examples of the yellow dye include dyes having a pyridone skeleton.
緑色顔料(P)としては、フッ素化銅フタロシアニン顔料、塩素化銅フタロシアニン顔料、臭素化銅フタロシアニン顔料等のハロゲン化銅フタロシアニン顔料;フッ素化亜鉛フタロシアニン顔料、塩素化亜鉛フタロシアニン顔料、臭素化亜鉛フタロシアニン顔料等のハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料が挙げられ、具体的にはC.I.ピグメントグリーン7、10、15、25、36、47、58などの緑色顔料が挙げられる。
緑色顔料(P)は、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料及びハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料からなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、
塩素化銅フタロシアニン顔料、臭素化銅フタロシアニン顔料及び臭素化亜鉛フタロシアニン顔料からなる群から選ばれる少なくとも一種であることがより好ましく、
C.I.ピグメントグリーン36及び58からなる群から選ばれる少なくとも一種であることがさらに好ましい。
昇華性試験後の色差が小さいことから、緑色顔料(P)はハロゲン化銅フタロシアニン顔料が好ましく、塩素化銅フタロシアニン顔料及び臭素化銅フタロシアニン顔料からなる群から選ばれる少なくとも一種であることがより好ましく、C.I.ピグメントグリーン36が更に好ましい。
Examples of the green pigment (P) include halogenated copper phthalocyanine pigments such as fluorinated copper phthalocyanine pigments, chlorinated copper phthalocyanine pigments and brominated copper phthalocyanine pigments; fluorinated zinc phthalocyanine pigments, chlorinated zinc phthalocyanine pigments, brominated zinc phthalocyanine pigments. And halogenated zinc phthalocyanine pigments such as C.I. I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47, 58 and the like green pigments.
The green pigment (P) is preferably at least one selected from the group consisting of halogenated copper phthalocyanine pigments and halogenated zinc phthalocyanine pigments,
More preferably at least one selected from the group consisting of chlorinated copper phthalocyanine pigment, brominated copper phthalocyanine pigment and brominated zinc phthalocyanine pigment,
C. I. More preferably, it is at least one selected from the group consisting of Pigment Green 36 and 58.
Since the color difference after the sublimation test is small, the green pigment (P) is preferably a halogenated copper phthalocyanine pigment, and more preferably at least one selected from the group consisting of a chlorinated copper phthalocyanine pigment and a brominated copper phthalocyanine pigment. , C.I. I. Pigment Green 36 is more preferable.
着色剤(A)としては、その他の顔料を含んでいてもよく、例えば、
具体的には、C.I.ピグメントイエロー1、3、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、128、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173、180、194、214などの黄色顔料;
C.I.ピグメントブルー15、15:3、15:4、15:6、60などの青色顔料;等が挙げられる。
The colorant (A) may include other pigments, for example,
Specifically, C.I. I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, Yellow pigments such as 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180, 194, 214;
C. I. Pigment Blue 15, 15:3, 15:4, 15:6, 60 and other blue pigments; and the like.
化合物(Z)の含有率は、着色剤(A)の総量に対して、好ましくは0.01質量%以上90質量%以下であり、より好ましくは0.1質量%以上80質量%以下であり、さらに好ましくは1質量%以上65質量%以下であり、さらにより好ましくは2質量%以上60質量%以下である。
緑色顔料(P)を含む場合、その含有率は、着色剤(A)の総量に対して、好ましくは10質量%以上99.99質量%以下であり、より好ましくは20質量%以上99.9質量%以下であり、さらに好ましくは35質量%以上99質量%以下であり、さらにより好ましくは40質量%以上98質量%以下である。
緑色顔料(P)を含む場合、化合物(Z)と緑色顔料(P)の含有量比〔化合物(Z):緑色顔料(P)〕は、好ましくは1:99〜50:50、より好ましくは2:98〜30:70、更に好ましくは3:97〜20:80である。
The content of the compound (Z) is preferably 0.01% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more and 80% by mass or less, based on the total amount of the colorant (A). , More preferably 1% by mass or more and 65% by mass or less, and even more preferably 2% by mass or more and 60% by mass or less.
When the green pigment (P) is contained, its content is preferably 10% by mass or more and 99.99% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 99.9% by mass based on the total amount of the colorant (A). It is not more than 35% by mass, more preferably not less than 35% by mass and not more than 99% by mass, still more preferably not less than 40% by mass and not more than 98% by mass.
When the green pigment (P) is included, the content ratio of the compound (Z) and the green pigment (P) [compound (Z):green pigment (P)] is preferably 1:99 to 50:50, more preferably It is 2:98 to 30:70, and more preferably 3:97 to 20:80.
化合物(Z)と緑色顔料(P)の合計の含有率は、着色剤(A)の総量に対して、好ましくは10質量%以上、より好ましくは30質量%以上、更に好ましくは50質量%以上、より更に好ましくは70質量%以上、特に好ましくは80質量%以上であり、上限は、100質量%以下であり、95質量%以下であってもよい。 The total content of the compound (Z) and the green pigment (P) is preferably 10% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, further preferably 50% by mass or more, based on the total amount of the colorant (A). Is more preferably 70% by mass or more, particularly preferably 80% by mass or more, and the upper limit is 100% by mass or less, and may be 95% by mass or less.
着色剤(A)の含有率は、着色硬化性樹脂組成物の固形分の総量に対して、通常、1質量%以上99質量%以下であり、好ましくは2質量%以上90質量%以下であり、より好ましくは3質量%以上80質量%以下であり、さらに好ましくは5質量%以上70質量%以下であり、よりさらに好ましくは5質量%以上60質量%以下であり、特に好ましくは5質量%以上50質量%以下である。着色剤(A)の含有率が前記の範囲内であると、所望とする分光や色濃度を得ることができる。 The content of the colorant (A) is usually 1% by mass or more and 99% by mass or less, and preferably 2% by mass or more and 90% by mass or less, based on the total solid content of the colored curable resin composition. , More preferably 3% by mass or more and 80% by mass or less, further preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less, still more preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, particularly preferably 5% by mass. It is 50 mass% or less. When the content of the colorant (A) is within the above range, desired spectrum and color density can be obtained.
本明細書において「固形分の総量」とは、本発明の着色硬化性樹脂組成物から溶剤(E)を除いた成分の合計量をいう。固形分の総量及びこれに対する各成分の含有量は、例えば、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィーなどの公知の分析手段で測定することができる。 In the present specification, the “total amount of solids” refers to the total amount of components excluding the solvent (E) from the colored curable resin composition of the present invention. The total amount of solid content and the content of each component relative thereto can be measured by a known analysis means such as liquid chromatography or gas chromatography.
<樹脂(B)>
樹脂(B)は、特に限定されないが、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種に由来する構造単位を有する付加重合体がより好ましい。このような樹脂としては、以下の樹脂[K1]〜[K6]等が挙げられる。
樹脂[K1]不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種(a)(以下「(a)」という場合がある)と、炭素数2〜4の環状エーテル構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体(b)(以下「(b)」という場合がある)との共重合体;
樹脂[K2](a)と(b)と、(a)と共重合可能な単量体(c)(ただし、(a)及び(b)とは異なる。)(以下「(c)」という場合がある)との共重合体;
樹脂[K3](a)と(c)との共重合体;
樹脂[K4](a)と(c)との共重合体に(b)を反応させた樹脂;
樹脂[K5](b)と(c)との共重合体に(a)を反応させた樹脂;
樹脂[K6](b)と(c)との共重合体に(a)を反応させ、さらにカルボン酸無水物を反応させた樹脂。
<Resin (B)>
The resin (B) is not particularly limited, but is preferably an alkali-soluble resin, and an addition polymer having a structural unit derived from at least one selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic acid anhydrides can be used. More preferable. Examples of such a resin include the following resins [K1] to [K6].
Resin [K1] At least one kind (a) selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic acid anhydrides (hereinafter sometimes referred to as “(a)”), and a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms Copolymer with a monomer (b) having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as "(b)");
Resins [K2] (a) and (b) and a monomer (c) copolymerizable with (a) (however, different from (a) and (b)) (hereinafter referred to as "(c)"). In some cases) with a copolymer;
Copolymer of resin [K3] (a) and (c);
Resin [K4] Resin obtained by reacting (b) with a copolymer of (a) and (c);
Resin [K5] Resin obtained by reacting (a) with a copolymer of (b) and (c);
Resin [K6] A resin obtained by reacting a copolymer of (b) and (c) with (a) and further reacting with a carboxylic acid anhydride.
(a)としては、具体的には、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、o−、m−、p−ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸類;
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、3−ビニルフタル酸、4−ビニルフタル酸、3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸、1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、1、4−シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類;
メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、5−カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−6−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−6−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類;
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、3−ビニルフタル酸無水物、4−ビニルフタル酸無水物、3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸無水物、1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン無水物等の不飽和ジカルボン酸類無水物;
こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕等の2価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔(メタ)アクリロイルオキシアルキル〕エステル類;
α−(ヒドロキシメチル)アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。
これらのうち、共重合反応性の点や得られる樹脂のアルカリ水溶液への溶解性の点から、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が好ましい。
Specific examples of (a) include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, o-, m-, and p-vinylbenzoic acid;
Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, dimethyl Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid, 1,4-cyclohexene dicarboxylic acid;
Methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-carboxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-carboxy-5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-carboxy-5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-carboxy-6-methylbicyclo Bicyclo unsaturated compounds containing a carboxy group such as [2.2.1] hept-2-ene and 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene;
Maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6- Unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as tetrahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride and 5,6-dicarboxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene anhydride;
Unsaturated mono[(meth)acryloyloxyalkyl]esters of divalent or higher valent polycarboxylic acids such as mono[2-(meth)acryloyloxyethyl]succinate and mono[2-(meth)acryloyloxyethyl]phthalate. Kind;
Examples thereof include unsaturated acrylates containing a hydroxy group and a carboxy group in the same molecule, such as α-(hydroxymethyl)acrylic acid.
Of these, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are preferable from the viewpoint of copolymerization reactivity and the solubility of the resulting resin in an aqueous alkaline solution.
(b)は、例えば、炭素数2〜4の環状エーテル構造(例えば、オキシラン環、オキセタン環及びテトラヒドロフラン環からなる群から選ばれる少なくとも1種)とエチレン性不飽和結合とを有する重合性化合物をいう。(b)は、炭素数2〜4の環状エーテルと(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。
尚、本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも1種を表す。「(メタ)アクリロイル」及び「(メタ)アクリレート」等の表記も、同様の意味を有する。
(B) is, for example, a polymerizable compound having a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms (for example, at least one selected from the group consisting of an oxirane ring, an oxetane ring, and a tetrahydrofuran ring) and an ethylenically unsaturated bond. Say. (B) is preferably a monomer having a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms and a (meth)acryloyloxy group.
In addition, in this specification, "(meth)acrylic acid" represents at least one selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid. The expressions such as “(meth)acryloyl” and “(meth)acrylate” have the same meaning.
(b)としては、例えば、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体(b1)(以下「(b1)」という場合がある)、オキセタニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体(b2)(以下「(b2)」という場合がある)、テトラヒドロフリル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体(b3)(以下「(b3)」という場合がある)等が挙げられる。 Examples of (b) include a monomer (b1) having an oxiranyl group and an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as “(b1)”), a monomer having an oxetanyl group and an ethylenically unsaturated bond. A monomer (b2) (hereinafter sometimes referred to as “(b2)”), a monomer (b3) having a tetrahydrofuryl group and an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as “(b3)”), etc. Can be mentioned.
(b1)としては、例えば、直鎖状又は分枝鎖状の脂肪族不飽和炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体(b1−1)(以下「(b1−1)」という場合がある)、脂環式不飽和炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体(b1−2)(以下「(b1−2)」という場合がある)が挙げられる。 Examples of (b1) include a monomer (b1-1) having a structure in which a linear or branched aliphatic unsaturated hydrocarbon is epoxidized (hereinafter referred to as “(b1-1)” A) and a monomer (b1-2) having a structure in which an alicyclic unsaturated hydrocarbon is epoxidized (hereinafter sometimes referred to as “(b1-2)”).
(b1−1)としては、グリシジル(メタ)アクリレート、β−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、β−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、2,3−ビス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,4−ビス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,5−ビス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,6−ビス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,3,4−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,3,5−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,3,6−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレン、3,4,5−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレン、2,4,6−トリス(グリシジルオキシメチル)スチレン等が挙げられる。 Examples of (b1-1) include glycidyl (meth)acrylate, β-methylglycidyl (meth)acrylate, β-ethylglycidyl (meth)acrylate, glycidyl vinyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, and p. -Vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-m-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-p-vinylbenzyl glycidyl ether, 2,3-bis(glycidyloxymethyl)styrene 2,4-bis(glycidyloxymethyl)styrene, 2,5-bis(glycidyloxymethyl)styrene, 2,6-bis(glycidyloxymethyl)styrene, 2,3,4-tris(glycidyloxymethyl)styrene 2,3,5-tris(glycidyloxymethyl)styrene, 2,3,6-tris(glycidyloxymethyl)styrene, 3,4,5-tris(glycidyloxymethyl)styrene, 2,4,6-tris (Glycidyloxymethyl) styrene etc. are mentioned.
(b1−2)としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート(例えば、サイクロマーM100;(株)ダイセル製)、式(I)で表される化合物及び式(II)で表される化合物等が挙げられる。 Examples of (b1-2) include vinylcyclohexene monooxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate (for example, Cyclomer M100; manufactured by Daicel Corporation), formula Examples thereof include compounds represented by (I) and compounds represented by formula (II).
[式(I)及び式(II)中、Ra及びRbは、水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Xa及びXbは、単結合、*−Rc−、*−Rc−O−、*−Rc−S−又は*−Rc−NH−を表す。
Rcは、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表す。
*は、Oとの結合手を表す。]
[In Formula (I) and Formula (II), R a and R b represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group is substituted with a hydroxy group. May be.
X a and X b is a single bond, * - R c -, * - R c -O -, * - represents the R c -S- or * -R c -NH-.
R c represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* Represents a bond with O. ]
炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。
水素原子がヒドロキシで置換されたアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、2−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、1−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、4−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
Ra及びRbとしては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group.
Examples of the alkyl group having a hydrogen atom substituted with hydroxy include a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 1-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, a 3-hydroxypropyl group, and a 1-hydroxy group. Examples thereof include a 1-methylethyl group, a 2-hydroxy-1-methylethyl group, a 1-hydroxybutyl group, a 2-hydroxybutyl group, a 3-hydroxybutyl group and a 4-hydroxybutyl group.
R a and R b are preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group or a 2-hydroxyethyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,2−ジイル基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等が挙げられる。
Xa及びXbとしては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、*−CH2−O−及び*−CH2CH2−O−が挙げられ、より好ましくは単結合、*−CH2CH2−O−が挙げられる(*はOとの結合手を表す)。
Examples of the alkanediyl group include methylene group, ethylene group, propane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane- 1,6-diyl group and the like can be mentioned.
Examples of X a and X b include a single bond, a methylene group, an ethylene group, *—CH 2 —O— and *—CH 2 CH 2 —O—, and a more preferred single bond, *—CH 2 CH 2 —O— can be mentioned (* represents a bond with O).
式(I)で表される化合物としては、式(I−1)〜式(I−15)のいずれかで表される化合物等が挙げられる。中でも、式(I−1)、式(I−3)、式(I−5)、式(I−7)、式(I−9)又は式(I−11)〜式(I−15)で表される化合物が好ましく、式(I−1)、式(I−7)、式(I−9)又は式(I−15)で表される化合物がより好ましい。 Examples of the compound represented by the formula (I) include compounds represented by any of the formulas (I-1) to (I-15). Among them, formula (I-1), formula (I-3), formula (I-5), formula (I-7), formula (I-9) or formula (I-11) to formula (I-15). The compound represented by the formula (I-1), the formula (I-7), the formula (I-9) or the compound represented by the formula (I-15) is more preferable.
式(II)で表される化合物としては、式(II−1)〜式(II−15)のいずれかで表される化合物等が挙げられる。中でも、式(II−1)、式(II−3)、式(II−5)、式(II−7)、式(II−9)又は式(II−11)〜式(II−15)で表される化合物が好ましく、式(II−1)、式(II−7)、式(II−9)又は式(II−15)で表される化合物がより好ましい。 Examples of the compound represented by the formula (II) include compounds represented by any of the formulas (II-1) to (II-15). Among them, the formula (II-1), the formula (II-3), the formula (II-5), the formula (II-7), the formula (II-9) or the formula (II-11) to the formula (II-15). The compound represented by formula (II-1), formula (II-7), formula (II-9) or formula (II-15) is more preferable.
式(I)で表される化合物及び式(II)で表される化合物は、それぞれ単独で用いても、式(I)で表される化合物と式(II)で表される化合物とを併用してもよい。これらを併用する場合、式(I)で表される化合物及び式(II)で表される化合物の含有比率はモル基準で、好ましくは5:95〜95:5、より好ましくは10:90〜90:10、さらに好ましくは20:80〜80:20である。 The compound represented by the formula (I) and the compound represented by the formula (II) may be used alone or in combination with the compound represented by the formula (I) and the compound represented by the formula (II). You may. When these are used in combination, the content ratio of the compound represented by formula (I) and the compound represented by formula (II) is on a molar basis, preferably 5:95 to 95:5, more preferably 10:90 to. 90:10, and more preferably 20:80 to 80:20.
(b2)としては、オキセタニル基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。(b2)としては、3−メチル−3−メタクリルロイルオキシメチルオキセタン、3−メチル−3−アクリロイルオキシメチルオキセタン、3−エチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタン、3−エチル−3−アクリロイルオキシメチルオキセタン、3−メチル−3−メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3−メチル−3−アクリロイルオキシエチルオキセタン、3−エチル−3−メタクリロイルオキシエチルオキセタン、3−エチル−3−アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。 As (b2), a monomer having an oxetanyl group and a (meth)acryloyloxy group is more preferable. Examples of (b2) include 3-methyl-3-methacryloyloxymethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloyloxymethyl oxetane, 3-ethyl-3-methacryloyloxymethyl oxetane, 3-ethyl-3-acryloyloxymethyl oxetane. , 3-methyl-3-methacryloyloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloyloxyethyl oxetane, 3-ethyl-3-methacryloyloxyethyl oxetane, 3-ethyl-3-acryloyloxyethyl oxetane and the like.
(b3)としては、テトラヒドロフリル基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。(b3)としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート(例えば、ビスコートV#150、大阪有機化学工業(株)製)、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。 As (b3), a monomer having a tetrahydrofuryl group and a (meth)acryloyloxy group is more preferable. Specific examples of (b3) include tetrahydrofurfuryl acrylate (for example, Biscoat V#150, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), and tetrahydrofurfuryl methacrylate.
(b)としては、得られるカラーフィルタの耐熱性、耐薬品性等の信頼性をより高くすることができる点で、(b1)であることが好ましい。さらに、着色硬化性樹脂組成物の保存安定性が優れるという点で、(b1−2)がより好ましい。 It is preferable that (b1) is (b1) because the heat resistance and chemical resistance of the obtained color filter can be further improved. Furthermore, (b1-2) is more preferable in that the storage stability of the colored curable resin composition is excellent.
(c)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート(当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート」といわれている。また、「トリシクロデシル(メタ)アクリレート」という場合がある。)、トリシクロ[5.2.1.02,6]デセン−8−イル(メタ)アクリレート(当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート」といわれている。)、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、プロパルギル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類;
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル類;
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル;
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジヒドロキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(ヒドロキシメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジ(2’−ヒドロキシエチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジエトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシメチル−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−tert−ブトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−フェノキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ビス(tert−ブトキシカルボニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ビス(シクロヘキシルオキシカルボニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン等のビシクロ不飽和化合物類;
N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−(9−アクリジニル)マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類;
スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等が挙げられる。
これらのうち、共重合反応性及び耐熱性の点から、スチレン、ビニルトルエン、ベンジル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン等が好ましい。
Examples of (c) include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, tert-butyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth). Acrylate, dodecyl(meth)acrylate, lauryl(meth)acrylate, stearyl(meth)acrylate, cyclopentyl(meth)acrylate, cyclohexyl(meth)acrylate, 2-methylcyclohexyl(meth)acrylate, tricyclo[5.2.1.0]. 2,6 ]Decan-8-yl(meth)acrylate (in the art, it is referred to as “dicyclopentanyl(meth)acrylate” by a trivial name. In addition, in the case of “tricyclodecyl(meth)acrylate”, ,), tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decen-8-yl(meth)acrylate (known in the art as “dicyclopentenyl (meth)acrylate” as a trivial name). ), dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, allyl (meth)acrylate, propargyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, naphthyl (meth)acrylate, benzyl (Meth)acrylic acid esters such as (meth)acrylate;
Hydroxy group-containing (meth)acrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate;
Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate, and itaconic acid diethyl;
Bicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5- Hydroxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-hydroxymethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-(2'-hydroxyethyl)bicyclo[2.2.1]. Hept-2-ene, 5-methoxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo[2.2] .1] hept-2-ene, 5,6-di(hydroxymethyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5,6-di(2'-hydroxyethyl)bicyclo[2.2. 1] hept-2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-hydroxy -5-methylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-hydroxy-5-ethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo[2 2.1] hept-2-ene, 5-tert-butoxycarbonylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5-phenoxycarbonylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5,6-bis(tert-butoxycarbonyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene, 5,6-bis(cyclohexyl) Bicyclo unsaturated compounds such as oxycarbonyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene;
N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimidobenzoate, N-succinimidyl-4-maleimidobutyrate, N-succinimidyl-6-maleimidocaproate, N-succinimidyl-3 -Dicarbonylimide derivatives such as maleimide propionate and N-(9-acridinyl)maleimide;
Styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate, 1,3-butadiene. , Isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene and the like.
Of these, styrene, vinyltoluene, benzyl(meth)acrylate, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decan-8-yl(meth)acrylate, N from the viewpoint of copolymerization reactivity and heat resistance. -Phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, bicyclo[2.2.1]hept-2-ene and the like are preferable.
樹脂[K1]において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂[K1]を構成する全構造単位中、
(a)に由来する構造単位;2〜60モル%
(b)に由来する構造単位;40〜98モル%
であることが好ましく、
(a)に由来する構造単位;10〜50モル%
(b)に由来する構造単位;50〜90モル%
であることがより好ましい。
樹脂[K1]の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、着色硬化性樹脂組成物の保存安定性、着色パターンを形成する際の現像性、及び得られるカラーフィルタの耐溶剤性に優れる傾向がある。
In the resin [K1], the ratio of the structural units derived from each is such that in all the structural units constituting the resin [K1],
Structural unit derived from (a); 2 to 60 mol%
Structural unit derived from (b); 40 to 98 mol%
Is preferred,
Structural unit derived from (a); 10 to 50 mol%
Structural unit derived from (b); 50 to 90 mol%
Is more preferable.
When the ratio of the structural unit of the resin [K1] is within the above range, the storage stability of the colored curable resin composition, the developability when forming a colored pattern, and the solvent resistance of the obtained color filter are excellent. Tend.
樹脂[K1]は、例えば、文献「高分子合成の実験法」(大津隆行著 発行所(株)化学同人 第1版第1刷 1972年3月1日発行)に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。 The resin [K1] can be obtained, for example, by the method described in the document “Experimental Method for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu, Kagaku Dojin, 1st edition, 1st edition, published on March 1, 1972) and the document. It can be manufactured by referring to the cited document described in.
具体的には、(a)及び(b)の所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が挙げられる。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているものを使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物(2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等)や有機過酸化物(ベンゾイルペルオキシド等)が挙げられ、溶剤としては、各モノマーを溶解するものであればよく、本発明の着色硬化性樹脂組成物の溶剤(E)として後述する溶剤等が挙げられる。 Specifically, a predetermined amount of (a) and (b), a polymerization initiator, a solvent and the like are placed in a reaction vessel, and oxygen is replaced by, for example, nitrogen to create a deoxygenated atmosphere, while stirring, The method of heating and keeping warm is mentioned. The polymerization initiator, solvent and the like used here are not particularly limited, and those generally used in the relevant field can be used. For example, as a polymerization initiator, an azo compound (2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) or the like) or an organic peroxide (benzoyl peroxide or the like) The solvent may be any solvent that can dissolve each monomer, and examples thereof include the solvent described below as the solvent (E) of the colored curable resin composition of the present invention.
なお、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体(粉体)として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、本発明の着色硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤を使用することにより、反応後の溶液をそのまま本発明の着色硬化性樹脂組成物の調製に使用することができるため、本発明の着色硬化性樹脂組成物の製造工程を簡略化することができる。 The obtained copolymer may be used as the solution after the reaction as it is, or may be used as a concentrated or diluted solution, or taken out as a solid (powder) by a method such as reprecipitation. You may use the thing. In particular, by using the solvent contained in the colored curable resin composition of the present invention as a solvent during this polymerization, the solution after the reaction can be used as it is for the preparation of the colored curable resin composition of the present invention. Therefore, the manufacturing process of the colored curable resin composition of the present invention can be simplified.
樹脂[K2]において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂[K2]を構成する全構造単位中、
(a)に由来する構造単位;2〜45モル%
(b)に由来する構造単位;2〜95モル%
(c)に由来する構造単位;1〜65モル%
であることが好ましく、
(a)に由来する構造単位;5〜40モル%
(b)に由来する構造単位;5〜80モル%
(c)に由来する構造単位;5〜60モル%
であることがより好ましい。
樹脂[K2]の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、着色硬化性樹脂組成物の保存安定性、着色パターンを形成する際の現像性、並びに、得られるカラーフィルタの耐溶剤性、耐熱性及び機械強度に優れる傾向がある。
In the resin [K2], the ratio of the structural units derived from each is such that in all the structural units constituting the resin [K2],
Structural unit derived from (a); 2-45 mol%
Structural unit derived from (b): 2-95 mol%
Structural unit derived from (c): 1 to 65 mol%
Is preferred,
Structural unit derived from (a); 5 to 40 mol%
Structural unit derived from (b); 5 to 80 mol%
Structural unit derived from (c); 5 to 60 mol%
Is more preferable.
When the ratio of the structural unit of the resin [K2] is within the above range, the storage stability of the colored curable resin composition, the developability when forming a colored pattern, and the solvent resistance of the obtained color filter, It tends to have excellent heat resistance and mechanical strength.
樹脂[K2]は、例えば、樹脂[K1]の製造方法として記載した方法と同様に製造することができる。 The resin [K2] can be produced, for example, in the same manner as the method described as the method for producing the resin [K1].
樹脂[K3]において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂[K3]を構成する全構造単位中、
(a)に由来する構造単位;2〜60モル%
(c)に由来する構造単位;40〜98モル%
であることが好ましく、
(a)に由来する構造単位;10〜50モル%
(c)に由来する構造単位;50〜90モル%
であることがより好ましい。
樹脂[K3]は、例えば、樹脂[K1]の製造方法として記載した方法と同様に製造することができる。
In the resin [K3], the ratio of the structural units derived from each is such that in all the structural units constituting the resin [K3],
Structural unit derived from (a); 2 to 60 mol%
Structural unit derived from (c); 40 to 98 mol%
Is preferred,
Structural unit derived from (a); 10 to 50 mol%
Structural unit derived from (c); 50 to 90 mol%
Is more preferable.
The resin [K3] can be produced, for example, in the same manner as the method described as the method for producing the resin [K1].
樹脂[K4]は、(a)と(c)との共重合体を得て、(b)が有する炭素数2〜4の環状エーテルを(a)が有するカルボン酸及び/又はカルボン酸無水物に付加させることにより製造することができる。
まず(a)と(c)との共重合体を、樹脂[K1]の製造方法として記載した方法と同様に製造する。この場合、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂[K3]で挙げたものと同じ比率であることが好ましい。
The resin [K4] is a carboxylic acid and/or carboxylic anhydride obtained by obtaining a copolymer of (a) and (c) and having a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms in (b). It can be manufactured by adding to.
First, the copolymer of (a) and (c) is produced in the same manner as the method described as the method of producing the resin [K1]. In this case, it is preferable that the ratio of the structural units derived from each is the same as that of the resin [K3].
次に、前記共重合体中の(a)に由来するカルボン酸及び/又はカルボン酸無水物の一部に、(b)が有する炭素数2〜4の環状エーテルを反応させる。
(a)と(c)との共重合体の製造に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、(b)、カルボン酸又はカルボン酸無水物と環状エーテルとの反応触媒(例えばトリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等)及び重合禁止剤(例えばハイドロキノン等)等をフラスコ内に入れて、例えば、60〜130℃で、1〜10時間反応することにより、樹脂[K4]を製造することができる。
(b)の使用量は、(a)100モルに対して、5〜80モルが好ましく、より好ましくは10〜75モルである。この範囲にすることにより、着色硬化性樹脂組成物の保存安定性、パターンを形成する際の現像性、並びに、得られるパターンの耐溶剤性、耐熱性、機械強度及び感度のバランスが良好になる傾向がある。環状エーテルの反応性が高く、未反応の(b)が残存しにくいことから、樹脂[K4]に用いる(b)としては(b1)が好ましく、さらに(b1−1)が好ましい。
前記反応触媒の使用量は、(a)、(b)及び(c)の合計量100質量部に対して0.001〜5質量部が好ましい。前記重合禁止剤の使用量は、(a)、(b)及び(c)の合計量100質量部に対して0.001〜5質量部が好ましい。
仕込方法、反応温度及び時間等の反応条件は、製造設備や重合による発熱量等を考慮して適宜調整することができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。
Next, a part of the carboxylic acid and/or carboxylic acid anhydride derived from (a) in the copolymer is reacted with a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms contained in (b).
Subsequent to the production of the copolymer of (a) and (c), the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and (b) the reaction catalyst of the carboxylic acid or carboxylic acid anhydride and the cyclic ether (for example, tris( Resin [K4] can be produced by placing (dimethylaminomethyl)phenol etc.) and a polymerization inhibitor (eg hydroquinone etc.) in a flask and reacting at 60 to 130° C. for 1 to 10 hours. it can.
The amount of (b) used is preferably 5 to 80 mol, and more preferably 10 to 75 mol, based on 100 mol of (a). By setting it in this range, the storage stability of the colored curable resin composition, the developability in forming a pattern, and the solvent resistance, heat resistance, mechanical strength and sensitivity of the obtained pattern are well balanced. Tend. Since the cyclic ether has high reactivity and unreacted (b) hardly remains, (b1) is preferable as the (b) used in the resin [K4], and further (b1-1) is more preferable.
The amount of the reaction catalyst used is preferably 0.001 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of (a), (b) and (c). The amount of the polymerization inhibitor used is preferably 0.001 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of (a), (b) and (c).
Reaction conditions such as a charging method, a reaction temperature and a time can be appropriately adjusted in consideration of the production equipment, the amount of heat generated by the polymerization and the like. As with the polymerization conditions, the charging method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the production equipment and the amount of heat generated by the polymerization.
樹脂[K5]は、第一段階として、上述した樹脂[K1]の製造方法と同様にして、(b)と(c)との共重合体を得る。上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体(粉体)として取り出したものを使用してもよい。
(b)及び(c)に由来する構造単位の比率は、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、それぞれ、
(b)に由来する構造単位;5〜95モル%
(c)に由来する構造単位;5〜95モル%
であることが好ましく、
(b)に由来する構造単位;10〜90モル%
(c)に由来する構造単位;10〜90モル%
であることがより好ましい。
As the resin [K5], in the first step, a copolymer of (b) and (c) is obtained in the same manner as in the method for producing the resin [K1] described above. Similarly to the above, the obtained copolymer may be used as it is after the reaction, or may be used as a concentrated or diluted solution, or as a solid (powder) by a method such as reprecipitation. You may use what was taken out as.
The ratios of the structural units derived from (b) and (c) are, respectively, with respect to the total number of moles of all the structural units constituting the copolymer.
Structural unit derived from (b); 5-95 mol%
Structural unit derived from (c); 5-95 mol%
Is preferred,
Structural unit derived from (b); 10 to 90 mol%
Structural unit derived from (c): 10 to 90 mol%
Is more preferable.
さらに、樹脂[K4]の製造方法と同様の条件で、(b)と(c)との共重合体が有する(b)に由来する環状エーテルに、(a)が有するカルボン酸又はカルボン酸無水物を反応させることにより、樹脂[K5]を得ることができる。
前記の共重合体に反応させる(a)の使用量は、(b)100モルに対して、5〜80モルが好ましい。環状エーテルの反応性が高く、未反応の(b)が残存しにくいことから、樹脂[K5]に用いる(b)としては(b1)が好ましく、さらに(b1−1)が好ましい。
Furthermore, under the same conditions as in the method for producing the resin [K4], the carboxylic acid or carboxylic acid anhydride contained in (a) is added to the cyclic ether derived from (b) in the copolymer of (b) and (c). The resin [K5] can be obtained by reacting the substances.
The amount of (a) used to react with the above copolymer is preferably 5 to 80 mol per 100 mol of (b). Since the cyclic ether has high reactivity and the unreacted (b) hardly remains, (b1) is preferable as the (b) used in the resin [K5], and further (b1-1) is preferable.
樹脂[K6]は、樹脂[K5]に、さらにカルボン酸無水物を反応させた樹脂である。環状エーテルとカルボン酸又はカルボン酸無水物との反応により発生するヒドロキシ基に、カルボン酸無水物を反応させる。
カルボン酸無水物としては、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、3−ビニルフタル酸無水物、4−ビニルフタル酸無水物、3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸無水物、1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン無水物等が挙げられる。カルボン酸無水物の使用量は、(a)の使用量1モルに対して、0.5〜1モルが好ましい。
The resin [K6] is a resin obtained by further reacting the resin [K5] with a carboxylic acid anhydride. The hydroxy group generated by the reaction between the cyclic ether and the carboxylic acid or the carboxylic acid anhydride is reacted with the carboxylic acid anhydride.
Examples of the carboxylic acid anhydride include maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1 , 2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 5,6-dicarboxybicyclo[2.2.1]hept-2-ene anhydride and the like. The amount of the carboxylic acid anhydride used is preferably 0.5 to 1 mol per 1 mol of the amount used of (a).
樹脂(B)としては、具体的に、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デシル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体等の樹脂[K1];グリシジル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、グリシジル(メタ)アクリレート/スチレン/(メタ)アクリル酸共重合体、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デシル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/N−シクロヘキシルマレイミド共重合体、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デシル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/ビニルトルエン共重合体、3−メチル−3−(メタ)アクリルロイルオキシメチルオキセタン/(メタ)アクリル酸/スチレン共重合体等の樹脂[K2];ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン/(メタ)アクリル酸共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/トリシクロデシル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、等の樹脂[K3];ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体にグリシジル(メタ)アクリレートを付加させた樹脂、トリシクロデシル(メタ)アクリレート/スチレン/(メタ)アクリル酸共重合体にグリシジル(メタ)アクリレートを付加させた樹脂、トリシクロデシル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体にグリシジル(メタ)アクリレートを付加させた樹脂等の樹脂[K4];トリシクロデシル(メタ)アクリレート/グリシジル(メタ)アクリレートの共重合体に(メタ)アクリル酸を反応させた樹脂、トリシクロデシル(メタ)アクリレート/スチレン/グリシジル(メタ)アクリレートの共重合体に(メタ)アクリル酸を反応させた樹脂等の樹脂[K5];トリシクロデシル(メタ)アクリレート/グリシジル(メタ)アクリレートの共重合体に(メタ)アクリル酸を反応させた樹脂にさらにテトラヒドロフタル酸無水物を反応させた樹脂等の樹脂[K6]等が挙げられる。 Specific examples of the resin (B) include 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer and 3,4-epoxytricyclo[5.2.1.0 2,6 ] Resin [K1] such as decyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer; glycidyl (meth)acrylate/benzyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer, glycidyl (meth)acrylate/styrene /(Meth)acrylic acid copolymer, 3,4-epoxytricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid/N-cyclohexylmaleimide copolymer, 3 , 4-epoxytricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid/vinyltoluene copolymer, 3-methyl-3-(meth)acryloyloxymethyloxetane /Resin [K2] such as (meth)acrylic acid/styrene copolymer; benzyl(meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer, styrene/(meth)acrylic acid copolymer, benzyl(meth)acrylate/ Resin [K3] such as tricyclodecyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer; resin obtained by adding glycidyl (meth)acrylate to benzyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer, Resin prepared by adding glycidyl (meth)acrylate to tricyclodecyl (meth)acrylate/styrene/(meth)acrylic acid copolymer, tricyclodecyl (meth)acrylate/benzyl (meth)acrylate/(meth)acrylic acid copolymer Resin [K4] such as a resin obtained by adding glycidyl (meth)acrylate to a polymer; a resin obtained by reacting a copolymer of tricyclodecyl (meth)acrylate/glycidyl (meth)acrylate with (meth)acrylic acid, tri A resin [K5] such as a resin obtained by reacting a copolymer of cyclodecyl (meth)acrylate/styrene/glycidyl (meth)acrylate with (meth)acrylic acid; of tricyclodecyl (meth)acrylate/glycidyl (meth)acrylate Examples of the resin include a resin [K6] such as a resin obtained by reacting a copolymer with (meth)acrylic acid and tetrahydrophthalic anhydride.
樹脂(B)は、好ましくは、樹脂[K1]、樹脂[K2]及び樹脂[K3]からなる群から選ばれる一種であり、より好ましくは、樹脂[K2]及び樹脂[K3]からなる群から選ばれる一種である。これらの樹脂であると着色硬化性樹脂組成物は現像性に優れる。着色パターンと基板との密着性の観点で、樹脂[K2]がさらに好ましい。 The resin (B) is preferably one selected from the group consisting of resin [K1], resin [K2] and resin [K3], and more preferably from the group consisting of resin [K2] and resin [K3]. It is a kind of choice. With these resins, the colored curable resin composition has excellent developability. The resin [K2] is more preferable from the viewpoint of adhesion between the colored pattern and the substrate.
樹脂(B)のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常3,000〜100,000であり、好ましくは5,000〜50,000であり、より好ましくは5,000〜35,000であり、さらに好ましくは5,000〜30,000であり、特に好ましくは6,000〜30,000である。分子量が前記の範囲にあると、塗膜硬度が向上し、残膜率も高く、未露光部の現像液に対する溶解性が良好で、着色パターンの解像度が向上する傾向がある。
樹脂(B)の分子量分布[重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)]は、好ましくは1.1〜6であり、より好ましくは1.2〜4である。
The weight average molecular weight of the resin (B) in terms of polystyrene is usually 3,000 to 100,000, preferably 5,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 35,000, and It is preferably 5,000 to 30,000, and particularly preferably 6,000 to 30,000. When the molecular weight is in the above range, the coating film hardness is improved, the residual film ratio is high, the solubility of the unexposed area in the developing solution is good, and the resolution of the colored pattern tends to be improved.
The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)] of the resin (B) is preferably 1.1 to 6, and more preferably 1.2 to 4.
樹脂(B)の酸価は、通常20mg−KOH/g〜170mg−KOH/gであり、好ましくは30mg−KOH/g〜170mg−KOH/gであり、より好ましくは40mg−KOH/g〜170mg−KOH/gであり、さらに好ましくは50mg−KOH/g〜170mg−KOH/gである。中でも50mg−KOH/g〜150mg−KOH/gが好ましく、60mg−KOH/g〜150mg−KOH/gがより好ましく、60mg−KOH/g〜135mg−KOH/gがさらに好ましく、70mg−KOH/g〜135mg−KOH/gが特に好ましい。ここで酸価は樹脂(B)1gを中和するに必要な水酸化カリウムの量(mg)として測定される値であり、例えば水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。 The acid value of the resin (B) is usually 20 mg-KOH/g to 170 mg-KOH/g, preferably 30 mg-KOH/g to 170 mg-KOH/g, and more preferably 40 mg-KOH/g to 170 mg. -KOH/g, more preferably 50 mg-KOH/g to 170 mg-KOH/g. Among them, 50 mg-KOH/g to 150 mg-KOH/g is preferable, 60 mg-KOH/g to 150 mg-KOH/g is more preferable, 60 mg-KOH/g to 135 mg-KOH/g is further preferable, 70 mg-KOH/g. ~135 mg-KOH/g is particularly preferred. Here, the acid value is a value measured as an amount (mg) of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the resin (B), and can be determined by, for example, titration using an aqueous potassium hydroxide solution.
樹脂(B)の含有量は、固形分の総量に対して、好ましくは7質量%〜65質量%であり、より好ましくは10質量%〜60質量%であり、さらに好ましくは13質量%〜60質量%であり、特に好ましくは17質量%〜55質量%である。樹脂(B)の含有量が、前記の範囲にあると、着色パターン形成が容易であり、また着色パターンの解像度及び残膜率が向上する傾向がある。 The content of the resin (B) is preferably 7% by mass to 65% by mass, more preferably 10% by mass to 60% by mass, and further preferably 13% by mass to 60% with respect to the total amount of the solid content. %, and particularly preferably 17% to 55% by mass. When the content of the resin (B) is within the above range, the colored pattern can be easily formed, and the resolution of the colored pattern and the residual film rate tend to be improved.
<重合性化合物(C)>
重合性化合物(C)は、重合開始剤(D)から発生した活性ラジカル及び/又は酸によって重合しうる化合物であり、例えば、重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物等が挙げられ、好ましくは(メタ)アクリル酸エステル化合物である。
<Polymerizable compound (C)>
The polymerizable compound (C) is a compound that can be polymerized by an active radical and/or an acid generated from the polymerization initiator (D), and examples thereof include a compound having a polymerizable ethylenic unsaturated bond, and the like. Is a (meth)acrylic acid ester compound.
エチレン性不飽和結合を1つ有する重合性化合物としては、例えば、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビニルピロリドン等、並びに、上述の(a)、(a)及び(c)が挙げられる。 Examples of the polymerizable compound having one ethylenically unsaturated bond include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and N-vinylpyrrolidone. Etc., and the above-mentioned (a), (a) and (c).
エチレン性不飽和結合を2つ有する重合性化合物としては、例えば、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイロキシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the polymerizable compound having two ethylenically unsaturated bonds include 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di. Examples thereof include (meth)acrylate, bis(acryloyloxyethyl)ether of bisphenol A, and 3-methylpentanediol di(meth)acrylate.
中でも、重合性化合物(C)は、エチレン性不飽和結合を3つ以上有する重合性化合物であることが好ましい。このような重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ(メタ)アクリレート、トリス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
中でも、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。
Among them, the polymerizable compound (C) is preferably a polymerizable compound having three or more ethylenically unsaturated bonds. Examples of such a polymerizable compound include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa( (Meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tripentaerythritol hepta(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, tetrapentaerythritol nona(meth)acrylate, tris(2-(meth)acryloyloxyethyl ) Isocyanurate, ethylene glycol modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ethylene glycol modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, propylene glycol modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, propylene glycol modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, Examples thereof include caprolactone-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.
Among them, dipentaerythritol penta(meth)acrylate and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate are preferable.
重合性化合物(C)の重量平均分子量は、好ましくは150以上2,900以下、より好ましくは250以上1,500以下である。 The weight average molecular weight of the polymerizable compound (C) is preferably 150 or more and 2,900 or less, more preferably 250 or more and 1,500 or less.
重合性化合物(C)の含有量は、固形分の総量に対して、1〜70質量%であることが好ましく、その中でも2〜65質量%であることが好ましく、その中でも5〜65質量%であることが好ましく、7〜65質量%であることが好ましく、その中でもより好ましくは10〜60質量%であり、より好ましくは13〜60質量%であり、さらに好ましくは17〜55質量%である。
また、樹脂(B)と重合性化合物(C)との含有量比〔樹脂(B):重合性化合物(C)〕は質量基準で、好ましくは20:80〜80:20であり、より好ましくは35:65〜80:20である。
重合性化合物(C)の含有量が、前記の範囲内にあると、着色パターン形成時の残膜率及びカラーフィルタの耐薬品性が向上する傾向がある。
The content of the polymerizable compound (C) is preferably 1 to 70% by mass, more preferably 2 to 65% by mass, and still more preferably 5 to 65% by mass with respect to the total amount of the solid content. Is preferable, 7 to 65 mass% is preferable, and among them, 10 to 60 mass% is more preferable, 13 to 60 mass% is more preferable, and 17 to 55 mass% is more preferable. is there.
The content ratio [resin (B):polymerizable compound (C)] of the resin (B) and the polymerizable compound (C) is on a mass basis, preferably 20:80 to 80:20, and more preferably Is 35:65 to 80:20.
When the content of the polymerizable compound (C) is within the above range, the residual film rate at the time of forming a colored pattern and the chemical resistance of the color filter tend to be improved.
<重合開始剤(D)>
重合開始剤(D)は、光や熱の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤(D)としては、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、O−アシルオキシム化合物及びビイミダゾール化合物等が挙げられる。
<Polymerization initiator (D)>
The polymerization initiator (D) is not particularly limited as long as it is a compound capable of generating an active radical, an acid or the like by the action of light or heat and initiating polymerization, and a known polymerization initiator can be used.
Examples of the polymerization initiator (D) include an alkylphenone compound, a triazine compound, an acylphosphine oxide compound, an O-acyl oxime compound and a biimidazole compound.
O−アシルオキシム化合物は、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)ブタン−1−オン−2−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)−3−シクロペンチルプロパン−1−オン−2−イミン、N−アセトキシ−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタン−1−イミン、N−アセトキシ−1−[9−エチル−6−{2−メチル−4−(3,3−ジメチル−2,4−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ)ベンゾイル}−9H−カルバゾール−3−イル]エタン−1−イミン、N−アセトキシ−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−3−シクロペンチルプロパン−1−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−3−シクロペンチルプロパン−1−オン−2−イミン等が挙げられる。イルガキュアOXE01、OXE02(以上、BASF社製)、N−1919(ADEKA社製)等の市販品を用いてもよい。中でも、O−アシルオキシム化合物は、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)ブタン−1−オン−2−イミン、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン及びN−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)−3−シクロペンチルプロパン−1−オン−2−イミンからなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましく、N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミンがより好ましい。 O-acyl oxime compounds include N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)butan-1-one-2-imine, N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)octane-1-one. 2-imine, N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)-3-cyclopentylpropan-1-one-2-imine, N-acetoxy-1-[9-ethyl-6-(2-methyl Benzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethane-1-imine, N-acetoxy-1-[9-ethyl-6-{2-methyl-4-(3,3-dimethyl-2,4-dioxa Cyclopentanylmethyloxy)benzoyl}-9H-carbazol-3-yl]ethane-1-imine, N-acetoxy-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl ]-3-Cyclopentylpropan-1-imine, N-benzoyloxy-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-3-cyclopentylpropan-1-one- 2-imine and the like can be mentioned. Commercially available products such as Irgacure OXE01, OXE02 (all manufactured by BASF) and N-1919 (manufactured by ADEKA) may be used. Among them, the O-acyl oxime compound is N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)butan-1-one-2-imine, N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)octane-1. At least one selected from the group consisting of -on-2-imine and N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)-3-cyclopentylpropan-1-one-2-imine, and N-benzoyloxy More preferred is -1-(4-phenylsulfanylphenyl)octan-1-one-2-imine.
アルキルフェノン化合物は、2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチルスルファニルフェニル)プロパン−1−オン、2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−2−ベンジルブタン−1−オン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕プロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−イソプロペニルフェニル)プロパン−1−オンのオリゴマー、α,α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、イルガキュア369、907、379(以上、BASF社製)等が挙げられる。 The alkylphenone compounds include 2-methyl-2-morpholino-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-one and 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-2-benzylbutan-1-one. , 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane -1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-( An oligomer of 4-isopropenylphenyl)propan-1-one, α,α-diethoxyacetophenone, benzyl dimethyl ketal, Irgacure 369, 907, 379 (all manufactured by BASF) and the like can be mentioned.
ビイミダゾール化合物は、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール(例えば、特開平6−75372号公報、特開平6−75373号公報等参照。)、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(アルコキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(ジアルコキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(トリアルコキシフェニル)ビイミダゾール(例えば、特公昭48−38403号公報、特開昭62−174204号公報等参照。)、4,4’5,5’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物(例えば、特開平7−10913号公報等参照)等が挙げられる。中でも、下記式で表される化合物及びこれらの混合物が好ましい。 The biimidazole compound includes 2,2′-bis(2-chlorophenyl)-4,4′,5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4′. , 5,5'-Tetraphenylbiimidazole (see, for example, JP-A-6-75372 and JP-A-6-75373), 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4', 5,5′-Tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis(2-chlorophenyl)-4,4′,5,5′-tetra(alkoxyphenyl)biimidazole, 2,2′-bis(2-chlorophenyl) )-4,4',5,5'-Tetra(dialkoxyphenyl)biimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(trialkoxyphenyl)bi Imidazole (see, for example, JP-B-48-38403, JP-A-62-174204, etc.), an imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4'5,5'-position is substituted with a carbalkoxy group ( For example, refer to JP-A-7-10913). Among them, compounds represented by the following formula and mixtures thereof are preferable.
トリアジン化合物としては、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ピペロニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(フラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。 Examples of the triazine compound include 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine and 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxynaphthyl). -1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)- 1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis( Trichloromethyl)-6-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino-2-methyl) Phenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine and the like can be mentioned. ..
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。 Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
さらに重合開始剤(D)としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物;ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物;9,10−フェナンスレンキノン、2−エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物;10−ブチル−2−クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤(D1)(特にアミン類)と組み合わせて用いることが好ましい。 Further, as the polymerization initiator (D), benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl- Benzophenone compounds such as 4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3′,4,4′-tetra(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone and 2,4,6-trimethylbenzophenone; 9,10-phenanthrenequinone, Quinone compounds such as 2-ethylanthraquinone and camphorquinone; 10-butyl-2-chloroacridone, benzyl, methyl phenylglyoxylate, titanocene compounds and the like. These are preferably used in combination with the below-mentioned polymerization initiation aid (D1) (particularly amines).
重合開始剤(D)は、好ましくは、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、O−アシルオキシム化合物及びビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む重合開始剤であり、より好ましくは、O−アシルオキシム化合物を含む重合開始剤である。 The polymerization initiator (D) is preferably a polymerization initiator containing at least one selected from the group consisting of alkylphenone compounds, triazine compounds, acylphosphine oxide compounds, O-acyl oxime compounds and biimidazole compounds, and more preferably Is a polymerization initiator containing an O-acyl oxime compound.
重合開始剤(D)の含有量は、樹脂(B)及び重合性化合物(C)の合計量100質量部に対して、好ましくは0.1〜40質量部であり、その中でも好ましくは0.1〜30質量部であり、より好ましくは1〜30質量部である。 The content of the polymerization initiator (D) is preferably 0.1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin (B) and the polymerizable compound (C), and among them, preferably 0. The amount is 1 to 30 parts by mass, and more preferably 1 to 30 parts by mass.
<重合開始助剤(D1)>
重合開始助剤(D1)は、重合開始剤によって重合が開始された重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。重合開始助剤(D1)を含む場合、通常、重合開始剤(D)と組み合わせて用いられる。
重合開始助剤(D1)としては、アミン化合物、アルコキシアントラセン化合物、チオキサントン化合物及びカルボン酸化合物等が挙げられる。
<Polymerization initiation aid (D1)>
The polymerization initiation aid (D1) is a compound or a sensitizer used for promoting the polymerization of the polymerizable compound whose polymerization is initiated by the polymerization initiator. When the polymerization initiator auxiliary agent (D1) is contained, it is usually used in combination with the polymerization initiator (D).
Examples of the polymerization initiation aid (D1) include amine compounds, alkoxyanthracene compounds, thioxanthone compounds and carboxylic acid compounds.
アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称ミヒラーズケトン)、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(エチルメチルアミノ)ベンゾフェノン等が挙げられ、中でも4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。EAB−F(保土谷化学工業(株)製)等の市販品を用いてもよい。 As the amine compound, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, 4- 2-Ethylhexyl dimethylaminobenzoate, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis(dimethylamino)benzophenone (commonly called Michler's ketone), 4,4′-bis(diethylamino)benzophenone, 4,4′-bis( Examples thereof include ethylmethylamino)benzophenone, and among them, 4,4′-bis(diethylamino)benzophenone is preferable. You may use commercial items, such as EAB-F (made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.).
アルコキシアントラセン化合物としては、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセン、9,10−ジブトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジブトキシアントラセン等が挙げられる。 Examples of the alkoxyanthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene and 9,10-dibutoxy. Examples thereof include anthracene and 2-ethyl-9,10-dibutoxyanthracene.
チオキサントン化合物としては、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。 Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone and the like.
カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、N−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、N−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等が挙げられる。 As the carboxylic acid compound, phenylsulfanyl acetic acid, methylphenylsulfanyl acetic acid, ethylphenylsulfanyl acetic acid, methylethylphenylsulfanyl acetic acid, dimethylphenylsulfanyl acetic acid, methoxyphenylsulfanyl acetic acid, dimethoxyphenylsulfanyl acetic acid, chlorophenylsulfanyl acetic acid, dichlorophenylsulfanyl acetic acid, N -Phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid and the like can be mentioned.
これらの重合開始助剤(D1)を用いる場合、その含有量は、樹脂(B)及び重合性化合物(C)の合計量100質量部に対して、好ましくは0.1〜30質量部、より好ましくは1〜20質量部である。重合開始助剤(D1)の量がこの範囲内にあると、さらに高感度で着色パターンを形成することができ、カラーフィルタの生産性が向上する傾向にある。 When these polymerization initiation aids (D1) are used, the content thereof is preferably 0.1 to 30 parts by mass, and more preferably 100 parts by mass of the total amount of the resin (B) and the polymerizable compound (C). It is preferably 1 to 20 parts by mass. When the amount of the polymerization initiation aid (D1) is within this range, a colored pattern can be formed with higher sensitivity, and the productivity of the color filter tends to be improved.
<溶剤(E)>
溶剤(E)は、特に限定されず、当該分野で通常使用される溶剤を用いることができる。例えば、エステル溶剤(分子内に−COO−を含み、−O−を含まない溶剤)、エーテル溶剤(分子内に−O−を含み、−COO−を含まない溶剤)、エーテルエステル溶剤(分子内に−COO−と−O−とを含む溶剤)、ケトン溶剤(分子内に−CO−を含み、−COO−を含まない溶剤)、アルコール溶剤(分子内にOHを含み、−O−、−CO−及び−COO−を含まない溶剤)、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
<Solvent (E)>
The solvent (E) is not particularly limited, and a solvent usually used in this field can be used. For example, ester solvent (solvent containing -COO- in the molecule and not containing -O-), ether solvent (solvent containing -O- in the molecule, not containing -COO-), ether ester solvent (intramolecular) A solvent containing -COO- and -O-), a ketone solvent (a solvent containing -CO- in the molecule and not containing -COO-), an alcohol solvent (containing OH in the molecule, -O-,- CO- and -COO--free solvents), aromatic hydrocarbon solvents, amide solvents, dimethyl sulfoxide and the like.
エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、2−ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。 As the ester solvent, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 2-hydroxyisobutanoate, ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl formate, isopentyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate. , Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, cyclohexanol acetate, γ-butyrolactone and the like.
エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソール等が挙げられる。 As the ether solvent, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl Examples thereof include ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, anisole, phenetole, and methylanisole.
エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が挙げられる。 Examples of ether ester solvents include methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, and 3-ethoxy. Ethyl propionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, Ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl Examples thereof include ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate and dipropylene glycol methyl ether acetate.
ケトン溶剤としては、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、アセトン、2−ブタノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、4−メチル−2−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。 As the ketone solvent, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclopentanone, cyclohexanone, isophorone Etc.
アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等が挙げられる。
芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等が挙げられる。
アミド溶剤としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられる。
Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin and the like.
Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene and the like.
Examples of the amide solvent include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.
これらの溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。
中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、3−メトキシブチルアセテート、3−メトキシ−1−ブタノール、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等が好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メトキシ−1−ブタノール、3−エトキシプロピオン酸エチル、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等がより好ましい。
These solvents may be used alone or in combination of two or more.
Among them, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, 3-methoxybutyl acetate, 3- Methoxy-1-butanol, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, N,N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like are preferred, and propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, di Propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methoxy-1-butanol, ethyl 3-ethoxypropionate, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, N,N-dimethylformamide, N -Methylpyrrolidone and the like are more preferable.
溶剤(E)の含有量は、着色硬化性樹脂組成物の総量に対して、好ましくは70〜95質量%であり、より好ましくは75〜92質量%である。言い換えると、着色硬化性樹脂組成物の固形分は、好ましくは5〜30質量%、より好ましくは8〜25質量%である。
溶剤(E)の含有量が前記の範囲にあると、塗布時の平坦性が良好になり、またカラーフィルタを形成した際に色濃度が不足しないために表示特性が良好となる傾向がある。
The content of the solvent (E) is preferably 70 to 95% by mass, and more preferably 75 to 92% by mass, based on the total amount of the colored curable resin composition. In other words, the solid content of the colored curable resin composition is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 8 to 25% by mass.
When the content of the solvent (E) is within the above range, the flatness at the time of coating becomes good, and the color density does not become insufficient when a color filter is formed, so that the display characteristics tend to be good.
<レベリング剤(F)>
レベリング剤(F)としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。
シリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンDC3PA、同SH7PA、同DC11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、同SH8400(商品名:東レ・ダウコーニング(株)製)、KP321、KP322、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341(信越化学工業(株)製)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF−4446、TSF4452及びTSF4460(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製)等が挙げられる。
<Leveling agent (F)>
Examples of the leveling agent (F) include silicone-based surfactants, fluorine-based surfactants, and silicone-based surfactants having a fluorine atom. These may have a polymerizable group in the side chain.
Examples of silicone-based surfactants include surfactants having a siloxane bond in the molecule. Specifically, Toray silicone DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH21PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, SH8400 (trade name: manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP322, KP323, KP324. , KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452 and TSF4460 (manufactured by Momentive Performance Materials Japan LLC) and the like. Can be mentioned.
フッ素系界面活性剤としては、分子内にフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、フロラード(登録商標)FC430、同FC431(住友スリーエム(株)製)、メガファック(登録商標)F142D、同F171、同F172、同F173、同F177、同F183、同F554、同R30、同RS−718−K(DIC(株)製)、エフトップ(登録商標)EF301、同EF303、同EF351、同EF352(三菱マテリアル電子化成(株)製)、サーフロン(登録商標)S381、同S382、同SC101、同SC105(旭硝子(株)製)及びE5844((株)ダイキンファインケミカル研究所製)等が挙げられる。 Examples of the fluorine-based surfactant include surfactants having a fluorocarbon chain in the molecule. Specifically, Florade (registered trademark) FC430, FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Limited), Megafac (registered trademark) F142D, F171, F172, F173, F177, F183, F554, and F543. R30, RS-718-K (manufactured by DIC Corporation), F-top (registered trademark) EF301, EF303, EF351, EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.), Surflon (registered trademark) S381, Examples thereof include S382, SC101, SC105 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Laboratories, Inc.).
フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、メガファック(登録商標)R08、同BL20、同F475、同F477及び同F443(DIC(株)製)等が挙げられる。 Examples of the silicone-based surfactant having a fluorine atom include a surfactant having a siloxane bond and a fluorocarbon chain in the molecule. Specific examples include Megafac (registered trademark) R08, BL20, F475, F477 and F443 (manufactured by DIC Corporation).
レベリング剤(F)の含有量は、着色硬化性樹脂組成物の総量に対して、好ましくは0.0005質量%以上0.6質量%以下であり、より好ましくは0.001質量%以上0.5質量%以下であり、さらに好ましくは0.001質量%以上0.2質量%以下であり、好ましくは0.002質量%以上0.1質量%以下、より好ましくは0.005質量%以上0.07質量%以下である。レベリング剤(F)の含有量が前記の範囲内にあると、カラーフィルタの平坦性を良好にすることができる。 The content of the leveling agent (F) is preferably 0.0005% by mass or more and 0.6% by mass or less, more preferably 0.001% by mass or more and 0.1% by mass or less with respect to the total amount of the colored curable resin composition. 5 mass% or less, more preferably 0.001 mass% or more and 0.2 mass% or less, preferably 0.002 mass% or more and 0.1 mass% or less, and more preferably 0.005 mass% or more 0 It is 0.07 mass% or less. When the content of the leveling agent (F) is within the above range, the flatness of the color filter can be improved.
<その他の成分>
本発明の着色硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、光安定剤、連鎖移動剤等、当該技術分野で公知の添加剤を含んでもよい。
<Other ingredients>
The colored curable resin composition of the present invention contains, if necessary, fillers, other polymer compounds, adhesion promoters, antioxidants, light stabilizers, chain transfer agents, and other additives known in the art. May be included.
<着色硬化性樹脂組成物の製造方法>
本発明の着色硬化性樹脂組成物は、例えば、着色剤(A)、樹脂(B)、重合性化合物(C)、重合開始剤(D)、並びに必要に応じて用いられる溶剤(E)、レベリング剤(F)、重合開始助剤(D1)及びその他の成分を混合することにより調製できる。
顔料(P)を含む場合の顔料は、予め溶剤(E)の一部又は全部と混合し、顔料の平均粒子径が0.2μm以下程度となるまで、ビーズミルなどを用いて分散させることが好ましい。この際、必要に応じて顔料分散剤、樹脂(B)の一部又は全部を配合してもよい。前記顔料分散剤としては、市販の界面活性剤を用いることができ、シリコーン系、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、ポリエステル系、ポリアミン系、アクリル系等の界面活性剤等が挙げられる。前記界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、3級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類等のほか、商品名でKP(信越化学工業(株)製)、フローレン(共栄社化学(株)製)、ソルパース(ゼネカ(株)製)、EFKA(BASFジャパン(株)社製)、アジスパー(登録商標)(味の素ファインテクノ(株)製)、Disperbyk(ビックケミー社製)等が挙げられ、これらは、それぞれ単独でも2種以上を組合せて用いることができる。このようにして得られた顔料分散液に、残りの成分を、所定の濃度となるように混合することにより、目的の着色硬化性樹脂組成物を調製できる。
化合物(Z)は、予め溶剤(E)の一部又は全部に溶解させて溶液を調製することが好ましい。該溶液を、孔径0.01〜1μm程度のフィルタでろ過することが好ましい。
混合後の着色硬化性樹脂組成物を、孔径0.01〜10μm程度のフィルタでろ過することが好ましい。
<Method for producing colored curable resin composition>
The colored curable resin composition of the present invention includes, for example, a colorant (A), a resin (B), a polymerizable compound (C), a polymerization initiator (D), and a solvent (E) used as necessary, It can be prepared by mixing the leveling agent (F), the polymerization initiation aid (D1) and other components.
When the pigment (P) is contained, it is preferable that the pigment is mixed with a part or all of the solvent (E) in advance and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the pigment becomes about 0.2 μm or less. .. At this time, part or all of the pigment dispersant and the resin (B) may be blended if necessary. As the pigment dispersant, commercially available surfactants can be used, and surfactants such as silicone type, fluorine type, ester type, cationic type, anionic type, nonionic type, amphoteric type, polyester type, polyamine type, acrylic type, etc. Agents and the like. Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, polyethyleneimines, and the like. , KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Floren (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Solpers (manufactured by Zeneca Co., Ltd.), EFKA (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), Azisper (registered trademark) (Manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Inc.), Disperbyk (manufactured by Big Chemie) and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more kinds. The target colored curable resin composition can be prepared by mixing the remaining components in the pigment dispersion liquid thus obtained so as to have a predetermined concentration.
The compound (Z) is preferably dissolved in a part or all of the solvent (E) in advance to prepare a solution. It is preferable to filter the solution with a filter having a pore size of about 0.01 to 1 μm.
The colored curable resin composition after mixing is preferably filtered with a filter having a pore size of about 0.01 to 10 μm.
<カラーフィルタの製造方法>
本発明の着色硬化性樹脂組成物から着色パターンを製造する方法としては、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。中でも、フォトリソグラフ法が好ましい。フォトリソグラフ法は、前記着色硬化性樹脂組成物を基板に塗布し、乾燥させて着色組成物層を形成し、フォトマスクを介して該着色組成物層を露光して、現像する方法である。フォトリソグラフ法において、露光の際にフォトマスクを用いないこと、及び/又は現像しないことにより、上記着色組成物層の硬化物である着色塗膜を形成することができる。このように形成した着色パターンや着色塗膜が本発明のカラーフィルタである。
作製するカラーフィルタの膜厚は、特に限定されず、目的や用途等に応じて適宜調整することができ、例えば、0.1〜30μm、好ましくは0.1〜20μm、さらに好ましくは0.5〜6μmである。
<Method of manufacturing color filter>
Examples of the method for producing a colored pattern from the colored curable resin composition of the present invention include a photolithographic method, an inkjet method, a printing method and the like. Among them, the photolithographic method is preferable. The photolithographic method is a method in which the colored curable resin composition is applied to a substrate, dried to form a colored composition layer, and the colored composition layer is exposed through a photomask and developed. In the photolithographic method, a colored coating film that is a cured product of the coloring composition layer can be formed by not using a photomask during exposure and/or not developing. The colored pattern or colored coating film thus formed is the color filter of the present invention.
The film thickness of the color filter to be produced is not particularly limited and may be appropriately adjusted depending on the purpose and application. For example, it is 0.1 to 30 μm, preferably 0.1 to 20 μm, and more preferably 0.5. ~6 μm.
基板としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラスなどのガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂板、シリコン、前記基板上にアルミニウム、銀、銀/銅/パラジウム合金薄膜などを形成したものが用いられる。これらの基板上には、別のカラーフィルタ層、樹脂層、トランジスタ、回路等が形成されていてもよい。 As the substrate, quartz glass, borosilicate glass, alumina silicate glass, glass plate such as silica-coated soda lime glass, resin plate such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, silicon, on the substrate Aluminum, silver, silver/copper/palladium alloy thin film, etc. are used. Other color filter layers, resin layers, transistors, circuits and the like may be formed on these substrates.
フォトリソグラフ法による各色画素の形成は、公知又は慣用の装置や条件で行うことができる。例えば、下記のようにして作製することができる。
まず、着色硬化性樹脂組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥(プリベーク)及び/又は減圧乾燥することにより溶剤等の揮発成分を除去して乾燥させ、平滑な着色組成物層を得る。
塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、スリット アンド スピンコート法等が挙げられる。
加熱乾燥を行う場合の温度は、30〜120℃が好ましく、50〜110℃がより好ましい。また加熱時間としては、10秒間〜60分間であることが好ましく、30秒間〜30分間であることがより好ましい。
減圧乾燥を行う場合は、50〜150Paの圧力下、20〜25℃の温度範囲で行うことが好ましい。
着色組成物層の膜厚は、特に限定されず、目的とするカラーフィルタの膜厚に応じて適宜選択すればよい。
The formation of each color pixel by the photolithography method can be performed by a known or commonly used apparatus and conditions. For example, it can be manufactured as follows.
First, a colored curable resin composition is applied onto a substrate, and dried by heating (prebaking) and/or vacuum drying to remove volatile components such as a solvent and drying to obtain a smooth colored composition layer.
Examples of the coating method include a spin coating method, a slit coating method, and a slit and spin coating method.
30-120 degreeC is preferable and, as for the temperature in the case of heat-drying, 50-110 degreeC is more preferable. The heating time is preferably 10 seconds to 60 minutes, more preferably 30 seconds to 30 minutes.
When performing drying under reduced pressure, it is preferable to perform drying under a pressure of 50 to 150 Pa and a temperature range of 20 to 25°C.
The thickness of the coloring composition layer is not particularly limited and may be appropriately selected according to the intended thickness of the color filter.
次に、着色組成物層は、目的の着色パターンを形成するためのフォトマスクを介して露光される。該フォトマスク上のパターンは特に限定されず、目的とする用途に応じたパターンが用いられる。
露光に用いられる光源としては、250〜450nmの波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、350nm未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、436nm付近、408nm付近、365nm付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出したりしてもよい。具体的には、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。
露光面全体に均一に平行光線を照射したり、フォトマスクと着色組成物層が形成された基板との正確な位置合わせを行うことができるため、マスクアライナ及びステッパ等の露光装置を使用することが好ましい。
Next, the colored composition layer is exposed through a photomask for forming a desired colored pattern. The pattern on the photomask is not particularly limited, and a pattern according to the intended use is used.
As a light source used for exposure, a light source that emits light having a wavelength of 250 to 450 nm is preferable. For example, light of less than 350 nm is cut using a filter that cuts this wavelength range, or light of about 436 nm, 408 nm, and 365 nm is selectively extracted using a bandpass filter that extracts these wavelength ranges. You may. Specific examples thereof include a mercury lamp, a light emitting diode, a metal halide lamp, and a halogen lamp.
Use an exposure device such as a mask aligner or stepper because it can irradiate parallel light rays uniformly on the entire exposed surface and can perform accurate alignment between the photomask and the substrate on which the colored composition layer is formed. Is preferred.
露光後の着色組成物層を現像液に接触させて現像することにより、基板上に着色パターンが形成される。現像により、着色組成物層の未露光部が現像液に溶解して除去される。
現像液としては、例えば、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物の水溶液が好ましい。これらのアルカリ性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは0.01〜10質量%であり、より好ましくは0.02〜5質量%であり、さらにより好ましくは0.03〜5質量%である。さらに、現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
現像方法は、パドル法、ディッピング法及びスプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。
現像後は、水洗することが好ましい。
A colored pattern is formed on the substrate by bringing the colored composition layer after exposure into contact with a developing solution for development. By the development, the unexposed portion of the colored composition layer is dissolved and removed in the developer.
The developer is preferably an aqueous solution of an alkaline compound such as potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, tetramethylammonium hydroxide. The concentration of these alkaline compounds in the aqueous solution is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.02 to 5% by mass, and even more preferably 0.03 to 5% by mass. Furthermore, the developing solution may contain a surfactant.
The developing method may be a paddle method, a dipping method, a spray method or the like. Further, the substrate may be tilted at an arbitrary angle during development.
After development, it is preferable to wash with water.
さらに、得られた着色パターンに、ポストベークを行うことが好ましい。ポストベーク温度は、150〜250℃が好ましく、160〜235℃がより好ましい。ポストベーク時間は、1〜120分間が好ましく、10〜60分間がより好ましい。 Furthermore, it is preferable to perform post-baking on the obtained colored pattern. The post-baking temperature is preferably 150 to 250°C, more preferably 160 to 235°C. The post-baking time is preferably 1 to 120 minutes, more preferably 10 to 60 minutes.
本願は、2014年9月12日に出願された日本国特許出願第2014−186017号に基づく優先権の利益を主張するものである。2014年9月12日に出願された日本国特許出願第2014−186017号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。 The present application claims the benefit of priority based on Japanese Patent Application No. 2014-186017 filed on September 12, 2014. The entire content of the specification of Japanese Patent Application No. 2014-186017 filed on Sep. 12, 2014 is incorporated herein by reference.
次に実施例等を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
実施例及び比較例中、含有量ないし使用量を表す%及び部は、特記ない限り、質量基準である。
化合物の構造は、質量分析(LC;Agilent製1200型、MASS;Agilent製LC/MSD6130型)で確認した。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and the like.
In Examples and Comparative Examples,% and parts indicating the content or the amount used are based on mass unless otherwise specified.
The structure of the compound was confirmed by mass spectrometry (LC; model 1200 manufactured by Agilent, MASS; model LC/MSD6130 manufactured by Agilent).
実施例1
3−アミノ−4−ヒドロキシ安息香酸(東京化成工業(株)製)10部、4−(ジエチルアミノ)サリチルアルデヒド(東京化成工業(株)製)12.8部、安息香酸(東京化成工業(株)製)2.73部、1−ペンタノール(東京化成工業(株)製)157部及びシアノ酢酸エチル(東京化成工業(株)製)7.43部を混合し、120℃で3時間攪拌し、混合物(1)を得た。
シアノ酢酸エチル(東京化成工業(株)製)7.46部、安息香酸(東京化成工業(株)製)2.79部、1−ペンタノール(東京化成工業(株)製)49.8部及び4−(ジエチルアミノ)サリチルアルデヒド(東京化成工業(株)製)12.7部を加え、120℃で14時間攪拌し、混合物(2)を得た。
得られた混合物(1)と混合物(2)とを混合し、さらにシアノ酢酸エチル(東京化成工業(株)製)3.76部、安息香酸(東京化成工業(株)製)1.41部、1−ペンタノール(東京化成工業(株)製)52.5部及び4−(ジエチルアミノ)サリチルアルデヒド(東京化成工業(株)製)6.35部を加え、120℃で8時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、析出した結晶を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン140部を加え、70℃で1時間撹拌した後、不溶物を吸引ろかの残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン120部を加え、70℃で1時間撹拌した後、不溶物を吸引ろかの残渣として得た。この残渣にN,N−ジメチルホルムアミド340部を加え、90℃に加熱して溶解させた後、0℃〜5℃で静置した。析出した結晶を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣を、60℃で減圧乾燥して、式(Ad1−1)で表される化合物5.69部を得た。
Example 1
3-Amino-4-hydroxybenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10 parts, 4-(diethylamino)salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 12.8 parts, benzoic acid (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) )), 2.73 parts, 1-pentanol (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) 157 parts and ethyl cyanoacetate (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) 7.43 parts are mixed and stirred at 120° C. for 3 hours. Then, a mixture (1) was obtained.
Ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 7.46 parts, benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 2.79 parts, 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 49.8 parts And 12.7 parts of 4-(diethylamino)salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added and stirred at 120° C. for 14 hours to obtain a mixture (2).
The obtained mixture (1) and the mixture (2) were mixed, and further, ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.76 parts, benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1.41 parts , 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 52.5 parts and 4-(diethylamino)salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 6.35 parts were added, and the mixture was stirred at 120° C. for 8 hours. After cooling the above reaction solution to room temperature, precipitated crystals were obtained as a residue of suction filtration. To this residue was added 140 parts of tetrahydrofuran, and the mixture was stirred at 70° C. for 1 hour, and then an insoluble matter was obtained as a residue by suction filtration. Tetrahydrofuran (120 parts) was added to this residue, and the mixture was stirred at 70° C. for 1 hour, and then an insoluble matter was obtained as a residue by suction filtration. To this residue was added 340 parts of N,N-dimethylformamide, and the mixture was heated to 90°C to dissolve it, and then allowed to stand at 0°C to 5°C. The precipitated crystals were obtained as the residue of suction filtration. The residue was dried under reduced pressure at 60° C. to obtain 5.69 parts of a compound represented by the formula (Ad1-1).
次いで、式(Ad1−1)で表される化合物3.8部と2−(トリメチルシリル)エタノール1.4部とを脱水クロロホルム100部中に加えた。得られた混合物に1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド2.3部及び4−ジメチルアミノピリジン1.5部をさらに加え、30℃で6時間撹拌した。得られた反応混合物に、水を加え、有機層を抽出し、クロロホルムを留去し、黄色の固体を得た。減圧下60℃で24時間乾燥し、式(Z−1)で表される化合物を4.2部得た。 Then, 3.8 parts of the compound represented by the formula (Ad1-1) and 1.4 parts of 2-(trimethylsilyl)ethanol were added to 100 parts of dehydrated chloroform. To the obtained mixture, 2.3 parts of 1-(3-dimethylaminopropyl)-3-ethylcarbodiimide and 1.5 parts of 4-dimethylaminopyridine were further added, and the mixture was stirred at 30°C for 6 hours. Water was added to the obtained reaction mixture, the organic layer was extracted, and chloroform was distilled off to obtain a yellow solid. It dried at 60 degreeC under reduced pressure for 24 hours, and obtained 4.2 parts of compounds represented by Formula (Z-1).
式(Z−1)で表される化合物の同定
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z= 479.2[M+1]+
Exact Mass: 478.2
Identification of Compound Represented by Formula (Z-1) (Mass Spectrometry) Ionization Mode=ESI+: m/z=479.2 [M+1] +
Exact Mass: 478.2
実施例2
実施例1において、3−アミノ−4−ヒドロキシ安息香酸の代わりに下記式(d−1)で表される化合物を用いる他は、実施例1と同様に合成し、式(Ad1−2)で表される化合物を得た。
Example 2
In Example 1, except that a compound represented by the following formula (d-1) was used instead of 3-amino-4-hydroxybenzoic acid, synthesis was performed in the same manner as in Example 1, and the compound represented by the formula (Ad1-2) was used. The compound represented was obtained.
次いで、式(Ad1−2)で表される化合物3.6部とトリエチルアミン2.0部とをクロロホルム300部に加え、さらにメタアクリル酸無水物3.1部を加え、50℃で3時間保温した。得られた混合物に、水を300部加え、有機層を抽出し、クロロホルムを留去し、黄色の固体を得た。減圧下60℃で24時間乾燥し、式(Z−41)で表される化合物を3.8部得た。 Next, 3.6 parts of the compound represented by the formula (Ad1-2) and 2.0 parts of triethylamine were added to 300 parts of chloroform, 3.1 parts of methacrylic anhydride was further added, and the mixture was kept at 50° C. for 3 hours. did. 300 parts of water was added to the obtained mixture, the organic layer was extracted, and chloroform was distilled off to obtain a yellow solid. It dried at 60 degreeC under reduced pressure for 24 hours, and obtained 3.8 parts of compounds represented by a formula (Z-41).
式(Z−41)で表される化合物の同定
(質量分析)イオン化モード=ESI+: m/z= 419.4[M+1]+
Exact Mass: 418.4
Identification of Compound Represented by Formula (Z-41) (Mass Spectrometry) Ionization Mode=ESI+: m/z=419.4 [M+1] +
Exact Mass: 418.4
合成例1
還流冷却器、滴下ロート及び撹拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100部を入れ、撹拌しながら85℃まで加熱した。次いで、該フラスコ内に、メタクリル酸19部、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルアクリレート及び3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−9−イルアクリレートの混合物(含有比はモル比で50:50)171部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40部に溶解した溶液を滴下ポンプを用いて約5時間かけて滴下した。一方、重合開始剤2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)26部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート120部に溶解した溶液を別の滴下ポンプを用いて約5時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の滴下が終了した後、約3時間同温度に保持し、その後室温まで冷却して、固形分43.5%の共重合体(樹脂B1)の溶液を得た。得られた樹脂B1の重量平均分子量は8000、分子量分布は1.98、固形分換算の酸価は53mgKOH/gであった。
Synthesis example 1
An appropriate amount of nitrogen was made to flow into a flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer to create a nitrogen atmosphere, 100 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was added, and the mixture was heated to 85°C while stirring. Then, 19 parts of methacrylic acid, 3,4-epoxytricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decan-8-yl acrylate and 3,4-epoxytricyclo[5.2. A solution of 171 parts of a mixture of 1.0 2,6 ]decan-9-yl acrylate (content ratio is 50:50 in molar ratio) in 40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate is used for about 5 hours using a dropping pump. Was dropped. On the other hand, a solution prepared by dissolving 26 parts of a polymerization initiator 2,2′-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) in 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was put into the flask for about 5 hours using another dropping pump. Dropped. After the dropping of the polymerization initiator was completed, the temperature was maintained at the same temperature for about 3 hours and then cooled to room temperature to obtain a solution of a copolymer (resin B1) having a solid content of 43.5%. The resin B1 thus obtained had a weight average molecular weight of 8000, a molecular weight distribution of 1.98, and an acid value in terms of solid content of 53 mgKOH/g.
〔着色硬化性樹脂組成物の調製〕
実施例3
着色剤(A):C.I.ピグメントグリーン58(顔料) 27部;
アクリル系顔料分散剤 12部;
樹脂(B):樹脂B1(固形分換算) 9.5部;及び
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
180部;
を混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させた顔料分散液(3)を得た。
[Preparation of colored curable resin composition]
Example 3
Colorant (A): C.I. I. Pigment Green 58 (Pigment) 27 parts;
12 parts of acrylic pigment dispersant;
Resin (B): Resin B1 (solid content conversion) 9.5 parts; and Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate.
180 copies;
Were mixed, and a pigment dispersion liquid (3) in which the pigment was sufficiently dispersed using a bead mill was obtained.
着色剤(A):式(Z−1)で表される化合物 2.0部;
樹脂(B):樹脂B1(固形分換算) 40部;
重合性化合物(C):ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD(登録商標) DPHA;日本化薬(株)製) 49部;
重合開始剤(D):N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン(イルガキュア(登録商標)OXE−01;BASF社製;O−アシルオキシム化合物) 9.8部;
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
670部;
レベリング剤(F):ポリエーテル変性シリコーンオイル(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.15部;並びに
顔料分散液(3) 228.5部;
を混合して着色硬化性樹脂組成物(J1)を得た。
Colorant (A): 2.0 parts of the compound represented by formula (Z-1);
Resin (B): Resin B1 (solid content conversion) 40 parts;
Polymerizable compound (C): dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD (registered trademark) DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 49 parts;
Polymerization initiator (D): N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)octan-1-one-2-imine (Irgacure (registered trademark) OXE-01; manufactured by BASF; O-acyl oxime compound) 9.8 copies;
Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate
670 copies;
Leveling agent (F): polyether-modified silicone oil (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.15 part; and pigment dispersion liquid (3) 228.5 parts;
Were mixed to obtain a colored curable resin composition (J1).
実施例4
着色剤(A)のC.I.ピグメントグリーン58(顔料)をC.I.ピグメントグリーン36(顔料)に代える以外は、実施例3と同様にして、着色硬化性樹脂組成物(J2)を得た。
Example 4
C. of the colorant (A). I. Pigment Green 58 (pigment) with C.I. I. Pigment Green 36 (pigment) was replaced with the same procedure as in Example 3 to obtain a colored curable resin composition (J2).
実施例5
着色剤(A)の式(Z−1)で表される化合物を式(Z−41)で表される化合物に代える以外は、実施例3と同様にして、着色硬化性樹脂組成物(J3)を得た。
Example 5
Colored curable resin composition (J3) in the same manner as in Example 3 except that the compound represented by formula (Z-1) of the colorant (A) was replaced with the compound represented by formula (Z-41). ) Got.
実施例6
着色剤(A)のC.I.ピグメントグリーン58(顔料)をC.I.ピグメントグリーン36(顔料)に代える以外は、実施例5と同様にして、着色硬化性樹脂組成物(J4)を得た。
Example 6
C. of the colorant (A). I. Pigment Green 58 (pigment) with C.I. I. A colored curable resin composition (J4) was obtained in the same manner as in Example 5 except for using Pigment Green 36 (pigment).
比較例1
着色剤(A):C.I.ピグメントグリーン58(顔料) 27部;
アクリル系顔料分散剤 12部;
樹脂(B):樹脂B1(固形分換算) 9.5部;及び
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
180部;
を混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させた顔料分散液(5)を得た。
Comparative Example 1
Colorant (A): C.I. I. Pigment Green 58 (Pigment) 27 parts;
12 parts of acrylic pigment dispersant;
Resin (B): Resin B1 (solid content conversion) 9.5 parts; and Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate.
180 copies;
Were mixed, and a pigment dispersion liquid (5) in which the pigment was sufficiently dispersed using a bead mill was obtained.
着色剤(A):式(d0)で表される化合物 1.0部;
樹脂(B):樹脂B1(固形分換算) 40部;
重合性化合物(C):ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD(登録商標) DPHA;日本化薬(株)製) 49部;
重合開始剤(D):N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン(イルガキュア(登録商標)OXE−01;BASF社製;O−アシルオキシム化合物) 9.8部;
溶剤(E):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
670部;
レベリング剤(F):ポリエーテル変性シリコーンオイル(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.15部;並びに
顔料分散液(5) 228.5部;
を混合して着色硬化性樹脂組成物(J5)を得た。
Coloring agent (A): 1.0 part of the compound represented by formula (d0);
Resin (B): Resin B1 (solid content conversion) 40 parts;
Polymerizable compound (C): dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD (registered trademark) DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 49 parts;
Polymerization initiator (D): N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)octan-1-one-2-imine (Irgacure (registered trademark) OXE-01; manufactured by BASF; O-acyl oxime compound) 9.8 copies;
Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate
670 copies;
Leveling agent (F): polyether-modified silicone oil (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.15 part; and pigment dispersion liquid (5) 228.5 parts;
Were mixed to obtain a colored curable resin composition (J5).
[膜厚測定]
膜厚は、DEKTAK3;日本真空技術(株)製を用いて膜厚を測定した。
[Film thickness measurement]
The film thickness was measured using DEKTAK3; manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.
[昇華性試験用樹脂組成物(SJS)の調製]
樹脂:メタクリル酸/ベンジルメタクリレート(モル比:30/70)共重合体(田岡化学工業(株)製、平均分子量10700、酸価70mgKOH/g)33.8%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 40.2部;
重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD(登録商標) DPHA;日本化薬(株)製) 5.8部;
重合開始剤:N−ベンゾイルオキシ−1−(4−フェニルスルファニルフェニル)オクタン−1−オン−2−イミン(イルガキュア(登録商標)OXE01;BASFジャパン社製) 0.58部;
レベリング剤:ポリエーテル変性シリコーン(トーレシリコーンSH8400;東レダウコーニング(株)製) 0.01部;
溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテル 46.6部;
溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 6.8部;
を混合して昇華性試験用樹脂組成物(SJS)を得た。
[Preparation of resin composition for sublimation test (SJS)]
Resin: Methacrylic acid/benzyl methacrylate (molar ratio: 30/70) copolymer (Taoka Chemical Industry Co., Ltd., average molecular weight 10700, acid value 70 mg KOH/g) 33.8% propylene glycol monomethyl ether acetate solution 40.2 Department;
Polymerizable compound: dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD (registered trademark) DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.8 parts;
Polymerization initiator: N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)octan-1-one-2-imine (Irgacure (registered trademark) OXE01; manufactured by BASF Japan Ltd.) 0.58 parts;
Leveling agent: polyether modified silicone (Toray Silicone SH8400; manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.01 part;
Solvent: propylene glycol monomethyl ether 46.6 parts;
Solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate 6.8 parts;
Were mixed to obtain a resin composition for sublimation test (SJS).
[昇華性試験用樹脂塗布膜(SJSM)の形成]
2インチ角のガラス基板(イーグルXG;コーニング社製)上に、上記で得た昇華性試験用樹脂組成物(SJS)をスピンコート法で塗布し、100℃3分間で揮発成分を揮発させた。冷却後、露光機(TME−150RSK;トプコン(株)製)を用いて、大気雰囲気下、150mJ/cm2の露光量(365nm基準)で光照射した。オーブン中、220℃で2時間加熱して昇華性試験用樹脂塗布膜(SJSM)(膜厚2.2μm)を形成した。
[Formation of resin coating film (SJSM) for sublimation test]
The resin composition for sublimation test (SJS) obtained above was applied onto a 2-inch square glass substrate (Eagle XG; manufactured by Corning Incorporated) by a spin coating method to volatilize volatile components at 100° C. for 3 minutes. .. After cooling, light exposure was performed using an exposure device (TME-150RSK; manufactured by Topcon Corp.) in the atmosphere at an exposure dose of 150 mJ/cm 2 (365 nm standard). It was heated at 220° C. for 2 hours in an oven to form a resin coating film for sublimation test (SJSM) (film thickness 2.2 μm).
実施例7
[着色パターンの作製と昇華性評価]
2インチ角のガラス基板(イーグルXG;コーニング社製)上に、実施例3で得た着色硬化性樹脂組成物(J1)をスピンコート法で塗布した後、100℃で3分間プリベークして着色組成物層を形成した。冷却後、着色組成物層が形成された基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を200μmとして、露光機(TME−150RSK;トプコン(株)製)を用いて、大気雰囲気下、80mJ/cm2の露光量(365nm基準)で露光した。尚、フォトマスクとしては、100μmのラインアンドスペースパターンが形成されたものを使用した。露光後の着色組成物層を、非イオン系界面活性剤0.12%と水酸化カリウム0.04%とを含む水溶液に25℃で70秒間浸漬させて現像し、水洗した。膜厚を測定した。結果を表1に示す。
この着色塗布膜と上記で得た昇華性試験用樹脂塗布膜(SJSM)とを、70μmの間隔を空けた状態で対向させ、230℃で10分間ポストベークを行うことにより、着色パターンを得た。昇華性試験用樹脂塗布膜(SJSM)の加熱前後の色差(ΔEab*)を測色機(OSP−SP−200;OLYMPUS社製)を用いて測定した。色差(ΔEab*)は、4.0であった。色差(ΔEab*)が5.0以上であれば、着色剤が昇華性を有することを示す。結果を表1に示す。表1において、○は、着色剤が昇華性を有しないことを、×は、着色剤が昇華性を有することを示す。
Example 7
[Preparation of colored pattern and evaluation of sublimability]
The colored curable resin composition (J1) obtained in Example 3 was applied onto a 2-inch square glass substrate (Eagle XG; manufactured by Corning Incorporated) by a spin coating method, and then prebaked at 100° C. for 3 minutes for coloring. A composition layer was formed. After cooling, the distance between the substrate on which the colored composition layer was formed and the photomask made of quartz glass was set to 200 μm, and an exposure machine (TME-150RSK; made by Topcon Corp.) was used to obtain 80 mJ/cm 2 in the atmosphere. Exposure amount (365 nm standard). As the photomask, a photomask having a line and space pattern of 100 μm was used. The exposed colored composition layer was immersed in an aqueous solution containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at 25° C. for 70 seconds for development, and washed with water. The film thickness was measured. The results are shown in Table 1.
The colored coating film and the resin coating film for sublimation test (SJSM) obtained above were opposed to each other with an interval of 70 μm and post-baked at 230° C. for 10 minutes to obtain a colored pattern. .. The color difference (ΔEab*) before and after heating of the resin coating film for sublimation test (SJSM) was measured using a colorimeter (OSP-SP-200; manufactured by OLYMPUS). The color difference (ΔEab*) was 4.0. When the color difference (ΔEab*) is 5.0 or more, it indicates that the colorant has sublimability. The results are shown in Table 1. In Table 1, ◯ means that the colorant has no sublimation property, and x means that the colorant has sublimation property.
実施例8〜実施例10および比較例2
実施例3で得た着色硬化性樹脂組成物(J1)を、ぞれぞれ、着色硬化性樹脂組成物(J2)〜着色硬化性樹脂組成物(J5)に代える以外は、実施例7と同様にして、着色パターンを得、昇華性評価を行った。結果を表1に示す。
Examples 8 to 10 and Comparative Example 2
Example 7 except that the colored curable resin composition (J1) obtained in Example 3 was replaced with the colored curable resin composition (J2) to the colored curable resin composition (J5), respectively. Similarly, a colored pattern was obtained and sublimation was evaluated. The results are shown in Table 1.
本発明の化合物を含む着色硬化性樹脂組成物からカラーフィルタを形成する場合、着色剤の昇華を抑えることができる。本発明の化合物を含む着色硬化性樹脂組成物を用いたカラーフィルタは、液晶表示装置等の表示装置に好適に用いられる。 When forming a color filter from a colored curable resin composition containing the compound of the present invention, sublimation of the colorant can be suppressed. The color filter using the colored curable resin composition containing the compound of the present invention is suitably used for a display device such as a liquid crystal display device.
Claims (9)
[式(Z)中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基、アリール基、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基を表す。
R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アクリロイル基を含む基、メタクリロイル基を含む基又はケイ素原子を含む基を表す。
ただし、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10のうち、少なくとも1つはアクリロイル基を含む基又はメタクリロイル基であり、
前記ケイ素原子を含む基が、式(Z1)で表される基であり、
[式中、R11Aは、単結合または炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、−NR10−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−または−NHCO−で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、水酸基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。
R10は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の飽和炭化水素基を表す。
R12A、R13A及びR14Aは、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表す。
*は窒素原子又は炭素原子との結合手を表す。]
前記アクリロイル基を含む基又はメタクリロイル基を含む基が、式(Z2)で表される基である。
[式中、R15Aは、炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、−OCO−、−COO−、−OCONH−、−CONH−または−NHCO−で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、水酸基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。
R16Aは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。
*は窒素原子又は炭素原子との結合手を表す。]] A compound represented by formula (Z).
[In the formula (Z), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a group containing an acryloyl group, or a group containing a methacryloyl group. Alternatively, it represents a group containing a silicon atom.
R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, a nitro group, or a carbon number of 1 to 20. Represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a group containing an acryloyl group, a group containing a methacryloyl group or a group containing a silicon atom.
Provided that at least one of R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 is a group containing an acryloyl group or a methacryloyl group,
The group containing a silicon atom is a group represented by the formula (Z1),
[In the formula, R 11A represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the alkanediyl group is —O—, —CO—, —NR 10 —, —. OCO-, -COO-, -OCONH-, -CONH- or -NHCO- may be substituted, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group has 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxyl group. It may be substituted with an alkyl group.
R 10 represents a hydrogen atom or a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
R 12A , R 13A and R 14A each independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
* Represents a bond with a nitrogen atom or a carbon atom. ]
The group containing an acryloyl group or the group containing a methacryloyl group is a group represented by formula (Z2).
[In the formula, R 15A represents an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the alkanediyl group is —O—, —CO—, —OCO—, —COO—, — It may be substituted with OCONH-, -CONH- or -NHCO-, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group is substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a hydroxyl group. Good.
R 16A represents an acryloyl group or a methacryloyl group.
* Represents a bond with a nitrogen atom or a carbon atom. ]]
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102021109926A1 (en) | 2020-05-25 | 2021-11-25 | Kabushiki Kaisha Tokai Rika Denki Seisakusho | Control device and control method |
JP2021189467A (en) * | 2020-05-25 | 2021-12-13 | 株式会社東海理化電機製作所 | Control apparatus and control method |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI778975B (en) * | 2016-09-06 | 2022-10-01 | 日商住友化學股份有限公司 | Coloring composition |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0743896A (en) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Toyobo Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPH07188340A (en) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Chisso Corp | Copolymer, its production and electroluminescent element using the same |
JPH0829973A (en) * | 1994-07-11 | 1996-02-02 | Toyobo Co Ltd | Photopolymerized composition |
JPH11130817A (en) * | 1997-08-28 | 1999-05-18 | Junji Kido | Vinyl-based polymer and electroluminescent element using the same |
CN1594441A (en) * | 2004-06-17 | 2005-03-16 | 上海交通大学 | Fluorescent coumarin dye |
CN101161763A (en) * | 2006-12-13 | 2008-04-16 | 上海拓引数码技术有限公司 | Coumarin series green organic electroluminescent material containing enoate side group |
KR20110115241A (en) * | 2010-04-15 | 2011-10-21 | 동우 화인켐 주식회사 | Curable resin composition for protective film of color filter, color filter and liquid crystal display device using thereof |
WO2012137568A1 (en) * | 2011-04-05 | 2012-10-11 | 株式会社Adeka | Novel compound and photoelectric conversion element |
JP2013234319A (en) * | 2012-04-10 | 2013-11-21 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Colorant dispersion |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000044822A (en) * | 1998-08-03 | 2000-02-15 | Toppan Printing Co Ltd | Colored composition, color filter using the same and its production |
US6727372B2 (en) * | 2000-08-07 | 2004-04-27 | Eastman Chemical Company | Colorant compounds containing copolymerizable vinyl groups |
JP2006154740A (en) | 2004-07-14 | 2006-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition, pattern forming material, photosensitive laminate, pattern forming apparatus and method of pattern formation |
JP5221859B2 (en) * | 2006-03-09 | 2013-06-26 | 株式会社Adeka | Film comprising coumarin compound, color conversion layer containing coumarin compound and matrix, color conversion filter containing the color conversion layer, complementary color layer, complementary color filter and multicolor light emitting device |
JP5742439B2 (en) * | 2011-05-02 | 2015-07-01 | 信越化学工業株式会社 | Fluorescent compound and fluorescent resin composition |
-
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0743896A (en) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Toyobo Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPH07188340A (en) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Chisso Corp | Copolymer, its production and electroluminescent element using the same |
JPH0829973A (en) * | 1994-07-11 | 1996-02-02 | Toyobo Co Ltd | Photopolymerized composition |
JPH11130817A (en) * | 1997-08-28 | 1999-05-18 | Junji Kido | Vinyl-based polymer and electroluminescent element using the same |
CN1594441A (en) * | 2004-06-17 | 2005-03-16 | 上海交通大学 | Fluorescent coumarin dye |
CN101161763A (en) * | 2006-12-13 | 2008-04-16 | 上海拓引数码技术有限公司 | Coumarin series green organic electroluminescent material containing enoate side group |
KR20110115241A (en) * | 2010-04-15 | 2011-10-21 | 동우 화인켐 주식회사 | Curable resin composition for protective film of color filter, color filter and liquid crystal display device using thereof |
WO2012137568A1 (en) * | 2011-04-05 | 2012-10-11 | 株式会社Adeka | Novel compound and photoelectric conversion element |
JP2013234319A (en) * | 2012-04-10 | 2013-11-21 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Colorant dispersion |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102021109926A1 (en) | 2020-05-25 | 2021-11-25 | Kabushiki Kaisha Tokai Rika Denki Seisakusho | Control device and control method |
JP2021189467A (en) * | 2020-05-25 | 2021-12-13 | 株式会社東海理化電機製作所 | Control apparatus and control method |
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